KR20160061979A - 표면 처리 또는 표면 가공 장치 - Google Patents

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요세프 짐머만
아돌프 지츠만
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제트에스-핸들링 게엠베하
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Abstract

본 발명은 예를 들어 컷팅 또는 인그레이빙을 위한 레이저 및 오일, 페인트, 접착제, 염색제, 부식제, 이형제를 도포하기 위한 노즐과 같은 액추에이터를 이용하여 공작물 표면 처리 또는 공작물 표면 가공을 위한 장치에 관한 것이다. 특히 본 발명은 액추에이터의 치수와 관련하여 상대적으로 넓은 표면을 갖는 공작물, 예를 들어 스트립 표면을 가공하기 위해 적합한 장치에 관한 것이다. 작업 유닛(3)을 위한 액추에이터와 연결된 소노트로드(4)를 이용하여 초음파-공중 부양력 장이 생성되기 때문에 움직이면서 걸려 있는 작업 유닛(3)은 공작물 표면으로부터 부유된 상태로 지지 된다. 초음파-공중 부양력 장은 공작물 표면에 대한 작업 유닛(3)의 배치를 매우 정확하게 유지할 수 있으므로 공작물 표면을 정밀하게 처리 또는 가공할 수 있다.

Description

표면 처리 또는 표면 가공 장치{DEVICE FOR TREATING OR MACHINING A SURFACE}
본 발명은 예를 들어 컷팅 또는 인그레이빙을 위한 레이저 및 오일, 페인트, 접착제, 염색제, 부식제, 이형제를 도포하기 위한 노즐과 같은 액추에이터를 이용하여 공작물 표면 처리 또는 공작물 표면 가공을 위한 장치에 관한 것이다. 특히 본 발명은 - 액추에이터의 치수와 관련하여 - 상대적으로 넓은 표면을 갖는 공작물, 예를 들어 스트립 표면을 가공하기 위해 적합한 장치에 관한 것이다.
선행 기술은 공작물 표면과 관련하여 x- 방향, y-방향 및 z-방향으로 액추에이터의 작동 범위를 정확하게 조절할 수 있는 시스템을 공지하고 있다. 상기 액추에이터를 x-y-방향으로 조절하기 위해 예를 들어 종 방향 측정 장치와 연결된 크로스 멤버가 사용된다. 그러한 시스템은 다음에서 선형 구동 장치로 표현된다.
표면 처리 공정 또는 이러한 표면 처리가 표면에 미치는 영향에 따라, 액추에이터를 배치할 때 높은 정확성이 요구될 수 있다.
공작물 표면과 관련하여 상기 액추에이터를 배치하기 위해 다양한 구성이 공지되어 있다. 특히 선행 기술은 공작물 표면을 가공하기 위해 길이 및 간격을 측정하는 센서를 공지하고 있으며, 이러한 센서로 인해 기술적으로 요구되는 정확성에 맞게 액추에이터가 배치되고, 공작물 표면을 지나 가이드 될 수 있다. 상기 액추에이터를 배치하기 위해 사용된 구성에서 예를 들어, 위치 결정의 정확성, 조절 기능, 액추에이터의 중량, 구성 공작물의 부피 또는 가능한 적은 제조 비용과 같은 정해진 조건이 준수되어야 한다.
기본적으로 요구되고 있는 것은 포지셔닝 시스템이 액추에이터를 통해 실시되는 가공공정에 영향을 주지 않는 것, 즉 방해가 되어서는 안 된다는 것이다. 공작물 표면과 액추에이터의 간격이 감시(monitoring)되어야 할 경우, 접촉을 통해 작동하는 측정 장치가 사용될 수 있으며, 상기 측정 장치의 전방 단부에는 공작물 표면에서 회전하는 휠(wheel)이 제공된다. 그러나 기계적 스캔은 단지 상대적으로 견고한 표면을 갖는 공작물에서만 가능하다. 접촉에 민감한 표면을 갖는 공작물의 경우, 공작물 표면과 접촉 없이 스캔하는 근접 센서가 사용되며, 이러한 근접 센서에는 예컨대 정전 용량형 근접 센서(capacitive proximity sensor) 및 유도 근접 센서(inductive proximity sensor) 또는 공압식으로 작동하는 동압력 노즐(dynamic pressure nozzle)이 있다.
