JP2007293229A - Optical laminate - Google Patents

Optical laminate Download PDF

Info

Publication number
JP2007293229A
JP2007293229A JP2006157208A JP2006157208A JP2007293229A JP 2007293229 A JP2007293229 A JP 2007293229A JP 2006157208 A JP2006157208 A JP 2006157208A JP 2006157208 A JP2006157208 A JP 2006157208A JP 2007293229 A JP2007293229 A JP 2007293229A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hard coat
coat layer
layer
acrylate
meth
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006157208A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4923754B2 (en
Inventor
Tomoyuki Horio
智之 堀尾
Kenji Ueno
健治 上野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2006157208A priority Critical patent/JP4923754B2/en
Publication of JP2007293229A publication Critical patent/JP2007293229A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4923754B2 publication Critical patent/JP4923754B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical laminate which exhibits a high surface hardness, while effectively suppressing or preventing fringe patterns. <P>SOLUTION: On a light transmitting base material of the laminate, at least (1) a hard coat layer A adjacent to the base material and (2) a hard coat layer B as an outermost surface layer are formed. The optical laminate is characterized in that an interface between the base material and the hard coat layer A does not substantially exist. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、新規な光学積層体に関する。   The present invention relates to a novel optical laminate.

ワードプロセッサ、コンピュータ、テレビ等の電子機器のディスプレイをはじめとする種々のディスプレイ装置等には、ガラス、プラスチック等の板状の透明材料が使用されている。これらの透明材料は、静電気による塵埃の付着、汚れの付着、あるいは擦り傷や引っかき傷等によって、透明性が損なわれやすいという問題点がある。   A plate-shaped transparent material such as glass or plastic is used in various display devices including a display of an electronic device such as a word processor, a computer, and a television. These transparent materials have a problem that transparency is easily lost due to adhesion of dust due to static electricity, adhesion of dirt, scratches, scratches, or the like.

そこで、透明材料上にハードコートを形成したり、あるいはハードコート上に所望の機能(例えば、帯電防止性、防汚性、反射防止性等)を付与するためにさらに他の層を形成させることが行われている。   Therefore, a hard coat is formed on the transparent material, or another layer is formed on the hard coat to give a desired function (for example, antistatic property, antifouling property, antireflection property, etc.). Has been done.

しかし、透明基材上にハードコート等を形成させた場合、透明基材表面の反射光とハードコート表面の反射光とが干渉して、膜厚のムラに起因して干渉縞と呼ばれるムラ模様となって現れ、外観が損なわれるという問題点が生じる。   However, when a hard coat or the like is formed on the transparent substrate, the reflected light on the transparent substrate surface interferes with the reflected light on the hard coat surface, resulting in uneven patterns called interference fringes due to film thickness unevenness. This appears and the appearance is damaged.

この問題を解決するためには、光学的にはハードコート層等の厚みを数十μm以上に極端に厚くする方法、あるいは100nm程度まで薄くするという方法がある。しかし、前者では、クラックが生じるほか、コストがかかる等の理由で実用性に欠ける。後者では、十分な表面硬度が確保できなくなるという問題がある。
特開2005−107005
In order to solve this problem, there is optically a method of extremely increasing the thickness of the hard coat layer or the like to several tens of μm or more, or a method of reducing the thickness to about 100 nm. However, the former lacks practicability for reasons such as cracking and cost. The latter has a problem that sufficient surface hardness cannot be secured.
JP2005-107005

従って、本発明の主な目的は、干渉縞の発現を効果的に抑制ないしは防止しつつ、高い表面硬度を発揮できる光学積層体を提供することにある。   Accordingly, a main object of the present invention is to provide an optical laminate that can exhibit high surface hardness while effectively suppressing or preventing the occurrence of interference fringes.

本発明者は、従来技術の問題点に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、特定の層構成を採用することにより上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies in view of the problems of the prior art, the present inventor has found that the above object can be achieved by adopting a specific layer structure, and has completed the present invention.

すなわち、本発明は、下記の光学積層体に係る。
1. 光透過性基材の上に、少なくとも(1)前記基材に隣接するハードコート層A及び(2)ハードコート層Bが形成されてなる積層体であって、前記基材とハードコート層Aとの界面が実質的に存在しないことを特徴とする光学積層体。
2. ハードコート層Bが、6以上の官能基を有するウレタン(メタ)アクリレート系化合物を含む組成物Bを用いて形成されてなる、前記項1に記載の光学積層体。
3. 前記ウレタン(メタ)アクリレート系化合物が重量平均分子量1000〜50000である、前記項2に記載の光学積層体。
4. ハードコート層Aが、重量平均分子量200以上であり、かつ、3以上の官能基を有する化合物Aを含む組成物Aを用いて形成されてなる、前記項1〜3のいずれかに記載の光学積層体。
5. 化合物Aが、(メタ)アクリレート系化合物及びウレタン(メタ)アクリレート系化合物の少なくとも1種である、前記項4に記載の光学積層体。
6. 組成物Aが、前記基材に対して浸透性又は溶解性を有する溶剤を含む、前記項4又は5に記載の光学積層体。
7. 干渉縞が実質的に存在しない、前記項1〜6のいずれかに記載の光学積層体。
8. ハードコート層A及びハードコート層Bの鉛筆硬度が4H以上である、前記項1〜7のいずれかに記載の光学積層体。
9. ハードコート層Aのビッカース硬度が450N/mm以上であり、ハードコート層Bのビッカース硬度が550N/mm以上である、前記項1〜7のいずれかに記載の光学積層体。
10. 1)ハードコート層Aとハードコート層Bとの間、2)ハードコート層Bの上又は3)ハードコート層Aの下に、帯電防止層、防眩層、低屈折率層、防汚層又はこれらの2種以上の層を形成してなる、前記項1〜9のいずれかに記載の光学積層体。
11. 反射防止用積層体として用いられる、前記項1〜10のいずれかに記載の光学積層体。
That is, the present invention relates to the following optical laminate.
1. A laminate in which at least (1) a hard coat layer A adjacent to the substrate and (2) a hard coat layer B are formed on a light transmissive substrate, the substrate and the hard coat layer A An optical laminated body characterized by substantially not having an interface with.
2. Item 2. The optical laminate according to Item 1, wherein the hard coat layer B is formed using a composition B containing a urethane (meth) acrylate-based compound having 6 or more functional groups.
3. Item 3. The optical laminate according to Item 2, wherein the urethane (meth) acrylate compound has a weight average molecular weight of 1,000 to 50,000.
4). Item 4. The optical component according to any one of Items 1 to 3, wherein the hard coat layer A is formed using a composition A having a weight average molecular weight of 200 or more and containing a compound A having three or more functional groups. Laminated body.
5). Item 5. The optical laminate according to Item 4, wherein Compound A is at least one of a (meth) acrylate compound and a urethane (meth) acrylate compound.
6). Item 6. The optical laminate according to Item 4 or 5, wherein the composition A contains a solvent having permeability or solubility with respect to the substrate.
7). Item 7. The optical laminate according to any one of Items 1 to 6, wherein interference fringes are substantially absent.
8). Item 8. The optical laminate according to any one of Items 1 to 7, wherein the pencil hardness of the hard coat layer A and the hard coat layer B is 4H or more.
9. Item 8. The optical laminate according to any one of Items 1 to 7, wherein the hard coat layer A has a Vickers hardness of 450 N / mm or more, and the hard coat layer B has a Vickers hardness of 550 N / mm or more.
10. 1) Between hard coat layer A and hard coat layer B 2) Above hard coat layer B or 3) Below hard coat layer A, antistatic layer, antiglare layer, low refractive index layer, antifouling layer Or the optical laminated body in any one of said claim | item 1-9 formed by forming these 2 or more types of layers.
11. Item 11. The optical laminate according to any one of Items 1 to 10, which is used as an antireflection laminate.

本発明の光学積層体は、少なくとも特定の2つのハードコート層の形成により、前記基材とハードコート層Aとの界面が実質的に存在しない状態を実現することができる。これにより、干渉縞の発生を抑制ないしは防止できるとともに、高い表面硬度を発揮することができる。また、本発明積層体は、上記構成により、加工時におけるカールも効果的に抑制することができる。   The optical layered body of the present invention can realize a state in which the interface between the base material and the hard coat layer A does not substantially exist by forming at least two specific hard coat layers. Thereby, generation | occurrence | production of an interference fringe can be suppressed thru | or prevented, and high surface hardness can be exhibited. Further, the laminate of the present invention can also effectively suppress curling during processing due to the above configuration.

本発明による光学積層体は、ハードコート積層体として、好ましくは反射防止積層体(防眩性積層体としての利用を含む)として好適に用いることができる。また、本発明による光学積層体は、透過型表示装置に利用される。特に、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサ等のディスプレイ表示に使用される。とりわけ、CRT、LCD、PDP、ELD等のディスプレイの表面に好ましく用いられる。   The optical laminate according to the present invention can be suitably used as a hard coat laminate, preferably as an antireflection laminate (including use as an antiglare laminate). The optical laminate according to the present invention is used for a transmissive display device. In particular, it is used for display displays of televisions, computers, word processors, and the like. In particular, it is preferably used for the surface of displays such as CRT, LCD, PDP, ELD and the like.

本発明の光学積層体は、光透過性基材の上に、少なくとも(1)前記基材に隣接するハードコート層A及び(2)ハードコート層Bが形成されてなる積層体であって、前記基材とハードコート層Aとの界面が実質的に存在しないことを特徴とする。   The optical laminate of the present invention is a laminate in which at least (1) a hard coat layer A adjacent to the substrate and (2) a hard coat layer B are formed on a light transmissive substrate, The interface between the base material and the hard coat layer A is substantially absent.

なお、本明細書では、アクリレート及びメタクリレートを総称して(メタ)アクリレートをいうことがある。   In this specification, acrylate and methacrylate may be collectively referred to as (meth) acrylate.

以下、本発明の光学積層体の各層について説明する。なお、本発明では、モノマー、オリゴマー、プレポリマー等の硬化性樹脂前駆体を、特別な記載がない限り、総称して“樹脂”と表記する。   Hereinafter, each layer of the optical layered body of the present invention will be described. In the present invention, curable resin precursors such as monomers, oligomers, and prepolymers are collectively referred to as “resins” unless otherwise specified.

光透過性基材
光透過性基材の材質としては光を透過するものであれば良く、無色透明又は有色透明のいずれであっても良い。また、半透明であっても良い。このような材料としては、無機系材料又は有機系材料のいずれも使用することができる。無機系材料としては、例えばガラス等が挙げられる。有機系材料としては、トリアセテートセルロース(TAC)、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース等のセルロース系樹脂のほか、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエーテルサルホン、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテルケトン、メタ(アクリルニトリル)、ポリスルホン、ポリエーテル等が例示される。これらの中でもセルロース系樹脂が好ましく、特にトリアセテートセルロースがより好ましい。
Light transmissive substrate The material of the light transmissive substrate may be any material that transmits light, and may be colorless and transparent or colored and transparent. Further, it may be translucent. As such a material, either an inorganic material or an organic material can be used. Examples of the inorganic material include glass. Organic materials include cellulose resins such as triacetate cellulose (TAC), diacetyl cellulose, acetate butyrate cellulose, polyethylene terephthalate (PET), polyether sulfone, acrylic resins, polyurethane resins, polycarbonates, polyethers Examples include ketone, meta (acrylonitrile), polysulfone, and polyether. Among these, cellulosic resins are preferable, and triacetate cellulose is more preferable.

これらの材料は市販品を用いることもできる。例えば、ポリエステル樹脂としては、東洋紡(株)社製の製品名「A−4100」「A−4300」等が好ましい。また、トリアセテートセルロースとしては、富士写真フィルム(株)社製の製品名「TF80UL」「FT TDY80UL」等が好ましい。   A commercial item can also be used for these materials. For example, as the polyester resin, product names “A-4100” and “A-4300” manufactured by Toyobo Co., Ltd. are preferable. Further, as the triacetate cellulose, product names “TF80UL”, “FT TDY80UL” manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. and the like are preferable.

