KR20170091396A - Transparent barrier film - Google Patents

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KR20170091396A
KR20170091396A KR1020160012359A KR20160012359A KR20170091396A KR 20170091396 A KR20170091396 A KR 20170091396A KR 1020160012359 A KR1020160012359 A KR 1020160012359A KR 20160012359 A KR20160012359 A KR 20160012359A KR 20170091396 A KR20170091396 A KR 20170091396A
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이광회
이문복
엄상열
구본재
박준우
이혜리
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Abstract

The present invention relates to a transparent barrier film on which an inorganic layer and an inorganic oxide layer are sequentially laminated on a transparent base material film layer. Provided is the transparent barrier film formed with a polymeric protection layer on top of the inorganic oxide layer and a refractive index adjustment layer whose refractive index is adjusted within 1.3-1.5 on the other side of the transparent base material film layer. The transparent barrier film increases interlayer adhesiveness and gas barrier properties, protects the inorganic oxide layer from external scratches owing to the polymeric protection layer, and also exhibits excellent visible light transmittance as well as low moisture permeability while maintaining excellent interlayer adhesiveness, through regulation of thickness of thin films and low refractive index in the refractive index adjustment layer.

Description

투명 배리어 필름{TRANSPARENT BARRIER FILM}Transparent barrier film {TRANSPARENT BARRIER FILM}

본 발명은 투명 배리어 필름에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 투명 기재필름층 상에, 무기물층 및 무기산화물층이 순차 적층되되, 상기 무기산화물층상에 고분자 보호층 및 상기 투명 기재필름층 이면에 굴절율 1.3 내지 1.5의 굴절율 조절층이 형성됨으로써, 상기 무기물층에 의해 층간 밀착력을 개선하고, 무기산화물층에 의해 가스 배리어성을 향상시키고, 상기 고분자 보호층에 의해 외부 스크래치 등으로부터 무기산화물층을 보호하고, 상기 굴절율 조절층의 낮은 굴절율과 박형의 두께 제어로 인해 우수한 층간 밀착력을 유지하면서 낮은 투습율 뿐만 아니라 우수한 가시광선 투과율을 구현한 투명 배리어 필름에 관한 것이다. The present invention relates to a transparent barrier film, and more particularly, to a transparent barrier film comprising an inorganic oxide layer and an inorganic oxide layer sequentially laminated on a transparent base film layer, wherein a polymer protective layer is formed on the inorganic oxide layer, By forming the refractive index control layer of 1.3 to 1.5, the interlayer adhesion is improved by the inorganic layer, the gas barrier property is improved by the inorganic oxide layer, the inorganic oxide layer is protected from the external scratches by the polymer protective layer And a transparent barrier film that exhibits an excellent visible ray transmittance as well as a low moisture permeability while maintaining an excellent interlaminar adhesion due to the control of the refractive index and the thin thickness of the refractive index control layer.

플라스틱 기판은 경량으로 내충격성이 우수하고 저렴하며 박막화도 용이하기 때문에, 수 많은 차세대 전자제품관련 분야에서 기판소재로서 유효하게 활용되고 있다.The plastic substrate is lightweight, has excellent impact resistance, is inexpensive, and can be easily thinned. Therefore, the plastic substrate is effectively utilized as a substrate material in a large number of next generation electronic products related fields.

그러나 플라스틱 기판은 유리에 비교하여 가스투과성이 높기 때문에 플라스틱 기판을 기재에 이용한 표시소자는 산소나 수증기의 투과로 인해 경시적으로 제품의 품질저하가 발생할 수 있다. However, since the plastic substrate has higher gas permeability than glass, the display device using the plastic substrate as the substrate may cause degradation of the product with time due to permeation of oxygen or water vapor.

예컨대, 대표적인 플라스틱 기판으로 사용되는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 재료는 두께 1㎛ 당 1500 g/m2·day이나 되는 높은 산소 투과율과 두께 1㎛ 당 272g/m2·day이나 되는 높은 수분 투과율을 갖는다. For example, a polyethylene terephthalate (PET) material used as a representative plastic substrate has a high oxygen permeability of 1500 g / m 2 · day per 1 μm thickness and a high moisture permeability of 272 g / m 2 · day per 1 μm thickness .

그러나 환경에 민감한 디스플레이 디바이스를 이용한 특정 디스플레이 장치들은 일반적으로 최대 10-4 내지 10-2 g/m2·day의 산소 투과율과 최대 10-5 내지 10-6 g/m2 ·day의 수분 투과율을 필요로 한다.However, a specific display device using a display device, sensitive to the environment, typically the moisture permeability of up to 10 -4 to 10 -2 g / m 2 · day and the oxygen transmission rate of up to 10 -5 to 10 -6 g / m 2 · day in need.

이에 따라 플라스틱 기판의 기체 및 액체 투과성을 낮추고, 제품의 가공, 조작, 보관 및 사용시 이용되는 화학물질이나 환경 중의 산소와 수증기와 같은 기체 및 액체에 대한 노출로부터, 환경에 민감한 제품을 보호하기 위하여 플라스틱 기판에는 배리어 코팅이 시도되어 왔다.In order to protect environmentally sensitive products from exposure to gases and liquids such as chemicals used in processing, handling, storage and use of products, and oxygen and water vapor in the environment, Barrier coatings have been attempted on substrates.

일본특허 제2556940호에는 수지로 이루어지는 기재상에, Si(O-CH3)4 등의 알콕시실란과, 에폭시실란 등의 실란 커플링제와 폴리비닐알콜을 포함하는 조성물을 졸-겔법에 의해 중축합하여 얻어지는 적층필름이 개시되어 있다. 그러나, 상기 발명의 피복층은 수소결합으로 이루어지기 때문에, 물에 의해 팽윤되어 용해되기 때문에, 가스 배리어성이 열화되기 쉬운 문제가 있다.Japanese Patent No. 2556940 discloses a method of polycondensing a composition comprising a siloxane coupling agent such as an epoxy silane, such as Si (O-CH 3 ) 4 , and a polyvinyl alcohol, on a substrate made of a resin by a sol-gel method Thereby obtaining a laminated film. However, since the coating layer of the present invention is made of hydrogen bonds, it swells and dissolves in water, so that the gas barrier property tends to be deteriorated easily.

