KR20160049953A - Photo-curable composition, organic protective layer comprising the same, and apparatus comprising the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 광경화 조성물, 이를 포함하는 유기보호층, 및 이를 포함하는 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a photocurable composition, an organic protective layer comprising the same, and an apparatus comprising the same.
광학 표시 장치에 사용되는 유기 전계 발광 소자는 수분 또는 기체와 같은 환경의 영향을 받아 특성의 열화 또는 변질의 문제가 발생하기 쉽다. 구체적으로 수분의 영향을 받아 금속 전계와 유기 발광층의 계면이 박리되거나, 금속의 산화로 고저항화 될 수 있고, 유기물 자체가 수분 또는 산소에 의하여 변질되거나, 외부 또는 내부에서 발생하는 아웃가스에 의하여 유기재료, 전극재료의 산화가 발생하여 유기 전계 발광 소자의 발광 특성이 저하될 수 있다. 따라서 유기 전계 발광 소자는 수분 또는 산소로부터 이를 보호하는 봉지용 조성물에 의하여 봉지되어야 한다.An organic electroluminescent device used in an optical display device is likely to suffer deterioration or deterioration of characteristics due to the influence of environment such as moisture or gas. Specifically, the interface between the metal electric field and the organic luminescent layer may be peeled off due to moisture, the metal may be highly resisted by oxidation of the metal, the organic material itself may be denatured by moisture or oxygen, The organic material and the electrode material may be oxidized to lower the light emitting property of the organic electroluminescent device. Therefore, the organic electroluminescent device should be sealed by a sealing composition which protects it from moisture or oxygen.
유기 전계 발광 소자는 무기 보호층과 유기 보호층이 형성된 다층 구조로 봉지화되고 있다. 무기 보호층은 플라즈마에 의한 증착으로 형성되는데, 이때 플라즈마에 의해 유기 보호층이 식각될 수 있다. 이러한 식각은 유기 보호층의 봉지 기능에 손상을 줄 수 있고, 이로 인해 유기발광소자는 발광 특성이 떨어지고, 신뢰성이 떨어질 수 있다.The organic electroluminescent device is encapsulated in a multilayer structure in which an inorganic protective layer and an organic protective layer are formed. The inorganic protective layer is formed by plasma deposition, wherein the organic protective layer can be etched by the plasma. Such an etching may damage the sealing function of the organic protective layer, and the organic light emitting device may have poor light emitting characteristics and poor reliability.
본 발명의 배경기술은 한국공개특허 제2011-0071039호에 개시되어 있다.The background art of the present invention is disclosed in Korean Patent Publication No. 2011-0071039.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 내플라즈마성이 높은 유기 보호층을 구현할 수 있는 광경화 조성물을 제공하는 것이다.A problem to be solved by the present invention is to provide a photocurable composition capable of realizing an organic protective layer having high plasma resistance.
본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 수분 투습률 및 산소 투과도가 현저하게 낮은 유기 보호층을 구현할 수 있는 광경화 조성물을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a photocurable composition capable of realizing an organic protective layer having a significantly low water permeability and oxygen permeability.
본 발명이 해결하고자 하는 또다른 과제는 장치를 수분 및 가스를 포함하는 환경의 영향으로부터 보호하여 장치에 경시 신뢰성을 부여할 수 있는 유기 보호층을 구현할 수 있는 광경화 조성물을 제공하는 것이다.Another object to be solved by the present invention is to provide a photocurable composition capable of protecting an apparatus from the influence of environment including moisture and gas so as to realize an organic protective layer capable of giving reliability to the apparatus over time.
본 발명이 해결하고자 또 다른 과제는 본 발명의 광경화 조성물의 경화물을을 포함하는 봉지화된 장치를 제공하는 것이다. It is a further object of the present invention to provide an encapsulated device comprising a cured product of the photocurable composition of the present invention.
본 발명의 일관점인 광경화 조성물은 하기 식 1으로 표시되는 POC 파라미터 값이 0.1 이상 0.35이하이고, 방향족 탄화수소기를 갖는 광경화성 모노머 및 광중합 개시제를 포함할 수 있다.The photocurable composition which is one aspect of the present invention may comprise a photocurable monomer having an aromatic hydrocarbon group and a photopolymerization initiator, the POC parameter value being 0.1 or more and 0.35 or less,
<식 1><Formula 1>
상기 식에서, Pcn은 각 모노머의 방향족 고리의 개수, Ocn은 각 모노머의 O원자 및 S원자의 개수, Wrn은 총 모노머 중 각 모노머의 중량%, Mwn는 모노머의 중량평균분자량을 나타낸다.Wherein Pc n is the number of aromatic rings of each monomer, Oc n is the number of O and S atoms of each monomer, Wr n is the weight percent of each monomer in the total monomer, and Mw n is the weight average molecular weight of the monomer .
본 발명의 다른 관점인 봉지화된 장치는 장치용 부재, 및 상기 장치용 부재 위에 형성된 보호층을 포함하고, 상기 보호층은 무기보호층 및 유기보호층을 포함하고, 상기 유기보호층은 상기 광경화 조성물의 경화물을 포함할 수 있다.An encapsulated device, which is another aspect of the present invention, comprises a member for a device, and a protective layer formed over the device member, wherein the protective layer comprises an inorganic protective layer and an organic protective layer, Curable compositions of the present invention.
본 발명의 광경화 조성물은 높은 내플라즈마성을 나타낸다. The photocurable composition of the present invention exhibits high resistance to plasma.
본 발명의 조성물은 장치를 수분 및 가스를 포함하는 환경의 영향으로부터 보호하여 장치에 경시 신뢰성을 부여할 수 있는 유기 보호층을 구현할 수 있다. The compositions of the present invention can provide an organic protective layer that can protect the device from the effects of the environment, including moisture and gases, thereby giving the device reliability over time.
본 발명의 조성물의 경화물을 함유하는 봉지화된 장치는 높은 내플라즈마성, 낮은 수분 투습률 및 산소 투과도를 나타낸다. The encapsulated device containing the cured product of the composition of the present invention exhibits high resistance to plasma, low moisture permeability and oxygen permeability.
도 1은 본 발명 일실시예의 봉지화된 장치의 단면도이다.
