KR102571644B1 - Apparatus for manufacturing diplay device - Google Patents

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KR102571644B1
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Abstract

디스플레이 제조 장치가 제공된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치는 분리 라인을 따라 분리되어 이격 공간을 형성하는 스테이지, 스테이지 상에 배치되는 헤드부, 이격 공간 또는 스테이지 하부에 배치되어 헤드부와 대향하는 메인터넌스 유닛을 포함한다.A display manufacturing apparatus is provided. A display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a stage separated along a separation line to form a separation space, a head unit disposed on the stage, and a maintenance unit disposed below the separation space or stage and facing the head unit. do.

Description

디스플레이 제조 장치{APPARATUS FOR MANUFACTURING DIPLAY DEVICE}Display manufacturing device {APPARATUS FOR MANUFACTURING DIPLAY DEVICE}

본 발명은 디스플레이 제조 장치에 대한 것이다.The present invention relates to a display manufacturing apparatus.

표시 장치는 멀티미디어의 발달과 함께 그 중요성이 증대되고 있다. 이에 부응하여 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display, LCD), 유기 발광 표시 장치(Organic Light Emitting Display, OLED) 등과 같은 여러 종류의 표시 장치가 사용되고 있다.The importance of display devices is increasing along with the development of multimedia. In response to this, various types of display devices such as a liquid crystal display (LCD) and an organic light emitting display (OLED) are being used.

이러한 표시 장치들을 제조하기 위한 방법 중의 하나로서, 기판 상에 특정 기능을 갖는 복수의 박막을 적층시켜 화상을 표시하는 방법이 널리 이용되고 있다. As one of the methods for manufacturing such display devices, a method of displaying an image by laminating a plurality of thin films having specific functions on a substrate is widely used.

이러한 특정의 박막을 형성하기 위한 방법으로는 증착 공정, 스퍼터링 및 잉크젯 프린팅 방식 등이 있다. Methods for forming such a specific thin film include deposition processes, sputtering, and inkjet printing methods.

각자의 방법이 갖는 장단이 있으나, 최근에는 잉크젯 프린트 방식을 이용한 제조 장치가 여러가지 면에서 각광을 받고 있다. 다만, 잉크젯 프린트 방식의 경우에 그 잉크의 물적 특성 및 주변 분위기의 영향 또는 설비의 효율성 측면에서 단점이 드러나고 있어 이를 해결하기 위한 다양한 기술적 시도가 이루어지고 있는 실정이다. Each method has advantages and disadvantages, but recently, a manufacturing apparatus using an inkjet printing method has been in the limelight in various aspects. However, in the case of the inkjet printing method, disadvantages are revealed in terms of the physical characteristics of the ink, the influence of the surrounding atmosphere, or the efficiency of the facility, and various technical attempts are being made to solve these problems.

공개특허공보 제10-2010-0115708호(2010.10.28.)Publication No. 10-2010-0115708 (2010.10.28.)

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 설비의 공간 활용 효율을 향상시키는 디스플레이 제조 장치를 제공하는 것이다. The problem to be solved by the present invention is to provide a display manufacturing apparatus that improves space utilization efficiency of equipment.

본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 공정 시간을 단축시키는 디스플레이 제조 장치를 제공하는 것이다. Another problem to be solved by the present invention is to provide a display manufacturing apparatus that shortens the process time.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The tasks of the present invention are not limited to the technical tasks mentioned above, and other technical tasks not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치는 분리 라인을 따라 분리되어 이격 공간을 형성하는 스테이지, 상기 스테이지 상에 배치되는 헤드부 및 상기 이격 공간 또는 상기 스테이지 하부에 배치되어 상기 헤드부와 대향하는 메인터넌스 유닛을 포함한다.A display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a stage separated along a separation line to form a separation space, a head portion disposed on the stage, and a stage disposed below the separation space or the stage and facing the head portion. Includes a maintenance unit.

또한, 상기 스테이지는 x축을 따라 이동하고, 상기 헤드부는 y축을 따라 이동할 수 있다.Also, the stage may move along the x-axis, and the head part may move along the y-axis.

또한, 상기 스테이지 상에 배치되는 기판을 더 포함할 수 있다.In addition, a substrate disposed on the stage may be further included.

또한, 상기 스테이지의 일측에 배치되어 상기 기판의 이동을 가이드하는 리니어 가이드를 더 포함할 수 있다.In addition, a linear guide disposed on one side of the stage to guide the movement of the substrate may be further included.

또한, 일측이 리니어 가이드와 연결되고, 타측이 기판과 체결되는 기판 홀더를 더 포함할 수 있다.In addition, a substrate holder having one side connected to the linear guide and the other side fastened to the substrate may be further included.

또한, 상기 스테이지는 상기 기판을 향해 에어를 분사하는 에어홀을 더 포함할 수 있다. In addition, the stage may further include an air hole through which air is sprayed toward the substrate.

또한, 상기 헤드부는 적어도 하나의 노즐을 포함할 수 있다. In addition, the head part may include at least one nozzle.

또한, 상기 스테이지, 상기 헤드부 및 상기 메인터넌스 유닛을 수용하는 챔버를 더 포함할 수 있다.In addition, a chamber accommodating the stage, the head unit, and the maintenance unit may be further included.

