JP2005202389A - Antireflection laminated body - Google Patents

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JP2005202389A
JP2005202389A JP2004365981A JP2004365981A JP2005202389A JP 2005202389 A JP2005202389 A JP 2005202389A JP 2004365981 A JP2004365981 A JP 2004365981A JP 2004365981 A JP2004365981 A JP 2004365981A JP 2005202389 A JP2005202389 A JP 2005202389A
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Kenji Anami
Koichi Ohata
Tomoya Ohira
Tokiko Tanaka
Toshiaki Yoshihara
俊昭 吉原
浩一 大畑
知也 大衡
淑希子 田中
賢二 阿波
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Toppan Printing Co Ltd
凸版印刷株式会社
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection laminated body excellent in all of transparency, surface hardness, abrasion resistance, adhesion, antistatic property and productivity and realizing the restraint of color slurring. <P>SOLUTION: The antireflection laminated body has a transparent supporting body 1, a hard coat layer 2, a conductive layer 3 and an antireflection layer 4. The conductive layer contains a binder matrix including the hydrolyzate of silicon alkoxide shown by a general expression (I) R<SB>x</SB>Si(OR)<SB>4-x</SB>(provided that R shows an alkyl group and x is an integer satisfying 0≤x≤3 in the expression) and conductive particulates whose particle diameter is 1 to 100nm, and satisfies an expression (II) nd=λ/2 [provided that n shows the refractive index of the conductive layer, d shows the film thickness of the conductive layer, and λ shows the wavelength (nm) of light and is a number satisfying 500≤λ≤600]. Then, both of a difference between the refractive index of the supporting body and that of the hard coat layer and a difference between the refractive index of the hard coat layer and that of the conductive layer are set to ≤4%. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、生産性、光学特性、帯電防止性、密着性および表面硬度や耐擦傷性に優れ、例えば、ディスプレイ(液晶ディスプレイ、CRTディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、プラズマディスプレイ、ELディスプレイ等)の表示画面に適用される反射防止積層体に関するものである。 The present invention, productivity, optical properties, antistatic properties, good adhesion and surface hardness and scratch resistance, for example, a display (LCD, CRT display, projection display, plasma display, EL display, etc.) on a display screen of the it relates the applied antireflection stack.

多くのディスプレイは、室内外を問わず外光などが入射するような環境下で使用される。 Many displays, such as external light regardless of indoor or outdoor is used in an environment such that incident. この外光などの入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、反射像が表示光と混合し表示品質を低下させ、表示画像を見にくくしている。 Incident light such as the outside light is regularly reflected on the display surface and the like, lowers the display quality reflected image is mixed with displayed light, it is difficult to view the display image. このため、反射防止機能を付与するために、金属酸化物の透明薄膜からなる反射防止層を有する多層膜(反射防止膜)が従来用いられている。 Therefore, in order to impart an antireflection function, the multilayer film (antireflection film) having an antireflection layer made of a transparent thin film of a metal oxide has been used conventionally. ここで、金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着(CVD)法や物理蒸着(PVD)法により形成され、特に物理蒸着法である真空蒸着法により形成されている。 Here, the transparent thin film of metal oxide is formed by chemical vapor deposition (CVD) method or a physical vapor deposition (PVD) method, and is formed by a vacuum deposition method is particularly physical vapor deposition. このように形成された反射防止膜は優れた光学特性を示すが、蒸着による形成方法は生産性が低く、大量生産に適していないという問題を抱えていた。 The thus formed anti-reflection film exhibits excellent optical properties, forming method by vapor deposition has a low productivity, it had problems that it is not suitable for mass production.
また、ディスプレイ表面に用いられる反射防止多層膜では、その表面が比較的柔軟であることから、表面硬度を付与する為に、ディスプレイ表面にアクリル多官能化合物の重合体からなるハードコート層を設け、その上に反射防止層を形成するという手法がなされる。 Also, the antireflection multilayer film used in the display surface, since the surface is relatively flexible, in order to impart surface hardness, providing a hard coat layer comprising a polymer of acrylic polyfunctional compounds display surface, method of forming an anti-reflection layer thereon is made. 上記のハードコート層は、アクリル樹脂特有の性質である高い表面硬度、光沢性、透明性、耐擦傷性を有するが、絶縁特性が高いので帯電しやすく、ハードコート層を設けた製品表面への埃等の付着による汚れや、精密機械に使用された場合に、帯電してしまうことにより障害が発生するといった問題を抱えていた。 Hard coat layer described above, high surface hardness which is an acrylic resin specific properties, gloss, transparency, have scratch resistance, so easily charged insulating characteristics is high, to the product surface having a hard coat layer dirt and due to adherence of dust or the like, when used in precision machinery, failure had the problem that generated by thus charged.

そこで、帯電を防止するために、ハードコート層に導電剤を練りこむハードコート練りこみ方式(例えば、特許文献1参照)か、基材とハードコート層の間やハードコート層と反射防止層の間に、表面硬度を落とさない程度に極めて薄く導電層を設ける手法がなされている(例えば、特許文献2、3参照。)。 Therefore, in order to prevent charging, scheme kneading hardcoat kneaded a conductive agent to the hard coat layer (for example, refer to Patent Document 1) or between the substrate and the hard coat layer and the hard coat layer and an antireflection layer during a method of providing a very thin conductive layer so as not to drop the surface hardness it has been made (for example, see Patent documents 2 and 3.). また、その形成方法としては塗工法が用いられ、生産性の向上がはかられている。 Further, as a method of forming the coating method is used, improvement in productivity is grave.
この際、層間に導電層を設ける方式では、積層体において色ムラを防止する目的で、光干渉を制御するために各層の屈折率および膜厚を制御することが必要とされている。 In this case, the method of providing a conductive layer on the interlayer, for the purpose of preventing color irregularity in the laminate, is possible to control the refractive index and thickness of each layer in order to control the optical interference are required.
層間に導電層を設ける場合、主としてアクリル系樹脂からなるバインダー(アクリルバインダー)と導電剤とからなる導電層が用いられている(例えば、特許文献2参照。)。 If interlayer providing the conductive layer, it is primarily conductive layer made of a binder comprising an acrylic resin (acrylic binder) and the conductive agent is used (for example, see Patent Document 2.).
特開平11−92750号公報 JP-11-92750 discloses 特開平11−326602号公報 JP 11-326602 discloses 特開2001−255403号公報 JP 2001-255403 JP

しかしながら、ハードコート層に導電剤を練りこむ方式では、充分に導電性を発現させるために多量の電子導電性微粒子を用いなければならず、その結果ハードコート層の光線透過率が低下してしまう問題が発生した。 However, in the method of kneading a conductive agent to the hard coat layer, it is necessary to use a large amount of electroconductive particles to express a sufficiently conductive, light transmittance of the resulting hard coat layer is lowered Problem has occurred. 一方、導電剤の配合量を減らさずに光線透過率を上げるために、導電剤を練り込んだハードコート層の膜厚を薄くすると、このようなハードコート層を有する積層体において、表面硬度、耐擦傷性等の基材保護の機能が低下してしまう問題があった。 Meanwhile, in order to increase the light transmittance without decreasing the amount of the conductive agent, the thinner the thickness of the hard coat layer Kneaded conductive agent, in the laminate having such a hard coat layer, the surface hardness, scratch resistance function of substrate protection, such as there is a problem that deteriorates.
また、層間に導電層を設ける方式では、塗工方式では各層の膜厚を制御することが困難であった。 Further, in the method of providing a conductive layer on the interlayer, the coating method is difficult to control the thickness of each layer. 真空蒸着方式であれば屈折率の制御は行えるが、生産性が悪かった。 Allows control of the refractive index if a vacuum deposition method, but resulting in poor productivity.
また、アクリルバインダーを用いて導電層を構成した場合、導電層の膜厚が厚くなると膜強度が低下し、導電層と反射防止層の密着性が不十分となり、積層された膜全体の表面硬度、耐擦傷性等が不良となるという問題があった。 Also, when constituting the conductive layer using an acrylic binder, film strength is lowered when the film thickness of the conductive layer is thick, the adhesion of the conductive layer and the antireflection layer becomes insufficient, laminated film overall surface hardness , there is a problem that scratch resistance and the like becomes defective. 一方、基材とハードコート層との間に導電層を設ければ、密着性低下の問題は回避されうるが、充分な導電性が発揮されにくくなるために、導電性を考慮してハードコート層にメッキ、微粒子添加等の特別な処理を行うことが必要であり、製造工程がさらに煩雑となっていた。 On the other hand, by providing a conductive layer between the substrate and the hard coat layer, the problem of adhesion deterioration can be avoided, but since the sufficient conductivity is hardly exhibited, the hard coat in consideration of conductivity it is necessary to perform plating layer, a special treatment of the fine particles added, or the like, the manufacturing process has been a further complication.

本発明は前記課題を解決するためになされたもので、透明性、表面硬度、耐擦傷性、密着性、帯電防止性のいずれにも優れ、色ムラの抑えられた反射防止積層体を生産性よく提供することを目的とする。 The present invention has been made in order to solve the above problems, transparency, surface hardness, scratch resistance, adhesion, superior to any of the antistatic properties, productivity suppressed and antireflection stack color unevenness often an object of the present invention is to provide.

本発明の反射防止積層体は、透明な支持体、ハードコート層、導電層、及び反射防止層を有し、 Antireflection laminate of the present invention has a transparent support, a hard coat layer, the conductive layer, and an antireflection layer,
前記導電層が一般式(I)R Si(OR) 4−x (但し、式中Rはアルキル基を示し、xは0≦x≦3を満たす整数である)で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を含むバインダマトリックスと、粒径1〜100nmの導電性微粒子とを含有し、かつ、式(II)nd=λ/2[但し、nは導電層の屈折率、dは導電層の膜厚、λは光の波長(nm)を示し、500≦λ≦600を満たす数である]を満たし、 Wherein the conductive layer formula (I) R x Si (OR ) 4-x ( wherein R represents an alkyl group, x is an integer satisfying 0 ≦ x ≦ 3) of silicon alkoxide represented by the hydrolysis and a binder matrix comprising decomposition product containing a conductive fine particle size 1 to 100 nm, and the formula (II) nd = λ / 2 [where, n is the refractive index of the conductive layer, d is the film of the conductive layer thickness, lambda represents the wavelength of light (nm), satisfy the numbers satisfying the 500 ≦ λ ≦ 600],
前記支持体の屈折率と前記ハードコート層の屈折率との差、及び前記ハードコート層の屈折率と前記導電層の屈折率との差がいずれも4%以下であることを特徴とする。 The difference in the refractive index of the support and the refractive index of the hard coat layer, and wherein the difference between the refractive index and the refractive index of the conductive layer of the hard coat layer are both 4% or less.

