KR20170113881A - Apparatus for manufacturing diplay device - Google Patents

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KR20170113881A
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Abstract

디스플레이 제조 장치가 제공된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치는 분리 라인을 따라 분리되어 이격 공간을 형성하는 스테이지, 스테이지 상에 배치되는 헤드부, 이격 공간 또는 스테이지 하부에 배치되어 헤드부와 대향하는 메인터넌스 유닛을 포함한다.A display manufacturing apparatus is provided. A display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a stage that is separated along a separation line to form a spacing space, a head portion that is disposed on the stage, a spacing space, or a maintenance unit that is disposed under the stage and faces the head portion do.

Description

디스플레이 제조 장치{APPARATUS FOR MANUFACTURING DIPLAY DEVICE}[0001] APPARATUS FOR MANUFACTURING DIPLAY DEVICE [0002]

본 발명은 디스플레이 제조 장치에 대한 것이다.The present invention relates to a display manufacturing apparatus.

표시 장치는 멀티미디어의 발달과 함께 그 중요성이 증대되고 있다. 이에 부응하여 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display, LCD), 유기 발광 표시 장치(Organic Light Emitting Display, OLED) 등과 같은 여러 종류의 표시 장치가 사용되고 있다.Display devices are becoming increasingly important with the development of multimedia. Various types of display devices such as a liquid crystal display (LCD), an organic light emitting display (OLED) and the like are used in response to this.

이러한 표시 장치들을 제조하기 위한 방법 중의 하나로서, 기판 상에 특정 기능을 갖는 복수의 박막을 적층시켜 화상을 표시하는 방법이 널리 이용되고 있다. As one of methods for manufacturing such display devices, a method of displaying an image by laminating a plurality of thin films having a specific function on a substrate is widely used.

이러한 특정의 박막을 형성하기 위한 방법으로는 증착 공정, 스퍼터링 및 잉크젯 프린팅 방식 등이 있다. Methods for forming such a specific thin film include a deposition process, a sputtering process, and an inkjet printing process.

각자의 방법이 갖는 장단이 있으나, 최근에는 잉크젯 프린트 방식을 이용한 제조 장치가 여러가지 면에서 각광을 받고 있다. 다만, 잉크젯 프린트 방식의 경우에 그 잉크의 물적 특성 및 주변 분위기의 영향 또는 설비의 효율성 측면에서 단점이 드러나고 있어 이를 해결하기 위한 다양한 기술적 시도가 이루어지고 있는 실정이다. There are various methods of each method, but in recent years, a manufacturing apparatus using an inkjet printing method has been spotlighted in various aspects. However, in the case of the inkjet printing method, there are disadvantages in terms of the physical properties of the ink, the influence of the ambient atmosphere, and the efficiency of the facilities, and various technical attempts have been made to solve the problems.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 설비의 공간 활용 효율을 향상시키는 디스플레이 제조 장치를 제공하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a display manufacturing apparatus that improves space utilization efficiency of a facility.

본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 공정 시간을 단축시키는 디스플레이 제조 장치를 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a display manufacturing apparatus which shortens the processing time.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing the same.

본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치는 분리 라인을 따라 분리되어 이격 공간을 형성하는 스테이지, 상기 스테이지 상에 배치되는 헤드부 및 상기 이격 공간 또는 상기 스테이지 하부에 배치되어 상기 헤드부와 대향하는 메인터넌스 유닛을 포함한다.A display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a stage that is separated along a separation line to form a spacing space, a head portion that is disposed on the stage, and a head portion that is disposed below the stage and faces the head portion And a maintenance unit.

또한, 상기 스테이지는 x축을 따라 이동하고, 상기 헤드부는 y축을 따라 이동할 수 있다.Further, the stage moves along the x-axis, and the head can move along the y-axis.

또한, 상기 스테이지 상에 배치되는 기판을 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a substrate disposed on the stage.

또한, 상기 스테이지의 일측에 배치되어 상기 기판의 이동을 가이드하는 리니어 가이드를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a linear guide disposed at one side of the stage to guide movement of the substrate.

또한, 일측이 리니어 가이드와 연결되고, 타측이 기판과 체결되는 기판 홀더를 더 포함할 수 있다.The substrate holder may further include a substrate holder having one side connected to the linear guide and the other side coupled to the substrate.

또한, 상기 스테이지는 상기 기판을 향해 에어를 분사하는 에어홀을 더 포함할 수 있다. In addition, the stage may further include an air hole for injecting air toward the substrate.

또한, 상기 헤드부는 적어도 하나의 노즐을 포함할 수 있다. In addition, the head portion may include at least one nozzle.

또한, 상기 스테이지, 상기 헤드부 및 상기 메인터넌스 유닛을 수용하는 챔버를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a chamber that accommodates the stage, the head unit, and the maintenance unit.

또한, 상기 챔버의 하면과 상기 스테이지를 이격시키는 지지대를 더 포함할 수 있다. The apparatus may further include a support for separating the stage from the lower surface of the chamber.

