KR20110020102A - A device for floating substrate, and a substrate transfer device and a coating apparatus having the same - Google Patents
A device for floating substrate, and a substrate transfer device and a coating apparatus having the same Download PDFInfo
- Publication number
- KR20110020102A KR20110020102A KR1020090077826A KR20090077826A KR20110020102A KR 20110020102 A KR20110020102 A KR 20110020102A KR 1020090077826 A KR1020090077826 A KR 1020090077826A KR 20090077826 A KR20090077826 A KR 20090077826A KR 20110020102 A KR20110020102 A KR 20110020102A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- substrate
- air
- coating
- area
- region
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67784—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations using air tracks
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G47/00—Article or material-handling devices associated with conveyors; Methods employing such devices
- B65G47/74—Feeding, transfer, or discharging devices of particular kinds or types
- B65G47/90—Devices for picking-up and depositing articles or materials
- B65G47/91—Devices for picking-up and depositing articles or materials incorporating pneumatic, e.g. suction, grippers
- B65G47/911—Devices for picking-up and depositing articles or materials incorporating pneumatic, e.g. suction, grippers with air blasts producing partial vacuum
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
- B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
- B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
- B65G49/061—Lifting, gripping, or carrying means, for one or more sheets forming independent means of transport, e.g. suction cups, transport frames
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
- B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
- B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
- B65G49/063—Transporting devices for sheet glass
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 PDP 패널 또는 LCD 패널 등의 평판 패널 디스플레이(Flat Panel Display: 이하 "FPD"라 합니다) 제조용 기판을 부상하여 이송하면서 그 상부에 코팅액을 도포하기 위한 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치에 관한 것이다. 좀 더 구체적으로, 본 발명은 기판이 로딩 영역, 코팅 영역, 및 언로딩 영역 전체에 걸쳐 일정한 높이로 이송되도록 로딩 영역부, 코팅 영역부, 및 언로딩 영역부 전체에 걸쳐 에어 분출구의 부상력과 에어 흡입구의 흡입력 간의 밸런스가 일정하게 이루어질 수 있는 구성을 구비한 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치에 관한 것이다.The present invention provides a substrate floating unit for applying a coating liquid on top of a flat panel display (hereinafter referred to as "FPD") manufacturing substrate, such as a PDP panel or LCD panel, and transporting a substrate having the same. A device and a coating device. More specifically, the present invention relates to the floating force of the air jets throughout the loading area, the coating area, and the unloading area so that the substrate is transported at a constant height throughout the loading area, the coating area, and the unloading area. A substrate floating unit having a configuration in which a balance between suction forces of an air intake port can be made constant, and a substrate transfer device and a coating device having the same.
또한, 본 발명은 코팅 영역 및 언로딩 영역 상에서 에어 분출구의 부상력과 에어 흡입구의 흡입력 간의 밸런스가 이루어지도록 에어를 일정하게 공급함으로써 기판 상에 도포된 코팅액이 일정한 온도로 건조되도록 하여 얼룩 발생을 방지할 수 있는 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치에 관한 것이다. In addition, the present invention by uniformly supplying air to achieve a balance between the floating force of the air jet port and the suction force of the air inlet port on the coating area and the unloading area to prevent the staining by coating the coating liquid applied on the substrate to a certain temperature And a substrate transfer device and a coating apparatus including the same.
일반적으로 FPD를 제조하기 위해서는 글래스 기판(이하 "기판"이라 합니다)과 같은 작업물(work piece) 상에 코팅액의 도포가 요구되며, 이를 위해 노즐 디스펜서(nozzle dispenser) 또는 슬릿 다이(이하 노즐 디스펜서 및 슬릿 다이를 통칭하여 "노즐 장치"라 합니다)를 구비한 코팅 장치가 사용된다. 이러한 코팅 장치는 기판을 스테이지 상에 위치시킨 후 갠트리(gantry)에 부착된 노즐 장치를 수평방향으로 이동시키면서 다양한 코팅액의 도포 동작을 수행한다. 이러한 코팅액의 도포 동작의 예로는, LCD 패널을 제조하는 경우 LCD 패널 기판 상에 포토레지스트(photoresist: PR), 블랙 매트릭스(Black Matrix: B.M), 컬럼 스페이스(column space: C.S) 등을 형성하기 위해 코팅액을 도포할 수 있다. 또한, PDP 패널을 제조하는 경우 PDP 패널 기판 상에 상유전체, 하유전체, 격벽을 형성하기 위해 코팅액을 도포할 수 있다.In general, the manufacture of FPD requires the application of a coating liquid on a work piece, such as a glass substrate (hereinafter referred to as a "substrate"), for which a nozzle dispenser or slit die (hereinafter referred to as nozzle dispenser and A coating apparatus with a slit die collectively referred to as a "nozzle apparatus" is used. Such a coating apparatus performs a coating operation of various coating liquids while positioning a substrate on a stage and moving a nozzle apparatus attached to a gantry in a horizontal direction. Examples of the coating operation of the coating liquid include forming photoresist (PR), black matrix (BM), column space (CS), and the like on the LCD panel substrate when manufacturing the LCD panel. The coating liquid can be applied. In the case of manufacturing a PDP panel, a coating liquid may be applied to form a dielectric, a lower dielectric, and a partition on a PDP panel substrate.
그러나, 상술한 종래 기술에서는 기판을 스테이지 상에 위치시킨 후 스테이지를 코팅 위치로 이동한 상태에서 기판의 상부에 설치되는 노즐 장치 및 노즐 장치가 부착되는 갠트리가 기판 상에서 이동하는 구조(이하 "노즐 이동 방식"이라 합니다)이기 때문에 코팅 장치의 정밀 구동이 어려워지며 또한 복잡하다. 좀 더 구체적으로, 큰 중량의 대형 노즐 장치, 갠트리 및 스테이지의 이동을 위해서는 막대한 에너지가 필요하다. 또한, 코팅액 도포 후에는 원래의 위치로 복귀하여 상술한 동작을 반복하여야 하므로 코팅액 도포 동작의 효율성이 저하된다는 문제가 발생한다. 또한, 대면적 FPD의 요구에 따라 노즐 장치 및 갠트리도 대형화되어야 한다. 대형화된 갠트리의 중량은 대략 1톤 내지 2톤에 달하여, 이러한 거대 중량의 갠트리를 이동시키면서 정밀하게 가속시키거나 감속시키는 구동장치의 구현이 어려워진다. However, in the above-described prior art, a structure in which a nozzle device installed on an upper portion of the substrate and a gantry to which the nozzle device is attached moves on the substrate after placing the substrate on the stage and then moving the stage to the coating position (hereinafter referred to as "nozzle movement"). Method ", which makes the coating device difficult to drive and complicated. More specifically, enormous energy is required for the movement of large, large nozzle devices, gantry and stages. In addition, after the coating liquid is applied, it is necessary to return to the original position and repeat the above-described operation, thereby causing a problem that the efficiency of the coating liquid coating operation is lowered. In addition, the nozzle device and the gantry must be enlarged according to the requirements of the large area FPD. The weight of the oversized gantry amounts to approximately 1 to 2 tons, making it difficult to implement a drive that precisely accelerates or decelerates while moving such a massive gantry.
상술한 종래 기술의 노즐 이동 방식의 코팅 장치의 문제점을 해소하기 위한 방안의 하나로 에어의 분사 또는 분사 및 흡인을 통해 기판을 부상시켜 이송하면서 기판의 표면에 코팅액을 도포하는 부상방식의 기판 이송 장치가 제안되었다.As a way to solve the problems of the above-described conventional nozzle movement type coating apparatus, the floating substrate transfer apparatus for applying the coating liquid to the surface of the substrate while floating and transporting the substrate through the injection or spraying and suction of air is Proposed.
도 1a는 종래 기술에 따른 부상방식의 기판 이송 장치 및 이를 구비한 도포 장치의 사시도를 개략적으로 도시한 도면이고, 도 1b는 도 1a에 도시된 종래 기술에 따른 부상방식의 기판 이송 장치 및 이를 구비한 도포 장치의 정면도를 개략적으로 도시한 도면이며, 도 1c는 종래 기술의 부상방식의 기판 이송 장치의 로딩 영역, 코팅 영역, 및 언로딩 영역에서의 에어 분출구 및 에어 흡입구의 배열 패턴의 일부를 도시한 도면이다. 이러한 도 1a 내지 도 1c에 도시된 종래 기술에 따른 부상방식의 기판 이송 장치 및 이를 구비한 도포 장치는 예를 들어 2006년 3월 20일자에 도쿄 엘렉트론 주식회사에 의해 "도포방법 및 도포장치"라는 발명의 명칭으로 일본 특허출원 제 2006-76815호로 출원되어, 2007년 10월 4일자에 공개된 일본 특허출원공개번호 특개 2007-252971호에 상세히 개시되어 있다.Figure 1a is a schematic view showing a perspective view of a substrate transfer apparatus and a coating apparatus of the prior art floating method according to the prior art, Figure 1b is a substrate transfer apparatus and the same of the conventional method shown in Figure 1a 1C schematically shows a front view of an application device, and FIG. 1C shows a part of an arrangement pattern of an air outlet port and an air inlet port in a loading area, a coating area, and an unloading area of a prior art floating substrate transfer device. One drawing. The substrate transfer apparatus of the floating method according to the related art shown in FIGS. 1A to 1C and the coating apparatus having the same are, for example, a "coating method and coating apparatus" by Tokyo Electron Co., Ltd. on March 20, 2006. It is disclosed in detail in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-252971, filed under Japanese Patent Application No. 2006-76815 under the name of the invention, and published on October 4, 2007.
