KR20170069708A - 지지 척 및 기판 처리 장치 - Google Patents

지지 척 및 기판 처리 장치 Download PDF

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KR20170069708A KR1020150177260A KR20150177260A KR20170069708A KR 20170069708 A KR20170069708 A KR 20170069708A KR 1020150177260 A KR1020150177260 A KR 1020150177260A KR 20150177260 A KR20150177260 A KR 20150177260A KR 20170069708 A KR20170069708 A KR 20170069708A
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Abstract

본 발명은 일면에 관통구가 형성되는 몸체부; 상기 상기 몸체부의 일면에 대하여 전진 및 후퇴 가능하도록 상기 몸체부의 내부에 장착되고, 적어도 일부가 상기 관통구의 내부에 배치되는 척부; 상기 척부를 마주보도록 상기 몸체부의 내부에 장착되고, 자력 및 가스 압력 중 적어도 하나를 이용하여, 상기 척부를 전진 및 후퇴 가능하게 지지하는 작동부를 포함하는 지지 척 및 기판 처리 장치로서, 기판을 처리하는 동안, 지지 척의 각 기계 요소에 할당되는 부하를 감소시킬 수 있고, 기판이 탈락되는 것을 방지할 수 있으며, 기판을 처리하는 공정의 효율을 향상시킬 수 있는 지지 척 및 기판 처리 장치가 제시된다.

Description

지지 척 및 기판 처리 장치{SUPPORT CHUCK AND SUBSTRATE TREATING APPARATUS}
본 발명은 지지 척 및 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 작동 방식이 개선되고 구조가 간단한 지지 척 및 기판 처리 장치에 관한 것이다.
액정 표시 장치(Liquid Crystal Display: LCD) 및 유기 발광 장치(Organic Light Emitting Device: OLED) 등을 포함하는 표시장치는, 일반적으로 한 쌍의 평판형 기판을 합착시켜 제작한다. 예를 들면, 복수의 박막 트랜지스터, 유기발광층 및 전극 등이 형성된 상부 기판을 상전반에 수취하고, 캡핑층 역할을 하는 하부 기판을 하정반에 수취한 후에, 진공 상태에서 미세 얼라인을 하고 합착시키는 과정으로 유기 발광 장치(OLED)를 제작한다. 이와 같이 기판의 합착을 수행하는 장치는 현재 다양한 형태로 구현되어 있다. 예컨대 대한민국 공개특허공보 제10-2012-0035342호에는 OLED 기판의 합착장치가 개시되어 있다.
상술한 특허문헌에도 제시되고 있는 바와 같이, 종래에는 상정반에서 정전척 또는 점착척으로 기판을 홀딩하여 진공 중에 기판을 수취하였고, 기판 박리 시에 정전척 또는 점착척으로부터 기판을 박리하여 합착 공정을 수행하였다.
힌편 종래에는 점착척의 후퇴 방식으로 모터의 구동에 의한 기계적인 동력 전달 방식이 적용되었고, 따라서 점착척은 모터에 구조적으로 구속되도록 설치가 되었다. 따라서, 종래에는 점착척 각각의 높이를 정밀하게 설정해야 하는 어려움이 있었다. 특히, 대면적의 기판을 수취 시에 점착핀의 높이를 균일하게 맞추기 위해서는 높은 기구 정밀도가 필요하게 되었고, 이는 설비를 구성함에 있어, 비용 상승의 원인이 되었다. 또한, 종래에는 점착척의 구동이 모터에 의하여 실시되었기 때문에, 설비의 구성이 복잡해지고, 설비의 높이가 높아지는 문제점이 있었다.
KR 10-2012-0035342 A
본 발명은 작동 방식이 개선된 지지 척 및 기판 처리 장치를 제공한다.
본 발명은 구조가 간단한 지지 척 및 기판 처리 장치를 제공한다.
본 발명은 기판을 처리하는 동안 각 기계 요소에 할당되는 부하를 감소시킬 수 있는 지지 척 및 기판 처리 장치를 제공한다.
본 발명은 기판을 처리하는 동안 기판이 탈락되는 것을 방지할 수 있는 지지 척 및 기판 처리 장치를 제공한다.
본 발명은 기판을 처리하는 공정의 효율을 향상시킬 수 있는 지지 척 및 기판 처리 장치를 제공한다.
본 발명의 실시 형태에 따른 지지 척은, 일면에 관통구가 형성되는 몸체부; 상기 몸체부의 일면에 대하여 전진 및 후퇴 가능하도록 상기 몸체부의 내부에 장착되고, 적어도 일부가 상기 관통구의 내부에 배치되는 척부; 상기 척부를 마주보도록 상기 몸체부의 내부에 장착되고, 자력 및 가스 압력 중 적어도 하나를 이용하여, 상기 척부를 전진 및 후퇴 가능하게 지지하는 작동부;를 포함한다. 상기 척부를 마주보도록 상기 몸체부의 내부에 장착되고, 상기 몸체부의 내부에서 상기 척부의 전진 및 후퇴를 안내하는 밸런스 제어부;를 포함할 수 있다.
상기 척부는, 상기 몸체부의 일면과 평행하도록 연장되고, 상기 몸체부의 내부에 위치하는 척 프레임; 상기 몸체부의 일면과 교차하는 방향으로 연장되며, 상기 척 프레임에 장착되고, 상기 관통구의 내부에 위치하는 척 부재;를 포함할 수 있다.
상기 작동부는, 상기 척부를 중심으로 하여 상기 관통구의 반대측에서 상기 척부로부터 이격되어 상기 몸체부의 내부에 장착되는 자력 발생기;를 포함할 수 있다. 상기 작동부는, 상기 척부를 중심으로 하여 상기 관통구측에서 상기 척부에 접촉되도록 상기 몸체부의 내부에 장착되고, 가스의 주입 및 배기에 의하여 상기 척부를 전진 및 후퇴시키는 탄성체;를 포함할 수 있다. 상기 탄성체는, 상기 척부를 중심으로 하여 상기 관통구측에서 상기 척부를 마주보도록 상기 몸체부의 내부에 장착되는 탄성 변형막; 상기 탄성 변형막과 상기 척부 사이에서 상기 탄성 변형막을 마주보도록 위치하고, 상기 탄성 변형막 및 상기 척부에 접촉되며, 상기 탄성 변형막의 팽창 및 수축에 의하여 후퇴 및 전진 가능한 캡 부재;를 포함할 수 있다.
상기 밸런스 제어부는, 상기 몸체부의 일면에 교차하는 방향으로 상기 몸체부의 내부를 관통하여 장착되고, 상기 척부로부터 이격되는 가이드 부재; 상기 몸체부의 일면에 교차하는 방향으로 상기 가이드 부재를 관통하여 슬라이드 가능하게 장착되고, 일단이 상기 척부에 체결되는 슬라이드 부재;를 포함할 수 있다. 상기 밸런스 제어부는, 상기 슬라이드 부재의 타단에 장착되어 상기 척부의 전진 및 후퇴 속도를 제어하는 댐퍼 부재;를 포함할 수 있다. 상기 밸런스 제어부는 상기 척부의 중심부로부터 이격된 복수의 위치에 장착될 수 있다.
본 발명의 실시 형태에 따른 기판 처리 장치는, 내부에 처리 공간이 형성되는 챔버; 상기 챔버의 내부에 배치되는 제1 지지대; 상기 제1 지지대에 대향되어 상기 챔버의 내부에 배치되는 제2 지지대; 상기 제1 지지대 및 제2 지지대 중 적어도 어느 하나의 지지대에 장착되며, 자력 및 가스 압력 중 적어도 하나를 이용하여 이동 가능한 척부를 내부에 가지는 지지 척;을 포함한다.
상기 지지 척은, 내부에 상기 척부가 장착되고, 일면에 관통구가 형성되는 몸체부; 상기 척부를 마주보도록 상기 몸체부의 내부에 장착되고, 상기 척부를 상기 몸체부의 일면에 대하여 전진 및 후퇴 가능하게 지지하는 작동부;를 포함할 수 있다. 상기 지지 척은 상기 척부를 마주보도록 상기 몸체부의 내부에 장착되고, 상기 몸체부의 내부에서 슬라이딩되며 상기 척부의 전진 및 후퇴를 안내하는 밸런스 제어부;를 포함할 수 있다. 상기 밸런스 제어부는 상기 척부의 중심부로부터 이격된 복수의 위치에 장착될 수 있다.
상기 척부는, 상기 몸체부의 일면과 교차하는 방향으로 연장되고, 상기 몸체부의 관통구에 배치되며, 전진 시에 기판을 흡착하여 고정하고 후퇴 시에 기판으로부터 분리되는 척 부재;를 포함할 수 있다.
상기 작동부는, 상기 척부를 중심으로 하여 상기 관통구의 반대측에서 상기 척부로부터 이격되어 상기 몸체부의 내부에 장착되는 자력 발생기;를 포함할 수 있다. 상기 작동부는 상기 척부를 중심으로 하여 상기 관통구측에서 상기 척부에 접촉되도록 상기 몸체부의 내부에 장착되고, 가스의 주입 및 배기에 의하여 상기 척부를 전진 및 후퇴시키는 탄성체;를 포함할 수 있다.
상기 지지 척은, 상기 몸체부의 일면에 형성되는 진공 홀; 상기 몸체부의 내부로 연장되어 상기 진공 홀에 연결되고, 상기 진공 홀의 압력을 조절하는 유틸리티 공급부;를 포함할 수 있다. 상기 진공 홀은 상기 몸체부의 일면에서 적어도 하나의 방향으로 연장되어 라인 또는 격자 형상으로 형성되고, 상기 관통구는 라인 또는 격자 형상의 상기 진공 홀이 연장된 방향과 어긋나도록 상기 몸체부의 일면에 복수개 형성될 수 있다.
