JP2006293279A - Optical laminate - Google Patents

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JP2006293279A
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Tomoyuki Horio
尾 智 之 堀
Hiroomi Katagiri
桐 博 臣 片
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical laminate in which occurrence of interface reflection and interference fringes can be prevented effectively, by substantially eliminating the interface between a translucent base material and a hardcoat layer. <P>SOLUTION: The optical laminate comprises the hardcoat layer provided on the light translucent base material, the interface between the translucent base material and the hardcoat layer having been rendered substantially absent. Further a composition for the hardcoat layer contains a permeable solvent, having permeability to a resin and the translucent base material. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、界面反射と干渉縞を防止した光学積層体に関する。   The present invention relates to an optical laminate that prevents interface reflection and interference fringes.

液晶ディスプレイ(LCD)又は陰極管表示装置(CRT)等の画像表示装置における画像表示面は、外部光源から照射された光線による反射を少なくし、その視認性を高めることが要求される。これに対して、光透過性基材に、防眩層または反射防止層を形成させた光学積層体(例えば、反射防止積層体)を利用することにより、画像表示装置の画像表示面の反射を低減させ視認性を向上させることが一般になされている。   An image display surface in an image display device such as a liquid crystal display (LCD) or a cathode ray tube display device (CRT) is required to reduce reflection due to light rays emitted from an external light source and to improve its visibility. On the other hand, by using an optical laminate (for example, an antireflection laminate) in which an antiglare layer or an antireflection layer is formed on a light transmissive substrate, reflection of the image display surface of the image display device can be achieved. It is common to reduce and improve visibility.

しかしながら、屈折率の差が大きい層を積層させた光学積層体にあっては、互いに重なり合った層の界面において、界面反射および干渉縞が生じることがしばしば見受けられた。特に、画面表示装置の画像表示面において黒色を再現した際に、干渉縞が顕著に発生し、その結果、画像の視認性が低下し、また画像表示面の美観を損ねるとの指摘がなされている。特に、光透過性基材の屈折率とハードコート層の屈折率が相違する場合、干渉縞の発生が生じ易いとされている。   However, in an optical laminated body in which layers having a large difference in refractive index are laminated, it has often been observed that interface reflection and interference fringes occur at the interface between the layers that overlap each other. In particular, it has been pointed out that when black is reproduced on the image display surface of the screen display device, interference fringes are conspicuously generated, and as a result, the visibility of the image is lowered and the appearance of the image display surface is impaired. Yes. In particular, when the refractive index of the light-transmitting substrate is different from the refractive index of the hard coat layer, interference fringes are likely to occur.

これに対して、特開2003−131007号公報(特許文献1)によれば、干渉縞の発生を抑制するために、基材とハードコート層との界面近傍の屈折率が連続的に変化することを特徴とした光学フィルムが提案されている。   On the other hand, according to Japanese Patent Laid-Open No. 2003-131007 (Patent Document 1), the refractive index in the vicinity of the interface between the base material and the hard coat layer continuously changes in order to suppress the generation of interference fringes. An optical film characterized by this has been proposed.

しかしながら、本発明者らが確認したところ、光透過型基材とハードコート層の界面状態を実質的に解消したとする光学積層体は未だ提案されていない。
特開2003−131007号公報
However, as a result of confirmation by the present inventors, an optical laminate that substantially eliminates the interface state between the light transmissive substrate and the hard coat layer has not yet been proposed.
JP 2003-131007 A

本発明者等は、本発明時において、光透過性基材とハードコート層の界面状態に着目し、この界面が実質的に存在しないものとした光学積層体が得られるとの知見を得た。よって、本発明は光透過性基材とハードコート層の界面を実質的に解消することにより、界面反射と干渉縞の発生を有効に防止し、視認性と、機械的強度とを向上させた光学積層体の提供を目的とするものである。   At the time of the present invention, the present inventors paid attention to the interface state between the light-transmitting substrate and the hard coat layer, and obtained the knowledge that an optical laminate having substantially no interface was obtained. . Therefore, the present invention effectively prevents the occurrence of interface reflection and interference fringes by substantially eliminating the interface between the light-transmitting substrate and the hard coat layer, and improves visibility and mechanical strength. The object is to provide an optical laminate.

従って、本発明による光学積層体は、
光透過性基材の上にハードコート層を備えてなり、
前記光透過性基材と前記帯電防止層の界面が実質的に存在しないものとされてなるものである。
Therefore, the optical laminate according to the present invention is
Comprising a hard coat layer on a light transmissive substrate,
The interface between the light-transmitting substrate and the antistatic layer is substantially absent.

1.光学積層体
界面の実質的な消滅
本発明による光学積層体は、光透過性基材とハードコート層との界面が実質的に存在しないものとされてなるものである。本発明において、「界面が(実質的に)存在しない」とは、二つの層面が重なり合ってはいるが実際に界面が存在しないこと、および屈折率からみて両者の面に界面が存在していないと判断される場合をも含むものをいう。「界面が(実質的に)存在しない」との具体的な基準としては、例えば、光学積層体の断面を、レーザー顕微鏡により観察し、干渉縞が目視される積層体断面には界面が存在し、干渉縞が目視されない積層体断面には界面が存在しないことを測定することにより行うことができる。レーザー顕微鏡は屈折率に違いのあるものを非破壊にて断面観察できるものであることから、屈折率に大きな違いのない素材同士において界面が存在しないとの測定結果が生じる。このことから、屈折率からみても基材とハードコート層の間に界面が存在しないと判断しうる。
1. Optical laminate
Substantial disappearance of the interface The optical layered body according to the present invention has substantially no interface between the light-transmitting substrate and the hard coat layer. In the present invention, “the interface is (substantially) nonexistent” means that the two layer surfaces overlap each other but there is actually no interface, and there is no interface on both surfaces in terms of the refractive index. This includes cases where it is determined that. As a specific criterion that “the interface is (substantially) absent”, for example, the cross section of the optical laminate is observed with a laser microscope, and there is an interface in the cross section of the laminate where the interference fringes are visually observed. This can be done by measuring that there is no interface in the cross section of the laminate where no interference fringes are visible. Since the laser microscope is capable of non-destructively observing a cross section with a difference in refractive index, a measurement result that there is no interface between materials having no great difference in refractive index occurs. From this, it can be determined that there is no interface between the base material and the hard coat layer from the viewpoint of the refractive index.