ここで、前記導電性微粒子は、イオン導電性微粒子であることが好ましい。 Here, the conductive fine particles is preferably ion-conductive particles.
前記イオン導電性微粒子は、五酸化アンチモン微粒子であることが好ましい。 The ion-conductive fine particles is preferably antimony pentoxide particles.
前記バインダマトリックスは、一般式(III)R' Si(OR) 4−y (但し、式中Rはアルキル基を示し、R'は反応性官能基を示し、yは1≦y≦3を満たす整数である)で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物をさらに含むことが好ましい。 The binder matrix of the general formula (III) R 'y Si ( OR) 4-y ( wherein R represents an an alkyl group, R' is an represents a reactive functional group, y is a 1 ≦ y ≦ 3 preferably further comprising a hydrolyzate of silicon alkoxide represented by an integer) satisfying.
反応性官能基は親水性反応性官能基であることが好ましく、親水性反応性官能基はエポキシ基またはイソシアネート基の少なくとも一方を有することが好ましい。 Preferably the reactive functional groups are hydrophilic reactive functional group, the hydrophilic reactive functional group preferably has at least one epoxy group or isocyanate group.

また、前記反射防止層は、一般式(I)R Si(OR) 4−x (但し、式中Rはアルキル基を示し、xは0≦x≦3を満たす整数である)で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を含むバインダマトリックスを含有することが好ましい。 Further, the antireflection layer is represented by the general formula (I) R x Si (OR ) 4-x ( wherein R represents an alkyl group, x is an integer satisfying 0 ≦ x ≦ 3) preferably contains a binder matrix comprising silicon alkoxide hydrolyzate.
前記反射防止層は、粒径1〜100nmの低屈折率シリカ粒子を含有することが好ましい。 The antireflection layer preferably contains a low refractive index silica particles having a particle size of 1 to 100 nm.
ここで、反射防止層は、一般式(IV)R'' Si(OR) 4−z (但し、式中R''はアルキル基、フルオロアルキル基又はフルオロアルキレンオキサイド基を有する非反応性官能基を示し、zは1≦z≦3を満たす整数である)で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物をさらに含有することが好ましい。 Here, the antireflection layer has the general formula (IV) R '' z Si (OR) 4-z ( In the formula R 'non-reactive functional' is having an alkyl group, fluoroalkyl group or a fluoroalkylene oxide group represents a group, z is preferably further contains a 1 ≦ z ≦ 3 is an integer satisfying) hydrolyzate of silicon alkoxide represented by.
前記反射防止層は、式(V)n'd'=λ/4[但し、n'は反射防止層の屈折率、d'は反射防止層の膜厚、λは光の波長(nm)を示し、500≦λ≦600を満たす数である]を満たすことが好ましい。 The antireflection layer has the formula (V) n'd '= λ / 4 [where, n' is the refractive index of the antireflection layer, d 'is the thickness of the antireflection layer, lambda is the wavelength of light (nm) of shown, preferably satisfies a number] that satisfies 500 ≦ λ ≦ 600.

前記支持体、前記ハードコート層、前記導電層、及び前記反射防止層は、これらの順に積層されていることが好ましい。 The support, the hard coat layer, the conductive layer, and the antireflection layer is preferably laminated on that order.

本発明の偏光板は、本発明の反射防止積層体を有することを特徴とする。 The polarizing plate of the present invention is characterized by having an antireflection laminate of the present invention.
本発明のディスプレイは、本発明の偏光板を備えることを特徴とする。 Display of the present invention is characterized by comprising the polarizing plate of the present invention.

本発明によれば、透明性、表面硬度、耐擦傷性、密着性、帯電防止性のいずれにも優れ、色ムラの抑えられた反射防止積層体を生産性よく提供することができる。 According to the present invention, transparency, surface hardness, scratch resistance, adhesion, excellent in any of the antistatic properties, the suppressed and antireflection stack color unevenness can be provided with good productivity.

本発明の反射防止積層体は、透明な支持体、ハードコート層、導電層、及び反射防止層を有する。 Antireflection laminate of the present invention has a transparent support, a hard coat layer, the conductive layer, and an antireflection layer.
例えば、図1に示すように、透明な支持体1の上にハードコート層2、導電層3、反射防止層4がこれらの順に積層されて、反射防止積層体5を構成する形態をとることができる。 For example, as shown in FIG. 1, the hard coat layer 2 on a transparent support 1, conductive layer 3, the antireflection layer 4 is laminated on that order, take the form constituting the anti laminate 5 reflecting can.
本発明の反射防止積層体は、透明な支持体、導電層、ハードコート層、反射防止層がこれらの順に積層された形態であってもよい。 Antireflection laminate of the present invention, a transparent support, a conductive layer, a hard coat layer, an antireflection layer may be in a form stacked in that order.

本発明において、前記導電層は、式(II)nd=λ/2[但し、nは導電層の屈折率、dは導電層の膜厚、λは光の波長(nm)を示し、500≦λ≦600を満たす数である]を満たす。 In the present invention, the conductive layer, the formula (II) nd = λ / 2 [where, n is the refractive index of the conductive layer, d is the thickness of the conductive layer, lambda represents the wavelength of light (nm), 500 ≦ meet a number] satisfying lambda ≦ 600. 例えば、図1に示す長さdが、d=λ/2n[但し、nは導電層の屈折率、dは導電層の膜厚、λは光の波長(nm)を示し、500≦λ≦600を満たす数である]を満たす。 For example, the length d shown in FIG. 1, d = lambda / 2n [where, n is the refractive index of the conductive layer, d is the thickness of the conductive layer, lambda represents the wavelength of light (nm), 500 ≦ λ ≦ meet a number] satisfying 600.
前記導電層の膜厚が、λが視感度の高い500〜600nmである条件で、式(II)を満たすことにより、反射防止積層体の視感反射領域の分光反射率がフラットに近い反射率曲線を示すようにし、色味のない反射防止積層体を提供することができる。 Thickness of the conductive layer, under the condition λ is high luminosity 500 to 600 nm, by satisfying the Formula (II), the reflectance spectral reflectance is close to the flat luminous reflectance region of the antireflective multilayer body to indicate a curve, it is possible to provide a color-free anti-reflection stack. 特に、反射率曲線が、可視光の波長のうち広い波長領域に渡ってフラットであるから、製造段階で多少膜厚がばらついても色ムラが発生しにくく、真空蒸着法よりも膜厚の制御が難しい塗工法によっても、色味のない反射防止積層体を安定して提供することが可能となる。 In particular, the reflectivity curve, because it is flat over a wide wavelength region in the wavelength of visible light, color unevenness is less likely to occur even vary somewhat thickness at the manufacturing stage, the control of film thickness than the vacuum deposition method by is difficult coating method, it is possible to provide a color-free anti-reflection laminate stably. すなわち、色味のない(色ムラのない)反射防止積層体を、生産性よく製造することができる。 That is, (no color irregularity) with no tint antireflection stack can be produced with good productivity.

さらに、本発明において、前記導電層は、一般式(I)R Si(OR) 4−x (但し、式中Rはアルキル基を示し、xは0≦x≦3を満たす整数である)で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を含むバインダマトリックスと、粒径1〜100nmの導電性微粒子とを含有する。 Further, in the present invention, the conductive layer of the general formula (I) R x Si (OR ) 4-x ( wherein R represents an alkyl group, x is an integer satisfying 0 ≦ x ≦ 3) and a binder matrix comprising silicon alkoxide hydrolyzate represented in, containing the conductive fine particles having a particle size of 1 to 100 nm.
バインダマトリックスが上記の加水分解物を含むことにより、前記導電層と、ハードコート層あるいは反射防止層との密着性がいずれも優れるので、層間で剥離を生じることなく、支持体と、ハードコート層と、導電層と、反射防止層とがこれらの順に積層された形態をとることができる。 By binder matrix comprises the above-mentioned hydrolyzate, and the conductive layer, the adhesion between the hard coat layer or the antireflection layer are all excellent, without causing peeling between the layers, a support, a hard coat layer When, it is possible to take a conductive layer, a form in which the anti-reflection layer are laminated in that order.
本発明においては、上記のように、支持体と、ハードコート層と、導電層と、反射防止層とがこれらの順に積層されていることが好ましい。 In the present invention, as described above, a support, and the hard coat layer, a conductive layer, it is preferable that the antireflection layer are laminated in that order.
このことにより、本発明の反射防止積層体をディスプレイ等の物品に、支持体を物品側にして設置したり、ディスプレイを構成する基板をもって支持体に代えて用いる場合に、導電層が物品に対してハードコート層よりも外側に位置する形態をとることができ、効率よく帯電防止性を発現することができる。 Thus, an article such as a display antireflection laminate of the present invention, a support or placed in the article side, when used in place of the support with the substrate constituting the display, the conductive layer to the article can also take the form located outside the hard coat layer Te, it can be expressed efficiently antistatic properties.
また、前記導電層が帯電防止に機能するので、ハードコート層に導電剤等を添加する必要がなく、透明性を損なわずにハードコート層の厚みを任意に設定することができ、ハードコート層に由来する基材保護の機能、例えば表面硬度、耐擦傷性を良好に保持させることができる。 Further, since the conductive layer functions to prevent electrification, it is not necessary to add a conductive agent to the hard coat layer, the thickness of the hard coat layer can be set arbitrarily without impairing the transparency of the hard coat layer features of the substrate protection from, for example surface hardness, can be satisfactorily retained scratch resistance.

ここで、ケイ素アルコキシドは、一般式(I)R Si(OR) 4−x (但し、式中Rはアルキル基を示し、xは0≦x≦3を満たす整数である)で示されるものであればよい。 Here, those silicon alkoxide of the general formula (I) R x Si (OR ) 4-x ( wherein R represents an alkyl group, x is the integers satisfying 0 ≦ x ≦ 3) represented by it is sufficient.
このようなケイ素アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−iso−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−プロキシシラン、テトラペンタ−n−ブトキシシラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン Such silicon alkoxide, for example, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra -iso- propoxysilane, tetra -n- propoxysilane, tetra -n- butoxysilane, tetra -sec- butoxysilane, tetra -tert- butoxysilane, tetra-penta-ethoxy silane, Tetorapenta -iso- propoxysilane, Tetorapenta -n- proxy silane, Tetorapenta -n- butoxysilane, Tetorapenta -sec- butoxysilane, Tetorapenta -tert- butoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltri silane, methyl tripropoxysilane, methyl tributoxysilane silane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethyl silane ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。 Dimethyl propoxysilane, dimethyl-butoxy silane, methyl dimethoxy silane, methyl diethoxy silane, hexyl trimethoxy silane and the like.
前記加水分解物は、一般式(I)で示されるケイ素アルコキシドを原料として得られるものであればよく、例えば塩酸にて加水分解することで得られるものである。 The hydrolyzate may be any silicon alkoxide represented by the general formula (I) those obtained using, for example those obtained by hydrolyzing with hydrochloric acid. このような加水分解物は、導電層中において導電性微粒子を分散させて保持することができ、導電性微粒子の伝導性を損なわないものであればよい。 Such hydrolyzate, by dispersing conductive fine particles in the conductive layer can be held, as long as it does not impair the conductivity of the conductive fine particles.
なお、バインダマトリックスにおいては、一般式(I)で示されるケイ素アルコキシド、すなわち加水分解物の原料が存在していても構わない。 In the binder matrix, silicon alkoxide represented by the general formula (I), i.e. may be a raw material for hydrolyzate is present.

