KR20110020102A - A device for floating substrate, and a substrate transfer device and a coating apparatus having the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A device for floating a substrate, and a substrate transfer device and a coating apparatus having the same are provided to minimize the deformation of a substrate or damage to the substrate by maintaining the lifting of the substrate in a coating area and an unloading area constant. CONSTITUTION: In a device for floating a substrate, and a substrate transfer device and a coating apparatus having the same, a loading area(276a) comprises a plurality of first air outlets and a plurality of first air inlets. A loading area unit provides a loading area(M1), and a coating domain unit(276b) comprises a plurality of second air outlets and a plurality of second air inlets. The coating domain unit provides a coating domain(M3). An unloading region part(276c) comprises a plurality of third air outlets and a plurality of third air inlets. The unloading region unit provides an unloading domain(M5).

Description

기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치{A Device for Floating Substrate, and A Substrate Transfer Device and A Coating Apparatus Having the Same}Substrate Floating Unit, A Substrate Transfer Device and A Coating Apparatus Having the Same

본 발명은 PDP 패널 또는 LCD 패널 등의 평판 패널 디스플레이(Flat Panel Display: 이하 "FPD"라 합니다) 제조용 기판을 부상하여 이송하면서 그 상부에 코팅액을 도포하기 위한 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치에 관한 것이다. 좀 더 구체적으로, 본 발명은 기판이 로딩 영역, 코팅 영역, 및 언로딩 영역 전체에 걸쳐 일정한 높이로 이송되도록 로딩 영역부, 코팅 영역부, 및 언로딩 영역부 전체에 걸쳐 에어 분출구의 부상력과 에어 흡입구의 흡입력 간의 밸런스가 일정하게 이루어질 수 있는 구성을 구비한 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치에 관한 것이다.The present invention provides a substrate floating unit for applying a coating liquid on top of a flat panel display (hereinafter referred to as "FPD") manufacturing substrate, such as a PDP panel or LCD panel, and transporting a substrate having the same. A device and a coating device. More specifically, the present invention relates to the floating force of the air jets throughout the loading area, the coating area, and the unloading area so that the substrate is transported at a constant height throughout the loading area, the coating area, and the unloading area. A substrate floating unit having a configuration in which a balance between suction forces of an air intake port can be made constant, and a substrate transfer device and a coating device having the same.

또한, 본 발명은 코팅 영역 및 언로딩 영역 상에서 에어 분출구의 부상력과 에어 흡입구의 흡입력 간의 밸런스가 이루어지도록 에어를 일정하게 공급함으로써 기판 상에 도포된 코팅액이 일정한 온도로 건조되도록 하여 얼룩 발생을 방지할 수 있는 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치에 관한 것이다. In addition, the present invention by uniformly supplying air to achieve a balance between the floating force of the air jet port and the suction force of the air inlet port on the coating area and the unloading area to prevent the staining by coating the coating liquid applied on the substrate to a certain temperature And a substrate transfer device and a coating apparatus including the same.

일반적으로 FPD를 제조하기 위해서는 글래스 기판(이하 "기판"이라 합니다)과 같은 작업물(work piece) 상에 코팅액의 도포가 요구되며, 이를 위해 노즐 디스펜서(nozzle dispenser) 또는 슬릿 다이(이하 노즐 디스펜서 및 슬릿 다이를 통칭하여 "노즐 장치"라 합니다)를 구비한 코팅 장치가 사용된다. 이러한 코팅 장치는 기판을 스테이지 상에 위치시킨 후 갠트리(gantry)에 부착된 노즐 장치를 수평방향으로 이동시키면서 다양한 코팅액의 도포 동작을 수행한다. 이러한 코팅액의 도포 동작의 예로는, LCD 패널을 제조하는 경우 LCD 패널 기판 상에 포토레지스트(photoresist: PR), 블랙 매트릭스(Black Matrix: B.M), 컬럼 스페이스(column space: C.S) 등을 형성하기 위해 코팅액을 도포할 수 있다. 또한, PDP 패널을 제조하는 경우 PDP 패널 기판 상에 상유전체, 하유전체, 격벽을 형성하기 위해 코팅액을 도포할 수 있다.In general, the manufacture of FPD requires the application of a coating liquid on a work piece, such as a glass substrate (hereinafter referred to as a "substrate"), for which a nozzle dispenser or slit die (hereinafter referred to as nozzle dispenser and A coating apparatus with a slit die collectively referred to as a "nozzle apparatus" is used. Such a coating apparatus performs a coating operation of various coating liquids while positioning a substrate on a stage and moving a nozzle apparatus attached to a gantry in a horizontal direction. Examples of the coating operation of the coating liquid include forming photoresist (PR), black matrix (BM), column space (CS), and the like on the LCD panel substrate when manufacturing the LCD panel. The coating liquid can be applied. In the case of manufacturing a PDP panel, a coating liquid may be applied to form a dielectric, a lower dielectric, and a partition on a PDP panel substrate.

그러나, 상술한 종래 기술에서는 기판을 스테이지 상에 위치시킨 후 스테이지를 코팅 위치로 이동한 상태에서 기판의 상부에 설치되는 노즐 장치 및 노즐 장치가 부착되는 갠트리가 기판 상에서 이동하는 구조(이하 "노즐 이동 방식"이라 합니다)이기 때문에 코팅 장치의 정밀 구동이 어려워지며 또한 복잡하다. 좀 더 구체적으로, 큰 중량의 대형 노즐 장치, 갠트리 및 스테이지의 이동을 위해서는 막대한 에너지가 필요하다. 또한, 코팅액 도포 후에는 원래의 위치로 복귀하여 상술한 동작을 반복하여야 하므로 코팅액 도포 동작의 효율성이 저하된다는 문제가 발생한다. 또한, 대면적 FPD의 요구에 따라 노즐 장치 및 갠트리도 대형화되어야 한다. 대형화된 갠트리의 중량은 대략 1톤 내지 2톤에 달하여, 이러한 거대 중량의 갠트리를 이동시키면서 정밀하게 가속시키거나 감속시키는 구동장치의 구현이 어려워진다. However, in the above-described prior art, a structure in which a nozzle device installed on an upper portion of the substrate and a gantry to which the nozzle device is attached moves on the substrate after placing the substrate on the stage and then moving the stage to the coating position (hereinafter referred to as "nozzle movement"). Method ", which makes the coating device difficult to drive and complicated. More specifically, enormous energy is required for the movement of large, large nozzle devices, gantry and stages. In addition, after the coating liquid is applied, it is necessary to return to the original position and repeat the above-described operation, thereby causing a problem that the efficiency of the coating liquid coating operation is lowered. In addition, the nozzle device and the gantry must be enlarged according to the requirements of the large area FPD. The weight of the oversized gantry amounts to approximately 1 to 2 tons, making it difficult to implement a drive that precisely accelerates or decelerates while moving such a massive gantry.

상술한 종래 기술의 노즐 이동 방식의 코팅 장치의 문제점을 해소하기 위한 방안의 하나로 에어의 분사 또는 분사 및 흡인을 통해 기판을 부상시켜 이송하면서 기판의 표면에 코팅액을 도포하는 부상방식의 기판 이송 장치가 제안되었다.As a way to solve the problems of the above-described conventional nozzle movement type coating apparatus, the floating substrate transfer apparatus for applying the coating liquid to the surface of the substrate while floating and transporting the substrate through the injection or spraying and suction of air is Proposed.

도 1a는 종래 기술에 따른 부상방식의 기판 이송 장치 및 이를 구비한 도포 장치의 사시도를 개략적으로 도시한 도면이고, 도 1b는 도 1a에 도시된 종래 기술에 따른 부상방식의 기판 이송 장치 및 이를 구비한 도포 장치의 정면도를 개략적으로 도시한 도면이며, 도 1c는 종래 기술의 부상방식의 기판 이송 장치의 로딩 영역, 코팅 영역, 및 언로딩 영역에서의 에어 분출구 및 에어 흡입구의 배열 패턴의 일부를 도시한 도면이다. 이러한 도 1a 내지 도 1c에 도시된 종래 기술에 따른 부상방식의 기판 이송 장치 및 이를 구비한 도포 장치는 예를 들어 2006년 3월 20일자에 도쿄 엘렉트론 주식회사에 의해 "도포방법 및 도포장치"라는 발명의 명칭으로 일본 특허출원 제 2006-76815호로 출원되어, 2007년 10월 4일자에 공개된 일본 특허출원공개번호 특개 2007-252971호에 상세히 개시되어 있다.Figure 1a is a schematic view showing a perspective view of a substrate transfer apparatus and a coating apparatus of the prior art floating method according to the prior art, Figure 1b is a substrate transfer apparatus and the same of the conventional method shown in Figure 1a 1C schematically shows a front view of an application device, and FIG. 1C shows a part of an arrangement pattern of an air outlet port and an air inlet port in a loading area, a coating area, and an unloading area of a prior art floating substrate transfer device. One drawing. The substrate transfer apparatus of the floating method according to the related art shown in FIGS. 1A to 1C and the coating apparatus having the same are, for example, a "coating method and coating apparatus" by Tokyo Electron Co., Ltd. on March 20, 2006. It is disclosed in detail in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-252971, filed under Japanese Patent Application No. 2006-76815 under the name of the invention, and published on October 4, 2007.

다시 도 1a 내지 도 1c를 참조하면, 종래 기술에 따른 도포장치(40)는 부상방식의 기판 이송 장치(84)를 구비한다. 기판(G)은 예를 들어 이송 암(transfer arm: 미도시)에 의해 스테이지(76)의 로딩 영역(도 1b의 M1 영역) 상으로 이송된다. 그 후, 스테이지(76)의 로딩 영역(M1 영역)의 하부에 제공되는 리프트 장치 (미도시)에 의해 복수의 리프트핀(lift pin: 86)가 상승하여 기판(G)을 지지한다. 그 후, 복수의 리프트핀(86)이 하강하면 기판(G)은 한 쌍의 리니어 모션 가이드(96) 상에서 이동가능한 한 쌍의 슬라이더(98)에 제공되는 지지부(102) 상의 흡착 패드(104) 상에 진공 흡착 방식으로 장착된다. 로딩 영역(M1 영역) 상에는 복수의 에어 분출구(88)만이 제공된다. 로딩 영역(M1 영역) 상에서 자중(self-weight)에 의해 아래로 휘어진 기판(G)은 에어 분출구(88)를 통해 분출되는 에어에 의해 대략 250 내지 350㎛ 범위의 부상 높이(Ha)로 부상한 상태에서 부상방식의 기판 이송 장치(84)에 의해 제 1 인터페이스 영역(M2 영역)을 거쳐 코팅 영역(도 1b에 도시된 M3 영역) 상으로(즉, X 방향으로) 이송된다. 제 1 인터페이스 영역(M2 영역) 내에는 진공 펌핑 장치(미도시)와 연결된 에어 흡입구(90)가 부분적으로 설치되어 있다. 기판(G)이 제 1 인터페이스 영역(M2 영역)으로 진입하면, 에어 분출구(88)의 분출력이 에어 흡입구(90)의 흡입력에 의해 일부 상쇄되어 기판(G)은 그 부상 높이가 점차 낮아지면서 코팅 영역(M3 영역)으로 진입한다. 코팅 영역(M3 영역)에서는 에어 흡입구(90)의 수가 제 1 인터페이스 영역(M2 영역)에 비해 더 많이 제공되어 기판(G)이 대략 50㎛의 코팅 높이(Hb)로 부상한 상태를 유지하면서 X축 방향으로 이송한다. 이러한 코팅 영역(M3 영역)에서는 노즐 장치(78)가 코팅액(R: 예를 들어 레지스트액)을 공급관(94)을 통해 공급받아 기판(G) 상에 도포한다.Referring back to Figures 1a to 1c, the coating device 40 according to the prior art is provided with a substrate transfer device 84 of the floating method. The substrate G is transferred onto the loading region of the stage 76 (M1 region in FIG. 1B) by, for example, a transfer arm (not shown). Thereafter, a plurality of lift pins 86 are lifted by the lift device (not shown) provided below the loading region M1 region of the stage 76 to support the substrate G. Subsequently, when the plurality of lift pins 86 are lowered, the substrate G is provided on the suction pad 104 on the support 102 provided on the pair of sliders 98 that are movable on the pair of linear motion guides 96. Is mounted in a vacuum adsorption manner. Only a plurality of air jets 88 are provided on the loading region M1 region. The substrate G, which is bent down by self-weight on the loading region M1 region, floats to a floating height Ha in the range of approximately 250 to 350 μm by air ejected through the air ejection opening 88. In the state, it is conveyed by the floating substrate transfer apparatus 84 onto the coating region (M3 region shown in Fig. 1B) (i.e., in the X direction) via the first interface region (M2 region). An air inlet 90 connected to a vacuum pumping device (not shown) is partially provided in the first interface region M2. When the substrate G enters the first interface region M2 region, the ejection output of the air ejection opening 88 is partially offset by the suction force of the air intake opening 90, so that the floating height of the substrate G gradually decreases. Enter the coating area (M3 area). In the coating area (M3 area), the number of air inlets 90 is provided more than the first interface area (M2 area), so that the substrate G is floated at a coating height Hb of approximately 50 mu m. Feed in the axial direction. In this coating area (M3 area), the nozzle device 78 receives a coating liquid (for example, a resist liquid) through the supply pipe 94 and applies the coating liquid onto the substrate G.

그 후, 코팅액이 도포된 기판(G)은 제 2 인터페이스 영역(M4 영역)으로 이송된다. 제 2 인터페이스 영역(M4 영역)은 제 1 인터페이스 영역(M2 영역)과 마찬가지로 진공 펌핑 장치(미도시)와 연결된 에어 흡입구(90)가 부분적으로 설치되어 있 다(도 1a 참조). 기판(G)이 제 2 인터페이스 영역(M4 영역)으로 진입하면, 에어 분출구(88)의 분출력이 에어 흡입구(90)의 흡입력에 의해 일부만 상쇄되어 기판(G)은 그 부상 높이가 점차 높아진다. 그 후, 기판(G)은 언로딩 영역(M5 영역)으로 진입하고, 언로딩 영역(M5 영역)은 로딩 영역(M1 영역)과 마찬가지로 복수의 에어 분출구(88)만이 제공된다. 따라서, 기판(G)은 언로딩 영역(M5 영역)에 제공된 복수의 에어 분출구(88)를 통해 분출되는 에어에 의해 대략 250 내지 350㎛ 범위의 부상 높이(Hc)로 부상한 상태에서 기판(G)은 흡착 패드(104)로부터 제공되는 진공 흡착이 해제된다. 그 후, 언로딩 영역(M5 영역)의 스테이지(76) 하부에 제공되는 리프팅 장치(미도시)에 의해 복수의 리프트핀(86)가 상승하여 기판(G)을 상승시킨 후, 로봇 암(미도시)에 의해 다음 공정 위치로 이송된다.Thereafter, the substrate G coated with the coating liquid is transferred to the second interface region M4 region. Similarly to the first interface region M2 region, the second interface region M4 region is partially provided with an air inlet 90 connected to a vacuum pumping device (not shown) (see FIG. 1A). When the substrate G enters the second interface region M4 region, only part of the ejection output of the air ejection opening 88 is canceled by the suction force of the air intake opening 90, so that the floating height of the substrate G gradually increases. Subsequently, the substrate G enters the unloading region M5 region, and the unloading region M5 region is provided with only a plurality of air jets 88 similarly to the loading region M1 region. Therefore, the board | substrate G is a board | substrate G in the state which floated at the floating height Hc of the range of about 250-350 micrometers by the air which blows out through the some air ejection opening 88 provided in the unloading area | region M5 area | region. ) Is released from the vacuum adsorption provided from the adsorption pad 104. Thereafter, a plurality of lift pins 86 are raised by a lifting device (not shown) provided below the stage 76 of the unloading area M5 area to raise the substrate G, and then the robot arm (not shown). Is transferred to the next process position.