또한, 일본 특허공고 소63-28017호에는 산화규소, 산화 알루미늄, 산화 마그네슘 등의 무기 산화물을 플라스틱 필름 상에 진공 증착법이나 스퍼터링법 등의 수단에 의해 증착한 증착막을 가지는 가스 배리어성 적층 필름에 대한 투명성 및 산소, 수증기 등의 가스 차단성이 보고되어 있다.Japanese Patent Publication No. 63-28017 discloses a gas barrier laminate film having a vapor deposition film obtained by depositing an inorganic oxide such as silicon oxide, aluminum oxide, or magnesium oxide on a plastic film by means of a vacuum evaporation method, a sputtering method, or the like. Transparency and gas barrier properties such as oxygen and water vapor have been reported.

이에 따라, 종래 배리어 필름은 규소 산화물이나 산화 알루미늄 등의 무기 산화 박막으로 이루어지는 가스 배리어층을 구비하고 있으며, 이러한 가스 배리어층은 고진공 상태에서 플라즈마 화학증착법(Plasma enhanced chemical vapor deposition, PECVD), 스퍼터링법(Sputtering) 등의 진공 증착법이나 졸-겔 법을 이용하여 플라스틱 필름의 표면에 코팅된다. Accordingly, the conventional barrier film has a gas barrier layer made of an inorganic oxide thin film such as silicon oxide or aluminum oxide. Such a gas barrier layer can be formed by a plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) method, a sputtering method And is coated on the surface of the plastic film by a vacuum deposition method such as sputtering or a sol-gel method.

그러나, 규소 산화물이나 산화 알루미늄의 박막으로 이루어지는 가스 배리어층은 무기 산화물 입자를 필름에 증착한 것이기 때문에, 무기 산화물 입자 간에 결정입계라는 틈이 존재하여 박막의 가스 배리어성이 충분하지 않아 막 두께를 두껍게 해야 한다. 이에 따라 연전성(부드러운 정도)이 낮아 크랙이 발생하기 쉽다는 또 다른 문제가 발생한다.However, since the gas barrier layer made of a thin film of silicon oxide or aluminum oxide is obtained by depositing inorganic oxide particles on a film, there is a gap called a grain boundary between the inorganic oxide particles and the gas barrier property of the thin film is insufficient, Should be. As a result, another problem arises that cracking is liable to occur due to the low degree of softness (softness).

또한, 무기 산화물의 산소 원자 비율이 적을수록 가스 배리어성은 향상되는 반면, 투명성이 저하되거나, 기판과 무기 산화물 입자의 밀착력이 약하다는 문제가 있다.In addition, the smaller the oxygen atom ratio of the inorganic oxide is, the better the gas barrier property is, while the transparency is lowered and the adhesion between the substrate and the inorganic oxide particles is weak.

본 발명자들은 종래 배리어 필름의 문제점을 개선하고자 노력한 결과, 플라스틱 기판 상에 밀착력 향상을 위한 무기물층을 도입하고, 무기산화물층을 순차적으로 적층하되 배리어성을 향상시킬 수 있도록, 상기 무기산화물층상에 고분자 보호층을 형성하여 외부 스크래치 등으로부터 무기산화물층을 보호하고, 상기 투명 기재필름층 이면에 굴절율 조절층을 형성하는 층 구조 설계에 의해, 우수한 층간 밀착력을 유지하면서 낮은 투습율 뿐만 아니라 가시광선 투과율이 90% 이상의 물성을 확인함으로써, 본 발명을 완성하였다. The present inventors have made efforts to improve the problems of the conventional barrier film. As a result, the inventors of the present invention have found that an inorganic layer for improving adhesion is introduced on a plastic substrate and a polymer layer is formed on the inorganic oxide layer, By forming a protective layer to protect the inorganic oxide layer from external scratches and the like and to form a refractive index control layer on the back surface of the transparent base film layer, By confirming the physical properties of 90% or more, the present invention has been completed.

본 발명의 목적은 투명성, 층간 밀착력 및 가스 배리어성 향상을 위한 최적화된 층 구조로 이루어진 투명 배리어 필름을 제공하는 것이다. An object of the present invention is to provide a transparent barrier film having an optimized layer structure for improving transparency, interlaminar adhesion and gas barrier property.

본 발명은 투명 기재필름층 상에, 무기물층 및 무기산화물층이 순차 적층되되, 상기 무기산화물층상에 형성된 고분자 보호층 및 상기 투명 기재필름층 이면에 형성된 굴절율 1.3 내지 1.5의 굴절율 조절층으로 이루어진 투명 배리어 필름을 제공한다. The present invention relates to a transparent substrate film, which comprises a transparent substrate film layer, an inorganic layer and an inorganic oxide layer which are successively laminated, and which has a polymer protective layer formed on the inorganic oxide layer and a refractive index control layer having a refractive index of 1.3 to 1.5, Barrier film.

상기 굴절율 조절층은 불소 또는 유기 실리콘 수지, 또는 중공 실리카 입자에 의해 굴절율이 1.3 내지 1.5 범위로 조절되고, 굴절율 조절층의 두께는 10 내지 500nm이 바람직하다.The refractive index control layer is adjusted to have a refractive index in the range of 1.3 to 1.5 by fluorine or organosilicon resin or hollow silica particles, and the thickness of the refractive index control layer is preferably in the range of 10 to 500 nm.

또한, 고분자 보호층은 습식코팅에 의해 0.1 내지 10㎛ 두께로 형성되고, 외부 스크래치 등으로부터 무기산화물층을 보호한다. Further, the polymer protective layer is formed to a thickness of 0.1 to 10 mu m by wet coating, and protects the inorganic oxide layer from external scratches or the like.

