KR20160101091A - 사실상 원통형인 경면 반사면의 형상을 결정하기 위한 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 사실상 원통형인 경면 반사면의 형상을 결정하기 위한 방법으로서, 보정 데이터를 획득하는 단계와, 공간 주파수 패턴을 포함하는 표적 구조체에 관한 표적 데이터를 획득하는 단계를 포함하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 방법은 경면 반사면 내의 표적 구조체의 반사 이미지를 캡처링하는 단계와, 반사 이미지로부터 반사 데이터를 획득하는 단계를 추가로 포함한다. 본 발명의 방법은 표적 데이터와 반사 데이터 사이의 대응관계를 결정하는 단계와, 경면 반사면의 형상을 결정하기 위해 상기 대응관계 및 보정 데이터를 이용하는 단계를 추가로 포함한다.

Description

사실상 원통형인 경면 반사면의 형상을 결정하기 위한 방법{METHODS FOR DETERMINING A SHAPE OF A SUBSTANTIALLY CYLINDRICAL SPECULAR REFLECTIVE SURFACE}

[우선권 - 관련 출원의 상호 참조]

본 출원은 그 전체 내용이 신뢰성 있게 본 명세서에서 원용되는 2013년 12월 19일자로 출원된 미국 특허 가출원 제61/918262호의 우선권을 35 U.S.C. §119에 따라 주장한다.

[기술분야]

본 출원은 일반적으로 형상을 결정하기 위한 방법, 보다 구체적으로는 사실상 원통형인 경면 반사면의 형상을 결정하기 위한 방법에 관한 것이다.

유리 제조 장치는 유리 시트로 분리될 수도 있는 유리 리본을 형성하는데 통상 사용된다. 몇몇 어플리케이션에서는, 유리 리본, 유리 시트 또는 다른 유리 요소와 관련된 형상을 결정하는 것이 바람직할 수도 있다.

이하는 상세한 설명에 기술된 몇몇 예시적인 양태에 대한 기본적인 이해를 제공하기 위해 본 개시내용의 간략화된 요약을 제시한다.

본 개시내용의 제1 양태에서, 사실상 원통형인 경면 반사면의 형상을 결정하기 위한 방법은 (Ⅰ) 보정 데이터를 획득하는 단계와, (Ⅱ) 공간 주파수 패턴을 포함하는 표적 구조체에 관한 표적 데이터를 획득하는 단계를 포함한다. 본 발명의 방법은 (Ⅲ) 경면 반사면 내의 표적 구조체의 반사 이미지를 캡처링하는 단계와, (Ⅳ) 반사 이미지로부터 반사 데이터를 획득하는 단계를 추가로 포함한다. 본 발명의 방법은 (Ⅴ) 표적 데이터와 반사 데이터 사이의 대응관계를 결정하는 단계와, (Ⅵ) 경면 반사면의 형상을 결정하기 위해 대응관계 및 보정 데이터를 이용하는 단계를 추가로 포함한다.

제1 양태의 일례에서, 단계 (Ⅴ)는 고속 푸리에 변환을 포함한다.

제1 양태의 다른 예에서, 공간 주파수 패턴은 공간 위치의 함수를 포함한다.

제1 양태의 또 다른 예에서, 경면 반사면은 사실상 평면을 따라 연장되며, 표적 구조체는 평면에 대해 사실상 수직이다. 예컨대, 공간 주파수 패턴은 경면 반사면의 모선에 대해 사실상 평행한 방향으로 주기적인 패턴을 포함한다. 다른 예에서, 공간 주파수 패턴은 경면 반사면의 모선에 대해 사실상 수직인 방향으로 단조적으로 변화하는 주파수를 포함한다.

제1 양태의 또 다른 예에서, 경면 반사면은 시트 재료의 주 평면을 포함한다.

제1 양태의 또 다른 예에서, 형상은 경면 반사면의 횡단 프로파일을 근사화한다.

제1 양태의 또 다른 예에서, 본 발명의 방법은 경면 반사면의 복수의 형상을 결정하는 단계를 추가로 포함하며, 각각의 형상은 경면 반사면의 횡단 프로파일을 근사화한다. 예컨대, 본 발명의 방법은 복수의 형상에 기초하여 경면 반사면의 표면 프로파일을 근사화하는 단계를 추가로 포함한다.

제1 양태는 단독으로, 또는 상술된 제1 양태의 예들 중의 하나의 예와 또는 예들의 임의의 조합과 조합되어 제공될 수도 있다.

본 개시내용의 제2 양태에서, 다량의 용융 유리로부터 인출된 유리 리본의 형상을 결정하기 위한 방법은 (Ⅰ) 보정 데이터를 획득하는 단계와, (Ⅱ) 공간 주파수 패턴을 포함하는 표적 구조체에 관한 표적 데이터를 획득하는 단계를 포함한다. 본 발명의 방법은 (Ⅲ) 유리 리본 내의 표적 구조체의 반사 이미지를 캡처링하는 단계와, (Ⅳ) 반사 이미지로부터 반사 데이터를 획득하는 단계를 추가로 포함한다. 본 발명의 방법은 (Ⅴ) 표적 데이터와 반사 데이터 사이의 대응관계를 결정하는 단계와, (Ⅵ) 유리 리본의 형상을 결정하기 위해 대응관계 및 보정 데이터를 이용하는 단계를 추가로 포함한다.

제2 양태의 일례에서, 단계 (Ⅴ)는 고속 푸리에 변환을 포함한다.

제2 양태의 다른 예에서, 유리 리본은 사실상 평면을 따라 연장되며, 표적 구조체는 상기 평면에 대해 사실상 수직이다. 예컨대, 공간 주파수 패턴은 경면 반사면의 모선에 대해 사실상 평행한 방향으로 주기적인 패턴을 포함한다. 다른 예에서, 공간 주파수 패턴은 경면 반사면의 모선에 대해 사실상 수직인 방향으로 단조적으로 변화하는 주파수를 포함한다.

제2 양태의 또 다른 예에서, 유리 리본은 인출 방향으로 연속적으로 이동한다.

제2 양태의 또 다른 예에서, 형상은 유리 성형 프로세스의 상류부 파라미터를 제어하는데 이용된다.

제2 양태의 또 다른 예에서, 형상은 하류부 프로세스의 파라미터를 제어하는데 이용된다.

제2 양태의 또 다른 예에서, 형상은 유리 성형 장치의 상류부 파라미터 및 하류부 프로세스의 파라미터를 제어하는데 이용된다.

제2 양태의 또 다른 예에서, 형상은 유리 리본의 속성을 결정하는데 사용되며, 유리 리본의 품질은 속성에 기초하여 분류된다.

제2 양태는 단독으로, 또는 상술된 제2 양태의 예들 중의 하나의 예와 또는 예들의 임의의 조합과 조합되어 제공될 수도 있다.

이들 양태 및 다른 양태는 첨부 도면을 참조하여 이하의 상세한 설명을 판독하면 보다 잘 이해될 것이다.
도 1은 예시적인 원통형 표면을 도시한다.
도 2는 다른 예시적인 원통형 표면을 도시한다.
도 3은 또 다른 예시적인 원통형 표면을 도시한다.
도 4는 표적 구조체가 경면 반사면에 대해 사실상 수직인 예시적인 구성의 상면도이다.
도 5는 도 4의 구성의 측면도이다.
도 6은 도 4의 구성의 사시도이다.
도 7은 공간 주파수 패턴을 포함하는 표적 구조체에 관한 표적 데이터를 획득하는 단계와, 경면 반사면 내의 표적 구조체의 반사 이미지를 캡처링하는 단계와, 반사 이미지로부터 반사 데이터를 획득하는 단계를 포함하는 예시적인 방법을 도시한다.
도 8은 본 발명의 방법으로부터 결정될 수 있는 경면 반사면의 예시적인 형상을 도시한다.
도 9는 본 발명의 방법으로부터 결정될 수 있는 경면 반사면의 다른 예시적인 형상을 도시한다.
도 10은 본 방법의 단계의 흐름도이다.
도 11은 유리 리본을 제조하기 위한 예시적인 장치의 개략도이다.
도 12는 표적 구조체가 유리 리본에 대해 사실상 수직인 예시적인 방법을 도시하는 도 11의 라인 2-2를 따라 취한 본 발명의 장치의 확대된 부분 단면 사시도이다.
도 13은 공간 주파수로 인코딩된 표적 구조체에 관한 표적 데이터를 획득하는 단계와, 유리 리본 내의 표적 구조체의 반사 이미지를 캡처링하는 단계와, 반사 이미지로부터 반사 데이터를 획득하는 단계를 포함하는 예시적인 방법을 도시한다.
도 14는 하나 이상의 표적 구조체를 포함하는 예시적인 방법을 도시한다.
도 15는 예시적인 흑백 공간 주파수 패턴을 도시한다.
도 16은 예시적인 그레이스케일 공간 주파수 패턴을 도시한다.

예시적인 실시예가 도시된 첨부 도면을 참조하여 이하에서 예들을 좀 더 충분하게 이제 기술될 것이다. 가능하다면, 동일한 도면부호는 도면 전체에 걸쳐 동일하거나 유사한 부품을 나타내는데 사용된다. 그러나, 본 발명의 양태들은 다양한 형태로 실시될 수 있으므로 본 명세서에 개시된 실시예로 제한되는 것으로 해석되어선 안 된다.

