KR20160087176A - Printed circuit board and method of manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

Disclosed are a printed circuit board and a manufacturing method thereof. The printed circuit board comprises: a plurality of build-up layers on which a circuit layer and an insulation layer to cover the circuit layer are successively stacked; and a glass layer configured to come into contact with the build-up layer placed on the lowermost position among the plurality of build-up layers and touch the bottom surface of the circuit layer which is included on the build-up layer placed on the lowermost position. The purpose of the present invention is to provide a printed circuit board configured to easily implement a micro circuit and prevent warpage deformation.

Description

인쇄회로기판 및 이의 제조방법{PRINTED CIRCUIT BOARD AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME} BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a printed circuit board (PCB)

본 발명은 인쇄회로기판에 관한 것으로, 보다 상세하게는 유리부재를 포함하는 인쇄회로기판 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a printed circuit board, and more particularly, to a printed circuit board including a glass member and a method of manufacturing the same.

인쇄회로기판(Printed Circuit Board;PCB)은 절연성 기판에 회로 라인이 배선된 것으로, 최근 전자제품의 경박단소화 및 고밀도화 등의 추세에 따라 인쇄회로기판 역시 박형화가 요구되고 있으며, 배선 밀도를 높이기 위해 다층화 및 미세 회로 구현에 관한 연구가 진행되고 있다.Printed circuit boards (PCBs) are circuit boards that are wired on an insulated substrate. Recent trends in thinning and densification of electronic products have led to demand for thinner printed circuit boards. Studies on multilayering and micro-circuit implementation are underway.

종래 인쇄회로기판은, 베이스 기재의 양면으로 회로를 빌드업해 나가며, 최외곽에 고분자 물질과 무기 필러가 혼합된 재질의 솔더 레지스트를 도포한다. 그리고, 솔더 레지스트를 부분적으로 개방하여 패드를 노출시키고, 여기에 솔더 볼을 형성하여 반도체 칩 등의 외부 회로와 전기적으로 도통시킨다.Conventionally, a printed circuit board builds up a circuit on both sides of a base substrate, and a solder resist made of a mixture of a polymer material and an inorganic filler is applied to the outermost periphery. Then, the solder resist is partly opened to expose the pad, and a solder ball is formed to electrically connect the pad to an external circuit such as a semiconductor chip.

그러나, 기판이 점점 얇아짐에 따라 여러 환경 요인에 의해 기판이 휘어지는 등의 문제가 발생하고 있다.However, as the substrate becomes thinner, the substrate is bent due to various environmental factors.

즉, 솔더 레지스트 또는 기판 내부의 층간 절연층을 구성하는 고분자 물질은 열팽창계수(Coefficient of Thermal Expansion)가 대략 40ppm/℃ 정도로 크고, 특히 배선 금속과의 미스매치로 인해 리플로우와 같이 고온 조건에서 진행되는 공정에서 기판 내부에 들뜸의 발생하거나 기판 전체가 휘어지는 경우가 있다.That is, the polymer material constituting the solder resist or the interlayer insulating layer inside the substrate has a coefficient of thermal expansion of about 40 ppm / ° C, and particularly, it is mismatched with the wiring metal and progressed under high temperature conditions such as reflow The substrate may be lifted or the entire substrate may be warped.

또한, 고분자 물질의 경우 일정 길이를 변형시키는 데 필요한 힘을 나타내는 모듈러스(Modulus) 값이 대략 2~5 GPa에 불과하여 칩 실장 과정 등에서 약한 충격에도 변형이 발생하는 문제가 있다.
In addition, in the case of a polymer material, a modulus value indicating a force required to deform a constant length is only about 2 to 5 GPa, which causes deformation even in a weak impact in a chip mounting process.

특허문헌 1: 일본 공개특허공보 2009-239224 호Patent Document 1: JP-A-2009-239224 특허문헌 2: 일본 공개특허공보 2003-282774 호Patent Document 2: JP-A-2003-282774

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 기판의 최외층에 유리 재질로 이루어지는 부재를 구비시킴으로써 미세회로 구현이 용이하고 휨 변형이 발생하지 않는 인쇄회로기판 및 이의 제조방법을 제공하는 것을 발명의 목적으로 한다.
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a printed circuit board which is easy to implement a microcircuit and does not cause bending deformation by providing a member made of a glass material on the outermost layer of the substrate, SUMMARY OF THE INVENTION

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 창안된 본 발명은, 한쪽 면에 유리부재가 구비되는 기판으로서, 복수의 빌드업층과, 상기 복수의 빌드업층에서 최하부에 위치하는 빌드업층과 접하도록 구비되고, 상기 최하부에 위치하는 빌드업층에 포함된 회로층과 접하는 글래스층을 포함하는 인쇄회로기판을 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a substrate having a glass member on one side thereof. The substrate is provided so as to contact a plurality of buildup layers and a buildup layer positioned at the lowermost portion of the plurality of buildup layers, And a glass layer in contact with the circuit layer included in the buildup layer located at the lowermost portion.

여기서, 상기 글래스층의 외부면에 보호부재가 더 구비되거나, 상기 글래스층의 적층면에 절연막이 더 형성되거나, 상기 글래스층에서 상기 빌드업층의 측면에 인접하는 부위가 제거된 것을 특징으로 인쇄회로기판을 제공할 수 있다.
Wherein a protective member is further provided on an outer surface of the glass layer, or an insulating film is further formed on a surface of the glass layer, or a portion adjacent to a side surface of the build-up layer is removed from the glass layer, A substrate can be provided.

상기 목적을 달성하기 위하여 창안된 본 발명의 다른 실시예는, 양쪽 면에 유리부재가 구비되는 기판으로서, 복수의 빌드업층과, 상기 복수의 빌드업층에서 최상부에 위치하는 빌드업층과 접하도록 구비되고, 상기 최상부에 위치하는 빌드업층에 포함된 회로층의 일부를 노출시키는 캐비티가 형성된 상부 글래스층과, 상기 복수의 빌드업층에서 최하부에 위치하는 빌드업층과 접하도록 구비되고, 상기 최하부에 위치하는 빌드업층에 포함된 회로층의 일부를 노출시키는 캐비티가 형성된 하부 글래스층을 포함하는 인쇄회로기판을 제공한다.
In order to achieve the above object, another embodiment of the present invention is a substrate provided with glass members on both sides thereof, wherein the plurality of buildup layers are provided so as to be in contact with a buildup layer located at the top of the plurality of buildup layers An upper glass layer on which a cavity for exposing a part of a circuit layer included in the uppermost build-up layer is formed, and a build-up layer provided so as to be in contact with a lowermost build-up layer in the plurality of build- And a lower glass layer on which a cavity for exposing a part of the circuit layer included in the upper layer is formed.

본 발명에 따르면 기판 전체의 열팽창율이 저감되어 기판 휨 등의 변형이 발생하지 않는다.According to the present invention, the coefficient of thermal expansion of the entire substrate is reduced, and deformation such as substrate warpage does not occur.

또한, 본 발명에 따르면 기판 내부로의 수분 침투를 막아 층간 들뜸 문제가 발생하지 않는다.In addition, according to the present invention, moisture penetration into the inside of the substrate is prevented, and no interlayer lifting problem occurs.