도 2는 본 발명 다른 실시예의 봉지화된 장치의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of an encapsulated device of one embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of an encapsulated device of another embodiment of the present invention.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 출원의 구체예들을 보다 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 본 출원에 개시된 기술은 여기서 설명되는 구체예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 단지, 여기서 소개되는 구체예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 출원의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다. 도면에서 각 구성요소를 명확하게 표현하기 위하여 구성요소의 폭이나 두께 등의 크기를 다소 확대하여 나타내었다. 또한, 설명의 편의를 위하여 구성요소의 일부만을 도시하기도 하였으나, 당업자라면 구성요소의 나머지 부분에 대하여도 용이하게 파악할 수 있을 것이다. 또한, 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 출원의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 출원의 사상을 다양한 다른 형태로 구현할 수 있을 것이다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Reference will now be made in detail to embodiments of the present application, examples of which are illustrated in the accompanying drawings. However, the techniques disclosed in this application are not limited to the embodiments described herein but may be embodied in other forms. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. In the drawings, the widths and thicknesses of components are slightly enlarged in order to clearly illustrate each component. In addition, although only a part of the components is shown for convenience of explanation, those skilled in the art can easily grasp the rest of the components. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit and scope of the invention.
본 명세서에서 "상부"와 "하부"는 도면을 기준으로 정의한 것으로서, 시 관점에 따라 "상부"가 "하부"로 "하부"가 "상부"로 변경될 수 있고, "위(on)" 또는 "상(on)"으로 지칭되는 것은 바로 위뿐만 아니라 중간에 다른 구조를 개재한 경우도 포함할 수 있다. 반면, "직접 위(directly on)" 또는 "바로 위"로 지칭되는 것은 중간에 다른 구조를 개재하지 않은 것을 나타낸다.The terms "upper" and "lower" in this specification are defined with reference to the drawings, wherein "upper" may be changed to "lower", "lower" What is referred to as "on" may include not only superposition, but also intervening other structures in the middle. On the other hand, what is referred to as "directly on" or "directly above"
본 명세서에서 "(메트)아크릴"은 아크릴(acryl) 및/또는 메타크릴(methacryl)을 의미할 수 있다. As used herein, "(meth) acryl" may mean acryl and / or methacryl.
본 명세서에서 "치환된"은 별도의 정의가 없는 한, 본 발명의 작용기 중 하나 이상의 수소 원자가 할로겐 (F, Cl, Br 또는 I), 히드록시기, 니트로기, 이미노기(=NH, =NR, R은 탄소수 1-10의 알킬기이다), 아미디노기, 히드라진 또는 히드라존기, 카르복시기, 탄소수 1-20의 알킬기, 탄소수 6-30의 아릴기, 탄소수 3-30의 헤테로아릴기, 탄소수 2-30의 헤테로시클로알킬기, 탄소수 3-20의 시클로알킬기로 치환되는 것을 의미할 수 있다.As used herein, unless otherwise defined, at least one hydrogen atom of the functional groups of the invention is optionally substituted with at least one substituent selected from the group consisting of halogen (F, Cl, Br or I), a hydroxy group, a nitro group, an imino group An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, a heteroaryl group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 2 to 30 carbon atoms, A heterocycloalkyl group, and a cycloalkyl group having from 3 to 20 carbon atoms.
본 명세서에서 "헤테로"는 탄소 원자가 N, O, S 및 P로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 원자로 치환된 것을 의미한다.As used herein, "hetero" means that a carbon atom is substituted with any one atom selected from the group consisting of N, O, S and P.
본 명세서에서 "내플라즈마성"은 광경화 조성물의 경화물이 플라즈마 처리 되었을 때, 식각(etch)되는 식각률에 따라 판단할 수 있으며, 식각률이 낮을 수록 내플라즈마성이 우수한 것으로 정의한다.In the present specification, "plasma resistance" is defined as an etching rate which is etched when a cured product of a photocurable composition is plasma-treated, and the lower the etching rate, the better plasma resistance.
본 발명의 실시예들에 따른 광경화 조성물은 하기 식 1으로 표시되는 POC 파라미터 값이 0.100 이상 0.350 이하이고, 광경화성 모노머로서 방향족 탄화수소기를 갖는 광경화성 모노머 및 방향족 탄화수소기를 가지지 않는 광경화성 모노머 중 하나 이상을 포함할 수 있다.The photocurable composition according to embodiments of the present invention is a photocurable composition having a POC parameter value of 0.100 or more and 0.350 or less, represented by the following Formula 1, and a photocurable monomer having an aromatic hydrocarbon group as a photocurable monomer and a photocurable monomer having no aromatic hydrocarbon group Or more.
본 발명의 일 실시예에 따른 광경화 조성물은 하기 식 1으로 표시되는 POC 파라미터 값이 0.100 이상 0.350 이하이고, 방향족 탄화수소기를 갖는 광경화성 모노머 및 광중합 개시제를 포함할 수 있다.The photocurable composition according to an embodiment of the present invention may include a photocurable monomer having an aromatic hydrocarbon group and a photopolymerization initiator having a POC parameter value of 0.100 or more and 0.350 or less,
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 광경화 조성물은 하기 식 1으로 표시되는 POC 파라미터 값이 0.100 이상 0.350 이하이고, 방향족 탄화수소기를 갖는 광경화성 모노머, 방향족 탄화수소기를 가지지 않는 광경화성 모노머, 및 광중합 개시제를 포함할 수 있다.In addition, the photocurable composition according to an embodiment of the present invention comprises a photo-curable monomer having an aromatic hydrocarbon group, a photo-curable monomer having an aromatic hydrocarbon group, and a photopolymerization initiator having a POC parameter value of 0.100 or more and 0.350 or less, . ≪ / RTI >
<식 1><Formula 1>
상기 식에서, Pcn은 각 모노머의 방향족 고리의 개수, Ocn은 각 모노머의 O원자 및 S원자의 개수, Wrn은 총 모노머 중 각 모노머의 중량%, Mwn는 모노머의 분자량을 나타낸다.In the above formula, Pc n is the number of aromatic rings of each monomer, Oc n is the number of O atoms and S atoms of each monomer, Wr n is the weight% of each monomer in the total monomer, and Mw n is the molecular weight of the monomer.
