KR101335268B1 - A optical transparent composite film for the use of display laminated with a protective film for processing and manufacturing method thereof - Google Patents

A optical transparent composite film for the use of display laminated with a protective film for processing and manufacturing method thereof Download PDF

Info

Publication number
KR101335268B1
KR101335268B1 KR1020130098741A KR20130098741A KR101335268B1 KR 101335268 B1 KR101335268 B1 KR 101335268B1 KR 1020130098741 A KR1020130098741 A KR 1020130098741A KR 20130098741 A KR20130098741 A KR 20130098741A KR 101335268 B1 KR101335268 B1 KR 101335268B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
protective film
polymer substrate
film
gas barrier
display
Prior art date
Application number
KR1020130098741A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
박용호
문진혁
김세원
황희남
박승우
윤상식
Original Assignee
(주)아이컴포넌트
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)아이컴포넌트 filed Critical (주)아이컴포넌트
Priority to KR1020130098741A priority Critical patent/KR101335268B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101335268B1 publication Critical patent/KR101335268B1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B9/00Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
    • B32B9/04Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B9/045Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/16Layered products comprising a layer of synthetic resin specially treated, e.g. irradiated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D4/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14Protective coatings, e.g. hard coatings
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70Other properties
    • B32B2307/724Permeability to gases, adsorption
    • B32B2307/7242Non-permeable
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2310/00Treatment by energy or chemical effects
    • B32B2310/14Corona, ionisation, electrical discharge, plasma treatment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment
    • B32B2457/20Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays

Abstract

The present invention relates to an optical transparent composite film for the use of display laminated with a protective process film, a manufacturing method using the same, and a flexible display product thereof. The optical transparent composite film for the use of display laminated with a protective process film comprises: a polymer substrate containing a thermoplastic transparent base resin; an inorganic gas barrier layer formed on at least one surface of the polymer substrate; and an inorganic-organic hybrid overcoating layer which is formed on the upper surface of the inorganic gas barrier layer and contains a (meth)acrylate monomer, an epoxy group, a (meth)acrylate oligomer with 500-10,000 of weight-average molecular weight, an initiator, silica particles, curable coating fluid with a dispersion medium, a metal alkoxide, a curing accelerator, an inorganic acid, and a curable product of a curable sol solution mixed with the sol solution and solvents. The adhesiveness between the protective process film and the monolayer of the polymer substrate is more than 1gf/inch, and the adhesiveness between the protective process film and the composite layer of the polymer substrate and gas barrier is less than 12gf/inch.

Description

공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름 및 이의 제조방법{A optical transparent composite film for the use of display laminated with a protective film for processing and manufacturing method thereof}A transparent optical film for the use of display laminated with a protective film for processing and manufacturing method

본 발명은 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 플렉서블 디스플레이 제품에 관한 것으로써, 우수한 기체차단성을 가질 뿐만 아니라 공정 수율이 내우 향상된 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 플렉서블 디스플레이 제품에 관한 것이다.The present invention relates to an optical transparent composite film for a protective film laminated display for a process, a method for manufacturing the same, and a flexible display product including the same, and for a protective film laminated display for a process having excellent gas barrier properties as well as an improved process yield. The present invention relates to an optical transparent composite film, a method of manufacturing the same, and a flexible display product including the same.

현대 산업에서 디스플레이 산업은 세계적인 경기 침체와 더불어 공급의 과부하로 인하여 큰 위기에 봉착해 있고, 이를 타파하기 위해서는 혁신적인 기술 내지는 제품이 절대적으로 필요한 실정이다.In the modern industry, the display industry is faced with a serious crisis due to overload of supply along with the global economic downturn. Innovative technology or products are absolutely necessary to overcome this.

플렉서블 디스플레이는 저전력, 저가격, 초경량 및 대면적화 구현이 가능하며 휴대가 용이하여 정보를 언제 어디서나 쉽게 접할 수 있어 일반 소비자들의 관심을 집중시킬 수 있는 핵심 기술 산업이며 기존의 소재를 탈피하여 고분자 필름을 기판으로 사용하는 플렉서블 디스플레이는 롤-투-롤(roll-to-roll) 생산 방식의 적용이 가능하여 모바일 등 작은 생활기기를 중심으로 대량 생산 기술의 상용화와 더불어 디스플레이 시장의 핵심으로 떠오를 수 있는 산업이다. Flexible display is a key technology industry that can realize low power, low cost, ultra light weight and large area, and is easy to carry and can easily access information anytime and anywhere. Flexible display is used as a roll-to-roll production method, and it is an industry that can emerge as the core of the display market with the commercialization of mass production technology centering on small household devices such as mobile. .

플렉서블 기판의 경우, 이미 많은 업체 및 연구소에서 흥미로운 주제로써 연구되고 있다. 투명성은 좋으나 특성상 내충격성이 부족하여 충격에 쉽게 파손되며 박형화 하는데 한계가 있을 뿐만 아니라, 단위 부피당 무게가 커서 플렉서블 기판으로써의 응용에 무리가 있는 기존의 유리를 대체하기 위해서 전술했던 내충격, 경량화 그리고 박형화에 관한 문제를 해결할 수 있을 뿐 아니라 가볍고 얇고 연성이 뛰어나 플렉서블 기판으로의 응용이 용이한 고분자, 예를 들어 광학특성이 우수한 폴리카보네이트(polycarbonate, PC), 폴리이미드(polyimide, PI), 폴리에테르술폰(polyethersulfone, PES), 폴리아릴레이트(polyarylate, PAR), 폴리에틸렌나프탈레이트(poly(ethylene naphthalate), 폴리에틸렌테레프탈레이트(poly(ethylene terephthalate), PET), 사이클로올레핀 코폴리머(cycloolefin copolymer) 등의 열가소성 고분자나 아크릴 수지, 에폭시 수지 그리고 불포화 폴리에스테르 등의 경화성 수지를 경화시킨 고분자를 이용하여 제조한 투명필름이 사용되고 있다.In the case of flexible substrates, many companies and research institutes have already been studied as an interesting topic. Transparency is good, but it is easily damaged by impact due to its lack of impact resistance, and there is a limit to thinning. In addition, the impact, weight, and thickness described above are replaced to replace conventional glass, which has a large weight per unit volume and is difficult for application as a flexible substrate. As well as solving the problems related to the light, thin, flexible, easy to be applied to the flexible substrate, for example, excellent optical properties such as polycarbonate (polycarbonate, PC), polyimide (PI), polyether sulfone thermoplastic polymers such as polyethersulfone (PES), polyarylate (PAR), polyethylene naphthalate, poly (ethylene terephthalate, PET), cycloolefin copolymer Acrylic resins, epoxy resins and unsaturated polyesters. Has been used is a transparent film produced by using the polymer curing the resin.

이러한 고분자들로 제조한 필름이 플렉서블 디스플레이 제품에 사용되는 기판으로써의 역할을 하기 위해서는 디스플레이에 수명에 직접적인 영향을 미치는 우수한 수분차단성 및 산소차단성, 디스플레이로서의 역할을 충실히 수행할 수 있을만한 우수한 광학특성 필요하다. 하지만 실제로 고분자 투명 필름은 수분 및 산소차단능력이 매우 떨어지므로 기능성 코팅층을 다층으로 코팅하여 상기 물성을 달성하려는 실험들이 활발하게 진행되고 있다.In order for the film made of these polymers to serve as a substrate used in flexible display products, it has excellent optical properties such as excellent moisture barrier property and oxygen barrier property which directly affect the lifetime of the display, and can serve as a display faithfully. Characteristics are required. However, in practice, since the polymer transparent film is very poor in moisture and oxygen blocking ability, experiments are actively underway to achieve the above properties by coating a functional coating layer in multiple layers.

현재는 기본적으로 수분 및 산소차단성을 높이기 위한 무기물 가스배리어층과 차단 특성을 한층 더 높이고 우수한 표면경도를 부여할 수 있는 유-무기 하이브리드 코팅층을 포함하는 다층형 코팅방법을 사용하고, 여기에 고분자 필름의 표면 거칠기를 낮추어 무기물 가스배리어층을 안정적으로 코팅한다거나 층간 계면에서의 저항력을 최소화하기 위해 언더코팅층을 추가하여 코팅층 간의 접착력을 향상시키는 등의 방법을 사용하여 상기 문제점들을 해결하려는 연구 또는 발명들이 진행되고 있다. Currently, it uses a multilayer coating method including an inorganic gas barrier layer to increase moisture and oxygen barrier properties, and an organic-inorganic hybrid coating layer that can further increase barrier properties and provide excellent surface hardness. In order to solve the above problems by using a method such as lowering the surface roughness of the film to stably coat the inorganic gas barrier layer or adding an undercoat layer to minimize the resistance at the interface between the layers, the adhesion between the coating layers is improved. It's going on.

현재는 더욱 더 얇고 가벼운 제품을 원하는 일반 소비자들의 니즈를 고려하고 깨지지 않는 언브레이커블 디스플레이를 벗어나 자유롭게 휘는 플렉서블 디스플레이 제품을 생산하기 위해서는 매우 얇은 디스플레이용 광학 투명 복합필름이 필요하다. Currently, in order to consider the needs of consumers who want thinner and lighter products and to produce flexible display products that bend freely without breaking unbreakable displays, an optical transparent composite film for a very thin display is needed.

그러나 실제로 매우 얇은 박형의 고분자 필름을 사용하여 롤-투-롤 공정을 진행하게 되면 코팅막을 적층하는 공정에서 발생하는 열 및 UV 등의 극한 조건에 노출에 매우 취약하여 파단이 일어나기 매우 쉬우며, 공정을 진행하기 위한 100 내지 600 N 정도 수준의 장력(tension)을 주어 공정을 진행하였을 경우, 장력에 의한 웨이빙(waving) 및 주름(wrinkle)이 발생되어 증착 공정에서의 물성 균일성 불량 및 원단 손상이 발생하고, 장력이 300 N 이상일 경우 필름의 파단 현상이 발생하게 된다.However, when the roll-to-roll process is actually performed using a very thin thin polymer film, it is very susceptible to exposure to extreme conditions such as heat and UV generated during the lamination of the coating film, which is very easy to cause breakage. When the process was given by giving a tension of about 100 to 600 N to proceed, waving and wrinkles are generated due to tension, so that the uniformity of physical properties and fabric damage in the deposition process are prevented. When the tension is 300N or more, breakage of the film occurs.

이러한 문제 속에서 박형의 고분자 투명 필름을 플렉서블 디스플레이의 기판으로 사용하기 위해서는 롤-투-롤 공정에서의 수율을 높이고 우수한 가스 배리어 특성 및 광학 특성을 유지할 수 있는 새로운 기술이 개발되어야 하는 실정이다.In order to use the thin polymer transparent film as a substrate of the flexible display in this problem, it is necessary to develop a new technology that can increase the yield in the roll-to-roll process and maintain excellent gas barrier properties and optical properties.

본 발명이 해결하려는 다른 과제는 상기 공정을 통해 우수한 가스 배리어 특성 및 광학 특성을 유지하여 플렉서블 디스플레이 제품에 사용될 수 있는 우수한 물성을 갖는 박형의 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름을 제공하는 것이다.Another problem to be solved by the present invention is to provide an optical transparent composite film for thin process protective film laminated display having excellent physical properties that can be used in a flexible display product by maintaining excellent gas barrier properties and optical properties through the above process. .

본 발명이 해결하려는 과제는 롤-투-롤 코팅 공정 시 코팅면 배면에 공정용 보호필름을 부착하여 상기 문제점을 해결하고 높은 공정 수율을 갖는 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름의 제조방법을 을 제공하는 것이다.The problem to be solved by the present invention is to solve the above problems by attaching a process protective film on the back surface of the coating surface during the roll-to-roll coating process and a method of manufacturing an optical transparent composite film for a process protective film laminated display having a high process yield To provide.

본 발명이 해결하려는 또 다른 과제는 상기 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름을 이용한 플렉서블 디스플레이 제품을 제공하는 것이다.Another problem to be solved by the present invention is to provide a flexible display product using the optical transparent composite film for the protective film laminated display for the process.

이러한 과제를 해결하기 위하여, 본 발명의 일 측면에 따르면, In order to solve this problem, according to an aspect of the present invention,

열가소성 투명 베이스 수지를 포함하는 고분자 기재; A polymer substrate comprising a thermoplastic transparent base resin;

상기 고분자 기재의 적어도 일면 상에 형성된 무기물 가스배리어 층; 및An inorganic gas barrier layer formed on at least one surface of the polymer substrate; And

상기 무기물 가스 배리어층의 상면에 형성되고, (메트)아크릴레이트 단량체, 에폭시기를 가지며 중량평균 분자량이 500 ~ 10,000인 (메트)아크릴레이트 올리고머, 개시제, 실리카 입자 및 분산매를 포함하는 경화성 코팅액과 금속 알콕시드, 유기산으로 된 경화촉진제, 무기산 및 용매를 포함하는 졸 용액을 혼합한 경화성 졸 용액의 경화 결과물을 포함하는 유-무기 하이브리드 오버코팅층; 및It is formed on the upper surface of the inorganic gas barrier layer, the curable coating solution and (metal) alkoxy having a (meth) acrylate monomer, an epoxy group and a (meth) acrylate oligomer, an initiator, silica particles and a dispersion medium having a weight average molecular weight of 500 ~ 10,000 For example, an organic-inorganic hybrid overcoating layer comprising a hardening product of a curable sol solution mixed with a sol solution containing a curing accelerator, an organic acid, and a solvent; And

상기 고분자 기재의 타면 상에 합지된 공정용 보호필름을 포함하고, Including a process protective film laminated on the other surface of the polymer substrate,

상기 공정용 보호필름과 고분자 기재 사이의 점착력이 1 gf/inch 이상이고, Adhesion between the protective film for the process and the polymer substrate is 1 gf / inch or more,

상기 공정용 보호필름과 상기 고분자 기재-무기물 가스 배리어 층의 복합층사이의 점착력이 12 gf/inch 이하인 것을 특징으로 하는 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름이 제공된다:There is provided an optical transparent composite film for a process protective film lamination display, wherein the adhesion between the process protective film and the composite layer of the polymer substrate-inorganic gas barrier layer is 12 gf / inch or less:

본 발명의 다른 측면에 따르면,According to another aspect of the present invention,

열가소성 투명 베이스 수지를 포함하는 고분자 기재를 준비하는 단계;Preparing a polymer substrate comprising a thermoplastic transparent base resin;

상기 고분자 기재의 일면에 공정용 보호필름을 합지하는 단계;Laminating a process protective film on one surface of the polymer substrate;

상기 고분자 기재의 타면에 무기물 가스 배리어층을 형성하는 단계; 및Forming an inorganic gas barrier layer on the other surface of the polymer substrate; And

(메트)아크릴레이트 단량체, 에폭시기를 가지며 중량평균 분자량이 500 ~ 10,000인 (메트)아크릴레이트 올리고머 및 개시제를 분산매에 용해시키고 실리카 입자들이 분산된 경화성 코팅액과 금속 알콕시드, 경화촉진제, 무기산 및 물을 용매에 용해시킨 졸 용액을 혼합하여 준비된 경화성 졸 용액을, 상기 무기물 가스 배리어층의 상면에 도포하고, 상기 도포된 경화성 졸 용액을 경화시켜 유-무기 하이브리드 오버코팅층을 형성하는 단계;를 포함하는 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름의 제조방법이 제공된다: A (meth) acrylate monomer, an (meth) acrylate oligomer having an epoxy group and a weight average molecular weight of 500 to 10,000 and an initiator are dissolved in a dispersion medium, and a curable coating solution, a metal alkoxide, a curing accelerator, an inorganic acid, and water in which silica particles are dispersed. Applying a curable sol solution prepared by mixing a sol solution dissolved in a solvent to an upper surface of the inorganic gas barrier layer, and curing the applied curable sol solution to form an organic-inorganic hybrid overcoating layer. There is provided a method of preparing an optical transparent composite film for a protective film-laminated display.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 상기 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름을 이용한 플렉서블 디스플레이 제품이 제공된다.According to another aspect of the present invention, there is provided a flexible display product using the optical transparent composite film for the protective film laminated display for the process.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 코팅 공정시 코팅면 배면에 공정용 보호필름을 부착하여 공정 중 발생하는 열 및 UV에 의한 필름 손상, 공정을 진행하기 위한 100 내지 600 N 수준의 장력 조건에서의 웨이빙 및 주름 등의 필름 손상 및 파단을 방지함으로써 공정 수율을 매우 향상시킬 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the process protective film is attached to the back surface of the coating during the coating process film damage due to heat and UV generated during the process, under the tension conditions of 100 to 600 N level to proceed the process Process yield can be greatly improved by preventing film damage and fracture, such as webbing and wrinkling.