본 개시내용의 양태들은 형상을 결정하기 위한 방법, 보다 구체적으로는 사실상 원통형인 경면 반사면의 형상을 결정하기 위한 방법을 포함한다. 경면 반사면은 광의 입사빔이 표면 법선에 대해 동일한 각도로 반사되는 특성을 나타낼 수도 있다. 예컨대, 입사각은 반사각과 동일하다. 또한, 입사빔, 반사빔 및 표면 법선은 모두 동일 평면 내에 존재할 수 있다. 굴절 측정법, 보다 구체적으로는 반사 측정법의 원리가 왜곡으로부터 경면 반사면의 형상을 또는 경면 반사상으로부터 경면 반사면의 반사상을 결정하는데 이용될 수 있다. 예컨대, 알려진 기하학적 배열을 고려하면, 왜곡된 반사상을 생성한 경면 반사면의 기하학적 성질을 추정하기 위해 경면 반사면 내의 그 구조체의 왜곡된 반사상을 이용할 수 있다. 구조체의 반사상은 표면 내의 곡률, 결함, 이형부 또는 불규칙부로 인한 것을 포함하여 다양한 이유 때문에 왜곡될 수 있다. 반사상을 분석함으로써, 그리고 예컨대 알려진 기하학적 배열의 구조체의 특징부와 경면 반사면 내의 알려진 기하학적 배열의 구조체의 특징부의 대응하는 반사상 사이의 대응관계를 결정함으로써, 대응관계에 따라 표면의 형상을 역산하거나 복원할 수 있다. 이런 형상은 예컨대, 실제 경면 반사면의 3차원 프로파일을 시뮬레이션하거나 근사화하는 것과 같이 많은 어플리케이션, 제어 또는 계산을 위해 이용될 수 있다.

도 1 내지 도 3은 원통형 표면의 예를 도시한다. 도 1은 곡선(12)을 통과하는 일련의 평행선(11)에 의해 형성된 예시적인 원통형 표면(10a)을 도시한다. 도 2는 모선(13)으로 알려진 직선을 준선(14)으로 알려진 곡선 또는 경로를 따라 이동시킴으로써 형성될 수 있는 다른 예시적인 원통형 표면(10b)을 도시한다. 또 다른 예에서, 도 3은 시작 준선(15a)이 종결 준선(15b)에 평행하도록 시작 준선(15a)을 방향(16)으로 투사시킴으로써 형성될 수 있는 원통형 표면(10c)을 도시한다. 본 명세서에 제공된 방법은 사실상 원통형인 경면 반사면의 형상을 결정하는데 이용될 수 있다. 예컨대, 원통형 표면의 수학적인 또는 이론적인 특성을 충족시키는 또는 그런 특성에서 약간 벗어난 표면의 형상이 결정될 수 있다. 일례에서, 사실상 원통형인 경면 반사면은 리본 재료의 주 표면, 또는 시트 재료, 예컨대 리본 재료로부터 분할된 시트 재료의 주 표면을 포함할 수 있다. 예컨대, 사실상 원통형인 경면 반사면은 유리 리본의 주 표면, 또는 유리 시트, 예컨대 유리 리본으로부터 분리된 유리 시트의 주 표면을 포함할 수 있다. 다른 예에서, 사실상 원통형인 경면 반사면은 광섬유 또는 다른 대상의 외주연면을 포함할 수도 있다.

대상이 사실상 원통형인 경면 반사면을 포함하는 경우, 본 발명의 방법은 사실상 원통형인 경면 반사면의 형상뿐만 아니라 사실상 원통형인 경면 반사면을 갖는 대상의 형상을 결정하는데 이용될 수 있다. 설명을 위해, 이하에선 사실상 원통형인 경면 반사면을 지칭할 때, 그런 표면은 분리된 표면으로서 존재하거나 대상의 표면으로서 존재할 수 있음을 알아야 한다. 본 명세서에 제공된 방법은 상술된 바와 같이 그런 표면의 형상 및/또는 그런 표면을 갖는 대상의 형상을 결정하는데 이용될 수 있다.

본 발명의 방법은 보정 데이터를 획득하는 단계를 포함한다. 보정 데이터는 데이터를 컴퓨터에 직접적으로 또는 간접적으로 코팅하거나, 데이터를 관찰하기 위해 검출 장치를 사용하거나, 데이터를 측정하기 위해 센서를 사용하거나, 또는 보정 데이터가 추출될 수 있는 이미지 포함 데이터를 캡처링하는 것을 포함하는 다양한 방식으로 획득될 수 있다. 보정 데이터의 예는 본 발명의 방법에서 또는 본 발명의 방법에 의해 사용되는 시스템, 구성요소 또는 구조체의 특성 또는 특성들을 나타내는 좌표들 또는 다른 정보를 포함할 수 있다. 예컨대, 보정 데이터는 카메라, 렌즈 또는 초점의 공간 위치와 같은 시스템의 구성요소의 공간 위치, 경면 반사면에 관한 정보, 표적 구조체 및 표적 구조체와 연관된 특징, 또는 임의의 다른 파라미터, 초기 조건 또는 이와 관련된 데이터를 포함할 수 있다. 다른 예에서, 보정 데이터는 공간 위치들, 다양한 시스템 구성요소들, 구조체들 및 변수들 사이의 관계를 결정 및 한정하는데 이용될 수 있는 기준점 또는 좌표를 포함할 수 있다. 보정 데이터는 예컨대, 변환 매트릭스 또는 다른 수학적 계산을 통해 실제 공간 내의 3차원 좌표에서 2차원 좌표로 변환될 수 있다. 또 다른 예에서, 보정 데이터는 수행될 추가적인 분석, 조작 및/또는 계산을 위해 조작, 조합, 분석 또는 처리될 수 있다.

본 발명의 방법은 공간 주파수 패턴을 포함하는 표적 구조체에 관한 표적 데이터를 획득하는 단계를 포함한다. 표적 데이터는 데이터를 컴퓨터에 직접적으로 또는 간접적으로 코팅하거나, 데이터를 관찰하기 위해 검출 장치를 사용하거나, 데이터를 측정하기 위해 센서를 사용하거나, 또는 표적 데이터가 추출될 수 있는 이미지 포함 데이터를 캡처링하는 것을 포함하는 다양한 방식으로 획득될 수 있다. 표적 데이터의 예는 공간 위치를 나타내는 좌표들, 또는 표적 구조체 및/또는 표적 구조체의 관련된 특징에 관한 다른 기준 특성뿐만 아니라 표적 구조체와 관련된 임의의 다른 정보를 포함한다. 예컨대, 표적 데이터는 임의 개수의 특성, 또는 표적 구조체 및/또는 표적 구조체와 연관된 특징과 다양한 시스템 구성요소, 구조체 및 변수 사이의 관계를 한정 및 결정하는데 이용될 수 있는 기준점을 포함할 수 있다. 또한, 이들 기준점은 변환 매트릭스 또는 다른 수학적 계산을 통해 실제 공간 내의 3차원 좌표에서 2차원 좌표로 변환될 수 있다. 또 다른 예에서, 표적 데이터는 수행될 추가적인 분석, 조작 및/또는 계산을 위해 조작, 조합, 분석 또는 처리될 수 있다.

도 4 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 경면 반사면(20)은 사실상 평면(21)을 따라 연장될 수 있으며, 표적 구조체(31)는 평면(21)애 대해 사실상 수직일 수 있다. 표적 구조체(31)는 표적 구조체와 연관된 복수의 특징 또는 특성을 포함하는 하나의 또는 복수의 기하학적 배열, 형상, 구조 또는 크기를 포함할 수 있다. 표적 구조체는 임의의 다양한 재료로 이루어질 수 있다. 일례에서, 표적 구조체는 다양한 환경에서 사용되기 위한 바람직한 성질을 갖는 재료 또는 재료들로 이루어질 수 있다. 다른 예에서, 표적 구조체는 광원에 의해 독립적으로 조사되거나 또는 종속적으로 조사될 수 있다. 예컨대, 표적 구조체는 광을 발산할 수 있거나, 또는 전용 광원으로부터의 광을 확산 반사시키거나 주변광을 확산 반사시킬 수 있다. 또 다른 예에서, 표적 구조체는, 예컨대 표적 구조체가 어떤 시점에서 자동으로 또는 수동으로 변경, 조작 또는 제어될 수 있는 특징 또는 특성을 포함할 수 있다는 점에서 동적인 것일 수 있다.

도 4 내지 도 6의 예에 추가로 도시된 바와 같이, 표적 구조체(31)는 경면 반사면의 에지(24)로부터의 거리(54)에 그리고 경면 반사면(20)의 면(26)으로부터의 거리(56)에 경면 반사면(20)에 대해 사실상 수직일 수 있는 공간 주파수 패턴(36)을 포함할 수 있다. 표적 구조체(31)의 공간 주파수 패턴(36)은 또한 경면 반사면(20)의 높이(58)를 따라 상승부(57)에 위치될 수 있다. 표적 구조체(31)의 공간 주파수 패턴(36)은 표적 구조체 상의 임의의 위치에 존재할 수 있으며 그리고 경면 반사면(20)에 대해 다양한 각도로 그리고/또는 다양한 방향으로 연장될 수 있다.