前記導電性微粒子としては、電子導電性微粒子、イオン導電性微粒子等が挙げられる。 As the conductive fine particles, an electron conductive particles, and ion conductive fine particles and the like.
電子導電性微粒子としては、例えば、酸化アンチモンドープ酸化錫(ATO)、酸化錫ドープ酸化インジウム(ITO)、酸化スズ等が挙げられる。 Examples of the electron conductive particles, for example, antimony oxide-doped tin oxide (ATO), tin oxide-doped indium oxide (ITO), tin oxide, and the like.
イオン導電性微粒子としては、五酸化アンチモンからなる微粒子(五酸化アンチモン微粒子)、酸化タングステン微粒子等が挙げられる。 The ion conductive fine particles, fine particles (antimony pentoxide particles) consisting of antimony pentoxide include tungsten oxide fine particles.
前記導電性微粒子の粒径が1〜100nmであることにより、導電層の透明性と帯電防止能を両立することができる。 By the particle diameter of the conductive fine particles is 1 to 100 nm, it is possible to achieve both transparency and antistatic performance of the conductive layer. 粒径が100nmを越えると、レイリー散乱によって光が著しく反射され、導電層が白くなって透明性の低下が認められる。 When the particle size exceeds 100 nm, light is greatly reflected by Rayleigh scattering, decrease in transparent electroconductive layer is whitened is observed. また1nm未満では導電性が低下することや、微粒子の凝集による導電層の不均一性等の問題が生じる。 Further and the conductivity decreases is less than 1 nm, problems such non-uniformity of the conductive layer due to aggregation of the fine particles occurs.

本発明の反射防止積層体においては、支持体の屈折率とハードコート層の屈折率との差、及びハードコート層の屈折率と導電層の屈折率との差がいずれも4%以下である。 In the antireflection laminate of the present invention, the difference is either 4% or less of the refractive index and the conductive layer the refractive index of the difference in refractive index between the hard coat layer of the support, and a hard coat layer .
このことにより、層間の光干渉に起因する、反射防止積層体の色ムラの発生を防止することができる。 Thus, due to optical interference between layers, it is possible to prevent the occurrence of color unevenness of the antireflection stack.

以上より、本発明によれば、反射防止積層体の表面硬度、耐擦傷性、密着性、帯電防止性を良好に保持しつつ、即ち基材保護の機能と帯電防止性を保持しながら、色ムラを抑制することができる。 From the above, according to the present invention, the surface hardness of the antireflection stack, scratch resistance, adhesion, while favorably holding the antistatic properties, i.e. while retaining the function as the antistatic substrate protection, color it is possible to suppress the non-uniformity.

本発明の反射防止積層体において、前記支持体としては、種々の有機高分子からなるフィルムもしくはシートを用いることができる。 In the antireflection laminate of the present invention, as the support, it is possible to use a film or sheet made of a variety of organic polymers. 例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材が挙げられ、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリオレフィン系(ポリエチレン、ポリプロピレン等)、ポリエステル系(ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナルタレート等)、セルロース系(トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等)、ポルアミド系(ナイロン−6、ナイロン−66等)、アクリル系(ポリメチルメタクリレート等)、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。 For example, mentioned substrate commonly used for optical members such as a display is, optical characteristics such as a refractive index of the transparency and light, more impact resistance, heat resistance, considering the physical properties such as durability, polyolefin (polyethylene, polypropylene), polyester (polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene Narita rate, etc.), cellulose (triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, cellophane, etc.), Poruamido system (nylon-6, nylon-66, etc. ), acrylic (polymethyl methacrylate), polystyrene, polyvinyl chloride, polyimide, polyvinyl alcohol, polycarbonate, those made of an organic polymer such as ethylene vinyl alcohol is used. 特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。 In particular, polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose, polycarbonate, polymethyl methacrylate is preferred.
さらにはこれらの有機高分子に公知の添加剤、たとえば、帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加し、機能を付加させたものも使用できる。 Further known additives to these organic polymers, for example, antistatic agents, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, plasticizers, lubricants, colorants, antioxidants, added flame retardant, by adding the function It can also be used with.
また、前記支持体は、上記の有機高分子の1種からなるものでも、2種以上の混合物あるいは重合体からなるものでもよく、複数の層を積層させたものであってもよい。 Further, the support may be made of one of the abovementioned organic polymer, may consist of two or more thereof or a polymer, or may be formed by laminating a plurality of layers.

また、支持体の厚みは反射防止積層体を用いる用途によって適宜選択することができ、例えば、液晶ディスプレイ用途の場合は25〜300μmが好ましい。 The thickness of the support can be appropriately selected depending on the application using an antireflection stack, for example, in the case of the liquid crystal display applications preferably 25~300Myuemu. しかしこれに限定されるものではない。 However, the present invention is not limited to this.
また、支持体には、通常、表面保護層が設けられるが、該表面保護層と支持体との密着性を向上させる目的で、支持体の少なくとも一面に表面処理を施すことができる。 Further, the support is usually a surface protective layer is provided, it is possible for the purpose of improving the adhesion between the surface protective layer and the support, the surface treatment on at least one surface of the support. この表面処理方法としては、例えばサンドブラスト法や溶剤処理法などによる表面の凹凸化処理、あるいはコロナ放電処理、クロム酸処理、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などの表面の酸化処理などが挙げられる。 As the surface treatment method, for example, sandblast method or solvent treating method roughening treatment of the surface due to, or corona discharge treatment, chromic acid treatment, flame treatment, hot air treatment, and oxidation treatment of the surface of the ozone-ultraviolet ray irradiation treatment and the like.

前記ハードコート層としては、前記支持体に積層されるものであって、このハードコート層は紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、又はこれらの硬化物をバインダとして、これらに金属酸化物微粒子が分散されたものを用いることができる。 As the hard coat layer, there is laminated on the support, the hard coat layer of the ultraviolet curable resin, electron beam-curable resin, or those of the cured product as a binder, these metal oxide fine particles There can be used dispersed.
紫外線または電子線硬化型樹脂化合物としては、反射防止積層体が設置される基材の表面改質を目的として、スチールウールラビング試験による耐擦傷性、鉛筆ひっかき試験による表面硬度、粘着テープ剥離試験による密着性、最小曲げ試験によるクラック性等の諸特性について、要求されるスペックを満足させるように樹脂を選択して使用することが出来る。 The ultraviolet or electron beam-curing resin compound, for the purpose of surface modification of the substrate on which the antireflection stack is installed, scratch resistance by steel wool rubbing test, the surface hardness by a pencil scratch test, by an adhesive tape peeling test adhesion, for various properties and crack resistance due minimum bending test, select the resin so as to satisfy the required specifications can be used. この化合物は、光重合性プレポリマー、光重合性モノマー、光重合開始剤等を含有するものである。 The compounds are those containing photopolymerizable prepolymer, a photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator, and the like.

前記光重合性プレポリマーとしては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系等のプレポリマーが挙げられる。 As the photopolymerizable prepolymers such as polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, and a prepolymer polyol acrylate, and the like. これらの光重合性プレポリマーは1種用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。 The above photopolymerizable prepolymers may be used singly or may be used in combination of two or more.
また、光重合性モノマーとしては、例えばポリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 As the photopolymerizable monomer, such as poly trimethylol propane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate.
上記の光重合性モノマーの屈折率は1.5前後であるが、屈折率が高い光重合性モノマーとして、さらに、フッ素原子以外のハロゲン原子、環状基、硫黄(S)、窒素(N)、リン(P)等の原子のいずれか1種または2種以上を含むものを例示することができる。 Although the refractive index of the photopolymerizable monomer is around 1.5, as a high refractive index photopolymerizable monomers, further, a halogen atom other than a fluorine atom, a cyclic group, sulfur (S), nitrogen (N), can be exemplified those containing phosphorus (P) 1, two or more any of the atoms and the like. 環状基には芳香族基、複素環基および脂肪族環基が含まれる。 The cyclic group aromatic group and a heterocyclic group and aliphatic cyclic group. 屈折率が高い光重合性モノマーとしては、例えば、ビス(4−メタクリロイルチオフェノキシ)スルフィド、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、テトラブロモビスフェノールAジエポキシアクリレートなどが挙げられる。 The high refractive index photopolymerizable monomers, for example, bis (4-methacryloyl thio phenoxy) sulfide, bisphenoxyethanolfluorene acrylate, tetrabromobisphenol A dimethacrylate epoxy acrylate.
ハードコート層において屈折率の高い光重合性モノマーを用いることにより、ハードコート層の屈折率と導電層の屈折率との差を容易に制御することができる。 By using the high refractive index photopolymerizable monomers in the hard coat layer, it is possible to easily control the difference in refractive index of the hard coat layer and the conductive layer.

特に本発明においては、前記ハードコート層は、(メタ)アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを主成分とする重合体からなることが好ましい。 Particularly in the present invention, the hard coat layer is preferably made of a polymer comprising a polyfunctional monomer having a (meth) acryloyloxy group. (メタ)アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを主成分とする重合体は表面硬度に優れるため好ましく、また重合体自体の屈折率が低いので、ハードコート層の屈折率と導電層の屈折率との差を容易に制御することができる。 (Meth) acrylic polymer comprising a polyfunctional monomer having an acryloyloxy group is preferably because of its excellent surface hardness, and since the refractive index of the polymer itself is low, the refractive index of the refractive index and the conductive layer of the hard coat layer it can easily control the difference between.
ここで、主成分とするとは、前記ハードコート層を成す重合体を100質量%として、(メタ)アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーが10〜100質量%含まれることを示す。 Here, the main component, a polymer constituting the hard coat layer as 100 wt%, indicating that it contains the polyfunctional monomer is 10 to 100 wt% with (meth) acryloyloxy group.
(メタ)アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを主成分とする重合体は、例えば、(メタ)アクリロイルオキシ基を有する多官能性の光重合性プレポリマー、(メタ)アクリロイルオキシ基を有する多官能性の光重合性モノマーを重合させて得ることができる。 Polymer comprising a polyfunctional monomer having a (meth) acryloyloxy group include (meth) acryloyl polyfunctional photopolymerizable prepolymer having an oxy group, multi-having (meth) acryloyloxy group functional photopolymerizable monomers can be a obtained by polymerizing. このような光重合性プレポリマーとしては、ウレタンアクリレート系、光重合性モノマーとしては、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート等が挙げられる。 Such photopolymerizable prepolymers, urethane acrylate, as the photopolymerizable monomer, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, bisphenoxyethanolfluorene acrylate.

光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。 Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones.
また、光増感剤としてn−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ− n−ブチルホスフィン等を光重合性プレポリマー、光重合性モノマーに混合して用いることができる。 Further, n- butylamine as photosensitizer, triethylamine, poly - n-butylphosphine or the like can be used by mixing a photopolymerizable prepolymer, a photopolymerizable monomer.

