JP2003240906A - Antireflection body and method for manufacturing the same - Google Patents

Antireflection body and method for manufacturing the same

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JP2003240906A
JP2003240906A JP2002043476A JP2002043476A JP2003240906A JP 2003240906 A JP2003240906 A JP 2003240906A JP 2002043476 A JP2002043476 A JP 2002043476A JP 2002043476 A JP2002043476 A JP 2002043476A JP 2003240906 A JP2003240906 A JP 2003240906A
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JP
Japan
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refractive index
index layer
layer
hard coat
resin
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Japanese (ja)
Inventor
Toshio Yoshihara
俊夫 吉原
Utako Mizuno
歌子 水野
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection body in which the adhesiveness between a low refractive index layer on the surface of the reflective body and a hard coat layer or a high refractive index layer as a lower layer is improved, and to provide a method of manufacturing the same. <P>SOLUTION: The antireflection body 1 has a multilayer structure of a base body 2, a hard coat layer 3 and a low refractive index layer, or of a base body 2, a hard coat layer 3, a high refractive index layer 6 and a low refractive index layer. The structure has an impregnated part 5A or 5B by impregnating the lower layer of the low refractive index layer with the component of the composition for the formation of the low refractive index layer while the lower layer is partially hardened and then hardening the layer. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ハードコート層上
に直接、もしくは他の層を介して低屈折率層が積層され
た積層構造を有し、ハードコート層と低屈折率層との
間、もしくはハードコート層に設けられた他の層と低屈
折率層との間の密着性が向上した反射防止体に関するも
のである。また、本発明は、そのような各層間の密着性
を向上させることが可能な積層方法を含む、反射防止体
の製造方法に関するものでもある。
TECHNICAL FIELD The present invention has a laminated structure in which a low refractive index layer is laminated directly on a hard coat layer or via another layer. Alternatively, the present invention relates to an antireflection body having improved adhesion between another layer provided in the hard coat layer and the low refractive index layer. The present invention also relates to a method for producing an antireflection body, which includes a laminating method capable of improving the adhesion between the layers.

【0002】[0002]

【従来の技術】ガラス板、プラスチックフィルム等の透
視性を維持し、表面の反射を防止すること、もしくは、
それ自体は透視性を有しない種々の物品の表面における
反射を防止することはよく行なわれている。中でも、透
視の必要な建築物や車両の窓、各種機器の計器や表示装
置(=ディスプレイ)においては、それらの機能上、透
視性と反射防止性を兼ね備えることは特に重要である。
2. Description of the Related Art To maintain the transparency of a glass plate, a plastic film, etc. and prevent reflection on the surface, or
It is common practice to prevent reflections on the surface of various articles that are not transparent in their own right. Above all, it is particularly important to have both the transparency and the antireflection property in terms of their functions in a building or a vehicle window that needs to be seen through, or an instrument or a display device (= display) of various devices.

【0003】表面の反射を抑制するには、対象となる表
面を構成する素材の屈折率よりも低い低屈折率層を反射
防止層として設ける必要があるが、反射防止層は最表面
に位置することから、同時に表面の物理的耐久性および
化学的耐久性を要求され、中でも表面の耐擦傷性が強く
要求される。このため、通常は、反射防止層である低屈
折率層の下層にハードコート層を設けている。
In order to suppress the reflection on the surface, it is necessary to provide a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the material forming the target surface as the antireflection layer. The antireflection layer is located on the outermost surface. Therefore, the physical and chemical durability of the surface is required at the same time, and the scratch resistance of the surface is particularly required. Therefore, a hard coat layer is usually provided below the low refractive index layer which is the antireflection layer.

【0004】ハードコート層は、文字通り硬いコーティ
ング層を指し、このような層を形成するための塗料層組
成物を構成する樹脂としては、硬いコーティング層を与
えることが可能な樹脂が選定される。しかしながら、硬
いコーティング層を与える樹脂は、一般に分子量が高い
か、もしくは密度が高い等により、溶剤に対する溶解度
が低いことが多いので、一旦形成したハードコート層上
に、低屈折率層形成用塗料組成物を用いて低屈折率層を
形成すると、ハードコート層と低屈折率層との密着性が
不十分になりやすい。この密着が不十分になりやすい傾
向は、ハードコート層を熱硬化性樹脂、もしくは電離放
射線硬化性樹脂を樹脂成分とする塗料組成物を用いて形
成した場合は一層、顕著であり、このような場合、ハー
ドコート層上に設けた低屈折率層の密着性はかなり低く
なり、このことにより、耐擦傷性が低下したり、取扱い
中に低屈折率層が剥離する等の支障があり得る。
The hard coat layer literally refers to a hard coating layer, and as the resin constituting the paint layer composition for forming such a layer, a resin capable of providing a hard coating layer is selected. However, a resin that gives a hard coating layer generally has a low solubility in a solvent due to its high molecular weight or high density. Therefore, a coating composition for forming a low refractive index layer is formed on a hard coat layer once formed. When the low refractive index layer is formed using a material, the adhesion between the hard coat layer and the low refractive index layer tends to be insufficient. The tendency that the adhesion tends to be insufficient is more remarkable when the hard coat layer is formed using a coating composition containing a thermosetting resin or an ionizing radiation curable resin as a resin component. In this case, the adhesion of the low-refractive index layer provided on the hard coat layer becomes considerably low, and this may cause problems such as reduced scratch resistance and peeling of the low-refractive index layer during handling.

【0005】同様なことが、ハードコート層上に他の層
を介して低屈折率層を積層する場合にも起こる。ハード
コート層と低屈折率層との間には、反射防止性を高める
意味で、高屈折率層を設けることが多いが、この高屈折
率層と低屈折率層との間の密着性も、ハードコート層と
低屈折率層との間の密着性と同様、低くなりやすい。反
射防止性向上の意味では、このような高屈折率層と低屈
折率層の積層以外にも中屈折率層、高屈折率層、および
低屈折率層の積層等、種々の積層構造があり得るが、最
後の低屈折率層を積層する対象は高屈折率層となること
が多い。また、表面に導電性を付与するものの場合、導
電層を積層したものの上に、低屈折率層を積層すること
もあり得る。
The same phenomenon occurs when a low refractive index layer is laminated on a hard coat layer via another layer. A high-refractive-index layer is often provided between the hard coat layer and the low-refractive-index layer in order to enhance antireflection property, but the adhesion between the high-refractive-index layer and the low-refractive-index layer is also high. Like the adhesion between the hard coat layer and the low refractive index layer, it tends to be low. In the sense of improving antireflection property, there are various laminated structures such as a middle refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer other than such a high refractive index layer and a low refractive index layer. However, the object of laminating the last low refractive index layer is often a high refractive index layer. Further, in the case of imparting conductivity to the surface, the low refractive index layer may be laminated on the laminated conductive layer.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明においては、最
表面に低屈折率層を積層して反射防止を行なう際に、低
屈折率層とハードコート層との密着性、もしくは低屈折
率層とその他の層との密着性を向上させた反射防止体を
提供すること、およびそのような反射防止体を製造し得
る製造方法を提供することを課題とするものである。
In the present invention, when a low refractive index layer is laminated on the outermost surface to prevent reflection, the adhesion between the low refractive index layer and the hard coat layer, or the low refractive index layer. It is an object of the present invention to provide an antireflection body having improved adhesion between the antireflection film and other layers, and to provide a production method capable of producing such an antireflection body.

【0007】[0007]

【課題を解決する手段】発明者の検討により、ハードコ
ート層と低屈折率層との間、もしくは、ハードコート層
と低屈折率層との間に介在するその他の層と低屈折率層
との間の界面付近に含浸部を形成した積層構造とするこ
とにより、課題を解決することが可能になった。また、
本発明においては、そのような含浸部を形成するため、
コーティング法により形成された下層が未だ完全硬化し
ていないうちに、低屈折率層形成のためのコーティング
を行なって、コーティングされた塗料組成物を下層の表
層部に浸透させることにより、下層と上層との界面付近
で、含浸部が形成された状態とした後に、全体を硬化さ
せることにより、上記の積層構造を実現することが可能
になった。
According to a study by the inventor, another layer and a low refractive index layer interposed between the hard coat layer and the low refractive index layer or between the hard coat layer and the low refractive index layer The problem can be solved by adopting a laminated structure in which an impregnated portion is formed near the interface between the two. Also,
In the present invention, to form such an impregnated portion,
While the lower layer formed by the coating method is not yet completely cured, coating for forming the low refractive index layer is performed, and the coated coating composition is allowed to penetrate into the surface layer portion of the lower layer, thereby forming the lower layer and the upper layer. It became possible to realize the above-mentioned laminated structure by setting the impregnated portion in the vicinity of the interface with and hardening the whole.