또한, 본 발명에 따르면 패턴 떨어짐 등의 불량 발생이 없고 미세회로를 구현할 수 있다.
Further, according to the present invention, it is possible to realize a fine circuit without occurrence of defects such as pattern deterioration.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 인쇄회로기판의 단면도
도 2는 본 발명의 제2 실시예에 따른 인쇄회로기판의 단면도
도 3은 본 발명의 제3 실시예에 따른 인쇄회로기판의 단면도
도 4는 본 발명의 제4 실시예에 따른 인쇄회로기판의 단면도
도 5는 본 발명의 제5 실시예에 따른 인쇄회로기판의 단면도
도 6은 본 발명의 제6 실시예에 따른 인쇄회로기판의 단면도
도 7은 본 발명의 제7 실시예에 따른 인쇄회로기판의 단면도
도 8은 본 발명의 제8 실시예에 따른 인쇄회로기판의 단면도
도 9 내지 도 25는 본 발명의 인쇄회로기판 제조방법을 나타낸 공정도
도 26 내지 도 31은 본 발명의 다른 실시예에 따른 인쇄회로기판 제조방법을 나타낸 공정도
1 is a cross-sectional view of a printed circuit board according to a first embodiment of the present invention;
2 is a sectional view of a printed circuit board according to a second embodiment of the present invention
3 is a sectional view of a printed circuit board according to a third embodiment of the present invention
4 is a cross-sectional view of a printed circuit board according to a fourth embodiment of the present invention
5 is a cross-sectional view of a printed circuit board according to a fifth embodiment of the present invention
6 is a cross-sectional view of a printed circuit board according to a sixth embodiment of the present invention
7 is a cross-sectional view of a printed circuit board according to a seventh embodiment of the present invention
8 is a cross-sectional view of a printed circuit board according to an eighth embodiment of the present invention
9 to 25 are process drawings showing a method for manufacturing a printed circuit board of the present invention
26 to 31 are process drawings showing a method for manufacturing a printed circuit board according to another embodiment of the present invention

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 기술 등은 첨부되는 도면들과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예를 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있다. 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 함과 더불어, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공될 수 있다. The advantages and features of the present invention and the techniques for achieving them will be apparent from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. The present embodiments are provided so that the disclosure of the present invention is not only limited thereto, but also may enable others skilled in the art to fully understand the scope of the invention.

본 명세서에서 사용된 용어들은 실시예를 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 다수형도 포함한다. 또한, 본 명세서에서 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.The terms used herein are intended to illustrate the embodiments and are not intended to limit the invention. In this specification, the singular forms include plural forms unless otherwise specified in the text. Further, elements, steps, operations, and / or elements mentioned in the specification do not preclude the presence or addition of one or more other elements, steps, operations, and / or elements.

한편, 도면의 구성요소는 반드시 축척에 따라 그려진 것은 아니고, 예컨대, 본 발명의 이해를 돕기 위해 도면의 일부 구성요소의 크기는 다른 구성요소에 비해 과장될 수 있다. 또한, 각 도면에 걸쳐 표시된 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭하며, 도시의 간략화 및 명료화를 위해, 도면은 일반적 구성 방식을 도시하고, 본 발명의 설명된 실시예의 논의를 불필요하게 불명료하도록 하는 것을 피하기 위해 공지된 특징 및 기술의 상세한 설명은 생략될 수 있다.
On the other hand, the constituent elements of the drawings are not necessarily drawn to scale, and for example, the sizes of some constituent elements of the drawings may be exaggerated relative to other constituent elements to facilitate understanding of the present invention. Like reference numerals refer to like elements throughout the drawings, and for purposes of simplicity and clarity of illustration, the drawings illustrate a general manner of organization and are not intended to unnecessarily obscure the discussion of the described embodiments of the present invention Detailed descriptions of known features and techniques may be omitted so as to avoid obscuring the invention.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 구성 및 작용효과를 더욱 상세하게 설명한다.
Hereinafter, the configuration and operation effects of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 인쇄회로기판의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a printed circuit board according to a first embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 실시예의 인쇄회로기판(100)은, 복수의 층으로 적층된 빌드업층(110)과, 최외곽에 적층되어 구비되는 글래스층(120)을 포함한다.Referring to FIG. 1, the printed circuit board 100 of this embodiment includes a build-up layer 110 stacked in a plurality of layers and a glass layer 120 stacked on the outermost layer.

상기 빌드업층(110)은 회로층(111)과 상기 회로층(111)을 복개하는 절연층(112)이 차례로 적층되어 이루어진다. 본 실시예에서는 상기 빌드업층(110)이 2층으로 구성된 것을 도시하였으나 요구되는 스펙에 따라 그 이상의 층수로도 구성될 수 있다. 또한, 발명의 요지만을 나타내기 위해 자세히 도시하지 않았으나 각 층의 회로층(111)은 비아를 통해 전기적으로 연결될 수 있다.
The build-up layer 110 includes a circuit layer 111 and an insulating layer 112 covering the circuit layer 111 in this order. In the present embodiment, the build-up layer 110 is composed of two layers, but the number of layers may be more than that according to a required specification. In addition, although not shown in detail to show only the gist of the invention, the circuit layers 111 of each layer may be electrically connected via vias.

상기 회로층(111)은 전기 신호를 전달하는 금속선으로 미리 설계된 패턴에 따라 배선되고, 외부 구성 예컨대 반도체칩이나 메인기판과의 접속점이 되는 패드를 포함한다. 상기 패드는 접속 신뢰성을 확보하기 위해 일반적으로 수십 ㎛의 직경을 갖는 원형의 평면 형상으로 형성되며, 그 위에 솔더 볼(Solder Ball)이 부착된다.The circuit layer 111 includes a pad which is wired according to a previously designed pattern with a metal wire for transmitting an electric signal and serves as a connection point with an external structure such as a semiconductor chip or a main board. In order to secure connection reliability, the pad is generally formed in a circular plane shape having a diameter of several tens of micrometers, and a solder ball is attached thereon.

따라서, 안정적인 신호 전달을 위해 상기 회로층(111)은 전기전도성이 우수한 은(Ag), 팔라듐(Pd), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 티타늄(Ti), 금(Au), 구리(Cu) 및 백금(Pt)으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종 이상의 금속을 사용하여 형성할 수 있다.Therefore, for stable signal transmission, the circuit layer 111 may be formed of a metal such as Ag, Pd, Al, Ni, Ti, Au, Cu) and platinum (Pt) may be used.

상기 회로층(111)은 당업계에 공지된 통상의 도금 공정 예컨대, SAP(Semi-Additive Process), MSAP(Modified Semi-Additive Process) 또는 서브트랙티브법(Subtractive) 등을 사용하여 형성할 수 있으며, 이에 따라, 상기 회로층(111)은 하지의 시드층(111a)과 상기 시드층(111a) 상에 금속이 성장하여 형성되는 도금층(111b)으로 구성된다.
The circuit layer 111 may be formed using a conventional plating process known in the art such as a Semi-Additive Process (SAP), a Modified Semi-Additive Process (MSAP), or a Subtractive The circuit layer 111 includes a base seed layer 111a and a plating layer 111b formed by growing a metal on the seed layer 111a.

상기 절연층(112)은 회로층(111)보다 두껍게 도포됨으로써 각 층의 회로층(111)은 절연층(112)에 의해 층간 절연되며, 특히 최상층에 적층된 절연층(112)은 납땜 시에 솔더 볼이 불필요한 부분에 부착되는 것을 방지함과 동시에 회로층(111)이 산소나 습분에 의해 열화되는 것을 방지하는 솔더 레지스트로서 기능한다.Since the insulating layer 112 is thicker than the circuit layer 111, the circuit layers 111 of each layer are interlayer-insulated by the insulating layer 112, and in particular, the insulating layer 112 stacked on the uppermost layer And functions as a solder resist for preventing the solder ball from adhering to an unnecessary portion and preventing the circuit layer 111 from being deteriorated by oxygen or moisture.

