KR20170029552A - 스테레오리소그라피 기계에 속한 적어도 두 개의 광 조사 소스의 동작을 제어하기 위한 개선된 방법 - Google Patents

스테레오리소그라피 기계에 속한 적어도 두 개의 광 조사 소스의 동작을 제어하기 위한 개선된 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 스테레오리소그라피 기계(1)에 속하고 및 스테레오리소그라피 기계(1)를 통한 삼차원 물체(200)의 생산을 위한 스테레오리소그라피 기계(1)의 작업 표면(100) 상에 정의된 중첩 영역(101)의 일 부분(104)의 레벨에서 활성화하는데 적합한 두 개의 광 조사 소스(2와3)의 활성화를 제어하기 위한 방법이다. 상기 부분(104) 내에 삼차원 물체(200)의 각 층(201)을 정의하는 일반적인 길이(X)를 가진 라인들(210)의 각각에 대해, 방법은: 길이(X)를 가진 라인(210)의 제1 섹션(211)에 대한 제1 광 조사 소스(2); 길이(Y)를 가진 라인(210)의 나머지 제2 섹션(212)에 대한 제2 광 조사 소스(3)을 활성화하도록 제공하며, 여기서 상기 제1 섹션(211)의 값(X)은 간격(0≤X≤L) 내에서 선택되고 Y는 L -X와 동일하게 계산된다.

Description

스테레오리소그라피 기계에 속한 적어도 두 개의 광 조사 소스의 동작을 제어하기 위한 개선된 방법{IMPROVED METHOD FOR CONTROLLING THE ACTIVITY OF AT LEAST TWO LIGHT RADIATION SOURCES BELONGING TO A STEREOLITHOGRAPHY MACHINE}
본 발명은 스테레오리소그라피 기계에 속하며 스테레오리소그라피 기계를 통해 삼차원 물체를 만들기 위한 스테레오리소그라피 기계의 작업 표면 상에 정의된 중첩 영역의 레벨에서 동작하기에 적합한 적어도 두 개의 광 조사 소스의 동작을 제어하기 위한 방법에 관한 것이다.
또한 본 발명은 본 발명의 상기 방법의 단계들을 수행하도록 구성된 장치 및 컴퓨터 프로그램 제품에 관한 것이다.
알려진 바와 같이, 스테레오리소그라피 프로세스는 물체 자체의 복수의 층의 순차적 중첩을 통해 삼차원 물체를 만드는 것을 포함한다.
물체의 각 층은 액체 또는 페이스트 상태에서 물질의 고형화를 통해 얻어지며, 광 조사에 선택적으로 노출 됨으로써 발생된다.
전형적으로, 상기 물질은 상기 광 조사가 영향을 미칠 때 중합시키는 플라스틱 기반 화합물이다.
물체의 각각의 연속 층의 응고는 연속 층을 위한 지지체로서 동작하는 선행 응고 층과의 접촉을 통해 얻어진다.
상기 프로세스는 만들어질 물체의 삼차원 형상을 나타내는 첫 번째 데이터 세트가 공급되는 연산기로 제어된다,
연산기는 물체의 상이한 층들의 기하학적 형상을 결정하고 결과적으로 스테레오리소그라피 장치를 제어한다.
특히, 광 조사 소스가 상기 물질의 응고를 얻기 위해 활성화되어야 하는 레벨에서, 연산기는 차례로 각 층을, 지금부터 더 간단히 "라인"으로 언급할, 복수의 인접한 주사선으로 세분화한다. 이러한 목적을 위하여 라인은 일반적으로 그들의 두께가 작업 표면의 레벨에서 광 조사 빔의 폭과 동일한 그러한 방법으로 정의된다. 즉, 상기 라인의 폭은 상기 작업 표면 상의 동일한 빔의 해상도와 동일하다.
스테레오리소그라피 기계가 생성 할 수있는 물체의 크기는 광 조사 빔이 동작할 수 있는 상기 작업 표면의 크기에 달려있고, 무엇보다도 상기 광 조사 소스와 작업 표면 자체 사이의 거리에 달려있는 것으로 알려져 있다.
명백하게, 상기 거리가 길수록, 상기 작업 표면에 입사하는 광 조사 빔의 발산이 커지는 반면에, 상기 표면 레벨에서 동일한 빔의 해상도는 결과적으로 감소된다. 그러므로, 스테레오리소그라피 프로세스로 얻게 될 물체의 품질은 광 조사 소스와 스테레오리소그라피 기계의 작업 표면 사이의 거리에 대해 상대적이다.
그러므로, 물체의 높은 정도의 해상도를 얻기 위하여, 상기 거리를 가능한 많이 줄이는 것이 필요하다. 그러나, 이러한 요구는 상기 작업 표면상의 광 조사 빔의 동작 범위를 제한한다.
또한, 상기 소스에 의해 생성된 광 조사 빔은 일반적으로 광(optical) 유닛 수단에 의해 상기 작업 표면 상으로 향한다고 알려져 있다.
특히, 상기 광 유닛은 상기 작업 표면상의 광선 조사 빔의 동작 범위를 더 감소시키는데 본질적으로 기여한다고 잘 알려져 있다.
따라서, 앞서 말한 바와 같이, 이러한 일련의 요인들은 단일 광 조사 소스가 제공되는 스테레오리소그라피 기계를 사용하여 얻을 수 있는 삼차원 물체의 크기를 강하게 제한한다.
본 발명이 해결하려는 과제는 상기 연결을 획득하기 위하여 알려진 종래 기술의 두 인접한 광 조사 소스를 활성화하는 방법을 참조하여 앞서 기술한 모든 단점을 극복하는데 그 목적이 있다.