본 발명의 투명 배리어 필름에서 무기물층은 Si 또는 Al에서 선택된 어느 하나의 금속으로 이루어지되 두께 0.1 내지 50nm로 형성된다. In the transparent barrier film of the present invention, the inorganic layer is made of any one metal selected from Si or Al, and is formed with a thickness of 0.1 to 50 nm.

또한, 무기산화물층은 규소, 알루미늄, 아연, 주석, 니켈, 지르코늄 및 티타늄으로 이루어진 군에서 선택되는 금속의 산화물로 이루어지되, 두께 10 내지 100nm로 형성된다. The inorganic oxide layer is made of an oxide of a metal selected from the group consisting of silicon, aluminum, zinc, tin, nickel, zirconium and titanium, and has a thickness of 10 to 100 nm.

본 발명은 투명 기재필름층 상에, 무기물층 및 무기산화물층이 순차 적층되되, 투명성, 층간 밀착력 및 가스 배리어성 향상을 위한 최적화된 층 구조로 이루어진 투명 배리어 필름을 제공할 수 있다. The present invention can provide a transparent barrier film having an optimized layer structure for improving transparency, interlayer adhesion, and gas barrier property, in which an inorganic layer and an inorganic oxide layer are sequentially laminated on a transparent base film layer.

구체적으로는, 상기 무기산화물층상에 고분자 보호층을 형성하여 외부 스크래치 등으로부터 무기산화물층을 보호하고, 상기 투명 기재필름층 이면에 굴절율 조절층을 형성하여, 우수한 층간 밀착력을 유지하면서 낮은 투습율 뿐만 아니라 우수한 가시광선 투과율을 구현할 수 있다. More specifically, a polymer protective layer is formed on the inorganic oxide layer to protect the inorganic oxide layer from external scratches and the like, and a refractive index control layer is formed on the back surface of the transparent substrate film layer so that a low water vapor permeability But an excellent visible light transmittance can be realized.

도 1은 본 발명에 따른 투명 배리어 필름의 단면 모식도이다. 1 is a schematic cross-sectional view of a transparent barrier film according to the present invention.

도 1은 본 발명에 따른 투명 배리어 필름의 단면 모식도로서, 이를 참고하면, 1 is a cross-sectional schematic diagram of a transparent barrier film according to the present invention,

본 발명은 투명 기재필름층(200) 상에, 무기물층(300) 및 무기산화물층(400)이 순차 적층되되, An inorganic layer (300) and an inorganic oxide layer (400) are sequentially stacked on a transparent base film layer (200)

상기 무기산화물층(400)상에 형성된 고분자 보호층(500) 및 A polymer protective layer 500 formed on the inorganic oxide layer 400,

상기 투명 기재필름층(200) 이면에 형성된 굴절율 1.3 내지 1.5의 굴절율 조절층(100)으로 이루어진 투명 배리어 필름을 제공한다. And a refractive index control layer (100) having a refractive index of 1.3 to 1.5 formed on the back surface of the transparent base film layer (200).

이하, 각 층별 특징에 대하여 설명한다. Hereinafter, the characteristics of each layer will be described.

1) 굴절율 조절층(100) 1) The refractive index control layer 100

본 발명의 투명 배리어 필름에 있어서, 투명 기재필름층(200) 이면에, 광학특성(투과율) 향상을 위해 굴절율 조절층(100)을 형성한다. In the transparent barrier film of the present invention, the refractive index control layer 100 is formed on the back surface of the transparent base film layer 200 in order to improve optical characteristics (transmittance).

디스플레이 필름분야에서 투과율은 가장 중요한 물성 중 하나이다. 예를 들어 LCD의 경우, 적용되는 필름의 투과율이 향상됨으로써 휘도 향상기능과 소비전력을 줄이는 이점을 제공한다.Transmittance is one of the most important properties in the field of display films. For example, in the case of an LCD, the transmissivity of an applied film is improved, thereby providing an advantage of reducing brightness and reducing power consumption.

이상의 요건을 충족하기 위하여, 본 발명의 굴절율 조절층(100)은 굴절율(n) 1.3 내지 1.5범위로 조절되는 것이 바람직하고, 바인더 수지 10 내지 80중량%, 굴절율 조절을 위한 무기입자 5 내지 50중량% 및 광개시제 0.1 내지 10중량%가 용매에 함유된 고분자 수지액으로부터 습식코팅에 의해 형성한다. In order to satisfy the above requirements, the refractive index control layer 100 of the present invention is preferably adjusted to have a refractive index (n) in the range of 1.3 to 1.5, 10 to 80 wt% of the binder resin, 5 to 50 wt% % And 0.1 to 10% by weight of a photoinitiator are formed by wet coating from a polymer resin liquid contained in a solvent.

상기 습식코팅에 의해, 굴절율 조절층의 두께는 10 내지 500nm, 더욱 바람직하게는 10 내지 300nm로 형성되는 것이 바람직하며, 가장 바람직하게는 10 내지 100nm 두께와 낮은 굴절율로 제어될 때, 층간 밀착력을 유지하면서 낮은 투습율 뿐만 아니라 우수한 가시광선 투과율을 충족한다. By the wet coating, the thickness of the refractive index control layer is preferably 10 to 500 nm, more preferably 10 to 300 nm, most preferably 10 to 100 nm thick, and when controlled to a low refractive index, While satisfying low visible light transmittance as well as low moisture permeability.