그러나 이러한 센서는 가공공정을 방해할 수 있거나 또는 가공공정에 의해 방해가 될 수 있다. 동압력 노즐에서 배출된 가스, 즉 대부분의 압축 공기는 노즐 근처에서 소용돌이(swirling)를 발생시킬 수 있다. 그러한 장애는 부식제, 페인트 또는 얇게 흐르는 접착제를 도포할 때도 발생할 수 있다. 또한, 가스 용접시에 노즐에서 가압분사되는 공기 흐름이 가스를 소용돌이치게 할 수도 있다.
또한, 액추에이터를 통해 노출된 고체, 액체 또는 가스 형태의 물질 또는 공작물 표면을 처리할 때 발생하는 물질은 근접 센서의 정확한 측정에 영향을 줄 수 있다. 공정 유체(process fluid)가 예를 들어 측정 전극(measuring electrode)부위에 위치할 경우, 측정 신호가 오류를 범하게 된다.
이러한 문제는 액추에이터와 공작물 표면 사이의 간격 측정을 위한 측정 시스템이 액추에이터와 공간적으로 분리될 경우에 비로소 해결될 수 있다. 그러나 상기 액추에이터로부터 멀리 떨어져 배열된 측정 시스템은 액추에이터에 인접하여 배열된 측정 시스템의 경우보다 더 큰 측정 오류를 범하게 된다. 또한, 측정 오류를 줄이기 위해 불가피하게 장비 및 기술적 비용이 증가할 수 있다.
DE 10059232 C2, DE 19938328 C2, DE 102010027031 A1 및 DE 102007047298 B3는 센서 시스템을 이용하여 미리 정해진 공작물 표면 위의 간격에 맞게 작업 유닛을 배치하는 장치와 방법을 공지하고 있다.
본 발명의 목적은 표면 처리 또는 표면 가공을 위한 장치를 제공하는 것이며, 이러한 장치에는 처리 또는 가공될 공작물 표면과 관련하여 미리 정해진 간격으로 액추에이터를 정확하게 배치하기 위해 액추에이터의 위치 결정을 위한 구성이 제공되어 있다. 특히 이러한 구성은 표면 처리 또는 표면 가공공정을 방해하지 않는다.
본 발명의 상기 목적은 청구항 1항에 따른 표면 처리 또는 표면 가공 장치를 통해 해결되며, 이러한 장치는 아래의 특징, 즉:
- 공작물 표면 처리 또는 공작물 표면 가공을 위한 액추에이터,
- 작업 유닛을 형성하는 액추에이터와 기계적으로 견고하게 연결되며 음향 방사 면을 구비하는 적어도 하나의 소노트로드, 및
- 공작물 표면의 반대쪽에 작업 유닛을 배치하기 위해 작업 유닛과 연결된 움직이는 포지셔닝 장치,
- 포지셔닝 장치는 작업 유닛을 미리 정해진 힘으로 공작물 표면 쪽으로 가압하는 프레싱 장치를 구비하는 것을 통해 특징 된다. 프레싱 장치란, 미리 정해진 압력을 이용하여 작업 유닛을 공작물 표면 쪽으로 가압하기 위해 적합한 모든 기술적 수단으로 이해할 수 있다. 압력은 매커니컬 스프링, 제어된 매커니컬 구동 장치, 유압식 구동 장치 또는 공압식 구동 장치, 또한 자력 또는 자기 반발 및 질량에 의해 생기는 중력 또는 진공을 통해서도 생성될 수 있다.
또한, 그러한 초음파 진동을 발생시키기 위해 소노트로드의 음향 방사 면이 형성되어 있으므로 공작물 표면과 음향 방사 면 사이에 가스 형태의 매체가 존재하는 상태에서 초음파-공중 부양력 장이 작용하며, 이러한 초음파-공중 부양력 장은 압력과 반대되는 대항력을 생성하고, 이로 인해 작업 유닛과 공작물 표면의 간격이 유지된다.