【0008】第1の発明は、基体上に、いずれも樹脂を
含有する樹脂組成物からなるハードコート層および低屈
折率層が順次積層された積層構造を有しており、前記ハ
ードコート層の表層部において、前記低屈折率層の成分
が含浸した含浸部を有していることを特徴とする反射防
止体に関するものである。第2の発明は、基体上に、い
ずれも樹脂を含有する樹脂組成物からなるハードコート
層、高屈折率層もしくは導電層、および低屈折率層が順
次積層された積層構造を有しており、前記ハードコート
層の表層部において前記高屈折率層もしくは前記導電層
の成分が含浸した含浸部を有しているか、および/また
は、前記高屈折率層もしくは前記導電層の表層部におい
て前記低屈折率層の成分が含浸した含浸部を有している
ことを特徴とする反射防止体に関するものである。第3
の発明は、第1または第2の発明において、前記ハード
コート層が、熱硬化性樹脂を含有する熱硬化性樹脂組成
物および/または電離放射線硬化性樹脂を含有する電離
放射線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる硬化樹脂組成
物で構成されていることを特徴とする反射防止体に関す
るものである。第4の発明は、第2の発明において、前
記高屈折率層が、熱硬化性樹脂を含有する熱硬化性樹脂
組成物および/または電離放射線硬化性樹脂を含有する
電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる硬化樹脂
組成物で構成されていることを特徴とする反射防止体に
関するものである。第5の発明は、第4の発明におい
て、前記高屈折率層が無機超微粒子をさらに含有するこ
とを特徴とする反射防止体に関するものである。第6の
発明は、第1〜第5いずれかの発明において、前記高屈
折率層の屈折率が1.46を超えることを特徴とする反
射防止体に関するものである。第7の発明は、第1〜第
6いずれかの発明において、前記低屈折率層が、熱硬化
性樹脂を含有する熱硬化性樹脂組成物および/または電
離放射線硬化性樹脂を含有する電離放射線硬化性樹脂組
成物の硬化物からなる硬化樹脂組成物で構成されている
ことを特徴とする反射防止体に関するものである。第8
の発明は、第7の発明において、前記低屈折率層が含フ
ッ素ポリマー成分を含有することを特徴とする反射防止
体に関するものである。第9の発明は、第7の発明にお
いて、前記低屈折率層が含フッ素オリゴマー成分を含有
することを特徴とする反射防止体に関するものである。
第10の発明は、第7の発明において、前記低屈折率層
がポリシロキサン成分を含有することを特徴とする反射
防止体に関するものである。第11の発明は、第1〜第
10の発明において、前記低屈折率層の屈折率が1.1
0〜1.46であることを特徴とする反射防止体に関す
るものである。第12の発明は、基体上に、いずれも樹
脂組成物を主体とするハードコート層、および低屈折率
層を順次積層することからなり、基体上に、樹脂を含有
するハードコート層形成用塗料組成物をコーティングし
て部分硬化を行なわせることにより、未だ完全には硬化
していないハードコート層を形成し、次に、前記の未だ
完全には硬化していないハードコート層上に、樹脂を含
有する低屈折率層形成用塗料組成物をコーティングし
て、未硬化の低屈折率層を積層し、積層後、前記の未硬
化の低屈折率層内の前記低屈折率層形成用組成物を前記
の未だ完全には硬化していないハードコート層内に含浸
させて、前記ハードコート層の表層部に含浸部を形成さ
せ、その後、全体を硬化させることからなる反射防止体
の製造方法に関するものである。第13の発明は、基体
上に、いずれも樹脂組成物を主体とするハードコート
層、高屈折率層、および低屈折率層を順次積層すること
からなり、基体上に、樹脂を含有するハードコート層形
成用塗料組成物をコーティングして硬化を行なわせるこ
とによりハードコート層を形成し、次に、前記ハードコ
ート層上に、樹脂を含有する高屈折率層形成用塗料組成
物をコーティングして部分硬化を行なわせることによ
り、未だ完全には硬化していない高屈折率層を形成し、
さらに、その後、前記の未だ完全には硬化していない高
屈折率層上に、樹脂を含有する低屈折率層形成用塗料組
成物をコーティングして、未硬化の低屈折率層を積層
し、積層後、前記の未硬化の低屈折率層内の前記低屈折
率層形成用組成物を前記の未だ完全には硬化していない
高屈折率層内に含浸させて、前記高屈折率層の表層部に
含浸部を形成させ、その後、全体を硬化させることから
なる反射防止体の製造方法に関するものである。第14
の発明は、基体上に、いずれも樹脂組成物を主体とする
ハードコート層、高屈折率層、および低屈折率層を順次
積層することからなり、基体上に、樹脂を含有するハー
ドコート層形成用塗料組成物をコーティングして部分硬
化を行なわせることにより、未だ完全には硬化していな
いハードコート層を形成し、次に、前記の未だ完全には
硬化していないハードコート層上に、樹脂を含有する高
屈折率層形成用塗料組成物をコーティングして、未硬化
の高屈折率層を積層し、積層後、前記の未硬化の高屈折
率層内の前記高屈折率層形成用組成物を前記の未だ完全
には硬化していないハードコート層内に含浸させて、前
記ハードコート層の表層部に第1の含浸部を形成させた
後、部分硬化を行なって、未だ完全には硬化していない
高屈折率層を形成し、さらに、その後、前記の未だ完全
には硬化していない高屈折率層上に、樹脂を含有する低
屈折率層形成用塗料組成物をコーティングして、未硬化
の低屈折率層を積層し、積層後、前記の未硬化の低屈折
率層内の前記低屈折率層形成用組成物を前記の未だ完全
には硬化していない高屈折率層内に含浸させて、前記高
屈折率層の表層部に第2の含浸部を形成させ、その後、
全体を硬化させることからなる反射防止体の製造方法に
関するものである。
The first invention has a laminated structure in which a hard coat layer and a low refractive index layer, both of which are made of a resin composition containing a resin, are sequentially laminated on a substrate. The present invention relates to an antireflection body having an impregnated portion in which the components of the low refractive index layer are impregnated in the surface layer portion. The second invention has a laminated structure in which a hard coat layer, a high refractive index layer or a conductive layer, and a low refractive index layer, each of which is made of a resin composition containing a resin, are sequentially laminated on a substrate. The surface layer portion of the hard coat layer has an impregnated portion impregnated with the components of the high refractive index layer or the conductive layer, and / or the low refractive index layer or the surface layer portion of the conductive layer has a low content. The present invention relates to an antireflection body having an impregnated portion impregnated with a component of a refractive index layer. Third
In the first or second invention, the hard coat layer is an ionizing radiation curable resin composition in which the hard coat layer contains a thermosetting resin and / or an ionizing radiation curable resin. The present invention relates to an antireflection body comprising a cured resin composition composed of the cured product. A fourth invention is the thermosetting resin composition according to the second invention, wherein the high refractive index layer contains a thermosetting resin and / or an ionizing radiation curable resin composition containing an ionizing radiation curable resin. The present invention relates to an antireflection body comprising a cured resin composition composed of the cured product. A fifth invention relates to the antireflection member according to the fourth invention, wherein the high refractive index layer further contains inorganic ultrafine particles. A sixth invention relates to the antireflection member according to any one of the first to fifth inventions, wherein the high refractive index layer has a refractive index of higher than 1.46. A seventh invention is the ionizing radiation according to any one of the first to sixth inventions, wherein the low refractive index layer contains a thermosetting resin composition containing a thermosetting resin and / or an ionizing radiation curable resin. The present invention relates to an antireflection body comprising a cured resin composition composed of a cured product of a curable resin composition. 8th
The present invention relates to the antireflection member according to the seventh invention, characterized in that the low refractive index layer contains a fluoropolymer component. A ninth invention relates to the antireflection member according to the seventh invention, wherein the low refractive index layer contains a fluorine-containing oligomer component.
A tenth aspect of the present invention relates to the antireflection member according to the seventh aspect, wherein the low refractive index layer contains a polysiloxane component. An eleventh invention is the first to tenth inventions, wherein the low refractive index layer has a refractive index of 1.1.
It is related with the antireflection body characterized by being 0 to 1.46. A twelfth invention comprises a hard coat layer mainly comprising a resin composition and a low refractive index layer which are sequentially laminated on a substrate, and a hard coat layer forming coating material containing a resin on the substrate. By coating the composition and performing partial curing, a hard coat layer that is not yet completely cured is formed, and then a resin is applied onto the hard coat layer that is not yet completely cured. A coating composition for forming a low refractive index layer containing the composition is laminated to form an uncured low refractive index layer, and after the lamination, the composition for forming a low refractive index layer in the uncured low refractive index layer. A method for producing an antireflection body, which comprises impregnating the hard coat layer that has not been completely cured to form an impregnated portion in the surface layer portion of the hard coat layer, and then curing the whole. It is a thing. A thirteenth invention comprises a hard coat layer mainly composed of a resin composition, a high refractive index layer, and a low refractive index layer, which are sequentially laminated on a substrate, and a hard layer containing a resin on the substrate. A hard coat layer is formed by coating the coating composition for forming a coat layer and curing it, and then coating the composition for forming a high refractive index layer containing a resin on the hard coat layer. By performing partial curing by forming a high refractive index layer that is not yet completely cured,
Furthermore, after that, on the high refractive index layer which is not yet completely cured, a coating composition for forming a low refractive index layer containing a resin is coated, and an uncured low refractive index layer is laminated, After lamination, the composition for forming a low refractive index layer in the uncured low refractive index layer is impregnated into the high refractive index layer that has not yet been completely cured, and the high refractive index layer of The present invention relates to a method for producing an antireflection body, which comprises forming an impregnated portion on the surface layer portion and then curing the whole. 14th
The invention comprises a hard coat layer mainly comprising a resin composition, a high refractive index layer, and a low refractive index layer, which are sequentially laminated on a substrate, and a hard coat layer containing a resin is formed on the substrate. A hard coating layer that is not yet completely cured is formed by coating the coating composition for forming and performing partial curing, and then, on the hard coat layer that is not yet completely cured. , Coating a coating composition for forming a high refractive index layer containing a resin, laminating an uncured high refractive index layer, and forming the high refractive index layer in the uncured high refractive index layer after laminating The composition for use is impregnated into the hard coat layer which has not been completely cured to form a first impregnated portion on the surface layer portion of the hard coat layer, and then partial curing is performed to complete curing. Uncured high refractive index layer is formed on Further, after that, a coating composition for forming a low refractive index layer containing a resin is coated on the high refractive index layer which is not yet completely cured, and an uncured low refractive index layer is laminated. After the lamination, the composition for forming a low refractive index layer in the uncured low refractive index layer is impregnated in the high refractive index layer which is not yet completely cured to form the high refractive index layer. Forming a second impregnated portion on the surface layer of
The present invention relates to a method for producing an antireflection body, which comprises curing the whole.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】図1は本発明の反射防止体の代表
的なものの積層構造を示す断面図である。図1(a)に
示すように、本発明の反射防止体1は、例えば、基体2
上に、ハードコート層3、および低屈折率層4が順に積
層されており、ハードコート層3の表層部(上面に近い
部分)に、低屈折率層の成分が含浸した含浸部5Aを有
する積層構造からなるものである。なお、以降も含め、
「上」および「下」とは、図における上および下を基準
とする。「上」が観察側に、また、「下」が観察側とは
反対側に相当する。
1 is a sectional view showing a laminated structure of a typical antireflection member of the present invention. As shown in FIG. 1A, the antireflection body 1 of the present invention is, for example, a substrate 2
The hard coat layer 3 and the low-refractive index layer 4 are laminated in this order on the top, and the surface layer portion (a portion near the upper surface) of the hard coat layer 3 has an impregnated portion 5A impregnated with the components of the low-refractive index layer. It has a laminated structure. In addition, including the following
“Upper” and “lower” are based on the upper and lower sides in the figure. “Upper” corresponds to the observation side, and “lower” corresponds to the side opposite to the observation side.

【0010】本発明の反射防止体1は、図1(b)に示
すように、基体2上に、ハードコート層3、高屈折率層
6、および低屈折率層4が順に積層されており、高屈折
率層6の表層部に、低屈折率層の成分が含浸した含浸部
5Bを有する積層構造からなるものであってもよい。
As shown in FIG. 1 (b), the antireflection member 1 of the present invention comprises a substrate 2 on which a hard coat layer 3, a high refractive index layer 6 and a low refractive index layer 4 are sequentially laminated. Alternatively, the high refractive index layer 6 may have a laminated structure having an impregnated portion 5B impregnated with a component of the low refractive index layer on the surface layer portion thereof.

【0011】含浸部5Aおよび5Bは、いずれも上層を
形成するための塗料組成物が浸透しただけの状態のもの
でも、浸透して下層の表層部を溶解した状態のもので
も、あるいはそれらの両方の状態が混在したものであっ
ても、いずれでもよく、また、含浸部5Aおよび5Bの
上側では溶解の割合が高く、下側では浸透の割合が高い
等、同じ含浸部の内部で、必ずしも一様な状態でなくて
もよい。また、ここで言う含浸とは、塗料組成物のすべ
ての成分が組成比を保ったまま浸透しているだけではな
く、成分の一部が浸透している場合も含むものとする。
Each of the impregnated portions 5A and 5B may be in a state in which the coating composition for forming the upper layer is infiltrated, or in a state in which the lower surface layer portion is infiltrated and dissolved, or both of them. The mixed state may be any, and the upper side of the impregnated portions 5A and 5B has a high dissolution rate and the lower side has a high permeation rate. It does not have to be in such a state. Further, the impregnation referred to here includes not only the case where all the components of the coating composition permeate while maintaining the composition ratio, but also the case where a part of the components permeates.

【0012】図1(b)を引用して説明した上記の積層
構造は、種々のバリエーションがあり得る。例えば、上
記の積層構造における高屈折率層6を、下側から中屈折
率層および高屈折率層の二層で置き換えてもよいし、反
射防止のためのほかの積層構造で置き換えてもよい。あ
るいは高屈折率層6を、表面に導電性を付与するための
導電層等の、機能を持つ機能層で置き換えてもよい。
The laminated structure described with reference to FIG. 1 (b) may have various variations. For example, the high refractive index layer 6 in the above-mentioned laminated structure may be replaced with two layers of a medium refractive index layer and a high refractive index layer from the bottom, or may be replaced with another laminated structure for antireflection. . Alternatively, the high refractive index layer 6 may be replaced with a functional layer having a function, such as a conductive layer for imparting conductivity to the surface.

【0013】基体2の素材としては、透明樹脂フィルム
もしくは透明樹脂シート、透明樹脂板(例;アクリル樹
脂板)や透明ガラス板があり得るが、工業的には、連続
加工が容易でフレキシブルな透明樹脂フィルムを使用す
ることが好ましい。基体2は、用途によっては有色透明
なものでもあり得るので、ここでは、透明とは、無色透
明および有色透明の両方を含むものとする。なお、基体
2は、透明であることが多いが、必ずしも透明であるこ
とに限定されず、表面が反射性を有していて、反射性を
抑制する必要があるものであれば、いかなるものでもよ
い。
The material of the substrate 2 may be a transparent resin film or a transparent resin sheet, a transparent resin plate (eg, an acrylic resin plate) or a transparent glass plate, but industrially, continuous processing is easy and flexible and transparent. It is preferable to use a resin film. Since the substrate 2 may be colored and transparent depending on the application, the term “transparent” here includes both colorless and colored transparent. The substrate 2 is often transparent, but is not necessarily limited to being transparent, and any substrate can be used as long as the surface has reflectivity and it is necessary to suppress the reflectivity. Good.