다시 도 1a 내지 도 1c를 참조하면, 종래 기술에 따른 도포장치(40)는 부상방식의 기판 이송 장치(84)를 구비한다. 기판(G)은 예를 들어 이송 암(transfer arm: 미도시)에 의해 스테이지(76)의 로딩 영역(도 1b의 M1 영역) 상으로 이송된다. 그 후, 스테이지(76)의 로딩 영역(M1 영역)의 하부에 제공되는 리프트 장치 (미도시)에 의해 복수의 리프트핀(lift pin: 86)가 상승하여 기판(G)을 지지한다. 그 후, 복수의 리프트핀(86)이 하강하면 기판(G)은 한 쌍의 리니어 모션 가이드(96) 상에서 이동가능한 한 쌍의 슬라이더(98)에 제공되는 지지부(102) 상의 흡착 패드(104) 상에 진공 흡착 방식으로 장착된다. 로딩 영역(M1 영역) 상에는 복수의 에어 분출구(88)만이 제공된다. 로딩 영역(M1 영역) 상에서 자중(self-weight)에 의해 아래로 휘어진 기판(G)은 에어 분출구(88)를 통해 분출되는 에어에 의해 대략 250 내지 350㎛ 범위의 부상 높이(Ha)로 부상한 상태에서 부상방식의 기판 이송 장치(84)에 의해 제 1 인터페이스 영역(M2 영역)을 거쳐 코팅 영역(도 1b에 도시된 M3 영역) 상으로(즉, X 방향으로) 이송된다. 제 1 인터페이스 영역(M2 영역) 내에는 진공 펌핑 장치(미도시)와 연결된 에어 흡입구(90)가 부분적으로 설치되어 있다. 기판(G)이 제 1 인터페이스 영역(M2 영역)으로 진입하면, 에어 분출구(88)의 분출력이 에어 흡입구(90)의 흡입력에 의해 일부 상쇄되어 기판(G)은 그 부상 높이가 점차 낮아지면서 코팅 영역(M3 영역)으로 진입한다. 코팅 영역(M3 영역)에서는 에어 흡입구(90)의 수가 제 1 인터페이스 영역(M2 영역)에 비해 더 많이 제공되어 기판(G)이 대략 50㎛의 코팅 높이(Hb)로 부상한 상태를 유지하면서 X축 방향으로 이송한다. 이러한 코팅 영역(M3 영역)에서는 노즐 장치(78)가 코팅액(R: 예를 들어 레지스트액)을 공급관(94)을 통해 공급받아 기판(G) 상에 도포한다.Referring back to Figures 1a to 1c, the
그 후, 코팅액이 도포된 기판(G)은 제 2 인터페이스 영역(M4 영역)으로 이송된다. 제 2 인터페이스 영역(M4 영역)은 제 1 인터페이스 영역(M2 영역)과 마찬가지로 진공 펌핑 장치(미도시)와 연결된 에어 흡입구(90)가 부분적으로 설치되어 있 다(도 1a 참조). 기판(G)이 제 2 인터페이스 영역(M4 영역)으로 진입하면, 에어 분출구(88)의 분출력이 에어 흡입구(90)의 흡입력에 의해 일부만 상쇄되어 기판(G)은 그 부상 높이가 점차 높아진다. 그 후, 기판(G)은 언로딩 영역(M5 영역)으로 진입하고, 언로딩 영역(M5 영역)은 로딩 영역(M1 영역)과 마찬가지로 복수의 에어 분출구(88)만이 제공된다. 따라서, 기판(G)은 언로딩 영역(M5 영역)에 제공된 복수의 에어 분출구(88)를 통해 분출되는 에어에 의해 대략 250 내지 350㎛ 범위의 부상 높이(Hc)로 부상한 상태에서 기판(G)은 흡착 패드(104)로부터 제공되는 진공 흡착이 해제된다. 그 후, 언로딩 영역(M5 영역)의 스테이지(76) 하부에 제공되는 리프팅 장치(미도시)에 의해 복수의 리프트핀(86)가 상승하여 기판(G)을 상승시킨 후, 로봇 암(미도시)에 의해 다음 공정 위치로 이송된다.Thereafter, the substrate G coated with the coating liquid is transferred to the second interface region M4 region. Similarly to the first interface region M2 region, the second interface region M4 region is partially provided with an
한편, 노즐 장치(78)가 기판(G) 상에 코팅액을 도포한 후에는 도 1b에 도시된 바와 같이 노즐 장치(78)를 세정하여야 한다. 이를 위해 도포 장치(40)와는 별도로 제공되며, 상하 방향(즉, Z 방향), 좌우 방향(즉, X 방향) 및 전후 방향(즉, Y 방향)으로 이동 가능한 노즐 리프레시(refresh) 부재(210)가 노즐 장치(78)의 하부로 이송되어 세정이 행해진다. 노즐 리프레시 부재(210)는 노즐 장치(78)가 코팅액을 매회 도포한 후 노즐 장치(78)를 세정하기 위한 프라이밍 장치(미도시) 및 노즐 장치(78)가 예를 들어 코팅액을 20회 도포한 후 노즐 장치(78)를 세정하기 위한 노즐 세정 부재(미도시)를 포함한다.On the other hand, after the
상술한 종래 기술에 따른 부상방식의 기판 이송 장치(84) 및 이를 구비한 도포 장치(40)는 기판(G)을 부상 방식으로 이동시킨다는 점에서 노즐 이동 방식의 코 팅 장치의 단점을 대부분 해소할 수 있다는 장점이 달성된다.The above-mentioned
그러나, 상술한 종래 기술에 따른 부상방식의 기판 이송 장치(84) 및 이를 구비한 도포 장치(40)는 다음과 같은 문제점을 여전히 갖는다.However, the above-mentioned floating
1. 로딩 영역, 코팅 영역, 및 언로딩 영역에서의 에어 분출구 및 에어 흡입구의 배열 패턴이 서로 상이하여 기판(G)이 코팅 영역에서 코팅액이 도포된 후 언로딩 영역으로 이송되면 에어 분출량이 달라지게 된다. 그 결과, 기판(G) 전체에 걸쳐 온도 편차가 발생하게 되어 코팅액이 건조되면서 두께 차이(즉, 얼룩)가 발생한다. 이러한 얼룩 발생은 기판(G)의 불량을 초래하여 고가의 기판을 폐기하여야 하므로 전체 제조 비용 및 제조 시간이 증가한다.1. The arrangement patterns of the air ejection openings and the air intake openings in the loading region, the coating region, and the unloading region are different from each other. do. As a result, a temperature deviation occurs over the entire substrate G, resulting in a difference in thickness (that is, spots) while the coating solution is dried. Such staining causes a defect of the substrate G, which requires the disposal of the expensive substrate, thereby increasing the overall manufacturing cost and manufacturing time.
2. 로딩 영역과 코팅 영역 사이에 제 1 인터페이스 영역(M2 영역)이 존재하고 또한 코팅 영역과 언로딩 영역 사이에 제 2 인터페이스 영역(M4 영역)이 존재하여 로딩 영역, 코팅 영역 및 언로딩 영역에서의 기판(G)의 부상 높이가 상이하다. 이러한 부상 높이의 차이는 기판(G)에 스트레스(응력: stress)를 가하게 된다. 기판(G)이 스트레스를 받으면, 변형이 발생하거나 심한 경우 눈에 보이지 않는 파손 등이 발생하여 최종 제품의 불량 등을 일으키는 문제가 발생한다.2. A first interface region (M2 region) exists between the loading region and the coating region, and a second interface region (M4 region) exists between the coating region and the unloading region, so that in the loading region, the coating region and the unloading region, The floating height of the substrate G is different. Such a difference in the height of injury causes a stress on the substrate G. When the substrate G is stressed, a deformation occurs or, in severe cases, an invisible breakage occurs to cause a problem such as a failure of the final product.
3. 또한, 기판(G)의 이동시 부상 높이의 차이에 따른 진동(fluctuation)이 발생할 가능성이 높아진다. 따라서, 기판(G)의 전단부가 코팅 영역에서 코팅액이 도포되는 동안 기판(G)의 후단부는 제 1 인터페이스 영역(M2 영역) 내에 있거나 또는 기판(G)의 후단부가 코팅 영역에서 코팅액이 도포되는 동안 기판(G)의 전단부가 제 2 인터페이스 영역(M4 영역) 내에 있으므로 기판(G)의 부상 높이 차에 의한 진 동이 발생하면 코팅액이 정밀하게 도포되지 못하는 문제가 발생한다. 또한, 이러한 문제점을 해결하기 위해 제 1 인터페이스 영역(M2 영역) 및 제 2 인터페이스 영역(M4 영역)을 기판(G)의 길이만큼 증가하는 경우, 부상방식의 기판 이송 장치 전체의 사이즈가 증가하여 비용이 증가하고 공간 효율성이 낮다는 문제가 발생한다. 이러한 문제점은 기판(G)의 대면적화 및 고정세화됨에 따라 더욱 더 심각해진다.3. In addition, when the substrate G is moved, the possibility of a fluctuation due to the difference in the floating height is increased. Thus, while the front end of the substrate G is coated with the coating liquid in the coating area, the rear end of the substrate G is in the first interface area M2 area or while the rear end of the substrate G is coated with the coating liquid in the coating area. Since the front end portion of the substrate G is in the second interface region M4 region, if a vibration occurs due to the difference in the height of the substrate G, the coating liquid may not be applied accurately. In addition, in order to solve this problem, when the first interface region (M2 region) and the second interface region (M4 region) are increased by the length of the substrate G, the size of the entire floating substrate transfer apparatus is increased and the cost is increased. This increases and the problem of low space efficiency arises. This problem becomes more serious as the area of the substrate G becomes larger and higher.