또한, 이러한 공정 방법을 채택함으로써 우수한 가스 배리어 특성 및 광학 특성을 유지하여 플렉서블 디스플레이 제품에 사용될 수 있는 우수한 물성을 갖는 박형의 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름을 제조할 수 있다.In addition, by adopting such a process method, it is possible to maintain an excellent gas barrier property and optical properties to produce a thin transparent protective film for a process protective film laminated display having excellent physical properties that can be used in flexible display products.

본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 후술하는 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니 된다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름을 제조하기 위한, 보호필름이 상면에 부착된 고분자 기재의 단면도이다.
도 3은 도 2의 고분자 기재의 하면에 공정용 보호필름이 합지된 결과물의 단면도이다.
도 4는 도 3의 보호필름이 제거되고 무기물 가스 배리어층이 형성된 결과물의 단면도이다.
도 5는 도 4의 무기물 가스 배리어층의 상면에 유-무기 하이브리드 오버코팅층이 형성된 결과물의 단면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름의 단면도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합 필름을 형성하기 위한 플라즈마 처리존을 포함하고 코팅존이 6개인 롤투롤 스퍼터기 듀얼모드 장비에 대한 모식도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The accompanying drawings, which are incorporated in and constitute a part of the specification, illustrate preferred embodiments of the invention and, together with the description of the invention given below, serve to further the understanding of the technical idea of the invention, And should not be construed as limiting.
1 is a cross-sectional view of an optical transparent composite film for a process protective film lamination display according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of a polymer substrate having a protective film attached to an upper surface thereof, in order to manufacture an optical transparent composite film for a process protective film laminated display according to an embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view of the result of laminating the process protective film on the lower surface of the polymer substrate of FIG.
FIG. 4 is a cross-sectional view of the result of removing the protective film of FIG. 3 and forming an inorganic gas barrier layer. FIG.
5 is a cross-sectional view of a result of forming an organic-inorganic hybrid overcoating layer on an upper surface of the inorganic gas barrier layer of FIG. 4.
6 is a cross-sectional view of an optical transparent composite film for a process protective film lamination display according to an embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a schematic diagram of a roll-to-roll sputtering dual mode apparatus having six coating zones and a plasma treatment zone for forming an optical transparent composite film for a process protective film lamination display according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Prior to this, terms and words used in the present specification and claims should not be construed as limited to ordinary or dictionary terms, and the inventor should appropriately interpret the concepts of the terms appropriately It should be interpreted in accordance with the meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention based on the principle that it can be defined.

따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상에 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.Therefore, the embodiments described in the present specification and the configurations shown in the drawings are only the most preferred embodiments of the present invention and do not represent all the technical ideas of the present invention. Therefore, It is to be understood that equivalents and modifications are possible.

본 발명의 일 측면에 따른 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름은 코팅 공정 시 코팅면 배면에 공정용 보호필름을 부착하여 공정 중 발생하는 열 및 UV에 의한 필름 손상, 공정을 진행하기 위한 100 내지 600 N 정도의 장력조건에서의 웨이빙 및 주름 등의 필름 손상 및 파단을 방지함으로써 공정 수율을 매우 향상시킬 수 있는 방법을 제시한다. 이하, 본 발명에 대해 상세히 설명하기로 한다. Process protective film laminated display optical transparent composite film according to an aspect of the present invention by attaching a process protective film on the back surface of the coating during the coating process due to heat and UV damage during the process, to proceed with the process The present invention proposes a method of greatly improving the process yield by preventing film damage and fracture such as wave and wrinkles under tension conditions of about 100 to 600 N. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명의 일 측면에 따른 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름은,Process protective film laminated display optical transparent composite film according to an aspect of the present invention,

열가소성 투명 베이스 수지를 포함하는 고분자 기재; A polymer substrate comprising a thermoplastic transparent base resin;

상기 고분자 기재의 적어도 일면 상에 형성된 무기물 가스배리어 층; An inorganic gas barrier layer formed on at least one surface of the polymer substrate;

상기 무기물 가스 배리어층의 상면에 형성되고, (메트)아크릴레이트 단량체, 에폭시기를 가지며 중량평균 분자량이 500 ~ 10,000인 (메트)아크릴레이트 올리고머, 개시제, 실리카 입자 및 분산매를 포함하는 경화성 코팅액과 금속 알콕시드, 유기산으로 된 경화촉진제, 무기산 및 용매를 포함하는 졸 용액을 혼합한 경화성 졸 용액의 경화 결과물을 포함하는 유-무기 하이브리드 오버코팅층; 및It is formed on the upper surface of the inorganic gas barrier layer, the curable coating solution and (metal) alkoxy having a (meth) acrylate monomer, an epoxy group and a (meth) acrylate oligomer, an initiator, silica particles and a dispersion medium having a weight average molecular weight of 500 ~ 10,000 For example, an organic-inorganic hybrid overcoating layer comprising a hardening product of a curable sol solution mixed with a sol solution containing a curing accelerator, an organic acid, and a solvent; And

상기 고분자 기재의 타면 상에 합지된 공정용 보호필름을 포함하고, Including a process protective film laminated on the other surface of the polymer substrate,

상기 공정용 보호필름과 고분자 기재 사이의 점착력이 1 gf/inch 이상이고, Adhesion between the protective film for the process and the polymer substrate is 1 gf / inch or more,

상기 공정용 보호필름과 상기 고분자 기재-무기물 가스 배리어 층의 복합층사이의 점착력이 12 gf/inch 이하이다.The adhesion between the process protective film and the composite layer of the polymer substrate-inorganic gas barrier layer is 12 gf / inch or less.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름(100)은 고분자 기재(10); 상기 고분자 기재의 적어도 일면 상에 형성된 무기물 가스배리어 층(20); 상기 무기물 가스 배리어층의 상면에 형성된 유-무기 하이브리드 오버코팅층(30); 및 상기 고분자 기재의 타면 상에 합지된 공정용 보호필름(40)을 포함한다.Referring to Figure 1, the optical protective composite film 100 for a process protective film lamination display according to an embodiment of the present invention is a polymer substrate (10); An inorganic gas barrier layer 20 formed on at least one surface of the polymer substrate; An organic-inorganic hybrid overcoating layer 30 formed on an upper surface of the inorganic gas barrier layer; And a process protective film 40 laminated on the other surface of the polymer substrate.

상기 고분자 기재는 열가소성 투명 베이스 수지를 포함하고, 이때, 상기 열가소성 투명 베이스 수지로는 폴리에테르술폰, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리아릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트글리콜, 폴리사이클로헥실렌디메틸렌테레프탈레이트글리콜, 사이클로올레핀 코폴리머 등을 사용할 수 있으며, 이에 제한되지 않는다. The polymer substrate includes a thermoplastic transparent base resin, wherein the thermoplastic transparent base resin includes polyethersulfone, polycarbonate, polyimide, polyarylate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate glycol, polycyclo Hexylenedimethylene terephthalate glycol, cycloolefin copolymer and the like can be used, but are not limited thereto.

상기 고분자 기재의 두께는 기계적 강도와 동시에 유연성을 만족한다면 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면 10 내지 500 ㎛, 바람직하게는 20 내지 200 ㎛일 수 있다. The thickness of the polymer substrate is not particularly limited as long as it satisfies mechanical strength and flexibility at the same time, and may be, for example, 10 to 500 μm, preferably 20 to 200 μm.

일반적으로 이러한 고분자 기재는 표면에 다양한 형태의 이물이 존재하여 무기물층을 형성할 시 많은 결함(defect) 등이 발생하여 그로 인해 가스 배리어 특성이 매우 저하될 우려가 있다. 따라서 고분자 필름의 표면 거칠기를 낮추어 무기물 가스 배리어층을 안정적으로 코팅한다거나 층간 계면에서의 저항력을 최소화하기 위해 언더코팅층을 추가하여 코팅층 간의 접착력을 향상시키는 등의 방법을 사용하여 상기 문제점들을 해결하려는 연구 또는 발명 등이 진행되고 있다. 그러나 이러한 언더코팅층을 구현하기 위해서는 필연적으로 습식 프로세스(wet process)를 적어도 한번은 진행하여야 되기 때문에 공정의 효율이 떨어져 대량 생산함에 있어서 문제가 되며 경제적인 불이익을 초래하는 결과를 불러올 수 있었다. 따라서 본 발명은 언더코팅 형성 과정을 생략하고 무기물 가스 배리어층의 증착 공정에 앞서 one-pot process로 플라즈마 처리를 진행하여 표면의 이물을 제거하고 표면평활도를 향상시키는 과정을 가진다. 이러한 플라즈마 처리를 통하여 접착력 향상뿐만이 아니라, 수분 차단성 및 산소 차단성 등의 가스 배리어 특성의 향상이라는 예상치 못한 효과를 가져오게 된다.In general, such polymer substrates may have various forms of foreign substances on the surface thereof, and thus, many defects may occur when the inorganic layer is formed, thereby deteriorating gas barrier properties. Therefore, to solve the above problems by using a method such as lowering the surface roughness of the polymer film to stably coat the inorganic gas barrier layer or adding an undercoat layer to minimize the resistance at the interface between the layers to improve the adhesion between the coating layers, or Invention is in progress. However, in order to implement such an undercoating layer, a wet process must be performed at least once, and thus, the efficiency of the process may be poor, resulting in economic disadvantages. Therefore, the present invention has a process of eliminating the undercoating process and performing a plasma treatment in a one-pot process prior to the deposition process of the inorganic gas barrier layer to remove foreign substances on the surface and improve surface smoothness. Such plasma treatment not only improves adhesion but also brings unexpected effects such as improvement of gas barrier properties such as moisture barrier property and oxygen barrier property.

상기 설명한 바와 같이 본 발명의 일 측면에 따른 광학 투명 복합 필름에서는 고분자 기재의 일 표면을 플라즈마 처리하여, 고분자 기재 일면 상에 형성된 플라즈마 표면 처리층을 포함하게 된다. 플라즈마 표면 처리에 있어서, 챔버(chamber)내의 진공도는 바람직하게 0.1 내지 500 mtorr, 보다 바람직하게는 0.5 내지 100 mtorr, 보다 특히 바람직하게는 1 내지 10 mtorr로 진행한다. 또한, 플라즈마의 파워는 0.1 내지 5 W/cm2, 바람직하게는 0.3 내지 3 W/cm2, 더욱 바람직하게는 0.5 내지 1 W/cm2으로, 선속도(line speed)는 0.1 내지 5 M/min속도로 진행한다. As described above, in the optical transparent composite film according to an aspect of the present invention, one surface of the polymer substrate is plasma treated to include a plasma surface treatment layer formed on one surface of the polymer substrate. In plasma surface treatment, the degree of vacuum in the chamber preferably proceeds from 0.1 to 500 mtorr, more preferably from 0.5 to 100 mtorr, even more preferably from 1 to 10 mtorr. Further, the power of the plasma is 0.1 to 5 W / cm 2 , preferably 0.3 to 3 W / cm 2 , more preferably 0.5 to 1 W / cm 2 , and the line speed is 0.1 to 5 M /. Proceed to min speed.

상기 기재된 진공도, 플라즈마 파워 및 선속도를 벗어나게 되면, 가스 배리어 효과 및 무기물 배리어층과의 접착력이 충분히 얻어지지 아니하며, 보다 구체적으로 진공도 혹은 플라즈마 파워가 너무 높거나 선속도가 너무 느리면 공정 중 기재의 표면의 거칠기(roughness)가 오히려 증가할 수 있다. 또한, 진공도 혹은 플라즈마 파워가 너무 낮거나 선속도(line speed)가 너무 빠르면 표면 이물이 제대로 제거되지 않고 개질 또한 완벽하게 되지 않을 수 있다. 다만, 상기 범위 내에서 기재의 종류나 상태에 따라 변형하여, 결정할 수 있다. When the degree of vacuum, plasma power and linear velocity described above are deviated, the gas barrier effect and the adhesion with the inorganic barrier layer are not sufficiently obtained, and more specifically, the surface of the substrate during the process when the vacuum or plasma power is too high or the linear velocity is too slow. The roughness of may rather increase. In addition, if the degree of vacuum or plasma power is too low or the line speed is too fast, the surface foreign matter may not be properly removed and the modification may not be perfect. However, it can deform | transform and determine according to the kind and state of a base material within the said range.

또한, 플라즈마 처리 시 O2, Ar, N2, H2와 같은 반응가스를 투입하는데 반응가스는 플라즈마를 발생시키는 것이면 제한을 두지 않는다.In addition, the reaction gas such as O 2 , Ar, N 2 , and H 2 is supplied during the plasma treatment, and the reaction gas does not limit the plasma to generate plasma.