이에, 굴절율 조절층(100)에서 사용되는 굴절율 조절을 위한 무기입자는 불소 수지와 같은 굴절율이 낮은 수지의 함량을 조절하여 굴절율을 조절하거나, 굴절율을 조절할 수 있는 입자로서, 중공 또는 다공성의 실리카 미립자를 사용할 수 있다. 한편, 상기 중공 실리카 입자의 굴절율은 아베 굴절계(ATAGO K.K. 제조)에 의해 측정된다. The inorganic particles for adjusting the refractive index used in the refractive index control layer 100 are particles capable of adjusting the refractive index or controlling the refractive index by controlling the content of the resin having a low refractive index such as fluororesin, and may be hollow or porous silica fine particles Can be used. On the other hand, the refractive index of the hollow silica particles is measured by an Abbe refractometer (manufactured by ATAGO K.K.).

상기 중공 실리카 입자는 일본 공개특허공보 제2001-233611호 및 제2002-79616호에 공지된 방법으로 제조하거나, 시판되는 중공 실리카 입자를 사용할 수도 있다.The hollow silica particles may be prepared by a method known in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-233611 and 2002-79616, or may be hollow silica particles commercially available.

본 발명의 굴절율 조절층(100)에 사용되는 중공 미립자의 크기는 평균입경이 40 내지 110nm인 것이 바람직하다. 이때, 상기의 범위 내에 포함되면, 캐비티의 비율이 만족스럽게 유지될 수 있고 굴절율을 충분히 감소시킬 수 있다. The hollow fine particles used in the refractive index control layer 100 of the present invention preferably have an average particle size of 40 to 110 nm. At this time, if it is within the above range, the ratio of the cavities can be satisfactorily maintained and the refractive index can be sufficiently reduced.

그 형상은 구형이 가장 바람직하지만, 입방체상, 방추형상, 또는 부정형이더라도 사용할 수 있다. 여기서 중공 실리카 입자의 평균 입자직경은 전자 현미경 사진으로부터 결정될 수 있다.The shape is most preferably spherical, but it can be a cubic, spindle-shaped, or irregular shape. Wherein the average particle diameter of the hollow silica particles can be determined from electron micrographs.

또한, 굴절율 조절층(100)에 사용되는 미립자는 분산을 용이하게 하기 위해 실란커플링제, 폴리올, 알킬올아민, 티타네이트 커플링제와 같은 유기화합물로 표면 처리될 수 있다In addition, the fine particles used in the refractive index control layer 100 may be surface-treated with an organic compound such as a silane coupling agent, a polyol, an alkylol amine, or a titanate coupling agent to facilitate dispersion

2) 투명 기재필름층(200) 2) The transparent base film layer 200

본 발명의 투명 배리어 필름에서, 투명 기재필름층(200)은 표시장치용으로서 사용하기 위해, 광선투과율이 높고, 헤이즈값이 낮은 것이 바람직하다. 예를 들면, 파장 400 내지 800nm에서의 광선투과율이 바람직하게는 60% 이상이며, 더욱 바람직하게는 85% 이상이다.In the transparent barrier film of the present invention, it is preferable that the transparent base film layer 200 has a high light transmittance and a low haze value for use as a display device. For example, the light transmittance at a wavelength of 400 to 800 nm is preferably 60% or more, and more preferably 85% or more.

또한, 헤이즈값은 5% 이하, 더욱 바람직하게는 2% 이하이다. 상기 조건을 만족시키지 않는 경우에는 디스플레이 표시부재로서 사용했을 때에 화상의 선명성이 결여된다. 또한, 이러한 효과를 발휘하는 점에서 광선투과율의 상한은 99.5% 정도까지, 헤이즈값의 하한은 0.1% 정도까지가 제작할 수 있다.The haze value is 5% or less, more preferably 2% or less. When the above condition is not satisfied, the sharpness of the image is poor when used as the display display member. In order to exhibit such effects, the upper limit of the light transmittance can be set to about 99.5%, and the lower limit of the haze value can be set to about 0.1%.

상기 투명 기재필름층의 재질은 공지의 투명 기재필름 소재 중에서 특별히 한정되지 않고 선택 사용될 수 있다. 바람직한 일례로는 에스테르, 에틸렌, 프로필렌, 디아세테이트, 트리아세테이트, 스티렌, 카보네이트, 메틸펜텐, 술폰, 에테르에틸케톤, 이미드, 불소, 나일론, 아크릴레이트, 지환족 올레핀계 등에서 선택되는 어느 하나의 구성단위를 포함하는 폴리머 또는 공중합 폴리머를 사용할 수 있다. The material of the transparent base film layer is not particularly limited and may be selected from known transparent base film materials. Preferable examples thereof include any one selected from among esters, ethylene, propylene, diacetate, triacetate, styrene, carbonate, methylpentene, sulfone, ether ethyl ketone, imide, fluorine, nylon, acrylate and alicyclic olefins Polymer or a copolymeric polymer containing units can be used.

더욱 바람직하게는 이들 수지 중에서 투명성, 강도 및 두께의 균일성이 우수한 소재로서 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 에스테르계, 트리아세틸셀룰로오스 등의 아세테이트계, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴레이트계에서 선택되는 어느 하나의 구성단위를 포함하는 폴리머 또는 공중합 폴리머를 사용한다. 특히, 투명성, 헤이즈값, 기계특성의 측면에서 에스테르계를 구성단위로 하는 폴리머로서, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌-a,?-비스(2-클로로페녹시)에탄-4,4'-디카르복실레이트 등에서 선택 사용할 수 있다. More preferably, among these resins, a material excellent in transparency, strength and uniformity of thickness is selected from an ester type such as polyethylene terephthalate, an acetate type such as triacetyl cellulose and an acrylate type such as polymethyl methacrylate Is used as the polymer or copolymer. In particular, polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene-a,? - bis (2-ethylhexyl) -Chlorophenoxy) ethane-4,4'-dicarboxylate, and the like.

또한, 상기의 폴리에스테르에는 또 다른 디카르복실산 성분이나 디올 성분이 20몰% 이하로 공중합된 것도 바람직하며 상기 수지성분에 1종 또는 2종 이상 병용하여도 좋으며, 품질, 경제성 등 종합적 판단 하에, 가장 바람직하게는 폴리에틸렌테레프탈레이트를 사용하는 것이다. It is also preferable that the above-mentioned polyester is copolymerized with another dicarboxylic acid component or diol component in an amount of not more than 20 mol%, and the polyester resin may be used singly or in combination of two or more thereof. , And most preferably polyethylene terephthalate.