そのほかにも、光透過性基材として、脂環構造を有する非晶質オレフィンポリマー(Cyclo-Olefin-Polymer:COP)フィルムが挙げられる。これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体樹脂等を主成分とする基材であり、公知又は市販のものを使用することができる。市販品としては、例えば日本ゼオン(株)製の「ゼオネックスや」「ゼオノア」(ノルボルネン系樹脂)、住友ベークライト(株)製「スミライトFS-1700」、
JSR(株)製 「アートン」(変性ノルボルネン系樹脂)、三井化学(株)製「アペル」(環状オレフィン共重合体)、Ticona社製の「Topas」(環状オレフィン共重合体)、日立化成(株)製「オプトレッツOZ-1000」シリーズ(脂環式アクリル樹脂)等が挙げられる。また、トリアセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ(株)製のFVシリーズ(低複屈折率、低光弾性率フィルム)も好適に用いることができる。
In addition, an amorphous olefin polymer (Cyclo-Olefin-Polymer: COP) film having an alicyclic structure can be used as the light-transmitting substrate. This is a base material mainly composed of a norbornene polymer, a monocyclic olefin polymer, a cyclic conjugated diene polymer, a vinyl alicyclic hydrocarbon polymer resin, etc. Can be used. Examples of commercially available products include “Zeonex” and “Zeonoa” (norbornene resin) manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., “Sumilite FS-1700” manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.,
"Arton" (modified norbornene resin) manufactured by JSR Corporation, "Appel" (cyclic olefin copolymer) manufactured by Mitsui Chemicals, "Topas" (cyclic olefin copolymer) manufactured by Ticona, Hitachi Chemical ( "Optrez OZ-1000" series (alicyclic acrylic resin), etc. manufactured by KK As an alternative substrate for triacetylcellulose, FV series (low birefringence, low photoelastic modulus film) manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation can also be suitably used.

光透過性基材の厚みは限定的ではないが、一般的には30〜200μm程度とすることが好ましい。   The thickness of the light-transmitting substrate is not limited, but generally it is preferably about 30 to 200 μm.

ハードコート層
本発明における「ハードコート層」とは、JIS K5600−5−4(1999)で規定される鉛筆硬度試験で「H」以上の硬度を示すものをいう。
Hard coat layer The “hard coat layer” in the present invention refers to a layer having a hardness of “H” or higher in a pencil hardness test defined by JIS K5600-5-4 (1999).

本発明では、少なくとも(1)前記基材に隣接するハードコート層A及び(2)最表面層としてのハードコート層Bが形成されてなる。ハードコート層Aにより、干渉縞の発生を抑制ないしは防止することができる。また、ハードコート層Aは、積層体のカールも効果的に抑制することができる。ハードコート層Bにより、所定の硬度を確保することができる。このように、2層のハードコート層を有する層構造とすることにより、干渉縞の問題と表面硬度の問題とを一挙に解消することが可能となる。   In the present invention, at least (1) a hard coat layer A adjacent to the substrate and (2) a hard coat layer B as the outermost surface layer are formed. The hard coat layer A can suppress or prevent the generation of interference fringes. Further, the hard coat layer A can effectively suppress curling of the laminate. The hard coat layer B can ensure a predetermined hardness. Thus, by using a layer structure having two hard coat layers, the problem of interference fringes and the problem of surface hardness can be solved all at once.

各ハードコート層の厚みは、所望の特性等に応じて適宜設定できるが、通常は0.1〜100μm、特に0.8〜20μmとなるように形成することが望ましい。   The thickness of each hard coat layer can be appropriately set according to desired characteristics and the like, but it is usually desirable to form it so as to be 0.1 to 100 μm, particularly 0.8 to 20 μm.

各ハードコード層は、透明性を有する限り制限されない。例えば、紫外線又は電子線により硬化する樹脂(電離放射線硬化型樹脂)、溶剤乾燥型樹脂(熱可塑性樹脂等のように、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで皮膜形成できる樹脂)、熱硬化型樹脂等の1種又は2種以上を用いることができる。これらの樹脂自体は、公知又は市販のものを使用することができる。本発明では、電離放射線硬化型樹脂を用いるのが好ましい。電離放射線硬化型樹脂としては、例えばポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等が挙げられる。これらは1種又は2種以上で用いることができる。   Each hard code layer is not limited as long as it has transparency. For example, a film can be formed by simply drying a solvent added to adjust the solid content during coating, such as a resin curable by ultraviolet rays or an electron beam (ionizing radiation curable resin) and a solvent-drying resin (thermoplastic resin). 1 type or 2 types or more, such as a resin that can be formed) and a thermosetting resin. As these resins themselves, known or commercially available resins can be used. In the present invention, it is preferable to use an ionizing radiation curable resin. Examples of the ionizing radiation curable resin include polyester resin, polyether resin, acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, spiroacetal resin, polybutadiene resin, and polythiol polyene resin. These can be used alone or in combination of two or more.

各ハードコート層の形成にあっては、例えば原料成分を含む組成物(ハードコート層形成用組成物)を用いて形成することができる。より具体的には、原料成分及び必要に応じて添加剤を溶剤に溶解又は分散してなる溶液又は分散液をハードコート層形成用組成物として用い、前記組成物による塗膜を形成し、前記塗膜を硬化させることにより、各ハードコート層をそれぞれ得ることができる。   Each hard coat layer can be formed using, for example, a composition containing a raw material component (a composition for forming a hard coat layer). More specifically, a solution or dispersion obtained by dissolving or dispersing the raw material components and, if necessary, an additive in a solvent is used as a composition for forming a hard coat layer, and a coating film is formed using the composition. Each hard coat layer can be obtained by curing the coating film.

前記組成物の調製方法は、各成分を均一に混合できれば良く、公知の方法に従って実施すれば良い。例えば、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー、ミキサー等の公知の装置を使用して混合することができる。   The preparation method of the said composition should just be implemented according to a well-known method, if each component can be mixed uniformly. For example, it can mix using well-known apparatuses, such as a paint shaker, a bead mill, a kneader, and a mixer.

塗膜の形成方法は、公知の方法に従えば良い。例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコ一夕一法、メニスカスコ一夕一法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコ一夕一法等の各種方法を用いることができる。   The formation method of a coating film should just follow a well-known method. For example, various methods such as a spin coating method, a dip method, a spray method, a die coating method, a bar coating method, a roll coating method, a meniscus coating method, a flexographic printing method, a screen printing method, and a pea coating method are used. be able to.

得られた塗膜の硬化方法は、組成物の内容等に応じて適宜選択すれば良い。例えば、紫外線硬化型であれば、塗膜に紫外線を照射することにより硬化させれば良い。   What is necessary is just to select the hardening method of the obtained coating film suitably according to the content etc. of the composition. For example, in the case of an ultraviolet curing type, the coating film may be cured by irradiating with ultraviolet rays.

各ハードコート層A又はハードコート層Bの形成に用いる組成物A又は組成物Bとしては、透明性を有する前記樹脂の原料成分となるものを用いれば良く、前記樹脂の種類等に応じて適宜設定することができる。例えば、エチル(メタ)アクリレート、エチルへキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等の単官能モノマー;ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸変性ジ(又はトリ)アクリレート等の多官能性ノマー等の1種又は2種以上が挙げられる。   As the composition A or the composition B used for forming each hard coat layer A or hard coat layer B, what is used as a raw material component of the resin having transparency may be used, depending on the type of the resin and the like. Can be set. For example, monofunctional monomers such as ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone; urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, polymethylolpropane tri (meth) Acrylate, hexanediol (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, isocyanuric acid-modified di (or tri) acrylate, etc. One or more species of sexual Nomar like.

本発明では、これらの中でも、エチル(メタ)アクリレート、エチルへキシル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート系化合物の少なくとも1種を好適に用いることができる。すなわち、アクリレート化合物及び/又はメタクリレート化合物の少なくとも1種を好適に用いることができる。   In the present invention, among these, ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, polymethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, Polyethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) ) At least one (meth) acrylate compound such as acrylate can be suitably used. That is, at least one of an acrylate compound and / or a methacrylate compound can be suitably used.

組成物A又は組成物Bにおいては、必要に応じて溶剤を用いることができる。溶剤としては、用いる原料成分の種類等に応じて公知の溶剤の中から適宜選択することができる。例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコール、メチルグリコール、メチルグリコールアセテート、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等のケトン類;蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;ニトロメタン、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド等の含窒素化合物;ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン等のエーテル類;塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエタン、テトラクロルエタン等のハロゲン化炭化水素;ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレン等のその他の物;又はこれらの2種以上の混合物が挙げられる。より好ましい溶剤としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン等の少なくとも1種が挙げられる。   In the composition A or the composition B, a solvent can be used as necessary. As a solvent, it can select suitably from well-known solvents according to the kind etc. of the raw material component to be used. For example, alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, isobutyl alcohol, methyl glycol, methyl glycol acetate, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol Esters such as methyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, ethyl lactate and butyl acetate; nitrogen-containing compounds such as nitromethane, N-methylpyrrolidone and N, N-dimethylformamide; ethers such as diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane and dioxolane Class: Halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, trichloroethane, tetrachloroethane; dimethyl sulfoxide, carbonic acid Other things, such as propylene, or a mixture of two or more thereof. More preferable solvents include at least one of methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, and the like.

特に、組成物Aに用いる溶剤としては、用いる光透過性基材に浸透性を有するもの(基材の材料を膨潤、溶解することができるもの)を好適に用いることができる。例えば、光透過性基材としてセルロース系樹脂を用いる場合には、メチルエチルケトン等を好適に用いることができる。   In particular, as the solvent used in the composition A, a solvent having permeability to the light-transmitting substrate to be used (a material capable of swelling and dissolving the substrate material) can be preferably used. For example, when a cellulose resin is used as the light transmissive substrate, methyl ethyl ketone or the like can be preferably used.

組成物A又は組成物Bで溶剤を用いる場合、溶剤の使用量は、各組成物の固形分含有量が5〜80重量%程度となるように適宜設定すれば良い。
(ハードコート層A)
特に、ハードコート層Aを形成するための組成物Aとしては、原料成分として、重量平均分子量200以上であり、かつ、3以上の官能基を有する化合物(化合物A)を含む組成物(混合物)を用いることが好ましい。このような化合物Aを用いることにより、干渉縞の発生を効果的に抑制することができる。
When using a solvent in the composition A or the composition B, the amount of the solvent used may be appropriately set so that the solid content of each composition is about 5 to 80% by weight.
(Hard coat layer A)
In particular, as the composition A for forming the hard coat layer A, a composition (mixture) containing a compound (compound A) having a weight average molecular weight of 200 or more and having three or more functional groups as a raw material component. Is preferably used. By using such a compound A, generation of interference fringes can be effectively suppressed.

前記重量平均分子量は、通常は200以上とすれば良いが、好ましくは250以上、より好ましくは300以上、最も好ましくは350以上とする。前記重量平均分子量の上限は限定的ではないが、通常は4万程度とすれば良い。また、前記の官能基の数は、一般的には3以上であるが、好ましくは3を超える数とし、より好ましくは4以上、最も好ましくは5以上とする。前記の官能基の数の上限は限定的ではないが、通常は15程度とすれば良い。   The weight average molecular weight is usually 200 or more, preferably 250 or more, more preferably 300 or more, and most preferably 350 or more. The upper limit of the weight average molecular weight is not limited, but is usually about 40,000. The number of the functional groups is generally 3 or more, preferably more than 3, more preferably 4 or more, and most preferably 5 or more. Although the upper limit of the number of the functional groups is not limited, it is usually about 15.

