KR20170093574A - Light emitting device - Google Patents

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Abstract

An embodiment discloses a light emitting device. The light emitting device includes a light emitting structure including a first semiconductor layer, an active layer, and a second semiconductor layer; a first pad electrically connected to the first semiconductor layer; a second pad electrically connected to the second semiconductor layer; and at least one first electrode disposed between the first semiconductor layer and the first pad. The first electrode includes a first region extended toward the second pad, and a second region bent along the side of the second pad. It is possible to provide a light emitting device capable of preventing a short circuit between an N-type electrode and a P-type pad.

Description

발광소자{LIGHT EMITTING DEVICE}[0001] LIGHT EMITTING DEVICE [0002]

실시 예는 발광소자에 관한 것이다.An embodiment relates to a light emitting element.

발광소자(LIGHT EMITTING DEVICE)는 전기에너지를 빛 에너지로 변환하는 화합물 반도체 소자로서, 화합물반도체의 조성비를 조절함으로써 다양한 색상구현이 가능하다.LIGHT EMITTING DEVICE is a compound semiconductor device that converts electric energy into light energy. It can realize various colors by controlling composition ratio of compound semiconductor.

질화물반도체 발광소자는 형광등, 백열등 등 기존의 광원에 비해 저소비 전력, 반영구적인 수명, 빠른 응답속도, 안전성, 환경친화성의 장점을 갖고 있다. 따라서, LCD(Liquid Crystal Display) 표시 장치의 백라이트, 백색 발광 다이오드 조명 장치, 자동차 헤드 라이트 등으로 응용이 확대되고 있다.The nitride semiconductor light emitting device has advantages of low power consumption, semi-permanent lifetime, fast response speed, safety, and environmental friendliness compared to conventional light sources such as fluorescent lamps and incandescent lamps. Therefore, applications are increasingly being applied to a backlight of a liquid crystal display (LCD), a white light emitting diode (LED) lighting device, and an automobile headlight.

실시 예는 N형 전극과 P형 패드의 쇼트를 방지할 수 있는 발광소자를 제공한다.The embodiment provides a light emitting device capable of preventing a short circuit between an N-type electrode and a P-type pad.

실시 예에 따른 발광소자는, 제1반도체층, 활성층 및 제2반도체층을 포함하는 발광구조물; 상기 제1반도체층과 전기적으로 연결되는 제1패드; 상기 제2반도체층과 전기적으로 연결되는 제2패드; 및 상기 제1반도체층과 제1패드 사이에 배치되는 적어도 하나의 제1전극을 포함하고, 상기 제1전극은 상기 제2패드를 향해 연장되는 제1영역 및 상기 제2패드의 측면을 따라 절곡된 제2영역을 포함한다.A light emitting device according to an embodiment includes a light emitting structure including a first semiconductor layer, an active layer, and a second semiconductor layer; A first pad electrically connected to the first semiconductor layer; A second pad electrically connected to the second semiconductor layer; And at least one first electrode disposed between the first semiconductor layer and the first pad, the first electrode having a first region extending toward the second pad and a second region extending along the side of the second pad, And the second region.

상기 제2패드는 서로 마주보는 제1면과 제2면, 및 상기 제1면과 제2면을 연결하고 서로 마주보는 제3면과 제4면을 포함하고, 상기 제1전극의 제1영역은 상기 제1면을 향해 연장되고, 상기 제2영역은 상기 제1면을 따라 절곡될 수 있다.Wherein the second pad comprises a first surface and a second surface facing each other and a third surface and a fourth surface facing each other connecting the first surface and the second surface, And the second region may be bent along the first surface.

상기 제1전극은 상기 제3면 또는 제4면을 따라 절곡되는 제3영역을 포함할 수 있다.The first electrode may include a third region bent along the third or fourth surface.

상기 제1전극은 상기 제3영역과 연결되고 상기 제4면을 따라 절곡된 제4영역을 포함할 수 있다.The first electrode may include a fourth region connected to the third region and folded along the fourth surface.

상기 제1전극은 상기 제2패드를 따라 절곡되어 상기 제2패드를 포위하는 루프를 형성할 수 있다.The first electrode may be folded along the second pad to form a loop surrounding the second pad.

상기 루프는 상기 제2패드를 향해 돌출되는 복수 개의 가지전극을 포함할 수 있다.The loop may include a plurality of branched electrodes protruding toward the second pad.

실시 예에 따르면, 외부 충격에 의해 미세 크랙이 발생한 경우에도 N형 전극과 P형 패드의 쇼트를 방지할 수 있다.According to the embodiment, short-circuiting between the N-type electrode and the P-type pad can be prevented even when microcracks are generated due to an external impact.

