KR20170121944A - Laser processing apparatus and the method for laser processing by using it - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 레이저 처리 장치 및 이를 이용한 레이저 처리 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 다수개의 레이저 소스를 용이하게 제어할 수 있는 레이저 처리 장치 및 이를 이용한 레이저 처리 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a laser processing apparatus and a laser processing method using the same, and more particularly, to a laser processing apparatus capable of easily controlling a plurality of laser sources and a laser processing method using the same.
차세대 디스플레이로 얇고 가벼울 뿐만 아니라 충격에도 강하며 휘거나 굽힐 수 있는 다양한 형태로 제작할 수 있는 플렉서블 디스플레이(flexible display)에 대한 연구가 많이 진행되고 있으며, 일부는 현재 실현 중에 있고 많은 발전이 요구되고 있다. As a next-generation display, a flexible display capable of being manufactured in various shapes that are thin and light as well as being strong against impact and bending or bending can be widely studied. Some of them are currently being realized and many developments are required.
이와 같은 플렉서블 디스플레이의 모재 기판으로 유리 기판 또는 사파이어 기판을 사용하는 실리콘 트랜지스터의 경우, 낮은 플렉서블 특성과 모재 기판의 제한성으로 인하여 플렉서블 디스플레이에 적용하기 곤란한 문제점이 있다. 이에, 플렉서블 반도체 소자를 제조하는 방법으로 박형유리판을 기판으로 이용하는 방법, 금속판을 기판으로 사용하는 방법, 플라스틱 기판을 사용하는 방법 등의 연구가 진행되고 있다. In the case of a silicon transistor using a glass substrate or a sapphire substrate as a base substrate of such a flexible display, there is a problem that it is difficult to apply to a flexible display due to low flexibility characteristics and limitation of a base substrate. Therefore, as a method of manufacturing a flexible semiconductor device, a method of using a thin glass plate as a substrate, a method of using a metal plate as a substrate, and a method of using a plastic substrate are being studied.
플렉서블 디스플레이를 구현하기 위한 일 예를 설명하면, TFT 회로와 발광 소자인 OLED가 특정한 구조로 필름 상에 형성되어야 하는데, 필름은 취급성이 용이하지 않아 캐리어 글라스(carrier glass)에 필름을 붙인 상태에서 TFT 형성 공정을 진행한다. An example for implementing a flexible display will be described. A TFT circuit and an OLED, which is a light emitting device, have to be formed on a film in a specific structure. Since the film is not easy to handle, a film is adhered to a carrier glass The TFT forming process proceeds.
따라서, 필름상에 TFT를 형성한 후 캐리어 글라스로부터 필름을 떼어나는 과정이 필요하며, 이는 레이저 리프트 오프(Laser Lift Off; LLO) 방식으로 수행된다. 즉, 레이저의 조사에 의해 캐리어 글라스와 필름 사이의 접착제에 에너지를 가해 접착력을 감소시키고, 캐리어 글라스와 필름을 분리하여 제거할 수 있다. Therefore, a process of removing the film from the carrier glass after forming the TFT on the film is required, which is performed by a laser lift off (LLO) method. That is, energy is applied to the adhesive agent between the carrier glass and the film by irradiation of the laser to reduce the adhesive force, and the carrier glass and the film can be separated and removed.
레이저 리프트 오프 공정은 스테이지 속도와 레이저의 발진 주파수가 동기화 되면 빔의 폭 만큼씩 스테이지를 레이저 빔을 방사하면 되고, 스테이지의 속도는 레이저 빔의 폭과 레이저의 주파수로 결정된다. In the laser lift-off process, when the stage speed and the oscillation frequency of the laser are synchronized, the stage is irradiated with the laser beam by the width of the beam, and the speed of the stage is determined by the width of the laser beam and the frequency of the laser.
현재의 상용 레이저 리프트 오프 공정은 복수개의 레이저 소스를 사용할 경우, 복수개의 레이저 소스 각각이 일정한 주파수로 동시에 발진되도록 하여 공정을 진행하고 있다. In the current commercial laser lift-off process, when a plurality of laser sources are used, a plurality of laser sources are simultaneously oscillated at a constant frequency, and the process is proceeding.
이처럼 복수개의 레이저 발진기가 동시에 구동되기 때문에, 레이저 발진기의 유지보수 및 소모성 부품의 교체 주기가 짧은 문제가 있다. 또한, 단일의 레이저 발진기의 유지보수가 요구되는 경우에, 단위별 레이저 발진기의 구동 및 유지보수가 불가능하기 때문에 레이저 리프트 오프 공정의 효율성 및 생산성이 감소되는 문제로 이어진다. Since the plurality of laser oscillators are driven at the same time, maintenance and maintenance of the laser oscillator and replacement cycle of consumable parts are short. In addition, when the maintenance of a single laser oscillator is required, the efficiency and productivity of the laser lift-off process are reduced because the operation and maintenance of the unit laser oscillator is not possible.
본 발명은 다수개의 레이저 소스의 발진 상태를 용이하게 파악할 수 있는 레이저 처리 장치 및 이를 이용한 레이저 처리 방법을 제공한다. The present invention provides a laser processing apparatus capable of easily grasping an oscillation state of a plurality of laser sources and a laser processing method using the same.
본 발명은 복수개의 레이저 소스를 개별적으로 사용할 수 있는 레이저 처리 장치 및 이를 이용한 레이저 처리 방법을 제공한다.The present invention provides a laser processing apparatus that can use a plurality of laser sources individually, and a laser processing method using the same.
본 발명은 장치의 유지보수 횟수를 감소시켜, 레이저 처리 공정의 효율성 및 생산성을 향상시킬 수 있는 레이저 처리 장치 및 이를 이용한 레이저 처리 방법을 제공한다. The present invention provides a laser processing apparatus capable of improving the efficiency and productivity of a laser processing process by reducing the number of times of maintenance of the apparatus, and a laser processing method using the same.
본 발명의 실시 예에 따른 레이저 처리 장치는 피처리물로 조사되는 레이저 빔의 발진 신호를 생성하며, 복수개의 레이저 빔을 발진하는 레이저 발생유닛과; 상기 레이저 발생유닛에서 발진된 레이저 빔의 진행경로 상에 배치되며, 상기 레이저 빔을 가공하는 레이저 가공유닛; 상기 진행경로 상에서 상기 레이저 발생유닛 및 상기 레이저 가공유닛 중 적어도 어느 하나에 연결되어 상기 레이저 빔의 발진 여부를 검출하고, 검출된 데이터를 처리 및 분석하여 상기 레이저 발생유닛의 작동 상태를 판단하는 레이저 관찰유닛;을 포함한다. A laser processing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a laser generation unit generating an oscillation signal of a laser beam irradiated by an object to be processed and oscillating a plurality of laser beams; A laser processing unit disposed on a traveling path of the laser beam oscillated in the laser generation unit, for processing the laser beam; And a control unit connected to at least one of the laser generation unit and the laser processing unit on the progress path to detect whether or not the laser beam is oscillated and process and analyze the detected data to determine the operation state of the laser generation unit. Unit.
상기 레이저 관찰유닛은 상기 레이저 발생유닛 및 상기 레이저 가공유닛 중 적어도 어느 하나에 연결되고, 상기 레이저 빔의 발진 주파수 및 펄스 데이터를 측정하는 검출부; 상기 검출부로부터 전달된 상기 레이저 빔의 아날로그 데이터를 디지털 데이터로 변환하는 변환부; 및 상기 변환부에서 변환된 디지털 신호를 분석하여 상기 발진 신호의 이상 여부를 판단하는 판단부;를 포함할 수 있다. The laser observation unit being connected to at least one of the laser generation unit and the laser processing unit, the detection unit measuring an oscillation frequency and pulse data of the laser beam; A converter for converting the analog data of the laser beam transmitted from the detector into digital data; And a determination unit for determining whether the oscillation signal is abnormal by analyzing the digital signal converted by the conversion unit.
상기 레이저 관찰유닛은 상기 판단부로부터 전달된 상기 발진 신호의 이상 여부 판단 결과에 따라, 상기 발진 신호를 제어하는 제어부;를 포함할 수 있다. The laser observation unit may include a controller for controlling the oscillation signal according to a result of the determination whether the oscillation signal transmitted from the determination unit is abnormal.
상기 검출부는 상기 레이저 빔의 진행방향으로의 상기 레이저 발생유닛의 전단이나, 상기 레이저 빔을 상기 피처리물로 반사시키는 위치 및 상기 레이저 빔의 길이를 제어하는 위치 중 적어도 어느 한 곳에 구비될 수 있다. The detection unit may be provided at least one of a front end of the laser generation unit in the traveling direction of the laser beam, a position to reflect the laser beam to the object to be processed, and a position to control the length of the laser beam .
상기 레이저 발생유닛은 상기 복수개 레이저 빔 각각의 발진 신호를 생성하는 레이저 컨트롤부; 및 상기 레이저 컨트롤부에 연결되어, 생성된 발진 신호에 따라 각각의 레이저 빔을 발진시키는 레이저 발생부;를 포함할 수 있다. Wherein the laser generation unit comprises: a laser control unit for generating an oscillation signal of each of the plurality of laser beams; And a laser generation unit connected to the laser control unit, for oscillating each laser beam in accordance with the generated oscillation signal.
