KR20160059712A - 적층 세라믹 전자 제품 및 그 제조 방법 - Google Patents

적층 세라믹 전자 제품 및 그 제조 방법 Download PDF

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KR20160059712A
KR20160059712A KR1020140161542A KR20140161542A KR20160059712A KR 20160059712 A KR20160059712 A KR 20160059712A KR 1020140161542 A KR1020140161542 A KR 1020140161542A KR 20140161542 A KR20140161542 A KR 20140161542A KR 20160059712 A KR20160059712 A KR 20160059712A
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노진환
양지혜
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삼성전기주식회사
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Abstract

적층 세라믹 전자 부품의 제조 방법이 제공된다. 이 방법은 내부에 서로 대향하게 적층된 복수의 내부 전극들을 포함하는 유전체층을 준비하는 것 및 유전체층을 소결하여 세라믹 본체를 형성하는 것을 포함한다. 유전체층은 용량 형성부인 활성 영역과 내부 전극들의 적층 방향인 활성 영역의 상부면 및 상부면에 대향하는 하부면에 구비되는 용량 비형성부인 커버 영역을 포함하고, 그리고 유전체층을 준비하는 것은 소결된 후의 활성 영역의 기공 개수에 대한 커버 영역의 기공 개수의 비율이 30 이하가 되도록 설정하는 것이다.

Description

적층 세라믹 전자 제품 및 그 제조 방법{Multi-Layer Ceramic Electronic Component and Method of Fabricating the Same}
본 발명은 적층 세라믹 전자 제품 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 더 구체적으로 신뢰성이 저하되는 것을 방지할 수 있는 적층 세라믹 전자 제품 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
최근 들어, 각종 통신 장치 또는 표시 장치 등과 같은 정보통신 기술(Information Technology : IT) 장치의 소형화 및 박형화가 가속화되고 있다. 따라서, 이러한 정보통신 기술 장치에 채용되는 변압기(transformer), 인덕터(inductor), 커패시터(capacitor), 트랜지스터(transistor) 등과 같은 각종 전자 부품들을 소형화, 박형화 및 대용량화하기 위한 연구가 지속적으로 이루어지고 있다.
특히, 적층 세라믹 커패시터(Multi-Layer Ceramic Capacitor : MLCC)의 소형화, 박형화 및 대용량화가 요구되고 있는 실정이다. 대용량의 적층 세라믹 커패시터를 개발함에 있어 중요하게 고려해야 할 사항은 용량 구현 여부와 더불어 전압 인가에 따른 높은 신뢰성을 확보하는 것이다.
일반적으로 적층 세라믹 커패시터의 신뢰성은 고온 절연 저항(hot insulation resistance) 특성 및 내습 절연 저항(humid insulation resistance) 특성의 평가 결과로부터 결정된다.
고온 절연 저항 특성은 주로 사용되는 물질적 측면(예를 들면, 커패시터를 구성하는 유전체, 내부 전극의 열화 특성 또는/및 미세 구조 불량 등)에 의해 좌우된다.
한편, 내습 절연 저항 특성은 구조적 측면(예를 들면, 압착 또는 절단 공정에서 발생하는 기공이나 층들 사이의 박리(delamination), 소성 또는 소결 공정이 수행된 후에 발생하는 내부 전극의 미도포 영역이나, 층들 사이에서 발생하기 쉬운 갈라짐(crack) 등과 같은 구조적 결함 및 외부 전극 내의 기공(pore)에 의존하여 나타난다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 활성 영역과 커버 영역 사이가 설정된 기공 비율을 가져 신뢰성이 저하되는 것을 방지할 수 있는 적층 세라믹 전자 제품을 제공하는 데 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 활성 영역과 커버 영역 사이가 설정된 기공 비율을 가져 신뢰성이 저하되는 것을 방지할 수 있는 적층 세라믹 전자 제품의 제조 방법을 제공하는 데 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 이상에 언급한 과제들에 제한되지 않으면, 언급되지 않는 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기한 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은 적층 세라믹 전자 부품을 제공한다. 이 적층 세라믹 전자 부품은 유전체층을 포함하는 세라믹 본체, 및 세라믹 본체 내에서 유전체층을 사이에 두고 서로 대향하게 적층되되, 세라믹 본체의 제 1 측면으로 각각의 말단이 노출된 복수의 내부 전극들로 구성된 제 1 내부 전극군 및 제 1 측면에 대향하는 제 2 측면으로 각각의 말단이 노출된 복수의 내부 전극들로 구성된 제 2 내부 전극군을 포함할 수 있다. 세라믹 본체는 용량 형성부인 활성 영역과 내부 전극들의 적층 방향인 활성 영역의 상부면 및 상부면에 대향하는 하부면에 구비되는 용량 비형성부인 커버 영역을 포함할 수 있고, 그리고 활성 영역의 기공 개수에 대한 커버 영역의 기공 개수의 비율이 30 이하일 수 있다.