한편, 노즐 장치(78)가 기판(G) 상에 코팅액을 도포한 후에는 도 1b에 도시된 바와 같이 노즐 장치(78)를 세정하여야 한다. 이를 위해 도포 장치(40)와는 별도로 제공되며, 상하 방향(즉, Z 방향), 좌우 방향(즉, X 방향) 및 전후 방향(즉, Y 방향)으로 이동 가능한 노즐 리프레시(refresh) 부재(210)가 노즐 장치(78)의 하부로 이송되어 세정이 행해진다. 노즐 리프레시 부재(210)는 노즐 장치(78)가 코팅액을 매회 도포한 후 노즐 장치(78)를 세정하기 위한 프라이밍 장치(미도시) 및 노즐 장치(78)가 예를 들어 코팅액을 20회 도포한 후 노즐 장치(78)를 세정하기 위한 노즐 세정 부재(미도시)를 포함한다.On the other hand, after the nozzle device 78 applies the coating liquid onto the substrate G, the nozzle device 78 should be cleaned as shown in FIG. 1B. For this purpose, the nozzle refresh member 210 is provided separately from the coating device 40 and is movable in the vertical direction (ie, Z direction), the left and right direction (ie, X direction), and the front and rear direction (ie, Y direction). Is conveyed to the lower part of the nozzle apparatus 78, and washing | cleaning is performed. The nozzle refreshing member 210 is a priming device (not shown) for cleaning the nozzle device 78 after the nozzle device 78 applies the coating liquid every time and the nozzle device 78 for example applying the coating liquid 20 times. And a nozzle cleaning member (not shown) for cleaning the nozzle unit 78 afterwards.

상술한 종래 기술에 따른 부상방식의 기판 이송 장치(84) 및 이를 구비한 도포 장치(40)는 기판(G)을 부상 방식으로 이동시킨다는 점에서 노즐 이동 방식의 코 팅 장치의 단점을 대부분 해소할 수 있다는 장점이 달성된다.The above-mentioned substrate transfer apparatus 84 of the floating method according to the related art and the coating device 40 having the same can solve most of the disadvantages of the coating apparatus of the nozzle moving method in that the substrate G is moved in the floating manner. The advantage that it can be achieved.

그러나, 상술한 종래 기술에 따른 부상방식의 기판 이송 장치(84) 및 이를 구비한 도포 장치(40)는 다음과 같은 문제점을 여전히 갖는다.However, the above-mentioned floating substrate transfer apparatus 84 and the coating apparatus 40 having the same according to the related art still have the following problems.

1. 로딩 영역, 코팅 영역, 및 언로딩 영역에서의 에어 분출구 및 에어 흡입구의 배열 패턴이 서로 상이하여 기판(G)이 코팅 영역에서 코팅액이 도포된 후 언로딩 영역으로 이송되면 에어 분출량이 달라지게 된다. 그 결과, 기판(G) 전체에 걸쳐 온도 편차가 발생하게 되어 코팅액이 건조되면서 두께 차이(즉, 얼룩)가 발생한다. 이러한 얼룩 발생은 기판(G)의 불량을 초래하여 고가의 기판을 폐기하여야 하므로 전체 제조 비용 및 제조 시간이 증가한다.1. The arrangement patterns of the air ejection openings and the air intake openings in the loading region, the coating region, and the unloading region are different from each other. do. As a result, a temperature deviation occurs over the entire substrate G, resulting in a difference in thickness (that is, spots) while the coating solution is dried. Such staining causes a defect of the substrate G, which requires the disposal of the expensive substrate, thereby increasing the overall manufacturing cost and manufacturing time.

2. 로딩 영역과 코팅 영역 사이에 제 1 인터페이스 영역(M2 영역)이 존재하고 또한 코팅 영역과 언로딩 영역 사이에 제 2 인터페이스 영역(M4 영역)이 존재하여 로딩 영역, 코팅 영역 및 언로딩 영역에서의 기판(G)의 부상 높이가 상이하다. 이러한 부상 높이의 차이는 기판(G)에 스트레스(응력: stress)를 가하게 된다. 기판(G)이 스트레스를 받으면, 변형이 발생하거나 심한 경우 눈에 보이지 않는 파손 등이 발생하여 최종 제품의 불량 등을 일으키는 문제가 발생한다.2. A first interface region (M2 region) exists between the loading region and the coating region, and a second interface region (M4 region) exists between the coating region and the unloading region, so that in the loading region, the coating region and the unloading region, The floating height of the substrate G is different. Such a difference in the height of injury causes a stress on the substrate G. When the substrate G is stressed, a deformation occurs or, in severe cases, an invisible breakage occurs to cause a problem such as a failure of the final product.

3. 또한, 기판(G)의 이동시 부상 높이의 차이에 따른 진동(fluctuation)이 발생할 가능성이 높아진다. 따라서, 기판(G)의 전단부가 코팅 영역에서 코팅액이 도포되는 동안 기판(G)의 후단부는 제 1 인터페이스 영역(M2 영역) 내에 있거나 또는 기판(G)의 후단부가 코팅 영역에서 코팅액이 도포되는 동안 기판(G)의 전단부가 제 2 인터페이스 영역(M4 영역) 내에 있으므로 기판(G)의 부상 높이 차에 의한 진 동이 발생하면 코팅액이 정밀하게 도포되지 못하는 문제가 발생한다. 또한, 이러한 문제점을 해결하기 위해 제 1 인터페이스 영역(M2 영역) 및 제 2 인터페이스 영역(M4 영역)을 기판(G)의 길이만큼 증가하는 경우, 부상방식의 기판 이송 장치 전체의 사이즈가 증가하여 비용이 증가하고 공간 효율성이 낮다는 문제가 발생한다. 이러한 문제점은 기판(G)의 대면적화 및 고정세화됨에 따라 더욱 더 심각해진다.3. In addition, when the substrate G is moved, the possibility of a fluctuation due to the difference in the floating height is increased. Thus, while the front end of the substrate G is coated with the coating liquid in the coating area, the rear end of the substrate G is in the first interface area M2 area or while the rear end of the substrate G is coated with the coating liquid in the coating area. Since the front end portion of the substrate G is in the second interface region M4 region, if a vibration occurs due to the difference in the height of the substrate G, the coating liquid may not be applied accurately. In addition, in order to solve this problem, when the first interface region (M2 region) and the second interface region (M4 region) are increased by the length of the substrate G, the size of the entire floating substrate transfer apparatus is increased and the cost is increased. This increases and the problem of low space efficiency arises. This problem becomes more serious as the area of the substrate G becomes larger and higher.

4. 종래 기술에서는 노즐 리프레시 부재(210)가 도포 장치(40)와는 별도로 제공되므로, 노즐 장치(78)의 세정을 위해 노즐 리프레시 부재(210)를 이동시키기 위한 별도의 이동 수단 등을 구비하여야 한다. 따라서, 도포 장치(40)의 사이즈가 증가하고, 동작이 복잡하며, 세정시 시너(thinner)가 비산되는 등의 문제가 발생한다.4. In the prior art, since the nozzle refreshing member 210 is provided separately from the application device 40, a separate moving means for moving the nozzle refreshing member 210 for cleaning the nozzle device 78 should be provided. . Therefore, problems such as an increase in the size of the application device 40, complicated operation, and scattering of thinner during cleaning occur.

본 발명은 상술한 종래 기술의 문제점들 중 최소한 하나 이상의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 제조용 기판을 부상하여 이송하면서 그 상부에 코팅액을 도포하기 위한 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치에 관한 것이다. 좀 더 구체적으로, 본 발명은 기판이 로딩 영역, 코팅 영역, 및 언로딩 영역 전체에 걸쳐 일정한 높이로 이송되도록 로딩 영역부, 코팅 영역부, 및 언로딩 영역부 전체에 걸쳐 에어 분출구의 부상력과 에어 흡입구의 흡입력 간의 밸런스가 일정하게 이루어질 수 있는 구성을 구비한 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치를 제공하기 위한 것이다.The present invention is to solve at least one or more of the problems of the prior art described above, a substrate floating unit for applying a coating liquid on the upper portion while floating and transporting the manufacturing substrate, and a substrate transfer apparatus and coating apparatus having the same It is about. More specifically, the present invention relates to the floating force of the air jets throughout the loading area, the coating area, and the unloading area so that the substrate is transported at a constant height throughout the loading area, the coating area, and the unloading area. It is to provide a substrate floating unit having a configuration in which the balance between the suction force of the air intake port can be made constant, and a substrate transfer device and a coating device having the same.

또한, 본 발명은 코팅 영역 및 언로딩 영역 상에서 에어 분출구의 부상력과 에어 흡입구의 흡입력 간의 밸런스가 이루어지도록 에어를 일정하게 공급함으로써 기판 상에 도포된 코팅액이 일정한 온도로 건조되도록 하여 얼룩 발생을 방지할 수 있는 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치를 제공하기 위한 것이다. In addition, the present invention by uniformly supplying air to achieve a balance between the floating force of the air jet port and the suction force of the air inlet port on the coating area and the unloading area to prevent the staining by coating the coating liquid applied on the substrate to a certain temperature It is to provide a substrate floating unit capable of, and a substrate transfer device and a coating device having the same.

본 발명의 제 1 특징에 따르면, 기판 부상 유닛에 있어서, 복수의 제 1 에어 분출구 및 복수의 제 1 에어 흡입구를 구비하며, 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부; 복수의 제 2 에어 분출구 및 복수의 제 2 에어 흡입구를 구비하며, 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부; 및 복수의 제 3 에어 분출구 및 복수의 제 3 에어 흡입구를 구비하며, 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부를 포함하고, 상기 로딩 영역부는 기판(G)이 진행하는 방향으로 길게 연장되며 서로 이격되어 제공되는 복수의 부상 플레이트(P)로 이루어지고, 상기 기판(G)은 일정한 부상 높이(Hf)로 유지되는 것을 특징으로 한다.According to a first aspect of the present invention, there is provided a substrate floating unit comprising: a loading region portion having a plurality of first air ejection openings and a plurality of first air intake openings, the loading region providing a loading region M1; A coating region portion having a plurality of second air ejection openings and a plurality of second air intake openings and providing a coating region M3; And an unloading region portion having a plurality of third air ejection openings and a plurality of third air intake openings, the unloading region portion providing an unloading region M5, wherein the loading region portion is elongated in a direction in which the substrate G travels. Comprising a plurality of floating plate (P) provided spaced apart from each other, the substrate (G) is characterized in that it is maintained at a constant floating height (Hf).

본 발명의 제 2 특징에 따르면, 기판 부상 유닛에 있어서, 복수의 제 1 에어 분출구를 구비하며, 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부; 복수의 제 2 에어 분출구 및 복수의 제 2 에어 흡입구를 구비하며, 인터페이스 영역(M2) 및 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부; 및 복수의 제 3 에어 분출구 및 복수의 제 3 에어 흡입구를 구비하며, 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부를 포함하고, 상기 로딩 영역부는 기판(G)이 진행하는 방향으로 길게 연장되며 서로 이격되어 제공되 는 복수의 부상 플레이트(P)로 이루어지고, 상기 인터페이스 영역(M2)에 제공되는 상기 복수의 제 2 에어 흡입구의 밀도가 상기 코팅 영역(M3)에 제공되는 상기 복수의 제 2 에어 흡입구의 밀도보다 작으며, 상기 기판(G)은 상기 로딩 영역에서는 제 1 부상 높이(Ha)를 유지하고, 상기 코팅 영역 및 상기 언로딩 영역에서는 제 2 부상 높이(Hf)를 유지하는 것을 특징으로 한다.According to a second aspect of the present invention, there is provided a substrate floating unit comprising: a loading area portion having a plurality of first air ejection openings and providing a loading area (M1); A coating area portion having a plurality of second air ejection openings and a plurality of second air intake openings and providing an interface region M2 and a coating region M3; And an unloading region portion having a plurality of third air ejection openings and a plurality of third air intake openings, the unloading region portion providing an unloading region M5, wherein the loading region portion is elongated in a direction in which the substrate G travels. The plurality of second air provided with a plurality of floating plate (P) provided spaced apart from each other, the density of the plurality of second air intake port provided to the interface area (M2) is provided to the coating area (M3) It is smaller than the density of the suction port, and the substrate G maintains a first floating height Ha in the loading area and a second floating height Hf in the coating area and the unloading area. do.

본 발명의 제 3 특징에 따르면, 기판 이송 장치에 있어서, 복수의 제 1 에어 분출구 및 복수의 제 1 에어 흡입구를 구비하며, 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부; 복수의 제 2 에어 분출구 및 복수의 제 2 에어 흡입구를 구비하며, 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부; 및 복수의 제 3 에어 분출구 및 복수의 제 3 에어 흡입구를 구비하며, 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부로 구성되는 기판 부상 유닛; 및 지지부 및 상기 지지부 상의 흡착 패드를 구비하며, 상기 흡착 패드 상에 기판(G)이 진공 흡착 방식으로 장착되는 한 쌍의 슬라이더, 및 상기 한 쌍의 슬라이더가 이동 가능하게 장착되는 한 쌍의 리니어 모션 가이드로 구성되는 기판 이송 유닛을 포함하고, 상기 로딩 영역부는 기판(G)이 진행하는 방향으로 길게 연장되며 서로 이격되어 제공되는 복수의 부상 플레이트(P)로 이루어지고, 상기 기판(G)은 상기 로딩 영역(M1), 상기 코팅 영역(M3), 및 상기 언로딩 영역(M5) 전체에 걸쳐 일정한 순부상력(net floating force)에 의해 일정한 부상 높이(Hf)를 유지하면서 이송되는 것을 특징으로 한다.According to a third aspect of the present invention, there is provided a substrate transfer apparatus, comprising: a loading region portion having a plurality of first air ejection openings and a plurality of first air intake openings, the loading region providing a loading region M1; A coating region portion having a plurality of second air ejection openings and a plurality of second air intake openings and providing a coating region M3; And a unloading area portion having a plurality of third air blowing holes and a plurality of third air inlets, the unloading area portion providing an unloading area M5; And a pair of sliders having a support portion and a suction pad on the support portion, the pair of sliders on which the substrate G is mounted in a vacuum suction manner, and a pair of linear motions on which the pair of sliders are movably mounted. And a substrate transfer unit configured as a guide, wherein the loading area is formed of a plurality of floating plates P which are elongated in the direction in which the substrate G travels and are spaced apart from each other. It is characterized in that it is conveyed while maintaining a constant floating height (Hf) by a constant net floating force throughout the loading area (M1), the coating area (M3), and the unloading area (M5). .

본 발명의 제 4 특징에 따르면, 기판 이송 장치에 있어서, 복수의 제 1 에어 분출구를 구비하며, 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부; 복수의 제 2 에어 분 출구 및 복수의 제 2 에어 흡입구를 구비하며, 인터페이스 영역(M2) 및 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부; 및 복수의 제 3 에어 분출구 및 복수의 제 3 에어 흡입구를 구비하며, 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부로 구성되는 기판 부상 유닛; 및 지지부 및 상기 지지부 상의 흡착 패드를 구비하며, 상기 흡착 패드 상에 기판(G)이 진공 흡착 방식으로 장착되는 한 쌍의 슬라이더, 및 상기 한 쌍의 슬라이더가 이동 가능하게 장착되는 한 쌍의 리니어 모션 가이드로 구성되는 기판 이송 유닛을 포함하고, 상기 로딩 영역부는 기판(G)이 진행하는 방향으로 길게 연장되며 서로 이격되어 제공되는 복수의 부상 플레이트(P)로 이루어지고, 상기 인터페이스 영역(M2)에 제공되는 상기 복수의 제 2 에어 흡입구의 밀도가 상기 코팅 영역(M3)에 제공되는 상기 복수의 제 2 에어 흡입구의 밀도보다 작으며, 상기 기판(G)은 상기 로딩 영역에서는 제 1 부상 높이(Ha)를 유지하고, 상기 코팅 영역 및 상기 언로딩 영역에서는 제 2 부상 높이(Hf)를 유지하는 것을 특징으로 한다.According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a substrate transfer apparatus, comprising: a loading region portion having a plurality of first air ejection openings and providing a loading region M1; A coating area portion having a plurality of second air minute outlets and a plurality of second air inlets, the interface area providing an interface area M2 and a coating area M3; And a unloading area portion having a plurality of third air blowing holes and a plurality of third air inlets, the unloading area portion providing an unloading area M5; And a pair of sliders having a support portion and a suction pad on the support portion, the pair of sliders on which the substrate G is mounted in a vacuum suction manner, and a pair of linear motions on which the pair of sliders are movably mounted. It includes a substrate transfer unit consisting of a guide, wherein the loading area portion is formed of a plurality of floating plate (P) which is provided to be spaced apart from each other extending in the direction in which the substrate (G) proceeds, the interface area (M2) The density of the plurality of second air inlets provided is less than the density of the plurality of second air inlets provided in the coating area M3, and the substrate G has a first floating height Ha in the loading area. ) And a second floating height Hf in the coating area and the unloading area.