상기 액추에이터는 액체, 페이스트, 분말 형태 또는 에어로졸 종류의 매체를 공작물 표면에 도포하거나 또는 전기장, 자기장 또는 전자기장을 공작물 표면에서 생성하고 전술한 것을 변형시키거나, 또는 공작물 표면을 가공하기 위해 초음파 장을 생성하거나, 또는 공작물 표면에 기계적 물질을 도포함으로써 공작물 표면의 재료를 평평하게 하기 위해 형성된다.
이러한 장치의 장점은 초음파-공중 부양력 장이 표면 처리 또는 표면 가공시 사용된 물질에 영향을 주지 않고, 또한 표면 처리 또는 표면 가공시 노출된 고체, 액체 또는 가스 형태의 물질에 영향을 주지도 않는다. 이로 인해, 표면 처리 또는 표면 가공공정이 방해를 받지 않게 된다.
청구항 2항에 따라, 상기 작업 유닛에는 공정 감시 또는 공정 제어를 위한 공정 감시 센서가 배열되어 있다. 이로 인해, 표면 처리 또는 표면 가공시 경우에 따라 발생하는 오류가 신속하게 감지되고 정정될 수 있다. 이것은 스틸 박판 또는 플라스틱과 같이 매우 긴 스트립 형태의 재료가 가공 또는 처리되고, 이어서 와인딩(winding) 하는 경우 특히 바람직하다. 스트립 형태의 재료가 이동하는 것과 관련하여 공정 감시 센서는 작업 유닛 후방에 배열되고, 상기 작업 유닛과 견고하게 연결된다. 이로 인해, 이러한 공정 감시 센서가 작업 유닛과 마찬가지로 정확하게 배치되므로 공작물 표면 또는 재료 표면에 대한 간격 편차로 인해 발생할 수 있는 측정 오류가 억제된다.
청구항 3항에 따라, 상기 공정 감시 센서는 처리되었거나 또는 가공된 공작물 표면의 영상 신호(image signal)를 제공하는 광학 센서이다. 이러한 영상 신호는 이미지 인식 시스템(image recognition system)에 연결되며, 상기 이미지 인식 시스템은 예를 들어 페인트의 미세한 색깔 편차를 디스플레이할 수 있다.
청구항 4항에 따라, 상기 공정 감시 센서는 정전 용량형 센서(capacitive sensor)이며, 상기 센서는 방금 처리되었거나 또는 가공된 공작물 표면의 표면 처리 또는 표면 가공을 통해 야기된 용량 변동을 전기 측정 신호로서 제공한다.
청구항 5항에 따라, 상기 공정 감시 센서는 유도 센서(inductive sensor)이며, 상기 센서는 방금 처리되었거나 또는 가공된 공작물 표면의 표면 처리 또는 표면 가공을 통해 야기된 유도성 변동을 전기 측정 신호로서 제공한다.
청구항 6항에 따라, 작업 동작과 관련하여 상기 공정 감시 센서는 작업 유닛 전방 및 후방에 제공되어 있다. 이러한 배열은 가공되지 않았거나 또는 처리되지 않은 공작물 표면을 가공되었거나 또는 처리된 공작물 표면과 비교를 가능하게 한다.
청구항 7항에 따라, 공작물 또는 재료의 작업 동작과 관련하여 상기 공정 감시 센서는 작업 유닛의 후방에 배열되어 있다. 이러한 공정 감시 센서 후방에는 제2 가공 유닛이 배열되어 있다. 이러한 배열로 인해 예를 들어 표면 처리 또는 표면 가공의 결과가 제1 가공 유닛을 이용하여 정정될 수 있는 것이 확인될 경우 추후 정정이 가능하다.
청구항 8항에 따라, 공작물 표면과 작업 유닛 사이의 간격을 조절하기 위해 간격 조절 장치가 제공되어 있다. 이러한 간격 변화는 음향 에너지의 증가 또는 감소를 통해 달성된다.
본 발명은 아래의 도면을 통해 다음과 같이 상세하게 설명된다.