활성 영역의 기공 개수는 3개 이하일 수 있다. 커버 영역의 기공 개수는 90개 이하일 수 있다. 활성 영역의 기공 개수 및 커버 영역의 기공 개수는 20,000 배율의 주사 전자 현미경으로 측정한 것일 수 있다.
유전체층은 세라믹 물질을 포함할 수 있다. 복수의 내부 전극들은 니켈을 포함할 수 있다.
적층 세라믹 전자 부품은 제 1 내부 전극군과 전기적으로 연결되는 제 1 외부 전극 및 제 2 내부 전극군과 전기적으로 연결되는 제 2 외부 전극을 더 포함할 수 있다.
또한, 상기한 다른 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은 적층 세라믹 전자 부품의 제조 방법을 제공한다. 이 방법은 내부에 서로 대향하게 적층된 복수의 내부 전극들을 포함하는 유전체층을 준비하는 것 및 유전체층을 소결하여 세라믹 본체를 형성하는 것을 포함할 수 있다. 유전체층은 용량 형성부인 활성 영역과 내부 전극들의 적층 방향인 활성 영역의 상부면 및 상부면에 대향하는 하부면에 구비되는 용량 비형성부인 커버 영역을 포함할 수 있고, 그리고 유전체층을 준비하는 것은 소결된 후의 활성 영역의 기공 개수에 대한 커버 영역의 기공 개수의 비율이 30 이하가 되도록 설정하는 것일 수 있다.
소결된 후의 활성 영역의 기공 개수는 3개 이하일 수 있다. 소결된 후의 커버 영역의 기공 개수는 90개 이하일 수 있다. 소결된 후의 활성 영역의 기공 개수 및 커버 영역의 기공 개수는 20,000 배율의 주사 전자 현미경으로 측정한 것일 수 있다.
소결된 후의 활성 영역의 기공 개수에 대한 커버 영역의 기공 개수의 비율이 30 이하가 되도록 설정하는 것은 유전체층을 소결하는 공정 조건을 설정하는 것일 수 있다. 유전체층을 소결하는 공정 조건을 설정하는 것은 유전체층의 물질을 구성하는 분말의 종류 및 크기, 및 첨가제의 종류를 변화시키거나, 또는 소결 분위기에 사용되는 기체의 농도를 조절하는 것일 수 있다. 소결 분위기에 사용되는 기체는 수소일 수 있다.
복수의 내부 전극들은 복수의 내부 전극들의 적층 방향에 대해 수직인 세라믹 본체의 제 1 측면으로 각각의 말단이 노출된 복수의 내부 전극들로 구성된 제 1 내부 전극군 및 제 1 측면에 대향하는 제 2 측면으로 각각의 말단이 노출된 복수의 내부 전극들로 구성된 제 2 내부 전극군을 포함할 수 있다. 이 방법은 제 1 내부 전극군에 전기적으로 연결되는 제 1 외부 전극을 형성하는 것 및 제 2 내부 전극군에 전기적으로 연결되는 제 2 외부 전극을 형성하는 것을 더 포함할 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 과제의 해결 수단에 따르면 적층 세라믹 전자 부품이 최적화된 소결 공정에 의해 세라믹 본체의 활성 영역의 기공 개수에 대한 커버 영역의 기공 개수의 비율이 30 이하임으로써, 적층 세라믹 전자 부품의 신뢰성이 저하되는 것을 방지할 수 있다. 이에 따라, 신뢰성이 저하되는 것을 방지할 수 있는 적층 세라믹 전자 부품이 제공될 수 있다.
