KR20160132191A - 표시 기판 노광 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 노광 방법은, 복수의 영역을 갖는 표시 기판을 패턴 마스크에 의해 순차적으로 노광하는 방법에서, 상기 표시 기판의 제1 영역의 비표시 영역에 설정된 제1 기판 정렬 마크를 기준으로 상기 패턴 마스크에 형성된 마스크 정렬 마크를 정렬하여 상기 표시 기판의 제1 영역을 노광하는 제1 노광 단계와, 상기 제1 기판 정렬 마크와 상기 마스크 정렬 마크의 정렬 결과를 산출하는 제1 정렬 결과 산출 단계와, 상기 제1 정렬 결과를 반영하여, 상기 표시 기판의 제2 영역의 비표시 영역에 제2 기판 정렬 마크를 설정하는 제2 기판 정렬 마크 설정 단계, 및 상기 제2 기판 정렬 마크를 기준으로 상기 마스크 정렬 마크를 정렬하여 상기 표시 기판의 제2 영역을 노광하는 제2 노광 단계를 포함한다.

Description

표시 기판 노광 방법{DISPLAY SUBSTRATE EXPOSURE METHOD}
본 기재는 표시 기판 노광 방법에 관한 것으로 더욱 상세하게는, 복수의 영역을 갖는 표시 기판을 노광 장치의 패턴 마스크에 의해 순차적으로 정렬하여 노광하는 방법에 관한 것이다.
현재 알려져 있는 평판 표시 장치(Flat panel display)에는 액정 표시 장치(liquid crystal display: LCD), 플라스마 표시 장치(plasma display panel: PDP), 유기 발광 표시 장치(organic light emitting diode device: OLED device), 전계 효과 표시 장치(field effect display: FED), 전기 영동 표시 장치(electrophoretic display device) 등이 있다.
이와 같은 평판 표시 장치는 반도체 공정을 통해 제조되며, 공정 중 다양한 패턴들이 형성되는데, 이러한 패턴들을 형성하기 위해 노광 장치가 이용된다. 노광 장치는 패턴 마스크에 형성된 패턴에 맞추어 대상물을 감광시킨다.
그런데, 표시 장치가 대형화되면서, 패턴 마스크의 크기에 제한이 있어, 패턴 마스크에 의해 표시 기판을 한번에 노광하기 어려운 문제점이 있어, 패턴 마스크를 표시 기판 상에 순차적으로 정렬하여 노광하는 방식을 이용한다.
그런데, 표시 기판에 설정된 정렬 기준점에 패턴 마스크의 정렬 마크가 정확히 정렬되는 것이 어려워 실제로는 패턴 마스크가 틀어진 상태로 표시 기판에 정렬이 된다. 패턴 마스크를 표시 기판 상에 순차적으로 정렬하는 경우, 노광시 이러한 틀어진 정도가 겹치게 되는 스티치 라인(stitch line)이 형성되어 표시 기판 상에 오버레이(overlay) 편차가 발생되고 이는 표시 장치의 얼룩 등의 불량 발생 가능성을 높이게 되는 문제점이 있다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위해, 본 발명의 일 실시예는, 노광 장치에서, 표시 기판과 패턴 마스크 초기 정렬 결과를 반영하여, 이후의 패턴 마스크 정렬시 적용함으로써, 노광시 스티치 라인에서의 오버레이 편차를 감소시키는 패턴 마스크 정렬 및 노광 방법을 제공하고자 한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 노광 방법은, 복수의 영역을 갖는 표시 기판을 패턴 마스크에 의해 순차적으로 노광하는 방법에서, 상기 표시 기판의 제1 영역의 비표시 영역에 설정된 제1 기판 정렬 마크를 기준으로 상기 패턴 마스크에 형성된 마스크 정렬 마크를 정렬하여 상기 표시 기판의 제1 영역을 노광하는 제1 노광 단계와, 상기 제1 기판 정렬 마크와 상기 마스크 정렬 마크의 정렬 결과를 산출하는 제1 정렬 결과 산출 단계와, 상기 제1 정렬 결과를 반영하여, 상기 표시 기판의 제2 영역의 비표시 영역에 제2 기판 정렬 마크를 설정하는 제2 기판 정렬 마크 설정 단계, 및 상기 제2 기판 정렬 마크를 기준으로 상기 마스크 정렬 마크를 정렬하여 상기 표시 기판의 제2 영역을 노광하는 제2 노광 단계를 포함한다.