ハードコート層においては、さらに金属酸化物微粒子を添加することができる。 In the hard coat layer, it can be further added metal oxide fine particles. 金属酸化物微粒子の種類は特に制限は無いが、例えばSiO 、TiO 、Al 、ZnO、Sb 、ZrO 等を用いることができる。 Type of the metal oxide fine particles is not particularly limited but may be, for example, SiO 2, TiO 2, Al 2 O 3, ZnO, Sb 2 O 5, ZrO 2 and the like.
金属酸化物微粒子を添加することにより、ハードコート層の屈折率を制御することが可能となり、あわせて導電層との密着性およびハードコート層の硬度を向上させることができる。 By adding the metal oxide fine particles, it is possible to control the refractive index of the hard coat layer, it is possible to improve the hardness of the adhesion and hard coat layer and the combined conductive layer.
ハードコート層において金属酸化物微粒子を用いる場合、金属酸化物微粒子の表面に表面処理を施して、バインダである有機化合物との親和性を高めることが好ましい。 When a metal oxide fine particles in the hard coat layer is subjected to a surface treatment on the surface of the metal oxide fine particles, it is preferable to increase the affinity between the organic compound is a binder. 表面処理は、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理表面処理と、カップリング剤を使用する化学的表面処理に分類できる。 Surface treatment can be classified into chemical surface treatment using a physical surface treatment such as plasma discharge treatment and corona discharge treatment, a coupling agent. 化学的表面処理のみ、または物理的/化学的表面処理両方で実施することが好ましい。 Chemical surface treatment only, or it is preferably carried out in both the physical / chemical surface treatment.
カップリング剤としては、オルガノアルコキシメタル化合物であるシランカップリング剤やチタンカップリング剤などが好ましい。 As the coupling agent, organoalkoxysilane coupling agent or titanium coupling agent is a metal compound and the like are preferable. カップリング剤による表面処理には、触媒として無機酸(例えば、硫酸、塩酸、硝酸、クロム酸、次亜塩素酸、炭酸など)、有機酸(例、酢酸、ポリアクリル酸、ポリグルタミン酸など)を用いることが好ましい。 The surface treatment with the coupling agent, a catalyst as inorganic acids (e.g., sulfuric, hydrochloric, nitric, chromic acid, hypochlorous acid, and carbonic), organic acids (e.g., acetic acid, polyacrylic acid, polyglutamic acid) it is preferably used.

ハードコート層の硬度は、反射防止積層体に必要な耐擦傷性を備えるために、鉛筆硬度でH以上であることが好ましい。 The hardness of the hard coat layer, in order to provide scratch resistance necessary for the anti-reflection stack, it is preferable that a pencil hardness of H or more.

導電層において、前記導電性微粒子としては、イオン導電性微粒子を用いることが好ましい。 In the conductive layer, as the conductive fine particles, it is preferable to use an ion conductive fine particles.
イオン導電性微粒子は比較的低い密度の分布状態で導電性を示すことができるため、イオン導電性微粒子を用いることによって、導電層の透明性を非常に良好に維持しつつ、かつ導電層の膜厚を任意に制御して後述の式(II)を満たすようにさせながら、充分な導電性を発現させることができる。 For ion-conductive fine particles which can exhibit conductivity in the distribution of relatively low density, by using the ion conductive fine particles, while very well maintaining transparency of the conductive layer, and the film of the conductive layer while the thickness of the arbitrarily controlled by so as to satisfy the formula (II) described below, it is possible to express sufficient conductivity. また、導電層におけるイオン導電性微粒子の含有量を、導電性が発現される範囲で任意に制御することができるので、導電層の屈折率を容易に制御することができ、導電層の屈折率をハードコート層の屈折率に近づけて、これらの層の間の光干渉を抑えることができる。 Further, the content of ionic conductive fine particles in the conductive layer, since the conductivity can be arbitrarily controlled within a range to be expressed, it is possible to easily control the refractive index of the conductive layer, the refractive index of the conductive layer the closer the refractive index of the hard coat layer, it is possible to prevent light interference between the layers. したがって、色ムラをさらに安定して防止することができる。 Therefore, it is possible to prevent color unevenness further stably. なお、導電層の屈折率は、例えば、導電層におけるイオン導電性微粒子の含有率が高いほど、導電層の屈折率は高くなることにより制御できる。 The refractive index of the conductive layer, for example, the higher the content of ionic conductive fine particles in the conductive layer, the refractive index of the conductive layer can be controlled by higher.

イオン導電性微粒子としては、五酸化アンチモン微粒子を用いることが好ましい。 The ion conductive fine particles, it is preferred to use antimony pentoxide particles.
五酸化アンチモンはイオン導電性の物質であり、なおかつ結晶水を有するため、酸化アンチモンドープ酸化錫(ATO)、酸化錫ドープ酸化インジウム(ITO)等の電子導電性微粒子と比較して少ない配合量で導電性を発現すると共に、湿度環境による影響を受けにくい。 Antimony pentoxide is ionically conductive material, for yet having water of crystallization, antimony oxide-doped tin oxide (ATO), a small amount compared with the electron conductive particles such as tin oxide doped indium oxide (ITO) with expressing conductive, less sensitive to humidity. したがって、反射防止積層体に永久導電性を発現させることができる。 Therefore, it is possible to express the permanent conductive antireflection stack.
また、他の金属酸化物よりも比較的屈折率の低い材料である五酸化アンチモン微粒子(屈折率1.64)を用い、その含有量を制御することで、導電層の屈折率制御を広範囲に渡って特に精度よく行うことができ、導電層の屈折率をハードコート層の屈折率に近づけることが可能となる。 Further, using the antimony pentoxide particles (refractive index 1.64) is a material having a low comparatively refractive index than other metal oxides, by controlling the content thereof, the refractive index control of the conductive layer extensively over to be able to perform well in particular precision, the refractive index of the conductive layer can be made closer to the refractive index of the hard coat layer. すなわち、ハードコート層と導電層の間の光干渉を安定して抑制することができ、反射防止積層体において色ムラをさらに容易に防止することができる。 That is, it is possible to stably suppress light interference between the hard coat layer and the conductive layer, it is possible to more easily prevent color unevenness in an antireflection stack.

導電性微粒子の含有量は特に制限はないが、導電性の発現と導電層の屈折率調整の面から、導電性微粒子とバインダマトリックスとの合計100質量%に対して20〜80質量%の範囲が好ましく、30〜70質量%の範囲が導電性と層の強度とのバランスの面でさらに好適である。 The content of the conductive fine particles is not particularly limited, from the viewpoint of the refractive index adjustment conductive expression and the conductive layer, the total 100 wt% of the conductive fine particles and a binder matrix of 20 to 80 wt% range is preferably, more preferred range of 30 to 70% by weight in terms of the balance between the intensity of the electric conductivity and the layer. また、導電性微粒子のバインダマトリックス中における分散性を向上するために、バインダマトリックスに分散剤を添加することができる。 Further, in order to improve the dispersibility in binder matrix of the conductive fine particles may be added a dispersing agent in a binder matrix. 分散剤としては、特に制限はなく、シリコーン系の分散剤を用いることが好ましい。 The dispersing agent is not particularly limited, it is preferable to use a dispersant of silicone.

導電層において、前記バインダマトリックスは、一般式(III)R' Si(OR) 4−y (但し、式中Rはアルキル基を示し、R'は反応性官能基を示し、yは1≦y≦3を満たす整数である)で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物をさらに含むことが好ましい。 In the conductive layer, wherein the binder matrix of the general formula (III) R 'y Si ( OR) 4-y ( wherein R represents an an alkyl group, R' is an represents a reactive functional group, y is 1 ≦ preferably further comprising a hydrolyzate of silicon alkoxide represented by an integer) satisfying y ≦ 3.
上記一般式(III)で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物は、一般式(III)で示されるケイ素アルコキシドを原料として得られるものであればよく、例えば塩酸にて加水分解することで得られるものである。 Hydrolyzate of silicon alkoxide represented by the general formula (III), which may be any of silicon alkoxide represented by the general formula (III) those obtained as a starting material, is obtained by hydrolyzing, for example, by hydrochloric acid it is. 上記一般式(III)で示されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン等が好ましい。 Examples of the silicon alkoxide represented by the general formula (III), for example, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-isocyanate propyl trimethoxysilane and the like are preferable.

前記バインダマトリックスが、上記一般式(III)で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物、すなわち、上記の反応性官能基R'を有する加水分解物をさらに含むことで、積層体の導電性を損なわずに、導電層と、ハードコート層あるいは反射防止層との密着性をさらに向上させることができる。 The binder matrix is ​​a hydrolyzate of silicon alkoxide represented by the general formula (III), i.e., by further comprising a hydrolyzate having the above reactive functional group R ', without impairing the conductivity of the laminate to a conductive layer, it is possible to further improve the adhesion between the hard coat layer or an antireflection layer.
なお、前記バインダマトリックスにおいては、一般式(III)で示されるケイ素アルコキシドが存在していても構わない。 In the said binder matrix, or may be a silicon alkoxide represented by the general formula (III) is present.
上記一般式(I)で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物と、上記一般式(III)で示されるケイ素アルコキシドとの配合比は、一般式(I)で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を99〜84mol%に対して、一般式(III)で示されるケイ素アルコキシドが1〜16mol%であることが、導電層の硬度を低減させないために好ましい。 And silicon alkoxide hydrolyzate represented by the general formula (I), the mixing ratio of silicon alkoxide represented by the general formula (III), the general formula (I) a hydrolyzate of silicon alkoxide represented by 99 against ~84mol%, formula (III) silicon alkoxide represented by it to be 1~16mol%, preferably in order not to reduce the hardness of the conductive layer.

本発明において、ハードコート層および導電層には表面処理が施されていることが好ましい。 In the present invention, it is preferable that the surface treatment is applied to the hard coat layer and a conductive layer.
表面処理を施すことにより、各層の表面の表面張力を変化させることができるため、ハードコート層と導電層、導電層と反射防止層の密着性をそれぞれ向上させることができる。 By surface treatment, it is possible to change the surface tension of each layer of the surface, the hard coat layer and the conductive layer, conductive layer and the adhesion of the antireflection layer can be improved, respectively. したがって、反射防止積層体の表面硬度、耐擦傷性をさらに向上させることができる。 Therefore, it is possible to further improve the surface hardness, scratch resistance of the antireflection stack.
また、各層の表面上の異物を低減させることができるため、外観において欠陥の無い反射防止積層体を提供することができる。 Moreover, since it is possible to reduce the foreign matter on the surface of each layer, it is possible to provide a no antireflection stack defects in appearance.
表面処理法としては、例えば、アルカリ処理、プラズマ処理、レーザー処理、コロナ処理等を行うことができる。 Examples of the surface treatment method, for example, alkali treatment, plasma treatment, laser treatment, it is possible to perform a corona treatment or the like.