플라즈마 처리 후, 표면에 존재하는 이물의 80% 이상이, 바람직하게 90% 이상, 보다 더 바람직하게 95% 이상이, 10 nm 이하, 바람직하게는 5 nm 이하, 더욱 바람직하게는 2 nm 이하여야 하며, 또한, 표면거칠기 즉, Ra 값은 0.3 nm 이하, 바람직하게는 0.1 nm 이하여야 한다. 이러한 표면거칠기는 작으면 작을수록 본 발명에 유리하다. 이와 같이 표면거칠기를 작게 제조하기 위하여 플라즈마 처리 조건을 제어하는 것이 중요하며, 이러한 플라즈마 처리 조건은 극한 조건이 아닌 특정 처리 조건을 의미하는 바이다. 상기 표면거칠기의 범위를 만족하였을 때 본원발명에 따른 가스 배리어 효과 및 무기물 배리어층과의 접착력을 만족시킬 수 있다. 이때, 이물(異物)이란 플라즈마 표면 처리층에 존재하는 유기 분진(organic dust) 등을 의미하며, 상기 필름제조 공정 또는 보호필름 합지 및 제거공정 등에서 필름표면에 달라붙어 발생할 수 있다. 표면 거칠기 및 표면에 존재하는 이물의 크기 측정은 VEECO Dimension 3100 Atomic Force Microscope(AFM)을 이용하여 측정한 값이다.After the plasma treatment, at least 80% of the foreign matter present on the surface, preferably at least 90%, even more preferably at least 95%, should be 10 nm or less, preferably 5 nm or less, more preferably 2 nm or less. In addition, the surface roughness, that is, the Ra value should be 0.3 nm or less, preferably 0.1 nm or less. The smaller the surface roughness is, the more advantageous for the present invention. As such, it is important to control the plasma processing conditions in order to produce a small surface roughness, and the plasma processing conditions mean specific processing conditions, not extreme conditions. When the range of the surface roughness is satisfied, the gas barrier effect and the adhesion with the inorganic barrier layer according to the present invention can be satisfied. In this case, the foreign matter refers to organic dust (organic dust) and the like present in the plasma surface treatment layer, it may be caused by sticking to the film surface in the film manufacturing process or protective film lamination and removal process. The surface roughness and the size of the foreign matter present on the surface were measured using a VEECO Dimension 3100 Atomic Force Microscope (AFM).

상기 고분자 기재의 일면에는 공정용 보호필름이 형성된다. 디스플레이용 광학 투명 복합필름을 제조하기 위하여, 상기 고분자 기재의 일면 상에 무기물 가스배리어층, 유-무기 하이브리드 오버코팅층이 형성되는 과정에서, 특히 롤-투-롤 공정에서 고분자 기재에 장력이 부가된다. 이때 부가되는 장력(예를 들면, 100 내지 600 N 정도)에 의하여, 고분자 기재에는 웨이빙 및 주름이 발생되어 이후 무기물 가스배리어층의 형성을 위한 증착 공정에서의 물성 균일성 불량 및 원단 손상이 발생하거나, 또는 큰 장력이 걸리는 경우에는 필름이 파단되는 현상이 발생하여 코팅 공정 자체가 불가능해질 수 있다. The protective film for the process is formed on one surface of the polymer substrate. In order to manufacture an optically transparent composite film for a display, a tension is added to the polymer substrate in a process of forming an inorganic gas barrier layer and an organic-inorganic hybrid overcoating layer on one surface of the polymer substrate, particularly in a roll-to-roll process. . In this case, due to the added tension (for example, about 100 to 600 N), the polymer substrate may cause wave and wrinkles, and thus may result in poor uniformity of physical properties and fabric damage in the deposition process for forming the inorganic gas barrier layer. , Or when a large tension is applied, the film may break and the coating process itself may be impossible.

따라서, 상기 공정용 보호필름은 공정 중 부가되는 장력 등에 의해 취약해질 수 있는 고분자 기재와 합지되어, 고분자 기재의 인장강도 등 물성을 강화시켜, 상기 공정상의 문제점을 해결할 수 있다.Thus, the protective film for the process is laminated with a polymer substrate that may be weak due to the tension added during the process, thereby enhancing the physical properties such as tensile strength of the polymer substrate, it is possible to solve the process problems.

이러한 공정용 보호필름은 공정중에 고분자 기재로부터 박리되지 않으면서, 추후 디스플레이 등에 적용시 용이하게 탈착되고, 고분자 기재에 점착층이 전사되지 않을 것이 요구되므로, 공정용 보호필름과 합지되는 고분자 기재 사이의 점착력의 제어가 매우 중요하다. The process protective film is easily peeled off when applied to a display or the like without being peeled off from the polymer substrate during the process, and the adhesive layer is not required to be transferred to the polymer substrate. Control of adhesion is very important.

따라서, 상기 공정용 보호필름과 고분자 기재 사이의 점착력은 1 gf/inch 이상, 바람직하게는 2 gf/inch 이상, 더 바람직하게는 3 내지 4 gf/inch 이다. 또한, 상기 고분자 기재의 타면에 무기물 가스배리어층이 형성된 이후에, 고분자 기재-무기물 가스배리어층의 복합층과 상기 공정용 보호필름 사이의 점착력은 12 gf/inch 이하, 바람직하게는 9gf/inch 이하, 더 바람직하게는 4 내지 8 gf/inch 이다.Therefore, the adhesive force between the process protective film and the polymer substrate is 1 gf / inch or more, preferably 2 gf / inch or more, more preferably 3 to 4 gf / inch. In addition, after the inorganic gas barrier layer is formed on the other surface of the polymer substrate, the adhesive force between the composite layer of the polymer substrate-inorganic gas barrier layer and the protective film for the process is 12 gf / inch or less, preferably 9gf / inch or less , More preferably 4 to 8 gf / inch.

이와 같이, 고분자 기재의 일면에 공정용 보호필름만이 부착된 경우에, 이들 양자간의 점착력 보다, 고분자 기재에 공정용 보호필름이 부착되고, 이어 무기물 가스배러어층이 형성된 이후에, 공정용 보호필름과 상기 고분자 기재-무기물 가스배리어층의 복합층간의 점착력은 일반적으로 증가하게 된다. 이는 고분자 기재 상에 무기물 가스 배리어층을 형성하기 위해 물리적 또는 화학적 방법으로 증착 코팅 공정을 거치게 되며, 이러한 공정이 공정용 보호필름의 점착층과 고분자 기재간에도 영향을 미쳐 이들 양자가 더 견고하게 점착된 결과로 이해된다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 후공정 공정 불량 및 점착층 전사 문제 발생를 방지하기 위해, 상기 고분자 기재-무기물 가스배리어층의 복합층과 상기 공정용 보호필름 사이의 점착력은 12 gf/inch 이하로 조절된다. As such, when only the protective film for the process is attached to one surface of the polymer substrate, the protective film for the process is attached to the polymer substrate and then the inorganic gas barrier layer is formed, rather than the adhesion between the two. The adhesion between the polymer substrate and the composite layer of the inorganic gas barrier layer is generally increased. It is subjected to a deposition coating process by a physical or chemical method to form an inorganic gas barrier layer on the polymer substrate, and this process also affects between the adhesive layer of the process protective film and the polymer substrate so that both of them are more firmly adhered. It is understood as a result. According to an embodiment of the present invention, in order to prevent post-process process defects and adhesive layer transfer problems, the adhesive force between the composite layer of the polymer substrate-inorganic gas barrier layer and the process protective film is 12 gf / inch or less. Adjusted.

본 발명의 일 실시예에 따른 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름은, 후공정 공정 불량 및 점착층 전사 문제가 방지되고, 박형의 필름을 사용한 공정 후에도 우수한 광학특성 및 가스 배리어 특성을 유지 할 수 있다.The optical protective composite film for a protective film laminated display for a process according to an embodiment of the present invention is prevented in post-process defects and adhesive layer transfer problems, and maintains excellent optical and gas barrier properties even after a process using a thin film. can do.

상기 공정용 보호필름은 점착층과 기재로 이루어진다. 상기 기재는 고분자 기재와 합지되어 코팅 공정이 효율적으로 이루어지도록 인장강도와 같은 물성을 부여하는 재료의 필름이라면 제한 없이 적용될 수 있으며, 비제한적인 예로서, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리에스테르 등의 중합체 필름이 있다. The process protective film is composed of an adhesive layer and a base material. The substrate may be applied without limitation as long as it is a film of a material that is laminated with a polymer substrate to impart physical properties such as tensile strength so that the coating process is performed efficiently. Non-limiting examples include polyethylene terephthalate, polypropylene, polyethylene, polyester Polymer films such as these.

또한, 상기 공정용 보호필름은 점착층을 구비함으로써, 고분자 기재와 합지되고, 이후 박리될 수 있다. 상기 점착층은, 고분자 수지, 개시제, 가교제 등의 혼합물을 UV 조사에 의해 경화되어 형성될 수 있다. 이러한 고분자 수지의 예를 들면, 아크릴계 수지, 고무계 수지, 실리콘계 수지 등을 포함하며, 이중에서 아크릴계 수지는 투명성, 내구성, 내열성 등이 우수하다. 이러한 아크릴계 수지서는, 특히 한정되지 않고, 용도에 맞게 다양한 아크릴계 모노머 또는 메타크릴계 모노머를 중합 시키는 것으로 얻을 수 있다. 또한, 상기 가교제로는 이소시아네이트 화합물, 아지리딘 화합물, 에폭시화합물 등의 가교제가 더 포함될 수 있다.In addition, the protective film for the process may be laminated with a polymer substrate by having an adhesive layer, and then peeled off. The adhesive layer may be formed by curing a mixture of a polymer resin, an initiator, a crosslinking agent, and the like by UV irradiation. Examples of such polymer resins include acrylic resins, rubber resins, silicone resins, and the like, of which acrylic resins are excellent in transparency, durability, heat resistance, and the like. Such an acrylic resin book is not specifically limited, It can obtain by superposing | polymerizing various acrylic monomers or methacryl-type monomers according to a use. In addition, the crosslinking agent may further include a crosslinking agent such as an isocyanate compound, an aziridine compound, an epoxy compound, and the like.

상기 공정용 보호필름의 두께는, 예를 들면, 20 내지 100 ㎛인 것이 바람직하고, 30 내지 80 ㎛인 것이 더욱 바람직하며, 40 내지 60 ㎛인 것이 특히 바람직하다.It is preferable that the thickness of the said protective film for processes is 20-100 micrometers, for example, it is more preferable that it is 30-80 micrometers, and it is especially preferable that it is 40-60 micrometers.

또한, 상기 무기물 가스배리어층은 Si, Al, In, Sn, Zn, Ti, Cu, Ce 및 Ta 로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 종 이상의 금속을 함유하는 산화물, 질화물, 탄화물, 산화질화물, 산화탄화물, 질화탄화물, 또는 산화질화탄화물을 포함한다. 구체적으로, 상기 무기물 가스배리어층은 실리콘 옥사이드, 실리콘 나이트라이드, 알루미늄 옥사이드 또는 ITO(인듐 주석 산화물)을 포함할 수 있다.In addition, the inorganic gas barrier layer may include oxides, nitrides, carbides, oxynitrides, oxide carbides, oxides, nitrides, carbides, Nitriding carbides, or oxynitride carbides. Specifically, the inorganic gas barrier layer may include silicon oxide, silicon nitride, aluminum oxide, or ITO (indium tin oxide).

상기 무기물 가스배리어층은 예를 들면, 20 내지 500 nm, 또는 30 내지 100 nm의 두께일 수 있고, 상기 무기물 가스배리어층의 두께가 이러한 범위를 만족하는 경우, 균일한 막을 형성할 수 있고, 분산이 용이하게 되어 우수한 가스배리어성을 나타낼 수 있으며, 코팅층에 의한 층간 스트레스 감소효과가 충분히 발현되고, 크랙이나 박리 등의 문제를 방지할 수 있다.The inorganic gas barrier layer may be, for example, a thickness of 20 to 500 nm, or 30 to 100 nm, and when the thickness of the inorganic gas barrier layer satisfies this range, a uniform film may be formed and dispersed. This makes it easy to exhibit excellent gas barrier properties, the effect of reducing the interlayer stress by the coating layer is sufficiently expressed, and problems such as cracking and peeling can be prevented.

이어서, 유-무기 하이브리드 오버코팅층은 경화성 용액 및 졸 용액을 혼합한 경화성 졸 용액을 UV 경화 또는 열경화하여 형성된다.Subsequently, the organic-inorganic hybrid overcoating layer is formed by UV curing or thermosetting the curable sol solution in which the curable solution and the sol solution are mixed.

상기 경화성 졸 용액은 (메트)아크릴레이트 단량체, 에폭시기를 가지며 중량평균 분자량이 500 ~ 10,000인 (메트)아크릴레이트 올리고머 및 개시제를 분산매에 용해시키고 실리카 입자들을 분산시킨 경화성 코팅액을 포함한다.The curable sol solution includes a (meth) acrylate monomer, an epoxy group, a (meth) acrylate oligomer having a weight average molecular weight of 500 to 10,000, and an initiator in a dispersion medium, and a curable coating solution in which silica particles are dispersed.

상기 (메트)아크릴레이트 단량체는 경화성 코팅액의 점도와 경화 밀도를 조절하고, 무기물 가스 배리어층과의 접착력을 향상시키는 기능을 수행한다. (메트)아크릴레이트 단량체는 일관능성 또는 다관능성 단량체일 수 있다. 또한, 에톡시화 또는 프로폭시화된 형태로 존재할 수 있다. (메트)아크릴레이트 단량체로는 2(2-에톡시에톡시)에틸아크릴레이트, 2-페녹시에틸아크릴레이트, 2-페녹시에틸메타크릴레이트, 카프로락톤아크릴레이트, 디시클로펜타디에닐메타크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴메타크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,4 부탄디올디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 에톡시화된 비스페놀 A 디아크릴레이트, 에톡시화된 비스페놀 A 디메타크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 에톡시화된 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 프로폭시화된 글리세릴트리아크릴레이트, 프로폭시화된 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리메타크릴레이트, 트리스(2-히드록시에틸) 이소시아누레이트트리아크릴레이트 등을 각각 단독으로 또는 이들을 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The (meth) acrylate monomer functions to control the viscosity and the curing density of the curable coating liquid and improve the adhesion to the inorganic gas barrier layer. The (meth) acrylate monomers may be monofunctional or polyfunctional monomers. It may also exist in ethoxylated or propoxylated form. Examples of the (meth) acrylate monomer include 2 (2-ethoxyethoxy) ethyl acrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, 2-phenoxyethyl methacrylate, caprolactone acrylate, dicyclopentadienyl methacryl Butanediol diacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, diethyleneglycol diacrylate, Acrylate, ethoxylated bisphenol A dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, ethoxylated trimethylol propane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, propoxylated glyceryl triacrylate, propoxylated Trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, tris (2- Hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate, or the like, or a mixture of two or more thereof.