특히, 본 발명이 해결하려는 과제는 스테레오리소그라피를 통한 삼차원 물체 생산을 위해 동일한 스테레오리소그라피 기계에 속하는 두 개의 인접한 광 조사 소스를 활성화시키기 위한 방법을 정의하는 것이 본 발명의 하나의 목적이며, 상기 방법은 다수의 인접한 광 조사 소스에 의해 만들어지는 각 층의 두께에 있어서 알려진 기술로 얻을 수 있는 결과에 비해 더 균질성을 얻을 수 있다.
본 발명이 해결하려는 또 다른 과제는 상기 인접한 광 조사 소스에 의해 생산되는 동일한 층의 부분들 사이의 보다 견고하고 보다 안정적인 연결을 획득할 수 있는 상기 광 조사 소스를 활성화하는 방법을 정의하는 것이 본 발명의 또 다른 목적이다.
본 발명 과제 해결 수단은 스테레오리소그라피 기계(1)에 속하고 스테레오리소그라피를 통하여 삼차원 물체(200)를 만들기 위해 상기 스테레오리소그라피 기계(1)의 작업 표면(100) 상에 정의되는 중첩 영역(101)의 부분(104)의 레벨에서 동작하는데 적합한 적어도 2개의 광 조사 소스의 동작을 제어하기 위한 방법에 있어서, 상기 부분(104) 내의 상기 삼차원 물체(200)의 각 층(201)을 정의하는 일반적인 길이(L)를 가지는 라인들(210)의 각각에 대해 다음 요소: 길이(X)를 가지는 상기 라인(210)의 제1 섹션(211)에 대한 상기 두 개의 광 조사 소스 중 제1 소스(2); 길이(Y)를 가지는 상기 라인(210)의 나머지 제2 섹션(212)에 대한 상기 두 개의 광 조사 소스 중 제2 소스(3)를 활성화하고, 상기 제1 섹션(211)의 상기 길이(X)의 값은 간격(0≤X≤L) 내에서 선택되고 Y는 L - X와 동일하게 계산됨을 특징으로 하는 방법을 제공하는데 있다.
본 발명의 또 다른 과제 해결 수단은 스테레오리소그라피 기계(1)에 속하고 스테레오리소그라피를 통한 삼차원 물체(200)를 만들기 위해 상기 스테레오리소그라피 기계(1)의 작업 표면(100) 상에 정의된 중첩 영역(101)의 부분(104) 레벨에서 동작하기에 적합한 두 개의 광 조사 소스(2,3)의 활성화를 제어하기 위한 장치에 있어서, 장치는: 프로세싱 유닛과 상기 프로세싱 유닛에 의해 액세스하기에 적합한 메모리 지원을 포함하는 연산기; 상기 삼차원 물체(200)의 기하학적 형상을 나타내는 제1 데이터 세트를 획득하고 그것을 상기 메모리 지원으로 업로드하기에 적합한 수단; 복수의 층(201)으로 상기 삼차원 물체(200)를 세분화하는데 적합한 수단; 상기 작업 표면(100) 상에 상기 층들(201)의 각각의 위치를 정의하는데 적합한 수단; 상기 중첩 영역(101)의 부분(104) 내에서, 상기 층들(201)의 각각을 정의하는 일반적인 길이(X)를 가진 상기 라인들(210)의 각각을 정의하는데 적합한 수단을 포함하는 형태이며, 일반적인 길이(L)를 가진 상기 라인들(210)의 각각에 대해, 간격(0≤X≤L) 내에서 상기 제1 섹션(211)의 상기 길이(X)의 값을 정의하는데 적합한 수단; 일반적인 길이(L)를 가진 상기 라인들(210)의 각각에 대해, 상기 제2 섹션(212)의 길이를 계산하는데 적합한 수단; 상기 두 개의 광 조사 소스 중 제1 소스(2)는 상기 라인들(210)의 각각의 상기 제1 섹션(211)을 따라서 활성화되고, 및 상기 두 개의 광 조사 소스 중 제2 소스(3)는 상기 나머지 제2 섹션(212)을 따라서 활성화되는 그러한 방법으로 상기 두 개의 광 조사 소스(2,3)의 활성화와 관련된 데이터를 발생하는데 적합한 수단을 포함함을 특징으로 하는 장치를 제공하는데 있다.
본 발명은 상기 연결을 획득하기 위하여 알려진 종래 기술의 두 인접한 광 조사 소스를 활성화하는 방법을 참조하여 앞서 기술한 모든 단점을 극복할 수 있는 유리한 효과가 있다.
특히, 본 발명은 스테레오리소그라피를 통한 삼차원 물체 생산을 위해 동일한 스테레오리소그라피 기계에 속하는 두 개의 인접한 광 조사 소스를 활성화시키기 위한 방법을 정의하는 것이 본 발명의 하나의 목적이며, 상기 방법은 다수의 인접한 광 조사 소스에 의해 만들어지는 각 층의 두께에 있어서 알려진 기술로 얻을 수 있는 결과에 비해 더 균질성을 얻을 수 있는 유리한 효과가 있다.
본 발명의 또 다른 효과는 상기 인접한 광 조사 소스에 의해 생산되는 동일한 층의 부분들 사이의 보다 견고하고 보다 안정적인 연결을 획득할 수 있는 상기 광 조사 소스를 활성화하는 방법을 정의하는데 있다.
종래기술을 도시하는 도 1a 및 1b는 두 개의 인접한 광 조사 소스가 공급되는 스테레오리소그라피 기계의 작업 표면의 한 구획에 대한 개략적인 평면도(top view) 및 측면도를 나타낸다;
도 2는 스테레오리소그라피를 통해 만들어질 삼차원 물체의 예(example)의 축측도(axonometric view)를 나타낸다;
도 3은 본 발명의 방법이 그것의 바람직한 실시 예에 따라 적용되는 도 1a 및 1b에 나타낸 작업 표면의 레벨에 배열된 도 2의 삼차원 층의 평면도를 나타낸다;
도 4는 도 3의 층의 중첩 영역의 레벨에서 두 개의 인접한 라인의 세부 사항을 나타낸다;
도 5는 본 발명의 방법이 제1 선택적 실시 예에 따라 적용되는 도 1a 및 1b에 나타낸 작업 표면의 레벨에 배열된 도 2의 삼차원 층의 평면도를 나타낸다;
도 6은 본 발명의 방법이 제2 선택적 실시 예에 따라 적용되는 도 1a 및 1b에 나타낸 작업 표면의 레벨에 배열된 도 2의 삼차원 층의 평면도를 나타낸다;
본 발명을 실시하기 위한 구체적인 내용을 살펴본다.
