KR20160139032A - 센서 시스템의 제어 방법 - Google Patents

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KR20160139032A
KR20160139032A KR1020167030446A KR20167030446A KR20160139032A KR 20160139032 A KR20160139032 A KR 20160139032A KR 1020167030446 A KR1020167030446 A KR 1020167030446A KR 20167030446 A KR20167030446 A KR 20167030446A KR 20160139032 A KR20160139032 A KR 20160139032A
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KR1020167030446A
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히카루 니시와키
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미쓰비시덴키 가부시키가이샤
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Abstract

실시 형태의 센서 시스템의 제어 방법은, 검출물의 존재에 따라 물리량을 얻는 센서를 복수 개 가지며, 상기 물리량에 게인 파라미터를 곱한 센싱 레벨에 기초하여 상기 검출물의 유무를 판정하는 센서 시스템의 제어 방법으로서, 워크피스가 복수의 상기 센서 중 어느 것의 검지 범위에도 존재하지 않는 경우는, 상기 센싱 레벨이 복수의 상기 센서의 사이에서 평준화되도록 상기 게인 파라미터를 조정한다.

Description

센서 시스템의 제어 방법{SENSOR SYSTEM CONTROL METHOD}
본 발명은 복수의 센서를 가지는 센서 시스템의 제어 방법에 관한 것이다.
종래, 광전 센서 등 각종 센서의 센싱 레벨의 임계치 등 파라미터의 자동조정에 대해서는, 개개의 센서에 대해 행해지고 있었다. 그러나, 생산 현장과 동일하다고 간주할 수 있는 환경, 예를 들면, 생산 설비의 주변, 동일한 라인 위, 공장 내의 한정된 에어리어에 있어서는, 보용품(補用品) 및 사용 방법의 통일이나, 대량 구입에 의한 가격 저하의 코스트 메리트를 고려해서, 같은 제품 형식의 동종 센서를 복수 배치하여 사용하는 것이 일반적이다.
일본국 특개 2004-101446호 공보 일본국 특개 2000-35310호 공보 일본국 특개 2004-320372호 공보
동일하다고 간주할 수 있는 환경에서 동종의 센서를 복수 사용한 상황하에 있어서, 개개의 센서에 대해 파라미터의 자동 조정을 행한 경우, 파라미터 조정이 발생한 요인이나 타이밍 등에 대해서 센서 네트워크를 포함한 시스템 상에 피드백이 되지 않는다. 그 때문에, 어느 센서에 대해서 파라미터의 조정이 되어도, 다른 센서에 대해서는 그 파라미터의 조정 내용을 반영할 수 없어서, 비효율적인 부분이 생긴다. 또한, 파라미터 조정의 이력이 남지 않기 때문에, 생산 설비나 주변 환경에 생긴 문제에 대해서, 원인구명이나 분석에 활용 할 수 없었다.
본 발명은, 상기를 감안하여 이루어진 것으로서, 이물의 검지 등에 의한 생산 설비의 빈번한 정지를 방지하고, 생산 설비의 가동률 향상과 보전 공정 수의 삭감에 기여하는 것이 가능한 센서 시스템의 제어 방법을 얻는 것을 목적으로 한다.
상술한 과제를 해결하여 목적을 달성하기 위해서, 본 발명은 검출물의 존재에 따라 물리량을 얻는 센서를 복수 개 가지며, 상기 물리량에 게인 파라미터를 곱한 센싱 레벨에 기초하여 상기 검출물의 유무를 판정하는 센서 시스템의 제어 방법으로서, 워크피스가 복수의 상기 센서 중 어느 것의 검지 범위에도 존재하지 않는 경우는, 상기 센싱 레벨이 복수의 상기 센서의 사이에서 평준화되도록 상기 게인 파라미터를 조정하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 센서 시스템의 제어 방법에 의하면, 이물의 검지 등에 의한 생산 설비의 빈번한 정지를 방지하여, 생산 설비의 가동률 향상과 보전 공정 수의 삭감에 기여하는 것이 가능해진다고 하는 효과를 달성한다.