또한, 상기 스테이지는 노멀 모드와 상기 분리 라인을 따라 분리되어 이격 공간을 형성하는 분리 모드를 포함하고, 상기 노멀 모드에서 상기 메인터넌스 유닛은 상기 스테이지 하부에 배치되고, 상기 분리 모드에서 상기 메인터넌스 유닛은 상기 이격 공간에 배치될 수 있다.In the normal mode, the maintenance unit is disposed at a lower portion of the stage. In the separation mode, the maintenance unit may include a plurality of separation units, Can be disposed in the spacing space.

또한, 상기 이격 공간의 폭은 상기 메인터넌스 유닛의 폭보다 크거나 같을 수 있다.The width of the spacing space may be greater than or equal to the width of the maintenance unit.

또한, 상기 메인터넌스 유닛은 퍼지부 및 흡입부를 포함할 수 있다.Further, the maintenance unit may include a purge portion and a suction portion.

또한, 상기 분리 라인은 사선 방향으로 연장될 수 있다. In addition, the separation line may extend in an oblique direction.

기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.The details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.

본 발명의 실시예들에 의하면 적어도 다음과 같은 효과가 있다.The embodiments of the present invention have at least the following effects.

즉, 디스플레이 제조 장치가 차지하는 공간을 최적화하여 제조 장치의 공간 활용 효율을 향상시킬 수 있다. That is, the space occupied by the display manufacturing apparatus can be optimized to improve the space utilization efficiency of the manufacturing apparatus.

또한, 전체 공정 시간을 단축시킬 수 있다.Further, the entire process time can be shortened.

본 발명의 실시예들에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.The effects according to the embodiments of the present invention are not limited by the contents exemplified above, and more various effects are included in the specification.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 블록도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 부분 사시도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 부분 사시도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 부분 단면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 동작을 설명하기 위한 부분 단면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 동작을 설명하기 위한 부분 단면도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 평면도이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 평면도이다.
1 is a block diagram of a display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a partial perspective view of a display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a partial perspective view of a display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
4 is a partial cross-sectional view of a display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
5 is a partial cross-sectional view illustrating an operation of a display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
6 is a partial cross-sectional view illustrating an operation of a display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
7 is a plan view of a display manufacturing apparatus according to another embodiment of the present invention.
8 is a plan view of a display manufacturing apparatus according to another embodiment of the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention and the manner of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described in detail below with reference to the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. To fully disclose the scope of the invention to those skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims.

제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이며, 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위해 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수 있음은 물론이다.The first, second, etc. are used to describe various components, but these components are not limited by these terms, and are used only to distinguish one component from another. Therefore, it goes without saying that the first component mentioned below may be the second component within the technical scope of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조로 하여 본 발명의 실시예들에 대해 설명한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 블록도이다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 부분 사시도이다. 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 부분 사시도이다. 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 부분 단면도이다. 1 is a block diagram of a display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention. 2 is a partial perspective view of a display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention. 3 is a partial perspective view of a display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention. 4 is a partial cross-sectional view of a display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치는 분리 라인(SL)을 따라 분리되어 이격 공간(SS)을 형성하는 스테이지(ST), 스테이지(ST) 상에 배치되는 헤드부(H) 및 이격 공간(SS)에 배치되어 헤드부(H)와 대향하는 메인터넌스 유닛(M)을 포함한다.1 to 4, a display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a stage ST which is separated along a separation line SL to form a spacing space SS, a stage ST disposed on the stage ST, And a maintenance unit (M) disposed in the spacing space (SS) and facing the head part (H).

본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치는 챔버(CH)를 더 포함할 수 있다. 챔버(CH)는 후술하는 여러 구성들이 배치되는 공간을 제공할 수 있다. 일 실시예에서 챔버(CH)는 직육면체 형상인 것을 예시하나, 챔버(CH)의 형상이 이에 제한되는 것은 아니다. 즉, 일정한 내부 공간을 제공할 수 있는 구성은 일 실시예에서 챔버(CH)로 이용될 수 있다. The display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention may further include a chamber CH. The chamber CH can provide a space in which various structures described below are arranged. In one embodiment, the chamber CH has a rectangular parallelepiped shape, but the shape of the chamber CH is not limited thereto. That is, the configuration capable of providing a constant internal space can be used as the chamber CH in one embodiment.

일 실시예에서 챔버(CH) 내부의 공간은 외부 공기와 차단될 수 있다. 다시 말하면, 챔버(CH) 내부의 공간은 밀폐된 공간일 수 있다. In an embodiment, the space inside the chamber CH may be shielded from outside air. In other words, the space inside the chamber CH may be a closed space.

다른 실시예에서, 챔버(CH) 내부의 공간은 진공 상태일 수도 있다. 이 경우, 디스플레이 제조 장치는 챔버(CH) 내부에 배치되는 공간을 진공상태로 만들기 위한 진공 펌프(도시하지 않음) 등을 더 포함할 수 있다. In another embodiment, the space inside the chamber CH may be in a vacuum state. In this case, the display manufacturing apparatus may further include a vacuum pump (not shown) or the like for evacuating a space disposed inside the chamber CH.