上記化合物Aは、上記の重量平均分子量及び官能基数を有するものであれば良いが、前記のとおり、(メタ)アクリレート系化合物及びウレタン(メタ)アクリレート系化合物の少なくとも1種を好適に用いることができる。例えば、上記の重量平均分子量及び官能基数を有するポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等の少なくとも1種を好ましく用いることができる。これらは公知又は市販のものを用いることができる。   Although the said compound A should just have said weight average molecular weight and functional group number, as above-mentioned, it is preferable to use at least 1 sort (s) of a (meth) acrylate type compound and a urethane (meth) acrylate type compound suitably. it can. For example, at least one of polyester (meth) acrylate, urethane acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate having the above weight average molecular weight and the number of functional groups can be preferably used. These may be known or commercially available.

組成物A中における化合物Aの含有割合(固形分)は限定的ではないが、通常は50〜100重量%(特に90〜100重量%)とすれば良い。化合物A以外の成分として、重合開始剤あるいは後記の添加剤のほか、重量平均分子量200未満の化合物等が含まれていても良い。
(ハードコート層B)
特に、ハードコート層Bを形成するための組成物Bとしては、原料成分として、6以上(好ましくは6以上15以下)の官能基を有するウレタン(メタ)アクリレート系化合物を含む組成物(混合物)を用いることが望ましい。前記ウレタン(メタ)アクリレート系化合物としては、特に重量平均分子量1000〜50000(好ましくは1500〜40000)のウレタン(メタ)アクリレート系化合物の少なくとも1種を好適に用いることができる。
The content ratio (solid content) of the compound A in the composition A is not limited, but is usually 50 to 100% by weight (particularly 90 to 100% by weight). As a component other than the compound A, a compound having a weight average molecular weight of less than 200 may be contained in addition to the polymerization initiator or the additives described later.
(Hard coat layer B)
In particular, the composition B for forming the hard coat layer B is a composition (mixture) containing a urethane (meth) acrylate compound having a functional group of 6 or more (preferably 6 or more and 15 or less) as a raw material component. It is desirable to use As the urethane (meth) acrylate compound, at least one urethane (meth) acrylate compound having a weight average molecular weight of 1000 to 50000 (preferably 1500 to 40000) can be suitably used.

また、本発明では、前記ウレタン(メタ)アクリレート系化合物に加え、さらに3以上6以下の官能基を有する(メタ)アクリレート系化合物(但し、前記ウレタン(メタ)アクリレート系化合物を除く。)を併用することもできる。前記(メタ)アクリレート系化合物としては、例えばジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等の少なくとも1種を好適に用いることができる。   In the present invention, in addition to the urethane (meth) acrylate compound, a (meth) acrylate compound having a functional group of 3 or more and 6 or less (excluding the urethane (meth) acrylate compound) is also used. You can also As said (meth) acrylate type compound, at least 1 sort (s), such as a dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and a pentaerythritol tri (meth) acrylate, can be used conveniently, for example.

組成物B中における前記(メタ)アクリレート系化合物及び前記ウレタン(メタ)アクリレート系化合物の合計の含有割合(固形分)は限定されないが、通常は10〜100重量%(特に20〜100重量%)とすれば良い。これらの化合物以外の成分として、後記の添加剤のほか、3未満の官能基を有する化合物等が含まれていても良い。   Although the total content (solid content) of the (meth) acrylate compound and the urethane (meth) acrylate compound in the composition B is not limited, it is usually 10 to 100% by weight (particularly 20 to 100% by weight). What should I do? As components other than these compounds, in addition to the additives described below, compounds having a functional group of less than 3 may be included.

また、前記(メタ)アクリレート系化合物と前記ウレタン(メタ)アクリレート系化合物との割合は限定的ではないが、通常は前記(メタ)アクリレート系化合物と前記ウレタン(メタ)アクリレート系化合物との合計100重量%中、前記(メタ)アクリレート系化合物が0〜90重量%(特に5〜90重量%)とし、前記ウレタン(メタ)アクリレート系化合物が100〜10重量%(特に10〜95重量%)とすることが望ましい。   In addition, the ratio of the (meth) acrylate compound and the urethane (meth) acrylate compound is not limited, but usually a total of 100 of the (meth) acrylate compound and the urethane (meth) acrylate compound is 100. In the weight%, the (meth) acrylate compound is 0 to 90% by weight (especially 5 to 90% by weight), and the urethane (meth) acrylate compound is 100 to 10% by weight (particularly 10 to 95% by weight). It is desirable to do.

その他の成分
本発明では、組成物A又は組成物Bには、必要に応じて重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等の添加剤が含まれていても良い。
Other components In the present invention, the composition A or the composition B may contain additives such as a polymerization initiator, an antistatic agent, and an antiglare agent as necessary.

重合開始剤としては、特にハードコート層が電離放射線硬化型樹脂により形成される場合、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、例えばアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類の1種又は2種以上が挙げられる。また、この場合は、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−n−ブチルホソフィン等の光増感剤を混合して用いることが好ましい。   As the polymerization initiator, it is preferable to use a photopolymerization initiator, particularly when the hard coat layer is formed of an ionizing radiation curable resin. Examples of the photopolymerization initiator include one or more of acetophenones, benzophenones, Michler benzoyl benzoate, α-amyloxime ester, tetramethylchuram monosulfide, and thioxanthones. In this case, it is preferable to mix and use a photosensitizer such as n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine.

帯電防止剤としては、例えば第4級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第1〜第3アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物;スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性基を有するアニオン性化合物;アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物;アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物、スズ及びチタンのアルコキシドのような有機金属化合物及びそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられる。さらに、上記の化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第3級アミノ基、第4級アンモニウム基又は金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマー又はオリゴマ一あるいは電離放射線により重合可能な官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物も、帯電防止剤として使用できる。これらは、1種又は2種以上で使用することができ、また下記の導電性超微粒子とも併用することができる。   Examples of the antistatic agent include various cationic compounds having cationic groups such as quaternary ammonium salts, pyridinium salts, and primary to tertiary amino groups; sulfonate groups, sulfate ester bases, phosphate ester bases, and phosphones. Anionic compounds having an anionic group such as acid bases; Amphoteric compounds such as amino acids and aminosulfate esters; Nonionic compounds such as amino alcohols, glycerins and polyethylene glycols; Organics such as tin and titanium alkoxides And metal chelate compounds such as metal compounds and acetylacetonate salts thereof. Furthermore, the compound which made high molecular weight said compound is mentioned. Also, a coupling agent having a tertiary amino group, a quaternary ammonium group or a metal chelate portion and having a monomer or oligomer that can be polymerized by ionizing radiation or a functional group that can be polymerized by ionizing radiation. Polymerizable compounds such as organometallic compounds can also be used as antistatic agents. These can be used by 1 type (s) or 2 or more types, and can also be used together with the following electroconductive ultrafine particle.

本発明では、帯電防止剤として導電性超微粒子を用いることもできる。導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるのものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ZnO(屈折率1.90以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。)、CeO(1.95)、Sb(1.71)、SnO(1.997)、ITOと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫(1.95)、In(2.00)、Al(1.63)、アンチモンドープ酸化錫(略称;ATO、2.0)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(略称;AZO、2.0)等が挙げられる。その他にも、カーボンナノチューブ、フラーレンの炭素材料等を挙げることができる。さらに、導電性ポリマー(有機ポリマー)も使用することができる。その具体例としては、脂肪族共役系のポリアセチレン、芳香族共役系のポリ(パラフェニレン)、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ(フェニレンビニレン)等が挙げられる。これら以外にも、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフト又はブロック共重合した高分子である導電性複合体等を挙げられる。 In the present invention, conductive ultrafine particles can also be used as an antistatic agent. Specific examples of the conductive fine particles include those made of a metal oxide. Examples of such metal oxides include ZnO (refractive index of 1.90 or less, the numerical value in parentheses represents the refractive index), CeO 2 (1.95), Sb 2 O 2 (1.71), SnO 2. (1.997), indium tin oxide (1.95), In 2 O 3 (2.00), Al 2 O 3 (1.63), antimony-doped tin oxide (abbreviation; often abbreviated as ITO) ATO, 2.0), aluminum-doped zinc oxide (abbreviation: AZO, 2.0), and the like. In addition, carbon nanotubes, fullerene carbon materials, and the like can be given. Furthermore, a conductive polymer (organic polymer) can also be used. Specific examples include aliphatic conjugated polyacetylene, aromatic conjugated poly (paraphenylene), heterocyclic conjugated polypyrrole, polythiophene, heteroatom-containing polyaniline, and mixed conjugated poly (phenylene). Vinylene) and the like. In addition to these, a double-chain conjugated system that is a conjugated system having a plurality of conjugated chains in the molecule, a conductive complex that is a polymer obtained by grafting or block copolymerizing the conjugated polymer chain to a saturated polymer, etc. Can be mentioned.

前記微粒子の粒径は、1ミクロン以下のいわゆるサブミクロンの大きさのものが良く、特に平均粒径が0.1nm〜0.1μmの微粒子が好ましい。   The fine particles preferably have a so-called sub-micron size of 1 micron or less, and fine particles having an average particle size of 0.1 nm to 0.1 μm are particularly preferable.

防眩剤としては、例えば各種の微粒子を用いることができる。その形状は、真球状、楕円状等のいずれであってよく、好ましくは真球状のものが挙げられる。また、前記微粒子は無機系又は有機系のものが挙げられる。前記微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは透明性のものが良い。前記微粒子の具体例としては、無機系であればシリカビーズ、有機系であればプラスチックビーズが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ(屈折率1.60)、メラミンビーズ(屈折率1.57)、アクリルビーズ(屈折率1.49)、アクリルースチレンビーズ(屈折率1.54)、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等の1種又は2種以上を用いることができる。   As the antiglare agent, for example, various fine particles can be used. The shape may be any of a true sphere, an ellipse, etc., preferably a true sphere. The fine particles include inorganic or organic particles. The fine particles exhibit anti-glare properties and are preferably transparent. Specific examples of the fine particles include silica beads for inorganic materials and plastic beads for organic materials. Specific examples of plastic beads include styrene beads (refractive index 1.60), melamine beads (refractive index 1.57), acrylic beads (refractive index 1.49), acrylic-styrene beads (refractive index 1.54), 1 type (s) or 2 or more types, such as a polycarbonate bead and a polyethylene bead, can be used.

この場合、沈降防止剤を併用することが好ましい。沈降防止剤を添加することにより、樹脂ビーズの沈殿を抑制し、溶媒内に均一に分散させることができるからである。沈降防止剤の具体例としては、粒径が0.5μm以下、好ましくは0.1〜0.25μm程度のシリカビーズが挙げられる。   In this case, it is preferable to use an anti-settling agent in combination. This is because by adding an anti-settling agent, precipitation of the resin beads can be suppressed and the resin beads can be uniformly dispersed in the solvent. Specific examples of the anti-settling agent include silica beads having a particle size of 0.5 μm or less, preferably about 0.1 to 0.25 μm.

その他の層
本発明の基本層構成として、光透過性基材の上に、少なくともハードコート層A及びハードコート層Bが形成されていれば良い。例えば、光透過性基材上に隣接してハードコート層Aが形成され、ハードコート層Aに隣接してハードコート層Bが形成されてなる3層構造が挙げられる。この場合、本発明積層体の光透過性等を損わない範囲内で、必要に応じて1)ハードコート層Aとハードコート層Bの層間、2)ハードコート層Bの上又は3)ハードコート層Aの下に他の層(帯電防止層、防眩層、低屈折率層、防汚層、接着剤層、他のハードコート層等)の1層又は2層以上を適宜形成することができる。これらの層は、公知の反射防止用積層体と同様のものを採用することもできる。
Other Layers As a basic layer structure of the present invention, it is sufficient that at least the hard coat layer A and the hard coat layer B are formed on the light-transmitting substrate. For example, a three-layer structure in which the hard coat layer A is formed adjacent to the light-transmitting substrate and the hard coat layer B is formed adjacent to the hard coat layer A can be mentioned. In this case, 1) between the hard coat layer A and the hard coat layer B, 2) on the hard coat layer B, or 3) hard as long as the light transmission property of the laminate of the present invention is not impaired. Under the coating layer A, one or two or more other layers (antistatic layer, antiglare layer, low refractive index layer, antifouling layer, adhesive layer, other hard coat layer, etc.) are appropriately formed. Can do. These layers may be the same as those of a known antireflection laminate.