前記反射防止層としては、その屈折率が、反射防止積層体において隣接する層の屈折率よりも小さいものであればよく、従来の反射防止層において用いられている材料からなるものを用いることができる。 As the antireflection layer, the refractive index, as long smaller ones than the refractive index of the layer adjacent the antireflection stack, be those made of materials used in the conventional antireflection layer it can.
例えば、支持体、ハードコート層、導電層、反射防止層がこれらの順に積層されている場合は、反射防止層は、導電層よりも屈折率の低いものであればよい。 For example, the support, the hard coat layer, a conductive layer, if the anti-reflection layer are laminated in that order, the antireflection layer may be one having a refractive index lower than that of the conductive layer. また、支持体、導電層、ハードコート層、反射防止層がこれらの順に積層されている場合は、反射防止層はハードコート層よりも屈折率の低いものであればよい。 The support, the conductive layer, a hard coat layer, if the anti-reflection layer are laminated in that order, the antireflection layer may be one having a refractive index lower than that of the hard coat layer.
反射防止層としては、例えば、金属酸化物微粒子からなる透明薄膜、フッ素化アクリル樹脂からなる透明薄膜等を用いることができるが、特に、反射防止層が、一般式(I)R Si(OR) 4−x (但し、式中Rはアルキル基を示し、xは0≦x≦3を満たす整数である)で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を含むバインダマトリックスを含有するものが好ましい。 The antireflection layer, for example, a transparent thin film made of metal oxide fine particles, may be used a transparent thin film or the like made of fluorinated acrylic resins, in particular, the anti-reflection layer, the general formula (I) R x Si (OR ) 4-x (wherein R represents an alkyl group, x is preferably contains a binder matrix comprising 0 ≦ x ≦ 3 is an integer satisfying) hydrolyzate of silicon alkoxide represented by. このことにより、積層体の強度をさらに向上させることができる。 Thus, it is possible to further improve the strength of the laminate.
また、反射防止層は、粒径1〜100nmの低屈折率シリカ粒子を含有することが好ましい。 Moreover, the anti-reflection layer preferably contains a low refractive index silica particles having a particle size of 1 to 100 nm. 反射防止層において低屈折率シリカ粒子を用いると、低反射率で、かつ防汚性を備えた反射防止積層体を提供することができる。 With a low refractive index silica particles in the antireflection layer, it is possible to provide an antireflection multilayer body provided with a low-reflectance, and antifouling property.
反射防止層は、一般式(IV)R'' Si(OR) 4−z (但し、式中R''はアルキル基、フルオロアルキル基又はフルオロアルキレンオキサイド基を有する非反応性官能基を示し、zは1≦z≦3を満たす整数である)で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物をさらに含有することが、反射防止積層体の低反射率、および防汚性をさらに向上させるために好ましい。 Antireflection layer, the general formula (IV) R '' z Si (OR) 4-z ( In the formula R '' represents a non-reactive functional group with an alkyl group, fluoroalkyl group or a fluoroalkylene oxide group , z is able to further contain 1 ≦ z ≦ 3 is an integer satisfying) hydrolyzate of silicon alkoxide represented by the preferred in order to lower the reflectance of the antireflection stack, and the antifouling properties further improved .
一般式(IV)で示されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、オクタデシルトリメトキシシラン、1H,1H,2H,2H‐パーフルオロオクチルトリメトキシシラン等が挙げられる。 Examples of the silicon alkoxide represented by the general formula (IV), for example, octadecyl trimethoxysilane, IH, IH, 2H, 2H-perfluorooctyl trimethoxysilane and the like.

低屈折率シリカ粒子は細孔を有するために、シリカ粒子自体の屈折率は、通常用いられる金属酸化物微粒子の屈折率と比較して低く、例としては、シリカ微粒子の屈折率が1.46であるのに対して、低屈折率シリカ粒子の屈折率は1.45以下である。 In order to have a low refractive index silica particles pores, the refractive index of the silica particles themselves is low compared to metal oxide refractive index of the fine particles normally used, as an example, the refractive index of the silica fine particles 1.46 , whereas the in, the refractive index of the low refractive index silica particles is 1.45 or less.
低屈折率シリカ粒子が細孔を有することにより、低屈折率シリカ粒子をバインダマトリックスに添加した際に、例えば屈折率1.5のバインダマトリックスが屈折率1.00の低屈折率シリカ粒子の細孔へ浸透することが防止され、粒子の屈折率上昇を防ぐことが出来る。 By having a low refractive index silica particles pores, when the low refractive index silica particles were added to the binder matrix, for example, a binder matrix having a refractive index of 1.5 has a low refractive index silica particles having a refractive index 1.00 fine it is prevented from penetrating into the pores, it is possible to prevent the increase in the refractive index of the particles.
低屈折率シリカ粒子の粒径を1〜100nmとすることにより、低い反射率とともに、光透過率の低下や層の着色のない反射防止層を構成することができる。 By the particle size of the low refractive index silica particles with 1 to 100 nm, with a low reflectivity, it is possible to configure the non-colored anti-reflection layer and a decrease in the layer of light transmittance. 粒径が100nmを越えると、レイリー散乱によって光が著しく反射され、反射防止層が白くなって透明性の低下が認められる。 When the particle size exceeds 100 nm, significantly reflected light by Rayleigh scattering is observed a decrease in transparency turned white antireflective layer. また1nm未満では細孔を有する粒子の作製が困難であることや、微粒子の凝集による反射防止層の不均一性等の問題が生じる。 Further and that production of particles having pores is difficult, such as non-uniformity of the antireflection layer by aggregation of the fine particles problems is less than 1 nm.

反射防止層に低屈折率シリカ粒子を用いる場合、その添加量は特に制限はないが、層強度と低反射率を実現するために10〜80質量%の範囲が好ましく、特に20〜70質量%の範囲が好適である。 When using a low refractive index silica particles in the antireflection layer, the addition amount is not particularly limited, preferably in the range of 10 to 80 wt% in order to achieve the layer strength and a low reflectivity, in particular 20 to 70 wt% range of is preferred.
また、低屈折率シリカ粒子のバインダマトリックス中における分散性を向上するために、バインダマトリックス中に分散剤を添加することができる。 Further, in order to improve the dispersibility in binder matrix in the low refractive index silica particles, it is possible to add a dispersing agent in a binder matrix. 分散剤としては、特に制限はなく、シリコーン系の分散剤を用いることが好ましい。 The dispersing agent is not particularly limited, it is preferable to use a dispersant of silicone.

前記反射防止層は、式(V)n'd'=λ/4[但し、n'は反射防止層の屈折率、d'は反射防止層の膜厚、λは光の波長(nm)を示し、500≦λ≦600を満たす数である]を満たすことが、さらに安定して色味のない反射防止積層体を提供するために好ましい。 The antireflection layer has the formula (V) n'd '= λ / 4 [where, n' is the refractive index of the antireflection layer, d 'is the thickness of the antireflection layer, lambda is the wavelength of light (nm) of indicated, it is preferable to provide a more stable with no tint antireflection laminate satisfying a number] that satisfies 500 ≦ λ ≦ 600.

本発明の反射防止積層体は、例えば、前記ハードコート層、前記導電層、前記反射防止層を成す材料の分散液を各々調製して、それぞれ第一の塗布液、第二の塗布液、第三の塗布液とし、前記支持体上に、第一、第二、第三の塗布液をこれらの順に塗工して製造することができる。 Antireflection laminate of the present invention, for example, the hard coat layer, the conductive layer, wherein by respectively preparing a dispersion of the material constituting the anti-reflection layer, the first coating liquid each second coating solution, the a third coating liquid, on the support, the first, second, and third coating solution can be prepared by coating these sequentially.
まず、前記支持体に第一の塗布液を塗工し、乾燥させてハードコート層を作製する。 First, coating the first coating solution to the support, to prepare a hard coat layer and dried. ついで、該ハードコート層に第二の塗布液を塗工し、乾燥させて導電層を作製する。 Then applying a second coating liquid on the hard coat layer, to prepare a conductive layer and dried. その後、該導電層に第三の塗布液を塗工し、乾燥させて反射防止層を作製することで、反射防止積層体が得られる。 Thereafter, coating the third coating solution conductive layer, by manufacturing the anti-reflection layer is dried, the antireflection stack is obtained.

ハードコート層形成用である第一の塗布液において、各成分の配合順序については特に制限はなく、各種溶媒中に、例えば金属酸化物微粒子と、紫外線または電子線硬化型樹脂化合物とを加えて混合することにより調製できる。 In the first coating solution is for forming a hard coat layer is not particularly limited for blending order of each component, in various solvents, for example in addition to the metal oxide fine particles and an ultraviolet or electron beam-curing resin compound It can be prepared by mixing.
溶媒としては、特に限定することはないが、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、トルエン、キシレン等の芳香族化合物類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類等を挙げることができる。 The solvent is not any particular limitation, methyl ethyl ketone, ketones such as acetone and methyl isobutyl ketone, methyl acetate, ethyl acetate, esters such as butyl acetate, toluene, aromatic compounds such as xylene, diethyl ether, ethers such as tetrahydrofuran, can be mentioned methanol, ethanol, an alcohol such as isopropanol.
また、第一の塗布液には、所望により消泡剤やレベリング剤等の公知の添加剤を配合することができる。 Further, in the first coating solution may be blended with known additives such as defoaming agents and leveling agents if desired.
第一の塗布液の固形分濃度については特に制限はなく、塗工性、乾燥性、経済性等の面から10〜70質量%の範囲が好ましく、特に30〜50質量%の範囲が好適である。 No particular limitation is imposed on the solid content of the first coating solution, coating properties, drying properties, preferably in the range of 10 to 70 wt% from the viewpoint of economy and the like, it is preferable particularly from 30 to 50 wt% is there.

第一の塗布液を前記支持体に塗工する塗工方法については、特に制限はなく、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法等を用いることができる。 For coating method of applying the first coating solution to the support is not particularly limited, bar coating, knife coating, roll coating, blade coating, can be used die coating method or the like.
ハードコート層の厚さは、第一の塗布液の固形分濃度および硬化後におけるハードコート層の密度を用いて、必要な第一の塗布液の塗工量を算出することにより、制御する事ができる。 The thickness of the hard coat layer using the density of the hard coat layer after the solid content concentration and the curing of the first coating solution, by calculating the coating amount of the first coating solution required, be controlled can.
また、乾燥後の塗工層に窒素パージした雰囲気下で紫外線および電子線を照射して硬化させ、酸素障害が少なく、表面硬度の高いハードコート層を形成しても良い。 Also, ultraviolet and electron beam cured by irradiation under an atmosphere of nitrogen purged the coating layer after drying, oxygen failure is small and may be formed with a high surface hardness hard coat layer.
硬化に用いる紫外線照射装置については、特に制限はなく、例えば高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、無電極ランプ等を用いた公知の紫外線照射装置を使用することができる。 The ultraviolet irradiation apparatus used for curing are not particularly limited, can be used, for example, a high-pressure mercury lamp, xenon lamp, metal halide lamp, a known ultraviolet irradiation apparatus using an electrodeless lamp. 紫外線照射量は、通常100〜800mJ/cm 程度である。 UV irradiation dose is usually 100 to 800 mJ / cm 2 or so. 電子線照射装置については特に制限はなく、加速電圧は通常50〜300kVである。 No particular limitation is imposed on the electron beam irradiation apparatus, the accelerating voltage is typically 50 to 300 kV.
このようにして得られたハードコート層は、これを設置する基材との密着性、表面硬度、屈曲性、耐擦傷性、透明性に優れたものとなる。 Thus a hard coat layer obtained by the adhesion to a substrate to be installed it, surface hardness, flexibility, scratch resistance, and excellent transparency.

