KR20160121743A - 광학시트용 수지 조성물, 이를 포함하는 광학시트 및 이의 제조방법 - Google Patents

광학시트용 수지 조성물, 이를 포함하는 광학시트 및 이의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 광학시트용 수지 조성물, 이를 포함하는 광학시트 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 색재현율 및 신뢰성이 우수할 뿐만 아니라 두께의 박형화 및 높은 휘도를 가질 수 있는 광학시트용 수지 조성물, 이를 포함하는 광학시트 및 이의 제조방법에 관한 것이다.

Description

광학시트용 수지 조성물, 이를 포함하는 광학시트 및 이의 제조방법{resin composition for optical sheet, optical sheet comprising the same and manufacturing method thereof}
본 발명은 광학시트용 수지 조성물, 이를 포함하는 광학시트 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 색재현율 및 신뢰성이 우수할 뿐만 아니라 높은 휘도를 가질 수 있는 광학시트용 수지 조성물, 이를 포함하는 광학시트 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
발광 소자(Light Emitting Diode, LED)를 백라이트 유닛(Back Light Unit, BLU)으로 사용하는 LCD(Liguid Crystal Diplay) TV에서 LED BLU는 빛을 실제로 발하는 부분으로써 LCD TV에서 가장 중요한 부분 중에 하나이다.
백색의 LED BLU를 형성하는 방법으로는 작은 반치폭(Full width at half maximum, FWHM, 상대분광분포 상에서 최대값의 1/2 값을 갖는 위치의 파장 값 한 쌍의 차이로써 단위는 ㎚)을 보이는 적색(Red, R), 녹색(Green, G) 및 청색(Blue, B) LED 칩을 조합하여 백색의 LED BLU를 형성하는 방법이 있다.
적색(Red, R), 녹색(Green, G), 청색(Blue, B) LED 칩을 조합하여 백색의 LED BLU를 형성하는 방법방법은 LED 칩의 개수가 많고 백색 구현시 추가적인 피드백 시스템이 요구되어 제조 비용이 높은 문제점이 있다.
또한, 청색 LED칩과 넓은 반치폭의 발광파장을 가진 황색(Yellow, Y) 형광체의 조합을 이용하여 백색을 구현하는 방법이 있고, 이는 LED 칩의 개수가 1/3로 줄고 피드팩 시스템이 불필요하게 됨에 따라 BLU 제작 비용을 상당히 낮출 수 있다. 다만, 반치폭이 큰 형광체의 사용으로 인해 해당 스팩트럼을 색순도가 좋은 적색, 녹색, 청색으로 만들어 주는 칼라 필터(color filter, CF)가 필수적 으로 요구되었고, 이 CF에 의한 넓은 파장영역의 광 차단으로 인해 디바이스의 광 추출 효율이 낮아지고, 색순도가 좋지 않아 제한적인 색재현성을 보이는 문제점이 있다.
따라서, 최근에는 반치폭이 큰 기존의 형광체를 반치폭이 작은 양자점(quantum dot)으로 대체함으로써 CF에 의한 넓은 영역의 광차단에 따른 광 추출 효율의 저하 문제를 개선하고 동시에 보다 나은 색재현성을 높이려는 연구가 활발히 진행되고 있다.
양자점은 나노크기의 Ⅱ-Ⅳ 반도체 입자가 중심(core)을 이루는 입자이다. 이러한 양자점의 형광은 전도대(conduction band)에서 가전자대(valence band)로 들뜬 상태의 전자가 내려오면서 발생하는 빛이다.
양자점 형광체를 이용한 조명개발에 있어 양자점은 합성재료 및 양자점 사이즈에 따라 다양한 파장의 빛을 발광할 수 있고 발광빔의 반치폭 또한 조절 가능하다. 좁은 반치폭, 다양한 파장의 발광빔 등 물리적 특징으로 인해 태양광과 흡사한 조명 개발뿐만 아니라 고색재현율이 가능한 BLU 개발이 가능하다.
종래 기술 중 한국공개특허 제2012-0088273호에는 양자점을 사용하기 ‹š문에 기존의 형광체를 사용하는 경우보다 색상이 선명하고 색 재현율이 우수한 백라이트 유닛 및 그 제조방법이 기재되어 있다.
한편, 양자점 형광체를 이 같은 응용분야에 적용함에 있어, 상기 형광체는 일반적으로 산소 및 수분에 의한 안정성이 떨어지는 문제점이 있었다. 이와 같은 산소 및 수분에 의한 안정성을 보완하기 위해 다양한 광기능성 필름이 필수적으로 요구된다.
구체적으로, 도 1에 기재된 바와 같이 백라이트 유닛에 사용가능한 광학시트는 양자점 형광체(1) 양면에 광기능성 필름(2)을 적층하여 사용되는데, 상기 광기능성 필름(2)은 가격이 높을 뿐만 아니라, 휘도가 손실되는 문제점이 있기 때문에, 형광체의 산소 및 수분에 대한 안정성을 향상시키면서 광기능성 필름이 가지고 있는 문제점을 개선할 수 있는 백라이트 유닛에 사용가능한 광학시트의 개발이 시급한 시점이다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명이 해결하려는 과제는 색재현율 및 신뢰성이 우수할 뿐만 아니라 높은 휘도 및 두께의 박형화를 가질 수 있는 광학시트용 수지 조성물, 이를 포함하는 광학시트 및 이의 제조방법을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명은 제조 공정을 단순화하여 광학시트 제조에 있어서 생산성을 향상시킬 수 있는 광학시트용 수지 조성물, 이를 포함하는 광학시트 및 이의 제조방법을 제공하는 것이다.
상술한 과제를 해결하기 위해 본 발명은, 하기 화학식 1로 표시되는 티올 화합물 및 하기 화학식 2로 표시되는 이소시아네이트 화합물을 포함하는 광학시트용 수지 조성물을 제공한다.
[화학식 1]
Figure pat00001
상기 화학식 1에 있어서, 상기 a, b, c, d는 각각 독립적으로 1 ~ 10인 정수이고,
[화학식 2]
Figure pat00002
상기 화학식 2에 있어서, 상기 R1, R2, R3는 각각 독립적으로 C1 ~ C10의 알킬기(alkyl group) 또는 알켄닐기(alkenyl group)이다.