본 발명의 다양하면서도 유익한 장점과 효과는 상술한 내용에 한정되지 않으며, 본 발명의 구체적인 실시형태를 설명하는 과정에서 보다 쉽게 이해될 수 있을 것이다.The various and advantageous advantages and effects of the present invention are not limited to the above description, and can be more easily understood in the course of describing a specific embodiment of the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 발광소자의 평면도이고,
도 2는 도 1의 A-A 방향 단면도이고,
도 3은 종래 발광소자의 평면도이고,
도 4는 도 3의 B-B 방향 단면도이고,
도 5는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 발광소자의 평면도이고,
도 6은 본 발명의 또 다른 실시 예에 따른 발광소자의 평면도이고,
도 7은 발광소자의 발광분포를 측정한 시뮬레이션 결과이다.
1 is a plan view of a light emitting device according to an embodiment of the present invention,
Fig. 2 is a sectional view in the AA direction in Fig. 1,
3 is a plan view of a conventional light emitting device,
4 is a cross-sectional view taken along line BB in Fig. 3,
5 is a plan view of a light emitting device according to another embodiment of the present invention,
6 is a plan view of a light emitting device according to another embodiment of the present invention,
7 is a simulation result of measuring the light emission distribution of the light emitting device.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시 예를 가질 수 있는 바, 특정 실시 예를 도면에 예시하고 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명 실시 예를 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 실시 예의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.While the invention is susceptible to various modifications and alternative forms, specific embodiments thereof are shown by way of example in the drawings and will herein be described in detail. It should be understood, however, that the embodiments of the present invention are not intended to be limited to the specific embodiments but include all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the embodiments.

제 1, 제 2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 실시 예의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제 2 구성 요소는 제 1 구성 요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제 1 구성 요소도 제 2 구성 요소로 명명될 수 있다. 및/또는 이라는 용어는 복수의 관련된 기재된 항목들의 조합 또는 복수의 관련된 기재된 항목들 중의 어느 항목을 포함한다.Terms including ordinals, such as first, second, etc., may be used to describe various elements, but the elements are not limited to these terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the embodiments, the second component may be referred to as a first component, and similarly, the first component may also be referred to as a second component. And / or < / RTI > includes any combination of a plurality of related listed items or any of a plurality of related listed items.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명 실시 예를 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to limit the embodiments of the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In the present application, the terms "comprises" or "having" and the like are used to specify that there is a feature, a number, a step, an operation, an element, a component or a combination thereof described in the specification, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof.

실시 예의 설명에 있어서, 어느 한 element가 다른 element의 "상(위) 또는 하(아래)(on or under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, 상(위) 또는 하(아래)(on or under)는 두 개의 element가 서로 직접(directly)접촉되거나 하나 이상의 다른 element가 상기 두 element 사이에 배치되어(indirectly) 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 "상(위) 또는 하(아래)(on or under)"으로 표현되는 경우 하나의 element를 기준으로 위쪽 방향뿐만 아니라 아래쪽 방향의 의미도 포함할 수 있다.In the description of the embodiments, in the case where one element is described as being formed "on or under" another element, the upper (upper) or lower (lower) or under are all such that two elements are in direct contact with each other or one or more other elements are indirectly formed between the two elements. Also, when expressed as "on or under", it may include not only an upward direction but also a downward direction with respect to one element.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 실시 예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the accompanying drawings, wherein like or corresponding elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description thereof will be omitted.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 발광소자의 평면도이고, 도 2는 도 1의 A-A 방향 단면도이고, 도 3은 종래 발광소자의 평면도이고, 도 4는 도 3의 B-B 방향 단면도이다.1 is a plan view of a light emitting device according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along a line A-A of FIG. 1, FIG. 3 is a plan view of a conventional light emitting device, and FIG.

도 1과 도 2를 참고하면, 실시 예에 따른 발광소자(100)는, 제1반도체층(121), 활성층(122) 및 제2반도체층(123)을 포함하는 발광구조물(120)과, 제1반도체층(121)과 전기적으로 연결되는 제1패드(150), 제2반도체층(123)과 전기적으로 연결되는 제2패드(160), 및 제1반도체층(121)과 제1패드(150) 사이에 배치되는 적어도 하나의 제1전극(151)을 포함한다.1 and 2, a light emitting device 100 according to an embodiment includes a light emitting structure 120 including a first semiconductor layer 121, an active layer 122, and a second semiconductor layer 123, A first pad 150 electrically connected to the first semiconductor layer 121, a second pad 160 electrically connected to the second semiconductor layer 123, and a second pad 160 electrically connected to the first semiconductor layer 121, And at least one first electrode (151) disposed between the second electrode (150).