챔버(CH) 내에는 스테이지(ST)가 배치될 수 있다. 스테이지(ST)는 후술하는 기판(S)을 지지할 수 있다. 스테이지(ST)는 평판 형상을 가질 수 있다. 즉, 스테이지(ST)의 상면은 다각형 또는 적어도 부분적으로 곡선을 갖는 평면일 수 있다. The stage ST may be disposed in the chamber CH. The stage ST can support the substrate S to be described later. The stage ST may have a flat plate shape. That is, the upper surface of the stage ST may be a polygonal or at least partially curved plane.

일 실시예에서 스테이지(ST)는 수평 방향 또는 수직 방향으로 이동할 수 있다. In one embodiment, the stage ST can move in the horizontal or vertical direction.

스테이지(ST)는 분리 라인(SL)을 포함할 수 있다. 분리 라인(SL)은 스테이지(ST)를 가로질러 일 방향으로 연장될 수 있다. 스테이지(ST)는 분리 라인(SL)을 기준으로 분리될 수 있다. 일 실시예에서 스테이지(ST)는 분리 라인(SL)를 따라 양분될 수 있다. 스테이지(ST)가 분리 라인(SL)을 따라 분리되면 분리된 하나의 파트와 다른 하나의 파트 사이에 이격 공간(SS)이 배치될 수 있다. 스테이지(ST)에 형성된 이격 공간(SS)에 대한 구체적인 설명은 뒤에서 자세히 설명하기로 한다.The stage ST may include a separation line SL. The separation line SL can extend in one direction across the stage ST. The stage ST can be separated based on the separation line SL. In one embodiment, the stage ST may be divided along the separation line SL. When the stage ST is separated along the separation line SL, the spacing space SS can be disposed between the separated one part and the other part. A detailed description of the spacing space SS formed in the stage ST will be described later in detail.

스테이지(ST) 상에는 기판(S)이 배치될 수 있다. 기판(S)은 표시 장치에 사용되는 기판일 수 있다. 다시 말하면, 기판(S)은 액정 표시 장치 또는 유기 발광 표시 장치에 사용되는 기판일 수 있다. 다만, 이는 예시적인 것으로 기판(S)의 종류가 이에 제한되는 것은 아니며, 현존하거나 향후 기술의 발전에 따라 새롭게 등장하는 표시 장치에 사용되는 기판이면 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 장치에 피처리 대상체로서 사용 될 수 있다. The substrate S may be disposed on the stage ST. The substrate S may be a substrate used in a display device. In other words, the substrate S may be a substrate used for a liquid crystal display device or an organic light emitting display device. However, the present invention is not limited to this, and the type of the substrate S is not limited thereto. If the substrate is used for a display device that is present or emerging according to the development of the technology in the future, As a to-be-treated object.

기판(S)은 스테이지(ST)와 직접적으로 접하거나, 스테이지(ST)로부터 일정 간격 이격될 수 있다. 기판(S)과 스테이지(ST)를 이격시키는 수단 중 하나로써, 에어홀(AH)이 이용될 수 있다. 에어홀(AH)에 대한 구체적인 설명은 뒤에 도 2를 참조하여 하기로 한다. The substrate S may be in direct contact with the stage ST or may be spaced apart from the stage ST by a predetermined distance. As one of the means for separating the substrate S from the stage ST, an air hole AH may be used. A detailed description of the air hole AH will be given later with reference to Fig.

기판(S)은 스테이지(ST) 상에서 수평 이동할 수 있다. 기판(S)이 수평하는 수단 중 하나로써, 후술하는 리니어 가이드(LG) 등이 이동될 수 있다. 이에 대한 자세한 설명은 뒤에 도 2를 참조하여 하기로 한다. The substrate S can move horizontally on the stage ST. As one of the means for the substrate S to be horizontal, the linear guide LG and the like described later can be moved. A detailed description thereof will be given later with reference to FIG.

스테이지(ST) 상에는 헤드부(H)가 배치될 수 있다. 헤드부(H)는 기판(S) 상에 배치되어 기판(S)에 특정층을 형성하기 위한 물질을 기판(S)에 제공하는 역할을 할 수 있다. 일 실시예에서 헤드부(H)는 특정 박막을 형성하기 위한 잉크젯 프린트 장치에 사용되는 헤드부(H)일 수 있다. 헤드부(H)는 박막 형성을 위한 물질, 예컨대, 잉크(Ink) 등을 저장하는 저장부(도시하지 않음)와 연결될 수 있다. 일 실시예에서 저장부는 헤드부(H)의 내부에 배치될 수 있다. 다만, 이에 제한되는 것은 아니며, 다른 실시예에서 저장부는 헤드부(H)의 외부에 배치되어 헤드부(H)와 연결될 수 있다. A head portion H may be disposed on the stage ST. The head portion H may be disposed on the substrate S and serve to provide the substrate S with a material for forming a specific layer on the substrate S. [ In one embodiment, the head portion H may be a head portion H used in an ink jet printing apparatus for forming a specific thin film. The head portion H may be connected to a storage portion (not shown) for storing a material for forming a thin film, for example, ink (Ink) or the like. In one embodiment, the storage portion may be disposed inside the head portion H. [ However, the present invention is not limited thereto, and in other embodiments, the storage unit may be disposed outside the head unit H and connected to the head unit H.