본 발명의 바람직한 일실시예에 따르면, 본 발명의 광학시트용 수지 조성물의 상기 이소시아네이트 화합물 및 티올 화합물은 1 : 1 ~ 2 중량비로 포함될 수 있다.
본 발명의 바람직한 다른 일실시예에 따르면, 본 발명의 광학시트용 수지 조성물은 광중합 개시제를 더 포함하고, 상기 광중합 개시제는 전체 조성물 100 중량%에 대하여 1 ~ 5 중량%가 포함할 수 있다.
본 발명의 바람직한 또 다른 일실시예에 따르면, 본 발명의 광학시트용 수지 조성물의 상기 광중합 개시제는 벤조인 에테르(benzoin ether), 디알킬아세토페논(dialkyl acetophenone), 하이드록실 알킬케톤(hydroxyl alkylketone), 페닐글리옥실레이트(phenyl glyoxylate), 벤질디메틸케탈(Benzyl Dimethyl Ketal), 아실포스핀(acyl phosphine) 및 알파-아미노케톤(α-aminoketone) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
한편, 본 발명은 배리어 시트층, 형광체층 및 광학층이 순차적으로 적층되고, 상기 광학층은 앞서 언급한 광학시트용 수지 조성물을 포함하는 광학시트를 제공한다.
본 발명의 바람직한 일실시예에 따르면, 본 발명의 광학시트의 상기 광학층은 연속적 또는 비연속적으로 형성된 단차 패턴을 가질 수 있다.
본 발명의 바람직한 다른 일실시예에 따르면, 본 발명의 광학시트의 상기 단차 패턴은 프리즘 패턴, 피라미드 패턴, 다각뿔 패턴, 마이크로 랜즈 패턴 및 콘 패턴 및 이들이 혼합된 패턴 중에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다.
본 발명의 바람직한 또 다른 일실시예에 따르면, 본 발명의 광학시트의 상기 프리즘 패턴은 이웃하는 프리즘 패턴의 윗변 간의 거리가 48 ~ 72㎛이고, 패턴의 높이가 24 ~ 36㎛일 수 있다.
본 발명의 바람직한 다른 일실시예에 따르면, 본 발명의 광학시트의 상기 마이크로 랜즈 패턴은 이웃하는 마이크로 랜즈 패턴의 윗변 간의 거리가 24 ~ 36㎛이고, 패턴의 높이가 12 ~ 18㎛일 수 있다.
본 발명의 바람직한 또 다른 일실시예에 따르면, 본 발명의 광학시트의 상기 콘 패턴은 아랫변이 육각형태이고, 이웃하는 콘 패턴의 윗변 간의 거리가 40 ~ 60㎛이며, 패턴의 높이가 16 ~ 24㎛일 수 있다.
본 발명의 바람직한 다른 일실시예에 따르면, 본 발명의 광학시트의 상기 형광체층은 양자점 형광체를 포함하고, 상기 양자점 형광체는 CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, HgS, HgSe, HgSe, HgTe, GaN, GaP, HaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InN, InP, InAs, InSb, Si 및 Ge 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
본 발명의 바람직한 또 다른 일실시예에 따르면, 본 발명의 광학시트의 상기 배리어 시트층은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP) 및 유리 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
본 발명의 바람직한 다른 일실시예에 따르면, 본 발명의 광학시트의 상기 배리어 시트층은 평균두께 90 ~ 150㎛이고, 상기 형광체층은 평균두께 60 ~ 120㎛이며, 상기 광학층은 평균두께 3 ~ 70㎛일 수 있다.
본 발명의 바람직한 또 다른 일실시예에 따르면, 본 발명의 광학시트는 상기 광학층의 투습도가 1.0g/m2·day 이하일 수 있다.
본 발명의 바람직한 다른 일실시예에 따르면, 본 발명의 광학시트는 휘도가 19,000 cd/cm2 이상일 수 있다.
한편, 본 발명은 배리어 시트층, 상기 배리어 시트층 상에 형성되고, 양자점 형광체를 포함하는 형광체층 및 상기 형광체층 상에 형성되고, 연속적 또는 비연속적으로 형성된 단차 패턴을 가지는 광학층을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학시트를 제공한다.
나아가, 본 발명은 앞서 언급한 광학시트를 포함하는 백라이트 유닛을 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 백라이트 유닛을 포함하는 액정 표시장치를 제공한다.
한편, 본 발명은 (1) 배리어 시트층의 상부에 양자점이 포함된 금속-유기물 전구체 용액을 도포하는 단계, (2) 도포된 금속-유기물 전구체 용액을 UV경화하여 형광체층을 형성하는 단계, (3) 상기 형광체층 상부에 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 따른 광학시트용 수지 조성물을 도포하는 단계 및 (4) 도포된 광학시트용 수지 조성물에 연속적 또는 비연속적으로 형성된 단차 패턴을 갖는 광학층을 형성하는 단계를 포함하는 광학시트 제조방법을 제공한다.
본 발명의 바람직한 일실시예에 따르면, 본 발명의 광학시트 제조방법의 상기 (2) 단계는 산소 100ppm 이하의 질소 분위기 하에서 수행될 수 있다.
본 발명에서 사용하는 용어인 광학시트는 빛을 통과하는 시트로서, 도광시트, 확산시트, 프리즘시트 및 보상시트를 모두 포함하는 의미로서, 별도로 광학시트의 종류 또는 용도에 대해 언급하지 않는 이상, 이들 모두를 포함하는 폭 넓은 의미로 사용한다.
또한, 본 발명에서 사용하는 용어인 시트는 판(plate) 형태, 시트(sheet) 형태 및 필름(film) 형태를 모두 포함하는 의미이다.
본 발명의 광학시트용 수지 조성물, 이를 포함하는 광학시트 및 이의 제조방법은 종래의 광학시트보다 두께가 박형화되어 있을 뿐만 아니라, 색재현율, 신뢰성 및 휘도가 우수하다.
또한, 제조 공정을 단순화하여 광학시트 제조에 있어서 생산성을 향상시킬 수 있다.
도 1은 종래의 광학시트를 도시화한 모식도이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 광학시트를 도시화한 모식도이다.
도 3은 본 발명의 프리즘 패턴을 도시화한 모식도이다.