도 1은 본 발명의 실시 형태 1에 따른 센서 시스템의 구성을 나타내는 도이다.
도 2는 본 발명의 실시 형태 1에 따른 표시 수단의 표시 화면 상태의 일례를 나타내는 도이다.
도 3은 본 발명의 실시 형태 2에 따른 센서 시스템의 구성을 나타내는 도이다.
이하에, 본 발명에 따른 센서 시스템의 제어 방법의 실시 형태를 도면에 기초하여 상세하게 설명한다. 또한, 본 실시 형태에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니다.
실시 형태 1
도 1은 본 발명의 실시 형태 1에 따른 센서 시스템(100)의 구성을 나타내는 도이다. 센서 시스템(100)은 예를 들면 파이버 센서 등의 복수의 광전 센서(31~34)로 이루어지는 센서 네트워크 및 제어장치(1)를 구비한다. 센서 시스템(100)은 추가로 제어장치(1)에 접속된 모니터 등의 표시 수단(2)을 구비한다. 제어장치(1)는 PLC 등의 제어 기기이다. 광전 센서(31~34)는, 각각이, 투광부와 수광부를 구비한다. 즉, 광전 센서(31)는 투광부(11)와 수광부(21)를 구비하고, 광전 센서(32)는 투광부(12)와 수광부(22)를 구비하며, 광전 센서(33)는 투광부(13)와 수광부(23)를 구비하고, 광전 센서(34)는 투광부(14)와 수광부(24)를 구비한다.
센서 시스템(100)은 예를 들면 생산 라인(50)에 적용된다. 구체적으로는, 생산 라인(50) 상에 센서 시스템(100)의 검출 대상인 워크피스(51, 52)(workpiece)가 이동하여, 광전 센서(31~34)에 의해 검지 되게 되어 있다. 생산 라인(50)도 제어장치(1)에 의해 제어된다. 센서 시스템(100)은, 생산 라인(50) 상에 이동하는 워크피스(51, 52)의 위치와 개수를, 복수의 광전 센서(31~34)에 의해 감시한다.
제어장치(1)는, 광전 센서(31~34)의 각각에 대해서, 투광부(11~14)와 수광부(21~24)의 사이에 검출물이 없고, 수광부(21~24) 각각에 있어서의 물리량인 수광량에 대응한 센싱 레벨이 미리 정한 임계치 이상인 경우는, ON, 즉 수광 상태로 되어 있다고 판단한다. 센싱 레벨은 센서의 검출 대상을 상대적으로 나타낸 수치이다. 광전 센서(31~34)의 검출 대상은 광이며, 후술하는 근접 센서의 검출 대상은 자기 또는 임피던스이다. 센싱 레벨은 수광 상태인 ON의 임계치 및 비(非)수광 상태인 OFF의 임계치에 대해서, 충분히 마진을 갖게 한 값을 각각 100 및 0으로 정의한다. 센서마다의 센싱 레벨은 제어장치(1)에 있어서 예를 들면 광전 센서(31~34)의 수광량 각각에 광전 센서(31~34)마다 주어진 게인 파라미터를 곱하는 것에 의해 얻을 수 있다. 게인 파라미터는 센서의 이득의 증폭률을 설정하는 파라미터이다. 광전 센서(31~34)를 예로 하면, 증폭률을 크게 설정함으로써, 적은 수광량이어도 센싱 레벨을 100으로서 검지할 수 있다. 예를 들면, 투광부(11~14) 각각으로부터 발한 광의 광량 중 수광부(21~24) 각각이 통상이라면 수광할 수 있는 최대량의 광량이 수광부(21~24)에서 수광되고 있을 때는, 광전 센서(31~34)는 ON, 즉 수광 상태라고 제어장치(1)는 판단하고, 투광부(11~14)와 수광부(21~24)의 사이에 검출물이 없다고 판단한다.