발광구조물(120)의 일측은 절연층에 의해 커버되고, 제1패드(150)과 제2패드(160)는 절연층을 관통하여 각각 제1반도체층(121) 및 제2반도체층(122)과 연결될 수 있다.One side of the light emitting structure 120 is covered with an insulating layer and the first pad 150 and the second pad 160 pass through the insulating layer to form the first semiconductor layer 121 and the second semiconductor layer 122, Lt; / RTI >

제1전극(151)는 제2패드(150)상에 복수개 배치되고, 전기적으로 연결된 서브전극(152)을 포함한다. 최외측에 배치된 제1전극(151)과 연결된 서브전극(152)은 제2패드(160)를 향해 연장되는 제1영역(152a) 및 제2패드(160)의 측면을 따라 절곡된 제2영역(152b, 152c)을 포함할 수 있다. 즉, 평면상에서 서브전극(152)은 제2패드(160)와 오버랩되지 않는다. 제1전극(151)과 서브전극(152)은 Cr/Ni/Au층 구조를 갖고 각각의 두께는 30/100/700nm일 수 있다. A plurality of first electrodes 151 are disposed on the second pad 150 and include sub electrodes 152 electrically connected to each other. The sub electrode 152 connected to the outermost first electrode 151 includes a first region 152a extending toward the second pad 160 and a second region 152b extending toward the second pad 160 along the side of the second pad 160. [ Regions 152b and 152c. That is, the sub electrode 152 does not overlap with the second pad 160 on the plane. The first electrode 151 and the sub electrode 152 may have a Cr / Ni / Au layer structure and each may have a thickness of 30/100/700 nm.

제2패드(160)는 4개의 측면을 포함하는 사각 형상을 가질 수 있다. 제2패드(160)는 서로 마주보는 제1면(160a)과 제2면(160b), 및 제1면(160a)과 제2면(160b)을 연결하고 서로 마주보는 제3면(160c)과 제4면(160d)을 포함한다. 제2패드(160)의 폭은 400um 내지 800um일 수 있다. The second pad 160 may have a rectangular shape including four sides. The second pad 160 includes a first surface 160a and a second surface 160b facing each other and a third surface 160c connecting the first surface 160a and the second surface 160b and facing each other, And a fourth surface 160d. The width of the second pad 160 may be between 400 and 800 um.

서브전극(152)의 제1영역(152a)은 제1면(160a)을 향해 연장된다. 제2영역(152b, 152c)은 제1면(160a)을 따라 절곡되고, 제3면(160c)과 발광소자의 테두리(100a) 사이, 또는 제4면(160d)과 발광소자의 테두리(100a) 사이에 배치될 수 있다. 서브전극(152)의 폭은 10um 내지 20um이고 두께는 0.1um 내지 1.0um일 수 있다.The first region 152a of the sub-electrode 152 extends toward the first surface 160a. The second regions 152b and 152c are bent along the first surface 160a and are disposed between the third surface 160c and the edge 100a of the light emitting device or between the fourth surface 160d and the edges 100a As shown in FIG. The sub electrode 152 may have a width of 10 mu m to 20 mu m and a thickness of 0.1 mu m to 1.0 mu m.

일 예로, 제2영역(152b, 152c)과 제2패드(160) 사이의 거리는 제2영역(152b, 152c)과 발광소자의 테두리(100a) 사이의 거리보다 좁을 수 있으나 반드시 이에 한정하지 않는다.For example, the distance between the second regions 152b and 152c and the second pad 160 may be narrower than the distance between the second regions 152b and 152c and the edge 100a of the light emitting device, but is not limited thereto.

서브전극(152)은 제3면(160c) 또는 제4면(160d)을 따라 절곡되어 제2면(160b)을 감싸는 제3영역(152d)을 더 포함할 수 있다.The sub electrode 152 may further include a third region 152d that is bent along the third surface 160c or the fourth surface 160d to surround the second surface 160b.