4. 종래 기술에서는 노즐 리프레시 부재(210)가 도포 장치(40)와는 별도로 제공되므로, 노즐 장치(78)의 세정을 위해 노즐 리프레시 부재(210)를 이동시키기 위한 별도의 이동 수단 등을 구비하여야 한다. 따라서, 도포 장치(40)의 사이즈가 증가하고, 동작이 복잡하며, 세정시 시너(thinner)가 비산되는 등의 문제가 발생한다.4. In the prior art, since the
본 발명은 상술한 종래 기술의 문제점들 중 최소한 하나 이상의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 제조용 기판을 부상하여 이송하면서 그 상부에 코팅액을 도포하기 위한 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치에 관한 것이다. 좀 더 구체적으로, 본 발명은 기판이 로딩 영역, 코팅 영역, 및 언로딩 영역 전체에 걸쳐 일정한 높이로 이송되도록 로딩 영역부, 코팅 영역부, 및 언로딩 영역부 전체에 걸쳐 에어 분출구의 부상력과 에어 흡입구의 흡입력 간의 밸런스가 일정하게 이루어질 수 있는 구성을 구비한 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치를 제공하기 위한 것이다.The present invention is to solve at least one or more of the problems of the prior art described above, a substrate floating unit for applying a coating liquid on the upper portion while floating and transporting the manufacturing substrate, and a substrate transfer apparatus and coating apparatus having the same It is about. More specifically, the present invention relates to the floating force of the air jets throughout the loading area, the coating area, and the unloading area so that the substrate is transported at a constant height throughout the loading area, the coating area, and the unloading area. It is to provide a substrate floating unit having a configuration in which the balance between the suction force of the air intake port can be made constant, and a substrate transfer device and a coating device having the same.
또한, 본 발명은 코팅 영역 및 언로딩 영역 상에서 에어 분출구의 부상력과 에어 흡입구의 흡입력 간의 밸런스가 이루어지도록 에어를 일정하게 공급함으로써 기판 상에 도포된 코팅액이 일정한 온도로 건조되도록 하여 얼룩 발생을 방지할 수 있는 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치를 제공하기 위한 것이다. In addition, the present invention by uniformly supplying air to achieve a balance between the floating force of the air jet port and the suction force of the air inlet port on the coating area and the unloading area to prevent the staining by coating the coating liquid applied on the substrate to a certain temperature It is to provide a substrate floating unit capable of, and a substrate transfer device and a coating device having the same.
본 발명의 제 1 특징에 따르면, 기판 부상 유닛에 있어서, 복수의 제 1 에어 분출구 및 복수의 제 1 에어 흡입구를 구비하며, 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부; 복수의 제 2 에어 분출구 및 복수의 제 2 에어 흡입구를 구비하며, 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부; 및 복수의 제 3 에어 분출구 및 복수의 제 3 에어 흡입구를 구비하며, 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부를 포함하고, 상기 로딩 영역부는 기판(G)이 진행하는 방향으로 길게 연장되며 서로 이격되어 제공되는 복수의 부상 플레이트(P)로 이루어지고, 상기 기판(G)은 일정한 부상 높이(Hf)로 유지되는 것을 특징으로 한다.According to a first aspect of the present invention, there is provided a substrate floating unit comprising: a loading region portion having a plurality of first air ejection openings and a plurality of first air intake openings, the loading region providing a loading region M1; A coating region portion having a plurality of second air ejection openings and a plurality of second air intake openings and providing a coating region M3; And an unloading region portion having a plurality of third air ejection openings and a plurality of third air intake openings, the unloading region portion providing an unloading region M5, wherein the loading region portion is elongated in a direction in which the substrate G travels. Comprising a plurality of floating plate (P) provided spaced apart from each other, the substrate (G) is characterized in that it is maintained at a constant floating height (Hf).
본 발명의 제 2 특징에 따르면, 기판 부상 유닛에 있어서, 복수의 제 1 에어 분출구를 구비하며, 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부; 복수의 제 2 에어 분출구 및 복수의 제 2 에어 흡입구를 구비하며, 인터페이스 영역(M2) 및 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부; 및 복수의 제 3 에어 분출구 및 복수의 제 3 에어 흡입구를 구비하며, 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부를 포함하고, 상기 로딩 영역부는 기판(G)이 진행하는 방향으로 길게 연장되며 서로 이격되어 제공되 는 복수의 부상 플레이트(P)로 이루어지고, 상기 인터페이스 영역(M2)에 제공되는 상기 복수의 제 2 에어 흡입구의 밀도가 상기 코팅 영역(M3)에 제공되는 상기 복수의 제 2 에어 흡입구의 밀도보다 작으며, 상기 기판(G)은 상기 로딩 영역에서는 제 1 부상 높이(Ha)를 유지하고, 상기 코팅 영역 및 상기 언로딩 영역에서는 제 2 부상 높이(Hf)를 유지하는 것을 특징으로 한다.According to a second aspect of the present invention, there is provided a substrate floating unit comprising: a loading area portion having a plurality of first air ejection openings and providing a loading area (M1); A coating area portion having a plurality of second air ejection openings and a plurality of second air intake openings and providing an interface region M2 and a coating region M3; And an unloading region portion having a plurality of third air ejection openings and a plurality of third air intake openings, the unloading region portion providing an unloading region M5, wherein the loading region portion is elongated in a direction in which the substrate G travels. The plurality of second air provided with a plurality of floating plate (P) provided spaced apart from each other, the density of the plurality of second air intake port provided to the interface area (M2) is provided to the coating area (M3) It is smaller than the density of the suction port, and the substrate G maintains a first floating height Ha in the loading area and a second floating height Hf in the coating area and the unloading area. do.
본 발명의 제 3 특징에 따르면, 기판 이송 장치에 있어서, 복수의 제 1 에어 분출구 및 복수의 제 1 에어 흡입구를 구비하며, 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부; 복수의 제 2 에어 분출구 및 복수의 제 2 에어 흡입구를 구비하며, 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부; 및 복수의 제 3 에어 분출구 및 복수의 제 3 에어 흡입구를 구비하며, 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부로 구성되는 기판 부상 유닛; 및 지지부 및 상기 지지부 상의 흡착 패드를 구비하며, 상기 흡착 패드 상에 기판(G)이 진공 흡착 방식으로 장착되는 한 쌍의 슬라이더, 및 상기 한 쌍의 슬라이더가 이동 가능하게 장착되는 한 쌍의 리니어 모션 가이드로 구성되는 기판 이송 유닛을 포함하고, 상기 로딩 영역부는 기판(G)이 진행하는 방향으로 길게 연장되며 서로 이격되어 제공되는 복수의 부상 플레이트(P)로 이루어지고, 상기 기판(G)은 상기 로딩 영역(M1), 상기 코팅 영역(M3), 및 상기 언로딩 영역(M5) 전체에 걸쳐 일정한 순부상력(net floating force)에 의해 일정한 부상 높이(Hf)를 유지하면서 이송되는 것을 특징으로 한다.According to a third aspect of the present invention, there is provided a substrate transfer apparatus, comprising: a loading region portion having a plurality of first air ejection openings and a plurality of first air intake openings, the loading region providing a loading region M1; A coating region portion having a plurality of second air ejection openings and a plurality of second air intake openings and providing a coating region M3; And a unloading area portion having a plurality of third air blowing holes and a plurality of third air inlets, the unloading area portion providing an unloading area M5; And a pair of sliders having a support portion and a suction pad on the support portion, the pair of sliders on which the substrate G is mounted in a vacuum suction manner, and a pair of linear motions on which the pair of sliders are movably mounted. And a substrate transfer unit configured as a guide, wherein the loading area is formed of a plurality of floating plates P which are elongated in the direction in which the substrate G travels and are spaced apart from each other. It is characterized in that it is conveyed while maintaining a constant floating height (Hf) by a constant net floating force throughout the loading area (M1), the coating area (M3), and the unloading area (M5). .
본 발명의 제 4 특징에 따르면, 기판 이송 장치에 있어서, 복수의 제 1 에어 분출구를 구비하며, 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부; 복수의 제 2 에어 분 출구 및 복수의 제 2 에어 흡입구를 구비하며, 인터페이스 영역(M2) 및 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부; 및 복수의 제 3 에어 분출구 및 복수의 제 3 에어 흡입구를 구비하며, 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부로 구성되는 기판 부상 유닛; 및 지지부 및 상기 지지부 상의 흡착 패드를 구비하며, 상기 흡착 패드 상에 기판(G)이 진공 흡착 방식으로 장착되는 한 쌍의 슬라이더, 및 상기 한 쌍의 슬라이더가 이동 가능하게 장착되는 한 쌍의 리니어 모션 가이드로 구성되는 기판 이송 유닛을 포함하고, 상기 로딩 영역부는 기판(G)이 진행하는 방향으로 길게 연장되며 서로 이격되어 제공되는 복수의 부상 플레이트(P)로 이루어지고, 상기 인터페이스 영역(M2)에 제공되는 상기 복수의 제 2 에어 흡입구의 밀도가 상기 코팅 영역(M3)에 제공되는 상기 복수의 제 2 에어 흡입구의 밀도보다 작으며, 상기 기판(G)은 상기 로딩 영역에서는 제 1 부상 높이(Ha)를 유지하고, 상기 코팅 영역 및 상기 언로딩 영역에서는 제 2 부상 높이(Hf)를 유지하는 것을 특징으로 한다.According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a substrate transfer apparatus, comprising: a loading region portion having a plurality of first air ejection openings and providing a loading region M1; A coating area portion having a plurality of second air minute outlets and a plurality of second air inlets, the interface area providing an interface area M2 and a coating area M3; And a unloading area portion having a plurality of third air blowing holes and a plurality of third air inlets, the unloading area portion providing an unloading area M5; And a pair of sliders having a support portion and a suction pad on the support portion, the pair of sliders on which the substrate G is mounted in a vacuum suction manner, and a pair of linear motions on which the pair of sliders are movably mounted. It includes a substrate transfer unit consisting of a guide, wherein the loading area portion is formed of a plurality of floating plate (P) which is provided to be spaced apart from each other extending in the direction in which the substrate (G) proceeds, the interface area (M2) The density of the plurality of second air inlets provided is less than the density of the plurality of second air inlets provided in the coating area M3, and the substrate G has a first floating height Ha in the loading area. ) And a second floating height Hf in the coating area and the unloading area.