【0014】透明樹脂フィルムもしくは透明樹脂シート
としては、トリアセチルセルロース(略してTAC、セ
ルローストリアセテートとも言う。)、ジアセチルセル
ロース、アセテートブチレートセルロース、ポリエーテ
ルサルホン、アクリル系もしくはメタクリル系、ポリウ
レタン系、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステ
ル、ポリカーボネート、ポリサルホン、ポリエーテル、
トリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、(メタ)ア
クリロニトリル、ポリノルボルネン等の環状ポリオレフ
ィン、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、も
しくはポリシロキサン等の熱可塑性樹脂からなるものが
使用できる。なお、(メタ)の表示は、メタがあるもの
と、無い物の両方を指す意味で用いる。
Examples of the transparent resin film or transparent resin sheet include triacetyl cellulose (abbreviated as TAC and cellulose triacetate), diacetyl cellulose, acetate butyrate cellulose, polyether sulfone, acrylic or methacrylic type, polyurethane type, Polyester such as polyethylene terephthalate, polycarbonate, polysulfone, polyether,
Cyclic polyolefins such as trimethylpentene, polyetherketone, (meth) acrylonitrile and polynorbornene, and thermoplastic resins such as polyimide, polyamide, polyamideimide or polysiloxane can be used. It should be noted that the term (meta) is used to mean both an item with meta and an item without meta.

【0015】上記の熱可塑性樹脂からなるフィルムもし
くはシートは、フレキシブルで使いやすいが、取り扱い
時も含めて曲げる必要が全くなく、硬いものが望まれる
ときは、上記の樹脂の板やガラス板等の板状のものも使
用できる。基体2の厚みとしては、フレキシブルなもの
が望まれる場合、8〜1000μm程度が好ましいが、
シート状物、もしくは板状物の場合には、この範囲を超
えてもよい。また、基体2は、通常は、平坦なものであ
るが、基体2が、種々の物品の表面材を構成している場
合、そのための凹凸形状や立体的形状を有するものであ
ってもよい。なお、基体2は、反射防止層を積層する側
の接着性を向上させる目的で、種々の処理を施してあっ
てもよい。また、反射防止層を積層する側ではない方の
側に、種々の物品の表面材とするための加工が施してあ
ってもよい。
The film or sheet made of the above-mentioned thermoplastic resin is flexible and easy to use, but it does not need to be bent even during handling, and when a hard material is desired, such as a plate of the above resin or a glass plate. Plate-shaped ones can also be used. The thickness of the substrate 2 is preferably about 8 to 1000 μm when a flexible one is desired,
In the case of a sheet or plate, this range may be exceeded. The substrate 2 is usually flat, but when the substrate 2 constitutes a surface material for various articles, it may have an uneven shape or a three-dimensional shape for that purpose. The substrate 2 may be subjected to various treatments for the purpose of improving the adhesiveness on the side on which the antireflection layer is laminated. Further, the side other than the side on which the antireflection layer is laminated may be processed to be a surface material for various articles.

【0016】ハードコート層3は、基体2上に設け、上
層の低屈折率層等の反射防止層の表面の硬度を向上させ
るためのものである。ハードコート層3の厚みは、一例
として0.5μm以上であり、20μm以下であること
が好ましい。ハードコート層3は、熱可塑性樹脂から選
択される比較的硬度の高い樹脂を用いても構成し得る
が、熱硬化性樹脂を含有する熱硬化性樹脂組成物または
/および電離放射線硬化性樹脂を含有する電離放射線硬
化性樹脂組成物の硬化物(硬化樹脂組成物と称すること
とする。)で構成されていることが好ましく、より好ま
しくは硬化樹脂組成物と無機質超微粒子とからなる。な
お、「ハードコート層」とは、塗料組成物のコーティン
グによって得られ、表面硬度がJIS K5400で示
される鉛筆硬度試験で、少なくともH以上の硬度を示す
ものを指す。
The hard coat layer 3 is provided on the substrate 2 to improve the hardness of the surface of an antireflection layer such as an upper low refractive index layer. The thickness of the hard coat layer 3 is, for example, 0.5 μm or more, and preferably 20 μm or less. The hard coat layer 3 can be formed by using a resin having a relatively high hardness selected from thermoplastic resins, but a thermosetting resin composition containing a thermosetting resin or / and an ionizing radiation curable resin is used. It is preferably composed of a cured product of the ionizing radiation-curable resin composition contained therein (hereinafter referred to as a cured resin composition), more preferably composed of a cured resin composition and inorganic ultrafine particles. The "hard coat layer" refers to a layer which is obtained by coating with a coating composition and has a surface hardness of at least H or higher in a pencil hardness test according to JIS K5400.

【0017】熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、
尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グ
アナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン
樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン
−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を
使用することができる。これらの樹脂は、必要に応じ
て、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶
剤、粘度調整剤等を加えて使用する。
As the thermosetting resin, phenol resin,
A urea resin, a diallyl phthalate resin, a melamine resin, a guanamine resin, an unsaturated polyester resin, a polyurethane resin, an epoxy resin, an aminoalkyd resin, a melamine-urea co-condensation resin, a silicon resin, a polysiloxane resin and the like can be used. These resins are used by adding a crosslinking agent, a curing agent such as a polymerization initiator, a polymerization accelerator, a solvent, a viscosity modifier, etc., if necessary.

【0018】電離放射線硬化性樹脂としては、反応エネ
ルギーの点では、光重合、もしくは熱重合のいずれに属
するものであってもよく、また、活性種の点では、ラジ
カル重合、カチオン重合、もしくはアニオン重合のいず
れに属するものであってもよい。エチレン性不飽和結合
を含有する場合には、光ラジカル重合および熱ラジカル
重合が、また、エポキシ基を含有する場合には、熱硬化
および光カチオン重合が可能である。特に、エチレン性
不飽和結合を含有する場合には、可視光、または電離放
射線(紫外線もしくは電子線等)、その他の不可視光の
照射により直接に、もしくは開始剤の作用を受けて間接
に、重合するので、光硬化の場合におけるように、塗布
から硬化に至る取扱いが容易になり、特に好ましい。
The ionizing radiation-curable resin may be either one of photopolymerization or thermal polymerization in terms of reaction energy, and radical polymerization, cationic polymerization, or anion in terms of active species. It may belong to any of the polymerizations. When it contains an ethylenically unsaturated bond, photoradical polymerization and thermal radical polymerization are possible, and when it contains an epoxy group, thermosetting and photocationic polymerization are possible. In particular, when it contains an ethylenically unsaturated bond, it is polymerized directly by irradiation with visible light, ionizing radiation (ultraviolet rays or electron beams), other invisible light, or indirectly by the action of an initiator. Therefore, as in the case of photo-curing, handling from application to curing becomes easy, which is particularly preferable.

【0019】エチレン性不飽和結合を含有するものとし
ては、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリ
レート、ポリメタクリレート、ポリオレフィン、ポリス
チロール、ポリアミド、ポリイミド、ポリ塩化ビニル、
ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、もしく
はポリカーボネートのような重合性官能基を持たない非
反応性ポリマーに、エチレン性不飽和結合を導入した反
応硬化性ポリマーを例示することができる。
As those containing an ethylenically unsaturated bond, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyacrylate, polymethacrylate, polyolefin, polystyrene, polyamide, polyimide, polyvinyl chloride,
An example of the reaction-curable polymer is an unreactive polymer having no polymerizable functional group, such as polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, or polycarbonate, into which an ethylenically unsaturated bond is introduced.

【0020】また、エチレン性不飽和結合を含有するも
のとしては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒ
ドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フ
ェノキシプロピルアクリレート、カルボキシポリカプロ
ラクトン(メタ)アクリレート、アクリル酸、メタクリ
ル酸、もしくはアクリルアミド等の単官能(メタ)アク
リレート、エチレングリコールジアクリレート、もしく
はペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレー
ト等のジアクリレート、トリメチロールプロパントリア
クリレート、もしくはペンタエリスリトールトリアクリ
レート等のトリアクリレート、または、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート等の多官能アクリレート等の
ラジカル重合性モノマー、あるいはこれらの重合性モノ
マーが重合したオリゴマーを例示することができる。特
に架橋密度を向上させる意味で、多官能アクリレートを
用いる事がより好ましい。
Further, those containing an ethylenically unsaturated bond include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate and carboxy. Monofunctional (meth) acrylates such as polycaprolactone (meth) acrylate, acrylic acid, methacrylic acid, or acrylamide, ethylene glycol diacrylate, or diacrylates such as pentaerythritol diacrylate monostearate, trimethylolpropane triacrylate, or penta. Radical polymerizable compounds such as triacrylates such as erythritol triacrylate and polyfunctional acrylates such as pentaerythritol tetraacrylate. Mer, or it can be exemplified oligomers these polymerizable monomers are polymerized. In particular, it is more preferable to use a polyfunctional acrylate in order to improve the crosslink density.

【0021】エチレン性不飽和結合を有する、上記のラ
ジカル重合性のオリゴマーもしくはモノマーを使用する
際には、必要に応じ、光ラジカル重合開始剤を配合す
る。光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン
類、ベンゾフェノン類、ケタール類、アントラキノン
類、チオキサントン類、アゾ化合物、下酸化物、2,3
−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、
チウラム化合物、もしくはフルオロアミン化合物等を用
いることができ、上記のラジカル重合性のオリゴマーお
よびモノマー100に対し、3〜8(質量比)を配合す
るとよい。
When the above radical-polymerizable oligomer or monomer having an ethylenically unsaturated bond is used, a photo-radical polymerization initiator is added, if necessary. As the photo-radical polymerization initiator, acetophenones, benzophenones, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, lower oxides, 2,3
-Dialkyldione compounds, disulfide compounds,
A thiuram compound, a fluoroamine compound, or the like can be used, and 3 to 8 (mass ratio) is preferably added to the above radically polymerizable oligomer and monomer 100.

【0022】光ラジカル重合開始剤の具体例としては、
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製、商品
名;イルガキュア184として入手可能)、2−メチル
−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリ
ノプロパン−1−オン(チバ・スペシャリティ・ケミカ
ルズ(株)製、商品名;イルガキュア907として入手
可能)、ベンジルジメチルケトン、1−(4−ドデシル
フェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1
−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプ
ロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)
−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、も
しくはベンゾフェノン等を例示することができ、一種も
しくは二種以上組み合わせて用いることができる。
Specific examples of the radical photopolymerization initiator include:
1-Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trade name; available as Irgacure 184), 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane- 1-one (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trade name; available as Irgacure 907), benzyl dimethyl ketone, 1- (4-dodecylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane-1
-One, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl)
2-Hydroxy-2-methylpropan-1-one, benzophenone and the like can be exemplified, and one kind or a combination of two or more kinds can be used.

【0023】電離放射線硬化性樹脂組成物および熱硬化
性樹脂組成物には、ポリシロキサン成分、より具体的に
は、次のような幾つかのタイプの有機反応性ケイ素化合
物を併用してもよい。有機反応性ケイ素化合物を併用す
ると、塗膜の硬度および強度が維持されると共に塗膜表
面のすべり性が増して、耐擦傷性が向上し、また、表面
に離型性を与えるので、防汚性が向上する利点がある。
なお、電離放射線硬化性樹脂組成物および熱硬化性樹脂
組成物のいずれにおいても、樹脂成分として、水酸基、
カルボキシル基、アミノ基、もしくはアミド基等の極性
基を導入されたものを用いる方が、有機反応性ケイ素化
合物との間で共有結合を形成し、塗膜の硬度および強度
のさらなる向上が可能となるため、より好ましい。
The ionizing radiation curable resin composition and the thermosetting resin composition may be used in combination with a polysiloxane component, more specifically, several types of organic reactive silicon compounds such as the following. . When an organic reactive silicon compound is used in combination, the hardness and strength of the coating film are maintained, the slipperiness of the coating film surface increases, scratch resistance is improved, and the release property is imparted to the surface. There is an advantage that the property is improved.
In any of the ionizing radiation curable resin composition and the thermosetting resin composition, a hydroxyl group as a resin component,
It is possible to further improve the hardness and strength of the coating film by using a product introduced with a polar group such as a carboxyl group, an amino group, or an amide group because it forms a covalent bond with the organic reactive silicon compound. Therefore, it is more preferable.