도 3 및 도 4를 참고하면, N형 전극(2)이 연장되어 P형 패드(1)상에 배치되는 경우 외부 충격 등에 의해 절연층에 크랙이 발생하면 N형 전극(2)과 P형 패드(1)가 쇼트되어 소자 불량이 발생할 수 있다. 또한, P형 패드(1)에 크랙이 발생하면 솔더가 칩 내부로 확산(Solder diffusion)되어 칩 특성이 파괴될 수도 있다.3 and 4, when the N-type electrode 2 is extended and disposed on the P-type pad 1, if cracks are generated in the insulating layer due to an external impact or the like, the N-type electrode 2 and the P- The device 1 may be short-circuited and the device may be defective. If a crack is generated in the P-type pad 1, the solder may be diffused into the chip to break the chip characteristics.

실시 예에 따른 발광소자는 평면상에서 제1전극(151)과 제2패드(160)가 오버랩되지 않으므로 외부 충격 등에 의해 크랙이 발생하여도 제1전극(151)과 제2패드(160)의 쇼트가 방지될 수 있다.Since the first electrode 151 and the second pad 160 do not overlap with each other on a plane, even if a crack occurs due to an external impact or the like, the short circuit between the first electrode 151 and the second pad 160 Can be prevented.

도 5를 참고하면, 서브전극(152)은 제2패드(160)의 측면을 전체적으로 감싸는 형태일 수도 있으나, 일부 측면(160b, 160c)만을 감싸는 형태일 수도 있다.Referring to FIG. 5, the sub electrode 152 may be formed to entirely cover the side surface of the second pad 160, but may surround only some of the side surfaces 160b and 160c.

도 6을 참고하면, 제1전극(151)들은 제2패드(160)를 향해 돌출된 가지전극(153)을 포함할 수 있다. 서브전극(152)의 폭은 10um 내지 20um일 수 있고, 가지전극(153)의 폭은 3um 내지 10um일 수 있다. 서로 마주보는 가지전극(153)의 거리는 600nm이내일 수 있다.Referring to FIG. 6, the first electrodes 151 may include branch electrodes 153 protruding toward the second pad 160. The width of the sub electrode 152 may be 10um to 20um, and the width of the branch electrode 153 may be 3um to 10um. The distance between the branch electrodes 153 facing each other may be within 600 nm.

제2패드(160)는 가지 전극과 대응되는 부분에 홈(162)이 형성될 수 있다. 따라서, 가지전극(153)과 제2패드(160)는 평면상에서 오버랩되지 않는다.The second pad 160 may have a groove 162 at a portion corresponding to the branch electrode. Therefore, the branched electrodes 153 and the second pads 160 do not overlap on a plane.

다시 도 2를 참고하면, 기판(110)은 전도성 기판 또는 절연성 기판을 포함한다. 기판(110)은 반도체 물질 성장에 적합한 물질이나 캐리어 웨이퍼일 수 있다. 기판(110)은 사파이어(Al2O3), GaN, SiC, GaAs, GaN, ZnO, Si, GaP, InP 및 Ge 중 선택된 물질로 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.Referring again to FIG. 2, the substrate 110 includes a conductive substrate or an insulating substrate. The substrate 110 may be a material suitable for semiconductor material growth or a carrier wafer. The substrate 110 may be formed of a material selected from the group consisting of sapphire (Al 2 O 3 ), GaN, SiC, GaAs, GaN, ZnO, Si, GaP, InP and Ge.

발광구조물(120)은 기판(110)의 일면(111)에 배치되며, 제1반도체층(121), 활성층(122), 및 제2반도체층(123)을 포함한다. 발광구조물(120)은 기판(110)을 절단하는 과정에서 복수 개로 분리될 수 있다.The light emitting structure 120 is disposed on one surface 111 of the substrate 110 and includes a first semiconductor layer 121, an active layer 122, and a second semiconductor layer 123. The light emitting structure 120 may be divided into a plurality of portions in the process of cutting the substrate 110.

제1반도체층(121)은 Ⅲ-Ⅴ족, Ⅱ-Ⅵ족 등의 화합물 반도체일 수 있으며, 제1반도체층(121)에 제1도펀트가 도핑될 수 있다. 제1반도체층(121)은 Inx1Aly1Ga1 -x1-y1N(0≤x1≤1, 0≤y1≤1, 0≤x1+y1≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료, 예를 들어 GaN, AlGaN, InGaN, InAlGaN 등에서 선택될 수 있다. 그리고, 제1도펀트는 Si, Ge, Sn, Se, Te와 같은 n형 도펀트일 수 있다. 제1도펀트가 n형 도펀트인 경우, 제1도펀트가 도핑된 제1반도체층(121)은 n형 반도체층일 수 있다.The first semiconductor layer 121 may be a compound semiconductor such as a III-V group or a II-VI group, and the first semiconductor layer 121 may be doped with a first dopant. The first semiconductor layer 121 is a semiconductor material having a composition formula of In x 1 Al y 1 Ga 1 -x 1 -y 1 N (0? X 1? 1 , 0? Y 1? 1 , 0? X 1 + y 1? 1 ) GaN, AlGaN, InGaN, InAlGaN, and the like. The first dopant may be an n-type dopant such as Si, Ge, Sn, Se, or Te. When the first dopant is an n-type dopant, the first semiconductor layer 121 doped with the first dopant may be an n-type semiconductor layer.