본 발명의 제 5 특징에 따르면, 코팅 장치에 있어서, 복수의 제 1 에어 분출구 및 복수의 제 1 에어 흡입구를 구비하며, 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부; 복수의 제 2 에어 분출구 및 복수의 제 2 에어 흡입구를 구비하며, 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부; 및 복수의 제 3 에어 분출구 및 복수의 제 3 에어 흡입구를 구비하며, 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부로 구성되는 기판 부상 유닛; 기판(G)을 진공 흡착 방식으로 장착으로 장착하여 이송하는 기판 이송 유닛; 상기 코팅 영역부 상에 제공되며, 상기 기판(G) 상에 코팅액을 도포하는 노즐 장치; 및 상기 노즐 장치가 장착되는 갠트리를 포함하고, 상기 로딩 영역부는 상기 기판(G)이 진행하는 방향으로 길게 연장되며 서로 이격되어 제공되는 복수의 부상 플레이트(P)로 이루어지고, 상기 기판(G)은 상기 로딩 영역(M1), 상기 코팅 영역(M3), 및 상기 언로딩 영역(M5) 전체에 걸쳐 일정한 순부상력(net floating force)에 의해 일정한 부상 높이(Hf)를 유지하면서 이송되는 것을 특징으로 한다.According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a coating apparatus, comprising: a loading region portion having a plurality of first air ejection openings and a plurality of first air intake openings, the loading region providing a loading region M1; A coating region portion having a plurality of second air ejection openings and a plurality of second air intake openings and providing a coating region M3; And a unloading area portion having a plurality of third air blowing holes and a plurality of third air inlets, the unloading area portion providing an unloading area M5; A substrate transfer unit which mounts and transfers the substrate G by mounting in a vacuum suction method; A nozzle device provided on the coating area and configured to apply a coating liquid onto the substrate (G); And a gantry on which the nozzle device is mounted, wherein the loading area is formed of a plurality of floating plates P which are elongated in the direction in which the substrate G travels and are spaced apart from each other. Is transported while maintaining a constant floating height Hf by a constant net floating force throughout the loading region M1, the coating region M3, and the unloading region M5. It is done.
본 발명의 제 6 특징에 따르면, 코팅 장치에 있어서, 복수의 제 1 에어 분출구 및 복수의 제 1 에어 흡입구를 구비하며, 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부; 복수의 제 2 에어 분출구 및 복수의 제 2 에어 흡입구를 구비하며, 인터페이스 영역(M2) 및 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부; 및 복수의 제 3 에어 분출구 및 복수의 제 3 에어 흡입구를 구비하며, 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부로 구성되는 기판 부상 유닛; 기판(G)을 진공 흡착 방식으로 장착으로 장착하여 이송하는 기판 이송 유닛; 상기 코팅 영역부 상에 제공되며, 상기 기판(G) 상에 코팅액을 도포하는 노즐 장치; 및 상기 노즐 장치가 장착되는 갠트리를 포함하고, 상기 로딩 영역부는 상기 기판(G)이 진행하는 방향으로 길게 연장되며 서로 이격되어 제공되는 복수의 부상 플레이트(P)로 이루어지고, 상기 인터페이스 영역(M2)에 제공되는 상기 복수의 제 2 에어 흡입구의 밀도가 상기 코팅 영역(M3)에 제공되는 상기 복수의 제 2 에어 흡입구의 밀도보다 작으며, 상기 기판(G)은 상기 로딩 영역에서는 제 1 부상 높이(Ha)를 유지하고, 상기 코팅 영역 및 상기 언로딩 영역에서는 제 2 부상 높이(Hf)를 유지하는 것을 특징으로 한다. According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a coating apparatus, comprising: a loading region portion having a plurality of first air ejection openings and a plurality of first air intake openings, the loading region providing a loading region M1; A coating area portion having a plurality of second air ejection openings and a plurality of second air intake openings and providing an interface region M2 and a coating region M3; And a unloading area portion having a plurality of third air blowing holes and a plurality of third air inlets, the unloading area portion providing an unloading area M5; A substrate transfer unit which mounts and transfers the substrate G by mounting in a vacuum suction method; A nozzle device provided on the coating area and configured to apply a coating liquid onto the substrate (G); And a gantry on which the nozzle device is mounted, wherein the loading region is formed of a plurality of floating plates P which are elongated in the direction in which the substrate G travels and are spaced apart from each other, and the interface region M2. The density of the plurality of second air intake ports provided at) is smaller than the density of the plurality of second air intake ports provided at the coating region M3, and the substrate G has a first floating height at the loading region. Maintains (Ha), and maintains the second floating height (Hf) in the coating area and the unloading area.
본 발명의 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치에 서는 다음과 같은 장점이 달성된다.The following advantages are achieved in the substrate floating unit of the present invention, and a substrate transfer device and a coating device having the same.
1. 로딩 영역, 코팅 영역, 및 언로딩 영역 전체 또는 코팅 영역, 및 언로딩 영역에서 부상력 및 흡입력의 밸런스가 이루어지므로 코팅액이 기판(G) 상에 도포된 후 기판(G) 전체에 걸쳐 온도 편차 발생이 최소화되므로 코팅액이 건조되면서 두께 차이(즉, 얼룩)의 발생이 최소화된다. 따라서, 기판(G)의 불량 발생이 현저하게 저하되므로 고가의 기판 제조 비용 및 제조 시간이 상당히 감소된다.1. Balance of flotation force and suction force in the loading area, the coating area, and the entire unloading area or the coating area, and the unloading area, so that the coating liquid is applied onto the substrate G and then the temperature across the substrate G. Since the occurrence of deviation is minimized, the thickness of the coating liquid is dried to minimize the occurrence of the difference in thickness (ie, stain). Therefore, the occurrence of defects in the substrate G is remarkably lowered, thereby reducing the expensive substrate manufacturing cost and manufacturing time.
2. 로딩 영역, 코팅 영역, 및 언로딩 영역 전체 또는 코팅 영역, 및 언로딩 영역에서의 기판(G)의 부상 높이가 일정하게 유지되므로 기판(G)에 스트레스(응력: stress)가 가해지지 않거나 최소화된다. 따라서, 기판(G)의 변형 또는 파손 등이 발생 가능성 및 최종 제품의 불량률이 현저하게 줄어든다.2. The floating height of the substrate G in the loading area, the coating area, and the entire unloading area or the coating area, and the unloading area is kept constant so that stress (stress) is not applied to the substrate G. Is minimized. Therefore, the possibility of deformation or breakage of the substrate G, or the like, and the defective rate of the final product are significantly reduced.
3. 기판(G)의 이동시 부상 높이의 차이에 따른 진동(fluctuation) 발생 가능성이 없거나 상당히 감소되어 코팅액의 정밀 도포가 가능하다.3. When the substrate G is moved, there is no possibility of occurrence of fluctuation due to the difference in the height of the float or it is considerably reduced, so that the precise coating of the coating liquid is possible.
4. 노즐 리프레시 부재가 기판 부상 유닛의 하부에 제공되는 경우 노즐 리프레시 부재를 이동시키기 위한 별도의 이동 수단 등이 불필요하게 되어 도포 장치의 사이즈가 감소되고, 동작의 단순화되며, 및 세정시 시너(thinner)의 비산이 방지된다.4. When the nozzle refreshing member is provided under the substrate floating unit, a separate moving means or the like for moving the nozzle refreshing member is unnecessary, so that the size of the coating device is reduced, operation is simplified, and thinner during cleaning. ) Is prevented from scattering.
본 발명의 추가적인 장점은 동일 또는 유사한 참조번호가 동일한 구성요소를 표시하는 첨부 도면을 참조하여 이하의 설명으로부터 명백히 이해될 수 있다. Further advantages of the present invention can be clearly understood from the following description with reference to the accompanying drawings, in which like or similar reference numerals denote like elements.
이하에서 본 발명의 실시예 및 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments and drawings.
도 2a는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치의 평면도이고, 도 2b는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치를 개략적으로 도시한 정면도이며, 도 2c는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치의 좌측면도이고, 도 2d는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치의 우측면도면이며, 도 2e는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판 부상 유닛의 개략적인 평면도와 에어 분출구의 부상력과 에어 흡입구의 흡입력 간의 일정한 밸런스를 개략적으로 도시한 정면도이고, 도 2f는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판 부상 유닛의 에어 분출구 및 에어 흡입구의 배치 및 에어 공급 유닛 및 진공 펌핑 유닛을 개략적으로 도시한 평면도이다.Figure 2a is a plan view of a substrate floating unit, a substrate transfer apparatus and a coating apparatus having the same according to an embodiment of the present invention, Figure 2b is a substrate floating unit, and a substrate transfer having the same according to an embodiment of the present invention 2C is a left side view of a substrate floating unit and a substrate transfer device and a coating apparatus having the same according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2D is an embodiment of the present invention. FIG. 2E is a schematic plan view of a substrate floating unit according to a first embodiment of the present invention, and a floating force and an air suction port of an air jet port according to a first embodiment of the present invention. Is a front view schematically showing a constant balance between the suction forces of FIG. 2F shows the arrangement of the air jet port and the air suction port of the substrate floating unit according to the first embodiment of the present invention; It is a schematic plan view illustrating the air supply unit and the vacuum pumping unit.