본 발명의 제 5 특징에 따르면, 코팅 장치에 있어서, 복수의 제 1 에어 분출구 및 복수의 제 1 에어 흡입구를 구비하며, 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부; 복수의 제 2 에어 분출구 및 복수의 제 2 에어 흡입구를 구비하며, 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부; 및 복수의 제 3 에어 분출구 및 복수의 제 3 에어 흡입구를 구비하며, 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부로 구성되는 기판 부상 유닛; 기판(G)을 진공 흡착 방식으로 장착으로 장착하여 이송하는 기판 이송 유닛; 상기 코팅 영역부 상에 제공되며, 상기 기판(G) 상에 코팅액을 도포하는 노즐 장치; 및 상기 노즐 장치가 장착되는 갠트리를 포함하고, 상기 로딩 영역부는 상기 기판(G)이 진행하는 방향으로 길게 연장되며 서로 이격되어 제공되는 복수의 부상 플레이트(P)로 이루어지고, 상기 기판(G)은 상기 로딩 영역(M1), 상기 코팅 영역(M3), 및 상기 언로딩 영역(M5) 전체에 걸쳐 일정한 순부상력(net floating force)에 의해 일정한 부상 높이(Hf)를 유지하면서 이송되는 것을 특징으로 한다.According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a coating apparatus, comprising: a loading region portion having a plurality of first air ejection openings and a plurality of first air intake openings, the loading region providing a loading region M1; A coating region portion having a plurality of second air ejection openings and a plurality of second air intake openings and providing a coating region M3; And a unloading area portion having a plurality of third air blowing holes and a plurality of third air inlets, the unloading area portion providing an unloading area M5; A substrate transfer unit which mounts and transfers the substrate G by mounting in a vacuum suction method; A nozzle device provided on the coating area and configured to apply a coating liquid onto the substrate (G); And a gantry on which the nozzle device is mounted, wherein the loading area is formed of a plurality of floating plates P which are elongated in the direction in which the substrate G travels and are spaced apart from each other. Is transported while maintaining a constant floating height Hf by a constant net floating force throughout the loading region M1, the coating region M3, and the unloading region M5. It is done.

본 발명의 제 6 특징에 따르면, 코팅 장치에 있어서, 복수의 제 1 에어 분출구 및 복수의 제 1 에어 흡입구를 구비하며, 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부; 복수의 제 2 에어 분출구 및 복수의 제 2 에어 흡입구를 구비하며, 인터페이스 영역(M2) 및 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부; 및 복수의 제 3 에어 분출구 및 복수의 제 3 에어 흡입구를 구비하며, 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부로 구성되는 기판 부상 유닛; 기판(G)을 진공 흡착 방식으로 장착으로 장착하여 이송하는 기판 이송 유닛; 상기 코팅 영역부 상에 제공되며, 상기 기판(G) 상에 코팅액을 도포하는 노즐 장치; 및 상기 노즐 장치가 장착되는 갠트리를 포함하고, 상기 로딩 영역부는 상기 기판(G)이 진행하는 방향으로 길게 연장되며 서로 이격되어 제공되는 복수의 부상 플레이트(P)로 이루어지고, 상기 인터페이스 영역(M2)에 제공되는 상기 복수의 제 2 에어 흡입구의 밀도가 상기 코팅 영역(M3)에 제공되는 상기 복수의 제 2 에어 흡입구의 밀도보다 작으며, 상기 기판(G)은 상기 로딩 영역에서는 제 1 부상 높이(Ha)를 유지하고, 상기 코팅 영역 및 상기 언로딩 영역에서는 제 2 부상 높이(Hf)를 유지하는 것을 특징으로 한다. According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a coating apparatus, comprising: a loading region portion having a plurality of first air ejection openings and a plurality of first air intake openings, the loading region providing a loading region M1; A coating area portion having a plurality of second air ejection openings and a plurality of second air intake openings and providing an interface region M2 and a coating region M3; And a unloading area portion having a plurality of third air blowing holes and a plurality of third air inlets, the unloading area portion providing an unloading area M5; A substrate transfer unit which mounts and transfers the substrate G by mounting in a vacuum suction method; A nozzle device provided on the coating area and configured to apply a coating liquid onto the substrate (G); And a gantry on which the nozzle device is mounted, wherein the loading region is formed of a plurality of floating plates P which are elongated in the direction in which the substrate G travels and are spaced apart from each other, and the interface region M2. The density of the plurality of second air intake ports provided at) is smaller than the density of the plurality of second air intake ports provided at the coating region M3, and the substrate G has a first floating height at the loading region. Maintains (Ha), and maintains the second floating height (Hf) in the coating area and the unloading area.

본 발명의 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치에 서는 다음과 같은 장점이 달성된다.The following advantages are achieved in the substrate floating unit of the present invention, and a substrate transfer device and a coating device having the same.

1. 로딩 영역, 코팅 영역, 및 언로딩 영역 전체 또는 코팅 영역, 및 언로딩 영역에서 부상력 및 흡입력의 밸런스가 이루어지므로 코팅액이 기판(G) 상에 도포된 후 기판(G) 전체에 걸쳐 온도 편차 발생이 최소화되므로 코팅액이 건조되면서 두께 차이(즉, 얼룩)의 발생이 최소화된다. 따라서, 기판(G)의 불량 발생이 현저하게 저하되므로 고가의 기판 제조 비용 및 제조 시간이 상당히 감소된다.1. Balance of flotation force and suction force in the loading area, the coating area, and the entire unloading area or the coating area, and the unloading area, so that the coating liquid is applied onto the substrate G and then the temperature across the substrate G. Since the occurrence of deviation is minimized, the thickness of the coating liquid is dried to minimize the occurrence of the difference in thickness (ie, stain). Therefore, the occurrence of defects in the substrate G is remarkably lowered, thereby reducing the expensive substrate manufacturing cost and manufacturing time.

2. 로딩 영역, 코팅 영역, 및 언로딩 영역 전체 또는 코팅 영역, 및 언로딩 영역에서의 기판(G)의 부상 높이가 일정하게 유지되므로 기판(G)에 스트레스(응력: stress)가 가해지지 않거나 최소화된다. 따라서, 기판(G)의 변형 또는 파손 등이 발생 가능성 및 최종 제품의 불량률이 현저하게 줄어든다.2. The floating height of the substrate G in the loading area, the coating area, and the entire unloading area or the coating area, and the unloading area is kept constant so that stress (stress) is not applied to the substrate G. Is minimized. Therefore, the possibility of deformation or breakage of the substrate G, or the like, and the defective rate of the final product are significantly reduced.

3. 기판(G)의 이동시 부상 높이의 차이에 따른 진동(fluctuation) 발생 가능성이 없거나 상당히 감소되어 코팅액의 정밀 도포가 가능하다.3. When the substrate G is moved, there is no possibility of occurrence of fluctuation due to the difference in the height of the float or it is considerably reduced, so that the precise coating of the coating liquid is possible.

4. 노즐 리프레시 부재가 기판 부상 유닛의 하부에 제공되는 경우 노즐 리프레시 부재를 이동시키기 위한 별도의 이동 수단 등이 불필요하게 되어 도포 장치의 사이즈가 감소되고, 동작의 단순화되며, 및 세정시 시너(thinner)의 비산이 방지된다.4. When the nozzle refreshing member is provided under the substrate floating unit, a separate moving means or the like for moving the nozzle refreshing member is unnecessary, so that the size of the coating device is reduced, operation is simplified, and thinner during cleaning. ) Is prevented from scattering.

본 발명의 추가적인 장점은 동일 또는 유사한 참조번호가 동일한 구성요소를 표시하는 첨부 도면을 참조하여 이하의 설명으로부터 명백히 이해될 수 있다. Further advantages of the present invention can be clearly understood from the following description with reference to the accompanying drawings, in which like or similar reference numerals denote like elements.

이하에서 본 발명의 실시예 및 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments and drawings.

도 2a는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치의 평면도이고, 도 2b는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치를 개략적으로 도시한 정면도이며, 도 2c는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치의 좌측면도이고, 도 2d는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치의 우측면도면이며, 도 2e는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판 부상 유닛의 개략적인 평면도와 에어 분출구의 부상력과 에어 흡입구의 흡입력 간의 일정한 밸런스를 개략적으로 도시한 정면도이고, 도 2f는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판 부상 유닛의 에어 분출구 및 에어 흡입구의 배치 및 에어 공급 유닛 및 진공 펌핑 유닛을 개략적으로 도시한 평면도이다.Figure 2a is a plan view of a substrate floating unit, a substrate transfer apparatus and a coating apparatus having the same according to an embodiment of the present invention, Figure 2b is a substrate floating unit, and a substrate transfer having the same according to an embodiment of the present invention 2C is a left side view of a substrate floating unit and a substrate transfer device and a coating apparatus having the same according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2D is an embodiment of the present invention. FIG. 2E is a schematic plan view of a substrate floating unit according to a first embodiment of the present invention, and a floating force and an air suction port of an air jet port according to a first embodiment of the present invention. Is a front view schematically showing a constant balance between the suction forces of FIG. 2F shows the arrangement of the air jet port and the air suction port of the substrate floating unit according to the first embodiment of the present invention; It is a schematic plan view illustrating the air supply unit and the vacuum pumping unit.

기판 부상 유닛의 제 1 실시예First embodiment of the substrate floating unit

도 2a 내지 도 2f를 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판 부상 유닛(276)은 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부(276a), 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부(276b), 및 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부(276c)로 구성된다. 로딩 영역부(276a)는 기판(G)이 진행하는 방향으로 길게 연장되며 서로 이격되어 제공되는 복수의 부상 플레이트(P)로 이루어진다. 도 2e의 실시예에서는 코팅 영역부(276b)는 하나의 장방형 플레이트로 이루어지고, 언로딩 영역부(276c)는 하나의 정방형 플레이트로 이루어지는 것으로 예시적으로 도시되어 있지만 본 발명 의 범위가 이에 제한되는 것은 아니다. 코팅 영역부(276b), 및 언로딩 영역부(276c)와는 달리 로딩 영역부(276a)가 서로 이격되어 제공되는 복수의 부상 플레이트(P)로 이루어지므로, 이격 공간(S)이 존재한다. 이러한 이격 공간(S) 내에는 코팅 장치(240)의 구성요소인 복수의 기판 센터링 유닛(centering unit: 260)의 일부와 복수의 갭 센서(gap sensor: 262)(후술하는 도 2i 참조)가 위치될 수 있다.2A to 2F, the substrate floating unit 276 according to the first embodiment of the present invention includes a loading area portion 276a providing a loading area M1 and a coating area providing a coating area M3. Section 276b, and an unloading region portion 276c providing an unloading region M5. The loading region 276a extends in the direction in which the substrate G travels and includes a plurality of floating plates P spaced apart from each other. In the embodiment of FIG. 2E, the coating area 276b is made of one rectangular plate and the unloading area 276c is made of one square plate, but the scope of the present invention is limited thereto. It is not. Unlike the coating area 276b and the unloading area 276c, the loading area 276a is composed of a plurality of floating plates P provided spaced apart from each other, so that there is a space S. In this separation space S, a part of the plurality of substrate centering units 260, which are components of the coating apparatus 240, and a plurality of gap sensors 262 (see FIG. 2I to be described later) are located. Can be.

한편, 도 2 f를 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판 부상 유닛(276)에서는 로딩 영역부(276a)가 복수의 제 1 에어 분출구(288a) 및 복수의 제 1 에어 흡입구(290a)를 구비하고, 코팅 영역부(276b)가 복수의 제 2 에어 분출구(288b) 및 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)를 구비하며, 언로딩 영역부(276c)가 복수의 제 3 에어 분출구(288c) 및 복수의 제 3 에어 흡입구(290c)르 구비한다(도 2f 참조). 복수의 제 1 에어 분출구(288a)는 제 1 에어 공급 레귤레이터(regulator: 250a)를 통해 에어 공급 유닛(250)과 연결되고, 복수의 제 2 에어 분출구(288b)는 제 2 에어 공급 레귤레이터(250b)를 통해 에어 공급 유닛(250)과 연결되며, 복수의 제 3 에어 분출구(288c)는 제 3 에어 공급 레귤레이터(250c)를 통해 에어 공급 유닛(250)과 연결된다. 또한, 복수의 제 1 에어 흡입구(290a)는 제 1 진공 레귤레이터(254a)를 통해 진공 펌핑 유닛(254)과 연결되고, 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)는 제 2 진공 레귤레이터(254b)를 통해 진공 펌핑 유닛(254)과 연결되며, 복수의 제 3 에어 흡입구(290c)는 제 3 진공 레귤레이터(254c)를 통해 진공 펌핑 유닛(254)과 연결된다. 여기서, 제 1 내지 제 3 에어 공급 레귤레이터(250a,250b,250c)는 각각 에어 공급 유닛(250)에서 복수의 제 1 내지 제 3 에어 분출구(288a,288b,288c)로 유입되는 에어의 양을 조절하여, 로딩 영역(M1), 코팅 영역(M3), 및 언로딩 영역(M5) 전체에 걸쳐 기판(G)의 하부에서 제공되는 부상력이 일정하게 제공될 수 있다(도 2e 참조). 또한, 제 1 내지 제 3 진공 레귤레이터(254a,254b,254c)는 각각 진공 펌핑 유닛(250)에서 복수의 제 1 내지 제 3 에어 흡입구(290a,290b,290c)로 흡입되는 에어의 양을 조절하여, 로딩 영역(M1), 코팅 영역(M3), 및 언로딩 영역(M5) 전체에 걸쳐 기판(G)의 하부에서 제공되는 흡입력이 일정하게 제공될 수 있다(도 2e 참조). 도 2e에 도시된 바와 같이 부상력은 상방향 실선 화살표로 표시되고, 흡입력은 하방향 점선 화살표로 표시되며, 부상력이 흡입력보다 큰 값을 갖는다. 이 경우, 순부상력(net floating force)(즉, 부상력과 흡입력의 차이값)은 기판(G)을 기판 부상 유닛(276) 상에서 대략 40 내지 50 ㎛ 범위의 일정한 부상 높이(Hf)로 유지할 수 있는 값을 갖도록 제어된다. 노즐 장치(278)와 기판(G) 간의 코팅 갭(Hc)은 대략 100 ㎛ 정도의 일정한 높이를 유지한다. 도 2e의 실시예에서는 설명의 편의상 부상 높이(Hf)가 코팅 갭(Hc)보다 더 큰 높이로 도시되어 있지만, 실제로는 부상 높이(Hf)가 코팅 갭(Hc)보다 더 낮은 높이를 갖는다는 점에 유의하여 한다.Meanwhile, referring to FIG. 2F, in the substrate floating unit 276 according to the first embodiment of the present invention, the loading area 276a includes a plurality of first air blowing holes 288a and a plurality of first air inlets 290a. ), The coating area portion 276b includes a plurality of second air blowing holes 288b and a plurality of second air intake ports 290b, and the unloading area portion 276c includes a plurality of third air blowing holes ( 288c) and a plurality of third air intake ports 290c (see FIG. 2F). The plurality of first air blowers 288a are connected to the air supply unit 250 through a first air supply regulator 250a, and the plurality of second air blowers 288b are connected to the second air supply regulator 250b. The air supply unit 250 is connected to each other, and the plurality of third air jet ports 288c are connected to the air supply unit 250 through the third air supply regulator 250c. In addition, the plurality of first air inlets 290a is connected to the vacuum pumping unit 254 through the first vacuum regulator 254a, and the plurality of second air inlets 290b are connected through the second vacuum regulator 254b. It is connected to the vacuum pumping unit 254, the plurality of third air inlet 290c is connected to the vacuum pumping unit 254 through the third vacuum regulator 254c. Here, the first to third air supply regulators 250a, 250b, and 250c respectively adjust the amount of air flowing into the plurality of first to third air ejection ports 288a, 288b, and 288c from the air supply unit 250. Thus, the floating force provided in the lower portion of the substrate G throughout the loading region M1, the coating region M3, and the unloading region M5 can be constantly provided (see FIG. 2E). In addition, the first to third vacuum regulators 254a, 254b, and 254c respectively adjust the amount of air sucked into the plurality of first to third air inlets 290a, 290b, and 290c from the vacuum pumping unit 250. The suction force provided at the bottom of the substrate G may be constantly provided throughout the loading region M1, the coating region M3, and the unloading region M5 (see FIG. 2E). As shown in FIG. 2E, the floating force is indicated by a solid upward arrow, the suction force is indicated by a downward dotted arrow, and the floating force has a value greater than the suction force. In this case, the net floating force (ie, the difference between the floating force and the suction force) maintains the substrate G at a constant floating height Hf in the range of approximately 40 to 50 μm on the substrate floating unit 276. It is controlled to have a possible value. The coating gap Hc between the nozzle device 278 and the substrate G maintains a constant height of about 100 μm. In the embodiment of FIG. 2E, the float height Hf is shown to be greater than the coating gap Hc for convenience of description, but in reality the float height Hf has a lower height than the coating gap Hc. Please note that.