(帯電防止層)
帯電防止層は、帯電防止剤及び樹脂を含む組成物により形成できる。この場合、溶剤を使用することもできる。帯電防止剤及び溶剤としては、前記のハードコート層の項で説明したものを使用することができる。帯電防止層の厚さは限定されないが、10nm〜1μm程度とすることが好ましい。
(Antistatic layer)
The antistatic layer can be formed of a composition containing an antistatic agent and a resin. In this case, a solvent can also be used. As the antistatic agent and the solvent, those described in the section of the hard coat layer can be used. The thickness of the antistatic layer is not limited, but is preferably about 10 nm to 1 μm.

前記樹脂としては、例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又は電離放射線硬化性樹脂もしくは電離放射線硬化性化合物(有機反応性ケイ素化合物を含む)を使用することができる。これらのうち、熱硬化性樹脂又は電離放射線硬化性樹脂もしくは電離放射線硬化性化合物が好ましい。特に、電離放射線硬化性樹脂及び/又は電離放射線硬化性化合物を用いることが最も好ましい。また、熱可塑性樹脂は、とりわけ導電性有機ポリマーを使用する場合に好ましい。   As the resin, for example, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ionizing radiation curable resin, or an ionizing radiation curable compound (including an organic reactive silicon compound) can be used. Among these, a thermosetting resin, an ionizing radiation curable resin, or an ionizing radiation curable compound is preferable. In particular, it is most preferable to use an ionizing radiation curable resin and / or an ionizing radiation curable compound. Further, the thermoplastic resin is particularly preferable when a conductive organic polymer is used.

電離放射線硬化性化合物は、これを含む電離放射線硬化性組成物として用いることができる。電離放射線硬化性化合物としては、分子中に重合性不飽和結合又はエポキシ基を有するモノマー、オリゴマー及びプレポリマーの少なくとも1種を用いることができる。ここで、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は、紫外線又は電子線を用いる。   The ionizing radiation curable compound can be used as an ionizing radiation curable composition containing the ionizing radiation curable compound. As the ionizing radiation curable compound, at least one of monomers, oligomers and prepolymers having a polymerizable unsaturated bond or an epoxy group in the molecule can be used. Here, the ionizing radiation refers to an electromagnetic wave or a charged particle beam having an energy quantum capable of polymerizing or crosslinking molecules, and usually an ultraviolet ray or an electron beam is used.

電離放射線硬化性組成物中のプレポリマー又はオリゴマーとしては、例えば不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類;ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレート等のメタクリレート類;ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリレート類のほか、カチオン重合型エポキシ化合物等が挙げられる。これらは1種又は2種以上で用いることができる。   Examples of the prepolymer or oligomer in the ionizing radiation curable composition include unsaturated polyesters such as a condensate of unsaturated dicarboxylic acid and polyhydric alcohol; methacrylates such as polyester methacrylate, polyether methacrylate, polyol methacrylate, and melamine methacrylate. In addition to acrylates such as polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyether acrylate, polyol acrylate, and melamine acrylate, cationically polymerizable epoxy compounds and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

電離放射線硬化性組成物中のモノマーとしては、例えばスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマー;アクリル酸メチル、アクリル酸−2一エチルへキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メトキシブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル類;メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類;アクリル酸−2−(N,N−ジエチルアミノ)エチル、アクリル酸−2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル、アクリル酸−2−(N,N−ジベンジルアミノ)メチル、アクリル酸−2−(N,N−ジエチルアミノ)プロピル等の不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類;アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド類;エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート等のジアクリレート化合物;ジプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアタリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート等の多官能性化合物、及び/又は分子中に2個以上のチオール基を有するポリチオール化合物(例えば、トリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等)の少なくとも1種を挙げることができる。   Examples of the monomer in the ionizing radiation curable composition include styrene monomers such as styrene and α-methylstyrene; methyl acrylate, acrylic acid-2-ethylhexyl, methoxyethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, acrylic acid Acrylic esters such as butyl, methoxybutyl acrylate and phenyl acrylate; methacrylic acid such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, methoxyethyl methacrylate, ethoxymethyl methacrylate, phenyl methacrylate, lauryl methacrylate Esters: 2- (N, N-diethylamino) ethyl acrylate, 2- (N, N-dimethylamino) ethyl acrylate, 2- (N, N-dibenzylamino) methyl acrylate, acrylic acid -2- (N, N-diethyl Mino) Unsaturated substituted amino alcohol esters such as propyl; Unsaturated carboxylic acid amides such as acrylamide and methacrylamide; ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol Diacrylate compounds such as diacrylate and triethylene glycol diacrylate; polyfunctional compounds such as dipropylene glycol diacrylate, ethylene glycol ditalylate, propylene glycol dimethacrylate, and diethylene glycol dimethacrylate, and / or two or more in the molecule Polythiol compounds having a thiol group (for example, trimethylolpropane trithioglycolate, trimethylolpropane trithiopropylate, pen Taerythritol tetrathioglycolate etc.).

通常、電離放射線硬化性組成物中のモノマーとしては、前記化合物を必要に応じて1種又は2種以上を混合して用いるが、電離放射線硬化性組成物に通常の塗布適性を与えるために前記モノマーのプレポリマー又はオリゴマーを5重量%以上とし、前記モノマー及び/又はポリチオール化合物を95重量%以下とするのが好ましい。   Usually, as the monomer in the ionizing radiation curable composition, one or two or more of the above-mentioned compounds are mixed and used as necessary. However, in order to give ordinary application suitability to the ionizing radiation curable composition, The monomer prepolymer or oligomer is preferably 5% by weight or more, and the monomer and / or polythiol compound is preferably 95% by weight or less.

帯電防止層にフレキシビリティーが要求される場合は、モノマー量を減らすか、あるいは官能基の数が1又は2のアクリレートモノマーを使用することが望ましい。また、帯電防止層に耐摩耗性、耐熱性、耐溶剤性等が要求される場合は、例えば官能基の数が3つ以上のアクリレートモノマーを使うことが好ましい。ここで、官能基数が1のものとして、2−ヒドロキシアクリレート、2−へキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート等が挙げられる。官能基数が2のものとして、エチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げられる。官能基数が3以上のものとして、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンクエ、リスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。   When flexibility is required for the antistatic layer, it is desirable to reduce the amount of monomer or use an acrylate monomer having 1 or 2 functional groups. When the antistatic layer is required to have wear resistance, heat resistance, solvent resistance, etc., for example, it is preferable to use an acrylate monomer having three or more functional groups. Here, 2-hydroxy acrylate, 2-hexyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, etc. are mentioned as those having 1 functional group. Examples of those having 2 functional groups include ethylene glycol diacrylate and 1,6-hexanediol diacrylate. Examples of those having 3 or more functional groups include trimethylolpropane triacrylate, Penque, lithitol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and the like.

帯電防止層のフレキシビリティー、表面硬度等の物性を調整するため、必要に応じて、電離放射線照射で硬化しない樹脂を電離放射線硬化性組成物に添加することもできる。前記樹脂として、例えばポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル等の熱可塑性樹脂の1種又は2種以上が挙げられる。この中でも、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等の少なくとも1種がフレキシビリティーの向上の点で好ましい。電離放射線硬化性組成物の硬化が紫外線照射により行われるときは、光重合開始剤又は光重合促進剤を添加すれば良い。光重合開始剤として、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、例えばアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等の単独又は2種以上を用いることができる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、例えば芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等の単独又は2種以上を用いることができる。光重合開始剤の添加量は、用いる光重合開始剤の種類等に応じて適宜設定すれば良いが、電離放射線硬化性組成物100重量部に対して0.1〜10重量部程度とすれば良い。   In order to adjust physical properties such as flexibility and surface hardness of the antistatic layer, a resin that is not cured by irradiation with ionizing radiation can be added to the ionizing radiation curable composition as necessary. Examples of the resin include one or more thermoplastic resins such as polyurethane resin, cellulose resin, polyvinyl butyral resin, polyester resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, and polyvinyl acetate. Among these, at least one of polyurethane resin, cellulose resin, polyvinyl butyral resin, and the like is preferable from the viewpoint of improving flexibility. When the ionizing radiation curable composition is cured by ultraviolet irradiation, a photopolymerization initiator or a photopolymerization accelerator may be added. In the case of a resin system having a radically polymerizable unsaturated group as the photopolymerization initiator, for example, acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoin, benzoin methyl ether or the like can be used alone or in combination. In the case of a resin system having a cationically polymerizable functional group, as a photopolymerization initiator, for example, aromatic diazonium salt, aromatic sulfonium salt, aromatic iodonium salt, metallocene compound, benzoin sulfonate ester or the like The above can be used. The addition amount of the photopolymerization initiator may be appropriately set according to the type of the photopolymerization initiator to be used, but if it is about 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the ionizing radiation curable composition. good.

電離放射線硬化性組成物には、必要に応じて反応性の有機ケイ素化合物を併用することができる。例えば、一般式RmSi(OR’)n(但し、R及びR’は、互いに同一又は異なって、炭素数1〜10のアルキル基を示す。m及びnは、各々がm+n=4の関係を満たす整数を示す。)で示される化合物を用いることができる。   A reactive organosilicon compound can be used in combination with the ionizing radiation curable composition as necessary. For example, the general formula RmSi (OR ′) n (wherein R and R ′ are the same or different from each other and represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. M and n each satisfy the relationship of m + n = 4. A compound represented by the following formula can be used.

具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−iso−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−ブトキシシラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、へキシルトリメトキシシラン等の少なくとも1種が挙げられる。   Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, tetrapenta Ethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-propoxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltri Butoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethylpropoxysilane, dimethylbutoxysilane, methyldimethoxysilane, methyldi Tokishishiran, at least one such hexyl trimethoxysilane to.

この場合、電離放射線硬化性組成物に併用し得る有機ケイ素化合物として、シランカップリング剤を必要に応じて併用することができる。シランカップリング剤としては、具体的にはγ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロへキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメトキシシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、オクタデシルジメチル[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等の少なくとも1種が挙げられる。   In this case, as the organosilicon compound that can be used in combination with the ionizing radiation curable composition, a silane coupling agent can be used together as necessary. Specific examples of the silane coupling agent include γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, and β- (3,4-epoxycyclohexyl). ) Ethyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethoxysilane, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropylmethoxysilane hydrochloride, γ-glycidoxy Propyltrimethoxysilane, aminosilane, methylmethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, hexamethyldisilazane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, octadecyldimethyl [3 − ( Trimethoxysilyl) propyl] ammonium chloride, methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane and the like.

(防眩層)
防眩層は、例えば透過性基材とハードコート層又は低屈折率層(後記)との間に形成されて良い。防眩層は、樹脂及び防眩剤を含む樹脂組成物から形成されて良い。
(Anti-glare layer)
The antiglare layer may be formed, for example, between a transparent substrate and a hard coat layer or a low refractive index layer (described later). The antiglare layer may be formed from a resin composition containing a resin and an antiglare agent.

前記樹脂としては、ハードコート層の項で説明したものから適宜選択して使用することができる。   As said resin, it can select from what was demonstrated in the term of the hard-coat layer suitably, and can be used.