한편, 투광부(11~14) 각각으로부터 발한 광이 워크피스(51, 52)에 의해서 차단되어, 수광부(21~24) 각각에 있어서의 수광량에 대응한 센싱 레벨이 미리 정한 임계치를 하회(下回)하고 있을 때는, 광전 센서(31~34)의 해당 광전 센서는 OFF, 즉 비수광 상태라고 제어장치(1)는 판단하고, 해당 광전 센서의 투광부와 수광부의 사이에 워크피스(51, 52)가 존재하는 것을 검지한다. 도 1에서는 광전 센서(32, 34)의 투광부(12, 14)와 수광부(22, 24)의 사이에 워크피스(51, 52)가 존재하는 모습이 나타나 있다. 도 2는 표시 수단(2)의 표시 화면 모습의 일례를 나타내고 있다. 각 광전 센서마다 센싱 레벨과 임계치의 관계, 및 후술하는 게인 파라미터를 포함한 파라미터 설정치의 일람이 나타나 있다.
그러나, 광전 센서(33)와 같이 투광부(13)와 수광부(23)의 사이에, 예를 들면 신호인 광을 감쇠시키는 현상 등, 물리량인 수광량을 저하시키는 사상(事象)이 발생한 경우는, 워크피스(51, 52)의 존재와는 관계없이 센싱 레벨의 저하가 발생한다. 물리량인 수광량을 저하시키는 사상이란, 예를 들면, 공기 중의 먼지, 수증기 등의 이물이 투광부(13)와 수광부(23)의 사이에 생긴 경우, 투광부(13) 혹은 수광부(23)의 렌즈가 더러워진 경우, 투광부(13)로부터 수광부(23)로 방출되는 광의 광 축이 어긋난 경우 등이 고려될 수 있다.
이러한 경우, 투광부(13)와 수광부(23)의 사이에 워크피스(51, 52)가 존재하지 않아도, 센싱 레벨이 미리 정한 임계치의 값을 하회한 경우에는, 제어장치(1)는 광전 센서(33)를 OFF, 즉 비수광 상태로 판정해 버린다. 제어장치(1)에 의해 광전 센서(33)가 OFF, 즉 비수광 상태로 판정되면, 제어장치(1)가 행하는 프로그램에 기초한 동작 시퀀스 상에서 이상으로 판단되게 된다. 즉, PLC 등의 제어 기기가 실행하는 프로그램상, 이 타이밍에서는 존재하지 않는 개소에 워크피스가 존재한다고 판정되기 때문에 이상이 발생했다고 판단되어, 생산 라인(50)의 정지가 발생해 생산 활동이 막히게 된다. 센싱 레벨을 저하시키는 사상이 계속된 경우는, 생산 라인(50)의 빈번한 정지로 이어진다.
여기서, 본 실시 형태에 따른 센서 시스템의 제어 방법에 있어서는, 광전 센서(31~34) 각각의 센싱 레벨의 값을 제어장치(1)가 상시 수집하여, 그 정보를 바탕으로 광전 센서(31~34) 각각의 게인 파라미터를 상시, 자동조정 한다. 구체적으로는, 투광부(11~14)와 수광부(21~24)의 사이에 검출물이 존재하지 않는 경우에 있어서, 수광부(21~24) 각각에 있어서의 수광량에 대응하는 센싱 레벨이 거의 같은 값이 되도록, 투광부(11~14)로부터 발하는 광의 광량, 혹은 수광부(21~24)에 있어서 수광한 광량으로부터 센싱 레벨로 변환할 때의 게인을 조절한다. 즉, 광전 센서(31~34)의 검지 범위에 검출물이 존재하지 않는 경우는, 광전 센서(31~34)의 센싱 레벨이 균일화되도록 각 광전 센서(31~34)에서 검출물의 존재에 따라 얻어지는 물리량으로부터 센싱 레벨로의 변환을 조절한다. 즉, 각 광전 센서(31~34) 사이에서 센싱 레벨이 평준화되도록 게인 파라미터를 조절한다. 여기서, 광전 센서(31~34)의 게인 파라미터는 수광부(21~24)에서의 상기 게인 등이다.
