KR20170065050A - 내부식성 및 내지문성이 우수한 코팅 조성물, 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 내부식성 및 내지문성이 우수한 코팅 조성물을 제공하고, 또한 스테인리스 강판, 상기 스테인리스 강판 상부에 형성되고 상기 코팅 조성물의 경화물인 코팅층, 및 상기 코팅층 상부에 형성되고 소광 효과를 갖는 소광 도막층을 포함하는 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판 및 그 제조방법을 제공하며, 상기 내부식성 및 내지문성이 우수한 코팅 조성물이 경화된 코팅층은 투명하고 고광택이므로 스테인리스 강판의 표면 특성을 그대로 표현할 수 있는 효과가 있고, 상기 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판은 에칭 패턴이 형성되지 않은 부분에도 내부식성 및 내지문성이 우수한 효과가 있으며, 상기 스테인리스 강판 제조방법은 기존의 에칭 패턴 형성방법에 비하여 공정이 단순하고 공정 비용을 절감할 수 있어 경제적이다.
Description
본 발명은 내부식성 및 내지문성이 우수한 코팅 조성물, 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판 및 그 제조방법에 관한 것이다.
통상적으로 프린트 강판은 롤 프린트 또는 실크스크린 공정을 이용하여 디자인이 형성된 프린트 강판을 제조하고 있으나, 스테인리스 강판은 산으로 디자인을 에칭하거나 직접 음각을 조각하여 디자인이 형성된 스테인리스 강판을 제조한다.
다만, 스테인리스 강판에 산 에칭하거나 음각을 조각하는 경우 다양한 무늬나 디자인을 적용하기 어려우며, 패턴 및 디자인 등의 해상도가 낮다. 특히, 스테인리스 강판에 산 에칭 방법으로 패턴을 형성하는 경우, 스테인리스 강판 상에 고분자 수지로 패턴 인쇄를 한 후, 산 에칭을 통해 패턴 인쇄가 없는 강판 부분을 산으로 녹여 내어 스테인리스 소재의 에칭 패턴을 만들어 내고, 다시 고분자 패턴 인쇄부분을 녹여 내어 소재가 드러나게 해주어야 한다. 따라서, 고분자 패턴 인쇄 - 건조 - 산 에칭 - 세척 - 고분자 패턴 제거 - 세척의 단계를 거쳐야 제품이 생성되므로, 공정이 복잡하고 운영 비용이 높다.
따라서, 이러한 문제점을 방지하기 위하여 스테인리스 강판 상에 광택 조절이 가능한 도막층을 형성하여 패턴을 형성하는 방법을 이용하고 있다. 상기 도막층이 소광 효과를 가질 수 있도록 광택을 조절함으로써, 스테인리스 강판이 산 에칭 또는 음각 조각하는 방법으로 패턴을 형성한 것과 같은 에칭 효과를 나타낼 수 있다. 상기 도막층이 소광 효과를 갖도록 하는 방법으로는, 예를 들어, 소광제인 실리카를 포함하는 도료를 스테인리스 강판에 코팅하여 패턴을 형성함으로써, 에칭 효과를 갖는 도막층이 형성된 스테인리스 강판을 제조할 수 있다.
다만, 이러한 방법은 스테인리스 강판 상에서 상기 도막층이 형성되지 않는 부분에 부식이 발생하는 문제점이 있으며, 또한, 지문 또는 오염물에 쉽게 오염되고 잘 지워지지 않아 제품으로의 가치 유지 및 제품성 확보가 어려운 문제점이 있다. 더욱이, 잉크젯, 롤프린트 또는 실크스크린의 방법으로 소광 효과를 갖는 상기 도막층을 형성하는 경우 스테인리스 강판과 상기 도막층 간의 밀착력이 취약하여 쉽게 박리되는 문제점이 있다.
본 발명은 내부식성 및 내지문성이 우수한 코팅 조성물을 제공하고, 소광 효과를 갖는 소광 도막층이 형성되지 않은 부분에도 내부식성 및 내지문성이 우수한 스테인리스 강판 및 그 제조 방법을 제공하고자 한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 실란계 화합물 10 내지 30 중량%, 유기산 0.5 내지 6 중량%, 바나듐화합물 0.1 내지 3 중량%, 마그네슘화합물 0.1 내지 3 중량% 및 잔부 용매를 포함하는 코팅 조성물을 제공한다.
상기 코팅 조성물은 습윤제 1 내지 2 중량% 및 소포제 0.01 내지 1 중량%를 더 포함할 수 있다.
상기 실란계 화합물은 에폭시계 실란 및 아미노계 실란으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상일 수 있다.
상기 유기산은 포름산, 아세트산 및 인산으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상일 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 스테인리스 강판, 상기 스테인리스 강판 상부에 형성되고, 상기 코팅 조성물의 경화물인 코팅층 및 상기 코팅층 상부에 형성되고 소광 효과를 갖는 소광 도막층을 포함하는 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판을 제공한다.
상기 코팅층은 두께가 0.1 내지 10㎛일 수 있다.
상기 코팅층은 광택도가 60°기준으로 80 이상일 수 있다.
상기 도막층은 소광제를 포함할 수 있다.
상기 소광제는 실리카, 알루미나, 왁스, 세라믹 및 합성 고분자 분말로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상일 수 있다.
상기 도막층은 다수의 기포를 포함할 수 있다.
상기 기포는 평균 직경이 0.5 내지 3㎛일 수 있다.