【0024】有機ケイ素化合物の1は、一般式RmSi
(OR’)nで表せるもので、RおよびR’は炭素数1
〜10のアルキル基を表し、Rの添え字mとOR’の添
え字nとは、各々が、m+n=4の関係を満たす整数で
ある。
One of the organosilicon compounds has the general formula R m Si
(OR ') n , where R and R'have 1 carbon
Each of the subscript m of R and the subscript n of OR ′ represents an alkyl group of 10 to 10 and is an integer satisfying the relationship of m + n = 4.

【0025】具体的には、テトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラ
ン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブト
キシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ
−tert−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシ
ラン、テトラペンタ−iso−プロポキシシラン、テト
ラペンタ−n−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−
ブトキシシラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラ
ン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メ
チルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、
ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、
ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、
ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メ
チルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等
が挙げられる。
Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane. , Tetrapentaethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-propoxysilane, tetrapenta-n-
Butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane,
Dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane,
Dimethylmethoxysilane, dimethylpropoxysilane,
Examples thereof include dimethylbutoxysilane, methyldimethoxysilane, methyldiethoxysilane and hexyltrimethoxysilane.

【0026】電離放射線硬化性樹脂組成物および熱硬化
性樹脂組成物に併用し得る有機ケイ素化合物の2は、シ
ランカップリング剤である。
The organosilicon compound 2 which can be used in combination with the ionizing radiation curable resin composition and the thermosetting resin composition is a silane coupling agent.

【0027】具体的には、γ−(2−アミノエチル)ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエ
チル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−
(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ
−メタクリロキシプロピルメトキシシラン、N−β−
(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロ
ピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシ
シラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプト
プロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリ
メトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリ
ス(β−メトキシエトキシ)シラン、オクタデシルジメ
チル[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニ
ウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジ
クロロシラン等が挙げられる。
Specifically, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, β-
(3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ
-Methacryloxypropyl methoxysilane, N-β-
(N-Vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropylmethoxysilane hydrochloride, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, aminosilane, methylmethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ- Examples thereof include chloropropyltrimethoxysilane, hexamethyldisilazane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, octadecyldimethyl [3- (trimethoxysilyl) propyl] ammonium chloride, methyltrichlorosilane and dimethyldichlorosilane.

【0028】電離放射線硬化性樹脂組成物および熱硬化
性樹脂組成物に併用し得る有機ケイ素化合物の3は、電
離放射線硬化性ケイ素化合物である。具体的には、電離
放射線の照射によって反応し架橋する複数の官能基、例
えば、重合性二重結合基を有する分子量5,000以下
の有機ケイ素化合物が挙げられ、より具体的には、片末
端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシ
ラン、片末端ビニル官能ポリシロキサン、両末端ビニル
官能ポリシロキサン、又はこれらの化合物を反応させた
ビニル官能性ポリシラン、もしくはビニル官能性ポリシ
ロキサン等が挙げられる。より具体的には、次のような
化合物である。
The organosilicon compound 3, which can be used in combination with the ionizing radiation curable resin composition and the thermosetting resin composition, is an ionizing radiation curable silicon compound. Specific examples thereof include a plurality of functional groups that react and crosslink upon irradiation with ionizing radiation, for example, an organosilicon compound having a molecular weight of 5,000 or less and having a polymerizable double bond group, and more specifically, one end thereof. Examples thereof include vinyl-functional polysilanes, vinyl-functional polysilanes at both ends, vinyl-functional polysiloxanes at both ends, vinyl-functional polysiloxanes at both ends, or vinyl-functional polysilanes obtained by reacting these compounds, or vinyl-functional polysiloxanes. More specifically, they are the following compounds.

【0029】[0029]

【化1】 [Chemical 1]

【0030】電離放射線硬化性樹脂組成物および熱硬化
性樹脂組成物には、ウレタンアクリレート、特に、ポリ
ウレタンアクリレートを併用してもよい。一般的に言っ
てアクリレート類、特に多官能アクリレートは硬度の優
れた塗膜を与える反面、塗膜の耐衝撃性が低くなり脆く
なる欠点が見られが、ポリウレタンアクリレートを加え
ることにより、耐衝撃性が改善され、塗膜が柔軟性を帯
びるようになるからである。また、(メタ)アクリロイ
ル基を導入したポリマーやシリコーン樹脂等のポリマー
もハードコート薄層4の物性を低下させない範囲で好ま
しく使用することができる。ハードコート層3には、上
記した樹脂成分を主成分として構成し得るが、さらに、
無機質超微粒子を含有することがより好ましい。
A urethane acrylate, particularly a polyurethane acrylate, may be used in combination with the ionizing radiation curable resin composition and the thermosetting resin composition. Generally speaking, acrylates, especially polyfunctional acrylates, give coating films with excellent hardness, but on the other hand, the impact resistance of the coating film becomes low and it becomes brittle. However, by adding polyurethane acrylate, impact resistance is improved. Is improved and the coating film becomes flexible. Further, a polymer having a (meth) acryloyl group introduced therein and a polymer such as a silicone resin can also be preferably used as long as the physical properties of the hard coat thin layer 4 are not deteriorated. The hard coat layer 3 may be composed mainly of the resin component described above.
It is more preferable to contain ultrafine inorganic particles.

【0031】ハードコート層3は、上記した成分のほ
か、必要に応じて、溶剤、紫外線遮断剤、紫外線吸収
剤、表面調製剤(レベリング剤)、もしくはそのほかの
添加剤を添加して調製したハードコート層形成用塗料組
成物を用いたコーティングにより形成することができ
る。コーティング法としてはロールコート法、グラビア
コート法、スライドコート法、スプレーコート法、ディ
ップコート法、もしくはスクリーン印刷法等を利用で
き、コーティング後、必要に応じて、硬化の目的で。乾
燥、加温、もしくは加熱し、または紫外線照射、もしく
は電子線照射を行なって、硬化させることにより形成す
ることができる。
The hard coat layer 3 is prepared by adding a solvent, an ultraviolet blocking agent, an ultraviolet absorbing agent, a surface conditioning agent (leveling agent), or other additives, if necessary, in addition to the above-mentioned components. It can be formed by coating with a coating composition for forming a coat layer. As a coating method, a roll coating method, a gravure coating method, a slide coating method, a spray coating method, a dip coating method, a screen printing method or the like can be used, and after coating, for the purpose of curing if necessary. It can be formed by drying, heating, or heating, or ultraviolet irradiation or electron beam irradiation to cure it.

【0032】低屈折率層4は、適宜な塗料用の透明樹脂
と低屈折率の粒子、好ましくは超微粒子を含有する低屈
折率層形成用塗料組成物を用いたコーティングにより形
成された、樹脂組成物からなる。あるいは、低屈折率層
4は、自身の屈折率の低い低屈折率樹脂成分を、無機質
粒子、もしくは無機質超微粒子を伴なわないか、または
伴なって調製された塗料組成物を用いて形成された樹脂
組成物からなる。
The low-refractive index layer 4 is a resin formed by coating with a suitable transparent resin for coating and a low-refractive-index layer-forming coating composition containing low-refractive-index particles, preferably ultrafine particles. It consists of a composition. Alternatively, the low-refractive index layer 4 is formed by using a coating composition prepared with or without a low-refractive-index resin component having a low refractive index of its own, with inorganic particles or ultrafine inorganic particles. And a resin composition.

【0033】低屈折率の無機質粒子、もしくは無機質超
微粒子としては、例えば、LiF、MgF2、3NaF
・AlF3もしくはAlF3(以上、いずれもn=1.
4)、Na3AlF6(氷晶石、n=1.33)、もしく
はSiOx(1.50≦x≦2.00、n=1.35〜
1.48)等を挙げることができ、これらから選択され
た粒子、もしくは超微粒子を用いて塗料組成物を調整
し、基体2上に塗布し、乾燥させる等により固化させ
て、低屈折率層4とすることができる。低屈折率の粒
子、もしくは超微粒子としては、例えば、フッ素樹脂や
シリコーン樹脂の単独、またはこれらの樹脂を含む樹脂
粒子を挙げることができる。これらは屈折率が1.30
〜1.46の範囲であれば、好ましく用いることができ
る。
Examples of low refractive index inorganic particles or inorganic ultrafine particles include LiF, MgF 2 , and 3NaF.
AlF 3 or AlF 3 (N = 1.
4), Na 3 AlF 6 (cryolite, n = 1.33), or SiO x (1.50 ≦ x ≦ 2.00, n = 1.35)
1.48) and the like. A low-refractive index layer is prepared by preparing a coating composition using particles or ultrafine particles selected from these, coating it on the substrate 2, and drying it to solidify it. It can be 4. Examples of low refractive index particles or ultrafine particles include fluororesin and silicone resin alone, or resin particles containing these resins. These have a refractive index of 1.30
It can be preferably used in the range of ˜1.46.

【0034】しかしながら、一般的な塗料用の透明樹脂
は、屈折率があまり低くはなく、より好ましくは、フッ
素含有ポリマー、もしくはフッ素含有オリゴマー等を樹
脂成分として調製された塗料組成物を用いて低屈折率層
4を形成することが低屈折率を実現する意味で、好まし
い。あるいは、先に挙げたポリシロキサン成分を含有さ
せてもよい。
However, the transparent resin for general coating materials does not have a very low refractive index, and it is more preferable to use a coating composition prepared by using a fluorine-containing polymer or a fluorine-containing oligomer as a resin component. Forming the refractive index layer 4 is preferable in terms of realizing a low refractive index. Alternatively, the above-mentioned polysiloxane component may be contained.

【0035】フッ素含有ポリマー、もしくはフッ素含有
オリゴマーは、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含
有モノマーの重合もしくは共重合によって得られるもの
である。エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノ
マーとしては、フルオロエチレン、ビニリデンフルオラ
イド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピ
レンエチレン、パーフルオロブタジエン、もしくはパー
フルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等
のフルオロオレフィン類や、アクリル酸もしくはメタク
リル酸の完全もしくは部分フッ素化されたアルキル、ア
ルケニル、またはアリールエステル(下記「化2」もし
くは「化3」)、さらには、完全もしくは部分フッ素化
ビニルエーテル類、完全もしくは部分フッ素化ビニルエ
ステル類、または完全もしくは部分フッ素化ビニルケト
ン等を挙げることができる。
The fluorine-containing polymer or fluorine-containing oligomer is obtained by polymerizing or copolymerizing a fluorine-containing monomer having an ethylenically unsaturated bond. Examples of the fluorine-containing monomer having an ethylenically unsaturated bond include fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene ethylene, perfluorobutadiene, and perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole. Fluoroolefins, fully or partially fluorinated alkyl, alkenyl, or aryl esters of acrylic acid or methacrylic acid (the following "Chemical Formula 2" or "Chemical Formula 3"), and further, complete or partially fluorinated vinyl ethers, complete Alternatively, partially fluorinated vinyl esters, completely or partially fluorinated vinyl ketone and the like can be mentioned.

【0036】[0036]

【化2】 [Chemical 2]

【0037】[0037]

【化3】 [Chemical 3]

【0038】ただし、上式「化2」中、R1は、水素原
子、炭素数が1〜3のアルキル基、もしくはハロゲン原
子を表す。Rfは、完全もしくは部分フッ素化されたア
ルキル基、アルケニル基、ヘテロ環、またはアリール基
を表す。R2およびR3は、それぞれ独立に、水素原子、
アルキル基、アルケニル基、ヘテロ基、アリール基、ま
たは上記Rfで定義される基を表す。R1、R2、R3、お
よびRfは、それぞれフッ素原子以外の置換基を有して
いてもよい。また、R2、R3、およびRfに任意の二つ
以上の基が互いに結合して環構造を形成してもよい。
However, in the above formula "Chemical Formula 2", R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or a halogen atom. R f represents a fully or partially fluorinated alkyl group, alkenyl group, heterocycle, or aryl group. R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom,
It represents an alkyl group, an alkenyl group, a hetero group, an aryl group, or a group defined by the above R f . R 1 , R 2 , R 3 , and R f may each have a substituent other than a fluorine atom. Further, arbitrary two or more groups may be bonded to R 2 , R 3 and R f to form a ring structure.