도 4는 본 발명의 마이크로 랜즈 패턴을 도시화한 모식도이다.
도 5는 본 발명의 콘 패턴을 도시화한 모식도이다.
도 6은 본 발명의 바람직한 다른 일실시예에 따른 광학시트를 도시화한 모식도이다.
도 7은 실시예 4에 따른 광학시트를 도시화한 모식도이다.
이하, 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.
상술한 바와 같이 양자점 형광체를 이용한 조명개발에 있어 양자점은 합성재료 및 양자점 사이즈에 따라 다양한 파장의 빛을 발광할 수 있고 발광빔의 반치폭 또한 조절 가능하다. 좁은 반치폭, 다양한 파장의 발광빔 등 물리적 특징으로 인해 태양광과 흡사한 조명 개발 뿐만 아니라 고색재현율이 가능한 BLU 개발이 가능하다.
하지만, 양자점 형광체를 이 같은 응용분야에 적용함에 있어, 상기 형광체는 일반적으로 산소 및 수분에 의한 안정성이 떨어지는 문제점이 있었다. 이와 같은 산소 및 수분에 의한 안정성을 보완하기 위해 다양한 광기능성 필름이 필수적으로 요구된다.
하지만, 다양한 광기능성 필름은 가격이 높을 뿐만 아니라, 휘도가 손실되는 문제점이 있기 때문에, 형광체의 산소 및 수분에 대한 안정성을 향상시키면서 광기능성 필름이 가지고 있는 문제점을 개선할 수 있는 백라이트 유닛에 사용가능한 광학시트의 개발이 시급한 시점이다.
이에 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 티올 화합물 및 하기 화학식 2로 표시되는 이소시아네이트 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학시트용 수지 조성물 및/또는 배리어 시트층, 형광체층 및 광학층이 순차적으로 적층되고, 상기 광학층은 상기 광학시트용 수지 조성물을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학시트를 제공함으로써 상술한 문제의 해결을 모색하였으며, 이를 통해 색재현율 및 신뢰성이 우수할 뿐만 아니라 높은 휘도 및 두께의 박형화를 가질 수 있는 광학시트용 수지 조성물, 이를 포함하는 광학시트 및 이의 제조방법을 제공할 수 있다.
또한, 본 발명은 제조 공정을 단순화하여 광학시트 제조에 있어서 생산성을 향상시킬 수 있는 광학시트용 수지 조성물, 이를 포함하는 광학시트 및 이의 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 광학시트용 수지 조성물은 적어도 하나의 티올기(thiol group)를 갖는 티올 화합물 및 적어도 하나의 이소시아네이트기(isocyanate group)를 갖는 이소시아네이트 화합물을 포함한다.
먼저, 상기 티올 화합물은 적어도 하나의 티올기를 갖는 화합물을 모두 포함할 수 있지만, 바람직하게는 하기 화학식 1로 표시되는 티올 화합물을 포함할 수 있다.
[화학식 1]
Figure pat00003
상기 화학식 1에 있어서, 상기 a, b, c, d는 각각 독립적으로 1 ~ 10인 정수일 수 있고, 바람직하게는 상기 a, b, c, d는 각각 독립적으로 1 ~ 5인 정수일 수 있으며, 더욱 바람직하게는 상기 a, b, c, d는 각각 독립적으로 1 ~ 2인 정수일 수 있다.
다음으로, 상기 이소시아네이트 화합물은 적어도 하나의 이소시아네이트기(isocyanate group)를 갖는 화합물을 모두 포함할 수 있지만, 바람직하게는 하기 화학식 2로 표시되는 이소시아네이트 화합물을 포함할 수 있다.
[화학식 2]
Figure pat00004
상기 화학식 2에 있어서, 상기 R1, R2, R3는 각각 독립적으로 C1 ~ C10의 알킬기(alkyl group) 또는 알켄닐기(alkenyl group)일 수 있고, 바람직하게는 C1 ~ C5의 알킬기(alkyl group) 또는 알켄닐기(alkenyl group)일 수 있으며, 더욱 바람직하게는 C1 ~ C3의 알켄닐기(alkenyl group)일 수 있다.
한편, 상기 이소시아네이트 화합물 및 티올 화합물은 1 : 1 ~ 2 중량비, 바람직하게는 1 : 1.25 ~ 1.75 중량비로 포함될 수 있다.
본 발명의 광학시트용 수지 조성물은 후술할 광학시트를 구성하는 광학층에 포함될 수 있는데, 만일, 상기 이소시아네이트 화합물 1 중량비에 대하여 티올 화합물이 1 중량비 미만으로 포함된다면, 광학층에 투습도가 증가하여 형광체층의 산소 및 수분에 의한 안정성이 떨어지며, 2 중량비를 초과하여 포함된다면 광학시트의 휘도가 떨어지는 문제점이 발생할 수 있다.
한편, 본 발명의 광학시트용 수지 조성물은 광중합 개시제를 더 포함할 수 있으며, 상기 광중합 개시제는 전체 조성물 100 중량%에 대하여 1 ~ 5 중량%, 바람직하게는 2 ~ 4 중량%를 포함될 수 있으며,
상기 광중합 개시제는 광학시트용 수지 조성물의 내부 및 표면 경화를 충분히 진행시키는 역할을 하는 것으로서, 당업계에서 사용할 수 있는 다양한 물질이 사용될 수 있으며, 바람직하게는 벤조인 에테르(benzoin ether), 디알킬아세토페논(dialkyl acetophenone), 하이드록실 알킬케톤(hydroxyl alkylketone), 페닐글리옥실레이트(phenyl glyoxylate), 벤질디메틸케탈(Benzyl Dimethyl Ketal), 아실포스핀(acyl phosphine) 및 알파-아미노케톤(α-aminoketone) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
또한, 시판되고 있는 광중합 개시제로 상품명 「Darocur 1173」, 「Igacure 184」, 「Igacure 907」(Ciba 제조)을 포함할 수 있다.
나아가, 본 발명의 앞서 언급한 광학시트용 수지 조성물을 포함하는 광학시트를 제공하는데, 도 2를 참조하여 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
본 발명의 광학시트(100)는 배리어 시트층(10), 형광체층(20) 및 광학층 (30)이 순차적으로 적층되고, 상기 광학층(30)은 앞서 언급한 광학시트용 수지 조성물을 포함한다.