도 1은 오일 도포를 위한 장치를 개략적으로 도시하고 있고,
도 2는 분말 형태의 고체를 도포하기 위한 장치를 개략적으로 도시하고 있고,
도 3은 표면 부식을 위한 장치를 개략적으로 도시하고 있고,
도 4는 페인트 경화를 위한 장치를 개략적으로 도시하고 있고,
도 5는 에어로졸 도포를 위한 장치를 개략적으로 도시하고 있고,
도 6은 용접 장치를 개략적으로 도시하고 있고,
도 7은 표면 재료 제거를 위한 장치를 개략적으로 도시하고 있고,
도 8은 세척 장치를 개략적으로 도시하고 있고,
도 9는 레이저-플라스마 컷팅을 위한 장치를 개략적으로 도시하고 있다.
도 1은 오일을 스프레이 하기 위한 장치를 개략적으로 도시하고 있다. 작동 롤러(1)를 통해 스프레이 될 스트립 재료, 예를 들어 금속판이 가이드 된다. 작업 유닛(3)에는 소노트로드 블록(4)과 스프레이 노즐(5a)이 포함되어 있다. 상기 소노트로드 블록(4)은 이러한 소노트로드 블록 하단 면과 스트립 재료의 표면(2) 사이에서 초음파-공중 부양력 장을 생성한다. 상기 작업 유닛(3)은 움직이는 행거(6)에 매달려 있고, 작업 유닛의 자체 중량 때문에 스트립 재료 쪽으로 가압 되며, 이러한 예에서 중력이 프레싱 장치로서 사용되지만, 또한 매커니컬 스프링 또는 동일하게 작용하는 또 다른 수단이 사용될 수도 있다. 초음파-공중 부양력 장으로 인해 대항력이 생기기 때문에, 상기 작업 유닛(3)은 스트립 재료의 표면(2) 위에서 미리 정해진 간격을 유지하면서 부유하게 된다. 이러한 간격은 소노트로드 힘에 의해 매우 정확하게 조절될 수 있고, 압력이 변하지 않는 한 일정하게 유지된다. 매우 일정한 힘을 생성하기 위해 중력을 이용하는 것은 용이하고 비용면에서 저렴하며 믿을만한 가능성을 제공하기 때문이다. 상기 스프레이 노즐(5a)은 스트립 재료의 표면(2)에 대해 항상 미리 정해진 간격을 갖는다. 특히, 초음파-공중 부양력 장은 스프레이 노즐(5a)의 스프레이 작용에 어떠한 영향을 주지 않는다.
도 2는 부식제 도포를 위한 장치를 개략적으로 도시하고 있다. 도시된 두 개의 롤러(5b)로 인해 부식제 박막이 생성되고, 이러한 부식제 박막은 스트립 재료의 표면(2) 쪽으로 전달된다. 소노트로드 블록(4)은 소노트로드 블록의 하단 면과 스트립 재료의 표면(2) 사이에서 초음파-공중 부양력 장을 생성한다. 작업 유닛(3)은 움직이는 행거(6)에 매달려 있으며, 작업 유닛의 자체 중량 때문에 스트립 재료의 표면(2) 쪽으로 가압 된다. 초음파-공중 부양력 장으로 인해 대항력이 생기기 때문에 상기 작업 유닛(3)은 스트립 재료 위에서 미리 정해진 간격을 유지한 상태로 부유하게 된다. 간격은 소노트로드 힘에 의해 조절될 수 있다. 이로써 매우 균일한 부식 작용이 달성될 수 있다. 동시에 부식제 막은 접촉 없이 작용하는 초음파-공중 부양력 장으로 인해 손상, 즉 얼룩이 지거나 제거되는 손상이 발생하지 않는다.