상기 피처리물이 안착되는 스테이지의 위치에 따른 상기 피처리물의 처리영역 별로 상기 레이저 빔의 발진 모드 및 상기 스테이지의 작동상태를 조절하는 조절유닛;을 더 포함할 수 있다. And a control unit for adjusting the oscillation mode of the laser beam and the operation state of the stage for each processing region of the object to be processed according to the position of the stage on which the object to be processed is placed.
상기 조절유닛은 상기 스테이지의 위치를 측정하는 위치 검출부; 상기 위치 검출부 및 상기 레이저 발생유닛에 연결되어, 측정된 스테이지의 위치에 따라 상기 레이저의 빔의 발진모드 및 상기 스테이지의 이동속도를 조절하는 조절부; 상기 조절부에 연결되어 조절된 레이저 빔의 발진모드에 따라 상기 스테이지의 속도를 제어하는 모션 컨트롤부;를 포함할 수 있다. Wherein the adjusting unit comprises: a position detecting unit for measuring a position of the stage; An adjusting unit connected to the position detecting unit and the laser generating unit to adjust an oscillation mode of the laser beam and a moving speed of the stage according to a position of the measured stage; And a motion control unit connected to the control unit and controlling the speed of the stage in accordance with the oscillation mode of the adjusted laser beam.
본 발명의 실시 예에 따른 레이저 처리 방법은 피처리물의 처리 조건에 따라, 복수개 레이저 빔의 발진을 제어하는 복수개의 발진 조건을 설정하는 과정; 상기 복수개 레이저 빔을 발진시키는 레이저 발생부로 설정된 발진 조건을 전달하여, 복수개 레이저 빔을 발진시키는 과정; 발진된 복수개 레이저 빔을 검출하는 과정; 검출된 레이저 빔 데이터를 이용하여 상기 레이저 발생부의 레이저 빔 발진 상태를 판단하는 과정;을 포함한다. A laser processing method according to an embodiment of the present invention includes the steps of setting a plurality of oscillation conditions for controlling oscillation of a plurality of laser beams according to processing conditions of an object to be processed; Generating a plurality of laser beams by oscillating the plurality of laser beams; Detecting a plurality of oscillated laser beams; And determining a laser beam oscillation state of the laser generation unit using the detected laser beam data.
상기 복수개의 발진 조건을 설정하는 과정은 상기 복수개 레이저 빔이 동시구동 또는 교차구동 되도록 설정할 수 있다. The step of setting the plurality of oscillation conditions may set the plurality of laser beams to be simultaneously or alternately driven.
상기 레이저 빔 발진 상태를 판단하는 과정은, 상기 검출된 레이저 빔 데이터를 설정된 발진 조건의 데이터와 비교하는 과정; 및 상기 검출된 레이저 빔 데이터와 상기 설정된 발진 조건의 데이터의 값이 상이하면, 상기 레이저 발생부의 보정이 요구되는 것으로 판단하는 과정;을 포함할 수 있다. Wherein the step of determining the laser beam oscillation state comprises the steps of: comparing the detected laser beam data with data of a set oscillation condition; And determining that correction of the laser generation unit is required if the detected laser beam data and data of the set oscillation condition are different from each other.
상기 레이저 빔을 검출하는 과정에서는 상기 레이저 빔의 발진 주파수 및 펄스 데이터를 획득할 수 있다. In the process of detecting the laser beam, the oscillation frequency and pulse data of the laser beam can be obtained.
상기 발진모드가 교차구동일 경우에는 상기 레이저 발생부의 보정이 요구되는 것으로 판단하는 과정 이후에, 상기 복수개 레이저 빔 중 보정이 요구되는 레이저 빔의 발진을 중단하는 과정; 발진이 중단된 레이저 빔의 보정 동안 상기 피처리물의 공정 속도를 감소시키는 과정;을 포함할 수 있다. Stopping the oscillation of the laser beam requiring correction among the plurality of laser beams after determining that the correction of the laser generator is required when the oscillation mode is an alternating drive; And reducing the processing speed of the object to be processed during the correction of the laser beam whose oscillation is stopped.
상기 발진모드가 동시구동일 경우에는 상기 레이저 발생부의 보정이 요구되는 것으로 판단하는 과정 이후에, 상기 복수개 레이저 빔 중 보정이 요구되는 레이저 빔의 발진을 중단하는 과정; 발진이 중단된 레이저 빔의 보정 동안 나머지 레이저 빔의 에너지를 증가시키는 과정;을 포함할 수 있다. Stopping the oscillation of the laser beam requiring correction among the plurality of laser beams after determining that correction of the laser generator is required when the oscillation mode is simultaneous driving; And increasing the energy of the remaining laser beam during the correction of the oscillated laser beam.
상기 복수개 레이저 빔 발진 조건을 설정하는 과정에서, 상기 피처리물이 상기 레이저 빔의 발진 방향으로의 가장자리를 포함하는 제1 영역 및 상기 가장자리를 포함하지 않는 제2 영역으로 구분되고, 상기 제1 영역이 상기 제2 영역보다 높은 레이저 빔 에너지로 처리가 요구되는 경우에는, 상기 피처리물이 안착된 스테이지의 위치를 검출하는 과정; 검출된 스테이지의 위치가 상기 제1 영역이 시작하는 위치일 경우, 상기 복수개 레이저 빔을 동시구동하며, 상기 스테이지의 이동 속도를 감소시키는 과정;을 포함할 수 있다. The object to be processed is divided into a first region including an edge in the oscillation direction of the laser beam and a second region not including the edge in the course of setting the plurality of laser beam oscillation conditions, Detecting a position of the stage on which the object to be processed is placed when processing is required with a laser beam energy higher than that of the second region; And a step of simultaneously driving the plurality of laser beams and decreasing a moving speed of the stage when the detected position of the stage is the position at which the first area starts.
검출된 스테이지의 위치가 제2 영역이 시작하는 위치일 경우, 상기 복수개 레이저 빔을 교차구동하며, 상기 스테이지의 이동 속도를 증가시키는 과정;을 포함할 수 있다. And a step of cross-driving the plurality of laser beams and increasing a moving speed of the stage when the detected position of the stage is the position where the second area starts.
본 발명의 실시 예에 따른 레이저 처리 방법은 피처리물이 안착된 스테이지의 위치를 검출하는 과정; 검출된 스테이지의 위치에 따라, 복수개 레이저 빔의 발진 조건 및 상기 피처리물의 공정 속도를 제어하는 과정;을 포함한다.A laser processing method according to an embodiment of the present invention includes the steps of detecting a position of a stage on which an object to be processed is placed; And controlling the oscillation conditions of the plurality of laser beams and the process speed of the object to be processed according to the position of the detected stage.
복수개 레이저 빔의 발진 조건 및 상기 피처리물의 공정 속도를 제어하는 과정은, 상기 검출된 스테이지의 위치가 상기 피처리물의 가장자리에 대응하는 위치일 경우에는 상기 복수개 레이저 빔을 동시구동하고, 상기 피처리물의 공정 속도를 감소시킬 수 있다. Wherein the step of controlling the oscillation conditions of the plurality of laser beams and the processing speed of the object to be processed simultaneously drives the plurality of laser beams when the position of the detected stage corresponds to the edge of the object to be processed, The process speed of water can be reduced.
복수개 레이저 빔의 발진 조건 및 상기 피처리물의 공정 속도를 제어하는 과정은 상기 검출된 스테이지의 위치가 상기 피처리물의 가장자리를 벗어나는 위치일 경우에는 상기 복수개 레이저 빔을 교차구동하고, 상기 피처리물의 공정 속도를 증가시킬 수 있다.Wherein the step of controlling the oscillation conditions of the plurality of laser beams and the processing speed of the object to be processed includes a step of cross-driving the plurality of laser beams when the position of the detected stage is at a position deviating from the edge of the object to be processed, The speed can be increased.
본 발명의 실시 예에 따르면, 피처리물의 레이저 처리 공정에서 복수개의 레이저 소스의 발진 상태를 용이하게 파악 및 제어할 수 있다. 즉, 피처리물을 처리 조건에 따라 설정된 레이저 발진 조건 데이터와 발진된 레이저의 검출 데이터를 비교하여, 레이저 발진 상태의 이상 여부를 판단할 수 있다. 또한, 복수개의 레이저 각각의 발진 제어가 용이하여, 레이저 발생부의 이상 여부 및 피처리물의 처리 영역에 따라 복수의 레이저를 동시 발진하는 방법과 교차 발진하는 방법을 용이하게 혼용할 수 있다. According to the embodiment of the present invention, it is possible to easily grasp and control the oscillation state of a plurality of laser sources in the laser processing process of the object to be processed. That is, it is possible to determine whether or not the laser oscillation condition is abnormal by comparing the laser oscillation condition data set in accordance with the processing conditions with the detection data of the oscillation laser. Further, the oscillation control of each of the plurality of lasers can be easily performed, and a method of simultaneously oscillating a plurality of lasers and a method of performing a cross oscillation can be easily mixed according to the abnormality of the laser generating portion and the processing region of the object to be processed.