기판 부상 유닛의 제 1 실시예First embodiment of the substrate floating unit
도 2a 내지 도 2f를 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판 부상 유닛(276)은 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부(276a), 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부(276b), 및 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부(276c)로 구성된다. 로딩 영역부(276a)는 기판(G)이 진행하는 방향으로 길게 연장되며 서로 이격되어 제공되는 복수의 부상 플레이트(P)로 이루어진다. 도 2e의 실시예에서는 코팅 영역부(276b)는 하나의 장방형 플레이트로 이루어지고, 언로딩 영역부(276c)는 하나의 정방형 플레이트로 이루어지는 것으로 예시적으로 도시되어 있지만 본 발명 의 범위가 이에 제한되는 것은 아니다. 코팅 영역부(276b), 및 언로딩 영역부(276c)와는 달리 로딩 영역부(276a)가 서로 이격되어 제공되는 복수의 부상 플레이트(P)로 이루어지므로, 이격 공간(S)이 존재한다. 이러한 이격 공간(S) 내에는 코팅 장치(240)의 구성요소인 복수의 기판 센터링 유닛(centering unit: 260)의 일부와 복수의 갭 센서(gap sensor: 262)(후술하는 도 2i 참조)가 위치될 수 있다.2A to 2F, the
한편, 도 2 f를 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판 부상 유닛(276)에서는 로딩 영역부(276a)가 복수의 제 1 에어 분출구(288a) 및 복수의 제 1 에어 흡입구(290a)를 구비하고, 코팅 영역부(276b)가 복수의 제 2 에어 분출구(288b) 및 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)를 구비하며, 언로딩 영역부(276c)가 복수의 제 3 에어 분출구(288c) 및 복수의 제 3 에어 흡입구(290c)르 구비한다(도 2f 참조). 복수의 제 1 에어 분출구(288a)는 제 1 에어 공급 레귤레이터(regulator: 250a)를 통해 에어 공급 유닛(250)과 연결되고, 복수의 제 2 에어 분출구(288b)는 제 2 에어 공급 레귤레이터(250b)를 통해 에어 공급 유닛(250)과 연결되며, 복수의 제 3 에어 분출구(288c)는 제 3 에어 공급 레귤레이터(250c)를 통해 에어 공급 유닛(250)과 연결된다. 또한, 복수의 제 1 에어 흡입구(290a)는 제 1 진공 레귤레이터(254a)를 통해 진공 펌핑 유닛(254)과 연결되고, 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)는 제 2 진공 레귤레이터(254b)를 통해 진공 펌핑 유닛(254)과 연결되며, 복수의 제 3 에어 흡입구(290c)는 제 3 진공 레귤레이터(254c)를 통해 진공 펌핑 유닛(254)과 연결된다. 여기서, 제 1 내지 제 3 에어 공급 레귤레이터(250a,250b,250c)는 각각 에어 공급 유닛(250)에서 복수의 제 1 내지 제 3 에어 분출구(288a,288b,288c)로 유입되는 에어의 양을 조절하여, 로딩 영역(M1), 코팅 영역(M3), 및 언로딩 영역(M5) 전체에 걸쳐 기판(G)의 하부에서 제공되는 부상력이 일정하게 제공될 수 있다(도 2e 참조). 또한, 제 1 내지 제 3 진공 레귤레이터(254a,254b,254c)는 각각 진공 펌핑 유닛(250)에서 복수의 제 1 내지 제 3 에어 흡입구(290a,290b,290c)로 흡입되는 에어의 양을 조절하여, 로딩 영역(M1), 코팅 영역(M3), 및 언로딩 영역(M5) 전체에 걸쳐 기판(G)의 하부에서 제공되는 흡입력이 일정하게 제공될 수 있다(도 2e 참조). 도 2e에 도시된 바와 같이 부상력은 상방향 실선 화살표로 표시되고, 흡입력은 하방향 점선 화살표로 표시되며, 부상력이 흡입력보다 큰 값을 갖는다. 이 경우, 순부상력(net floating force)(즉, 부상력과 흡입력의 차이값)은 기판(G)을 기판 부상 유닛(276) 상에서 대략 40 내지 50 ㎛ 범위의 일정한 부상 높이(Hf)로 유지할 수 있는 값을 갖도록 제어된다. 노즐 장치(278)와 기판(G) 간의 코팅 갭(Hc)은 대략 100 ㎛ 정도의 일정한 높이를 유지한다. 도 2e의 실시예에서는 설명의 편의상 부상 높이(Hf)가 코팅 갭(Hc)보다 더 큰 높이로 도시되어 있지만, 실제로는 부상 높이(Hf)가 코팅 갭(Hc)보다 더 낮은 높이를 갖는다는 점에 유의하여 한다.Meanwhile, referring to FIG. 2F, in the
또한, 도 2f의 실시예에서 코팅 영역부(276b) 상의 복수의 제 2 에어 분출구(288b) 및 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)의 단위 면적당 밀도와 언로딩 영역(M3)의 복수의 제 3 에어 분출구(288c) 및 복수의 제 3 에어 흡입구(290c)의 단위 면적당 밀도가 서로 상이한 것으로 도시되어 있지만, 당업자라면 코팅 영역(M3)의 복수의 제 2 에어 분출구(288b) 및 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)의 단위 면적 당 밀도와 언로딩 영역(M5)의 복수의 제 3 에어 분출구(288c) 및 복수의 제 3 에어 흡입구(290c)의 단위 면적당 밀도가 서로 동일하게 제공될 수 있다는 것을 충분히 이해할 수 있을 것이다. 이 경우, 제 2 및 제 3 에어 공급 레귤레이터(250b,250c) 중 어느 하나만이 복수의 제 2 및 제 3 에어 분출구(288b,288c)에 각각 연결되고, 제 2 및 제 3 진공 레귤레이터(254b,254c) 중 어느 하나만이 복수의 제 2 및 제 3 에어 흡입구(290b,290c)에 각각 연결될 수 있다는 것을 충분히 이해할 수 있을 것이다. 즉, 코팅 영역부(276b)가 하나의 장방형 플레이트로 이루어지고, 언로딩 영역부(276c)가 하나의 정방형 플레이트로 이루어지는 대신 코팅 영역부(276b)와 언로딩 영역부(276c)가 하나의 장방형 플레이트 또는 하나의 정방향 플레이트로 이루어질 수 있다.In addition, in the embodiment of FIG. 2F, the density per unit area of the plurality of second
또한, 도 2f를 참조하면, 코팅 영역(M3)에서 실제 코팅이 이루어지는 영역 C(점선 영역) 내에서는 기판(G)의 진행 방향과 수직으로 제공되는 복수의 제 2 에어 분출구(288b) 및 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)가 제공되지 않는 것이 바람직하다. 만일, 영역 C(점선 영역)가 복수의 제 2 에어 분출구(288b) 및 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)를 구비하는 경우 코팅액이 복수의 제 2 에어 분출구(288b) 및 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)가 막힐 수 있다. 이 경우, 막힌 복수의 제 2 에어 분출구(288b)는 에어의 공급에 의해 코팅액을 제거될 수 있지만, 미세 이물이 발생하는 단점이 있다. 또한, 막힌 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)는 코팅액을 제거하기 위해 진공 펌핑을 사용하면 코팅액이 복수의 제 2 에어 흡입구(290b) 내로 유입되어 기판 부상 유닛(276)의 고장을 일으킬 수 있다.In addition, referring to FIG. 2F, in the region C (dotted region) in which the actual coating is performed in the coating region M3, the plurality of second
따라서, 영역 C(점선 영역) 내에서는 기판(G)의 진행 방향과 수직으로 제공되는 복수의 제 2 에어 분출구(288b) 및 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)가 제공되지 않는 경우, 영역 C(점선 영역) 내에서 기판(G)은 부상력 및 흡입력이 존재하지 않는다. 영역 C(점선 영역)의 면적은 부상력 및 흡입력이 인가되는 기판(G) 전체의 면적에 비해 매우 작으므로, 영역 C(점선 영역) 내에서 발생하는 기판(G)에 대한 스트레스(응력: stress)의 값은 실질적으로 무시할 수 있는 수준의 값에 불과하다. 반면에, 영역 C(점선 영역)에서는 부상력 및 흡입력이 존재하지 않으므로 기판(G)의 진동 등이 발생하지 않는다. 따라서, 노즐 장치(278)에 의해 기판(G) 상에 코팅액의 도포가 매우 안정하게 이루어질 수 있다. 또한, 노즐 장치(278)에 의해 기판(G) 상에 코팅액의 도포가 완료된 후 노즐 장치(278) 내에 잔류하는 코팅액이 영역 C(점선 영역) 상에 도포될 수 있다. 이 경우, 영역 C(점선 영역)가 복수의 제 2 에어 분출구(288b) 및 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)가 없으므로 클리닝이 용이하게 이루어질 수 있다.Therefore, in the region C (dotted region), when the plurality of second
기판 부상 유닛의 제 2 실시예Second embodiment of the substrate floating unit
도 2g는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판 부상 유닛의 개략적인 평면도와 에어 분출구의 부상력과 에어 흡입구의 흡입력 간의 일정한 밸런스를 개략적으로 도시한 정면도이고, 도 2h는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판 부상 유닛의 에어 분출구 및 에어 흡입구의 배치 및 에어 공급 유닛 및 진공 펌핑 유닛을 개략적으로 도시한 평면도이다.FIG. 2G is a front view schematically showing a schematic plan view of a substrate floating unit according to a second embodiment of the present invention, and a constant balance between the floating force of the air ejection port and the suction force of the air inlet port, and FIG. 2H is a second embodiment of the present invention. It is a top view which shows schematically the arrangement | positioning of the air blower outlet and the air inlet of a board | substrate floating unit, and an air supply unit and a vacuum pumping unit according to an example.