도 3은 분말을 도포하기 위한 장치를 개략적으로 도시하고 있다. 상기 소노트로드 블록(4)은 상기 소노트로드 블록의 하단 면과 스트립 재료의 표면(2) 사이에서 초음파-공중 부양력 장을 생성한다. 작업 유닛(3)은 움직이는 행거(6)에 매달려 있으며, 작업 유닛의 자체 중량 때문에 스트립 재료의 표면 쪽으로 가압 된다. 상기 초음파-공중 부양력 장으로 인해 대항력이 생기기 때문에 상기 작업 유닛(3)은 스트립 재료 위에서 미리 정해진 간격을 유지하면서 부유하게 된다. 간격은 소노트로드 힘에 의해 조절될 수 있다. 도면부호 5c로 도시된 분말용 토출 수단, 즉 이러한 실시 예에서 웜 분배기(worm distributor) 및 스퀴즈 측정기(squeegee metering)를 구비한 상자 형태의 계량 장치(metering device)에서 분말이 균질화 되며, 상기 스트립 재료의 너비로 균일하게 분포되고 스트립 재료의 표면(2)에 균일한 층으로 도포된다. 롤러와 스트립 재료 표면(2) 사이의 일정한 간격으로 인해 이러한 공정이 선호된다. 특히, 초음파-공중 부양력 장은 아직 경화되지 않은 분말 층에 큰 영향을 주지 않는다.
도 4는 페인트 도포 및 경화를 위한 장치를 개략적으로 도시하고 있다. 이러한 실시 예에서 도면부호 5d는 페인트 도포 및 경화를 위한 장치를 나타낸다. 소노트로드 블록(4)은 상기 소노트로드 블록 하단 면과 스트립 재료의 표면(2) 사이에서 초음파-공중 부양력 장을 생성한다. 작업 유닛(3)은 움직이는 행거(6)에 매달려 있으며, 작업 유닛의 자체 중량 때문에 스트립 재료의 표면(2) 쪽으로 가압 된다. 상기 초음파-공중 부양력 장으로 인해 대항력이 생기기 때문에 상기 작업 유닛(3)은 스트립 재료 위에서 미리 정해진 간격을 유지하면서 부유하게 된다. 간격은 소노트로드 힘에 의해 조절될 수 있다. 상기 장치는 토출 헤드(discharge head)를 구비하며, 상기 토출 헤드는 기판 위에 코팅층을 균일하게 도포한다. 이동 방향과 관련하여 상기 토출 헤드 뒤쪽에 페이트 경화를 위한 복사 가열기가 배열되어 있다.
도 5는 에어로졸 도포를 위한 장치를 개략적으로 도시하고 있다. 이러한 실시 예에서 도면부호 5e는 에어로졸 생성 장치를 나타낸다. 작업 유닛(3)에는 소노트로드 블록(4) 및 에어로졸 생성과 에어로졸 토출을 위한 장치가 배열되어 있다. 소노트로드 블록(4)은 상기 소노트로드 블록의 하단 면과 스트립 재료의 표면(2) 사이에서 초음파-공중 부양력 장을 생성한다. 작업 유닛(3)은 움직이는 행거(6)에 매달려 있으며, 작업 유닛의 자체 중량 때문에 스트립 재료의 표면(2) 쪽으로 가압 된다. 상기 초음파-공중 부양력 장으로 인해 대항력이 생기기 때문에 상기 작업 유닛(3)은 스트립 재료 위에서 미리 정해진 간격을 유지하면서 부유하게 된다. 간격은 소노트로드 힘에 의해 조절될 수 있다. 초음파 장은 에어로졸 분포에 어떠한 영향을 주지 않는다.
도 6은 용접 장치를 개략적으로 도시하고 있다. 이러한 실시 예에서 도면부호 5f는 용접-작업 유닛을 나타낸다. 소노트로드 블록(4)은 상기 소노트로드 블록 하단 면과 스트립 재료의 표면(2) 사이에서 초음파-공중 부양력 장을 생성한다. 소노트로드 블록과 용접-작업 유닛(5f)을 구비한 작업 유닛(3)은 움직이는 행거(6)에 매달려 있으며, 작업 유닛의 자체 중량 때문에 스트립 재료 쪽으로 가압 된다. 초음파-공중 부양력 장으로 인해 대항력이 생기기 때문에 상기 작업 유닛(3)은 스트립 재료 위에서 미리 정해진 간격을 유지하면서 부유하게 된다. 이러한 간격은 소노트로드 힘에 의해 조절될 수 있다.