상기 제1 기판 정렬 마크는, 상기 표시 기판의 제1 영역의 가장자리 상하부 모서리 부위에 설정될 수 있다.
상기 제2 기판 정렬 마크는, 상기 표시 기판의 제2 영역의 가장자리 상하부 모서리 부위에 설정될 수 있다.
한편, 본 발명의 다른 실시예에 따른 노광 방법은, 상기 표시 기판은, 상기 제1 영역 및 제2 영역 이외의 제3 영역을 더 포함하고, 상기 제2 노광 단계 이 후에, 상기 제2 기판 정렬 마크와 상기 마스크 정렬 마크의 정렬 결과를 산출하는 제2 정렬 결과 산출 단계와, 상기 제2 정렬 결과를 반영하여, 상기 표시 기판의 제3 영역의 비표시 영역에 제3 기판 정렬 마크를 설정하는 제3 기판 정렬 마크 설정 단계, 및 상기 제3 기판 정렬 마크를 기준으로 상기 마스크 정렬 마크를 정렬하여 상기 표시 기판의 제3 영역을 노광하는 제3 노광 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 제3 기판 정렬 정렬 마크는, 상기 표시 기판의 제3 영역의 가장자리 상하부 모서리 부위에 설정될 수 있다.
한편, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 노광 방법은, 복수의 영역을 갖는 표시 기판을 패턴 마스크에 의해 순차적으로 노광하는 방법에서, 상기 표시 기판의 제1 영역의 비표시 영역 및 제2 영역의 비표시 영역에 설정된 제1 기판 정렬 마크를 기준으로 상기 패턴 마스크에 형성된 마스크 정렬 마크를 정렬하고, 상기 제2 영역을 블라인드 처리하여 상기 표시 기판의 제1 영역을 노광하는 제1 노광 단계와, 상기 제1 기판 정렬 마크와 상기 마스크 정렬 마크의 정렬 결과를 산출하는 제1 정렬 결과 산출 단계와, 상기 제1 정렬 결과를 반영하여, 상기 표시 기판의 제2 영역의 비표시 영역 및 제3 영역의 비표시 영역에 제2 기판 정렬 마크를 설정하는 제2 기판 정렬 마크 설정 단계, 및 상기 제2 기판 정렬 마크를 기준으로 상기 마스크 정렬 마크를 정렬하여 상기 표시 기판의 제2 영역 및 제3 영역을 노광하는 제2 노광 단계를 포함한다.
상기 제1 기판 정렬 마크는, 상기 표시 기판의 제1 영역의 가장자리 상부 모서리 부위 및 제2 영역의 가장자리 하부 모서리 부위에 설정될 수 있다.
상기 제2 기판 정렬 마크는, 상기 표시 기판의 제2 영역의 가장자리 상부 모서리 부위 및 제3 영역의 가장자리 하부 모서리 부위에 설정될 수 있다.
한편, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 노광 방법은, 복수의 영역을 갖는 표시 기판을 패턴 마스크에 의해 순차적으로 노광하는 방법에서, 상기 표시 기판의 제1 영역의 비표시 영역 및 제2 영역의 비표시 영역에 설정된 제1 기판 정렬 마크를 기준으로 상기 패턴 마스크에 형성된 마스크 정렬 마크를 정렬하고, 상기 제2 영역을 블라인드 처리하여 상기 표시 기판의 제1 영역을 노광하는 제1 노광 단계와, 상기 제1 기판 정렬 마크와 상기 마스크 정렬 마크의 정렬 결과를 산출하는 제1 정렬 결과 산출 단계와, 상기 제1 정렬 결과를 반영하여, 상기 표시 기판의 제2 영역의 비표시 영역 및 제3 영역의 비표시 영역에 제2 기판 정렬 마크를 설정하는 제2 기판 정렬 마크 설정 단계와, 상기 제2 기판 정렬 마크를 기준으로 상기 마스크 정렬 마크를 정렬하고, 상기 제3 영역을 블라인드 처리하여 상기 표시 기판의 제2 영역을 노광하는 제2 노광 단계와, 상기 제2 기판 정렬 마크와 상기 마스크 정렬 마크의 정렬 결과를 산출하는 제2 정렬 결과 산출 단계와, 상기 제2 정렬 결과를 반영하여, 상기 표시 기판의 제3 영역의 비표시 영역 및 제4 영역의 비표시 영역에 제3 기판 정렬 마크를 설정하는 제3 기판 정렬 마크 설정 단계, 및 상기 제3 기판 정렬 마크를 기준으로 상기 마스크 정렬 마크를 정렬하여 상기 표시 기판의 제3 영역 및 제4 영역을 노광하는 제3 노광 단계를 포함한다.