또 다른 예에서, 표적 구조체(31)는 다양한 방식으로 공간 주파수 패턴(36)을 포함할 수 있다. 예컨대, 표적 구조체(31)는 공간 주파수 패턴(36)으로 인코딩될 수 있다. 다른 예에서, 표적 구조체는 공간 주파수 패턴(36)으로 프린팅될 수 있으며, 표적 구조체는 표적 구조체의 특징으로서 공간 주파수 패턴을 포함하도록 제조될 수 있고 그리고/또는 공간 주파수 패턴은 표적 구조체에 부착되거나 고정될 수 있다. 다른 예에서, 공간 주파수 패턴(36)은 공간 위치의 함수를 포함할 수 있다. 예컨대, 공간 주파수 패턴(36)은 공간 위치의 함수로서 정의될 수 있다. 도 6에 도시된 또 다른 예에서, 공간 주파수 패턴(36)은 경면 반사면의 모선에 대해 사실상 평행한 방향(22)으로 주기적인 패턴을 포함할 수 있다. 도 6에 도시된 또 다른 예에서, 공간 주파수 패턴(36)은 경면 반사면의 모선에 대해 사실상 수직인 방향(23)으로 단조적으로 변화하는 주파수를 포함할 수 있다. 도 6에서, 경면 반사면의 모선은 평면(21)에 존재하며 그리고 방향(22)을 나타내는 화살표로서 도시되어 있다.

예컨대, 도 15 및 도 16에 도시된 바와 같이, 공간 주파수 패턴(600, 601)은 방향(605)으로 일정할 수 있는 주기적인 패턴 및 방향(610)으로 변화할 수 있는 주파수를 포함할 수 있다. 도 15 및 도 16에서, 방향(605)은 경면 반사면의 모선에 대해 사실상 평행한 방향에 대응하는 반면 방향(610)은 경면 반사면의 모선에 대해 사실상 수직인 방향에 대응한다. 또한, 도 15 및 도 16에 각각 도시된 바와 같이, 공간 주파수 패턴(600, 601)은 흑백 공간 주파수 패턴(600) 또는 그레이스케일 공간 주파수 패턴(601)일 수 있다. 또 다른 예에서, 공간 주파수 패턴은 임의의 컬러, 곡선 또는 특징을 포함할 수 있다.

도 7에 도시된 바와 같이, 본 발명의 방법은 경면 반사면(20) 내의 표적 구조체(31)의 반사 이미지(50)를 캡처링하는 단계를 추가로 포함한다. 반사 이미지(50)는 카메라 또는 다른 이미지 또는 비디오 기록 장치를 포함하는 이미지 캡처링 장치(51)를 사용하여 캡처링될 수 있다. 일단 캡처링되면, 반사 이미지(50)는 분석되거나, 또는 이미지 내에 포함된 데이터가 추출, 처리 및/또는 분석될 수 있는 컴퓨터(52)로 전달될 수 있다.

도 7에 또한 도시된 바와 같이, 본 발명의 방법은 반사 이미지(50)로부터 반사 데이터(55)를 획득하는 단계를 추가로 포함한다. 반사 데이터(55)는 반사 데이터(55)를 획득하기 위해 반사 이미지(50)를 추출, 처리 및/또는 분석하는 것을 포함하여 다양한 방식으로 획득될 수 있다. 반사 데이터(55)의 예는 표적 구조체의 반사 이미지(50) 및/또는 표적 구조체와 연관된 반사 특징부에 관한 공간 위치 또는 다른 기준 특성을 나타내는 좌표뿐만 아니라 반사 이미지(50)와 관련된 임의의 다른 정보를 포함한다. 예컨대, 반사 데이터(55)는 공간 주파수 패턴(36)을 포함하는 표적 구조체(31)의 반사상(37)에 관한 정보를 포함할 수 있다. 다른 예에서, 반사 데이터(55)는 표적 구조체의 반사 이미지(50) 및/또는 표적 구조체와 연관된 반사 특징부와 다양한 시스템 구성요소, 구조체 및 변수 사이의 임의 개수의 관계 또는 특성을 한정 및 결정하는데 이용될 수 있는 기준점을 포함할 수 있다. 또한, 이들 기준점은 변환 매트릭스 또는 다른 수학적 계산을 통해 실제 공간 내의 3차원 좌표를 2차원 좌표로 변환될 수 있다. 또 다른 예에서, 반사 데이터(55)는 수행될 추가적인 분석, 조작 및/또는 계산을 위해 조작, 조합, 분석 또는 처리될 수 있다.

상술된 바와 같이, 표적 구조체(31)는 표적 구조체(31)의 특징 또는 특성을 포함할 수 있는 공간 주파수 패턴(36)을 포함할 수 있다. 이와 같이, 공간 주파수 패턴(36)을 포함하는 표적 구조체(31)의 반사상은 공간 주파수 패턴의 반사상(37)을 포함하여 표적 구조체(31)의 특징 또는 특성의 대응하는 반사상을 포함할 수 있다. 일례로서, 상술된 바와 같이, 표적 구조체(31)의 공간 주파수 패턴(36)은 표적 구조체(31) 상에 프린팅될 수 있다. 따라서, 표적 구조체(31)의 공간 주파수 패턴(36)의 반사상(37)은 프린팅된 공간 주파수 패턴(36)의 반사상(37)을 포함하는 표적 구조체의 대응하는 반사상일 수 있다. 이에 따라, 반사 이미지(50)로부터 획득된 반사 데이터(55)는 경면 반사면(20) 내의 공간 주파수 패턴(36)의 대응하는 반사상(37)에 관한 임의의 정보를 포함할 수 있다.

본 발명의 방법은 표적 데이터(41)와 반사 데이터(55) 사이의 대응관계를 결정하는 단계를 추가로 포함한다. 대응관계는 예컨대, 표적 데이터(41)의 전부 또는 일부와 반사 데이터(55)의 전부 또는 일부 사이의 비교, 상관관계, 또는 임의의 다른 관계 또는 관계들을 포함할 수 있다. 예컨대, 표적 데이터(41)가 분석될 수 있다. 다른 예에서, 반사 데이터(55)가 분석될 수 있다. 또 다른 예에서, 표적 데이터(41)와 반사 데이터(55)가 분석될 수 있다. 대응관계는 전산화된 또는 수동적인 프로세스, 수학적 계산, 또는 임의의 다른 전산을 포함하는 임의의 다양한 기술에 의해 결정될 수 있다. 일례에서, 대응관계는 표적 구조체(31)의 표적 데이터(41)로부터의 공간 주파수 패턴(36)과 비교하여 반사 이미지(50) 내의 반사 데이터(55)로부터의 공간 주파수 패턴(36)의 반사상(37)의 왜곡을 결정하는 것을 포함할 수 있다.

일례에서, 대응관계는 고속 푸리에 변환을 포함할 수 있다. 또 다른 예에서, 고속 푸리에 변환은 표적 데이터(41)가 획득될 수 있는 표적 구조체(31)의 공간 주파수 패턴(36) 및 반사 데이터(55)가 획득될 수 있는 반사 이미지(50) 내에 캡처된 공간 주파수 패턴의 반사상(37)에 대해 수행될 수 있다. 예컨대, 표적 데이터 및 반사 데이터에 대응하는 반사 이미지 내의 지배 주파수가 결정될 수 있다. 예컨대, 반사 데이터의 알려진 데이터 포인트로부터 시작하여, 복수의 다른 데이터 포인트가 계산될 수 있다. 다른 예에서, 고속 푸리에 변환은 지배 주파수를 계산하는데 이용될 수 있으며, 또한 최근사 고조파에서 최대 고조파까지의 수정을 포함할 수 있다. 또 다른 예에서, 표적 구조체는 칼럼 좌표로부터 주파수의 근사 일차종속을 나타내는 공간 주파수 패턴을 포함하며, 반사 이미지 내의 일차종속으로부터의 편차는 경면 반사면(20)의 왜곡 또는 움직임을 나타낼 수 있다.

본 발명의 방법은 경면 반사면(20)의 형상을 결정하기 위해 대응관계 및 보정 데이터를 이용하는 단계를 추가로 포함한다. 일례에서, 대응관계의 전부 또는 일부가 이용될 수 있다. 또 다른 예에서, 보정 데이터의 전부 또는 일부가 이용될 수 있다. 또 다른 예에서, 대응관계의 전부 또는 일부가 이용되고 그리고 보정 데이터의 전부 또는 일부가 이용될 수 있다. 이런 단계는 예컨대, 형상 복원 알고리즘을 수행하는 단계를 포함할 수 있다. 형상 복원 알고리즘은 경면 반사면(20)의 형상을 결정하기 위해 임의의 데이터를 이용하는 이용할 수 있다. 예컨대, 경면 반사면(20)의 형상은 대응관계 및 보정 데이터에 기초하여 표적 구조체(31)의 캡처된 반사 이미지(50)를 생성할 수 있는 경면 반사면의 외형 또는 프로파일을 복구, 복원, 역산, 또는 달리 추정함으로써 결정될 수 있다.

도 8에 도시된 바와 같이, 일례에서 형상은 경면 반사면(20)의 횡단 프로파일(70)을 근사화할 수 있다. 횡단 프로파일(70)은 예컨대, 평면(75)에서의 경면 반사면(20)의 단면일 수 있으며, 여기서 평면(75)은 경면 반사면(20)을 가로지른다. 다른 예에서, 경면 반사면이 얇으며 그리고 그 길이와 폭보다 사실상 작은 두께를 갖는 대상의 경우, 횡단 프로파일(70)은 평면(75)에 존재하는 라인 또는 곡선(71)으로서 근사화될 수 있으며, 여기서 평면(75)은 경면 반사면(20)을 가로지른다. 또 다른 예에서, 본 발명의 방법은 경면 반사면(20)의 복수의 형상(72)을 결정하는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 예컨대, 복수의 형상(72)의 각각의 형상(73)은 경면 반사면(20)의 횡단 프로파일(70) 또는 곡선(71)을 근사화할 수 있다.