상기 도막층은 두께가 1 내지 20㎛일 수 있다.
상기 도막층은 광택도가 60° 기준으로 3 내지 50일 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 스테인리스 강판 상부에 상기 코팅 조성물을 코팅하여 코팅층을 형성하는 단계 및 상기 코팅층 상부에 에칭 효과를 갖는 도막층을 형성하는 단계를 포함하는 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판 제조방법을 제공한다.
상기 도막층은, 상기 코팅층 상부에 소광제를 포함하는 도료를 코팅한 후 경화하는 방법에 의하여 형성된 것일 수 있다.
상기 도막층은, 상기 코팅층 상부에 투명 잉크를 분사하는 단계 및 상기 투명 잉크가 분사된 직후부터 2초 이내에 자외선 경화하는 단계를 포함하는 방법에 의하여 형성된 것일 수 있다.
상기 분사는 잉크젯 프린트 또는 레이저 프린트에 의해 수행될 수 있다.
상기 분사는 투명 잉크를 분사하는 속도가 1 내지 20kHz일 수 있다.
본 발명의 코팅 조성물은 내부식성 및 내지문성이 우수하며, 상기 코팅 조성물이 경화된 코팅층은 투명하고 고광택이므로 스테인리스 강판의 표면 특성을 그대로 표현할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명의 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판은 에칭 패턴이 형성되지 않은 부분에도 내부식성 및 내지문성이 우수한 효과가 있으며, 스테인리스 강판 제조방법은 기존의 에칭 패턴 형성방법에 비하여 공정이 단순하고 공정 비용을 절감할 수 있어 경제적이다.
도 1은 실시예 4의 단면을 모식적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 비교예 6의 단면을 모식적으로 나타낸 도면이다.
도 3은 비교예 7의 단면을 모식적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 비교예 6의 단면을 모식적으로 나타낸 도면이다.
도 3은 비교예 7의 단면을 모식적으로 나타낸 도면이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 형태를 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시 형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시 형태로 한정되는 것은 아니다.
본원발명은 내부식성 및 내지문성이 우수한 코팅 조성물, 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판 및 그 제조방법에 관한 것이다.
본원발명의 코팅 조성물은 실란계 화합물 10 내지 30 중량%, 유기산 0.5 내지 6 중량%, 바나듐화합물 0.1 내지 3 중량%, 마그네슘화합물 0.1 내지 3 중량% 및 잔부 용매를 포함할 수 있다.
한편, 상기 코팅 조성물은 습윤제 1 내지 2 중량% 및 소포제 0.01 내지 1 중량%를 더 포함할 수 있다.
상기 코팅 조성물은 유리질인 상기 실란계 화합물을 포함함으로써, 상기 코팅 조성물로 코팅되는 모재의 표면 특성을 그대로 표현해줄 수 있는 효과가 있다. 즉, 상기 코팅 조성물은 투명하고 고광택 용액이므로 스테인리스 강판의 고강택을 그대로 표현해줄 수 있다. 상기 실란계 화합물은 이로써 한정하는 것은 아니나, 예를 들어, 실란계 에폭시계 실란 및 아미노계 실란으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상인 것이 바람직하다. 상기 에폭시계 실란은 3-글리시독시프로필트리메톡시 실란, 3-글리시독시프로필메틸디에폭시 실란 및 3-글리시독시프로필트리에톡시 실란으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상일 수 있다. 한편, 상기 아미노계 실란은 3-아미노프로필트리에톡시 실란, 비스터셜부틸아미노 실란, 디이소프로필아미노 실란 디실릴아민 및 트리실릴아민으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상일 수 있다.
상기 실란계 화합물의 함량은 10 내지 30 중량%인 것이 바람직하며, 실란계 화합물의 함량이 10 중량% 미만이면 내부식성 및 밀착성이 열위해지고, 30 중량%를 초과하면 용액안정성이 저하되어 바람직하지 않다.
본원발명의 코팅 조성물에 포함되는 유기산은 스테인리스 강판과 코팅층 간의 밀착성을 향상시키기 위하여 필요한 물질로써, 그 종류를 특별히 한정하지 않으나, 예를 들어, 포름산, 아세트산 및 인산으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상인 것이 바람직하다. 상기 유기산의 함량은 0.5 내지 6 중량%인 것이 바람직하며, 유기산의 함량이 0.5 중량% 미만이면 경우 스테인리스 강판과 코팅층 간의 밀착성이 저하되어 코팅층이 탈락될 수 있으며, 6 중량% 초과하면 용액의 안정성 및 도막의 물성이 열위해진다.
상기 바나듐 화합물 및 마그네슘화합물은 킬레이트 반응을 유도하여 안정한 금속 킬레이트 화합물을 형성하며, 이로 인해, 강판의 금속원자와 코팅층의 결합력이 높아져 내식성 및 도막의 밀착성이 우수하다.
상기 바나듐화합물은 바나딜아세틸아세토네이트, 5산화바나듐, 메타바나딘산, 메타바나딘산암모늄, 메타바나딘산나트륨, 옥시3염화바나듐, 3산화바나듐, 이산화바나듐, 옥시황산바나듐, 바나듐옥시아세틸아세테이트, 바나듐아세틸아세테이트 및 3염화바나듐으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상일 수 있다. 상기 바나듐화합물의 함량은 0.1 내지 3 중량%인 것이 바람직하며, 바나듐화합물의 함량이 0.1 중량% 미만이면 금속 킬레이트 화합물의 형성이 어렵고, 3 중량% 초과하면 미반응 금속화합물이 잔존하여 용액의 물성이 열위해진다.