상기 제1 기판 정렬 마크는, 상기 표시 기판의 제1 영역의 가장자리 상부 모서리 부위 및 제2 영역의 가장자리 하부 모서리 부위에 설정될 수 있다.
상기 제2 기판 정렬 마크는, 상기 표시 기판의 제2 영역의 가장자리 상부 모서리 부위 및 제3 영역의 가장자리 하부 모서리 부위에 설정될 수 있다.
상기 제3 기판 정렬 마크는, 상기 표시 기판의 제3 영역의 가장자리 상부 모서리 부위 및 제4 영역의 가장자리 하부 모서리 부위에 설정될 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 대형의 표시 기판을 패턴 마스크에 의해 순차적으로 노광하는 노광 방법에서, 표시 기판과 패턴 마스크의 초기 정렬 결과를 반영하여, 이후의 패턴 마스크 정렬시 적용함으로써, 노광시 스티치 라인에서의 오버레이 편차를 감소시켜 표시 장치의 얼룩 등의 불량을 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 노광 방법을 나타내는 순서도이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 노광 방법에서, 제1 노광 단계의 패턴 마스크의 정렬 상태를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 노광 방법에서, 제2 노광 단계의 패턴 마스크의 정렬 상태를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 노광 방법에서, 제1 기판 정렬 마크와 마스크 정렬 마크의 제1 정렬 상태를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 노광 방법에서, 제2 기판 정렬 마크 설정 상태를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 노광 방법에서, 제1 노광 단계의 패턴 마스크의 정렬 상태를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 7은 본 발명의 제2 실시예에 따른 노광 방법에서, 제2 노광 단계의 패턴 마스크의 정렬 상태를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 8은 본 발명의 제2 실시예에 따른 노광 방법에서, 제2 노광 단계의 패턴 마스크의 정렬 상태를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 9는 본 발명의 제3 실시예에 따른 노광 방법에서, 제1 노광 단계의 패턴마스크의 정렬 상태를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 10은 본 발명의 제3 실시예에 따른 노광 방법에서, 제2 노광 단계의 패턴마스크의 정렬 상태를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 11은 본 발명의 제4 실시예에 따른 노광 방법에서, 제3 노광 단계의 패턴 마스크의 정렬 상태를 개략적으로 나타내는 도면이다.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.
또한, 여러 실시예들에 있어서, 동일한 구성을 가지는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하여 대표적으로 일 실시예에서 설명하고, 그 외의 실시예들에서는 일 실시예와 다른 구성에 대해서만 설명하기로 한다.
도면들은 개략적이고 축적에 맞게 도시되지 않았다는 것을 일러둔다. 도면에 있는 부분들의 상대적인 치수 및 비율은 도면에서의 명확성 및 편의를 위해 그 크기에 있어 과장되거나 감소되어 도시되었으며, 임의의 치수는 단지 예시적인 것이지 한정적인 것은 아니다. 그리고, 둘 이상의 도면에 나타나는 동일한 구조물, 요소 또는 부품에는 동일한 참조 부호가 유사한 특징을 나타내기 위해 사용된다. 어느 부분이 다른 부분의 "위에" 또는 "상에" 있다고 언급하는 경우, 이는 바로 다른 부분의 위에 있을 수 있거나 그 사이에 다른 부분이 수반될 수도 있다.
본 발명의 실시예는 본 발명의 한 실시예를 구체적으로 나타낸다. 그 결과, 도해의 다양한 변형이 예상된다. 따라서 실시예는 도시한 영역의 특정 형태에 국한되지 않으며, 예를 들면 제조에 의한 형태의 변형도 포함한다.