도 2 g 및 도 2h를 도 2a 내지 도 2f와 함께 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판 부상 유닛(276)에서는 로딩 영역부(276a)는 복수의 제 1 에어 분출구(288a)만을 구비하고, 코팅 영역부(276b) 상에는 인터페이스 영역(M2) 및 코팅 영역(M3)이 제공된다는 점을 제외하고는 도 2e 및 도 2f에 도시된 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판 부상 유닛(276)과 실질적으로 동일하다. 따라서, 이하에서는 도 2e 및 도 2f에 도시된 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판 부상 유닛(276)과 상이한 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판 부상 유닛(276)에 대해 기술하기로 한다.Referring to FIGS. 2G and 2H together with FIGS. 2A to 2F, in the
다시 도 2 g 및 도 2h를 도 2a 내지 도 2f와 함께 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판 부상 유닛(276)에서는 로딩 영역부(276a)가 복수의 제 1 에어 분출구(288a)만을 구비한다. 코팅 영역부(276b)에는 인터페이스 영역(M2) 및 코팅 영역(M3)이 제공된다. 인터페이스 영역(M2) 및 코팅 영역(M3)은 복수의 제 2 에어 분출구(288b) 및 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)를 구비하되되, 인터페이스 영역(M2)에 제공되는 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)의 개수(또는 밀도)가 코팅 영역(M3)에 제공되는 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)의 개수(또는 밀도)보다 적다는 점에 유의하여야 한다. 언로딩 영역부(276c)는 복수의 제 3 에어 분출구(288c) 및 복수의 제 3 에어 흡입구(290c)를 구비한다(도 2h 참조). 복수의 제 1 에어 분출구(288a)는 제 1 에어 공급 레귤레이터(regulator: 250a)를 통해 에어 공급 유닛(250)과 연결되고, 복수의 제 2 에어 분출구(288b)는 제 2 에어 공급 레귤레이터(250b)를 통해 에어 공급 유닛(250)과 연결되며, 복수의 제 3 에어 분출구(288c)는 제 3 에어 공급 레귤레이터(250c)를 통해 에어 공급 유닛(250)과 연결된다. 또 한, 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)는 제 2 진공 레귤레이터(254b)를 통해 진공 펌핑 유닛(254)과 연결되며, 복수의 제 3 에어 흡입구(290c)는 제 3 진공 레귤레이터(254c)를 통해 진공 펌핑 유닛(254)과 연결된다. 여기서, 제 1 내지 제 3 에어 공급 레귤레이터(250a,250b,250c)는 각각 에어 공급 유닛(250)에서 복수의 제 1 내지 제 3 에어 분출구(288a,288b,288c)로 유입되는 에어의 양을 조절한다. 또한, 제 2 및 제 3 진공 레귤레이터(254b,254c)는 각각 진공 펌핑 유닛(250)에서 복수의 제 2 및 제 3 에어 흡입구(290b,290c)로 흡입되는 에어의 양을 조절한다. 그 결과, 로딩 영역부(276a)에서는 부상력만 제공되므로 기판(G)은 대략 150 내지 200㎛ 범위의 부상 높이(Ha)로 이송될 수 있다. 또한, 코팅 영역부(276b) 상의 인터페이스 영역(M2)에서는 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)의 흡입력에 의해 기판(G)의 부상 높이가 낮아진다. 그 후, 코팅 영역부(276b)의 코팅 영역(M3)에서부터 언로딩 영역(M5) 전체에 걸쳐 기판(G)의 하부에서 제공되는 부상력과 흡입력이 일정하게 제공된다(도 2g 참조). 따라서, 코팅 영역(M3)에서부터 언로딩 영역(M5)에 걸쳐 부상력과 흡입력의 차이값은 기판(G)을 기판 부상 유닛(276) 상에서 대략 40 내지 50 ㎛ 범위의 일정한 부상 높이(Hf)로 유지할 수 있는 값을 갖도록 제어된다.Referring again to FIGS. 2G and 2H together with FIGS. 2A to 2F, in the
또한, 도 2h의 실시예에서 코팅 영역(M3)의 복수의 제 2 에어 분출구(288b) 및 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)의 단위 면적당 밀도와 언로딩 영역(M5)의 복수의 제 3 에어 분출구(288c) 및 복수의 제 3 에어 흡입구(290c)의 단위 면적당 밀도가 서로 상이한 것으로 도시되어 있지만, 당업자라면 코팅 영역(M3)의 복수의 제 2 에어 분출구(288b) 및 복수의 제 2 에어 흡입구(290b)의 단위 면적당 밀도와 언로 딩 영역(M5)의 복수의 제 3 에어 분출구(288c) 및 복수의 제 3 에어 흡입구(290c)의 단위 면적당 밀도가 서로 동일하게 제공될 수 있다는 것을 충분히 이해할 수 있을 것이다. 이 경우, 제 2 및 제 3 에어 공급 레귤레이터(250b,250c) 중 어느 하나만이 복수의 제 2 및 제 3 에어 분출구(288b,288c)에 각각 연결되고, 제 2 및 제 3 진공 레귤레이터(254b,254c) 중 어느 하나만이 복수의 제 2 및 제 3 에어 흡입구(290b,290c)에 각각 연결될 수 있다는 것을 충분히 이해할 수 있을 것이다.In addition, in the embodiment of FIG. 2H, the density per unit area of the plurality of second
기판 이송 장치 및 코팅 장치의 제 1 실시예First embodiment of substrate transfer apparatus and coating apparatus
도 2a를 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판 이송 장치(284)는 도 2e 및 도 2f에 도시된 본 발명의 기판 부상 유닛(276)을 포함한다. 여기서, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치(284)는 기판 부상 유닛(276)을 제외하고는 도 1a에 도시된 종래 기술에 따른 부상방식의 기판 이송 장치(84)와 실질적으로 동일하다.Referring to FIG. 2A, the
좀 더 구체적으로, 도 2a를 도 1a, 도 2e 및 도 2f와 함께 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판 이송 장치(284)는 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부(276a), 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부(276b), 및 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부(276c)로 구성되는 기판 부상 유닛(276); 및 지지부(102) 및 상기 지지부(102) 상의 흡착 패드(104)를 구비하며(도 1a 참조), 상기 흡착 패드(104) 상에 기판(G)이 진공 흡착 방식으로 장착되는 한 쌍의 슬라이더(298), 및 상기 한 쌍의 슬라이더(298)가 이동 가능하게 장착되는 한 쌍의 리니 어 모션 가이드(296)로 구성되는 기판 이송 유닛(284a)을 포함하고, 상기 기판(G)은 상기 로딩 영역(M1), 상기 코팅 영역(M3), 및 상기 언로딩 영역(M5) 전체에 걸쳐 일정한 순부상력(net floating force)(즉, 부상력과 흡입력의 차이값)에 의해 일정한 부상 높이(Hf)를 유지하면서 이송되는 것을 특징으로 한다. 비록 도 2a의 실시예에서는 도시되어 있지 않지만, 도 1a의 종래 기술을 참조하면 지지부(102) 및 흡착 패드(104)를 구비한 한 쌍의 슬라이더(298)의 구성 및 동작은 당업자 수준에서 충분히 이해될 수 있다는 것은 자명하다.More specifically, referring to FIG. 2A in conjunction with FIGS. 1A, 2E, and 2F, the
또한, 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부(276a), 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부(276b), 및 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부(276c)로 구성되는 기판 부상 유닛(276)의 구체적인 구성 및 동작도 도 2e 및 도 2f를 참조하여 상세히 기술하였으므로 그 자세한 설명은 생략한다.Also, a
한편, 도 2a 내지 도 2d를 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅 장치(240)는 도 2e 내지 도 2f에 도시된 본 발명의 기판 부상 유닛(276)을 포함한다. 여기서, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅 장치(240)는 기판 부상 유닛(276)을 제외하고는 도 1a에 도시된 종래 기술에 따른 부상방식의 코팅 장치(40)와 실질적으로 동일하다.Meanwhile, referring to FIGS. 2A to 2D, the
도 2i는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅 장치(240)에 사용되는 복수의 기판 센터링 유닛 및 복수의 갭 센서를 개략적으로 도시한 평면도이다.2I is a plan view schematically illustrating a plurality of substrate centering units and a plurality of gap sensors used in the
도 2a 내지 도 2d를 도 1a, 도 2e, 도 2f 및 도 2i와 함께 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅 장치(240)는 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역 부(276a), 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부(276b), 및 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부(276c)로 구성되는 기판 부상 유닛(276); 기판(G)을 진공 흡착 방식으로 장착으로 장착하여 이송하는 기판 이송 유닛(284a); 상기 코팅 영역부(276b) 상에 제공되며, 상기 기판(G) 상에 코팅액을 도포하는 노즐 장치(278); 및 상기 노즐 장치(278)가 장착되는 갠트리(230)를 포함한다.Referring to FIGS. 2A-2D together with FIGS. 1A, 2E, 2F and 2I, the
또한, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅 장치(240)는 로딩 영역부(276a)에 제공되는 복수의 기판 센터링 유닛(centering unit: 260); 및 복수의 갭 센서(gap sensor: 262)를 추가로 포함할 수 있다. 여기서, 복수의 기판 센터링 유닛(260) 중 일부는 서로 이격되어 제공되는 복수의 부상 플레이트(P)로 이루어지는 로딩 영역부(276a)의 이격 공간(S) 내에 제공될 수 있다. 이러한 복수의 기판 센터링 유닛(260)은 기판(G)이 기판 이송 유닛(284a)의 한 쌍의 슬라이더(298) 상에 장착될 때 기판(G)의 얼라인을 제어한다. 또한, 복수의 갭 센서(262)는 한 쌍의 좌우 갭 센서(262a); 및 하나의 중앙 갭 센서(262b)로 구성되는 것이 바람직하다. 복수의 갭 센서(262) 중 한 쌍의 좌우 갭 센서(262a)는 로딩 영역부(276a)의 전방 단부 부근의 좌우측 이격 공간(S) 내에 제공되고, 중앙 갭 센서(262b)는 로딩 영역부(276a)의 전방 단부 부근의 중앙 부분의 이격 공간(S) 내에 제공된다. 좌우 갭 센서(262a)는 코팅 영역부(276b)의 좌우 수직 기준점(0점)을 미리 설정해준다. 그 결과, 노즐 장치(278)는 좌우 갭 센서(262a)에 의해 미리 설정된 좌우 수직 기준점으로부터 특정 높이(코팅 높이: Hc)에서 코팅액을 도포하도록 제어된다. 중앙 갭 센서(262b)는 선택적 사양으로 필수적으로 사용되어야 하는 것은 아니다. 노즐 장 치(278)는 장시간 사용됨에 따라 자중(self weight)에 의해 중앙 부분이 아래 방향으로 휘어질 수 있다. 중앙 갭 센서(262b)는 노즐 장치(278)의 휨량이 허용가능한 오차범위를 벗어나는지의 여부를 모니터링한다.In addition, the