투명 기재필름층(200)의 두께는 투명성, 헤이즈값, 기계특성의 측면을 고려하여 결정되며, 5 내지 800㎛, 더욱 바람직하게는 10 내지 250㎛이며, 2장 이상의 필름을 접합한 것이어도 좋다. The thickness of the transparent base film layer 200 is determined in consideration of the transparency, the haze value, and the mechanical characteristics, and is 5 to 800 탆, more preferably 10 to 250 탆, or two or more films may be bonded .

또한, 투명 기재필름층(200)은 각종 표면처리를 실시할 수 있으며, 그 일례로는 코로나 방전처리, 글로우 방전처리, 화염처리, 에칭처리, 조면화처리 등에서 선택 실시할 수 있다. 또한, 접착촉진을 위해 투명 기재필름층(200) 표면에 프라이머층을 실시할 수 있으며, 그 일례로 폴리우레탄계, 폴리에스테르계, 폴리에스테르 아크릴레이트계, 폴리우레탄아크릴레이트계, 폴리에폭시아크릴레이트계, 티타네이트계 화합물 등으로 코팅을 수행한 후, 고굴절 하드코팅층을 형성한다. The transparent base film layer 200 can be subjected to various surface treatments. For example, the transparent base film layer 200 can be selectively subjected to a corona discharge treatment, a glow discharge treatment, a flame treatment, an etching treatment, a roughening treatment, or the like. In addition, a primer layer may be formed on the surface of the transparent base film layer 200 for promoting adhesion. Examples of the primer layer include a polyurethane, polyester, polyester acrylate, polyurethane acrylate, and polyepoxyacrylate , A titanate compound or the like, and then a high refractive index hard coat layer is formed.

3) 무기물층(300) 및 무기산화물층(400) 3) Inorganic layer (300) and inorganic oxide layer (400)

본 발명의 투명 배리어 필름에서, 무기물층(300)은 투명 기재필름(200)과 무기산화물층(400)간의 밀착력 향상 및 가스 배리어성 향상을 위한 목적으로 도입되며, Si 또는 Al에서 선택된 금속이 선택 사용된다. In the transparent barrier film of the present invention, the inorganic layer 300 is introduced for the purpose of improving the adhesion between the transparent base film 200 and the inorganic oxide layer 400 and improving the gas barrier property, and the metal selected from Si or Al is selected Is used.

상기 무기물층(300) 두께는 1 내지 50nm, 바람직하게는 1 내지 20nm, 더욱 바람직하게는 1 내지 10nm 인 것을 특징으로 한다.The thickness of the inorganic layer 300 is 1 to 50 nm, preferably 1 to 20 nm, and more preferably 1 to 10 nm.

본 발명의 투명 배리어 필름에서, 무기산화물층(400)은 배리어성을 향상시키기 위해서 산소를 함유하는 것이 바람직하며, 구체적으로는 산화물, 산화규소물, 산화질화물, 산화탄화물 및 산화질화탄화물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종이 사용되며, 무기산화물층(400) 두께는 10 내지 1000nm, 더욱 바람직하게는 10 내지 100nm, 더욱 바람직하게는 20 내지 100nm로 형성되는 것이다.In the transparent barrier film of the present invention, the inorganic oxide layer 400 preferably contains oxygen in order to improve the barrier property. Specifically, the inorganic oxide layer 400 includes oxygen, silicon oxide, oxynitride, oxycarbide and oxynitride carbide And the inorganic oxide layer 400 is formed to have a thickness of 10 to 1000 nm, more preferably 10 to 100 nm, and still more preferably 20 to 100 nm.

이때, 무기산화물층(400)의 굴절율은 1.4 내지 1.55인 것이 바람직하며, 상기 굴절율이 1.4 미만이면, 두께 편차에 따른 간섭무늬 발생 가능성이 증가하고, 1.55를 초과하면, 투과율이 낮아져 바람직하지 않다.At this time, the refractive index of the inorganic oxide layer 400 is preferably from 1.4 to 1.55, and if the refractive index is less than 1.4, the possibility of interference fringes depending on the thickness variation increases, while if it exceeds 1.55, the transmittance becomes low.

이상의 무기물층(300) 및 무기산화물층(400)의 형성으로 인해 투명성을 향상시켜 투명 가스 배리어층 기능을 수행한다. The inorganic layer 300 and the inorganic oxide layer 400 are formed to improve the transparency and function as a transparent gas barrier layer.

이때, 무기물층(300) 및 무기산화물층(400)의 형성방법은 진공 증착, 이온 플레이팅, 스퍼터링 등의 물리적 기상 증착법(PVD) 및 화학적 기상 증착법(CVD) 중에서 선택 실시할 수 있다. The inorganic layer 300 and the inorganic oxide layer 400 may be formed by a physical vapor deposition (PVD) method such as vacuum deposition, ion plating, or sputtering, and a chemical vapor deposition (CVD) method.

4) 고분자 보호층(500) 4) Polymer protective layer 500

본 발명의 투명 배리어 필름에서, 무기산화물층(400)을 취급환경으로로부터 보호하기 위해 고분자 보호층(500)을 형성한다. In the transparent barrier film of the present invention, the polymer protective layer 500 is formed to protect the inorganic oxide layer 400 from the handling environment.

즉, 필름의 취급 시 발생하는 스크래치, 꺾임 등에 의해 무기산화물층(400)이 파손되는 것을 막아주는 역할을 한다.That is, it serves to prevent the inorganic oxide layer 400 from being broken due to scratches, bending, etc., which occur during handling of the film.