박막 형성을 위한 잉크 등을 토출하기 위해 헤드부(H)는 적어도 하나의 노즐(NO)을 포함할 수 있다. 즉, 저장부에 저장된 잉크 등이 노즐(NO)을 통해 분사되거나 토출될 수 있다. The head portion H may include at least one nozzle NO for ejecting ink or the like for forming a thin film. That is, the ink or the like stored in the storage section may be ejected or ejected through the nozzle NO.

일 실시예에서 헤드부(H)는 스테이지(ST) 상에서 수평이동할 수 있다. 즉, 기판(S) 상에 특정 박막을 형성하기 위해 공정의 필요에 따라 x축 방향 또는 y축 방향으로 이동할 수 있다. 또한, 기판(S)과 헤드부(H)는 서로 연동하여 움직일 수 있다. 예컨대, 기판(S)은 y축 방향으로 움직이고 헤드부(H)는 x축 방향으로 움직일 수 있다. 다른 실시예에서는 위와 반대로, 기판(S)이 x축 방향으로 움직이고, 헤드부(H)가 y축 방향으로 움직일 수 있다. In one embodiment, the head portion H can move horizontally on the stage ST. That is, the substrate S can be moved in the x-axis direction or the y-axis direction in accordance with the necessity of the process in order to form a specific thin film on the substrate S. Further, the substrate S and the head portion H can move in conjunction with each other. For example, the substrate S may move in the y-axis direction and the head portion H may move in the x-axis direction. In another embodiment, the substrate S moves in the x-axis direction and the head portion H moves in the y-axis direction.

이와 같이 상호 연계하여 또는 각자 독립적으로 이동함으로써, 기판(S) 전 영역에 걸쳐 특정 물질층을 형성할 수 있다. By moving in this way or independently of each other, a specific material layer can be formed over the entire area of the substrate S. [

챔버(CH) 내에는 메인터넌스 유닛(M)이 배치될 수 있다. 메인터넌스 유닛(M)은 헤드부(H)를 유지 관리할 수 있다. 구체적으로, 헤드부(H)의 노즐(NO)에는 이전의 공정으로부터 비롯된 잔여 잉크 등의 이물질이 잔류할 수 있는데, 이와 같은 이물질의 존재는 후속 공정에서 불량을 야기하는 원인이 된다. 메인터넌스 유닛(M)은 이와 같이 노즐(NO)에 배치되는 이물질을 제거하는 역할을 함으로써, 후속 공정에서 이물질에 의해 불량이 발생하는 것을 방지하는 역할을 할 수 있다. A maintenance unit M may be disposed in the chamber CH. The maintenance unit M can maintain and manage the head portion H. [ Specifically, foreign matter such as residual ink resulting from the previous process may remain in the nozzle NO of the head portion H, and the presence of such foreign matter causes a defect in a subsequent process. The maintenance unit M serves to remove foreign matters disposed on the nozzles NO, thereby preventing defects from occurring due to foreign matter in the subsequent process.

또한, 이와 같이 메인터넌스 유닛(M)이 헤드부(H)와 동일 챔버(CH) 내에 배치되는 경우, 헤드부(H)의 유지 관리를 위해 별도의 공간을 확보할 필요가 없어 설비의 공간 배치 효율성 향상 측면에서 유리하며, 동일 챔버(CH) 내에서 바로 유지 관리 작업을 수행함으로써, 헤드부(H)의 유지 관리에 사용되는 시간을 절약할 수 있다.In the case where the maintenance unit M is disposed in the same chamber CH as the head portion H, it is not necessary to secure a separate space for maintenance of the head portion H, And it is possible to save time used for maintenance of the head portion H by performing the maintenance work immediately in the same chamber CH.

이어서, 도 2를 참조하면, 평판 형상을 갖는 스테이지(ST)는 지지대(SP)에 의해 지지될 수 있다. 일 실시예에서 지지대(SP)는 기둥 형상을 가지며 챔버(CH) 하면과 스테이지(ST)를 일정 간격 이격시킬 수 있다. 도 2는 지지대(SP)가 스테이지(ST)의 네 모서리를 지지하는 경우를 예시하지만, 이는 예시적인 것으로서, 지지대(SP)의 개수가 이에 제한되지는 않는다.2, the stage ST having a flat plate shape can be supported by a support SP. In one embodiment, the support SP has a columnar shape and can separate the lower surface of the chamber CH and the stage ST by a predetermined distance. Fig. 2 illustrates the case where the support SP supports four corners of the stage ST, but this is merely an example, and the number of the supports SP is not limited thereto.

스테이지(ST)의 일측에는 리니어 가이드(LG), 리니어 모터(LM) 및 기판 홀더(SH)가 배치될 수 있다. A linear guide LG, a linear motor LM and a substrate holder SH may be disposed on one side of the stage ST.