또한, 도 2f의 실시예에서 코팅 영역부(276b) 상의 복수의 제 2 에어 분출구(288b) 및 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)의 단위 면적당 밀도와 언로딩 영역(M3)의 복수의 제 3 에어 분출구(288c) 및 복수의 제 3 에어 흡입구(290c)의 단위 면적당 밀도가 서로 상이한 것으로 도시되어 있지만, 당업자라면 코팅 영역(M3)의 복수의 제 2 에어 분출구(288b) 및 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)의 단위 면적 당 밀도와 언로딩 영역(M5)의 복수의 제 3 에어 분출구(288c) 및 복수의 제 3 에어 흡입구(290c)의 단위 면적당 밀도가 서로 동일하게 제공될 수 있다는 것을 충분히 이해할 수 있을 것이다. 이 경우, 제 2 및 제 3 에어 공급 레귤레이터(250b,250c) 중 어느 하나만이 복수의 제 2 및 제 3 에어 분출구(288b,288c)에 각각 연결되고, 제 2 및 제 3 진공 레귤레이터(254b,254c) 중 어느 하나만이 복수의 제 2 및 제 3 에어 흡입구(290b,290c)에 각각 연결될 수 있다는 것을 충분히 이해할 수 있을 것이다. 즉, 코팅 영역부(276b)가 하나의 장방형 플레이트로 이루어지고, 언로딩 영역부(276c)가 하나의 정방형 플레이트로 이루어지는 대신 코팅 영역부(276b)와 언로딩 영역부(276c)가 하나의 장방형 플레이트 또는 하나의 정방향 플레이트로 이루어질 수 있다.In addition, in the embodiment of FIG. 2F, the density per unit area of the plurality of second air blowing holes 288b and the plurality of second air inlets 290b on the coating area portion 276b and the plurality of third of the unloading areas M3 are shown. Although the density per unit area of the air jet port 288c and the plurality of third air inlet ports 290c are shown to be different from each other, those skilled in the art will appreciate the plurality of second air jet ports 288b and the plurality of second air in the coating area M3. It is sufficient that the density per unit area of the inlet port 290b and the density per unit area of the plurality of third air inlet ports 288c of the unloading area M5 and the plurality of third air inlet ports 290c can be provided the same. I can understand. In this case, only one of the second and third air supply regulators 250b and 250c is connected to the plurality of second and third air ejecting ports 288b and 288c, respectively, and the second and third vacuum regulators 254b and 254c. It will be fully understood that any one of) may be connected to the plurality of second and third air inlets 290b and 290c, respectively. That is, the coating area 276b consists of one rectangular plate, and the unloading area 276c consists of one square plate, and the coating area 276b and the unloading area 276c have one rectangular plate. It may consist of a plate or one forward plate.

또한, 도 2f를 참조하면, 코팅 영역(M3)에서 실제 코팅이 이루어지는 영역 C(점선 영역) 내에서는 기판(G)의 진행 방향과 수직으로 제공되는 복수의 제 2 에어 분출구(288b) 및 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)가 제공되지 않는 것이 바람직하다. 만일, 영역 C(점선 영역)가 복수의 제 2 에어 분출구(288b) 및 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)를 구비하는 경우 코팅액이 복수의 제 2 에어 분출구(288b) 및 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)가 막힐 수 있다. 이 경우, 막힌 복수의 제 2 에어 분출구(288b)는 에어의 공급에 의해 코팅액을 제거될 수 있지만, 미세 이물이 발생하는 단점이 있다. 또한, 막힌 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)는 코팅액을 제거하기 위해 진공 펌핑을 사용하면 코팅액이 복수의 제 2 에어 흡입구(290b) 내로 유입되어 기판 부상 유닛(276)의 고장을 일으킬 수 있다.In addition, referring to FIG. 2F, in the region C (dotted region) in which the actual coating is performed in the coating region M3, the plurality of second air ejection openings 288b and the plurality of second air blowing holes 288b provided perpendicularly to the advancing direction of the substrate G are provided. It is preferable that the second air inlet 290b is not provided. If the area C (dashed line area) includes the plurality of second air ejection openings 288b and the plurality of second air intake openings 290b, the coating liquid may include the plurality of second air ejection openings 288b and the plurality of second air intake openings. 290b may be blocked. In this case, although the plurality of clogged second air blowing holes 288b may be removed by the supply of air, there is a disadvantage in that fine foreign matters are generated. In addition, when the plurality of blocked second air inlets 290b uses vacuum pumping to remove the coating liquid, the coating liquid may be introduced into the plurality of second air inlets 290b and cause the substrate floating unit 276 to malfunction.

따라서, 영역 C(점선 영역) 내에서는 기판(G)의 진행 방향과 수직으로 제공되는 복수의 제 2 에어 분출구(288b) 및 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)가 제공되지 않는 경우, 영역 C(점선 영역) 내에서 기판(G)은 부상력 및 흡입력이 존재하지 않는다. 영역 C(점선 영역)의 면적은 부상력 및 흡입력이 인가되는 기판(G) 전체의 면적에 비해 매우 작으므로, 영역 C(점선 영역) 내에서 발생하는 기판(G)에 대한 스트레스(응력: stress)의 값은 실질적으로 무시할 수 있는 수준의 값에 불과하다. 반면에, 영역 C(점선 영역)에서는 부상력 및 흡입력이 존재하지 않으므로 기판(G)의 진동 등이 발생하지 않는다. 따라서, 노즐 장치(278)에 의해 기판(G) 상에 코팅액의 도포가 매우 안정하게 이루어질 수 있다. 또한, 노즐 장치(278)에 의해 기판(G) 상에 코팅액의 도포가 완료된 후 노즐 장치(278) 내에 잔류하는 코팅액이 영역 C(점선 영역) 상에 도포될 수 있다. 이 경우, 영역 C(점선 영역)가 복수의 제 2 에어 분출구(288b) 및 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)가 없으므로 클리닝이 용이하게 이루어질 수 있다.Therefore, in the region C (dotted region), when the plurality of second air ejection openings 288b and the plurality of second air intake ports 290b which are provided perpendicular to the advancing direction of the substrate G are not provided, the region C ( In the dotted line region, the substrate G does not have a floating force and a suction force. Since the area of the area C (dotted area) is very small compared to the area of the entire substrate G to which the floating force and suction force are applied, the stress on the substrate G generated in the area C (dotted area) (stress: stress: stress) ) Is just a negligible value. On the other hand, in the region C (dashed line region), no floating force and no suction force exist, so that vibration of the substrate G and the like do not occur. Therefore, application of the coating liquid onto the substrate G by the nozzle device 278 can be made very stable. In addition, the coating liquid remaining in the nozzle apparatus 278 after the application of the coating liquid on the substrate G by the nozzle apparatus 278 can be applied onto the region C (dashed line region). In this case, since the area C (dotted area) does not have the plurality of second air blowing holes 288b and the plurality of second air intake ports 290b, cleaning can be easily performed.

기판 부상 유닛의 제 2 실시예Second embodiment of the substrate floating unit

도 2g는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판 부상 유닛의 개략적인 평면도와 에어 분출구의 부상력과 에어 흡입구의 흡입력 간의 일정한 밸런스를 개략적으로 도시한 정면도이고, 도 2h는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판 부상 유닛의 에어 분출구 및 에어 흡입구의 배치 및 에어 공급 유닛 및 진공 펌핑 유닛을 개략적으로 도시한 평면도이다.FIG. 2G is a front view schematically showing a schematic plan view of a substrate floating unit according to a second embodiment of the present invention, and a constant balance between the floating force of the air ejection port and the suction force of the air inlet port, and FIG. 2H is a second embodiment of the present invention. It is a top view which shows schematically the arrangement | positioning of the air blower outlet and the air inlet of a board | substrate floating unit, and an air supply unit and a vacuum pumping unit according to an example.

도 2 g 및 도 2h를 도 2a 내지 도 2f와 함께 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판 부상 유닛(276)에서는 로딩 영역부(276a)는 복수의 제 1 에어 분출구(288a)만을 구비하고, 코팅 영역부(276b) 상에는 인터페이스 영역(M2) 및 코팅 영역(M3)이 제공된다는 점을 제외하고는 도 2e 및 도 2f에 도시된 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판 부상 유닛(276)과 실질적으로 동일하다. 따라서, 이하에서는 도 2e 및 도 2f에 도시된 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판 부상 유닛(276)과 상이한 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판 부상 유닛(276)에 대해 기술하기로 한다.Referring to FIGS. 2G and 2H together with FIGS. 2A to 2F, in the substrate floating unit 276 according to the second embodiment of the present invention, the loading area 276a may include only the plurality of first air ejecting holes 288a. And a substrate floating unit according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 2E and 2F except that an interface region M2 and a coating region M3 are provided on the coating region portion 276b. 276). Therefore, hereinafter, the substrate floating unit 276 according to the second embodiment of the present invention which is different from the substrate floating unit 276 according to the first embodiment of the present invention shown in FIGS. 2E and 2F will be described. .

다시 도 2 g 및 도 2h를 도 2a 내지 도 2f와 함께 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판 부상 유닛(276)에서는 로딩 영역부(276a)가 복수의 제 1 에어 분출구(288a)만을 구비한다. 코팅 영역부(276b)에는 인터페이스 영역(M2) 및 코팅 영역(M3)이 제공된다. 인터페이스 영역(M2) 및 코팅 영역(M3)은 복수의 제 2 에어 분출구(288b) 및 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)를 구비하되되, 인터페이스 영역(M2)에 제공되는 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)의 개수(또는 밀도)가 코팅 영역(M3)에 제공되는 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)의 개수(또는 밀도)보다 적다는 점에 유의하여야 한다. 언로딩 영역부(276c)는 복수의 제 3 에어 분출구(288c) 및 복수의 제 3 에어 흡입구(290c)를 구비한다(도 2h 참조). 복수의 제 1 에어 분출구(288a)는 제 1 에어 공급 레귤레이터(regulator: 250a)를 통해 에어 공급 유닛(250)과 연결되고, 복수의 제 2 에어 분출구(288b)는 제 2 에어 공급 레귤레이터(250b)를 통해 에어 공급 유닛(250)과 연결되며, 복수의 제 3 에어 분출구(288c)는 제 3 에어 공급 레귤레이터(250c)를 통해 에어 공급 유닛(250)과 연결된다. 또 한, 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)는 제 2 진공 레귤레이터(254b)를 통해 진공 펌핑 유닛(254)과 연결되며, 복수의 제 3 에어 흡입구(290c)는 제 3 진공 레귤레이터(254c)를 통해 진공 펌핑 유닛(254)과 연결된다. 여기서, 제 1 내지 제 3 에어 공급 레귤레이터(250a,250b,250c)는 각각 에어 공급 유닛(250)에서 복수의 제 1 내지 제 3 에어 분출구(288a,288b,288c)로 유입되는 에어의 양을 조절한다. 또한, 제 2 및 제 3 진공 레귤레이터(254b,254c)는 각각 진공 펌핑 유닛(250)에서 복수의 제 2 및 제 3 에어 흡입구(290b,290c)로 흡입되는 에어의 양을 조절한다. 그 결과, 로딩 영역부(276a)에서는 부상력만 제공되므로 기판(G)은 대략 150 내지 200㎛ 범위의 부상 높이(Ha)로 이송될 수 있다. 또한, 코팅 영역부(276b) 상의 인터페이스 영역(M2)에서는 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)의 흡입력에 의해 기판(G)의 부상 높이가 낮아진다. 그 후, 코팅 영역부(276b)의 코팅 영역(M3)에서부터 언로딩 영역(M5) 전체에 걸쳐 기판(G)의 하부에서 제공되는 부상력과 흡입력이 일정하게 제공된다(도 2g 참조). 따라서, 코팅 영역(M3)에서부터 언로딩 영역(M5)에 걸쳐 부상력과 흡입력의 차이값은 기판(G)을 기판 부상 유닛(276) 상에서 대략 40 내지 50 ㎛ 범위의 일정한 부상 높이(Hf)로 유지할 수 있는 값을 갖도록 제어된다.Referring again to FIGS. 2G and 2H together with FIGS. 2A to 2F, in the substrate floating unit 276 according to the second embodiment of the present invention, the loading region 276a includes a plurality of first air ejecting holes 288a. With only. The coating area portion 276b is provided with an interface area M2 and a coating area M3. The interface region M2 and the coating region M3 have a plurality of second air inlets 288b and a plurality of second air inlets 290b, but a plurality of second air inlets provided in the interface region M2. It should be noted that the number (or density) of 290b is less than the number (or density) of the plurality of second air inlets 290b provided in the coating area M3. The unloading area portion 276c includes a plurality of third air blowing holes 288c and a plurality of third air intake ports 290c (see FIG. 2H). The plurality of first air blowers 288a are connected to the air supply unit 250 through a first air supply regulator 250a, and the plurality of second air blowers 288b are connected to the second air supply regulator 250b. The air supply unit 250 is connected to each other, and the plurality of third air jet ports 288c are connected to the air supply unit 250 through the third air supply regulator 250c. In addition, the plurality of second air inlets 290b are connected to the vacuum pumping unit 254 through the second vacuum regulator 254b, and the plurality of third air inlets 290c connect the third vacuum regulator 254c. It is connected with the vacuum pumping unit 254 through. Here, the first to third air supply regulators 250a, 250b, and 250c respectively adjust the amount of air flowing into the plurality of first to third air ejection ports 288a, 288b, and 288c from the air supply unit 250. do. In addition, the second and third vacuum regulators 254b and 254c respectively adjust the amount of air sucked into the plurality of second and third air inlets 290b and 290c from the vacuum pumping unit 250. As a result, only the floating force is provided in the loading region 276a so that the substrate G can be transferred to the floating height Ha in the range of approximately 150 to 200 μm. In addition, in the interface region M2 on the coating region 276b, the floating height of the substrate G is lowered by the suction force of the plurality of second air inlets 290b. Thereafter, the floating force and the suction force provided at the lower portion of the substrate G are uniformly provided from the coating region M3 of the coating region portion 276b to the entire unloading region M5 (see FIG. 2G). Accordingly, the difference between the floating force and the suction force from the coating area M3 to the unloading area M5 is such that the substrate G is brought to a constant floating height Hf on the substrate floating unit 276 in the range of approximately 40-50 μm. It is controlled to have a sustainable value.