또한, 도 2b를 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅 장치(240)는 로딩 영역부(276a)의 하부에 노즐 리프레시 부재(210)를 추가로 포함한다. 따라서, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅 장치(240)에서는 노즐 장치(278)가 노즐 리프레시 부재(210) 상으로 이송되어 세정이 행해진다. 노즐 리프레시 부재(210)는 노즐 장치(278)가 코팅액을 매회 도포한 후 노즐 장치(278)를 세정하기 위한 프라이밍 장치(212), 및 예를 들어 노즐 장치(278)가 예를 들어 코팅액을 20회 도포한 후 노즐 장치(278)를 세정하기 위한 노즐 세정 부재(214)를 포함한다. 이러한 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅 장치(240)에서는, 노즐 장치(278)가 갠트리(230)에 의해 노즐 리프레시 부재(210) 상으로 이동하므로, 종래 기술과는 달리 노즐 리프레시 부재(210)를 노즐 장치(278) 하부로 이송시키기 위한 별도의 이동 수단 등이 불필요하다. 따라서, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅 장치(240)는 사이즈가 감소되고, 동작이 단순화된다는 장점이 달성된다.In addition, referring to FIG. 2B, the
한편, 도 2j는 본 발명의 제 1 실시예의 대안적인 실시예에 따른 코팅 장치의 정면도를 개략적으로 도시한 도면이다.2J schematically shows a front view of the coating apparatus according to an alternative embodiment of the first embodiment of the present invention.
도 2j를 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예의 대안적인 실시예에 따른 코팅 장치(240)는 로딩 영역부(276a)의 상부에 노즐 리프레시 부재(210)를 추가로 포함한다. 따라서, 본 발명의 제 1 실시예의 대안적인 실시예에 따른 코팅 장치(240)에 서는 종래 기술과 마찬가지로 노즐 리프레시 부재(210)가 노즐 장치(278)의 하부로 이송되어 세정이 행해진다. 이 경우, 노즐 리프레시 부재(210)가 노즐 장치(278)의 하부로 이송되어 노즐 장치(278)의 세정이 이루어지는 동안 기판(G)이 로딩 영역부(276a) 상으로 로딩될 수 있으므로, 기판의 로딩 시간이 단축될 수 있다. 즉, 도 2j에 도시된 본 발명의 제 1 실시예의 대안적인 실시예에 따른 코팅 장치(240)에서는 코팅 장치(240)는 사이즈의 증가, 동작의 복잡화 및 시너의 비산이라는 단점이 있지만, 기판의 로딩 시간의 단축이라는 장점이 달성된다. 반면에, 도 2i에 도시된 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅 장치(240)에서는 기판의 로딩 시간이 길어지는 단점이 있지만, 코팅 장치(240)의 사이즈 감소, 동작의 단순화 및 시너 비산의 방지라는 장점이 달성된다. Referring to FIG. 2J, the
기판 이송 장치 및 코팅 장치의 제 2 실시예Second Embodiment of Substrate Transfer Device and Coating Device
도 2a를 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판 이송 장치(284)는 도 2g 내지 도 2h에 도시된 본 발명의 기판 부상 유닛(276)을 포함한다. 여기서, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 이송 장치(284)는 기판 부상 유닛(276)을 제외하고는 도 1a에 도시된 종래 기술에 따른 부상방식의 기판 이송 장치(84)와 실질적으로 동일하다.Referring to FIG. 2A, the
좀 더 구체적으로, 도 2a를 도 1a, 도 2g 및 도 2h와 함께 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판 이송 장치(284)는 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부(276a), 인터페이스 영역(M2) 및 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역 부(276b), 및 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부(276c)로 구성되는 기판 부상 유닛(276); 및 지지부(102) 및 상기 지지부(102) 상의 흡착 패드(104)를 구비하며(도 1a 참조), 상기 흡착 패드(104) 상에 기판(G)이 진공 흡착 방식으로 장착되는 한 쌍의 슬라이더(298), 및 상기 한 쌍의 슬라이더(298)가 이동 가능하게 장착되는 한 쌍의 리니어 모션 가이드(296)로 구성되는 기판 이송 유닛(284a)을 포함하고, 상기 기판(G)은 상기 로딩 영역(M1)에서는 제 1 부상 높이(Ha)를 유지하고, 상기 코팅 영역(M3) 및 상기 언로딩 영역(M5)에서는 제 2 부상 높이(Hf)를 유지하면서 이송되는 것을 특징으로 한다.More specifically, referring to FIG. 2A together with FIGS. 1A, 2G, and 2H, the
또한, 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부(276a), 인터페이스 영역(M2) 및 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부(276b), 및 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부(276c)로 구성되는 기판 부상 유닛(276)의 구체적인 구성 및 동작도 도 2g 및 도 2h를 참조하여 상세히 기술하였으므로 그 자세한 설명은 생략한다.Further, a
한편, 도 2a 내지 도 2d를 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 코팅 장치(240)는 도 2g 내지 도 2h에 도시된 본 발명의 기판 부상 유닛(276)을 포함한다. 여기서, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 코팅 장치(240)는 기판 부상 유닛(276)을 제외하고는 도 1a에 도시된 종래 기술에 따른 부상방식의 코팅 장치(40)와 실질적으로 동일하다.Meanwhile, referring to FIGS. 2A to 2D, the
도 2a 내지 도 2d를 도 1a, 도 2g, 도 2h 및 도 2i와 함께 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 코팅 장치(240)는 로딩 영역(M1)을 제공하는 로딩 영역부(276a), 인터페이스 영역(M2) 및 코팅 영역(M3)을 제공하는 코팅 영역부(276b), 및 언로딩 영역(M5)을 제공하는 언로딩 영역부(276c)로 구성되는 기판 부상 유닛(276); 기판(G)을 진공 흡착 방식으로 장착으로 장착하여 이송하는 기판 이송 유닛(284a); 상기 코팅 영역부(276b) 상에 제공되며 기판(G) 상에 코팅액을 도포하는 노즐 장치(278); 및 상기 노즐 장치(278)가 장착되는 갠트리(230)를 포함한다.Referring to FIGS. 2A-2D together with FIGS. 1A, 2G, 2H and 2I, the
또한, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 코팅 장치(240)는 로딩 영역부(276a)에 제공되는 복수의 기판 센터링 유닛(260); 및 복수의 갭 센서(262)를 추가로 포함할 수 있다. 여기서, 복수의 기판 센터링 유닛(260) 중 일부는 서로 이격되어 제공되는 복수의 부상 플레이트(P)로 이루어지는 로딩 영역부(276a)의 이격 공간(S) 내에 제공될 수 있다. 이러한 복수의 기판 센터링 유닛(260) 및 복수의 갭 센서(262)의 구체적인 구성 및 동작은 상술한 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅 장치(240)에서 상세히 기술하고 있으므로 생략한다.In addition, the
또한, 도 2b를 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 코팅 장치(240)는 로딩 영역부(276a)의 하부에 노즐 리프레시 부재(210)를 추가로 포함하여, 그 구체적인 구성 및 동작도 상술한 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅 장치(240)에서 상세히 기술하고 있으므로 생략한다.In addition, referring to FIG. 2B, the
상술한 본 발명의 제 1 및 제 2 실시예에 따른 코팅 장치(240)에서는, 로딩 영역, 코팅 영역, 및 언로딩 영역에서의 에어가 일정하게 분출된다. 따라서, 기판(G)은 코팅액이 도포된 이후 언로딩 영역에서 언로딩될 때까지 기판(G) 전체에 걸쳐 온도가 균일하게 유지되므로 코팅액이 건조되면서 두께 차이(즉, 얼룩)가 발생하지 않는다.In the
또한, 상술한 본 발명의 제 1 및 제 2 실시예에 따른 코팅 장치(240)에서는, 로딩 영역, 코팅 영역, 및 언로딩 영역 전체에 걸쳐 기판(G)의 부상 높이가 동일하다. 따라서, 기판(G)의 이동시 부상 높이의 차이가 없으므로 기판(G)에 스트레스가 가해지지 않으므로 기판(G)의 변형 또는 파손 발생 가능성이 현저하게 감소되고, 또한 진동 발생 가능성이 현저하게 낮아져서 코팅액의 정밀 도포가 가능해진다.In addition, in the
또한, 상술한 본 발명의 제 1 및 제 2 실시예에 따른 코팅 장치(240)에서는, 코팅 장치(240)의 사이즈 감소, 동작의 단순화 및 시너 비산의 방지라는 장점이 달성된다.In addition, in the
다양한 변형예가 본 발명의 범위를 벗어남이 없이 본 명세서에 기술되고 예시된 구성 및 방법으로 만들어질 수 있으므로, 상기 상세한 설명에 포함되거나 첨부 도면에 도시된 모든 사항은 예시적인 것으로 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다. 따라서, 본 발명의 범위는 상술한 예시적인 실시예에 의해 제한되지 않으며, 이하의 청구범위 및 그 균등물에 따라서만 정해져야 한다.Various modifications may be made by those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the following claims. It is not. Accordingly, the scope of the present invention should not be limited by the above-described exemplary embodiments, but should be determined only in accordance with the following claims and their equivalents.