또한, 본 발명의 과제의 해결 수단에 따르면 적층 세라믹 전자 부품이 최적화된 소결 공정에 의해 세라믹 본체의 활성 영역의 기공 개수에 대한 커버 영역의 기공 개수의 비율이 30 이하로 제조됨으로써, 적층 세라믹 전자 부품의 신뢰성이 저하되는 것을 방지할 수 있다. 이에 따라, 신뢰성이 저하되는 것을 방지할 수 있는 적층 세라믹 전자 부품의 제조 방법이 제공될 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 적층 세라믹 전자 부품을 설명하기 위한 개략적인 입체도이다.
도 2는 도 1의 Ⅰ-Ⅰ' 선을 따라 절단한 단면도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 적층 세라믹 전자 부품의 일부를 설명하기 위한 사진이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 적층 세라믹 전자 부품의 다른 일부를 설명하기 위한 사진이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 적층 세라믹 전자 부품의 제조 방법을 설명하기 위한 흐름도이다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면들과 함께 상세하게 후술 되어 있는 실시예를 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 여기서 설명되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예는 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
명세서 전문에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 따라서, 동일한 참조 부호 또는 유사한 참조 부호들은 해당 도면에서 언급 또는 설명되지 않았더라도, 다른 도면을 참조하여 설명될 수 있다. 또한, 참조 부호가 표시되지 않았더라도, 다른 도면들을 참조하여 설명될 수 있다.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 '포함한다(comprises)' 및/또는 '포함하는(comprising)'은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다. 또한, 바람직한 실시예에 따른 것이기 때문에, 설명의 순서에 따라 제시되는 참조 부호는 그 순서에 반드시 한정되지는 않는다. 이에 더하여, 본 명세서에서, 어떤 막이 다른 막 또는 기판 상에 있다고 언급되는 경우에 그것은 다른 막 또는 기판 상에 직접 형성될 수 있거나 또는 그들 사이에 제 3의 막이 개재될 수도 있다는 것을 의미한다.
하나의 구성 요소(element)가 다른 구성 요소와 '접속된(connected to)' 또는 '결합한(coupled to)'이라고 지칭되는 것은, 다른 구성 요소와 직접적으로 연결된 또는 결합한 경우, 또는 중간에 다른 구성 요소를 개재한 경우를 모두 포함한다. 반면, 하나의 구성 요소가 다른 구성 요소와 '직접적으로 접속된(directly connected to)' 또는 '직접적으로 결합한(directly coupled to)'으로 지칭되는 것은 중간에 다른 구성 요소를 개재하지 않은 것을 나타낸다. '및/또는'은 언급된 아이템(item)들의 각각 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.
공간적으로 상대적인 용어인 '아래(below)', '밑(beneath)', '하부(lower)', '위(above)', '상부(upper)' 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 소자 또는 구성 요소들과 다른 소자 또는 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작 시 소자의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 소자를 뒤집을 경우, 다른 소자의 '아래(below)' 또는 '밑(beneath)'으로 기술된 소자는 다른 소자의 '위(above)'에 놓일 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 '아래'는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다. 소자는 다른 방향으로도 배향될 수 있고, 이에 따라 공간적으로 상대적인 용어들은 배향에 따라 해석될 수 있다.