또한, 상기 챔버의 하면과 상기 스테이지를 이격시키는 지지대를 더 포함할 수 있다. In addition, a support for separating the lower surface of the chamber and the stage may be further included.

또한, 상기 스테이지는 노멀 모드와 상기 분리 라인을 따라 분리되어 이격 공간을 형성하는 분리 모드를 포함하고, 상기 노멀 모드에서 상기 메인터넌스 유닛은 상기 스테이지 하부에 배치되고, 상기 분리 모드에서 상기 메인터넌스 유닛은 상기 이격 공간에 배치될 수 있다.In addition, the stage includes a normal mode and a separation mode that is separated along the separation line to form a separation space. In the normal mode, the maintenance unit is disposed below the stage, and in the separation mode, the maintenance unit It can be placed in an isolated space.

또한, 상기 이격 공간의 폭은 상기 메인터넌스 유닛의 폭보다 크거나 같을 수 있다.Also, a width of the separation space may be greater than or equal to a width of the maintenance unit.

또한, 상기 메인터넌스 유닛은 퍼지부 및 흡입부를 포함할 수 있다.Also, the maintenance unit may include a purge part and a suction part.

또한, 상기 분리 라인은 사선 방향으로 연장될 수 있다. Also, the separation line may extend in an oblique direction.

기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Other embodiment specifics are included in the detailed description and drawings.

본 발명의 실시예들에 의하면 적어도 다음과 같은 효과가 있다.According to embodiments of the present invention, at least the following effects are provided.

즉, 디스플레이 제조 장치가 차지하는 공간을 최적화하여 제조 장치의 공간 활용 효율을 향상시킬 수 있다. That is, space utilization efficiency of the display manufacturing apparatus may be improved by optimizing the space occupied by the display manufacturing apparatus.

또한, 전체 공정 시간을 단축시킬 수 있다.In addition, the overall process time can be shortened.

본 발명의 실시예들에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.Effects according to the embodiments of the present invention are not limited by the contents exemplified above, and more diverse effects are included in the present specification.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 블록도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 부분 사시도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 부분 사시도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 부분 단면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 동작을 설명하기 위한 부분 단면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 동작을 설명하기 위한 부분 단면도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 평면도이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 평면도이다.
1 is a block diagram of a display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a partial perspective view of a display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a partial perspective view of a display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
4 is a partial cross-sectional view of a display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
5 is a partial cross-sectional view for explaining the operation of the display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
6 is a partial cross-sectional view for explaining the operation of the display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
7 is a plan view of a display manufacturing apparatus according to another embodiment of the present invention.
8 is a plan view of a display manufacturing apparatus according to another embodiment of the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Advantages and features of the present invention, and methods of achieving them, will become clear with reference to the detailed description of the following embodiments taken in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below and can be implemented in various different forms, only the present embodiments make the disclosure of the present invention complete, and common knowledge in the art to which the present invention belongs. It is provided to completely inform the person who has the scope of the invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims.

제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이며, 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위해 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수 있음은 물론이다.Although first, second, etc. are used to describe various components, these components are not limited by these terms, and are used only to distinguish one component from other components. Accordingly, it goes without saying that the first component mentioned below may be the second component within the technical spirit of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조로 하여 본 발명의 실시예들에 대해 설명한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 블록도이다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 부분 사시도이다. 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 부분 사시도이다. 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 부분 단면도이다. 1 is a block diagram of a display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention. 2 is a partial perspective view of a display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention. 3 is a partial perspective view of a display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention. 4 is a partial cross-sectional view of a display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치는 분리 라인(SL)을 따라 분리되어 이격 공간(SS)을 형성하는 스테이지(ST), 스테이지(ST) 상에 배치되는 헤드부(H) 및 이격 공간(SS)에 배치되어 헤드부(H)와 대향하는 메인터넌스 유닛(M)을 포함한다.1 to 4, a display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention is disposed on a stage ST and a stage ST that are separated along a separation line SL to form a separation space SS. It includes a head part H and a maintenance unit M disposed in the separation space SS and facing the head part H.

본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치는 챔버(CH)를 더 포함할 수 있다. 챔버(CH)는 후술하는 여러 구성들이 배치되는 공간을 제공할 수 있다. 일 실시예에서 챔버(CH)는 직육면체 형상인 것을 예시하나, 챔버(CH)의 형상이 이에 제한되는 것은 아니다. 즉, 일정한 내부 공간을 제공할 수 있는 구성은 일 실시예에서 챔버(CH)로 이용될 수 있다. A display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention may further include a chamber CH. The chamber CH may provide a space in which various components described below are disposed. In one embodiment, the chamber CH has a rectangular parallelepiped shape, but the shape of the chamber CH is not limited thereto. That is, a configuration capable of providing a constant internal space may be used as the chamber CH in one embodiment.

일 실시예에서 챔버(CH) 내부의 공간은 외부 공기와 차단될 수 있다. 다시 말하면, 챔버(CH) 내부의 공간은 밀폐된 공간일 수 있다. In one embodiment, the space inside the chamber CH may be blocked from outside air. In other words, the space inside the chamber CH may be an enclosed space.