이처럼, 레이저를 발진 구성의 문제 해결을 즉각적으로 확인 및 보정하고, 복수개의 레이저의 발진방법을 필요에 따라 변경할 수 있어, 레이저 처리 공정의 생산성을 증가시킬 수 있다. As described above, the problem resolution of the laser oscillation configuration can be immediately confirmed and corrected, and the oscillation method of the plurality of laser oscillators can be changed as needed, thereby increasing the productivity of the laser processing process.
또한, 복수개의 레이저가 필요에 따라 선택적으로 사용되어 레이저 발생부의 사용시간을 단축시킬 수 있기 때문에, 레이저 발생부의 유지보수 횟수의 증가를 방지할 수 있다. In addition, since a plurality of lasers can be selectively used as needed to shorten the use time of the laser generating portion, an increase in the number of times of maintenance of the laser generating portion can be prevented.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 레이저 처리 장치를 나타내는 도면.
도 2는 도 1의 레이저 발생유닛, 레이저 관찰유닛의 세부 구성을 나타내는 도면.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 레이저의 발진모드를 나타내는 도면.
도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 조절유닛을 포함하는 레이저 처리 장치를 나타내는 도면.
도 5는 본 발명의 실시 예에 따른 레이저 처리 방법을 나타내는 순서도.
도 6은 본 발명의 실시 예에 따른 레이저 발생부 보정 여부에 따른 레이저 처리 방법을 나타내는 순서도.
도 7은 본 발명의 실시 예에 따른 피처리물 처리 조건에 따른 레이저 처리 방법을 나타내는 순서도.
도 8 은 도 7의 일례를 설명하기 위한 도면.1 is a view showing a laser processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
Fig. 2 is a view showing a detailed configuration of the laser generating unit and the laser observing unit of Fig. 1; Fig.
3 is a diagram illustrating an oscillation mode of a laser according to an embodiment of the present invention.
4 shows a laser processing apparatus comprising a conditioning unit according to an embodiment of the invention.
5 is a flowchart showing a laser processing method according to an embodiment of the present invention.
6 is a flowchart showing a laser processing method according to whether or not a laser generation unit is corrected according to an embodiment of the present invention.
7 is a flowchart showing a laser processing method according to an object to be processed according to an embodiment of the present invention.
8 is a view for explaining an example of Fig.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예를 더욱 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 발명을 상세하게 설명하기 위해 도면은 과장될 수 있고, 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. It will be apparent to those skilled in the art that the present invention may be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, It is provided to let you know. To illustrate the invention in detail, the drawings may be exaggerated and the same reference numbers refer to the same elements in the figures.
본 발명의 실시 예에 따른 레이저 처리 장치는 피처리물로 조사되는 레이저의 발진상태를 용이하게 파악 및 제어하기 위한 것으로서, 복수의 레이저를 발진시키기 위한 발진 조건과 실제로 발진된 레이저가 동일한 조건을 가지고 있는지 판단할 수 있다. 또한, 레이저의 발진 상태 및 피처리물의 처리 영역에 따라 복수의 레이저의 발진모드를 용이하게 혼용할 수 있다. 이때, 본 발명에서는 레이저 처리 장치가 기판에 증착된 박막을 기판으로부터 분리하기 위해 에너지를 가하는 장치로, 레이저 리프트 오프(LLO; Laser Lift Off)일 수 있다. 또한, 피처리물은 유리 기판에 플렉시블 OLED 박막이 증착된 것일 수 있다. A laser processing apparatus according to an embodiment of the present invention is for easily grasping and controlling an oscillation state of a laser irradiated by an object to be processed, and has a condition that oscillation conditions for oscillating a plurality of lasers and an actually oscillated laser are the same . In addition, the oscillation modes of the plurality of lasers can be easily mixed according to the oscillation state of the laser and the processing region of the object to be processed. In this case, in the present invention, the laser processing apparatus is an apparatus for applying energy to separate the thin film deposited on the substrate from the substrate, and may be a laser lift off (LLO). Further, the object to be processed may be a flexible OLED thin film deposited on a glass substrate.
그러나, 레이저 처리 장치는 본 발명의 구현에 한정되지 않고, 레이저를 피처리물상에 조사하는 레이저 열처리 장치, 레이저 처리 장치 등과 같은 다양한 장치에서, 레이저를 발진시키기 위해 설정된 발진 조건 데이터와 실제로 발진된 레이저의 검출 데이터가 동일한지를 확인하고 레이저 발진을 제어가 요구되는 곳에 적용할 수 있다. However, the laser processing apparatus is not limited to the implementation of the present invention, and can be applied to various apparatuses such as a laser heat treatment apparatus and a laser processing apparatus for irradiating laser on a workpiece, It is possible to confirm that the detection data of the laser oscillation is the same and apply it to a place where control of the laser oscillation is required.
이하에서는 발진된 레이저를 레이저 빔으로 칭하여 설명하기로 하며, 발진된 레이저와 레이저 빔이 혼용 사용되어도 그 의미는 동일하다. Hereinafter, the oscillated laser will be described as a laser beam, and the meaning is the same even if the oscillated laser and the laser beam are used in combination.
이하, 도 1 내지 도 4를 참조하여, 본 발명의 실시 예에 따른 레이저 처리 장치에 대해 설명하기로 한다. 여기서, 도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 레이저 처리 장치를 나타내는 도면이다. 도 2는 도 1의 레이저 발생유닛, 레이저 관찰유닛의 세부 구성을 나타내는 도면이다. 도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 레이저의 발진모드를 나타내는 도면이다. 도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 조절유닛을 포함하는 레이저 처리 장치를 나타내는 도면이다.Hereinafter, a laser processing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 4. FIG. 1 is a view showing a laser processing apparatus according to an embodiment of the present invention. Fig. 2 is a view showing a detailed configuration of the laser generating unit and the laser observing unit of Fig. 1; 3 is a view illustrating an oscillation mode of a laser according to an embodiment of the present invention. 4 is a diagram of a laser processing apparatus including a conditioning unit according to an embodiment of the present invention.