상기 마그네슘화합물은 산화마그네슘, 황산마그네슘, 염화마그네슘 및 수산화마그네슘으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상일 수 있다. 상기 마그네슘화합물의 함량은 0.1 내지 3 중량%인 것이 바람직하며, 바나듐화합물의 함량이 0.1 중량% 미만이면 금속 킬레이트 화합물의 형성이 어렵고, 3 중량% 초과하면 미반응 금속화합물이 잔존하여 용액의 물성이 열위해진다.
상기 습윤제는 이소프로필알콜, 2-에틸-1-헥산올, 2-부톡시에탄올, 디프로필렌글리콜, 에틸렌글리콜, n-프로필알콜, 프로필렌글리콜 및 폴리이서 실록산 공중합체계열으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상일 수 있다. 상기 습윤제의 함량은 1 내지 2 중량%인 것이 바람직하고, 상기 습윤제의 함량이 1 중량% 미만이면 습윤성 향상 효과가 열위해지며 코팅층의 밀착력이 저하되고, 2 중량% 초과하면 물성이 저하되지 않으나 습윤성 향상의 효과 또한 없기 때문에 경제적으로 바람직하지 않다.
코팅 조성물에서 발생하는 기포는 공정의 여러 단계에서 발생할 수 있으며, 이로 인해 코팅층의 분화구 현상이나 강도를 약하게 하는 등의 표면결함을 일으키기 때문에 소포제를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 소포제는 N-메틸에탄올 아민을 사용할 수 있으며, 소포제의 함량은 0.01 내지 1 중량%인 것이 바람직하다. 상기 소포제의 함량이 0.01 중량% 미만이면 소포 효과가 미흡하며, 1 중량% 초과하면 내부식성 저하 및 코팅층의 부착력 저하의 원인이 된다.
도 1은 본 발명의 일 실시예인 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판의 단면을 모식적으로 나타낸 도면으로, 이하에서는 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판에 대하여 자세히 설명한다.
본원발명의 일 실시예는 스테인리스 강판(1), 상기 스테인리스 강판 상부에 형성되고, 상기 코팅 조성물의 경화물인 코팅층(2), 및 상기 코팅층 상부에 형성되고 소광 효과를 갖는 소광 도막층(3)을 포함하는, 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판을 제공할 수 있다.
통상적으로 스테인리스 강판(1)에 에칭 패턴을 형성하기 위한 방법으로는 산 에칭, 음각 조각 등의 방법이 있으나, 이러한 방법은 다양한 무늬나 디자인을 적용하기 어려우며, 패턴 및 디자인 등의 해상도가 낮고, 공정이 복잡하다는 문제점이 있다. 따라서, 스테인리스 강판 상에 소광 효과를 갖는 도막층을 형성하여 패턴을 형성하는 방법을 이용하고 있다.
한편, 상기 소광 효과를 갖는 도막층은 스테인리스 강판 상에 형성되며 스테인리스 강판에 산 에칭 방법으로 패턴을 형성한 것과 같은 에칭 효과를 나타내는 것으로, 본원발명에서는 상기 소광 효과를 갖는 도막층을 '소광 도막층(3)'인 것으로 설정하였다.
상기 소광 도막층(3)은 스테인리스 강판(1) 상에 형성되어 에칭 패턴을 형성한 것과 같은 에칭 효과를 나타낼 수 있으며, 또한, 상기 소광 도막층이 형성된 스테인리스 강판은 내부식성, 내지문성 등의 물성이 우수해질 수 있다. 그러나, 스테인리스 강판 상에 상기 소광 도막층이 형성되지 않은 부분에서 내부식성, 내지문성 및 내오염성이 열위되는 문제점이 있다. 나아가, 잉크젯, 롤프린트 또는 실크스크린의 방법으로 상기 소광 도막층을 형성하는 경우 스테인리스 강판과 상기 소광 도막층 간의 밀착력이 취약하여 쉽게 박리되는 문제점이 있다.
그러나, 본원발명은 스테인리스 강판(1)과 소광 도막층(3) 상에 코팅층(2)을 형성함으로써, 상기 스테인리스 강판에서 상기 소광 도막층이 형성되지 않은 부분에서 내부식성, 내지문성 및 내오염성을 향상시킬 수 있으며, 스테인리스 강판과 상기 소광 도막층 간의 밀착력을 향상시킬 수 있다.
상기 코팅층(2)은 본원발명의 코팅 조성물이 경화된 것으로, 실란계 화합물, 유기산, 바나듐화합물, 마그네슘화합물 및 소포제를 포함할 수 있다. 한편, 상기 실란계 화합물이 포함된 코팅층은 투명하고 고광택이므로 스테인리스 강판의 표면 특성을 그대로 표현할 수 있다.
상기 코팅층(2)은 두께가 0.1 내지 10㎛인 것이 바람직하며, 0.5 내지 5㎛인 것이 가장 바람직하다. 상기 코팅층의 두께가 0.1㎛ 미만이면 내부식성이 취약하고, 10㎛ 초과하면 가공성의 취약하고 또한 제조비용이 증가하는 문제점이 발생할 수 있다. 또한, 상기 코팅층(2)은 광택도가 60°기준으로 80 이상인 것이 바람직하다. 상기 코팅층의 광택도가 80 미만이면, 상기 코팅층은 스테인리스강판(1) 의 표면 특성을 그대로 표현할 수 없다. 따라서, 스테인리스 강판의 고광택이 그대로 표현될 수 없으므로, 소광 도막층(3)이 형성되어 있는 부분과 상기 소광 도막층이 형성되지 않은 부분이 명확하지 않아 에칭 효과가 저하될 것이다.