상기 에폭시기를 가지며 중량평균 분자량이 500 ~ 10,000인 (메트)아크릴레이트 올리고머는 (메트)아크릴레이트기 및 에폭시기를 갖는 올리고머로서, 플라스틱 투명필름과 무기물 가스 배리어층에 유-무기 하이브리드 오버코팅층이 잘 접착될 수 있도록 기여한다. 특히 플라스틱 투명필름과의 접착력 향상에 기여하며, 예를 들어 비스페놀-A 에폭시 아크릴레이트 올리고머, 난연형 에폭시 아크릴레이트 올리고머, 노볼락형 에폭시 아크릴레이트 올리고머, 비스페놀-F 에폭시 아크릴레이트 올리고머, 글리시딜 아민형 에폭시 아크릴레이트 올리고머, 고무 변성형 에폭시 아크릴레이트 올리고머 등을 각각 단독으로 또는 이들을 2종이상 혼합하여 사용할 수 있다.The (meth) acrylate oligomer having an epoxy group and a weight average molecular weight of 500 to 10,000 is an oligomer having a (meth) acrylate group and an epoxy group, and the organic-inorganic hybrid overcoat layer is well adhered to the plastic transparent film and the inorganic gas barrier layer . Particularly, it contributes to enhancement of adhesion with a plastic transparent film. Examples thereof include bisphenol-A epoxy acrylate oligomer, flame retardant epoxy acrylate oligomer, novolac epoxy acrylate oligomer, bisphenol-F epoxy acrylate oligomer, glycidyl amine Type epoxy acrylate oligomer, rubber modified epoxy acrylate oligomer, or the like, or a mixture of two or more of them may be used.

상기 개시제는 화학선에 의해 (메트)아크릴레이트 관능기의 중합반응을 개시할 수 있는 임의의 화학적 화합물일 수 있다. 적합한 광 개시제의 예로는 1-히드록시-시클로헥실-페닐-케톤, 벤조페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-1-프로판온, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸-1-프로판온,2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-[4-(4-모르폴리닐)페닐]-1-부타논, 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀옥시드, 이들의 혼합물 등이 있다. 광잠열베이스(photolatent base)유형 광개시제, 예를 들어 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-(4-모르폴리닐)-1-프로판온 또한 광개시제로서 사용될 수 있다.The initiator may be any chemical compound capable of initiating the polymerization of (meth) acrylate functional groups by actinic radiation. Examples of suitable photoinitiators include 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, benzophenone, 2-hydroxy-2-methyl- 2- (dimethylamino) -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone, 2-hydroxy- Diphenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phosphine oxide, mixtures thereof, and the like. Photolatent base type photoinitiators such as 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2- (4-morpholinyl) -1-propanone can also be used as photoinitiators.

상기 경화성 코팅액에 사용되는 분산매에는 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 부탄올, 이소부탄올, 이차부탄올, 삼차부탄올, 시클로헥산올, 펜탄올, 옥탄올, 데칸올, 디-n-부틸에테르, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜메틸에테르, 디프로필렌글리콜메틸에테르, 트리프로필렌글리콜메틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 트리프로필렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜부틸에테르, 디에틸렌글리콜부틸에테르, 에틸렌글리콜디부틸에테르, 에틸렌글리콜메틸에테르, 디에틸렌글리콜에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜에틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리프로필렌글리콜, 부틸렌글리콜, 디부틸렌글리콜, 트리부틸렌글리콜, 테트라히드로푸란, 디옥산, 아세톤, 디아세톤알코올, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 메틸이소부틸케톤, 에틸아세테이트, n-프로필아세테이트, n-부틸아세테이트, t-부틸아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 1-메톡시-2-프로판올, 에틸 3-에톡시프로피오네이트,2-프로폭시에탄올, 에틸렌글리콜에틸에테르아세테이트 또는 이들의 혼합물 등이 포함된다. The dispersion medium used in the curable coating liquid may include at least one of methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, secondary butanol, tertiary butanol, cyclohexanol, pentanol, octanol, decanol, Examples of the organic solvent include ether, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol methyl ether, dipropylene glycol methyl ether, tripropylene glycol methyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, tripropylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol butyl ether, diethylene glycol butyl ether, Diethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, Propylene glycol, butylene The solvent may be selected from the group consisting of glycol, dibutylene glycol, tributylene glycol, tetrahydrofuran, dioxane, acetone, diacetone alcohol, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, 1-methoxy-2-propanol, ethyl 3-ethoxypropionate, 2-propoxyethanol, ethylene glycol ethyl ether acetate or Mixtures thereof, and the like.

상기 경화성 코팅액에 분산되는 실리카 입자는 평균 입자 크기가 약 100 nm 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 약 5 내지 50 nm이다. The silica particles dispersed in the curable coating liquid preferably have an average particle size of about 100 nm or less, and more preferably about 5 to 50 nm.

상기 실리카 입자는 건조 분말의 형태 또는 적합한 액체 중 콜로이드성 분산물, 또는 다른 형태로 코팅액에 첨가될 수 있다. 실리카 입자로는 그대로 또는 경화성 코팅액에 대한 입자들의 혼화성을 증가시키기 위하여 표면에 적절한 관능기를 도입하는 등 화학적 개질을 한 것도 포함된다. The silica particles may be added to the coating solution in the form of a dry powder or in a colloidal dispersion in a suitable liquid, or other form. Silica particles include those modified as such or by introducing appropriate functional groups on the surface in order to increase the miscibility of the particles to the curable coating solution.

또한, 상기 경화성 코팅액은 (메트)아크릴레이트기를 갖는 규소 알콕시드를 더 포함할 수 있다. 본 명세서에 있어서, (메트)아크릴레이트는 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트를 의미한다.In addition, the curable coating liquid may further include a silicon alkoxide having a (meth) acrylate group. In the present specification, (meth) acrylate means acrylate or methacrylate.

상기 (메트)아크릴레이트기를 갖는 규소 알콕시드의 예로는 (3-아크릴옥시프로필)디메틸메톡시실란, (3-아크릴옥시프로필)메틸디메톡시실란, (3-아크릴옥시프로필)트리메톡시실란, (메타크릴옥시메틸)디메틸에톡시실란, 메타크릴옥시메틸트리에톡시실란, 메타크릴옥시메틸트리메톡시실란, 메타크릴옥시프로필메틸디에톡시실란, 메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, (3-메타크릴옥시프로필)트리에톡시실란, (3-메타크릴옥시프로필)트리메톡시실란 등을 각각 단독으로 또는 이들을 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of the silicon alkoxide having the (meth) acrylate group include (3-acryloxypropyl) dimethylmethoxysilane, (3-acryloxypropyl) methyldimethoxysilane, (3-acryloxypropyl) trimethoxysilane, (Methacryloxymethyl) dimethylethoxysilane, methacryloxymethyltriethoxysilane, methacryloxymethyltrimethoxysilane, methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, (3- Methacryloxypropyl) triethoxysilane, (3-methacryloxypropyl) trimethoxysilane, etc. can be used individually or in mixture of 2 or more types, respectively.

상기 유-무기 하이브리드 오버코팅층을 형성하기 위한 경화성 코팅액을 구성하는 각각의 조성성분들의 상대량은 목적하는 기판용 필름의 물성에 따라 조절할 수 있는데, 경화성 코팅액에 포함된 (메트)아크릴레이트 단량체, 에폭시기를 가지며 중량평균 분자량이 500 ~ 10,000인 (메트)아크릴레이트 올리고머 및 실리카 입자의 중량비는 1~40 : 1~40 : 1~25, 바람직하게 10~30 : 10~30 : 1~10, 또는 더욱 바람직하게 15~25 : 15~25 : 1~7 이다.The relative amount of each of the components constituting the curable coating liquid for forming the organic-inorganic hybrid overcoating layer can be adjusted according to the properties of the film for the substrate, the (meth) acrylate monomer, epoxy group contained in the curable coating liquid The weight ratio of the (meth) acrylate oligomer and silica particles having a weight average molecular weight of 500 to 10,000 and 1 to 40: 1 to 40: 1 to 25, preferably 10 to 30: 10 to 30: 1 to 10, or more Preferably it is 15-25: 15-25: 1-1.

이후, 금속 알콕시드, 경화촉진제, 무기산 및 물을 용매에 용해시킨 졸 용액을 상기 경화성 코팅액과 혼합하는 과정을 거친다.Thereafter, a sol solution in which a metal alkoxide, a curing accelerator, an inorganic acid, and water is dissolved in a solvent is mixed with the curable coating solution.

상기 졸 용액에 포함된 금속 알콕시드로는 하기 화학식 1 내지 화학식 3으로 표시되는 금속 알콕시드로부터 선택된 어느 하나 또는 이들 중 2종 이상의 혼합물을 사용하는 것이 바람직하다.As the metal alkoxide contained in the sol solution, it is preferable to use any one selected from metal alkoxides represented by the following formulas (1) to (3) or a mixture of two or more thereof.

<화학식 1>&Lt; Formula 1 >

R1 xM1(OR2)4-x R 1 x M 1 (OR 2 ) 4-x

<화학식 2>(2)

R1 yM2(OR2)3-y R 1 y M 2 (OR 2 ) 3-y

<화학식 3><Formula 3>

R1 zNb(OR2)5-z R 1 z Nb (OR 2) 5-z

상기 화학식 1 내지 3에서, R1은 탄소수가 1 내지 4인 알킬기, 비닐기, 알릴기, (메트)아크릴옥시기, 에폭시드기 및 아미노기로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나이고, R2는 탄소수가 1 내지 4인 알킬기이고, M1은 Si, Ti, Zr, Ge 및 Sn으로 이루어진 군으로부터 선택된 금속이고, M2는 Al, In 및 Sb로 이루어진 군으로부터 선택된 금속이고, x는 0, 1, 2 또는 3이고, y는 0, 1 또는 2이며, z는 0, 1, 2, 3 또는 4이다. In the above Chemical Formulas 1 to 3, R 1 is a carbon number of 1 to 4 alkyl group, a vinyl group, an allyl group, (meth) acryloxy group, any one selected from the group consisting of epoxy deugi and amino groups, R 2 has a carbon number of 1 a 1-4 alkyl group, M 1 is a metal selected from the group consisting of Si, Ti, Zr, Ge and Sn, M 2 is a metal selected from the group consisting of Al, in and Sb, x is 0, 1, 2, or 3, y is 0, 1 or 2, and z is 0, 1, 2, 3 or 4.

이러한 금속 알콕시드로는 알루미늄아크릴레이트, 알루미늄에톡시드, 알루미늄이소프로폭시드, 알루미늄메타크릴레이트, 안티몬III n-부톡시드, 안티몬 III 에톡시드, 안티몬III 메톡시드, 게르마늄 n-부톡시드, 게르마늄에톡시드, 게르마늄이소프로폭시드, 게르마늄메톡시드, 메타크릴옥시트리에틸게르만, 인듐메톡시에톡시드, 니오븀 V n-부톡시드, 니오븀 V 에톡시드, 주석 II 에톡시드, 주석 II 메톡시드, 디-n-부틸디아크릴레이트주석 디-n-부틸디메타크릴레이트주석, 티탄 n-부톡시드, 티탄에톡시드, 티탄이소부톡시드, 티탄이소프로폭시드, 티탄메타크릴레이트트리이소프로폭시드, 티탄메타크릴옥시에틸아세토아세테이트트리이소프로폭시드, 티탄 n-프로폭시드지르코늄 n-부톡시드, 지르코늄 t-부톡시드, 지르코늄디메타크릴레이트디부톡시드, 지르코늄에톡시드, 지르코늄이소프로폭시드, 지르코늄메타크릴레이트, 지르코늄메타크릴옥시에틸아세토아세테이트트리-n-부톡시드, 지르코닐디메타크릴레이트, 메틸트리메톡시실란, 메텔트리에톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라메톡시실란 등을 예시할 수 있으며, 이들을 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. Examples of such metal alkoxides include aluminum acrylate, aluminum ethoxide, aluminum isopropoxide, aluminum methacrylate, antimony III n-butoxide, antimony III ethoxide, antimony III methoxide, germanium n-butoxide, Niobium V ethoxide, tin II ethoxide, tin II methoxide, diethoxyethane, diethoxyethane, diethoxyethane, diethoxyethane, ethoxyethyl ether, n-butyl diacrylate tin di-n-butyl dimethacrylate tin, titanium n-butoxide, titanium ethoxide, titanium isobutoxide, titanium isopropoxide, titanium methacrylate triisopropoxide , Titanium methacryloxyethylacetoacetate triisopropoxide, titanium n-propoxide zirconium n-butoxide, zirconium t-butoxide, zirconium dimethacrylate dibutoxide, Nium ethoxide, zirconium isopropoxide, zirconium methacrylate, zirconium methacryloxyethyl acetoacetate tri-n-butoxide, zirconyl dimethacrylate, methyltrimethoxysilane, methyl triethoxysilane, tetra Ethoxysilane, tetramethoxysilane, etc. can be illustrated, These can be used individually or in mixture of 2 or more types, respectively.

한편, 상기 졸 용액에 포함된 경화촉진제는 비교적 낮은 온도에서도 축합반응이 가능하도록 하므로, 롤-투-롤 방식 적용에 기여한다. 이러한 경화촉진제로는 유기산이 이용될 수 있고, 구체적으로는, 무수물, 카르복실산, 이들의 혼합물 등일 수 있다. 무수물의 적합한 예로는 아세트산무수물, 아크릴산무수물, 시클릭무수물, 헥사히드로프탈산무수물, 메타크릴산무수물, 프로피온산무수물, 이들의 혼합물 등이 있다. 가능한 카르복실산 성분으로는 아세트산, 아크릴산, 포름산, 푸마르산, 이타콘산, 말레산, 메타크릴산, 프로피온산, 메틸렌숙신산, 이들의 혼합물 등이 포함된다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. Meanwhile, the curing accelerator included in the sol solution enables condensation reaction even at a relatively low temperature, thereby contributing to roll-to-roll application. An organic acid may be used as the curing accelerator, and specifically, an anhydride, a carboxylic acid, a mixture thereof, or the like may be used. Suitable examples of anhydrides include acetic anhydride, acrylic acid anhydride, cyclic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methacrylic anhydride, propionic anhydride, and mixtures thereof. Possible carboxylic acid components include acetic acid, acrylic acid, formic acid, fumaric acid, itaconic acid, maleic acid, methacrylic acid, propionic acid, methylenesuccinic acid, mixtures thereof and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 무기산은 졸-겔 가수분해 반응을 촉매할 수 있는 임의의 무기산일 수 있다. 적합한 무기산에는 염산, 질산, 황산, 불화수소산, 이들의 혼합물 등이 있다. The inorganic acid may be any inorganic acid capable of catalyzing a sol-gel hydrolysis reaction. Suitable inorganic acids include hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, hydrofluoric acid, mixtures thereof, and the like.