導電層の形成方法としては、第二の塗布液を、上記第一の塗布液と同様の各種塗工方法により、硬化膜厚が前記式(II)を満たすように塗工し、乾燥処理を行うことができる。 As a method for forming the conductive layer, the second coating solution, by the first same various coating methods and coating solution, a cured film thickness was applied so as to satisfy the formula (II), the drying process It can be carried out. このとき、第二の塗布液における導電性微粒子の配合量を制御することによって、導電層の屈折率を容易に制御することができ、導電層とハードコート層の屈折率差を容易に制御することができる。 At this time, by controlling the amount of the conductive fine particles in the second coating liquid, the refractive index of the conductive layer can be easily controlled, to easily control the difference in refractive index between the conductive layer and the hard coat layer be able to.
第二の塗布液において紫外線または電子線硬化型樹脂化合物を用いた場合は、乾燥後に、紫外線または電子線照射を行う。 In the case of using ultraviolet or electron beam-curing resin compound in the second coating solution, after drying, with ultraviolet or electron beam irradiation.

反射防止層の形成方法としては、第三の塗布液を、上記第一の塗布液と同様の各種塗工方法により塗工し、乾燥処理を行うことができる。 As a method for forming the anti-reflection layer, a third coating solution was applied by the first same various coating methods and coating solution, it is possible to perform the drying process. 第三の塗布液において紫外線または電子線硬化型樹脂化合物を用いた場合は、紫外線または電子線照射を行う。 In the case of using ultraviolet or electron beam-curing resin compound in the third coating solution with ultraviolet or electron beam irradiation.

本発明の反射防止積層体を偏光板に適用することができる。 It can be applied to the antireflective multilayer body of the present invention to a polarizing plate. 例えば、ディスプレイ用として通常用いられる偏光板に、上記第一、第二、第三の塗布液を塗工することにより、該偏光板をもって透明な支持体とした本発明の反射防止積層体、及びそれを備えた偏光板を作製することができる。 For example, the normal polarizing plate used for the display, the first, second, by applying a third coating liquid, an anti-reflection laminate of the present invention which was the transparent support with the polarizing plate, and it can be produced a polarizing plate having the same. このような偏光板は、透明性、表面硬度、耐擦傷性、帯電防止性のいずれにも優れたものとなる。 Such polarizing plate, transparency, surface hardness, scratch resistance, and excellent in any of the antistatic properties.

さらに、上記の偏光板を備えるディスプレイを構成することができる。 Furthermore, it is possible to construct a display comprising the polarizing plate. このようなディスプレイの画像表示方式としては、特に限定されず、CRTディスプレイ、液晶(LCD)ディスプレイ、プラズマディスプレイ、ELディスプレイ、プロジェクションディスプレイ等、いずれの方式のものであってもよい。 The image display method of such a display is not particularly limited, CRT display, a liquid crystal (LCD) display, a plasma display, EL display, a projection display or the like, may be of any type.

以下に、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。 The following is a more detailed description of the invention based on examples, the present invention is not limited by these examples.
透明な支持体、ハードコート層、導電層、反射防止層がこれらの順に積層された反射防止積層体を作製し、その性能を下記の方法に従って評価した。 Transparent support, a hard coat layer, a conductive layer, an antireflection layer produced an antireflection stack which is laminated to that order, and its performance was evaluated according to the following method.
(分光反射率) (Spectral reflectance)
自動分光光度計(日立製作所製、U−4000)を用い、入射角5°における分光反射率を測定した。 Automatic spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., U-4000) was used to measure the spectral reflectance at an incident angle of 5 °. なお、測定の際には透明支持体のうち塗工の施されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った。 At the time of measurement the matt black paint was applied to the surface which was not subjected to the coating of the transparent support was subjected to the treatment of antireflection.
(平均視感反射率) (Average luminous reflectance)
自動分光光度計(日立製作所製 U−4000)を用い、入射角5°における分光反射率よりC光源、2度視野の条件下における平均視感反射率(%)を算出した。 Using automated spectrophotometer (Hitachi U-4000), C light source from the spectral reflectance at an incident angle of 5 °, was calculated average luminous reflectance under conditions of two-degree field of (%).
(目視評価) (Visual evaluation)
20W蛍光灯から20cmの距離で反射防止積層体の反射防止層側に蛍光灯の光を入射し、色ムラおよび干渉ムラの目視評価を行った。 The fluorescent light is incident from 20W fluorescent lamp antireflection layer side of an antireflection stack at a distance of 20 cm, was visually evaluated for color unevenness and interference unevenness. なお、評価の際には、支持体のうち塗工の施されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った。 At the time of evaluation, the matt black paint was applied to the surface which was not subjected to coating of the support, was treated for anti-reflection. 評価結果は、◎:色味なし、ニュートラルな色相、○:色味が僅かに認められる、×:色味が顕著に認められる、として示した。 The evaluation results, ◎: no color, neutral hue, ○: color is slightly observed, ×: tint is significantly observed, shown as.
(耐擦傷性) (Scratch resistance)
スチールウール(#0000)を用い、250g荷重で反射防止積層体の表面を10往復擦り、傷の有無を目視評価した。 Steel with wool (# 0000), rubbed back and forth 10 times the surface of the antireflection laminate 250g load was visually evaluated for the presence or absence of scratches.
(全光線透過率およびヘイズ値)写像性測定器[日本電色工業(株)製、NDH−2000 ]を使用して測定した。 (Total light transmittance and haze value) image clarity measuring apparatus [manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., NDH-2000] was measured using a.
(鉛筆硬度) (Pencil hardness)
JIS K5400に準拠し、試験機法により500g荷重で評価した。 Conforming to JIS K5400, the hard coating layer was evaluated with 500g load by tester method.
(表面抵抗値) (Surface resistance value)
JIS K6911に準拠して測定した。 It was measured in accordance with JIS K6911.
(防汚性) (Antifouling)
指紋、油性インキ、ティッシュくずを反射防止積層体の反射防止層の表面に付着させ、拭き取りの可否を判断した。 Fingerprints, oil-based ink, to adhere the tissue debris on the surface of the antireflection layer of the antireflection laminate was judged whether the wiping.
(密着性の評価) (Evaluation of adhesion)
反射防止積層体の表面を1mm角で100点カットした後、粘着テープ(ニチバン(株)製、工業用24mm巾セロテープ(登録商標))を用いて反射防止層側からの剥離試験を行い、100点カット部の残存率で評価した。 After cutting 100 points at 1mm square surface of the antireflective stack, it performs a peeling test from the antireflection layer side by using an adhesive tape (Nichiban Co., Ltd., Industrial 24mm wide cellophane tape), 100 It was evaluated by the residual rate of point-cut portion. 100点全てが剥離せずに残存したときを100/100とした。 All 100 points was 100/100 when that remained without peeling.

<実施例1> <Example 1>
(ハードコート層の形成) (Formation of the hard coat layer)
透明な支持体として厚み80μm、波長550nmにおける屈折率1.49のトリアセチルセルロースフィルム(全光線透過率:93%、ヘイズ値:0.1%)を用いた。 Thickness 80μm as a transparent support, a triacetyl cellulose film having a refractive index of 1.49 at a wavelength of 550 nm (total light transmittance: 93%, haze value: 0.1%) was used. また、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、およびウレタンアクリレートを用いてハードコート層用の塗布液を調整した。 Further, to prepare a coating solution for hard coat layer using dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and a urethane acrylate.
このハードコート層用塗布液を、乾燥膜厚5μmになるように支持体上に塗布し、120Wのメタルハライドランプを20cmの距離から10秒間照射することにより、ハードコート層を形成した。 The hard coat layer coating solution, dry film thickness was applied to on the support so that the 5 [mu] m, by irradiating for 10 seconds a metal halide lamp of 120W from a distance of 20 cm, to form a hard coat layer.
ハードコート層の屈折率は波長550nmにおいて1.52であり、透明支持体との屈折率差は2%であった。 Refractive index of the hard coat layer is 1.52 at a wavelength of 550 nm, the refractive index difference between the transparent support was 2%.
(表面処理) (surface treatment)
上記のハードコート層を形成した支持体を、50℃に加熱した1.5N−NaOH水溶液に2分間浸漬しアルカリ処理を行い、水洗後、0.5質量%−H SO 水溶液に室温で30秒間浸漬し中和させ、水洗、乾燥処理を行った。 A support to form a hard coat layer described above, performs immersion alkaline treatment for 2 minutes in 1.5 N-NaOH solution heated to 50 ° C., after washing with water, at room temperature to 0.5 wt% -H 2 SO 4 aqueous solution immersed for 30 seconds to neutralize, washed with water, a drying treatment was carried out.

(導電層の形成) (Formation of conductive layer)
テトラエトキシシランからなるケイ素アルコキシドを原料とし、これを1mol/L塩酸により加水分解して、得られたオリゴマー(加水分解オリゴマー)からなるケイ素アルコキシドの加水分解物を得た。 The silicon alkoxide consisting of tetraethoxysilane as a raw material, which is hydrolyzed by a 1 mol / L hydrochloric acid, to give a hydrolyzate of silicon alkoxide consisting resulting oligomer (hydrolysis oligomer). この加水分解物からなるバインダマトリックス5質量部と、五酸化アンチモン微粒子(一次粒径20nm)からなるイオン導電性微粒子5質量部とを90質量部のイソプロパノールで希釈して、導電層用のコーティング液を調整した。 And a binder matrix 5 parts by mass consisting of the hydrolyzate is diluted and ion conductive fine particles 5 parts by mass consisting of antimony pentoxide particles (primary particle size 20 nm) 90 parts by weight of isopropanol, the coating liquid for the conductive layer It was adjusted. 上記の表面処理を行ったハードコート層に乾燥膜厚が180nmになるようにこのコーティング液を塗布し、乾燥させて、導電層を形成させた。 The hard coat layer dry film thickness of the surface treatment was carried out in the above was coated with this coating liquid so as to 180 nm, dried, to form a conductive layer.
導電層の屈折率は波長550nmにおいて1.55であり、導電層とハードコート層との屈折率差は2%であった。 Refractive index of the conductive layer is 1.55 at a wavelength of 550 nm, the refractive index difference between the conductive layer and the hard coat layer was 2%.
(反射防止層の形成) (Formation of anti-reflection layer)
テトラエトキシシランからなる、前記一般式(I)で示されるケイ素アルコキシドと、有機官能基としてパーフルオロオクタン基を有するトリメトキシシランからなる、前記一般式(III)で示されるケイ素アルコキシドとを原料とし、1mol/L塩酸により加水分解して得られたオリゴマー5質量部と、低屈折率シリカ粒子5質量部とを、190質量部のイソプロパノールで希釈して反射防止層用のコーティング液を調製した。 Consisting of tetraethoxysilane, and silicon alkoxide represented by the general formula (I), consisting of trimethoxysilane with perfluorooctane group as an organic functional group, and a silicon alkoxide as a raw material represented by the general formula (III) , oligomer 5 parts by mass obtained by hydrolysis by 1 mol / L hydrochloric acid, and a low refractive index silica particles 5 parts by weight, to prepare a coating solution for the anti-reflective layer was diluted with 190 parts by weight of isopropanol. このコーティング液を、上記で得られた導電層に、乾燥膜厚が100nmになるように塗布し、乾燥させて反射防止層を作製した。 The coating solution, the conductive layer obtained above, dry film thickness. The coating is a 100 nm, to prepare an anti-reflection layer was dried.
反射防止層の屈折率は、波長550nmにおいて1.35であった。 Refractive index of the antireflection layer was 1.35 at a wavelength of 550 nm.