또한, 도 2h의 실시예에서 코팅 영역(M3)의 복수의 제 2 에어 분출구(288b) 및 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)의 단위 면적당 밀도와 언로딩 영역(M5)의 복수의 제 3 에어 분출구(288c) 및 복수의 제 3 에어 흡입구(290c)의 단위 면적당 밀도가 서로 상이한 것으로 도시되어 있지만, 당업자라면 코팅 영역(M3)의 복수의 제 2 에어 분출구(288b) 및 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)의 단위 면적당 밀도와 언로 딩 영역(M5)의 복수의 제 3 에어 분출구(288c) 및 복수의 제 3 에어 흡입구(290c)의 단위 면적당 밀도가 서로 동일하게 제공될 수 있다는 것을 충분히 이해할 수 있을 것이다. 이 경우, 제 2 및 제 3 에어 공급 레귤레이터(250b,250c) 중 어느 하나만이 복수의 제 2 및 제 3 에어 분출구(288b,288c)에 각각 연결되고, 제 2 및 제 3 진공 레귤레이터(254b,254c) 중 어느 하나만이 복수의 제 2 및 제 3 에어 흡입구(290b,290c)에 각각 연결될 수 있다는 것을 충분히 이해할 수 있을 것이다.In addition, in the embodiment of FIG. 2H, the density per unit area of the plurality of second air blowing holes 288b and the plurality of second air inlets 290b of the coating area M3 and the plurality of third air of the unloading area M5 are shown. Although the density per unit area of the jet 288c and the plurality of third air inlets 290c are shown to be different from each other, those skilled in the art will appreciate that the plurality of second air jets 288b and the plurality of second air inlets of the coating area M3 will be different. It can be sufficiently understood that the density per unit area of 290b and the density per unit area of the plurality of third air blowing holes 288c and the plurality of third air inlets 290c of the unloading area M5 can be provided the same. There will be. In this case, only one of the second and third air supply regulators 250b and 250c is connected to the plurality of second and third air ejecting ports 288b and 288c, respectively, and the second and third vacuum regulators 254b and 254c. It will be fully understood that any one of) may be connected to the plurality of second and third air inlets 290b and 290c, respectively.

기판 이송 장치 및 코팅 장치의 제 1 실시예First embodiment of substrate transfer apparatus and coating apparatus

도 2a를 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판 이송 장치(284)는 도 2e 및 도 2f에 도시된 본 발명의 기판 부상 유닛(276)을 포함한다. 여기서, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치(284)는 기판 부상 유닛(276)을 제외하고는 도 1a에 도시된 종래 기술에 따른 부상방식의 기판 이송 장치(84)와 실질적으로 동일하다.Referring to FIG. 2A, the substrate transfer apparatus 284 according to the first embodiment of the present invention includes the substrate floating unit 276 of the present invention shown in FIGS. 2E and 2F. Here, the substrate transfer apparatus 284 according to an embodiment of the present invention is substantially the same as the substrate transfer apparatus 84 of the conventional method shown in FIG. 1A except for the substrate floatation unit 276. .

좀 더 구체적으로, 도 2a를 도 1a, 도 2e 및 도 2f와 함께 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판 이송 장치(284)는 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부(276a), 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부(276b), 및 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부(276c)로 구성되는 기판 부상 유닛(276); 및 지지부(102) 및 상기 지지부(102) 상의 흡착 패드(104)를 구비하며(도 1a 참조), 상기 흡착 패드(104) 상에 기판(G)이 진공 흡착 방식으로 장착되는 한 쌍의 슬라이더(298), 및 상기 한 쌍의 슬라이더(298)가 이동 가능하게 장착되는 한 쌍의 리니 어 모션 가이드(296)로 구성되는 기판 이송 유닛(284a)을 포함하고, 상기 기판(G)은 상기 로딩 영역(M1), 상기 코팅 영역(M3), 및 상기 언로딩 영역(M5) 전체에 걸쳐 일정한 순부상력(net floating force)(즉, 부상력과 흡입력의 차이값)에 의해 일정한 부상 높이(Hf)를 유지하면서 이송되는 것을 특징으로 한다. 비록 도 2a의 실시예에서는 도시되어 있지 않지만, 도 1a의 종래 기술을 참조하면 지지부(102) 및 흡착 패드(104)를 구비한 한 쌍의 슬라이더(298)의 구성 및 동작은 당업자 수준에서 충분히 이해될 수 있다는 것은 자명하다.More specifically, referring to FIG. 2A in conjunction with FIGS. 1A, 2E, and 2F, the substrate transfer apparatus 284 according to the first embodiment of the present invention may include a loading area portion 276a that provides a loading area M1. ), A substrate floating unit 276 composed of a coating region portion 276b providing a coating region M3, and an unloading region portion 276c providing an unloading region M5; And a pair of sliders having a support portion 102 and an adsorption pad 104 on the support portion 102 (see FIG. 1A), on which the substrate G is mounted in a vacuum suction manner. 298, and a substrate transfer unit 284a composed of a pair of liner motion guides 296 on which the pair of sliders 298 are movably mounted, wherein the substrate G includes the loading area. Constant floating height Hf due to a constant net floating force (i.e., the difference between the floating force and the suction force) throughout M1, the coating region M3, and the unloading region M5. It is characterized in that the conveyed while maintaining. Although not shown in the embodiment of FIG. 2A, referring to the prior art of FIG. 1A, the configuration and operation of a pair of sliders 298 with support 102 and suction pads 104 are fully understood at the level of those skilled in the art. It can be obvious.

또한, 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부(276a), 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부(276b), 및 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부(276c)로 구성되는 기판 부상 유닛(276)의 구체적인 구성 및 동작도 도 2e 및 도 2f를 참조하여 상세히 기술하였으므로 그 자세한 설명은 생략한다.Also, a loading area portion 276a providing a loading region M1, a coating area portion 276b providing a coating region M3, and an unloading region portion 276c providing an unloading region M5. Since the detailed configuration and operation of the substrate floating unit 276 is described in detail with reference to FIGS. 2E and 2F, a detailed description thereof will be omitted.

한편, 도 2a 내지 도 2d를 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅 장치(240)는 도 2e 내지 도 2f에 도시된 본 발명의 기판 부상 유닛(276)을 포함한다. 여기서, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅 장치(240)는 기판 부상 유닛(276)을 제외하고는 도 1a에 도시된 종래 기술에 따른 부상방식의 코팅 장치(40)와 실질적으로 동일하다.Meanwhile, referring to FIGS. 2A to 2D, the coating apparatus 240 according to the first embodiment of the present invention includes the substrate floating unit 276 of the present invention shown in FIGS. 2E to 2F. Here, the coating apparatus 240 according to the first embodiment of the present invention is substantially the same as the coating apparatus 40 of the floating method according to the prior art shown in FIG. 1A except for the substrate floating unit 276.

도 2i는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅 장치(240)에 사용되는 복수의 기판 센터링 유닛 및 복수의 갭 센서를 개략적으로 도시한 평면도이다.2I is a plan view schematically illustrating a plurality of substrate centering units and a plurality of gap sensors used in the coating apparatus 240 according to the first embodiment of the present invention.

도 2a 내지 도 2d를 도 1a, 도 2e, 도 2f 및 도 2i와 함께 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅 장치(240)는 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역 부(276a), 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부(276b), 및 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부(276c)로 구성되는 기판 부상 유닛(276); 기판(G)을 진공 흡착 방식으로 장착으로 장착하여 이송하는 기판 이송 유닛(284a); 상기 코팅 영역부(276b) 상에 제공되며, 상기 기판(G) 상에 코팅액을 도포하는 노즐 장치(278); 및 상기 노즐 장치(278)가 장착되는 갠트리(230)를 포함한다.Referring to FIGS. 2A-2D together with FIGS. 1A, 2E, 2F and 2I, the coating apparatus 240 according to the first embodiment of the present invention is a loading region portion 276a providing a loading region M1. ), A substrate floating unit 276 composed of a coating region portion 276b providing a coating region M3, and an unloading region portion 276c providing an unloading region M5; A substrate transfer unit 284a for mounting and transferring the substrate G by mounting in a vacuum suction method; A nozzle device 278 provided on the coating region 276b and applying a coating liquid onto the substrate G; And a gantry 230 on which the nozzle device 278 is mounted.

또한, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅 장치(240)는 로딩 영역부(276a)에 제공되는 복수의 기판 센터링 유닛(centering unit: 260); 및 복수의 갭 센서(gap sensor: 262)를 추가로 포함할 수 있다. 여기서, 복수의 기판 센터링 유닛(260) 중 일부는 서로 이격되어 제공되는 복수의 부상 플레이트(P)로 이루어지는 로딩 영역부(276a)의 이격 공간(S) 내에 제공될 수 있다. 이러한 복수의 기판 센터링 유닛(260)은 기판(G)이 기판 이송 유닛(284a)의 한 쌍의 슬라이더(298) 상에 장착될 때 기판(G)의 얼라인을 제어한다. 또한, 복수의 갭 센서(262)는 한 쌍의 좌우 갭 센서(262a); 및 하나의 중앙 갭 센서(262b)로 구성되는 것이 바람직하다. 복수의 갭 센서(262) 중 한 쌍의 좌우 갭 센서(262a)는 로딩 영역부(276a)의 전방 단부 부근의 좌우측 이격 공간(S) 내에 제공되고, 중앙 갭 센서(262b)는 로딩 영역부(276a)의 전방 단부 부근의 중앙 부분의 이격 공간(S) 내에 제공된다. 좌우 갭 센서(262a)는 코팅 영역부(276b)의 좌우 수직 기준점(0점)을 미리 설정해준다. 그 결과, 노즐 장치(278)는 좌우 갭 센서(262a)에 의해 미리 설정된 좌우 수직 기준점으로부터 특정 높이(코팅 높이: Hc)에서 코팅액을 도포하도록 제어된다. 중앙 갭 센서(262b)는 선택적 사양으로 필수적으로 사용되어야 하는 것은 아니다. 노즐 장 치(278)는 장시간 사용됨에 따라 자중(self weight)에 의해 중앙 부분이 아래 방향으로 휘어질 수 있다. 중앙 갭 센서(262b)는 노즐 장치(278)의 휨량이 허용가능한 오차범위를 벗어나는지의 여부를 모니터링한다.In addition, the coating apparatus 240 according to the first embodiment of the present invention includes a plurality of substrate centering units 260 provided in the loading region 276a; And a plurality of gap sensors 262. Here, some of the plurality of substrate centering units 260 may be provided in the separation space S of the loading region 276a including the plurality of floating plates P spaced apart from each other. These plurality of substrate centering units 260 control the alignment of the substrate G when the substrate G is mounted on the pair of sliders 298 of the substrate transfer unit 284a. In addition, the plurality of gap sensors 262 may include a pair of left and right gap sensors 262a; And one central gap sensor 262b. A pair of left and right gap sensors 262a of the plurality of gap sensors 262 is provided in the left and right separation spaces S near the front end of the loading area portion 276a, and the center gap sensor 262b is provided in the loading area portion ( In a space S of the central portion near the front end of 276a. The left and right gap sensors 262a preset the left and right vertical reference points (zero points) of the coating area 276b. As a result, the nozzle device 278 is controlled to apply the coating liquid at a specific height (coating height Hc) from the left and right vertical reference points preset by the left and right gap sensors 262a. The center gap sensor 262b is not necessarily required as an optional feature. As the nozzle unit 278 is used for a long time, the center portion may be bent downward by self weight. The center gap sensor 262b monitors whether the amount of warpage of the nozzle arrangement 278 is outside the acceptable error range.

또한, 도 2b를 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅 장치(240)는 로딩 영역부(276a)의 하부에 노즐 리프레시 부재(210)를 추가로 포함한다. 따라서, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅 장치(240)에서는 노즐 장치(278)가 노즐 리프레시 부재(210) 상으로 이송되어 세정이 행해진다. 노즐 리프레시 부재(210)는 노즐 장치(278)가 코팅액을 매회 도포한 후 노즐 장치(278)를 세정하기 위한 프라이밍 장치(212), 및 예를 들어 노즐 장치(278)가 예를 들어 코팅액을 20회 도포한 후 노즐 장치(278)를 세정하기 위한 노즐 세정 부재(214)를 포함한다. 이러한 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅 장치(240)에서는, 노즐 장치(278)가 갠트리(230)에 의해 노즐 리프레시 부재(210) 상으로 이동하므로, 종래 기술과는 달리 노즐 리프레시 부재(210)를 노즐 장치(278) 하부로 이송시키기 위한 별도의 이동 수단 등이 불필요하다. 따라서, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅 장치(240)는 사이즈가 감소되고, 동작이 단순화된다는 장점이 달성된다.In addition, referring to FIG. 2B, the coating apparatus 240 according to the first embodiment of the present invention further includes a nozzle refresh member 210 under the loading region 276a. Therefore, in the coating apparatus 240 according to the first embodiment of the present invention, the nozzle apparatus 278 is transferred onto the nozzle refresh member 210 to perform cleaning. The nozzle refreshing member 210 may include a priming device 212 for cleaning the nozzle device 278 after the nozzle device 278 applies the coating liquid every time, and the nozzle device 278 may use, for example, a coating liquid. And a nozzle cleaning member 214 for cleaning the nozzle device 278 after application. In the coating apparatus 240 according to the first embodiment of the present invention, since the nozzle apparatus 278 moves on the nozzle refresh member 210 by the gantry 230, the nozzle refresh member 210 unlike the prior art. ) Is not necessary to move a separate means for transferring the nozzle unit 278 below. Thus, the coating device 240 according to the first embodiment of the present invention has the advantage that the size is reduced, the operation is simplified.

한편, 도 2j는 본 발명의 제 1 실시예의 대안적인 실시예에 따른 코팅 장치의 정면도를 개략적으로 도시한 도면이다.2J schematically shows a front view of the coating apparatus according to an alternative embodiment of the first embodiment of the present invention.

도 2j를 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예의 대안적인 실시예에 따른 코팅 장치(240)는 로딩 영역부(276a)의 상부에 노즐 리프레시 부재(210)를 추가로 포함한다. 따라서, 본 발명의 제 1 실시예의 대안적인 실시예에 따른 코팅 장치(240)에 서는 종래 기술과 마찬가지로 노즐 리프레시 부재(210)가 노즐 장치(278)의 하부로 이송되어 세정이 행해진다. 이 경우, 노즐 리프레시 부재(210)가 노즐 장치(278)의 하부로 이송되어 노즐 장치(278)의 세정이 이루어지는 동안 기판(G)이 로딩 영역부(276a) 상으로 로딩될 수 있으므로, 기판의 로딩 시간이 단축될 수 있다. 즉, 도 2j에 도시된 본 발명의 제 1 실시예의 대안적인 실시예에 따른 코팅 장치(240)에서는 코팅 장치(240)는 사이즈의 증가, 동작의 복잡화 및 시너의 비산이라는 단점이 있지만, 기판의 로딩 시간의 단축이라는 장점이 달성된다. 반면에, 도 2i에 도시된 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅 장치(240)에서는 기판의 로딩 시간이 길어지는 단점이 있지만, 코팅 장치(240)의 사이즈 감소, 동작의 단순화 및 시너 비산의 방지라는 장점이 달성된다. Referring to FIG. 2J, the coating apparatus 240 according to an alternative embodiment of the first embodiment of the present invention further includes a nozzle refresh member 210 on the loading area portion 276a. Therefore, in the coating apparatus 240 according to the alternative embodiment of the first embodiment of the present invention, the nozzle refreshing member 210 is transferred to the lower part of the nozzle apparatus 278 to be cleaned as in the prior art. In this case, since the nozzle refreshing member 210 is transferred to the lower portion of the nozzle apparatus 278 and the cleaning of the nozzle apparatus 278 is performed, the substrate G may be loaded onto the loading area portion 276a. Loading time can be shortened. That is, in the coating apparatus 240 according to the alternative embodiment of the first embodiment of the present invention shown in FIG. 2J, the coating apparatus 240 has the disadvantages of an increase in size, complexity of operation, and scattering of thinner. The advantage of shortening the loading time is achieved. On the other hand, the coating apparatus 240 according to the first embodiment of the present invention shown in Figure 2i has a disadvantage in that the loading time of the substrate is long, but the size of the coating apparatus 240, simplification of operation and thinner scattering The advantage of prevention is achieved.