상기 POC 파라미터(phenyl oxygen parameter)는 광경화성 모노머 내의 방향족 고리 함량에서 O, S 원자의 함량을 제외한 것을 계산하여 이를 조성물 평균 분자량으로 나눈 값으로, 상기 POC 파라미터 값은 0.100 이상 0.350 이하일 수 있다. 상기 POC 파라미터 값을 만족하는 광경화성 모노머를 사용함으로써, 유기 전계 발광 소자 또는 유기 전계 발광 소자 상에 형성된 무기 보호층 상에 유기 보호층을 형성할 때에 플라즈마 처리에 의해 유기 보호층이 손상되는 플라즈마 식각률이 현저하게 낮아 내플라즈마성이 높은 유기 보호층을 제공할 수 있다.The POC parameter (phenyl oxygen parameter) is calculated by excluding the contents of O and S atoms in the aromatic ring content in the photo-curable monomer and dividing it by the average molecular weight of the composition. The POC parameter value may be 0.100 or more and 0.350 or less. By using the photocurable monomer that satisfies the POC parameter value, it is possible to reduce the plasma etching rate at which the organic protective layer is damaged by the plasma treatment when the organic protective layer is formed on the inorganic protective layer formed on the organic electroluminescent element or the organic electroluminescent element The organic protective layer having a high plasma property can be provided.
더욱이, POC 파라미터 값이 0.100미만인 경우에는 플라즈마 식각율이 높아져 유기막이 손상되어 소자의 신뢰성이 저하될 수 있으며, 0.350 이상인 경우에는 점도 상승으로 인하여 공정에 적합하지 않을 수 있다. In addition, when the POC parameter value is less than 0.100, the plasma etching rate is increased to damage the organic film, and reliability of the device may be deteriorated. When the POC parameter value is 0.350 or more, the viscosity may not be suitable for the process.
상기 POC 파라미터 값은 예를 들어 0.100 이상 0.230이하일 수 있으며, 0.100 이상 0.190이하 일 수 있으며, 0.108 이상 0.187 이하 일 수 있다. The POC parameter value may be, for example, 0.100 or more and 0.230 or less, 0.100 or more and 0.190 or less, and 0.108 or more and 0.187 or less.
상기 Pcn은 각 모노머의 방향족 고리의 개수를 나타낸다. 상기 방향족 고리의 개수는 모노머에 포함되는 단일환의 개수를 의미하며, 축합환인 경우 축합된 각 단일환의 개수를 의미한다. 예를 들어, 모노머가 하나의 나프틸기를 포함하는 경우 단일환인 벤젠고리 2개가 축합된 것이므로 Pcn은 2이며, 모노머가 하나의 안트라센기 또는 페난트렌기를 포함하는 경우 Pcn은 3이다.And Pc n represents the number of aromatic rings of each monomer. The number of the aromatic rings means the number of the single rings contained in the monomer and, in the case of the condensed rings, the number of the single rings condensed. For example, when the monomer contains one naphthyl group, Pc n is 2 since two monocyclic benzene rings are condensed, and Pc n is 3 when the monomer contains one anthracene or phenanthrene group.
상기 Ocn은 각 모노머의 "O 원자 및 S원자의 개수"이나, 아크릴레이트에 포함된 "O"의 개수는 포함하지 않는다. 예를 들어, 모노머가 도데칸디올 디메타아크릴레이트인 경우 Ocn은 0이며, 모노머가 페닐티오에틸 아크릴레이트인경우 Ocn은 1 이다.Oc n does not include the number of "O atoms and S atoms" of each monomer or the number of "O" contained in acrylates. For example, Oc n is 0 when the monomer is dodecanediol dimethacrylate and Oc n is 1 when the monomer is phenylthioethyl acrylate.
상기 Wrn은 총 모노머 중 각 모노머의 중량%로 예를 들어, 조성물에 사용된 모노머가 도데칸디올 디메타아크릴레이트 60 kg 및 페닐티오에틸아크릴레이트 40 kg로 혼재되어 있다면, 도데칸디올 디메타아크릴레이트의 Wrn은 (60/100) X100= 60 이며, 페닐티오에틸아크릴레이트의 Wrn은 (40/100)X100= 40이다. Wr n is the weight percent of each monomer in the total monomer. For example, if the monomer used in the composition is mixed with 60 kg of dodecanediol dimethacrylate and 40 kg of phenylthioethylacrylate, Wr n of acrylate is (60/100) X100 = 60, and Wr n of phenylthioethyl acrylate is (40/100) X100 = 40.
본 발명에서, 방향족 탄화수소기를 갖는 광경화성 모노머는 Pcn 이 1 이상이며, Pcn 이 1 이상 5 이하 일 수 있고, 일 예에서 Pcn 이 1 이상, Pcn이 2 이상, Pcn이 3 이상 일 수 있으며; Pcn이 2 이상 5 이하일 수 있고, Pcn 이 1 이상 4 이하일 수 있고, Pcn 이 1 이상 3 이하일 수 있다. 상기 범위 내에서, 플라즈마 식각율이 낮아져 유기막이 손상되지 않아 소자의 신뢰성이 향상될 수 있는 동시에 공정상 유리한 효과를 나타낼 수 있다.
In the present invention, the photocurable monomer having an aromatic hydrocarbon group may have Pc n of 1 or more and Pc n of 1 or more and 5 or less. In one example, Pc n is 1 or more, Pc n is 2 or more, Pc n is 3 or more Lt; / RTI > Pc n may be 2 or more and 5 or less, Pc n may be 1 or more and 4 or less, and Pc n may be 1 or more and 3 or less. Within this range, the plasma etching rate is lowered so that the organic film is not damaged, the reliability of the device can be improved, and a favorable process effect can be obtained.