도 7은 표면 재료 제거를 위한 장치를 개략적으로 도시하고 있다. 이러한 실시 예에서 도면부호 5g는 표면 재료 제거를 위한 작업 유닛을 나타낸다. 상기 작업 유닛(3)에는 소노트로드 블록(4) 및 기계적 제거 수단을 통해 표면 재료를 제거하기 위한 작업 유닛이 제공되어 있다. 소노트로드 블록(4)은 상기 소노트로드 블록 하단 면과 스트립 재료의 표면(2) 사이에서 초음파-공중 부양력 장을 생성한다. 작업 유닛(3)은 움직이는 행거(6)에 매달려 있으며, 작업 유닛의 자체 중량 때문에 스트립 재료 쪽으로 가압 된다. 초음파-공중 부양력 장으로 인해 대항력이 생기기 때문에 상기 작업 유닛(3)은 스트립 재료 위에서 미리 정해진 간격을 유지하면서 부유하게 된다. 간격은 소노트로드 힘에 의해 조절될 수 있다. 사포(sandpaper)와 같은 거친 표면을 구비한 작업 수단을 통해 표면이 균등해 진다. 마찬가지로, 회전하는 블레이드(blade)를 구비한 대패(plane)가 사용될 수도 있다. 회전하는 블레이드의 매우 일정한 높이로 인해 재료 층이 정확하게 조절될 수 있고 균등해 진다.
도 8은 세적 장치를 개략적으로 도시하고 있다. 이러한 실시 예에서 도면부호 5h는 세척 수단을 제공하기 위한 작업 유닛을 나타낸다. 상기 작업 유닛(3)은 소노트로드 블록(4) 및 세척 장치를 포함한다. 소노트로드 블록(4)은 상기 소노트로드 블록 하단 면과 스트립 재료의 표면(2) 사이에서 초음파-공중 부양력 장을 생성한다. 작업 유닛(3)은 움직이는 행거(6)에 매달려 있고, 작업 유닛의 자체 중량 때문에 스트립 재료 쪽으로 가압 된다. 초음파-공중 부양력 장으로 인해 대항력이 생기기 때문에 상기 작업 유닛(3)은 스트립 재료 위에서 미리 정해진 간격을 유지하면서 부유하게 된다. 간격은 소노트로드 힘에 의해 조절될 수 있다. 상이한 세척 단계를 위한 작업 롤러의 배열 및 사용된 세척제를 수용하기 위한 롤러의 배열은 임의적으로 실시될 수 있다. 롤러는 서로 다른 방향으로 회전할 수 있다.
도 9는 레이저-플라스마 컷팅을 위한 장치를 개략적으로 도시하고 있다. 도면부호 5i로 나타낸 박스에서 레이저-플라스마-작업 유닛의 절단 헤드가 움직인다. 소노트로드 블록(4)은 상기 소노트로드 블록 하단 면과 스트립 재료의 표면(2) 사이에서 초음파-공중 부양력 장을 생성한다. 작업 유닛(3)은 움직이는 행거(6)에 매달려 있고, 작업 유닛의 자체 중량 때문에 스트립 재료 쪽으로 가압 된다. 초음파-공중 부양력 장으로 인해 대항력이 생기기 때문에 상기 작업 유닛(3)은 스트립 재료 위에서 미리 정해진 간격을 유지하면서 부유하게 된다. 균일하게 정해진 간격은 절단면의 우수한 품질을 보장한다. 시스템이 접촉 없이 스트립 위에서 부유하기 때문에 절단된 잔여물은 절단 이후에 표면 품질을 손상시키지 않는다.
도 1 내지 도 9는 본 발명의 사상에 따른 표면 처리 또는 표면 가공을 위한 가장 상이한 장치라 제공될 수 있다는 것을 단지 표본적으로 설명한 것이다. 전술한 실시 예에서 처리될 재료는 작업 유닛을 통과하도록 가이드 된다. 분명한 것은 동일한 원리에 따른 작업 유닛은 넓은 면을 구비한 공작물의 표면을 통과하며 가이드 될 수도 있다는 것이다. 기본적으로 9개의 상이한 실시예의 경우에서 어떠한 경우도 초음파-공중 부양력 장이 각각의 작업 공정에 어떠한 부정적인 영향을 주지 않는다는 사실이 확인될 수 있다.