상기 지지 척은, 상기 몸체부의 내부로 연장되어 상기 탄성체에 연결되고, 상기 탄성체를 팽창 및 수축시키는 유틸리티 공급부;를 포함할 수 있다.
상기 유틸리티 공급부는, 적어도 일부가 상기 챔버의 내부로 연장되어 상기 진공 홀 또는 상기 탄성체에 연결되는 유틸리티 라인; 일단이 상기 챔버의 외부에서 상기 유틸리티 라인의 일측에 연결되고, 타단이 상기 챔버를 관통하여 내부에서 개방되는 바이패스 라인; 상기 바이패스 라인에 장착되는 바이패스 밸브; 상기 유틸리티 라인의 일측에 장착되는 유틸리티 밸브;를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시 형태에 따르면, 작동 방식이 개선되고 구조가 간단한 지지 척을 얻을 수 있고, 이를 이용하여, 기판을 처리하는 동안 각 기계 요소에 할당되는 부하를 감소시킬 수 있고, 기판을 처리하는 동안 기판이 탈락되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 기판을 처리하는 공정의 효율을 향상시킬 수 있다.
예컨대 글래스를 합착하는 어셈블리 설비에 적용되는 경우, 점착 부재 또는 정전 부재의 작동 방식을 자력 발생기 또는 탄성체를 이용한 작동 방식으로 개선함에 따라, 접착 부재 또는 정전 부재의 작동 구조를 자력 발생기 또는 탄성체를 이용한 작동 구조로 간단하게 구성할 수 있다.
따라서, 점착 부재나 정전 부재를 글래스측으로 전진시켜 지지 척에 글래스를 홀딩하는 과정, 점착 부재나 정전 부재를 글래스측으로부터 후퇴시켜 지지 척으로부터 글래스를 분리시키는 과정 동안에, 지지 척의 각 구성부에 할당되는 부하를 감소시킬 수 있다. 특히, 점착 부재나 정전 부재의 위치가 기계적으로 고정되어 구속되는 것이 아니기 때문에 지지 척의 각 구성부에 할당되는 기계적인 부하를 효과적으로 감소시킬 수 있다.
또한, 점착 부재나 정전 부재를 글래스측으로 전진시켜 지지 척에 글래스를 홀딩하는 동안에, 진공 홀에 제공되는 진공을 챔버의 내부로 바이패스시키는 구조 및 방식으로 지지 척의 구조 및 방식를 구성할 수 있다. 따라서, 지지 척이 글래스를 홀딩하고 있는 동안 챔버 내부에 제공되는 진공과 진공 홀에 제공되는 진공이 동압을 이루게 되어, 글래스의 탈락을 방지할 수 있다.
이로부터 글래스의 합착하는 공정의 효율을 향상시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 지지 척 및 기판 처리 장치를 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 지지 척 및 기판 처리 장치의 유틸리티 공급부를 설명하기 위한 도면이다.
도 3 및 도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 지지 척의 구조를 설명하기 위한 도면이다.
도 5 내지 도 9는 본 발명의 실시 예에 따른 지지 척의 작동을 설명하기 위한 도면이다.
도 10은 본 발명의 변형 예에 따른 지지 척 및 기판 처리 장치를 설명하기 위한 도면이다.
도 11 내지 도 15는 본 발명의 변형 예에 따른 지지 척 및 기판 처리 장치를 설명하기 위한 도면이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명의 실시 예를 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되는 것이 아니라, 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이다. 단지 본 발명의 실시 예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하고 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위하여 제공되는 것이다. 본 발명의 실시 예를 설명하기 위하여 도면은 과장되거나 확대될 수 있고 도면상에서 동일한 부호는 동일한 요소를 지칭한다.
본 발명은 지지 척 및 기판 처리 장치에 관한 것으로, 이하에서는 글래스를 합착하는 공정의 어셈블리 설비를 기준으로 본 발명의 실시 예를 설명한다. 그러나 본 발명은 LCD(Liquid Crystal Display), OLED(Organic Light Emitting Display) 및 LED(Light Emitting Display) 등을 포함하는 표시장치 또는 태양전지 또는 반도체 칩 등을 제조하는 다양한 공정 설비에서 각종 기판을 지지하는 장치로서 적용될 수 있다.
본 발명의 실시 예를 설명하기 위하여 사용되는 용어들을 다음과 같이 정의한다. 본 발명의 실시 예에서는 설명하고자 하는 대상이 하강하는 움직임을 보이는 경우 이러한 움직임을 '전진'이라 하고, 설명하고자 하는 대상이 상승하는 움직임을 보이는 경우 이러한 움직임을 '후퇴'라고 한다.
또는, 본 발명의 실시 예에서는 설명하고자 하는 대상이 처리물 예컨대 글래스 재질의 상부 기판이나 하부 기판 측으로 이동하는 움직임을 보이는 경우 이러한 움직임을 '전진'이라 하고, 설명하고자 하는 대상이 상술한 처리물에서 멀어지도록 이동하는 움직임을 보이는 경우 이러한 움직임을 '후퇴'라고 한다.
또한, 본 발명의 실시 예에서는 진공 압력 또는 정전력 또는 점착력 등의 힘에 의하여 서로 다른 두 대상이 끈기있게 달라붙어 빈틈없이 밀착되는 것을 '흡착'이라 한다. 이때, 어느 하나의 대상이 다른 하나의 대상에 흡착되어 고정되는 것을 '홀딩'이라 한다.
또한, 본 발명의 실시 예에서는 설명하고자 하는 대상의 위쪽 일부를 '상부'라고 하고, 설명하고자 하는 대상의 아랫쪽 일부를 '하부'라고 한다. 이때, '상부' 및 '하부'는 설명하고자 하는 대상에 포함되는 부분이다.
또한, 본 발명의 실시 예에서는 설명하고자 하는 대상의 위쪽 공간 또는 영역을 '상측'이라 하고, 설명하고자 하는 대상의 아랫쪽 공간 또는 영역을 '하측'이라 한다. 이때, '상측' 및 '하측'은 설명하고자 하는 대상에 포함되는 부분이 아니고, 설명하고자 하는 대상의 내부 및 외부에서 설명하고자 하는 대상에 접촉되거나 이격되는 소정의 공간 또는 영역이다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 지지 척 및 기판 처리 장치를 도시한 개략도이고, 도 2는 도 1의 'A'부분을 확대하여 본 발명의 실시 예에 따른 유틸리티 공급부의 구조를 도시한 부분 확대도이다. 도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 지지 척의 구조를 도시한 모식도이며, 도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 지지 척의 하부면의 형상을 예시적으로 도시한 평면도이다.
도 5 내지 도 9는 본 발명의 실시 예에 따른 지지 척 및 기판 처리 장치의 작동 방식을 순서대로 도시한 공정도이다. 도 5는 본 발명의 실시 예에 따른 척부가 전진한 위치에서 처리물을 흡착하고 있는 모습을 도시한 공정도이고, 도 6은 도 5의 'B'부분의 부분 확대도이다. 도 7은 본 발명의 실시 예에 따른 척부가 자력에 의하여 후퇴하며 처리물에서 분리되는 모습을 도시한 공정도이며, 도 8은 도 7의 'C'부분의 부분 확대도이다. 도 9는 본 발명의 실시 예에 따른 제1 지지대가 상측으로 이동하여 처리물로부터 완전히 이격된 모습을 도시한 공정도이다.
이하, 도 1 내지 도 9을 참조하여, 본 발명의 실시 예에 따른 지지 척 및 기판 처리 장치를 상세하게 설명한다.
본 발명의 실시 예에 적용되는 처리물은 기판을 포함한다. 기판은 복수개로 구비되며, 상부 기판(S1) 및 하부 기판(S2)을 포함할 수 있다. 상부 기판(S1)은 예컨대 LDC 소자나 OLED 소자 등의 다양한 소자가 형성된 소자 기판일 수 있고, 하부 기판(S2)은 예컨대 소자 기판을 보호하는 캡핑 기판일 수 있으며, 각각의 베이스재는 글래스를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 복수의 기판을 합착시키는 처리 장치로서, 내부에 처리 공간이 형성되는 챔버(100), 챔버(100)의 내부에 배치되는 제1 지지대(200), 제1 지지대(200)에 대향하도록 챔버(100)의 내부에 배치되는 제2 지지대(300), 제1 지지대(200) 및 제2 지지대(300)를 승강 가능하게 지지하는 복수개의 지지대 구동부, 제1 지지대(200) 및 제2 지지대(300) 중 적어도 하나에 장착되며, 자력을 이용하여 이동 가능한 척부(620)를 내부에 가지는 지지 척(600A)을 포함한다.
챔버(100)는 기판의 합착 공정을 수행 가능한 처리 공간이 내부에 형성되는 상부 챔버(110) 및 하부 챔버(120)를 포함할 수 있고, 이들 챔버는 서로 착탈 가능하게 체결될 수 있다. 상부 챔버(110) 및 하부 챔버(120) 중 적어도 하나의 챔버는 챔버 승강부(미도시)에 연결되어 지지될 수 있다.