또한, 각 광전 센서(31~34)에 있어서의 물리량인 수광량을 투광부(11~14)로부터 발하는 광의 광량을 조절함으로써 변화시킬 수 있다. 따라서, 광전 센서(31~34)의 검지 범위에 검출물이 존재하지 않는 경우에 있어서, 광전 센서(31~34)의 센싱 레벨이 균일화되도록, 각 광전 센서(31~34)의 물리적인 파라미터인 투광부(11~14)로부터 발하는 광의 광량을 조절하는 것도 가능하다. 이 경우는, 이하의 설명에 있어서, 게인 파라미터 대신에 투광부(11~14)로부터 발하는 광의 광량을 조절한다.
구체적으로 게인 파라미터를 조정하는 방식은, 예를 들면, 투광부(11~14)와 수광부(21~24)의 사이에 검출물이 존재하지 않는 경우에 있어서, 광전 센서(31~34)의 센싱 레벨이 90, 100, 70, 100(단위는, % 혹은 임의 단위)이었을 경우는, 제어장치(1)는, 광전 센서(31)의 게인 파라미터를 수광부(21)의 센싱 레벨이 100, 즉, 100/90배가 되도록 조정하고, 광전 센서(33)의 게인 파라미터를 수광부(23)의 센싱 레벨이 100, 즉, 100/70배가 되도록 조정한다. 이 경우, 상기한 미리 정한 임계치는 예를 들면 50이다. 즉, 센싱 레벨이 50 이상의 경우는, 제어장치(1)는 해당 광전 센서는 ON, 즉 수광 상태로 되어 있다고 판단하고, 센싱 레벨이 50 미만의 경우는, 제어장치(1)는 해당 광전 센서는 OFF, 즉 비수광 상태로 되어 있다고 판단한다.
또한, 예를 들어, 생산 라인(50) 상에서 제어장치(1)의 동작 시퀀스에 대해서는, 배타적 논리로 동작하는 경우가 있다. 배타적 논리로 동작한다는 것은, 복수의 공정, 예로써, A 공정, B 공정, …이 있고, 각 공정에 있어서 워크피스가 각각 1개씩 존재하는 경우는, 각 공정 사이의 컨베이어 상 등에는 워크피스가 존재하지 않게 동작하는 것이다.
구체적으로는, 광전 센서(31)는 컨베이어 상의 물체를 검출하도록 설치되고, 광전 센서(32)는 A 공정에 있는 워크피스(51)를 검출하도록 설치되며, 광전 센서(33)는 컨베이어 상의 물체를 검출하도록 설치되고, 광전 센서(34)는 B 공정에 있는 워크피스(52)를 검출하도록 설치되어 있다. 이 경우, 광전 센서(32 및 34)가 워크피스(51 및 52)를 검출하고 있을 때에는, 광전 센서(31 및 33)는 아무것도 검출하지 않을 것이라고 하는 배타성이 성립하고 있다. 따라서, 광전 센서(32 및 34)가 워크피스(51 및 52)를 검출하고 있을 때 광전 센서(33)의 센싱 레벨이 100 미만인 경우는, 100이 되도록 제어장치(1)가 상기 게인 파라미터를 조정한다.
또한, 조정의 대상이 되는 복수의 광전 센서가 담당하는 범위에 워크피스가 1개 밖에 존재하지 않는 것이 분명한 경우로서, 어느 타이밍에 그 워크피스가 어느 광전 센서에서 검출되는 위치에 존재하는지를 알고 있는 경우는, 센싱 레벨이 가장 작은 광전 센서만이 OFF, 즉 비수광 상태로, 조정의 대상이 되는 다른 광전 센서는 ON, 즉 수광 상태로 판단한다. 이 경우 ON 이어야 할 광전 센서의 센싱 레벨이 100 미만인 경우는, 100이 되도록 제어장치(1)가 상기 게인 파라미터를 조정한다.