상기 제한을 극복하고 따라서 높은 해상도를 유지하는 동시에 더 큰 삼차원 물체를 생산할 수 있도록, 서로 인접한 적어도 2 개의 광 조사 소스(2 및 3)가 제공된 스테레오리소그라피 기계(1)가 설계되었고, 이들 각각은 알려진 기술을 도시하는 도 1a 및 도 1b에 개략적으로 도시된 바와 같이 공통 작업 표면(100)의 특정 부분(102 및 103)에 동작하기에 적합하다.
알려진 기술을 도시하고 있는 상기 도면으로부터 명백히 알 수 있듯이, 그리고 해당 기술분야의 전문가에게 분명하듯이, 상기 작업 표면(100)의 두 개의(또는 그 이상의) 부분들(102 및 103)은 두 개의 광 조사 소스(2 및 3)가 모두 동작할 수 있는 레벨에서 소위 중첩 영역(101)을 정의하는 그러한 방법으로, 서로에 대해 반드시 부분적으로 중첩되어야 한다. 사실, 상기 인접한 부분들은 상기 인접한 광 조사 소스들(2 및 3)에 의한 응고를 통해 정의되기 때문에, 이러한 구성은 상이한 층들 각각의 두 개의(또는 그 이상의) 인접 부분들 사이의 연결을 얻기 위해서 불가피하다. 상기 연결은 보통 상기 중첩 영역(101) 내에서 응고될 물질의 동일한 지점의 레벨에서 두 개의 인접한 광 조사 소스(2 및 3)를 활성화함에 의해 얻게 된다.
그러나, 불리하게도, 상기 접근법에 의해 제기되는 첫 번째 단점은 상기 지점들 근방에서, 생성되는 층의 x 및/또는 y 방향으로의 가능한 바람직하지 않은 팽창 효과에 있다. 상기 팽창 효과는, 불리하게도, 차례로 층 자체의 가장자리 레벨에서 연장될 수 있고, 후자를 정밀하지도 않고 정확하지도 않은 방식으로 정의되게 한다. 반대로, 또 다시 불리하게도, 두 개의 광 조사 소스(2 및 3)가 정확하게 설정되지 않으면, 층의 다양한 지점에서 상기 연결을 수행할 수 없을 것이고, 따라서, 응고되지 않은 물질의 갭이 생기게 되고 이어서 생산되는 물체의 전체 구조가 약해진다.
본 발명은 상기 연결을 획득하기 위하여 알려진 종래 기술의 두 인접한 광 조사 소스를 활성화하는 방법을 참조하여 앞서 기술한 모든 단점을 극복하는데 그 목적이 있다.
특히, 스테레오리소그라피를 통한 삼차원 물체 생산을 위해 동일한 스테레오리소그라피 기계에 속하는 두 개의 인접한 광 조사 소스를 활성화시키기 위한 방법을 정의하는 것이 본 발명의 하나의 목적이며, 상기 방법은 다수의 인접한 광 조사 소스에 의해 만들어지는 각 층의 두께에 있어서 알려진 기술로 얻을 수 있는 결과에 비해 더 균질성을 얻을 수 있다.
또한, 상기 인접한 광 조사 소스에 의해 생산되는 동일한 층의 부분들 사이의 보다 견고하고 보다 안정적인 연결을 획득할 수 있는 상기 광 조사 소스를 활성화하는 방법을 정의하는 것이 본 발명의 또 다른 목적이다.
상기 목적은 청구항 1에 따른 두 개의 인접한 광 조사 소스의 동작을 제어하기 위한 방법에 의하여 달성된다.
상기 목적은 청구항 8에 따른 상기 인접한 광 조사 소스를 제어하기 위한 장치 및 청구항 9에 따른 컴퓨터 프로그램 제품에 의하여 또한 달성된다.
유리하게는, 그들을 중첩시킬 필요없이, 두 개의 인접한 광 조사 소스에 의해 정의되는 단일 층의 부분들 사이의 연결을 실행할 가능성이 있음은 삼차원 물체를 만들기 위한 스테레오리소그라피 프로세스에 의해 요구되는 전체 시간을 감소시킬 수 있다.
상기 목적 및 이점은, 아래에 명시될 다른 것들과 함께, 첨부된 도면을 참조하여 비제한적 예시의 방법으로 제공되는 본 발명의 일부 바람직한 실시 예의 설명에서 강조된다.
스테레오리소그라피 기계(1)에 속하며 상기 스테레오리소그라피 기계(1)의 작업 표면(100) 상에 정의된 중첩 영역(101)의 레벨에서 동작하기에 적합한 두(2) 개의 광 조사 소스(2 및 3)의 활동을 제어하기 위한 본 발명의 방법은, 도 2에 도시되고 거기에 200 으로 표시된 삼차원 물체를 참조하여 기술된다.
특히, 바람직하게는, 두(2) 개의 광 조사 소스(2 및 3)를 제어하기 위한 상기 방법은 상기 중첩 영역(101) 내에서 미리 설정된 폭을 가지며 도 3에 도시된 바와 같이, 중첩 영역(101) 보다 좁은 부분(104) 상에 적용된다.
그러나, 본 발명의 선택적 실시 예에서, 상기 부분(104)의 폭은 상기 중첩 영역(101)의 폭과 실질적으로 일치 할 수 있음을 배제 할 수 없다.