리니어 가이드(LG)는 스테이지(ST)의 일측으로부터 일정 간격 이격되어 배치될 수 있다. 리니어 가이드(LG)는 스테이지(ST)의 일측과 나란하게 연장될 수 있다. 즉, 리니어 가이드(LG)와 스테이지(ST)의 일측은 서로 평행하도록 연장될 수 있다. 리니어 가이드(LG)는 기판(S)의 수평 이동을 가이드할 수 있다. 즉, 리니어 가이드(LG)는 기판(S)이 y축 방향으로 이동하는 것을 가이드할 수 있다. 도 2는 리니어 가이드(LG)가 y축 방향으로 연장되는 경우를 예시하지만, 이에 제한되는 것은 아니며, 다른 실시예에서 리니어 가이드(LG)는 x축 방향으로 연장될 수도 있다. 또한, 또 다른 실시예에서는 x축 방향의 리니어 가이드와 y축 방향의 리니어 가이드가 병존할 수도 있다. The linear guides LG may be spaced apart from one side of the stage ST by a predetermined distance. The linear guide LG can extend in parallel with one side of the stage ST. That is, one side of the linear guide LG and one side of the stage ST may extend so as to be parallel to each other. The linear guide (LG) can guide the horizontal movement of the substrate (S). That is, the linear guide LG can guide the movement of the substrate S in the y-axis direction. FIG. 2 illustrates a case where the linear guide LG extends in the y-axis direction, but the present invention is not limited thereto. In another embodiment, the linear guide LG may extend in the x-axis direction. In another embodiment, the linear guide in the x-axis direction and the linear guide in the y-axis direction may coexist.

리니어 가이드(LG)에는 리니어 모터(LM)가 연결될 수 있다. 리니어 모터(LM)는 리니어 가이드(LG)를 따라 이동할 수 있다. 구체적으로 리니어 모터(LM)는 후술하는 기판 홀더(SH)를 y축 방향으로 이동시키기 위한 구동력을 제공하는 역할을 할 수 있다. A linear motor (LM) may be connected to the linear guide (LG). The linear motor LM can move along the linear guide LG. Specifically, the linear motor LM may serve to provide a driving force for moving the substrate holder SH, which will be described later, in the y-axis direction.

리니어 모터(LM)는 기판 홀더(SH)와 연결될 수 잇다. 기판 홀더(SH)는 기판(SH)의 일측과 접하여 기판(SH)을 지지할 수 있다. 예컨대, 기판 홀더(SH)는 집게 형상으로 되어 기판(S) 일측과 체결될 수 있다. 다만, 이에 제한되는 것은 아니며 다른 실시예에서 기판 홀더(SH)는 진공을 이용하거나, 정전기를 이용하여 기판(S)을 고정시킬 수 있다. The linear motor LM can be connected to the substrate holder SH. The substrate holder SH may contact one side of the substrate SH to support the substrate SH. For example, the substrate holder SH may be clamped to one side of the substrate S in the form of a clamp. However, the present invention is not limited thereto, and in another embodiment, the substrate holder SH may be fixed by using a vacuum or by using static electricity.

기판 홀더(SH)와 체결되는 기판(S)은 기판 홀더(SH)와 일체로 이동할 수 있다. 즉, 리니어 모터(LM)가 리니어 가이드(LG)를 따라 y축 방향으로 이동하면, 그와 일체로 형성된 기판(S)이 y축 방향으로 이동할 수 있다. The substrate S to be fastened to the substrate holder SH can move integrally with the substrate holder SH. That is, when the linear motor LM moves in the y-axis direction along the linear guide LG, the substrate S integrally formed with the linear motor LM can move in the y-axis direction.

스테이지(ST)에는 복수개의 에어홀(AH)이 배치될 수 있다. 앞서 설명한 바와 같이 스테이지(ST)가 복수개의 에어홀(AH)을 포함하는 경우, 에어홀(AH)로부터 제공되는 에어(air)에 의해 스테이지(ST)와 기판(S)이 일정 간격 이격될 수 있다. 즉, 에어홀(AH)에서 나오는 에어에 의해 기판(S)이 지지될 수 있다. A plurality of air holes AH may be disposed in the stage ST. As described above, when the stage ST includes a plurality of air holes AH, the stage ST and the substrate S may be spaced apart from each other by air provided from the air hole AH have. That is, the substrate S can be supported by the air coming out of the air hole AH.

기판(S)과 스테이지(ST)가 직접적으로 접하는 경우, 기판(S)에 오염을 유발하거나 물리적인 상처를 입힐 가능성이 있는데, 이와 같이 에어홀(AH)을 이용하여 기판(S)을 스테이지(ST) 상에 띄우는 경우, 공정 중에 스테이지(ST)에 의해 기판(S)이 데미지를 입는 것을 방지할 수 있다.When the substrate S directly contacts the stage ST, there is a possibility that the substrate S may be contaminated or physically damaged. In this manner, the substrate S is held on the stage ST), it is possible to prevent the substrate S from being damaged by the stage ST during the process.

에어홀(H)이 에어를 제공하기 위해 에어홀(H)은 압축 공기를 제공하는 컴프레셔와 연결될 수 있다. The air hole H may be connected to a compressor which provides compressed air so that the air hole H provides air.