따라서, 상기 절연층(112)은 전기 절연성 뿐만 아니라 내열성, 내용제성, 내약품성 등이 우수한 고분자 수지, 예컨대 에폭시 수지, 페놀 수지, 우레탄 수지, 실리콘 수지, 폴리이미드 수지, 또는 이들 수지에 유리 섬유 또는 무기 필러와 같은 보강재가 함침된 프리프레그(Prepreg) 등을 사용하여 형성할 수 있다.Therefore, the insulating layer 112 may be formed of a polymer resin having excellent heat resistance, solvent resistance, and chemical resistance as well as electrical insulation, such as epoxy resin, phenol resin, urethane resin, silicone resin, polyimide resin, A prepreg impregnated with a reinforcing material such as an inorganic filler, or the like can be used.

다만, 이러한 보강재의 함량비가 증가할수록 수지의 비율이 줄어들기 때문에 회로층(111)과의 밀착력이 저하될 수 있다. 또한, 수지의 유리전이온도(Tg)는 일반적으로 리플로우 온도(대략 260℃) 이하가 되기 때문에 기판 휨 등의 변형이 발생하기 쉽다.
However, as the content ratio of the reinforcing material increases, the ratio of the resin decreases, and thus the adhesion with the circuit layer 111 may be reduced. Further, since the glass transition temperature (Tg) of the resin generally falls below the reflow temperature (approximately 260 캜), deformation such as substrate warpage is likely to occur.

상기 글래스층(120)은 이를 방지하기 위한 수단이 되며, 최하부에 위치하는 빌드업층(110)과 접하도록 구비됨으로써 최하부에 위치하는 빌드업층(110)에 포함된 회로층(111) 즉, 최하부의 회로층(111)을 복개한다.The glass layer 120 serves as a means for preventing the glass layer 120 from contacting the buildup layer 110 located at the lowermost part and thus the circuit layer 111 included in the buildup layer 110 located at the lowermost part, The circuit layer 111 is covered.

상기 빌드업층(110)은 하부에서부터 차례로 적층되므로 상기 최하부의 회로층(111)은 그 기저면이 절연층(112) 외부로 노출되고, 따라서, 상기 글래스층(120)은 회로층(111)의 기저면과 직접 접하게 된다.The bottom surface of the bottom layer 111 is exposed to the outside of the insulating layer 112 so that the glass layer 120 is exposed on the bottom surface of the circuit layer 111, .

즉, 상기 글래스층(120)은 기판의 최외곽에 위치하여 회로층(111)을 외부로부터 보호하는 솔더 레지스트로서 기능하는 동시에 최하부에 위치하는 회로층(111)의 지지층이 된다. 다시 말해, 상기 최하부에 위치하는 회로층(111)은 글래스층(120)을 지지 기반으로 하여 그 위에 도금 공정을 통해 형성된다. 이에 따른 효과에 대해서는 후술하는 제조방법에서 자세히 살펴보기로 한다.
That is, the glass layer 120 is located at the outermost portion of the substrate and functions as a solder resist for protecting the circuit layer 111 from the outside, and serves as a supporting layer of the circuit layer 111 located at the lowermost portion. In other words, the lowermost circuit layer 111 is formed on the glass layer 120 as a support base through a plating process. The effect of this will be described in detail in the following manufacturing method.

상기 글래스층(120)에는 솔더 볼을 부착하기 위한 캐비티(120a)가 형성되어 있으며, 상기 캐비티(120a)를 통해 최하부에 위치하는 회로층(111)은 그 일부, 예컨대 패드가 외부로 노출된다.A cavity 120a for attaching the solder ball is formed on the glass layer 120. A portion of the circuit layer 111 located at the lowermost portion through the cavity 120a is exposed to the outside.

이때, 상기 회로층(111)은 전술한대로 시드층(111a)과 시드층(111a) 상에 형성되는 도금층(111b)으로 구성되므로, 구체적으로 상기 캐비티(120a)를 통해 노출되는 금속은 시드층(111a)이 되며, 따라서, 캐비티(120a)에 형성되는 솔더 볼은 시드층(111a)과 접촉하게 된다.In this case, since the circuit layer 111 is composed of the seed layer 111a and the plating layer 111b formed on the seed layer 111a, the metal exposed through the cavity 120a may be a seed layer So that the solder ball formed in the cavity 120a comes into contact with the seed layer 111a.

이와 같이, 본 발명의 인쇄회로기판(100)은 솔더 레지스트로서 저(低)열팽창율(대략 3.2ppm/℃)과 고(高)강성(대략 75GPa)의 글래스층(120)이 사용되므로 기판 휨 발생을 줄일 수 있다.As described above, since the printed circuit board 100 of the present invention uses the glass layer 120 having a low thermal expansion coefficient (about 3.2 ppm / ° C) and high rigidity (about 75 GPa) as the solder resist, The occurrence can be reduced.

또한, 절연층(112)의 주성분이 되는 고분자 물질은 일반적으로 0.1~1.0%의 흡습율을 갖는데, 수분이 흡수된 뒤에 고온 공정을 거치면 급격한 수분의 팽창으로 인한 압력 때문에 기판 내부에 들뜸이 발생한다. 그러나, 유리 재질의 경우 흡습율이 거의 0%에 가깝기 때문에 본 발명처럼 글래스층(120)을 사용하는 경우 흡습으로 인한 들뜸 문제를 해소할 수 있다.
The polymer material as a main component of the insulating layer 112 generally has a moisture absorption rate of 0.1 to 1.0%. When moisture is absorbed and then subjected to a high-temperature process, lifting of the substrate occurs due to pressure due to rapid expansion of water . However, since the moisture absorption rate of the glass material is close to 0%, the problem of lifting due to moisture absorption can be solved when the glass layer 120 is used as in the present invention.

도 2는 본 발명의 제2 실시예에 따른 인쇄회로기판의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a printed circuit board according to a second embodiment of the present invention.

유리의 경우 취성이 약하기 때문에 외부에 그대로 노출되면 기판 제작 과정이나 칩 실장 과정에서 파손될 위험이 높다. 따라서, 외력에 의한 글래스층(120) 깨짐을 방지하기 위하여 본 발명은, 도 2와 같이, 상기 글래스층(120)의 외부면에 보호부재(130)가 더 형성된 인쇄회로기판(100)을 제공한다.Since the brittleness is weak in the case of glass, exposure to the outside is highly likely to be damaged in the process of manufacturing the substrate or the chip mounting process. Accordingly, in order to prevent breakage of the glass layer 120 due to external force, the present invention provides a printed circuit board 100 having a protection member 130 formed on the outer surface of the glass layer 120, as shown in FIG. do.

여기서, 글래스층(120)의 '외부면'이라 함은 절연층(112)과의 접합면을 제외한 외부로 노출된 면을 의미한다. 따라서, 도면에서는 글래스층(120)의 하부면에만 보호부재(130)가 형성된 것을 나타내고 있으나, 상기 보호부재(130)는 글래스층(120)의 하부면을 포함한 양 측면, 더 나아가 캐비티(120a)의 내벽면에도 형성될 수 있다. 다만, 상기 보호부재(130)에는 회로층(111)이 개방될 수 있도록 캐비티(120a)와 대응되는 위치에 홀이 형성되어 있다.Here, the 'outer surface' of the glass layer 120 means a surface exposed to the outside except for the bonding surface with the insulating layer 112. Although the protective member 130 is formed on only the lower surface of the glass layer 120 in the drawing, the protective member 130 may be formed on both sides including the lower surface of the glass layer 120, As shown in FIG. However, the protection member 130 is formed with a hole at a position corresponding to the cavity 120a so that the circuit layer 111 can be opened.

상기 보호부재(130)는 플라스틱 막으로 적층물을 형성하거나 플라즈마로 코팅한 얇은 막 형태, 또는 탄성이 우수한 고분자 수지를 주성분으로 하는 소정 두께의 시트로도 형성 가능하다.
The protective member 130 may be formed of a thin film formed of a plastic film or a plasma-coated laminate, or a sheet of a predetermined thickness containing a polymer resin having excellent elasticity as a main component.