다른 실시예에서, 챔버(CH) 내부의 공간은 진공 상태일 수도 있다. 이 경우, 디스플레이 제조 장치는 챔버(CH) 내부에 배치되는 공간을 진공상태로 만들기 위한 진공 펌프(도시하지 않음) 등을 더 포함할 수 있다. In another embodiment, the space inside the chamber CH may be in a vacuum state. In this case, the display manufacturing apparatus may further include a vacuum pump (not shown) to vacuum the space disposed inside the chamber CH.

챔버(CH) 내에는 스테이지(ST)가 배치될 수 있다. 스테이지(ST)는 후술하는 기판(S)을 지지할 수 있다. 스테이지(ST)는 평판 형상을 가질 수 있다. 즉, 스테이지(ST)의 상면은 다각형 또는 적어도 부분적으로 곡선을 갖는 평면일 수 있다. A stage ST may be disposed in the chamber CH. The stage ST may support a substrate S to be described later. The stage ST may have a flat plate shape. That is, the top surface of the stage ST may be a polygon or a flat surface at least partially curved.

일 실시예에서 스테이지(ST)는 수평 방향 또는 수직 방향으로 이동할 수 있다. In one embodiment, the stage ST may move in a horizontal direction or a vertical direction.

스테이지(ST)는 분리 라인(SL)을 포함할 수 있다. 분리 라인(SL)은 스테이지(ST)를 가로질러 일 방향으로 연장될 수 있다. 스테이지(ST)는 분리 라인(SL)을 기준으로 분리될 수 있다. 일 실시예에서 스테이지(ST)는 분리 라인(SL)를 따라 양분될 수 있다. 스테이지(ST)가 분리 라인(SL)을 따라 분리되면 분리된 하나의 파트와 다른 하나의 파트 사이에 이격 공간(SS)이 배치될 수 있다. 스테이지(ST)에 형성된 이격 공간(SS)에 대한 구체적인 설명은 뒤에서 자세히 설명하기로 한다.The stage ST may include a separation line SL. The separation line SL may extend in one direction across the stage ST. The stages ST may be separated based on the separation line SL. In one embodiment, the stage ST may be bisected along the separation line SL. When the stage ST is separated along the separation line SL, a separation space SS may be disposed between the separated part and the other part. A detailed description of the separation space SS formed in the stage ST will be described in detail later.

스테이지(ST) 상에는 기판(S)이 배치될 수 있다. 기판(S)은 표시 장치에 사용되는 기판일 수 있다. 다시 말하면, 기판(S)은 액정 표시 장치 또는 유기 발광 표시 장치에 사용되는 기판일 수 있다. 다만, 이는 예시적인 것으로 기판(S)의 종류가 이에 제한되는 것은 아니며, 현존하거나 향후 기술의 발전에 따라 새롭게 등장하는 표시 장치에 사용되는 기판이면 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 장치에 피처리 대상체로서 사용 될 수 있다. A substrate S may be disposed on the stage ST. The substrate S may be a substrate used in a display device. In other words, the substrate S may be a substrate used for a liquid crystal display or an organic light emitting display. However, this is illustrative, and the type of substrate S is not limited thereto, and any substrate used in a display device that is currently existing or newly emerging with the development of technology in the future is a manufacturing apparatus for a display device according to an embodiment of the present invention. can be used as a subject to be processed.

기판(S)은 스테이지(ST)와 직접적으로 접하거나, 스테이지(ST)로부터 일정 간격 이격될 수 있다. 기판(S)과 스테이지(ST)를 이격시키는 수단 중 하나로써, 에어홀(AH)이 이용될 수 있다. 에어홀(AH)에 대한 구체적인 설명은 뒤에 도 2를 참조하여 하기로 한다. The substrate S may directly contact the stage ST or may be separated from the stage ST by a predetermined distance. As one of means for separating the substrate S from the stage ST, an air hole AH may be used. A detailed description of the air hole AH will be given later with reference to FIG. 2 .

기판(S)은 스테이지(ST) 상에서 수평 이동할 수 있다. 기판(S)이 수평하는 수단 중 하나로써, 후술하는 리니어 가이드(LG) 등이 이동될 수 있다. 이에 대한 자세한 설명은 뒤에 도 2를 참조하여 하기로 한다. The substrate S may move horizontally on the stage ST. As one of means for leveling the substrate S, a linear guide LG, which will be described later, or the like can be moved. A detailed description of this will be given later with reference to FIG. 2 .

스테이지(ST) 상에는 헤드부(H)가 배치될 수 있다. 헤드부(H)는 기판(S) 상에 배치되어 기판(S)에 특정층을 형성하기 위한 물질을 기판(S)에 제공하는 역할을 할 수 있다. 일 실시예에서 헤드부(H)는 특정 박막을 형성하기 위한 잉크젯 프린트 장치에 사용되는 헤드부(H)일 수 있다. 헤드부(H)는 박막 형성을 위한 물질, 예컨대, 잉크(Ink) 등을 저장하는 저장부(도시하지 않음)와 연결될 수 있다. 일 실시예에서 저장부는 헤드부(H)의 내부에 배치될 수 있다. 다만, 이에 제한되는 것은 아니며, 다른 실시예에서 저장부는 헤드부(H)의 외부에 배치되어 헤드부(H)와 연결될 수 있다. A head part H may be disposed on the stage ST. The head portion H may be disposed on the substrate S to provide a material for forming a specific layer on the substrate S to the substrate S. In one embodiment, the head part H may be a head part H used in an inkjet printing device for forming a specific thin film. The head part H may be connected to a storage part (not shown) for storing a material for forming a thin film, for example, ink. In one embodiment, the storage unit may be disposed inside the head unit (H). However, it is not limited thereto, and in another embodiment, the storage unit may be disposed outside the head unit H and connected to the head unit H.