먼저, 배리어 시트층(10)은 배리어 필름(barrier film)으로 형성될 수 있으며, 바람직하게는 상기 배리어 시트층(10)은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP) 및 유리 중 적어도 하나를 포함하는 배리어 필름일 수 있으며, 더욱 바람직하게는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP) 및 유리 중 적어도 하나를 포함하는 베이스 상에 실리카 계열의 물질이 코팅 및 증착되어 형성된 배리어 필름일 수 있다.
상기 배리어 시트층(10)의 평균두께는 90 ~ 150㎛, 바람직하게는 100 ~ 130㎛일 수 있으며, 만일 평균두께가 90㎛ 미만이면 광학시트 제조공정 중에 사행 및 시트 처짐 등의 제조 공정 불가의 문제점이 발생할 수 있고, 150㎛를 초과하면 본 발명의 광학시트의 두께가 두꺼워져 조립의 문제가 발생할 수 있다.
다음으로, 형광체층(20)은 상기 배리어 시트층(10)의 상부에 적층되어, 본 발명의 광학시트에서 광을 발광하는 부분으로서 형광체를 포함할 수 있고, 바람직하게는 기존의 형광체보다 반치폭이 작은 양자점(quantum dot) 형광체를 포함할 수 있어, 보다 나은 색재현성을 보일 수 있다.
구체적으로, 형광체층(20)은 수지(resin)에 양자점 형광체가 포함된 구조일 수 있으며, 상기 수지(resin)는 금속-유기물 전구체가 경화되어 형성된 것일 수 있다.
상기 양자점 형광체는 CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, HgS, HgSe, HgSe, HgTe, GaN, GaP, HaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InN, InP, InAs, InSb, Si 및 Ge 중 적어도 하나를 포함할 수 있으며, 다만 이에 한정되는 것은 아니고, II-VI 족 또는 III-V 족 화합물 반도체 그룹의 나노 결정, 이들의 혼합물, 및 복합물을 포함할 수 있다. 이 뿐만 아니라, 상기 양자점 형광체는 비카드뮴 양자점도 포함할 수 있다.
상기 금속-유기물 전구체를 구성하는 금속 원소는 리듐(Li), 베릴륨(Be), 붕소(B), 나트륨(Na), 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 규소(Si), 인(P), 황(S), 칼륨(K), 칼슘(Ca), 스칸듐(Sc), 타이타늄(Ti), 바나듐(V), 크로뮴(Cr), 망간(Mn), 철(Fe), 코발트(Co), 니켈(Ni), 구리(Cu), 아연(Zn), 갈륨(Ga), 저마늄(Ge), 비소(As), 셀레늄(Se), 류비듐(Rb), 스트론튬(Sr), 이트륨(Y), 지르코늄(Zr), 나이오븀(Nb), 몰리브덴(Mo), 루테늄(Ru), 로듐(Rh), 인듐(In), 주석(Sn), 텔루륨(Te), 안티몬(Sb), 바륨(Ba), 란탄(La), 세륨(Ce), 프라세오디뮴(Pr), 네오디뮴(Nd), 프로메튬(Pm), 가돌리늄(Gd), 하프늄(Hf), 탄탈륨(Ta), 텅스텐(W), 이리듐(Ir), 납(Pb), 비스무스(Bi), 폴로늄(Po) 및 우라늄(U) 중 적어도 하나를 포함할 수 있으며, 이들 금속들은 금속-유기물 전구체가 자외선에 노출 또는 열을 가하는 경우 공통적으로 금속 산화박막을 형성할 수 있다.
상기 형광체층(20)의 평균두께는 60 ~ 120㎛, 바람직하게는 75 ~ 110㎛일 수 있으며, 만일 평균두께가 60㎛ 미만이면 휘도 저하 및 그린(green), 레드(red) 색의 색좌표가 낮아지는 문제점이 발생할 수 있고, 120㎛를 초과하면 색좌표 이상 및 원가 상승의 문제점이 발생할 수 있다.
다음으로, 광학층(30)은 상기 형광체층(20)을 보호하기 위한 보호층으로서, 상기 형광체층(20)의 상부에 적층될 수 있다.
상기 광학층(30)은 앞서 언급한 광학시트용 수지 조성물을 포함함으로서 투습도가 낮아 형광체층(20)의 산소 및 수분에 의한 안정성이 우수하여, 본 발명의 광학시트(100)의 신뢰성이 우수할 수 있다.
구체적으로, 광학층(30)이 상기 배리어 필름층(10)과 같이 상기 형광체층(20)을 보호하기 위한 보호층으로 사용하기 위해선 투습도 측정기로 측정시, 투습도가 2.0g/m2·day 이하, 바람직하게는 1.0g/m2·day 이하이여야 하는데, 본 발명의 광학층(30)은 투습도가 1.0g/m2·day 이하, 바람직하게는 0.8g/m2·day 이하, 더욱 바람직하게는 0.2g/m2·day 이하일 수 있어 형광체층(20)의 산소 및 수분에 의한 안정성이 우수하여, 본 발명의 광학시트(100)의 신뢰성이 우수할 수 있다.
상기 투습도 측정기는 MOCON 사의 제품인 상품명 「AQUATRAN MODEL 2」가 사용될 수 있다.
상기 광학층(30)은 평평한 평면으로 형성될 수 있으며, 또는 구조화된 단차패턴이 형성될 수 있다.
구체적으로, 상기 단차패턴은 광학층(30)의 전부 또는 일부에 형성될 수 있으며, 바람직하게는 광학층(30)의 상부면에 구조화된 단차패턴이 형성될 수 있으며, 구조화된 단차패턴은 연속적 또는 비연속적으로 형성될 수 있다.
상기 광학층은 평균두께는 3 ~ 70㎛로 형성될 수 있는데, 만일 상기 광학층이 평평한 평면으로 형성된 경우의 광학층의 두께는 투습도를 고려하여 3 ~ 30 ㎛로 형성될 수 있으며, 바람직하게는 5 ~ 15㎛로 형성 될 수 있다. 이 때, 광학층의 평균두께가 3㎛ 미만이면 투습도가 상승하여 형광체층(20)을 보호하기 어려울 수 있고, 휘도가 저하될 수 있으며, 30㎛를 초과하면 두께가 두꺼워져 원가 상승의 문제점과 휘도가 저하되는 문제점이 발생 될 수 있다.