防眩剤としては、各種の微粒子を用いることができる。微粒子の平均粒径は限定的ではないが、一般的には0.01〜20μm程度とすれば良い。また、微粒子の形状は、真球状、楕円状等のいずれであっても良く、好ましくは真球状のものが挙げられる。また、前記微粒子は、無機系又は有機系のものが挙げられる。   Various fine particles can be used as the antiglare agent. The average particle size of the fine particles is not limited, but generally may be about 0.01 to 20 μm. Further, the shape of the fine particles may be any of a true sphere, an ellipse, etc., preferably a true sphere. The fine particles may be inorganic or organic.

前記微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは透明性のものが良い。微粒子の具体例としては、無機系であればシリカビーズ、有機系であればプラスチックビーズが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ(屈折率1.60)、メラミンビーズ(屈折率1.57)、アクリルビーズ(屈折率1.49)、アクリル−スチレンビーズ(屈折率1.54)、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。   The fine particles exhibit anti-glare properties and are preferably transparent. Specific examples of the fine particles include silica beads for inorganic materials and plastic beads for organic materials. Specific examples of plastic beads include styrene beads (refractive index 1.60), melamine beads (refractive index 1.57), acrylic beads (refractive index 1.49), acrylic-styrene beads (refractive index 1.54), Examples thereof include polycarbonate beads and polyethylene beads.

前記微粒子は、その平均粒径をR(μm)とし、防眩層凹凸の十点平均粗さをRz(μm)とし、防眩層の凹凸平均間隔をSm(μm)とし、凹凸部の平均傾斜角をθa(度)とした場合に、下記数式:
30≦Sm≦600
0.05≦Rz≦1.60
0.1≦θa≦2.5
0.3≦R≦20
を全て満たすものが好ましい。
The fine particles have an average particle size of R (μm), a ten-point average roughness of the antiglare layer unevenness is Rz (μm), an average unevenness interval of the antiglare layer is Sm (μm), and an average of the uneven portions. When the inclination angle is θa (degrees), the following formula:
30 ≦ Sm ≦ 600
0.05 ≦ Rz ≦ 1.60
0.1 ≦ θa ≦ 2.5
0.3 ≦ R ≦ 20
Those satisfying all of these are preferable.

Sm(μm)とは、この防眩層の凹凸の平均間隔を表し、θa(度)は凹凸部の平均傾斜角を表すものであり、(Rz)は、10点平均粗さを表すものであり、その定義は、表面粗さ測定器:SE−3400/(株)小坂研究所製取り扱い説明書(1995.07.20改訂)に該当するものである。   Sm (μm) represents the average interval of the irregularities of the antiglare layer, θa (degree) represents the average inclination angle of the irregularities, and (Rz) represents the 10-point average roughness. Yes, and its definition corresponds to the surface roughness measuring instrument: SE-3400 / Kosaka Laboratory Co., Ltd. instruction manual (revised 1995.07.20).

θaは角度単位であり、傾斜を縦横比率で表したものがΔaである場合、
Δa=tanθa=(各凹凸の極小部と極大部の差(各凸部の高さに相当)の総和/基準長さ)で求められる。基準長さとは、測定機SE−3400で粗さ曲線のカットオフ値λc、実際に触針する評価長さにあたる。
θa is a unit of angle, and when Δa is the slope expressed as an aspect ratio,
Δa = tan θa = (the sum of the difference between the minimum and maximum portions of each unevenness (corresponding to the height of each protrusion) / reference length). The reference length corresponds to the cut-off value λc of the roughness curve and the evaluation length that is actually touched by the measuring instrument SE-3400.

また、本発明の別の好ましい様態によれば、前記微粒子と前記樹脂組成物の屈折率をそれぞれ、n1、n2とした場合に、Δn=|n1−n2|<0.15を満たし、かつ、防眩層内部のへイズ値が55%以下である防眩層が好ましい。   According to another preferred embodiment of the present invention, when the refractive indexes of the fine particles and the resin composition are n1 and n2, respectively, Δn = | n1−n2 | <0.15 is satisfied, and An antiglare layer having a haze value of 55% or less inside the antiglare layer is preferred.

微粒子の添加量は、用いる微粒子の種類、所望の防眩性等によるが、前記樹脂組成物100重量部に対し、通常は2〜30重量部、好ましくは10〜25重量部程度とすれば良い。   The addition amount of the fine particles depends on the kind of fine particles to be used, desired antiglare property, etc., but is usually 2 to 30 parts by weight, preferably about 10 to 25 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin composition. .

防眩層用組成物を調製する際に沈降防止剤を添加しても良い。沈降防止剤を添加することにより、樹脂ビーズの沈殿を抑制し、溶媒内に均一に分散させることができるからである。沈降防止剤の具体例としては、シリカビーズ等のビーズ類を使用することができる。ビーズ類の平均粒径は限定されないが、一般的には0.5μm以下とし、好ましくは0.1〜0.25μmとする。   An antisettling agent may be added when preparing the composition for the antiglare layer. This is because by adding an anti-settling agent, precipitation of the resin beads can be suppressed and the resin beads can be uniformly dispersed in the solvent. As a specific example of the anti-settling agent, beads such as silica beads can be used. The average particle size of the beads is not limited, but is generally 0.5 μm or less, preferably 0.1 to 0.25 μm.

防眩層の膜厚(硬化時)は、一般的には0.1〜100μm程度、特に0.8〜10μmの範囲とすることが好ましい。膜厚がこの範囲にあることにより、防眩層としての機能を十分に発揮することができる。   The film thickness (when cured) of the antiglare layer is generally about 0.1 to 100 μm, particularly preferably in the range of 0.8 to 10 μm. When the film thickness is within this range, the function as an antiglare layer can be sufficiently exhibited.

(低屈折率層)
低屈折率層は、外部からの光(例えば蛍光塔、自然光等)が光学積層体の表面にて反射する際、その反射率を低くするという役割を果たす層である。低屈折率層としては、好ましくは1)シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する樹脂、2)低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、3)シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂、4)シリカ又はフッ化マグネシウムの薄膜等のいずれか構成される。フッ素樹脂以外の樹脂については、帯電防止層を構成する樹脂と同様の樹脂を用いることができる。
(Low refractive index layer)
The low refractive index layer is a layer that plays a role of reducing the reflectance when external light (for example, fluorescent tower, natural light, etc.) is reflected on the surface of the optical laminate. The low refractive index layer is preferably 1) a resin containing silica or magnesium fluoride, 2) a fluorine resin which is a low refractive index resin, 3) a fluorine resin containing silica or magnesium fluoride, and 4) silica. Alternatively, either a magnesium fluoride thin film or the like is configured. For resins other than fluororesins, the same resins as those constituting the antistatic layer can be used.

これらの低屈折率層は、その屈折率が1.45以下、特に1.42以下であることが好ましい。   These low refractive index layers preferably have a refractive index of 1.45 or less, particularly 1.42 or less.

また、低屈折率層の厚みは限定されないが、通常は30nm〜1μm程度の範囲内から適宜設定すれば良い。   Further, the thickness of the low refractive index layer is not limited, but it may be set appropriately from the range of about 30 nm to 1 μm.

上記フッ素系樹脂としては、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体を用いることができる。重合性化合物は、特に限定されないが、例えば、電離放射線で硬化する官能基、熱硬化する極性基等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。この重合性化合物に対し、重合体とは、上記のような反応性基などを一切もたないものである。   As the fluororesin, a polymerizable compound containing a fluorine atom in at least a molecule or a polymer thereof can be used. The polymerizable compound is not particularly limited, but for example, those having a curing reactive group such as a functional group that is cured by ionizing radiation and a polar group that is thermally cured are preferable. Moreover, the compound which has these reactive groups simultaneously may be sufficient. In contrast to this polymerizable compound, a polymer has no reactive groups as described above.

電離放射線硬化性基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ‐2,2‐ジメチル‐1,3‐ジオキソールなど)を例示することができる。(メタ)アクリロイルオキシ基を有するものとして、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチル(メタ)アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、分子中にフッ素原子を有する(メタ)アクリレート化合物;分子中に、フッ素原子を少なくとも3個持つ炭素数1〜14のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能(メタ)アクリル酸エステル化合物などもある。   As the polymerizable compound having an ionizing radiation curable group, fluorine-containing monomers having an ethylenically unsaturated bond can be widely used. More specifically, to illustrate fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluorobutadiene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, etc.) Can do. As having a (meth) acryloyloxy group, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, 2- (perfluorobutyl) Ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl (meth) acrylate, α-trifluoromethacryl (Meth) acrylate compounds having fluorine atoms in the molecule, such as methyl acrylate and ethyl α-trifluoromethacrylate; C 1-14 fluoroalkyl groups having at least 3 fluorine atoms in the molecule, fluorocyclo An alkyl group or a fluoroalkylene group and at least two (meta And fluorine-containing polyfunctional (meth) acrylic acid ester compounds having an acryloyloxy group.

熱硬化性極性基として好ましいのは、例えば水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基である。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカなどの無機超微粒子との親和性にも優れている。熱硬化性極性基を持つ重合成化合物としては、例えば、4−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体;フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体;エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品などを挙げることができる。   Preferable examples of the thermosetting polar group include hydrogen bond forming groups such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, and an epoxy group. These are excellent not only in adhesion to the coating film but also in affinity with inorganic ultrafine particles such as silica. Examples of the polysynthetic compound having a thermosetting polar group include 4-fluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer; fluoroethylene-hydrocarbon vinyl ether copolymer; epoxy, polyurethane, cellulose, phenol, polyimide, etc. Fluorine modified products of each resin can be mentioned.

電離放射線硬化性基と熱硬化性極性基とを併せ持つ重合性化合物としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類、完全又は部分フッ素化ビニルエステル類、完全または部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。   Polymerizable compounds having both ionizing radiation curable groups and thermosetting polar groups include acrylic or methacrylic acid moieties and fully fluorinated alkyl, alkenyl, aryl esters, fully or partially fluorinated vinyl ethers, fully or partially fluorine. Illustrative examples include fluorinated vinyl esters, fully or partially fluorinated vinyl ketones, and the like.

また、含フッ素重合体としては、例えば、次のようなものを挙げることができる。
上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素(メタ)アクリレート化合物を少なくとも1種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体;上記含フッ素(メタ)アクリレート化合物の少なくとも1種類と、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない(メタ)アクリレート化合物との共重合体;フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、3,3,3−トリフルオロプロピレン、1,1,2−トリクロロ−3,3,3−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体など。これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も使うことができる。この場合のシリコーン成分としては、(ポリ)ジメチルシロキサン、(ポリ)ジエチルシロキサン、(ポリ)ジフェニルシロキサン、(ポリ)メチルフェニルシロキサン、アルキル変性(ポリ)ジメチルシロキサン、アゾ基含有(ポリ)ジメチルシロキサン、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が例示される。中でもジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。
Moreover, as a fluoropolymer, the following can be mentioned, for example.
Polymer of monomer or monomer mixture containing at least one fluorine-containing (meth) acrylate compound of a polymerizable compound having an ionizing radiation curable group; at least one of the fluorine-containing (meth) acrylate compound and methyl (meth) Copolymers with (meth) acrylate compounds containing no fluorine atom in the molecule such as acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate; fluoroethylene , Fluorine-containing compounds such as vinylidene fluoride, trifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene, 3,3,3-trifluoropropylene, 1,1,2-trichloro-3,3,3-trifluoropropylene, hexafluoropropylene Monomer homopolymer or Copolymer such as. Silicone-containing vinylidene fluoride copolymers obtained by adding a silicone component to these copolymers can also be used. The silicone component in this case includes (poly) dimethylsiloxane, (poly) diethylsiloxane, (poly) diphenylsiloxane, (poly) methylphenylsiloxane, alkyl-modified (poly) dimethylsiloxane, azo group-containing (poly) dimethylsiloxane, Dimethyl silicone, phenylmethyl silicone, alkyl aralkyl modified silicone, fluorosilicone, polyether modified silicone, fatty acid ester modified silicone, methyl hydrogen silicone, silanol group containing silicone, alkoxy group containing silicone, phenol group containing silicone, methacryl modified silicone, acrylic Modified silicone, amino modified silicone, carboxylic acid modified silicone, carbinol modified silicone, epoxy modified silicone, mercapto modified silicone Over emissions, fluorine-modified silicones, polyether-modified silicone and the like. Among them, those having a dimethylsiloxane structure are preferable.