박막 형성을 위한 잉크 등을 토출하기 위해 헤드부(H)는 적어도 하나의 노즐(NO)을 포함할 수 있다. 즉, 저장부에 저장된 잉크 등이 노즐(NO)을 통해 분사되거나 토출될 수 있다. The head part H may include at least one nozzle NO to discharge ink for thin film formation. That is, ink or the like stored in the storage unit may be jetted or ejected through the nozzle NO.

일 실시예에서 헤드부(H)는 스테이지(ST) 상에서 수평이동할 수 있다. 즉, 기판(S) 상에 특정 박막을 형성하기 위해 공정의 필요에 따라 x축 방향 또는 y축 방향으로 이동할 수 있다. 또한, 기판(S)과 헤드부(H)는 서로 연동하여 움직일 수 있다. 예컨대, 기판(S)은 y축 방향으로 움직이고 헤드부(H)는 x축 방향으로 움직일 수 있다. 다른 실시예에서는 위와 반대로, 기판(S)이 x축 방향으로 움직이고, 헤드부(H)가 y축 방향으로 움직일 수 있다. In one embodiment, the head part H may move horizontally on the stage ST. That is, in order to form a specific thin film on the substrate S, it may move in the x-axis direction or the y-axis direction according to the needs of the process. In addition, the substrate (S) and the head portion (H) can move in conjunction with each other. For example, the substrate S may move in the y-axis direction and the head part H may move in the x-axis direction. Contrary to the above, in another embodiment, the substrate S may move in the x-axis direction and the head portion H may move in the y-axis direction.

이와 같이 상호 연계하여 또는 각자 독립적으로 이동함으로써, 기판(S) 전 영역에 걸쳐 특정 물질층을 형성할 수 있다. In this way, a specific material layer may be formed over the entire area of the substrate (S) by moving in conjunction with each other or independently of each other.

챔버(CH) 내에는 메인터넌스 유닛(M)이 배치될 수 있다. 메인터넌스 유닛(M)은 헤드부(H)를 유지 관리할 수 있다. 구체적으로, 헤드부(H)의 노즐(NO)에는 이전의 공정으로부터 비롯된 잔여 잉크 등의 이물질이 잔류할 수 있는데, 이와 같은 이물질의 존재는 후속 공정에서 불량을 야기하는 원인이 된다. 메인터넌스 유닛(M)은 이와 같이 노즐(NO)에 배치되는 이물질을 제거하는 역할을 함으로써, 후속 공정에서 이물질에 의해 불량이 발생하는 것을 방지하는 역할을 할 수 있다. A maintenance unit M may be disposed in the chamber CH. The maintenance unit M may maintain and manage the head part H. Specifically, foreign substances such as residual ink from the previous process may remain in the nozzle NO of the head part H, and the existence of such foreign substances causes defects in subsequent processes. The maintenance unit M serves to remove the foreign substances disposed in the nozzle NO, thereby preventing defects caused by the foreign substances in a subsequent process.

또한, 이와 같이 메인터넌스 유닛(M)이 헤드부(H)와 동일 챔버(CH) 내에 배치되는 경우, 헤드부(H)의 유지 관리를 위해 별도의 공간을 확보할 필요가 없어 설비의 공간 배치 효율성 향상 측면에서 유리하며, 동일 챔버(CH) 내에서 바로 유지 관리 작업을 수행함으로써, 헤드부(H)의 유지 관리에 사용되는 시간을 절약할 수 있다.In addition, when the maintenance unit (M) is disposed in the same chamber (CH) as the head part (H) in this way, there is no need to secure a separate space for the maintenance of the head part (H), so the space arrangement efficiency of the facility It is advantageous in terms of improvement, and the time used for maintenance of the head part H can be saved by performing the maintenance work directly within the same chamber CH.

이어서, 도 2를 참조하면, 평판 형상을 갖는 스테이지(ST)는 지지대(SP)에 의해 지지될 수 있다. 일 실시예에서 지지대(SP)는 기둥 형상을 가지며 챔버(CH) 하면과 스테이지(ST)를 일정 간격 이격시킬 수 있다. 도 2는 지지대(SP)가 스테이지(ST)의 네 모서리를 지지하는 경우를 예시하지만, 이는 예시적인 것으로서, 지지대(SP)의 개수가 이에 제한되지는 않는다.Subsequently, referring to FIG. 2 , the stage ST having a flat plate shape may be supported by a support stand SP. In one embodiment, the support (SP) has a column shape and may separate the lower surface of the chamber (CH) and the stage (ST) by a predetermined interval. 2 illustrates a case in which the supporters SP supports the four corners of the stage ST, this is exemplary, and the number of supports SPs is not limited thereto.