챔버(100)는 상부 챔버(110) 및 하부 챔버(120) 중 적어도 하나의 챔버를 챔버 승강부를 이용하여 승강시킨 후, 합착하고자 하는 복수의 기판을 챔버(100)의 내부로 로딩할 수 있고, 챔버(100)의 내부에서 합착이 완료된 기판을 챔버(100)의 외부로 언로딩할 수 있다.
챔버(100)에는 챔버(100)의 내부 압력을 조절하는 챔버 압력 조절부(미도시) 및 챔버(100)의 내부에서 발생되는 이물을 외부로 배기하는 불순물 배기부(미도시)가 제공될 수 있고, 또한, 챔버(100)의 내부 및 외부에 마련되는 기판 처리 장치의 각 구성부들을 제어하는 제어부(미도시)가 제공될 수 있다.
제1 지지대(200) 예컨대 상부 지지대는 챔버(100)의 내측 상부에 배치될 수 있고, 상부 기판(S1)을 지지 가능하도록 형성될 수 있다. 제1 지지대(200)는 상부 기판(S1)의 형상에 대응하는 형상으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상부 기판(S1)이 사각 판 형상일 경우에, 제1 지지대(200)는 사각 판의 형상으로 하부면을 구비하는 것을 만족하는 다양한 다면체나 입체의 형상일 수 있다.
제1 지지대(200)의 하부면에는 본 발명의 실시 예에 따른 지지 척(600A)이 장착될 수 있다.
제2 지지대(300) 예컨대 하부 지지대는 챔버(100)의 내측 하부에 배치될 수 있고, 하부 기판(S2)을 지지 가능하도록 형성될 수 있다. 제2 지지대(300)는 하부 기판(S2)의 형상에 대응하는 형상으로 형성될 수 있다. 예컨대 제2 지지대(300)는 사각 판 형상의 상부면을 구비하는 다양한 다면체 또는 입체의 형상으로 형성될 수 있다.
제2 지지대(300)의 상부면에는 하부 기판(S2)을 고정시킬 수 있는 흡착부(미도시)로서 진공 홀이나 점착 패드 또는 정전 패드가 구비되어도 무방하다.
제1 지지대(200) 및 제2 지지대(300) 각각에는 리프트부재(미도시)가 구비될 수 있다. 리프트부재는 리프트핀을 포함할 수 있다. 리프트핀은 제1 지지대(200)의 하부면에 장착된 지지 척(600A)을 관통하여 장착될 수 있고, 이때, 승강 가능하게 장착될 수 있으며, 복수개로 장착될 수 있다. 또한, 리프트핀은 제2 지지대(300)의 상부면을 관통하여 장착될 수 있고, 이때, 승강 가능하게 장착될 수 있고, 복수개로 장착될 수 있다. 각각의 리프트핀의 단부에는 벨로우즈 타입의 진공 패드나, 소정의 지지 패드가 구비될 수 있고, 이를 이용하여 기판에 안정적으로 접촉될 수 있다. 리프트핀은 지지 척(600A)에 상부 기판(S1)을 로딩하는 것을 보조할 수 있고, 제2 지지대(300)에 하부 기판(S2)을 로딩하는 것을 보조할 수 있으며, 합착이 완료된 기판을 제2 지지대(300)에서 언로딩하는 것을 보조할 수 있다.
지지대 구동부는 제1 지지대 구동부(400) 및 제2 지지대 구동부(500)를 포함할 수 있다. 제1 지지대 구동부(400)는 챔버(100)의 상부를 관통하여 장착되며, 일 단부에 제1 지지대(200)가 장착되는 제1 구동축(410)과, 챔버(100)의 상측에서 제1 구동축(410)의 타 단부에 장착되어 동력을 인가하며 제1 구동축(410)을 승강시키는 제1 동력부(420)를 포함할 수 있다. 제1 구동축(410)과 챔버(100)의 사이에는 밀봉부재(미도시)가 구비될 수 있다.
제1 지지대 구동부(400)에는 제1 지지대(200)를 X, Y 및 θ 방향으로 이동시켜 제1 지지대(200)의 위치를 정렬 가능한 제1 지지대 정렬부(미도시)가 제공될 수 있고, 제1 지지대(200)의 위치를 검출하는 센서부(미도시)로서 이미지 센서가 제공될 수 있다.
제2 지지대 구동부(500)는 챔버(100)의 하부를 관통하여 장착되며, 일 단부에 제2 지지대(300)가 장착되는 제2 구동축(510), 챔버(100)의 하측에서 제2 구동축(510)의 타 단부에 장착되어 제2 구동축(510)을 승강시키는 제2 동력부(520)를 포함할 수 있다. 제2 구동축(510)과 챔버(100) 사이에는 밀봉부재(미도시)가 구비될 수 있다.
제2 지지대 구동부(500)에는 제2 지지대(300)를 X, Y 및 θ 방향으로 이동시키며 제2 지지대(300)의 위치를 정렬하는 제2 지지대 정렬부(미도시)가 제공될 수 있고, 제2 지지대(300)의 위치를 검출하는 센서부(미도시)로 예컨대 이미지 센서가 제공될 수 있다.
이하, 도 1 내지 도 9를 참조하여, 본 발명의 실시 예에 따른 지지 척(600A)을 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예에 따른 지지 척(600A)은 기판을 흡착하여 고정시키도록 제1 지지대(200)에 제공될 수 있다. 지지 척(600A)은 소정의 자력을 이용하여 지지 척(600A)의 내측을 향하는 방향 및 외측을 향하는 방향으로 이동 가능한 척부(620)를 구비할 수 있고, 이를 이용하여 기판의 흡착 및 분리를 안정적으로 실시할 수 있다.
본 발명의 실시 예에서는 지지 척(600A)이 제1 지지대(200)에 장착되어 상부 기판(S1)을 흡착 지지하나, 지지 척(600A)의 장착 위치는 제1 지지대(200)에 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 지지 척(600A)은 제2 지지대(300)의 상부면에 장착되어도 무방하다.
지지 척(600A)은 일면(611)에 관통구(612)가 형성되는 몸체부(610), 몸체부의 일면(611)에 대하여 전진 및 후퇴 가능하도록 몸체부(610)의 내부에 장착되고, 적어도 일부가 몸체부(610)의 관통구(612) 내부에 배치되는 척부(620), 척부(620)를 마주보며 몸체부(610)의 내부에 장착되고, 자력을 이용하여 척부(620)를 몸체부의 일면(611)에 대하여 전진 및 후퇴 가능하게 지지하는 작동부(630A), 척부(620)의 상측에서 척부(620)를 마주보도록 몸체부(610)의 내부에 장착되고, 몸체부(610)의 내부에서 슬라이딩되며 척부(620)의 전진 및 후퇴를 안내하고, 척부(620)의 급격한 속도 변화를 억제하며 척부(620)의 이동 속도를 제어하는 밸런스 제어부(640)를 포함할 수 있다.
몸체부(610)는 제1 지지대(200)의 하부면의 형상에 대응하여, 예컨대 직육면체나 정육면체를 포함하는 다면체 형상으로 형성될 수 있다. 몸체부(610)는 일체형 구조로 형성되거나, 분리형 구조로 형성될 수 있다. 본 발명의 실시 예에서는 분리형 구조로 형성되는 몸체부(610)를 예시한다.
몸체부(610)는 상부 몸체(610a) 및 하부 몸체(610b)를 포함할 수 있고, 상부 몸체(610a) 및 하부 몸체(610b)는 착탈 가능하게 체결될 수 있다. 하부 몸체(610b)는 상측으로 개방된 소정의 공간을 내부에 구비할 수 있다. 하부 몸체(610b)의 내부 공간의 바닥면에는 척부(620)가 놓여 지지될 수 있다. 이때, 척부(620)가 하부 몸체(610b)의 내부 공간의 바닥면에 얹혀진 상태에서 자력에 의하여 전진 및 후퇴 가능하도록 하부 몸체(610b)의 내부 공간의 높이가 형성될 수 있다.
상부 몸체(610a)는 하부 몸체(610b)의 상부를 덮도록 장착되며, 이에 따라, 몸체부(610)는 도 3에서 도시하고 있는 바와 같이, 그 내부에 척부(620)가 적어도 하나의 자유도로 전진 및 후퇴할 수 있는 소정의 공간을 형성할 수 있다.
몸체부(610)는 일면(611) 예컨대 하부면으로 기판을 지지하도록 형성될 수 있다. 이를 위하여, 몸체부의 일면(611)에는 진공을 이용하여 기판을 흡착 가능한 복수개의 진공 홀(651)이 구비될 수 있다. 복수개의 진공 홀(651)은 척부(620)가 전진하여 기판을 흡착하는 과정에서 기판을 몸체부의 일면(611)에 고정시켜주는 역할을 한다. 복수개의 진공 홀(651)은 관통구(612)로부터 이격되어 서로 일정한 간격을 이루며 몸체부의 일면(611)에 형성될 수 있다. 이때, 진공 홀(651)은 도 4에서 도시하고 있는 바와 같이, 몸체부의 일면(611)에서 적어도 하나의 방향으로 연장되어 라인 또는 격자 형상으로 형성될 수 있다.
또한, 몸체부의 일면(611)에는 관통구(612)가 형성될 수 있다. 관통구(612)는 복수개 형성될 수 있고, 일정 간격으로 서로 이격될 수 있다. 관통구(612)는 라인이나 격자 형상의 진공 홀(651)이 연장된 방향과 어긋나도록 몸체부의 일면(611)에 복수개 형성될 수 있다. 관통구(612)는 몸체부(610)의 내부 공간에 연통할 수 있다. 관통구(612)의 내부에는 후술하는 척 부재(622)가 위치할 수 있다.