본 발명의 실시 예에 따른 레이저 처리 장치(1)는 피처리물(S)로 레이저 빔(L)을 조사하고, 레이저 빔(L)의 발진 상태를 판단 및 제어하기 위한 장치이다. 레이저 처리 장치(1)는 피처리물(S)로 조사되는 레이저 빔(L)의 발진 신호를 생성하며, 발진 신호에 따라 복수개의 레이저 빔을 발진하는 레이저 발생유닛(100)과, 레이저 빔(L)의 진행경로 상에 배치되며, 레이저 빔(L)을 가공하는 레이저 가공유닛(300) 및 레이저 빔(L)의 진행경로 상에서 레이저 발생유닛(100) 및 레이저 가공유닛(300) 중 적어도 어느 하나에 연결되어, 레이저 빔(L)의 발진 여부를 검출하고, 검출된 데이터를 처리 및 분석하여 레이저 발생유닛(100)의 작동 상태를 판단하는 레이저 관찰유닛(400)을 포함한다. The laser processing apparatus 1 according to the embodiment of the present invention is an apparatus for irradiating a laser beam L to an object S to determine and control the oscillation state of the laser beam L. The laser processing apparatus 1 includes a
레이저 발생유닛(100)은 레이저 빔(L)을 발생시키기 위한 구성으로, 복수개의 레이저 빔(L) 각각의 발진 신호를 생성하는 레이저 컨트롤부(110)와, 레이저 컨트롤부(110)에 연결되어 생성된 발진 신호에 따라 각각의 레이저 빔(L)을 발진시키는 레이저 발생부(130)를 포함한다. 또한, 레이저 발생유닛(100)에는 레이저 발생부(130)에 대응되는 개수로 상기 레이저 발생부(130)의 전단에 구비되는 셔터부(150)를 포함할 수 있다. The
이때, 레이저 발생유닛(100)은 발진하고자 하는 레이저의 개수에 따라, 복수개의 레이저 발생부(130) 및 복수개의 레이저 발생부(130)의 전단에 각각 구비되는 셔터부(150)를 포함할 수 있다. 즉, 본 발명에서의 레이저 발생부(130)는 두개의 레이저가 사용됨에 따라 제1 레이저 발생부(130) 및 제2 레이저 발생부(130)를 포함할 수 있다. 또한, 셔터부(150)는 제1 레이저 발생부(130) 및 제2 레이저 발생부(130) 각각의 전단에 구비되는 제1 셔터부(150) 및 제2 셔터부(150)를 포함할 수 있다. 이하에서는 단일의 레이저 발생부(130) 및 셔터부(150)를 설명하나, 이는 복수개의 레이저 발생부(130) 및 셔터부(150)에 모두 적용되는 설명이다. The
레이저 발생부(130)는 레이저를 발진하는 장치로서, 발진기라고 칭할 수도 있다. 레이저 발생부(130)는 레이저 빔(L)을 발생시키는 공지의 구성으로서, 이용하고자 하는 레이저 빔의 파장에 따라 KrF 엑시머 레이저와, ArF 엑시머 레이저 등 다양한 종류의 것이 채용될 수 있다. 이때, 레이저 빔(L) 광원의 종류는 피처리물(S)을 구성하는 기판과 박막 사이의 결합에너지에 따라 결정될 수 있다. The
셔터부(150)는 레이저 발생부(130)의 전단에 구비되어, 레이저 빔(L)의 경로를 차단하기 위한 구성이다. 즉, 셔터부(150)는 레이저 발생부(130)의 레이저 빔(L)의 진행 방향과 나란한 방향으로 배치되어 레이저 빔(L)의 경로를 개방하거나, 레이저 빔(L)의 진행 방향과 교차하는 방향으로 배치되어 레이저 빔(L)의 경로를 차단할 수 있다. The
레이저 가공유닛(300)은 레이저 발생유닛(100)의 전방에서 레이저 빔(L)의 진행경로 상에 배치되어, 레이저 빔(L)의 형상을 라인 형상(라인 빔)으로 가공하며, 이 라인 빔의 에너지 분포를 가공하기 위한 구성이다. 이와 같은 레이저 가공유닛(300)은 레이저 빔의 형상을 가공하는 렌즈계(미도시)와, 레이저 빔(L)을 반사시켜 레이저 빔(L)의 진행경로를 변화시키는 반사미러(310) 및 레이저 빔(L)의 길이를 제어하는 빔커터(350)를 포함한다. The
레이저 관찰유닛(400)은 레이저 빔(L)의 발진 상태를 판단 및 제어하기 위한 구성으로, 레이저 발생유닛(100) 및 레이저 가공유닛(300) 중 적어도 어느 한 곳에 연결되어, 레이저 빔(L)의 발진 주파수 및 펄스 데이터를 측정하는 검출부(410)와, 검출부(410)에 연결되어 검출부(410)로부터 전달된 레이저 빔(L)의 데이터를 디지털 데이터로 변환하는 변환부(430) 및 변환된 디지털 신호를 분석하여 레이저 빔(L) 발진 신호의 이상 여부를 판단하는 판단부(450)를 포함한다. 또한, 레이저 관찰유닛(400)은 판단부(450)로부터 전달된 발진 신호의 이상 여부 판단 결과에 따라서, 레이저 빔(L) 발진 신호를 제어하는 제어부(470)를 포함한다. The
즉, 레이저 관찰유닛(400)은 레이저 발생유닛(100)으로부터 발진된 레이저 빔(L)의 진행경로 상에서 레이저 빔(L)의 발진 주파수 및 펄스 데이터를 측정하고, 이를 레이저 컨트롤부(110)에서 레이저 발생부(130)로 전달한 발진 신호 데이터와 비교하여 레이저 빔(L)의 발진 신호에 이상 여부를 판단하며, 판단 결과에 따라 레이저 컨트롤부(110)의 작동을 제어하는 구성을 포함한다. That is, the
검출부(410)는 레이저 빔(L)의 진행경로 상에 배치되어 레이저 빔(L)을 센싱하기 위한 구성으로, 레이저 발생유닛(100) 및 레이저 관찰유닛(400) 중 적어도 어느 한 구성에 연결될 수 있다. 즉, 검출부(410)는 레이저 빔(L)의 진행경로 상에서 레이저 발생유닛(100)의 전단이나, 레이저 빔(L)을 피처리물(S)로 반사시키는 위치 및 레이저 빔(L)의 길이를 제어하는 위치 중 적어도 어느 한 위치에 구비될 수 있다. The
이때, 검출부(410)는 레이저 발생유닛(100)의 전단에 배치되는 제1 검출기(412)와, 피처리물(S)로 레이저 빔(L)의 진행경로를 변경하는 반사미러(310)의 투과하는 레이저 빔(L)이 도달하는 위치에 배치되는 제2 검출기(414) 및 레이저 빔(L)의 길이를 제어하는 빔 커터(350)에서 분리된 잔여 레이저 빔(L)이 도달하는 위치에 배치되는 제3 검출기(416)를 포함할 수 있다. The detecting
이처럼, 제1 검출기(412), 제2 검출기(414) 및 제3 검출기(416)가 상기 특정 위치에 배치되는 이유를 설명하면, 제1 검출기(412)는 레이저 빔(L)이 피처리물(S)로 조사되기 위해 제일 초기에 발진된 위치이기 때문에, 레이저 빔(L)을 용이하게 검출할 수 있기 때문이다. 또한, 제2 검출기(414)는 반사미러(310)의 재질 특성상 레이저 빔(L)의 전부가 피처리물(S)로 반사되지 않고 일부는 반사미러(310)를 투과하기 때문에, 레이저 빔(L)의 진행경로 상에 배치되지 않더라도 레이저 빔(L)을 용이하게 검출할 수 있기 때문이다. 마지막으로, 제3 검출기(416)는 빔 커터(350)의 역할 특성상 레이저 빔(L)의 길이 조절 공정 후 분리된 잔여 레이저 빔(L)을 검출하기 때문에, 레이저 빔(L)의 진행경로 상에 배치되지 않더라도 레이저 빔(L)을 용이하게 검출할 수 있기 때문이다. 즉, 본원발명의 검출부(410)는 레이저 빔(L)의 피처리물(S)로의 진행을 방해하지 않는 위치에서 레이저 빔(L)을 검출할 수 있는 위치에 배치되는 것이다. The reason why the
이와 같은 검출부(410)는 레이저 빔(L)과 같은 광을 센싱할 수 있는 구성이 사용될 수 있으며, 예컨대, 포토 다이오드(photodiode)가 사용될 수 있다. 즉, 검출부(410)는 광 자체 또는 광에 포함되는 정보를 전기 신호로 변환하여 검지하는 소자가 사용되어, 레이저 빔(L)의 발진 주파수 및 펄스 데이터를 실시간으로 얻을 수 있다. The
변환부(430)는 검출부(410)에서 검출된 레이저 빔(L)의 아날로그 데이터를 디지털 형태로 변환시키는 구성이다. 즉, 디지타이저는 레이저를 검출하는 광 신호 검출기에 의해 측정된 신호를 디지털 신호로서 변경하여, 후술하는 제어부에 입력될 수 있도록 신호를 변환해주는 역할을 수행한다.The converting
판단부(450)는 변환부(430)에서 전달된 레이저 빔(L)의 디지털 데이터를 표시하고, 변환부(430)에 전달된 레이저 빔(L)의 디지털 데이터를 분석하여 레이저 빔(L)의 발진 신호의 이상 여부를 판단하기 위한 구성이다. 즉, 판단부(450)는 검출부(410)가 검출한 레이저 빔(L)의 데이터(이하, 검출 데이터)와 레이저 발생유닛(100)에서 레이저 빔(L)을 발진시키기 위해 레이저 컨트롤부(110)에서 레이저 발생부(130)로 전달한 발진 신호의 데이터(이하, 설정 데이터)를 비교한다. 그리고, 검출 데이터와 설정 데이터가 서로 동일한 값을 나타낼 경우에는 레이저 빔(L)의 발진에 이상이 발생하지 않았다고 판단한다. 한편, 검출 데이터와 설정 데이터가 서로 상이한 값을 나타낼 경우에는 레이저 빔(L)의 발진에 이상이 발생하였다고 판단한다. 이와 같은 검출 데이터 및 설정 데이터는 앞서 설명한 것처럼, 레이저 빔(L)의 발진 주파수 및 펄스 데이터 일 수 있다. The
제어부(470)는 판단부(450)의 판단 결과에 따라 레이저 발생유닛(100)을 제어하는 구성으로, 판단부(450)로부터 전달된 레이저 빔(L) 발진의 이상 발생 여부 결과에 따라서, 레이저 발생부(130)의 레이저 빔(L) 발진 작동을 제어한다. 즉, 제어부(470)는 판단부(450)에서 설정 데이터와 측정 데이터가 서로 상이하다는 판단결과가 전달될 경우, 레이저 컨트롤부(110)에 설정 데이터와 측정 데이터가 서로 동일해질 수 있도록 보정신호를 전달하는 역할을 한다. The
한편, 전술한 레이저 처리 장치(1)에는 피처리물(S)이 안착되는 스테이지(50)의 위치에 따른 피처리물(S)의 처리영역 별로, 레이저 빔(L)의 발진 모드 및 스테이지(50)의 이동 속도를 조절하는 조절유닛(500)을 더 포함할 수 있다. On the other hand, in the above-described laser processing apparatus 1, the oscillation mode of the laser beam L and the oscillation mode of the stage (not shown) are determined for each processing region of the object S depending on the position of the