또한, 제어장치(1)가 행하는 동작 시퀀스를 기술한 프로그램 등에 기초하여, 조정의 대상이 되는 복수의 광전 센서가 담당하는 범위에 존재하는 워크피스의 개수가 분명한 경우도 있다. 이 경우에, 어느 타이밍에 그들 워크피스가 모두 어느 광전 센서에서 검출되는 위치에 존재하는지를 알고 있을 때는, 센싱 레벨이 작은 쪽부터 차례로 광전 센서들만이 OFF, 즉 비수광 상태로, 조정의 대상이 되는 다른 광전 센서는 ON, 즉 수광 상태로 판단한다. 이 경우 ON 이어야 할 광전 센서의 센싱 레벨이 100 이하인 경우는, 100이 되도록 제어장치(1)가 상기 게인 파라미터를 조정한다.
즉, 복수의 광전 센서의 센싱 레벨을 큰 값 쪽부터 차례로 나열하고, 광전 센서의 수에서 존재하는 것이 판명되고 있는 워크피스의 수를 뺀 수만큼 선택하고, 선택된 광전 센서만을 조정의 대상으로 한다.
또한, 상기에서는, 워크피스의 존재와 무관한 센싱 레벨의 저하에 대해서 게인 파라미터를 조정한다고 했지만, 센싱 레벨에 대해서 설정한 미리 정한 임계치를 조정하는 것에 의해서도 실질적으로 동일한 효과를 얻는 것이 가능하다. 구체적으로는, 예로써 광전 센서(31)를 예로 들면, 투광부(11)와 수광부(21)의 사이에 검출물이 존재하지 않는 경우에 있어서, 광전 센서(31)의 센싱 레벨이 90(단위는, % 혹은 임의 단위)이었을 경우는, 제어장치(1)는 광전 센서(31)의 임계치를 90/100배가 되도록 조정하면 된다. 즉, 검출물이 존재하지 않는 경우의 센싱 레벨과 임계치의 비가 각 센서 간에 거의 같은 값이 되어 균일화되도록 임계치를 조정한다.
그러나, 상술한 바와 같이, 공기 중의 먼지 등의 주변 환경에 따라 센서의 게인 파라미터 혹은 임계치 등의 각종 파라미터를 변경하고, 또한 그 상태를 계속했을 경우, 워크피스의 위치·개수 검출, 이물의 검출이라고 하는 센서 본래의 기능을 완수할 수 없게 될 우려도 있다. 따라서, 그 때문에 게인 파라미터, 물리적인 파라미터, 혹은 임계치 등의 조정치에 상한치 및 하한치를 마련하여 조정 범위를 정하고, 그것을 초과한 변동이 생긴 경우에 제어장치(1)는 이상이 발생했다고 판단하고, 표시 수단(2)을 통해서 사용자에 대해 이상의 발생을 통지한다. 또한, 상한치 및 하한치를 초과한 횟수가 미리 정한 시간 내에 미리 정한 횟수 이상 발생한 경우, 혹은 상한치 및 하한치를 초과하고 있는 시간이 미리 정한 시간을 초과한 경우에 이상이 발생했다고 판단하도록 해도 된다.
또한, 제어장치(1)는 게인 파라미터 혹은 임계치의 조정치의 로그(log)를 수집한다. 로그를 수집함으로써, 게인 파라미터 혹은 임계치의 변동에 시간적인 주기성 등의 일정한 패턴이 보여진 경우에도 이상이 발생하고 있다고 판단하도록 해도 된다. 또한, 제어장치(1)의 동작 시퀀스 상의 미리 정한 타이밍에 상당하는 시각에 게인 파라미터 혹은 임계치의 변동이 발생하고 있는 경우에도 이상이 발생하고 있다고 판단하도록 해도 된다. 예를 들면, 제어장치(1) 혹은 생산 라인(50) 등이 설치된 사용 환경에 있어서, 전기적 노이즈가 제어장치(1) 혹은 생산 라인(50)에 줄수 있는 영향을 사용자가 인식하여, 노이즈 원(noise source)의 제거나 제어장치(1) 혹은 생산 라인(50)의 설치 개소의 변경 등을 적정하게 행하는 것이 가능하게 된다. 이와 같이 게인 파라미터 혹은 임계치의 조정치의 로그를 이용하여, 생산 설비의 이상 원인의 해명이나 메인터넌스 시기의 예측을 하는 것이 가능하게 된다.