한편, 몸체부의 일면(611)에 대향하는 몸체부(610)의 타면 예컨대 상부면은 제1 지지대(200)의 하부면에 장착될 수 있다.
척부(620)는 몸체부의 일면(611)과 평행하도록 연장되고, 몸체부(610)의 내부에 위치하는 척 프레임(621), 몸체부의 일면(611)과 교차하는 방향으로 연장되며, 척 프레임(621)을 중심으로 관통구(612)측에서 척 프레임(621)에 장착되고, 관통구(612)의 내부에 위치하는 척 부재(622), 척 부재(622)의 단부에 장착되는 흡착 패드(623)를 포함할 수 있다.
척 프레임(621)은 몸체부(610)의 내부 형상에 대응하는 형상으로 형성되는 예컨대 사각 판 형상의 프레임일 수 있고, 척 프레임(621)의 하부면에는 복수개의 척 부재(622)가 장착될 수 있다. 척 프레임(621)은 전진 및 후퇴 시에 밸런스 제어부(640)에 의하여 움직임이 제어되면서, 몸체부의 일면(611)과 평행을 유지하며 이동할 수 있다.
한편, 본 발명의 실시 예에서는 척 프레임(621)이 몸체부(610)의 내부에서 기계적인 연결에 의하여 그 위치가 구속되지 않으며, 몸체부(610)의 내부에서 몸체부(610)와 구조적으로 분리되도록 구성될 수 있다.
척 프레임(621)은 자력 또는 정전력에 의하여 전진이나 후퇴 이동될 수 있도록 전체 영역이 자성체 또는 금속 재질로 형성되거나, 국부 영역이 자성체 또는 금속 재질로 형성될 수 있다. 척 프레임(621)의 국부 영역이 자성체 또는 금속 재질로 형성되는 경우, 자성체 또는 금속 재질로 형성되는 척 프레임(621)의 국부 영역은 작동부(630A)의 직하에서 작동부(630A)를 마주보는 소정의 영역일 수 있다.
또는, 척 프레임(621)은 자력 또는 정전력에 의하여 전진이나 후퇴 이동될 수 있도록 작동부(630A)의 직하에서 작동부(630A)를 마주보는 소정 영역에는 별도의 이동부재(681)가 구비될 수 있다. 이때, 이동부재(681)는 자성체나 금속 재질의 패드 예컨대 강(steel) 재질의 패드를 포함할 수 있고, 작동부(630A)의 직하에서 척 프레임(621)의 상부면에 장착될 수 있다.
척 프레임(621)의 상부면 및 하부면의 복수 위치에는 충격 완충을 위한 접촉 패드(682)가 부착될 수 있다. 접촉 패드(682)는 척 프레임(621)의 전진 위치 및 후퇴 위치에서 몸체부(2610)의 내부면에 접촉되며 척 프레임(621)을 지지할 수 있다.
척 부재(622)는 예컨대 점착 부재 또는 정전 부재를 포함할 수 있다. 척 부재(622)가 점착 부재를 포함하는 경우, 흡착 패드(623)는 예컨대 점착 패드를 포함할 수 있다. 점착 패드는 점착력으로 기판을 고정하는 패드로서, 기판에 점착되었다가 떨어지더라도 기판에 점착 흔적을 남기지 않으면서, 척 부재(622)의 단부에 그대로 장착될 수 있는 특성을 가지는 재질로 형성될 수 있다. 점착 패드는 실리콘계 또는 아크릴계 또는 불소계 등으로 이루어진 점착 시트일 수 있다.
척 부재(622)가 정전 부재를 포함하는 경우, 흡착 패드(623)은 예컨대 정전 패드를 포함할 수 있다. 정전 패드는 정전력으로 기판을 고정하는 패드로서, 정전력을 생성할 수 있는 재질로 형성될 수 있다.
척 부재(622)는 몸체부의 일면(611)에 교차하는 방향으로 연장되는 바 형상의 부재일 수 있으며, 척 프레임(621)의 하부면을 관통하여 장착될 수 있고, 서로 이격되어 척 프레임(621)의 복수의 위치에 장착될 수 있다. 척 부재(622)는 적어도 하부 또는 단부가 관통구(612)에 삽입되어, 관통구(612)의 내부에 배치될 수 있다.
척 부재(622)는 척 프레임(621)의 전진 위치에서 흡착 패드(623)가 몸체부의 일면(611)과 동일 면상에 위치하거나 몸체부의 일면(611)보다 하측에 위치하도록 몸체부의 일면(611)에 교차하는 방향으로 연장되어 소정의 길이로 형성될 수 있다.
또한, 척 부재(622)는 척 프레임(621)의 후퇴 위치에서 흡착 패드(623)를 몸체부의 일면(611)보다 상측에 위치시킬 수 있도록 몸체부의 일면(611)에 교차하는 방향으로 연장되어 소정의 길이로 형성될 수 있다.
흡착 패드(623)는 상술한 바와 같이, 점착 패드 또는 정전 패드일 수 있고, 그 형상은 에컨대 원판 형상일 수 있다. 흡착 패드(623)는 척 부재(622)의 단부에 장착되어 전진 및 후퇴될 수 있다.
흡착 패드(623)는 척 프레임(621)의 전진 위치에서 몸체부의 일면(611)과 동일 면상에 위치하거나 몸체부의 일면(611)보다 하측에 위치할 수 있고, 기판을 흡착하여 고정시킬 수 있다. 흡착 패드(623)는 척 프레임(621)의 후퇴 위치에서 몸체부의 일면(611)보다 상측에 위치할 수 있고, 기판으로부터 분리될 수 있다.
한편, 흡착 패드(623)의 하부면 중심위치에는 흡착 패드용 진공 홀(652)이 형성될 수 있다. 흡착 패드용 진공 홀(652)은 흡착 패드(623)의 기판 홀딩을 보조하는 역할을 한다.
흡착 패드용 진공 홀(652)에는 흡착 패드용 유틸리티 공급부(670)가 연결될 수 있다. 흡착 패드용 유틸리티 공급부(670)는 적어도 일부가 챔버(100)의 내부로 연장되고 지지 척(600A)의 몸체부(610) 및 척부(620)를 관통하여 흡착 패드용 진공 홀(652)에 연결될 수 있다. 한편, 흡착 패드용 유틸리티 공급부(670)는 후술하는 제1유틸리티 공급부(660)와 같이, 일측에서 흡착 패드용 바이패스 라인(미도시)이 분기될 수 있고, 흡착 패드용 바이패스 라인은 단부가 챔버(100)의 내부에서 개방될 수 있다. 흡착 패드용 유틸리티 공급부(760)는 흡착 패드용 바이패스 라인을 이용하여, 흡착 패드용 진공 홀(652)의 내부에 제공되는 진공을 챔버(100)의 내부로 바이패스 시킬 수 있다.
작동부(630A)는 척부(620)의 척 프레임(621)을 이동시키도록 몸체부(610)의 내부에 제공될 수 있다. 작동부(630A)는 척부(620)를 중심으로 하여 관통구(612)의 반대측에서 척부(620)로부터 이격되어 몸체부(610)의 내부에 장착되는 자력 발생기 예컨대 전자석을 포함할 수 있다. 작동부(630A)는 예컨대 DC 24V의 저전압으로 구동될 수 있고, 따라서, 방전이 위험이 최소화되거나 방지될 수 있어, 진공 중에서 전자석 사용 시에 방전에 의한 자기력 손실 문제가 발생하는 것을 방지할 수 있다. 작동부(630A)는 적어도 하나 이상 구비될 수 있고, 척 프레임(621)의 적어도 중심부를 마주보도록 척 프레임(621)의 상측에서 몸체부(610) 내부에 장착될 수 있다.
이처럼, 본 발명의 실시 예에서는 척 프레임(621)이 몸체부(610)의 내부에서 작동부(630A)에 기계적으로 연결되어 구속되지 않고, 몸체부(610)의 내부에서 작동부(630A) 구조적으로 분리되어 구성될 수 있다.
즉, 척부(620)의 전진과 후퇴가 기계적인 동력 전달에 의하여 이루어지는 것이 아니기 때문에, 척부(620)에 인가되는 기계적인 부하를 상당 부분 감소시킬 수 있다.
한편, 본 발명의 실시 예에서는 척 프레임(621)의 중심부에 구비되는 하나의 작동부(630A)를 예시하나, 작동부(630A)는 복수개 구비되어도 무방하다. 이의 경우, 작동부(630A)는 척 프레임(621)의 중심부에 대하여 방사상으로 서로 이격되어 몸체부(610)의 내부에 장착되거나, 척 프레임(621)의 중심부에 대하여 회전 대칭하도록 서로 이격되어 몸체부(610)의 내부에 장착될 수 있다.
작동부(630A)가 척 프레임(621)의 중심부를 마주보는 위치에 하나 구비되는 경우, 장치의 구성 및 작동이 간단할 수 있고, 척 프레임(621)을 후퇴시킬 때 균형있게 후퇴시킬 수 있다. 반면, 작동부(630A)가 복수개 구비되는 경우, 척부(620)에 인가되는 힘을 분산시키며 척부(620)를 더욱 원활하게 이동시킬 수 있다.
작동부(630A)로 전원이 공급되어 작동되면, 척 프레임(621)이 후퇴하면서 복수의 척 부재(622) 모두가 동시에 후퇴될 수 있고, 작동부(630A)로의 전원 공급이 차단되면, 척 프레임(621)이 전진하면서 복수의 척 부재(622) 모두가 동시에 전진할 수 있다. 이때, 동시에 이동하는 척 부재(622)의 상하 이동을 균일하게 제어할 수 있도록 몸체부(610)의 내부에는 밸런스 제어부(640)가 제공될 수 있다.