以上により、透明な支持体、ハードコート層、導電層、及び反射防止層が、これらの順に積層された反射防止積層体(以下、積層体と称する)を得た。 Thus, a transparent support, a hard coat layer, the conductive layer, and an antireflection layer, the antireflection stack stacked in that order (hereinafter, referred to as laminate) was obtained.

<実施例2> <Example 2>
実施例1(導電層の形成)において、実施例1と同様のケイ素アルコキシドの加水分解物を4.5質量部、五酸化アンチモン微粒子を5.5質量部とした以外は、実施例1と同様にして積層体を作成した。 In Example 1 (Formation of conductive layer), 4.5 parts by weight of the hydrolyzate of the same silicon alkoxide as in Example 1, except for using 5.5 parts by weight of antimony pentoxide particles, similarly to Example 1 you create a laminate to.
導電層の屈折率は波長550nmにおいて1.58であり、導電層とハードコート層との屈折率差は4%であった。 Refractive index of the conductive layer is 1.58 at a wavelength of 550 nm, the refractive index difference between the conductive layer and the hard coat layer was 4%.
<実施例3> <Example 3>
実施例1(ハードコート層の形成)において、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、およびウレタンアクリレートの混合物8質量部に対し、ハードコート層の屈折率を上昇させる目的で酸化ジルコニウム微粒子2質量部を加えてハードコート層用の塗布液を調整した以外は、実施例1と同様にして積層体を作成した。 In Example 1 (Formation of hard coat layer), dipentaerythritol hexaacrylate, to the mixture 8 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate and urethane acrylates, the purpose of zirconium oxide fine particles 2 mass to increase the refractive index of the hard coat layer except for adjusting the coating solution for hard coat layer was added parts are to prepare a laminate in the same manner as in example 1.
ハードコート層の屈折率は波長550nmにおいて1.55であり、ハードコート層と透明支持体との屈折率差は4%であった。 Refractive index of the hard coat layer is 1.55 at a wavelength of 550 nm, the refractive index difference between the hard coat layer and the transparent support was 4%.

<比較例1> <Comparative Example 1>
実施例1(導電層の形成)において、加水分解オリゴマーを4質量部、五酸化アンチモン微粒子を6質量部とした以外は実施例1と同様にして反射防止積層体を作成した。 In Example 1 (Formation of conductive layer), 4 parts by weight of hydrolysis oligomers, except for using 6 parts by weight of antimony pentoxide particles to prepare an anti-reflection laminate in the same manner as in Example 1.
導電層の屈折率は波長550nmにおいて1.60であり、導電層とハードコート層との屈折率差は5%であった。 Refractive index of the conductive layer is 1.60 at a wavelength of 550 nm, the refractive index difference between the conductive layer and the hard coat layer was 5%.
<比較例2> <Comparative Example 2>
実施例1(ハードコート層の形成)において、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、およびウレタンアクリレートの混合物7質量部に対し、ハードコート層の屈折率を上昇させる目的で酸化ジルコニウム微粒子3質量部を加えてハードコート層用の塗布液を調整した以外は実施例1と同様にして反射防止積層体を作成した。 In Example 1 (Formation of hard coat layer), dipentaerythritol hexaacrylate, to mixtures 7 parts by mass of pentaerythritol tetraacrylate and urethane acrylates, the purpose of zirconium oxide fine particles 3 mass increasing the refractive index of the hard coat layer to prepare an anti-reflection laminate except for adjusting the coating solution for hard coat layer was added parts in the same manner as in example 1.
ハードコート層の屈折率は波長550nmにおいて1.57であり、ハードコート層と支持体との屈折率差は5%であった。 Refractive index of the hard coat layer is 1.57 at a wavelength of 550 nm, the refractive index difference between the hard coat layer and the support was 5%.
<比較例3> <Comparative Example 3>
実施例1(導電層の形成)において、バインダマトリックスとして、ペンタエリスリトールトリアクリレートからなるアクリル系樹脂7質量部を用い、五酸化アンチモン微粒子を3質量部とした以外は、実施例1と同様にして積層体を作成した。 In Example 1 (Formation of conductive layer), as a binder matrix, an acrylic resin 7 parts by mass consisting of pentaerythritol triacrylate, except for using 3 parts by weight of antimony pentoxide particles, in the same manner as in Example 1 you create a laminate.
導電層の屈折率は波長550nmにおいて1.56であり、ハードコート層との屈折率差は3%であった。 Refractive index of the conductive layer is 1.56 at a wavelength of 550 nm, the refractive index difference between the hard coat layer was 3%.
<比較例4> <Comparative Example 4>
実施例1(導電層の形成)において、導電層の乾燥膜厚を155nmとし、(反射防止層の形成)において、反射防止層の乾燥膜厚を88nmとした以外は、実施例1と同様にして積層体を作成した。 In Example 1 (Formation of conductive layer), a dry film thickness of the conductive layer is 155 nm, in (Formation of anti-reflection layer), except that the dry thickness of the antireflection layer was 88 nm, in the same manner as in Example 1 you create a laminate Te. すなわち、導電層の膜厚が前記式(II)を満たさず、反射防止層の膜厚が前記式(V)を満たさない条件とした。 That is, the film thickness of the conductive layer does not satisfy the formula (II), and a condition that the film thickness of the antireflection layer does not satisfy the formula (V).
<比較例5> <Comparative Example 5>
実施例1(導電層の形成)において、導電層の乾燥膜厚を200nmとし、(反射防止層の形成)において、反射防止層の乾燥膜厚を88nmとした以外は、実施例1と同様にして積層体を作成した。 In Example 1 (Formation of conductive layer), a dry film thickness of the conductive layer is 200 nm, in (Formation of anti-reflection layer), except that the dry thickness of the antireflection layer was 88 nm, in the same manner as in Example 1 you create a laminate Te. すなわち、導電層の膜厚が前記式(II)を満たさず、反射防止層の膜厚が前記式(V)を満たさない条件とした。 That is, the film thickness of the conductive layer does not satisfy the formula (II), and a condition that the film thickness of the antireflection layer does not satisfy the formula (V).
<比較例6> <Comparative Example 6>
実施例1(導電層の形成)において、導電層の乾燥膜厚を155nmとし、(反射防止層の形成)において、反射防止層の乾燥膜厚を115nmとした以外は、実施例1と同様にして積層体を作成した。 In Example 1 (Formation of conductive layer), a dry film thickness of the conductive layer is 155 nm, in (Formation of anti-reflection layer), except that the dry thickness of the antireflection layer was 115 nm, in the same manner as in Example 1 you create a laminate Te. すなわち、導電層の膜厚が前記式(II)を満たさず、反射防止層の膜厚が前記式(V)を満たさない条件とした。 That is, the film thickness of the conductive layer does not satisfy the formula (II), and a condition that the film thickness of the antireflection layer does not satisfy the formula (V).
<比較例7> <Comparative Example 7>
実施例1(導電層の形成)において、導電層の乾燥膜厚を200nmとし、(反射防止層の形成)において、反射防止層の乾燥膜厚を115nmとした以外は、実施例1と同様にして積層体を作成した。 In Example 1 (Formation of conductive layer), a dry film thickness of the conductive layer is 200 nm, in (Formation of anti-reflection layer), except that the dry thickness of the antireflection layer was 115 nm, in the same manner as in Example 1 you create a laminate Te. すなわち、導電層の膜厚が前記式(II)を満たさず、反射防止層の膜厚が前記式(V)を満たさない条件とした。 That is, the film thickness of the conductive layer does not satisfy the formula (II), and a condition that the film thickness of the antireflection layer does not satisfy the formula (V).

実施例1〜3、比較例1〜7で得られた積層体について、目視評価、耐擦傷性、全光線透過率およびヘイズ値、鉛筆硬度、表面抵抗値、防汚性、密着性の評価を行った結果を、表1に示す。 Examples 1 to 3, the obtained laminate in Comparative Examples 1 to 7, visual evaluation, scratch resistance, total light transmission and the haze value, pencil hardness, surface resistance, antifouling properties, an evaluation of adhesion the result of Table 1 shows. ここで、屈折率差Aは透明支持体とハードコート層の屈折率差を示し、屈折率差Bはハードコート層と導電層の屈折率差を示す。 Here, the refractive index difference A is the refractive index difference between the transparent support and the hardcoat layer, the refractive index difference B is the refractive index difference between the hard coat layer and the conductive layer.
実施例1〜3、比較例1〜7で得られた積層体について、分光反射率を測定した結果をそれぞれ図2〜11に示す。 Examples 1 to 3, the obtained laminate in Comparative Examples 1-7, showing the results of measurement of the spectral reflectance in FIGS 2-11.

以上表1、図2〜4から明らかなように、実施例では、波長における分光反射率曲線が、視感領域である500〜600nmにおいて、反射率が低くフラットな線となった。 Above Table 1, as is clear from Figures 2-4, in the embodiment, the spectral reflectance curve at a wavelength in a luminous area 500 to 600 nm, the reflectivity became low flat line. 目視評価においても色ムラが良好に抑制されていた。 Color unevenness even in visual evaluation has been satisfactorily suppressed.
また、表面抵抗値が低く充分な導電性を示した。 The surface resistance value showed a lower sufficient conductivity. さらに、ヘイズ値が低く全光線透過率が高く、すなわち透明性が良好であり、耐擦傷性、鉛筆硬度、防汚性、密着性の評価結果がいずれも良好であった。 Further, the haze value is low total light transmittance is high, i.e. the transparency is good and the scratch resistance, pencil hardness, stain resistance, adhesion of the evaluation results were good.
なお、実施例2は、図3に示すように可視領域の波長に小さな極大ピークを示したものの、可視領域における反射率の極大値と極小値の差が小さいので、目視評価では○となっている。 In Examples 2, although showing a small maximum peak in a wavelength in the visible region, as shown in FIG. 3, the difference between the maximum value and the minimum value of the reflectance in the visible region is small, by visual evaluation becomes ○ there.