상기 코팅층(2) 상부에 형성된 상기 소광 도막층(3)은 소광 효과를 가지므로 스테인리스 강판(1) 상에 에칭 패턴을 형성할 수 있다. 상기 소광 도막층이 소광 효과를 갖기 위하여 소광제를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 소광제는 실리카, 알루미나, 왁스, 세라믹 및 합성 고분자 분말로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상일 수 있다. 한편, 상기 소광제는 평균 입경이 1 내지 30㎛인 것이 바람직하며, 상기 소광제의 평균 입경이 30㎛를 초과하면 소광 도막층의 면이 거칠어져 외관이 불량하고 스크래치성이 저하된다는 문제점이 발생할 수 있다.
본원발명은 상기 소광 도막층(3)에 소광 효과를 부여하기 위하여, 상술한 바와 같이 소광제를 포함하는 소광 도막층을 제공하는 것 외에도, 다수의 기포를 포함하는 소광 도막층을 제공할 수 있다. 상기 다수의 기포를 포함하는 소광 도막층은 코팅층 상에 투명 잉크를 프린팅 기법으로 분사하여 마이크로 사이즈의 기포를 생성시킨 후 이를 자외선 경화하는 방법으로 제조할 수 있다.
상기 다수의 기포를 포함하는 소광 도막층(3)은 상기 기포에서 빛의 난반사가 발생함으로써 소광 효과가 나타날 수 있다. 이로 인해, 상기 스테인리스 강판(1) 상에 형성된 코팅층(2)에서 상기 소광 도막층이 형성된 부분(패턴)은 소광 효과가 나타날 수 있다. 따라서, 상기 다수의 기포를 포함하는 소광 도막층을 코팅층 상부에 형성함으로 인해 스테인리스 강판에 직접 에칭하거나 음각 조각한 것과 같은 에칭 효과가 나타날 수 있다. 상기 기포는 평균 직경이 0.5 내지 3㎛인 것이 바람직하며, 평균 직경이 0.5㎛ 미만이면 기포의 사이즈가 너무 작아서 빛의 난반사 효과가 떨어지고, 3㎛ 초과하면 빛의 난반사 효과는 우수하나 기포의 공기층의 과도하게 증가하여 소광 도막층의 물성이 취약해질 수 있다.
상기 소광 도막층(3)은 두께가 1 내지 20㎛인 것이 바람직하며, 상기 두께가 1 ㎛ 미만이면 소광 효과가 떨어져 에칭 강판으로의 효과가 없고, 20㎛ 초과하면 인쇄 도막의 기포로 인하여 소광 효과는 우수하나 도막의 박리가 발생할 수 있다.
한편, 상기 소광 도막층(3)은 60° 기준으로 표면 광택이 3 내지 50인 것이 바람직하다. 표면 광택이 3 미만이면 에칭 효과는 우수하게 나타나나 기포의 수가 굉장히 많아져야 하므로 상대적으로 인쇄 도막의 물성이 취약해질 수 있으며, 50 초과하면 소광 도막층에서 에칭 효과가 나타나지 않는다.
본원발명의 또 다른 실시예에 따르면, 스테인리스 강판(1) 상부에 상기 코팅 조성물을 코팅하여 코팅층(2)을 형성하는 단계, 및 상기 코팅층 상부에 에칭 효과를 갖는 소광 도막층(3)을 형성하는 단계를 포함하는, 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판 제조방법을 제공할 수 있다.
상기 스테인리스 강판(1) 상에 코팅층(2)을 형성하기 전, 스테인리스 강판 표면의 오염물질을 제거할 수 있다. 오염물질을 제거하는 방법으로는, 예를 들어, 아세톤 탈지 또는 알칼리 탈지 용액을 사용하여 스테인리스 강판 표면에 부착된 유기 및 무기 오염물을 제거할 수 있다. 상기 아세톤 탈지 용액을 사용하는 경우 아세톤 용액 속에 스테인리스 강판을 침지하거나 거즈(gauze)에 아세톤을 묻혀 스테인리스 표면을 세정할 수 있다. 한편, 상기 알칼리 탈지 용액을 사용하는 경우 스테인리스 강판을 알칼리가 포함된 탈지 용액에 침지한 후 물로 세척하여 건조할 수 있다. 이때, 알칼리의 농도와 침지 시간은 통상적으로 사용되는 조건을 활용할 수 있으나, 스테인리스 강판 표면의 오염물이 완전히 제거될 때까지 침지하는 것이 바람직하다.
오염물질이 제거된 스테인리스 강판(1) 상부에 상기 코팅 조성물을 코팅하여 코팅층(2)을 형성할 수 있다. 상기 코팅 조성물은 투명하며 고광택 용액이므로 스테인리스 강판의 표면 특성을 그대로 표현할 수 있으므로, 스테인리스 강판의 고광택을 그대로 유지하면서 상부에 에칭 패턴을 형성할 수 있다. 또한 스테인리스 강판 상부에 코팅층이 형성됨으로 인하여 본원발명의 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판은 내부식성 및 내지문성이 우수한 효과가 있다.