활성층(122)은 제1반도체층(121)을 통해서 주입되는 전자(또는 정공)과 제2반도체층(123)을 통해서 주입되는 정공(또는 전자)이 만나는 층이다. 활성층(122)은 전자와 정공이 재결합함에 따라 낮은 에너지 준위로 천이하며, 그에 상응하는 파장을 가지는 빛을 생성할 수 있다. 본 실시 예에서 발광 파장에는 제한이 없다.The active layer 122 is a layer where electrons (or holes) injected through the first semiconductor layer 121 and holes (or electrons) injected through the second semiconductor layer 123 meet. The active layer 122 transitions to a low energy level as electrons and holes are recombined, and light having a wavelength corresponding thereto can be generated. There is no limitation on the emission wavelength in this embodiment.

활성층(122)은 단일 우물 구조, 다중 우물 구조, 단일 양자 우물 구조, 다중 양자 우물(Multi Quantum Well; MQW) 구조, 양자점 구조 또는 양자선 구조 중 어느 하나의 구조를 가질 수 있으며, 활성층(122)의 구조는 이에 한정하지 않는다. The active layer 122 may have any one of a single well structure, a multiple well structure, a single quantum well structure, a multi quantum well (MQW) structure, a quantum dot structure, Is not limited thereto.

제2반도체층(123)은 Ⅲ-Ⅴ족, Ⅱ-Ⅵ족 등의 화합물 반도체로 구현될 수 있으며, 제2반도체층(123)에 제2도펀트가 도핑될 수 있다. 제2반도체층(123)은 Inx5Aly2Ga1-x5-y2N (0≤x5≤1, 0≤y2≤1, 0≤x5+y2≤1)의 조성식을 갖는 반도체 물질 또는 AlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP 중 선택된 물질로 형성될 수 있다. 제2도펀트가 Mg, Zn, Ca, Sr, Ba 등과 같은 p형 도펀트인 경우, 제2도펀트가 도핑된 제2반도체층(123)은 p형 반도체층일 수 있다.The second semiconductor layer 123 may be formed of a compound semiconductor such as a group III-V or II-VI group, and the second semiconductor layer 123 may be doped with a second dopant. The second semiconductor layer 123 may be a semiconductor material having a composition formula of In x 5 Al y 2 Ga 1 -x5-y 2 N (0? X 5? 1, 0? Y 2? 1, 0? X 5 + y 2? 1) , GaP, GaAs, GaAsP, and AlGaInP. When the second dopant is a p-type dopant such as Mg, Zn, Ca, Sr, or Ba, the second semiconductor layer 123 doped with the second dopant may be a p-type semiconductor layer.

도시되지는 않았으나 활성층(122)과 제2반도체층(123) 사이에는 전자 차단층(EBL)이 배치될 수 있다. 전자 차단층은 제1반도체층(121)에서 공급된 전자가 제2반도체층(123)으로 빠져나가는 흐름을 차단하여, 활성층(122) 내에서 전자와 정공이 재결합할 확률을 높일 수 있다. Although not shown, an electron blocking layer (EBL) may be disposed between the active layer 122 and the second semiconductor layer 123. The electron blocking layer can block the flow of electrons supplied from the first semiconductor layer 121 to the second semiconductor layer 123 and increase the probability of recombination of electrons and holes in the active layer 122.

발광구조물(120)은 제2반도체층(123)과 활성층(122)을 관통하여 제1반도체층(121)이 노출되는 제1홈(H1)이 형성될 수 있다. 제1홈(H1)에 의해 제1반도체층(121)도 일부 식각될 수 있다. 제1홈(H1)은 복수 개일 수 있다. 제1홈(H1)에는 제1전극(151)이 배치되어 제1반도체층(121)과 전기적으로 연결될 수 있다. 제2반도체층(123)의 하부에는 제2전극(131)이 배치될 수 있다.The light emitting structure 120 may have a first groove H1 through which the first semiconductor layer 121 is exposed through the second semiconductor layer 123 and the active layer 122. [ The first semiconductor layer 121 can also be partially etched by the first trench H1. The first grooves H1 may be plural. The first electrode 151 may be disposed in the first groove H1 and may be electrically connected to the first semiconductor layer 121. [ The second electrode 131 may be disposed under the second semiconductor layer 123.