도 9에 도시된 또 다른 예에서, 본 발명의 방법은 복수의 형상(72)에 기초하여 경면 반사면(20)의 표면 프로파일(74)을 근사화하는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 표면 프로파일(74)은 예컨대, 복수의 형상들 사이의 관계에 기초하여 복수의 형상(72)을 공간적으로 정렬 및 배열함으로써 결정될 수 있다. 일례에서, 복수의 형상(72)은 경면 반사면(20)의 전체 표면 프로파일(77)을 근사화할 수 있는 렌더링된 이미지를 생성하기 위해 디지털 방식으로 조립될 수 있다. 예컨대, 경면 반사면이 시트 재료의 주 표면을 포함하는 경우, 형상은 시트 재료의 일부분 또는 전체의 실제 형상을 근사화하거나 시뮬레이션할 수 있다.

본 방법의 단계들 중의 임의의 단계는 동일한 또는 상이한 시간 주파수에서 수행될 수 있다. 예컨대, 도 10에 도시된 바와 같이, 보정 데이터를 획득하는 단계(501), 표적 데이터를 획득하는 단계(502), 반사 이미지를 캡처링하는 단계(503), 반사 데이터를 획득하는 단계(504), 대응관계를 결정하는 단계(505), 및 경면 반사면의 형상을 결정하기 위해 대응관계 및 보정 데이터를 이용하는 단계(506)를 포함하는 본 방법의 단계들(500) 중의 임의의 단계는 동일한 또는 상이한 시간 주파수에서 수행될 수 있다. 일례에서, 임의의 단계는 초당 적어도 한 번의 속도로 수행될 수 있다. 다른 예에서, 임의의 단계는 반복 주기가 영에 가까워지는 속도로 반복될 수 있다. 예컨대, 임의의 단계는 반복하는 도중에 원통형 표면의 형상의 변화가 현저하지 않은 경우 시간상으로 사실상 지속적인 속도로 수행될 수 있다. 또 다른 예에서, 임의의 단계는 임의 개수의 변수에 의해 한정되는 속도로 수행될 수 있다. 또한, 임의의 단계는 한 번 수행될 수 있다. 일례에서, 단계들 중의 하나 이상의 단계는 한 번 수행되는 반면, 단계들 중의 다른 단계는 한 번보다 많이 수행될 수 있다.

보정 데이터를 획득하는 단계(501), 표적 데이터를 획득하는 단계(502), 반사 이미지를 캡처링하는 단계(503), 반사 데이터를 획득하는 단계(504), 대응관계를 결정하는 단계(505), 및 경면 반사면의 형상을 결정하기 위해 대응관계 및 보정 데이터를 이용하는 단계(506)를 포함하는 도 10에 도시된 본 방법의 단계들(500) 중의 임의의 단계를 위해 다양한 컴퓨터, 수치적, 수학적, 선형, 비선형, 과학적, 디지털, 전자적 또는 다른 기술이 이용될 수 있다. 또한, 임의의 구성, 계산, 조작 또는 전산이 함께 또는 단독으로 그리고 본 명세서에 제공된 본 방법의 단계들 중의 임의의 단계를 위해 수행될 수 있다.

예컨대, 캡처링된 또는 달리 획득된 이미지가 분석될 수 있고 이미지 내에 포함된 데이터가 이미지로부터 추출될 수 있는 이미지 분석이 이용될 수 있다. 다른 예에서, 표적 구조체의, 경면 반사면의, 그리고/또는 경면 반사면 내의 표적 구조체의 반사 이미지의 특정 구역을 나타낼 수 있는 관심 구역이 한정될 수 있다. 관심 구역은 사용자에 의해 한정되어 컴퓨터에 직접적으로 또는 간접적으로 코팅되거나, 또는 소프트웨어 루틴 또는 다른 처리절차를 이용하여 자동으로 결정될 수 있다. 또 다른 예에서, 미분 콘벌루션(derivative convolution)이 표적 구조체의 공칭상 특징부에 수직인 방향으로의 변화를 강조하는데 사용될 수 있다. 미분 콘벌루션은 예컨대, 데이터 포인트들 사이의 데이터 포인트 값의 변화율을 나타낼 수 있다. 이 프로세스는 예컨대, 표적 구조체의 특징부에 수직인 데이터 포인트 값에 대한 최대 변화를 나타내는 최대 절대값의 포인트를 찾는다. 또 다른 예에서, 데이터 포인트는 표적 구조체의 특징부의 일반적인 방향 또는 방향적 경향으로부터 아주 벗어나는 포인트가 제거되어 이상점(outlier)으로 간주되게 필터링될 수도 있다. 또 다른 예에서, 서브픽셀 보간법이 최대 미분 절대값을 갖는 데이터 포인트를 결정하는데 이용될 수 있다. 이로부터, 그런 데이터 포인터 양쪽의 적어도 2개의 포인트를 이용하여, 다항식이 데이터 포인트에 대해 피팅되어 실제 피크 위치가 결정될 수 있다. 이 보간법은 획득된 각각의 데이터 포인트에 대해 수행될 수 있는데, 여기서 데이터 포인트는 예컨대, 표적 구조체의 특징부 또는 경면 반사면 내의 표적 구조체의 대응하는 반사상과 연관될 수 있다. 또 다른 예에서, 적분 방법론이 사용될 수 있는데, 여기선 적분 포인트가 정의될 수 있다. 적분 포인트는 경면 반사면의 복수의 형상이 동일한 반사상을 생성하는 경우 경면 반사면에 걸친 적분을 위한 시작점을 설정하는데 이용될 수 있다. 또 다른 예에서, 미분 방정식 복원 방법을 위한 초기 조건이 규정될 수 있다. 또 다른 예에서, 보정 데이터, 표적 데이터 또는 반사 데이터의 데이터 포인트에 대응하는 3차원 좌표를 표적 구조체의 위치와 표적 구조체의 대응하는 반사상을 규정할 수 있는 2차원 데이터 포인트로 변환시키기 위해 3차원 포인트 처리가 이용될 수 있다. 또 다른 예에서, 보정 데이터, 표적 데이터 또는 반사 데이터의 데이터 지점이 처리되어 임의의 이상점이 제거되는 데이터 필터링이 수행될 수 있다. 일례에서, 이 필터링 프로세스는, 예컨대 표적 구조체의 특징부 및/또는 경면 반사면 내의 표적 구조체의 대응하는 반사상과 연관될 수 있는 데이터 포인트에 대해 다항식 라인을 피팅하는 단계를 포함한다. 다른 예에서, 피팅된 라인으로부터 한정된 거리 밖에 있는 임의의 데이터 포인트가 이상점으로서 식별된다. 이상점은 데이터 세트로부터 제거되거나 데이터 세트에 의해 보존될 수도 있다. 또 다른 예에서, 라인을 피팅하고, 이상점을 식별하며 그리고 데이터 세트로부터 이상점을 제거하거나 이상점을 보존하는 프로세스는 동일한 또는 상이한 다항식 피팅 및/또는 동일한 또는 상이한 이상점 배제 한계를 이용하여 몇 번이고 반복될 수 있다.

본 개시내용의 추가적인 양태는 도 11에 도시된 바와 같이 다량의 용융 유리(121)로부터 인출된 유리 리본(103)의 형상을 결정하기 위한 방법을 포함한다. 일단 제조되면, 유리 리본(103)은 광범위한 어플리케이션에서 사용될 수 있는 유리 시트(104)로 분리될 수 있다. 예컨대, 유리 리본(103)으로부터 제조된 유리 시트(104)는 예컨대, 디스플레이 어플리케이션에 사용될 수도 있다. 특정한 예에서, 유리 시트(104)는 액정 디스플레이(LCD), 전기 영동 디스플레이(EPD), 유기 발광 다이오드 디스플레이(OLED), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 또는 다른 디스플레이 장치를 제조하는데 사용될 수도 있다.

유리 리본은 슬롯 인출, 플로트(float), 하향 인출, 융해 하향 인출 또는 상향 인출과 같은 본 개시내용에 따른 다양한 유리 리본 제조 장치에 의해 제조될 수도 있다. 각각의 장치는 1회분 재료를 다량의 용융 유리로 용융시키도록 구성된 용융 용기를 포함할 수 있다. 각각의 장치는 또한 용융 용기의 하류부에 위치설정된 제1 컨디셔닝 스테이션과, 제1 컨디셔닝 스테이션의 하류부에 위치설정된 제2 컨디셔닝 스테이션을 적어도 포함한다.

도 11은 본 개시내용에 따라 유리 리본을 제조하기 위한 단지 하나의 예시적인 장치의 개략도를 도시하는데, 여기서 장치는 유리 시트(104)로의 후속적인 처리를 위해 유리 리본(103)을 융해 인출하기 위한 융해 인출 장치(101)를 포함한다. 융해 인출 장치(101)는 저장조(109)로부터 1회분 재료(107)를 수납하도록 구성된 용융 용기(105)를 포함할 수 있다. 1회분 재료(107)는 모터(113)에 의해 동력이 공급되는 1회분 이송 장치(111)에 의해 주입될 수 있다. 임의의 제어기(115)는 모터(113)를 작동시켜 화살표(117)로 표시된 바와 같이 원하는 양의 1회분 재료(107)를 용융 용기(105)에 주입시키도록 구성될 수 있다. 유리 금속 프로브(119)는 직립관(123) 내의 유리 용융물(121) 높이를 측정하고 그리고 측정된 정보를 통신 회선(125)을 통해 제어기(115)로 통신하는데 이용될 수 있다.