이때, 고분자 보호층(500)의 두께는 0.1 내지 10㎛, 더욱 바람직하게는 1 내지 5㎛로 형성된 것이다. 고분자 보호층(500)의 두께가 0.1㎛ 미만이면, 연필경도가 낮아지는 문제가 있고, 10㎛를 초과하면, 굴곡 시 크랙 발생의 문제가 발생한다. At this time, the thickness of the polymer protective layer 500 is 0.1 to 10 탆, more preferably 1 to 5 탆. If the thickness of the polymer protective layer 500 is less than 0.1 탆, the pencil hardness tends to be lowered. If the thickness exceeds 10 탆, cracks occur during bending.

이상의 고분자 보호층(500)은 1H 이상의 연필경도를 충족한다. The polymer protective layer 500 satisfies the pencil hardness of 1H or more.

본 발명의 고분자 보호층(500)은 바인더 수지 10 내지 80중량%, 잔량의 용매에 함유된 코팅액으로부터 습식코팅에 의해 형성된다. 경화 방식은 UV 경화 또는 열경화 방식이 적용될 수 있다. 상기 고분자 보호층의 코팅액에서 무기산화물층과의 부착력 향상을 위해 카르복실기, 인산기, 술폰산기 등의 산성 관능기를 가지는 (메타)아크릴레이트 화합물을 추가할 수 있다.The polymer protective layer 500 of the present invention is formed by wet coating from a coating liquid contained in a remaining amount of solvent of 10 to 80% by weight of a binder resin. The curing method may be a UV curing method or a thermosetting method. (Meth) acrylate compound having an acidic functional group such as a carboxyl group, a phosphoric acid group, or a sulfonic acid group may be added in order to improve the adhesion with the inorganic oxide layer in the coating solution of the polymeric protective layer.

구체적으로는, 산성 관능기 함유 모노머로서, 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, 2-메타크릴로일옥시에틸숙신산, 2-메타크릴로일옥시에틸프탈산 등을 포함하는 불포화 카르복실산, 모노(2-(메타)아크릴로일옥시에틸)애시드포스페이트, 디페닐-2-(메타)아크릴로일옥시에틸포스페이트 등을 포함하는 인산(메타)아크릴산에스테르, 2-술포에스테르(메타)아크릴레이트 등이 있다. Specific examples of the monomer containing an acidic functional group include unsaturated carboxylic acids including acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, 2-methacryloyloxyethylsuccinic acid, 2-methacryloyloxyethylphthalic acid and the like, mono (2 (Meth) acryloyloxyethyl) acid phosphate, diphenyl-2- (meth) acryloyloxyethyl phosphate, etc., and the like .

이상의 각 층 구조 및 그 두께가 최적화된 본 발명의 투명 배리어 필름은 향상된 가스 배리어성을 구현하면서, 동시에 투명성과 우수한 층간 밀착력을 충족한다.The transparent barrier film of the present invention in which the above-mentioned respective layer structures and the thickness thereof are optimized fulfills transparency and excellent interlayer adhesion at the same time while realizing an improved gas barrier property.

구체적으로는, 가공 후 필름의 (1) 투과율이 90% 이상, (2) 헤이즈 2% 이하, (3) 황색도(b*)가 1% 이하의 물성을 충족한다.Specifically, the film after processing satisfies the following properties: (1) the transmittance is 90% or more; (2) the haze is 2% or less; and (3) the yellowness (b *) is 1% or less.

또한, 본 발명의 투명 배리어 필름은 가공 후 필름의 투습율이 0.5g/㎡ㆍday 이하를 충족하는데, 층 구조에서 무기물층(300)의 두께 및 무기산화물층(400) 두께에 따라, 투습율이 달라진다. The transparent barrier film of the present invention satisfies the moisture permeability of the film after processing of not more than 0.5 g / m < 2 > day. In the layer structure, depending on the thickness of the inorganic layer 300 and the thickness of the inorganic oxide layer 400, Is different.

이하, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명하고자 한다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.

본 실시예는 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것이며, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.The present invention is intended to more specifically illustrate the present invention, and the scope of the present invention is not limited to these embodiments.

<< 실시예Example 1>  1>

투명 기재필름으로서, 두께 100㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (도레이첨단소재㈜의 XG7PL2)을 사용한 투명 기재필름층(200) 상에, 스퍼터 장비를 사용하여 10nm 두께의 Si층, 50nm 두께의 SiO2층을 연속으로 가공하여 무기물층(300) 및 무기산화물층(400)을 형성하였다.On the transparent base film layer 200 using a polyethylene terephthalate film (XG7PL2 of Toray Advanced Material Co., Ltd.) having a thickness of 100 占 퐉 as a transparent base film, a 10 nm thick Si layer, a 50 nm thick SiO 2 layer The inorganic layer 300 and the inorganic oxide layer 400 were formed.

상기 무기산화물층상에 UV경화성 수지(토요잉크사의 LCH1587) 함유액을 마이크로그라비아 코터를 이용하여 도포하고, 80℃에서 2분간 건조 후, 고압 수은 자외선 램프의 적산 광량 300mJ/㎠를 조사해서 도포층을 경화시켜 1㎛의 보호층(500)을 형성하였다.A liquid containing a UV curable resin (LCH1587, manufactured by Toyoko Co., Ltd.) was coated on the inorganic oxide layer using a micro gravure coater and dried at 80 DEG C for 2 minutes. Thereafter, an integrated amount of light of 300 mJ / And a protective layer 500 of 1 mu m was formed by curing.

상기 필름의 이면에 다관능 아크릴계 수지와 중공 실리카 미립자를 함유하는 도료(촉매화성 제품, ELCOM series, 굴절율(n)=1.38, 중공실리카 평균 입경 60nm)를 마이크로그라비아 코터로 도포하고, 80℃에서 2분간 건조 후, 고압 수은 자외선 램프의 적산 광량 300mJ/㎠를 조사해서 도포층을 경화시켜 40nm의 굴절율 조절층(100)을 형성하였다.(Refractive index (n) = 1.38, average particle diameter of hollow silica: 60 nm) containing polyfunctional acrylic resin and hollow silica fine particles was coated on the back surface of the film with a micro gravure coater, After drying for several minutes, the coated layer was cured by irradiating a cumulative light quantity of 300 mJ / cm 2 of a high pressure mercury ultraviolet lamp to form a 40 nm refractive index control layer 100.