本発明にあっては、光透過性基材の上に樹脂と浸透性溶剤との混合物を塗布すると、この混合物が光透過性基材内に浸透(湿潤)する。その後、混合物中の樹脂を硬化・乾燥させることにより、浸透性溶剤は蒸発し、光透過性基材の上にハードコート層が形成され、その両者が合い重なる面には界面が実質的に存在しないものと思われる。そのメカニズムは容易に理解することができないが、上記した樹脂と浸透性溶剤との混合物を塗布してハードコート層を形成することに起因するのではないかと思われる。   In the present invention, when a mixture of a resin and a permeable solvent is applied onto a light transmissive substrate, the mixture penetrates (wet) into the light transmissive substrate. After that, the resin in the mixture is cured and dried, whereby the permeable solvent evaporates and a hard coat layer is formed on the light-transmitting substrate. It seems not to. Although the mechanism cannot be easily understood, it may be caused by forming a hard coat layer by applying a mixture of the above-described resin and a permeable solvent.

光透過性基材
光透過性基材は、光を透過するものであれば、透明、半透明、無色または有色を問わないが、好ましくは無色透明のものがよい。光透過性基材の具体例としては、ガラス板;トリアセテートセルロース(TAC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース、ポリエーテルサルホン、アクリル系樹脂;ポリウレタン系樹脂;ポリエステル;ポリカーボネート;ポリスルホン;ポリエーテル;トリメチルペンテン;ポリエーテルケトン;(メタ)アクリロニトリル等により形成した薄膜等が挙げられる。本発明の好ましい態様によれば、トリアセテートセルロース(TAC)が好ましくは挙げられる。光透過性基材の厚さは、30μm〜200μm程度であり、好ましくは40μm〜200μmである。
Light-transmitting substrate The light-transmitting substrate may be transparent, translucent, colorless, or colored as long as it transmits light, but is preferably colorless and transparent. Specific examples of the light-transmitting substrate include glass plate; triacetate cellulose (TAC), polyethylene terephthalate (PET), diacetyl cellulose, acetate butyrate cellulose, polyethersulfone, acrylic resin; polyurethane resin; polyester; polycarbonate Polysulfone; polyether; trimethylpentene; polyether ketone; and a thin film formed of (meth) acrylonitrile. According to a preferred embodiment of the present invention, triacetate cellulose (TAC) is preferably mentioned. The thickness of the light-transmitting substrate is about 30 μm to 200 μm, preferably 40 μm to 200 μm.

ハードコート層
「ハードコート層」とは、JIS5600−5−4(1999)で規定される鉛筆硬度試験で「H」以上の硬度を示すものをいう。ハードコート層の膜厚(硬化時)は0.1〜100μm、好ましくは0.8〜20μmの範囲にあることが好ましい。ハードコート層は樹脂と任意成分とにより形成されてなる。
The hard coat layer “hard coat layer” refers to a layer having a hardness of “H” or higher in a pencil hardness test defined by JIS 5600-5-4 (1999). The thickness of the hard coat layer (during curing) is in the range of 0.1 to 100 μm, preferably 0.8 to 20 μm. The hard coat layer is formed of a resin and an optional component.

1)樹脂
樹脂としては、透明性のものが好ましく、その具体例としては、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、または熱硬化型樹脂の三種類が挙げら、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。
1) The resin resin is preferably transparent, and specific examples thereof include an ionizing radiation curable resin that is a resin curable by ultraviolet rays or an electron beam, a mixture of an ionizing radiation curable resin and a solvent-drying resin, Or, there are three types of thermosetting resins, preferably ionizing radiation curable resins.

電離放射線硬化型樹脂の具体例としては、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジェン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の(メタ)アルリレート等のオリゴマー又はプレポリマー、反応性希釈剤が挙げられ、これらの具体例としては、エチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、ポリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸変性ジアクリレート、イソシアヌル酸変性トリアクリレート、ビスフェノールF変性ジアクリレート等が挙げられる。   Specific examples of the ionizing radiation curable resin include those having an acrylate functional group, for example, a polyester resin, polyether resin, acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, alkyd resin, spiroacetal resin, polybutadiene having a relatively low molecular weight. Resins, polythiol polyene resins, oligomers or prepolymers such as (meth) allylates of polyfunctional compounds such as polyhydric alcohols, and reactive diluents, and specific examples thereof include ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meta ) Monofunctional monomers such as acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone and polyfunctional monomers such as polymethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) Acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, isocyanuric acid modified Examples include diacrylate, isocyanuric acid-modified triacrylate, and bisphenol F-modified diacrylate.

多官能オリゴマー、多官能ポリマーも好ましく使用できる。例えば、ウレタンアクリレート、ウレタンメタアクリレートが挙げられる。   Polyfunctional oligomers and polyfunctional polymers can also be preferably used. Examples thereof include urethane acrylate and urethane methacrylate.

電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−n−ブチルホソフィン等が挙げられる。   When using an ionizing radiation curable resin as an ultraviolet curable resin, it is preferable to use a photopolymerization initiator. Specific examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, Michler benzoylbenzoate, α-amyloxime ester, tetramethylchuram monosulfide, and thioxanthones. Further, it is preferable to use a mixture of photosensitizers, and specific examples thereof include n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine and the like.

電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂は一般的に例示されるものが利用される。溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。本発明の好ましい態様によれば、透明基材の材料がTAC等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えばニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。   The solvent-drying resin used by mixing with the ionizing radiation curable resin mainly includes a thermoplastic resin. As the thermoplastic resin, those generally exemplified are used. By adding the solvent-drying resin, coating film defects on the coated surface can be effectively prevented. According to a preferred embodiment of the present invention, when the material of the transparent substrate is a cellulose resin such as TAC, as a preferred specific example of the thermoplastic resin, a cellulose resin such as nitrocellulose, acetylcellulose, cellulose acetate propionate, Examples thereof include ethyl hydroxyethyl cellulose.

熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。   Specific examples of the thermosetting resin include phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melanin resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, melamine-urea cocondensation resin, silicon resin. And polysiloxane resin. When a thermosetting resin is used, a curing agent such as a crosslinking agent and a polymerization initiator, a polymerization accelerator, a solvent, a viscosity modifier and the like can be further added as necessary.

2)浸透性溶剤
浸透性溶剤は、光透過性基材に対して浸透性のある溶剤を利用する。よって、本発明にあっては、浸透性溶剤の「浸透性」とは、光透過性基材に対して浸透性、膨潤性、湿潤性等のすべての概念を包含する意である。浸透性溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;クロロホルム、塩化メチレン、テトラクロルエタン等のハロゲン化炭化水素;またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、エステル類、ケトン類が挙げられる。
2) Penetrating solvent The penetrating solvent uses a solvent that is permeable to the light-transmitting substrate. Therefore, in the present invention, the “permeability” of the osmotic solvent is intended to include all concepts such as permeability, swelling property, and wettability with respect to the light transmissive substrate. Specific examples of the permeable solvent include alcohols such as isopropyl alcohol, methanol, and ethanol; ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, and butyl acetate; chloroform, methylene chloride, Halogenated hydrocarbons such as tetrachloroethane; or a mixture thereof, preferably esters and ketones.