상기 방향족 탄화수소기를 갖는 광경화성 모노머 및/또는 방향족 탄화수소기를 갖지 않는 광경화성 모노머는 광중합 개시제에 의해 경화 반응할 수 있는 광경화성 모노머를 의미한다. 상기 광경화성 모노머는 실리콘(Si)을 포함하지 않는 비-실리콘계 모노머를 사용할 수 있으며, 예를 들어 C, H, O, N 또는 S에서 선택되는 원소 만으로 이루어진 모노머일 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 광경화성 모노머는 통상의 합성방법으로 합성하여 사용하거나 상업적으로 판매하는 제품을 구입하여 사용할 수 있다. The photo-curable monomer having no photo-curable monomer and / or aromatic hydrocarbon group having an aromatic hydrocarbon group means a photo-curable monomer capable of undergoing a curing reaction with a photo-polymerization initiator. The photo-curable monomer may be a non-silicon monomer that does not include silicon (Si), and may be, for example, a monomer consisting only of an element selected from C, H, O, N or S. Photocurable monomers can be synthesized by conventional synthesis methods or commercially available products can be purchased and used.
상기 방향족 탄화수소기를 갖는 광경화 모노머는 1종 또는 1종이상 혼합하여 사용할 수 있으며, 단일환 또는 축합환 형태를 포함하는 다환의 방향족기, 2개 이상의 방향족 단일환을 포함하는 탄화수소기 또는 2개 이상의 방향족 단일환을 포함하는 헤테로원자 함유 탄화수소기로서, 예를 들면 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 C7 내지 C30의 아릴알킬기 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 구체적으로 치환 또는 비치환된 페닐기, 치환 또는 비치환된 비페닐기, 치환 또는 비치환된 나프틸기, 치환 또는 비치환된 비페닐렌기, 치환 또는 비치환된 트리페닐메틸기, 치환 또는 비치환된 터페닐기, 치환 또는 비치환된 쿼터페닐기, 치환 또는 비치환된 안트라센기, 치환 또는 비치환된 페난트렌기, 치환 또는 비치환된 플루오렌기 및 치환 또는 비치환된 트리페닐렌기, 치환 또는 비치환된 테트라페닐렌기, 치환 또는 비치환된 2-페닐-2-(페닐티오)에틸기, 치환 또는 비치환된 3-페닐-2-(페닐티오)에틸기, 치환 또는 비치환된 2,2-디페닐프로판기, 치환 또는 비치환된 디페닐메탄기, 치환 또는 비치환된 비페닐옥시기, 치환 또는 비치환된 터페닐옥시기, 치환 또는 비치환된 쿼터페닐옥시기, 치환 또는 비치환된 퀸퀴페닐옥시기 및 이들의 구조적 이성질체 중 하나 이상일 수 있다. 구체적으로, 상기 방향족 탄화수소기는 2 이상의 고리가 인접한 구조를 포함할 수 있으며, 예를 들어 치환 또는 비치환된 비페닐기, 치환 또는 비치환된 트리페닐메틸기, 2-페닐-2-(페닐티오)에틸기 등를 포함할 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The photo-curable monomer having an aromatic hydrocarbon group may be used alone or in combination of two or more, and may be a polycyclic aromatic group containing a single ring or condensed ring, a hydrocarbon group containing two or more aromatic monocyclic rings, The hetero atom-containing hydrocarbon group containing an aromatic monovalent group may include, for example, at least one of a substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl group, and a substituted or unsubstituted C7 to C30 arylalkyl group. Specific examples include a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted biphenyl group, a substituted or unsubstituted naphthyl group, a substituted or unsubstituted biphenylene group, a substituted or unsubstituted triphenylmethyl group, a substituted or unsubstituted terphenyl group , A substituted or unsubstituted quaterphenyl group, a substituted or unsubstituted anthracene group, a substituted or unsubstituted pendantrene group, a substituted or unsubstituted fluorene group and a substituted or unsubstituted triphenylene group, a substituted or unsubstituted tetra Substituted or unsubstituted 2-phenyl-2- (phenylthio) ethyl group, a substituted or unsubstituted 3-phenyl-2- (phenylthio) ethyl group, a substituted or unsubstituted 2,2- , A substituted or unsubstituted diphenylmethane group, a substituted or unsubstituted biphenyloxy group, a substituted or unsubstituted terphenyloxy group, a substituted or unsubstituted quaterphenyloxy group, a substituted or unsubstituted quinphenyloxy group And their structural reason One of the body may be at least. Specifically, the aromatic hydrocarbon group may include a structure in which two or more rings are adjacent to each other, and examples thereof include a substituted or unsubstituted biphenyl group, a substituted or unsubstituted triphenylmethyl group, a 2-phenyl-2- (phenylthio) But are not limited thereto.
상기 방향족 탄화수소기를 갖는 모노머는 치환 또는 비치환된 비닐기 또는 (메트)아크릴기를 1 내지 20개, 구체적으로 1 내지 5개 포함할 수 있다.The monomer having an aromatic hydrocarbon group may contain 1 to 20, specifically 1 to 5, substituted or unsubstituted vinyl groups or (meth) acryl groups.
