JP2005096298A - Optical film and optical display device equipped with it - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光学フィルムおよびこの光学フィルムを具備してなる光学表示装置に関するものである。 The present invention relates to an optical film and an optical display device including the optical film.
従来より、ワードプロセッサ、コンピュータ、テレビなどの電子機器のディスプレイ、その他の種々のディスプレイ装置等には、ガラスやプラスチックなどの板状の透明材料が使用されている。しかし、これらの透明材料は、静電気による塵埃や汚れの付着があり、また、汚れの除去作業により擦り傷や引っかき傷などが発生して、透明性が損なわれやすいという問題点があった。
そこで、透明材料上に透明性の帯電防止層を形成させることが行われている。
Conventionally, plate-like transparent materials such as glass and plastic have been used for displays of electronic devices such as word processors, computers, televisions, and other various display devices. However, these transparent materials have the problem that the dust and dirt are attached due to static electricity, and the transparency is easily impaired due to the occurrence of scratches and scratches due to the removal of the dirt.
Therefore, a transparent antistatic layer is formed on a transparent material.
しかし、透明基材上に帯電防止層を形成した場合、透明基材表面の反射光と帯電防止層表面の反射光とが干渉して、膜厚のムラに起因して干渉縞とよばれるムラ模様として視認されて外観が損なわれるという問題点があった。 However, when an antistatic layer is formed on a transparent substrate, the reflected light on the surface of the transparent substrate interferes with the reflected light on the surface of the antistatic layer, resulting in unevenness called interference fringes due to film thickness unevenness. There was a problem that it was visually recognized as a pattern and the appearance was impaired.
この問題を解決するには、帯電防止層の厚さを数μm以上に極端に厚くしたり、あるいは100nm程度まで薄くするという方法があるが、前者はクラックが生じたりコストがかかるなどの原因で現実性がなく、後者は十分な帯電防止性が達成できないという問題があって、実用的であるとは言い難い。 In order to solve this problem, there is a method of extremely increasing the thickness of the antistatic layer to several μm or more, or reducing it to about 100 nm. However, the former is caused by cracks or cost. The latter is not practical, and the latter has a problem that sufficient antistatic properties cannot be achieved, and is not practical.
なお、帯電防止層を完全に均一の膜厚で形成できれば干渉縞は生じないはずであるが、多用な商品を工業的規模で製造する際にそのような干渉縞が生じない程度の均一に帯電防止層を形成させることは事実上不可能であると言える。 If the antistatic layer can be formed with a completely uniform film thickness, interference fringes should not occur. However, when manufacturing various products on an industrial scale, they are charged uniformly to such an extent that such interference fringes do not occur. It can be said that it is virtually impossible to form the prevention layer.
本発明は、二層の透明層(即ち、透明基材層と帯電防止層)との屈折率差を制御することによって、干渉縞の発生を抑制しようするものである。 The present invention intends to suppress the occurrence of interference fringes by controlling the difference in refractive index between two transparent layers (that is, a transparent base layer and an antistatic layer).
したがって、本発明による光学フィルムは、透明基材層と、この透明基材層上に形成された帯電防止層とからなり、前記透明基材層と前記帯電防止層との屈折率差を0.03以下、好ましくは0.01以下、に制御することによって干渉縞の発生が抑制されたものであること、を特徴とするものである。 Therefore, the optical film according to the present invention includes a transparent base layer and an antistatic layer formed on the transparent base layer, and the refractive index difference between the transparent base layer and the antistatic layer is set to be 0.1. Generation of interference fringes is suppressed by controlling to 03 or less, preferably 0.01 or less.
このような本発明による光学フィルムにおいて、好ましくは、前記帯電防止層を、屈折率1.63〜1.69を有するものとすることができる。 In such an optical film according to the present invention, preferably, the antistatic layer may have a refractive index of 1.63 to 1.69.
このような本発明による光学フィルムにおいて、好ましくは、前記帯電防止層を、透明材料中に導電性微粒子が分散されたものとすることができる。 In such an optical film according to the present invention, preferably, the antistatic layer may be one in which conductive fine particles are dispersed in a transparent material.
このような本発明による光学フィルムにおいて、好ましくは、前記導電性微粒子を、SnO2、ZnO、CeO2、Sb2O2、In2O3、ITO、ATO、AZOおよびAl2O3からなる群から選択されたものとすることができる。 In such an optical film according to the present invention, preferably, the conductive fine particles are made of SnO 2 , ZnO, CeO 2 , Sb 2 O 2 , In 2 O 3 , ITO, ATO, AZO and Al 2 O 3. Can be selected from
また、このような本発明による光学フィルムにおいて、好ましくは、前記帯電防止層の表面に低屈折率層を有するものとすることができる。 In the optical film according to the present invention, it is preferable that a low refractive index layer be provided on the surface of the antistatic layer.
そして、本発明による干渉縞が低減された光学表示装置は、前記の光学フィルムを具備してなること、を特徴とするものである。 An optical display device with reduced interference fringes according to the present invention comprises the above optical film.
本発明による光学フィルムは、透明基材層と、この透明基材層上に形成された帯電防止層とからなり、前記透明基材層と前記帯電防止層との屈折率差を0.03以下、好ましくは0.01以下、に制御されたものであることから、干渉縞の発生が抑制されたものである。 An optical film according to the present invention comprises a transparent substrate layer and an antistatic layer formed on the transparent substrate layer, and the refractive index difference between the transparent substrate layer and the antistatic layer is 0.03 or less. Since it is preferably controlled to 0.01 or less, the occurrence of interference fringes is suppressed.
以下に、本発明を必要に応じて図面を参照しながら説明する。
<光学フィルム>
図1〜図3は、本発明による光学フィルムの好ましい具体例について、その断面を模式的に示すものである。
図1に示される本発明による光学フィルム(1)は、透明基材層(2)と、この透明基材層(2)上に形成された帯電防止層(3)とからなり、前記透明基材層と前記帯電防止層との屈折率差を0.03以下、好ましくは0.01以下に制御することによって干渉縞の発生が抑制されたものである。
The present invention will be described below with reference to the drawings as necessary.
<Optical film>
1 to 3 schematically show cross sections of preferred specific examples of the optical film according to the present invention.
The optical film (1) according to the present invention shown in FIG. 1 comprises a transparent substrate layer (2) and an antistatic layer (3) formed on the transparent substrate layer (2), and the transparent group The occurrence of interference fringes is suppressed by controlling the refractive index difference between the material layer and the antistatic layer to 0.03 or less, and preferably 0.01 or less.
この図1には、透明基材層(2)と帯電防止層(3)の二層の透明層からなる光学フィルム(1)が示されているが、本発明による光学フィルムは三層以上の透明層が形成されているものであってもよい。 FIG. 1 shows an optical film (1) composed of two transparent layers of a transparent substrate layer (2) and an antistatic layer (3). The optical film according to the present invention has three or more layers. A transparent layer may be formed.