<< 실시예Example 2>  2>

굴절율 조절층(100)의 두께를 70nm로 형성하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일하게 수행하여 배리어 필름을 제조하였다. A barrier film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the refractive index control layer 100 was changed to 70 nm.

<< 실시예Example 3>  3>

굴절율 조절층(100)의 두께를 100nm로 형성하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일하게 수행하여 배리어 필름을 제조하였다. A barrier film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the refractive index control layer 100 was 100 nm.

<< 실시예Example 4>  4>

굴절율 조절층(100)으로서 아크릴계 수지와 실리카 미립자를 함유하는 도료 (PELNOX 제품, XJA-0262-48, 굴절율(n)=1.48, 실리카 입자 평균 입경 20nm)를 마이크로그라비아 코터로 도포하고, 80℃에서 2분간 건조 후, 고압 수은 자외선 램프의 적산 광량 300mJ/㎠를 조사해서 도포층을 경화시켜 40nm 두께의 굴절율 조절층(100)을 형성시키는 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일하게 수행하여 배리어 필름을 제조하였다. (PELNOX product, XJA-0262-48, refractive index (n) = 1.48, average particle size of silica particles: 20 nm) was coated with a microgravure coater as the refractive index controlling layer 100 at 80 캜 After drying for 2 minutes, a barrier layer was cured by irradiating a cumulative light quantity of 300 mJ / cm 2 of a high-pressure mercury ultraviolet lamp to form a refractive index control layer 100 having a thickness of 40 nm, A film was prepared.

<< 실시예Example 5>  5>

굴절율 조절층(100)의 두께를 70nm로 형성하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 4과 동일하게 수행하여 배리어 필름을 제조하였다. A barrier film was produced in the same manner as in Example 4 except that the thickness of the refractive index control layer 100 was changed to 70 nm.

<< 실시예Example 6>  6>

굴절율 조절층(100)의 두께를 100nm로 형성하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 4과 동일하게 수행하여 배리어 필름을 제조하였다. A barrier film was prepared in the same manner as in Example 4 except that the thickness of the refractive index control layer 100 was 100 nm.

<< 실시예Example 7>  7>

굴절율 조절층(100)으로서 UV 경화성 수지(토요잉크사의 LCH1587, 굴절율(n)=1.53)를 마이크로그라비아 코터로 도포하고, 80℃에서 2분간 건조 후, 고압 수은 자외선 램프의 적산 광량 300mJ/㎠를 조사해서 도포층을 경화시켜 40nm의 굴절율 조절층(100)을 형성하는 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일하게 수행하여 배리어 필름을 제조하였다. A refractive index (n) = 1.53) was applied as a refractive index controlling layer 100 by using a microgravure coater and dried at 80 DEG C for 2 minutes, and then the accumulated light quantity of the high pressure mercury ultraviolet lamp was changed to 300 mJ / And the coating layer was cured by irradiation to form a refractive index control layer 100 of 40 nm, a barrier film was produced in the same manner as in Example 1. [

<< 실시예Example 8>  8>

굴절율 조절층(100)의 두께를 70nm로 형성하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 7과 동일하게 수행하여 배리어 필름을 제조하였다. A barrier film was prepared in the same manner as in Example 7 except that the thickness of the refractive index control layer 100 was changed to 70 nm.

<< 실시예Example 9>  9>

굴절율 조절층(100)의 두께를 100nm로 형성하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 7과 동일하게 수행하여 배리어 필름을 제조하였다. A barrier film was produced in the same manner as in Example 7 except that the thickness of the refractive index control layer 100 was 100 nm.

<< 실시예Example 10>  10>

무기물층 (300)의 두께를 20nm로 하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일하게 수행하여 배리어 필름을 제조하였다.A barrier film was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the inorganic layer 300 was 20 nm.

<< 실시예Example 11>  11>

무기산화물층(400)의 두께를 100nm로 하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일하게 수행하여 배리어 필름을 제조하였다.A barrier film was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the inorganic oxide layer 400 was 100 nm.

<< 비교예Comparative Example 1>  1>

굴절율 조절층(100)을 형성하지 않는 것을 제외하고는, 상기 실시예 11과 동일하게 수행하여 배리어 필름을 제조하였다.A barrier film was produced in the same manner as in Example 11 except that the refractive index control layer 100 was not formed.

<< 비교예Comparative Example 2>  2>

굴절율 조절층(100)과 보호층(500)을 형성하지 않는 것을 제외하고는, 상기 실시예 11과 동일하게 수행하여 배리어 필름을 제조하였다.A barrier film was produced in the same manner as in Example 11 except that the refractive index control layer 100 and the protective layer 500 were not formed.

<< 비교예Comparative Example 3>  3>

굴절율 조절층(100), 무기물층(300) 및 보호층(500)을 형성하지 않는 것을 제외하고는, 상기 실시예 11과 동일하게 수행하여 배리어 필름을 제조하였다.A barrier film was prepared in the same manner as in Example 11 except that the refractive index control layer 100, the inorganic layer 300 and the protective layer 500 were not formed.