도면을 보다 명확하게 하기 위해, 지금부터는 삼차원 물체(200)가 스테레오리소그라피를 통해 일반적으로 생성되는 물체에 비해 매우 단순화된 기하학적 형상으로 의도적으로 표현되었음을 반드시 강조한다.
그러나, 아래 기술될 프로세스는 임의의 형상을 가진 삼차원 물체에 유사한 방법으로 적용될 수 있다는 것은 분명하다.
여기에 기술된 바람직한 실시 예에 따른 본 발명의 방법에 포함된 단계를 정의하기 위하여, 작업 표면(100)의 레벨에서 삼차원 물체(200)의 층들(201) 중 하나에 대한 평면도가 도시되어 있는 도 3을 참조해야 한다.
본 발명의 핵심인 방법에 따르면, 중첩 영역(101)의 부분(104) 내의 삼차원 물체(200)의 각 단일 층(201)을 정의하는 일반적 길이(L)를 갖는 라인들(210)의 각각에 대해, 제1 소스(2)는 길이(X)를 갖는 라인(210)의 제1 섹션(211)에 대해 활성화되고, 제2 소스(3)는 Y = L-X 길이를 가진 동일한 라인(210)의 나머지 제2 섹션(212)에 대해 활성화된다.
도 3에서, 라인(210)의 두께는 본 발명의 방법이 기초로 하는 개념을 더 쉽게 이해할 수 있도록 실제 크기와 관련하여 증가시켰다.
제 1 섹션 (211)의 길이(X)의 상기 값은, 본 발명에 따라, 간격 0≤X≤L 내에서 선택되며, 여기 아래에서 분명해지겠지만, 상기 언급된 목적을 달성하기 위해, 도 4에 도시된 바와 같이, 무엇보다도 인접한 라인들(210) 사이의, 동일한 층(201)에 속하는 다양한 라인들(210)에 대하여 길이(X)의 값은 다르다는 것이 중요하다.
바람직하게는, 반드시 그런 것은 아니지만, 길이(X)의 상기 값은 각 라인 (210)에 대해 무작위로 선택된다.
도 3에서 볼 수 있는 바와 같이, 상기 광 조사 소스(2 및 3)의 활성화 방법은 각 층(201)의 두 개의 (또는 그 이상의) 부분들 (202 및 203) 사이에 파손된 형태(broken type)의 연결 라인(220)을 생성할 수 있다.
특히, 도 3에서 항상 볼 수 있는 바와 같이, 상기 연결 라인(220)은 두 부분의 날(teeth) 및 오목부는 상이한 길이를 가지나 어떠한 경우에도 완전히 상호 보완적인 방식으로 정의되는, 빗 같은 패턴(comb-like pattern)을 생성한다. 이러한 특성은 앞서 나타낸 목적을 달성할 수 있게 하며, 특히 이는 알려진 기술의 방법으로 얻은 연결에 비해 동일한 층(201)의 다양한 부분(202 및 203) 사이의 보다 견고하고 더 안정된 연결을 얻을 수 있다.
또한, 상기 연결은, 알려진 기술에서 발생하는 바와 같이, 중첩 영역(101)의 부분(104)에서 두 개의 광 조사 소스(2 및 3)의 동작이 중첩되는 것을 피할 수 있고, 따라서 전술 한 바와 같이, 층들(201) 각각의 두께의 균질성 부족을 피할 수 있다.
보다 구체적으로, 본 발명의 방법은 아래 기술된 단계를 포함한다. 우선, 본 방법에 따르면, 삼차원 물체(200)의 형상을 나타내는 제1 데이터 세트를 얻게 된다. 연이어, 방법에 따르면, 상기 삼차원 물체(200)는 복수의 층들(201)로 세분화된다. 또한, 방법에 따르면, 상기 층들의(201) 각각은 상기 작업 영역(100)의 레벨에서 반드시 맡아야 할 위치를 정의할 필요가 있다. 특히, 상기 방법은 각 층(201)의 어떤 부분이 상기 제1 광 조사 소스(2)에 의해 독점적으로 정의되어야 하는지, 어떤 부분이 제2 광 조사 소스(3)에 의해 독점적으로 정의되어야 하는지, 및 최종적으로, 각 층(201)의 어떤 부분이 중첩 영역(101)의 부분(104) 내에 속해야 하는지를 설정하되, 여기서 앞서 설명한 바와 같이, 상기 부분(104)의 폭은 중첩 영역(101) 자체의 폭보다 짧은 것이 바람직하다.
결과적으로, 본 발명의 방법에 따르면, 중첩 영역(101)의 부분(104) 내에 속하는 각 층(201)의 부분에 대하여, 일반적인 길이(L)를 갖는 상기 라인들(210)의 각 라인이 정의된다. 분명하게, 도 3의 예로부터 이해 될 수 있는 바와 같이, 다양한 라인들(210)은 상이한 길이(L)를 가질 수 있다.
본 발명의 방법에 따르면, 앞서 언급한 바와 같이, 이 시점에서, 제1 섹션(211)의 길이(X)의 값은 간격(0≤X≤L)으로 일반적인 길이(L)를 갖는 상기 라인들(210)의 각각에 대해 정의된다. 앞서 설명한 바와 같이, 상기 값은 바람직하게는 상기 간격 내에서 무작위로 선택된다. 본 발명에 따르면, 제2 섹션(212)의 길이(Y)는 일반적인 길이(L)를 갖는 라인들(210) 각각에 대해 연속적으로 계산되어, Y = L-X 가 된다.
마지막으로, 본 발명의 방법은 상기 두 개의 광 조사 소스(2 및 3) 중 제1 광 조사 소스는 라인들(210) 각각의 상기 제1 섹션(211)을 따라 활성화되는 한편, 상기 두 개의 광 조사 소스(2 및 3) 중 제2 광 조사 소스는 나머지 제2 섹션(212)을 따라 활성화되는 그러한 방법으로 두 개의 광 조사 소스(2 및 3)의 활성화에 관한 데이터를 생성하는 단계를 포함한다.