구체적으로, 상기 방향족 탄화수소기를 갖는 광경화성 모노머는 2-페닐페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 3-페닐페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 4-페닐페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 페닐(메트)아크릴레이트, 페녹시(메트)아크릴레이트, 2-에틸페녹시(메트)아크릴레이트, 3-에틸페녹시(메트)아크릴레이트, 4-에틸페녹시(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 페닐에틸 (메트)아크릴레이트, 페닐프로필(메트)아크릴레이트, 2,2'-페닐페녹시에틸디(메트)아크릴레이트, 2-페닐페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 3-페닐페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 4-페닐페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 2,2'-페닐페녹시프로필디(메트)아크릴레이트, 2-페닐페녹시부틸(메트)아크릴레이트, 2,2'-페닐페녹시부틸디(메트)아크릴레이트, 4-페닐부틸(메트)아크릴레이트, 2-페닐부틸(메트)아크릴레이트, 3-페닐부틸(메트)아크릴레이트, 2-(2-메틸페닐)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(3-메틸페닐)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(4-메틸페닐)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(4-프로필페닐)에틸 (메트)아크릴레이트, 2-(4-(1-메틸에틸)페닐)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(4-메톡시페닐)에틸 (메트)아크릴레이트, 2-(4-사이클로헥실페닐)에틸 (메트)아크릴레이트, 2-(2-클로로페닐)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(3-클로로페닐)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(4-클로로페닐)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(4-브로모페닐)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(3-페닐페닐)에틸(메트)아크릴레이트, 2-페닐-2-(페닐티오)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(트리페닐메틸옥시)에틸(메트)아크릴레이트, 4-(트리페닐메틸옥시)부틸(메트)아크릴레이트, 3-(비페닐-2-일옥시)부틸(메트)아크릴레이트, 2-(비페닐-2-일옥시)부틸(메트)아크릴레이트, 4-(비페닐-2-일옥시)프로필(메트)아크릴레이트, 3-(비페닐-2-일옥시)프로필(메트)아크릴레이트, 2-(비페닐-2-일옥시)프로필(메트)아크릴레이트, 4-(비페닐-2-일옥시)에틸(메트)아크릴레이트, 3-(비페닐-2-일옥시)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(4-벤질페닐)에틸(메트)아크릴레이트, 1-나프틸(메트)아크릴레이트, 2-나프틸(메트)아크릴레이트, 1,4-페닐렌디(메트)아크릴레이트, 비스페놀-에이디(메트)아크릴레이트, 에톡시레이티드비스페놀-에이디(메트)아크릴레이트, 비스페놀에프디(메트)아크릴레이트, 에톡시레이티드비스페놀에프디(메트)아크릴레이트, 4-큐밀페녹시에틸아크릴레이트, 에톡시레이티드비스페닐플루오렌디아크릴레이트 , 및 이들의 구조적 이성질체, 또는 이들의 혼합물을 포함할 수 있으나,이들로 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명의 상기 방향족 탄화수소기를 갖는 광경화성 모노머는 위에서 언급된 모노(메트)아크릴레이트와 중심 모이어티가 동일하나 대칭형태로 아크릴레이트가 말단에 추가 치환된 형태인 이들의 디(메트)아크릴레이트, 이들의 트리(메트)아크릴레이트, 테트라(메트)아크릴레이트 형태를 포함한다. Specifically, the photocurable monomer having an aromatic hydrocarbon group may be at least one selected from the group consisting of 2-phenylphenoxyethyl (meth) acrylate, 3-phenylphenoxyethyl (meth) acrylate, 4-phenylphenoxyethyl Ethyl (meth) acrylate, 2-ethylphenoxy (meth) acrylate, 3-ethylphenoxy (meth) acrylate, 4-ethylphenoxy (Meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenylethyl (meth) acrylate, phenylpropyl (meth) acrylate, 2,2'-phenylphenoxyethyl (Meth) acrylate, 2-phenylphenoxypropyl (meth) acrylate, 2-phenylphenoxypropyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, 2,2'-phenylphenoxybutyl di (meth) acrylate, 4-phen Butyl (meth) acrylate, 2- (2-methylphenyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (Meth) acrylate, 2- (4-methylphenyl) ethyl (meth) acrylate, 2- Acrylate, 2- (4-methoxyphenyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (4-cyclohexylphenyl) ethyl (Meth) acrylate, 2- (4-chlorophenyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (Triphenylmethyl) ethyl (meth) acrylate, 4- (triphenylmethyl) ethyl (meth) acrylate, 2- Oxy) butyl (meth) acrylate, 3- (biphenyl-2-yloxy) (Meth) acrylate, 3- (biphenyl-2-yloxy) butyl (meth) acrylate, 2- (Meth) acrylate, 3- (biphenyl-2-yloxy) ethyl (meth) acrylate, 2- (Meth) acrylate, 1-naphthyl (meth) acrylate, 2-naphthyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, bisphenol eddy (meth) acrylate, ethoxylated bisphenol FED (meth) acrylate, bisphenol A (meth) acrylate, Acrylate, 4-cumyl phenoxy ethyl acrylate, ethoxylated bisphenyl fluorene diacrylate, and structural isomers thereof, or mixtures thereof However, it not limited to these. The photo-curable monomer having an aromatic hydrocarbon group of the present invention may be a di (meth) acrylate having the same center moiety as the above-mentioned mono (meth) acrylate but having a symmetrical form in which acrylate is further substituted at the terminal Tri (meth) acrylate, tetra (meth) acrylate forms thereof.
또한, 본 발명에서 언급된 (메트)아크릴레이트는 일 예에 해당할 뿐 이로 한정되는 것은 아니며, 더욱이 본 발명은 구조 이성질체 관계에 있는 아크릴레이트를 모두 포함한다. 예를 들어, 본 발명의 일예로 1,4-페닐렌디(메트)아크릴레이트만 언급되어 있더라도, 본 발명은 1,2-페닐렌디(메트)아크릴레이트, 1,3-페닐렌디(메트)아크릴레이트를 모두 포함한다.In addition, the (meth) acrylate referred to in the present invention is not limited to only one example, and the present invention includes all acrylates having a structural isomer relationship. For example, although only 1,4-phenylene di (meth) acrylate is mentioned as an example of the present invention, the present invention relates to 1,2-phenylene di (meth) acrylate, 1,3- Rate.
다만, 본 발명에서, i) 방향족 탄화수소기를 갖는 모노머가 1종만 사용될 경우 방향족 탄화수소기를 갖는 모노머는 Pcn-Ocn≥1을 만족하며, ii) 방향족 탄화수소기를 갖는 모노머를 2종 이상 사용할 경우 이들의 혼합물은 ∑(Pcn-Ocn)≥1을 만족하는 것이 바람직하다. . However, in the present invention, when i) only one monomer having an aromatic hydrocarbon group is used, the monomer having an aromatic hydrocarbon group satisfies Pc n -Oc n? 1, and ii) when two or more kinds of monomers having an aromatic hydrocarbon group are used, It is preferable that the mixture satisfies? (Pc n -Oc n )? 1. .
상기 방향족 탄화수소기를 갖는 모노머는 광경화성 모노머 총 중량에 대하여 5 중량% 내지 50 중량%, 구체적으로 10 중량% 내지 45 중량%, 30 중량% 내지 50 중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위 내에서 내플라즈마성이 우수할 수 있다.
The monomer having an aromatic hydrocarbon group may be contained in an amount of 5 wt% to 50 wt%, specifically 10 wt% to 45 wt%, and 30 wt% to 50 wt% based on the total weight of the photocurable monomer. The plasma resistance within the above range can be excellent.