기판 이송 장치 및 코팅 장치의 제 2 실시예Second Embodiment of Substrate Transfer Device and Coating Device

도 2a를 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판 이송 장치(284)는 도 2g 내지 도 2h에 도시된 본 발명의 기판 부상 유닛(276)을 포함한다. 여기서, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치(284)는 기판 부상 유닛(276)을 제외하고는 도 1a에 도시된 종래 기술에 따른 부상방식의 기판 이송 장치(84)와 실질적으로 동일하다.Referring to FIG. 2A, the substrate transfer apparatus 284 according to the second embodiment of the present invention includes the substrate floating unit 276 of the present invention shown in FIGS. 2G to 2H. Here, the substrate transfer apparatus 284 according to an embodiment of the present invention is substantially the same as the substrate transfer apparatus 84 of the conventional method shown in FIG. 1A except for the substrate floatation unit 276. .

좀 더 구체적으로, 도 2a를 도 1a, 도 2g 및 도 2h와 함께 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판 이송 장치(284)는 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부(276a), 인터페이스 영역(M2) 및 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역 부(276b), 및 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부(276c)로 구성되는 기판 부상 유닛(276); 및 지지부(102) 및 상기 지지부(102) 상의 흡착 패드(104)를 구비하며(도 1a 참조), 상기 흡착 패드(104) 상에 기판(G)이 진공 흡착 방식으로 장착되는 한 쌍의 슬라이더(298), 및 상기 한 쌍의 슬라이더(298)가 이동 가능하게 장착되는 한 쌍의 리니어 모션 가이드(296)로 구성되는 기판 이송 유닛(284a)을 포함하고, 상기 기판(G)은 상기 로딩 영역(M1)에서는 제 1 부상 높이(Ha)를 유지하고, 상기 코팅 영역(M3) 및 상기 언로딩 영역(M5)에서는 제 2 부상 높이(Hf)를 유지하면서 이송되는 것을 특징으로 한다.More specifically, referring to FIG. 2A together with FIGS. 1A, 2G, and 2H, the substrate transfer apparatus 284 according to the second embodiment of the present invention may include a loading region portion 276a that provides a loading region M1. A substrate floating unit 276 consisting of a coating area portion 276b providing an interface region M2 and a coating area M3, and an unloading region portion 276c providing an unloading region M5; And a pair of sliders having a support portion 102 and an adsorption pad 104 on the support portion 102 (see FIG. 1A), on which the substrate G is mounted in a vacuum suction manner. 298, and a substrate transfer unit 284a composed of a pair of linear motion guides 296 to which the pair of sliders 298 are movably mounted, wherein the substrate G includes the loading area ( The first floating height Ha is maintained at M1 and the second floating height Hf is maintained at the coating area M3 and the unloading area M5.

또한, 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부(276a), 인터페이스 영역(M2) 및 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부(276b), 및 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부(276c)로 구성되는 기판 부상 유닛(276)의 구체적인 구성 및 동작도 도 2g 및 도 2h를 참조하여 상세히 기술하였으므로 그 자세한 설명은 생략한다.Further, a loading area portion 276a providing a loading area M1, a coating area portion 276b providing an interface area M2 and a coating area M3, and an unloading providing an unloading area M5. Since the detailed configuration and operation of the substrate floating unit 276 composed of the area portion 276c have been described in detail with reference to FIGS. 2G and 2H, the detailed description thereof will be omitted.

한편, 도 2a 내지 도 2d를 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 코팅 장치(240)는 도 2g 내지 도 2h에 도시된 본 발명의 기판 부상 유닛(276)을 포함한다. 여기서, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 코팅 장치(240)는 기판 부상 유닛(276)을 제외하고는 도 1a에 도시된 종래 기술에 따른 부상방식의 코팅 장치(40)와 실질적으로 동일하다.Meanwhile, referring to FIGS. 2A to 2D, the coating apparatus 240 according to the second embodiment of the present invention includes the substrate floating unit 276 of the present invention shown in FIGS. 2G to 2H. Here, the coating apparatus 240 according to the second embodiment of the present invention is substantially the same as the coating apparatus 40 of the floating method according to the prior art shown in FIG. 1A except for the substrate floating unit 276.

도 2a 내지 도 2d를 도 1a, 도 2g, 도 2h 및 도 2i와 함께 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 코팅 장치(240)는 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부(276a), 인터페이스 영역(M2) 및 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부(276b), 및 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부(276c)로 구성되는 기판 부상 유닛(276); 기판(G)을 진공 흡착 방식으로 장착으로 장착하여 이송하는 기판 이송 유닛(284a); 상기 코팅 영역부(276b) 상에 제공되며 기판(G) 상에 코팅액을 도포하는 노즐 장치(278); 및 상기 노즐 장치(278)가 장착되는 갠트리(230)를 포함한다.Referring to FIGS. 2A-2D together with FIGS. 1A, 2G, 2H and 2I, the coating apparatus 240 according to the second embodiment of the present invention has a loading region portion 276a providing a loading region M1. A substrate floating unit 276 consisting of a coating area portion 276b providing an interface area M2 and a coating area M3, and an unloading area portion 276c providing an unloading area M5; A substrate transfer unit 284a for mounting and transferring the substrate G by mounting in a vacuum suction method; A nozzle device 278 provided on the coating area portion 276b and applying a coating liquid on a substrate G; And a gantry 230 on which the nozzle device 278 is mounted.

또한, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 코팅 장치(240)는 로딩 영역부(276a)에 제공되는 복수의 기판 센터링 유닛(260); 및 복수의 갭 센서(262)를 추가로 포함할 수 있다. 여기서, 복수의 기판 센터링 유닛(260) 중 일부는 서로 이격되어 제공되는 복수의 부상 플레이트(P)로 이루어지는 로딩 영역부(276a)의 이격 공간(S) 내에 제공될 수 있다. 이러한 복수의 기판 센터링 유닛(260) 및 복수의 갭 센서(262)의 구체적인 구성 및 동작은 상술한 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅 장치(240)에서 상세히 기술하고 있으므로 생략한다.In addition, the coating apparatus 240 according to the second embodiment of the present invention includes a plurality of substrate centering units 260 provided in the loading region 276a; And a plurality of gap sensors 262. Here, some of the plurality of substrate centering units 260 may be provided in the separation space S of the loading region 276a including the plurality of floating plates P spaced apart from each other. Specific configurations and operations of the plurality of substrate centering units 260 and the plurality of gap sensors 262 are described in detail in the coating apparatus 240 according to the first embodiment of the present invention.

또한, 도 2b를 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 코팅 장치(240)는 로딩 영역부(276a)의 하부에 노즐 리프레시 부재(210)를 추가로 포함하여, 그 구체적인 구성 및 동작도 상술한 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅 장치(240)에서 상세히 기술하고 있으므로 생략한다.In addition, referring to FIG. 2B, the coating apparatus 240 according to the second embodiment of the present invention further includes a nozzle refresh member 210 under the loading area portion 276a, and thus, its specific configuration and operation diagram. Since it is described in detail in the coating apparatus 240 according to the first embodiment of the present invention described above it will be omitted.

상술한 본 발명의 제 1 및 제 2 실시예에 따른 코팅 장치(240)에서는, 로딩 영역, 코팅 영역, 및 언로딩 영역에서의 에어가 일정하게 분출된다. 따라서, 기판(G)은 코팅액이 도포된 이후 언로딩 영역에서 언로딩될 때까지 기판(G) 전체에 걸쳐 온도가 균일하게 유지되므로 코팅액이 건조되면서 두께 차이(즉, 얼룩)가 발생하지 않는다.In the coating apparatus 240 according to the first and second embodiments of the present invention described above, air in the loading area, the coating area, and the unloading area is constantly ejected. Accordingly, since the temperature of the substrate G is uniformly maintained throughout the substrate G until the unloading area is unloaded after the coating liquid is applied, the thickness of the coating liquid does not occur while the coating liquid is dried.

또한, 상술한 본 발명의 제 1 및 제 2 실시예에 따른 코팅 장치(240)에서는, 로딩 영역, 코팅 영역, 및 언로딩 영역 전체에 걸쳐 기판(G)의 부상 높이가 동일하다. 따라서, 기판(G)의 이동시 부상 높이의 차이가 없으므로 기판(G)에 스트레스가 가해지지 않으므로 기판(G)의 변형 또는 파손 발생 가능성이 현저하게 감소되고, 또한 진동 발생 가능성이 현저하게 낮아져서 코팅액의 정밀 도포가 가능해진다.In addition, in the coating apparatus 240 according to the first and second embodiments of the present invention described above, the floating height of the substrate G is the same throughout the loading area, the coating area, and the unloading area. Therefore, since there is no difference in the height of the float during the movement of the substrate G, the stress is not applied to the substrate G, and thus the possibility of deformation or breakage of the substrate G is significantly reduced, and the possibility of vibration is significantly lowered. Precision coating becomes possible.

또한, 상술한 본 발명의 제 1 및 제 2 실시예에 따른 코팅 장치(240)에서는, 코팅 장치(240)의 사이즈 감소, 동작의 단순화 및 시너 비산의 방지라는 장점이 달성된다.In addition, in the coating apparatus 240 according to the first and second embodiments of the present invention described above, advantages of reducing the size of the coating apparatus 240, simplifying operation, and preventing thinner scattering are achieved.

다양한 변형예가 본 발명의 범위를 벗어남이 없이 본 명세서에 기술되고 예시된 구성 및 방법으로 만들어질 수 있으므로, 상기 상세한 설명에 포함되거나 첨부 도면에 도시된 모든 사항은 예시적인 것으로 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다. 따라서, 본 발명의 범위는 상술한 예시적인 실시예에 의해 제한되지 않으며, 이하의 청구범위 및 그 균등물에 따라서만 정해져야 한다.Various modifications may be made by those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the following claims. It is not. Accordingly, the scope of the present invention should not be limited by the above-described exemplary embodiments, but should be determined only in accordance with the following claims and their equivalents.

도 1a는 종래 기술에 따른 부상방식의 기판 이송 장치 및 이를 구비한 도포 장치의 사시도를 개략적으로 도시한 도면이다.Figure 1a is a schematic view showing a perspective view of a substrate transfer apparatus of the floating method and a coating apparatus having the same according to the prior art.

도 1b는 도 1a에 도시된 종래 기술에 따른 부상방식의 기판 이송 장치 및 이를 구비한 도포 장치의 정면도를 개략적으로 도시한 도면이다.FIG. 1B schematically illustrates a front view of a substrate transfer apparatus of a floating method according to the related art shown in FIG. 1A and a coating apparatus having the same.

도 1c는 종래 기술의 부상방식의 기판 이송 장치의 로딩 영역, 코팅 영역, 및 언로딩 영역에서의 에어 분출구 및 에어 흡입구의 배열 패턴의 일부를 도시한 도면이다.FIG. 1C is a view showing a part of an arrangement pattern of air ejection openings and air intake openings in a loading region, a coating region, and an unloading region of a conventional substrate transfer apparatus.

도 2a는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치의 평면도이다.2A is a plan view of a substrate floating unit, and a substrate transfer apparatus and a coating apparatus including the same according to an embodiment of the present invention.

도 2b는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치를 개략적으로 도시한 정면도이다.FIG. 2B is a schematic front view of a substrate floating unit, and a substrate transfer apparatus and a coating apparatus including the same, according to an embodiment of the present invention.

도 2c는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치의 좌측면도이다.2C is a left side view of the substrate floating unit, and the substrate transfer apparatus and the coating apparatus including the same according to an embodiment of the present invention.

도 2d는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치의 우측면도면이다.Figure 2d is a right side view of the substrate floating unit, and the substrate transfer apparatus and coating apparatus having the same according to an embodiment of the present invention.

도 2e는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판 부상 유닛의 개략적인 평면도와 에어 분출구의 부상력과 에어 흡입구의 흡입력 간의 일정한 밸런스를 개략적으로 도시한 정면도이다.FIG. 2E is a front view schematically showing a schematic plan view of a substrate floating unit according to the first embodiment of the present invention, and a constant balance between the floating force of the air jet and the suction force of the air inlet;

도 2f는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판 부상 유닛의 에어 분출구 및 에 어 흡입구의 배치 및 에어 공급 유닛 및 진공 펌핑 유닛을 개략적으로 도시한 평면도이다.FIG. 2F is a plan view schematically illustrating the arrangement of the air jet port and the air inlet port of the substrate floating unit and the air supply unit and the vacuum pumping unit according to the first embodiment of the present invention.

도 2g는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판 부상 유닛의 개략적인 평면도와 에어 분출구의 부상력과 에어 흡입구의 흡입력 간의 일정한 밸런스를 개략적으로 도시한 정면도이다.FIG. 2G is a front view schematically showing a schematic plan view of a substrate floating unit according to a second embodiment of the present invention, and a constant balance between the floating force of the air jet and the suction force of the air inlet; FIG.

도 2h는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판 부상 유닛의 에어 분출구 및 에어 흡입구의 배치 및 에어 공급 유닛 및 진공 펌핑 유닛을 개략적으로 도시한 평면도이다.FIG. 2H is a plan view schematically showing the arrangement of the air jet port and the air inlet port of the substrate floating unit and the air supply unit and the vacuum pumping unit according to the second embodiment of the present invention.

도 2i는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅 장치(240)에 사용되는 복수의 기판 센터링 유닛 및 복수의 갭 센서를 개략적으로 도시한 평면도이다.2I is a plan view schematically illustrating a plurality of substrate centering units and a plurality of gap sensors used in the coating apparatus 240 according to the first embodiment of the present invention.

도 2j는 본 발명의 제 1 실시예의 대안적인 실시예에 따른 코팅 장치의 정면도를 개략적으로 도시한 도면이다. FIG. 2J schematically illustrates a front view of a coating apparatus according to an alternative embodiment of the first embodiment of the present invention. FIG.