또한, 본 명세서에서 기술하는 실시예들은 본 발명의 이상적인 예시도인 단면도 및/또는 평면도들을 참고하여 설명될 것이다. 도면들에 있어서, 막 및 영역들의 두께는 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장된 것이다. 따라서, 제조 기술 및/또는 허용 오차 등에 의해 예시도의 형태가 변형될 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시예들은 도시된 특정 형태로 제한되는 것이 아니라 제조 공정에 따라 생성되는 형태의 변화도 포함하는 것이다. 예를 들면, 직각으로 도시된 식각 영역은 라운드지거나(rounded) 소정 곡률을 가지는 형태일 수 있다. 따라서, 도면에서 예시된 영역들은 개략적인 속성을 가지며, 도면에서 예시된 영역들의 모양은 소자의 영역의 특정 형태를 예시하기 위한 것이며 발명의 범주를 제한하기 위한 것이 아니다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 적층 세라믹 전자 부품을 설명하기 위한 개략적인 입체도이고, 그리고 도 2는 도 1의 Ⅰ-Ⅰ' 선을 따라 절단한 단면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 적층 세라믹 전자 부품은 유전체층(112)을 포함하는 세라믹 본체(110), 세라믹 본체(110) 내에서 유전체층(112)을 사이에 두고 서로 대향하게 적층된 복수의 내부 전극들(114 및 116) 및 복수의 내부 전극들(114 및 116)과 전기적으로 연결되는 외부 전극들(122 및 124)을 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 적층 세라믹 전자 부품은 적층 세라믹 커패시터를 예로 들어 설명되지만, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 실시예에 따른 적층 세라믹 커패시터에 있어서, '길이 방향'은 도 1의 'L 방향', '폭 방향'은 'W 방향', 그리고 '두께 방향'은 'T 방향'으로 정의될 수 있다. 여기서 '두께 방향'은 복수의 내부 전극들(114 및 116)의 '적층 방향'과 동일한 개념으로 사용된다.
유전체층(112)은 충분한 정전 용량을 얻을 수 있는 물질을 포함할 수 있다. 즉, 유전체층(112)은 세라믹 물질을 포함할 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 바람직하게는, 본 발명의 실시예에 따른 유전체층(112)은 세라믹 분말, 세라믹 첨가제, 유기 용제, 가소제, 결합제 또는 분산제 등을 포함할 수 있다.
복수의 내부 전극들(114 및 116)은 유전체층(112)을 사이에 두고 서로 대향하게 적층될 수 있다. 복수의 내부 전극들(114 및 116)은 세라믹 본체(110)의 제 1 측면으로 각각의 말단이 노출된 복수의 내부 전극들(114)로 구성된 제 1 내부 전극군 및 제 1 측면에 대향하는 제 2 측면으로 각각의 말단이 노출된 복수의 내부 전극들(116)로 구성된 제 2 내부 전극군을 포함할 수 있다. 복수의 내부 전극들(114 및 116)은 도전성 물질을 포함할 수 있다. 도전성 물질은 은(Ag), 납(Pb), 백금(Pt), 니켈(Ni), 구리(Cu) 또는 이들의 조합 중에서 선택된 하나의 물질을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 본 발명의 실시예에 따른 복수의 내부 전극들(114 및 116)은 니켈을 포함할 수 있다.
외부 전극들(122 및 124)은 세라믹 본체(110)의 제 1 측면으로 각각의 말단이 노출되는 복수의 내부 전극들(114)로 구성된 제 1 내부 전극군과 전기적으로 연결되는 제 1 외부 전극(122) 및 세라믹 본체(110)의 제 2 측면으로 각각의 말단이 노출되는 복수의 내부 전극들(116)로 구성된 제 2 내부 전극군과 전기적으로 연결되는 제 2 외부 전극(124)을 포함할 수 있다.
세라믹 본체(110)는 용량 형성부인 활성 영역(A, active region)과 내부 전극들의 적층 방향인 T 방향에 해당하는 활성 영역(A)의 상부면 및 상부면에 대향하는 하부면에 구비되는 용량 비형성부인 커버 영역(C, cover region)을 포함할 수 있다. 즉, 용량 형성부인 활성 영역(A)은 세라믹 본체(110) 내에서 복수의 내부 전극들(114 및 116)이 적층된 영역을 의미할 수 있다.