【0039】また、上式「化3」中、Aは、完全もしく
は部分フッ素化されたn価の有機基を表す。R4は、水
素原子、炭素数1〜3のアルキル基もしくはハロゲン原
子を表す。R4はフッ素原子以外の置換基を有していて
もよい。nは2〜8の整数を表す。)
In the above formula "Chemical formula 3", A represents a completely or partially fluorinated n-valent organic group. R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or a halogen atom. R 4 may have a substituent other than a fluorine atom. n represents an integer of 2-8. )

【0040】互いに重合可能な重合性官能基を有するフ
ッ素含有ポリマーとフッ素含有モノマーおよび/または
オリゴマーとを組み合わせると、フッ素含有ポリマーに
より塗工用の塗料組成物の成膜性が向上すると共に、フ
ッ素含有モノマーおよび/またはオリゴマーにより架橋
密度と塗工適性が向上し、両成分のバランスによって、
塗膜の硬度および強度が実現されるので好ましい。特
に、フッ素含有ポリマーとして、数平均分子量が20,
000〜100,000のものと、フッ素含有モノマー
および/またはオリゴマーとして、数平均分子量が2
0,000以下のものを組み合わせて用いることによ
り、塗工適性、成膜性、塗膜硬度、および塗膜強度等を
含めた諸物性のバランスが取り易いので、より好まし
い。フッ素ポリマーの屈折率が十分に低い場合は、フッ
素を含有しないモノマーおよび/またはオリゴマーとを
組合せた方が、塗膜の強度をより容易に向上させること
ができるため好ましい。フッ素を含有しないモノマー、
オリゴマーとしては、ハードコート層3を構成するため
の素材として既に挙げたエチレン性不飽和結合を有する
ラジカル重合性のモノマー、オリゴマーを挙げることが
できる。
When a fluorine-containing polymer having a polymerizable functional group capable of polymerizing with each other and a fluorine-containing monomer and / or oligomer are combined, the fluorine-containing polymer improves the film-forming property of the coating composition for coating, Crosslink density and coating suitability are improved by the contained monomer and / or oligomer, and the balance of both components makes
It is preferable because the hardness and strength of the coating film are realized. In particular, the fluorine-containing polymer has a number average molecular weight of 20,
000 to 100,000 and a number average molecular weight of 2 as a fluorine-containing monomer and / or oligomer.
It is more preferable to use a combination of 10,000 or less because it is easy to balance various physical properties including coating suitability, film-forming property, coating film hardness, coating film strength and the like. When the refractive index of the fluoropolymer is sufficiently low, it is preferable to combine with a monomer and / or oligomer not containing fluorine because the strength of the coating film can be more easily improved. Fluorine-free monomer,
Examples of the oligomer include radically polymerizable monomers and oligomers having an ethylenically unsaturated bond, which have already been described as the materials for forming the hard coat layer 3.

【0041】上記において、フッ素含有モノマーまたは
オリゴマーとしては、上記したようなフッ素含有モノマ
ーから選択された一種もしくは二種以上からなる単独重
合体もしくは共重合体、または、上記したようなフッ素
含有モノマーから選択された一種もしくは二種以上と、
フッ素を含有しないフッ素非含有モノマーの一種もしく
は二種以上との共重合体を用いることができる。低屈折
率層4の機械的強度を向上させるためには、低屈折率層
4と下層との密着性を向上させることが有効であり、そ
のためには、低屈折率層形成用塗料組成物を構成する樹
脂成分のいずれかが、水酸基、カルボキシル基、アミノ
基、もしくはアミド基等の極性基を導入されたものであ
ることが好ましい。
In the above, the fluorine-containing monomer or oligomer is a homopolymer or copolymer of one or more selected from the above-mentioned fluorine-containing monomers, or a fluorine-containing monomer as described above. With one or more selected types,
A copolymer with one or more fluorine-free monomers that do not contain fluorine can be used. In order to improve the mechanical strength of the low refractive index layer 4, it is effective to improve the adhesiveness between the low refractive index layer 4 and the lower layer, and for that purpose, a coating composition for forming the low refractive index layer is used. It is preferable that one of the constituent resin components is introduced with a polar group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, or an amide group.

【0042】また、重合性官能基を有しないフッ素含有
モノマーも使用することができ、具体的には、ポリテト
ラフルオロエチレン、4−フルオロエチレン−6−フル
オロプロピレン共重合体、4−フルオロエチレン−パー
フルオロアルキルビニルエーテル共重合体、4−フルオ
ロエチレン−エチレン共重合体、ポリビニルフルオライ
ド、ポリビニリデンフルオライド、アクリル酸もしくは
メタクリル酸の完全もしくは部分フッ素化されたアルキ
ル、アルケニル、もしくはアリールエステル(例えば、
前記「化2」もしくは「化3」)の重合体もしくは共重
合体、フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共
重合体、またはフッ素変性されたエポキシ、ポリウレタ
ン、セルロース系、フェノール、ポリイミド、もしくは
シリコーン等の樹脂を挙げることができる。この他に
も、非晶質透明フッ素樹脂(旭硝子(株)製の商品名;
「サイトップ」等)も使用することができる。
Further, a fluorine-containing monomer having no polymerizable functional group can also be used. Specifically, polytetrafluoroethylene, 4-fluoroethylene-6-fluoropropylene copolymer, 4-fluoroethylene- Perfluoroalkyl vinyl ether copolymer, 4-fluoroethylene-ethylene copolymer, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, fully or partially fluorinated alkyl, alkenyl, or aryl ester of acrylic acid or methacrylic acid (for example,
Polymers or copolymers of the above "Chemical formula 2" or "Chemical formula 3", fluoroethylene-hydrocarbon type vinyl ether copolymers, or fluorine-modified epoxy, polyurethane, cellulosic, phenol, polyimide, or silicone Resin can be mentioned. In addition, amorphous transparent fluororesin (trade name of Asahi Glass Co., Ltd .;
"Cytop" etc.) can also be used.

【0043】上記のフッ素含有ポリマー、もしくはフッ
素含有オリゴマー等を樹脂成分として調製された塗料組
成物を用いて低屈折率層4を形成する際にも、既に述べ
た低屈折率の粒子を用いることができる。より透明性を
確保する意味では、超微粒子を含有させることがより好
ましい。
When the low refractive index layer 4 is formed using the coating composition prepared by using the above-mentioned fluorine-containing polymer, fluorine-containing oligomer or the like as a resin component, the particles having the low refractive index described above should be used. You can From the viewpoint of ensuring more transparency, it is more preferable to contain ultrafine particles.

【0044】ここで、超微粒子とは、一般的に微粒子と
呼ばれている数μmから数100μmの粒子径を有する
ものよりも小さいものである。本発明において用いる超
微粒子の具体的な粒子径は、用途により要求される光学
性能が異なるので、一概には言い難いが、一次粒子径が
1nm〜500nmの範囲であることが好ましい。一次
粒子径が1nm未満のものを使用しても、塗膜の硬度お
よび強度の向上が見られない。また、一次粒子径が50
0nmを超えると、塗膜の透明性が損なわれ、用途によ
っては全く使用できないこともある。なお、超微粒子と
しては、樹脂中への均一な分散が可能で、塗膜の硬度お
よび強度を確保できれば、球状、針状、もしくはその他
のいかなる形状のものであってもよい。
Here, the ultrafine particles are smaller than those generally called fine particles having a particle diameter of several μm to several 100 μm. The specific particle size of the ultrafine particles used in the present invention is different from the optical performance required depending on the application, so it is difficult to say unconditionally, but the primary particle size is preferably in the range of 1 nm to 500 nm. Even if a primary particle size of less than 1 nm is used, the hardness and strength of the coating film are not improved. The primary particle size is 50
If it exceeds 0 nm, the transparency of the coating film is impaired, and it may not be used at all depending on the application. The ultrafine particles may be spherical, needle-like, or any other shape as long as they can be uniformly dispersed in the resin and the hardness and strength of the coating film can be secured.

【0045】フッ素含有ポリマー、もしくはフッ素含有
オリゴマー等を樹脂成分として低屈折率層4を形成する
には、必要に応じて光ラジカル重合開始剤を配合し、や
はり必要に応じて、溶剤、紫外線遮断剤、紫外線吸収
剤、表面調製剤(レベリング剤)、もしくはそのほかの
添加剤を添加して調製した低屈折率層形成用塗料組成物
を用いたコーティングにより形成することができる。コ
ーティング法としてはロールコート法、グラビアコート
法、スライドコート法、スプレーコート法、ディップコ
ート法、もしくはスクリーン印刷法等を利用でき、コー
ティング後、必要に応じて、硬化の目的で乾燥、加温、
もしくは加熱し、または紫外線照射、もしくは電子線照
射を行なって、硬化させることにより形成することがで
きる。上記の低屈折率層4は、屈折率としては、1.1
0〜1.46であることが好ましく、厚みとしては、3
0nm〜200nmであることが好ましい。
In order to form the low refractive index layer 4 using a fluorine-containing polymer, a fluorine-containing oligomer or the like as a resin component, a photoradical polymerization initiator is blended if necessary, and if necessary, a solvent and an ultraviolet ray shield are also added. It can be formed by coating with a coating composition for forming a low refractive index layer prepared by adding an agent, an ultraviolet absorber, a surface modifier (leveling agent), or other additives. As the coating method, a roll coating method, a gravure coating method, a slide coating method, a spray coating method, a dip coating method, or a screen printing method can be used.After coating, if necessary, drying, heating, for the purpose of curing,
Alternatively, it can be formed by heating, or irradiation with ultraviolet rays or irradiation with an electron beam to cure. The low refractive index layer 4 has a refractive index of 1.1.
The thickness is preferably 0 to 1.46, and the thickness is 3
It is preferably 0 nm to 200 nm.

【0046】図1(b)を引用して説明した高屈折率層
6が介在する場合、高屈折率層6は、屈折率としては、
1.46〜1.90であることが好ましく、厚みとして
は、50nm〜200nmであることが好ましい。
When the high refractive index layer 6 described with reference to FIG. 1 (b) is interposed, the high refractive index layer 6 has a refractive index of
The thickness is preferably 1.46 to 1.90, and the thickness is preferably 50 nm to 200 nm.

【0047】高屈折率層6は、ハードコート層3を形成
する場合におけるのと同様な樹脂成分を含有し、それら
にさらに、層6を高屈折率とするための無機微粒子、好
ましくは無機超微粒子を配合した高屈折率層形成用塗料
組成物を用いて形成されたものであり、樹脂成分として
は、熱可塑性樹脂のうちの硬度のあるものを用いるほ
か、より好ましくは、熱硬化性樹脂もしくは電離放射線
硬化性樹脂を用いて形成され、それら樹脂成分が硬化し
たものであって、その形成は、ハードコート層3の形成
法に準じて行なうことができる。
The high-refractive-index layer 6 contains the same resin component as in the case of forming the hard coat layer 3 and further contains inorganic fine particles, preferably an inorganic super-particle, for making the layer 6 have a high refractive index. It is formed using a coating composition for forming a high refractive index layer containing fine particles, and as the resin component, one having hardness among thermoplastic resins is used, and more preferably, a thermosetting resin. Alternatively, it is formed by using an ionizing radiation curable resin, and those resin components are cured, and the formation can be performed according to the method for forming the hard coat layer 3.

【0048】無機微粒子、好ましくは無機超微粒子とし
ては、一般的に屈折率の高いチタニア(屈折率n=1.
9〜2.3)、ジルコニア(n=1.6〜2.0)、酸
化亜鉛(n=1.6〜2.0)、アルミナ(n=1.5
〜1.7)、酸化スズ(n=1.7〜2.0)、インジ
ウムドープ酸化スズ(=ITO、n=1.6〜1.
9)、アンチモンドープ酸化スズ(=ATO、n=1.
6〜1.9)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(=AZ
O、n=1.7〜2.0)等もハードコート薄層4に必
要とされる屈折率の範囲内であれば、使用することがで
きる。また、これら、屈折率が高い無機質微粒子、もし
くは無機質超微粒子が導電性を示す場合は、高屈折率層
6を導電層とすることができ、高屈折率層、ひいては、
反射防止層の表面層、さらには反射防止材に導電性を付
与し、結果として、帯電防止性能を付与することがで
き、好ましい。
As the inorganic fine particles, preferably the inorganic ultrafine particles, titania having a generally high refractive index (refractive index n = 1.
9-2.3), zirconia (n = 1.6-2.0), zinc oxide (n = 1.6-2.0), alumina (n = 1.5)
.About.1.7), tin oxide (n = 1.7 to 2.0), indium-doped tin oxide (= ITO, n = 1.6 to 1.
9), antimony-doped tin oxide (= ATO, n = 1.
6 to 1.9), aluminum-doped zinc oxide (= AZ
O, n = 1.7 to 2.0) and the like can be used as long as they are within the range of the refractive index required for the hard coat thin layer 4. Further, when these inorganic fine particles having a high refractive index or inorganic ultrafine particles exhibit conductivity, the high refractive index layer 6 can be used as a conductive layer, and the high refractive index layer, and by extension,
It is preferable because the surface layer of the antireflection layer and further the antireflection material can be provided with conductivity, and as a result, antistatic performance can be provided.