浸透性溶剤の具体的な例としては、アセトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、クロロホルム、塩化メチレン、トリクロロエタン、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ニトロメタン、1,4―ジオキサン、ジオキソラン、N―メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコール、ジイソプロピルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブが挙げられ、好ましくは酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトンなどが挙げられる。   Specific examples of the osmotic solvent include acetone, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, chloroform, methylene chloride, trichloroethane, tetrahydrofuran, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, nitromethane, 1,4-dioxane, dioxolane, N -Methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, isobutyl alcohol, diisopropyl ether, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, preferably methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, etc. Is mentioned.

3)帯電防止剤および/または防眩剤
本発明によるハードコート層は、帯電防止剤および/または防眩剤を含んでなるものが好ましい。
3) Antistatic agent and / or antiglare agent The hard coat layer according to the present invention preferably comprises an antistatic agent and / or an antiglare agent.

帯電防止剤(導電剤)
帯電防止層を形成する帯電防止剤の具体例としては、第4級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第1〜第3アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基などのアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系などの両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系などのノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第3級アミノ基、第4級アンモニウム基、または金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマーまたはオリゴマー、或いは電離放射線により重合可能な重合可能な官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。
Antistatic agent (conductive agent)
Specific examples of the antistatic agent that forms the antistatic layer include quaternary ammonium salts, pyridinium salts, various cationic compounds having a cationic group such as first to third amino groups, sulfonate groups, and sulfate esters. Anionic compounds having anionic groups such as bases, phosphate ester bases, phosphonate bases, amphoteric compounds such as amino acids and aminosulfate esters, nonionic compounds such as amino alcohols, glycerols, and polyethylene glycols, tin And organic metal compounds such as titanium alkoxides and metal chelate compounds such as acetylacetonate salts thereof, and compounds obtained by increasing the molecular weight of the compounds listed above. Coupling having a tertiary amino group, a quaternary ammonium group, or a metal chelate moiety, and a monomer or oligomer polymerizable by ionizing radiation, or a polymerizable functional group polymerizable by ionizing radiation Polymerizable compounds such as organometallic compounds such as agents can also be used as antistatic agents.

また、導電性超微粒子が挙げられる。導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるのものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ZnO(屈折率1.90、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。)、CeO(1.95)、Sb(1.71)、SnO(1.997)、ITOと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫(1.95)、In(2.00)、Al(1.63)、アンチモンドープ酸化錫(略称;ATO、2.0)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(略称;AZO、2.0)等を挙げることができる。微粒子とは、1ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒径が0.1nm〜0.1μmのものである。 Moreover, electroconductive ultrafine particles are mentioned. Specific examples of the conductive fine particles include those made of a metal oxide. Examples of such metal oxides include ZnO (refractive index 1.90, the numerical value in parentheses below represents the refractive index), CeO 2 (1.95), Sb 2 O 2 (1.71), SnO. 2 (1.997), indium tin oxide (1.95) often referred to as ITO, In 2 O 3 (2.00), Al 2 O 3 (1.63), antimony-doped tin oxide (abbreviation) ATO, 2.0), aluminum-doped zinc oxide (abbreviation: AZO, 2.0), and the like. The fine particles refer to those having a so-called submicron size of 1 micron or less, and preferably those having an average particle size of 0.1 nm to 0.1 μm.

防眩剤
防眩剤は後記する防眩層の項で説明するものと同様であって良い。
The antiglare agent may be the same as that described in the section of the antiglare layer described later.

その他の層
本発明による光学積層体は、上記した通り光透過性基材とその上に形成されてなるハードコート層とにより基本的には構成されてなる。しかしながら、光学積層体としての機能または用途を加味してハードコート層の上に、下記する一又は二以上の層を形成してもよい。
Other Layers The optical layered body according to the present invention is basically composed of a light-transmitting substrate and a hard coat layer formed thereon as described above. However, one or two or more layers described below may be formed on the hard coat layer in consideration of the function or application as an optical laminate.

帯電防止層
帯電防止層は、帯電防止剤と樹脂とを含んでなるものである。帯電防止剤と溶剤はハードコート層で説明したのと同様であって良い。
Antistatic layer The antistatic layer comprises an antistatic agent and a resin. The antistatic agent and the solvent may be the same as described in the hard coat layer.

樹脂
樹脂の具体例としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂もしくは電離放射線硬化性化合物(有機反応性ケイ素化合物を含む)を使用することができる。樹脂としては、熱可塑性の樹脂も使用できるが、熱硬化性樹脂を使用することがより好ましく、より好ましくは、電離放射線硬化性樹脂または電離放射線硬化性化合物を含む電離放射線硬化性組成物である。
As specific examples of the resin resin, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ionizing radiation curable resin, or an ionizing radiation curable compound (including an organic reactive silicon compound) can be used. Although a thermoplastic resin can be used as the resin, it is more preferable to use a thermosetting resin, and more preferably an ionizing radiation curable composition containing an ionizing radiation curable resin or an ionizing radiation curable compound. .

電離放射線硬化性組成物としては、分子中に重合性不飽和結合または、エポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー、及び/又はモノマーを適宜に混合したものである。ここで、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は、紫外線又は電子線を用いる。   The ionizing radiation curable composition is a mixture of a polymerizable unsaturated bond or a prepolymer, an oligomer, and / or a monomer having an epoxy group in a molecule. Here, the ionizing radiation refers to an electromagnetic wave or a charged particle beam having an energy quantum capable of polymerizing or crosslinking molecules, and usually an ultraviolet ray or an electron beam is used.

電離放射線硬化性組成物中のプレポリマー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類、ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレート等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物が挙げられる。   Examples of prepolymers and oligomers in ionizing radiation curable compositions include unsaturated polyesters such as unsaturated dicarboxylic acid and polyhydric alcohol condensates, and methacrylates such as polyester methacrylate, polyether methacrylate, polyol methacrylate, and melamine methacrylate. Acrylates such as polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyether acrylate, polyol acrylate, and melamine acrylate, and cationic polymerization type epoxy compounds.

電離放射線硬化性組成物中のモノマーの例としては、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマー、アクリル酸メチル、アクリル酸−2−エチルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メトキシブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類、アクリル酸−2−(N,N−ジエチルアミノ)エチル、アクリル酸−2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル、アクリル酸−2−(N,N−ジベンジルアミノ)メチル、アクリル酸−2−(N,N−ジエチルアミノ)プロピル等の不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類、アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート等の化合物、ジプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート等の多官能性化合物、及び/又は分子中に2個以上のチオール基を有するポリチオール化合物、例えばトリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等を挙げることができる。   Examples of the monomer in the ionizing radiation curable composition include styrene monomers such as styrene and α-methylstyrene, methyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, methoxyethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, and butyl acrylate. Acrylic esters such as methoxybutyl acrylate and phenyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, methoxyethyl methacrylate, ethoxymethyl methacrylate, phenyl methacrylate, lauryl methacrylate, etc. , 2- (N, N-diethylamino) ethyl acrylate, 2- (N, N-dimethylamino) ethyl acrylate, 2- (N, N-dibenzylamino) methyl acrylate, acrylic acid- 2- (N, N-diethyla B) Unsaturated substituted amino alcohol esters such as propyl, unsaturated carboxylic acid amides such as acrylamide and methacrylamide, ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol di Compounds such as acrylate, triethylene glycol diacrylate, polyfunctional compounds such as dipropylene glycol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, propylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, and / or two or more thiol groups in the molecule Polythiol compounds having, for example, trimethylolpropane trithioglycolate, trimethylolpropane trithiopropylate, pentaerythritol tet And lathioglycolate.