융해 인출 장치(101)는, 용융 용기(105)의 하류부에 위치되고 그리고 제1 연결 도관(129)을 통해 용융 용기(105)에 커플링되는 제련 용기(127)(예컨대, 제련 튜브)와 같은 제1 컨디셔닝 스테이션을 또한 포함할 수 있다. 몇몇 예에서, 유리 용융물은 제1 연결 도관(129)을 통해 용융 용기(105)로부터 제련 용기(127)로 중력 공급될 수도 있다. 예컨대, 중력은 유리 용융물을 용융 용기(105)로부터 제련 용기(127)까지 제1 연결 도관(129)의 내부 경로를 통과하도록 추진시키는 기능을 할 수 있다. 제련 용기(127) 내에서, 버블이 다양한 기술에 의해 유리 용융물로부터 제거될 수도 있다.

융해 인출 장치는 제련 용기(127)의 하류부에 위치될 수도 있는 혼합 용기(131)(예컨대, 교반 챔버)와 같은 제2 컨디셔닝 스테이션을 추가로 포함할 수 있다. 혼합 용기(131)는 제련 용기를 빠져나가는 제련된 유리 용융물 내에 달리 존재할 수도 있는 이질성 코드를 감소 또는 제거함으로써, 균질한 유리 용융 조성물을 제공하는데 사용될 수 있다. 도시된 바와 같이, 제련 용기(127)는 제2 연결 도관(135)을 통해 혼합 용기(131)에 커플링될 수도 있다. 몇몇의 예에서, 유리 용융물은 제2 연결 도관(135)을 통해 제련 용기(127)로부터 혼합 용기(131)로 중력 공급될 수도 있다. 예컨대, 중력은 유리 용융물을 제련 용기(127)로부터 혼합 용기(131)까지 제2 연결 도관(135)의 내부 경로를 통과하도록 추진시키는 기능을 할 수도 있다.

융해 인출 장치는 혼합 용기(131)의 하류부에 위치될 수도 있는 이송 용기(133)(예컨대, 보울)와 같은 다른 컨디셔닝 스테이션을 추가로 포함할 수 있다. 이송 용기(133)는 성형 장치 내로 공급될 유리를 컨디셔닝할 수도 있다. 예컨대, 이송 용기(133)는 유리 용융물의 일정한 유동을 조절하여 성형 용기로 제공하기 위한 어큐뮬레이터 및/또는 유동 제어기로서 기능할 수 있다. 도시된 바와 같이, 혼합 용기(131)는 제3 연결 도관(137)을 통해 이송 용기(133)에 커플링될 수도 있다. 몇몇의 예에서, 유리 용융물은 제3 연결 도관(137)을 통해 혼합 용기(131)로부터 이송 용기(133)로 중력 공급될 수도 있다. 예컨대, 중력은 유리 용융물을 혼합 용기(131)로부터 이송 용기(133)까지 제3 연결 도관(137)의 내부 경로를 통과하도록 추진시키는 기능을 할 수도 있다.

또한 도시된 바와 같이, 하강관(139)이 유리 용융물(121)을 이송 용기(133)로부터 성형 용기(143)의 입구(141)로 이송하도록 위치설정될 수 있다. 도시된 바와 같이, 용융 용기(105), 제련 용기(127), 혼합 용기(131), 이송 용기(133), 및 성형 용기(143)는 융해 인출 장치(101)를 따라 연속적으로 위치될 수도 있는 유리 용융물 컨디셔닝 스테이션의 예이다.

용융 용기(105)는 통상적으로 내화(예컨대, 세라믹) 벽돌과 같은 내화 재료로 제조된다. 융해 인출 장치(101)는 통상적으로 백금, 또는 백금-로듐, 백금-이리듐, 및 이들의 조합물과 같은 백금 함유 금속으로 제조되지만, 또한 몰리브덴, 팔라듐, 레늄, 탄탈룸, 티타늄, 텅스텐, 루테늄, 오시뮴, 지르코늄, 및 이들의 합금 및/또는 지르코늄 디옥사이드와 같은 그런 내화 금속을 포함할 수도 있다. 백금 함유 구성요소는 제1 연결 도관(129), 제련 용기(127)(예컨대, 제련 튜브), 제2 연결 도관(135), 직립관(123), 혼합 용기(131)(예컨대, 교반 챔버), 제3 연결 도관(137), 이송 용기(133)(예컨대, 보울), 하강관(139), 및 입구(141) 중의 하나 이상을 포함할 수 있다. 또한 성형 용기(143)는 내화 재료로 제조되며 그리고 유리 리본(103)을 형성하도록 구성된다.

도 12는 도 11의 라인 2-2를 따라 취한 융해 인출 장치(101)의 단면 사시도이다. 도시된 바와 같이, 성형 용기(143)는 성형 웨지(201)의 대향하는 단부들 사이에서 연장되는 한 쌍의 하향으로 경사진 성형 표면부(207, 209)를 포함하는 성형 웨지(201)를 포함한다. 한 쌍의 하향으로 경사진 성형 표면부(207, 209)는 루트(213)를 형성하기 위해 인출 방향(211)을 따라 수렴한다. 인출 평면(215)은 유리 리본(103)이 인출 평면(215)을 따라 인출 방향(211)으로 예컨대, 하류 방향으로 인출될 수 있는 루트(213)를 통해 연장된다. 도시된 바와 같이, 비록 인출 평면(215)이 루트(213)에 대해 다른 배향으로 연장되더라도, 인출 평면(215)은 루트(213)를 양분할 수 있다.

도 11에 도시된 바와 같이, 융해 인출 장치(101)는 다량의 용융 유리(121)로부터 인출된 유리 리본(103)의 형상을 결정하기 위한 방법을 수행하기 위한 시스템(300)을 포함할 수 있다. 본 발명의 방법은 또한 광섬유 및 다른 유리 요소를 포함하는 경면 반사 특성을 갖는 다른 대상의 형상을 결정하도록 수행될 수 있다. 다량의 용융 유리(121)로부터 인출된 유리 리본(103)의 형상을 결정하기 위한 방법이 이제 기술될 것이다. 일례에서, 유리 리본(103)은 인출 방향(211)으로 연속적으로 이동할 수 있다. 다른 예에서, 형상은 유리 성형 장치(101)의 상류부 파라미터(301)를 제어하는데 이용될 수 있다. 또 다른 예에서, 형상은 하류부 프로세스(302)의 파라미터를 제어하는데 이용될 수 있다. 또 다른 예에서, 형상은 유리 성형 장치(101)의 상류부 파라미터(301) 및 하류부 프로세스(302)의 파라미터를 제어하는데 이용될 수 있다. 또 다른 예에서, 형상은 유리 리본의 속성을 결정하는데 이용될 수 있으며, 유리 리본의 품질은 그런 속성에 기초하여 분류될 수 있다.

예컨대, 속성은 내포물, 스크래치 또는 임의의 다른 결함 또는 불규칙부와 같이 성형 프로세스 동안 유리 리본에 발생될 수 있는 형상 이형부를 포함할 수 있다. 이들 이형부는 유리 리본으로 하여금 필요 명세 특성 또는 파라미터의 범위를 벗어나게 하여, 유리 리본 또는 유리 시트는 불합격 처리되거나 다른 용도용으로 식별될 수 있다. 다른 예에서, 속성은 유리 리본의 움직임에 대한 징후이거나 유리 리본의 형상 또는 조성에 있어서의 변경에 대한 징후일 수 있다. 유리 리본의 다양한 위치에서뿐만 아니라 성형 및/또는 처리 프로세스 동안의 다양한 시기에서 그런 속성을 감시함으로써, 성형 및/또는 처리 프로세스를 제어하고 그리고 다양한 유리 성형 및/또는 처리 파라미터를 조절하거나 조정할 수 있다. 속성은 예컨대, 주기적으로, 반복적으로 또는 연속적으로 감시될 수 있으며 그리고 플롯, 그래프, 차트, 데이터베이스 또는 수치 데이터와 같은 다양한 출력 정보를 생성하는데 이용될 수 있다. 다른 예에서, 속성은 유리 리본으로부터 절단된 특정 유리 시트와 연관될 수 있다. 그런 특정 유리 시트는 그 특성이 필요 명세의 범위를 벗어나 있다면 후속적으로 폐기되거나, 필요에 따라 추가로 처리되거나, 또는 그 속성에 기초하여 특정 어플리케이션용으로 또는 특정 위치로의 분배용으로 식별될 수 있다. 또 다른 예에서, 속성은 안정적인 제조에 상응하는 그런 작동 조건을 결정하는데 이용될 수 있는데, 여기서 유리 리본의 품질 및/또는 유리 시트의 품질은 바람직한 품질 또는 특성이 된다. 또 다른 예에서, 속성은 바람직하지 않은 제조에 상응하는 그런 작동 조건을 결정하는데 이용될 수 있는데, 여기서 유리 리본의 품질 및/또는 유리 시트의 품질은 바람직한 품질 또는 특성을 나타내는 유리 리본 또는 유리 시트의 품질과는 차이가 있다. 또 다른 예에서, 속성은 유리 성형 장치의 임의의 구성요소, 시스템 또는 특징부가 적절하게 또는 부적절하게 기능하는 시기를 컴퓨터 또는 사용자에게 통보하는데 이용될 수 있다. 예컨대, 본 명세서에 개시된 방법에 의해 계산된 바와 같은 유리 리본의 형상으로부터 결정된 유리 리본의 특정한 속성에 기초하여, 시스템의 임의의 요소가 교체 또는 보수될 필요가 있는 경우를, 또는 용융 유리를 제조하기 위한 다양한 입력이 예컨대 유리 리본 및/또는 유리 시트의 품질을 향상시키기 위해 조절될 수 있는 경우를 결정할 수 있다. 또한, 속성들 사이의 상관관계가 결정될 수 있다. 그런 상관관계는 기간에 걸쳐 결정될 수 있으며 그리고 본 발명의 방법으로부터 결정되는 바와 같은 또는 다른 제어로부터 제공되는 바와 같은 유리 성형 프로세스, 유리 리본 및/또는 유리 시트와 관련된 임의의 다양한 파라미터를 포함할 수 있다. 또 다른 예에서, 유리 리본 및/또는 유리 시트의 형상은 유리 성형 시의 편차, 유리 리본의 성질, 및 유리 시트에서의 기계적 응력과 같은 유리 시트의 특성을 이해하는데 이용될 수 있다. 형상은 예컨대, 품질, 효율, 또는 본 명세서에 개시된 방법과 연관된 임의의 다른 특징, 파라미터 또는 양태를 개선하기 위해 감시 및/또는 분석될 수 있다.