そのような三層以上の透明層が形成されてなる本発明による光学フィルム(1)の好ましい具体例としては、例えば図2に示されるように、帯電防止層(3)の表面に他の透明層(好ましくは、例えば低屈折率層(4))が形成されたもの、および図3に示されるように、透明基材層(2)の表面に他の透明層(5)が形成されたもの、等を例示することができる。 As a preferred specific example of the optical film (1) according to the present invention in which three or more transparent layers are formed, for example, as shown in FIG. 2, another transparent layer is formed on the surface of the antistatic layer (3). A layer (preferably, for example, a low refractive index layer (4)) was formed, and as shown in FIG. 3, another transparent layer (5) was formed on the surface of the transparent substrate layer (2). The thing etc. can be illustrated.
図1〜図3に示される本発明による光学フィルム(1)において、透明基材層(2)と帯電防止層(3)とは、両者の屈折率差が0.03以下、好ましくは0.01以下、に制御されていて、主としてこのことによって光学フィルム(1)の干渉縞の発生が抑制されるようになっている。即ち、本発明による光学フィルム(1)に対し、観察者側から到達した光(A)は、その一部が光学フィルムの表面(図1では帯電防止層(3)の表面(33)、図2では低屈折率層(4)の表面(44))で反射するとともに(この反射光を(A1)と図示する)、この帯電防止層(3)を透過した光の一部は透明基材層(2)の表面(22)(即ち、透明基材層(2)と帯電防止層(3)との界面)で反射することになる。ここで、透明基材層(2)と帯電防止層(3)とは屈折率差が上記の通りに制御されていることから、透明基材層(2)の表面(22)における反射光が低いレベルに抑えられ、これに伴い反射光(A1)と平衡方向に反射する反射光(A2)の強度も、反射光(A1)の強度に比べて著しく低いものとなる。このように、反射光(A2)の強度が低いことにより、反射光(A1)と反射光(A2)との干渉が弱くなって、干渉縞の発生が抑制される。透明基材層(2)および帯電防止層(3)のどちらの屈折率が大きくても構わない。 In the optical film (1) according to the present invention shown in FIGS. 1 to 3, the difference in refractive index between the transparent base material layer (2) and the antistatic layer (3) is 0.03 or less, preferably 0.8. It is controlled to be 01 or less, and this mainly suppresses the generation of interference fringes in the optical film (1). That is, a part of the light (A) which has reached the optical film (1) according to the present invention from the observer side is part of the surface of the optical film (the surface (33) of the antistatic layer (3) in FIG. 2 is reflected on the surface (44) of the low refractive index layer (4) (this reflected light is shown as (A1)), and part of the light transmitted through this antistatic layer (3) is a transparent substrate. The light is reflected by the surface (22) of the layer (2) (that is, the interface between the transparent base material layer (2) and the antistatic layer (3)). Here, since the refractive index difference between the transparent base material layer (2) and the antistatic layer (3) is controlled as described above, the reflected light on the surface (22) of the transparent base material layer (2) Along with this, the intensity of the reflected light (A2) reflected in the equilibrium direction with the reflected light (A1) is also significantly lower than the intensity of the reflected light (A1). Thus, since the intensity | strength of reflected light (A2) is low, interference with reflected light (A1) and reflected light (A2) becomes weak, and generation | occurrence | production of an interference fringe is suppressed. Either the transparent substrate layer (2) or the antistatic layer (3) may have a large refractive index.
図4に示されるような従来の光学フィルム(10)の場合には、反射光(A11)が強く反射光(A1)との干渉が強いことから、観察される干渉縞も強いものとなる。 In the case of the conventional optical film (10) as shown in FIG. 4, since the reflected light (A11) is strong and the interference with the reflected light (A1) is strong, the observed interference fringes are also strong.
<透明基材層>
本発明による光学フィルム(1)において、透明基材層(2)としては、透明性、平滑性を備え、異物の混入のないものが好ましく、また、加工上および使用上の理由で機械的強度があるものが好ましい。さらに、ディスプレイの熱が伝わって来るような場合には、耐熱性があるものが好ましい。但し、この透明基材層(2)は、帯電防止層(3)との屈折率差が、前記の通りに、0.03以下、好ましくは0.01以下、に制御されるように、選択する必要がある。透明基材層(2)は、屈折率が1.50〜1.70であるものが好ましい。
<Transparent substrate layer>
In the optical film (1) according to the present invention, the transparent substrate layer (2) preferably has transparency and smoothness and does not contain foreign matter, and has mechanical strength for processing and use reasons. There are preferred. Furthermore, when the heat of the display is transmitted, one having heat resistance is preferable. However, this transparent substrate layer (2) is selected so that the refractive index difference with the antistatic layer (3) is controlled to 0.03 or less, preferably 0.01 or less, as described above. There is a need to. The transparent substrate layer (2) preferably has a refractive index of 1.50 to 1.70.
透明基材層(2)の素材として好ましいものは、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート(TAC)、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ボリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、もしくはポリウレタン等の熱可塑性樹脂のフィルムである。この中で特に好ましいものは、ポリエステル(屈折率1.65)である。 Preferred materials for the transparent substrate layer (2) are cellulose diacetate, cellulose triacetate (TAC), cellulose acetate butyrate, polyester, polyamide, polyimide, polyethersulfone, polysulfone, polypropylene, polymethylpentene, polychlorinated. It is a film of a thermoplastic resin such as vinyl, polyvinyl acetal, polyetherketone, polymethyl methacrylate, polycarbonate, or polyurethane. Of these, polyester (refractive index: 1.65) is particularly preferable.
写真用乳剤を塗布した写真用フィルムの場合によく用いられるポリエステルや、透明性が高く光学的に異方性がないので、やはり写真用フィルムによく用いられるセルローストリアセテート(TAC)等が通常、好ましい。なお、これらの熱可塑性樹脂のフィルムはフレキシブルで使いやすいが、取り扱い時も含めて曲げる必要が全くなく、硬いものが望まれるときは、上記の樹脂の板やガラス板等の板状のものも使用できる。透明基材層(2)の厚さとしては、8〜1000μm程度が好ましいが、板状のものの場合には、この範囲を超えてもよい。なお、透明基材層(2)の特殊な例として、偏光子の両面を透明プラスチックフィルムでサンドイッチした偏光フィルムがあり得る。 Polyester often used in the case of a photographic film coated with a photographic emulsion, and cellulose triacetate (TAC) often used in a photographic film because it is highly transparent and optically anisotropic is usually preferable. . Although these thermoplastic resin films are flexible and easy to use, there is no need to bend them during handling, and when a hard one is desired, plate-like ones such as the above-mentioned resin plates and glass plates can also be used. Can be used. As thickness of a transparent base material layer (2), about 8-1000 micrometers is preferable, but in the case of a plate-shaped thing, you may exceed this range. As a special example of the transparent substrate layer (2), there may be a polarizing film in which both sides of a polarizer are sandwiched with a transparent plastic film.