Claims (8)

  1. 표면 처리 또는 표면 가공 장치로서, 상기 장치는:
    - 공작물 표면(2) 처리 또는 공작물 표면(2) 가공을 위한 액추에이터(5a 내지 5i),
    - 작업 유닛(3)을 형성하는 액추에이터(5a 내지 5i)와 기계적으로 견고하게 연결되며 음향 방사 면을 구비하는 적어도 하나의 소노트로드(4), 및
    - 공작물 표면(2)의 반대쪽에 작업 유닛(3)을 배치하기 위해 작업 유닛(3)과 연결된 움직이는 포지셔닝 장치(6)를 포함하되,
    - 상기 포지셔닝 장치(6)는 작업 유닛(3)을 미리 정해진 압력(F)으로 공작물 표면(2) 쪽으로 가압하는 프레싱 장치를 구비하며,
    - 상기 소노트로드(4)의 음향 방사 면은 초음파-진동을 방생시키기 때문에 공작물 표면(2)과 소노트로드(4)의 음향 방사 면 사이에 가스 형태의 매체가 존재하는 상태에서 초음파-공중 부양력 장이 작용하며, 이러한 초음파-공중 부양력 장은 압력(F)과 반대되는 대항력을 생성하고, 이로 인해 작업 유닛(3)과 공작물 표면(2)의 간격이 부유하는 상태로 유지되는 것을 특징으로 하며,
    상기 액추에이터(5a 내지 5i)는,
    - 액체, 페이스트, 분말 형태 또는 에어로졸 종류의 매체를 공작물 표면(2)에 도포하기 위해, 또는
    - 공작물 표면(2)의 변화를 위해 전기장, 자기장 또는 전자기장 또는 플라스마를 공작물 표면(2)에서 생성하기 위해, 또는
    - 공작물 표면(2)의 변화를 위해 초음파 장을 생성하기 위해, 또는
    - 재료를 균등하게 하기 위해 작업 수단을 통해 공작물 표면(2)을 가공하기 위해 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 또는 표면 가공 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 작업 유닛(3)에는 공정 감시 또는 공정 제어를 위한 공정 감시 센서가 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 표면 처리 또는 표면 가공 장치.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 공정 감시 센서는 처리되었거나 또는 가공된 공작물 표면(2)의 영상 신호를 제공하는 광학 센서인 것을 특징으로 하는 표면 처리 또는 표면 가공 장치.
  4. 청구항 2에 있어서,
    상기 공정 감시 센서는 정전 용량형 센서이며, 상기 정전 용량 센서는 방금 처리되었거나 또는 가공된 공작물 표면(2)의 표면 처리 또는 표면 가공을 통해 야기된 용량 변동을 전기 측정 신호로서 제공하는 것을 특징으로 하는 표면 처리 또는 표면 가공 장치.
  5. 청구항 2에 있어서,
    상기 공정 감시 센서는 유도 센서이며, 상기 유도 센서는 방금 처리되었거나 또는 가공된 공작물 표면(2)의 표면 처리 또는 표면 가공을 통해 야기된 유도성 변동을 전기 측정 신호로서 제공하는 것을 특징으로 하는 표면 처리 또는 표면 가공 장치.
  6. 청구항 2에 있어서,
    작업 동작과 관련하여 상기 공정 감시 센서는 작업 유닛(3)의 전방 및 후방에 제공되어 있는 것을 특징으로 하는 표면 처리 또는 표면 가공 장치.
  7. 청구항 2에 있어서,
    작업 동작과 관련하여 상기 공정 감시 센서는 작업 유닛(3)의 후방에 배열되어 있으며, 상기 공정 감시 센서 후방에는 제2 가공 유닛이 제공되어 있는 것을 특징으로 하는 표면 처리 또는 표면 가공 장치.
  8. 청구항 1에 있어서,
    공작물 표면(2)과 작업 유닛(3) 사이의 간격을 조절하기 위해 간격 조절 장치가 제공되어 있으며, 이러한 간격은 음향 에너지의 변화를 통해 변화되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 또는 표면 가공 장치.
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