さらには、以下のような化合物からなる非重合体又は重合体も、フッ素系樹脂として用いることができる。すなわち、分子中に少なくとも1個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基のようなイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも1個有する化合物とを反応させて得られる化合物;フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオールのようなフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物等を用いることができる。   Furthermore, non-polymers or polymers composed of the following compounds can also be used as the fluororesin. That is, a fluorine-containing compound having at least one isocyanato group in the molecule is reacted with a compound having at least one functional group in the molecule that reacts with an isocyanato group such as an amino group, a hydroxyl group, or a carboxyl group. Compound obtained: a compound obtained by reacting a fluorine-containing polyol such as fluorine-containing polyether polyol, fluorine-containing alkyl polyol, fluorine-containing polyester polyol, fluorine-containing ε-caprolactone modified polyol with a compound having an isocyanato group Can be used.

また、上記したフッ素原子を持つ重合成化合物や重合体とともに、ハードコート層に記載したような各樹脂成分を混合して使用することもできる。更に、反応性基等を硬化させるための硬化剤、塗工性を向上させたり、防汚性を付与させたりするために、各種添加剤、溶剤を適宜使用することができる。   Further, together with the above-described polysynthetic compound or polymer having a fluorine atom, each resin component as described in the hard coat layer can be mixed and used. Furthermore, various additives and solvents can be used as appropriate in order to improve the curing agent for curing reactive groups and the like, to improve the coating property, and to impart antifouling properties.

このほか、低屈折率層は、SiOからなる薄膜で構成することもできる。例えば、蒸着法、スパッタリング法、プラズマCVD法等の気相法、SiOゾルを含むゾル液からSiOゲル膜を形成する液相法等のいずれで形成されたものであっても良い。さらに、SiO以外にも、MgFの薄膜等の素材でも低屈折率層を構成し得る。特に、下層に対する密着性が高いという点で、SiO薄膜が好ましい。また、上記の手法のうち、プラズマCVD法によるときは、有機シロキサンを原料ガスとし、他の無機質の蒸着源が存在しない条件で行うことが好ましい。また、この場合、被蒸着体をできるだけ低温度に維持して行うことが好ましい。 In addition, the low refractive index layer can also be configured by a thin film made of SiO 2 . For example, it may be formed by any one of a vapor phase method such as an evaporation method, a sputtering method, a plasma CVD method, a liquid phase method for forming a SiO 2 gel film from a sol solution containing a SiO 2 sol. Furthermore, in addition to SiO 2 , a material such as a thin film of MgF 2 can constitute the low refractive index layer. In particular, a SiO 2 thin film is preferable because it has high adhesion to the lower layer. Further, among the above methods, when the plasma CVD method is used, it is preferable to use an organic siloxane as a raw material gas under a condition in which no other inorganic vapor deposition source exists. In this case, it is preferable that the deposition target is maintained as low as possible.

本発明の好ましい態様によれば、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。「空隙を有する微粒子」を用いることにより、低屈折率層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることを可能とする。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び/又は気体を含む多孔質構造体を形成しているものである。これは、空隙がない微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中における気体の占有率の上昇に伴って屈折率が低下するものである。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、塗膜内部での微粒子の分散状態により、内部及び/又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。   According to a preferred embodiment of the present invention, it is preferable to use “fine particles having voids”. By using “fine particles having voids”, the refractive index can be lowered while maintaining the layer strength of the low refractive index layer. In the present invention, “fine particles having voids” are structures in which fine particles are filled with gas and / or a porous structure containing gas. This is because the refractive index decreases as the gas occupancy in the fine particles increases compared to the original refractive index of the fine particles without voids. The present invention also includes fine particles capable of forming a nanoporous structure inside and / or at least part of the surface depending on the form, structure, aggregation state, and dispersion state of the fine particles inside the coating film. .

空隙を有する無機系微粒子の具体例としては、特開2001−233611号公報で開示されている技術を用いて調製したシリカ微粒子が好ましい。その他、特開平7−133105、特開2002−79616号公報、特開2006−106714号公報等に記載された製法によって得られるシリカ微粒子であっても良い。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を1.20〜1.45程度の範囲内に調製することを可能とする。特に、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開2002−80503号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましい。   As a specific example of the inorganic fine particles having voids, silica fine particles prepared by using the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-233611 are preferable. In addition, silica fine particles obtained by the production methods described in JP-A-7-133105, JP-A-2002-79616, JP-A-2006-106714, and the like may be used. Since silica fine particles having voids are easy to manufacture and have high hardness, when a low refractive index layer is formed by mixing with a binder, the layer strength is improved and the refractive index is 1.20-1. It is possible to prepare within the range of about 45. In particular, as a specific example of the organic fine particles having voids, hollow polymer fine particles prepared using a technique disclosed in JP-A-2002-80503 are preferable.

塗膜の内部及び/又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては前記のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラム及び表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子、又は断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体又は凝集体等を挙げることができる。そのような具体的としては、市販品として、例えば日本シリカ工業株式会社製の商品名「Nipsil」「Nipgel」等の中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業(株)製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカUPシリーズ(商品名)から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。   In addition to the silica fine particles, the fine particles capable of forming a nanoporous structure inside and / or at least a part of the surface of the coating film are manufactured for the purpose of increasing the specific surface area. For example, a controlled release material that adsorbs various chemical substances to the mass part, a porous fine particle used for catalyst fixation, or a dispersion or agglomerate of hollow fine particles intended to be incorporated into a heat insulating material or a low dielectric material Can do. Specifically, as a commercial product, for example, aggregates of porous silica fine particles from the product names “Nipsil” and “Nipgel” manufactured by Nippon Silica Industry Co., Ltd., silica fine particles manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. From the colloidal silica UP series (trade name) having a structure in which are connected in a chain, those within the preferred particle diameter range of the present invention can be used.

「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、5nm以上300nm以下であり、好ましくは下限が8nm以上であり上限が100nm以下であり、より好ましくは下限が10nm以上であり上限が80nm以下である。前記微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することが可能となる。   The average particle diameter of the “fine particles having voids” is 5 nm or more and 300 nm or less, preferably the lower limit is 8 nm or more and the upper limit is 100 nm or less, more preferably the lower limit is 10 nm or more and the upper limit is 80 nm or less. When the average particle diameter of the fine particles is within this range, excellent transparency can be imparted to the low refractive index layer.

(防汚層)
防汚層は、光学積層体の最表面に汚れ(指紋、水性又は油性のインキ類、鉛筆等)が付着しにくく、または付着した場合でも容易に拭取ることができるという役割を担う層である。本発明の好ましい態様によれば、低屈折率層の最表面の汚れ防止を目的として防汚層を設けても良く、特に低屈折率層が形成された光透過性基材の一方の面と反対の両側に防汚層が設けることが好ましい。防汚層の形成により、光学積層体(反射防止用積層体)に対して防汚性と耐擦傷性のさらなる改善を図ることが可能となる。低屈折率層がない場合でも、最表面の汚れ防止を目的として防汚層を設けても良い。
(Anti-fouling layer)
The antifouling layer is a layer that plays a role of preventing dirt (fingerprints, water-based or oily inks, pencils, etc.) from adhering to the outermost surface of the optical layered body or being able to wipe off easily even when adhering. . According to a preferred embodiment of the present invention, an antifouling layer may be provided for the purpose of preventing the outermost surface of the low refractive index layer from being stained, and in particular, one surface of the light-transmitting substrate on which the low refractive index layer is formed; It is preferable to provide an antifouling layer on both opposite sides. By forming the antifouling layer, it becomes possible to further improve the antifouling property and the scratch resistance with respect to the optical laminate (antireflection laminate). Even when there is no low refractive index layer, an antifouling layer may be provided for the purpose of preventing contamination on the outermost surface.

防汚層は、一般的には、防汚層用剤及び樹脂を含む組成物により形成することができる。防汚層用剤の具体例としては、分子中にフッ素原子を有する電離放射線硬化型樹脂組成物への相溶性が低く、低屈折率層中に添加することが困難とされるフッ素系化合物及び/又はケイ素系化合物、分子中にフッ素原子を有する電離放射線硬化型樹脂組成物及び微粒子に対して相溶性を有するフッ素系化合物及び/又はケイ素系化合物が挙げられる。これらは公知又は市販のものを使用することができる。   In general, the antifouling layer can be formed of a composition containing an antifouling layer agent and a resin. Specific examples of the antifouling layer agent include fluorine compounds that have low compatibility with ionizing radiation curable resin compositions having fluorine atoms in the molecule and are difficult to add to the low refractive index layer, and Examples thereof include a silicon compound, an ionizing radiation curable resin composition having a fluorine atom in the molecule, and a fluorine compound and / or a silicon compound having compatibility with fine particles. These may be known or commercially available.

防汚層は、例えばハードコート層Bの上に形成することができる。特に、防汚層が最表面になるように形成することが望ましい。防汚層は、例えばハードコート層B自身に防汚性能を付与することにより代替することもできる。   The antifouling layer can be formed on the hard coat layer B, for example. In particular, it is desirable that the antifouling layer be formed to be the outermost surface. The antifouling layer can be replaced, for example, by imparting antifouling performance to the hard coat layer B itself.

光学積層体における界面等
本発明の光学積層体は、界面が実質的に存在しないことが望ましい。ここで、「界面が(実質的に)存在しない」とは、1)二つの層面が重なり合ってはいるが実際に界面が存在しないこと、及び2)屈折率からみて両者の面に界面が存在していないと判断されることを包含する。
It is desirable that the optical laminate of the present invention has substantially no interface, such as an interface in the optical laminate. Here, “the interface is (substantially) nonexistent” means that 1) the two layer surfaces overlap each other but there is actually no interface, and 2) there is an interface on both surfaces in terms of the refractive index. It is included that it is determined not to.

「界面が(実質的に)存在しない」の具体的な基準としては、光学積層体の干渉縞観察による。すなわち、光学積層体の裏面に黒テープを貼り、3波長蛍光灯の照射下で光学積層体の上から目視にて観察する。このとき、干渉縞が確認できる場合は、別途に断面をレーザー顕微鏡により観察すると界面が確認されることから、これを「界面が存在する」と認定する。一方、干渉縞が確認できない場合又は極めて弱い場合は、別途に断面をレーザー顕微鏡により観察すると界面が見られないか又は極めて薄くしか見えない状態となることから、これを「界面が実質的に存在しない」と認定する。なお、レーザー顕微鏡は、各界面からの反射光を読み取り、非破壊的に断面観察できる。これは、各層に屈折率差がある場合のみ、界面として観察されるものであるため、界面が観察されない場合は、屈折率的にも差がない、界面がないと考えることができる。   As a specific criterion of “the interface is (substantially) absent”, it is based on observation of interference fringes of the optical laminate. That is, a black tape is attached to the back surface of the optical laminate, and the optical laminate is visually observed from above under irradiation of a three-wavelength fluorescent lamp. At this time, when interference fringes can be confirmed, the interface is confirmed by separately observing the cross section with a laser microscope, and this is recognized as “the interface exists”. On the other hand, when the interference fringes cannot be confirmed or extremely weak, when the cross section is separately observed with a laser microscope, the interface cannot be seen or can only be seen very thin. "No." The laser microscope can read the reflected light from each interface and observe the cross section nondestructively. This is observed as an interface only when each layer has a refractive index difference. Therefore, when the interface is not observed, it can be considered that there is no difference in refractive index and there is no interface.