스테이지(ST)의 일측에는 리니어 가이드(LG), 리니어 모터(LM) 및 기판 홀더(SH)가 배치될 수 있다. A linear guide LG, a linear motor LM, and a substrate holder SH may be disposed on one side of the stage ST.

리니어 가이드(LG)는 스테이지(ST)의 일측으로부터 일정 간격 이격되어 배치될 수 있다. 리니어 가이드(LG)는 스테이지(ST)의 일측과 나란하게 연장될 수 있다. 즉, 리니어 가이드(LG)와 스테이지(ST)의 일측은 서로 평행하도록 연장될 수 있다. 리니어 가이드(LG)는 기판(S)의 수평 이동을 가이드할 수 있다. 즉, 리니어 가이드(LG)는 기판(S)이 y축 방향으로 이동하는 것을 가이드할 수 있다. 도 2는 리니어 가이드(LG)가 y축 방향으로 연장되는 경우를 예시하지만, 이에 제한되는 것은 아니며, 다른 실시예에서 리니어 가이드(LG)는 x축 방향으로 연장될 수도 있다. 또한, 또 다른 실시예에서는 x축 방향의 리니어 가이드와 y축 방향의 리니어 가이드가 병존할 수도 있다. The linear guide LG may be spaced apart from one side of the stage ST by a predetermined interval. The linear guide LG may extend parallel to one side of the stage ST. That is, one side of the linear guide LG and the stage ST may extend parallel to each other. The linear guide LG may guide the horizontal movement of the substrate S. That is, the linear guide LG may guide the movement of the substrate S in the y-axis direction. Figure 2 illustrates a case where the linear guide (LG) extends in the y-axis direction, but is not limited thereto, and in another embodiment, the linear guide (LG) may extend in the x-axis direction. Also, in another embodiment, a linear guide in the x-axis direction and a linear guide in the y-axis direction may coexist.

리니어 가이드(LG)에는 리니어 모터(LM)가 연결될 수 있다. 리니어 모터(LM)는 리니어 가이드(LG)를 따라 이동할 수 있다. 구체적으로 리니어 모터(LM)는 후술하는 기판 홀더(SH)를 y축 방향으로 이동시키기 위한 구동력을 제공하는 역할을 할 수 있다. A linear motor LM may be connected to the linear guide LG. The linear motor LM may move along the linear guide LG. Specifically, the linear motor LM may serve to provide a driving force for moving the substrate holder SH, which will be described later, in the y-axis direction.

리니어 모터(LM)는 기판 홀더(SH)와 연결될 수 잇다. 기판 홀더(SH)는 기판(SH)의 일측과 접하여 기판(SH)을 지지할 수 있다. 예컨대, 기판 홀더(SH)는 집게 형상으로 되어 기판(S) 일측과 체결될 수 있다. 다만, 이에 제한되는 것은 아니며 다른 실시예에서 기판 홀더(SH)는 진공을 이용하거나, 정전기를 이용하여 기판(S)을 고정시킬 수 있다. The linear motor LM may be connected to the substrate holder SH. The substrate holder SH may support the substrate SH by contacting one side of the substrate SH. For example, the substrate holder SH may be shaped like a pair of tongs and fastened to one side of the substrate S. However, it is not limited thereto, and in another embodiment, the substrate holder SH may fix the substrate S using vacuum or static electricity.

기판 홀더(SH)와 체결되는 기판(S)은 기판 홀더(SH)와 일체로 이동할 수 있다. 즉, 리니어 모터(LM)가 리니어 가이드(LG)를 따라 y축 방향으로 이동하면, 그와 일체로 형성된 기판(S)이 y축 방향으로 이동할 수 있다. The substrate S fastened to the substrate holder SH may move integrally with the substrate holder SH. That is, when the linear motor LM moves in the y-axis direction along the linear guide LG, the substrate S integrally formed therewith may move in the y-axis direction.

스테이지(ST)에는 복수개의 에어홀(AH)이 배치될 수 있다. 앞서 설명한 바와 같이 스테이지(ST)가 복수개의 에어홀(AH)을 포함하는 경우, 에어홀(AH)로부터 제공되는 에어(air)에 의해 스테이지(ST)와 기판(S)이 일정 간격 이격될 수 있다. 즉, 에어홀(AH)에서 나오는 에어에 의해 기판(S)이 지지될 수 있다. A plurality of air holes AH may be disposed in the stage ST. As described above, when the stage ST includes a plurality of air holes AH, the stage ST and the substrate S may be separated by a predetermined distance by air supplied from the air holes AH. there is. That is, the substrate S may be supported by air coming out of the air hole AH.

기판(S)과 스테이지(ST)가 직접적으로 접하는 경우, 기판(S)에 오염을 유발하거나 물리적인 상처를 입힐 가능성이 있는데, 이와 같이 에어홀(AH)을 이용하여 기판(S)을 스테이지(ST) 상에 띄우는 경우, 공정 중에 스테이지(ST)에 의해 기판(S)이 데미지를 입는 것을 방지할 수 있다.When the substrate (S) and the stage (ST) are in direct contact, there is a possibility of causing contamination or physical damage to the substrate (S). When floating on the ST, it is possible to prevent the substrate S from being damaged by the stage ST during the process.