제1전극(151)과 제2전극(131)은 ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), IZTO(indium zinc tin oxide), IAZO(indium aluminum zinc oxide), IGZO(indium gallium zinc oxide), IGTO(indium gallium tin oxide), AZO(aluminum zinc oxide), ATO(antimony tin oxide), GZO(gallium zinc oxide), SnO, InO, INZnO, ZnO, IrOx, RuOx, NiO, Ti, Al, Ni, Cr 및 이들의 선택적인 화합물 또는 합금 중에서 선택되며, 적어도 한 층으로 형성될 수 있다. 오믹전극의 두께는 특별히 제한하지 않는다.The first electrode 151 and the second electrode 131 may be formed of one selected from the group consisting of ITO (indium tin oxide), IZO (indium zinc oxide), IZTO (indium zinc tin oxide), IAZO (indium aluminum zinc oxide), IGZO ), IGTO (indium gallium tin oxide), AZO (aluminum zinc oxide), ATO (antimony tin oxide), GZO (gallium zinc oxide), SnO, InO, INZnO, ZnO, IrOx, RuOx, NiO, , Cr, and an optional compound or alloy thereof, and may be formed of at least one layer. The thickness of the ohmic electrode is not particularly limited.

보호층(141)은 제1전극(151)을 활성층(122) 및 제2반도체층(123)으로부터 절연할 수 있다. 보호층(141)은 제1전극(151)과 제2전극(131)이 형성되는 영역을 제외하고는 발광구조물(120)에 전체적으로 형성될 수 있다.The protective layer 141 may isolate the first electrode 151 from the active layer 122 and the second semiconductor layer 123. The protective layer 141 may be formed entirely in the light emitting structure 120 except for a region where the first electrode 151 and the second electrode 131 are formed.

보호층(141)은 Al, Cr, Si, Ti, Zn, Zr 중 적어도 하나를 갖는 산화물, 질화물, 불화물, 및 황화물 중 적어도 하나로 형성된 절연물질 또는 절연성 수지를 포함할 수 있다. 보호층(141)은 예컨대, SiO2, Si3N4, Al2O3, TiO2 중에서 선택적으로 형성될 수 있다. 보호층(141)은 단층 또는 다층으로 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The protective layer 141 may include an insulating material or an insulating resin formed of at least one of oxide, nitride, fluoride, and sulfide having at least one of Al, Cr, Si, Ti, Zn, and Zr. The protective layer 141 may be selectively formed, for example, of SiO2, Si3N4, Al2O3, and TiO2. The protective layer 141 may be formed as a single layer or a multilayer, but is not limited thereto.

반사전극층(132)은 제2전극(131)상에 배치될 수 있다. 반사전극층(132)은 금속성 또는 비금속성 재질로 형성될 수 있다. 금속성 반사전극층(132)은 In, Co, Si, Ge, Au, Pd, Pt, Ru, Re, Mg, Zn, Hf, Ta, Rh, Ir, W, Ti, Ag, Cr, Mo, Nb, Al, Ni, Cu, 및 WTi 중에서 선택된 금속 중 어느 하나를 포함할 수 있다.The reflective electrode layer 132 may be disposed on the second electrode 131. The reflective electrode layer 132 may be formed of a metallic or non-metallic material. The metallic reflective electrode layer 132 may be formed of a metal such as In, Co, Si, Ge, Au, Pd, Pt, Ru, Re, Mg, Zn, Hf, Ta, Rh, Ir, W, Ti, Ag, Cr, Mo, , Ni, Cu, and WTi.

제1절연층(142)은 반사전극층(132)이 배치된 발광구조물(120)을 전체적으로 커버한다. 제1절연층(142)은 Al, Cr, Si, Ti, Zn, Zr 중 적어도 하나를 갖는 산화물, 질화물, 불화물, 및 황화물 중 적어도 하나로 형성된 절연물질 또는 절연성 수지를 포함할 수 있다. 제1절연층(142)은 예컨대, SiO2, Si3N4, Al2O3, TiO2 중에서 선택적으로 형성될 수 있다. 제1절연층(142)은 단층 또는 다층으로 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The first insulating layer 142 entirely covers the light emitting structure 120 in which the reflective electrode layer 132 is disposed. The first insulating layer 142 may include an insulating material or an insulating resin formed of at least one of oxides, nitrides, fluorides, and sulfides having at least one of Al, Cr, Si, Ti, Zn, and Zr. The first insulating layer 142 may be selectively formed of, for example, SiO2, Si3N4, Al2O3, or TiO2. The first insulating layer 142 may be formed as a single layer or a multilayer, but is not limited thereto.

