JPWO2015186259A1 - センサシステムの制御方法 - Google Patents

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Abstract

実施の形態のセンサシステムの制御方法は、検出物の存在に応じて物理量を得るセンサを複数個有し、前記物理量にゲインパラメータを乗じたセンシングレベルに基づいて前記検出物の有無を判定するセンサシステムの制御方法であって、ワークが複数の前記センサのいずれの検知範囲にも存在しない場合は、前記センシングレベルが複数の前記センサの間で平準化するように前記ゲインパラメータを調整する。

Description

本発明は、複数のセンサを有するセンサシステムの制御方法に関する。
従来、光電センサなど各種センサのセンシングレベルの閾値等のパラメータの自動調整については、個々のセンサにおいて行われていた。しかし、生産現場の同一とみなせる環境、例えば、生産設備の周辺、同一のライン上、工場内の限定されたエリアにおいては、補用品および使用方法の統一や、大量購入による価格低下のコストメリットを考慮して、同じ製品型式の同種のセンサを複数配置して使用することが一般的である。
特開2004−101446号公報 特開2000−35310号公報 特開2004−320372号公報
同一とみなせる環境で同種のセンサを複数使用した状況下において、個々のセンサについてパラメータの自動調整を行った場合、パラメータ調整が発生した要因やタイミングなどについてセンサネットワークを含んだシステム上にフィードバックがされない。そのため、あるセンサに対してパラメータの調整がされても、他のセンサに対してはそのパラメータの調整内容を反映できず、非効率な部分が生じる。また、パラメータ調整の履歴が残らないため、生産設備や周辺環境に生じた問題について、原因究明や分析に役立てることができなかった。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、異物の検知等による生産設備の頻繁な停止を防止し、生産設備の稼働率向上と保全工数の削減に寄与することが可能なセンサシステムの制御方法を得ることを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、検出物の存在に応じて物理量を得るセンサを複数個有し、前記物理量にゲインパラメータを乗じたセンシングレベルに基づいて前記検出物の有無を判定するセンサシステムの制御方法であって、ワークが複数の前記センサのいずれの検知範囲にも存在しない場合は、前記センシングレベルが複数の前記センサの間で平準化するように前記ゲインパラメータを調整することを特徴とする。
本発明にかかるセンサシステムの制御方法によれば、異物の検知等による生産設備の頻繁な停止を防止し、生産設備の稼働率向上と保全工数の削減に寄与することが可能となるという効果を奏する。
図1は、本発明の実施の形態1に係るセンサシステムの構成を示す図である。 図2は、本発明の実施の形態1に係る表示手段の表示画面の様子の一例を示す図である。 図3は、本発明の実施の形態2に係るセンサシステムの構成を示す図である。
以下に、本発明にかかるセンサシステムの制御方法の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。
実施の形態1.
図1は、本発明の実施の形態1に係るセンサシステム100の構成を示す図である。センサシステム100は、例えばファイバセンサなどの複数の光電センサ31〜34からなるセンサネットワークおよび制御装置1を備える。センサシステム100はさらに制御装置1に接続されたモニタなどの表示手段2を備える。制御装置1は、PLC等の制御機器である。光電センサ31〜34は、それぞれが、投光部と受光部を備える。即ち、光電センサ31は投光部11と受光部21を備え、光電センサ32は投光部12と受光部22を備え、光電センサ33は投光部13と受光部23を備え、光電センサ34は投光部14と受光部24を備える。
センサシステム100は、例えば生産ライン50に適用される。具体的には、生産ライン50上にセンサシステム100の検出対象であるワーク51,52が流れ、光電センサ31〜34によって検知されるようになっている。生産ライン50も制御装置1によって制御される。センサシステム100は、生産ライン50上に流れるワーク51,52の位置と個数を、複数の光電センサ31〜34によって監視する。