도 3을 참조하면, 분리 라인(SL)은 x축 방향으로 연장될 수 있다. 분리 라인(SL)이 x축 방향으로 연장되는 경우, 스테이지(SL)는 분리 라인(SL)을 기준으로 분리될 수 있다. 즉, 스테이지(SL)는 두 개의 파트로 분리될 수 있다. 구체적으로, 하나의 파트는 y축 양의 방향으로, 다른 하나의 파트 y축 음의 방향으로 이동함으로써, 스테이지(ST)가 양분될 수 있다. 스테이지(ST)가 분리 라인(SL)을 따라 분리되면, 스테이지(ST)에는 이격 공간(SS)이 형성될 수 있다. Referring to FIG. 3, the separation line SL may extend in the x-axis direction. When the separation line SL extends in the x-axis direction, the stage SL can be separated based on the separation line SL. That is, the stage SL can be divided into two parts. Specifically, one part moves in the y-axis positive direction and the other part y-axis negative direction, so that the stage ST can be divided into two. When the stage ST is separated along the separation line SL, the spacing SS can be formed in the stage ST.

도 4를 참조하면, 스테이지(ST) 하부에는 메인터넌스 유닛(M)이 배치될 수 있다. Referring to FIG. 4, a maintenance unit M may be disposed under the stage ST.

메인터넌스 유닛(M)은 헤드부(H)를 유지 및/또는 보수하는 역할을 수행할 수 있다. 하나의 예로 메인터넌스 유닛(M)은 헤드부(H)의 노즐(NO)을 청소하기 위해 퍼지부(P) 및 흡입부(V)를 포함할 수 있다. The maintenance unit M may perform a role of maintaining and / or repairing the head portion H. As one example, the maintenance unit M may include a purge portion P and a suction portion V to clean the nozzle NO of the head portion H. [

퍼지부(P)는 헤드부(H)를 향해 공기를 분사할 수 있다. 즉, 고압의 공기를 분사하여 노즐(NO)에 배치되는 이물질을 제거할 수 있다. The purge portion P can blow air toward the head portion H. [ That is, it is possible to remove foreign matter disposed in the nozzle NO by injecting high-pressure air.

이를 위해 퍼지부(P)는 고압의 공기를 제공하는 공기 제공 수단과 연결될 수 있다. 예컨대, 공기 제공 수단은 컴프레셔 등을 포함할 수 있다.To this end, the purge section P may be connected to an air supply means for providing high-pressure air. For example, the air providing means may include a compressor or the like.

흡입부(V)는 진공 상태를 조성하여 노즐(NO)에 배치되는 이물질을 빨아들여 제거할 수 있다. 이를 위해 흡입부(V)는 노즐(NO)과 밀폐되도록 부착될 수 있다. 즉 흡입부(V)는 노즐(NO)과 밀폐되도록 체결되어 노즐(NO)에 배치되는 이물질을 제거할 수 있다. 이를 위해 흡입부(V)는 밀폐 보조 수단(도시하지 않음)을 더 포함할 수도 있다. The suction unit V can be vacuumed to suck and remove foreign matters disposed in the nozzle NO. To this end, the suction portion V may be attached so as to be hermetically sealed with the nozzle NO. That is, the suction unit V is tightly closed with the nozzle NO to remove the foreign matter disposed on the nozzle NO. To this end, the suction portion V may further include a sealing auxiliary means (not shown).

이하에서는 도 4 내지 도 6을 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 동작을 설명하기로 한다. 도 4는 앞서 설명한 바와 같이 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 부분 단면도이고, 도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 동작을 설명하기 위한 부분 단면도이다.Hereinafter, the operation of the display manufacturing apparatus according to one embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 to 6. FIG. FIG. 4 is a partial cross-sectional view of a display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 5 and 6 are partial cross-sectional views illustrating operations of a display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 4 내지 도 6을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치는 분리 모드와 노멀 모드를 가질 수 있다. 4 to 6, a display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention may have a separation mode and a normal mode.

노멀 모드는 스테이지(ST)가 분리되기 전 즉 일체로 형성된 상태를 의미할 수 있다. 노멀 모드에서 기판(S) 상에 박막을 형성하는 공정이 진행될 수 있다. The normal mode may mean a state in which the stage ST is integrally formed before it is separated. A process of forming a thin film on the substrate S in the normal mode can be performed.

이어서, 헤드부(H)의 동작이 정지되는 휴지기가 진행될 수 있다. 휴지기에서 기판(S)은 전환 영역(TA)과 중첩되지 않도록, 즉, 스테이지(ST) 상에서 전환 영역(TA)을 제외한 나머지 영역 상에 배치될 수 있다. Subsequently, a resting period in which the operation of the head portion H is stopped can proceed. The substrate S in the resting period can be arranged on the area other than the switching area TA on the stage ST so as not to overlap with the switching area TA.