본 발명의 방법은 보정 데이터를 획득하는 단계를 포함한다. 상술된 바와 같이, 보정 데이터는 데이터를 컴퓨터에 직접적으로 또는 간접적으로 코팅하거나, 데이터를 관찰하기 위해 검출 장치를 사용하거나, 데이터를 측정하기 위해 센서를 사용하거나, 또는 보정 데이터가 추출될 수 있는 이미지 포함 데이터를 캡처링하는 것을 포함하는 다양한 방식으로 획득될 수 있다. 보정 데이터의 예는 본 발명의 방법에서 또는 본 발명의 방법에 의해 사용되는 시스템, 구성요소 또는 구조체의 특성 또는 특성들을 나타내는 좌표들 또는 다른 정보를 포함할 수 있다. 예컨대, 보정 데이터는 카메라, 렌즈 또는 초점의 공간 위치와 같은 시스템의 구성요소의 공간 위치, 유리 리본에 관한 정보, 표적 구조체 및 표적 구조체와 연관된 특징, 또는 임의의 다른 파라미터, 초기 조건 또는 이와 관련된 데이터를 포함할 수 있다. 다른 예에서, 보정 데이터는 공간 위치들, 다양한 시스템 구성요소들, 구조체들 및 변수들 사이의 관계를 결정 및 한정하는데 이용될 수 있는 기준점 또는 좌표를 포함할 수 있다. 보정 데이터는 예컨대, 변환 매트릭스 또는 다른 수학적 계산을 통해 실제 공간 내의 3차원 좌표에서 2차원 좌표로 변환될 수 있다. 또 다른 예에서, 보정 데이터는 수행될 추가적인 분석, 조작 및/또는 계산을 위해 조작, 조합, 분석 또는 처리될 수 있다.

본 발명의 방법은 공간 주파수 패턴을 포함하는 표적 구조체에 관한 표적 데이터를 획득하는 단계를 포함한다. 상술된 바와 같이, 표적 데이터는 데이터를 컴퓨터에 직접적으로 또는 간접적으로 코팅하거나, 데이터를 관찰하기 위해 검출 장치를 사용하거나, 데이터를 측정하기 위해 센서를 사용하거나, 또는 표적 데이터가 추출될 수 있는 이미지 포함 데이터를 캡처링하는 것을 포함하는 다양한 방식으로 획득될 수 있다. 표적 데이터의 예는 공간 위치를 나타내는 좌표들, 또는 표적 구조체 및/또는 표적 구조체의 관련된 특징에 관한 다른 기준 특성뿐만 아니라 표적 구조체와 관련된 임의의 다른 정보를 포함한다. 예컨대, 표적 데이터는 다양한 시스템 구성요소, 구조체 및 변수 사이의 관계 또는 임의 개수의 특성을 한정 및 결정하는데 이용될 수 있는 기준점을 포함할 수 있다. 또한, 이들 기준점은 변환 매트릭스 또는 다른 수학적 계산을 통해 실제 공간 내의 3차원 좌표에서 2차원 좌표로 변환될 수 있다. 또 다른 예에서, 표적 데이터는 수행될 추가적인 분석, 조작 및/또는 계산을 위해 조작, 조합, 분석 또는 처리될 수 있다. 일례에서, 표적 구조체는, 표적 구조체로서 기능하는 것 이외에도 유리 성형 또는 처리와 관련하여 다른 기능을 제공할 수 있는 유리 성형 장치(101) 내의 기존 구조체일 수 있다. 다른 예에서, 표적 구조체는 본 명세서에 제공된 방법에서 표적 구조체로서 기능하는 것만을 위해서 유리 성형 장치(101)에 도입된 전용 구조체일 수 있다.

도 12에 도시된 바와 같이, 유리 리본(103)은 사실상 평면(215)을 따라 연장될 수 있으며 그리고 표적 구조체(331)는 평면(215)에 대해 사실상 수직일 수 있다. 표적 구조체(331)는 표적 구조체와 연관된 복수의 특징 또는 특성을 포함하는 하나의 또는 복수의 기하학적 배열, 형상, 구조 또는 크기를 포함할 수 있다. 표적 구조체는 다양한 환경에서 사용되도록 임의의 다양한 재료로 이루어질 수 있다. 예컨대, 유리 성형 장치(101)에서 표적 구조체는 고온 환경을 견디는데 적합한 재료로 이루어질 수도 있다. 다른 예에서, 표적 구조체는 광원에 의해 독립적으로 조사되거나 또는 종속적으로 조사될 수 있다. 예컨대, 표적 구조체는 광을 발산할 수 있거나, 또는 전용 광원으로부터의 광을 확산 반사시키거나 주변광을 확산 반사시킬 수 있다. 예컨대, 표적 구조체(331)는 융해 인출 장치(101) 내에 위치될 수 있으며, 광원이 표적 구조체를 조사하기 위한 뷰포트를 제공하기 위해 윈도우 또는 다른 개구가 포함될 수 있다. 윈도우 또는 다른 개구는 융해 인출 장치 내에 위치된 기존 윈도우 또는 개구일 수 있거나, 또는 광원이 표적 구조체를 조사하기 위한 뷰포트를 제공하기 위해서만 포함되는 전용 윈도우 또는 개구일 수 있다. 또 다른 예에서, 표적 구조체는, 예컨대 표적 구조체가 어떤 시점에서 자동으로 또는 수동으로 변경, 조작 또는 제어될 수 있는 특징 또는 특성을 포함할 수 있다는 점에서 동적인 것일 수 있다.

도 12에 도시된 다른 예에서, 표적 구조체(331)는, 유리 리본의 에지(324)로부터의 거리(354)에 그리고 유리 리본(103)의 면(326)으로부터의 거리(356)에 유리 리본(103)에 대해 사실상 수직일 수 있는 공간 주파수 패턴(336)을 포함할 수 있다. 표적 구조체(331)의 공간 주파수 패턴(336)은 또한 유리 리본(103)의 높이(358)를 따라 상승부(357)에 위치될 수 있다. 표적 구조체(331)의 공간 주파수 패턴(336)은 표적 구조체 상의 임의의 위치에 존재할 수 있으며 그리고 유리 리본(103)에 대해 다양한 각도로 그리고/또는 다양한 방향으로 연장될 수 있다. 다른 예에서, 공간 주파수 패턴(336)은 공간 위치의 함수를 포함할 수 있다. 예컨대, 공간 주파수 패턴(336)은 공간 위치의 함수로서 정의될 수 있다. 도 12에 도시된 또 다른 예에서, 공간 주파수 패턴(336)은 유리 리본의 모선에 대해 사실상 평행한 방향(322)으로 주기적인 패턴을 포함할 수 있다. 도 12에 도시된 또 다른 예에서, 공간 주파수 패턴(336)은 유리 리본의 모선에 대해 사실상 수직인 방향(323)으로 단조적으로 변화하는 주파수를 포함할 수 있다. 도 12에서, 유리 리본의 모선은 평면(215)에 존재하며 그리고 방향(211)을 나타내는 화살표로서 도시되어 있다.

도 13에 도시된 바와 같이, 본 발명의 방법은 유리 리본(103) 내의 표적 구조체(331)의 반사 이미지(350)를 캡처링하는 단계를 추가로 포함한다. 상술된 바와 같이, 반사 이미지(350)는 카메라 또는 다른 이미지 또는 비디오 기록 장치를 포함하는 이미지 캡처링 장치(351)를 사용하여 캡처링될 수 있다. 일단 캡처링되면, 반사 이미지(350)는 분석되거나, 또는 이미지 내에 포함된 데이터가 추출, 처리 및/또는 분석될 수 있는 컴퓨터(352)로 전달될 수 있다.