도 3은 본 발명의 제3 실시예에 따른 인쇄회로기판의 단면도이다.3 is a cross-sectional view of a printed circuit board according to a third embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 실시예에 따른 인쇄회로기판(100)은 상기 글래스층(120)의 적층면, 즉 절연층(112)과의 접합면에 절연막(140)이 더 형성된 구조를 갖는다.Referring to FIG. 3, the printed circuit board 100 according to the present embodiment has a structure in which an insulating film 140 is further formed on the laminated surface of the glass layer 120, that is, the bonding surface with the insulating layer 112.

유리의 경우 표면 조도값이 작기 때문에 회로층(111)과의 밀착력이 저감될 수 있다. 이를 해결하기 위해 유리 표면에 플라즈마, 이온 빔, 화학적 전처리 등의 표면처리를 실시할 수 있고, 본 실시예처럼 글래스층(120)에 절연막(140)을 도포하고 그 위에 회로층(111)을 형성할 수도 있다. 다만, 여기서 회로층(111)의 일부 영역 즉 패드가 노출될 수 있도록 상기 캐비티(120a)는 그 아래의 절연막(140)까지 관통하도록 형성된다.In the case of glass, since the surface roughness value is small, the adhesion with the circuit layer 111 can be reduced. In order to solve this problem, it is possible to perform surface treatment such as plasma, ion beam and chemical pretreatment on the glass surface. In this embodiment, the insulating layer 140 is applied to the glass layer 120, and the circuit layer 111 is formed thereon You may. Here, the cavity 120a is formed to penetrate to the insulating film 140 below the cavity 120a so that a part of the circuit layer 111, that is, the pad, may be exposed.

상기 절연막(140)의 구성 재질이 되는 고분자 수지는 접착성이 강하고, Ra. 0.1~0.7㎛ 정도의 표면 거칠기를 가지고 있어 회로층(111)과의 밀착력이 강화된다.
The polymeric resin, which is a constituent material of the insulating film 140, And has a surface roughness of about 0.1 to 0.7 mu m, so that adhesion with the circuit layer 111 is enhanced.

도 4는 본 발명의 제4 실시예에 따른 인쇄회로기판의 단면도이다.4 is a cross-sectional view of a printed circuit board according to a fourth embodiment of the present invention.

본 실시예에서는, 상기 글래스층(120)에서 기판 측면 즉, 빌드업층(110)의 측면에 인접하는 부위가 제거된 형태의 인쇄회로기판(100)을 제시한다. 이에 따라, 상기 글래스층(120)은 빌드업층(110)보다 짧은 길이를 갖고, 기판의 측면에서 바라보았을 때 글래스층(120)의 양 단부는 기판 안쪽으로 들어간 형태가 된다.In this embodiment, a printed circuit board 100 is shown in which the side surface of the glass layer 120, that is, the side adjacent to the side surface of the build-up layer 110, is removed. Accordingly, the glass layer 120 has a shorter length than the build-up layer 110, and both ends of the glass layer 120 enter into the substrate when viewed from the side of the substrate.

이와 같은 구조는 절단 가공 시 글래스층(120)의 깨짐을 방지하기 위한 것으로, 이에 대한 자세한 설명은 후술하는 제조방법에서 살펴보기로 한다.
Such a structure is for preventing breakage of the glass layer 120 at the time of cutting, and a detailed description thereof will be described in the manufacturing method described later.

이상에서 기판의 한쪽 면에만 유리부재가 구비된 구조만을 제시하였으나, 기판의 열 변형이 큰 경우 유리부재는 기판의 양쪽 면에 모두 구비될 수 있고, 이에 대해서 이하의 도 5를 참조하여 살펴보기로 한다.In the above description, only the structure in which the glass member is provided on only one side of the substrate is shown. However, when the thermal deformation of the substrate is large, the glass member may be provided on both sides of the substrate. do.

도 5는 본 발명의 제5 실시예에 따른 인쇄회로기판의 단면도이다.5 is a cross-sectional view of a printed circuit board according to a fifth embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 본 실시예의 인쇄회로기판(200)은, 회로층(211)과 상기 회로층(211)을 복개하는 절연층(212)이 차례로 적층되어 이루어지는 복수의 빌드업층(210)을 포함하며, 최상부에 위치하는 빌드업층(210)과 접하도록 구비되는 상부 글래스층(222)과, 최하부에 위치하는 빌드업층(210)과 접하도록 구비되는 하부 글래스층(221) 등 모두 두 장의 유리부재가 존재한다.5, the printed circuit board 200 of the present embodiment includes a plurality of build-up layers 210 in which a circuit layer 211 and an insulating layer 212 covering the circuit layer 211 are stacked in order, The upper glass layer 222 provided to be in contact with the uppermost buildup layer 210 and the lower glass layer 221 provided in contact with the buildup layer 210 located at the lowermost part are provided with two glass Member exists.

이처럼, 상기 상부 글래스층(222)과 하부 글래스층(221)은 모두 기판의 최외곽에 위치하여 회로층(111)을 외부로부터 보호하는 솔더 레지스트로서 기능하고, 하부 글래스층(221)의 경우 최하부에 위치하는 회로층(111)의 기저면과 직접 접하며, 그 지지 기반이 된다.
The upper glass layer 222 and the lower glass layer 221 function as a solder resist which is located at the outermost portion of the substrate and protects the circuit layer 111 from the outside, and in the case of the lower glass layer 221, Directly contacts the base surface of the circuit layer 111 located on the substrate 111, and serves as a support base thereof.

상기 상부 글래스층(222)에는 최상부에 위치하는 회로층(211)의 일부 예컨대 패드를 노출시키는 캐비티(222a)가 형성되어 있고, 마찬가지로 상기 하부 글래스층(221)에는 최하부에 위치하는 회로층(211)의 일부 예컨대 패드를 노출시키는 캐비티(221a)가 형성되어 있다.A cavity 222a is formed in the upper glass layer 222 to expose a part of the circuit layer 211 located at the uppermost portion, for example, a pad. Similarly, the lower glass layer 221 is provided with a circuit layer 211 For example, a pad is exposed.

여기서, 상부 글래스층(222)에 형성된 캐비티(222a)는 하지의 절연층(212)까지 관통하도록 형성되고, 상기 회로층(211)은 시드층(211a)과 시드층(211a) 상에 형성되는 도금층(211b)으로 구성되므로, 상기 캐비티(222a)를 통해 외부로 노출되는 금속은 도금층(211b)이 된다.The cavity 222a formed in the upper glass layer 222 is formed to penetrate to the underlying insulating layer 212 and the circuit layer 211 is formed on the seed layer 211a and the seed layer 211a And the plating layer 211b, the metal exposed to the outside through the cavity 222a becomes the plating layer 211b.

이와 반대로, 최하부에 위치하는 회로층(211)은 그 기저면이 하부 글래스층(221)과 접하므로, 하부 글래스층(221)에 형성된 캐비티(221a)를 통해 외부로 노출되는 금속은 시드층(211a)이 된다.
The bottom surface of the circuit layer 211 is in contact with the lower glass layer 221 so that the metal exposed to the outside through the cavity 221a formed in the lower glass layer 221 is in contact with the seed layer 211a ).

도 6, 도 7, 도 8은 각각 본 발명의 제6 실시예, 제7 실시예, 제8 실시예에 따른 인쇄회로기판의 단면도이다.6, 7, and 8 are sectional views of a printed circuit board according to a sixth embodiment, a seventh embodiment, and an eighth embodiment of the present invention, respectively.