상기 용매로는 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 부탄올, 이소부탄올, 이차부탄올, 삼차부탄올, 시클로헥산올, 펜탄올, 옥탄올, 데칸올, 디-n-부틸에테르, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜메틸에테르, 디프로필렌글리콜메틸에테르, 트리프로필렌글리콜메틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 트리프로필렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜부틸에테르, 디에틸렌글리콜부틸에테르, 에틸렌글리콜디부틸에테르, 에틸렌글리콜메틸에테르, 디에틸렌글리콜에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜에틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리프로필렌글리콜, 부틸렌글리콜, 디부틸렌글리콜, 트리부틸렌글리콜, 테트라히드로푸란,디옥산, 아세톤, 디아세톤알코올, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 메틸이소부틸케톤, 에틸아세테이트, n-프로필아세테이트, n-부틸아세테이트, t-부틸아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 1-메톡시-2-프로판올, 에틸 3-에톡시프로피오네이트,2-프로폭시에탄올, 에틸렌글리콜에틸에테르아세테이트 등을 들 수 있고, 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. Examples of the solvent include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, secondary butanol, tertiary butanol, cyclohexanol, pentanol, octanol, decanol, di-n-butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, Diethylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol methyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, tripropylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol butyl ether, diethylene glycol butyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, ethylene Examples of the organic solvent include methyl ethyl ketone, methyl ethyl ketone, methyl ethyl ketone, glycol methyl ether, diethylene glycol ethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol, diethylene glycol, Diethylene glycol, triethylene glycol, Butylacetate, t-butyl acetate, propylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, butylene glycol, tetrahydrofuran, dioxane, acetone, diacetone alcohol, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, Propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, 1-methoxy-2-propanol, ethyl 3-ethoxypropionate, 2-propoxyethanol and ethylene glycol ethyl ether acetate. Or a mixture of two or more of them may be used.

전술한 유-무기 하이브리드 오버코팅층을 형성하기 위한 경화성 졸 용액을 구성하는 각각의 조성성분들의 상대량은 목적하는 필름의 물성에 따라 적절히 조절할 수 있으며 상기 하이브리드 오버코트층의 두께는 0.1 내지 10 ㎛인 것이 바람직하다.The relative amount of each of the components constituting the curable sol solution for forming the organic-inorganic hybrid overcoat layer described above can be appropriately adjusted according to the properties of the desired film and the thickness of the hybrid overcoat layer is 0.1 to 10 ㎛ desirable.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름은 상기 유-무기 하이브리드 오버코트층의 상면에 보호필름을 더 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the process protective film laminated display optical transparent composite film may further include a protective film on the upper surface of the organic-inorganic hybrid overcoat layer.

상기 보호필름은 디스플레이용 광학 투명 복합필름의 보관 또는 이송시 복합필름의 상면이 손상되는 것을 방지하기 위하여 부착되는 필름으로서, 오버코팅층과 잘 부착하고, 통상적인 외부 자극에 파손되지 않는 물성을 갖는 것이라면 제한없이 사용될 수 있다. 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 등의 필름이 사용될 수 있다. 상기 보호필름의 두께는 20 내지 100 ㎛ 일 수 있다.The protective film is a film attached to prevent the upper surface of the composite film from being damaged during storage or transport of the optically transparent composite film for display, and if the adhesive film adheres well to the overcoating layer and has physical properties that are not damaged by normal external magnetic poles. It can be used without limitation. For example, films of polyethylene, polypropylene, and the like can be used. The thickness of the protective film may be 20 to 100 ㎛.

본 발명의 다른 측면에 따른 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름의 제조방법은,According to another aspect of the present invention, a method for manufacturing an optical transparent composite film for protective film lamination display for processing,

열가소성 투명 베이스 수지를 포함하는 고분자 기재를 준비하는 단계;Preparing a polymer substrate comprising a thermoplastic transparent base resin;

상기 고분자 기재의 일면에 공정용 보호필름을 합지하는 단계;Laminating a process protective film on one surface of the polymer substrate;

상기 고분자 기재의 타면에 무기물 가스 배리어층을 형성하는 단계; 및Forming an inorganic gas barrier layer on the other surface of the polymer substrate; And

(메트)아크릴레이트 단량체, 에폭시기를 가지며 중량평균 분자량이 500 ~ 10,000인 (메트)아크릴레이트 올리고머 및 개시제를 분산매에 용해시키고 실리카 입자들이 분산된 경화성 코팅액과 금속 알콕시드, 경화촉진제, 무기산 및 물을 용매에 용해시킨 졸 용액을 혼합하여 준비된한 경화성 졸 용액을, 상기 무기물 가스 배리어층의 상면에 도포하고, 상기 도포된 경화성 졸 용액을 경화시켜 유-무기 하이브리드 오버코팅층을 형성하는 단계;를 포함하는 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름의 제조방법을 포함한다.A (meth) acrylate monomer, an (meth) acrylate oligomer having an epoxy group and a weight average molecular weight of 500 to 10,000 and an initiator are dissolved in a dispersion medium, and a curable coating solution, a metal alkoxide, a curing accelerator, an inorganic acid, and water in which silica particles are dispersed. Applying a curable sol solution prepared by mixing a sol solution dissolved in a solvent to an upper surface of the inorganic gas barrier layer, and curing the applied curable sol solution to form an organic-inorganic hybrid overcoating layer. Process protective film Includes a method for producing an optical transparent composite film for laminated display.

전술한 바와 같이, 두께가 50 ㎛ 이하인 고분자 필름의 롤-투-롤 공정에서 100 내지 600 N 정도의 장력을 주어 공정을 진행하였을 경우, 장력에 의한 웨이빙 및 주름이 발생되어 증착 공정에서의 물성 균일성 불량 및 원단 손상이 발생하고, 장력이 300 N 이상일 경우 필름의 파단 현상이 발생하여 공정이 불가능해진다. 이에, 본 발명의 일 실시예에 따른 제조방법에서는, 공정용 보호필름을 이용하여 상기 문제를 해결할 수 있다. As described above, in the roll-to-roll process of a polymer film having a thickness of 50 μm or less, when the process is performed with a tension of about 100 to 600 N, wavering and wrinkles are generated due to tension, and thus physical properties are uniform in the deposition process. Defects and fabric damage occurs, and if the tension is 300N or more breakage of the film occurs, making the process impossible. Thus, in the manufacturing method according to an embodiment of the present invention, the problem can be solved by using a protective film for the process.

도 2 내지 6을 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름의 제조방법을 설명한다.With reference to Figures 2 to 6, it will be described a method for manufacturing an optical transparent composite film for a protective film laminated display for a process according to an embodiment of the present invention.

먼저, 열가소성 투명 베이스 수지를 포함하는 고분자 기재를 준비한다. 이때, 상기 열가소성 투명 베이스 수지에 대한 사항은 전술한 바와 같다. 상기 고분자 기재는 단독으로 사용될 수도 있고, 도 2와 같이 고분자 기재의 상면에 보호필름이 부착된 상태로 사용될 수도 있다. 또한, 롤-투-롤 공정을 위하여, 상기 고분자 기재 단독 또는 상면에 보호필름이 부착된 고분자 기재는 롤 타입으로 준비될 수 있다.First, a polymer substrate containing a thermoplastic transparent base resin is prepared. In this case, the details of the thermoplastic transparent base resin are as described above. The polymer substrate may be used alone, or may be used in a state in which a protective film is attached to an upper surface of the polymer substrate as shown in FIG. 2. In addition, for the roll-to-roll process, the polymer substrate having the protective film attached to the polymer substrate alone or the upper surface may be prepared in a roll type.

다음으로, 상기 고분자 기재의 일면에 공정용 보호필름을 합지한다. 이후 무기물 가스배리어층 및 유-무기 하이브리드 오버코팅층을 코팅하는 공정 중에, 고분자 기재가 취약해지거나, 파단되는 등의 문제를 방지하기 위하여, 고분자 기재의 일면 상에 공정용 보호필름을 부착하는 단계이다. 상기 고분자 기재 단독인 경우에는 양면 중 일면에 공정용 보호필름을 합지할 수 있고, 도 3과 같이 상기 고분자 기재(210)의 일면에 보호필름(250)이 부착된 경우에는 고분자 기재(210)의 타면에 공정용 보호필름(240)을 합지할 수 있다. Next, the protective film for the process is laminated on one surface of the polymer substrate. Thereafter, during the process of coating the inorganic gas barrier layer and the organic-inorganic hybrid overcoating layer, a process protective film is attached to one surface of the polymer substrate in order to prevent problems such as weakening or breaking of the polymer substrate. . In the case of the polymer substrate alone, the process protective film may be laminated on one surface of both surfaces, and when the protective film 250 is attached to one surface of the polymer substrate 210 as shown in FIG. The protective film 240 for the process may be laminated on the other surface.

이때, 상기 고분자 기재의 일면에 공정용 보호필름을 합지하는 단계에서 얻어진 결과물에서, 공정용 보호필름과 고분자 기재 사이의 점착력은 1 gf/inch 이상, 바람직하게는 2 gf/inch 이상, 더 바람직하게는 3 내지 4 gf/inch 이다.At this time, in the result obtained by laminating the process protective film on one surface of the polymer substrate, the adhesive force between the process protective film and the polymer substrate is 1 gf / inch or more, preferably 2 gf / inch or more, more preferably Is 3 to 4 gf / inch.

또한, 공정용 보호필름 합지시 고분자 기재의 항복강도는 바람직하게는 65 MPa 이상, 더욱 바람직하게는 70 MPa 이상이 되며, 그 결과, 300 N 이상의 장력에서 파단 및 결함 없이 안정적으로 공정을 진행하여 수율을 높일 수 있다.In addition, the yield strength of the polymer substrate when the process protective film is laminated is preferably 65 MPa or more, more preferably 70 MPa or more. As a result, the process proceeds stably without breaking and defects at a tension of 300 N or more to yield. Can increase.

상기 공정용 보호필름 합지 공정 후 공정용 보호필름과 고분자 기재 사이의 부착면에 미세 기포 발생이 없어야 진공 증착 공정에서 공정 아웃개싱으로 작용하는 기포들이 발생하지 않는다. 그러나 합지 공정 중 이러한 기포를 완벽하게 없애기는 불가능하기 때문에 기포의 크기 및 개수를 제한해야 공정시 존재하는 기포가 아웃개싱으로 작용하여 문제를 야기하는 것을 방지할 수 있다. After the process protective film lamination process, no bubbles may be generated on the adhesion surface between the process protective film and the polymer substrate so that bubbles acting as process outgassing do not occur in the vacuum deposition process. However, since it is impossible to completely remove these bubbles during the lamination process, it is necessary to limit the size and number of bubbles to prevent the bubbles present in the process from acting as outgassing and causing problems.

그 결과, 상기 공정용 보호필름 합지 후 상기 고분자 기재에 합지된 공정용 보호필름과 상기 고분자 기재 사이의 부착면에서 기포의 개수는 2,000 개/㎡ 이하, 바람직하게는 1,500 개/㎡ 이하, 더욱 바람직하게는 1,000 개/㎡ 이하, 더욱 바람직하게는 500 내지 100 개/㎡이고, 기포크기는 폭 5 mm 이하 높이 500 ㎛ 이하, 바람직하게는 폭 4 mm 이하 높이 400 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 폭 3 mm이하 높이 300 ㎛ 이하여야 하며 상기 점착력 범위를 만족하면 기포 개수 및 크기를 줄일 수 있다.As a result, the number of bubbles in the adhesion surface between the process protective film laminated on the polymer substrate and the polymer substrate after laminating the process protective film is 2,000 pieces / m 2 or less, preferably 1,500 pieces / m 2 or less, more preferably Preferably it is 1,000 pieces / m <2> or less, More preferably, it is 500-100 pieces / m <2>, and bubble size is 5 mm or less in width, 500 micrometers or less in height, Preferably 4 mm or less in width, 400 micrometers or less in height, More preferably, width 3 It should be less than 300 mm in height and less than the height, and satisfies the adhesive force range, thereby reducing the number and size of bubbles.

또한, 일반적으로 롤-투-롤 공정 진행 시 고분자 필름은 면과 면사이의 블로킹 특성이 강하여 보호필름이 없을 경우 이러한 블로킹 특성은 공정 중 기포발생의 원인이 되고 기포 발생은 공정상의 아웃개싱 및 필름 변형의 원인이 될 수 있다. 따라서 고분자 필름과 비교하여 마찰계수가 작은 공정용 보호필름을 선정하여 합지하면 슬립성을 향상시키고 차후 롤-투-롤 공정을 용이하게 한다.In addition, in the case of the roll-to-roll process, the polymer film has a strong blocking property between the surfaces, and thus, when there is no protective film, the blocking property causes bubbles during the process and bubbles are generated during process outgasing and film. It may cause deformation. Therefore, when the process protective film is selected and laminated with a smaller friction coefficient than the polymer film, the slip property is improved and the roll-to-roll process is facilitated later.

이어서, 상기 고분자 기재의 타면에 무기물 가스 배리어층을 형성한다. 도 4를 참조하면, 고분자 기재(310)에서 공정용 보호필름(340)이 합지되지 않은 타면에 무기물 가스 배리어층(320)을 형성한다.Subsequently, an inorganic gas barrier layer is formed on the other surface of the polymer substrate. Referring to FIG. 4, the inorganic gas barrier layer 320 is formed on the other surface of the polymer substrate 310 on which the process protection film 340 is not laminated.

상기 무기물 가스 배리어층은 상기 설명한 바와 같이 Si, Al, In, Sn, Zn, Ti, Cu, Ce 및 Ta 로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 종 이상의 금속을 함유하는 산화물, 질화물, 탄화물, 산화질화물, 산화탄화물, 질화탄화물, 또는 산화질화탄화물을 사용하여 물리적 또는 화학적 방법으로 증착 코팅하여 형성된다. The inorganic gas barrier layer is an oxide, nitride, carbide, oxynitride or oxide containing at least one metal selected from the group consisting of Si, Al, In, Sn, Zn, Ti, Cu, Ce and Ta as described above. It is formed by vapor coating by physical or chemical methods using carbides, nitrides, or oxynitrides.

이 경우에도, 고분자 기재의 일면에 보호필름이 부착되지 않은 경우에는 그 면에 무기물 가스 배리어층을 바로 형성할 수 있고, 만일 고분자 기재의 일면에 보호필름이 부착되어 있는 경우에는 보호필름의 제거 후 무기물 가스 배리어층을 형성한다. 이러한 단계가 롤-투-롤 공정에서 이루어지는 경우에, 고분자 기재의 일면에 보호필름을 제거함과 연속적으로 무기물 가스 배리어층이 형성될 수 있다. Even in this case, when the protective film is not attached to one surface of the polymer substrate, an inorganic gas barrier layer may be directly formed on the surface thereof. If the protective film is attached to one surface of the polymer substrate, the protective film may be removed. An inorganic gas barrier layer is formed. In the case where this step is performed in a roll-to-roll process, the inorganic gas barrier layer may be continuously formed by removing the protective film on one surface of the polymer substrate.