본 발명의 방법의 바람직한 실시 예에 따르면, 상기 두 개의 광 조사 소스(2 및 3)의 활성화를 위한 상기 데이터의 발생 전에, 도 3에서 볼 수 있는 바와 같이, 동일한 부분(104) 내에서 층(201)의 일부의 상기 라인(210)과 실질적으로 직교하는, 중첩 영역(1010)의 부분(104)의 중간 라인(300)이 정의된다.
상기 중간 라인(300)은, 일반적인 길이(L)를 갖는 모든 라인(210) 중에서, 상기 중간 라인(300) 상에 입사하는 동일한 라인들(210)의 서브 세트(213)를 독점적으로 선택할 수 있다.
또한, 항상 본 발명의 방법의 바람직한 실시 예에 따르면, 상기 방법은 ,입사 라인의 상기 서브 세트(213) 내에서, 중첩 영역(101)의 부분(104)의 전체 폭에 걸쳐 연장되는 라인들(210)의 서브 세트(214)만을 선택하는 단계를 더 포함한다. 오로지 상기 선택의 종료시에만, 상기 방법에 따르면, 두 개의 광 조사 소스(2 및 3)는 독점적으로 후자의 서브 세트(214)에 속하는 라인들(210)의 레벨에서 위에 기술한 방식으로 활성화 된다. 상기 부분(104)에 존재하고 상기 선택에서 제외된 나머지 라인들(210)과 관련하여, 본 발명의 방법에 따르면, 그들의 정의를 위하여 독점적으로 두 개의 광 조사 소스(2 및 3) 중 하나 또는 다른 하나가 활성화 된다. 특히, 바람직하게는, 두 개의 광 조사 소스(2 및 3) 중 어느 것을 이러한 배제된 라인들 중 하나를 정의하는데 사용해야 할지에 대한 선택은 상기 중간 라인(300)과 관련하여 문제의 라인(210)이 속하는 위치에 의존한다. 도 3에 도시된 예에서, 상기 배제된 라인(210)의 정의를 위해 좌측에 배열된 광 조사 소스(2)가 편리하게 선택될 것이다.
도 5에 도시된 본 발명의 다른 실시 예에서, 그러나, 상기 방법에 따르면, 상기 부분(104)의 전체 폭에 걸쳐 연장되는 라인들(210)의 추가 선택없이, 입사 라인의 서브 세트 (213)에 속하는 모든 라인들(210)에 대해, 앞서 설명한 그러한 방식으로, 광 조사 소스(2 및 3) 둘 다가 활성화된다는 것을 배제 할 수 없다
이 경우에 있어서, 입사 라인들의 상기 서브 세트(213)에서 배제된 상기 라인들(210)은 상기 광 조사 소스들(2 및 3) 중 단지 하나의 활성화를 통해 정의되는 것들 일 것이다. 또한 이 경우에도, 활성화될 하나 또는 다른 하나의 소스(2 및 3)의 선택은 상기 중간 라인과 관련하여 상기 배제된 라인들 각각의 위치에 따라 바람직하게는 이루어진다.
또한, 도 6에 도시된 본 발명의 방법의 또 다른 실시 예에 따르면, 상기 광 조사 소스(2 및 3) 둘 다, 앞서 기술된 방법으로, 앞서 기술된 임의의 추가적인 선택 중 어떤 것도 수행하지 않고, 중첩 영역(101)의 부분(104) 내에 속하는 층들(201)의 각각의 모든 라인(210)에 대해 활성화될 수 있다.
본 발명의 바람직한 실시 예로 돌아가면, 도 4에 도시된 상세한 도면에서 볼 수 있는 바와 같이, 상기 방법에 따르면, 상기 부분(104)의 전체 폭에 걸쳐 연장되는 라인들의 서브 세트(214)에 속하는 인접한 라인들의 각각의 쌍(210a 및 210b)에 대해, 상기 두 개의 라인(210a 및 210b)의 제1 섹션들(211)의 길이(X)에 해당하는 값은 그것을 따라 제1 광 조사 소스(2)가 동작하기에 적합한 제1 라인(210a)의 제1 섹션(211)과 그것을 따라 제2 광 조사 소스(3)가 동작하기에 적합한 제2 라인(210b)의 제1 섹션(212)이 중간 라인(300) 상에 입사되는 그러한 방법으로 선택된다.
본 발명의 핵심인 방법에 대한 이러한 더 상세한 설명은 인접한 라인들(210a 및 210b)에 대한 중간 라인(300)에 걸친 제1 광 조사 소스(2)와 제2 광 조사 소스(3)의 동작 사이의 완전한 교대를 보장할 수 있다. 결과적으로, 상기 특성은 상기 광 조사 소스(2 및 3)를 통해 얻은 동일한 층(201)의 두 부분들 사이의 연결의 결과를 더 향상시킬 수 있다.
그러나, 본 발명의 다른 실시 예에서, 상기 방법에 따르면, 상기 길이(X)의 값은 상기 중간 라인(300)에 걸친 상기 두 개의 광 조사 소스(2 및 3)의 동작의 교대를 또한 보장함이 없이, 무작위로 독점적으로 선택됨을 배제할 수 없다.
단순화를 위해, 본 발명의 핵심인 방법의 단계는 지금까지 두 개의 광 조사 소스(2 및 3)를 포함하는 스테레오리소그라피 기계(1)를 참조하여 설명하였다.
그러나, 본 발명의 동일한 방법은 동일한 스테레오리소그라피 기계(1)에 속하고, 쌍으로 인접한, 두 개 이상의 광 조사 소스의 활성화를 제어하는데 사용될 수 있음을 배제 할 수 없다.