조절유닛(500)은 레이저 빔(L)이 조사되는 피처리물(S)의 위치에 따라서 레이저 빔(L)의 처리 조건을 용이하게 변경하기 위한 구성으로, 스테이지(50)의 위치를 측정하는 위치 검출부(510)와, 위치 검출부(510) 및 레이저 발생유닛(100)에 연결되어, 측정된 스테이지의 위치에 따라 레이저 빔(L)의 발진모드 및 스테이지(50)의 작동상태를 조절하는 조절부(530) 및 조절부(530)에 연결되어, 조절된 레이저 빔(L)의 발진모드에 따라 스테이지(50)의 속도를 제어하는 모션 컨트롤부(550)를 포함한다. The
위치 검출부(510)는 스테이지(50)의 이동에 따른 스테이지(50)의 위치를 측정하기 위한 구성으로, 예컨대, 위치 엔코더를 사용할 수 있다. 즉, 위치 검출부(510)는 실시간으로 스테이지(50)의 위치를 파악하고, 스테이지(50)의 위치 데이터를 조절부(530)로 전달한다. 더욱 상세하게는, 위치 검출부(510)는 스테이지(50)의 위치 데이터를 수집하지만, 스테이지(50) 상에 안착되는 피처리물(S)의 위치를 확인하기 위한 구성일 수 있다. 예를 들어, 스테이지(50)를 폭방향으로 제1 위치부터 제10 위치까지 분할하고, 일반적으로 스테이지(50) 상에 제3 위치부터 제7 위치까지의 폭만큼의 피처리물(S)이 안착된다고 가정한다. 이에, 위치 검출부(510)가 스테이지의 제2 위치까지는 피처리물(S)이 존재하지 않지만 스테이지(50)의 제3 위치부터는 피처리물(S)의 존재하는 것을 확인할 수 있는 것이다. 이처럼, 스테이지(50)의 위치에 따라서 피처리물(S)의 위치를 파악하는 것은, 스테이지(50)와 피처리물(S) 간의 위치 상관관계를 미리 설정해 놓고, 설정된 위치 상관관계에 따라 파악하는 것이다. The
조절부(530)는 위치 검출부(510)로부터 전달된 스테이지(50)의 위치에 따라서, 레이저 빔(L)의 발진모드를 변경하거나 스테이지(50)의 이동을 제어하기 위한 구성으로, 레이저 컨트롤부(110) 및 모션 컨트롤부(550)에 각각 레이저 빔(L)의 발진모드 변경을 위한 제어신호 및 스테이지(50)의 이동속도 변경을 위한 제어신호를 전달하는 구성이다. The
모션 컨트롤부(550)는 조절부(530)에서 전달된 스테이지(50)의 이동속도 변경을 위한 제어신호를 전달받아, 전달받은 신호에 따라 스테이지(50)를 이동시키기 동력을 제공하는 구성이다.The
전술한 바와 같이 형성된 레이저 처리 장치(1)는 복수개의 레이저 빔(L)을 사용한 피처리물(S) 처리 과정에서, 레이저 빔(L)을 발진시키기 위해 발진 신호를 갖는 설정된 데이터와, 상기 설정된 발진신호에 따라 발진된 후에 측정된 레이저 빔(L)의 측정데이터를 실시간으로 비교한다. 이에, 레이저 빔(L)의 발진상태에 이상 발생 여부를 용이하게 파악할 수 있다. The laser processing apparatus 1 formed as described above is capable of setting the set data having the oscillation signal for oscillating the laser beam L in the processing process S using the plurality of laser beams L, In real time, measurement data of the laser beam (L) measured after oscillation in accordance with the oscillation signal. Thus, it is possible to easily grasp whether or not an abnormal state occurs in the oscillating state of the laser beam (L).
또한, 스테이지(50)의 위치에 따라 피처리물(S)의 위치를 용이하게 파악하고, 파악된 피처리물(S)의 위치별로 레이저 빔(L)의 발진모드 및 스테이지(50)의 이동 속도를 조절할 수 있다. 이에, 피처리물(S)의 위치별로 상이한 공정조건을 용이하게 적용할 수 있어, 공정의 효율성 및 생산성을 증가시킬 수 있다. It is also possible to easily grasp the position of the object S in accordance with the position of the
이하, 도 5 내지 도 9를 참조하여, 본 발명의 실시 예에 따른 레이저 처리 방법에 대해 설명하기로 한다. 여기서, 도 5는 본 발명의 실시 예에 따른 레이저 처리 방법을 나타내는 순서도이다. 도 6은 본 발명의 실시 예에 따른 레이저 발생부 보정 여부에 따른 레이저 처리 방법을 나타내는 순서도이다. 도 7은 본 발명의 실시 예에 따른 피처리물 처리 조건에 따른 레이저 처리 방법을 나타내는 순서도이다. 도 8 및 도 9는 도 7의 일례를 설명하기 위한 도면이다. Hereinafter, a laser processing method according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 5 to 9. FIG. Here, FIG. 5 is a flowchart showing a laser processing method according to an embodiment of the present invention. 6 is a flowchart illustrating a laser processing method according to an embodiment of the present invention. 7 is a flowchart showing a laser processing method according to an object to be processed according to an embodiment of the present invention. Figs. 8 and 9 are views for explaining an example of Fig.
본 발명의 실시 예에 따른 레이저 처리 방법은 피처리물(S)의 처리 조건에 따라, 복수개 레이저 빔의 발진을 제어하는 복수개의 발진 조건을 설정하는 과정과, 복수개 레이저 빔(L)을 발진시키는 레이저 발생부(130)로 설정된 발진 조건을 전달하여, 복수개 레이저 빔(L)을 발진시키는 과정, 발진된 복수개 레이저 빔(L)을 검출하는 과정 및 검출된 레이저 빔(L) 데이터를 이용하여 레이저 발생부(130)의 레이저 빔(L) 발진 상태를 판단하는 과정을 포함한다. The laser processing method according to the embodiment of the present invention includes the steps of setting a plurality of oscillation conditions for controlling the oscillation of a plurality of laser beams in accordance with processing conditions of the object to be processed S, A process of oscillating a plurality of laser beams L by transmitting an oscillation condition set by the
우선, 레이저 빔(L)으로 처리하고자 하는 피처리물(S)의 처리 조건을 확인하고, 피처리물(S) 처리 조건에 따른 레이저 빔(L) 발진 조건을 설정한다(S110). 피처리물(S)의 처리 조건은 재질, 분리하여야 하는 박막과의 결합 에너지가 피처리물(S)의 처리 조건일 수 있다. 이외에도, 피처리물(S)의 처리조건은 레이저 빔(L)을 이용한 처리에 있어, 레이저 빔(L)의 에너지에 영향을 받을 수 있는 조건들이 모두 포함될 수 있다. 또한, 복수개 레이저 빔(L)의 발진 조건은 복수개의 레이저 빔(L)의 발진이 서로 동시에 구동되는 동시구동 또는 서로 교차하여 구동되는 교차구동되도록 설정할 수 있다. 이때, 복수개의 레이저 빔(L)의 동시구동은 피처리물(S)에 큰 에너지의 레이저 빔(L)의 조사가 요구되는 경우에 설정될 수 있으며, 교차구동은 동시구동 때보다는 작은 에너지의 레이저 빔(L)의 조사가 피처리물(S)에 요구되는 경우에 설정될 수 있다.First, the processing conditions of the object S to be processed by the laser beam L are checked, and the laser beam L oscillation conditions are set according to the processing conditions of the object to be processed S (S110). The treatment condition of the object S to be treated may be the material and the binding energy with the thin film to be separated is the treatment condition of the object S to be treated. In addition, the processing conditions of the object S to be processed may include all conditions that can be influenced by the energy of the laser beam L in the processing using the laser beam L. [ The oscillation conditions of the plurality of laser beams L may be set such that the oscillations of the plurality of laser beams L are simultaneously driven to be mutually driven or alternately driven to cross each other. At this time, simultaneous driving of the plurality of laser beams L can be set when irradiation of a laser beam L of a large energy to the object to be processed S is required, and the cross driving can be performed with a small energy It can be set when irradiation of the laser beam L is required to the object S to be processed.