에어홀(H)이 에어를 제공하기 위해 에어홀(H)은 압축 공기를 제공하는 컴프레셔와 연결될 수 있다. In order for the air hole H to provide air, the air hole H may be connected to a compressor that supplies compressed air.

도 3을 참조하면, 분리 라인(SL)은 x축 방향으로 연장될 수 있다. 분리 라인(SL)이 x축 방향으로 연장되는 경우, 스테이지(SL)는 분리 라인(SL)을 기준으로 분리될 수 있다. 즉, 스테이지(SL)는 두 개의 파트로 분리될 수 있다. 구체적으로, 하나의 파트는 y축 양의 방향으로, 다른 하나의 파트 y축 음의 방향으로 이동함으로써, 스테이지(ST)가 양분될 수 있다. 스테이지(ST)가 분리 라인(SL)을 따라 분리되면, 스테이지(ST)에는 이격 공간(SS)이 형성될 수 있다. Referring to FIG. 3 , the separation line SL may extend in the x-axis direction. When the separation line SL extends in the x-axis direction, the stages SL may be separated based on the separation line SL. That is, the stage SL may be separated into two parts. Specifically, the stage ST may be divided by moving one part in a positive y-axis direction and the other part in a negative y-axis direction. When the stages ST are separated along the separation line SL, a separation space SS may be formed in the stages ST.

도 4를 참조하면, 스테이지(ST) 하부에는 메인터넌스 유닛(M)이 배치될 수 있다. Referring to FIG. 4 , a maintenance unit M may be disposed below the stage ST.

메인터넌스 유닛(M)은 헤드부(H)를 유지 및/또는 보수하는 역할을 수행할 수 있다. 하나의 예로 메인터넌스 유닛(M)은 헤드부(H)의 노즐(NO)을 청소하기 위해 퍼지부(P) 및 흡입부(V)를 포함할 수 있다. The maintenance unit M may serve to maintain and/or repair the head part H. As an example, the maintenance unit M may include a purge part P and a suction part V to clean the nozzle NO of the head part H.

퍼지부(P)는 헤드부(H)를 향해 공기를 분사할 수 있다. 즉, 고압의 공기를 분사하여 노즐(NO)에 배치되는 이물질을 제거할 수 있다. The purge part (P) may inject air toward the head part (H). That is, foreign substances disposed in the nozzle NO may be removed by spraying high-pressure air.

이를 위해 퍼지부(P)는 고압의 공기를 제공하는 공기 제공 수단과 연결될 수 있다. 예컨대, 공기 제공 수단은 컴프레셔 등을 포함할 수 있다.To this end, the purge unit P may be connected to an air providing means for providing high pressure air. For example, the air providing means may include a compressor or the like.

흡입부(V)는 진공 상태를 조성하여 노즐(NO)에 배치되는 이물질을 빨아들여 제거할 수 있다. 이를 위해 흡입부(V)는 노즐(NO)과 밀폐되도록 부착될 수 있다. 즉 흡입부(V)는 노즐(NO)과 밀폐되도록 체결되어 노즐(NO)에 배치되는 이물질을 제거할 수 있다. 이를 위해 흡입부(V)는 밀폐 보조 수단(도시하지 않음)을 더 포함할 수도 있다. The suction unit V may create a vacuum state to suck in and remove foreign substances disposed in the nozzle NO. To this end, the inlet (V) may be attached to be sealed with the nozzle (NO). That is, the suction part V is sealed with the nozzle NO to remove foreign substances disposed in the nozzle NO. To this end, the inlet (V) may further include a sealing auxiliary means (not shown).

이하에서는 도 4 내지 도 6을 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 동작을 설명하기로 한다. 도 4는 앞서 설명한 바와 같이 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 부분 단면도이고, 도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 동작을 설명하기 위한 부분 단면도이다.Hereinafter, the operation of the display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 to 6 . 4 is a partial cross-sectional view of the display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention as described above, and FIGS. 5 and 6 are partial cross-sectional views for explaining the operation of the display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 4 내지 도 6을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치는 분리 모드와 노멀 모드를 가질 수 있다. 4 to 6 , the display manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention may have a separate mode and a normal mode.

노멀 모드는 스테이지(ST)가 분리되기 전 즉 일체로 형성된 상태를 의미할 수 있다. 노멀 모드에서 기판(S) 상에 박막을 형성하는 공정이 진행될 수 있다. The normal mode may mean a state before the stage ST is separated, that is, integrally formed. A process of forming a thin film on the substrate S may proceed in a normal mode.

이어서, 헤드부(H)의 동작이 정지되는 휴지기가 진행될 수 있다. 휴지기에서 기판(S)은 전환 영역(TA)과 중첩되지 않도록, 즉, 스테이지(ST) 상에서 전환 영역(TA)을 제외한 나머지 영역 상에 배치될 수 있다. Subsequently, a rest period in which the operation of the head part H is stopped may proceed. In the rest period, the substrate S may be disposed on the rest of the transition area TA, that is, on the stage ST, so as not to overlap with the transition area TA.