【0049】本発明の反射防止体1は、図1(a)およ
び(b)を引用して概略を説明したように、ハードコー
ト層3の表層部、もしくは高屈折率層6の表層部に、低
屈折率層の成分の含浸部5A(もしくは5B)を有して
いる。このように、含浸部5aもしくは5bを形成する
には、次のようにして行なう。
The antireflection body 1 of the present invention is formed on the surface layer portion of the hard coat layer 3 or the high refractive index layer 6 as outlined above with reference to FIGS. 1 (a) and 1 (b). , And has an impregnated portion 5A (or 5B) of the components of the low refractive index layer. In this way, the impregnated portion 5a or 5b is formed as follows.

【0050】まず、図1(a)を引用して説明した例
を、図2を引用しながら説明する。まず、図2(a)に
示す基体2上に、ハードコート層形成用塗料組成物を用
いたコーティングを行ない、塗膜を適宜な手段を講じて
硬化させるが、硬化を、いわゆる「部分硬化」の段階で
止めることにより、未だ完全には硬化していないハード
コート層3p(pは部分的であることを表すparti
alの頭文字)を形成する(図2(b))。
First, the example described with reference to FIG. 1A will be described with reference to FIG. First, a substrate 2 shown in FIG. 2 (a) is coated with a coating composition for forming a hard coat layer, and the coating film is cured by an appropriate means. The curing is a so-called "partial curing". The hard coat layer 3p that is not completely cured by stopping at the stage of
a), which is the acronym for “al” (FIG. 2B).

【0051】次に、未だ完全には硬化していないハード
コート層3p上に、低屈折率層形成用塗料組成物を用い
たコーティングを行ない、この時点では未硬化の低屈折
率層4aを形成する(図2(c))。添え字aは未硬化
であることを示す。コーティング後、直ちには硬化のた
めの手段を講じることなく、時間を置くことにより、未
硬化の低屈折率層4a内の低屈折率層形成用塗料組成物
を下層のハードコート層3pに含浸させて、未だ完全に
は硬化していないハードコート層3pの表層部に含浸部
を形成させる。従って、下層となるハードコート層3p
の部分硬化の程度や、低屈折率層形成用塗料組成物の含
浸性を与える粘度および化学的親和性等は、上記の含浸
が適度に行なわれるよう決められる。
Next, the hard coat layer 3p which has not been completely cured is coated with a coating composition for forming a low refractive index layer, and at this point an uncured low refractive index layer 4a is formed. (FIG. 2 (c)). The subscript a indicates that it is uncured. Immediately after coating, the coating composition for forming the low refractive index layer in the uncured low refractive index layer 4a is impregnated into the lower hard coat layer 3p without taking any measures for curing. Then, the impregnated portion is formed on the surface layer portion of the hard coat layer 3p which has not been completely cured. Therefore, the underlying hard coat layer 3p
The degree of partial curing, the viscosity that imparts the impregnating property of the coating composition for forming a low refractive index layer, the chemical affinity, and the like are determined so that the above-mentioned impregnation is appropriately performed.

【0052】含浸が適度に進行した時点で、全体を完全
に硬化させ、即ち、含浸部を含む下層のハードコート層
3pおよび上層の未硬化の低屈折率層4aを完全に硬化
させることにより、基体2上にハードコート層3、低屈
折率層4が積層され、ハードコート層3の表層部に、硬
化した含浸部5Aを有する反射防止体1(図2(d))
を得ることができ、ハードコート層3と低屈折率層4と
が単に積層したのではなく、低屈折率層を形成する際の
低屈折率層形成用塗料組成物がハードコート層3に含浸
し硬化した部分を有しているため、ハードコート層3と
低屈折率層4とが強固に接着した積層状態とすることが
できる。
When the impregnation has proceeded to an appropriate degree, the whole is completely cured, that is, the lower hard coat layer 3p including the impregnated portion and the upper uncured low refractive index layer 4a are completely cured. An antireflection body 1 having a hard coat layer 3 and a low refractive index layer 4 laminated on a substrate 2 and a cured impregnated portion 5A on the surface layer portion of the hard coat layer 3 (FIG. 2 (d)).
And the hard coat layer 3 and the low refractive index layer 4 are not simply laminated, but the hard coat layer 3 is impregnated with the coating composition for forming the low refractive index layer when forming the low refractive index layer. Since it has a hardened portion, the hard coat layer 3 and the low refractive index layer 4 can be in a laminated state in which they are firmly adhered.

【0053】図1(b)を引用して説明したように、高
屈折率層6が介在し、高屈折率層6の表層部に低屈折率
層の成分が含浸した含浸部5Bを有する場合も、上記の
方法に準じて行なうことができ、図1(b)を引用して
説明したように、含浸部5Bを高屈折率層6の表層部に
のみ有しているときは、上記の説明におけるハードコー
ト層3を高屈折率層6に置き換えれば、同様にして行な
うことができる。
As described with reference to FIG. 1B, in the case where the high refractive index layer 6 is interposed and the surface portion of the high refractive index layer 6 has the impregnated portion 5B impregnated with the component of the low refractive index layer. Can also be carried out according to the above method. As described with reference to FIG. 1 (b), when the impregnated portion 5B is provided only in the surface layer portion of the high refractive index layer 6, the above If the hard coat layer 3 in the description is replaced with the high refractive index layer 6, the same operation can be performed.

【0054】高屈折率層6が介在する際には、含浸部
は、ハードコート層3と高屈折率層6との関係でも生じ
得る。この場合、ハードコート層3を未だ完全には硬化
していない状態まで部分硬化させて形成しておき、その
上に、高屈折率層形成用塗料組成物をコーティングし
て、未硬化の内に下層に含浸させて第1の含浸部を形成
させ、その後、硬化の手段を講じて、少なくとも、高屈
折率層6が未だ完全には硬化していない状態まで部分硬
化させる。この時点で、下層のハードコート層3は、完
全硬化してもよいし、未だ完全には硬化していない状態
であってもよい。その後、未だ完全には硬化していない
高屈折率層6上に、低屈折率層形成用組成物をコーティ
ングして、未硬化のうちに下層に含浸させて第2の含浸
部を形成させ、最後に、硬化の手段を講じて、全体を完
全に硬化させることにより、ハードコート層3の表層部
および高屈折率層6の表層部にそれぞれ硬化した含浸部
を有していて、そのことにより、ハードコート層3と高
屈折率層6との間、および高屈折率層6と低屈折率層4
との間の密着性が強化された反射防止体1とすることが
できる。
When the high-refractive index layer 6 is interposed, the impregnated portion may also occur due to the relationship between the hard coat layer 3 and the high-refractive index layer 6. In this case, the hard coat layer 3 is formed by partially curing it to a state where it is not completely cured, and coating the coating composition for forming a high refractive index layer on the hard coat layer 3 The lower layer is impregnated to form the first impregnated portion, and thereafter, a curing means is used to partially cure the high refractive index layer 6 to a state where it is not yet completely cured. At this point, the lower hard coat layer 3 may be completely cured or may not be completely cured. Then, the composition for forming a low refractive index layer is coated on the high refractive index layer 6 which is not yet completely cured, and the lower layer is impregnated while it is uncured to form a second impregnated portion, Finally, by taking a curing means to completely cure the whole, the surface layer portion of the hard coat layer 3 and the surface layer portion of the high refractive index layer 6 each have a cured impregnated portion. Between the hard coat layer 3 and the high refractive index layer 6, and between the high refractive index layer 6 and the low refractive index layer 4.
It is possible to obtain the antireflection body 1 in which the adhesion between and is enhanced.

【0055】以上の説明において、未だ完全に硬化して
いない状態を実現するには、硬化のための手段である、
乾燥、加温、加熱、紫外線照射、もしくは電子線照射等
による完全硬化の条件を基準に、硬化の手段を講じる時
間、条件、塗膜に与えられるエネルギーの積算量を変化
させることにより行なう。一例として、紫外線照射によ
る完全硬化の条件が、照射線量で80〜2000mJ/
cm2であるとき、未だ完全に硬化していないハーフキ
ュアの状態を実現するには、5〜80mJ/cm2程度
であり、完全硬化の場合の照射線量の数%〜数10%で
ある。
In the above description, in order to realize a state where the resin is not completely cured, it is a means for curing.
It is carried out by changing the time and conditions under which the curing means is taken and the integrated amount of energy applied to the coating film, based on the conditions of complete curing such as drying, heating, heating, ultraviolet ray irradiation, or electron beam irradiation. As an example, the condition of complete curing by UV irradiation is 80 to 2000 mJ /
When it is cm 2, it is about 5 to 80 mJ / cm 2 in order to realize a half-cured state that is not yet completely cured, which is several% to several tens% of the irradiation dose in the case of complete curing.

【0056】[0056]

【実施例】(実施例1)厚みが80μmのトリアセチル
セルロースフィルム上に、下記組成のハードコート層形
成用組成物を準備して、バーコーティングし、乾燥して
溶剤を除去してから、紫外線照射装置(フュージョンU
Vシステムズジャパン(株)製、光源;Hバルブ)を用
い、照射線量;20mJ/cm2の条件で部分硬化さ
せ、膜厚が4μmの透明なハードコート層を形成し、ハ
ードコートフィルムを得た。なお、部数、配合比は、以
降も含め、いずれも質量基準による。 (ハードコート層形成用組成物) ・ペンタエリスリトールテトラアクリレート 20.0部 ・光重合開始剤 1.0部 (チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製、商品名;イルガキュア 184) ・メチルイソブチルケトン 80部
Example 1 A composition for forming a hard coat layer having the following composition was prepared on a triacetyl cellulose film having a thickness of 80 μm, bar-coated, dried to remove the solvent, and then exposed to ultraviolet rays. Irradiation device (Fusion U
V system Japan Co., Ltd., light source; H bulb) was used and irradiation was carried out under the conditions of 20 mJ / cm 2 for partial curing to form a 4 μm thick transparent hard coat layer to obtain a hard coat film. . The number of parts and the blending ratio are based on the mass, including the following. (Composition for forming hard coat layer) -Pentaerythritol tetraacrylate 20.0 parts-Photopolymerization initiator 1.0 part (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trade name: Irgacure 184) -Methyl isobutyl ketone 80 parts

【0057】形成されたハードコート層上に、フッ素系
紫外線硬化型塗料組成物(JSR(株)製、商品名;オ
プスターJM5010)をバーコーティングし、乾燥し
て溶剤を除去した後、上記と同様の紫外線照射装置を用
い、照射線量;300mJ/cm2の条件で照射して硬
化させ、屈折率が1.41の低屈折率層を形成し、反射
防止フィルムを得た。なお、低屈折率層の膜厚は、分光
光度計(島津製作所(株)製)を用いて反射率を測定し
たときに、波長;550nm付近に反射率の極小値が来
るように設定した。
On the formed hard coat layer, a fluorine-based UV-curable coating composition (manufactured by JSR Corporation, trade name; Opstar JM5010) was bar-coated, dried to remove the solvent, and then the same as above. Was used to irradiate and cure at a dose of 300 mJ / cm 2 to form a low refractive index layer having a refractive index of 1.41 to obtain an antireflection film. The film thickness of the low refractive index layer was set so that the minimum value of the reflectance was around a wavelength of 550 nm when the reflectance was measured using a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation).