도 5를 참조하면, 헤드부(H)의 동작이 정지되는 휴지기가 진행될 수 있다. 휴지기에서 스테이지(ST)는 양분될 수 있다. 즉 본 발명의 몇몇 실시예에서 분리 모드는 스테이지(ST)가 완전하게 양분된 상태를 의미한다. Referring to FIG. 5, a rest period in which the operation of the head portion H is stopped can be performed. In the rest period, the stage ST can be divided into two. That is, in some embodiments of the present invention, the separation mode means that the stage ST is completely divided into two.

앞서 설명한 바와 마찬가지로, 분리 모드 상태에서 스테이지(ST)에는 이격 공간(SS)이 형성될 수 있다. 이격 공간(SS)의 폭(w1), 즉 분리된 스테이지(ST)의 각 파트 간 거리는 메인터넌스 유닛(M)의 폭(w2)보다 크거나 같을 수 있다. 이격 공간(SS)의 폭(w1)이 메인터넌스 유닛(M)의 폭(w2)보다 크거나 같은 경우, 메인터넌스 유닛(M)은 이격 공간(SS)에 수납될 수 있다. As described above, in the separation mode, a space SS may be formed in the stage ST. The width w1 of the spacing space SS, that is, the distance between each part of the separated stage ST, may be equal to or greater than the width w2 of the maintenance unit M. When the width w1 of the spacing space SS is equal to or greater than the width w2 of the maintenance unit M, the maintenance unit M can be accommodated in the spacing space SS.

이어서, 도 6을 참조하면, 분리 모드 상태에서 메인터넌스 유닛(M)이 상승할 수 있다. 일 실시예에서 메인터넌스 유닛(M)은 헤드부(H)와 대향하도록 배치될 수 있다. 분리 모드에서 메인터넌스 유닛(M)이 상승하면 메인터넌스 유닛(M)과 헤드부(H) 간의 이격 거리가 감소할 수 있다. 다시 말하면, 메인터넌스 유닛(M)이 상승함에 따라 메인터넌스 유닛(M)은 이격 공간(SS)에 배치될 수 있다.Next, referring to FIG. 6, the maintenance unit M can be raised in the separation mode. In one embodiment, the maintenance unit M may be arranged to face the head portion H. When the maintenance unit M rises in the separation mode, the distance between the maintenance unit M and the head portion H can be reduced. In other words, as the maintenance unit M rises, the maintenance unit M can be disposed in the spacing space SS.

일 실시예에서 메인터넌스 유닛(M)은 헤드부(H)와 접하거나 헤드부(H)와 일정 간격 이격되어 헤드부(H)의 유지 관리를 수행할 수 있다. 메인터넌스 유닛(MU)이 헤드부(H)를 관리하는 방법은 앞서 설명하는 바와 같으므로, 이에 대한 자세한 설명은 생략하기로 한다.The maintenance unit M may perform maintenance of the head unit H by being in contact with the head unit H or spaced apart from the head unit H by a predetermined distance. The way in which the maintenance unit MU manages the head section H is the same as described above, so a detailed description thereof will be omitted.

상술한 바와 같이 노멀 모드와 분리 모드는 순차적으로 진행될 수 있다. 또한, 두 번 이상의 노멀 모드와 두 번 이상의 분리 모드가 1회 이상 반복될 수도 있다. As described above, the normal mode and the separation mode can be sequentially performed. Also, two or more normal modes and two or more separate modes may be repeated one or more times.

이어서, 본 발명의 다른 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치에 대해 설명하기로 한다. Next, a display manufacturing apparatus according to another embodiment of the present invention will be described.

도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 평면도이다. 도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 평면도이다. 7 is a plan view of a display manufacturing apparatus according to another embodiment of the present invention. 8 is a plan view of a display manufacturing apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 7 및 도 8을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치는 스테이지(ST1)의 분리 라인(SL1)이 사선 방향으로 연장된 점이 도 3의 실시예와 다른 점이다.7 and 8, the display manufacturing apparatus according to another embodiment of the present invention is different from the embodiment of FIG. 3 in that the separation line SL1 of the stage ST1 extends in the oblique direction.

다른 실시예에서 디스플레이 제조 장치의 스테이지(ST1)는 사선 방향으로 연장된 분리 라인(SL1)을 포함할 수 있다.In another embodiment, the stage ST1 of the display manufacturing apparatus may include a separating line SL1 extending in an oblique direction.

이에 대해 구체적으로 설명하면, 스테이지(ST1)의 일측 변의 연장선과 분리 라인(SL1)의 연장선이 이루는 제1각(θ)은 예각일 수 있다. (도 7 참조)To be more specific, the first angle? Formed by the extension of one side of the stage ST1 and the extension of the separation line SL1 may be an acute angle. (See Fig. 7)

도 8을 참조하면, 사선 방향으로 연장된 분리 라인(SL1)을 따라 스테이지(ST1)가 양분될 수 있다. 이 경우, 스테이지(ST) 상에 형성된 이격 공간(SS)의 횡단면은 평행 사변형 형상을 가질 수 있다.Referring to Fig. 8, the stage ST1 may be divided into two along a slit line SL1 extending in a diagonal direction. In this case, the cross section of the spacing space SS formed on the stage ST may have a parallelogram shape.