通常、電離放射線硬化性組成物中のモノマーとしては、以上の化合物を必要に応じて、1種若しくは2種以上を混合して用いるが、電離放射線硬化性組成物に通常の塗布適性を与えるために、前記のプレポリマー又はオリゴマーを5重量%以上、前記モノマー及び/又はポリチオール化合物を95重量%以下とするのが好ましい。   Usually, as the monomer in the ionizing radiation curable composition, the above compounds are used alone or in combination of two or more as required, but in order to give ordinary application suitability to the ionizing radiation curable composition. In addition, the prepolymer or oligomer is preferably 5% by weight or more, and the monomer and / or polythiol compound is preferably 95% by weight or less.

電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーが要求されるときは、モノマー量を減らすか、官能基の数が1又は2のアクリレートモノマーを使用するとよい。電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときの耐摩耗性、耐熱性、耐溶剤性が要求されるときは、官能基の数が3つ以上のアクリレートモノマーを使う等、電離放射線硬化性組成物の設計が可能である。ここで、官能基が1のものとして、2−ヒドロキシアクリレート、2−ヘキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレートが挙げられる。官能基が2のものとして、エチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げられる。官能基が3以上のものとして、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。   When flexibility is required when an ionizing radiation curable composition is applied and cured, it is preferable to reduce the amount of monomer or use an acrylate monomer having 1 or 2 functional groups. When wear resistance, heat resistance, and solvent resistance are required when an ionizing radiation curable composition is applied and cured, ionizing radiation curing such as using an acrylate monomer with three or more functional groups It is possible to design a sex composition. Here, 2-hydroxy acrylate, 2-hexyl acrylate, and phenoxyethyl acrylate are exemplified as those having one functional group. Examples of those having 2 functional groups include ethylene glycol diacrylate and 1,6-hexanediol diacrylate. Examples of the functional group having 3 or more include trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and dipentaerythritol hexaacrylate.

電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーや表面硬度等の物性を調整するため、電離放射線硬化性組成物に、電離放射線照射では硬化しない樹脂を添加することもできる。具体的な樹脂の例としては次のものがある。ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル等の熱可塑性樹脂である。中でも、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等の添加がフレキシビリティーの向上の点で好ましい。   In order to adjust physical properties such as flexibility and surface hardness when an ionizing radiation curable composition is applied and cured, a resin that is not cured by ionizing radiation irradiation can be added to the ionizing radiation curable composition. . Specific examples of the resin include the following. Thermoplastic resins such as polyurethane resin, cellulose resin, polyvinyl butyral resin, polyester resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, and polyvinyl acetate. Among these, addition of a polyurethane resin, a cellulose resin, a polyvinyl butyral resin, or the like is preferable from the viewpoint of improving flexibility.

電離放射線硬化性組成物の塗布後の硬化が紫外線照射により行われるときは、光重合開始剤や光重合促進剤を添加する。光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物100重量部に対し、0.1〜10重量部である。   When hardening after application | coating of an ionizing radiation curable composition is performed by ultraviolet irradiation, a photoinitiator and a photoinitiator are added. As the photopolymerization initiator, in the case of a resin system having a radical polymerizable unsaturated group, acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoin, benzoin methyl ether and the like are used alone or in combination. In the case of a resin system having a cationic polymerizable functional group, an aromatic diazonium salt, an aromatic sulfonium salt, an aromatic iodonium salt, a metatheron compound, a benzoin sulfonic acid ester or the like is used alone or as a mixture as a photopolymerization initiator. . The addition amount of a photoinitiator is 0.1-10 weight part with respect to 100 weight part of ionizing radiation-curable compositions.

電離放射線硬化性組成物には、次のような有機反応性ケイ素化合物を併用してもよい。   In the ionizing radiation curable composition, the following organic reactive silicon compound may be used in combination.

有機ケイ素化合物の1は、一般式RSi(OR')で表せるもので、RおよびR'は炭素数1〜10のアルキル基を表し、Rの添え字mとOR'の添え字nとは、各々が、m+n=4の関係を満たす整数である。 1 of the organosilicon compound can be represented by the general formula R m Si (OR ′) n , R and R ′ represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a subscript m of R and a subscript n of OR ′ Each is an integer satisfying the relationship m + n = 4.

具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−iso−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−ブトキシシラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。   Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, tetrapenta Ethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-propoxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltri Butoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethylpropoxysilane, dimethylbutoxysilane, methyl Silane, methyl diethoxy silane, hexyl trimethoxy silane and the like.

電離放射線硬化性組成物に併用し得る有機ケイ素化合物は、シランカップリング剤である。具体的には、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメトキシシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、オクタデシルジメチル[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等が挙げられる。   The organosilicon compound that can be used in combination with the ionizing radiation curable composition is a silane coupling agent. Specifically, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ- Aminopropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethoxysilane, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropylmethoxysilane / hydrochloride, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, aminosilane, methyl Methoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, hexamethyldisilazane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, octadecyldimethyl [3- (trimethoxysilyl) propyl ] Ammonium chloride, methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane and the like.

帯電防止層の厚さは、30nm〜1μm程度であることが好ましい。   The thickness of the antistatic layer is preferably about 30 nm to 1 μm.

防眩層
防眩層は、透過性基材とハードコート層または低屈折率層との間に形成されてよい。防眩層は樹脂と防眩剤とにより形成されてよく、樹脂は、ハードコート層の項で説明したものと同様であってよい。
Antiglare layer The antiglare layer may be formed between the transparent substrate and the hard coat layer or the low refractive index layer. The antiglare layer may be formed of a resin and an antiglare agent, and the resin may be the same as that described in the section of the hard coat layer.