도 1a는 종래 기술에 따른 부상방식의 기판 이송 장치 및 이를 구비한 도포 장치의 사시도를 개략적으로 도시한 도면이다.Figure 1a is a schematic view showing a perspective view of a substrate transfer apparatus of the floating method and a coating apparatus having the same according to the prior art.
도 1b는 도 1a에 도시된 종래 기술에 따른 부상방식의 기판 이송 장치 및 이를 구비한 도포 장치의 정면도를 개략적으로 도시한 도면이다.FIG. 1B schematically illustrates a front view of a substrate transfer apparatus of a floating method according to the related art shown in FIG. 1A and a coating apparatus having the same.
도 1c는 종래 기술의 부상방식의 기판 이송 장치의 로딩 영역, 코팅 영역, 및 언로딩 영역에서의 에어 분출구 및 에어 흡입구의 배열 패턴의 일부를 도시한 도면이다.FIG. 1C is a view showing a part of an arrangement pattern of air ejection openings and air intake openings in a loading region, a coating region, and an unloading region of a conventional substrate transfer apparatus.
도 2a는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치의 평면도이다.2A is a plan view of a substrate floating unit, and a substrate transfer apparatus and a coating apparatus including the same according to an embodiment of the present invention.
도 2b는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치를 개략적으로 도시한 정면도이다.FIG. 2B is a schematic front view of a substrate floating unit, and a substrate transfer apparatus and a coating apparatus including the same, according to an embodiment of the present invention.
도 2c는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치의 좌측면도이다.2C is a left side view of the substrate floating unit, and the substrate transfer apparatus and the coating apparatus including the same according to an embodiment of the present invention.
도 2d는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 부상 유닛, 및 이를 구비한 기판 이송 장치 및 코팅 장치의 우측면도면이다.Figure 2d is a right side view of the substrate floating unit, and the substrate transfer apparatus and coating apparatus having the same according to an embodiment of the present invention.
도 2e는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판 부상 유닛의 개략적인 평면도와 에어 분출구의 부상력과 에어 흡입구의 흡입력 간의 일정한 밸런스를 개략적으로 도시한 정면도이다.FIG. 2E is a front view schematically showing a schematic plan view of a substrate floating unit according to the first embodiment of the present invention, and a constant balance between the floating force of the air jet and the suction force of the air inlet;
도 2f는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판 부상 유닛의 에어 분출구 및 에 어 흡입구의 배치 및 에어 공급 유닛 및 진공 펌핑 유닛을 개략적으로 도시한 평면도이다.FIG. 2F is a plan view schematically illustrating the arrangement of the air jet port and the air inlet port of the substrate floating unit and the air supply unit and the vacuum pumping unit according to the first embodiment of the present invention.
도 2g는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판 부상 유닛의 개략적인 평면도와 에어 분출구의 부상력과 에어 흡입구의 흡입력 간의 일정한 밸런스를 개략적으로 도시한 정면도이다.FIG. 2G is a front view schematically showing a schematic plan view of a substrate floating unit according to a second embodiment of the present invention, and a constant balance between the floating force of the air jet and the suction force of the air inlet; FIG.
도 2h는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판 부상 유닛의 에어 분출구 및 에어 흡입구의 배치 및 에어 공급 유닛 및 진공 펌핑 유닛을 개략적으로 도시한 평면도이다.FIG. 2H is a plan view schematically showing the arrangement of the air jet port and the air inlet port of the substrate floating unit and the air supply unit and the vacuum pumping unit according to the second embodiment of the present invention.
도 2i는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 코팅 장치(240)에 사용되는 복수의 기판 센터링 유닛 및 복수의 갭 센서를 개략적으로 도시한 평면도이다.2I is a plan view schematically illustrating a plurality of substrate centering units and a plurality of gap sensors used in the
도 2j는 본 발명의 제 1 실시예의 대안적인 실시예에 따른 코팅 장치의 정면도를 개략적으로 도시한 도면이다. FIG. 2J schematically illustrates a front view of a coating apparatus according to an alternative embodiment of the first embodiment of the present invention. FIG.
Claims (28)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020090077826A KR101057355B1 (en) | 2009-08-21 | 2009-08-21 | Substrate Floating Unit, Substrate Transfer Device And Coating Device With The Same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020090077826A KR101057355B1 (en) | 2009-08-21 | 2009-08-21 | Substrate Floating Unit, Substrate Transfer Device And Coating Device With The Same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20110020102A true KR20110020102A (en) | 2011-03-02 |
KR101057355B1 KR101057355B1 (en) | 2011-08-17 |
Family
ID=43929499
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020090077826A KR101057355B1 (en) | 2009-08-21 | 2009-08-21 | Substrate Floating Unit, Substrate Transfer Device And Coating Device With The Same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101057355B1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20170113881A (en) * | 2016-03-28 | 2017-10-13 | 삼성디스플레이 주식회사 | Apparatus for manufacturing diplay device |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102100894B1 (en) | 2016-08-31 | 2020-04-16 | 씨디에스(주) | The drying with floating substrate device |
KR101865274B1 (en) | 2016-08-31 | 2018-06-07 | 씨디에스(주) | Device for floating substrate using sloped structure |
KR101958111B1 (en) | 2017-09-29 | 2019-03-14 | 씨디에스(주) | Device for floating substrate using sloped structure |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4378301B2 (en) * | 2005-02-28 | 2009-12-02 | 東京エレクトロン株式会社 | Substrate processing apparatus, substrate processing method, and substrate processing program |
JP2008147293A (en) | 2006-12-07 | 2008-06-26 | Dainippon Printing Co Ltd | Substrate supporting apparatus, substrate supporting method, substrate working apparatus, substrate working method, and manufacturing method of display device component |
-
2009
- 2009-08-21 KR KR1020090077826A patent/KR101057355B1/en active IP Right Grant
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20170113881A (en) * | 2016-03-28 | 2017-10-13 | 삼성디스플레이 주식회사 | Apparatus for manufacturing diplay device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101057355B1 (en) | 2011-08-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101179736B1 (en) | An Improved Floating Stage and A Substrate Floating Unit and A Coating Apparatus Having the Same | |
KR20100108194A (en) | Substrate transporting apparatus and substrate processing apparatus | |
JP4942589B2 (en) | Coating apparatus and coating method | |
JP5346643B2 (en) | Substrate coating apparatus and substrate coating method | |
CN111545381B (en) | Coating device and coating method | |
KR100733729B1 (en) | Substrates Aligning Apparatus | |
KR101057355B1 (en) | Substrate Floating Unit, Substrate Transfer Device And Coating Device With The Same | |
JP2012199413A (en) | Apparatus and method for forming coating film | |
JP2008076170A (en) | Substrate inspection device | |
KR101089613B1 (en) | A Device and Method for Finely Adjusting Height of Coating Region Stage of A Substrate Floating Unit, and A Substrate Floating Unit and A Coating Apparatus Having the Same | |
CN108525941B (en) | Coating apparatus and coating method | |
JP5550882B2 (en) | Coating device | |
KR20130017443A (en) | Substrate coating apparatus, substrate conveyance apparatus having the function for floating the surface and the method of conveying floating the substrate | |
KR101952444B1 (en) | Floating substrate coating apparatus | |
KR20110034341A (en) | A device and method for adjusting height of coating apparatus and a coating apparatus having the same | |
KR101043051B1 (en) | A Floating-Type Coating System and Method | |
KR20110081494A (en) | Apparatus for transferring a substrate | |
KR101161007B1 (en) | A Substrate Transferring Device in Coating Region and A Coating Apparatus Having the Same | |
KR20110058233A (en) | A device and method for controlling flatness of substrate in coating region and a coating apparatus having the same | |
JP5663297B2 (en) | Coating device | |
KR101202456B1 (en) | A Structure of Linear Motion Guide for Transferring Substrate Stably in Coating Region, and A Substrate Transferring Device and A Coating Apparatus Having the Same | |
KR102305397B1 (en) | Substrate transport apparatus and coating apparatus | |
JP5789416B2 (en) | Coating apparatus and coating method | |
CN111715473B (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
JP5518427B2 (en) | Coating device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150811 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160811 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170804 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180803 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190802 Year of fee payment: 9 |