上記の透明基材層(2)には、その上に必要に応じて設けられる他の層(好ましくは、例えば低屈折率層(4))との接着性の向上のために、通常、行なわれ得る各種の処理、即ち、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行なってプライマー層を形成しておくこともできる。 The transparent substrate layer (2) is usually used for improving the adhesion with other layers (preferably, for example, the low refractive index layer (4)) provided as necessary. In addition to various treatments that can be performed, that is, physical treatment such as corona discharge treatment and oxidation treatment, a primer layer can also be formed by previously applying a coating material called an anchor agent or primer.
<帯電防止層>
本発明による光学フィルム(1)において、帯電防止層(3)の好ましい具体例としては、透明性樹脂中に導電性超微粒子が分散してなるものを例示することができる。但し、この帯電防止層(3)は、前記の透明基材層(2)との屈折率差が、前記の通りに、0.03以下、好ましくは0.01以下、に制御されるように、選択する必要がある。
<Antistatic layer>
In the optical film (1) according to the present invention, as a preferable specific example of the antistatic layer (3), one obtained by dispersing conductive ultrafine particles in a transparent resin can be exemplified. However, the antistatic layer (3) has a refractive index difference from the transparent base layer (2) controlled to 0.03 or less, preferably 0.01 or less, as described above. Need to choose.
ここで、超導電性超微粒子の典型例としては、金属酸化物からなるのものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ZnO(屈折率1.90、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。)、CeO2(1.95)、Sb2O2(1.71)、SnO2(1.997)、ITOと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫(1.95)、In2O3(2.00)、Al2O3(1.63)、アンチモンドープ酸化錫(略称;ATO、2.0)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(略称;AZO、2.0)等を挙げることができる。 Here, typical examples of the superconductive ultrafine particles include those made of a metal oxide. Examples of such metal oxides include ZnO (refractive index 1.90, the numerical value in parentheses below represents the refractive index), CeO 2 (1.95), Sb 2 O 2 (1.71), SnO. 2 (1.997), indium tin oxide (1.95) often referred to as ITO, In 2 O 3 (2.00), Al 2 O 3 (1.63), antimony-doped tin oxide (abbreviation) ATO, 2.0), aluminum-doped zinc oxide (abbreviation: AZO, 2.0), and the like.
超微粒子とは、1ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒径が0.1nm〜0.1μmのものである。 The ultrafine particles refer to those having a so-called submicron size of 1 micron or less, and preferably those having an average particle size of 0.1 nm to 0.1 μm.
本発明において、上記のような金属酸化物の透明導電性超微粒子が分散していると、屈折率の向上も行なえる利点が生じる。導電性を向上させると、帯電防止性が向上するが、表面抵抗値で、108〜109Ω/cm2程度が好ましい。また、屈折率が向上すると、反射防止層を構成する他の層との組合せ、即ち、例えば低屈折率層との組合せにより、反射防止性が増加するが、可視光(450nm〜650nm)に対する平均反射率が、2.5%以下であることが好ましい。 In the present invention, when the transparent conductive ultrafine particles of the metal oxide as described above are dispersed, there is an advantage that the refractive index can be improved. When the conductivity is improved, the antistatic property is improved, but the surface resistance is preferably about 10 8 to 10 9 Ω / cm 2 . In addition, when the refractive index is improved, the antireflective property is increased by the combination with other layers constituting the antireflective layer, that is, the combination with the low refractive index layer, for example, but the average for visible light (450 nm to 650 nm) The reflectance is preferably 2.5% or less.
帯電防止層(3)を構成する透明性樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂もしくは電離放射線硬化性化合物(有機反応性ケイ素化合物を含む)を使用することができる。透明性樹脂としては、熱可塑性の樹脂も使用できるが、熱硬化性樹脂を使用することがより好ましく、もっと好ましいのが、電離放射線硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性化合物を含む電離放射線硬化性組成物である。 As the transparent resin constituting the antistatic layer (3), it is possible to use a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ionizing radiation curable resin, or an ionizing radiation curable compound (including an organic reactive silicon compound). it can. As the transparent resin, a thermoplastic resin can be used, but it is more preferable to use a thermosetting resin, and more preferable is an ionizing radiation curable resin containing an ionizing radiation curable resin or an ionizing radiation curable compound. It is a composition.
電離放射線硬化性組成物としては、分子中に重合性不飽和結合または、エポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー、及び/又はモノマーを適宜に混合したものである。ここで、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は、紫外線又は電子線を用いる。 The ionizing radiation curable composition is a mixture of a polymerizable unsaturated bond or a prepolymer, an oligomer, and / or a monomer having an epoxy group in a molecule. Here, the ionizing radiation refers to an electromagnetic wave or a charged particle beam having an energy quantum capable of polymerizing or crosslinking molecules, and usually an ultraviolet ray or an electron beam is used.
電離放射線硬化性組成物中のプレポリマー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類、ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレート等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物が挙げられる。 Examples of prepolymers and oligomers in ionizing radiation curable compositions include unsaturated polyesters such as unsaturated dicarboxylic acid and polyhydric alcohol condensates, polyester methacrylates, polyether methacrylates, polyol methacrylates, methacrylates such as melamine methacrylates Acrylates such as polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyether acrylate, polyol acrylate, and melamine acrylate, and cationic polymerization type epoxy compounds.
電離放射線硬化性組成物中のモノマーの例としては、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマー、アクリル酸メチル、アクリル酸−2−エチルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メトキシブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類、アクリル酸−2−(N,N−ジエチルアミノ)エチル、アクリル酸−2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル、アクリル酸−2−(N,N−ジベンジルアミノ)メチル、アクリル酸−2−(N,N−ジエチルアミノ)プロピル等の不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類、アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート等の化合物、ジプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート等の多官能性化合物、及び/又は分子中に2個以上のチオール基を有するポリチオール化合物、例えばトリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等を挙げることができる。 Examples of the monomer in the ionizing radiation curable composition include styrene monomers such as styrene and α-methylstyrene, methyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, methoxyethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, and butyl acrylate. Acrylic esters such as methoxybutyl acrylate and phenyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, methoxyethyl methacrylate, ethoxymethyl methacrylate, phenyl methacrylate and lauryl methacrylate , 2- (N, N-diethylamino) ethyl acrylate, 2- (N, N-dimethylamino) ethyl acrylate, 2- (N, N-dibenzylamino) methyl acrylate, acrylic acid- 2- (N, N-diethyla B) Unsaturated substituted amino alcohol esters such as propyl, unsaturated carboxylic acid amides such as acrylamide and methacrylamide, ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol di Compounds such as acrylate, triethylene glycol diacrylate, polyfunctional compounds such as dipropylene glycol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, propylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, and / or two or more thiol groups in the molecule Polythiol compounds having, for example, trimethylolpropane trithioglycolate, trimethylolpropane trithiopropylate, pentaerythritol tet And lathioglycolate.