本発明の好ましい態様によれば、防眩層は微粒子の平均粒径をR(μm)とし、防眩層凹凸のの十点平均粗さをRz(μm)とし、防眩層の凹凸平均間隔をSm(μm)とし、凹凸部の平均傾斜角をθaとした場合に、下記数式:
30≦Sm≦600
0.05≦Rz≦1.60
0.1≦θa≦2.5
0.3≦R≦15
を全て同時に満たすものが好ましい。
According to a preferred embodiment of the present invention, the antiglare layer has an average particle size of R (μm), a ten-point average roughness of the unevenness of the antiglare layer as Rz (μm), and an unevenness average interval of the antiglare layer. Is Sm (μm), and the average inclination angle of the concavo-convex part is θa, the following formula:
30 ≦ Sm ≦ 600
0.05 ≦ Rz ≦ 1.60
0.1 ≦ θa ≦ 2.5
0.3 ≦ R ≦ 15
It is preferable to satisfy all of these simultaneously.

また、本発明の別の好ましい様態によれば、微粒子と透明樹脂組成物の屈折率をそれぞれ、n1、n2とした場合に、△n=│n1−n2│<0.1を満たすものであり、かつ、防眩層内部のヘイズ値が55%以下である防眩層が好ましい。   According to another preferred embodiment of the present invention, Δn = | n1-n2 | <0.1 is satisfied when the refractive indexes of the fine particles and the transparent resin composition are n1 and n2, respectively. And the anti-glare layer whose haze value inside an anti-glare layer is 55% or less is preferable.

防眩剤
防眩剤としては微粒子が挙げられ、その形状は、真球状、楕円状などのものであってよく、好ましくは真球状のものが挙げられる。また、微粒子は無機系、有機系のものが挙げられる。微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは透明性のものがよい。微粒子の具体例としては、無機系であればシリカビーズ、有機系であればプラスチックビーズが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ(屈折率1.59)、メラミンビーズ(屈折率1.57)、アクリルビーズ(屈折率1.49)、アクリル−スチレンビーズ(屈折率1.54)、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズなどが挙げられる。微粒子の添加量は、透明樹脂組成物100重量部に対し、2〜30重量部、好ましくは10〜25重量部程度である。
Anti- glare agent Anti-glare agent includes fine particles, and the shape thereof may be spherical or elliptical, and preferably spherical. The fine particles include inorganic and organic particles. The fine particles exhibit anti-glare properties and are preferably transparent. Specific examples of the fine particles include silica beads for inorganic materials and plastic beads for organic materials. Specific examples of plastic beads include styrene beads (refractive index 1.59), melamine beads (refractive index 1.57), acrylic beads (refractive index 1.49), acrylic-styrene beads (refractive index 1.54), Examples thereof include polycarbonate beads and polyethylene beads. The addition amount of the fine particles is about 2 to 30 parts by weight, preferably about 10 to 25 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the transparent resin composition.

防眩層用組成物を調整する際に沈降防止剤を添加することが好ましい。沈降防止剤を添加することにより、樹脂ビーズの沈殿を抑制し、溶媒内に均一に分散させることができるからである。沈降防止剤の具体例としては、粒径が0.5μm以下、好ましくは0.1〜0.25μm程度のシリカビーズが挙げられる。   It is preferable to add an antisettling agent when adjusting the composition for the antiglare layer. This is because by adding an anti-settling agent, precipitation of the resin beads can be suppressed and the resin beads can be uniformly dispersed in the solvent. Specific examples of the anti-settling agent include silica beads having a particle size of 0.5 μm or less, preferably about 0.1 to 0.25 μm.

防眩層の膜厚(硬化時)は0.1〜100μm、好ましくは0.8〜10μmの範囲にあることが好ましい。膜厚がこの範囲にあることにより、防眩層としての機能を十分に発揮することができる。   The film thickness (when cured) of the antiglare layer is 0.1 to 100 μm, preferably 0.8 to 10 μm. When the film thickness is within this range, the function as an antiglare layer can be sufficiently exhibited.

低屈折率層
低屈折率層は、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムを含有する樹脂、低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂から構成され、屈折率が1.46以下の、やはり30nm〜1μm程度の薄膜、または、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムの化学蒸着法もしくは物理蒸着法による薄膜で構成することができる。フッ素樹脂以外の樹脂については、帯電防止層を構成するのに用いる樹脂と同様である。
Low refractive index layer The low refractive index layer is composed of a resin containing silica or magnesium fluoride, a fluorine resin which is a low refractive index resin, silica or a fluorine resin containing magnesium fluoride, and has a refractive index of It can be composed of a thin film of 1.46 or less, also about 30 nm to 1 μm, or a thin film of silica or magnesium fluoride by chemical vapor deposition or physical vapor deposition. The resin other than the fluororesin is the same as the resin used for constituting the antistatic layer.

低屈折率層は、より好ましくは、シリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体で構成することができる。このシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、具体的には、フッ化ビニリデンが30〜90%、ヘキサフルオロプロピレンが5〜50%(以降も含め、百分率は、いずれも質量基準)を含有するモノマー組成物を原料とした共重合により得られるもので、フッ素含有割合が60〜70%であるフッ素含有共重合体100部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物80〜150部とからなる樹脂組成物であり、この樹脂組成物を用いて、膜厚200nm以下の薄膜であって、且つ耐擦傷性が付与された屈折率1.60未満(好ましくは1.46以下)の低屈折率層を形成する。   More preferably, the low refractive index layer can be composed of a silicone-containing vinylidene fluoride copolymer. Specifically, this silicone-containing vinylidene fluoride copolymer is a monomer containing 30 to 90% vinylidene fluoride and 5 to 50% hexafluoropropylene (including percentages below, all in terms of mass). It is obtained by copolymerization using the composition as a raw material, and comprises 100 parts of a fluorine-containing copolymer having a fluorine content of 60 to 70% and 80 to 150 parts of a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group. A low refractive index having a refractive index of less than 1.60 (preferably 1.46 or less) which is a thin film having a film thickness of 200 nm or less and is provided with scratch resistance by using this resin composition. Form a layer.

低屈折率層を構成する上記のシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、モノマー組成物における各成分の割合が、フッ化ビニリデンが30〜90%、好ましくは40〜80%、特に好ましくは40〜70%であり、又ヘキサフルオロプロピレンが5〜50%、好ましくは10〜50%、特に好ましくは15〜45%である。このモノマー組成物は、更にテトラフルオロエチレンを0〜40%、好ましくは0〜35%、特に好ましくは10〜30%含有するものであってもよい。   In the silicone-containing vinylidene fluoride copolymer constituting the low refractive index layer, the proportion of each component in the monomer composition is such that the vinylidene fluoride is 30 to 90%, preferably 40 to 80%, particularly preferably 40 to 40%. 70% and hexafluoropropylene is 5 to 50%, preferably 10 to 50%, particularly preferably 15 to 45%. This monomer composition may further contain 0 to 40%, preferably 0 to 35%, particularly preferably 10 to 30% of tetrafluoroethylene.