밸런스 제어부(640)는 척부(620)가 몸체부의 일면(611)과 평행을 유지하면서 이동 가능하도록 몸체부(610)의 내부에 제공될 수 있다. 밸런스 제어부(640)는 척 프레임(621)의 중심부로부터 일정하게 이격된 복수의 위치 예컨대 두 위치 또는 세 위치 또는 네 위치 이상의 위치에 제공될 수 있다.
본 발명의 실시 예에서는 척부(620)를 중심으로 하여 상측의 네 위치에 각각 제공되는 밸런스 제어부(640)를 예시하나, 밸런스 제어부(640)는 척부(620)의 하측에 제공되어도 무방하다.
밸런스 제어부(640)는 척부(620)의 상측에서 몸체부의 일면(611)에 교차하는 방향으로 몸체부(610)의 내부를 관통하여 장착되고, 척부(620)로부터 이격되는 가이드 부재(641), 몸체부의 일면(611)에 교차하는 방향으로 가이드 부재(641)를 관통하여 슬라이드 가능하게 장착되고, 일단이 척부(620)의 척 프레임(621)에 체결되는 슬라이드 부재(642)를 포함할 수 있다. 이때, 가이드 부재(641) 및 슬라이드 부재(642)는 일종의 리니어 가이드로서, 척 프레임(621)의 전진 및 후퇴 시에, 척 프레임(621)의 기울어짐이나 틀어짐을 방지할 수 있고, 척 프레임(621)이 선형적으로 이동하도록 척 프레임(621)의 전진 및 후퇴를 안내할 수 있다.
밸런스 제어부(640)는 몸체부(610)의 내부에서 슬라이드 부재(642)의 타단에 장착되어 척부(620)의 전진 및 후퇴 속도를 제어하는 댐퍼 부재(643)를 포함할 수 있다. 댐퍼 부재(643)는 기계적인 마찰 또는 스프링의 탄성을 이용한 각종 댐퍼를 포함할 수 있고, 오리피스 구조를 이용한 각종 댐퍼를 포함할 수 있다. 예컨대 댐퍼 부재(643)는 스프링 댐퍼이거나 오일 댐퍼일 수 있다.
한편, 댐퍼 부재(643)가 오리피스 구조를 이용한 댐퍼를 포함하는 경우, 작동 유체는 오일 등을 포함하는 각종 액체일 수 있고, 공기나 불활성 가스를 포함하는 각종 기체일 수 있다.
댐퍼 부재(643)는 작동부(630A)에 의한 척 프레임(621)의 전진 및 후퇴 이동 시에, 슬라이드 부재(642)의 움직임을 제어하여, 척 프레임(621)의 급격한 속도 변화를 억제하고, 척 프레임(6210)에 발생될 수 있는 진동을 제진 또는 흡진하는 역할을 한다.
특히, 댐퍼 부재(643)는 작동부(630A)에서 척부(620)로의 동력 전달이 기계적으로 이루어지지 않는 구조에서도 척부(620)의 급격한 이동 및 진동을 방지할 수 있기 때문에, 본 발명의 실시 예에서는 댐퍼 부재(643)를 이용하여 척부(620)의 전진 및 후퇴를 더욱 안정적으로 실시할 수 있다.
한편, 본 발명의 실시 예에 따른 지지 척(600A)은 적어도 일부가 챔버(100)의 내부에서 지지 척(600A)을 관통하여 몸체부의 일면(611)에 형성된 진공 홀(651)에 연결되고, 그 나머지가 챔버(100)의 외부에서 연장되며, 몸체부의 일면(611)에 형성된 진공 홀(651)의 내부에 제공되는 진공을 챔버(100)의 내부로 바이패스 시키도록 일측이 챔버(100)의 내부에서 개방되는 제1유틸리티 공급부(660)를 포함할 수 있다.
제1유틸리티 공급부(660)는 적어도 일부가 챔버(100)의 내부로 연장되어 몸체부의 일면(611)의 진공 홀(651)에 연결되는 제1유틸리티 라인(661), 일단이 챔버(100)의 외부에서 제1유틸리티 라인(661)의 일측에 연결되고, 타단이 챔버(100)를 관통하여 내부에서 개방되는 제1바이패스 라인(662), 제1바이패스 라인(662)에 장착되는 제1바이패스 밸브(664) 및 제1유틸리티 라인(661)의 일측에 장착되는 제1유틸리티 밸브(663)를 포함할 수 있다.
제1유틸리티 라인(661)은 제1 지지대(200) 및 지지 척(600A)의 승강에 대응하도록 적어도 일부가 신축성 있고 유연한(Flexible) 코일 튜브의 형상으로 형성될 수 있다. 제1유틸리티 밸브(663)는 챔버(100)의 외측에서 제1유틸리티 라인(661)에 장착되어, 제1유틸리티 라인(661)에 제공되는 진공을 제어할 수 있다. 제1바이패스 밸브(664)는 제1유틸리티 밸브(663)와 진공 홀(651)의 사이에서 제1바이패스 라인(662)에 장착될 수 있고, 제1유틸리티 라인(661)에서 진공 홀(651) 측으로 제공되는 소정의 진공을 챔버(100) 내부로 바이패스 시킬 수 있다. 제1유틸리티 공급부(660)는 제1유틸리티 밸브(663) 및 제1바이패스 밸브(664)를 선택적으로 개방 및 차단하며 진공 홀(651)에 제공되는 진공을 패스 상태와 바이패스 상태로 전환시킬 수 있다.
제1유틸리티 밸브(663)가 개방되고 제1바이패스 밸브(664)가 차단되는 패스 상태에서는 진공 홀(651)에 제공되는 진공이 기판을 원활하게 고정시킬 수 있다. 제1유틸리티 밸브(663)가 차단되고 제1바이패스 밸브(664)가 개방되는 바이패스 상태에서는 도 2에서 도시하고 있는 바와 같이, 진공 홀(651)에 제공되는 진공(P651)이 챔버(100) 내부의 진공(P100)과 동압을 이룰 수 있기 때문에, 기판의 탈락이 방지될 수 있다.
상기에서 도 1 내지 도 9를 참조하여 본 발명의 실시 예를 설명하였으나, 본 발명은 하기의 변형 예를 포함하여 다양하게 구성될 수 있다.
도 10은 본 발명의 변형 예에 따른 지지 척 및 기판 처리 장치를 도시한 개략도이고, 도 11 내지 도 15는 본 발명의 변형 예에 따른 지지 척 및 기판 처리 장치의 작동 방식을 순서대로 도시한 공정도이다.
도 11은 본 발명의 변형 예에 따른 척부가 전진하여 처리물을 흡착하고 있는 모습을 도시한 공정도이고, 도 12는 도 11의 'D'부분의 부분 확대도이다. 도 13은 본 발명의 변형 예에 따른 척부가 가스 압력에 의하여 후퇴하며 처리물에서 분리되는 모습을 도시한 공정도이며, 도 14는 도 13의 'E'부분의 부분 확대도이다. 도 15는 본 발명의 변형 예에 따른 제1 지지대가 상측으로 이동하여 처리물로부터 완전히 이격된 모습을 도시한 공정도이다.
이하, 도 10 내지 도 15를 참조하여, 본 발명의 변형 예에 따른 지지 척 및 기판 처리 장치를 상세하게 설명한다. 이때, 본 발명의 실시 예에서의 구성과 구분되는 본 발명의 변형 예에 따른 지지 척 및 기판 처리 장치의 구성을 중심으로, 본 발명의 변형 예를 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명의 실시 예에서의 구성과 중복되는 본 발명의 변형 예에 따른 지지 척 및 기판 처리 장치의 구성은 설명을 생략하거나 간단하게 설명한다.
본 발명의 변형 예에 적용되는 처리물은 기판을 포함한다. 기판은 다양한 소자가 형성된 상부 기판(S1) 예컨대 소자 기판 및 상부 기판(S1)의 소자를 보호하는 하부 기판(S2) 예컨대 캡핑 기판을 포함할 수 있다.
본 발명의 변형 예에 따른 기판 처리 장치는 복수의 기판을 합착시키는 처리 장치로서, 내부에 처리 공간이 형성되는 챔버(100), 챔버(100)의 내부에 배치되는 제1 지지대(200), 제1 지지대(200)에 대향하도록 챔버(100)의 내부에 배치되는 제2 지지대(300), 제1 지지대(200) 및 제2 지지대(300)를 승강 가능하게 지지하는 복수개의 지지대 구동부, 제1 지지대(200) 및 제2 지지대(300) 중 적어도 하나에 장착되며, 내부로 주입되는 가스의 압력을 이용하여 이동 가능한 척부(620)를 내부에 가지는 지지 척(600B)을 포함한다.
본 발명의 변형 예에서의 챔버(100), 제1 지지대(200), 제2 지지대(300), 제1 지지대 구동부(400), 제2 지지대 구동부(500)의 구성 및 방식에는 본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 챔버(100), 제1 지지대(200), 제2 지지대(300), 제1 지지대 구동부(400), 제2 지지대 구동부(500)의 상술한 구성 및 방식이 적용될 수 있다.
이하, 본 발명의 변형 예에 따른 지지 척(600B)을 설명한다. 지지 척(600B)은 상부 기판(S2)을 흡착 가능하도록 제1 지지대(200)의 하부면에 제공될 수 있다. 물론, 지지 척(600B)의 장착 위치는 상기한 바에 한정하지 않고, 제2 지지대(300)의 상부면에 제공되어도 무방하다.