通常、電離放射線硬化性組成物中のモノマーとしては、以上の化合物を必要に応じて、1種若しくは2種以上を混合して用いるが、電離放射線硬化性組成物に通常の塗布適性を与えるために、前記のプレポリマー又はオリゴマーを5重量%以上、前記モノマー及び/又はポリチオール化合物を95重量%以下とするのが好ましい。 Usually, as the monomer in the ionizing radiation curable composition, the above compounds are used alone or in combination of two or more as required, but in order to give ordinary application suitability to the ionizing radiation curable composition. Further, the prepolymer or oligomer is preferably 5% by weight or more, and the monomer and / or polythiol compound is preferably 95% by weight or less.
電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーが要求されるときは、モノマー量を減らすか、官能基の数が1又は2のアクリレートモノマーを使用するとよい。電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときの耐摩耗性、耐熱性、耐溶剤性が要求されるときは、官能基の数が3つ以上のアクリレートモノマーを使う等、電離放射線硬化性組成物の設計が可能である。ここで、官能基が1のものとして、2−ヒドロキシアクリレート、2−ヘキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレートが挙げられる。官能基が2のものとして、エチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げられる。官能基が3以上のものとして、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。 When flexibility is required when an ionizing radiation curable composition is applied and cured, it is preferable to reduce the amount of monomer or use an acrylate monomer having 1 or 2 functional groups. When wear resistance, heat resistance, and solvent resistance are required when an ionizing radiation curable composition is applied and cured, ionizing radiation curing such as using an acrylate monomer with three or more functional groups It is possible to design a sex composition. Here, 2-hydroxy acrylate, 2-hexyl acrylate, and phenoxyethyl acrylate are exemplified as those having one functional group. Examples of those having 2 functional groups include ethylene glycol diacrylate and 1,6-hexanediol diacrylate. Examples of the functional group having 3 or more include trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and dipentaerythritol hexaacrylate.
電離放射線硬化性組成物を塗布し、硬化させたときのフレキシビリティーや表面硬度等の物性を調整するため、電離放射線硬化性組成物に、電離放射線照射では硬化しない樹脂を添加することもできる。具体的な樹脂の例としては次のものがある。ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル等の熱可塑性樹脂である。中でも、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等の添加がフレキシビリティーの向上の点で好ましい。 In order to adjust physical properties such as flexibility and surface hardness when an ionizing radiation curable composition is applied and cured, a resin that is not cured by ionizing radiation irradiation can be added to the ionizing radiation curable composition. . Specific examples of the resin include the following. Thermoplastic resins such as polyurethane resin, cellulose resin, polyvinyl butyral resin, polyester resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, and polyvinyl acetate. Among these, addition of a polyurethane resin, a cellulose resin, a polyvinyl butyral resin, or the like is preferable from the viewpoint of improving flexibility.
電離放射線硬化性組成物の塗布後の硬化が紫外線照射により行われるときは、光重合開始剤や光重合促進剤を添加する。光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物100重量部に対し、0.1〜10重量部である。 When hardening after application | coating of an ionizing radiation curable composition is performed by ultraviolet irradiation, a photoinitiator and a photoinitiator are added. As the photopolymerization initiator, in the case of a resin system having a radical polymerizable unsaturated group, acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoin, benzoin methyl ether and the like are used alone or in combination. In the case of a resin system having a cationic polymerizable functional group, an aromatic diazonium salt, an aromatic sulfonium salt, an aromatic iodonium salt, a metatheron compound, a benzoin sulfonic acid ester or the like is used as a photopolymerization initiator alone or as a mixture . The addition amount of a photoinitiator is 0.1-10 weight part with respect to 100 weight part of ionizing radiation-curable compositions.
電離放射線硬化性組成物には、次のような有機反応性ケイ素化合物を併用してもよい。 In the ionizing radiation curable composition, the following organic reactive silicon compound may be used in combination.
有機ケイ素化合物の1は、一般式RmSi(OR')nで表せるもので、RおよびR'は炭素数1〜10のアルキル基を表し、Rの添え字mとOR'の添え字nとは、各々が、m+n=4の関係を満たす整数である。 1 of the organosilicon compound can be represented by the general formula R m Si (OR ′) n , R and R ′ represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a subscript m of R and a subscript n of OR ′ Each is an integer satisfying the relationship m + n = 4.
具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−iso−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−ブトキシシラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。 Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, tetrapenta Ethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-propoxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltri Butoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethylpropoxysilane, dimethylbutoxysilane, methyl Silane, methyl diethoxy silane, hexyl trimethoxy silane and the like.
電離放射線硬化性組成物に併用し得る有機ケイ素化合物の2は、シランカップリング剤である。
具体的には、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメトキシシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、オクタデシルジメチル[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等が挙げられる。
2 of the organosilicon compound that can be used in combination with the ionizing radiation curable composition is a silane coupling agent.
Specifically, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ- Aminopropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethoxysilane, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropylmethoxysilane / hydrochloride, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, aminosilane, methyl Methoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, hexamethyldisilazane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, octadecyldimethyl [3- (trimethoxysilyl) propyl ] Ammonium chloride, methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane and the like.
電離放射線硬化性組成物に併用し得る有機ケイ素化合物は、電離放射線硬化性ケイ素化合物である。
具体的には、電離放射線の照射によって反応し架橋する複数の官能基、例えば、重合性二重結合基を有する分子量5,000以下の有機ケイ素化合物が挙げられ、より具体的には、片末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能ポリシロキサン、両末端ビニル官能ポリシロキサン、又はこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラン、もしくはビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられる。
より具体的には、次のような化合物である。
Specific examples include a plurality of functional groups that react and crosslink by irradiation with ionizing radiation, for example, an organosilicon compound having a polymerizable double bond group and a molecular weight of 5,000 or less. Examples thereof include vinyl functional polysilane, vinyl functional polysilane at both ends, vinyl functional polysiloxane at one end, vinyl functional polysiloxane at both ends, vinyl functional polysilane obtained by reacting these compounds, or vinyl functional polysiloxane.
More specifically, it is the following compound.
その他、電離放射線硬化性組成物に併用し得る有機ケイ素化合物としては、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の(メタ)アクリロキシシラン化合物等が挙げられる。 Other organosilicon compounds that can be used in combination with ionizing radiation curable compositions include (meth) acryloxysilane compounds such as 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane and 3- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane. Etc.