상기 코팅 조성물을 코팅하는 방법은 이로써 제한되는 것은 아니나, 예를 들어, 롤코팅, 스프레이코팅, 슬롯코팅, 함침 코팅, 커튼코팅 등의 방법 중 하나를 선택할 수 있다. 상기 코팅층(2)은 0.1 내지 10㎛로 두께가 제어되는 것이 바람직하다. 상기 코팅층의 두께가 0.1㎛ 미만이면 내부식성이 취약하고, 10㎛ 초과하면 가공성의 취약하고 또한 제조비용이 증가하는 문제점이 발생할 수 있다.
상기 코팅층(2) 상부에 에칭 효과를 갖는 소광 도막층(3)을 형성할 수 있다. 상기 소광 도막층은, 상기 코팅층 상부에 소광제를 포함하는 도료를 코팅한 후 경화하는 방법에 의하여 형성된 것일 수 있다. 상기 소광제는 실리카, 알루미나, 왁스, 세라믹 및 합성 고분자 분말로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상일 수 있다. 한편, 상기 소광제는 평균 입경이 1 내지 30㎛인 것이 바람직하며, 상기 소광제의 평균입경이 30㎛를 초과하면 소광 도막층의 면이 거칠어져 외관이 불량하고 스크래치성이 저하된다는 문제점이 발생할 수 있다.
다만, 상기 소광제를 이용하여 소광 도막층(3)의 소광 효과를 부여하는 방법은, 소광제의 함량을 조절하여 소광 효과를 조절 시 많은 양의 소광제를 도료에 첨가하는 경우 소광 도막층의 경도가 높아지고 가공성이 취약한 문제점이 있다. 또한, 해상도가 저하되는 문제점을 해결하기 어려우며, 해상도를 높이기 위하여 상기 소광제를 프린팅 공정에 적용하더라도 수 마이크로 크기의 소광제가 잉크 분사 노즐을 막는 문제점이 발생할 수 있다.
따라서, 본원발명은 상기 소광제를 이용하여 소광 도막층(3)을 형성하는 방법의 문제점을 해소한 소광 고막층 형성방법을 제공하고 있다. 즉, 상기 코팅층(2) 상부에 투명 잉크를 분사하는 단계, 및 상기 투명 잉크가 분사된 직후부터 2초 이내에 자외선 경화하는 단계를 포함하는 소광 도막층 형성 방법을 제공할 수 있다.
본원발명은 코팅층(2) 상부에 투명 잉크를 프린팅 기법으로 분사하여 마이크로 사이즈의 기포를 생성시킨 직후 이를 자외선 경화하여, 소광 효과를 갖는 에칭 패턴을 표현할 수 있다. 즉, 상기 기포에서 빛의 난반사가 발생하면 상기 기포를 포함하는 소광 도막층은 소광 효과를 가지므로, 이러한 소광 도막층이 프링팅 기법으로 형성된 스테인리스 강판은 에칭 공정을 진행하지 않고도 에칭 효과를 갖는 패턴을 포함할 수 있다.
상기 기포를 유지하기 위해서는 코팅층(2) 상부에 투명 잉크가 프린팅 기법으로 분사된 직후 2초 이내의 빠른 시간에 경화시키는 것이 바람직하다. 만일 투명 잉크 분사 직후에서 경화 시작 시간 사이가 2초 초과하면 코팅층에 형성된 기포가 소멸되어 빛의 난반사가 발생하지 않아 소광 도막층(3)의 소광 효과가 열위된다. 따라서, 본원발명 스테인리스 강판에 형성된 에칭 패턴의 에칭 효과가 열위해질 수 있다.
한편, 상기 소광 도막층(3)에 포함된 기포를 유지하기 위하여 빠른 시간에 상기 소광 도막층을 경화시키기 위해서는 자외선 경화법을 이용하는 것이 바람직하며, 자외선 경화법을 이용하기 위해서는 소광 도막층을 형성하는 도료에 광개시제를 포함시키는 것이 바람직하다.
상기 투명 잉크는 폴리에스테르, 변성 폴리에스테르, 하이폴리머 폴리에스테르 등의 폴리머계, 에폭시계, 우레탄계 및 에스테르계의 아크릴레이트 올리머에서 선택된 하나 이상의 수지 성분이 혼합된 것일 수 있으나, 이로써 한정하는 것은 아니다.
상기 투명 잉크의 분사는 통상적으로 잉크를 분사할 수 있는 설비라면 제한 없이 사용할 수 있으며, 예를 들면, 잉크젯 프린트 또는 레이저 프린트에 의해 수행될 수 있다. 또한, 상기 분사는 투명 잉크를 분사하는 속도가 1 내지 20kHz인 것이 바람직하며, 분사 속도가 1kHz 미만이면 기포가 충분히 생기지 않아 소광 도막층(3)에서 소광 효과가 나타나지 않으며, 20kHz 초과하면 과도한 양이 분사되어 원하는 패턴이 표현되지 못할 수 있다.
상기 소광 도막층(3)의 두께는 1 내지 20㎛로 제어하는 것 바람직하며, 상기 두께가 1㎛ 미만이면 소광 효과가 떨어져 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판으로의 효과가 없고, 20㎛ 초과하면 기포로 인하여 소광 효과는 우수하나 도막의 박리가 발생할 수 있다.