Claims (28)

기판 부상 유닛에 있어서,In the substrate floating unit, 복수의 제 1 에어 분출구 및 복수의 제 1 에어 흡입구를 구비하며, 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부;A loading region portion having a plurality of first air ejection openings and a plurality of first air intake openings and providing a loading region M1; 복수의 제 2 에어 분출구 및 복수의 제 2 에어 흡입구를 구비하며, 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부; 및A coating region portion having a plurality of second air ejection openings and a plurality of second air intake openings and providing a coating region M3; And 복수의 제 3 에어 분출구 및 복수의 제 3 에어 흡입구를 구비하며, 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부An unloading area portion having a plurality of third air blowing holes and a plurality of third air intake ports and providing an unloading area M5. 를 포함하고,Including, 상기 로딩 영역부는 기판(G)이 진행하는 방향으로 길게 연장되며 서로 이격되어 제공되는 복수의 부상 플레이트(P)로 이루어지고,The loading area portion is formed of a plurality of floating plate (P) which is extended in the direction in which the substrate (G) proceeds and spaced apart from each other, 상기 기판(G)은 일정한 부상 높이(Hf)로 유지되는The substrate G is maintained at a constant floating height Hf 기판 부상 유닛.Substrate floating unit. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 일정한 부상 높이(Hf)는 상기 기판 부상 유닛 상에서 40 내지 50 ㎛ 범위를 갖는 기판 부상 유닛.And said constant float height (Hf) is in the range of 40-50 μm on said substrate float unit. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 코팅 영역(M3) 중 실제 코팅이 이루어지는 영역(C)에서는 상기 복수의 제 2 에어 분출구 및 상기 복수의 제 2 에어 흡입구가 제공되는 않는 기판 부상 유닛.Substrate flotation unit, in which the plurality of second air blowing holes and the plurality of second air intake ports are not provided in the area (C) where the actual coating is applied in the coating area (M3). 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 3, 상기 복수의 제 1 내지 제 3 에어 분출구는 제 1 내지 제 3 에어 공급 레귤레이터(regulator)에 의해 에어 공급 유닛에 연결되고,The plurality of first to third air blower outlets are connected to the air supply unit by first to third air supply regulators, 상기 복수의 제 1 내지 제 3 에어 흡입구는 제 1 내지 제 3 진공 레귤레이터에 의해 진공 펌핑 유닛과 연결되며,The plurality of first to third air inlets are connected to the vacuum pumping unit by first to third vacuum regulators, 상기 제 1 내지 제 3 에어 공급 레귤레이터는 상기 복수의 제 1 내지 제 3 에어 분출구로 유입되는 에어의 양을 각각 조절하고,The first to third air supply regulators respectively adjust the amount of air flowing into the plurality of first to third air blowing holes, 상기 제 1 내지 제 3 진공 레귤레이터는 상기 복수의 제 1 내지 제 3 에어 흡입구로 흡입되는 에어의 양을 각각 조절하는The first to third vacuum regulators respectively adjust the amount of air sucked into the plurality of first to third air inlets. 기판 부상 유닛.Substrate floating unit. 제 4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 코팅 영역(M3)의 상기 복수의 제 2 에어 분출구 및 상기 복수의 제 2 에어 흡입구의 단위 면적당 밀도와 상기 언로딩 영역(M5)의 상기 복수의 제 3 에어 분출구 및 상기 복수의 제 3 에어 흡입구의 단위 면적당 밀도가 서로 동일한 경우, 상기 제 2 및 제 3 에어 공급 레귤레이터 중 어느 하나만이 상기 복수의 제 2 및 제 3 에어 분출구에 각각 연결되고, 상기 제 2 및 제 3 진공 레귤레이터 중 어느 하나만이 상기 복수의 제 2 및 제 3 에어 흡입구에 각각 연결되는 기판 부상 유닛.Density per unit area of the plurality of second air inlets and the plurality of second air inlets of the coating region M3 and the plurality of third air outlets of the unloading region M5 and the plurality of third air inlets When the density per unit area of is equal to each other, only one of the second and third air supply regulators are connected to the plurality of second and third air outlets, respectively, and only one of the second and third vacuum regulators is And a substrate floating unit respectively connected to the plurality of second and third air inlets. 기판 부상 유닛에 있어서,In the substrate floating unit, 복수의 제 1 에어 분출구를 구비하며, 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부; A loading area unit having a plurality of first air blowing holes and providing a loading area M1; 복수의 제 2 에어 분출구 및 복수의 제 2 에어 흡입구를 구비하며, 인터페이스 영역(M2) 및 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부; 및A coating area portion having a plurality of second air ejection openings and a plurality of second air intake openings and providing an interface region M2 and a coating region M3; And 복수의 제 3 에어 분출구 및 복수의 제 3 에어 흡입구를 구비하며, 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부An unloading area portion having a plurality of third air blowing holes and a plurality of third air intake ports and providing an unloading area M5. 를 포함하고,Including, 상기 로딩 영역부는 기판(G)이 진행하는 방향으로 길게 연장되며 서로 이격되어 제공되는 복수의 부상 플레이트(P)로 이루어지고,The loading area portion is formed of a plurality of floating plate (P) which is extended in the direction in which the substrate (G) proceeds and spaced apart from each other, 상기 인터페이스 영역(M2)에 제공되는 상기 복수의 제 2 에어 흡입구의 밀도가 상기 코팅 영역(M3)에 제공되는 상기 복수의 제 2 에어 흡입구의 밀도보다 작으며,The density of the plurality of second air inlets provided in the interface region M2 is less than the density of the plurality of second air inlets provided in the coating region M3, 상기 기판(G)은 상기 로딩 영역에서는 제 1 부상 높이(Ha)를 유지하고, 상기 코팅 영역 및 상기 언로딩 영역에서는 제 2 부상 높이(Hf)를 유지하는The substrate G maintains a first floating height Ha in the loading area and maintains a second floating height Hf in the coating area and the unloading area. 기판 부상 유닛.Substrate floating unit. 제 6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 제 1 부상 높이(Ha)는 상기 기판 부상 유닛 상에서 150 내지 200㎛ 범위를 갖고,The first floating height Ha has a range of 150 to 200 μm on the substrate floating unit, 상기 제 2 부상 높이(Hf)는 상기 기판 부상 유닛 상에서 40 내지 50 ㎛ 범위를 갖는The second floating height Hf has a range from 40 to 50 μm on the substrate floating unit. 기판 부상 유닛.Substrate floating unit. 제 6항 또는 제 7항에 있어서,The method according to claim 6 or 7, 상기 복수의 제 1 내지 제 3 에어 분출구는 제 1 내지 제 3 에어 공급 레귤레이터(regulator)에 의해 에어 공급 유닛에 연결되고,The plurality of first to third air blower outlets are connected to the air supply unit by first to third air supply regulators, 상기 복수의 제 2 및 제 3 에어 흡입구는 제 2 및 제 3 진공 레귤레이터에 의해 진공 펌핑 유닛과 연결되며,The plurality of second and third air inlets are connected to the vacuum pumping unit by second and third vacuum regulators, 상기 제 1 내지 제 3 에어 공급 레귤레이터는 상기 복수의 제 1 내지 제 3 에어 분출구로 유입되는 에어의 양을 각각 조절하고,The first to third air supply regulators respectively adjust the amount of air flowing into the plurality of first to third air blowing holes, 상기 제 2 및 제 3 진공 레귤레이터는 상기 복수의 제 2 및 제 3 에어 흡입구로 흡입되는 에어의 양을 각각 조절하는The second and third vacuum regulators respectively adjust the amount of air sucked into the plurality of second and third air inlets. 기판 부상 유닛.Substrate floating unit. 제 8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 코팅 영역(M3)의 상기 복수의 제 2 에어 분출구 및 상기 복수의 제 2 에어 흡입구의 단위 면적당 밀도와 상기 언로딩 영역(M5)의 상기 복수의 제 3 에어 분출구 및 상기 복수의 제 3 에어 흡입구의 단위 면적당 밀도가 서로 동일한 경우, 상기 제 2 및 제 3 에어 공급 레귤레이터 중 어느 하나만이 상기 복수의 제 2 및 제 3 에어 분출구에 각각 연결되고, 상기 제 2 및 제 3 진공 레귤레이터 중 어느 하나만이 상기 복수의 제 2 및 제 3 에어 흡입구에 각각 연결되는 기판 부상 유닛.Density per unit area of the plurality of second air inlets and the plurality of second air inlets of the coating region M3 and the plurality of third air outlets of the unloading region M5 and the plurality of third air inlets When the density per unit area of is equal to each other, only one of the second and third air supply regulators are connected to the plurality of second and third air outlets, respectively, and only one of the second and third vacuum regulators is And a substrate floating unit respectively connected to the plurality of second and third air inlets. 기판 이송 장치에 있어서,In the substrate transfer apparatus, 복수의 제 1 에어 분출구 및 복수의 제 1 에어 흡입구를 구비하며, 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부; 복수의 제 2 에어 분출구 및 복수의 제 2 에어 흡입구를 구비하며, 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부; 및 복수의 제 3 에어 분출구 및 복수의 제 3 에어 흡입구를 구비하며, 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부로 구성되는 기판 부상 유닛; 및A loading region portion having a plurality of first air ejection openings and a plurality of first air intake openings and providing a loading region M1; A coating region portion having a plurality of second air ejection openings and a plurality of second air intake openings and providing a coating region M3; And a unloading area portion having a plurality of third air blowing holes and a plurality of third air inlets, the unloading area portion providing an unloading area M5; And 지지부 및 상기 지지부 상의 흡착 패드를 구비하며, 상기 흡착 패드 상에 기판(G)이 진공 흡착 방식으로 장착되는 한 쌍의 슬라이더, 및 상기 한 쌍의 슬라이더가 이동 가능하게 장착되는 한 쌍의 리니어 모션 가이드로 구성되는 기판 이송 유닛A pair of sliders having a support portion and a suction pad on the support portion, on which the substrate G is mounted in a vacuum suction manner, and a pair of linear motion guides on which the pair of sliders are movable; Substrate transfer unit composed of 을 포함하고, Including, 상기 로딩 영역부는 기판(G)이 진행하는 방향으로 길게 연장되며 서로 이격되어 제공되는 복수의 부상 플레이트(P)로 이루어지고,The loading area portion is formed of a plurality of floating plate (P) which is extended in the direction in which the substrate (G) proceeds and spaced apart from each other, 상기 기판(G)은 상기 로딩 영역(M1), 상기 코팅 영역(M3), 및 상기 언로딩 영역(M5) 전체에 걸쳐 일정한 순부상력(net floating force)에 의해 일정한 부상 높이(Hf)를 유지하면서 이송되는The substrate G maintains a constant floating height Hf by a constant net floating force over the loading region M1, the coating region M3, and the unloading region M5. Transported while 기판 이송 장치.Substrate transfer device. 제 10항에 있어서,The method of claim 10, 상기 일정한 부상 높이(Hf)는 상기 기판 부상 유닛 상에서 40 내지 50 ㎛ 범위를 갖는 기판 이송 장치.And said constant float height (Hf) is in the range of 40-50 μm on said substrate float unit. 제 10항에 있어서,The method of claim 10, 상기 코팅 영역(M3) 중 실제 코팅이 이루어지는 영역(C)에서는 상기 복수의 제 2 에어 분출구 및 상기 복수의 제 2 에어 흡입구가 제공되는 않는 기판 이송 유닛.Substrate transfer unit in which the plurality of second air blowout ports and the plurality of second air intake ports are not provided in the area (C) where the actual coating is applied in the coating area (M3). 제 10항 내지 제 12항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 10 to 12, 상기 복수의 제 1 내지 제 3 에어 분출구는 제 1 내지 제 3 에어 공급 레귤레이터(regulator)에 의해 에어 공급 유닛에 연결되고,The plurality of first to third air blower outlets are connected to the air supply unit by first to third air supply regulators, 상기 복수의 제 1 내지 제 3 에어 흡입구는 제 1 내지 제 3 진공 레귤레이터에 의해 진공 펌핑 유닛과 연결되며,The plurality of first to third air inlets are connected to the vacuum pumping unit by first to third vacuum regulators, 상기 제 1 내지 제 3 에어 공급 레귤레이터는 상기 복수의 제 1 내지 제 3 에어 분출구로 유입되는 에어의 양을 각각 조절하고,The first to third air supply regulators respectively adjust the amount of air flowing into the plurality of first to third air blowing holes, 상기 제 1 내지 제 3 진공 레귤레이터는 상기 복수의 제 1 내지 제 3 에어 흡입구로 흡입되는 에어의 양을 각각 조절하는The first to third vacuum regulators respectively adjust the amount of air sucked into the plurality of first to third air inlets. 기판 이송 장치.Substrate transfer device. 제 13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 코팅 영역(M3)의 상기 복수의 제 2 에어 분출구 및 상기 복수의 제 2 에어 흡입구의 단위 면적당 밀도와 상기 언로딩 영역(M5)의 상기 복수의 제 3 에어 분출구 및 상기 복수의 제 3 에어 흡입구의 단위 면적당 밀도가 서로 동일한 경우, 상기 제 2 및 제 3 에어 공급 레귤레이터 중 어느 하나만이 상기 복수의 제 2 및 제 3 에어 분출구에 각각 연결되고, 상기 제 2 및 제 3 진공 레귤레이터 중 어느 하나만이 상기 복수의 제 2 및 제 3 에어 흡입구에 각각 연결되는 기판 이송 장치.Density per unit area of the plurality of second air inlets and the plurality of second air inlets of the coating region M3 and the plurality of third air outlets of the unloading region M5 and the plurality of third air inlets When the density per unit area of is equal to each other, only one of the second and third air supply regulators are connected to the plurality of second and third air outlets, respectively, and only one of the second and third vacuum regulators is And a substrate transfer device connected to a plurality of second and third air inlets, respectively. 기판 이송 장치에 있어서,In the substrate transfer apparatus, 복수의 제 1 에어 분출구를 구비하며, 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부; 복수의 제 2 에어 분출구 및 복수의 제 2 에어 흡입구를 구비하며, 인터페이스 영역(M2) 및 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부; 및 복수의 제 3 에어 분출구 및 복수의 제 3 에어 흡입구를 구비하며, 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부로 구성되는 기판 부상 유닛; 및A loading area unit having a plurality of first air blowing holes and providing a loading area M1; A coating area portion having a plurality of second air ejection openings and a plurality of second air intake openings and providing an interface region M2 and a coating region M3; And a unloading area portion having a plurality of third air blowing holes and a plurality of third air inlets, the unloading area portion providing an unloading area M5; And 지지부 및 상기 지지부 상의 흡착 패드를 구비하며, 상기 흡착 패드 상에 기판(G)이 진공 흡착 방식으로 장착되는 한 쌍의 슬라이더, 및 상기 한 쌍의 슬라이 더가 이동 가능하게 장착되는 한 쌍의 리니어 모션 가이드로 구성되는 기판 이송 유닛A pair of sliders having a support portion and a suction pad on the support portion, on which the substrate G is mounted in a vacuum suction manner, and a pair of linear motions on which the pair of sliders are movably mounted; Substrate transfer unit composed of guide 을 포함하고,Including, 상기 로딩 영역부는 기판(G)이 진행하는 방향으로 길게 연장되며 서로 이격되어 제공되는 복수의 부상 플레이트(P)로 이루어지고,The loading area portion is formed of a plurality of floating plate (P) which is extended in the direction in which the substrate (G) proceeds and spaced apart from each other, 상기 인터페이스 영역(M2)에 제공되는 상기 복수의 제 2 에어 흡입구의 밀도가 상기 코팅 영역(M3)에 제공되는 상기 복수의 제 2 에어 흡입구의 밀도보다 작으며,The density of the plurality of second air inlets provided in the interface region M2 is less than the density of the plurality of second air inlets provided in the coating region M3, 상기 기판(G)은 상기 로딩 영역에서는 제 1 부상 높이(Ha)를 유지하고, 상기 코팅 영역 및 상기 언로딩 영역에서는 제 2 부상 높이(Hf)를 유지하는The substrate G maintains a first floating height Ha in the loading area and maintains a second floating height Hf in the coating area and the unloading area. 