帯電防止層(3)は、透明性樹脂、好ましくは上記のような電離放射線硬化性組成物に対し、金属酸化物の透明導電性超微粒子を、透明性樹脂/金属酸化物の透明導電性超微粒子=100/100〜100/900の割合(質量比)で配合し、必要に応じて、光重合開始剤、および溶剤もしくは希釈剤を配合して、塗布用の組成物を調製し、この組成物を用いて、公知のコーティング法により、例えば、透明基材等の被塗布体上に塗布し、塗布に用いた組成物に応じた手段により塗膜を硬化させて得ることができる。組成物として電離放射線硬化性組成物を用いた場合には、その組成により、紫外線もしくは電子線を選択して照射し、塗膜を架橋硬化させる。このようにして得られる帯電防止層(3)の厚さは、30nm〜1μm程度であることが好ましい。 The antistatic layer (3) is made of a transparent resin, preferably an ionizing radiation curable composition as described above, and a transparent conductive ultrafine particle of a metal oxide and a transparent conductive ultrafine conductive resin / metal oxide. Fine particles = blended at a ratio (mass ratio) of 100/100 to 100/900, and if necessary, a photopolymerization initiator and a solvent or diluent are blended to prepare a coating composition, and this composition The product can be obtained by a known coating method, for example, by applying the product onto an object to be coated such as a transparent substrate and curing the coating film by means according to the composition used for the coating. When an ionizing radiation curable composition is used as the composition, ultraviolet rays or electron beams are selected and irradiated depending on the composition to crosslink and cure the coating film. The thickness of the antistatic layer (3) thus obtained is preferably about 30 nm to 1 μm.
このような帯電防止層(3)は、本発明による光学フィルム(1)の傷つきを防止し、耐久性の向上のために、硬質材料によって形成することが好ましい。このような適当な硬質材料としては、従来から光学用フィルムにおいて所謂ハードコート層形成用材料として用いられてきたものを、本発明においても用いることができる。 Such an antistatic layer (3) is preferably formed of a hard material in order to prevent the optical film (1) according to the present invention from being damaged and to improve durability. As such an appropriate hard material, those conventionally used as so-called hard coat layer forming materials in optical films can be used in the present invention.
一般に、ハードコート層は、光学フィルム(1)の表面の傷付きが起きないよう、耐擦傷性を向上させるために有効なものである。傷が付くのは、傷の原因となる物質との硬度の差によるためであり、場合によっては熱可塑性の樹脂を樹脂成分とする組成物で構成してもよいが、一般的には熱硬化性樹脂を樹脂成分とする組成物を硬化させたもので構成することが好ましく、フレキシブルさを備えている点でポリウレタン樹脂等を樹脂成分とする組成物等を用いて構成することが好ましい。 Generally, the hard coat layer is effective for improving the scratch resistance so that the surface of the optical film (1) is not damaged. The scratch is due to the difference in hardness from the substance causing the scratch, and in some cases, it may be composed of a composition containing a thermoplastic resin as a resin component, but in general it is thermosetting. It is preferable to use a composition obtained by curing a composition containing a functional resin as a resin component, and it is preferable to use a composition containing a polyurethane resin or the like as a resin component because it is flexible.
さらに一層の効果を望む場合には、電離放射線硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性化合物を含む電離放射線硬化性組成物を電離放射線の照射によって架橋硬化させたもので構成することが好ましい。
このようなことによって、JIS K5400で示す鉛筆硬度試験で「H」以上の硬度を示す帯電防止層(3)を形成することが好ましい。
When a further effect is desired, the ionizing radiation curable resin or the ionizing radiation curable composition containing the ionizing radiation curable compound is preferably formed by crosslinking and curing by irradiation with ionizing radiation.
By such a thing, it is preferable to form the antistatic layer (3) which shows the hardness more than "H" by the pencil hardness test shown by JISK5400.
<他の透明層>
図2に示される発明による光学フィルム(1)において、他の透明層の特に好ましい具体例としては、低屈折率層(4)を例示することができる。そのような低屈折率層(4)は、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムを含有する透明性樹脂、低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂から構成され、屈折率が1.46以下の、やはり30nm〜1μm程度の薄膜、または、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムの化学蒸着法もしくは物理蒸着法による薄膜で構成することができる。フッ素樹脂以外の透明性樹脂については、帯電防止層(2)を構成するのに用いる透明性樹脂と同様である。
<Other transparent layers>
In the optical film (1) according to the invention shown in FIG. 2, a low refractive index layer (4) can be exemplified as a particularly preferred specific example of the other transparent layer. Such a low refractive index layer (4) is made of a transparent resin containing silica or magnesium fluoride, a fluorine resin which is a low refractive index resin, silica or a fluorine resin containing magnesium fluoride. Further, it can be constituted by a thin film having a refractive index of 1.46 or less, which is also about 30 nm to 1 μm, or a thin film by chemical vapor deposition or physical vapor deposition of silica or magnesium fluoride. About transparent resin other than a fluororesin, it is the same as that of the transparent resin used for comprising an antistatic layer (2).
低屈折率層(4)は、より好ましくは、シリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体で構成することができる。このシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、具体的には、フッ化ビニリデンが30〜90%、ヘキサフルオロプロピレンが5〜50%(以降も含め、百分率は、いずれも質量基準)を含有するモノマー組成物を原料とした共重合により得られるもので、フッ素含有割合が60〜70%であるフッ素含有共重合体100部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物80〜150部とからなる樹脂組成物であり、この樹脂組成物を用いて、膜厚200nm以下の薄膜であって、且つ耐擦傷性が付与された屈折率1.60未満(好ましくは1.46以下)の低屈折率層(4)を形成する。 More preferably, the low refractive index layer (4) can be composed of a silicone-containing vinylidene fluoride copolymer. Specifically, this silicone-containing vinylidene fluoride copolymer is a monomer containing 30 to 90% vinylidene fluoride and 5 to 50% hexafluoropropylene (including percentages below, all in terms of mass). It is obtained by copolymerization using the composition as a raw material, and comprises 100 parts of a fluorine-containing copolymer having a fluorine content of 60 to 70% and 80 to 150 parts of a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group. A low refractive index having a refractive index of less than 1.60 (preferably 1.46 or less) which is a thin film having a film thickness of 200 nm or less and is provided with scratch resistance by using this resin composition. Layer (4) is formed.
低屈折率層(4)を構成する上記のシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、モノマー組成物における各成分の割合が、フッ化ビニリデンが30〜90%、好ましくは40〜80%、特に好ましくは40〜70%であり、又ヘキサフルオロプロピレンが5〜50%、好ましくは10〜50%、特に好ましくは15〜45%である。このモノマー組成物は、更にテトラフルオロエチレンを0〜40%、好ましくは0〜35%、特に好ましくは10〜30%含有するものであってもよい。 The silicone-containing vinylidene fluoride copolymer constituting the low refractive index layer (4) is such that the proportion of each component in the monomer composition is 30 to 90%, preferably 40 to 80%, particularly preferably vinylidene fluoride. Is 40 to 70%, and hexafluoropropylene is 5 to 50%, preferably 10 to 50%, particularly preferably 15 to 45%. This monomer composition may further contain 0 to 40%, preferably 0 to 35%, particularly preferably 10 to 30% of tetrafluoroethylene.