이하, 구체적인 실시예를 통해 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다. 하기 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 예시에 불과하며, 본 발명의 범위가 이에 한정되는 것은 아니다.
실시예
1. 코팅 조성물의 제조
용매에 실란계 화합물, 유기산, 바나듐 화합물 및 마그네슘 화합물을 투입한 후 교반하여 코팅 조성물을 제조했으며, 용매로는 물 및 에탄올의 혼합물을 사용했다. 상기 실란계 화합물로는 3-글리시독시 프로필 트리메톡시 실란과 3-아미노 프로필 트리에톡시 실란을 사용하고 이들의 혼합비가 1:1이 되도록 제어했다. 또한, 상기 유기산으로는 포름산과 인산을, 상기 바나듐 화합물로는 바나딜아세틴아세토네이트를, 상기 마그네슘 화합물로는 산화마그네슘을 사용했다.
상기 코팅 조성물에 포함된 조성 및 각 함량을 하기 표 1에 기재된 바와 같이 조절하여 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 5의 코팅 조성물을 제조했다.
| (단위: 중량%) | 실시예1 | 실시예2 | 실시예3 | 비교예1 | 비교예2 | 비교예3 | 비교예4 | 비교예5 |
| 실란화합물 | 30 | 20 | 10 | 12 | 6 | 30 | 10 | 5 |
| 포름산 | 3 | 1 | 0.5 | 3 | 3 | - | - | - |
| 인산 | 3 | 1 | 0.5 | 3 | 3 | - | - | - |
| 바나딜아세틸아세토네이트 | 0.5 | 0.5 | 0.5 | 0.5 | 0.5 | 0.5 | 0.5 | 0.5 |
| 산화마그네슘 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2 |
| 우레탄 수지 | - | - | - | 8 | 24 | - | 20 | 25 |
| 용매 | 61.5 | 75.5 | 86.5 | 71.5 | 61.5 | 67.5 | 67.5 | 67.5 |
2. 에칭 패턴이 인쇄된
스테인리스
강판 제조
가로 20㎝, 세로 20㎝의 스테인리스 강판(1) 상에 상기 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 5의 코팅 조성물을 5㎛ 두께로 코팅하여 코팅층(2)을 형성했다. 상기 코팅층 상부에 안료가 포함되지 않은 투명한 자외선 경화형 잉크를 잉크젯 프린트로 분사하여 패턴을 인쇄했다. 상기 투명한 자외선 경화형 잉크의 분사 속도는 12khz이며, 상기 투명한 자외선 경화형 잉크를 분사한 직후 1초 내에 자외선 경화하여 소광 도막층(3)을 형성시켰다. 분사 직후 자외선 경화가 이루어지는 이러한 공정은 연속 공정을 통해 이루어졌다.
실험예1
: 코팅 조성물에 포함된 조성의 함량에 따른 물성 시험
상기 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 5의 코팅 조성물의 용액 안정성을 시험했다. 또한, 상기 2.에서 제조한 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 5의 경화물(코팅층(2))이 형성된 스테인리스 강판의 내부식성, 코팅층 밀착성, 소광 도막층 밀착성, 광택도, 내스크래치성을 시험하여 그 결과를 표 2에 나타냈다.
<용액안정성>
실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 5의 코팅 조성물을 40℃의 항온 장치 내에 1개월 동안 저장 한 후 조성물의 점도상승, 겔화 및 침전의 상태를 관찰하고 다음의 기준에 따라 평가했다.
○ : 용액의 점도상승, 겔화 및 침전의 변화가 없음.
× : 용액의 점도상승, 겔화 및 침전 등의 변화가 발생.
<코팅층 밀착성>
코팅층 밀착력은 스테인리스 강판(1)과 코팅층(2) 간의 밀착력을 측정한 것이다. ISO 2409의 도료의 접착력 시험법에 따라 시편의 위를 간격이 1mm가 되도록 가로, 세로로 1줄을 긋고, 그 위에 셀로판 접착테이프를 붙인 다음 떼어 보아서 도막 위에 100조각의 분리된 코팅면 중 남아 있는 조각의 숫자로 접착력을 평가했다.
○ : 남아 있는 조각의 숫자가 100조각
△ : 남아 있는 조각의 숫자가 80조각 이상 100조각 미만
× : 남아 있는 조각의 숫자가 80조각 미만
<소광 도막층 밀착성>
소광 도막층 밀착성은 소광 도막층(3)과 코팅층(2) 간의 밀착력을 측정한 것이다. ISO 2409의 도료의 접착력 시험법에 따라 시편의 위를 간격이 1mm가 되도록 가로, 세로로 1줄을 긋고, 그 위에 셀로판 접착테이프를 붙인 다음 떼어 보아서 도막 위에 100조각의 분리된 코팅면 중 남아 있는 조각의 숫자로 접착력을 평가했다.
○ : 남아 있는 조각의 숫자가 100조각
△ : 남아 있는 조각의 숫자가 80조각 이상 100조각 미만
× : 남아 있는 조각의 숫자가 80조각 미만
<내부식성>
실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 5의 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판을 35, 95%의 습도에서 5%의 염수를 72hr 연속 분무하여 초기 방청 면적을 기준으로 판정했다.
○ : 방청면적이 5% 미만
△ : 방청면적이 5~20% 미만
× : 방청면적이 50% 이상
< 광택도>
실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 5의 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판을 BYK 광택기로 측정하여 광택도(60°기준)를 평가했다.
<내스크래치성>
실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 5의 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판 표면에 손톱으로 도장 방향과 동일한 방향 및 직각인 방향으로 각각 20회 왕복한 후 도막에 남은 스크래치 자국을 관찰하였다. 관찰 결과는 하기의 방법으로 평가하였다.
○ : 자국이 나타나지 않음.
△ : 자국이 약간 보임.
× : 자국이 선명하게 나타남.
| 실시예1 | 실시예2 | 실시예3 | 비교예1 | 비교예2 | 비교예3 | 비교예4 | 비교예5 | |
| 용액안정성 | ○ | ○ | ○ | × | × | ○ | ○ | ○ |
| 코팅층 밀착성 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | △ | × | × |
| 소광 도막층 밀착성 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ |
| 내부식성 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | △ | △ | △ |
| 광택도 | 95 | 93 | 80 | 69 | 35 | 95 | 45 | 30 |
| 내스크래치성 | ○ | ○ | ○ | ○ | △ | ○ | △ | △ |
상기 표 2에 나타난 바와 같이, 실시예 1 내지 3은 전체적으로 우수한 물성을 갖고 있다. 한편, 비교예 1 내지 2의 경우 침전이 발생하여 용액 안정성이 불량하고, 우레탄 수지의 영향으로 광택도의 저하가 발생했다. 또한, 비교예 3 내지 5의 경우는 코팅층 밀착성과 내부식성이 열위하고, 나아가, 비교예 4 및 5의 경우 광택도가 낮게 측정되었다. 한편, 비교예 3 내지 5은 인산화합물이나 유기산을 포함하지 않은 조성물으로써, 스테인리스 강판(1)과 코팅층(2) 간의 밀착력을 향상시켜 코팅층 밀착성과 내부식성을 우수하게 하기 위해서는 인산화합물이나 유기산의 첨가가 중요하다는 것을 확인했다.
실험예
2: 코팅층 및
소광
도막층이
형성되는 순서에 따른 물성 시험
<실시예 4>
스테인리스 강판(1)을 아세톤 탈지 용액를 이용하여 세정하고, 세정된 스테인리스 강판 상에 실시예 1의 코팅 조성물을 코팅한 후 160℃의 온도로 건조하여 5㎛ 두께의 코팅층(2)을 형성했다. 상기 코팅층 상부에 안료가 포함되지 않은 투명한 자외선 경화형 잉크를 잉크젯 프린트로 분사하여 패턴을 인쇄했다. 상기 투명한 자외선 경화형 잉크의 분사 속도는 12khz이며, 상기 투명한 잉크를 분사한 직후 1초 내에 자외선 경화시켰다. 상기 잉크가 경화됨으로써 형성된 소광 도막층(3)은 두께가 10㎛이며, 분사 직후 자외선 경화가 이루어지는 이러한 공정은 연속 공정을 통해 이루어졌다. 도 1은 실시예 4의 단면을 모식적으로 나타낸 도면에 해당한다.
<비교예 6>
스테인리스 강판(1) 상에 소광 도막층(3)을 형성한 후 코팅층(2)을 형성한다는 점을 제외하고는, 실시예 4의 소광 도막층 및 코팅층 형성 방법과 동일한 방법으로 각각 소광 도막층 및 코팅층을 형성했다. 도 2는 비교예 6의 단면을 모식적으로 나타낸 도면에 해당한다.
<비교예 7>
스테인리스 강판(1)을 아세톤 탈지 용액을 이용하여 세적한 후, 산 에칭의 방법으로 스테인리스 강판 표면에 에칭 패턴을 형성시켰다. 그 후, 실시예 4의 코팅층(2) 형성 방법과 동일한 방법으로 코팅층을 형성했다. 도 3은 비교예 7의 단면을 모식적으로 나타낸 도면에 해당한다.
<비교예 8>
스테인리스 강판(1)을 아세톤 탈지 용액을 이용하여 세척한 후, 실시예 4의 소광 도막층(3) 형성 방법과 동일한 방법으로 소광 도막층을 형성하여 에칭 효과를 구현하였으나, 코팅층을 형성하지 않았다.
<비교예 9>
산 에칭의 방법으로 스테인리스 강판(1) 표면을 에칭하였으나, 추가적으로 코팅층을 형성하지 않았다.
실시예 4 및 비교예 6 내지 8의 내부식성, 내지문성, 내오염성, 코팅층 밀착성, 소광 도막층 밀착성 및 표면질감을 시험하여 그 결과를 하기 표 3에 나타냈다.
<내지문성>
실시예 4 및 비교예 6 내지 9 표면에 손가락 지문을 찍어 육안으로 묻어있는 정도를 약 20°각도로 관찰하였으며, 하기와 같은 방법으로 평가하였다.
○ : 지문 자국이 잘 보이지 않음
△ : 지문 자국이 약간 보임
× : 지문 자국이 선명하게 보임
<내오염성>
실시예 4 및 비교예 6 내지 9 표면에 손가락 지문을 찍었다. 그 후, 부드러운 헝겊으로 닦아냈으며 완전하게 닦아낼 수 있었던 회수를 세어 하기와 같은 평가했다.
○ : 5회 이하로 닦아짐
△ : 5회 초과 10회 이하로 닦아짐
× : 10회 초과로 닦아짐
<표면 질감>
실시예 4 및 비교예 6 내지 9 표면의 질감을 평가한 것으로, 손으로 만졌을 때 느껴지는 질감과 육안으로 보았을 때 보여지는 입체감을 평가하였다.
○ : 표면질감이 촉감 및 시각 모두 느껴짐
× : 표면질감이 없음
| 구분 | 실시예4 | 비교예6 | 비교예7 | 비교예8 | 비교예9 |
| 내부식성 | ○ | ○ | ○ | × | × |
| 내지문성 | ○ | △ | △ | × | × |
| 내오염성 | ○ | ○ | ○ | × | × |
| 코팅층 밀착성 | ○ | ○ | ○ | - | - |
| 소광 도막층 밀착성 | ○ | × | - | ○ | - |
| 표면질감 | ○ | × | × | ○ | ○ |
상기 표 3에 나타난 바와 같이, 실시예 4의 경우 스테인리스 강판(1)과 코팅층(2)의 밀착력이 우수하여 박리가 없으며, 이로 인해 내부식성 우수하다. 또한, 스테인리스 강판에서 소광 도막층(3)이 형성된 부위를 제외한 부분에도 코팅층이 형성되어 있으므로, 내지문성과 내오염성이 양호한 결과를 나타낸다. 또한, 표면질감은 촉각 및 시각적으로 입체감이 느껴진다.
비교예 6 내지 비교예 7의 경우 코팅층 밀착성이 우수하여 내부식성 및 내오염성은 우수하다. 그러나, 소광 도막층(3)과 스테인리스 강판(1)은 밀착력이 낮으므로 비교예 6에서 소광 도막층의 부분 박리가 발생했다. 한편, 비교예 7에는 소광 도막층이 형성되어 있지 않으므로 소광 도막층 밀착력을 비교하기 어렵다. 비교예 6 및 7은 소광 도막층 상부에 코팅층(2)이 형성된 구조이므로 표면의 질감 및 입체감을 느끼기에는 부족함이 있다.
비교예 8 및 9는 코팅층(2)이 형성되어 있지 않으므로 내부식성, 내지문성 및 내오염성 등 전체적으로 물성이 열위한 결과가 나타났다.
이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것은 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에게는 자명할 것이다.
1 : 스테인리스 강판
2 : 코팅층
3 : 소광 도막층
2 : 코팅층
3 : 소광 도막층
Claims (18)
- 실란계 화합물 10 내지 30 중량%, 유기산 0.5 내지 6 중량%, 바나듐화합물 0.1 내지 3 중량%, 마그네슘화합물 0.1 내지 3 중량% 및 잔부 용매를 포함하는 코팅 조성물.
- 제1항에 있어서,
상기 코팅 조성물은 습윤제 1 내지 2 중량% 및 소포제 0.01 내지 1 중량%를 더 포함하는 코팅 조성물.
- 제1항에 있어서,
상기 실란계 화합물은 에폭시계 실란 및 아미노계 실란으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상인 코팅 조성물.
- 제1항에 있어서,
상기 유기산은 포름산, 아세트산 및 인산으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상인 코팅 조성물.
- 스테인리스 강판;
상기 스테인리스 강판 상부에 형성되고, 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항의 코팅 조성물의 경화물인 코팅층; 및
상기 코팅층 상부에 형성되고 소광 효과를 갖는 소광 도막층
을 포함하는, 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판.
- 제5항에 있어서,
상기 코팅층은 두께가 0.1 내지 10㎛인, 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판.
- 제5항에 있어서,
상기 코팅층은 광택도가 60°기준으로 80 이상인, 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판.
- 제5항에 있어서,
상기 소광 도막층은 소광제를 포함하는, 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판.
- 제8항에 있어서,
상기 소광제는 실리카, 알루미나, 왁스, 세라믹 및 합성 고분자 분말로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상인, 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판.
- 제5항에 있어서,
상기 소광 도막층은 다수의 기포를 포함하는, 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판.
- 제10항에 있어서,
상기 기포는 평균 직경이 0.5 내지 3㎛인, 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판.
- 제5항에 있어서,
상기 소광 도막층은 두께가 1 내지 20㎛인, 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판.
- 제5항에 있어서,
상기 소광 도막층은 광택도가 60° 기준으로 3 내지 50인, 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판.
- 스테인리스 강판 상부에 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항의 코팅 조성물을 코팅하여 코팅층을 형성하는 단계; 및
상기 코팅층 상부에 에칭 효과를 갖는 소광 도막층을 형성하는 단계
를 포함하는, 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판 제조방법.
- 제14항에 있어서,
상기 소광 도막층은,
상기 코팅층 상부에 소광제를 포함하는 도료를 코팅한 후 경화하는 방법에 의하여 형성된 것인, 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판 제조방법.
- 제14항에 있어서,
상기 소광 도막층은,
상기 코팅층 상부에 투명 잉크를 분사하는 단계; 및
상기 투명 잉크가 분사된 직후부터 2초 이내에 자외선 경화하는 단계
를 포함하는 방법에 의하여 형성된 것인 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판 제조방법.
- 제14항에 있어서,
상기 분사는 잉크젯 프린트 또는 레이저 프린트에 의해 수행되는 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판 제조방법.
- 제14항에 있어서,
상기 분사는 투명 잉크를 분사하는 속도가 1 내지 20kHz인 에칭 패턴이 형성된 스테인리스 강판 제조방법.
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|---|---|---|---|---|
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Cited By (3)
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|---|---|---|---|---|
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