上記のモノマー組成物は、上記のシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体の使用目的および効果が損なわれない範囲において、他の共重合体成分が、例えば、20%以下、好ましくは10%以下の範囲で含有されたものであってもよく、このような、ほかの共重合成分の具体例として、フルオロエチレン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、1,2−ジクロロ−1,2−ジフルオロエチレン、2−ブロモ−3,3,3−トリフルオロエチレン、3−ブロモ−3,3−ジフルオロプロピレン、3,3,3−トリフルオロプロピレン、1,1,2−トリクロロ−3,3,3−トリフルオロプロピレン、α−トリフルオロメタクリル酸等のフッ素原子を有する重合性モノマーを例示することができる。   In the above monomer composition, other copolymer components are, for example, in the range of 20% or less, preferably in the range of 10% or less, within the range in which the intended purpose and effect of the silicone-containing vinylidene fluoride copolymer are not impaired. Specific examples of such other copolymerization components are fluoroethylene, trifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene, 1,2-dichloro-1,2-difluoroethylene, 2-bromo-3,3,3-trifluoroethylene, 3-bromo-3,3-difluoropropylene, 3,3,3-trifluoropropylene, 1,1,2-trichloro-3,3,3-tri Examples thereof include polymerizable monomers having fluorine atoms such as fluoropropylene and α-trifluoromethacrylic acid.

以上のようなモノマー組成物から得られるフッ素含有共重合体は、そのフッ素含有割合が60〜70%であることが必要であり、好ましいフッ素含有割合は62〜70%、特に好ましくは64〜68%である。フッ素含有割合が、このような特定の範囲であることにより、フッ素含有重合体は、溶剤に対して良好な溶解性を有し、かつ、このようなフッ素含有重合体を成分として含有することにより、種々の基材に対して優れた密着性を有し、高い透明性と低い屈折率を有すると共に十分に優れた機械的強度を有する薄膜を形成するので、薄膜の形成された表面の耐傷性等の機械的特性を十分に高いものとすることができ、極めて好適である。   The fluorine-containing copolymer obtained from the monomer composition as described above needs to have a fluorine content of 60 to 70%, preferably a fluorine content of 62 to 70%, particularly preferably 64 to 68. %. When the fluorine content is in such a specific range, the fluorine-containing polymer has good solubility in a solvent, and contains such a fluorine-containing polymer as a component. Since it has excellent adhesion to various substrates, it forms a thin film with high transparency and low refractive index and sufficiently excellent mechanical strength, so the scratch resistance of the surface on which the thin film is formed The mechanical properties such as the above can be made sufficiently high, which is extremely suitable.

このフッ素含有共重合体は、その分子量がポリスチレン換算数平均分子量で5,000〜200,000、特に10,000〜100,000であることが好ましい。このような大きさの分子量を有するフッ素含有共重合体を用いることにより、得られるフッ素系樹脂組成物の粘度が好適な大きさとなり、従って、確実に好適な塗布性を有するフッ素系樹脂組成物とすることができる。フッ素含有共重合体は、それ自体の屈折率が1.45以下、特に1.42以下、更に1.40以下であるものが好ましい。屈折率が1.45を越えるフッ素含有共重合体を用いた場合には、得られるフッ素系塗料により形成される薄膜が反射防止効果の小さいものとなる場合がある。   The fluorine-containing copolymer preferably has a molecular weight of 5,000 to 200,000, particularly 10,000 to 100,000 in terms of polystyrene-equivalent number average molecular weight. By using a fluorine-containing copolymer having such a molecular weight, the viscosity of the resulting fluorine-based resin composition becomes a suitable size, and therefore surely has a suitable coating property. It can be. The fluorine-containing copolymer preferably has a refractive index of 1.45 or less, particularly 1.42 or less, more preferably 1.40 or less. When a fluorine-containing copolymer having a refractive index exceeding 1.45 is used, a thin film formed from the obtained fluorine-based paint may have a small antireflection effect.

このほか、低屈折率層は、SiOからなる薄膜で構成することもでき、蒸着法、スパッタリング法、もしくはプラズマCVD法等により、またはSiOゾルを含むゾル液からSiOゲル膜を形成する方法によって形成されたものであってもよい。なお、低屈折率層は、SiO以外にも、MgFの薄膜や、その他の素材でも構成し得るが、下層に対する密着性が高い点で、SiO薄膜を使用することが好ましい。上記の手法のうち、プラズマCVD法によるときは、有機シロキサンを原料ガスとし、他の無機質の蒸着源が存在しない条件で行なうことが好ましく、また、被蒸着体をできるだけ低温度に維持して行なうことが好ましい。 In addition, the low refractive index layer also can be formed of a thin film made of SiO 2, an evaporation method, a sputtering method, or a plasma CVD method or the like, or to form a SiO 2 gel film from the sol solution containing SiO 2 sol It may be formed by a method. The low refractive index layer, in addition to SiO 2 also, the or a thin film MgF 2, but may be configured in other materials, in terms of high adhesion to the lower layer, it is preferable to use a SiO 2 thin film. Among the above methods, when the plasma CVD method is used, it is preferable to use organosiloxane as a raw material gas under the condition that there is no other inorganic vapor deposition source, and to maintain the deposition target as low as possible. It is preferable.

本発明の好ましい態様によれば、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。「空隙を有する微粒子」は低屈折率層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることを可能とする。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び/又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、塗膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び/又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。   According to a preferred embodiment of the present invention, it is preferable to use “fine particles having voids”. The “fine particles having voids” can reduce the refractive index while maintaining the layer strength of the low refractive index layer. In the present invention, the term “fine particles having voids” refers to a structure in which a gas is filled with gas and / or a porous structure containing gas, and the gas in the fine particle is compared with the original refractive index of the fine particle. It means fine particles whose refractive index decreases in inverse proportion to the occupation ratio. The present invention also includes fine particles capable of forming a nanoporous structure inside and / or at least part of the surface depending on the form, structure, aggregation state, and dispersion state of the fine particles inside the coating film. It is.

空隙を有する無機系の微粒子の具体例としては、特開2001−233611号公報で開示されている技術を用いて調製したシリカ微粒子が好ましくは挙げられる。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を1.20〜1.45程度の範囲内に調製することを可能とする。特に、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開2002−80503号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましく挙げられる。   As specific examples of the inorganic fine particles having voids, silica fine particles prepared by using the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-233611 are preferably exemplified. Since silica fine particles having voids are easy to manufacture and have high hardness, when a low refractive index layer is formed by mixing with a binder, the layer strength is improved and the refractive index is 1.20-1. It is possible to prepare within the range of about 45. In particular, as specific examples of the organic fine particles having voids, hollow polymer fine particles prepared by using the technique disclosed in JP-A-2002-80503 are preferably exemplified.