상기 고분자 기재의 타면에 무기물 가스 배리어층을 형성하는 단계에서 얻어진 결과물에서, 공정용 보호필름과 상기 고분자 기재-무기물 가스배리어층의 복합층간의 점착력은 12 gf/inch 이하, 바람직하게는 9gf/inch 이하, 더 바람직하게는 4 내지 8 gf/inch 이다.In the result obtained by forming the inorganic gas barrier layer on the other surface of the polymer substrate, the adhesion between the process protective film and the composite layer of the polymer substrate-inorganic gas barrier layer is 12 gf / inch or less, preferably 9 gf / inch Or less, more preferably 4 to 8 gf / inch.

다음으로, (메트)아크릴레이트 단량체, 에폭시기를 가지며 중량평균 분자량이 500 ~ 10,000인 (메트)아크릴레이트 올리고머 및 개시제를 분산매에 용해시키고 실리카 입자들이 분산된 경화성 코팅액과 금속 알콕시드, 경화촉진제, 무기산 및 물을 용매에 용해시킨 졸 용액을 혼합하여 준비된한 경화성 졸 용액을, 상기 무기물 가스 배리어층의 상면에 도포하고, 상기 도포된 경화성 졸 용액을 경화시켜 유-무기 하이브리드 오버코팅층을 형성한다. 도 5를 참조하면, 고분자 기재(410)의 일면에 공정용 보호필름(440)이 합지되어 있고, 고분자 기재(410)의 타면에 무기물 가스배리어층(420)이 형성되어 있으며, 그 무기물 가스배리어층(420)의 상면에 유-무기 하이브리드 오버코팅층(430)이 형성된 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름(500)이 도시되어 있다.Next, a (meth) acrylate oligomer having an (meth) acrylate monomer, an epoxy group and a weight average molecular weight of 500 to 10,000 and an initiator are dissolved in a dispersion medium, and a curable coating solution, a metal alkoxide, a curing accelerator, and an inorganic acid, in which silica particles are dispersed. And a curable sol solution prepared by mixing a sol solution in which water is dissolved in a solvent, is applied to an upper surface of the inorganic gas barrier layer, and the cured sol solution is cured to form an organic-inorganic hybrid overcoating layer. Referring to FIG. 5, a protective film 440 for a process is laminated on one surface of the polymer substrate 410, and an inorganic gas barrier layer 420 is formed on the other surface of the polymer substrate 410, and the inorganic gas barrier is formed. An optical transparent composite film 500 for a protective film lamination display for a process in which an organic-inorganic hybrid overcoating layer 430 is formed on an upper surface of the layer 420 is illustrated.

상기 무기물 가스배리어층 상에 유-무기 하이브리드 오버코팅층을 형성하는 방법은 특별히 한정하지 않고 바코팅법, 스핀코팅법, 딥코팅법, 스프레이코팅법 등을 사용할 수 있다. The method of forming the organic-inorganic hybrid overcoating layer on the inorganic gas barrier layer is not particularly limited and may be a bar coating method, a spin coating method, a dip coating method, a spray coating method, or the like.

이때, 상기 도포된 코팅용 조성물을 UV 경화 또는 열경화하여 유-무기 하이브리드 코팅층을 형성하는 단계를 거치게 된다. 상기 단계에 있어서, UV 경화는 UV 광원에 의해 라디칼 반응을 이룰 수 있으면 특별히 한정하는 것은 아니지만, 수은 혹은 메탈 할라이드 램프를 단독 혹은 병행하여 사용할 수 있다. 예컨대 UV 경화는 에너지 160m 내지 1,600mJ/cm2로 1 초 내지 수 분, 예컨대 1 초 내지 5분, 또는 1분 이하로 수행할 수 있다. 한편, 열경화는 예컨대 온도 100 내지 200 ℃에서 1 분 내지 수 시간, 예컨대 1 분 내지 5 시간, 또는 1 시간 이하, 또는 2 내지 10 분간 수행할 수 있다. At this time, the coating composition is subjected to UV curing or thermosetting to form an organic-inorganic hybrid coating layer. In the above step, UV curing is not particularly limited as long as it can achieve a radical reaction by a UV light source, but mercury or metal halide lamps can be used alone or in combination. UV curing, for example, can be performed for 1 second to several minutes, such as 1 second to 5 minutes, or 1 minute or less with an energy of 160 m to 1600 mJ / cm 2 . On the other hand, the thermosetting may be carried out, for example, at a temperature of 100 to 200 ° C. for 1 minute to several hours, such as 1 minute to 5 hours, or 1 hour or less, or 2 to 10 minutes.

본 발명의 일 실시예에 따른 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름은 산소투과율이 1 cc/㎡/day/atm 이하, 광투과도가 90% 이상, 수증기투과율이 0.1 g/㎡/day 이하일 수 있으며, 부착특성이 5B 이상 일 수 있다.Optical transparent composite film for process protective film lamination display according to an embodiment of the present invention oxygen transmittance of 1 cc / ㎡ / day / atm or less, light transmittance of 90% or more, water vapor transmission rate of 0.1 g / ㎡ / day or less And the adhesion characteristics may be 5B or more.

또한, 상기 유-무기 하이브리드 오버코트층의 상면에 보호필름을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. 상기 보호필름은 전술한 단계를 거쳐서 제조된 디스플레이용 광학 투명 복합필름의 보관 또는 이송시 복합필름의 상면이 손상되는 것을 방지하기 위하여 부착되는 필름으로서, 오버코팅층과 잘 부착하고, 통상적인 외부 자극에 파손되지 않는 물성을 갖는 것이라면 제한없이 사용될 수 있다. 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 등의 필름이 사용될 수 있다. In addition, the method may further include forming a protective film on an upper surface of the organic-inorganic hybrid overcoat layer. The protective film is a film attached to prevent the upper surface of the composite film from being damaged during the storage or transport of the optically transparent composite film for display manufactured through the above-described steps, and adheres well to the overcoating layer, and to a conventional external stimulus. As long as the material does not break, it can be used without limitation. For example, films of polyethylene, polypropylene, and the like can be used.

따라서, 도 6을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 제조방법으로 고분자 기재(510), 그 일면에 형성된 공정용 보호필름(540), 고분자 기재(510)의 타면에 형성된 무기물 가스배리어층(520)과 유-무기 하이브리드 오버코팅층(530), 상기 유-무기 하이브리드 오버코팅층(530)의 상면에 형성된 보호필름(550)을 포함하는 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름(600)이 제공된다.Therefore, referring to FIG. 6, the inorganic gas barrier layer formed on the other surface of the polymer substrate 510, the process protection film 540 formed on one surface thereof, and the polymer substrate 510 in the manufacturing method according to the exemplary embodiment of the present invention. 520 and the organic-inorganic hybrid overcoating layer 530, the protective film 550 for the protective film laminated display including a protective film 550 formed on the upper surface of the organic-inorganic hybrid overcoating layer 530 This is provided.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름을 이용한 플렉서블 디스플레이 제품이 제공된다.According to another aspect of the present invention, there is provided a flexible display product using an optical transparent composite film for a process protective film laminated display.

상기 플레서블 디스플레이 제품에 이용시에 상기 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름에서, 공정용 보호필름이 제거될 수 있다. When used in the flexible display product, the process protection film may be removed from the process protection film laminated optical optical composite film.

이러한 디스플레이 제품으로는, 스마트폰이나 태블릿 PC 같은 소형 터치 디스플레이 제품, 또는 LCD 나 PDP, 또는 옥외용 광고 (PID, DID)에 이르는 대형 디스플레이 제품이 포함될 수 있다.
Such display products may include small touch display products such as smartphones or tablet PCs, or large display products such as LCDs or PDPs, or outdoor advertisements (PID, DID).

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 실시예를 들어 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것으로 해석되어져서는 안 된다. 본 발명의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다.
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the following examples. However, the embodiments according to the present invention can be modified into various other forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the following embodiments. Embodiments of the invention are provided to more fully describe the present invention to those skilled in the art.

실시예 1Example 1

고분자 기재로 SKC에서 제조한 50㎛ 두께의 PET(polyethylene terephthalate) 투명필름(모델명 : SH34)을 사용하였다. 진공 증착 공정 이전 상기 고분자 기재의 일면 상에 SUN-A사의 PET(polyethylene terephthalate)재질의 50㎛ 두께의 공정용 보호필름을 합지하였다. 상기 공정용 보호필름을 사용하였을 경우 고분자 기재인 PET 필름의 표면이 비극성을 띄기 때문에 고분자 기재인 PET 필름과의 점착력이 2 gf/inch이상의 점착력을 갖는 보호필름을 사용하여야 하며, 합지 공정 시 미세 기포 발생이 적어야 진공 증착 공정에서 공정 아웃개싱으로 작용하는 기포들이 발생하지 않는다. 고분자 기재에 대한 공정용 보호필름의 부착 특성은 증착 공정 전ㅇ후에 차이를 보였다.50 μm thick PET (polyethylene terephthalate) transparent film (Model: SH34) prepared by SKC was used as the polymer substrate. Before the vacuum deposition process, a 50 μm-thick process protective film of PET (polyethylene terephthalate) made of SUN-A was laminated on one surface of the polymer substrate. When the protective film for the process is used, since the surface of the polymer film PET film is non-polar, a protective film having an adhesive force of 2 gf / inch or more with the PET film, which is a polymer substrate, should be used. It should be low that no bubbles will be generated as process outgassing in the vacuum deposition process. The adhesion characteristics of the process protection film on the polymer substrate showed a difference before and after the deposition process.

상기 공정용 보호필름을 합지하기 전, 즉 상기 고분자 기재 자체, 및 상기 고분자 기재의 일면에 공정용 보호필름을 합지한 후의 항복강도는 각각 64.5 MPa 및 74.2 MPa이 되어, 공정용 보호필름 부착 후 안정된 공정성을 보였다. The yield strength before laminating the process protective film, that is, after laminating the process protective film on one surface of the polymer substrate itself and the polymer substrate, was 64.5 MPa and 74.2 MPa, respectively, and stabilized after attaching the process protective film. Fairness was shown.

또한, 상기 공정용 보호필름 합지 후 상기 고분자 기재에 합지된 공정용 보호필름과 상기 고분자 기재 사이의 부착면은 824 개/㎡ 의 기포 개수와, 평균적으로 폭 2.4 mm 높이 390 ㎛의 기포크기를 가졌다.In addition, the adhesion between the process protective film laminated on the polymer substrate and the polymer substrate after laminating the process protective film had a bubble number of 824 pieces / m 2 and an average bubble size of 390 μm in width 2.4 mm in height. .

상기 공정용 보호필름이 합지되어 있는 고분자 기재에 가스 배리어 특성을 부여하기 위해, 도 7에 도시된 바와 같이 6개의 코팅존(742, 743, 744, 745, 746, 747)이 구비된 롤-투-롤 스퍼터기 듀얼모드 장비를 이용하여 제1 코팅존과 제2 코팅존에 규소 타겟을 장착하고 Ar : N2 = 150 : 60의 비율로 아르곤 및 질소 가스를 각각 주입하여 8.8 W/cm2의 파워, 1 M/min의 속도로 고분자 기재의 상면에 질화규소막으로 이루어진 무기물 가스배리어층을 증착하였다. 상기 질화규소막의 두께는 SEM으로 관찰하여 30 nm임을 확인하였다.In order to impart gas barrier properties to the polymer substrate on which the process protective film is laminated, as shown in FIG. 7, six coating zones 742, 743, 744, 745, 746, and 747 are roll-to-coated. Using a roll sputtering dual mode device, a silicon target is mounted in the first coating zone and the second coating zone, and argon and nitrogen gas are injected at a ratio of Ar: N2 = 150: 60, respectively, so that power of 8.8 W / cm 2 is obtained. , An inorganic gas barrier layer made of a silicon nitride film was deposited on the upper surface of the polymer substrate at a rate of 1 M / min. The thickness of the silicon nitride film was observed by SEM to confirm that it is 30 nm.

진공 증착 공전전, 즉 상기 공정용 보호필름과 고분자 기재 사이의 점착력은 3 gf/inch이었고, 상기 고분자 기재의 타면에 무기물 가스배리어층이 형성된 이후에, 고분자 기재-무기물 가스배리어층의 복합층과 상기 공정용 보호필름 사이의 점착력은 8 gf/inch이었다. The vacuum deposition revolving, that is, the adhesion between the process protective film and the polymer substrate was 3 gf / inch, after the inorganic gas barrier layer formed on the other surface of the polymer substrate, the composite layer of the polymer substrate-inorganic gas barrier layer and The adhesive force between the process protective film was 8 gf / inch.

이후, 유-무기 하이브리드 오버코팅층을 형성하기 위해 경화성 졸 용액을 형성하였다. 우선 에탄올 238.1g, 테트라에틸오르토실리케이트(TEOS), 120.7g, 36wt% 염산 3.2g, 물 41.1g을 상온에서 200 rpm으로 1시간 동안 교반하였다. 그 후 에탄올 562.5g을 첨가하여 1차 혼합물을 형성하였다.Thereafter, a curable sol solution was formed to form an organic-inorganic hybrid overcoating layer. First, 238.1 g of ethanol, tetraethyl orthosilicate (TEOS), 120.7 g, 3.2 g of 36 wt% hydrochloric acid, and 41.1 g of water were stirred at room temperature at 200 rpm for 1 hour. Then, 562.5 g of ethanol was added to form a primary mixture.

그리고 헥사히드로프탈산무수물(HHPA) 0.55g(론자케미칼스), 물 1.4g 및 에틸알코올 32g을 상온에서 250 rpm으로 1시간 동안 교반한 후 1차 혼합물에 첨가하여 상온에서 약 200 rpm으로 4시간 동안 교반한 후 0.2 ㎛ 필터를 통해 여과하여 졸 용액을 제조하였다. 0.55 g of hexahydrophthalic anhydride (HHPA), 1.4 g of water and 32 g of ethyl alcohol were stirred at 250 rpm for 1 hour at room temperature, and then added to the primary mixture for 4 hours at about 200 rpm at room temperature. After stirring, a sol solution was prepared by filtration through a 0.2 μm filter.

용매인 이소프로필 알코올을 베이스로 한 약 30wt% 콜로이드성 실리카 용액31g (닛산케미칼스, 카탈로그 no.IPA-ST)을 상온에서 60분 동안 초음파 처리하여 준비하였다.31 g of a 30 wt% colloidal silica solution based on isopropyl alcohol as a solvent (Nissan Chemical Industries, Catalog no. IPA-ST) was prepared by ultrasonication at room temperature for 60 minutes.