기판 이송 장치.Substrate transfer device. 제 15항에 있어서,The method of claim 15, 상기 제 1 부상 높이(Ha)는 상기 기판 부상 유닛 상에서 150 내지 200㎛ 범위를 갖고,The first floating height Ha has a range of 150 to 200 μm on the substrate floating unit, 상기 제 2 부상 높이(Hf)는 상기 기판 부상 유닛 상에서 40 내지 50 ㎛ 범위를 갖는The second floating height Hf has a range from 40 to 50 μm on the substrate floating unit. 기판 이송 장치.Substrate transfer device. 제 15항 또는 제 16항에 있어서,The method according to claim 15 or 16, 상기 복수의 제 1 내지 제 3 에어 분출구는 제 1 내지 제 3 에어 공급 레귤레이터(regulator)에 의해 에어 공급 유닛에 연결되고,The plurality of first to third air blower outlets are connected to the air supply unit by first to third air supply regulators, 상기 복수의 제 2 및 제 3 에어 흡입구는 제 2 및 제 3 진공 레귤레이터에 의해 진공 펌핑 유닛과 연결되며,The plurality of second and third air inlets are connected to the vacuum pumping unit by second and third vacuum regulators, 상기 제 1 내지 제 3 에어 공급 레귤레이터는 상기 복수의 제 1 내지 제 3 에어 분출구로 유입되는 에어의 양을 각각 조절하고,The first to third air supply regulators respectively adjust the amount of air flowing into the plurality of first to third air blowing holes, 상기 제 2 및 제 3 진공 레귤레이터는 상기 복수의 제 2 및 제 3 에어 흡입구로 흡입되는 에어의 양을 각각 조절하는The second and third vacuum regulators respectively adjust the amount of air sucked into the plurality of second and third air inlets. 기판 이송 장치.Substrate transfer device. 제 17항에 있어서,The method of claim 17, 상기 코팅 영역(M3)의 상기 복수의 제 2 에어 분출구 및 상기 복수의 제 2 에어 흡입구의 단위 면적당 밀도와 상기 언로딩 영역(M5)의 상기 복수의 제 3 에어 분출구 및 상기 복수의 제 3 에어 흡입구의 단위 면적당 밀도가 서로 동일한 경우, 상기 제 2 및 제 3 에어 공급 레귤레이터 중 어느 하나만이 상기 복수의 제 2 및 제 3 에어 분출구에 각각 연결되고, 상기 제 2 및 제 3 진공 레귤레이터 중 어느 하나만이 상기 복수의 제 2 및 제 3 에어 흡입구에 각각 연결되는 기판 이송 장치.Density per unit area of the plurality of second air inlets and the plurality of second air inlets of the coating region M3 and the plurality of third air outlets of the unloading region M5 and the plurality of third air inlets When the density per unit area of is equal to each other, only one of the second and third air supply regulators are connected to the plurality of second and third air outlets, respectively, and only one of the second and third vacuum regulators is And a substrate transfer device connected to a plurality of second and third air inlets, respectively. 코팅 장치에 있어서,In the coating apparatus, 복수의 제 1 에어 분출구 및 복수의 제 1 에어 흡입구를 구비하며, 로딩 영 역(M1)을 제공하는 로딩 영역부; 복수의 제 2 에어 분출구 및 복수의 제 2 에어 흡입구를 구비하며, 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부; 및 복수의 제 3 에어 분출구 및 복수의 제 3 에어 흡입구를 구비하며, 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부로 구성되는 기판 부상 유닛;A loading area portion having a plurality of first air ejection openings and a plurality of first air intake openings and providing a loading area M1; A coating region portion having a plurality of second air ejection openings and a plurality of second air intake openings and providing a coating region M3; And a unloading area portion having a plurality of third air blowing holes and a plurality of third air inlets, the unloading area portion providing an unloading area M5; 기판(G)을 진공 흡착 방식으로 장착으로 장착하여 이송하는 기판 이송 유닛;A substrate transfer unit which mounts and transfers the substrate G by mounting in a vacuum suction method; 상기 코팅 영역부 상에 제공되며, 상기 기판(G) 상에 코팅액을 도포하는 노즐 장치; 및A nozzle device provided on the coating area and configured to apply a coating liquid onto the substrate (G); And 상기 노즐 장치가 장착되는 갠트리Gantry to which the nozzle device is mounted 를 포함하고,Including, 상기 로딩 영역부는 상기 기판(G)이 진행하는 방향으로 길게 연장되며 서로 이격되어 제공되는 복수의 부상 플레이트(P)로 이루어지고,The loading area portion is formed of a plurality of floating plate (P) which is extended in the direction in which the substrate (G) proceeds and spaced apart from each other, 상기 기판(G)은 상기 로딩 영역(M1), 상기 코팅 영역(M3), 및 상기 언로딩 영역(M5) 전체에 걸쳐 일정한 순부상력(net floating force)에 의해 일정한 부상 높이(Hf)를 유지하면서 이송되는The substrate G maintains a constant floating height Hf by a constant net floating force over the loading region M1, the coating region M3, and the unloading region M5. Transported while 코팅 장치.Coating device. 제 19항에 있어서,The method of claim 19, 상기 코팅 장치는The coating device 상기 로딩 영역부에 제공되며, 상기 기판(G)이 상기 기판 이송 유닛 상에 장착될 때 상기 기판(G)의 얼라인을 제어하는 복수의 기판 센터링 유닛(centering unit);A plurality of substrate centering units provided in the loading area to control alignment of the substrate when the substrate is mounted on the substrate transfer unit; 상기 코팅 영역부의 좌우 수직 기준점(0점)을 미리 설정해주는 한 쌍의 좌우 갭 센서(gap sensor); 및A pair of left and right gap sensors for presetting left and right vertical reference points (0 point) of the coating area; And 상기 로딩 영역부의 하부에 제공되며, 프라이밍 장치, 및 노즐 세정 부재를 구비하는 노즐 리프레시 부재A nozzle refreshing member provided below the loading region and having a priming device and a nozzle cleaning member 를 추가로 포함하고,In addition, 상기 복수의 기판 센터링 유닛 중 일부는 상기 복수의 부상 플레이트(P)의 이격 공간(S) 내에 제공되며,Some of the plurality of substrate centering units are provided in the spaces S of the plurality of floating plates P, 상기 한 쌍의 좌우 갭 센서는 상기 로딩 영역부의 전방 단부 부근에서 상기 이격 공간(S) 내에 제공되고,The pair of left and right gap sensors are provided in the separation space S near the front end of the loading area portion, 상기 노즐 장치는 상기 노즐 리프레시 부재 상으로 이동하여 세정이 행해지는The nozzle device moves on the nozzle refreshing member to perform cleaning. 코팅 장치.Coating device. 제 20항에 있어서,The method of claim 20, 상기 코팅 장치는 상기 로딩 영역부의 상기 전방 단부 부근의 중앙 부분의 상기 이격 공간(S) 내에 제공되며, 상기 노즐 장치의 휨량이 허용가능한 오차범위를 벗어나는지의 여부를 모니터링하는 중앙 갭 센서를 추가로 포함하는 코팅 장치.The coating apparatus further comprises a central gap sensor provided in the spacing space S of the central portion near the front end of the loading region portion and monitoring whether the amount of deflection of the nozzle apparatus is outside the allowable error range. Coating device comprising. 제 19항에 있어서,The method of claim 19, 상기 코팅 장치는The coating device 상기 로딩 영역부에 제공되며, 상기 기판(G)이 상기 기판 이송 유닛 상에 장착될 때 상기 기판(G)의 얼라인을 제어하는 복수의 기판 센터링 유닛(centering unit);A plurality of substrate centering units provided in the loading area to control alignment of the substrate when the substrate is mounted on the substrate transfer unit; 상기 코팅 영역부의 좌우 수직 기준점(0점)을 미리 설정해주는 한 쌍의 좌우 갭 센서(gap sensor); 및A pair of left and right gap sensors for presetting left and right vertical reference points (0 point) of the coating area; And 상기 로딩 영역부의 상부에 제공되며, 프라이밍 장치, 및 노즐 세정 부재를 구비하는 노즐 리프레시 부재A nozzle refresh member provided above the loading region and having a priming device and a nozzle cleaning member 를 추가로 포함하고,In addition, 상기 복수의 기판 센터링 유닛 중 일부는 상기 복수의 부상 플레이트(P)의 이격 공간(S) 내에 제공되며,Some of the plurality of substrate centering units are provided in the spaces S of the plurality of floating plates P, 상기 한 쌍의 좌우 갭 센서는 상기 로딩 영역부의 전방 단부 부근에서 상기 이격 공간(S) 내에 제공되고,The pair of left and right gap sensors are provided in the separation space S near the front end of the loading area portion, 상기 노즐 장치는 상기 노즐 리프레시 부재가 상기 노즐 장치의 하부로 이동하여 세정이 행해지는In the nozzle apparatus, the nozzle refresh member is moved to the lower part of the nozzle apparatus to perform cleaning. 코팅 장치.Coating device. 제 19항 내지 제 22항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 19 to 22, 상기 기판 이송 유닛은The substrate transfer unit 지지부 및 상기 지지부 상의 흡착 패드를 구비하며, 상기 흡착 패드 상에 기 판(G)이 진공 흡착 방식으로 장착되는 한 쌍의 슬라이더; 및A pair of sliders having a support and adsorption pads on the support, on which the substrate G is mounted in a vacuum adsorption manner; And 상기 한 쌍의 슬라이더가 이동 가능하게 장착되는 한 쌍의 리니어 모션 가이드A pair of linear motion guides to which the pair of sliders are movably mounted 로 구성되는 코팅 장치.Coating device composed of. 코팅 장치에 있어서,In the coating apparatus, 복수의 제 1 에어 분출구 및 복수의 제 1 에어 흡입구를 구비하며, 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부; 복수의 제 2 에어 분출구 및 복수의 제 2 에어 흡입구를 구비하며, 인터페이스 영역(M2) 및 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부; 및A loading region portion having a plurality of first air ejection openings and a plurality of first air intake openings and providing a loading region M1; A coating area portion having a plurality of second air ejection openings and a plurality of second air intake openings and providing an interface region M2 and a coating region M3; And 복수의 제 3 에어 분출구 및 복수의 제 3 에어 흡입구를 구비하며, 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부로 구성되는 기판 부상 유닛;A substrate floating unit having a plurality of third air blowing holes and a plurality of third air intake ports, the substrate floating unit comprising an unloading area portion for providing an unloading area M5; 기판(G)을 진공 흡착 방식으로 장착으로 장착하여 이송하는 기판 이송 유닛;A substrate transfer unit which mounts and transfers the substrate G by mounting in a vacuum suction method; 상기 코팅 영역부 상에 제공되며, 상기 기판(G) 상에 코팅액을 도포하는 노즐 장치; 및A nozzle device provided on the coating area and configured to apply a coating liquid onto the substrate (G); And 상기 노즐 장치가 장착되는 갠트리Gantry to which the nozzle device is mounted 를 포함하고,Including, 상기 로딩 영역부는 상기 기판(G)이 진행하는 방향으로 길게 연장되며 서로 이격되어 제공되는 복수의 부상 플레이트(P)로 이루어지고,The loading area portion is formed of a plurality of floating plate (P) which is extended in the direction in which the substrate (G) proceeds and spaced apart from each other, 상기 인터페이스 영역(M2)에 제공되는 상기 복수의 제 2 에어 흡입구의 밀도 가 상기 코팅 영역(M3)에 제공되는 상기 복수의 제 2 에어 흡입구의 밀도보다 작으며,The density of the plurality of second air inlets provided in the interface region M2 is less than the density of the plurality of second air inlets provided in the coating region M3, 상기 기판(G)은 상기 로딩 영역에서는 제 1 부상 높이(Ha)를 유지하고, 상기 코팅 영역 및 상기 언로딩 영역에서는 제 2 부상 높이(Hf)를 유지하는The substrate G maintains a first floating height Ha in the loading area and maintains a second floating height Hf in the coating area and the unloading area. 코팅 장치.Coating device. 제 24항에 있어서,The method of claim 24, 상기 코팅 장치는The coating device 상기 로딩 영역부에 제공되며, 상기 기판(G)이 상기 기판 이송 유닛 상에 장착될 때 상기 기판(G)의 얼라인을 제어하는 복수의 기판 센터링 유닛(centering unit);A plurality of substrate centering units provided in the loading area to control alignment of the substrate when the substrate is mounted on the substrate transfer unit; 상기 코팅 영역부의 좌우 수직 기준점(0점)을 미리 설정해주는 한 쌍의 좌우 갭 센서(gap sensor); 및A pair of left and right gap sensors for presetting left and right vertical reference points (0 point) of the coating area; And 상기 로딩 영역부의 하부에 제공되며, 프라이밍 장치, 및 노즐 세정 부재를 구비하는 노즐 리프레시 부재A nozzle refreshing member provided below the loading region and having a priming device and a nozzle cleaning member 를 추가로 포함하고,In addition, 상기 복수의 기판 센터링 유닛 중 일부는 상기 복수의 부상 플레이트(P)의 이격 공간(S) 내에 제공되며,Some of the plurality of substrate centering units are provided in the spaces S of the plurality of floating plates P, 상기 한 쌍의 좌우 갭 센서는 상기 로딩 영역부의 전방 단부 부근에서 상기 이격 공간(S) 내에 제공되고,The pair of left and right gap sensors are provided in the separation space S near the front end of the loading area portion, 상기 노즐 장치는 상기 노즐 리프레시 부재 상으로 이동하여 세정이 행해지는The nozzle device moves on the nozzle refreshing member to perform cleaning. 코팅 장치.Coating device. 제 25항에 있어서,26. The method of claim 25, 상기 코팅 장치는 상기 로딩 영역부의 상기 전방 단부 부근의 중앙 부분의 상기 이격 공간(S) 내에 제공되며, 상기 노즐 장치의 휨량이 허용가능한 오차범위를 벗어나는지의 여부를 모니터링하는 중앙 갭 센서를 추가로 포함하는 코팅 장치.The coating apparatus further comprises a central gap sensor provided in the spacing space S of the central portion near the front end of the loading region portion and monitoring whether the amount of deflection of the nozzle apparatus is outside the allowable error range. Coating device comprising. 제 24항에 있어서,The method of claim 24, 상기 코팅 장치는The coating device 상기 로딩 영역부에 제공되며, 상기 기판(G)이 상기 기판 이송 유닛 상에 장착될 때 상기 기판(G)의 얼라인을 제어하는 복수의 기판 센터링 유닛(centering unit);A plurality of substrate centering units provided in the loading area to control alignment of the substrate when the substrate is mounted on the substrate transfer unit; 상기 코팅 영역부의 좌우 수직 기준점(0점)을 미리 설정해주는 한 쌍의 좌우 갭 센서(gap sensor); 및A pair of left and right gap sensors for presetting left and right vertical reference points (0 point) of the coating area; And 상기 로딩 영역부의 상부에 제공되며, 프라이밍 장치, 및 노즐 세정 부재를 구비하는 노즐 리프레시 부재A nozzle refresh member provided above the loading region and having a priming device and a nozzle cleaning member 를 추가로 포함하고,In addition, 상기 복수의 기판 센터링 유닛 중 일부는 상기 복수의 부상 플레이트(P)의 이격 공간(S) 내에 제공되며,Some of the plurality of substrate centering units are provided in the spaces S of the plurality of floating plates P, 상기 한 쌍의 좌우 갭 센서는 상기 로딩 영역부의 전방 단부 부근에서 상기 이격 공간(S) 내에 제공되고,The pair of left and right gap sensors are provided in the separation space S near the front end of the loading area portion, 상기 노즐 장치는 상기 노즐 리프레시 부재가 상기 노즐 장치의 하부로 이동하여 세정이 행해지는In the nozzle apparatus, the nozzle refresh member is moved to the lower part of the nozzle apparatus to perform cleaning. 코팅 장치.Coating device. 제 24항 내지 제 27항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 24 to 27, 상기 기판 이송 유닛은 The substrate transfer unit 지지부 및 상기 지지부 상의 흡착 패드를 구비하며, 상기 흡착 패드 상에 기판(G)이 진공 흡착 방식으로 장착되는 한 쌍의 슬라이더; 및A pair of sliders having a support and adsorption pads on the support, on which the substrate G is mounted in a vacuum adsorption manner; And 상기 한 쌍의 슬라이더가 이동 가능하게 장착되는 한 쌍의 리니어 모션 가이드A pair of linear motion guides to which the pair of sliders are movably mounted 로 구성되는 코팅 장치.Coating device composed of.
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