塗膜の内部及び/又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラムおよび表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子、または断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体的としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名NipsilやNipgelの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業(株)製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカUPシリーズ(商品名)から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。   The fine particles capable of forming a nanoporous structure inside and / or at least part of the surface of the coating film are manufactured for the purpose of increasing the specific surface area in addition to the silica fine particles, and the packing column and the surface porosity Examples include controlled release materials that adsorb various chemical substances on the mass part, porous fine particles used for catalyst fixation, or dispersions and aggregates of hollow fine particles intended to be incorporated into heat insulating materials and low dielectric materials. it can. As such a specific example, an aggregate of porous silica fine particles and a silica fine particle manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. were linked in a chain form from the product names Nippon and Nippon manufactured by Nippon Silica Kogyo Co., Ltd. as commercial products. From the colloidal silica UP series (trade name) having a structure, those within the range of the preferable particle diameter of the present invention can be used.

「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、5nm以上300nm以下であり、好ましくは下限が8nm以上であり上限が100nm以下であり、より好ましくは下限が10nm以上であり上限が80nm以下である。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することが可能となる。   The average particle diameter of the “fine particles having voids” is 5 nm or more and 300 nm or less, preferably the lower limit is 8 nm or more and the upper limit is 100 nm or less, more preferably the lower limit is 10 nm or more and the upper limit is 80 nm or less. When the average particle diameter of the fine particles is within this range, excellent transparency can be imparted to the low refractive index layer.

防汚層
本発明の好ましい態様によれば、低屈折率層の最表面の汚れ防止を目的として防汚層を設けてもよく、好ましくは低屈折率層が形成された光透過性基材の一方の面と反対の面側に防汚層が設けられてなるものが好ましい。防汚層は、反射防止積層体に対して防汚性と耐擦傷性のさらなる改善を図ることが可能となる。
Antifouling Layer According to a preferred embodiment of the present invention, an antifouling layer may be provided for the purpose of preventing the outermost surface of the low refractive index layer from being stained, and preferably the light transmissive substrate on which the low refractive index layer is formed. It is preferable that an antifouling layer is provided on the side opposite to one side. The antifouling layer can further improve the antifouling property and scratch resistance with respect to the antireflection laminate.

防汚層用剤の具体例としては、分子中にフッ素原子を有する電離放射線硬化型樹脂組成物への相溶性が低く、低屈折率層中に添加することが困難とされるフッ素系化合物および/またはケイ素系化合物、分子中にフッ素原子を有する電離放射線硬化型樹脂組成物および微粒子に対して相溶性を有するフッ素系化合物および/またはケイ系化合物が挙げられる。   Specific examples of the antifouling layer agent include fluorine compounds that have low compatibility with ionizing radiation curable resin compositions having fluorine atoms in the molecule and are difficult to add to the low refractive index layer, and Examples thereof include silicon compounds, ionizing radiation curable resin compositions having fluorine atoms in the molecule, and fluorine compounds and / or siliceous compounds having compatibility with fine particles.

2.光学積層体の製造方法
液体組成物の調整
帯電防止層、薄層、ハードコート層等用の各液体組成物は、一般的な調製法に従って、先に説明した成分を混合し分散処理することにより調整されてよい。混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等で適切に分散処理することが可能となる。
2. Method for producing optical laminate
Adjustment of Liquid Composition Each liquid composition for the antistatic layer, thin layer, hard coat layer and the like may be adjusted by mixing and dispersing the components described above according to a general preparation method. For mixing and dispersing, it is possible to appropriately disperse with a paint shaker or a bead mill.

塗工
光透過性基材表面、帯電防止層の表面への各液体組成物の塗布法の具体例としては、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の各種方法を用いることができる。
Specific examples of the coating method of each liquid composition on the surface of the coating light transmissive substrate and the surface of the antistatic layer include spin coating, dipping, spraying, die coating, bar coating, roll coater, Various methods such as a meniscus coater method, a flexographic printing method, a screen printing method, and a speed coater method can be used.

3.光学積層体の用途
本発明による光学積層体は、ハードコート積層体として、好ましくは反射防止積層体(防眩性積層体も包含する)として利用される。また、本発明による光学積層体は、透過型表示装置に利用される。特に、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用される。とりわけ、CRT、液晶パネルなどのディスプレイの表面に用いられる。
3. Use of optical laminate The optical laminate according to the present invention is used as a hard coat laminate, preferably as an antireflection laminate (including an antiglare laminate). The optical laminate according to the present invention is used for a transmissive display device. In particular, it is used for display displays of televisions, computers, word processors and the like. In particular, it is used on the surface of displays such as CRTs and liquid crystal panels.

本発明の内容を下記の実施例により詳細に説明するが、本発明の範囲はこれら実施例に限定して解釈されるものではない。   The contents of the present invention will be described in detail with reference to the following examples, but the scope of the present invention should not be construed as being limited to these examples.

ハードコート層用組成物の調製
下記組成に従って混合し濾過しハードコート層用組成物を調製した。
ウレタンアクリレート 5重量部
(UV1700B;分子量2000;日本合成社製)
ポリエステルアクリレート 5重量部
(M9050;分子量418;東亞合成社製)
重合開始剤 0.4重量部
(イルガキュアー184)
酢酸メチル 15重量部
Preparation of Hard Coat Layer Composition A hard coat layer composition was prepared by mixing and filtering according to the following composition.
5 parts by weight of urethane acrylate (UV1700B; molecular weight 2000; manufactured by Nihon Gosei Co., Ltd.)
5 parts by weight of polyester acrylate (M9050; molecular weight 418; manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
Polymerization initiator 0.4 part by weight (Irgacure 184)
15 parts by weight of methyl acetate

光学積層体の調製
実施例1
セルローストリアセテートフィルム(厚み80μm)の片面に、ハードコート層用組成物をウェット重量15g/m(乾燥重量6g/m)を塗布した。50℃にて30秒乾燥し、紫外線100mJ/cmを照射して光学積層体を調製した。
Preparation of optical laminate
Example 1
A wet weight 15 g / m 2 (dry weight 6 g / m 2 ) of the composition for a hard coat layer was applied to one side of a cellulose triacetate film (thickness 80 μm). It dried for 30 seconds at 50 degreeC, and irradiated the ultraviolet-ray 100mJ / cm < 2 >, and prepared the optical laminated body.

実施例2
厚み40μmのセルローストリアセテートフィルムを用いること、ハードコート層用組成物において、酢酸メチルをメチルエチルケトン10重量部に変更した以外は実施例1と同様にして光学積層体を調製した。
Example 2
An optical laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that a cellulose triacetate film having a thickness of 40 μm was used and that methyl acetate was changed to 10 parts by weight of methyl ethyl ketone in the hard coat layer composition.

比較例1
ハードコート層用組成物において、酢酸メチルをトルエン10重量部に変更した以外は実施例1と同様にして光学積層体を調製した。
Comparative Example 1
An optical layered body was prepared in the same manner as in Example 1 except that methyl acetate was changed to 10 parts by weight of toluene in the hard coat layer composition.