그리고 에톡시화된트리메틸올프로판트리아크릴레이트 52.7g(사토머사, 카탈로그번호 SR-454), 비스페놀-A 에폭시아크릴레이트올리고머 59.8g(사토머,카탈로그번호 CN120), 광개시제 1-히드록시-시클로헥실-페닐-케톤2.84g(시바, 카달로그 번호 이르가큐어(Irgacure) 184), 및 광잠열베이스 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-(4-모르폴리닐)-1-프로판온1.17g(시바, 카탈로그번호 907)을 혼합하여 약 200rpm에서 5분 교반하였다. 이 후 앞에서 준비된 에틸 아세테이트에 110g과 1-메톡시-2-2프로판올 305g을 첨가하여 상온에서 250rpm으로 30분 동안 교반하였다. 이렇게 형성된 혼합물과 준비한 실리카 용액, 438g의 이소프로판올을 다시 혼합하여 상온에서 250rpm으로 1시간 동안 교반한 후 UV-경화 조성물 을 제조하였다.And 52.7 g of ethoxylated trimethylolpropanetriacrylate (Sartomer, catalog number SR-454), 59.8 g of bisphenol-A epoxy acrylate oligomer (Sartomer, catalog number CN120), photoinitiator 1-hydroxy-cyclohexyl- 2.84 g of phenyl-ketone (Ciba, catalog number Irgacure 184), and a latent heat base 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2- (4-morpholinyl) -1 1.17 g of propanone (Ciba, Cat. No. 907) was mixed and stirred at about 200 rpm for 5 minutes. After that, 110 g of ethyl acetate and 305 g of 1-methoxy-2-propanol were added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes at 250 rpm. The mixture thus formed, the prepared silica solution, and 438 g of isopropanol were mixed again and stirred at 250 rpm for 1 hour at room temperature to prepare a UV-curable composition.

상기 경화성 코팅액에 졸 용액을 200 rpm으로 교반하면서 투입하고 1시간 동안 교반한 후 1 ㎛ 필터를 통해 여과하여 하이브리드 오버코팅층 형성을 위한 경화성 졸 용액을 제조하였다.The sol solution was added to the curable coating solution while stirring at 200 rpm, stirred for 1 hour, and filtered through a 1 μm filter to prepare a curable sol solution for forming a hybrid overcoating layer.

이어서, 상기 무기물 가스 배리어층 상에 전술한 경화성 졸 용액을 코팅하여 100℃, 30초 동안 건조 후 1,000 mJ/㎠의 에너지에 의해 UV 경화를 하였다. 형성된 유-무기 하이브리드 오버코팅층의 두께는 2 ㎛이었다. Subsequently, the above-mentioned curable sol solution was coated on the inorganic gas barrier layer and dried for 100 seconds at 30 ° C., followed by UV curing by energy of 1,000 mJ / cm 2. The thickness of the organic-inorganic hybrid overcoating layer formed was 2 μm.

이어서, 유-무기 하이브리드 오버코팅층면을 보호하기 위해 ㈜유상에서 제조한 PE(poly ethylene) 보호필름을 유-무기 하이브리드 오버코팅층의 상면에 합지하였다. 도 6을 참조하면, 전술한 바와 같이 제조된 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름(600)에는 고분자 기재(510) 상에, 무기물 가스 배리어층(520) 및 유-무기 하이브리드 오버코팅층(530)이 순차적으로 적층되어 있으며, 고분자 기재의 타면에 공정용 보호필름(540)이 합지되어 있고, 상기 코팅층들을 보호하기 위하여, 유-무기 하이브리드 오버코팅층(530)의 상면에 보호필름(550)이 형성되어 있다.
Subsequently, in order to protect the surface of the organic-inorganic hybrid overcoating layer, PE (poly ethylene) protective film manufactured by Yu Sang Co., Ltd. was laminated on the upper surface of the organic-inorganic hybrid overcoating layer. Referring to FIG. 6, the process protective film laminated display optical transparent composite film 600 manufactured as described above may include an inorganic gas barrier layer 520 and an organic-inorganic hybrid overcoating layer on the polymer substrate 510. 530 is sequentially stacked, the protective film 540 for the process is laminated on the other surface of the polymer substrate, in order to protect the coating layer, the protective film 550 on the upper surface of the organic-inorganic hybrid overcoat layer 530 Is formed.

실시예 2 Example 2

무기물 가스배리어층을 증착하기 전에, 도 7에 도시된 바와 같은 롤-투-롤 스퍼터기 듀얼모드 장비를 이용하여 고분자 기재의 표면을 플라즈마 처리존(741)에서 산소가스를 60sccm(Standard Cubic Centimeter per Minute; 0℃, 1기압에서의 양)으로 투입하여 진공도를 2 mtorr로 유지하면서 전극에 0.5 W/cm2의 전원을 인가하여 플라즈마를 생성시켜 2.7 M/min의 속도로 반응시켜 고분자 기재의 표면처리를 하는 단계를 더 포함하는 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름 을 제조하였다.
Before depositing the inorganic gas barrier layer, using a roll-to-roll sputtering dual mode apparatus as shown in FIG. 7, the surface of the polymer substrate was subjected to 60 sccm (Standard Cubic Centimeter per) in the plasma treatment zone 741. Minute (0 ℃, 1 atm)) while maintaining the vacuum at 2 mtorr while applying 0.5 W / cm2 of power to the electrode to generate a plasma to react at a rate of 2.7 M / min to treat the surface of the polymer substrate An optically transparent composite film for a protective film lamination display for a process was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the method further comprises the step of.

비교예 1Comparative Example 1

고분자 기재 일면에 공정용 보호필름을 합지하지 않고, 무기물 가스 배리어층 상면에 유-무기 하이브리드 오버코팅층을 형성하지 않은 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로 디스플레이용 광학 투명 복합필름 을 제조하였다.
An optical transparent composite film for a display was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the protective film for the process was not laminated on one surface of the polymer substrate and the organic-inorganic hybrid overcoating layer was not formed on the upper surface of the inorganic gas barrier layer.

비교예 2Comparative Example 2

고분자 기재 일면에 공정용 보호필름을 합지하지 않은 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로 디스플레이용 광학 투명 복합필름을 제조하였다.
An optical transparent composite film for a display was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the protective film for the process was not laminated on one surface of the polymer substrate.

전술한 방법으로 제조한 실시예 1, 비교예 1 및 비교예 2의 디스플레이용 광학 투명 복합필름의 수율을 표 1에 정리하였다.Table 1 summarizes the yield of the optical transparent composite film for display of Example 1, Comparative Example 1 and Comparative Example 2 prepared by the above-described method.

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 수율(%)yield(%) >90> 90 >90> 90 00 00

상기 수율은 생산에 투입한 필름의 총 면적 대비 실제로 코팅이 이루어진 면적의 비율을 의미한다. 따라서, 상기 수율은 하기 식에 의해 구해질 수 있다.The yield refers to the ratio of the actual coating area to the total area of the film put into production. Therefore, the yield can be obtained by the following formula.

수율=(생산면적/투입면적) x 100Yield = (production area / input area) x 100

또한, 하기 평가방법에 따라 실시예 1 및 2의 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름의 산소투과율, 수증기투과율, 광투과율, 헤이즈, 밴딩성 등을 측정하여 그 결과를 표 2에 나타내었다. 비교예 1 및 2의 경우 공정용 보호필름을 합지하지 않았기 때문에 안정적으로 코팅이 불가능하여 하기 평가를 실시할 수 없었다.
In addition, the oxygen transmission rate, water vapor transmission rate, light transmittance, haze, banding properties, etc. of the optical protective composite film for protective film lamination display of Examples 1 and 2 according to the following evaluation method were measured and the results are shown in Table 2. . In Comparative Examples 1 and 2, since the process protective film was not laminated, coating could not be stably performed, and thus the following evaluation could not be performed.

1) 수증기 투과율 : Mocon사 PERMATRAN-W3/31 장비를 이용하여, 37.8℃/RH100% 하에서 48시간 동안 측정하였다. 1) Water vapor transmission rate: Using Mocon PERMATRAN-W3 / 31 equipment, it was measured for 48 hours at 37.8 ℃ / RH 100%.

2) 산소 투과율 : Mocon사OX-TRAN 2/20 장비를 이용하여, 35℃/RH0% 하에서 측정하였다.2) Oxygen permeability: measured under 35 ° C / RH0% using a Mocon OX-TRAN 2/20 instrument.

3) 광투과율 : Minolta 사의 3600D 장비로 ASTM1003에 의거하여 측정하였다.3) Light transmittance: Minolta 3600D equipment was measured according to ASTM1003.

4) 헤이즈 : Nippon Denshoku사의 NDH-5000 장비로 ASTM1003에 의거하여 측정하였다.4) Haze: Nippon Denshoku's NDH-5000 equipment was measured according to ASTM1003.

5) 내스크래치성: steelwool#0000을 이용하여 300g 하중으로 100회 왕복하여 헤이즈를 측정하였다.5) Scratch resistance: Haze was measured by reciprocating 100 times with a 300g load using steelwool # 0000.

6) 부착성 : ASTMD3359-02에 의거하여 코팅 표면을 X-cut하여 100칸을 만든 후 테이프를 밀착시킨 후 수직으로 떼어낼 때 떨어진 정도에 따라 부착성을 평가하였다(5B : 0%, 4B : 5%미만, 3B : 5~15%, 2B : 15~35%, 1B : 35~65%, 0B : 65%이상).6) Adhesiveness: According to ASTMD3359-02, X-cut coating surface to make 100 squares, and then adhesiveness was evaluated according to the degree of fall when peeling off vertically after adhering the tape (5B: 0%, 4B: Less than 5%, 3B: 5-15%, 2B: 15-35%, 1B: 35-65%, 0B: 65% or more).

수증기 투과율
(g/m2/day)
Water vapor permeability
(g / m 2 / day)
산소 투과율
(cc/m2/
day/atm)
Oxygen transmission rate
(cc / m 2 /
day / atm)
광투과율
(550nm, %)
Light transmittance
(550 nm,%)
헤이즈
(%)
Hayes
(%)
내스크래치성
(%)
Scratch resistance
(%)
부착성Adhesion
실시예 1Example 1 0.0680.068 0.470.47 >90> 90 <0.3<0.3 <0.1&Lt; 0.1 5B5B 실시예 2Example 2 0.0070.007 0.120.12 >90> 90 <0.3<0.3 <0.1&Lt; 0.1 5B5B

100, 500, 600: 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름
10, 110, 210, 310, 410, 510: 고분자 기재
20, 320, 420, 520: 무기물 가스 배리어층
30, 430, 530: 유-무기 하이브리드 오버코팅층
40, 240, 340, 440, 540: 공정용 보호필름
150: 250: 550: 보호필름
740: 코팅드럼
741: 플라즈마 처리존 742: 제1 코팅존
743: 제2 코팅존 744: 제3 코팅존
745: 제4 코팅존 746: 제5 코팅존
747: 제6 코팅존 748: 가이드롤
749: 언와인더 750: 리와인더
100, 500, 600: Optically Transparent Composite Film for Process Protective Film Laminated Display
10, 110, 210, 310, 410, 510: polymer substrate
20, 320, 420, 520: inorganic gas barrier layer
30, 430, 530: organic-inorganic hybrid overcoating layer
40, 240, 340, 440, 540: Process Protection Film
150: 250: 550: protective film
740: coating drum
741: plasma treatment zone 742: first coating zone
743: second coating zone 744: third coating zone
745: fourth coating zone 746: fifth coating zone
747: sixth coating zone 748: guide roll
749: Unwinder 750: Rewinder

Claims (17)