또한, 상기 광학층의 상부면이 구조화된 단차패턴으로 형성될 경우, 상기 광학층은 기저층 상에 구조화된 단차패턴이 형성되며, 상기 기저층은 3 ~ 30㎛로 형성될 수 있으며, 단차패턴은 패턴의 형태에 따라 각각 상이한 높이로 형성 될 수 있다. 상기 단차패턴의 형태에 따른 높이는 후술하기로 한다.
한편, 상기 광학층에 단차 패턴이 형성됨으로서 본 발명의 광학시트(100)의 휘도 및 광학기능을 더욱 향상시킬 수 있는바, 분광 휘도계로 측정시 휘도는 19,000cd/cm2 이상일 수 있다.
상기 분광 휘도계는 미놀타 사의 제품인 상품명 「CS-2000」이 사용될 수 있다.
상기 단차 패턴은 프리즘 패턴, 피라미드 패턴, 다각뿔 패턴, 마이크로 랜즈 패턴, 콘 패턴 및 이들이 혼합된 패턴 중에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있으며, 바람직하게는 프리즘 패턴, 마이크로 랜즈 패턴 및 콘 패턴 중에서 선택된 패턴일 수 있다.
상기 단차 패턴을 형성시키는 방법은 당업계에서 사용하는 일반적인 방법인 롤투롤(roll-to-roll) 공정, 임프린팅(imprinting) 공정 등을 통해서 패턴을 형성시킬 수 있으며, 바람직하게는 롤투롤 공정을 통해서 형성시킬 수 있다.
상기 단차패턴을 상부면에 갖는 광학층(30)의 평균두께는 15 ~ 70㎛, 바람직하게는 35 ~ 45㎛일 수 있으며, 만일 평균두께가 15㎛ 미만이면 형광체층(20)을 보호하기 어려울 수 있고, 휘도 및 광학기능이 저하될 수 있으며, 70㎛를 초과하면, 휘도 및 광학기능이 저하될 수 있고, 원가 상승의 문제점이 발생할 수 있다.
구체적으로, 상기 단차 패턴으로 프리즘 패턴을 가질 때, 도 3에 개시된 바와 같이 이웃하는 프리즘 패턴의 윗변 간의 거리가 48 ~ 72㎛, 바람직하게는 54 ~ 66㎛이고, 패턴의 높이가 24 ~ 36㎛, 바람직하게는 27 ~ 33㎛일 수 있다.
이 때, 이웃하는 프리즘 패턴의 윗변 간의 거리가 48㎛ 미만이면 휘도 저하 문제가 있을 수 있고, 72㎛를 초과하면 모아레(Moire)가 발생할 수 있으며, 패턴의 높이가 24㎛ 미만이면 휘도저하의 문제가 있을 수 있고, 36㎛를 초과하면 모아레(Moire) 발생 및 두께 상승으로 인한 원가상승의 문제가 있을 수 있다.
또한, 상기 단차 패턴으로 마이크로 랜즈 패턴을 가질 때, 도 4에 개시된 바와 같이 이웃하는 마이크로 랜즈 패턴의 윗변 간의 거리가 24 ~ 36㎛, 바람직하게는 27 ~ 33㎛이고, 패턴의 높이가 12 ~ 15㎛, 바람직하게는 13 ~ 14㎛일 수 있다.
이 때, 이웃하는 마이크로 패턴의 윗변 간의 거리가 24㎛ 미만이면 휘도 저하 문제가 있을 수 있고, 36㎛를 초과하면 모아레(Moire)가 발생할 수 있으며, 패턴의 높이가 27㎛ 미만이면 휘도저하의 문제가 있을 수 있고, 33㎛를 초과하면 모아레(Moire) 발생 및 두께 상승으로 인한 원가상승의 문제가 있을 수 있다.
또한, 상기 단차 패턴으로 콘 패턴을 가질 때, 도 5에 개시된 바와 같이 아랫변이 육각형태일 수 있고, 이웃하는 콘 패턴의 윗변 간의 거리가 40 ~ 60㎛, 바람직하게는 45 ~ 55㎛이고, 패턴의 높이가 16 ~ 24㎛, 바람직하게는 18 ~ 22㎛일 수 있다.
이 때, 이웃하는 콘 패턴의 윗변 간의 거리가 40㎛ 미만이면 휘도 저하 문제가 있을 수 있고, 60㎛를 초과하면 모아레(Moire)가 발생할 수 있으며, 패턴의 높이가 16㎛ 미만이면 휘도 저하의 문제가 있을 수 있고, 24㎛를 초과하면 모아레(Moire) 발생 및 두께 상승으로 인한 원가상승의 문제가 있을 수 있다.
한편, 본 발명의 바람직한 다른 일시예에 따르면, 본 발명의 광학시트는 도 6를 참조하여 설명하면, 배리어 시트층(10'), 형광체층(20') 및 광학층 (30')이 순차적으로 적층되고, 상기 광학층(30')은 앞서 언급한 광학시트용 수지 조성물을 포함할 수 있으며, 광학층(30') 저면에도 선택적으로 구조화된 단차패턴이 형성될 수 있다.
구체적으로, 앞서 언급했듯이 광학층(30')의 상부면이 평면이거나 단차패턴을 가질 때, 상기 형광체층(20')과 맞닿는 광학층(30')의 하부면에도 선택적으로 구조화된 단차패턴을 가질 수 있다. 이와 같이 광학층(30')의 하부면에도 선택적으로 구조화된 단차패턴이 형성함으로서 모아레 방지 효과, 형광체층(20')과 광학층(30')과의 결합력을 증대 및 휘도 향상 효과를 가질 수 있다.
상기 광학층(30')의 하부면에 형성되는 단차패턴은 양각(a) 및 음각(b)이 반복되는 패턴일 수 있으며, 바람직하게는 상기 패턴은 사각형 패턴 또는 사다리꼴 패턴일 수 있으며, 더욱 바람직하게는 사다리꼴 패턴일 수 있다. 다만, 광학층(30')의 하부면에 형성되는 단차패턴은 이에 한정되는 것은 아니다.
또한, 광학층(30')의 하부면에 형성되는 단차패턴의 윗변 또는 아랫변은 평평한 면으로 형성될 수 있다.