이하, 도 1 내지 도 5를 참조하여, 본 발명의 제1 실시예에 따른 노광 방법에 관하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 노광 방법을 나타내는 순서도이고, 도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 노광 방법에서, 제1 노광 단계의 패턴 마스크의 정렬 상태를 개략적으로 나타내는 도면이며, 도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 노광 방법에서, 제2 노광 단계의 패턴 마스크의 정렬 상태를 개략적으로 나타내는 도면이며, 도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 노광 방법에서, 제1 기판 정렬 마크와 마스크 정렬 마크의 제1 정렬 상태를 개략적으로 나타내는 도면이며, 도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 노광 방법에서, 제2 기판 정렬 마크 설정 상태를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 제1 실시예에 따른 노광 방법에서, 표시 기판(100)은 표시 영역과 비표시 영역으로 구분되고, 표시 영역은 2개의 영역으로 나누어질 수 있으며, 패턴 마스크(50)에 의해 2개의 영역이 순차적으로 노광된다. 표시 기판(100)의 제1 영역(10)의 비표시 영역에는 제1 기판 정렬 마크(12, 14, 16, 18)가 설정된다. 또한, 패턴 마스크(50)에는 제1 기판 정렬 마크(12, 14, 16, 18)와 정렬되는 마스크 정렬 마크(52)가 형성되어 있다.
우선, 도 2에 도시된 바와 같이, 표시 기판(100)의 제1 영역(10)의 비표시 영역에 설정된 제1 기판 정렬 마크(12, 14, 16, 18)를 기준으로 패턴 마스크(50)에 형성된 마스크 정렬 마크(52)를 정렬하여 표시 기판(100)의 제1 영역(10)을 노광한다(S101).
이 후, 제1 기판 정렬 마크(12, 14, 16, 18)와 마스크 정렬 마크(52)의 제1 정렬 결과를 산출하게 된다(S102). 원래 목표로 하던 제1 정렬 결과는 마스크 정렬 마크(52)의 중심부가 제1 기판 정렬 마크(12, 14, 16, 18)의 중심부의 기준점(C)과 합치되게 패턴 마스크(50)가 위치하도록 하는 것인데, 실제로는 도 2 및 도 4에 도시된 바와 같이, 패턴 마스크(50)가 뒤틀려진 상태로 표시 기판(100) 상에 위치할 수 있다. 이러한 뒤틀려진 상태로 인해, 제1 영역(10)과 제2 영역(20)의 가상의 구분선(2)과 어긋나는 비뚤어진 선(4)에 평행하도록 패턴 마스크(50)가 위치하게 된다.
제1 정렬 결과는 제1 기판 정렬 마크(12, 14, 16, 18)와 마스크 정렬 마크(52)의 어긋난 정도를 (X, Y) 좌표 형태로 도출할 수 있다. 도 4를 참조하면, 예를 들어, 제1 정렬 결과는 표시 기판(100)의 좌측 상부에서, (-0.5㎛, -0.3㎛)이며(도 4의 (a)), 표시 기판(100)의 우측 상부에서 (+0.3㎛, +0.5㎛)일 수 있다(도 4의 (b)).
이 후, 이러한 제1 정렬 결과를 반영하여, 표시 기판(100)의 제2 영역(20)의 비표시 영역에 제2 기판 정렬 마크(22, 24, 26, 28)를 설정한다(S103). (X, Y) 좌표 형태로 도출된 제1 정렬 결과는 제2 기판 정렬 마크(22, 24, 26, 28) 설정시 적용되어, 제2 기판 정렬 마크(22, 24, 26, 28)가 표시 기판(100)의 제2 영역(20)의 비표시 영역에 제1 정렬 결과인 (X, Y) 좌표만큼 틀어진 상태로 제2 기판 정렬 마크(22, 24, 26, 28)가 설정된다. 즉, 도 5에 도시된 바와 같이, 제2 기판 정렬 마크(22, 24, 26, 28)는 앞서 제1 정렬 결과의 예를 적용하면, 표시 기판(100)의 좌측 상부에서 (+0.5㎛, +0.3㎛)으로(도 5의 (a)), 표시 기판(100)의 우측 상부에서, (-0.3㎛, -0.5㎛) 만큼 원래의 제2 기판 정렬 마크보다 더 이동시켜(도 5의 (b)) 설정할 수 있다.