피처리물의 처리 조건에 따라 레이저 빔 발진 조건이 설정되면, 설정된 레이저 빔 발진 조건(이하, 설정된 발진 조건)에 따라 레이저 빔(L)을 발진한다(S120). 즉, 설정된 발진 조건이 도 3의 (a)에 도시된 것처럼, 복수개 레이저 빔(L1, L2)의 동시구동 발진모드일 경우에는, 복수개의 레이저 빔(L1, L2)을 발진시키는 레이저 발생부(130) 각각에 동시에 레이저 빔(L1, L2)이 발진되도록 레이저 컨트롤부(110)가 레이저 발생부(130)로 발진신호를 전달한다. 한편, 설정된 발진 조건이 도 3의 (b)에 도시된 것처럼, 복수개 레이저 빔(L1, L2)의 교차구동 발진모드일 경우에는, 복수개의 레이저 빔(L1, L2)을 발진시키는 레이저 발생부(130) 각각에 서로 다른 시점에 레이저 빔(L1, L2)이 발진되도록 레이저 컨트롤부(110)가 레이저 발생부(130)로 발진신호를 전달한다. When the laser beam oscillation condition is set according to the processing condition of the object to be processed, the laser beam L is oscillated according to the set laser beam oscillation condition (S120). That is, when the set oscillation condition is the simultaneous drive oscillation mode of the plurality of laser beams L1 and L2 as shown in FIG. 3A, the laser generation unit (laser oscillator) for oscillating the plurality of laser beams L1 and L2 The
이때, 앞서 복수개 레이저 빔(L1, L2)의 발진 조건을 설정하는 과정에서, 피처리물(S)이 레이저 빔(L)의 발진 방향으로의 가장자리를 포함하는 제1 영역 및 가장자리를 포함하지 않는 제2 영역으로 구분되고, 제1 영역이 제2 영역보다 높은 레이저 빔 에너지로 처리가 요구되는 경우에는, 피처리물(S)이 안착된 스테이지(50)의 위치를 검출하는 과정과, 검출된 스테이지(50)의 위치가 제1 영역이 시작하는 위치일 경우 복수개 레이저 빔(L1, L2)을 동시구동하며, 스테이지(50)의 이동 속도를 감소시키는 과정을 포함할 수 있다. At this time, in the process of setting the oscillation conditions of the plurality of laser beams L1 and L2, the object S does not include the first region including the edge in the oscillation direction of the laser beam L and the first region including the edge Detecting the position of the stage (50) on which the object (S) is placed when the first region is required to be processed with a higher laser beam energy than the second region; And a step of simultaneously driving a plurality of laser beams L1 and L2 and reducing the moving speed of the
또한, 검출된 스테이지(50)의 위치가 제2 영역이 시작하는 위치일 경우에는, 복수개 레이저 빔(L1, L2)을 교차구동하며, 스테이지(50)의 이동 속도를 증가시키는 과정을 포함하여, 레이저 빔(L)의 조사가 진행될 수 있다. When the detected position of the
레이저 컨트롤부(110)의 발진신호에 의해 레이저 빔(L)이 발진되면, 발진된 레이저 빔(L)을 검출한다(S130). 이때, 레이저 빔(L)을 검출하는 것은 검출부(410)에 구비되는 검출기를 이용하여 레이저 빔(L)의 발진 주파수 및 펄스 데이터를 측정하며 검출할 수 있다. When the laser beam L is oscillated by the oscillation signal of the
이처럼, 레이저 빔(L)을 검출함으로써, 레이저 빔(L)의 발진 상태를 판단할 수 있다. 즉, 레이저 빔(L)을 검출하여 레이저 빔(L)의 발진 상태를 판단하는 과정은 검출된 레이저 빔(L) 데이터를 설정된 발진 조건의 데이터와 비교하는 과정(S140) 및 검출된 레이저 빔(L) 데이터와 설정된 발진 조건의 데이터의 값이 상이하면, 레이저 발생부(130)의 보정이 요구되는 것으로 판단하는 과정을 포함한다. As described above, by detecting the laser beam L, the oscillation state of the laser beam L can be determined. That is, the process of determining the oscillation state of the laser beam L by detecting the laser beam L comprises the steps of comparing the detected laser beam L data with the data of the set oscillation condition S140, L) data is different from the data of the set oscillation condition, it is determined that the correction of the
즉, 검출된 레이저 빔(L) 데이터와 설정된 발진 조건 데이터가 일치 및 불일치인지를 확인(S150)하여, 검출된 레이저 빔(L) 데이터와 설정된 발진 조건 데이터가 동일하면 레이저 빔(L) 발진 상태가 양호하다고 판단한다(S160). 한편, 검출된 레이저 빔(L) 데이터와 설정된 발진 조건 데이터가 동일하지 않으면 레이저 빔(L)의 발진 상태에 보정이 요구되는 것으로 판단한다(S200). That is, it is checked whether the detected laser beam L data and the set oscillation condition data are identical or inconsistent (S150). If the detected laser beam L data and the set oscillation condition data are the same, the laser beam L oscillation state (S160). On the other hand, if the detected laser beam L data and the set oscillation condition data are not the same, it is determined that the oscillation state of the laser beam L is required to be corrected (S200).
전술한 것처럼, 피처리물(S)의 처리 조건에 따라 레이저 발진 조건을 설정하고(S110), 설정된 발진 조건에 따라 레이저 빔(L)을 발진시키고(S120), 발진된 레이저 빔(L)을 검출하며(S130), 검출된 레이저 빔 데이터와 설정된 발진 조건 데이터를 비교(S140, S150)하는 과정은 레이저 발진 상태를 관찰하는(S100)과정에 포함되는 것이다. As described above, the laser oscillation condition is set according to the processing condition of the object S (S110), the laser beam L is oscillated according to the set oscillation condition (S120), and the oscillated laser beam L is oscillated (S 130). The process of comparing the detected laser beam data with the set oscillation condition data (S 140 and S 150) is included in the process of observing the laser oscillation state (S 100).
이처럼, 레이저 발진 상태를 관찰하고(S100), 레이저 빔(L)을 발생시키는 레이저 발생부(130)에 보정이 요구된다고 판단되면(S200), 제어부(470)는 레이저 빔(L)의 발진모드를 확인(S210)하고, 발진모드에 따라서 피처리물(S)의 공정속도 또는 레이저 빔(L)의 에너지 조절의 보정방법을 적용한다. The
우선, 레이저 발생부(130)의 보정이 요구되는 것으로 판단되고(S200), 레이저 빔(L)의 발진모드가 동시구동일 경우에는, 판단 과정 이후에 복수개 레이저 빔(L1, L2) 중 보정이 요구되는 레이저 빔(L)의 발진을 중단하는 과정(S220B)과, 발진이 중단된 레이저 빔의 보정 동안 나머지 레이저 빔의 에너지를 증가시키는 과정(S230B)이 수행된다.It is determined that the correction of the
즉, 복수개 레이저 빔(L1, L2) 중 보정이 요구되는 레이저 빔(L)의 발진을 중단하고(S220B), 보정이 요구되는 레이저 빔(L)이 전달하여야 하는 피처리물(S)로의 레이저 빔(L) 에너지를 나머지 레이저 빔(L), 즉, 보정이 요구되지 않는 레이저 빔(L)들이 보상할 수 있도록 제어부(470)가 레이저 컨트롤부(110)에 보정이 요구되지 않는 레이저 빔(L)들이 기존보다 더 큰 값의 에너지로 발진될 수 있도록 제어 신호를 전달한다.That is, the oscillation of the laser beam L required to be corrected among the plurality of laser beams L1 and L2 is stopped (S220B), and the laser to be processed S to be transmitted by the laser beam L, The
반면, 레이저 발생부(130)의 보정이 요구되는 것으로 판단되고(S200), 레이저 빔(L)의 발진모드가 교차구동일 경우에는, 판단 과정 이후에 복수개 레이저 빔(L1, L2) 중 보정이 요구되는 레이저 빔(L)의 발진을 중단하는 과정과, 발진이 중단된 레이저 빔(L)의 보정 동안 피처리물(S)의 공정 속도를 감소시키는 과정이 수행된다. 이때, 피처리물의 공정 속도는 하기의 관계식 1에 의해 도출된 값으로 설정될 수 있다. If it is determined in step S200 that the correction of the
[관계식1] [Relation 1]
V = V0(n-x)/n V = V 0 (nx) / n
(여기서, V; 도출된 피처리물 공정 속도, V0; 기존 피처리물 공정 속도, n; 사용되는 레이저 발생부 개수, x; 보정이 요구되는 레이저 발생부 개수) (Wherein, V; draw the object to be treated in the process speed, V 0; laser generator number is required to be processed existing correction process speed, n;; laser generator number, x is used)
레이저 발생부(130)의 보정이 완료되어, 보정 요구된 레이저 발생부가 정상화되면(S240), 보정된 레이저 발생부(130)의 작동을 개시하여 보정이 요구되었던 레이저 빔(L)의 발진을 개시한다(S250). 그리고, 보정동안 조절된 레이저 빔(L) 에너지 또는 피처리물(S)의 공정속도를 보정전 값으로 복귀(S260A, S260B)시킴으로써, 레이저 빔(L) 조사 과정을 완료할 수 있다(S300). When the correction of the
한편, 본 발명의 다른 실시예에 따른 레이저 처리 방법은 기판의 위치별 상이한 처리 조건을 적용하기 위한 방법으로서, 피처리물(S)이 안착된 스테이지(50)의 위치를 검출하는 과정과, 검출된 스테이지(50)의 위치에 따라, 복수개 레이저 빔(L1, L2)의 발진 조건 및 피처리물(S)의 공정 속도를 제어하는 과정을 포함한다. The laser processing method according to another embodiment of the present invention includes a step of detecting the position of the
복수개 레이저 빔(L)의 발진 조건 및 피처리물(S)의 공정 속도를 제어하는 과정에서 검출된 스테이지(50)의 위치가 피처리물(S)의 가장자리와 대응하는 위치일 경우, 복수개 레이저 빔(L1, L2)을 동시구동하고, 피처리물(S)의 공정 속도를 감소시킬 수 있다. When the position of the
한편, 복수개 레이저 빔(L1, L2)의 발진 조건 및 피처리물(S)의 공정 속도를 제어하는 과정에서 검출된 스테이지(50)의 위치가 피처리물(S)의 가장자리를 벗어나는 위치일 경우에는 복수개 레이저 빔(L1, L2)을 교차구동하고, 피처리물(S)의 공정 속도를 증가시킬 수 있다. On the other hand, when the position of the