나아가, 광학층(30')의 하부면에 형성되는 단차패턴이 사각형 패턴일 경우, 피치(pitch)는 200 ~ 400㎛, 바람직하게는 250 ~ 350㎛일 수 있고, 높이는 55 ~ 115㎛, 양각(a) 패턴의 폭은 15 ~ 70㎛, 음각(b) 패턴의 폭은 130 ~ 385㎛일 수 있다.
또한, 광학층(30')의 하부면에 형성되는 단차패턴이 사다리꼴 패턴일 경우, 피치(pitch)는 200 ~ 400㎛, 바람직하게는 250 ~ 350㎛일 수 있고, 높이는 55 ~ 115㎛, 양각(a) 패턴의 윗변은 15 ~ 35㎛, 양각(a) 패턴의 아랫변은 40 ~ 70㎛, 음각(b) 패턴의 윗변은 175 ~ 385㎛, 음각(b) 패턴의 아랫변은 130 ~ 360㎛일 수 있다.
한편, 본 발명은 앞서 언급한 광학시트를 포함하는 백라이트 유닛을 제공하며, 상기 백라이트 유닛을 포함하는 액정표시장치를 제공할 수 있다.
한편, 본 발명은 (1) 배리어 시트층의 상부에 양자점이 포함된 금속-유기물 전구체 용액을 도포하는 단계; (2) 도포된 금속-유기물 전구체 용액을 UV경화하여 형광체층을 형성하는 단계; (3) 상기 형광체층 상부에 앞서 언급한 광학시트용 수지 조성물을 도포하는 단계; 및 (4) 도포된 광학시트용 수지 조성물에 연속적 또는 비연속적으로 형성된 단차 패턴을 갖는 광학층을 형성하는 단계;를 포함한다.
이 때, 상기 (2) 단계의 형광체층을 형성하는 단계는 UV 경화대신 열경화하여 형광체층을 형성할 수도 있다.
이와 같은 제조방법을 통해, 본 발명의 제조방법은 종래의 광학시트 제조방법에 비해 제조 공정을 단순화하여 생산성을 향상시킬 수 있다.
또한, 상기 광학층은 1.5 이상의 굴절율을 가질 수 있다.
한편, 상기 (2) 단계는 산소 100ppm 이하, 바람직하게는 산소 50ppm 이하의 질소 분위기 하에서 수행될 수 있으며, 이와 같이 질소 분위기 하에서 수행됨으로서, 형광체층에 포함된 양자점 형광체가 활성되는데 방해요소로 작용할 수 있는 수분과 산소가 제거될 수 있으며, 이를 통해 제조된 광학시트의 색재현율 및 휘도를 상승시킬 수 있다.
또한, 상기 형광체층을 형성하는데 있어서, 당업계에서 사용하는 일반적인 방법이 사용될 수 있으며, 바람직하게는 슬롯 다이(slot die) 공정을 통해서 형성시킬 수 있다.
또한, 패턴이 형성된 형광체층 또는 상부면에 단차 패턴을 갖는 광학층을 형성하는데 있어서, 당업계에서 사용하는 일반적인 방법인 롤투롤(roll-to-roll) 공정, 임프린팅(imprinting) 공정 등을 통해서 형성시킬 수 있으며, 바람직하게는 임프린팅(imprinting) 공정을 통해서 형성시킬 수 있다.
하기의 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하기로 하지만, 하기 실시예가 본 발명의 범위를 제한하는 것은 아니며, 이는 본 발명의 이해를 돕기 위한 것으로 해석되어야 할 것이다.
실시예
준비예 1
하기 화학식 1-1로 표시되는 티올 화합물, 하기 화학식 2-1로 표시되는 이소시아네이트 화합물 및 광중합 개시제(Ciba, Igacrue184)를 혼합하여 광학시트용 수지 조성물을 제조하였다.
화학식 2-1로 표시되는 이소시아네이트 화합물 및 화학식 1-1로 표시되는 티올 화합물은 1 : 1.5 중량비로 혼합되었으며,
상기 광중합 개시제는 전체 조성물 100 중량%에 대하여 3 중량%가 혼합되었다.
[화학식 1-1]
Figure pat00005
[화학식 2-1]
Figure pat00006

준비예 2
준비예 1과 동일하게 실시하여 제조하되, 화학식 2-1로 표시되는 이소시아네이트 화합물 및 화학식 1-1로 표시되는 티올 화합물은 1 : 0.67 중량비로 혼합되어 광학시트용 수지 조성물을 제조하였다.
준비예 3
준비예 1과 동일하게 실시하여 제조하되, 화학식 2-1로 표시되는 이소시아네이트 화합물 및 화학식 1-1로 표시되는 티올 화합물은 1 : 4.0 중량비로 혼합되어 광학시트용 수지 조성물을 제조하였다.
준비예 4
전체 100 중량%에 대하여, 에폭시 아크릴레이트(epoxy acrylate) 45중량%, 우레탄 아크릴레이트(utethane acrylate) 12.5중량%, 아크릴레이트 모노머(acrylate monomer) 40 중량% 및 광중합 개시제(Ciba, Igacrue184) 2.5 중량%를 혼합하여 광학시트용 수지 조성물을 제조하였다.
실시예 1
도 2에 도시된 바와 같이, 광학시트를 제조함에 있어서 배리어 시트층(10) 상부에 양자점이 포함된 금속-유기물 전구체 용액을 도포하였다. 도포된 금속-유기물 전구체 용액을 산소 100ppm 이하의 질소 분위기 하, 500mJ의 UV-A 파장으로 UV 경화하여 형광체층(20)을 형성하였다. 이 때, 상기 형광체층(20)은 슬롯 다이(Slot die) 방식으로 배리어 시트층(10) 상부에 코팅 및 경화하였다.
다음으로, 상기 경화된 형광체층(20) 상부에 준비예 1에서 제조된 광학시트용 수지 조성물을 도포한다. 도포된 준비예 1에서 제조된 광학시트용 수지 조성물에 임프린팅(imprinting) 공정을 통해서 윗변 간의 거리가 60㎛이고, 패턴의 높이가 30㎛인 프리즘 패턴(도 3참조)을 갖는 광학층(30)을 형성하고, 1000mJ의 UV-A 파장으로 UV경화하여 광학시트를 제조하였다.