制御装置1は、光電センサ31〜34のそれぞれについて、投光部11〜14と受光部21〜24との間に検出物が無く、受光部21〜24それぞれにおける物理量である受光量に対応したセンシングレベルが予め定めた閾値以上の場合は、ON、即ち受光状態になっていると判断する。センシングレベルは、センサの検出対象を相対的に表した数値である。光電センサ31〜34の検出対象は光であり、後述する近接センサの検出対象は磁気またはインピーダンスである。センシングレベルは、受光状態であるONの閾値および非受光状態であるOFFの閾値に対して、充分にマージンを持たせた値をそれぞれ100および0と定義する。センサごとのセンシングレベルは、制御装置1において例えば光電センサ31〜34の受光量それぞれに光電センサ31〜34ごとに与えられたゲインパラメータを乗じることにより得られる。ゲインパラメータは、センサの利得の増幅率を設定するパラメータである。光電センサ31〜34を例にすれば、増幅率を大きく設定することで、少ない受光量でもセンシングレベルを100として検知することができる。例えば、投光部11〜14それぞれから発した光の光量のうち受光部21〜24それぞれが通常ならば受光し得る最大量の光量が受光部21〜24で受光されているときは、光電センサ31〜34はON、即ち受光状態であると制御装置1は判断し、投光部11〜14と受光部21〜24との間に検出物が無いと判断する。
一方、投光部11〜14それぞれから発した光がワーク51,52によって遮られ、受光部21〜24それぞれにおける受光量に対応したセンシングレベルが予め定めた閾値を下回っているときは、光電センサ31〜34の当該光電センサはOFF、即ち非受光状態であると制御装置1は判断し、当該光電センサの投光部と受光部との間にワーク51,52が存在することを検知する。図1では、光電センサ32,34の投光部12,14と受光部22,24との間にワーク51,52が存在する様子が示されている。図2は、表示手段2の表示画面の様子の一例を示している。各光電センサごとにセンシングレベルと閾値の関係、および後述するゲインパラメータを含んだパラメータ設定値の一覧が示されている。
しかし、光電センサ33のように投光部13と受光部23との間に、例えば信号である光を減衰させる現象など、物理量である受光量を低下させるような事象が発生した場合は、ワーク51,52の存在とは関係なくセンシングレベルの低下が発生する。物理量である受光量を低下させるような事象とは、例えば、空気中のほこり、水蒸気などの異物が投光部13と受光部23との間に生じた場合、投光部13或いは受光部23のレンズが汚れた場合、投光部13から受光部23に発せられる光の光軸がずれた場合などが考えられる。
このような場合、投光部13と受光部23との間にワーク51,52が存在しなくても、センシングレベルが予め定めた閾値の値を下回った場合には制御装置1は光電センサ33をOFF、即ち非受光状態と判定してしまう。制御装置1により光電センサ33がOFF、即ち非受光状態と判定されると、制御装置1が行うプログラムに基づいた動作シーケンスの上で異常と判断されることになる。すなわち、PLC等の制御機器が実行するプログラム上、このタイミングでは存在しない箇所にワークが存在すると判定されるので異常が発生したと判断され、生産ライン50の停止が発生し生産活動が滞ることになる。センシングレベルを低下させるような事象が継続した場合は、生産ライン50の頻繁な停止につながる。
そこで、本実施の形態にかかるセンサシステムの制御方法においては、光電センサ31〜34それぞれのセンシングレベルの値を制御装置1が常時収集し、その情報を元に光電センサ31〜34それぞれのゲインパラメータを常時、自動調整する。具体的には、投光部11〜14と受光部21〜24との間に検出物が存在しない場合において、受光部21〜24それぞれにおける受光量に対応するセンシングレベルがほぼ同じ値となるように、投光部11〜14から発する光の光量、或いは受光部21〜24において受光した光量からセンシングレベルへ変換するときのゲインを調節する。即ち、光電センサ31〜34の検知範囲に検出物が存在しない場合は、光電センサ31〜34のセンシングレベルが均一化するように各光電センサ31〜34で検出物の存在に応じて得られる物理量からセンシングレベルへの変換を調節する。即ち、各光電センサ31〜34間でセンシングレベルが平準化されるようにゲインパラメータを調節する。ここで、光電センサ31〜34のゲインパラメータは、受光部21〜24での上記ゲインなどである。
また、各光電センサ31〜34における物理量である受光量を投光部11〜14から発する光の光量を調節することにより変化させることが出来る。従って、光電センサ31〜34の検知範囲に検出物が存在しない場合において、光電センサ31〜34のセンシングレベルが均一化するように、各光電センサ31〜34の物理的なパラメータである投光部11〜14から発する光の光量を調節することも可能である。この場合は、以下の説明においてゲインパラメータの代わりに投光部11〜14から発する光の光量を調節する。