활성 영역(A)의 기공 개수에 대한 커버 영역(C)의 기공 개수의 비율을 30 이하일 수 있다. 바람직하게는, 본 발명의 실시예에 따른 활성 영역(A)의 기공 개수는 3개 이하이고, 그리고 커버 영역(C)의 기공 개수는 90개 이하일 수 있다. 활성 영역(A)의 기공 개수 및 커버 영역(C)의 기공 개수는 20,000 배율의 주사 전자 현미경(Scanning Electron Microscope : SEM)으로 측정한 것일 수 있다.
기공 개수가 많은 유전체층(112)은 소결 공정에서 소결이 불충분하게 일어나 적층 세라믹 전자 부품의 신뢰성을 저하시킬 우려가 있으며, 그리고 기공 개수가 극단적으로 적은 유전체층(112)은 복수의 내부 전극들(114 및 116)의 소결이 과하게 일어나 유전체층(112)과 복수의 내부 전극들(114 및 116)의 소결 수축 불일치(sintering shrinkage mismatch)로 인한 적층 세라믹 전자 부품의 신뢰성을 저하시킬 우려가 있다. 이에 따라, 유전체층(112)과 복수의 내부 전극들(114 및 116)의 소결 정도를 파악한 후, 이를 바탕으로 하는 적절한 소결 공정 조건이 요구된다.
따라서, 본 발명에서는 소결된 후의 세라믹 본체(110)의 활성 영역(A)의 기공 개수에 대한 커버 영역(C)의 기공 개수의 비율이 30 이하가 될 수 있는 적층 세라믹 전자 부품을 구현하여 적층 세라믹 전자 부품의 신뢰성이 저하되는 것을 방지할 수 있다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 적층 세라믹 커패시터의 일부를 설명하기 위한 사진이고, 그리고 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 적층 세라믹 커패시터의 다른 일부를 설명하기 위한 사진이다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 도 3은 20,000 배율의 주사 전자 현미경으로 측정한 세라믹 본체(도 1 또는 도 2의 110 참조)의 활성 영역(도 2의 A 참조)에 대한 기공 개수를 보여주기 위한 사진이고, 그리고 도 4는 세라믹 본체의 커버 영역(도 2의 C 참조)에 대한 기공 개수를 보여주기 위한 사진이다.
도 3 및 도 4에서 보이는 것과 같이, 세라믹 본체의 활성 영역은 극단적으로 적은 기공 개수를 갖고, 그리고 커버 영역은 최대 30배에 해당하는 기공 개수를 가진다.
본 발명의 실시예에 따르면 적층 세라믹 전자 부품은 최적화된 소결 공정에 의해 세라믹 본체의 활성 영역의 기공 개수에 대한 커버 영역의 기공 개수의 비율이 30 이하임으로써, 적층 세라믹 전자 부품의 신뢰성이 저하되는 것을 방지할 수 있다. 이에 따라, 신뢰성이 저하되는 것을 방지할 수 있는 적층 세라믹 전자 부품이 제공될 수 있다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 적층 세라믹 커패시터의 제조 방법을 설명하기 위한 흐름도이다.
도 5를 참조하면, 내부에 복수의 내부 전극들(도 1 또는 도 2의 114 및 116 참조)이 적층된 유전체층(도 1 또는 도 2의 112 참조)의 소결 후 활성 영역(도 2의 A 참조)의 기공 개수에 대한 커버 영역(도 2의 C 참조)의 기공 개수의 비율이 30 이하가 되도록 설정(S110)된다.
S110 단계는 내부에 서로 대향하게 적층된 복수의 내부 전극들을 포함하는 유전체층을 준비하는 것일 수 있다. 유전체층은 용량 형성부인 활성 영역과 복수의 내부 전극들의 적층 방향인 활성 영역의 상부면 및 상부면에 대향하는 하부면에 구비되는 용량 비형성부인 커버 영역을 포함할 수 있다. 유전체층을 준비하는 것은 소결된 후의 활성 영역의 기공 개수에 대한 커버 영역의 기공 개수의 비율이 30 이하가 되도록 설정하는 것일 수 있다.