지지 척(600B)은 일면(611)에 관통구(612)가 형성되는 몸체부(610), 전진 및 후퇴 가능하도록 몸체부(610)의 내부에 배치되고, 일부가 관통구(612)의 내부에 위치하는 척부(620), 척부(620)의 하측에서 척부(620)를 마주보도록 몸체부(620)의 내부에 장착되고, 내부로 주입되는 가스의 압력을 이용하여, 척부(620)를 전진 및 후퇴 가능하게 지지하는 작동부(630B), 척부(620)의 상측에서 척부(620)를 마주보도록 몸체부(610)의 내부에 장착되고, 몸체부(610)의 내부에서 슬라이딩 되며 척부(620)의 전진 및 후퇴를 안내하고, 척부(620)의 급격한 속도 변화를 억제하며 척부(620)의 이동 속도를 제어하는 밸런스 제어부(640)를 포함할 수 있다.
또한, 지지 척(600B)은 적어도 일부가 챔버(100)의 내부에서 지지 척(600B)을 관통하여 몸체부의 일면(611)에 형성된 진공 홀(651)에 연결되고, 그 나머지가 챔버(100)의 외부에서 연장되며, 몸체부의 일면(611)에 형성된 진공 홀(651)의 내부에 제공되는 진공을 챔버(100)의 내부로 바이패스 시키도록 일측이 챔버(100)의 내부에서 개방되는 제1유틸리티 공급부(660)를 포함할 수 있다.
본 발명의 변형 예에서의 몸체부(610), 밸런스 제어부(640) 및 제1유틸리티 공급부(660)의 구성 및 방식에는 본 발명의 실시 예에 따른 지지 척(600A)의 몸체부(610), 밸런스 제어부(640) 및 제1유틸리티 공급부(660)의 구성 및 방식이 적용될 수 있다.
척부(620)는 몸체부의 일면(611)과 평행하도록 연장되고, 몸체부(610)의 내부에 위치하는 척 프레임(621), 몸체부의 일면(611)과 교차하는 방향으로 연장되며, 척 프레임(621)을 중심으로 관통구(612)측에서 척 프레임(621)에 장착되고, 관통구(612)의 내부에 위치하는 척 부재(622), 척 부재(622)의 단부에 장착되는 흡착 패드(623)를 포함할 수 있다. 이때, 흡착 패드(623)에는 흡착 패드용 진공 홀(652)이 형성될 수 있고, 흡착 패드용 진공 홀(652)에는 흡착 패드용 유틸리티 공급부(670)가 연결될 수 있다.
척 프레임(621)은 몸체부(610)의 내부 형상에 대응하여 예컨대 사각 판 형상으로 형성될 수 있다. 척 프레임(621)의 하부면에는 복수개의 척 부재(622)가 장착될 수 있다. 척 프레임(621)은 전진 및 후퇴 시에 밸런스 제어부(640)에 의하여 움직임이 제어되면서, 몸체부의 일면(611)과 평행을 유지하며 이동할 수 있다.
한편, 본 발명의 변형 예에서는 척 프레임(621)이 몸체부(610)의 내부에서 기계적인 연결에 의하여 그 위치가 구속되지 않으며, 몸체부(610)의 내부에서 작동부(630B)와 구조적으로 분리된 상태에서 작동부(630B)에 접촉되어 지지되도록 구성될 수 있다.
본 발명의 변형 예에서는 척 프레임(621)이 작동부(630B)에 접촉되어 안정적으로 지지되기 때문에, 척 프레임(621)의 상부면 및 하부면에 소정의 접촉 패드가 구비되지 않아도 무방하다.
또한, 본 발명의 변형 예에서는 척 프레임(621)이 작동부(630B)의 내부로 주입되는 가스의 압력에 의하여 움직이기 때문에, 척 프레임(621)의 상부면에는 자성체나 금속 재질로 형성되는 이동부재가 구비되지 않을 수 있다.
본 발명의 변형 예에서의 척 부재(622), 흡착 패드(623), 흡착 패드용 진공 홀(652) 및 흡착 패드용 유틸리티 공급부(670)에는 본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 척 부재(622), 흡착 패드(623), 흡착 패드용 진공 홀(652) 및 흡착 패드용 유틸리티 공급부(670)의 구성 및 방식이 적용될 수 있다.
본 발명의 변형 예에 따른 작동부(630B)는 척 프레임(621)을 이동시키도록 몸체부(610)의 내부에 제공될 수 있다. 작동부(630B)는 척부(620)를 중심으로 하여 관통구(612)측에서 척부(620)에 접촉되도록 몸체부(610)의 내부에 장착되고, 가스의 주입 및 배기에 의하여 척부(620)를 전진 및 후퇴시키는 탄성체를 포함할 수 있다. 이때, 작동부(630B)는 척부(620)를 중심으로 하여 밸런스 제어부(640)의 반대측 예컨대 척부(620)의 하측에서 적어도 밸런스 제어부(640)를 마주보는 위치에 각각 장착될 수 있다. 물론, 작동부(600B)는 척 프레임(621)을 몸체부의 일면(611)과 수평을 유지시키며 이동시키는 것을 만족하는 범주 내에서 밸런스 제어부(640)에 일치하는 위치로부터 벗어나는 다양한 위치에 장착될 수도 있다.
한편, 작동부(630B)는 복수개의 작동부(630B)가 아니고 하나의 작동부(630B)로 구비되어도 무방하며, 이와 같은 경우, 작동부(630B)는 척부(620)의 하측에서 척부(620)의 중심부를 마주보도록 장착될 수 있다.
작동부(630B)가 하나로 구비되는 경우, 장치의 구성 및 작동이 간단할 수 있고, 작동부(630B)가 복수개로 구비되는 경우, 척부(620)에 인가되는 힘을 분산시키며 척부(620)를 더욱 균형있고 원활하게 이동시킬 수 있다.
작동부(630B) 예컨대 탄성체는 척부(620)를 중심으로 하여 관통구(612)측에서 척부(620)를 마주보도록 몸체부(610)의 내부에 장착되는 탄성 변형막(631B), 탄성 변형막(631B)의 상측에서 탄성 변형막(631B)을 마주보도록 척부(620)에 접촉되고, 탄성 변형막(631B)의 상부를 감싸며, 탄성 변형막(631B)의 팽창 및 수축에 의하여 후퇴 및 전진 가능한 캡 부재(632B)를 포함할 수 있다.
이처럼, 본 발명의 변형 예에서는 척 프레임(621)이 몸체부(610)의 내부에서 작동부(630B)에 기계적으로 결합되어 구속되지 않고, 몸체부(610)의 내부에서 작동부(630B)에 구조적으로 분리되며, 작동부(630B)의 상부에 접촉되어 지지되도록 구성될 수 있다.
이는, 척부(620)가 기계적으로 결합된 상태에서 전진 및 후퇴하지 않는 것을 의미한다. 즉, 척부(620)의 움직임이 일정 부분 자유롭기 때문에, 척부(620)에 인가되는 기계적인 부하를 상당 부분 감소시킬 수 있다.
탄성 변형막(631B)은 탄성을 가지는 얇은 막 예컨대 다이어프램을 포함할 수 있다. 탄성 변형막(631B)의 재질은 천연 고무, 합성 고무, 금속판, 엔지니어링 플라스틱 등을 포함할 수 있다.
탄성 변형막(631B)은 상부가 상측으로 볼록한 반구의 형상으로 형성될 수 있고, 척 프레임(621)의 하측에 위치하며, 하부가 몸체부(610)의 내부면에 기밀하게 부착되어 결합될 수 있다. 탄성 변형막(631B)은 내부로 예컨대 불활성 가스를 주입받아 적어도 상측으로 팽창할 수 있고, 내부의 불활성 가스를 배기하여 초기 부피로 수축될 수 있다.
캡 부재(632B)는 탄성 변형막(631B)과 척 프레임(621)의 사이에서 탄성 변형막(631B)을 마주보도록 위치하고, 탄성 변형막(631B) 및 척 프레임(621)에 접촉되며, 탄성 변형막(631B)의 팽창 및 수축에 의하여 후퇴 및 전진 가능하다.
작동부(630B)로 가스가 공급되어 작동되면, 척 프레임(621)이 후퇴하면서 복수의 척 부재(622) 모두가 동시에 후퇴될 수 있고, 작동부(630B)에서 가스가 배기되면, 척 프레임(621)이 전진하면서 복수의 척 부재(622) 모두가 동시에 전진할 수 있다. 이처럼 작동부(630B)는 척 부재(622)로부터 수평 방향으로 이격된 위치에서 척 프레임(621)을 이동시켜 각각의 척 부재(622)를 동시에 이동시킬 수 있고, 균일하게 이동시킬 수 있다.
척 부재(622)의 상하 이동을 더욱 균일하게 제어할 수 있도록 몸체부(610)의 내부에는 밸런스 제어부(640)가 제공될 수 있다. 이때, 본 발명의 변형 예에서는 밸런스 제어부(640)에 댐퍼 부재(643)가 제공되지 않아도 무방하다.
이는, 본 발명의 변형 예에서는 작동부(630B)의 내부로 주입되는 가스 유량 및 유속을 제어하여 척부(620)의 이동 속도를 제어 가능하고, 작동부(630B)의 탄성 변형막(631B)에 의해서 척부(620)의 이동 시에 진동이나 충격이 제진 또는 흡진될 수 있기 때문이다.