열가소성 투명 베이스 수지를 포함하는 고분자 기재;
상기 고분자 기재의 적어도 일면 상에 형성된 무기물 가스배리어 층;
상기 무기물 가스 배리어층의 상면에 형성되고, (메트)아크릴레이트 단량체, 에폭시기를 가지며 중량평균 분자량이 500 ~ 10,000인 (메트)아크릴레이트 올리고머, 개시제, 실리카 입자 및 분산매를 포함하는 경화성 코팅액과 금속 알콕시드, 유기산으로 된 경화촉진제, 무기산 및 용매를 포함하는 졸 용액을 혼합한 경화성 졸 용액의 경화 결과물을 포함하는 유-무기 하이브리드 오버코팅층; 및
상기 고분자 기재의 타면 상에 합지된 공정용 보호필름을 포함하고,
상기 공정용 보호필름과 고분자 기재 사이의 점착력이 1 gf/inch 이상이고,
상기 공정용 보호필름과 상기 고분자 기재-무기물 가스 배리어 층의 복합층사이의 점착력이 12 gf/inch 이하인 것을 특징으로 하는 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름.
A polymeric substrate comprising a thermoplastic transparent base resin;
An inorganic gas barrier layer formed on at least one surface of the polymer substrate;
It is formed on the upper surface of the inorganic gas barrier layer, the curable coating solution and (metal) alkoxy having a (meth) acrylate monomer, an epoxy group and a (meth) acrylate oligomer, an initiator, silica particles and a dispersion medium having a weight average molecular weight of 500 ~ 10,000 For example, an organic-inorganic hybrid overcoating layer comprising a hardening product of a curable sol solution mixed with a sol solution containing a curing accelerator, an organic acid, and a solvent; And
Including a process protective film laminated on the other surface of the polymer substrate,
Adhesion between the protective film for the process and the polymer substrate is 1 gf / inch or more,
The optical protective composite film for protective film lamination display for a process, characterized in that the adhesion between the protective film for the process and the composite layer of the polymer substrate-inorganic gas barrier layer is 12 gf / inch or less.
제1항에 있어서,
상기 고분자 기재에 합지된 공정용 보호필름과 상기 고분자 기재 사이의 부착면은 2,000 개/㎡ 이하의 기포 개수, 및 폭 5 mm 이하와 높이 500 ㎛ 이하의 기포크기를 가지는 것을 특징으로 하는 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름.
The method of claim 1,
Process protective film laminated on the polymer substrate and the adhesion surface between the polymer substrate has a number of bubbles of 2,000 pieces / ㎡ or less, and a process size, characterized in that the bubble size of 5 mm or less in width and 500 ㎛ or less in height Optically transparent composite film for film lamination display.
제1항에 있어서,
상기 열가소성 투명 베이스 수지는 폴리에테르술폰, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리아릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 폴리에틸렌테레프탈레이트글리콜, 폴리사이클로헥실렌디메틸렌테레프탈레이트글리콜, 및 사이클로올레핀 코폴리머로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 또는 이들 중 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름.
The method of claim 1,
The thermoplastic transparent base resin is a group consisting of polyether sulfone, polycarbonate, polyimide, polyarylate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate polyethylene terephthalate glycol, polycyclohexylenedimethylene terephthalate glycol, and cycloolefin copolymer An optical transparent composite film for a process protective film lamination display, characterized in that any one or a mixture of two or more selected from them.
제1항에 있어서,
상기 무기물 가스배리어층은 Si, Al, In, Sn, Zn, Ti, Cu, Ce 및 Ta 로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 종 이상의 금속을 함유하는 산화물, 질화물, 탄화물, 산화질화물, 산화탄화물, 질화탄화물, 또는 산화질화탄화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름.
The method of claim 1,
The inorganic gas barrier layer may be formed of at least one metal selected from the group consisting of Si, Al, In, Sn, Zn, Ti, Cu, Ce and Ta, oxides, nitrides, carbides, oxynitrides, oxidized carbides and nitrides Or an optical transparent composite film for protective film lamination display for process comprising an oxynitride carbide.
제1항에 있어서,
상기 무기물 가스배리어층의 두께는 20 내지 500 nm인 것을 특징으로 하는 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름.
The method of claim 1,
The inorganic gas barrier layer has a thickness of 20 to 500 nm, the protective film laminated display optical transparent composite film for a process.
제1항에 있어서,
상기 (메트)아크릴레이트 단량체, 에폭시기를 가지며 중량평균 분자량이 500 ~ 10,000인 (메트)아크릴레이트 올리고머 및 실리카 입자의 중량비는 1~40 : 1~40 : 1~25인 것을 특징으로 하는 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름.
The method of claim 1,
Process protection, characterized in that the weight ratio of the (meth) acrylate monomer, epoxy group having a weight average molecular weight of 500 ~ 10,000 and (meth) acrylate oligomer and silica particles is 1-40: 1-40: 1-25. Optically transparent composite film for film lamination display.
제1항에 있어서,
상기 금속 알콕시드는 하기 화학식 1 내지 화학식 3으로 표시되는 금속 알콕시드로부터 선택된 어느 하나 또는 이들 중 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름.
<화학식 1>
R1 xM1(OR2)4-x
<화학식 2>
R1 yM2(OR2)3-y
<화학식 3>
R1 zNb(OR2)5-z
상기 화학식 1 내지 3에서, R1은 탄소수가 1 내지 4인 알킬기, 비닐기, 알릴기, (메트)아크릴옥시기, 에폭시드기 및 아미노기로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나이고, R2는 탄소수가 1 내지 4인 알킬기이고, M1은 Si, Ti, Zr, Ge 및 Sn으로 이루어진 군으로부터 선택된 금속이고, M2는 Al, In 및 Sb로 이루어진 군으로부터 선택된 금속이고, x는 0, 1, 2 또는 3이고, y는 0, 1 또는 2이며, z는 0, 1, 2, 3 또는 4이다.
The method of claim 1,
The metal alkoxide is any one selected from the metal alkoxides represented by the following formula (1) to (3) or a mixture of two or more thereof.
&Lt; Formula 1 >
R 1 x M 1 (OR 2 ) 4-x
(2)
R 1 y M 2 (OR 2 ) 3-y
(3)
R 1 z Nb (OR 2) 5 -z
In the above Chemical Formulas 1 to 3, R 1 is a carbon number of 1 to 4 alkyl group, a vinyl group, an allyl group, (meth) acryloxy group, any one selected from the group consisting of epoxy deugi and amino groups, R 2 has a carbon number of 1 a 1-4 alkyl group, M 1 is a metal selected from the group consisting of Si, Ti, Zr, Ge and Sn, M 2 is a metal selected from the group consisting of Al, in and Sb, x is 0, 1, 2, or 3, y is 0, 1 or 2, and z is 0, 1, 2, 3 or 4.
제1항에 있어서,
상기 경화촉진제는 아세트산무수물, 아크릴산무수물, 시클릭무수물, 헥사히드로프탈산무수물, 메타크릴산무수물, 프로피온산무수물, 아세트산, 아크릴산, 포름산, 푸마르산, 이타콘산, 말레산, 메타크릴산, 프로피온산 및 메틸렌숙신산으로부터 선택된 어느 하나 또는 이들 중 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름.
The method of claim 1,
The curing accelerator is obtained from acetic anhydride, acrylic anhydride, cyclic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methacrylic anhydride, propionic anhydride, acetic acid, acrylic acid, formic acid, fumaric acid, itaconic acid, maleic acid, methacrylic acid, propionic acid and methylenesuccinic acid. An optical transparent composite film for a process protective film laminated display, characterized in that any one or a mixture of two or more of them selected.
제1항에 있어서,
상기 유-무기 하이브리드 오버코트층의 두께는 0.1 내지 10 ㎛인 것을 특징으로 하는 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름.
The method of claim 1,
The organic-inorganic hybrid overcoat layer has a thickness of 0.1 to 10 ㎛ in the process protective film laminated optical optical transparent composite film for display.
제1항에 있어서,
상기 유-무기 하이브리드 오버코트층의 상면에 보호필름을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름.
The method of claim 1,
The protective film laminated display optical transparent composite film for the process characterized in that it further comprises a protective film on the upper surface of the organic-inorganic hybrid overcoat layer.
제1항에 있어서,
상기 고분자 기재와 무기물 가스배리어층 사이에 플라즈마 처리에 의해 상기고분자 기재의 표면이 개질된 플라즈마 표면 처리층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름.
The method of claim 1,
And a plasma surface treatment layer on which the surface of the polymer substrate is modified by plasma treatment between the polymer substrate and the inorganic gas barrier layer.
열가소성 투명 베이스 수지를 포함하는 고분자 기재를 준비하는 단계;
상기 고분자 기재의 일면에 공정용 보호필름을 합지하는 단계;
상기 고분자 기재의 타면에 무기물 가스 배리어층을 형성하는 단계; 및
(메트)아크릴레이트 단량체, 에폭시기를 가지며 중량평균 분자량이 500 ~ 10,000인 (메트)아크릴레이트 올리고머 및 개시제를 분산매에 용해시키고 실리카 입자들이 분산된 경화성 코팅액과 금속 알콕시드, 경화촉진제, 무기산 및 물을 용매에 용해시킨 졸 용액을 혼합하여 준비된한 경화성 졸 용액을, 상기 무기물 가스 배리어층의 상면에 도포하고, 상기 도포된 경화성 졸 용액을 경화시켜 유-무기 하이브리드 오버코팅층을 형성하는 단계;를 포함하는 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름의 제조방법.
Preparing a polymer substrate comprising a thermoplastic transparent base resin;
Laminating a process protective film on one surface of the polymer substrate;
Forming an inorganic gas barrier layer on the other surface of the polymer substrate; And
A (meth) acrylate monomer, an (meth) acrylate oligomer having an epoxy group and a weight average molecular weight of 500 to 10,000 and an initiator are dissolved in a dispersion medium, and a curable coating solution, a metal alkoxide, a curing accelerator, an inorganic acid, and water in which silica particles are dispersed. Applying a curable sol solution prepared by mixing a sol solution dissolved in a solvent to an upper surface of the inorganic gas barrier layer, and curing the applied curable sol solution to form an organic-inorganic hybrid overcoating layer. Process protective film A method for producing an optical transparent composite film for laminated display.
제12항에 있어서,
상기 고분자 기재의 일면에 공정용 보호필름을 합지하는 단계에서 얻어진 결과물에서, 공정용 보호필름과 고분자 기재 사이의 점착력이 1 gf/inch 이상이고,
상기 고분자 기재의 타면에 무기물 가스 배리어층을 형성하는 단계에서 얻어진 결과물에서, 공정용 보호필름과 상기 고분자 기재-무기물 가스 배리어 층의 복합층간의 점착력이 12 gf/inch 이하인 것을 특징으로 하는 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름의 제조방법.
The method of claim 12,
In the result obtained by laminating the process protective film on one surface of the polymer substrate, the adhesive force between the process protective film and the polymer substrate is 1 gf / inch or more,
In the result obtained in the step of forming an inorganic gas barrier layer on the other surface of the polymer substrate, the process protection, characterized in that the adhesion between the process protective film and the composite layer of the polymer substrate-inorganic gas barrier layer is 12 gf / inch or less Method for producing an optical transparent composite film for film lamination display.
제12항에 있어서,
상기 고분자 기재의 일면에 공정용 보호필름을 합지하는 단계에서 얻어진 필름의 항복강도는 65 MPa 이상인 것을 특징으로 하는 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름의 제조방법.
The method of claim 12,
The yield strength of the film obtained in the step of laminating the process protective film on one surface of the polymer substrate is 65 MPa or more method for producing an optical transparent composite film for a process protective film laminated display.
제12항에 있어서,
상기 무기물 가스 배리어층의 상면에 도포된 경화성 졸 용액을 경화시켜 유-무기 하이브리드 오버코팅층을 형성하는 단계가 UV 경화 또는 열경화에 의해 실시되는 것을 특징으로 하는 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름의 제조방법.
The method of claim 12,
Curing the curable sol solution applied to the upper surface of the inorganic gas barrier layer to form an organic-inorganic hybrid overcoating layer is an optical transparent composite for protective film lamination display for the process, characterized in that carried out by UV curing or thermal curing Method for producing a film.
제12항에 있어서,
상기 유-무기 하이브리드 오버코트층의 상면에 보호필름을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름의 제조방법.
The method of claim 12,
The method of manufacturing an optical transparent composite film for a protective film lamination display for the process further comprising the step of forming a protective film on the upper surface of the organic-inorganic hybrid overcoat layer.
제1항 내지 제11항 중 어느 하나의 항에 따른 공정용 보호필름 합지 디스플레이용 광학 투명 복합필름을 이용한 플렉서블 디스플레이 제품.A flexible display product using an optical transparent composite film for protective film lamination display according to any one of claims 1 to 11.
KR1020130098741A 2013-08-20 2013-08-20 A optical transparent composite film for the use of display laminated with a protective film for processing and manufacturing method thereof KR101335268B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130098741A KR101335268B1 (en) 2013-08-20 2013-08-20 A optical transparent composite film for the use of display laminated with a protective film for processing and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130098741A KR101335268B1 (en) 2013-08-20 2013-08-20 A optical transparent composite film for the use of display laminated with a protective film for processing and manufacturing method thereof

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101335268B1 true KR101335268B1 (en) 2013-11-29

Family

ID=49858885

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020130098741A KR101335268B1 (en) 2013-08-20 2013-08-20 A optical transparent composite film for the use of display laminated with a protective film for processing and manufacturing method thereof

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101335268B1 (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160106889A (en) 2015-03-03 2016-09-13 (주)에스앤케이 Transparent Plastic Film for Display and Method of Preparing thereof
WO2017018707A1 (en) * 2015-07-24 2017-02-02 코오롱인더스트리 주식회사 Barrier film and manufacturing method therefor
KR20180003143A (en) * 2016-06-30 2018-01-09 코오롱인더스트리 주식회사 The barrier film and manufacturing method thereof
CN109087962A (en) * 2018-09-25 2018-12-25 汉能移动能源控股集团有限公司 A kind of encapsulation foreboard and its preparation process

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07164591A (en) * 1993-09-30 1995-06-27 Toppan Printing Co Ltd Laminated film of gas barrier properties
JP2004025732A (en) 2002-06-27 2004-01-29 Fuji Photo Film Co Ltd Gas barrier film
KR20120078491A (en) * 2010-12-31 2012-07-10 주식회사 효성 A organic-inorganic complex barrier film and a process for preparing the same
KR101213170B1 (en) 2010-07-30 2012-12-18 (주)아이컴포넌트 A manufacturing method of plastic film for display substrate

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07164591A (en) * 1993-09-30 1995-06-27 Toppan Printing Co Ltd Laminated film of gas barrier properties
JP2004025732A (en) 2002-06-27 2004-01-29 Fuji Photo Film Co Ltd Gas barrier film
KR101213170B1 (en) 2010-07-30 2012-12-18 (주)아이컴포넌트 A manufacturing method of plastic film for display substrate
KR20120078491A (en) * 2010-12-31 2012-07-10 주식회사 효성 A organic-inorganic complex barrier film and a process for preparing the same

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160106889A (en) 2015-03-03 2016-09-13 (주)에스앤케이 Transparent Plastic Film for Display and Method of Preparing thereof
WO2017018707A1 (en) * 2015-07-24 2017-02-02 코오롱인더스트리 주식회사 Barrier film and manufacturing method therefor
KR20180003143A (en) * 2016-06-30 2018-01-09 코오롱인더스트리 주식회사 The barrier film and manufacturing method thereof
KR102327593B1 (en) * 2016-06-30 2021-11-16 코오롱인더스트리 주식회사 The barrier film and manufacturing method thereof
CN109087962A (en) * 2018-09-25 2018-12-25 汉能移动能源控股集团有限公司 A kind of encapsulation foreboard and its preparation process
CN109087962B (en) * 2018-09-25 2023-12-12 东君新能源有限公司 Packaging front plate and preparation process thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101335266B1 (en) A optical transparent composite film for the use of display and manufacturing method thereof
KR101051226B1 (en) Optical film
TWI409306B (en) Hard coating
JP5081147B2 (en) Anti-reflective coating composition and method for depositing such a coating
KR101213170B1 (en) A manufacturing method of plastic film for display substrate
KR20120005413A (en) Anti-reflection film and method for manufacturing the same
KR101335268B1 (en) A optical transparent composite film for the use of display laminated with a protective film for processing and manufacturing method thereof
US10882275B2 (en) Gas barrier film with protective coating layer containing inorganic particles
CN110895356A (en) Antireflection film, method for producing antireflection film, optical member, and image display device
JP2004212619A (en) Antireflection film, its manufacturing method and substrate
KR101798750B1 (en) Gas barrier film and method for producing the same
JP2005258120A (en) Curable resin composition for optical component, optical component and image display apparatus
JP2023073287A (en) Optical diffusive barrier film
CN107949876A (en) Form substrate and the image display device for possessing it
KR101371542B1 (en) A manufacturing method of plastic film for display substrate
JP2019093686A (en) Release film for transfer film and transfer film
KR20170113451A (en) Gas barrier film
KR20170091396A (en) Transparent barrier film
JP2014084360A (en) Active energy ray-curable undercoat composition, and laminate
KR101491767B1 (en) A plastic film electrode, method for producing the same, and display article comprising the same
KR101421973B1 (en) A optical transparent composite film for the use of display and manufacturing method thereof
JP2005042072A (en) Curable composition and cured product using the same
KR101864878B1 (en) Transparent barrier film
KR20080009532A (en) An anti-reflection plastic transparent sheet and a method of preparing the same
JPH10255555A (en) Transparent electrode substrate

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
A302 Request for accelerated examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160928

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee