KR20170048080A - 단열벽을 갖는 증발원 및 증발원 단열벽 제조 방법 - Google Patents
단열벽을 갖는 증발원 및 증발원 단열벽 제조 방법 Download PDFInfo
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- 238000001704 evaporation Methods 0.000 title claims abstract description 56
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 title claims abstract description 56
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 238000009413 insulation Methods 0.000 title description 4
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 13
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 10
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 claims description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 4
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 4
- 238000003466 welding Methods 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 15
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 10
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 10
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012671 ceramic insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910002076 stabilized zirconia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
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-
- H01L51/56—
-
- H01L21/203—
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/22—Diffusion of impurity materials, e.g. doping materials, electrode materials, into or out of a semiconductor body, or between semiconductor regions; Interactions between two or more impurities; Redistribution of impurities
-
- H01L51/0001—
-
- H01L51/0008—
-
- H01L51/0028—
-
- H01L2251/56—
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Abstract
Description
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 단열벽을 갖는 증발원의 단열벽체의 구조를 도시한 도면.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 단열벽을 갖는 증발원의 단열벽체의 구조의 변형예를 도시한 도면.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원 단열벽 제조 방법의 순서도.
16: 히터부 18: 리플렉터(reflector)
20: 단열벽체 22: 내측벽체
24: 외측벽체 26: 단열재
28: 중공부 30: 단부커버
32: 바닥벽체 34: 측벽체
35: 상단벽체 36: 용접부
Claims (10)
- 내부에 증발물질이 수용되는 도가니와;
상기 도가니를 감싸도록 설치되어 상기 도가니에 열을 가하는 히터부와;
상기 히터부를 감싸도록 설치되며, 내부에 중공부가 형성되는 단열벽체와;
상기 중공부에 내장되는 단열재를 포함하는, 단열벽을 갖는 증발원.
- 제1항에 있어서,
상기 히터부와 상기 단열벽체 사이에 배치되며, 상기 히터부를 감싸도록 설치되며 상기 열을 상기 도가니를 향하여 반사시키는 리플렉터(reflector)를 더 포함하는, 단열벽을 갖는 증발원.
- 제1항에 있어서,
상기 단열재는,
유리 섬유, 세라믹 단열재, 실리카 단열재 및 지르코니아 펠트(Zirconia Felt) 중 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는, 단열벽을 갖는 증발원.
- 제1항에 있어서,
상기 단열벽체는,
상기 도가니의 측면을 감싸도록 설치되는 측벽체와;
상기 도가니의 하부에 위치하며, 상기 측벽체의 하단에 결합되는 바닥벽체를 포함하는 것을 특징으로 하는, 단열벽을 갖는 증발원.
- 제1항에 있어서,
상기 중공부는 진공 상태인 것을 특징으로 하는, 단열벽을 갖는 증발원.
- 제1항에 있어서,
상기 단열벽체는,
내측벽체와;
상기 내측벽체와 대향하여 배치되며, 상기 중공부가 형성되도록 상기 내측벽체와 이격되어 배치되는 외측벽체와;
상기 중공부가 밀폐되도록 상기 내측벽체 및 상기 외측벽체의 단부를 따라 결합되는 단부커버를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 단열벽을 갖는 증발원.
- 중공부가 형성되도록 내측벽체와 외측벽체를 이격시켜 배치하는 단계와;
상기 내측벽체와 상기 외측벽체 사이의 상기 중공부에 단열재를 삽입하는 단계와;
상기 중공부가 밀폐되도록 상기 내측벽체와 외측벽체의 단부를 따라 단부커버를 결합하는 단계를 포함하는, 증발원 단열벽 제조 방법.
- 제7항에 있어서,
상기 단부커버를 결합하는 단계는,
내부가 진공인 진공챔버 내에서 수행되는 것을 특징으로 하는, 증발원 단열벽 제조 방법.
- 제7항에 있어서,
상기 단열재는,
유리 섬유, 세라믹 단열재, 실리카 단열재 및 지르코니아 펠트(Zirconia Felt) 중 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는, 증발원 단열벽 제조 방법.
- 제7항에 있어서,
상기 단부커버는 스테인레스 스틸 시트(sheet)를 포함하며,
상기 단부커버를 결합하는 단계는,
상기 중공부가 커버되도록 상기 내측 벽과 상기 외측 벽의 단부를 따라 상기 스테인레스 스틸 시트를 배치하는 단계와;
상기 내측벽체 및 상기 외측벽체의 단부를 따라 상기 스테인레스 스틸 시트를 용접하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 증발원 단열벽 제조 방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020150148987A KR20170048080A (ko) | 2015-10-26 | 2015-10-26 | 단열벽을 갖는 증발원 및 증발원 단열벽 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020150148987A KR20170048080A (ko) | 2015-10-26 | 2015-10-26 | 단열벽을 갖는 증발원 및 증발원 단열벽 제조 방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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Family
ID=60164014
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020150148987A KR20170048080A (ko) | 2015-10-26 | 2015-10-26 | 단열벽을 갖는 증발원 및 증발원 단열벽 제조 방법 |
Country Status (1)
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---|---|
KR (1) | KR20170048080A (ko) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3524581A2 (en) | 2018-02-12 | 2019-08-14 | Samsung Display Co., Ltd | Glass article and method for producing the same |
-
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EP3524581A2 (en) | 2018-02-12 | 2019-08-14 | Samsung Display Co., Ltd | Glass article and method for producing the same |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A201 | Request for examination | ||
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20151026 |
|
PA0201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20161023 Patent event code: PE09021S01D |
|
AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
PE0601 | Decision on rejection of patent |
Patent event date: 20170426 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PE06012S01D Patent event date: 20161023 Comment text: Notification of reason for refusal Patent event code: PE06011S01I |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
AMND | Amendment | ||
PX0901 | Re-examination |
Patent event code: PX09011S01I Patent event date: 20170426 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PX09012R01I Patent event date: 20161222 Comment text: Amendment to Specification, etc. |
|
PX0601 | Decision of rejection after re-examination |
Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PX06014S01D Patent event date: 20170612 Comment text: Amendment to Specification, etc. Patent event code: PX06012R01I Patent event date: 20170523 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PX06011S01I Patent event date: 20170426 Comment text: Amendment to Specification, etc. Patent event code: PX06012R01I Patent event date: 20161222 Comment text: Notification of reason for refusal Patent event code: PX06013S01I Patent event date: 20161023 |