센서 시스템을 구비한 생산 설비의 이상을 예방하고 보전하기 위한 메인터넌스(maintenance)는, 그 실시 빈도를 높게 할수록 효과가 커진다. 그러나, 메인터넌스를 행하게 된 경우는, 작업 공정 수가 증대하거나, 설비의 정지에 의해 생산 효율이 저하하거나 하는 등의 문제가 발생한다. 본 실시 형태에 따른 센서 시스템의 제어 방법에 의하면, 센서 및 센서 네트워크를 포함하는 제어 기기의 사용시에, 동일 시스템에서 사용되고 있는 동종의 센서의 센싱 레벨의 값을 상시 모니터하고, 게인 파라미터, 물리적인 파라미터, 혹은 임계치 등의 파라미터에 피드백함으로써 환경에 따라 포괄적으로 자동조정 한다. 이에 따라, 메인터넌스의 빈도를 최적화하는 것이 가능하게 되어, 생산 설비의 빈번한 정지를 방지하고, 보전 작업의 효율화를 실현하여 생산 설비의 가동률 향상을 실현하는 것이 가능하게 된다.
그리고, 본 실시 형태에 따른 센서 시스템의 제어 방법에 의하면, 게인 파라미터 혹은 임계치의 조정치에 이상이 발생한 경우에 유저에게 알림을 행한다. 또한 조정치의 로그를 수집하고 파라미터 조정의 이력을 남김으로써, 설비에 이상이 발생했을 때의 원인구명이나 보전작업의 효율화에 활용하는 것이 가능해진다.
실시 형태 2
도 3은 본 발명의 실시 형태 2에 따른 센서 시스템(200)의 구성을 나타내는 도이다. 센서 시스템(200)은 복수의 센서(41~47)로 이루어진 센서 네트워크 및 제어장치(1)를 구비한다. 실시 형태 1에 있어서는, 센서 네트워크를 구성하는 센서가 광전 센서라고 하여 설명했지만, 검출물의 존재에 따라 물리량을 얻는 센서이면 이것으로 한정되지 않는다.
예를 들면, 복수의 센서(41~47)는 각각이 근접 센서이어도 된다. 근접 센서는 동작시에는 항상 발진하고 있고, 검출물이 근접하면 물리량인 에너지 게인이 저하함으로써 물체를 검지한다. 근접 센서는 발진 주파수에 의해 검출물에 반응하는 반응 거리가 변화한다. 따라서, 발진 회로의 코일의 인덕턴스(L)나 커패시터의 용량(C)을 조정함으로써 발진 주파수가 변화하고, 그것에 따라 반응 거리가 변화한다.
근접 센서를 이용한 경우는, 예를 들면, 에너지 게인에 게인 파라미터를 곱한 값이 센싱 레벨이 된다. 또한, 각 근접 센서에 있어서, 발진 회로의 물리적인 파라미터인 코일의 인덕턴스(L)나 커패시터의 용량(C)을 조정함으로써 물리량인 에너지 게인을 변화시키는 것이 가능하다. 따라서, 실시 형태 1과 같은 센서 시스템의 제어가 복수의 근접 센서로 이루어진 센서 네트워크에 대해서도 실현 가능하다.
또한, 본원발명은 상기 실시 형태로 한정되는 것은 아니며, 실시 단계에서는 그 요지를 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 변형하는 것이 가능하다. 또한, 상기 실시 형태에는 다양한 단계의 발명이 포함되어 있고, 개시되는 복수의 구성 요건에 있어서의 적당한 조합에 의해 다양한 발명이 추출될 수 있다. 예를 들면, 실시 형태에 나타나는 전 구성 요건으로부터 몇 개의 구성 요건이 삭제되어도, 발명이 해결하고자 하는 과제 난에서 기술한 과제가 해결 가능하고, 발명의 효과 난에서 기술되어 있는 효과를 얻을 수 있는 경우에는, 이 구성 요건이 삭제된 구성이 발명으로서 추출될 수 있다. 또한, 다른 실시 형태에 따른 구성 요소를 적절히 조합해도 된다.