しかし、導電層の屈折率とハードコート層の屈折率との差が5%であった比較例1においては、図5に示すように、波長580nmにおいて極大値がみられており、この反射ピークが目視評価における×評価に反映されたと推定される。 However, in Comparative Example 1 the difference was 5% and the refractive index of the conductive layer and the refractive index of the hard coat layer, as shown in FIG. 5, and the maximum value is observed at a wavelength of 580 nm, the reflection peak There is estimated to have been reflected in the × evaluation in visual evaluation.
支持体の屈折率とハードコート層の屈折率との差が5%であった比較例2においては、図6に示すように、分光反射率曲線が極大値、極小値を繰り返している。 In Comparative Example 2 the difference was 5% between the refractive indices of the hard coat layer of the support, as shown in FIG. 6, the spectral reflectance curve maxima are repeated a minimum value. これは、透明支持体とハードコート層の屈折率差が大きいために層間での光干渉をおこしているためである。 This is because the cause optical interference between the layers to the refractive index difference between the transparent support and the hardcoat layer is large. このため、干渉ムラとしての色ムラが発生し、目視評価において×評価となっている。 Therefore, color unevenness as interference unevenness occurs, and has a × evaluated in visual evaluation.
導電層をアクリル系樹脂と五酸化アンチモン微粒子の組成とした比較例3においては、密着性及び耐擦傷性の性能低下が認められた。 In Comparative Example 3 in which the conductive layer has a composition of acrylic resin and antimony pentaoxide fine particles, degradation of the adhesion and scratch resistance was observed.
薄膜化方向に導電層が式(II)、反射防止層が式(V)を満たさない比較例4においては、図8に示すように、実施例1と比較して分光反射率曲線が変化し、高波長領域の赤みが強く出てしまうため、目視評価で×評価となっている。 Thinned direction conductive layer Formula (II), in Comparative Example 4 where the anti-reflection layer does not satisfy the Formula (V), at 8, the spectral reflectance curve is changed compared to Example 1 , for the redness of the high-wavelength region will come out stronger, and has a × evaluated by visual evaluation. 導電層が厚膜化方向に式(II)を満たさず、反射防止層が薄膜化方向に式(V)を満たさない比較例5においても同様に目視評価で×となり、さらに視感反射率が高くなっている。 Conductive layer in the thickened direction not satisfy the Formula (II), likewise it becomes × visually evaluated in Comparative Example 5 in which the anti-reflection layer does not satisfy the formula (V) in the thin direction, more luminous reflectance It is higher.
逆に厚膜化方向に導電層が式(II)、反射防止層が式(V)を満たさない比較例7においては、低波長領域の青みが強く出てしまうため、目視評価で×評価となった。 Conversely conductive layer thick film direction Formula (II), in Comparative Example 7 in which the anti-reflection layer does not satisfy the formula (V), because the blue of the low wavelength region will come out stronger, and × evaluated by visual evaluation became. 導電層が薄膜化方向に式(II)を満たさず、反射防止層が厚膜化方向に式(V)を満たさない比較例6においても同様に目視評価で×となり、さらに視感反射率が高くなっている。 Conductive layer does not satisfy the formula (II) in the thin direction, likewise becomes × visually evaluated in Comparative Example 6 in which the anti-reflection layer does not satisfy the formula (V) in the thicker direction, more luminous reflectance It is higher.

以上結果より明らかなように、実施例の積層体では、耐擦傷性、表面硬度などのハードコート性能は十分な性能を保ちつつも、密着性、導電性、高透明性を同時に発現することができた。 Above results As is clear from, the laminates of Examples, abrasion resistance, even hard coating performance such as surface hardness while maintaining satisfactory performance, adhesion, conductivity, to express simultaneously high transparency did it. さらに、導電層の膜厚が式(II)の範囲内であれば、全可視光線領域において発色を抑えた反射防止性を付与させることができるため、生産性の高い塗工方式によって、色ムラの容易に抑制された反射防止積層体を提供することができた。 Further, as long as it is within the range of the film thickness of the conductive layer is Formula (II), it is possible to impart antireflection properties with reduced color in the entire visible light region, by high productivity coating method, color unevenness it is possible to provide a readily suppressed antireflective laminate.

本発明の反射防止積層体の一例を示す断面図である。 It is a cross-sectional view showing an example of the antireflection laminate of the present invention. 実施例1で作成した反射防止積層体の分光反射率を示すグラフである。 Is a graph showing the spectral reflectance of the antireflection laminate prepared in Example 1. 実施例2で作成した反射防止積層体の分光反射率を示すグラフである。 Is a graph showing the spectral reflectance of the antireflection laminate prepared in Example 2. 実施例3で作成した反射防止積層体の分光反射率を示すグラフである。 Is a graph showing the spectral reflectance of the antireflection laminate prepared in Example 3. 比較例1で作成した反射防止積層体の分光反射率を示すグラフである。 Is a graph showing the spectral reflectance of the antireflection multilayer material produced in Comparative Example 1. 比較例2で作成した反射防止積層体の分光反射率を示すグラフである。 Is a graph showing the spectral reflectance of the antireflection multilayer material produced in Comparative Example 2. 比較例3で作成した反射防止積層体の分光反射率を示すグラフである。 Is a graph showing the spectral reflectance of the antireflection multilayer material produced in Comparative Example 3. 比較例4で作成した反射防止積層体の分光反射率を示すグラフである。 Is a graph showing the spectral reflectance of the antireflection multilayer material produced in Comparative Example 4. 比較例5で作成した反射防止積層体の分光反射率を示すグラフである。 Is a graph showing the spectral reflectance of the antireflection multilayer material produced in Comparative Example 5. 比較例6で作成した反射防止積層体の分光反射率を示すグラフである。 Is a graph showing the spectral reflectance of the antireflection multilayer material produced in Comparative Example 6. 比較例7で作成した反射防止積層体の分光反射率を示すグラフである。 Is a graph showing the spectral reflectance of the antireflection multilayer material produced in Comparative Example 7.

符号の説明 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 支持体 2 ハードコート層 3 導電層 4 反射防止層 5 反射防止積層体 1 support 2 hard coat layer 3 conductive layer 4 antireflection layer 5 antireflection stack

Claims (14)

  1. 透明な支持体、ハードコート層、導電層、及び反射防止層を有する反射防止積層体において、 Transparent support, a hard coat layer, the conductive layer, and the antireflection laminate having an antireflection layer,
    前記導電層が一般式(I)R Si(OR) 4−x (但し、式中Rはアルキル基を示し、xは0≦x≦3を満たす整数である)で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を含むバインダマトリックスと、粒径1〜100nmの導電性微粒子とを含有し、かつ、式(II)nd=λ/2[但し、nは導電層の屈折率、dは導電層の膜厚、λは光の波長(nm)を示し、500≦λ≦600を満たす数である]を満たし、 Wherein the conductive layer formula (I) R x Si (OR ) 4-x ( wherein R represents an alkyl group, x is an integer satisfying 0 ≦ x ≦ 3) of silicon alkoxide represented by the hydrolysis and a binder matrix comprising decomposition product containing a conductive fine particle size 1 to 100 nm, and the formula (II) nd = λ / 2 [where, n is the refractive index of the conductive layer, d is the film of the conductive layer thickness, lambda represents the wavelength of light (nm), satisfy the numbers satisfying the 500 ≦ λ ≦ 600],
    前記支持体の屈折率と前記ハードコート層の屈折率との差、及び前記ハードコート層の屈折率と前記導電層の屈折率との差がいずれも4%以下であることを特徴とする反射防止積層体。 Reflection, wherein the difference in refractive index of the support and the refractive index of the hard coat layer, and any difference between the refractive index and the refractive index of the conductive layer of the hard coat layer is not more than 4% prevention laminate.
  2. 前記導電性微粒子は、イオン導電性微粒子であることを特徴とする請求項1に記載の反射防止積層体。 The conductive fine particles, the anti-reflection laminate according to claim 1, characterized in that the ion-conductive particles.
  3. 前記イオン導電性微粒子は、五酸化アンチモン微粒子であることを特徴とする請求項2に記載の反射防止積層体。 Wherein the ion conductive fine particles, the anti-reflection laminate according to claim 2, characterized in that the antimony pentoxide particles.
  4. 前記バインダマトリックスは、一般式(III)R' Si(OR) 4−y (但し、式中Rはアルキル基を示し、R'は反応性官能基を示し、yは1≦y≦3を満たす整数である)で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物をさらに含むことを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の反射防止積層体。 The binder matrix of the general formula (III) R 'y Si ( OR) 4-y ( wherein R represents an an alkyl group, R' is an represents a reactive functional group, y is a 1 ≦ y ≦ 3 antireflection laminate according to any one of claims 1 to 3, further comprising a hydrolyzate of silicon alkoxide represented by a is) integer satisfying.
  5. 前記反応性官能基が親水性反応性官能基であることを特徴とする請求項4に記載の反射防止積層体。 Antireflection stack according to claim 4, wherein the reactive functional group and wherein the hydrophilic reactive functional group.
  6. 前記親水性反応性官能基は、エポキシ基またはイソシアネート基の少なくとも一方を有することを特徴とする請求項5に記載の反射防止積層体。 The hydrophilic reactive functional groups, the anti-reflection laminate according to claim 5, characterized in that it comprises at least one epoxy group or isocyanate group.
  7. 前記反射防止層は、一般式(I)R Si(OR) 4−x (但し、式中Rはアルキル基を示し、xは0≦x≦3を満たす整数である)で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を含むバインダマトリックスを含有することを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載の反射防止積層体。 The antireflection layer has the general formula (I) R x Si (OR ) 4-x ( wherein R represents an alkyl group, x is an integer satisfying 0 ≦ x ≦ 3) silicon alkoxide represented by antireflection laminate according to any one of claims 1 to 6, characterized in that it contains a binder matrix comprising the hydrolyzate.
  8. 前記反射防止層は、粒径1〜100nmの低屈折率シリカ粒子を含有することを特徴とする請求項1ないし7のいずれかに記載の反射防止積層体。 The antireflection layer, the antireflection stack according to any one of claims 1 to 7, characterized in that it contains a low refractive index silica particles having a particle size of 1 to 100 nm.
  9. 前記反射防止層は、一般式(IV)R'' Si(OR) 4−z (但し、式中R''はアルキル基、フルオロアルキル基又はフルオロアルキレンオキサイド基を有する非反応性官能基を示し、zは1≦z≦3を満たす整数である)で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物をさらに含有することを特徴とする請求項7または8に記載の反射防止積層体。 The antireflection layer has the general formula (IV) R '' z Si (OR) 4-z ( where, wherein R '' is an alkyl group, a non-reactive functional group having a fluoroalkyl group or a fluoroalkylene oxide group shown, z is antireflection laminate according to claim 7 or 8, characterized in that it further contains a 1 ≦ z ≦ 3 is an integer satisfying) hydrolyzate of silicon alkoxide represented by.
  10. 前記反射防止層は、式(V)n'd'=λ/4[但し、n'は反射防止層の屈折率、d'は反射防止層の膜厚、λは光の波長(nm)を示し、500≦λ≦600を満たす数である]を満たすことを特徴とする請求項1ないし9のいずれかに記載の反射防止積層体。 The antireflection layer has the formula (V) n'd '= λ / 4 [where, n' is the refractive index of the antireflection layer, d 'is the thickness of the antireflection layer, lambda is the wavelength of light (nm) of shown, antireflection laminate according to any one of claims 1 to 9, characterized in that meet a number satisfying 500 ≦ λ ≦ 600].
  11. 前記ハードコート層は、(メタ)アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを主成分とする重合体からなることを特徴とする請求項1ないし10のいずれかに記載の反射防止積層体。 The hard coat layer, (meth) acryloyl antireflection laminate according to any one of claims 1 to 10 a polyfunctional monomer having a group characterized by comprising the polymer as a main component.
  12. 前記支持体、前記ハードコート層、前記導電層、及び前記反射防止層は、これらの順に積層されていることを特徴とする請求項1ないし11のいずれかに記載の反射防止積層体。 The support, the hard coat layer, the conductive layer, and the antireflection layer, the antireflection stack according to any one of claims 1 to 11, characterized in that it is laminated in that order.
  13. 請求項1ないし12のいずれかに記載の反射防止積層体を有することを特徴とする偏光板。 A polarizing plate characterized by having a antireflection laminate according to any one of claims 1 to 12.
  14. 請求項13に記載の偏光板を備えることを特徴とするディスプレイ。 Display characterized in that it comprises a polarizing plate according to claim 13.
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