명백하게, 상기 방법은 제어된 방법으로 인접한 광 조사 소스의 각 쌍을 활성화시키는데 사용되어야만 한다.
바람직하게는, 앞서 기술된 상기 방법은, 프로세싱 유닛 및 상기 프로세싱 유닛에 의해 액세스 될 수 있는 메모리 지원이 제공된, 그 자체로는 공지되어 있지만 도면에 나타내지는 않은, 연산기를 포함하는 장치에 의해 구현된다.
상기 장치는 삼차원 물체(200)의 형상을 나타내는 제1 데이터 세트를 획득하고 그것을 상기 메모리 지원으로 업로드하기에 적합한 수단을 포함한다.
상기 장치는 또한 삼차원 물체(200)를 복수의 층(201)으로 세분화하기에 적합한 수단을 포함한다.
상기 장치는 또한 상기 작업 표면 상에 상기 층(201)의 각각의 위치를 정의하기에 적합한 수단을 포함한다.
상기 장치는 또한, 상기 작업 표면(100)에 속하는 중첩 영역(101)의 부분(104) 내에서, 다른 층들(201) 각각을 정의하는 일반적인 길이(L)를 갖는 라인들(210)의 각각을 식별하는데 적합한 수단을 포함한다.
본 발명에 따르면, 상기 장치는 일반적인 길이(L)를 갖는 라인들(210)의 각각에 대해, 간격 0≤X≤L 내의 상기 라인(210)의 제 1 섹션(211)의 길이(X)의 값을 정의하는데 적합한 수단을 포함한다
길이 (X)의 값의 선택은 바람직하게는 무작위로 행해진다.
또한, 발명에 따른 장치는, 일반적인 길이(L)를 가진 라인들(210)의 각각에 대하여, Y = L - X와 동일한, 상기 라인(210)의 제2 섹션(212)의 길이(Y)를 계산하는 수단을 포함한다. 마지막으로, 본 발명의 장치는 상기 두 개의 광 조사 소스(2 및 3) 중 첫 번째 것은 라인들(210) 각각의 제1섹션(211)을 따라 활성화되는 반면에, 상기 두 개의 광 조사 소스(2 및 3) 중 두 번째 것은 동일한 라인(210) 의 나머지 제2섹션(211)을 따라 활성화되는 그러한 방식으로, 스테레오리소그라피 기계(1)에 속하는 적어도 두 개의 광 조사 소스(2 및 3)의 활성화와 관련된 데이터를 생성하기 위한 수단을 포함한다.
바람직하게는, 상기 장치는 상기 연산기 상에서 실행될 때 앞서 기술한 바와 같은 장치의 수단을 정의하는 그러한 방법으로 구성된 프로그램 부분이 제공된 데이터 지원을 포함하는 컴퓨터 프로그램 제품에 의해 구성된다.
앞서 기술한 것에 따르면, 앞서 기술된 방법, 장치 및 컴퓨터 프로그램 제품은 설정된 모든 목적을 달성하는 것으로 이해할 수 있다.
특히, 본 발명은 스테레오리소그라피 기계를 통한 삼차원 물체의 생산을 위해 동일한 스테레오리소그라피 기계에 속하는 적어도 두 개의 인접하는 광 조사 소스를 활성화시키는 방법을 제공하려는 목적을 달성하되, 여기서 상기 방법은 알려진 기술로 얻을 수 있는 결과에 비해 다수의 광 조사 소스에 의해 얻어진 각층의 두께에서 더 균질성을 얻을 수 있다.
본 발명은 또한 상기 광 조사 소스에 의해 얻어진 동일한 층의 부분들 사이의 보다 견고하고 안정적인 연결을 얻을 수 있는 상기 인접한 광 조사 소스를 활성화시키기 위한 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

Claims (12)

  1. 스테레오리소그라피 기계(1)에 속하고 스테레오리소그라피를 통하여 삼차원 물체(200)를 만들기 위해 상기 스테레오리소그라피 기계(1)의 작업 표면(100) 상에 정의되는 중첩 영역(101)의 부분(104)의 레벨에서 동작하는데 적합한 적어도 2개의 광 조사 소스의 동작을 제어하기 위한 방법에 있어서,
    상기 부분(104) 내의 상기 삼차원 물체(200)의 각 층(201)을 정의하는 일반적인 길이(L)를 가지는 라인들(210)의 각각에 대해 다음 요소:
    길이(X)를 가지는 상기 라인(210)의 제1 섹션(211)에 대한 상기 두 개의 광 조사 소스 중 제1 소스(2);
    길이(Y)를 가지는 상기 라인(210)의 나머지 제2 섹션(212)에 대한 상기 두 개의 광 조사 소스 중 제2 소스(3)를 활성화하고,
    상기 제1 섹션(211)의 상기 길이(X)의 값은 간격(0≤X≤L) 내에서 선택되고 Y는 L - X와 동일하게 계산됨을 특징으로 하는 방법.