제6 실시예에서는, 외력으로부터 상부 글래스층(222)과 하부 글래스층(221)을 보호하기 위하여, 상부 글래스층(222)과 하부 글래스층(221)의 외부면에 각각 보호부재(230)가 더 형성된 인쇄회로기판(200)을 제시한다. 여기서, 각각의 보호부재(230)에는 회로층(211)이 개방될 수 있도록 각 캐비티(221a, 222a)와 대응되는 위치에 홀이 형성되어 있다.
A protective member 230 is provided on the outer surfaces of the upper glass layer 222 and the lower glass layer 221 in order to protect the upper glass layer 222 and the lower glass layer 221 from an external force Thereby providing a printed circuit board 200 that is further formed. Holes are formed in the respective protective members 230 at positions corresponding to the cavities 221a and 222a so that the circuit layer 211 can be opened.

제7 실시예에서는, 회로층(211)과의 밀착력 강화를 위하여, 상기 하부 글래스층(221)의 적층면, 즉 절연층(212)과의 접합면에 절연막(240)이 더 형성된 인쇄회로기판(200)을 제시한다. 여기서, 회로층(211)의 일부가 노출될 수 있도록 상기 하부 글래스층(221)에 형성된 캐비티(221a)는 그 아래의 절연막(240)까지 관통하도록 형성된다.The insulating layer 240 is further formed on the laminated surface of the lower glass layer 221, that is, the bonding surface of the lower glass layer 221 with the insulating layer 212, in order to enhance adhesion with the circuit layer 211, (200). Here, the cavity 221a formed in the lower glass layer 221 is formed to penetrate to the insulating film 240 below the lower glass layer 221 so that a part of the circuit layer 211 can be exposed.

상기 절연막(240)의 구성 재질이 되는 고분자 수지는 접착성이 강하고, Ra. 0.1~0.7㎛ 정도의 표면 거칠기를 가지고 있어 회로층(211)과의 밀착력이 강화된다. 다
The polymeric resin, which is a constituent material of the insulating film 240, is strong in adhesion, It has a surface roughness of about 0.1 to 0.7 탆 and enhances adhesion with the circuit layer 211. All

제8 실시예에서는, 절단 가공 시 유리 깨짐을 방지하기 위하여, 상기 상부 글래스층(222) 및 하부 글래스층(221)에서 기판 측면 즉, 빌드업층(210)의 측면에 인접하는 부위가 제거된 형태의 인쇄회로기판(200)을 제시한다.In the eighth embodiment, in order to prevent breakage of the glass during cutting, it is preferable that the side surface of the upper glass layer 222 and the lower glass layer 221, that is, the portion adjacent to the side surface of the build- The printed circuit board 200 of FIG.

이에 따라, 상기 상부 글래스층(222) 및 하부 글래스층(221)은 빌드업층(210)보다 짧은 길이를 갖고, 기판의 측면에서 바라보았을 때 상부 글래스층(222)의 양 단부 및 하부 글래스층(221)의 양 단부는 기판 안쪽으로 들어간 형태가 된다.
The upper glass layer 222 and the lower glass layer 221 have a length shorter than that of the build-up layer 210 and are disposed at both ends of the upper glass layer 222 and lower glass layer 222, 221 are formed into the inside of the substrate.

이제, 본 발명의 인쇄회로기판 제조방법에 대해 살펴보기로 한다.Now, a method for manufacturing a printed circuit board of the present invention will be described.

도 9 내지 도 25는 본 발명의 인쇄회로기판 제조방법을 나타낸 공정도이다.9 to 25 are process drawings showing a method for manufacturing a printed circuit board of the present invention.

본 발명의 인쇄회로기판을 제조하기 위해 먼저, 하부 글래스층(221)을 준비한다(도 9).In order to manufacture the printed circuit board of the present invention, first, a lower glass layer 221 is prepared (FIG. 9).

그 다음, 상기 하부 글래스층(221) 상에 회로층(211)과 상기 회로층(211)을 복개하는 절연층(212)을 차례로 적층하여 복수의 빌드업층(210)을 형성하는 단계를 진행한다.Next, a step of forming a plurality of build-up layers 210 is performed by sequentially laminating a circuit layer 211 and an insulating layer 212 covering the circuit layer 211 on the lower glass layer 221 .

이를 위해 우선, 하부 글래스층(221)에 구리 시드층(211a)을 형성하고(도 10), 상기 시드층(211a)을 인입선으로 전해 도금을 실시하여 소정 패턴의 도금층(211b)을 형성한다(도 11). 그리고 나서, 불필요한 부분의 시드층(211a)을 에칭하면 회로층(211)이 형성되고(도 12), 스핀 코팅 등의 방법으로 상기 회로층(211)을 덮도록 절연층(212)을 형성하면 한 층의 빌드업층(210)이 완성된다(도 13).To this end, a copper seed layer 211a is formed on the lower glass layer 221 (FIG. 10), and the seed layer 211a is electrolytically plated with a lead wire to form a plating layer 211b of a predetermined pattern ( 11). Then, when the unnecessary portion of the seed layer 211a is etched, the circuit layer 211 is formed (FIG. 12), and the insulating layer 212 is formed to cover the circuit layer 211 by a method such as spin coating One buildup layer 210 is completed (FIG. 13).

여기서, 회로층(211)이 형성되는 바닥면이 거칠게 되면(즉, 표면 조도의 값이 크면) 시드층 제거에 많은 양의 에칭액이 필요하고, 이는 언더컷을 발생시키는 요인으로 작용하여 결국 패턴 떨어짐 등의 불량이 생길 수 있다. Here, when the bottom surface of the circuit layer 211 is roughened (that is, when the value of the surface roughness is large), a large amount of etchant is required to remove the seed layer, which causes undercut, May be caused.

그러나, 본 발명에서 회로층(211)의 바닥면으로 사용되는 하부 글래스층(221)의 경우 Ra. 0.01㎛ 전후의 매우 매끈한 표면을 가지고 있어 약한 에칭 조건 하에서도 시드층을 완벽히 제거할 수 있고, 그 결과 미세회로를 구현할 수 있게 된다.However, in the case of the lower glass layer 221 used as the bottom surface of the circuit layer 211 in the present invention, The seed layer can be completely removed even under weak etching conditions because it has a very smooth surface around 0.01 mu m, and as a result, a fine circuit can be realized.

상기 빌드업층(210)을 요구되는 층수로 적층하고(도 14), 최상부에 적층되는 절연층(212)에 대해 캐비티 가공하여 회로층(211), 구체적으로 도금층(211b)의 일부가 노출되도록 개방시킨다.
The buildup layer 210 is laminated to the required number of layers (Fig. 14), and the insulating layer 212 stacked on the uppermost portion is subjected to cavity processing so that the circuit layer 211, specifically the part of the plating layer 211b, .

그 다음, 상기 하부 글래스층(221)에 캐비티(221a)를 형성하는 단계를 진행하면 기판의 한쪽 면에 유리부재의 솔더 레지스트가 형성된 인쇄회로기판이 완성된다(도 15). 또는, 상기 빌드업층(210) 형성 후 최상부에 위치하는 빌드업층(210) 상에 상부 글래스층(222)을 적층하고, 상기 상부 글래스층(222)에 캐비티(222a)를 형성하면 기판의 양쪽 면에 유리부재의 솔더 레지스트가 형성된 인쇄회로기판이 완성된다(도 16).Next, the process of forming the cavity 221a in the lower glass layer 221 completes a printed circuit board on which solder resist of a glass member is formed on one side of the substrate (FIG. 15). Alternatively, when the upper glass layer 222 is laminated on the build-up layer 210 located at the uppermost position after the build-up layer 210 is formed and the cavity 222a is formed in the upper glass layer 222, The solder resist of the glass member is formed on the printed circuit board (Fig. 16).