具体的にはゲインパラメータを調整するやり方は、例えば、投光部11〜14と受光部21〜24との間に検出物が存在しない場合において、光電センサ31〜34のセンシングレベルが90、100、70、100(単位は、%或いは任意単位)であった場合は、制御装置1は、光電センサ31のゲインパラメータを受光部21のセンシングレベルが100、即ち、100/90倍となるように調整し、光電センサ33のゲインパラメータを受光部23のセンシングレベルが100、即ち、100/70倍となるように調整する。この場合、上記した予め定めた閾値は例えば50である。即ち、センシングレベルが50以上の場合は、制御装置1は当該光電センサはON、即ち受光状態になっていると判断し、センシングレベルが50未満の場合は、制御装置1は当該光電センサはOFF、即ち非受光状態になっていると判断する。
また、例えば、生産ライン50上において制御装置1の動作シーケンスにおいては、排他的論理で動作する場合がある。排他的論理で動作するとは、複数の工程、例えば、A工程、B工程、…があって、各工程においてワークがそれぞれ1つずつ存在する場合は、各工程の間のコンベア上などにはワークは存在しないように動作することである。
具体的には、光電センサ31はコンベア上の物体を検出するように設置され、光電センサ32はA工程にあるワーク51を検出するように設置され、光電センサ33はコンベア上の物体を検出するように設置され、光電センサ34はB工程にあるワーク52を検出するように設置されている。この場合、光電センサ32及び34がワーク51及び52を検出しているときには、光電センサ31及び33は何も検出しないはずであるという排他性が成立している。従って、光電センサ32及び34がワーク51及び52を検出しているときに光電センサ33のセンシングレベルが100未満である場合は、100となるように制御装置1が上記ゲインパラメータを調整する。
また、調整の対象となる複数の光電センサが担当する範囲にワークが1つしか存在しないことが明らかな場合であって、あるタイミングでそのワークがいずれかの光電センサで検出される位置に存在することが分かっている場合は、センシングレベルが最も小さい光電センサのみがOFF、即ち非受光状態で、調整の対象となる他の光電センサはON、即ち受光状態であると判断する。この場合ONであるはずの光電センサのセンシングレベルが100未満である場合は、100となるように制御装置1が上記ゲインパラメータを調整する。
また、制御装置1が行う動作シーケンスを記述したプログラムなどに基づいて、調整の対象となる複数の光電センサが担当する範囲に存在するワークの個数が明らかな場合もある。この場合に、あるタイミングでそれらのワークが全ていずれかの光電センサで検出される位置に存在することが分かっているときは、センシングレベルが小さい方から順に光電センサのみがOFF、即ち非受光状態で、調整の対象となる他の光電センサはON、即ち受光状態であると判断する。この場合ONであるはずの光電センサのセンシングレベルが100以下である場合は、100となるように制御装置1が上記ゲインパラメータを調整する。
すなわち、複数の光電センサのセンシングレベルを大きい値の方から順に並べて、光電センサの数から存在することが判明しているワークの数を引いた数だけ選択し、選択された光電センサのみを調整の対象とする。
また、上記では、ワークの存在と無関係なセンシングレベルの低下に対してゲインパラメータを調整するとしたが、センシングレベルに対して設定した予め定めた閾値を調整することによっても実質的に同様な効果を得ることが可能である。具体的には、例えば光電センサ31を例にとれば、投光部11と受光部21との間に検出物が存在しない場合において、光電センサ31のセンシングレベルが90(単位は、%或いは任意単位)であった場合は、制御装置1は、光電センサ31の閾値を90/100倍となるように調整すればよい。即ち、検出物が存在しない場合のセンシングレベルと閾値の比が各センサ間でほぼ同じ値となって均一化するように閾値を調整する。
しかし、上述したように、空気中のほこりなどの周辺環境に応じてセンサのゲインパラメータ或いは閾値などの各種パラメータを変更し、且つその状態を継続しつづけた場合、ワークの位置・個数検出、異物の検出といったセンサ本来の機能が果たせなくなるおそれもある。従って、そのためゲインパラメータ、物理的なパラメータ、或いは閾値などの調整値に上限値及び下限値を設けて調整範囲を定め、それを超えた変動が生じた場合には制御装置1は異常が発生したと判断し、表示手段2を介して使用者に対して異常の発生を通知する。また、上限値及び下限値を超えた回数が予め定めた時間内に予め定めた回数以上発生した場合、或いは上限値及び下限値を超えている時間が予め定めた時間を超えた場合に異常が発生したと判断するようにしてもよい。