  2. 제 1항에 있어서,
    방법은:
    상기 삼차원 물체(200)의 기하학적 형상을 나타내는 제1 데이터 세트를 획득하는 단계;
    복수의 층(201)으로 상기 삼차원 물체(200)를 세분화하는 단계;
    상기 작업 표면(100) 상에 상기 층들(201) 각각의 위치를 정의하는 단계;
    상기 중첩 영역(101)의 상기 부분(104) 내에서, 상기 층들(201) 각각을 정의하는 일반적 길이(L)을 가진 상기 라인들(210) 각각을 식별하는 단계를 포함하는 형태이며,
    일반적인 길이(L)를 가진 상기 라인들(210)의 각각에 대해, 간격(0≤X≤L) 내에서 상기 제1 섹션(211)의 상기 길이(X)의 값을 정의하는 단계;
    일반적인 길이(L)를 가진 상기 라인들(210)의 각각에 대해, 상기 제2 섹션의 길이는 Y = L - X 와 동일하도록 계산하는 단계를 포함하고,
    상기 두 개의 광 조사 소스 중 제1 소스(2)는 상기 라인들(210)의 각각의 제1 섹션(211)을 따라 활성화되고, 상기 두 개의 광 조사 소스 중 제2 소스(3)는 상기 나머지 제2 섹션(212)을 따라 활성화되도록 상기 두 개의 광 조사 소스(2,3)의 상기 활성화와 관련된 데이터를 생성하는 단계를 더 포함함을 특징으로 하는 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제1 섹션(211)의 상기 길이(X)의 값은 간격(0≤X≤L) 내에서 무작위로 선택됨을 특징으로 하는 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 두 개의 광 조사 소스(2,3)의 상기 활성화 전에:
    상기 라인들(210)에 대하여 실질적으로 수직 방향으로 상기 중첩 영역(101)의 상기 부분(104)의 중간 라인(300)을 정의하는 단계;
    일반적 길이(X)를 가지는 모든 상기 라인들(210) 중에서, 상기 중간 라인(300) 상에 입사하는 상기 라인들(210)의 그것들을 포함하는 서브 세트(213)를 독점적으로 선택하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 방법.
  5. 제4항에 있어서,
    입사 라인들의 상기 서브 세트(213)에 속하지 않는 라인들의 레벨에서 상기 두 개의 광 조사 소스(2,3) 중 하나를 독점적으로 활성화함을 특징으로 하는 방법.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 두 개의 광 조사 소스(2,3)의 상기 활성화 전에:
    입사 라인들의 상기 서브 세트(213)에서, 상기 중첩 영역(101)의 상기 부분(104)의 전체 폭에 걸쳐 확장하는 라인들(210)의 서브 세트(214)를 독점적으로 선택하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 방법.
  7. 제4항에 있어서,
    상기 중첩 영역(101)의 상기 부분(104)의 전체 폭에 걸쳐 확장하는 라인들(210)의 상기 서브 세트(214)에 속하지 않은 라인들의 레벨에서 상기 두 개의 광 조사 소스(2,3) 중 하나가 독점적으로 활성화함을 특징으로 하는 방법.
  8. 제4항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 두 서브 세트(213, 214) 중 하나에 속하는 서로에게 인접한 각 쌍의 라인들(210, 210a, 210b) 에 대하여, 그것을 따라 상기 제1 광 조사 소스(2)가 동작하기에 적합한 상기 라인 쌍(210a, 210b)의 제1 라인(210a)의 제1 섹션(211)과 그것을 따라 상기 제2 광 조사 소스(3)가 동작하기에 적합한 상기 라인 쌍(210a, 210b)의 제2 라인(210b)의 제2 섹션(212) 이 상기 중간 라인(33) 상에 입사하도록 상기 제1 섹션(211)의 상기 길이(X)와 관련된 값을 선택하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 방법.
  9. 스테레오리소그라피 기계(1)에 속하고 스테레오리소그라피를 통한 삼차원 물체(200)를 만들기 위해 상기 스테레오리소그라피 기계(1)의 작업 표면(100) 상에 정의된 중첩 영역(101)의 부분(104) 레벨에서 동작하기에 적합한 두 개의 광 조사 소스(2,3)의 활성화를 제어하기 위한 장치에 있어서,
    장치는:
    프로세싱 유닛과 상기 프로세싱 유닛에 의해 액세스하기에 적합한 메모리 지원을 포함하는 연산기;
    상기 삼차원 물체(200)의 기하학적 형상을 나타내는 제1 데이터 세트를 획득하고 그것을 상기 메모리 지원으로 업로드하기에 적합한 수단;
    복수의 층(201)으로 상기 삼차원 물체(200)를 세분화하는데 적합한 수단;
    상기 작업 표면(100) 상에 상기 층들(201)의 각각의 위치를 정의하는데 적합한 수단;
    상기 중첩 영역(101)의 부분(104) 내에서, 상기 층들(201)의 각각을 정의하는 일반적인 길이(X)를 가진 상기 라인들(210)의 각각을 정의하는데 적합한 수단을 포함하는 형태이며,
    일반적인 길이(L)를 가진 상기 라인들(210)의 각각에 대해, 간격(0≤X≤L) 내에서 상기 제1 섹션(211)의 상기 길이(X)의 값을 정의하는데 적합한 수단;
    일반적인 길이(L)를 가진 상기 라인들(210)의 각각에 대해, 상기 제2 섹션(212)의 길이를 계산하는데 적합한 수단;
    상기 두 개의 광 조사 소스 중 제1 소스(2)는 상기 라인들(210)의 각각의 상기 제1 섹션(211)을 따라서 활성화되고, 및 상기 두 개의 광 조사 소스 중 제2 소스(3)는 상기 나머지 제2 섹션(212)을 따라서 활성화되는 그러한 방법으로 상기 두 개의 광 조사 소스(2,3)의 활성화와 관련된 데이터를 발생하는데 적합한 수단을 포함함을 특징으로 하는 장치.
  10. 제9항에 있어서,
    간격(0≤X≤L) 내에서 난수 발생을 위한 수단인 상기 제1 섹션(211)의 상기 길이(X) 값을 정의하는데 적합한 수단을 포함함을 특징으로 하는 장치.