즉, 레이저 빔(L)을 조사를 시작하면(S410), 스테이지(50)는 제1 속도로 출발한다(S420). 이때, 도 9를 참조하면, 스테이지(50)의 위치는 A, B 및 C의 세 구간으로 구분될 수 있는데, A구간은 스테이지(50) 상에 피처리물(S)이 존재하지 않은 구간이다. 그리고, B구간은 스테이지(50) 상에 피처리물(S)이 존재하는 구간이며, 스테이지(50)의 이동방향으로의 피처리물(S)의 가장자리를 포함하는 구간이다. 마지막으로, C 구간은 스테이지(50) 상에 피처리물(S)의 가장자리를 포함하지 않는 영역이 존재하는 구간이다. 이때, B 구간은 피처리물(S)을 구성하는 글래스와 박막의 결합력이 다른 영역보다 큰 결합력을 나타내는 본딩영역을 포함한다. That is, when irradiation of the laser beam L is started (S410), the
이때, 위치 검출부(510)가 스테이지(50)의 위치를 검출하여, 피처리물(S)의 본딩영역으로 스테이지가 진입(S430)한 것을 확인하면, 조절부(530)는 본딩영역에 기존의 레이저 빔(L)보다 에너지 높은 레이저 빔(L)을 조사하기 위해 복수개 레이저 빔(L1, L2)을 동시구동 발진모드로 변환하기 위한 신호를 레이저 컨트롤부(110)에 전달하고, 레이저 빔(L)이 본딩영역에 넉넉하게 조사되도록 스테이지(50)의 저속 이동시키기 위한 신호를 모션 컨트롤부(550)에 전달한다. 이에, 레이저 컨트롤부(110)는 복수개 레이저 빔(L1, L2) 각각이 동시에 같은 발진 주파수 및 펄스를 갖도록 발진되도록 함으로써, 피처리물(S)에 조사되는 레이저 빔(L)의 에너지를 증가시킬 수 있다. 또한, 모션 컨트롤부(550)는 스테이지(50)를 저속이동시켜 레이저 빔(L)이 피처리물(S)에 넉넉하게 조사되도록 할 수 있다. At this time, if the
한편, 위치 검출부(510)가 스테이지의 위치를 검출하여, 피처리물(S)의 본딩영역에서 스테이지(50)가 벗어난(S450) 것을 확인하면, 조절부(530)는 본딩영역에 조사된 레이저 빔(L)보다 낮은 에너지로 레이저 빔(L)을 조사하기 위해 복수개 레이저 빔(L1, L2)을 교차구동 발진모드로 변환하기 위한 신호를 레이저 컨트롤부(110)에 전달하고, 스테이지(50)의 이동속도를 증가시킨다. On the other hand, when the
이는, 피처리물(S)의 가장자리 부분에는 레이저 빔(L)의 조사 밀도를 높게 하여 본딩 제거를 용이하게 하기 위함이며, 가장자리를 벗어난 구간은 빠른 속도로 공정을 진행하기 위해 레이저 빔(L)의 발진모드가 혼용되어 사용되는 것이다. This is because the laser beam L is irradiated at the edge portion of the object S to facilitate the bonding removal by increasing the irradiation density, The oscillation mode of the oscillator is used in combination.
이와 같이, 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시 예에 관해 설명하였으나, 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능하다. 그러므로, 본 발명의 범위는 설명된 실시 예에 국한되어 정해져서는 안되며, 아래에 기재될 특허청구범위뿐만 아니라 이 청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.Although the present invention has been described in detail with reference to the specific embodiments thereof, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made without departing from the scope of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be limited by the described embodiments, but should be defined by the appended claims, as well as the appended claims.
1 : 레이저 처리 장치 S : 피처리물
50 : 스테이지 100 : 레이저 발생유닛
110 : 레이저 컨트롤부 130 : 레이저 발생부
150 : 셔터부 300 : 레이저 가공유닛
310 : 반사미러 350 : 빔 커터
400 : 레이저 관찰유닛 410 : 검출부
430 : 변환부 450 : 판단부
470 : 제어부 500 : 조절유닛
510 : 위치 검출부 530 : 조절부
550 : 모션 컨트롤부1: laser processing device S: object to be processed
50: stage 100: laser generating unit
110: laser control unit 130: laser generating unit
150: shutter unit 300: laser processing unit
310: reflective mirror 350: beam cutter
400: laser observation unit 410: detection unit
430: converting section 450:
470: Control unit 500: Control unit
510: position detector 530:
550: Motion control section
Claims (18)
상기 레이저 발생유닛에서 발진된 레이저 빔의 진행경로 상에 배치되며, 상기 레이저 빔을 가공하는 레이저 가공유닛;
상기 진행경로 상에서 상기 레이저 발생유닛 및 상기 레이저 가공유닛 중 적어도 어느 하나에 연결되어 상기 레이저 빔의 발진 여부를 검출하고, 검출된 데이터를 처리 및 분석하여 상기 레이저 발생유닛의 작동 상태를 판단하는 레이저 관찰유닛;을 포함하는 레이저 처리 장치. A laser generating unit generating an oscillation signal of a laser beam irradiated with the object to be processed and oscillating a plurality of laser beams;
A laser processing unit disposed on a traveling path of the laser beam oscillated in the laser generation unit, for processing the laser beam;
And a control unit connected to at least one of the laser generation unit and the laser processing unit on the progress path to detect whether or not the laser beam is oscillated and process and analyze the detected data to determine the operation state of the laser generation unit. And a laser processing unit.
상기 레이저 관찰유닛은,
상기 레이저 발생유닛 및 상기 레이저 가공유닛 중 적어도 어느 하나에 연결되고, 상기 레이저 빔의 발진 주파수 및 펄스 데이터를 측정하는 검출부;
상기 검출부로부터 전달된 상기 레이저 빔의 아날로그 데이터를 디지털 데이터로 변환하는 변환부; 및
상기 변환부에서 변환된 디지털 신호를 분석하여 상기 발진 신호의 이상 여부를 판단하는 판단부;를 포함하는 레이저 처리 장치. The method according to claim 1,
The laser observation unit includes:
A detector connected to at least one of the laser generation unit and the laser processing unit, for measuring oscillation frequency and pulse data of the laser beam;
A converter for converting the analog data of the laser beam transmitted from the detector into digital data; And
And a determination unit for determining whether the oscillation signal is abnormal by analyzing the digital signal converted by the conversion unit.
상기 레이저 관찰유닛은,
상기 판단부로부터 전달된 상기 발진 신호의 이상 여부 판단 결과에 따라, 상기 발진 신호를 제어하는 제어부;를 포함하는 레이저 처리 장치. The method of claim 2,
The laser observation unit includes:
And a controller for controlling the oscillation signal according to a result of determining whether the oscillation signal transmitted from the determination unit is abnormal.
상기 검출부는,
상기 레이저 빔의 진행방향으로의 상기 레이저 발생유닛의 전단이나, 상기 레이저 빔을 상기 피처리물로 반사시키는 위치 및 상기 레이저 빔의 길이를 제어하는 위치 중 적어도 어느 한 곳에 구비되는 레이저 처리 장치. The method of claim 2,
Wherein:
A position for controlling the length of the laser beam, a front end of the laser generation unit in the traveling direction of the laser beam, a position for reflecting the laser beam to the object to be processed, and a position for controlling the length of the laser beam.
상기 레이저 발생유닛은,
상기 복수개 레이저 빔 각각의 발진 신호를 생성하는 레이저 컨트롤부; 및
상기 레이저 컨트롤부에 연결되어, 생성된 발진 신호에 따라 각각의 레이저 빔을 발진시키는 레이저 발생부;를 포함하는 레이저 처리 장치. The method according to claim 1,
The laser generating unit includes:
A laser control unit for generating an oscillation signal of each of the plurality of laser beams; And
And a laser generation unit connected to the laser control unit to oscillate each laser beam in accordance with the generated oscillation signal.
상기 피처리물이 안착되는 스테이지의 위치에 따른 상기 피처리물의 처리영역 별로 상기 레이저 빔의 발진 모드 및 상기 스테이지의 작동상태를 조절하는 조절유닛;을 더 포함하는 레이저 처리 장치. The method according to claim 1,
And an adjusting unit for adjusting an oscillation mode of the laser beam and an operation state of the stage for each processing region of the object to be processed according to a position of the stage on which the object to be processed is placed.
상기 조절유닛은,
상기 스테이지의 위치를 측정하는 위치 검출부;
상기 위치 검출부 및 상기 레이저 발생유닛에 연결되어, 측정된 스테이지의 위치에 따라 상기 레이저의 빔의 발진모드 및 상기 스테이지의 이동속도를 조절하는 조절부;
상기 조절부에 연결되어 조절된 레이저 빔의 발진모드에 따라 상기 스테이지의 속도를 제어하는 모션 컨트롤부;를 포함하는 레이저 처리 장치.The method of claim 6,
The adjustment unit includes:
A position detector for measuring a position of the stage;
An adjusting unit connected to the position detecting unit and the laser generating unit to adjust an oscillation mode of the laser beam and a moving speed of the stage according to a position of the measured stage;
And a motion control unit coupled to the controller to control a speed of the stage in accordance with an oscillation mode of the laser beam.