比較例2
ハードコート層用組成物において、酢酸メチルをキシレン10重量部に変更した以外は実施例1と同様にして光学積層体を調製した。
Comparative Example 2
An optical laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that methyl acetate was changed to 10 parts by weight of xylene in the composition for hard coat layer.

評価試験
実施例および比較例で調製した光学積層体について下記の評価試験を行った。その結果は下記表1に記載した通りであった。
Evaluation Tests The following evaluation tests were performed on the optical laminates prepared in Examples and Comparative Examples. The results were as described in Table 1 below.

評価1:干渉縞有無試験
光学積層体のハードコート層と逆の面に、裏面反射を防止するための黒色テープを貼り、ハードコート層の面から光学積層体を目視しで観察し、下記評価基準にて評価した。
評価基準
評価◎:干渉縞の発生はなかった。
評価×:干渉縞の発生があった。
Evaluation 1: Interference fringe presence / absence test On the surface opposite to the hard coat layer of the optical laminate, a black tape for preventing back surface reflection was applied, and the optical laminate was visually observed from the surface of the hard coat layer. Evaluation was based on criteria.
Evaluation criteria Evaluation A: No interference fringes were generated.
Evaluation x: Interference fringes were generated.

評価2:界面有無試験
共焦点レーザー顕微鏡(LeicaTCS-NT:ライカ社製:倍率「500〜1000倍」)にて、光学積層体の断面を透過観察し、界面の有無を判断し下記の評価基準で判断した。具体的には、ハレーションのない鮮明な画像を得るため、共焦点レーザー顕微鏡に、湿式の対物レンズを使用し、かつ、光学積層体の上に屈折率1.518のオイルを約2ml乗せて観察し判断した。オイルの使用は、対物レンズと光学積層体との間の空気層を消失させるために用いた。
評価基準
評価◎:界面が観察されなかった(注1)。
評価×:界面が観察された(注2)。
注1および注2
注1:本発明による実施例の全ては図1に示す通り、油面(上層)/ハードコート層(下層)の界面のみが観察され、ハードコート層と光透過性基材との界面は観察されなかった。
注2:比較例の全ては、図2に示す通り、油面(上層)/ハードコート層(中層)/光透過性基材(下層)とのそれぞれの層の境に界面が観察された。
Evaluation 2: Interface presence / absence test Using a confocal laser microscope (LeicaTCS-NT: Leica Co., Ltd .: magnification “500 to 1000 ×”), the cross section of the optical laminate was observed through transmission to determine the presence or absence of the interface, and the following evaluation criteria Judged. Specifically, in order to obtain a clear image without halation, a wet objective lens is used for the confocal laser microscope, and about 2 ml of oil having a refractive index of 1.518 is placed on the optical laminate. Judged. The use of oil was used to eliminate the air layer between the objective lens and the optical stack.
Evaluation Criteria Evaluation A: No interface was observed (Note 1).
Evaluation x: An interface was observed (Note 2).
Note 1 and Note 2
Note 1: In all the examples according to the present invention, as shown in FIG. 1, only the interface of the oil surface (upper layer) / hard coat layer (lower layer) is observed, and the interface between the hard coat layer and the light transmissive substrate is observed. Was not.
Note 2: In all of the comparative examples, as shown in FIG. 2, an interface was observed at the boundary between each of the oil level (upper layer) / hard coat layer (middle layer) / light-transmitting substrate (lower layer).

評価3:耐擦傷性評価試験
光学積層体のハードコート層の表面を、#0000番のスチールウールを用いて、所定の摩擦荷重(200〜1000gの範囲内で200g毎に変化させた)で10往復摩擦し、その後の塗膜の剥がれの有無を目視し下記の基準にて評価した。
評価基準
評価◎:塗膜の剥がれが全くなかった。
評価×:塗膜の剥がれがあった。
Evaluation 3: Scratch resistance evaluation test The surface of the hard coat layer of the optical laminate was changed to 10 with a predetermined friction load (changed every 200 g within a range of 200 to 1000 g) using # 0000 steel wool. After reciprocating friction, the presence or absence of peeling of the coating film was visually observed and evaluated according to the following criteria.
Evaluation Criteria Evaluation A: There was no peeling of the coating film.
Evaluation x: There was peeling of the coating film.

表1
評価1 評価2 評価3
実施例1 ◎ ◎ ◎
実施例2 × ◎ ◎
比較例1 × × ◎
比較例2 × × ◎
Table 1
Evaluation 1 Evaluation 2 Evaluation 3
Example 1 ◎ ◎ ◎
Example 2 × ◎ ◎
Comparative Example 1 × × ◎
Comparative Example 2 × × ◎

本発明による光学積層体の断面のレーザー顕微鏡写真である。It is a laser micrograph of the cross section of the optical laminated body by this invention. 比較例による光学積層体の断面のレーザー顕微鏡写真である。It is a laser micrograph of the cross section of the optical laminated body by a comparative example.

Claims (6)

光透過性基材の上にハードコート層を備えてなる光学積層体であって、
前記光透過性基材と前記ハードコート層の界面が実質的に存在しないものとされてなる、光学積層体。
An optical laminate comprising a hard coat layer on a light transmissive substrate,
An optical laminate, wherein an interface between the light transmissive substrate and the hard coat layer is substantially absent.
前記ハードコート層が、前記光透過性基材に対して浸透性を有するハードコート層用組成物を用いて形成されることにより、前記光透過性基材と前記ハードコート層との界面が実質的に存在しないものとされてなる、請求項1に記載の光学積層体。   The hard coat layer is formed by using a composition for a hard coat layer that is permeable to the light transmissive substrate, whereby an interface between the light transmissive substrate and the hard coat layer is substantially reduced. The optical layered body according to claim 1, which is not present in a conventional manner. 前記ハードコート層用組成物が、樹脂と前記光透過性基材に対して浸透性を有する浸透性溶剤とを含んでなるものである、請求項1又は2に記載の光学積層体。   The optical laminate according to claim 1 or 2, wherein the composition for a hard coat layer comprises a resin and a permeable solvent having permeability to the light transmissive substrate. 前記ハードコート層が帯電防止剤および/または防眩剤を含んでなる、請求項1〜3のいずれか一項に記載の光学積層体。   The optical laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein the hard coat layer comprises an antistatic agent and / or an antiglare agent. 前記ハードコート層の上に、帯電防止層、防眩層、低屈折率層、防汚層またはこれらの二種以上の層を形成してなる、請求項1〜4のいずれか一項に記載の光学積層体。   The antistatic layer, the antiglare layer, the low refractive index layer, the antifouling layer, or two or more of these layers are formed on the hard coat layer. Optical laminate. 反射防止積層体として利用される、請求項1〜5のいずれか一項に記載の光学積層体。   The optical laminate according to any one of claims 1 to 5, which is used as an antireflection laminate.
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