여기서, 상기 캐비티(221a, 222a)의 가공은 CO2 레이저 또는 YAG 레이저 등의 설비를 이용하거나 에칭 공정을 통해 진행할 수 있다.Here, the processing of the cavities 221a and 222a can be performed by using a facility such as a CO 2 laser or a YAG laser or through an etching process.

상기 에칭 공정을 보다 자세히 살펴보면, 먼저 하부 글래스층(221)을 포함한 상기 빌드업층(210)의 외주면에 감광성의 레지스트(10)를 부착한다(도 17). 그리고 나서, 노광 및 현상을 통해 상기 레지스트(10)를 선택적으로 제거하여 캐비티(221a)가 형성될 부위를 개방시키고(도 18), 개방된 부위로 에칭액을 공급하면 원하는 위치에 캐비티(221a)가 형성된다(도 19).First, a photosensitive resist 10 is attached to the outer peripheral surface of the build-up layer 210 including the lower glass layer 221 (FIG. 17). 18). When the etchant is supplied to the open portion, the cavity 221a is formed at a desired position, and then the resist is removed (Fig. 19).

상기 하부 글래스층(221)이 형성되면, 유리 깨짐을 방지하기 위하여 하부 글래스층(221)의 외부면에 보호부재(230)를 더 형성할 수 있다(편의를 위해 하부 글래스층(221)만 형성된 경우를 상정하여 설명하고 있으나 상부 글래스층(222)에 대해서도 동일하게 적용될 수 있으며, 이는 다른 실시예에 대해서도 같다.)When the lower glass layer 221 is formed, a protection member 230 may be further formed on the outer surface of the lower glass layer 221 to prevent glass breakage (only the lower glass layer 221 is formed However, the upper glass layer 222 may also be applied to the upper glass layer 222, which is the same for other embodiments.

상기 보호부재(230)의 형성은, 캐비티(221a)가 가공되면 보호부재(230)를 부착한 후 캐비티(221a)가 개방되도록 보호부재(230)의 일부를 제거하거나, 또는 도 20과 같이 캐비티(221a) 가공 전 하부 글래스층(221)에 보호부재(230)를 부착한 다음, 하부 글래스층(221)과 함께 보호부재(230)를 동시에 관통시킬 수도 있다(도 21).
The protection member 230 may be formed by removing a portion of the protection member 230 such that the cavity 221a is opened after the protection member 230 is attached when the cavity 221a is processed, The protective member 230 may be attached to the lower glass layer 221 before processing and then the protective member 230 may be simultaneously passed through the lower glass layer 221 (FIG. 21).

한편, 도 3의 실시예에 따른 인쇄회로기판을 제조하기 위한 방법으로 본 발명은, 빌드업층(210)을 형성하기 전 하부 글래스층(221) 상에 절연막(240)을 형성하는 단계를 추가로 진행할 수 있다(도 22). 3, a method of manufacturing a printed circuit board according to an embodiment of the present invention includes the steps of forming an insulating layer 240 on a lower glass layer 221 before forming a buildup layer 210, (Fig. 22).

상기 절연막(240)은 통상의 증착법이나 솔벤트 프로세스(solvent process), 예컨대 스핀 코팅, 딥 코팅, 닥터 블레이딩, 스크린 프린팅, 잉크젯 프린팅 또는 열 전사법 등 당해 기술분야에 잘 알려진 방법에 의해 형성할 수 있고, 이와 같이 형성된 절연막(240) 상에 빌드업층(210)을 형성한다. 절연막(240) 상에 빌드업층(210)을 형성하는 방법은 하부 글래스층(221) 상에 빌드업층(210)을 형성하는 방법(도 9 내지 도 14)과 같으며, 이에 대해서는 앞에서 자세히 설명하였는바 여기서는 생략하기로 한다.
The insulating layer 240 may be formed by a conventional deposition method or a solvent process such as spin coating, dip coating, doctor blading, screen printing, inkjet printing, or thermal transfer, The buildup layer 210 is formed on the insulating layer 240 thus formed. The method of forming the build-up layer 210 on the insulating film 240 is the same as the method of forming the build-up layer 210 on the lower glass layer 221 (FIGS. 9 to 14) The bar is omitted here.

도 23과 같이 스트립 기판이 완성되면 이를 제품의 크기에 맞도록 블레이드(Blade), 레이저, 또는 비트(bit) 등의 설비를 이용하여 유닛 단위의 기판으로 절단 가공하는 절단 공정(라우팅 공정)을 거치는데, 이때 취성이 약한 유리 재질의 특성상 절단면에서 크랙이 발생하고, 이는 고온에서 인장 응력(tensile stress)에 의해 전이되어 하부 글래스층(221) 전체가 파단될 수 있다.When the strip substrate is completed as shown in FIG. 23, a cutting process (routing process) is performed in which the substrate is cut into unit substrates using a blade, a laser, or a bit to fit the size of the product At this time, cracks are generated in the cut surface due to the characteristic of the glass material having weak brittleness, and this is transferred by tensile stress at high temperature, so that the entire lower glass layer 221 can be broken.

이를 방지하기 위하여 본 발명은, 절단 가공 전 상기 하부 글래스층(221)에서 절단 라인(L)이 지나는 부위를 제거하는 단계를 더 진행할 수 있다(도 24).In order to prevent this, the present invention may further include a step of removing a portion where the cutting line L passes through the lower glass layer 221 before cutting (FIG. 24).

상기 제거 공정은 캐비티(221a) 가공 시와 마찬가지로 CO2 레이저 또는 YAG 레이저 등의 설비를 이용하거나 에칭 공정을 통해 진행할 수 있다.The removal process may be performed using an equipment such as a CO 2 laser or a YAG laser or an etching process as in the case of processing the cavity 221 a.

이처럼, 하부 글래스층(221)에서 절단 라인(L)이 지나는 부위를 먼저 제거한 후 절단 가공하면, 도 25와 같이 크랙 발생없이 스트립 기판을 안정적으로 유닛화시킬 수 있다.
As shown in FIG. 25, when the portion of the lower glass layer 221 passing through the cutting line L is first removed, the strip substrate can be stably unitized without cracks.

도 26 내지 도 31은 본 발명의 다른 실시예에 따른 인쇄회로기판 제조방법을 나타낸 공정도이다.26 to 31 are process drawings illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to another embodiment of the present invention.

본 실시예에서는 두 장의 하부 글래스층(221)을 사용하여 동시에 두 개의 기판을 제조하는 것을 특징으로 하며, 그외의 방법은 전술한 실시예와 유사하다.In this embodiment, two substrates are simultaneously manufactured using two lower glass layers 221, and the other method is similar to the above-described embodiment.

즉, 접착제(20)를 매개로 두 장의 하부 글래스층(221)을 하부면이 서로 마주보도록 접착시킨 다음(도 26), 각각의 하부 글래스층(221) 상부면에 복수의 빌드업층(210)을 적층한다(도 27).That is, the two lower glass layers 221 are adhered to each other with the lower faces facing each other (FIG. 26) through the adhesive 20, and a plurality of buildup layers 210 are formed on the upper surface of each lower glass layer 221 (Fig. 27).

그 다음, 접착제(20)를 제거하여 상기 두 장의 하부 글래스층(221)을 분리시키고(도 28), 각각의 하부 글래스층(221)에 캐비티(221a)를 형성한다(도 29). Then, the adhesive 20 is removed to separate the two lower glass layers 221 (Fig. 28), and the cavities 221a are formed in the respective lower glass layers 221 (Fig. 29).

상기 캐비티(120a)의 가공은 CO2 레이저 또는 YAG 레이저 등의 설비를 이용하거나 에칭 공정을 통해 진행할 수 있다. 에칭 공정에 대해서는 전술하였으므로 자세한 설명은 생략하기로 한다.
The processing of the cavity 120a can be performed using a facility such as a CO 2 laser or a YAG laser or through an etching process. Since the etching process has been described above, a detailed description will be omitted.