본 발명에서, 상기 방향족 탄화수소기를 갖는 광경화성 모노머의 중량평균분자량은 100.00g/mol 이상 1000.00g/mol이하 일 수 있으며, 100.00g/mol 이상 300.00g/mol이하, 130.00g/mol 이상 700.00g/mol이하, 150.00g/mol 이상 600.00g/mol이하 일 수 있다. 상기 범위 내에서 공정적으로 유리한 효과를 나타낼 수 있다.
In the present invention, the photo-curable monomer having an aromatic hydrocarbon group may have a weight average molecular weight of 100.00 g / mol to 1000.00 g / mol, more preferably 100.00 g / mol to 300.00 g / mol, mol or less, and 150.00 g / mol or more and 600.00 g / mol or less. It is possible to exhibit a process advantageous effect within the above range.
상기 방향족 탄화수소기를 가지지 않는 광경화성 모노머는 방향족 탄화수소기를 포함하지 않으며, 치환 또는 비치환된 비닐기 또는 (메트)아크릴기를 1 내지 20개, 구체적으로 1 내지 5개 포함할 수 있으며, 1종 이상을 혼합하여 사용할 수 도 있다.The photo-curable monomer not having an aromatic hydrocarbon group does not contain an aromatic hydrocarbon group and may contain 1 to 20, specifically 1 to 5, substituted or unsubstituted vinyl or (meth) acryl groups, It may be used in combination.
구체적으로 방향족 탄화수소기를 가지지 않는 (메트)아크릴레이트 모노머는 메틸 (메트)아크릴레이트, 에틸 (메트)아크릴레이트, 부틸 (메트)아크릴레이트, 2-히드록시에틸 (메트)아크릴레이트, 2-히드록시부틸 (메트)아크릴레이트, 헥실 (메트)아크릴레이트, 옥틸 (메트)아크릴레이트, 노닐 (메트)아크릴레이트, 데카닐 (메트)아크릴레이트, 운데카닐 (메트)아크릴레이트, 도데실 (메트)아크릴레이트, 시클로헥실 (메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산 에스테르를 포함하는 불포화 카르본산 에스테르; 2-아미노에틸 (메트)아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸 (메트)아크릴레이트 등의 불포화 카르본산 아미노 알킬 에스테르; 비닐 아세테이트 등의 포화 또는 불포화 카르본산 비닐 에스테르; (메트)아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물; (메트)아크릴아미드 등의 불포화 아미드 화합물; 에틸렌 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메트)아크릴레이트, 옥탄디올 디(메트)아크릴레이트, 노난디올 디(메트)아크릴레이트, 데칸디올 디(메트)아크릴레이트, 운데칸디올 디(메트)아크릴레이트, 도데칸디올 디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 디(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트 또는 이들의 혼합물을 포함할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다Specifically, the (meth) acrylate monomers having no aromatic hydrocarbon group include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) (Meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decanyl Unsaturated carboxylic acid esters including (meth) acrylic acid esters such as cyclohexyl (meth) acrylate; Unsaturated carboxylic acid aminoalkyl esters such as 2-aminoethyl (meth) acrylate and 2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate; Saturated or unsaturated carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate; A vinyl cyanide compound such as (meth) acrylonitrile; Unsaturated amide compounds such as (meth) acrylamide; Acrylates such as ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, 1,4-butanediol di ) Acrylate, octanediol di (meth) acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, decanediol di (meth) acrylate, undecanediol di , Neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol di (Meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) Agent or may comprise a mixture thereof, but are not limited to,
상기 방향족 탄화수소기를 가지지 않는 광경화성 모노머는 방향족 탄화수소기를 가지지 않는 (메트)아크릴레이트 모노머일 수 있으며, 구체적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬 실릴기, 치환 또는 비치환된 시클로알킬기 등을 갖는 모노(메트)아크릴레이트, 디(메트)아크릴레이트, 트리(메트)아크릴레이트, 테트라(메트)아크릴레이트 등일 수 있다.The photocurable monomer having no aromatic hydrocarbon group may be a (meth) acrylate monomer having no aromatic hydrocarbon group, and specifically, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylsilyl group (Meth) acrylate, tri (meth) acrylate, tetra (meth) acrylate and the like having a substituted or unsubstituted cycloalkyl group and the like.
본 발명의 일예에서, 상기 방향족 탄화수소기를 가지지 않는 (메트)아크릴레이트 모노머는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬기를 갖는 모노(메트)아크릴레이트, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬렌기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬기를 갖는 디(메트)아크릴레이트, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬렌기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬기를 갖는 트리(메트)아크릴레이트, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬렌기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬기를 갖는 테트라(메트)아크릴레이트 또는 이들의 혼합물일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the (meth) acrylate monomer having no aromatic hydrocarbon group is a mono (meth) acrylate having a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group or Di (meth) acrylate having a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a tri (meth) acrylate having a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, (Meth) acrylate having a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, or a mixture thereof.
본 발명의 일예에서는 상기 방향족 탄화수소기를 가지지 않는 (메트)아크릴레이트 모노머는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬기를 갖는 모노(메트)아크릴레이트, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬렌기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬기를 갖는 디(메트)아크릴레이트일 수 있다. 구체적으로, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬기를 갖는 모노(메트)아크릴레이트는 데실(메트)아크릴레이트, 운데실(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 트리데실(메트)아크릴레이트, 테트라데실(메트)아크릴레이트, 펜타데실(메트)아크릴레이트, 헥사데실 (메트)아크릴레이트, 헵타데실(메트)아크릴레이트, 옥타데실(메트)아크릴레이트, 노나데실(메트)아크릴레이트, 아라키딜(메트)아크릴레이트 또는 이들의 혼합물일 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬기를 갖는 디(메트)아크릴레이트는 옥탄디올디(메트)아크릴레이트, 노난디올디(메트)아크릴레이트, 데칸디올디(메트)아크릴레이트, 운데칸디올디(메트)아크릴레이트, 도데칸디올디(메트)아크릴레이트 또는 이들의 혼합물일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.In one embodiment of the present invention, the (meth) acrylate monomer having no aromatic hydrocarbon group is a mono (meth) acrylate having a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group or a substituted Or a di (meth) acrylate having an unsubstituted C1 to C20 alkyl group. Specifically, the mono (meth) acrylate having a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group is preferably selected from decyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tridecyl (Meth) acrylate, hexadecyl (meth) acrylate, heptadecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, nonadecyl (meth) , Arachidyl (meth) acrylate, or mixtures thereof. The di (meth) acrylate having a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group may be at least one selected from the group consisting of octanediol di (meth) acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, decanediol di (meth) acrylate, undecanediol (Meth) acrylate, dodecanediol (meth) acrylate, or mixtures thereof.