Figure pat00001
Figure pat00001

상기 표 1의 결과로부터, 무기물층(300)으로서 Si, 무기산화물층(400)으로서 SiO2, 고분자 보호층(500) 및 기재필름(200) 이면에 형성된 굴절율 조절층(100)을 포함한 실시예 1 내지 11의 배리어 필름의 물성을 비교예 1 및 3의 배리어 필름과 비교 확인한 결과, 굴절율 조절층이 형성되지 않은 경우보다, 굴절율 조절층이 형성됨으로써, 필름투과율이 향상되었다. 이때, 필름투과율은 굴절율 조절층(100)의 굴절율과 두께를 조절함으로써 향상시킬 수 있었다. From the results shown in the above Table 1, it can be seen that in the embodiment including Si as the inorganic layer 300, SiO 2 as the inorganic oxide layer 400, the polymer protective layer 500, and the refractive index control layer 100 formed on the back surface of the substrate film 200 The physical properties of the barrier films 1 to 11 were compared with those of the barrier films of Comparative Examples 1 and 3, and as a result, the refractive index control layer was formed rather than the case where no refractive index control layer was formed, thereby improving the film transmittance. At this time, the film transmittance could be improved by adjusting the refractive index and thickness of the refractive index control layer 100.

또한 무기물층(300)의 유무에 따라 기재필름(200)과 무기산화물층(400) 사이의 밀착력 차이가 발생하였고, 무기산화물층(400) 상에 고분자 보호층(500)을 가공함으로써 취급환경에 의한 무기산화물층의 파손을 최소화하여 배리어성을 유지할 수 있음을 확인하였다. The difference in adhesion between the substrate film 200 and the inorganic oxide layer 400 occurs depending on the presence or absence of the inorganic layer 300 and the polymer protective layer 500 is processed on the inorganic oxide layer 400 It is confirmed that the barrier property can be maintained by minimizing the breakage of the inorganic oxide layer by the above-mentioned method.

상기에서 살펴본 바와 같이, 본 발명은 투명 기재필름층 상에, 무기물층 및 무기산화물층이 순차 적층되되, 투명성, 층간 밀착력 및 가스 배리어성 향상을 위한 최적화된 층 구조로서, 상기 무기산화물층상에 형성된 고분자 보호층 및 상기 투명 기재필름층 이면에 형성된 굴절율 조절층으로 이루어진, 물성이 개선된 투명 배리어 필름을 제공하였다. 즉, 상기 고분자 보호층에 의해 외부 스크래치 등으로부터 무기산화물층을 보호하고, 굴절율 조절층에 의해 우수한 층간 밀착력을 유지하면서 낮은 투습율 뿐만 아니라 가시광선 투과율, 헤이즈 등의 광 특성을 개선하였다. As described above, the present invention provides an organic EL device having an optimized layer structure for sequentially stacking an inorganic layer and an inorganic oxide layer on a transparent base film layer and improving transparency, interlayer adhesion and gas barrier property, A polymer protective layer and a refractive index control layer formed on the back surface of the transparent base film layer. That is, the polymer protective layer protects the inorganic oxide layer from external scratches and improves optical properties such as visible light transmittance and haze as well as low moisture permeability while maintaining excellent interlaminar adhesion by the refractive index control layer.

이에, 본 발명의 투명 배리어 필름은 층 구조 및 그 두께를 최적함으로써, 종래 배리어 필름에 요구되는 물성을 충족하였다. Thus, the transparent barrier film of the present invention satisfied the physical properties required for the conventional barrier film by optimizing the layer structure and the thickness thereof.

이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is evident that many alternatives, modifications and variations will be apparent to those skilled in the art.

100: 굴절율 조절층
200: 투명 기재필름층
300: 무기물층
400: 무기산화물층
500: 고분자 보호층
100: refractive index control layer
200: transparent base film layer
300: inorganic layer
400: inorganic oxide layer
500: polymer protective layer

Claims (6)

투명 기재필름층 상에, 무기물층 및 무기산화물층이 순차 적층되되,
상기 무기산화물층상에 형성된 고분자 보호층 및
상기 투명 기재필름층 이면에 형성된 굴절율 1.3 내지 1.5의 굴절율 조절층으로 이루어진 투명 배리어 필름.
An inorganic material layer and an inorganic oxide layer are sequentially laminated on the transparent base film layer,
A polymer protective layer formed on the inorganic oxide layer and
And a refractive index control layer having a refractive index of 1.3 to 1.5 formed on the back surface of said transparent base film layer.
제1항에 있어서, 상기 굴절율 조절층이 불소 또는 유기 실리콘 수지 또는 중공 실리카 입자에 의해 굴절율이 조절된 것을 특징으로 하는 투명 배리어 필름.The transparent barrier film of claim 1, wherein the refractive index control layer is formed of fluorine or organosilicon resin or hollow silica particles. 제1항에 있어서, 상기 굴절율 조절층이 10 내지 500nm 두께로 형성된 것을 특징으로 하는 투명 배리어 필름.The transparent barrier film of claim 1, wherein the refractive index control layer is formed to a thickness of 10 to 500 nm. 제1항에 있어서, 상기 고분자 보호층이 습식코팅에 의해 0.1 내지 10㎛ 두께로 형성된 것을 특징으로 하는 투명 배리어 필름.The transparent barrier film of claim 1, wherein the polymer protective layer is formed by a wet coating to a thickness of 0.1 to 10 mu m. 제1항에 있어서, 상기 무기물층이 Si 또는 Al에서 선택된 금속으로 두께 0.1 내지 50nm로 형성된 것을 특징으로 하는 투명 배리어 필름.The transparent barrier film of claim 1, wherein the inorganic layer is formed of a metal selected from Si or Al to a thickness of 0.1 to 50 nm. 제1항에 있어서, 상기 무기산화물층이 규소, 알루미늄, 아연, 주석, 니켈, 지르코늄 및 티타늄으로 이루어진 군에서 선택되는 금속의 산화물로 두께 10 내지 100nm로 형성된 것을 특징으로 하는 투명 배리어 필름.The transparent barrier film of claim 1, wherein the inorganic oxide layer is an oxide of a metal selected from the group consisting of silicon, aluminum, zinc, tin, nickel, zirconium and titanium to a thickness of 10 to 100 nm.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2018113274A (en) * 2017-01-06 2018-07-19 大日本印刷株式会社 Method for manufacturing barrier film
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