【0058】(実施例2)実施例1におけるのと同様に
して、ただし、紫外線の照射線量を100mJ/cm2
として、完全硬化させ、ハードコートフィルムを得た。
このハードコートフィルムのハードコート層上に塗布す
る高屈折率層形成用組成物として、下記の組成中、光開
始剤以外のものを、それらの約4倍量のジルコニアビー
ズ(直径;0.3mm)を媒体として、ペイントシェー
カーで10時間振とうし、振とう後に光開始剤を加え
て、高屈折率層形成用組成物を得た。
Example 2 As in Example 1, except that the irradiation dose of ultraviolet rays was 100 mJ / cm 2.
As a result, it was completely cured to obtain a hard coat film.
As the composition for forming a high refractive index layer to be applied on the hard coat layer of this hard coat film, in the following compositions, those other than the photoinitiator were used in an amount of about 4 times the amount of zirconia beads (diameter: 0.3 mm). ) Was used as a medium and shaken with a paint shaker for 10 hours, and a photoinitiator was added after shaking to obtain a composition for forming a high refractive index layer.

【0059】 (高屈折率層形成用塗料組成物) ・ルチル型酸化チタン 10部 (石原産業(株)製、品番;TTO51(C)、一次粒径;0.01〜 0.03μm) ・ペンタエリスリトールトリアクリレート 4部 (日本化薬(株)製、商品名;PET30) ・分散剤 2部 (ビックケミー・ジャパン社製、ディスパービック163) ・光開始剤 0.2部 (チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製、商品名;イルガキュア 184) ・メチルイソブチルケトン 37.3部[0059] (Coating composition for forming high refractive index layer)   ・ Rutile type titanium oxide 10 parts     (Ishihara Sangyo Co., Ltd., product number; TTO51 (C), primary particle size; 0.01-       0.03 μm)   ・ Pentaerythritol triacrylate 4 parts     (Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name; PET30)   ・ 2 parts dispersant     (Made by Big Chemie Japan, Disperbic 163)   ・ Photoinitiator 0.2 parts     (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trade name; Irgacure       184)   ・ Methyl isobutyl ketone 37.3 parts

【0060】上記の高屈折率層形成用組成物を、ハード
コートフィルムのハードコート層上にハードコート層形
成の際と同様にして塗布し、ただし、紫外線の照射線量
を20mJ/cm2として部分硬化させた。高屈折率層
の膜厚は、分光光度計(島津製作所(株)製)を用いて
反射率を測定したときに、波長;550nm付近に反射
率の極小値が来るように設定した。
The above composition for forming a high refractive index layer was applied onto a hard coat layer of a hard coat film in the same manner as in the formation of the hard coat layer, except that the irradiation dose of ultraviolet rays was 20 mJ / cm 2. Cured. The film thickness of the high refractive index layer was set so that the minimum value of the reflectance was around a wavelength of 550 nm when the reflectance was measured using a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation).

【0061】形成された高屈折率層上に、実施例1にお
けるのと同様な組成物を用い、同様な方法にて低屈折率
層を形成した。やはり、低屈折率層の膜厚は、分光光度
計(島津製作所(株)製)を用いて反射率を測定したと
きに、波長;550nm付近に反射率の極小値が来るよ
うに設定した。
On the formed high refractive index layer, a low refractive index layer was formed by using the same composition as in Example 1 and the same method. Again, the film thickness of the low-refractive index layer was set so that the minimum value of the reflectance was around the wavelength of 550 nm when the reflectance was measured using a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation).

【0062】(比較例1)ハードコート層形成時の紫外
線の照射線量を300mJ/cm2とした以外は実施例
1と同様にして、反射防止フィルムを作成した。
Comparative Example 1 An antireflection film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the irradiation dose of ultraviolet rays at the time of forming the hard coat layer was 300 mJ / cm 2 .

【0063】(比較例2)高屈折率層形成時の紫外線の
照射線量を150mJ/cm2とした以外は実施例3と
同様にして、反射防止フィルムを作成した。
Comparative Example 2 An antireflection film was prepared in the same manner as in Example 3 except that the irradiation dose of ultraviolet rays at the time of forming the high refractive index layer was 150 mJ / cm 2 .

【0064】以上のようにして得られた実施例および比
較例の反射防止フィルムの評価を、反射率、膜強度、お
よび密着性の三項目について行なった。反射率は、分光
光度計(島津製作所(株)製)を用いて測定した波長;
550nmにおけるものであり、用途にもよるが、反射
率が1.2%以下であることが好ましい。また、スチー
ルウールの#0000番のものを用いて、一定の荷重で
20回擦り、濁度計(日本電色工業(株)製、商品名;
NDH2000)で計測して、ヘイズが変化したときの
荷重値のおもりの質量(単位;g)をもって、膜強度と
した。この膜強度は、人の手等に触れやすい用途では、
200g以上であることが好ましいが、200未満であ
っても、人の手等に触れる頻度の低い用途であれば、使
用可能である。また、密着性は、セロファンテープによ
る碁盤目剥離試験により評価した。
The antireflection films of Examples and Comparative Examples obtained as described above were evaluated for the three items of reflectance, film strength, and adhesion. The reflectance is a wavelength measured using a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation);
It is at 550 nm, and the reflectance is preferably 1.2% or less, although it depends on the application. Further, using a # 0000 steel wool, rubbed 20 times with a constant load, a turbidimeter (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., trade name;
NDH2000) and the mass (unit: g) of the weight when the haze changed was defined as the film strength. This film strength is used in applications where it is easy to touch human hands, etc.
It is preferably 200 g or more, but even less than 200, it can be used as long as it is used infrequently in contact with human hands. Further, the adhesiveness was evaluated by a cross-cut peeling test using cellophane tape.

【0065】[0065]

【表1】 [Table 1]

【0066】[0066]

【発明の効果】請求項1の発明によれば、上層の低屈折
率層の成分が下層のハードコート層に含浸していること
により、両層の密着性が向上した反射防止体を提供する
ことができる。請求項2の発明によれば、ハードコート
層、高屈折率層もしくは導電層、および低屈折率層が積
層され、これら各層のいずれか一つの界面もしくは二つ
の界面で、上層の成分が下層に含浸していることによ
り、該当する箇所で接する両層の密着性が向上した反射
防止体を提供することができる。請求項3の発明によれ
ば、請求項1または請求項2の発明の効果に加え、ハー
ドコート層が熱硬化性樹脂および/または電離放射線硬
化性樹脂を用いて構成されているので、より密着性が高
く、表面の硬度が高い反射防止体を提供することができ
る。請求項4の発明によれば、請求項2の発明の効果に
加え、高屈折率層が熱硬化性樹脂および/または電離放
射線硬化性樹脂を用いて構成されているので、より密着
性が高く、表面の硬度が高い反射防止体を提供すること
ができる。請求項5の発明によれば、請求項4の発明の
効果に加え、無機超微粒子をさらに含有することにより
高屈折率層の屈折率が向上したことにより、反射防止性
がより向上した反射防止体を提供することができる。請
求項6の発明によれば、請求項1〜請求項5いずれかの
発明において、高屈折率層の屈折率を規定したので、反
射防止性がより確実に発揮される反射防止体を提供する
ことができる。請求項7の発明によれば、請求項1〜請
求項6いずれかの発明の効果に加え、低屈折率が熱硬化
性樹脂および/または電離放射線硬化性樹脂を用いて構
成されているので、低屈折率層の硬度が寄与したことに
より、表面の硬度が高い反射防止体を提供することがで
きる。請求項8の発明によれば、請求項7の発明の効果
に加え、低屈折率層の屈折率がより低く、反射防止性の
高い反射防止体を提供することができる。請求項9の発
明によれば、請求項7の発明の効果に加え、低屈折率層
の屈折率がより低く、反射防止性が高い上に、低屈折率
層の硬度が寄与したことにより、表面の硬度が高い反射
防止体を提供することができる。請求項10の発明によ
れば、請求項7の発明の効果に加え、低屈折率層の表面
のすべり性が増して、耐擦傷性が向上し、また、表面に
離型性を与えるので、防汚性が向上した反射防止体を提
供することができる。請求項11の発明によれば、請求
項1〜請求項10いずれかの発明の効果に加え、低屈折
率層の屈折率を規定したことにより、反射防止性がより
確実に実現可能な反射防止体を提供することができる。
請求項12の発明によれば、ハードコート層、および低
屈折率層を順次積層する際に、下層を部分硬化させた状
態で上層を形成して、上層の成分を下層に含浸させるこ
とにより、両層の密着性を向上させることが可能な反射
防止体の製造方法を提供することができる。請求項13
の発明によれば、ハードコート層、高屈折率層、および
低屈折率層を順次積層する際に、最下層を硬化させてお
き、中層を部分硬化させた状態で上層を形成して、上層
の成分を中層に含浸させることにより、両層の密着性を
向上させることが可能な反射防止体の製造方法を提供す
ることができる。請求項14の発明によれば、ハードコ
ート層、高屈折率層、および低屈折率層を順次積層する
際に、最下層を部分硬化させた状態で中層を形成して、
中層の成分を最下層に含浸させることにより、両層の密
着性を向上させ、中層を部分硬化させた状態で上層を形
成して、上層の成分を中層に含浸させることにより、両
層の密着性を向上させることにより、ハードコート層と
高屈折率層の間、および高屈折率層と低屈折率層の間の
密着性を向上させることが可能な反射防止体の製造方法
を提供することができる。
According to the first aspect of the present invention, the component of the upper low-refractive index layer is impregnated in the lower hard coat layer to provide an antireflection body in which the adhesion between both layers is improved. be able to. According to the invention of claim 2, a hard coat layer, a high-refractive index layer or a conductive layer, and a low-refractive index layer are laminated, and at any one interface or two interfaces of these layers, the component of the upper layer becomes the lower layer. By being impregnated, it is possible to provide an antireflection body in which the adhesiveness of both layers in contact with each other is improved. According to the invention of claim 3, in addition to the effect of the invention of claim 1 or claim 2, since the hard coat layer is composed of a thermosetting resin and / or an ionizing radiation curable resin, it is more closely adhered. It is possible to provide an antireflective body having high property and high surface hardness. According to the invention of claim 4, in addition to the effect of the invention of claim 2, since the high refractive index layer is composed of a thermosetting resin and / or an ionizing radiation curable resin, the adhesion is higher. It is possible to provide an antireflection body having a high surface hardness. According to the invention of claim 5, in addition to the effect of the invention of claim 4, since the refractive index of the high refractive index layer is improved by further containing the inorganic ultrafine particles, the antireflection property is further improved. The body can be provided. According to the invention of claim 6, in the invention of any one of claims 1 to 5, the refractive index of the high refractive index layer is defined, and therefore, an antireflection body exhibiting antireflection properties more reliably is provided. be able to. According to the invention of claim 7, in addition to the effect of any one of claims 1 to 6, the low refractive index is constituted by using a thermosetting resin and / or an ionizing radiation curable resin. Due to the contribution of the hardness of the low refractive index layer, it is possible to provide an antireflection body having a high surface hardness. According to the invention of claim 8, in addition to the effect of the invention of claim 7, it is possible to provide an antireflection body having a lower refractive index of the low refractive index layer and high antireflection properties. According to the invention of claim 9, in addition to the effect of the invention of claim 7, the refractive index of the low refractive index layer is lower, the antireflection property is high, and the hardness of the low refractive index layer contributes. An antireflection body having a high surface hardness can be provided. According to the invention of claim 10, in addition to the effect of the invention of claim 7, since the slip property of the surface of the low refractive index layer is increased, the scratch resistance is improved, and the surface is given releasability. An antireflection body having improved antifouling property can be provided. According to the invention of claim 11, in addition to the effect of the invention of any one of claims 1 to 10, by defining the refractive index of the low refractive index layer, antireflection capable of more reliably realizing antireflection property The body can be provided.
According to the invention of claim 12, when the hard coat layer and the low refractive index layer are sequentially laminated, the upper layer is formed in a state where the lower layer is partially cured, and the lower layer is impregnated with the components of the upper layer, It is possible to provide a method for producing an antireflection body capable of improving the adhesion between both layers. Claim 13
According to the invention, when the hard coat layer, the high-refractive index layer, and the low-refractive index layer are sequentially laminated, the lowermost layer is cured, and the intermediate layer is partially cured to form the upper layer. By impregnating the intermediate layer with the component (1), it is possible to provide a method for producing an antireflection body capable of improving the adhesion between both layers. According to the invention of claim 14, when the hard coat layer, the high refractive index layer, and the low refractive index layer are sequentially laminated, the middle layer is formed with the lowermost layer partially cured,
By impregnating the lowermost layer with the components of the middle layer, the adhesion of both layers is improved.By forming the upper layer with the middle layer partially cured, and impregnating the components of the upper layer into the middle layer, the adhesion of both layers is improved. To provide a method for producing an antireflection body capable of improving adhesion between a hard coat layer and a high refractive index layer, and between a high refractive index layer and a low refractive index layer by improving the property. You can

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の反射防止体を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing an antireflection body of the present invention.