  11. 프로그램 부분이 제공된 데이터 지원을 포함하는 컴퓨터 프로그램 제품에 있어서,
    프로세싱 유닛 및 상기 프로세싱 유닛에 의해 액세스 가능한 메모리 지원을 포함하는 연산기 상에서 실행될 때, 상기 프로그램 부분은:
    프로세싱 유닛과 상기 프로세싱 유닛에 의해 액세스 가능한 메모리 지원을 포함하는 연산기;
    상기 삼차원 물체(200)의 기하학적 형상을 나타내는 제1 데이터 세트를 획득하고 상기 메모리 지원으로 그것을 업로드하는데 적합한 수단;
    복수의 층(201)으로 상기 삼차원 물체(200)를 세분화하는데 적합한 수단;
    상기 작업 표면(100) 상에 상기 층들(201)의 각각의 위치를 정의하는데 적합한 수단;
    상기 중첩 영역(101)의 상기 부분(104) 내에서, 상기 층들(201)의 각각을 정의하는 일반적인 길이(L)을 가진 상기 라인들(210)의 각각을 식별하는데 적합한 수단을 정의하는 방식으로 구성되며,
    일반적인 길이(L)를 가진 상기 라인들(210)의 각각에 대해, 간격(0≤X≤L) 내에서 상기 제1 섹션(211)의 상기 길이(X)의 값을 정의하는데 적합한 수단;
    일반적인 길이(L)를 가진 상기 라인들(210)의 각각에 대해, 상기 제2 섹션(212)의 길이를 계산하는데 적합한 수단;
    상기 두 개의 광 조사 소스 중 제1 소스(2)는 상기 라인들(210)의 각각의 상기 제1 섹션(211)을 따라서 활성화되고, 및 상기 두 개의 광 조사 소스 중 제2 소스(3)는 상기 나머지 제2 섹션(212)을 따라서 활성화되는 그러한 방식으로 상기 두 개의 광 조사 소스(2,3)의 상기 활성화와 관련된 데이터를 발생하는데 적합한 수단을 포함함을 특징으로 하는 컴퓨터 프로그램 제품.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 제1 섹션(211)의 상기 길이(X)의 상기 값을 정의하는데 적합한 수단은 간격(0≤X≤L) 내에서 난수를 발생하는데 적합한 수단임을 특징으로 하는 컴퓨터 프로그램 제품.
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IL (1) IL250322A0 (ko)
MX (1) MX2017001189A (ko)
RU (1) RU2664144C1 (ko)
SG (1) SG11201700316XA (ko)
TW (1) TW201603992A (ko)
WO (1) WO2016016754A1 (ko)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20180056585A1 (en) * 2015-05-12 2018-03-01 Gizmo 3D Printers Improvements in 3d printing
WO2016179661A1 (en) * 2015-05-12 2016-11-17 Gizmo 3D Printers Improvements in 3d printing
IT201600131252A1 (it) * 2016-12-27 2018-06-27 Dws Srl Metodo di calibrazione e dispositivo di calibrazione ottenibile mediante tale metodo
US10406633B2 (en) 2017-08-15 2019-09-10 General Electric Company Selective modification of build strategy parameter(s) for additive manufacturing
US10471510B2 (en) 2017-08-15 2019-11-12 General Electric Company Selective modification of build strategy parameter(s) for additive manufacturing
US10338569B2 (en) 2017-08-15 2019-07-02 General Electric Company Selective modification of build strategy parameter(s) for additive manufacturing
CN108859126B (zh) * 2017-09-04 2020-04-10 上海联泰科技股份有限公司 三维模型的数据处理方法、3d打印方法及系统
IT201800005478A1 (it) 2018-05-17 2019-11-17 Metodo per formare un primo e un secondo oggetto tridimensionale da un primo e un secondo materiale solidificabile il quale è in grado di solidificarsi sotto l’effetto su di esso di irraggiamento elettromagnetico
EP3610970A1 (en) * 2018-08-13 2020-02-19 Concept Laser GmbH Method for calibrating an apparatus for additively manufacturing three-dimensional objects
JP7159777B2 (ja) * 2018-10-15 2022-10-25 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物の製造方法
US11065820B2 (en) 2019-01-29 2021-07-20 General Electric Company Optimization approach to load balancing and minimization of build time in additive manufacturing
NO20190617A1 (en) * 2019-05-16 2020-11-17 Visitech As System and method for exposing a material with images

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5985204A (en) * 1997-04-25 1999-11-16 Toyota Jidosha Kabushiki Kasiha Method for producing laminated object
JP2000263650A (ja) * 1999-03-16 2000-09-26 Hitachi Ltd 光造形装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6007764A (en) * 1998-03-27 1999-12-28 United Technologies Corporation Absorption tailored laser sintering
US7406153B2 (en) * 2006-08-15 2008-07-29 Jordan Valley Semiconductors Ltd. Control of X-ray beam spot size
US20090199152A1 (en) * 2008-02-06 2009-08-06 Micronic Laser Systems Ab Methods and apparatuses for reducing mura effects in generated patterns
US8082524B2 (en) * 2008-04-15 2011-12-20 Luminescent Technologies, Inc. Mask patterns for use in multiple-exposure lithography
US8048359B2 (en) * 2008-10-20 2011-11-01 3D Systems, Inc. Compensation of actinic radiation intensity profiles for three-dimensional modelers
US8183496B2 (en) * 2008-12-30 2012-05-22 Intel Corporation Method of forming a pattern on a work piece, method of shaping a beam of electromagnetic radiation for use in said method, and aperture for shaping a beam of electromagnetic radiation
JP2012054418A (ja) * 2010-09-01 2012-03-15 Toshiba Corp 光源形状算出方法
FR2984779B1 (fr) 2011-12-23 2015-06-19 Michelin Soc Tech Procede et appareil pour realiser des objets tridimensionnels
FR2993805B1 (fr) * 2012-07-27 2014-09-12 Phenix Systems Dispositif de fabrication d'objets tridimensionnels par couches superposees et procede de fabrication associe

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5985204A (en) * 1997-04-25 1999-11-16 Toyota Jidosha Kabushiki Kasiha Method for producing laminated object
KR100255330B1 (ko) * 1997-04-25 2000-05-01 와다 아끼히로 적층조형방법
JP2000263650A (ja) * 1999-03-16 2000-09-26 Hitachi Ltd 光造形装置

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Publication number Publication date
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