上記のモノマー組成物は、上記のシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体の使用目的および効果が損なわれない範囲において、他の共重合体成分が、例えば、20%以下、好ましくは10%以下の範囲で含有されたものであってもよく、このような、ほかの共重合成分の具体例として、フルオロエチレン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、1,2−ジクロロ−1,2−ジフルオロエチレン、2−ブロモ−3,3,3−トリフルオロエチレン、3−ブロモ−3,3−ジフルオロプロピレン、3,3,3−トリフルオロプロピレン、1,1,2−トリクロロ−3,3,3−トリフルオロプロピレン、α−トリフルオロメタクリル酸等のフッ素原子を有する重合性モノマーを例示することができる。 In the above monomer composition, other copolymer components are, for example, in the range of 20% or less, preferably in the range of 10% or less, within the range in which the intended purpose and effect of the silicone-containing vinylidene fluoride copolymer are not impaired. Specific examples of such other copolymerization components are fluoroethylene, trifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene, 1,2-dichloro-1,2-difluoroethylene, 2-bromo-3,3,3-trifluoroethylene, 3-bromo-3,3-difluoropropylene, 3,3,3-trifluoropropylene, 1,1,2-trichloro-3,3,3-tri Examples thereof include polymerizable monomers having fluorine atoms such as fluoropropylene and α-trifluoromethacrylic acid.
以上のようなモノマー組成物から得られるフッ素含有共重合体は、そのフッ素含有割合が60〜70%であることが必要であり、好ましいフッ素含有割合は62〜70%、特に好ましくは64〜68%である。フッ素含有割合が、このような特定の範囲であることにより、フッ素含有重合体は、溶剤に対して良好な溶解性を有し、かつ、このようなフッ素含有重合体を成分として含有することにより、種々の基材に対して優れた密着性を有し、高い透明性と低い屈折率を有すると共に十分に優れた機械的強度を有する薄膜を形成するので、薄膜の形成された表面の耐傷性等の機械的特性を十分に高いものとすることができ、極めて好適である。 The fluorine-containing copolymer obtained from the monomer composition as described above needs to have a fluorine content of 60 to 70%, preferably a fluorine content of 62 to 70%, particularly preferably 64 to 68. %. When the fluorine content is in such a specific range, the fluorine-containing polymer has good solubility in a solvent, and contains such a fluorine-containing polymer as a component. Since it has excellent adhesion to various substrates, it forms a thin film with high transparency and low refractive index and sufficiently excellent mechanical strength, so the scratch resistance of the surface on which the thin film is formed The mechanical properties such as the above can be made sufficiently high, which is extremely suitable.
このフッ素含有共重合体は、その分子量がポリスチレン換算数平均分子量で5,000〜200,000、特に10,000〜100,000であることが好ましい。このような大きさの分子量を有するフッ素含有共重合体を用いることにより、得られるフッ素系樹脂組成物の粘度が好適な大きさとなり、従って、確実に好適な塗布性を有するフッ素系樹脂組成物とすることができる。フッ素含有共重合体は、それ自体の屈折率が1.45以下、特に1.42以下、更に1.40以下であるものが好ましい。屈折率が1.45を越えるフッ素含有共重合体を用いた場合には、得られるフッ素系塗料により形成される薄膜が反射防止効果の小さいものとなる場合がある。 The fluorine-containing copolymer preferably has a molecular weight of 5,000 to 200,000, particularly 10,000 to 100,000 in terms of polystyrene-equivalent number average molecular weight. By using a fluorine-containing copolymer having such a molecular weight, the viscosity of the resulting fluorine-based resin composition becomes a suitable size, and therefore surely has a suitable coating property. It can be. The fluorine-containing copolymer preferably has a refractive index of 1.45 or less, particularly 1.42 or less, more preferably 1.40 or less. When a fluorine-containing copolymer having a refractive index exceeding 1.45 is used, a thin film formed from the obtained fluorine-based paint may have a small antireflection effect.
このほか、低屈折率層(4)は、SiO2からなる薄膜で構成することもでき、蒸着法、スパッタリング法、もしくはプラズマCVD法等により、またはSiO2ゾルを含むゾル液からSiO2ゲル膜を形成する方法によって形成されたものであってもよい。なお、低屈折率層(4)は、SiO2以外にも、MgF2の薄膜や、その他の素材でも構成し得るが、下層に対する密着性が高い点で、SiO2薄膜を使用することが好ましい。上記の手法のうち、プラズマCVD法によるときは、有機シロキサンを原料ガスとし、他の無機質の蒸着源が存在しない条件で行なうことが好ましく、また、被蒸着体をできるだけ低温度に維持して行なうことが好ましい。 In addition, the low refractive index layer (4) may also be a thin film made of SiO 2, an evaporation method, a sputtering method, or a plasma CVD method or the like, or SiO 2 gel film from the sol solution containing SiO 2 sol It may be formed by a method of forming. The low refractive index layer (4), in addition to SiO 2 also, the or a thin film MgF 2, but may be configured in other materials, in terms of high adhesion to the lower layer, it is preferable to use a SiO 2 thin film . Among the above methods, when the plasma CVD method is used, it is preferable to use organosiloxane as a raw material gas under the condition that there is no other inorganic vapor deposition source, and to maintain the deposition target as low as possible. It is preferable.
下記の実施例は、本発明による光学フィルムの特に好ましいいくつかの具体例について示すものである。 The following examples illustrate some particularly preferred embodiments of the optical film according to the present invention.