また、本発明の光学積層体は、界面が実質的に存在しないことが好ましい。少なくとも干渉縞が視認されないことが望ましい。   Moreover, it is preferable that the optical layered body of the present invention has substantially no interface. It is desirable that at least interference fringes are not visually recognized.

本発明の光学積層体においては、ハードコート層A及びBともに所定の硬度を達成することができる。この場合、ハードコート層Aは、鉛筆硬度4H以上であることが望ましい。ハードコート層Aは、ビッカース硬度は450N/mm以上であることが望ましい。また、ハードコート層Bは、鉛筆硬度4H以上であることが望ましい。ハードコート層Bは、ビッカース硬度は550N/mm以上であることが望ましい。   In the optical layered body of the present invention, both the hard coat layers A and B can achieve a predetermined hardness. In this case, it is desirable that the hard coat layer A has a pencil hardness of 4H or higher. The hard coat layer A preferably has a Vickers hardness of 450 N / mm or more. The hard coat layer B preferably has a pencil hardness of 4H or higher. The hard coat layer B preferably has a Vickers hardness of 550 N / mm or more.

以下に実施例及び比較例を示し、本発明の特徴をより具体的に説明する。ただし、本発明の範囲は、実施例に限定されない。   The features of the present invention will be described more specifically with reference to the following examples and comparative examples. However, the scope of the present invention is not limited to the examples.

<製造例1>
ハードコート層A形成用組成物として、下記に示す組成A〜組成Gをそれぞれ調製した。
<Production Example 1>
As the composition for forming the hard coat layer A, the following compositions A to G were prepared.

組成A
・ポリエステルアクリレート(東亞合成社製;M9050、3官能、分子量418):10重量部
・重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製;IRGACURE184):0.4重量部
・ メチルエチルケトン(以下、「MEK」という):10重量部
Composition A
Polyester acrylate (manufactured by Toagosei; M9050, trifunctional, molecular weight 418): 10 parts by weight Polymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals; IRGACURE 184): 0.4 parts by weight Methyl ethyl ketone (hereinafter referred to as “MEK”) ): 10 parts by weight

組成B
・ポリエステルアクリレート(東亞合成社製;M9050、3官能、分子量418):5重量部
・ウレタンアクリレート(日本化薬社製;DPHA40H、10官能、分子量約7000):5重量部
・重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製;IRGACURE184):0.4重量部
・ MEK:10重量部
Composition B
Polyester acrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd .; M9050, trifunctional, molecular weight 418): 5 parts by weight
-Urethane acrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .; DPHA 40H, 10 functional, molecular weight of about 7000): 5 parts by weight-Polymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals; IRGACURE 184): 0.4 parts by weight-MEK: 10 parts by weight

組成C
・ポリエチレングリコールジアクリレート(東亞合成社製;M240、2官能、分子量302):2重量部
・ウレタンアクリレート(日本化薬社製;DPHA40H、10官能、分子量 約7000):6重量部
・ウレタンアクリレート(荒川化学社製;BS371、10官能以上、分子量 約4万):2重量部
・重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製;IRGACURE184):0.4重量部
・MEK:10重量部
Composition C
Polyethylene glycol diacrylate (manufactured by Toagosei; M240, bifunctional, molecular weight 302): 2 parts by weight Urethane acrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .; DPHA 40H, 10 functional, molecular weight of about 7000): 6 parts by weight Urethane acrylate ( Arakawa Chemical Co., Ltd .; BS371, 10 or more functional, molecular weight of about 40,000): 2 parts by weight Polymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals; IRGACURE 184): 0.4 parts by weight MEK: 10 parts by weight

組成D
・ポリエチレングリコールジアクリレート(東亞合成社製;M240、2官能、分子量302):10重量部
・重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製;IRGACURE184):0.4重量部
・MEK:10重量部
Composition D
Polyethylene glycol diacrylate (manufactured by Toagosei; M240, bifunctional, molecular weight 302): 10 parts by weight Polymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals; IRGACURE 184): 0.4 parts by weight MEK: 10 parts by weight

組成E
・ウレタンアクリレート(日本合成社製;紫光UV3520−TL、2官能、分子量14000):10重量部
・重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製;IRGACURE184):0.4重量部
・MEK:10重量部
Composition E
・ Urethane acrylate (manufactured by Nippon Gosei Co., Ltd .; purple light UV3520-TL, bifunctional, molecular weight 14000): 10 parts by weight ・ Polymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals; IRGACURE 184): 0.4 parts by weight ・ MEK: 10 parts by weight

組成F
・ウレタンアクリレート(日本合成社製;紫光UV1700B、10官能、分子量2000):10重量部
・重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製;IRGACURE184):0.4重量部
・MEK:10重量部
Composition F
-Urethane acrylate (Nippon Gosei Co., Ltd .; purple light UV1700B, 10 functional, molecular weight 2000): 10 parts by weight-Polymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals; IRGACURE 184): 0.4 parts by weight-MEK: 10 parts by weight

組成G
・ポリエステルアクリレート(東亞合成社製;M9050、3官能、分子量418):10重量部
・重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製;IRGACURE184):0.4重量部
・トルエン:10重量部
Composition G
Polyester acrylate (manufactured by Toagosei; M9050, trifunctional, molecular weight 418): 10 parts by weight Polymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals; IRGACURE 184): 0.4 parts by weight Toluene: 10 parts by weight

<製造例2>
ハードコートB形成用組成物として、下記の組成a〜組成eならびに組成a’をそれぞれ調製した。
<Production Example 2>
As the composition for forming hard coat B, the following composition a to composition e and composition a ′ were prepared.

組成a
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬社製DPHA、6官能、分子量547):5重量部
・ウレタンアクリレート(荒川化学社製;BS371、10官能以上、分子量 約4万):5重量部
・重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製;IRGACURE184):0.4重量部
・MEK:10重量部
Composition a
Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd., 6 functional, molecular weight 547): 5 parts by weight Urethane acrylate (manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd .: BS371, 10 functional or higher, molecular weight about 40,000): 5 parts by weight Polymerization Initiator (Ciba Specialty Chemicals; IRGACURE 184): 0.4 parts by weight MEK: 10 parts by weight

組成b
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬社製PET30、3官能、分子量298):5重量部
・ウレタンアクリレート(根上工業社製;HDP、10官能、分子量4500):5重量部
・重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製;IRGACURE184):0.4重量部
・MEK:10重量部
Composition b
Pentaerythritol triacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd., PET 30, trifunctional, molecular weight 298): 5 parts by weight Urethane acrylate (Negami Kogyo Co., Ltd .; HDP, 10 functional, molecular weight 4500): 5 parts by weight Polymerization initiator (Ciba・ Specialty Chemicals; IRGACURE 184): 0.4 parts by weight ・ MEK: 10 parts by weight

組成c
・ウレタンアクリレート(日本合成社製;紫光UV1700B、10官能、分子量2000):10重量部
・重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製;IRGACURE184):0.4重量部
Composition c
-Urethane acrylate (manufactured by Nippon Gosei Co., Ltd .; purple light UV 1700B, 10 functional, molecular weight 2000): 10 parts by weight-Polymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals; IRGACURE 184): 0.4 parts by weight

組成d
・イソシアヌル酸EO変性ジアクリレート(東亞合成社製;M215、2官能、分子量369):10重量部
・重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製;IRGACURE184):0.4重量部
Composition d
Isocyanuric acid EO-modified diacrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd .; M215, bifunctional, molecular weight 369): 10 parts by weight
・ Polymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals; IRGACURE 184): 0.4 parts by weight

組成e
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬社製DPHA、6官能、分子量547):10重量部
・重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製;IRGACURE184):0.4重量部
Composition e
Dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Kayaku DPHA, 6 functional, molecular weight 547): 10 parts by weight Polymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals; IRGACURE 184): 0.4 parts by weight

組成a’
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬社製DPHA、6官能、分子量547):5重量部
・ウレタンアクリレート(荒川化学社製;BS371、10官能以上、分子量 約4万):5重量部
・防汚剤(日本化薬社製UT3971):0.5重量部
・重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製;IRGACURE184):0.4重量部
・MEK:10重量部
Composition a '
Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd., 6 functional, molecular weight 547): 5 parts by weight Urethane acrylate (manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd .; BS371, 10 functional or higher, molecular weight of about 40,000): 5 parts by weight Fouling agent (Nippon Kayaku Co., Ltd. UT3971): 0.5 parts by weight Polymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals; IRGACURE 184): 0.4 parts by weight MEK: 10 parts by weight

<実施例1>
セルローストリアセテートフィルム(厚み80μm)の片面に、下層用ハードコート(組成A)樹脂を、湿潤重量26g/m(乾燥重量13g/m)で塗布した。70℃にて60秒乾燥し、紫外線50mJ/cmを照射して下地用のハードコート層Aを形成した。さらに、ハードコート層Aの上に、上層用ハードコート(組成a)樹脂を、湿潤重量26g/m(乾燥重量13g/m)で塗布した。70℃にて60秒乾燥し、紫外線200mJ/cmを照射することによりハードコート層Bを形成し、目的とする光学積層体を得た。
<Example 1>
The lower layer hard coat (composition A) resin was applied to one side of a cellulose triacetate film (thickness 80 μm) at a wet weight of 26 g / m 2 (dry weight 13 g / m 2 ). It dried at 70 degreeC for 60 second, and irradiated the ultraviolet-ray 50mJ / cm < 2 >, and formed the hard-coat layer A for foundation | substrate. Further, on the hard coat layer A, an upper layer hard coat (composition a) resin was applied at a wet weight of 26 g / m 2 (dry weight 13 g / m 2 ). It dried at 70 degreeC for 60 second, the hard coat layer B was formed by irradiating ultraviolet-ray 200mJ / cm < 2 >, and the target optical laminated body was obtained.

<実施例2〜9>
ハードコート層の形成において、下地用のハードコート層A、上地用のハードコート層Bとして表1に示す樹脂組成の組合せで各層を形成したほかは、実施例1と同様にして実施例2〜9の光学積層体をそれぞれ得た。
<Examples 2 to 9>
In the formation of the hard coat layer, Example 2 was performed in the same manner as in Example 1 except that each layer was formed as a combination of the resin compositions shown in Table 1 as the base hard coat layer A and the upper hard coat layer B. ˜9 optical laminates were obtained.

<比較例1〜6>
ハードコート層の形成において、下地用のハードコート層A、上地用のハードコート層Bとして表2に示す樹脂組成の組合せで各層を形成したほかは、実施例1と同様にして比較例1〜6の光学積層体を得た。
<Comparative Examples 1-6>
In the formation of the hard coat layer, Comparative Example 1 was performed in the same manner as in Example 1 except that each layer was formed as a combination of the resin compositions shown in Table 2 as the base hard coat layer A and the top hard coat layer B. The optical laminated body of -6 was obtained.

<試験例1>
各実施例及び比較例で得られた光学積層体について、下記評価基準に基づいて評価した。その結果を表1及び表2に示す。
(1)干渉縞有無試験
光学積層体のハードコート層と逆の面に、裏面反射を防止するための黒色テープを貼り、ハードコート層の面から光学積層体を目視により観察し、下記評価基準にて評価した。
<Test Example 1>
About the optical laminated body obtained by each Example and the comparative example, it evaluated based on the following evaluation criteria. The results are shown in Tables 1 and 2.
(1) Interference fringe presence / absence test On the surface opposite to the hard coat layer of the optical laminate, a black tape for preventing back reflection is applied, and the optical laminate is visually observed from the surface of the hard coat layer. Evaluated.

評価基準
評価○:干渉縞の発生はなかった。
Evaluation criteria Evaluation ○: No interference fringes were generated.