한편, 상기 두 장의 하부 글래스층(221)을 분리시킨 상태에서 분리된 면에 보호부재(230)를 부착하고, 하부 글래스층(221)과 함께 보호부재(230)를 동시에 관통하면 도 2의 실시예에 따른 인쇄회로기판을 다수 개 제조할 수 있다.When the protective member 230 is attached to the separated surface in a state where the two lower glass layers 221 are separated and the protective member 230 is passed through the lower glass layer 221 together with the lower glass layer 221, A plurality of printed circuit boards according to the example can be manufactured.

그리고, 상기 빌드업층(210)을 형성하기 전 각각의 하부 글래스층(221)의 상부면에 절연막(240)을 형성하고(도 30) 후속 공정을 진행하면 도 3의 실시예에 따른 인쇄회로기판을 다수 개 제조할 수 있다.The insulating layer 240 is formed on the upper surface of each lower glass layer 221 before the build-up layer 210 is formed (FIG. 30) Can be manufactured.

그리고, 분리된 두 개의 스트립 기판에 대해 절단 라인(L)이 지나는 부위의 하부 글래스층(221)을 제거 후 절단 공정을 진행하면 도 4의 실시예에 따른 인쇄회로기판을 다수 개 제조할 수 있다.In addition, a plurality of printed circuit boards according to the embodiment of FIG. 4 can be manufactured by cutting off the lower glass layer 221 where the cut line L passes through the separated two strip substrates, and then performing the cutting process .

그리고, 상기 두 장의 하부 글래스층(221)을 분리하기 전 최상부에 위치하는 절연층(212) 상에 상부 글래스층(222)을 적층한 다음(도 31), 분리 후 하부 글래스층(221) 및 상부 글래스층(222)에 각각 캐비티(221a, 222a)를 형성하면 도 5의 실시예에 따른 인쇄회로기판을 다수 개 제조할 수 있다.The upper glass layer 222 is laminated on the uppermost insulating layer 212 before the two lower glass layers 221 are separated (FIG. 31) When the cavities 221a and 222a are formed in the upper glass layer 222, a plurality of printed circuit boards according to the embodiment of FIG. 5 can be manufactured.

이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내고 설명하는 것에 불과하며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉, 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위 내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 전술한 실시예들은 본 발명을 실시하는데 있어 최선의 상태를 설명하기 위한 것이며, 본 발명과 같은 다른 발명을 이용하는데 당업계에 알려진 다른 상태로의 실시, 그리고 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서, 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
The foregoing detailed description is illustrative of the present invention. It is also to be understood that the foregoing is illustrative and explanatory of preferred embodiments of the invention only, and that the invention may be used in various other combinations, modifications and environments. That is, it is possible to make changes or modifications within the scope of the concept of the invention disclosed in this specification, the disclosure and the equivalents of the disclosure and / or the scope of the art or knowledge of the present invention. The foregoing embodiments are intended to illustrate the best mode contemplated for carrying out the invention and are not intended to limit the scope of the present invention to other modes of operation known in the art for utilizing other inventions such as the present invention, Various changes are possible. Accordingly, the foregoing description of the invention is not intended to limit the invention to the precise embodiments disclosed. It is also to be understood that the appended claims are intended to cover such other embodiments.

100, 200: 본 발명에 따른 인쇄회로기판
111, 211: 회로층
111a, 211a: 시드층
111b, 211b: 도금층
112, 212: 절연층
110, 210: 빌드업층
120: 글래스층
221: 하부 글래스층
222: 상부 글래스층
120a, 221a, 222a: 캐비티
130, 230: 보호부재
140, 240: 절연막
100, 200: printed circuit board according to the present invention
111, 211: circuit layer
111a and 211a: a seed layer
111b and 211b:
112, 212: insulating layer
110, 210: Buildup layer
120: glass layer
221: Lower glass layer
222: upper glass layer
120a, 221a, 222a: cavity
130, 230: protective member
140, 240: insulating film

Claims (26)