도 5를 참조하면, 헤드부(H)의 동작이 정지되는 휴지기가 진행될 수 있다. 휴지기에서 스테이지(ST)는 양분될 수 있다. 즉 본 발명의 몇몇 실시예에서 분리 모드는 스테이지(ST)가 완전하게 양분된 상태를 의미한다. Referring to FIG. 5 , a rest period in which the operation of the head part H is stopped may proceed. In the rest period, the stage ST may be bifurcated. That is, in some embodiments of the present invention, the separation mode means a state in which the stage ST is completely divided into two halves.

앞서 설명한 바와 마찬가지로, 분리 모드 상태에서 스테이지(ST)에는 이격 공간(SS)이 형성될 수 있다. 이격 공간(SS)의 폭(w1), 즉 분리된 스테이지(ST)의 각 파트 간 거리는 메인터넌스 유닛(M)의 폭(w2)보다 크거나 같을 수 있다. 이격 공간(SS)의 폭(w1)이 메인터넌스 유닛(M)의 폭(w2)보다 크거나 같은 경우, 메인터넌스 유닛(M)은 이격 공간(SS)에 수납될 수 있다. As described above, the separation space SS may be formed in the stage ST in the separation mode state. The width w1 of the separation space SS, that is, the distance between the parts of the separated stage ST may be greater than or equal to the width w2 of the maintenance unit M. When the width w1 of the separation space SS is greater than or equal to the width w2 of the maintenance unit M, the maintenance unit M may be accommodated in the separation space SS.

이어서, 도 6을 참조하면, 분리 모드 상태에서 메인터넌스 유닛(M)이 상승할 수 있다. 일 실시예에서 메인터넌스 유닛(M)은 헤드부(H)와 대향하도록 배치될 수 있다. 분리 모드에서 메인터넌스 유닛(M)이 상승하면 메인터넌스 유닛(M)과 헤드부(H) 간의 이격 거리가 감소할 수 있다. 다시 말하면, 메인터넌스 유닛(M)이 상승함에 따라 메인터넌스 유닛(M)은 이격 공간(SS)에 배치될 수 있다.Subsequently, referring to FIG. 6 , the maintenance unit M may rise in the separation mode state. In one embodiment, the maintenance unit (M) may be disposed to face the head portion (H). When the maintenance unit M rises in the separation mode, the separation distance between the maintenance unit M and the head part H may decrease. In other words, as the maintenance unit M rises, the maintenance unit M may be disposed in the separation space SS.

일 실시예에서 메인터넌스 유닛(M)은 헤드부(H)와 접하거나 헤드부(H)와 일정 간격 이격되어 헤드부(H)의 유지 관리를 수행할 수 있다. 메인터넌스 유닛(MU)이 헤드부(H)를 관리하는 방법은 앞서 설명하는 바와 같으므로, 이에 대한 자세한 설명은 생략하기로 한다.In one embodiment, the maintenance unit (M) may be in contact with the head portion (H) or separated from the head portion (H) by a predetermined interval to perform maintenance of the head portion (H). Since the method of managing the head unit H by the maintenance unit MU is the same as described above, a detailed description thereof will be omitted.

상술한 바와 같이 노멀 모드와 분리 모드는 순차적으로 진행될 수 있다. 또한, 두 번 이상의 노멀 모드와 두 번 이상의 분리 모드가 1회 이상 반복될 수도 있다. As described above, the normal mode and the separation mode may be sequentially performed. Also, two or more normal modes and two or more separate modes may be repeated one or more times.

이어서, 본 발명의 다른 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치에 대해 설명하기로 한다. Next, a display manufacturing apparatus according to another embodiment of the present invention will be described.

도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 평면도이다. 도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치의 평면도이다. 7 is a plan view of a display manufacturing apparatus according to another embodiment of the present invention. 8 is a plan view of a display manufacturing apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 7 및 도 8을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 디스플레이 제조 장치는 스테이지(ST1)의 분리 라인(SL1)이 사선 방향으로 연장된 점이 도 3의 실시예와 다른 점이다.Referring to FIGS. 7 and 8 , the display manufacturing apparatus according to another embodiment of the present invention is different from the embodiment of FIG. 3 in that the separation line SL1 of the stage ST1 extends in an oblique direction.

다른 실시예에서 디스플레이 제조 장치의 스테이지(ST1)는 사선 방향으로 연장된 분리 라인(SL1)을 포함할 수 있다.In another embodiment, the stage ST1 of the display manufacturing apparatus may include a separation line SL1 extending in an oblique direction.

이에 대해 구체적으로 설명하면, 스테이지(ST1)의 일측 변의 연장선과 분리 라인(SL1)의 연장선이 이루는 제1각(θ)은 예각일 수 있다. (도 7 참조)Specifically, the first angle θ formed by the extension line of one side of the stage ST1 and the extension line of the separation line SL1 may be an acute angle. (See Fig. 7)

도 8을 참조하면, 사선 방향으로 연장된 분리 라인(SL1)을 따라 스테이지(ST1)가 양분될 수 있다. 이 경우, 스테이지(ST) 상에 형성된 이격 공간(SS)의 횡단면은 평행 사변형 형상을 가질 수 있다.Referring to FIG. 8 , the stage ST1 may be divided along a separation line SL1 extending in an oblique direction. In this case, a cross section of the separation space SS formed on the stage ST may have a parallelogram shape.