본 발명의 변형 예에 따른 지지 척(600B)은 일부가 챔버(100)의 내부로 연장되어 작동부(630B)의 탄성 변형막(631B) 내부에 연결되고, 나머지가 챔버(100)의 외부에서 연장되며, 탄성 변형막(631B)의 내부에 제공되는 진공이나 가스 압력을 챔버(100)의 내부로 바이패스 시키도록 일측이 챔버(100)의 내부에서 개방되는 제2유틸리티 공급부(690)를 포함할 수 있다.
제2유틸리티 공급부(690)는 적어도 일부가 챔버(100)의 내부로 연장되어 작동부(630B)의 탄성 변형막(631B)의 내부에 각각 연결되는 제2유틸리티 라인(691), 일단이 챔버(100)의 외부에서 제2유틸리티 라인(691)의 일측에 연결되고, 타단이 챔버(100)를 관통하여 내부에서 개방되는 제2바이패스 라인(692), 제2바이패스 라인(693)에 장착되는 제2바이패스 밸브(694), 제2유틸리티 라인(691)의 일측에 장착되는 제2유틸리티 밸브(693)를 포함할 수 있다.
제2유틸리티 라인(691)은 제1 지지대(200) 및 지지 척(600B)의 승강에 대응하도록 일부가 신축성 있고 유연한 코일 튜브의 형상으로 형성될 수 있다. 제2유틸리티 밸브(693)는 챔버(100)의 외측에서 제2유틸리티 라인(691)에 장착되어, 제2유틸리티 라인(691)에 제공되는 불활성 가스의 압력을 제어할 수 있다. 제2바이패스 밸브(694)는 제2유틸리티 밸브(693)와 탄성 변형막(631B) 사이에서 제2바이패스 라인(692)에 장착될 수 있고, 제2유틸리티 라인(691)에서 탄성 변형막(631B) 측으로 제공되는 소정의 불활성 가스를 챔버(100)의 내부로 바이패스 시킬 수 있다.
이처럼, 제2유틸리티 공급부(690)는 제2유틸리티 밸브(693) 및 제2바이패스 밸브(694)를 선택적으로 개방 및 차단하며 탄성 변형막(631B)에 제공되는 불활성 가스를 패스 상태와 바이패스 상태로 전환시킬 수 있다.
제2유틸리티 밸브(693)가 개방되고 제2바이패스 밸브(694)가 차단되는 패스 상태에서는 탄성 변형막(631B)에 제공되는 불활성 가스가 탄성 변형막(631B)을 적어도 상측으로 팽창시키며 척부(210)를 상승시킬 수 있다. 제2유틸리티 밸브(693)가 차단되고 제2바이패스 밸브(694)가 개방되는 바이패스 상태에서는 탄성 변형막(631B)에 제공되는 불활성 가스가 챔버(100) 내부로 배기되며, 원활하게 수축될 수 있고, 탄성 변형막(631B)의 내부 압력을 챔버(100) 내부의 압력과 동압을 이루며 척부(620)를 더욱 안정적으로 지지할 수 있다.
이하, 도 1 내지 도 15을 참조하여, 본 발명의 실시 예 및 비교 예에 따른 기판 처리 장치에 적용되는 기판 처리 방법을 설명한다. 이때, 본 발명의 실시 예 및 비교 예에 따른 기판 처리 장치의 설명과 중복되는 설명은 생략하거나, 간단히 설명한다.
본 발명의 실시 예 및 비교 예에 따른 기판 처리 방법은 기판의 합착을 수행하는 기판 처리 방법으로서, 상부 기판(S1) 및 하부 기판(S2)을 마련하는 과정, 하부 기판(S2)을 제2 지지대(300)에 지지하는 과정, 상부 기판(S1)을 제1 지지대(200)에 지지하는 과정, 지지 척(600A, 600B)을 이용하여 상부 기판(S1)을 지지 척(600A, 600B)에 고정시키는 과정, 제1 지지대(200)와 제2 지지대(300)의 간격을 좁혀 상부 기판(S1)과 하부 기판(S2)을 밀착시키는 과정, 상부 기판(S1)과 지지척(600A, 600B))의 고정을 해제하는 과정, 제1 지지대(200) 및 제2 지지대(300)로부터 합착된 기판을 분리하는 과정을 포함한다.
우선, 기판을 준비한다. 예컨대 로봇 암(미도시)을 이용하여 상부 기판(S1)을 제1 지지대(200) 하측에 위치시키고, 하부 기판(S2)을 제2 지지대(300) 상측에 위치시킨다. 이때, 하부 기판(S2)의 상부면에는 하부 기판(S2)의 가장자리를 따라서 접합부재(미도시) 예컨대 실란트(sealant)가 마련될 수 있다.
이후, 하부 기판(S2)을 제2 지지대(300)의 상부면에 안착 지지시키고, 상부 기판(S1)을 지지척(600A, 600B)에 흡착한다. 상부 기판(S1)을 지지척(600A, 600B)에 흡착시키는 과정은, 예컨대 리프트부재(미도시)를 하강시켜 상부 기판(S1)에 접촉시키고, 진공 흡착 방식으로 리프트부재에 상부 기판(S1)을 흡착하여 지지시킨 상태에서, 리프트부재를 상승시켜 상부 기판(S1)의 상부면과 지지척(600A, 600B)의 일면을 접촉시킨다. 이후, 진공 홀(651)에 진공을 형성하여 상부 기판(S1)을 1차 흡착시킨다.
이때, 지지 척(600A, 600B)은 도 5 내지 도 6 및 도 11 내지 도 12에 도시된 바와 같이, 자중에 의하여 상부 몸체(610a)에서 각각 소정 간격(d1, d3)만큼 이격된 전진 위치에서 상부 기판(S1)에 흡착될 수 있다.
이후, 챔버(100)를 밀폐시키고, 각각의 기판을 로딩하는 동안 대기압(atm) 분위기로 형성되었던 챔버(100)의 내부 분위기를 진공 분위기로 형성한다.
이때, 제1유틸리티 공급부(660)을 이용하여, 진공 홀(651)의 내부에 제공되었던 진공을 챔버(100)의 내부로 바이패스시켜 챔버(100)의 내부에 형성되는 진공과, 진공 홀(651)의 내부에 형성되는 진공을 동압으로 제어한다. 또한, 흡착 패드용 유틸리티 공급부(670)를 이용하여, 흡착 패드용 진공 홀(652)의 내부에 제공되던 진공을 챔버(100)의 내부로 바이패스시켜 챔버(100)의 내부에 형성되는 진공과, 흡착 패드용 진공 홀(652) 내부에 형성되는 진공을 동압으로 제어한다. 이러한 과정으로 기판의 탈락이 방지될 수 있다.
물론, 이러한 과정에서 상부 기판(S1)은 지지 척(600A, 600B)의 척부(620)에 흡착되어 그 고정상태가 유지될 수 있다.
이후, 상부 기판(S1)과 하부 기판(S2)를 정렬시킨다. 이후, 제1 지지대(200) 및 제2 지지대(300) 중 적어도 하나를 이용하여 상부 기판(S1)과 하부 기판(S2)의 간격을 좁힌다.
즉, 제2 지지대(300)를 상승시켜 상부 기판(S1)과 하부 기판(S2)을 밀착시킨다. 물론, 제1 지지대(200)를 하강시켜 상부 기판(S1)과 하부 기판(S2)을 밀착시켜도 무방하다.
상부 기판(S1)과 하부 기판(S2)의 밀착이 완료되면, 지지 척(600A, 600B)의 작동부(630A, 630B)를 작동시켜, 도 7 내지 도 8 및 도 13 내지 도 14에 도시된 바와 같이, 척부(620)를 기판에서 상측으로 각각 소정 간격(d2, d4)만큼 후퇴시킨다.
이때, 본 발명의 실시 예에서는 작동부(630A)에 인가되는 전원을 제어하여 척부(620)가 후퇴되는 속도를 제어할 수 있다. 또한, 본 발명의 변형 예에서는 작동부(630B)로 공급되는 가스의 압력을 조절하여 척부(620)가 후퇴되는 속도를 제어할 수 있다. 이처럼 척부(620)의 후퇴 방식이 개선됨에 따라, 기판의 얼라인 정도가 종래보다 향상되는 효과를 얻을 수 있다.
한편, 척부(620)는 밸런스 제어부(640)에 의하여 후퇴 이동이 더욱 균일하고 안정적으로 실시될 수 있다.
상기한 과정에 의하여, 척부(620)는 기판으로부터 멀어지는 방향으로 이동하며 상부 기판(S1)의 상부면과의 흡착이 해제되어 상부 기판(S1)으로부터 분리된다. 지지 척(600A, 600B)으로부터 분리된 상부 기판(S1)은 하부 기판(S2) 상에 안착 지지된다.
이후, 도 9 및 도 15에 도시된 바와 같이, 제1 지지대를 상승시킨다.
이후, 제2 지지대(300)에 마련된 리프트부재를 상승시켜 제2 지지대(300)로부터 합착이 완료된 기판을 분리시킨 후, 이를 별도의 경화장치(미도시)로 이동시킨다. 그리고, 경화장치를 이용하여 접합부재 예컨대 실런트에 광 예컨대 자외선(UV)를 조사하여, 이를 경화시켜 기판의 합착을 완료한다.