이 후, 새롭게 설정된 제2 기판 정렬 마크(22, 24, 26, 28)를 기준으로 마스크 정렬 마크(52)를 정렬하여 표시 기판(100)의 제2 영역(20)을 노광한다(S104).
한편, 제1 기판 정렬 마크(12, 14, 16, 18)는, 표시 기판(100)의 제1 영역(10)의 가장자리 상부 및 하부의 모서리 부위에 설정되고, 제2 기판 정렬 마크(22, 24, 26, 28)는, 표시 기판(100)의 제2 영역(20)의 가장자리 상부 및 하부의 모서리 부위에 설정된다.
도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 노광 방법에서, 제1 노광 단계의 패턴 마스크의 정렬 상태를 개략적으로 나타내는 도면이고, 도 7은 본 발명의 제2 실시예에 따른 노광 방법에서, 제2 노광 단계의 패턴 마스크의 정렬 상태를 개략적으로 나타내는 도면이며, 도 8은 본 발명의 제2 실시예에 따른 노광 방법에서, 제2 노광 단계의 패턴 마스크의 정렬 상태를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 6 내지 도 8을 참조하면, 표시 기판(100)은 앞서 설명한 제1 실시예에 따른 노광 방법의 표시 기판(100)의 제1 영역(10) 및 제2 영역(20) 이외의 제3 영역(30)을 더 포함한다. 제1 실시예에 따른 노광 방법의 제1 노광 단계(S101)와, 제1 정렬 결과 산출 단계(S102)와, 제2 패널 정렬 마크 설정 단계(S103), 및 제2 노광 단계(S104)는 제2 실시예에 따른 노광 방법과 공통되므로 이에 대한 설명은 생략한다.
제2 실시예에 따른 노광 방법은 제2 노광 단계(S104) 이 후에, 제2 기판 정렬 마크(22, 24, 26, 28)와 마스크 정렬 마크(52)의 정렬 결과를 산출하는 제2 정렬 결과 산출 단계를 더 포함한다. 앞서 설명한 제2 노광 단계에서, 제2 기판 정렬 마크(22, 24, 26, 28)와 마스크 정렬 마크(52)의 제2 정렬 결과가 또한 뒤틀어지게 나올 수 있다.
이 후, 제2 정렬 결과를 반영하여, 표시 기판(100)의 제3 영역(30)의 비표시 영역에 제3 기판 정렬 마크(32, 34, 36, 38)를 설정한다. 제3 기판 정렬 마크(32, 34, 36, 38) 설정 방법은 앞서 설명한 제2 기판 정렬 마크(22, 24, 26, 28) 설정 방법과 동일하므로, 이에 대한 설명은 생략한다.
이 후, 제3 기판 정렬 마크(32, 34, 36, 38)를 기준으로 마스크 정렬 마크(52)를 정렬하여 표시 기판(100)의 제3 영역(30)을 노광한다.
한편, 제3 기판 정렬 마크(32, 34, 36, 38)는, 표시 기판(100)의 제3 영역(30)의 가장자리 상부 및 하부 모서리 부위에 설정될 수 있다.
도 9는 본 발명의 제3 실시예에 따른 노광 방법에서, 제1 노광 단계의 패턴마스크의 정렬 상태를 개략적으로 나타내는 도면이고, 도 10은 본 발명의 제3 실시예에 따른 노광 방법에서, 제2 노광 단계의 패턴마스크의 정렬 상태를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 9 및 도 10을 참조하면, 제3 실시예에 따른 노광 방법의 표시 기판(100)은 표시 영역으로 제1 영역(10)과, 제2 영역(20), 및 제3 영역(30)을 포함하고, 패턴 마스크(50)는 2개의 영역에 대응되는 크기로 형성된다.
우선, 도 9를 참조하면, 표시 기판(100)의 제1 영역(10)의 비표시 영역 및 제2 영역(20)의 비표시 영역에 설정된 제1 기판 정렬 마크(12, 14, 16, 18)를 기준으로 패턴 마스크(50)에 형성된 마스크 정렬 마크(52)를 정렬한다. 그리고, 제2 영역(20)을 블라인드(blind) 처리하여 표시 기판(100)의 제1 영역(10)을 노광한다.
이 후, 제1 기판 정렬 마크(12, 14, 16, 18)와 마스크 정렬 마크(52)의 제1 정렬 결과를 산출한다. 본 실시예에서의 제1 정렬 결과 산출은 앞서 설명한 제1 실시예에서의 제1 정렬 결과 산출 방법과 동일하므로 이에 대한 설명은 생략한다.