소결된 후의 활성 영역의 기공 개수에 대한 커버 영역의 기공 개수의 비율이 30 이하기 되도록 설정하는 것은 유전체를 소결하는 공정 조건을 설정하는 것일 수 있다. 유전체층을 소결하는 공정 조건을 설정하는 것은 유전체층의 물질을 구성하는, 즉 세라믹 분말의 종류 및 크기, 세라믹 첨가제의 종류, 유기 용제의 종류, 가소제의 종류, 결합제의 종류, 및 분산제의 종류를 변화시키거나, 또는 소결 분위기에 사용되는 기체의 농도를 조절하는 것일 수 있다. 적층 세라믹 전자 부품을 제조하기 위한 유전체층에 대한 소결 분위기는 수소(H2)를 사용하는 환원 분위기를 이용하기 때문에, 유전체층을 소결하는 공정 조건을 설정하는 것은 수소의 농도를 조절하는 것을 더 포함할 수 있다.
유전체층을 소결하여 세라믹 본체(도 1 또는 도 2의 110 참조)가 형성(S120)된다. 소결된 후의 활성 영역의 기공 개수에 대한 커버 영역의 기공 개수의 비율은 30 이하를 가질 수 있다. 소결된 후의 활성 영역의 기공 개수는 3개 이하일 수 있다. 소결된 후의 커버 영역의 기공 개수는 90개 이하일 수 있다. 소결된 후의 활성 영역의 기공 개수 및 커버 영역의 기공 개수는 20,000 배율의 주사 전자 현미경으로 측정한 것일 수 있다.
복수의 내부 전극들은 복수의 내부 전극들의 적층 방향에 대해 수직인 세라믹 본체의 제 1 측면으로 각각의 말단이 노출된 복수의 내부 전극들(도 2의 114 참조)로 구성된 제 1 내부 전극군 및 제 1 측면에 대향하는 제 2 측면으로 각각의 말단이 노출된 복수의 내부 전극들(도 2의 116 참조)로 구성된 제 2 내부 전극군을 포함할 수 있다. 제 1 내부 전극군에 전기적으로 연결되는 제 1 외부 전극(도 1 또는 도 2의 122 참조) 및 제 2 내부 전극군에 전기적으로 연결되는 제 2 외부 전극(도 1 또는 도 2의 124 참조)이 더 형성될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 방법으로 제조된 적층 세라믹 전자 부품은 최적화된 소결 공정에 의해 세라믹 본체의 활성 영역의 기공 개수에 대한 커버 영역의 기공 개수의 비율이 30 이하로 제조됨으로써, 적층 세라믹 전자 부품의 신뢰성이 저하되는 것을 방지할 수 있다. 이에 따라, 신뢰성이 저하되는 것을 방지할 수 있는 적층 세라믹 전자 부품의 제조 방법이 제공될 수 있다.
이상, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들에는 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
110 : 세라믹 본체
112 : 유전체층
114, 116 : 내부 전극
122, 124 : 외부 전극
C : 커버 영역
S : 활성 영역

Claims (15)

  1. 유전체층을 포함하는 세라믹 본체; 및
    상기 세라믹 본체 내에서 상기 유전체층을 사이에 두고 서로 대향하게 적층되되, 상기 세라믹 본체의 제 1 면으로 각각의 말단이 노출된 복수의 내부 전극들로 구성된 제 1 내부 전극군 및 상기 제 1 면에 대향하는 제 2 면으로 각각의 말단이 노출된 복수의 내부 전극들로 구성된 제 2 내부 전극군을 포함하되,
    상기 세라믹 본체는 용량 형성부인 활성 영역과 상기 내부 전극들의 적층 방향인 상기 활성 영역의 제 3 면 및 상기 제 3 면에 대향하는 제 4 면에 구비되는 용량 비형성부인 커버 영역을 포함하고, 그리고
    상기 활성 영역의 기공 개수에 대한 상기 커버 영역의 기공 개수의 비율이 30 이하인 적층 세라믹 전자 부품.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 활성 영역의 기공 개수는 3개 이하인 적층 세라믹 전자 부품.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 커버 영역의 기공 개수는 90개 이하인 적층 세라믹 전자 부품.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 활성 영역의 기공 개수 및 상기 커버 영역의 기공 개수는 20,000 배율의 주사 전자 현미경으로 측정한 것인 적층 세라믹 전자 부품.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 유전체층은 세라믹 물질을 포함하는 적층 세라믹 전자 부품.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 복수의 내부 전극들은 니켈을 포함하는 적층 세라믹 전자 부품.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 제 1 내부 전극군과 전기적으로 연결되는 제 1 외부 전극; 및
    상기 제 2 내부 전극군과 전기적으로 연결되는 제 2 외부 전극을 더 포함하는 적층 세라믹 전자 부품.