이격 공간(SS)의 횡단면이 평행사변형 형상을 갖는 경우, 이에 대응되도록 메인터넌스 유닛(M)의 외주도 평행사변형 형상을 가질 수 있다. When the cross section of the spacing space SS has a parallelogram shape, the outer periphery of the maintenance unit M may also have a parallelogram shape corresponding thereto.

이와 같이 스테이지(ST)가 사선 방향으로 분리되는 경우, 분리에 따른 단위 면적 당 에어홀(AH)의 감소량의 정도를 완화하여 기판(S)이 낙하하거나, 충격에 의해 데미지를 입는 것을 방지할 수 있다. When the stage ST is separated in the diagonal direction as described above, the degree of decrease in the amount of the air holes AH per unit area due to the separation can be reduced to prevent the substrate S from falling or being damaged by the impact have.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, You will understand. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive.

CH: 챔버
H: 헤드부
S: 기판
ST: 스테이지
M: 메인터넌스 유닛
AH: 에어홀
LG: 리니어 가이드
LM: 리니어 모터
SH: 기판 홀더
P: 퍼지부
V: 흡입부
SP: 지지대
SL: 분리 라인
CH: chamber
H: Head portion
S: substrate
ST: Stage
M: Maintenance unit
AH: Air hole
LG: Linear guides
LM: Linear motor
SH: substrate holder
P:
V: Suction part
SP: Support
SL: Separation line

Claims (13)

분리 라인을 따라 분리되어 이격 공간을 형성하는 스테이지;
상기 스테이지 상에 배치되는 헤드부; 및
상기 이격 공간 또는 상기 스테이지 하부에 배치되어 상기 헤드부와 대향하는 메인터넌스 유닛을 포함하는 디스플레이 제조 장치.
A stage separated along the separation line to form a spacing space;
A head disposed on the stage; And
And a maintenance unit disposed in the spacing space or the lower portion of the stage and facing the head unit.
제1항에 있어서,
상기 스테이지는 x축을 따라 이동하고, 상기 헤드부는 y축을 따라 이동하는 디스플레이 제조 장치.
The method according to claim 1,
The stage moves along the x-axis, and the head moves along the y-axis.
제1항에 있어서,
상기 스테이지 상에 배치되는 기판을 더 포함하는 디스플레이 제조 장치.
The method according to claim 1,
And a substrate disposed on the stage.
제3항에 있어서,
상기 스테이지의 일측에 배치되어 상기 기판의 이동을 가이드하는 리니어 가이드를 더 포함하는 디스플레이 제조 장치.
The method of claim 3,
And a linear guide disposed on one side of the stage and guiding movement of the substrate.
제4항에 있어서,
일측이 리니어 가이드와 연결되고, 타측이 기판과 체결되는 기판 홀더를 더 포함하는 디스플레이 제조 장치.
5. The method of claim 4,
And a substrate holder, one side of which is connected to the linear guide and the other side of which is fastened to the substrate.
제3항에 있어서,
상기 스테이지는 상기 기판을 향해 에어를 분사하는 에어홀을 더 포함하는 디스플레이 제조 장치.
The method of claim 3,
Wherein the stage further comprises an air hole for spraying air toward the substrate.
제1항에 있어서,
상기 헤드부는 적어도 하나의 노즐을 포함하는 디스플레이 제조 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the head portion includes at least one nozzle.
제1항에 있어서,
상기 스테이지, 상기 헤드부 및 상기 메인터넌스 유닛을 수용하는 챔버를 더 포함하는 디스플레이 제조 장치.
The method according to claim 1,
And a chamber accommodating the stage, the head portion, and the maintenance unit.
제8항에 있어서,
상기 챔버의 하면과 상기 스테이지를 이격시키는 지지대를 더 포함하는 디스플레이 제조 장치.
9. The method of claim 8,
And a support for separating the stage from the lower surface of the chamber.
제1항에 있어서,
상기 스테이지는 노멀 모드와 상기 분리 라인을 따라 분리되어 이격 공간을 형성하는 분리 모드를 포함하고, 상기 노멀 모드에서 상기 메인터넌스 유닛은 상기 스테이지 하부에 배치되고, 상기 분리 모드에서 상기 메인터넌스 유닛은 상기 이격 공간에 배치되는 디스플레이 제조 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the stage includes a normal mode and a separation mode separated from the separation line to form a spacing space, wherein in the normal mode, the maintenance unit is disposed below the stage, and in the separation mode, In the display device.
제10항에 있어서,
상기 이격 공간의 폭은 상기 메인터넌스 유닛의 폭보다 크거나 같은 디스플레이 제조 장치.
11. The method of claim 10,
And the width of the spacing space is greater than or equal to the width of the maintenance unit.
제1항에 있어서,
상기 메인터넌스 유닛은 퍼지부 및 흡입부를 포함하는 디스플레이 제조 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the maintenance unit includes a purge portion and a suction portion.
제1항에 있어서,
상기 분리 라인은 사선 방향으로 연장되는 디스플레이 제조 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the separation line extends in an oblique direction.
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