이 후, 제1 정렬 결과를 반영하여, 표시 기판(100)의 제2 영역(20)의 비표시 영역 및 제3 영역(30)의 비표시 영역에 제2 기판 정렬 마크(22, 24, 26, 28)를 설정한다. 본 실시예에서의 제2 기판 정렬 마크(22, 24, 26, 28) 설정은 앞서 설명한 제1 실시예에서의 제2 기판 정렬 마크(22, 24, 26, 28) 설정 방법과 동일하므로 이에 대한 설명은 생략한다.
이 후, 도 10에 도시된 바와 같이, 제2 기판 정렬 마크(22, 24, 26, 28)를 기준으로 마스크 정렬 마크(52)를 정렬하여 표시 기판(100)의 제2 영역(20) 및 제3 영역(30)을 노광한다.
한편, 본 실시예에서, 제1 기판 정렬 마크(12, 14, 16, 18)는, 표시 기판(100)의 제1 영역(10)의 가장자리 상부 모서리 부위 및 제2 영역(20)의 가장자리 하부 모서리 부위에 설정될 수 있다. 또한, 제2 기판 정렬 마크(22, 24, 26, 28)는, 표시 기판(100)의 제2 영역(20)의 가장자리 상부 모서리 부위 및 제3 영역(30)의 가장자리 하부 모서리 부위에 설정될 수 있다.
도 11은 본 발명의 제4 실시예에 따른 노광 방법에서, 제3 노광 단계의 패턴 마스크의 정렬 상태를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 11을 참조하면, 제4 실시예에 따른 노광 방법의 표시 기판(100)은 표시 영역으로, 제1 영역(10)과, 제2 영역(20)과, 제3 영역(30), 및 제4 영역(40)을 포함하고, 패턴 마스크(50)는 2개의 영역에 대응되는 크기로 형성된다.
먼저, 표시 기판(100)의 제1 영역(10)의 비표시 영역 및 제2 영역(20)의 비표시 영역에 설정된 제1 기판 정렬 마크(12, 14, 16, 18)를 기준으로 패턴 마스크(50)에 형성된 마스크 정렬 마크(52)를 정렬한다. 그리고, 제2 영역(20)을 블라인드 처리하여 표시 기판(100)의 제1 영역(10)을 노광한다.
이 후, 제1 기판 정렬 마크(12, 14, 16, 18)와 마스크 정렬 마크(52)의 제1 정렬 결과를 산출한다. 본 실시예에서의 제1 정렬 결과 산출은 앞서 설명한 제1 실시예 내지 제3 실시예에서의 제1 정렬 결과 산출 방법과 동일하므로 이에 대한 설명은 생략한다.
이 후, 제1 정렬 결과를 반영하여, 표시 기판(100)의 제2 영역(20)의 비표시 영역 및 제3 영역(30)의 비표시 영역에 제2 기판 정렬 마크(22, 24, 26, 28)를 설정한다. 본 실시예에서의 제2 기판 정렬 마크(22, 24, 26, 28) 설정은 앞서 설명한 제1 내지 제3 실시예에서의 제2 기판 정렬 마크(22, 24, 26, 28) 설정 방법과 동일하므로 이에 대한 설명은 생략한다.
이 후, 제 2 기판 정렬 마크(22, 24, 26, 28)를 기준으로 마스크 정렬 마크(52)를 정렬하고, 제3 영역(30)을 블라인드 처리하여 표시 기판(100)의 제2 영역(20)을 노광한다.
이 후, 제2 기판 정렬 마크(22, 24, 26, 28)와 마스크 정렬 마크(52)의 제2 정렬 결과를 산출하고, 제2 정렬 결과를 반영하여, 표시 기판(100)의 제3 영역(30)의 비표시 영역 및 제4 영역(40)의 비표시 영역에 제3 기판 정렬 마크(32, 34, 36, 38)를 설정한다.
이 후, 도 11에 도시된 바와 같이, 제3 기판 정렬 마크(32, 34, 36, 38)를 기준으로 마스크 정렬 마크(52)를 정렬하여 표시 기판(100)의 제3 영역(30) 및 제4 영역(40)을 노광한다.