<実施例1>
厚さ188μmのポリエステルフィルムA−4300(基材フィルム 東洋紡(株)製 商品名、屈折率1.65)の一方の面に、ES−3(酸化スズ微粒子を分散したハードコート剤(固形分30%)大日本塗料(株)製 商品名、屈折率1.69)とペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)を25対2の比率で混ぜ合わせ、溶剤で希釈した塗料をバーコーターで塗工、乾燥後、紫外線を照射して硬化し、厚さ2μmの帯電防止層(屈折率1.65)を形成した。ついで、上記ハードコート層上にコロイダルシリカ、ジペンタエリスリトールトリアクリレート(DPHA)、反応性を持つポリフッ化ビニリデン誘導体(ダイキン工業(株)製:オプツールAR110(商品名))の3成分を配合した塗料をMIBKで希釈してバーコーターで塗工、乾燥後、窒素パージ下で紫外線を照射して硬化し、厚さ100nmの低屈折率層(屈折率1.43)を形成し、実施例1の低反射帯電防止性ハードコートフィルムを作製した。
<Example 1>
ES-3 (hard coating agent in which tin oxide fine particles are dispersed (solid content 30) on one surface of polyester film A-4300 (base film Toyobo Co., Ltd., product name, refractive index 1.65) having a thickness of 188 μm %) Dainippon Paint Co., Ltd. trade name, refractive index 1.69) and pentaerythritol triacrylate (PETA) mixed in a ratio of 25: 2, coated with a bar coater and dried with a solvent. Then, it was cured by irradiating with ultraviolet rays to form an antistatic layer (refractive index: 1.65) having a thickness of 2 μm. Next, a paint in which three components of colloidal silica, dipentaerythritol triacrylate (DPHA), and a reactive polyvinylidene fluoride derivative (manufactured by Daikin Industries, Ltd .: OPTOOL AR110 (trade name)) are blended on the hard coat layer. Was diluted with MIBK, coated with a bar coater, dried, and then cured by irradiation with ultraviolet rays under a nitrogen purge to form a low refractive index layer (refractive index of 1.43) having a thickness of 100 nm. A low reflection antistatic hard coat film was prepared.
<実施例2>
厚さ188μmのポリエステルフィルムA−4300(基材フィルム 東洋紡(株)製 商品名、屈折率1.65)の一方の面に、ES−3(酸化スズ微粒子を分散したハードコート剤(固形分30%)大日本塗料(株)製 商品名、屈折率1.69)を塗工、乾燥後、紫外線を照射して硬化し、厚さ2μmの帯電防止層(屈折率1.69)を形成した。ついで、上記ハードコート層上にコロイダルシリカ、ジペンタエリスリトールトリアクリレート(DPHA)、反応性を持つポリフッ化ビニリデン誘導体(ダイキン工業(株)製:オプツールAR110(商品名))の3成分を配合した塗料をMIBKで希釈してバーコーターで塗工、乾燥後、窒素パージ下で紫外線を照射して硬化し、厚さ100nmの低屈折率層(屈折率1.43)を形成し、実施例2の低反射帯電防止性ハードコートフィルムを作製した。
<Example 2>
ES-3 (hard coating agent in which tin oxide fine particles are dispersed (solid content 30) on one surface of polyester film A-4300 (base film Toyobo Co., Ltd., product name, refractive index 1.65) having a thickness of 188 μm %) Dainippon Paint Co., Ltd. product name, refractive index 1.69) was applied, dried, and then cured by irradiating with ultraviolet rays to form an antistatic layer (refractive index 1.69) having a thickness of 2 μm. . Next, a paint in which three components of colloidal silica, dipentaerythritol triacrylate (DPHA), and a reactive polyvinylidene fluoride derivative (manufactured by Daikin Industries, Ltd .: OPTOOL AR110 (trade name)) are blended on the hard coat layer. Was diluted with MIBK, coated with a bar coater, dried, and then cured by irradiation with ultraviolet rays under a nitrogen purge to form a low refractive index layer (refractive index 1.43) having a thickness of 100 nm. A low reflection antistatic hard coat film was prepared.
<実施例3>
厚さ188μmのポリエステルフィルムA−4300(基材フィルム 東洋紡(株)製 商品名、屈折率1.65)の一方の面に、ES−3(酸化スズ微粒子を分散したハードコート剤(固形分30%)大日本塗料(株)製 商品名、屈折率1.69)とペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)を20対3の比率で混ぜ合わせ、溶剤で希釈した塗料をバーコーターで塗工、乾燥後、紫外線を照射して硬化し、厚さ2μmの帯電防止層(屈折率1.63)を形成した。ついで、上記ハードコート層上にコロイダルシリカ、ジペンタエリスリトールトリアクリレート(DPHA)、反応性を持つポリフッ化ビニリデン誘導体(ダイキン工業(株)製:オプツールAR110(商品名))の3成分を配合した塗料(屈折率1.43)をMIBKで希釈してバーコーターで塗工、乾燥後、窒素パージ下で紫外線を照射して硬化し、厚さ100nmの低屈折率層(屈折率1.43)を形成し、実施例3の低反射帯電防止性ハードコートフィルムを作製した。
<Example 3>
ES-3 (hard coating agent in which tin oxide fine particles are dispersed (solid content 30) on one surface of polyester film A-4300 (base film Toyobo Co., Ltd., product name, refractive index 1.65) having a thickness of 188 μm %) Dainippon Paint Co., Ltd. trade name, refractive index 1.69) and pentaerythritol triacrylate (PETA) mixed in a ratio of 20: 3, and the paint diluted with solvent is applied with a bar coater and dried. The film was cured by irradiating with ultraviolet rays to form an antistatic layer (refractive index of 1.63) having a thickness of 2 μm. Next, a paint in which three components of colloidal silica, dipentaerythritol triacrylate (DPHA), and a reactive polyvinylidene fluoride derivative (manufactured by Daikin Industries, Ltd .: OPTOOL AR110 (trade name)) are blended on the hard coat layer. (Refractive index 1.43) diluted with MIBK, coated with a bar coater, dried, then cured by irradiation with ultraviolet rays under a nitrogen purge to form a low refractive index layer (refractive index 1.43) having a thickness of 100 nm. The low reflection antistatic hard coat film of Example 3 was produced.
<比較例1>
厚さ188μmのポリエステルフィルムA−4300(基材フィルム 東洋紡(株)製 商品名、屈折率1.65)の一方の面に、ES−3(酸化スズ微粒子を分散したハードコート剤(固形分30%)大日本塗料(株)製 商品名、屈折率1.69)とペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)を3対1の比率で混ぜ合わせ、溶剤で希釈した塗料をバーコーターで塗工、乾燥後、紫外線を照射して硬化し、厚さ2μmの帯電防止層(屈折率1.60)を形成した。ついで、上記ハードコート層上にコロイダルシリカ、ジペンタエリスリトールトリアクリレート(DPHA)、反応性を持つポリフッ化ビニリデン誘導体(ダイキン工業(株)製:オプツールAR110(商品名))の3成分を配合した塗料(屈折率1.43)をMIBKで希釈してバーコーターで塗工、乾燥後、窒素パージ下で紫外線を照射して硬化し、厚さ100nmの低屈折率層(屈折率1.43)を形成し、比較例1の低反射帯電防止性ハードコートフィルムを作製した。
<Comparative Example 1>
ES-3 (hard coating agent in which tin oxide fine particles are dispersed (solid content 30) on one surface of polyester film A-4300 (base film Toyobo Co., Ltd., product name, refractive index 1.65) having a thickness of 188 μm %) Dainippon Paint Co., Ltd. trade name, refractive index 1.69) and pentaerythritol triacrylate (PETA) are mixed at a ratio of 3 to 1, and the paint diluted with solvent is applied with a bar coater and dried. Then, it was cured by irradiating with ultraviolet rays to form an antistatic layer (refractive index of 1.60) having a thickness of 2 μm. Next, a paint in which three components of colloidal silica, dipentaerythritol triacrylate (DPHA), and a reactive polyvinylidene fluoride derivative (manufactured by Daikin Industries, Ltd .: OPTOOL AR110 (trade name)) are blended on the hard coat layer. (Refractive index 1.43) diluted with MIBK, coated with a bar coater, dried, then cured by irradiation with ultraviolet rays under a nitrogen purge to form a low refractive index layer (refractive index 1.43) having a thickness of 100 nm. Then, a low reflection antistatic hard coat film of Comparative Example 1 was produced.