이 때, 상기 배리어 시트층(10)는 실리카 계열 물질을 베이스 필름 상에 코팅 및 증착한 것을 사용하였고, 상기 금속-유기물 전구체 용액은 LA(lauryl acrylate: 친수성이 매우 적은 아크릴 모노머)를 메인 모노머(main monomer)로 사용하며, 양자점으로는 InP, 또는 II 내지 VI 족 반도체 양자점 중 하나가 포함되었다.
또한, 제조된 광학시트의 상기 배리어 시트층(10)는 125㎛의 두께를 가지고, 상기 형광체층(20)은 100㎛의 두께를 가지며, 상기 광학층(30)은 40㎛의 두께로 제조하였다.
실시예 2
실시예 1과 동일하게 실시하여 제조하되, 준비예 1에서 제조된 광학시트용 수지 조성물 대신 준비예 2에서 제조된 광학시트용 수지 조성물을 사용하여 광학시트를 제조하였다.
실시예 3
실시예 1과 동일하게 실시하여 제조하되, 준비예 1에서 제조된 광학시트용 수지 조성물 대신 준비예 3에서 제조된 광학시트용 수지 조성물을 사용하여 광학시트를 제조하였다.
실시예 4
도 7에 도시된 바와 같이, 광학시트를 제조함에 있어서 배리어 시트층(11) 상부에 양자점이 포함된 금속-유기물 전구체 용액을 도포하였다. 도포된 금속-유기물 전구체 용액을 산소 100ppm 이하의 질소 분위기 하, 500mJ의 UV-A 파장으로 UV 경화하여 형광체층(22)을 형성하였다. 이 때, 상기 형광체층(22)은 슬롯 다이(Slot die) 방식으로 배리어 시트층(11) 상부에 코팅 및 경화하였다.
다음으로, 상기 경화된 형광체층(20) 상부에 준비예 1에서 제조된 광학시트용 수지 조성물을 도포한다. 도포된 준비예 1에서 제조된 광학시트용 수지 조성물에 1000mJ의 UV-A 파장으로 UV 경화하여 광학층(33)을 형성함으로서 광학시트를 제조하였다.
이 때, 상기 배리어 시트층(11)는 실리카 계열 물질을 베이스 필름 상에 코팅 및 증착한 것을 사용하였고, 상기 금속-유기물 전구체 용액은 LA(lauryl acrylate: 친수성이 매우 적은 아크릴 모노머)를 메인 모노머(main monomer)로 사용하며, 양자점으로는 InP, 또는 II 내지 VI 족 반도체 양자점 중 하나가 포함되었다.
또한, 제조된 광학시트의 상기 배리어 시트층(11)는 125㎛의 두께를 가지고, 상기 형광체층(22)은 100㎛의 두께를 가지며, 상기 광학층(33)은 40㎛의 두께로 제조하였다.
실시예 5
실시예 1과 동일하게 실시하여 제조하되, 도포된 금속-유기물 전구체 용액을 열경화하여 형광체층(20)을 형성할 때, 산소 100ppm 이하의 질소 분위기 하 대신, 공기 분위기 하에서 수행하여 광학시트를 제조하였다.
실시예 6
실시예 1과 동일하게 실시하여 제조하되, 도포된 준비예 1에서 제조된 광학시트용 수지 조성물에 임프린팅(imprinting) 공정을 통해서 윗변 간의 거리가 30㎛이고, 패턴의 높이가 15㎛인 마이크로 렌즈 패턴(도 4 참조)을 갖는 광학층을 형성하고, 1000mJ의 UV-A 파장으로 UV경화하여 광학시트를 제조하였다.
실시예 7
실시예 1과 동일하게 실시하여 제조하되, 도포된 준비예 1에서 제조된 광학시트용 수지 조성물에 임프린팅(imprinting) 공정을 통해서 아랫변이 육각형태이고, 윗변 간의 거리가 50㎛이며, 패턴의 높이가 20㎛인 콘 패턴(도 5 참조)을 갖는 광학층을 형성하고, 1000mJ의 UV-A 파장으로 UV경화하여 광학시트를 제조하였다.
비교예 1
실시예 1과 동일하게 실시하여 제조하되, 준비예 1에서 제조된 광학시트용 수지 조성물 대신 준비예 4에서 제조된 광학시트용 수지 조성물을 사용하여 광학시트를 제조하였다.
비교예 2
도 7에 도시된 바와 같이, 광학시트를 제조함에 있어서 배리어 시트층(11) 상부에 양자점이 포함된 금속-유기물 전구체 용액을 도포하였다. 도포된 금속-유기물 전구체 용액을 산소 100ppm 이하의 질소 분위기 하, 500mJ의 UV-A 파장으로 UV 경화하여 형광체층(22)을 형성하였다. 이 때, 상기 형광체층(22)은 슬롯 다이(Slot die) 방식으로 배리어 시트층(11) 상부에 코팅 및 경화하였다.
상기 형광체층(22) 상에 접착제를 도포한 후 배리어 시트층(11')을 부착하여 광학시트를 제조하였다.
.이 때, 상기 배리어 시트층(11, 11')은 실리카 계열 물질을 베이스 필름 상에 코팅 및 증착한 것을 사용하였고, 상기 금속-유기물 전구체 용액은 LA(lauryl acrylate: 친수성이 매우 적은 아크릴 모노머)를 메인 모노머(main monomer)로 사용하며, 양자점으로는 InP, 또는 II 내지 VI 족 반도체 양자점 중 하나가 포함되었다.
또한, 제조된 광학시트의 상기 배리어 시트층(11, 11')는 125㎛의 두께를 가지고, 상기 형광체층(22)은 100㎛의 두께로 제조하였다.
실험예 1
상기 실시예 및 비교예를 통해 제조된 광학시트에 대해 하기의 물성을 측정하여 표 1 및 표 2에 나타내었다.
(1) 휘도 측정
분광 휘도계(미놀타, CS-2000)를 이용하여 광학시트의 휘도를 측정하였다.
(2) 투습도 측정
투습도 측정기(MOCON, AQUATRAN MODEL 2)를 이용하여 광학시트의 광학층의 투습도를 측정하였다.