さらに、制御装置1はゲインパラメータ或いは閾値の調整値のログを収集する。ログを収集することにより、ゲインパラメータ或いは閾値の変動に時間的な周期性等の一定のパターンが見られた場合にも異常が発生していると判断するようにしてもよい。また、制御装置1の動作シーケンス上の予め定めたタイミングに相当する時刻にゲインパラメータ或いは閾値の変動が発生している場合にも異常が発生していると判断するようにしてもよい。例えば、制御装置1或いは生産ライン50などが設置された使用環境において、電気的ノイズが制御装置1或いは生産ライン50に与える影響を使用者が認識し、ノイズ源の除去や制御装置1或いは生産ライン50の設置箇所の変更などを適正に行うことが可能となる。このようにゲインパラメータ或いは閾値の調整値のログを利用して、生産設備の異常の原因の解明やメンテナンス時期の予測をすることが可能となる。
センサシステムを備えた生産設備の異常を予防して保全するためのメンテナンスは、その実施頻度を高くするほど効果は大きくなる。しかし、メンテナンスを行うことになった場合は、作業工数が増大したり、設備の停止により生産効率が低下したりするなどの問題が発生する。本実施の形態にかかるセンサシステムの制御方法によれば、センサおよびセンサネットワークを含む制御機器の使用時に、同一システムで使用されている同種のセンサのセンシングレベルの値を常時モニタし、ゲインパラメータ、物理的なパラメータ、或いは閾値等のパラメータにフィードバックすることで環境に応じて包括的に自動調整する。これにより、メンテナンスの頻度を最適化することが可能となり、生産設備の頻繁な停止を防止し、保全作業の効率化を実現して生産設備の稼働率の向上を実現することが可能になる。
そして、本実施の形態にかかるセンサシステムの制御方法によれば、ゲインパラメータ或いは閾値の調整値に異常が発生した場合にユーザに報知を行う。さらに調整値のログを収集してパラメータ調整の履歴を残すことで、設備に異常が発生した際の原因究明や保全作業の効率化に役立てることが可能となる。
実施の形態2.
図3は、本発明の実施の形態2に係るセンサシステム200の構成を示す図である。センサシステム200は、複数のセンサ41〜47からなるセンサネットワークおよび制御装置1を備える。実施の形態1においては、センサネットワークを構成するセンサは光電センサであるとして説明したが、検出物の存在に応じて物理量を得るセンサであればこれに限定されない。
例えば、複数のセンサ41〜47は、それぞれが近接センサであってもよい。近接センサは動作時には常に発振しており、検出物が近づくと物理量であるエネルギーゲインが低下することにより物体を検知する。近接センサは、発振周波数により検出物に反応する反応距離が変化する。従って、発振回路のコイルのインダクタンスLやキャパシタの容量Cを調整することにより発振周波数が変化し、それに応じて反応距離が変化する。
近接センサを用いた場合は、例えば、エネルギーゲインにゲインパラメータを乗じた値がセンシングレベルになる。また、各近接センサにおいて、発振回路の物理的なパラメータであるコイルのインダクタンスLやキャパシタの容量Cを調整することにより物理量であるエネルギーゲインを変化させることが可能である。従って、実施の形態1と同様なセンサシステムの制御が複数の近接センサからなるセンサネットワークに対しても実現可能である。
さらに、本願発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。また、上記実施の形態には種々の段階の発明が含まれており、開示される複数の構成要件における適宜な組み合わせにより種々の発明が抽出されうる。例えば、実施の形態に示される全構成要件からいくつかの構成要件が削除されても、発明が解決しようとする課題の欄で述べた課題が解決でき、発明の効果の欄で述べられている効果が得られる場合には、この構成要件が削除された構成が発明として抽出されうる。更に、異なる実施の形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
以上のように、本発明にかかるセンサシステムの制御方法は、センサシステムを備えた生産設備に有用であり、特に、ワークが移動する生産ラインに設置された同種のセンサからなるセンサネットワークを有するセンサシステムの制御に適している。