한편, 본 실시예에서, 제1 기판 정렬 마크(12, 14, 16, 18)는, 표시 기판(100)의 제1 영역(10)의 가장자리 상부 모서리 부위 및 제2 영역(20)의 가장자리 하부 모서리 부위에 설정될 수 있다. 또한, 제2 기판 정렬 마크(22, 24, 26, 28)는, 표시 기판(100)의 제2 영역(20)의 가장자리 상부 모서리 부위 및 제3 영역(30)의 가장자리 하부 모서리 부위에 설정될 수 있다. 그리고, 제3 기판 정렬 마크(32, 34, 36, 38)는, 표시 기판(100)의 제3 영역(30)의 가장자리 상부 모서리 부위 및 제4 영역(40)의 가장자리 하부 모서리 부위에 설정될 수 있다.
이와 같이, 본 발명의 실시예들에 따른 대형의 표시 기판을 패턴 마스크에 의해 순차적으로 노광하는 노광 방법에서, 표시 기판과 패턴 마스크의 초기 정렬 결과를 반영하여, 이후의 패턴 마스크 정렬시 적용함으로써, 노광시 스티치 라인에서의 오버레이 편차를 감소시켜 표시 장치의 얼룩 등의 불량을 방지할 수 있다.
본 발명을 앞서 기재한 바에 따라 바람직한 실시예를 통해 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 다음에 기재하는 특허청구범위의 개념과 범위를 벗어나지 않는 한, 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에 종사하는 자들은 쉽게 이해할 것이다.
100: 표시 기판 10: 제1 영역
12, 14, 16, 18: 제1 기판 정렬 마크
20: 제2 영역 22, 24, 26, 28: 제2 기판 정렬 마크
30: 제3 영역 32, 34, 36, 38: 제3 기판 정렬 마크
40: 제4 영역 50: 패턴 마스크
52: 마스크 정렬 마크

Claims (12)

  1. 복수의 영역을 갖는 표시 기판을 패턴 마스크에 의해 순차적으로 노광하는 방법에서,
    상기 표시 기판의 제1 영역의 비표시 영역에 설정된 제1 기판 정렬 마크를 기준으로 상기 패턴 마스크에 형성된 마스크 정렬 마크를 정렬하여 상기 표시 기판의 제1 영역을 노광하는 제1 노광 단계;
    상기 제1 기판 정렬 마크와 상기 마스크 정렬 마크의 정렬 결과를 산출하는 제1 정렬 결과 산출 단계;
    상기 제1 정렬 결과를 반영하여, 상기 표시 기판의 제2 영역의 비표시 영역에 제2 기판 정렬 마크를 설정하는 제2 기판 정렬 마크 설정 단계; 및
    상기 제2 기판 정렬 마크를 기준으로 상기 마스크 정렬 마크를 정렬하여 상기 표시 기판의 제2 영역을 노광하는 제2 노광 단계를 포함하는 노광 방법.
  2. 제 1 항에서,
    상기 제1 기판 정렬 마크는,
    상기 표시 기판의 제1 영역의 가장자리 상하부 모서리 부위에 설정되는 노광 방법.
  3. 제 2 항에서,
    상기 제2 기판 정렬 마크는,
    상기 표시 기판의 제2 영역의 가장자리 상하부 모서리 부위에 설정되는 노광 방법.
  4. 제 3 항에서,
    상기 표시 기판은,
    상기 제1 영역 및 제2 영역 이외의 제3 영역을 더 포함하고,
    상기 제2 노광 단계 이 후에,
    상기 제2 기판 정렬 마크와 상기 마스크 정렬 마크의 정렬 결과를 산출하는 제2 정렬 결과 산출 단계;
    상기 제2 정렬 결과를 반영하여, 상기 표시 기판의 제3 영역의 비표시 영역에 제3 기판 정렬 마크를 설정하는 제3 기판 정렬 마크 설정 단계; 및
    상기 제3 기판 정렬 마크를 기준으로 상기 마스크 정렬 마크를 정렬하여 상기 표시 기판의 제3 영역을 노광하는 제3 노광 단계를 더 포함하는 노광 방법.
  5. 제 4 항에서,
    상기 제3 기판 정렬 정렬 마크는,
    상기 표시 기판의 제3 영역의 가장자리 상하부 모서리 부위에 설정되는 노광 방법.