<比較例2>
厚さ188μmのポリエステルフィルムA−4300(基材フィルム 東洋紡(株)製 商品名、屈折率1.65)の一方の面に、KZ7111(ジルコニア微粒子を分散したハードコート剤(固形分50%)JSR(株)製 商品名、屈折率1.72)を溶剤で希釈し、バーコーターで塗工、乾燥後、紫外線を照射して硬化し、厚さ2μmの帯電防止層(屈折率1.72)を形成した。ついで、上記ハードコート層上にコロイダルシリカ、ジペンタエリスリトールトリアクリレート(DPHA)、反応性を持つポリフッ化ビニリデン誘導体(ダイキン工業(株)製:オプツールAR110(商品名))の3成分を配合した塗料(屈折率1.43)をMIBKで希釈してバーコーターで塗工、乾燥後、窒素パージ下で紫外線を照射して硬化し、厚さ100nmの低屈折率層(屈折率1.43)を形成し、比較例2の低反射帯電防止性ハードコートフィルムを作製した。
<Comparative example 2>
KZ7111 (hard coating agent in which zirconia fine particles are dispersed (solid content 50%) JSR) on one surface of polyester film A-4300 (base film Toyobo Co., Ltd., product name, refractive index 1.65) having a thickness of 188 μm The product name, refractive index 1.72 manufactured by Co., Ltd. is diluted with a solvent, coated with a bar coater, dried, then cured by irradiation with ultraviolet rays, and an antistatic layer having a thickness of 2 μm (refractive index 1.72). Formed. Next, a paint in which three components of colloidal silica, dipentaerythritol triacrylate (DPHA), and a reactive polyvinylidene fluoride derivative (manufactured by Daikin Industries, Ltd .: OPTOOL AR110 (trade name)) are blended on the hard coat layer. (Refractive index 1.43) diluted with MIBK, coated with a bar coater, dried, then cured by irradiation with ultraviolet rays under a nitrogen purge to form a low refractive index layer (refractive index 1.43) having a thickness of 100 nm. Then, a low reflection antistatic hard coat film of Comparative Example 2 was produced.
<比較例3>
厚さ188μmのポリエステルフィルムA−4300(基材フィルム 東洋紡(株)製 商品名、屈折率1.65)の一方の面に、PETAを溶剤で希釈し、バーコーターで塗工、乾燥後、紫外線を照射して硬化し、厚さ5μmのハードコート層を形成した。上記ハードコート層上に、ES−3(酸化スズ微粒子を分散したハードコート剤(固形分30%)大日本塗料(株)製 商品名、屈折率1.69)を溶剤で希釈し、バーコーターで塗工、乾燥後、窒素下で紫外線を照射して硬化し、厚さ80nmの帯電防止層(屈折率1.69)を形成した。ついで、上記導電層上にコロイダルシリカ、ジペンタエリスリトールトリアクリレート(DPHA)、反応性を持つポリフッ化ビニリデン誘導体(ダイキン工業(株)製:オプツールAR110(商品名))の3成分を配合した塗料(屈折率1.43)をMIBKで希釈してバーコーターで塗工、乾燥後、窒素パージ下で紫外線を照射して硬化し、厚さ100nmの低屈折率層(屈折率1.43)を形成し、比較例3の低反射帯電防止性ハードコートフィルムを作製した。
1.干渉縞:目視判定 ◎ほとんど無い、○目立たない、×目立つ
2.ヘイズ、全光線透過率:(JIS−K6714)村上色彩技術研究所製反射透過率計HM−150使用
3.視感反応率:島津製作所製 分光反射率測定機PC−3100を使用し、フィルムの裏面を黒処理し、5℃正反射の反射率を測定
4.表面鉛筆硬度:(JIS−K5400) タクマ精工製 簡易鉛筆引っかき試験機を用いて、MITSUBISHI UNI(H〜3H)で1kg荷重の5回ストロークを行い、目視で傷の有無を確認し、傷のつかない回数が4回以上なら合格とする。
<Comparative Example 3>
PETA is diluted with a solvent on one side of a 188 μm thick polyester film A-4300 (base film Toyobo Co., Ltd., product name, refractive index 1.65), coated with a bar coater, dried, and then exposed to ultraviolet light. Was cured by irradiation to form a hard coat layer having a thickness of 5 μm. On the above hard coat layer, ES-3 (hard coat agent in which tin oxide fine particles are dispersed (solid content: 30%), Dainippon Paint Co., Ltd., trade name, refractive index: 1.69) is diluted with a solvent, and bar coater After coating and drying, the film was cured by irradiation with ultraviolet light under nitrogen to form an antistatic layer (refractive index 1.69) having a thickness of 80 nm. Subsequently, a coating material containing three components of colloidal silica, dipentaerythritol triacrylate (DPHA) and reactive polyvinylidene fluoride derivative (manufactured by Daikin Industries, Ltd .: OPTOOL AR110 (trade name)) on the conductive layer ( Refractive index 1.43) is diluted with MIBK, coated with a bar coater, dried, and then cured by irradiation with ultraviolet rays under a nitrogen purge to form a low refractive index layer (refractive index 1.43) having a thickness of 100 nm. Then, a low reflection antistatic hard coat film of Comparative Example 3 was produced.
5.表面抵抗率:三菱化学製 抵抗率計MCP−HT260を用いて測定 5). Surface resistivity: measured using a resistivity meter MCP-HT260 manufactured by Mitsubishi Chemical
1 光学フィルム
2 透明基材層
3 帯電防止層
4 低屈折率層
5 他の透明層
DESCRIPTION OF
Claims (6)
この透明基材層上に形成された帯電防止層とからなり、
前記透明基材層と前記帯電防止層との屈折率差を0.03以下、好ましくは0.01以下に制御することによって干渉縞の発生が抑制されたものであることを特徴とする、光学フィルム。 A transparent substrate layer;
It consists of an antistatic layer formed on this transparent substrate layer,
The occurrence of interference fringes is suppressed by controlling the difference in refractive index between the transparent substrate layer and the antistatic layer to 0.03 or less, preferably 0.01 or less. the film.
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