1 制御装置、2 表示手段、11〜14 投光部、21〜24 受光部、31〜34 光電センサ、50 生産ライン、51,52 ワーク、41〜47 センサ、100,200 センサシステム。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、ライン上を移動するワークの存在に応じて物理量を得るセンサを前記ライン上に複数個有し、前記物理量にゲインパラメータを乗じたセンシングレベルに基づいて前記ワークの有無を判定し、前記ワークが複数の前記センサのいずれかの検知範囲に存在する場合は前記センサの検知範囲の外の前記ライン上には前記ワークが存在しないように前記センサが設置されているセンサシステムの制御方法であって、前記ワークが複数の前記センサのいずれの検知範囲にも存在しないと判定された場合は、前記センシングレベルをモニタして前記センシングレベルが複数の前記センサの間で平準化するように前記ゲインパラメータを調整することを特徴とする。
また、制御装置1が行う動作シーケンスを記述したプログラムなどに基づいて、調整の対象となる複数の光電センサが担当する範囲に存在するワークの個数が明らかな場合もある。この場合に、あるタイミングでそれらのワークが全ていずれかの光電センサで検出される位置に存在することが分かっているときは、センシングレベルが小さい方から順に光電センサがOFF、即ち非受光状態で、調整の対象となる他の光電センサはON、即ち受光状態であると判断する。この場合ONであるはずの光電センサのセンシングレベルが100未満である場合は、当該センシングレベルが100となるように制御装置1が上記ゲインパラメータを調整する。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、ライン上を移動するワークの存在に応じて検知範囲における物理量を得るセンサを前記ライン上に複数個有し、前記物理量にゲインパラメータを乗じたセンシングレベルに基づいて前記検知範囲における前記ワークの有無を判定し、前記ワークがいずれかの前記検知範囲に存在する場合は全ての前記検知範囲を除く前記ライン上には前記ワークが存在しないように前記センサが設置されているセンサシステムの制御方法であって、前記ワークがいずれの前記検知範囲にも存在しないと判定された場合は、前記センシングレベルをモニタして前記センシングレベルが複数の前記センサの間で平準化するように前記ゲインパラメータを調整することを特徴とする。

Claims (8)

  1. 検出物の存在に応じて物理量を得るセンサを複数個有し、前記物理量にゲインパラメータを乗じたセンシングレベルに基づいて前記検出物の有無を判定するセンサシステムの制御方法であって、
    ワークが複数の前記センサのいずれの検知範囲にも存在しない場合は、前記センシングレベルが複数の前記センサの間で平準化するように前記ゲインパラメータを調整する
    ことを特徴とするセンサシステムの制御方法。
  2. 検出物の存在に応じて物理的なパラメータに基づいて物理量を得るセンサを複数個有し、前記物理量を変換したセンシングレベルに基づいて前記検出物の有無を判定するセンサシステムの制御方法であって、
    ワークが複数の前記センサのいずれの検知範囲にも存在しない場合は、前記物理量が複数の前記センサの間で平準化するように前記物理的なパラメータを調整する
    ことを特徴とするセンサシステムの制御方法。
  3. 検出物の存在に応じて物理量を得るセンサを複数個有し、前記物理量を変換したセンシングレベルと前記センサ毎の閾値との比較に基づいて前記検出物の有無を判定するセンサシステムの制御方法であって、
    ワークが複数の前記センサのいずれの検知範囲にも存在しない場合は、前記センシングレベルと前記閾値の比が複数の前記センサの間で平準化するように前記閾値を調整する
    ことを特徴とするセンサシステムの制御方法。
  4. 前記センサ毎の前記センシングレベルの値が大きい方から、前記センサの数から複数の前記センサの検知範囲に存在する前記ワークの数を引いた値の数の前記センサを調整対象とする
    ことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のセンサシステムの制御方法。
  5. 調整後の前記ゲインパラメータが調整範囲を超えた場合は、使用者に異常の発生を通知する
    ことを特徴とする請求項1に記載のセンサシステムの制御方法。
  6. 調整後の前記物理的なパラメータが調整範囲を超えた場合は、使用者に異常の発生を通知する
    ことを特徴とする請求項2に記載のセンサシステムの制御方法。
  7. 調整後の前記閾値が調整範囲を超えた場合は、使用者に異常の発生を通知する
    ことを特徴とする請求項3に記載のセンサシステムの制御方法。
  8. 前記調整の結果を記録し、前記記録に基づいて、使用者に異常の発生を通知する
    ことを特徴とする請求項1から7のいずれか1項に記載のセンサシステムの制御方法。
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