산업상의 이용 가능성
이상과 같이, 본 발명에 따른 센서 시스템의 제어 방법은, 센서 시스템을 구비한 생산 설비에 유용하고, 특히, 워크피스가 이동하는 생산 라인에 설치된 동종의 센서로 이루어진 센서 네트워크를 가지는 센서 시스템의 제어에 적합하다.
1: 제어장치 2: 표시 수단
11 ~ 14: 투광부 21 ~ 24: 수광부
31 ~ 34: 광전 센서 50: 생산 라인
51, 52: 워크피스 41 ~ 47: 센서
100, 200: 센서 시스템

Claims (8)

  1. 검출물의 존재에 따라 물리량을 얻는 센서를 복수 개 가지며, 상기 물리량에 게인 파라미터를 곱한 센싱 레벨에 기초하여 상기 검출물의 유무를 판정하는 센서 시스템의 제어 방법으로서,
    워크피스가 복수의 상기 센서 중 어느 것의 검지 범위에도 존재하지 않는 경우는, 상기 센싱 레벨이 복수의 상기 센서의 사이에서 평준화되도록 상기 게인 파라미터를 조정하는 것을 특징으로 하는 센서 시스템의 제어 방법.
  2. 검출물의 존재에 따라 물리적인 파라미터에 기초하여 물리량을 얻는 센서를 복수 개 가지며, 상기 물리량을 변환한 센싱 레벨에 기초하여 상기 검출물의 유무를 판정하는 센서 시스템의 제어 방법으로서,
    워크피스가 복수의 상기 센서 중 어느 것의 검지 범위에도 존재하지 않는 경우는, 상기 물리량이 복수의 상기 센서의 사이에서 평준화되도록 상기 물리적인 파라미터를 조정하는 것을 특징으로 하는 센서 시스템의 제어 방법.
  3. 검출물의 존재에 따라 물리량을 얻는 센서를 복수 개 가지며, 상기 물리량을 변환한 센싱 레벨과 상기 센서 마다의 임계치의 비교에 기초하여 상기 검출물의 유무를 판정하는 센서 시스템의 제어 방법으로서,
    워크피스가 복수의 상기 센서 중 어느 것의 검지 범위에도 존재하지 않는 경우는, 상기 센싱 레벨과 상기 임계치의 비가 복수의 상기 센서의 사이에서 평준화되도록 상기 임계치를 조정하는 것을 특징으로 하는 센서 시스템의 제어 방법.
  4. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 센서 마다의 상기 센싱 레벨의 값이 큰 쪽부터, 상기 센서의 수에서 복수의 상기 센서의 검지 범위에 존재하는 상기 워크피스의 수를 뺀 값의 수의 상기 센서를 조정 대상으로 하는 것을 특징으로 하는 센서 시스템의 제어 방법.
  5. 청구항 1에 있어서,
    조정 후의 상기 게인 파라미터가 조정 범위를 초과한 경우는, 사용자에게 이상의 발생을 통지하는 것을 특징으로 하는 센서 시스템의 제어 방법.
  6. 청구항 2에 있어서,
    조정 후의 상기 물리적인 파라미터가 조정 범위를 초과한 경우는, 사용자에게 이상의 발생을 통지하는 것을 특징으로 하는 센서 시스템의 제어 방법.
  7. 청구항 3에 있어서,
    조정 후의 상기 임계치가 조정 범위를 초과한 경우는, 사용자에게 이상의 발생을 통지하는 것을 특징으로 하는 센서 시스템의 제어 방법.
  8. 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 조정의 결과를 기록하고, 상기 기록에 기초하여, 사용자에게 이상의 발생을 통지하는 것을 특징으로 하는 센서 시스템의 제어 방법.
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