  8. 내부에 서로 대향하게 적층된 복수의 내부 전극들을 포함하는 유전체층을 준비하는 것; 및
    상기 유전체층을 소결하여 세라믹 본체를 형성하는 것을 포함하되,
    상기 유전체층은 용량 형성부인 활성 영역과 상기 내부 전극들의 적층 방향인 상기 활성 영역의 제 1 면 및 상기 제 1 면에 대향하는 제 2 면에 구비되는 용량 비형성부인 커버 영역을 포함하고, 그리고
    상기 유전체층을 준비하는 것은 소결된 후의 상기 활성 영역의 기공 개수에 대한 상기 커버 영역의 기공 개수의 비율이 30 이하가 되도록 설정하는 것인 적층 세라믹 전자 부품의 제조 방법.
  9. 제 8항에 있어서,
    소결된 후의 상기 활성 영역의 기공 개수는 3개 이하인 적층 세라믹 전자 부품의 제조 방법.
  10. 제 8항에 있어서,
    소결된 후의 상기 커버 영역의 기공 개수는 90개 이하인 적층 세라믹 전자 부품의 제조 방법.
  11. 제 8항에 있어서,
    소결된 후의 상기 활성 영역의 기공 개수 및 상기 커버 영역의 기공 개수는 20,000 배율의 주사 전자 현미경으로 측정한 것인 적층 세라믹 전자 부품의 제조 방법.
  12. 제 8항에 있어서,
    소결된 후의 상기 활성 영역의 기공 개수에 대한 상기 커버 영역의 기공 개수의 비율이 30 이하가 되도록 설정하는 것은 상기 유전체층을 소결하는 공정 조건을 설정하는 것인 적층 세라믹 전자 부품의 제조 방법.
  13. 제 12항에 있어서,
    상기 유전체층을 소결하는 공정 조건을 설정하는 것은 상기 유전체층의 물질을 구성하는 분말의 종류 및 크기, 및 첨가제의 종류를 변화시키거나, 또는 소결 분위기에 사용되는 기체의 농도를 조절하는 것인 적층 세라믹 전자 부품의 제조 방법.
  14. 제 13항에 있어서,
    상기 소결 분위기에 사용되는 기체는 수소인 적층 세라믹 전자 부품의 제조 방법.
  15. 제 8항에 있어서,
    상기 복수의 내부 전극들은 상기 복수의 내부 전극들의 적층 방향에 대해 수직인 상기 세라믹 본체의 제 3 면으로 각각의 말단이 노출된 복수의 내부 전극들로 구성된 제 1 내부 전극군 및 상기 제 3 면에 대향하는 제 4 면으로 각각의 말단이 노출된 복수의 내부 전극들로 구성된 제 2 내부 전극군을 포함하고,
    상기 제 1 내부 전극군에 전기적으로 연결되는 제 1 외부 전극을 형성하는 것; 및
    상기 제 2 내부 전극군에 전기적으로 연결되는 제 2 외부 전극을 형성하는 것을 더 포함하는 적층 세라믹 전자 부품의 제조 방법.
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