이격 공간(SS)의 횡단면이 평행사변형 형상을 갖는 경우, 이에 대응되도록 메인터넌스 유닛(M)의 외주도 평행사변형 형상을 가질 수 있다. When the cross section of the separation space SS has a parallelogram shape, the outer circumference of the maintenance unit M may also have a parallelogram shape to correspond thereto.

이와 같이 스테이지(ST)가 사선 방향으로 분리되는 경우, 분리에 따른 단위 면적 당 에어홀(AH)의 감소량의 정도를 완화하여 기판(S)이 낙하하거나, 충격에 의해 데미지를 입는 것을 방지할 수 있다. In this way, when the stage ST is separated in an oblique direction, it is possible to prevent the substrate S from falling or being damaged by impact by mitigating the degree of reduction of the air holes AH per unit area due to the separation. there is.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.Although the embodiments of the present invention have been described with reference to the accompanying drawings, those skilled in the art to which the present invention pertains can be implemented in other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. you will be able to understand Therefore, the embodiments described above should be understood as illustrative in all respects and not limiting.

CH: 챔버
H: 헤드부
S: 기판
ST: 스테이지
M: 메인터넌스 유닛
AH: 에어홀
LG: 리니어 가이드
LM: 리니어 모터
SH: 기판 홀더
P: 퍼지부
V: 흡입부
SP: 지지대
SL: 분리 라인
CH: chamber
H: Head
S: substrate
ST: stage
M: maintenance unit
AH: air hole
LG: linear guide
LM: linear motor
SH: substrate holder
P: purge part
V: inlet
SP: support
SL: separation line

Claims (13)

분리 라인을 포함하는 스테이지;
상기 스테이지 상에 배치되는 헤드부; 및
상기 헤드부와 대향하는 메인터넌스 유닛을 포함하고,
상기 분리 라인은 상기 스테이지를 가로질러 일 방향으로 연장되고,
노멀 모드에서 상기 메인터넌스 유닛은 상기 스테이지 하부에 배치되고,
분리 모드에서 상기 스테이지는 상기 분리 라인을 따라 두 파트로 분리되어 이격 공간을 형성하고,
상기 분리 모드에서 상기 메인터넌스 유닛은 상기 이격 공간에 배치되는 디스플레이 제조 장치.
a stage comprising a separation line;
a head part disposed on the stage; and
A maintenance unit facing the head unit;
the separation line extends in one direction across the stage;
In the normal mode, the maintenance unit is disposed below the stage,
In the separation mode, the stage is separated into two parts along the separation line to form a separation space;
In the separation mode, the maintenance unit is disposed in the separation space.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 스테이지 상에 배치되는 기판을 더 포함하는 디스플레이 제조 장치.
According to claim 1,
Display manufacturing apparatus further comprising a substrate disposed on the stage.
제3항에 있어서,
상기 스테이지의 일측에 배치되어 상기 기판의 이동을 가이드하는 리니어 가이드를 더 포함하는 디스플레이 제조 장치.
According to claim 3,
Display manufacturing apparatus further comprising a linear guide disposed on one side of the stage to guide the movement of the substrate.
제4항에 있어서,
일측이 리니어 가이드와 연결되고, 타측이 기판과 체결되는 기판 홀더를 더 포함하는 디스플레이 제조 장치.
According to claim 4,
Display manufacturing apparatus further comprising a substrate holder having one side connected to the linear guide and the other side fastened to the substrate.
제3항에 있어서,
상기 스테이지는 상기 기판을 향해 에어를 분사하는 에어홀을 더 포함하는 디스플레이 제조 장치.
According to claim 3,
The stage display manufacturing apparatus further comprises an air hole for injecting air toward the substrate.
제1항에 있어서,
상기 헤드부는 적어도 하나의 노즐을 포함하는 디스플레이 제조 장치.
According to claim 1,
The head unit display manufacturing apparatus including at least one nozzle.
제1항에 있어서,
상기 스테이지, 상기 헤드부 및 상기 메인터넌스 유닛을 수용하는 챔버를 더 포함하는 디스플레이 제조 장치.
According to claim 1,
The display manufacturing apparatus further comprising a chamber accommodating the stage, the head portion, and the maintenance unit.
제8항에 있어서,
상기 챔버의 하면과 상기 스테이지를 이격시키는 지지대를 더 포함하는 디스플레이 제조 장치.
According to claim 8,
Display manufacturing apparatus further comprising a support spaced apart from the lower surface of the chamber and the stage.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 이격 공간의 폭은 상기 메인터넌스 유닛의 폭보다 크거나 같은 디스플레이 제조 장치.
According to claim 1,
The width of the separation space is greater than or equal to the width of the maintenance unit.
제1항에 있어서,
상기 메인터넌스 유닛은 퍼지부 및 흡입부를 포함하는 디스플레이 제조 장치.
According to claim 1,
The maintenance unit is a display manufacturing apparatus including a purge part and a suction part.
제1항에 있어서,
상기 분리 라인은 사선 방향으로 연장되는 디스플레이 제조 장치.
According to claim 1,
The separation line is a display manufacturing apparatus extending in an oblique direction.
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