【図2】本発明の反射防止体の製造過程を示す断面図で
ある。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the manufacturing process of the antireflection body of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 反射防止体 2 基体 3 ハードコート層 4 低屈折率層 5 相溶部 6 高屈折率層 1 Anti-reflective body 2 base 3 hard coat layer 4 Low refractive index layer 5 compatible parts 6 High refractive index layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2K009 AA04 AA05 AA15 BB02 BB14 BB24 BB25 BB28 CC02 CC03 CC06 CC09 CC26 CC34 CC35 CC42 DD02 DD05 DD06 4F100 AA01D AA21 AA27 AJ05 AK01B AK01C AK01D AK17C AK25 AK52C AL05B AL05C AT00A BA03 BA04 BA07 BA10A BA10C CA30 DE01D GB07 GB31 GB41 JB13B JB13C JB13D JB14B JB14C JB14D JG01D JK12B JN18C JN18D JN30 YY00C YY00D   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 2K009 AA04 AA05 AA15 BB02 BB14                       BB24 BB25 BB28 CC02 CC03                       CC06 CC09 CC26 CC34 CC35                       CC42 DD02 DD05 DD06                 4F100 AA01D AA21 AA27 AJ05                       AK01B AK01C AK01D AK17C                       AK25 AK52C AL05B AL05C                       AT00A BA03 BA04 BA07                       BA10A BA10C CA30 DE01D                       GB07 GB31 GB41 JB13B                       JB13C JB13D JB14B JB14C                       JB14D JG01D JK12B JN18C                       JN18D JN30 YY00C YY00D

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基体上に、いずれも樹脂を含有する樹脂
組成物からなるハードコート層および低屈折率層が順次
積層された積層構造を有しており、前記ハードコート層
の表層部において、前記低屈折率層の成分が含浸した含
浸部を有していることを特徴とする反射防止体。
1. A laminated structure in which a hard coat layer and a low refractive index layer, both of which are made of a resin composition containing a resin, are sequentially laminated on a substrate, and a surface layer portion of the hard coat layer comprises: An antireflection body having an impregnated portion impregnated with the component of the low refractive index layer.
【請求項2】 基体上に、いずれも樹脂を含有する樹脂
組成物からなるハードコート層、高屈折率層もしくは導
電層、および低屈折率層が順次積層された積層構造を有
しており、前記ハードコート層の表層部において前記高
屈折率層もしくは前記導電層の成分が含浸した含浸部を
有しているか、および/または、前記高屈折率層もしく
は前記導電層の表層部において前記低屈折率層の成分が
含浸した含浸部を有していることを特徴とする反射防止
体。
2. A laminated structure in which a hard coat layer, a high refractive index layer or a conductive layer, and a low refractive index layer, each of which is made of a resin composition containing a resin, are sequentially laminated on a substrate, The surface layer of the hard coat layer has an impregnated portion impregnated with the components of the high refractive index layer or the conductive layer, and / or the low refractive index of the surface layer portion of the high refractive index layer or the conductive layer. An antireflection body having an impregnated portion impregnated with a component of the refractive index layer.
【請求項3】 前記ハードコート層が、熱硬化性樹脂を
含有する熱硬化性樹脂組成物および/または電離放射線
硬化性樹脂を含有する電離放射線硬化性樹脂組成物の硬
化物からなる硬化樹脂組成物で構成されていることを特
徴とする請求項1または請求項2記載の反射防止体。
3. A cured resin composition in which the hard coat layer is a cured product of a thermosetting resin composition containing a thermosetting resin and / or an ionizing radiation curable resin composition containing an ionizing radiation curable resin. The antireflection body according to claim 1 or 2, wherein the antireflection body is composed of a thing.
【請求項4】 前記高屈折率層が、熱硬化性樹脂を含有
する熱硬化性樹脂組成物および/または電離放射線硬化
性樹脂を含有する電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物
からなる硬化樹脂組成物で構成されていることを特徴と
する請求項2記載の反射防止体。
4. A cured resin, wherein the high refractive index layer is a cured product of a thermosetting resin composition containing a thermosetting resin and / or an ionizing radiation curable resin composition containing an ionizing radiation curable resin. The antireflection body according to claim 2, which is composed of a composition.
【請求項5】 前記高屈折率層が無機超微粒子をさらに
含有することを特徴とする請求項4記載の反射防止体。
5. The antireflection body according to claim 4, wherein the high refractive index layer further contains inorganic ultrafine particles.
【請求項6】 前記高屈折率層の屈折率が1.46を超
えることを特徴とする請求項1〜請求項5いずれか記載
の反射防止体。
6. The antireflection body according to claim 1, wherein the high refractive index layer has a refractive index of more than 1.46.
【請求項7】 前記低屈折率層が、熱硬化性樹脂を含有
する熱硬化性樹脂組成物および/または電離放射線硬化
性樹脂を含有する電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物
からなる硬化樹脂組成物で構成されていることを特徴と
する請求項1〜請求項6いずれか記載の反射防止体。
7. A cured resin in which the low refractive index layer is a cured product of a thermosetting resin composition containing a thermosetting resin and / or an ionizing radiation curable resin composition containing an ionizing radiation curable resin. The antireflection body according to any one of claims 1 to 6, which is composed of a composition.
【請求項8】 前記低屈折率層が含フッ素ポリマー成分
を含有することを特徴とする請求項7記載の反射防止
体。
8. The antireflection body according to claim 7, wherein the low refractive index layer contains a fluoropolymer component.
【請求項9】 前記低屈折率層が含フッ素オリゴマー成
分を含有することを特徴とする請求項7記載の反射防止
体。
9. The antireflection body according to claim 7, wherein the low refractive index layer contains a fluorine-containing oligomer component.
【請求項10】 前記低屈折率層がポリシロキサン成分
を含有することを特徴とする請求項7記載の反射防止
体。
10. The antireflection body according to claim 7, wherein the low refractive index layer contains a polysiloxane component.
【請求項11】 前記低屈折率層の屈折率が1.10〜
1.46であることを特徴とする請求項1〜請求項10
記載の反射防止体。
11. The low refractive index layer has a refractive index of 1.10 to 10.
It is 1.46, It is characterized by the above-mentioned.
Antireflection body described.
【請求項12】 基体上に、いずれも樹脂組成物を主体
とするハードコート層、および低屈折率層を順次積層す
ることからなり、基体上に、樹脂を含有するハードコー
ト層形成用塗料組成物をコーティングして部分硬化を行
なわせることにより、未だ完全には硬化していないハー
ドコート層を形成し、次に、前記の未だ完全には硬化し
ていないハードコート層上に、樹脂を含有する低屈折率
層形成用塗料組成物をコーティングして、未硬化の低屈
折率層を積層し、積層後、前記の未硬化の低屈折率層内
の前記低屈折率層形成用組成物を前記の未だ完全には硬
化していないハードコート層内に含浸させて、前記ハー
ドコート層の表層部に含浸部を形成させ、その後、全体
を硬化させることからなる反射防止体の製造方法。
12. A coating composition for forming a hard coat layer, which comprises a resin, which comprises a hard coat layer mainly composed of a resin composition and a low refractive index layer, which are sequentially laminated on a base. A hard coat layer that has not yet been completely cured is formed by coating an article and performing partial curing, and then containing a resin on the hard coat layer that has not been completely cured. The coating composition for forming a low-refractive-index layer is laminated to form an uncured low-refractive-index layer, and after lamination, the composition for forming a low-refractive-index layer in the uncured low-refractive-index layer A method for producing an antireflection body, which comprises impregnating the hard coat layer which has not been completely cured to form an impregnated portion in the surface layer portion of the hard coat layer, and then curing the whole.
【請求項13】 基体上に、いずれも樹脂組成物を主体
とするハードコート層、高屈折率層、および低屈折率層
を順次積層することからなり、基体上に、樹脂を含有す
るハードコート層形成用塗料組成物をコーティングして
硬化を行なわせることによりハードコート層を形成し、
次に、前記ハードコート層上に、樹脂を含有する高屈折
率層形成用塗料組成物をコーティングして部分硬化を行
なわせることにより、未だ完全には硬化していない高屈
折率層を形成し、さらに、その後、前記の未だ完全には
硬化していない高屈折率層上に、樹脂を含有する低屈折
率層形成用塗料組成物をコーティングして、未硬化の低
屈折率層を積層し、積層後、前記の未硬化の低屈折率層
内の前記低屈折率層形成用組成物を前記の未だ完全には
硬化していない高屈折率層内に含浸させて、前記高屈折
率層の表層部に含浸部を形成させ、その後、全体を硬化
させることからなる反射防止体の製造方法。
13. A hard coat containing a resin, which comprises a hard coat layer mainly comprising a resin composition, a high refractive index layer, and a low refractive index layer, which are sequentially laminated on a base. A hard coat layer is formed by coating the coating composition for layer formation and curing the composition.
Next, a coating composition for forming a high refractive index layer containing a resin is coated on the hard coat layer and partially cured to form a high refractive index layer which is not yet completely cured. Further, thereafter, a coating composition for forming a low refractive index layer containing a resin is coated on the high refractive index layer which is not yet completely cured, and an uncured low refractive index layer is laminated. After the lamination, the composition for forming a low refractive index layer in the uncured low refractive index layer is impregnated in the high refractive index layer which is not yet completely cured to form the high refractive index layer. A method for producing an antireflection body, which comprises forming an impregnated portion on the surface layer portion and then curing the whole.
【請求項14】 基体上に、いずれも樹脂組成物を主体
とするハードコート層、高屈折率層、および低屈折率層
を順次積層することからなり、基体上に、樹脂を含有す
るハードコート層形成用塗料組成物をコーティングして
部分硬化を行なわせることにより、未だ完全には硬化し
ていないハードコート層を形成し、次に、前記の未だ完
全には硬化していないハードコート層上に、樹脂を含有
する高屈折率層形成用塗料組成物をコーティングして、
未硬化の高屈折率層を積層し、積層後、前記の未硬化の
高屈折率層内の前記高屈折率層形成用組成物を前記の未
だ完全には硬化していないハードコート層内に含浸させ
て、前記ハードコート層の表層部に第1の含浸部を形成
させた後、部分硬化を行なって、未だ完全には硬化して
いない高屈折率層を形成し、さらに、その後、前記の未
だ完全には硬化していない高屈折率層上に、樹脂を含有
する低屈折率層形成用塗料組成物をコーティングして、
未硬化の低屈折率層を積層し、積層後、前記の未硬化の
低屈折率層内の前記低屈折率層形成用組成物を前記の未
だ完全には硬化していない高屈折率層内に含浸させて、
前記高屈折率層の表層部に第2の含浸部を形成させ、そ
の後、全体を硬化させることからなる反射防止体の製造
方法。
14. A hard coat containing a resin, which comprises a hard coat layer mainly comprising a resin composition, a high refractive index layer, and a low refractive index layer, which are sequentially laminated on a substrate. By coating the layer-forming coating composition and performing partial curing, a hard coat layer that is not yet completely cured is formed, and then, on the above-mentioned hard coat layer that is not yet completely cured. A coating composition for forming a high refractive index layer containing a resin,
Laminating an uncured high refractive index layer, after lamination, the high refractive index layer forming composition in the uncured high refractive index layer in the yet not completely hardened hard coat layer After impregnating and forming a first impregnated portion on the surface layer portion of the hard coat layer, partial curing is performed to form a high refractive index layer which is not yet completely cured, and then, On the high-refractive index layer which has not been completely cured, a coating composition for forming a low-refractive index layer containing a resin is coated,
Laminating an uncured low refractive index layer, and after laminating the low refractive index layer forming composition in the uncured low refractive index layer in the high refractive index layer not yet completely cured Impregnate
A method for producing an antireflection body, which comprises forming a second impregnated portion on the surface layer portion of the high refractive index layer and then curing the whole.
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