評価×:干渉縞の発生があった。
(2)鉛筆硬度試験
鉛筆硬度試験;鉛筆引っ掻き試験の硬度は、作製したハードコートフィルム(前記光学積層体(以下同じ。))を温度25℃、相対湿度60%の条件で2時間調湿した後、JIS−S−6006が規定する試験用鉛筆(硬度4H)を用いて、JIS−K−5400が規定する鉛筆硬度評価方法に従い、4.9Nの荷重にて実施した。
Evaluation x: Interference fringes were generated.
(2) Pencil hardness test Pencil hardness test; The hardness of the pencil scratch test was controlled for 2 hours under conditions of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60% on the prepared hard coat film (the optical laminate (hereinafter the same)). Then, it implemented by the load of 4.9N according to the pencil hardness evaluation method which JIS-K-5400 prescribed | regulated using the test pencil (hardness 4H) which JIS-S-6006 prescribed | regulates.

評価基準
評価○:傷なし/測定回数=4/5,5/5
評価×:傷なし/測定回数=0/5,1/5,2/5,3/5
(3)カール試験
作製したハードコートフィルムを横×縦=10cm×10cmの大きさにカットし、温度20℃、相対湿度60%環境下にて平板上に静置した際の四隅の浮き上がりを測定し、その平均値をカール高さとした。
Evaluation criteria Evaluation ○: No scratch / number of measurements = 4/5, 5/5
Evaluation x: No scratch / number of measurements = 0/5, 1/5, 2/5, 3/5
(3) Curl test The prepared hard coat film was cut into a size of width x length = 10 cm x 10 cm, and measured to lift the four corners when left on a flat plate at a temperature of 20 ° C and a relative humidity of 60%. The average value was taken as the curl height.

評価○:25mm以下
評価×:26mmよりも大きい(筒状になり測定不可能の場合も×とした)
(4)クラック試験
作製したハードコートフィルムを10cm×5cmの大きさにカットし、直径16mmの円筒状の金属パイプに巻きつけ、巻きつけ後にフィルムを元の状態に戻し、目視にてクラックの有無を確認した。
Evaluation ○: 25 mm or less Evaluation ×: Larger than 26 mm (also marked as “X” when it is in a cylindrical shape and cannot be measured)
(4) Crack test The prepared hard coat film was cut into a size of 10 cm x 5 cm, wound around a cylindrical metal pipe with a diameter of 16 mm, and after winding, the film was returned to its original state and visually checked for cracks. It was confirmed.

評価○:クラックなし
評価×:クラックあり
Evaluation ○: No crack Evaluation ×: Crack present

Figure 2007293229
Figure 2007293229

Figure 2007293229
Figure 2007293229

表1及び表2の結果からも明らかなように、本発明では、硬度、耐クラック性等に優れ、干渉縞も認められない積層体を得られることがわかる。   As is apparent from the results of Tables 1 and 2, it can be seen that in the present invention, a laminate having excellent hardness, crack resistance, etc. and no interference fringes can be obtained.

本発明の実施例で作製された光学積層体の層構成(断面)を示す図である。It is a figure which shows the layer structure (cross section) of the optical laminated body produced in the Example of this invention.

Claims (11)

光透過性基材の上に、少なくとも(1)前記基材に隣接するハードコート層A及び(2)ハードコート層Bが形成されてなる積層体であって、前記基材とハードコート層Aとの界面が実質的に存在しないことを特徴とする光学積層体。 A laminate in which at least (1) a hard coat layer A adjacent to the substrate and (2) a hard coat layer B are formed on a light transmissive substrate, the substrate and the hard coat layer A An optical laminated body characterized by substantially not having an interface with. ハードコート層Bが、6以上の官能基を有するウレタン(メタ)アクリレート系化合物を含む組成物Bを用いて形成されてなる、請求項1に記載の光学積層体。 The optical laminated body of Claim 1 formed by using the composition B in which the hard-coat layer B contains the urethane (meth) acrylate type compound which has a 6 or more functional group. 前記ウレタン(メタ)アクリレート系化合物が重量平均分子量1000〜50000である、請求項2に記載の光学積層体。 The optical laminated body of Claim 2 whose said urethane (meth) acrylate type compound is the weight average molecular weight 1000-50000. ハードコート層Aが、重量平均分子量200以上であり、かつ、3以上の官能基を有する化合物Aを含む組成物Aを用いて形成されてなる、請求項1〜3のいずれかに記載の光学積層体。 The optical according to any one of claims 1 to 3, wherein the hard coat layer A is formed using a composition A having a weight average molecular weight of 200 or more and containing a compound A having three or more functional groups. Laminated body. 化合物Aが、(メタ)アクリレート系化合物及びウレタン(メタ)アクリレート系化合物の少なくとも1種である、請求項4に記載の光学積層体。 The optical laminated body of Claim 4 whose compound A is at least 1 sort (s) of a (meth) acrylate type compound and a urethane (meth) acrylate type compound. 組成物Aが、前記基材に対して浸透性又は溶解性を有する溶剤を含む、請求項4又は5に記載の光学積層体。 The optical laminated body of Claim 4 or 5 in which the composition A contains the solvent which has a permeability or solubility with respect to the said base material. 干渉縞が実質的に存在しない、請求項1〜6のいずれかに記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 1, wherein interference fringes are substantially absent. ハードコート層A及びハードコート層Bの鉛筆硬度が4H以上である、請求項1〜7のいずれかに記載の光学積層体。 The optical laminate according to any one of claims 1 to 7, wherein the pencil hardness of the hard coat layer A and the hard coat layer B is 4H or more. ハードコート層Aのビッカース硬度が450N/mm以上であり、ハードコート層Bのビッカース硬度が550N/mm以上である、請求項1〜7のいずれかに記載の光学積層体。 The optical laminated body according to any one of claims 1 to 7, wherein the Vickers hardness of the hard coat layer A is 450 N / mm or more, and the Vickers hardness of the hard coat layer B is 550 N / mm or more. 1)ハードコート層Aとハードコート層Bとの間、2)ハードコート層Bの上又は3)ハードコート層Aの下に、帯電防止層、防眩層、低屈折率層、防汚層又はこれらの2種以上の層を形成してなる、請求項1〜9のいずれかに記載の光学積層体。 1) Between hard coat layer A and hard coat layer B 2) Above hard coat layer B or 3) Below hard coat layer A, antistatic layer, antiglare layer, low refractive index layer, antifouling layer Or the optical laminated body in any one of Claims 1-9 formed by forming these 2 or more types of layers. 反射防止用積層体として用いられる、請求項1〜10のいずれかに記載の光学積層体。 The optical laminated body in any one of Claims 1-10 used as a laminated body for reflection prevention.
JP2006157208A 2006-03-31 2006-06-06 Optical laminate Active JP4923754B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006157208A JP4923754B2 (en) 2006-03-31 2006-06-06 Optical laminate

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006100951 2006-03-31
JP2006100951 2006-03-31
JP2006157208A JP4923754B2 (en) 2006-03-31 2006-06-06 Optical laminate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007293229A true JP2007293229A (en) 2007-11-08
JP4923754B2 JP4923754B2 (en) 2012-04-25

Family

ID=38763891

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006157208A Active JP4923754B2 (en) 2006-03-31 2006-06-06 Optical laminate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4923754B2 (en)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009189920A (en) * 2008-02-13 2009-08-27 Toppan Printing Co Ltd Method of preparing lamination film
JP2011156741A (en) * 2010-02-01 2011-08-18 Tokyo Printing Ink Mfg Co Ltd Stain-resistant antistatic hard coat laminate
JP2013083928A (en) * 2011-08-03 2013-05-09 Fujifilm Corp Method of manufacturing film with coating layer
JP2013107215A (en) * 2011-11-17 2013-06-06 Fujitsu Ltd Exterior for article and article subjected to exterior coating
JP2013256562A (en) * 2012-06-11 2013-12-26 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd Composition for forming hardcoat film, hardcoat film, and plastic substrate including the hardcoat film
JP2014189596A (en) * 2013-03-26 2014-10-06 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd Hard coat film forming composition and hard coat film, and plastic substrate with hard coat film
JP2015112799A (en) * 2013-12-12 2015-06-22 大日本印刷株式会社 Laminate
JP2016099828A (en) * 2014-11-21 2016-05-30 大日本印刷株式会社 Touch panel, laminate, and production method of laminate
JP2016132187A (en) * 2015-01-20 2016-07-25 大日本印刷株式会社 Optical laminate
KR101834586B1 (en) * 2010-08-27 2018-03-05 소니 주식회사 Oriented film and process for production thereof, phase difference film and process for production thereof, and display device

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000338308A (en) * 1999-05-31 2000-12-08 Toray Ind Inc Antireflection film
JP2005053152A (en) * 2003-08-06 2005-03-03 Nippon Paper Industries Co Ltd Hard coat film

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000338308A (en) * 1999-05-31 2000-12-08 Toray Ind Inc Antireflection film
JP2005053152A (en) * 2003-08-06 2005-03-03 Nippon Paper Industries Co Ltd Hard coat film

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009189920A (en) * 2008-02-13 2009-08-27 Toppan Printing Co Ltd Method of preparing lamination film
JP2011156741A (en) * 2010-02-01 2011-08-18 Tokyo Printing Ink Mfg Co Ltd Stain-resistant antistatic hard coat laminate
KR101834586B1 (en) * 2010-08-27 2018-03-05 소니 주식회사 Oriented film and process for production thereof, phase difference film and process for production thereof, and display device
US9921347B2 (en) 2010-08-27 2018-03-20 Saturn Licensing Llc Alignment film, method of manufacturing the alignment film, retardation film, method of manufacturing the retardation film, and display
JP2013083928A (en) * 2011-08-03 2013-05-09 Fujifilm Corp Method of manufacturing film with coating layer
JP2013107215A (en) * 2011-11-17 2013-06-06 Fujitsu Ltd Exterior for article and article subjected to exterior coating
JP2013256562A (en) * 2012-06-11 2013-12-26 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd Composition for forming hardcoat film, hardcoat film, and plastic substrate including the hardcoat film
JP2014189596A (en) * 2013-03-26 2014-10-06 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd Hard coat film forming composition and hard coat film, and plastic substrate with hard coat film
JP2015112799A (en) * 2013-12-12 2015-06-22 大日本印刷株式会社 Laminate
JP2016099828A (en) * 2014-11-21 2016-05-30 大日本印刷株式会社 Touch panel, laminate, and production method of laminate
JP2016132187A (en) * 2015-01-20 2016-07-25 大日本印刷株式会社 Optical laminate

Also Published As

Publication number Publication date
JP4923754B2 (en) 2012-04-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4923754B2 (en) Optical laminate
KR101344132B1 (en) Optical laminated body
JP5531509B2 (en) Optical laminate, polarizing plate, and image display device
JP6070195B2 (en) Antireflection film, method for producing antireflection film, polarizing plate and image display device
CN107718800B (en) Anti-glare film, polarizing plate, and image display device
JP4985049B2 (en) Optical laminate
JP5264605B2 (en) Antiglare film, antireflection film, polarizing plate and image display device
WO2012147527A1 (en) Antireflection film, polarizing plate, and image display device
JPWO2007142142A1 (en) Optical laminate, polarizing plate, and image display device
JP4756336B2 (en) Optical laminate
JP2006154758A (en) Optical laminate
JP2006126808A (en) Optical laminate
JP4895160B2 (en) Optical laminate
KR101224241B1 (en) Optical layered product
JP2005004163A (en) Optical functional film, polarizing plate and image display device
JP5322560B2 (en) Optical film, polarizing plate, and image display device
JP2007322877A (en) Optical laminated body
JP5408991B2 (en) Optical film, polarizing plate, and image display device
JP5340591B2 (en) Optical laminate
JP4883387B2 (en) Optical laminate
JP2006293279A (en) Optical laminate
JP5096069B2 (en) Optical laminate, polarizing plate, and image display device
JP2006267556A (en) Optical layered body
KR20060051602A (en) Optical laminate
JP2006098666A (en) Optical laminate

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090331

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110531

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110729

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110830

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111018

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120110

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120123

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150217

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4923754

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150