상기 복수개 레이저 빔을 발진시키는 레이저 발생부로 설정된 발진 조건을 전달하여, 복수개 레이저 빔을 발진시키는 과정;
발진된 복수개 레이저 빔을 검출하는 과정;
검출된 레이저 빔 데이터를 이용하여 상기 레이저 발생부의 레이저 빔 발진 상태를 판단하는 과정;을 포함하는 레이저 처리 방법. Setting a plurality of oscillation conditions for controlling oscillation of a plurality of laser beams in accordance with processing conditions of the object to be processed;
Generating a plurality of laser beams by oscillating the plurality of laser beams;
Detecting a plurality of oscillated laser beams;
And determining a laser beam oscillation state of the laser generation unit using the detected laser beam data.
상기 복수개의 발진 조건을 설정하는 과정은 상기 복수개 레이저 빔이 동시구동 또는 교차구동 되도록 발진모드를 설정하는 레이저 처리 방법. The method of claim 8,
Wherein the step of setting the plurality of oscillation conditions sets the oscillation mode so that the plurality of laser beams are simultaneously or alternately driven.
상기 레이저 빔 발진 상태를 판단하는 과정은,
상기 검출된 레이저 빔 데이터를 설정된 발진 조건의 데이터와 비교하는 과정; 및
상기 검출된 레이저 빔 데이터와 상기 설정된 발진 조건의 데이터의 값이 상이하면, 상기 레이저 발생부의 보정이 요구되는 것으로 판단하는 과정;을 포함하는 레이저 처리 방법. The method of claim 9,
Wherein the step of determining the laser beam oscillation state comprises:
Comparing the detected laser beam data with data of a set oscillation condition; And
And determining that correction of the laser generation unit is required if the detected laser beam data and data of the set oscillation condition are different from each other.
상기 레이저 빔을 검출하는 과정에서는 상기 레이저 빔의 발진 주파수 및 펄스 데이터를 획득하는 레이저 처리 방법. The method of claim 10,
And acquiring an oscillation frequency and pulse data of the laser beam in the process of detecting the laser beam.
상기 발진모드가 교차구동일 경우에는,
상기 레이저 발생부의 보정이 요구되는 것으로 판단하는 과정 이후에,
상기 복수개 레이저 빔 중 보정이 요구되는 레이저 빔의 발진을 중단하는 과정;
발진이 중단된 레이저 빔의 보정 동안 상기 피처리물의 공정 속도를 감소시키는 과정;을 포함하는 레이저 처리 방법. The method of claim 10,
When the oscillation mode is the cross drive,
After the process of determining that correction of the laser generation unit is required,
Stopping oscillation of a laser beam requiring correction among the plurality of laser beams;
And reducing the processing speed of the object during correction of the laser beam whose oscillation has stopped.
상기 발진모드가 동시구동일 경우에는,
상기 레이저 발생부의 보정이 요구되는 것으로 판단하는 과정 이후에,
상기 복수개 레이저 빔 중 보정이 요구되는 레이저 빔의 발진을 중단하는 과정;
발진이 중단된 레이저 빔의 보정 동안 나머지 레이저 빔의 에너지를 증가시키는 과정;을 포함하는 레이저 처리 방법.The method of claim 10,
When the oscillation mode is simultaneous driving,
After the process of determining that correction of the laser generation unit is required,
Stopping oscillation of a laser beam requiring correction among the plurality of laser beams;
And increasing the energy of the remaining laser beam during correction of the laser beam whose oscillation has stopped.
상기 복수개 레이저 빔 발진 조건을 설정하는 과정에서, 상기 피처리물이 상기 레이저 빔의 발진 방향으로의 가장자리를 포함하는 제1 영역 및 상기 가장자리를 포함하지 않는 제2 영역으로 구분되고, 상기 제1 영역이 상기 제2 영역보다 큰 레이저 빔 에너지로 처리가 요구되는 경우에는,
상기 피처리물이 안착된 스테이지의 위치를 검출하는 과정;
검출된 스테이지의 위치가 상기 제1 영역이 시작하는 위치일 경우, 상기 복수개 레이저 빔을 동시구동하며, 상기 스테이지의 이동 속도를 감소시키는 과정;을 포함하는 레이저 처리 방법.The method of claim 8,
The object to be processed is divided into a first region including an edge in the oscillation direction of the laser beam and a second region not including the edge in the course of setting the plurality of laser beam oscillation conditions, Is required to be processed with a laser beam energy larger than that of the second region,
Detecting a position of the stage on which the object to be processed is placed;
And simultaneously driving the plurality of laser beams when the position of the detected stage is the position at which the first area starts, thereby reducing the moving speed of the stage.
검출된 스테이지의 위치가 제2 영역이 시작하는 위치일 경우, 상기 복수개 레이저 빔을 교차구동하며, 상기 스테이지의 이동 속도를 증가시키는 과정;을 포함하는 레이저 처리 방법.The method of claim 8,
And crossing the plurality of laser beams when the position of the detected stage is a position at which the second area starts, and increasing the moving speed of the stage.
검출된 스테이지의 위치에 따라, 복수개 레이저 빔의 발진 조건 및 상기 피처리물의 공정 속도를 제어하는 과정;을 포함하는 레이저 처리 방법. Detecting a position of the stage on which the object to be processed is placed;
And controlling the oscillation conditions of the plurality of laser beams and the process speed of the object to be processed according to the position of the detected stage.
복수개 레이저 빔의 발진 조건 및 상기 피처리물의 공정 속도를 제어하는 과정은,
상기 검출된 스테이지의 위치가 상기 피처리물의 가장자리에 대응하는 위치일 경우에는 상기 복수개 레이저 빔을 동시구동하고, 상기 피처리물의 공정 속도를 감소시키는 레이저 처리 방법.18. The method of claim 16,
Controlling the oscillation conditions of the plurality of laser beams and the process speed of the object to be processed,
And when the detected position of the stage corresponds to the edge of the object to be processed, simultaneously driving the plurality of laser beams to reduce the processing speed of the object to be processed.
복수개 레이저 빔의 발진 조건 및 상기 피처리물의 공정 속도를 제어하는 과정은,
상기 검출된 스테이지의 위치가 상기 피처리물의 가장자리를 벗어나는 위치일 경우에는 상기 복수개 레이저 빔을 교차구동하고, 상기 피처리물의 공정 속도를 증가시키는 레이저 처리 방법.18. The method of claim 16,
Controlling the oscillation conditions of the plurality of laser beams and the process speed of the object to be processed,
And cross-drives the plurality of laser beams to increase a processing speed of the object to be processed when the detected position of the stage is a position deviating from an edge of the object to be processed.
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020242160A1 (en) * | 2019-05-31 | 2020-12-03 | 레이저쎌 주식회사 | Linear transfer-type laser reflow device |
KR20200137979A (en) * | 2019-05-31 | 2020-12-09 | 레이저쎌 주식회사 | Flow transfer type laser reflow apparatus |
KR20210141805A (en) | 2020-05-13 | 2021-11-23 | 에이피시스템 주식회사 | Substrate supporting apparatus and method |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2023067017A (en) * | 2021-10-29 | 2023-05-16 | Jswアクティナシステム株式会社 | Laser peeling device, information processing method, and program |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2550541B2 (en) * | 1986-11-05 | 1996-11-06 | 株式会社ニコン | Laser processing equipment |
JP2001326159A (en) * | 2000-05-16 | 2001-11-22 | Nikon Corp | Laser, aligner, and device manufacturing method using the same aligner |
US7923306B2 (en) * | 2004-06-18 | 2011-04-12 | Electro Scientific Industries, Inc. | Semiconductor structure processing using multiple laser beam spots |
KR100609831B1 (en) * | 2004-08-03 | 2006-08-09 | 주식회사 이오테크닉스 | Multi Laser Processing Apparatus |
US8120778B2 (en) * | 2009-03-06 | 2012-02-21 | Imra America, Inc. | Optical scanning and imaging systems based on dual pulsed laser systems |
JP2008212975A (en) * | 2007-03-05 | 2008-09-18 | Mitsubishi Electric Corp | Laser machining method and laser machining apparatus |
JP5074272B2 (en) * | 2008-04-15 | 2012-11-14 | 株式会社リンクスタージャパン | Processing apparatus and cutting method for brittle material substrate |
JP5789527B2 (en) * | 2012-01-18 | 2015-10-07 | 株式会社アマダホールディングス | Laser processing apparatus and laser oscillation control method |
KR101562331B1 (en) * | 2014-02-05 | 2015-10-22 | 에이피시스템 주식회사 | Apparatus for processing laser |
KR101560378B1 (en) * | 2014-04-30 | 2015-10-20 | 참엔지니어링(주) | Laser Processing Apparatus and Method |
-
2016
- 2016-04-26 KR KR1020160050870A patent/KR101918727B1/en active IP Right Grant
-
2017
- 2017-04-19 JP JP2017082765A patent/JP6967872B2/en active Active
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- 2017-04-26 CN CN201710285019.9A patent/CN107309542B/en active Active
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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