도 14에 도시된 바와 같이, 하나 이상의 이미지 캡처 장치(351)가 하나 이상의 표적 구조체(331)의 하나 이상의 반사 이미지(350)를 캡처링하는데 사용될 수도 있다. 도 14에 도시된 다른 예에서, 하나 이상의 반사 이미지(350)는 유리 리본(103)의 다양한 위치에서 캡처링될 수도 있다. 또 다른 예에서, 반사 이미지(350)는 표적 구조체의 반사상의 일부 또는 전부뿐만 아니라 표적 구조체의 특징부의 반사상의 일부 또는 전부를 포함할 수도 있다. 예컨대, 카메라와 같은 이미지 캡처 장치(351)는, 이미지를 캡처링하는 이미지 캡처 장치의 위치에 대향하는 유리 리본의 측부에 있는 유리 리본의 표적 구조체의 반사 이미지(350)를 이미지 캡처 장치(351)가 캡처링하도록 유리 리본(103)의 측부에 위치될 수도 있다. 예컨대, 이미지 캡처 장치는 유리 리본(103)의 폭의 대략 절반에 걸친 반사 이미지를 캡처링할 수도 있다. 다른 예에서, 제2 카메라와 같은 제2 이미지 캡처 장치(351)가, 이미지를 캡처링하는 이미지 캡처 장치의 위치에 대향하는 유리 리본의 측부에 있는 표적 구조체의 반사 이미지를 제2 이미지 캡처 장치가 또한 캡처링하도록 제1 이미지 캡처 장치에 대해 동일한 또는 유사한 수직 상승부에서 유리 리본의 대향하는 측부에 위치될 수도 있다. 마찬가지로, 이런 이미지 캡처 장치는 유리 리본의 폭의 대략 절반에 걸친 반사 이미지를 캡처링할 수도 있다. 제1 이미지 캡처 장치와 제2 이미지 캡처 장치는 예컨대, 유리 리본의 전체 폭에 걸친 표적 구조체의 반사 이미지를 캡처링할 수 있다. 또 다른 예에서, 제1 및 제2 이미지 캡처 장치는 유리 리본의 중첩 구역을 포함하는 반사 이미지를 캡처링하도록 구성될 수 있다. 중첩 구역은 예컨대, 유리 리본의 동일한 공간 위치에 대응하는 복수의 데이터 포인트가 유리한 경우의 보정 또는 다른 구성 계산을 위해 이용될 수 있다.

또 다른 예에서, 반사 이미지(350)의 성질 또는 양태는 유리 리본(103)에 대한 이미지 캡처 장치 또는 이미지 캡처 장치들의 위치 또는 각도에 기초하여 캡처링될 수 있다. 또 다른 예에서, 차단체 또는 제한체가 반사 이미지의 이상적인 캡처를 위해 이미지 캡처 장치를 배치하지 못하게 할 수도 있다. 이미지 캡처 장치(351)는 예컨대, 이미지 캡처 장치의 위치 및/또는 각도가 그런 차단체 또는 제한체를 수용하도록 수동으로 또는 자동으로 조절되거나 변경될 수 있게 그리고 이미지 캡처 장치가 이미지 캡처 장치의 검사, 세정 또는 보수를 위해 융해 인출 장치(101)로의 접근로를 제공하도록 제거될 수 있게 조절가능 기구 상에 장착될 수도 있다. 또 다른 예에서, 동일한 또는 상이한 이미지 캡처 장치가 유리 성형 장치(101) 또는 처리 단계에서 또는 유리 성형 장치 또는 처리 단계에 의해 사용되는 유리 리본(103), 표적 구조체(331) 및 임의의 다른 구성요소의 이미지를 캡처링하도록 배열될 수도 있다. 또 다른 예에서, 이미지 캡처 장치(351)는 융해 인출 장치(101) 내의 상술된 기존 또는 전용 뷰포트 윈도우를 통해 유리 리본(103), 표적 구조체(331), 또는 다른 구성요소를 관측하도록 배열될 수 있다. 또한, 이미지 캡처 장치는 광원에 인접하게 위치될 수 있는데, 여기서 광원으로부터의 광은 이미지 캡처의 품질을 향상시키기 위해서뿐만 아니라 광 또는 조명을 제공하여 유리 리본(103)의 반사 특성을 향상시키기 위해서 표적 구조체와 유리 리본을 조명할 수 있다.

도 13에 또한 도시된 바와 같이, 본 발명의 방법은 반사 이미지(350)로부터 반사 데이터(355)를 획득하는 단계를 추가로 포함한다. 상술된 바와 같이, 반사 데이터(355)는 반사 데이터(355)를 획득하기 위해 반사 이미지(350)를 추출, 처리 및/또는 분석하는 것을 포함하여 다양한 방식으로 획득될 수 있다. 반사 데이터(355)의 예는 표적 구조체의 반사 이미지(350) 및/또는 표적 구조체와 연관된 반사 특징부에 관한 공간 위치 또는 다른 기준 특성을 나타내는 좌표뿐만 아니라 반사 이미지(350)와 관련된 임의의 다른 정보를 포함한다. 예컨대, 반사 데이터(355)는 공간 주파수 패턴(336)을 포함하는 표적 구조체(331)의 반사상(337)에 관한 정보를 포함할 수 있다. 다른 예에서, 반사 데이터(355)는 표적 구조체의 반사 이미지(350) 및/또는 표적 구조체와 연관된 특징부와 다양한 시스템 구성요소, 구조체 및 변수 사이의 임의 개수의 관계 또는 특성을 한정 및 결정하는데 이용될 수 있는 기준점을 포함할 수 있다. 또한, 이들 기준점은 변환 매트릭스 또는 다른 수학적 계산을 통해 실제 공간 내의 3차원 좌표를 2차원 좌표로 변환될 수 있다. 또 다른 예에서, 반사 데이터(355)는 수행될 추가적인 분석, 조작 및/또는 계산을 위해 조작, 조합, 분석 또는 처리될 수 있다.

상술된 바와 같이, 표적 구조체(331)는 표적 구조체(331)의 특징 또는 특성을 포함할 수 있는 공간 주파수 패턴(336)을 포함할 수 있다. 이와 같이, 공간 주파수 패턴(336)을 포함하는 표적 구조체(331)의 반사상은 공간 주파수 패턴의 반사상(337)을 포함하여 표적 구조체(331)의 특징 또는 특성의 대응하는 반사상을 포함할 수 있다. 일례에서, 상술된 바와 같이 표적 구조체(331)의 공간 주파수 패턴(336)은 표적 구조체(331)에 인코딩될 수 있다. 다른 예에서, 표적 구조체(331)의 공간 주파수 패턴(336)은 표적 구조체(331) 상에 프린팅될 수 있다. 따라서, 표적 구조체(331)의 공간 주파수 패턴(336)의 반사상(337)은 공간 주파수 패턴(336)의 반사상(337)을 포함하는 표적 구조체의 대응하는 반사상일 수 있다. 이에 따라, 반사 이미지(350)로부터 획득된 반사 데이터(355)는 유리 리본(103) 내의 공간 주파수 패턴(336)의 대응하는 반사상(337)에 관한 임의의 정보를 포함할 수 있다.

본 발명의 방법은 표적 데이터(341)와 반사 데이터(355) 사이의 대응관계를 결정하는 단계를 추가로 포함한다. 상술된 바와 같이, 대응관계는 예컨대, 표적 데이터(341)의 전부 또는 일부와 반사 데이터(355)의 전부 또는 일부 사이의 비교, 상관관계, 또는 임의의 다른 관계 또는 관계들을 포함할 수 있다. 예컨대, 표적 데이터(341)가 분석될 수 있다. 다른 예에서, 반사 데이터(355)가 분석될 수 있다. 또 다른 예에서, 표적 데이터(341)와 반사 데이터(355)가 분석될 수 있다. 대응관계는 전산화된 또는 수동적인 프로세스, 수학적 계산, 또는 임의의 다른 전산을 포함하는 임의의 다양한 기술에 의해 결정될 수 있다. 일례에서, 대응관계는 표적 구조체(331)의 표적 데이터(341)로부터의 공간 주파수 패턴(336)과 비교하여 반사 이미지(350) 내의 반사 데이터(355)로부터의 공간 주파수 패턴(336)의 반사상(337)의 왜곡을 결정하는 것을 포함할 수 있다.

일례에서, 대응관계는 고속 푸리에 변환을 포함할 수 있다. 또 다른 예에서, 고속 푸리에 변환은 표적 데이터(341)가 획득될 수 있는 표적 구조체(331)의 공간 주파수 패턴(336) 및 반사 데이터(355)가 획득될 수 있는 반사 이미지(350) 내에 캡처된 공간 주파수 패턴의 반사상(337)에 대해 수행될 수 있다. 예컨대, 표적 데이터 및 반사 데이터에 대응하는 반사 이미지 내의 지배 주파수가 결정될 수 있다. 예컨대, 반사 데이터의 알려진 데이터 포인트로부터 시작하여, 복수의 다른 데이터 포인트가 계산될 수 있다. 다른 예에서, 고속 푸리에 변환은 지배 주파수를 계산하는데 이용될 수 있으며, 또한 최근사 고조파에서 최대 고조파까지의 수정을 포함할 수 있다. 또 다른 예에서, 표적 구조체는 칼럼 좌표로부터 주파수의 근사 일차종속을 나타내는 공간 주파수 패턴을 포함하며, 반사 이미지 내의 일차종속으로부터의 편차는 유리 리본(103)의 왜곡 또는 움직임을 나타낼 수 있다.

본 발명의 방법은 유리 리본(103)의 형상을 결정하기 위해 대응관계 및 보정 데이터를 이용하는 단계를 추가로 포함한다. 일례에서, 대응관계의 전부 또는 일부가 이용될 수 있다. 또 다른 예에서, 보정 데이터의 전부 또는 일부가 이용될 수 있다. 또 다른 예에서, 대응관계의 전부 또는 일부가 이용되고 그리고 보정 데이터의 전부 또는 일부가 이용될 수 있다. 이런 단계는 예컨대, 형상 복원 알고리즘을 수행하는 단계를 포함할 수 있다. 형상 복원 알고리즘은 유리 리본(103)의 형상을 결정하기 위해 임의의 데이터를 이용하는 이용할 수 있다. 예컨대, 유리 리본(103)의 형상은 대응관계 및 보정 데이터에 기초하여 표적 구조체(331)의 캡처된 반사 이미지(350)를 생성할 수 있는 유리 리본의 외형 또는 프로파일을 복구, 복원, 역산, 또는 달리 추정함으로써 결정될 수 있다.