상기 방향족 탄화수소기를 가지지 않는 광경화성 모노머는 본 발명의 조성물에 포함된 광경화성 모노머 총 중량에 대하여 30 중량% 내지 95 중량%, 구체적으로 50 중량% 내지 70 중량%로 포함될 수 있다. The photocurable monomer having no aromatic hydrocarbon group may be contained in an amount of 30% by weight to 95% by weight, specifically 50% by weight to 70% by weight, based on the total weight of the photocurable monomer contained in the composition of the present invention.
본 발명에서, 방향족 탄화수소기를 가지지 않는 광경화성 모노머의 중량평균 분자량은 100.00 g/mol이상 500.00g/mol이하 일 수 있으며, 100.00g/mol 이상 300.00g/mol이하, 130.00g/mol 이상 400.00g/mol이하 일 수 있다. 상기 범위 내에서 공정적으로 보다 유리한 효과를 나타낼 수 있다.In the present invention, the photo-curable monomer having no aromatic hydrocarbon group may have a weight average molecular weight of from 100.00 g / mol to 500.00 g / mol and from 100.00 g / mol to 300.00 g / mol, from 130.00 g / mol to 400.00 g / mol. < / RTI > It is possible to exhibit a more advantageous effect in the process within the above range.
본 발명의 일 예에서, 상기 광경화성 모노머 중 방향족 탄화수소기를 갖는 광경화성 모노머를 5중량% 내지 50중량%로 포함하고, 상기 광경화성 모노머 중 상기 방향족 탄화수소기를 가지지 않는 광경화성 모노머를 50 중량% 내지 95 중량%로 포함하는 광경화 조성물일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the photo-curable monomer comprises 5 wt% to 50 wt% of a photo-curable monomer having an aromatic hydrocarbon group, and the photo-curable monomer having no aromatic hydrocarbon group in the photo- To 95% by weight of the composition.
본 발명의 일 예에서, 상기 광경화성 모노머 중 방향족 탄화수소기를 갖는 광경화성 모노머를 30 중량% 내지 50 중량%로 포함하고, 상기 광경화성 모노머 중 상기 방향족 탄화수소기를 가지지 않는 광경화성 모노머를 50 중량% 내지 70 중량%로 포함하는 광경화 조성물일 수 있다.
In one embodiment of the present invention, the photocurable monomer comprises 30% by weight to 50% by weight of a photocurable monomer having an aromatic hydrocarbon group, and the photocurable monomer having no aromatic hydrocarbon group in the photocurable monomer is contained in an amount of 50% To 70% by weight of the composition.
상기 범위 내에서 광경화 조성물의 점도가 유기 전계 발광 소자의 봉지층 형성에 적절할 수 있다.
Within this range, the viscosity of the photocurable composition may be suitable for forming the sealing layer of the organic electroluminescent device.
상기 광중합 개시제는 광경화성 반응을 수행할 수 있는 통상의 광중합 개시제를 제한 없이 포함한다. 예를 들어, 광중합 개시제는 트리아진계, 아세토페논계, 벤조페논계, 티오크산톤계, 벤조인계, 인계, 옥심계 또는 이들의 혼합물을 포함할 수 있다.The photopolymerization initiator includes, without limitation, conventional photopolymerization initiators capable of carrying out a photocurable reaction. For example, the photopolymerization initiator may include triazine, acetophenone, benzophenone, thioxanthone, benzoin, phosphorus, oxime, or a mixture thereof.
트리아진계 개시제로는 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(3',4'-디메톡시 스티릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시 나프틸)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시 페닐)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(p-톨릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-비페닐-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 비스(트리클로로 메틸)-6-스티릴-s-트리아진, 2-(나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시 나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2,4-트리클로로 메틸(피페로닐)-6-트리아진, 2,4-(트리클로로 메틸(4'-메톡시 스티릴)-6-트리아진 또는 이들의 혼합물일 수 있다.Triazine initiators include 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s- triazine, 2- (3 ', 4'-dimethoxy (Trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4'-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) Bis (trichloromethyl) -6-styryl-s-triazine, 2- (naphtho-1-yl) -4,6 (Trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxynaphtho-1-yl) -4,6-bis Methyl (piperonyl) -6-triazine, 2,4- (trichloromethyl (4'-methoxystyryl) -6-triazine or mixtures thereof.
아세토페논계 개시제로는, 2,2'-디에톡시 아세토페논, 2,2'-디부톡시 아세토페논, 2-히드록시-2-메틸 프로피오페논, p-t-부틸 트리클로로 아세토페논, p-t-부틸 디클로로 아세토페논, 4-클로로 아세토페논, 2,2'-디클로로-4-페녹시 아세토페논, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모폴리노 프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸 아미노-1-(4-모폴리노 페닐)-부탄-1-온, 이들의 혼합물일 수 있다.Examples of the acetophenone-based initiator include 2,2'-diethoxyacetophenone, 2,2'-dibutoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, pt-butyltrichloroacetophenone, Dichloroacetophenone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1-one , 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, and mixtures thereof.
벤조페논계 개시제로는 벤조페논, 벤조일 안식향산, 벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 히드록시 벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸 아미노)벤조페논, 4,4'-디클로로 벤조페논, 3,3'-디메틸-2-메톡시 벤조페논 또는 이들의 혼합물일 수 있다. Examples of the benzophenone type initiator include benzophenone, benzoyl benzoic acid, benzoyl benzoate, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, acrylated benzophenone, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'- Benzophenone, 3,3'-dimethyl-2-methoxybenzophenone, or a mixture thereof.