제1절연층(142)은 반사층일 수 있다. 구체적으로 제1절연층(142)은 제1굴절률을 갖는 제1층과 제2굴절률을 갖는 제2층이 교대로 2페어 이상 적층된 구조를 포함하며, 제1층과 제2층은 굴절률이 1.5~2.4 사이인 전도성 또는 절연성 물질로 형성될 수 있다. 이러한 구조는 DBR(distributed bragg reflection) 구조일 수 있다. 또한, 낮은 굴절률을 갖는 유전체층과 금속층이 적층된 구조(Omnidirectional Reflector)일 수도 있다.The first insulating layer 142 may be a reflective layer. Specifically, the first insulating layer 142 includes a structure in which a first layer having a first refractive index and a second layer having a second refractive index are alternately stacked two or more layers, and the first layer and the second layer have a refractive index And may be formed of a conductive or insulating material between 1.5 and 2.4. Such a structure may be a DBR (distributed bragg reflection) structure. Further, it may be a structure in which a dielectric layer having a low refractive index and a metal layer are laminated (Omnidirectional Reflector).

이러한 구성에 의하여 활성층(122)에서 제2반도체층(123) 방향으로 방출된 광은 대부분 기판(110)측으로 반사될 수 있다. 따라서, 반사 효율이 증가하고, 광 추출 효율이 개선될 수 있다.With this structure, most of the light emitted from the active layer 122 toward the second semiconductor layer 123 can be reflected toward the substrate 110 side. Therefore, the reflection efficiency can be increased and the light extraction efficiency can be improved.

제1패드(150)는 제1절연층(142)을 관통하여 제1전극(151)과 전기적으로 연결될 수 있다. 제1전극(151)은 기판(110)에 가까워질수록 면적이 커지는데 반해, 제1패드(150)는 기판(110)에 가까워질수록 면적이 작아진다.The first pad 150 may be electrically connected to the first electrode 151 through the first insulating layer 142. The area of the first electrode 151 becomes closer to the substrate 110 while the area of the first pad 150 becomes smaller as the area of the first pad 150 becomes closer to the substrate 110.

제2패드(160)는 제1절연층(142)을 관통하여 제2전극(131) 및 반사전극층(132)과 전기적으로 연결될 수 있다. The second pad 160 may be electrically connected to the second electrode 131 and the reflective electrode layer 132 through the first insulating layer 142.

제1패드(150)와 제2패드(160)는 In, Co, Si, Ge, Au, Pd, Pt, Ru, Re, Mg, Zn, Hf, Ta, Rh, Ir, W, Ti, Ag, Cr, Mo, Nb, Al, Ni, Cu, 및 WTi 중에서 선택된 금속 중 어느 하나를 포함할 수 있다.The first and second pads 150 and 160 may be formed of a material selected from the group consisting of In, Co, Si, Ge, Au, Pd, Pt, Ru, Re, Mg, Zn, Hf, Ta, Rh, Ir, Cr, Mo, Nb, Al, Ni, Cu, and WTi.

실시 예의 발광 소자는 도광판, 프리즘 시트, 확산 시트 등의 광학 부재를 더 포함하여 이루어져 백라이트 유닛으로 기능할 수 있다. 또한, 실시 예의 발광 소자는 표시 장치, 조명 장치, 지시 장치에 더 적용될 수 있다.The light emitting device of the embodiment further includes optical members such as a light guide plate, a prism sheet, and a diffusion sheet, and can function as a backlight unit. Further, the light emitting element of the embodiment can be further applied to a display device, a lighting device, and a pointing device.

이 때, 표시 장치는 바텀 커버, 반사판, 발광 모듈, 도광판, 광학 시트, 디스플레이 패널, 화상 신호 출력 회로 및 컬러 필터를 포함할 수 있다. 바텀 커버, 반사판, 발광 모듈, 도광판 및 광학 시트는 백라이트 유닛(Backlight Unit)을 이룰 수 있다.At this time, the display device may include a bottom cover, a reflector, a light emitting module, a light guide plate, an optical sheet, a display panel, an image signal output circuit, and a color filter. The bottom cover, the reflector, the light emitting module, the light guide plate, and the optical sheet may form a backlight unit.