도 8에 도시된 바와 같이, 일례에서 형상은 유리 리본(103)의 횡단 프로파일(70)을 근사화할 수 있다. 횡단 프로파일(70)은 예컨대, 평면(75)에서의 유리 리본(103)의 단면일 수 있으며, 여기서 평면(75)은 유리 리본(103)을 가로지른다. 다른 예에서, 유리 리본이 얇으며 그리고 그 길이와 폭보다 사실상 작은 두께를 갖는 경우, 횡단 프로파일(70)은 평면(75)에 존재하는 라인 또는 곡선(71)으로서 근사화될 수 있으며, 여기서 평면(75)은 유리 리본(103)을 가로지른다. 유리 리본(103), 유리 시트(104), 또는 대상이나 표적 구조체의 반사상이 재료의 양쪽 표면 상에 나타날 수 있는 다른 투명 재료에 대해서, 형상은 프레넬 반사 계수를 고려함으로써 결정될 수 있다. 또 다른 예에서, 본 발명의 방법은 유리 리본(103)의 복수의 형상(72)을 결정하는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 예컨대, 복수의 형상(72)의 각각의 형상(73)은 유리 리본(103)의 횡단 프로파일(70) 또는 곡선(71)을 근사화할 수 있다.

도 9에 도시된 또 다른 예에서, 본 발명의 방법은 복수의 형상(72)에 기초하여 유리 리본(103)의 표면 프로파일(74)을 근사화하는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 표면 프로파일(74)은 예컨대, 복수의 형상들 사이의 관계에 기초하여 복수의 형상(72)을 공간적으로 정렬 및 배열함으로써 결정될 수 있다. 일례에서, 복수의 형상(72)은 유리 리본(103)의 전체 표면 프로파일(77)을 근사화할 수 있는 렌더링된 이미지를 생성하기 위해 디지털 방식으로 조립될 수 있다. 예컨대, 형상은 유리 리본(103)의 일부분 또는 전부의 실제 형상 및/또는 유리 리본으로부터 절단된 유리 시트(104)의 일부분 또는 전체의 실제 형상을 근사화하거나 시뮬레이션할 수 있다.

상술한 단계들 중의 임의의 단계는 동일한 또는 상이한 시간 주파수에서 수행될 수 있다. 예컨대, 도 10에 도시된 바와 같이, 보정 데이터를 획득하는 단계(501), 표적 데이터를 획득하는 단계(502), 반사 이미지를 캡처링하는 단계(503), 반사 데이터를 획득하는 단계(504), 대응관계를 결정하는 단계(505), 및 경면 반사면의 형상을 결정하기 위해 대응관계 및 보정 데이터를 이용하는 단계(506)를 포함하는 본 방법의 단계들(500) 중의 임의의 단계는 동일한 또는 상이한 시간 주파수에서 수행될 수 있다. 일례에서, 임의의 단계는 초당 적어도 한 번의 속도로 수행될 수 있다. 다른 예에서, 임의의 단계는 반복 주기가 영에 가까워지는 속도로 반복될 수 있다. 예컨대, 임의의 단계는 반복하는 도중에 유리 리본의 형상의 변화가 현저하지 않은 경우 시간상으로 사실상 지속적인 속도로 수행될 수 있다. 또 다른 예에서, 임의의 단계는 임의 개수의 변수에 의해 한정되는 속도로 수행될 수 있다. 일례에서, 단계들 중의 임의의 단계는 유리 시트 당 한 번과 부합하는 속도로 수행될 수 있다. 다른 예에서, 단계들 중의 임의의 단계는 유리 시트의 크기, 제조되는 또는 사전에 제조된 유리 시트의 품질, 또는 유리 성형 장치 및 다른 프로세스에 기여하거나 이들을 변경시킬 수도 있는 임의의 다른 요인에 기초하여 조절되는 속도로 수행될 수 있다. 또한, 임의의 단계는 한 번 수행될 수 있다. 일례에서, 단계들 중의 하나 이상의 단계는 한 번 수행되는 반면, 단계들 중의 다른 단계는 한 번보다 많이 수행될 수 있다.

보정 데이터를 획득하는 단계, 표적 데이터를 획득하는 단계, 표적 데이터로부터 표적 라인을 한정하는 단계, 반사 이미지를 캡처링하는 단계, 반사 데이터를 획득하는 단계, 반사 라인을 한정하는 단계, 대응관계를 결정하는 단계, 및 유리 리본의 형상을 결정하기 위해 대응관계 및 보정 데이터를 이용하는 단계를 포함하는 본 방법의 단계들 중의 임의의 단계를 위해 다양한 컴퓨터, 수치적, 수학적, 선형, 비선형, 과학적, 디지털, 전자적 또는 다른 기술이 이용될 수 있다. 임의의 구성, 계산, 조작 또는 전산이 함께 또는 단독으로 그리고 본 명세서에 제공된 본 방법의 단계들 중의 임의의 단계를 위해 수행될 수 있다.

다양한 변경예 및 변형예가 청구된 본 발명의 기술사상과 범주를 벗어나지 않고 이루어질 수 있다는 것을 통상의 기술자는 알 것이다.

Claims (20)

1. 사실상 원통형인 경면 반사면의 형상을 결정하기 위한 방법으로서,
   (Ⅰ) 보정 데이터를 획득하는 단계와,
   (Ⅱ) 공간 주파수 패턴을 포함하는 표적 구조체에 관한 표적 데이터를 획득하는 단계와,
   (Ⅲ) 상기 경면 반사면 내의 표적 구조체의 반사 이미지를 캡처링하는 단계와,
   (Ⅳ) 상기 반사 이미지로부터 반사 데이터를 획득하는 단계와,
   (Ⅴ) 상기 표적 데이터와 반사 데이터 사이의 대응관계를 결정하는 단계와,
   (Ⅵ) 상기 경면 반사면의 형상을 결정하기 위해 상기 대응관계 및 보정 데이터를 이용하는 단계를 포함하는 방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 단계 (Ⅴ)는 고속 푸리에 변환을 포함하는 방법.
3. 제1항에 있어서, 상기 공간 주파수 패턴은 공간 위치의 함수를 포함하는 방법.
4. 제1항에 있어서, 상기 경면 반사면은 사실상 평면을 따라 연장되며, 상기 표적 구조체는 상기 평면에 대해 사실상 수직인 방법.
5. 제4항에 있어서, 상기 공간 주파수 패턴은 경면 반사면의 모선에 대해 사실상 평행한 방향으로 주기적인 패턴을 포함하는 방법.
6. 제5항에 있어서, 상기 공간 주파수 패턴은 경면 반사면의 모선에 대해 사실상 수직인 방향으로 단조적으로 변화하는 주파수를 포함하는 방법.
7. 제1항에 있어서, 상기 경면 반사면은 시트 재료의 주 평면을 포함하는 방법.
8. 제1항에 있어서, 상기 형상은 경면 반사면의 횡단 프로파일을 근사화하는 방법.
9. 제1항에 있어서, 상기 경면 반사면의 복수의 형상을 결정하는 단계를 더 포함하며, 각각의 형상은 경면 반사면의 횡단 프로파일을 근사화하는 방법.
10. 제9항에 있어서, 상기 복수의 형상에 기초하여 경면 반사면의 표면 프로파일을 근사화하는 단계를 더 포함하는 방법.
11. 다량의 용융 유리로부터 인출된 유리 리본의 형상을 결정하기 위한 방법으로서,
    (Ⅰ) 보정 데이터를 획득하는 단계와,
    (Ⅱ) 공간 주파수 패턴을 포함하는 표적 구조체에 관한 표적 데이터를 획득하는 단계와,
    (Ⅲ) 상기 유리 리본 내의 표적 구조체의 반사 이미지를 캡처링하는 단계와,
    (Ⅳ) 상기 반사 이미지로부터 반사 데이터를 획득하는 단계와,
    (Ⅴ) 상기 표적 데이터와 반사 데이터 사이의 대응관계를 결정하는 단계와,
    (Ⅵ) 상기 유리 리본의 형상을 결정하기 위해 상기 대응관계 및 보정 데이터를 이용하는 단계를 포함하는 방법.
12. 제11항에 있어서, 상기 단계 (Ⅴ)는 고속 푸리에 변환을 포함하는 방법.
13. 제11항에 있어서, 상기 유리 리본은 사실상 평면을 따라 연장되며, 상기 표적 구조체는 상기 평면에 대해 사실상 수직인 방법.
14. 제13항에 있어서, 상기 공간 주파수 패턴은 유리 리본의 모선에 대해 사실상 평행한 방향으로 주기적인 패턴을 포함하는 방법.
15. 제14항에 있어서, 상기 공간 주파수 패턴은 유리 리본의 모선에 대해 사실상 수직인 방향으로 단조적으로 변화하는 주파수를 포함하는 방법.
16. 제11항에 있어서, 상기 유리 리본은 인출 방향으로 연속적으로 이동하는 방법.
17. 제11항에 있어서, 상기 형상은 유리 성형 프로세스의 상류부 파라미터를 제어하는데 이용되는 방법.
18. 제11항에 있어서, 상기 형상은 하류부 프로세스의 파라미터를 제어하는데 이용되는 방법.
19. 제11항에 있어서, 상기 형상은 유리 성형 장치의 상류부 파라미터 및 하류부 프로세스의 파라미터를 제어하는데 이용되는 방법.
20. 제11항에 있어서, 상기 형상은 유리 리본의 속성을 결정하는데 사용되며, 상기 유리 리본의 품질이 상기 속성에 기초하여 분류되는 방법.

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