  6. 복수의 영역을 갖는 표시 기판을 패턴 마스크에 의해 순차적으로 노광하는 방법에서,
    상기 표시 기판의 제1 영역의 비표시 영역 및 제2 영역의 비표시 영역에 설정된 제1 기판 정렬 마크를 기준으로 상기 패턴 마스크에 형성된 마스크 정렬 마크를 정렬하고, 상기 제2 영역을 블라인드 처리하여 상기 표시 기판의 제1 영역을 노광하는 제1 노광 단계;
    상기 제1 기판 정렬 마크와 상기 마스크 정렬 마크의 정렬 결과를 산출하는 제1 정렬 결과 산출 단계;
    상기 제1 정렬 결과를 반영하여, 상기 표시 기판의 제2 영역의 비표시 영역 및 제3 영역의 비표시 영역에 제2 기판 정렬 마크를 설정하는 제2 기판 정렬 마크 설정 단계; 및
    상기 제2 기판 정렬 마크를 기준으로 상기 마스크 정렬 마크를 정렬하여 상기 표시 기판의 제2 영역 및 제3 영역을 노광하는 제2 노광 단계를 포함하는 노광 방법.
  7. 제 6 항에서,
    상기 제1 기판 정렬 마크는,
    상기 표시 기판의 제1 영역의 가장자리 상부 모서리 부위 및 제2 영역의 가장자리 하부 모서리 부위에 설정되는 노광 방법.
  8. 제 7 항에서,
    상기 제2 기판 정렬 마크는,
    상기 표시 기판의 제2 영역의 가장자리 상부 모서리 부위 및 제3 영역의 가장자리 하부 모서리 부위에 설정되는 노광 방법.
  9. 복수의 영역을 갖는 표시 기판을 패턴 마스크에 의해 순차적으로 노광하는 방법에서,
    상기 표시 기판의 제1 영역의 비표시 영역 및 제2 영역의 비표시 영역에 설정된 제1 기판 정렬 마크를 기준으로 상기 패턴 마스크에 형성된 마스크 정렬 마크를 정렬하고, 상기 제2 영역을 블라인드 처리하여 상기 표시 기판의 제1 영역을 노광하는 제1 노광 단계;
    상기 제1 기판 정렬 마크와 상기 마스크 정렬 마크의 정렬 결과를 산출하는 제1 정렬 결과 산출 단계;
    상기 제1 정렬 결과를 반영하여, 상기 표시 기판의 제2 영역의 비표시 영역 및 제3 영역의 비표시 영역에 제2 기판 정렬 마크를 설정하는 제2 기판 정렬 마크 설정 단계;
    상기 제2 기판 정렬 마크를 기준으로 상기 마스크 정렬 마크를 정렬하고, 상기 제3 영역을 블라인드 처리하여 상기 표시 기판의 제2 영역을 노광하는 제2 노광 단계;
    상기 제2 기판 정렬 마크와 상기 마스크 정렬 마크의 정렬 결과를 산출하는 제2 정렬 결과 산출 단계;
    상기 제2 정렬 결과를 반영하여, 상기 표시 기판의 제3 영역의 비표시 영역 및 제4 영역의 비표시 영역에 제3 기판 정렬 마크를 설정하는 제3 기판 정렬 마크 설정 단계; 및
    상기 제3 기판 정렬 마크를 기준으로 상기 마스크 정렬 마크를 정렬하여 상기 표시 기판의 제3 영역 및 제4 영역을 노광하는 제3 노광 단계를 포함하는 노광 방법.
  10. 제 9 항에서,
    상기 제1 기판 정렬 마크는,
    상기 표시 기판의 제1 영역의 가장자리 상부 모서리 부위 및 제2 영역의 가장자리 하부 모서리 부위에 설정되는 노광 방법.
  11. 제 10 항에서,
    상기 제2 기판 정렬 마크는,
    상기 표시 기판의 제2 영역의 가장자리 상부 모서리 부위 및 제3 영역의 가장자리 하부 모서리 부위에 설정되는 노광 방법.
  12. 제 11 항에서,
    상기 제3 기판 정렬 마크는,
    상기 표시 기판의 제3 영역의 가장자리 상부 모서리 부위 및 제4 영역의 가장자리 하부 모서리 부위에 설정되는 노광 방법.
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