반사판은 바텀 커버 상에 배치되고, 발광 모듈은 광을 방출한다. 도광판은 반사판의 전방에 배치되어 발광 모듈에서 발산되는 빛을 전방으로 안내하고, 광학 시트는 프리즘 시트 등을 포함하여 이루어져 도광판의 전방에 배치된다. 디스플레이 패널은 광학 시트 전방에 배치되고, 화상 신호 출력 회로는 디스플레이 패널에 화상 신호를 공급하며, 컬러 필터는 디스플레이 패널의 전방에 배치된다. The reflector is disposed on the bottom cover, and the light emitting module emits light. The light guide plate is disposed in front of the reflection plate to guide light emitted from the light emitting module forward, and the optical sheet includes a prism sheet or the like and is disposed in front of the light guide plate. The display panel is disposed in front of the optical sheet, and the image signal output circuit supplies an image signal to the display panel, and the color filter is disposed in front of the display panel.

그리고, 조명 장치는 기판과 실시 예의 발광 소자를 포함하는 광원 모듈, 광원 모듈의 열을 발산시키는 방열부 및 외부로부터 제공받은 전기적 신호를 처리 또는 변환하여 광원 모듈로 제공하는 전원 제공부를 포함할 수 있다. 더욱이 조명 장치는, 램프, 해드 램프, 또는 가로등 등을 포함할 수 있다.The lighting device may include a light source module including a substrate and a light emitting device of the embodiment, a heat dissipation unit that dissipates heat of the light source module, and a power supply unit that processes or converts an electric signal provided from the outside and provides the light source module . Further, the lighting device may include a lamp, a head lamp, or a street lamp or the like.

이상에서 설명한 본 발명 실시 예는 상술한 실시 예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 실시 예의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명 실시 예가 속하는 기술분야에서 종래의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various changes, substitutions, and alterations can be made hereto without departing from the spirit and scope of the invention as defined in the appended claims. Will be apparent to those of ordinary skill in the art.

Claims (6)

제1반도체층, 활성층 및 제2반도체층을 포함하는 발광구조물;
상기 제1반도체층과 전기적으로 연결되는 제1패드;
상기 제2반도체층과 전기적으로 연결되는 제2패드; 및
상기 제1반도체층과 제1패드 사이에 배치되는 적어도 하나의 제1전극을 포함하고,
상기 제1전극은 상기 제2패드를 향해 연장되는 제1영역 및 상기 제2패드의 측면을 따라 절곡된 제2영역을 포함하는 발광소자.
A light emitting structure including a first semiconductor layer, an active layer, and a second semiconductor layer;
A first pad electrically connected to the first semiconductor layer;
A second pad electrically connected to the second semiconductor layer; And
And at least one first electrode disposed between the first semiconductor layer and the first pad,
Wherein the first electrode includes a first region extending toward the second pad and a second region bent along a side of the second pad.
제1항에 있어서,
상기 제2패드는 서로 마주보는 제1면과 제2면, 및 상기 제1면과 제2면을 연결하고 서로 마주보는 제3면과 제4면을 포함하고,
상기 제1전극의 제1영역은 상기 제1면을 향해 연장되고, 상기 제2영역은 상기 제1면을 따라 절곡된 발광소자.
The method according to claim 1,
The second pad includes a first surface and a second surface facing each other, and a third surface and a fourth surface which connect the first surface and the second surface and face each other,
Wherein the first region of the first electrode extends toward the first surface and the second region is bent along the first surface.
제2항에 있어서,
상기 제1전극은 상기 제3면 또는 제4면을 따라 절곡되는 제3영역을 포함하는 발광소자.
3. The method of claim 2,
And the first electrode includes a third region bent along the third or fourth surface.
제3항에 있어서,
상기 제1전극은 상기 제3영역과 연결되고 상기 제4면을 따라 절곡된 제4영역을 포함하는 발광소자.
The method of claim 3,
And the first electrode includes a fourth region connected to the third region and being bent along the fourth surface.
제1항에 있어서,
상기 제1전극은 상기 제2패드를 따라 절곡되어 상기 제2패드를 감싸는 루프를 형성하는 발광소자.
The method according to claim 1,
Wherein the first electrode is folded along the second pad to form a loop surrounding the second pad.
제5항에 있어서,
상기 루프는 상기 제2패드를 향해 돌출되는 복수 개의 가지전극을 포함하는 발광소자.
6. The method of claim 5,
And the loop includes a plurality of branched electrodes protruding toward the second pad.
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