구분 실시예
1		 실시예
2		 실시예
3		 실시예
4		 실시예
5
휘도
(cd/cm2)		 20,341 18,998 17,800 19,970 19,582
투습도
(g/m2·day)		 0.8
이하		 1.5 3.2 0.8
이하		 0.8
이하
구분 실시예
6		 실시예
7		 비교예
1		 비교예
2
휘도
(cd/cm2)		 19,300 19,700 20,135 19,001
투습도
(g/m2·day)		 0.8
이하		 0.8
이하		 10.0
이상		 0.2
상기 표 1에서 확인할 수 있듯이, 실시예 1에서 제조된 광학시트는 비교예 1에서 제조된 광학시트보다 투습도가 현저히 낮음을 확인할 수 있었고, 비교예 2에서 제조된 광학시트보다 휘도가 현저히 우수함을 확인할 수 있었다.
또한, 실시예 1에서 제조된 광학시트는 실시예 2 및 실시예 3에서 제조된 광학시트보다 휘도가 우수하고, 투습도가 낮음을 확인할 수 있었다.
또한, 실시예 1에서 제조된 광학시트는 실시예 4 및 실시예 5에서 제조된 광학시트보다 휘도가 우수함을 확인할 수 있었으며, 실시예 6 및 실시예 7에서 제조된 광학시트보다도 휘도가 우수함을 확인할 수 있었다.

Claims (20)

  1. 하기 화학식 1로 표시되는 티올 화합물 및 하기 화학식 2로 표시되는 이소시아네이트 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학시트용 수지 조성물;
    [화학식 1]
    Figure pat00007

    상기 화학식 1에 있어서, 상기 a, b, c, d는 각각 독립적으로 1 ~ 10인 정수이고,
    [화학식 2]
    Figure pat00008

    상기 화학식 2에 있어서, 상기 R1, R2, R3는 각각 독립적으로 C1 ~ C10의 알킬기(alkyl group) 또는 알켄닐기(alkenyl group)이다.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 이소시아네이트 화합물 및 티올 화합물은 1 : 1 ~ 2 중량비로 포함되는 것을 특징으로 하는 광학시트용 수지 조성물.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 광학시트용 수지 조성물은 광중합 개시제를 더 포함하고,
    상기 광중합 개시제는 전체 조성물 100 중량%에 대하여 1 ~ 5 중량%가 포함되는 것을 특징으로 하는 광학시트용 수지 조성물.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 광중합 개시제는 벤조인 에테르(benzoin ether), 디알킬아세토페논(dialkyl acetophenone), 하이드록실 알킬케톤(hydroxyl alkylketone), 페닐글리옥실레이트(phenyl glyoxylate), 벤질디메틸케탈(Benzyl Dimethyl Ketal), 아실포스핀(acyl phosphine) 및 알파-아미노케톤(α-aminoketone) 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학시트용 수지 조성물.
  5. 배리어 시트층, 형광체층 및 광학층이 순차적으로 적층되고,
    상기 광학층은 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 따른 광학시트용 수지 조성물을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학시트.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 광학층은 연속적 또는 비연속적으로 형성된 단차 패턴을 갖는 것을 특징으로 하는 광학시트.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 단차 패턴은 프리즘 패턴, 피라미드 패턴, 다각뿔 패턴, 마이크로 랜즈 패턴, 콘 패턴 및 이들이 혼합된 패턴 중에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학시트.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 프리즘 패턴은 이웃하는 프리즘 패턴의 윗변 간의 거리가 48 ~ 72㎛이고, 패턴의 높이가 24 ~ 36㎛인 것을 특징으로 하는 광학시트.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 마이크로 랜즈 패턴은 이웃하는 마이크로 랜즈 패턴의 윗변 간의 거리가 24 ~ 36㎛이고, 패턴의 높이가 12 ~ 18㎛인 것을 특징으로 하는 광학시트.
  10. 제7항에 있어서,
    상기 콘 패턴은 아랫변이 육각형태이고, 이웃하는 콘 패턴의 윗변 간의 거리가 40 ~ 60㎛이며, 패턴의 높이가 16 ~ 24㎛인 것을 특징으로 하는 광학시트.
  11. 제5항에 있어서,
    상기 형광체층은 양자점 형광체를 포함하고,
    상기 양자점 형광체는 CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, HgS, HgSe, HgSe, HgTe, GaN, GaP, HaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InN, InP, InAs, InSb, Si 및 Ge 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학시트.
  12. 제5항에 있어서,
    상기 배리어 시트층은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP) 및 유리 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학시트.
  13. 제5항에 있어서,
    상기 배리어 시트층은 평균두께 90 ~ 150㎛이고,
    상기 형광체층은 평균두께 60 ~ 120㎛이며,
    상기 광학층은 평균두께 3 ~ 70㎛인 것을 특징으로 하는 광학시트.
  14. 제5항에 있어서,
    상기 광학층의 투습도가 1.0g/m2·day 이하인 것을 특징으로 하는 광학시트.
  15. 제6항에 있어서,
    상기 광학시트의 휘도는 19,000 cd/cm2 이상인 것을 특징으로 하는 광학시트.
  16. 배리어 시트층;
    상기 배리어 시트층 상에 형성되고, 양자점 형광체를 포함하는 형광체층; 및
    상기 형광체층 상에 형성되고, 연속적 또는 비연속적으로 형성된 단차 패턴을 가지는 광학층;
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학시트.
  17. 제5항 내지 제16항 중 어느 한 항의 따른 광학시트를 포함하는 백라이트 유닛.
  18. 제17항의 백라이트 유닛을 포함하는 액정표시장치.
  19. (1) 배리어 시트층의 상부에 양자점이 포함된 금속-유기물 전구체 용액을 도포하는 단계;
    (2) 도포된 금속-유기물 전구체 용액을 UV경화하여 형광체층을 형성하는 단계;
    (3) 상기 형광체층 상부에 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 따른 광학시트용 수지 조성물을 도포하는 단계; 및
    (4) 도포된 광학시트용 수지 조성물에 연속적 또는 비연속적으로 형성된 단차 패턴을 갖는 광학층을 형성하는 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학시트 제조방법.
  20. 제19항에 있어서,
    상기 (2) 단계는 산소 100ppm 이하의 질소 분위기 하에서 수행되는 것을 특징으로 하는 광학시트 제조방법.
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