본 발명의 실시 예 및 변형 예에서는 상술한 바와 같이, 척부의 후퇴를 자력 발생기 예컨대 전자석 및 탄성 변형막 예컨대 다이어프램을 이용하여 실시한다. 이러한 구조에 의하여 척부는 전자석 및 탄성 변형막에 기계적으로 결속되지 않을 수 있고, 따라서, 척부의 전진 및 후퇴 시에 구조적인 부하가 걸리는 것을 효과적으로 방지할 수 있다. 특히, 기판과의 접촉 시 척 부재에 응력이 집중되어 발생될 수 있는 공정 불량의 요소 예컨대 무라(mura)를 개선할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시 예와 변형 예에서는 상기한 구조에 의하여 전체 설비를 단순화 및 경량화할 수 있고, 이와 같은 구조를 표준화된 모듈로 구성하여 기판의 면적이 다양한 경우에도 손쉽게 설비를 구성할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시 예와 변형 예에서는 밸런스 제어부를 이용하여 척부가 전자석 또는 탄성 변형막에 기계적으로 구속되지 않고, 척부의 상하 구동에 소정의 자유도를 둔 구조에서, 척부의 움직임을 가이드하여 척부의 뷸균일한 이동을 효과적으로 방지할 수 있다. 이때, 댐퍼 부재로 자력에 의한 척부의 급격한 이동을 방지함으로써, 장치의 신뢰성을 더욱 향상시킬 수 있다.
본 발명의 상기 실시 예는 본 발명의 설명을 위한 것이며, 본 발명의 제한을 위한 것이 아님을 주지해야 한다. 본 발명은 청구범위 및 이와 균등한 기술적 사상의 범위 내에서 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 본 발명이 해당하는 기술 분야에서의 업자는 본 발명의 기술 사상의 범위 내에서 다양한 실시 예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.
100: 챔버 200: 제1 지지대
300: 제2 지지대 400: 제1 지지대 구동부
500: 제2 지지대 구동부 600A, 600B: 지지 척
610: 몸체부 620: 척부
630A, 630B: 작동부 640: 밸런스 제어부
651: 진공 홀 652: 흡착 패드용 진공 홀
660: 제1 유틸리티 공급부 670: 흡착 패드용 유틸리티 공급부
690: 제2 유틸리티 공급부

Claims (20)

  1. 일면에 관통구가 형성되는 몸체부;
    상기 몸체부의 일면에 대하여 전진 및 후퇴 가능하도록 상기 몸체부의 내부에 장착되고, 적어도 일부가 상기 관통구의 내부에 배치되는 척부;
    상기 척부를 마주보도록 상기 몸체부의 내부에 장착되고, 자력 및 가스 압력 중 적어도 하나를 이용하여, 상기 척부를 전진 및 후퇴 가능하게 지지하는 작동부;를 포함하는 지지 척.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 척부를 마주보도록 상기 몸체부의 내부에 장착되고, 상기 몸체부의 내부에서 상기 척부의 전진 및 후퇴를 안내하는 밸런스 제어부;를 포함하는 지지 척.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 척부는,
    상기 몸체부의 일면과 평행하도록 연장되고, 상기 몸체부의 내부에 위치하는 척 프레임;
    상기 몸체부의 일면과 교차하는 방향으로 연장되며, 상기 척 프레임에 장착되고, 상기 관통구의 내부에 위치하는 척 부재;를 포함하는 지지 척.
  4. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 작동부는,
    상기 척부를 중심으로 하여 상기 관통구의 반대측에서 상기 척부로부터 이격되어 상기 몸체부의 내부에 장착되는 자력 발생기;를 포함하는 지지 척.
  5. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 작동부는,
    상기 척부를 중심으로 하여 상기 관통구측에서 상기 척부에 접촉되도록 상기 몸체부의 내부에 장착되고, 가스의 주입 및 배기에 의하여 상기 척부를 전진 및 후퇴시키는 탄성체;를 포함하는 지지 척.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 탄성체는,
    상기 척부를 중심으로 하여 상기 관통구측에서 상기 척부를 마주보도록 상기 몸체부의 내부에 장착되는 탄성 변형막;
    상기 탄성 변형막과 상기 척부 사이에서 상기 탄성 변형막을 마주보도록 위치하고, 상기 탄성 변형막 및 상기 척부에 접촉되며, 상기 탄성 변형막의 팽창 및 수축에 의하여 후퇴 및 전진 가능한 캡 부재;를 포함하는 지지 척.
  7. 청구항 2에 있어서,
    상기 밸런스 제어부는,
    상기 몸체부의 일면에 교차하는 방향으로 상기 몸체부의 내부를 관통하여 장착되고, 상기 척부로부터 이격되는 가이드 부재;
    상기 몸체부의 일면에 교차하는 방향으로 상기 가이드 부재를 관통하여 슬라이드 가능하게 장착되고, 일단이 상기 척부에 체결되는 슬라이드 부재;를 포함하는 지지 척.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 밸런스 제어부는,
    상기 슬라이드 부재의 타단에 장착되어 상기 척부의 전진 및 후퇴 속도를 제어하는 댐퍼 부재;를 포함하는 지지 척.
  9. 청구항 2에 있어서,
    상기 밸런스 제어부는 상기 척부의 중심부로부터 이격된 복수의 위치에 장착되는 지지 척.
  10. 내부에 처리 공간이 형성되는 챔버;
    상기 챔버의 내부에 배치되는 제1 지지대;
    상기 제1 지지대에 대향되어 상기 챔버의 내부에 배치되는 제2 지지대;
    상기 제1 지지대 및 제2 지지대 중 적어도 어느 하나의 지지대에 장착되며, 자력 및 가스 압력 중 적어도 하나를 이용하여 이동 가능한 척부를 내부에 가지는 지지 척;을 포함하는 기판 처리 장치.
  11. 청구항 10에 있어서,
    상기 지지 척은,
    내부에 상기 척부가 장착되고, 일면에 관통구가 형성되는 몸체부;
    상기 척부를 마주보도록 상기 몸체부의 내부에 장착되고, 상기 척부를 상기 몸체부의 일면에 대하여 전진 및 후퇴 가능하게 지지하는 작동부;를 포함하는 기판 처리 장치.
  12. 청구항 11에 있어서,
    상기 지지 척은,
    상기 척부를 마주보도록 상기 몸체부의 내부에 장착되고, 상기 몸체부의 내부에서 슬라이딩되며 상기 척부의 전진 및 후퇴를 안내하는 밸런스 제어부;를 포함하는 기판 처리 장치.
  13. 청구항 11에 있어서,
    상기 척부는 상기 몸체부의 일면과 교차하는 방향으로 연장되고, 상기 몸체부의 관통구에 배치되며, 전진 시에 기판을 흡착하여 고정하고 후퇴 시에 기판으로부터 분리되는 척 부재를 포함하는 기판 처리 장치.
  14. 청구항 11 내지 청구항 13 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 작동부는 상기 척부를 중심으로 하여 상기 관통구의 반대측에서 상기 척부로부터 이격되어 상기 몸체부의 내부에 장착되는 자력 발생기를 포함하는 기판 처리 장치.
  15. 청구항 11에 있어서,
    상기 작동부는 상기 척부를 중심으로 하여 상기 관통구측에서 상기 척부에 접촉되도록 상기 몸체부의 내부에 장착되고, 가스의 주입 및 배기에 의하여 상기 척부를 전진 및 후퇴시키는 탄성체;를 포함하는 기판 처리 장치.
  16. 청구항 12에 있어서,
    상기 밸런스 제어부는 상기 척부의 중심부로부터 이격된 복수의 위치에 장착되는 기판 처리 장치.
  17. 청구항 11에 있어서,
    상기 지지 척은,
    상기 몸체부의 일면에 형성되는 진공 홀;
    상기 몸체부의 내부로 연장되어 상기 진공 홀에 연결되고, 상기 진공 홀의 압력을 조절하는 유틸리티 공급부;를 포함하는 기판 처리 장치.
  18. 청구항 17에 있어서,
    상기 진공 홀은 상기 몸체부의 일면에서 적어도 하나의 방향으로 연장되어 라인 또는 격자 형상으로 형성되고,
    상기 관통구는 라인 또는 격자 형상의 상기 진공 홀이 연장된 방향과 어긋나도록 상기 몸체부의 일면에 복수개 형성되는 기판 처리 장치.
  19. 청구항 15에 있어서,
    상기 지지 척은,
    상기 몸체부의 내부로 연장되어 상기 탄성체에 연결되고, 상기 탄성체를 팽창 및 수축시키는 유틸리티 공급부;를 포함하는 기판 처리 장치.
  20. 청구항 17 내지 청구항 19 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 유틸리티 공급부는,
    적어도 일부가 상기 챔버의 내부로 연장되어 상기 진공 홀 또는 상기 탄성체에 연결되는 유틸리티 라인;
    일단이 상기 챔버의 외부에서 상기 유틸리티 라인의 일측에 연결되고, 타단이 상기 챔버를 관통하여 내부에서 개방되는 바이패스 라인;
    상기 바이패스 라인에 장착되는 바이패스 밸브;
    상기 유틸리티 라인의 일측에 장착되는 유틸리티 밸브;를 포함하는 기판 처리 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20070072571A (ko) * 2004-11-04 2007-07-04 가부시키가이샤 알박 정전 척 장치
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Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20070072571A (ko) * 2004-11-04 2007-07-04 가부시키가이샤 알박 정전 척 장치
KR20120085195A (ko) * 2011-01-21 2012-07-31 가부시키가이샤 토프콘 흡착 스테이지, 배치 스테이지 및 노광 장치
KR20130050723A (ko) * 2011-11-08 2013-05-16 주식회사 탑 엔지니어링 어레이 테스트 장치

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