회로층과 상기 회로층을 복개하는 절연층이 교대로 적층된 복수의 빌드업층; 및
상기 복수의 빌드업층에서 최하부에 위치하는 빌드업층과 접하도록 구비되고, 상기 최하부에 위치하는 빌드업층에 포함된 회로층의 기저면과 접하는 글래스층;을 포함하는 인쇄회로기판.
A plurality of build-up layers in which a circuit layer and an insulating layer covering the circuit layer are alternately stacked; And
And a glass layer provided so as to be in contact with a buildup layer located at the lowermost part of the plurality of buildup layers and in contact with a base surface of a circuit layer included in the buildup layer positioned at the lowermost part.
제 1항에 있어서,
상기 글래스층은, 상기 최하부에 위치하는 빌드업층에 포함된 회로층의 일부를 노출시키는 캐비티를 포함하는 인쇄회로기판.
The method according to claim 1,
Wherein the glass layer includes a cavity for exposing a part of a circuit layer contained in the buildup layer positioned at the lowermost part.
제 1항에 있어서,
상기 회로층은 시드층과 상기 시드층 상에 형성된 도금층으로 구성되고, 상기 최하부에 위치하는 빌드업층에 포함된 회로층은 상기 시드층이 상기 캐비티를 통해 노출되는 인쇄회로기판.
The method according to claim 1,
Wherein the circuit layer is composed of a seed layer and a plating layer formed on the seed layer, and the circuit layer included in the build-up layer located at the lowermost portion is exposed through the cavity.
제 1항에 있어서,
상기 글래스층은, 상기 빌드업층의 측면에 인접하는 부위가 제거된 인쇄회로기판.
The method according to claim 1,
Wherein the glass layer has a portion adjacent to a side surface of the buildup layer removed.
제 1항에 있어서,
상기 글래스층의 외부면에 구비된 보호부재를 더 포함하는 인쇄회로기판.
The method according to claim 1,
And a protective member provided on an outer surface of the glass layer.
제 1항에 있어서,
상기 글래스층의 적층면에 형성된 절연막을 더 포함하는 인쇄회로기판.
The method according to claim 1,
And an insulating film formed on the laminated surface of the glass layer.
회로층과 상기 회로층을 복개하는 절연층이 교대로 적층된 복수의 빌드업층;
상기 복수의 빌드업층에서 최상부에 위치하는 빌드업층과 접하도록 구비되고, 상기 최상부에 위치하는 빌드업층에 포함된 회로층의 일부를 노출시키는 캐비티가 형성된 상부 글래스층; 및
상기 복수의 빌드업층에서 최하부에 위치하는 빌드업층과 접하도록 구비되고, 상기 최하부에 위치하는 빌드업층에 포함된 회로층의 일부를 노출시키는 캐비티가 형성된 하부 글래스층;을 포함하는 인쇄회로기판.
A plurality of build-up layers in which a circuit layer and an insulating layer covering the circuit layer are alternately stacked;
An upper glass layer provided in contact with a buildup layer located at an uppermost position in the plurality of buildup layers and having a cavity for exposing a part of a circuit layer included in the uppermost buildup layer; And
And a lower glass layer which is provided in contact with a buildup layer located at the lowermost part of the plurality of buildup layers and in which a cavity for exposing a part of the circuit layer included in the buildup layer located at the lowermost part is formed.
제 7항에 있어서,
상기 하부 글래스층은, 상기 최하부에 위치하는 빌드업층에 포함된 회로층의 기저면과 접하는 인쇄회로기판.
8. The method of claim 7,
Wherein the lower glass layer is in contact with a base surface of a circuit layer included in the build-up layer positioned at the lowermost part.
제 7항에 있어서,
상기 회로층은 시드층과 상기 시드층 상에 형성된 도금층으로 구성되고, 상기 최하부에 위치하는 빌드업층에 포함된 회로층은 상기 시드층이 상기 하부 글래스층에 형성된 캐비티를 통해 노출되고, 상기 최상부에 위치하는 빌드업층에 포함된 회로층은 상기 도금층이 상기 상부 글래스층에 형성된 캐비티를 통해 노출되는 인쇄회로기판.
8. The method of claim 7,
Wherein the circuit layer is composed of a seed layer and a plating layer formed on the seed layer, the circuit layer included in the build-up layer located at the lowermost portion is exposed through a cavity formed in the lower glass layer, Wherein the circuit layer included in the built-up layer is exposed through the cavity formed in the upper glass layer.
제 7항에 있어서,
상기 상부 글래스층 및 하부 글래스층은, 상기 빌드업층의 측면에 인접하는 부위가 제거된 인쇄회로기판.
8. The method of claim 7,
Wherein portions of the upper glass layer and the lower glass layer adjacent to the sides of the build-up layer are removed.
제 7항에 있어서,
상기 상부 글래스층 및 하부 글래스층의 외부면에 구비된 보호부재를 더 포함하는 인쇄회로기판.
8. The method of claim 7,
And a protection member provided on an outer surface of the upper glass layer and the lower glass layer.
제 7항에 있어서,
상기 하부 글래스층의 적층면에 형성된 절연막을 더 포함하는 인쇄회로기판.
8. The method of claim 7,
And an insulating film formed on a laminated surface of the lower glass layer.
하부 글래스층을 준비하는 단계;
상기 하부 글래스층 상에 회로층과 상기 회로층을 복개하는 절연층을 차례로 적층하여 복수의 빌드업층을 형성하는 단계; 및
상기 하부 글래스층에 캐비티를 형성하는 단계;를 포함하는 인쇄회로기판.
Preparing a lower glass layer;
Forming a plurality of build-up layers by sequentially stacking a circuit layer and an insulating layer covering the circuit layer on the lower glass layer; And
And forming a cavity in the lower glass layer.
제 13항에 있어서,
상기 빌드업층 형성 후 상기 복수의 빌드업층에서 최상부에 위치하는 빌드업층 상에 상부 글래스층을 적층하고, 상기 상부 글래스층에 캐비티를 형성하는 단계를 더 포함하는 인쇄회로기판.
14. The method of claim 13,
Further comprising the step of laminating an upper glass layer on a buildup layer located at the uppermost position in the plurality of buildup layers after forming the buildup layer and forming a cavity in the upper glass layer.
제 13항에 있어서,
상기 빌드업층을 형성하기 전 상기 하부 글래스층 상에 절연막을 형성하는 단계를 더 포함하고, 상기 절연막 상에 상기 빌드업층을 형성하는 인쇄회로기판.
14. The method of claim 13,
Further comprising the step of forming an insulating film on the lower glass layer before forming the build-up layer, wherein the build-up layer is formed on the insulating film.
제 13항에 있어서,
상기 하부 글래스층에서 절단 라인이 지나는 부위를 제거하는 단계를 더 포함하는 인쇄회로기판.
14. The method of claim 13,
Further comprising removing a portion of the lower glass layer where the cutting line passes.
제 13항에 있어서,
상기 캐비티를 형성하는 단계는 레이저 가공 또는 에칭 공정을 통해 진행하는 인쇄회로기판.
14. The method of claim 13,
Wherein the forming of the cavity proceeds through a laser processing or etching process.
제 16항에 있어서,
상기 에칭 공정은, 상기 하부 글래스층을 포함한 상기 빌드업층의 외주면에 레지스트를 부착하는 단계와, 상기 레지스트에서 상기 캐비티가 형성될 부위를 제거하는 단계와, 상기 제거된 부위로 에칭액을 공급하는 단계를 포함하는 인쇄회로기판.
17. The method of claim 16,
The etching process includes the steps of: attaching a resist to an outer peripheral surface of the build-up layer including the lower glass layer; removing a portion where the cavity is to be formed in the resist; and supplying an etchant to the removed portion Comprising a printed circuit board.
제 13항에 있어서,
상기 하부 글래스층의 외부면에 보호부재를 형성하는 단계를 더 포함하는 인쇄회로기판.
14. The method of claim 13,
And forming a protective member on an outer surface of the lower glass layer.
접착제를 매개로 두 장의 하부 글래스층을 하부면이 마주보도록 접착시키는 단계;
상기 각각의 하부 글래스층의 상부면에 회로층과 상기 회로층을 복개하는 절연층을 차례로 적층하여 복수의 빌드업층을 형성하는 단계;
상기 두 장의 하부 글래스층을 분리시키는 단계; 및
상기 각각의 하부 글래스층에 캐비티를 형성하는 단계;를 포함하는 인쇄회로기판.
Bonding the two lower glass layers so that the lower surface faces each other through the adhesive;
Forming a plurality of build-up layers by sequentially laminating a circuit layer and an insulating layer covering the circuit layer on the upper surface of each of the lower glass layers;
Separating the two lower glass layers; And
And forming a cavity in each of the lower glass layers.
제 20항에 있어서,
상기 두 장의 하부 글래스층을 분리하기 전 상기 복수의 빌드업층에서 최상부에 위치하는 빌드업층 상에 상부 글래스층을 적층하고, 상기 두 장의 하부 글래스층을 분리한 후 상기 각각의 상부 글래스층에 캐비티를 형성하는 단계를 더 포함하는 인쇄회로기판.
21. The method of claim 20,
The upper glass layer is laminated on the buildup layer located at the uppermost position in the plurality of buildup layers before the two lower glass layers are separated, and after separating the two lower glass layers, a cavity is formed in each of the upper glass layers And forming a conductive layer on the printed circuit board.
제 20항에 있어서,
상기 빌드업층을 형성하기 전 상기 각각의 하부 글래스층의 상부면에 절연막을 형성하는 단계를 더 포함하고, 상기 절연막 상에 상기 빌드업층을 형성하는 인쇄회로기판.
21. The method of claim 20,
Further comprising the step of forming an insulating film on the upper surface of each of the lower glass layers before forming the build-up layer, wherein the build-up layer is formed on the insulating film.
제 20항에 있어서,
상기 두 장의 하부 글래스층을 분리한 후 상기 각각의 하부 글래스층에서 절단 라인이 지나는 부위를 제거하는 단계를 더 포함하는 인쇄회로기판.
21. The method of claim 20,
Further comprising removing a portion of the respective lower glass layer through which the cutting line passes after separating the two lower glass layers.
제 20항에 있어서,
상기 캐비티를 형성하는 단계는 레이저 가공 또는 에칭 공정을 통해 진행하는 인쇄회로기판.
21. The method of claim 20,
Wherein the forming of the cavity proceeds through a laser processing or etching process.
제 24항에 있어서,
상기 에칭 공정은, 상기 하부 글래스층을 포함한 상기 빌드업층의 외주면에 레지스트를 부착하는 단계와, 상기 레지스트에서 상기 캐비티가 형성될 부위를 제거하는 단계와, 상기 제거된 부위로 에칭액을 공급하는 단계를 포함하는 인쇄회로기판.
25. The method of claim 24,
The etching process includes the steps of: attaching a resist to an outer peripheral surface of the build-up layer including the lower glass layer; removing a portion where the cavity is to be formed in the resist; and supplying an etchant to the removed portion Comprising a printed circuit board.
제 20항에 있어서,
상기 두 장의 하부 글래스층을 분리한 후 상기 하부 글래스층의 외부면에 보호부재를 형성하는 단계를 더 포함하는 인쇄회로기판.
21. The method of claim 20,
Further comprising forming a protective member on an outer surface of the lower glass layer after separating the two lower glass layers.
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