티오크산톤계 개시제로는 티오크산톤, 2-메틸 티오크산톤, 이소프로필 티오크산톤, 2,4-디에틸 티오크산톤, 2,4-디이소프로필 티오크산톤, 2-클로로 티오크산톤 또는 이들의 혼합물일 수 있다.Examples of the thioxanthone initiator include thioxanthone, 2-methylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, 2- Lt; / RTI > or a mixture thereof.
벤조인계 개시제로는 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, 벤질 디메틸 케탈 또는 이들의 혼합물일 수 있다.The benzoin based initiator may be benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyl dimethyl ketal or a mixture thereof.
인계 개시제로는 비스벤조일페닐 포스핀옥시드, 벤조일디페닐 포스핀옥시드 또는 이들의 혼합물이 될 수 있다.The initiator initiator may be bisbenzoylphenylphosphine oxide, benzoyldiphenylphosphine oxide or a mixture thereof.
옥심계로는 2-(o-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온 및 1-(o-아세틸옥심)-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄온, 또는 이들의 혼합물일 수 있다.The oxime system was prepared by reacting 2- (o-benzoyloxime) -1- [4- (phenylthio) phenyl] -1,2-octanedione and 1- (o-acetyloxime) 2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] ethanone, or a mixture thereof.
상기 광중합 개시제는 광경화 조성물 중 광경화성 모노머와 광중합 개시제의 합계 100중량부에 대하여 0.1중량부 내지 20중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위 내에서, 노광시 광중합이 충분히 일어날 수 있고, 광중합 후 남은 미반응 개시제로 인하여 투과율이 저하되는 것을 막을 수 있다. 구체적으로 0.5 내지 10중량부, 보다 구체적으로 1 내지 8중량부로 포함될 수 있다. 또한, 상기 광중합 개시제는 상기 광경화 조성물 중 고형분 기준으로 0.1중량% 내지 5중량%, 구체적으로 0.1중량% 내지 4중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 광중합이 충분히 일어날 수 있고, 남은 미반응 개시제로 인해 투과율이 저하되는 것을 막을 수 있다.The photopolymerization initiator may be included in the photocurable composition in an amount of 0.1 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the photocurable monomer and the photopolymerization initiator. Within the above range, photopolymerization can sufficiently take place at the time of exposure, and the transmittance can be prevented from being lowered due to the unreacted initiator remaining after the photopolymerization. Specifically 0.5 to 10 parts by weight, more specifically 1 to 8 parts by weight. The photopolymerization initiator may be contained in the photocurable composition in an amount of 0.1% by weight to 5% by weight, specifically 0.1% by weight to 4% by weight, based on the solids content. Within this range, photopolymerization can sufficiently take place, and the transmittance can be prevented from being lowered due to the remaining unreacted initiator.
또한, 상기 광중합 개시제 대신에, 카바졸계, 디케톤류, 술포늄계, 요오드늄계, 디아조계, 비이미다졸계 등의 광산 발생제 또는 광중합 개시제를 사용할 수도 있다.In place of the photopolymerization initiator, photoacid generators such as carbazole, diketone, sulfonium, iodonium, diazo, and imidazole, or photopolymerization initiators may be used.
본 발명 다른 실시예에 따른 광경화 조성물은 산화 방지제를 더 포함할 수 있다.The photocurable composition according to another embodiment of the present invention may further include an antioxidant.
산화 방지제는 봉지층의 열적 안정성을 향상시킬 수 있다. 산화 방지제는 페놀계, 퀴논계, 아민계 및 포스파이트계로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있지만, 이들에 제한되는 것은 아니다. 예를 들면, 산화 방지제는 테트라키스[메틸렌(3,5-디-t-부틸-4-히드록시히드로신나메이트)]메탄, 트리스(2,4-디-터트-부틸페닐)포스파이트 등을 들 수 있다.The antioxidant can improve the thermal stability of the sealing layer. The antioxidant may include, but is not limited to, at least one selected from the group consisting of phenol-based, quinone-based, amine-based, and phosphite-based antioxidants. For example, the antioxidant may be tetrakis [methylene (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyhydrocinnamate)] methane, tris (2,4-di- .
산화 방지제는 상기 광경화 조성물 중 광경화성 모노머와 광중합 개시제의 합계 100중량부에 대하여 0.01중량부 내지 3중량부, 구체적으로는 0.01중량부 내지 1중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 우수한 열 안정성을 나타낼 수 있다.The antioxidant may be contained in an amount of 0.01 to 3 parts by weight, specifically 0.01 to 1 part by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the photocurable monomer and the photopolymerization initiator in the photocurable composition. Within this range, excellent thermal stability can be exhibited.
상기 광경화 조성물은 자외선을 10 내지 500mW/㎠에서 1초 내지 100초 동안 조사하여 경화할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.The photocurable composition can be cured by irradiating ultraviolet rays at 10 to 500 mW / cm 2 for 1 second to 100 seconds, but is not limited thereto.
상기 광경화 조성물은 경화 후 플라즈마에 의한 식각률이 12% 이하, 구체적으로 0% 내지 10%, 보다 구체적으로 0% 내지 8.0%일 수 있다. 상기 범위에서 경화 후 내플라즈마성이 우수하여 신뢰성 있는 유기 보호층을 구현할 수 있다.The photocurable composition may have an etch rate by plasma after curing of 12% or less, specifically 0% to 10%, more specifically 0% to 8.0%. In the above range, plasma protection after curing is excellent and a reliable organic protective layer can be realized.
상기 식각률은 광경화 조성물을 특정 두께(T0)로 증착하여 경화시켜 유기 보호층을 형성하고, 여기에 플라즈마 처리한 후의 유기 보호층의 두께(T1)을 측정하여 하기 식 2에 의하여 계산하여 나타낼 수 있다.The etching rate can be calculated by the following formula (2) by measuring the thickness (T1) of the organic protective layer after the plasma treatment by forming the organic protective layer by depositing and curing the photocurable composition to a specific thickness (T0) have.
<식 2><Formula 2>
플라즈마 식각률(%) = { (T0 - T1) / T0 } × 100Plasma etching rate (%) = {(T0 - T1) / T0} × 100
상기 식각률은 예를 들어 실리콘 웨이퍼 위에 상기 광경화 조성물을 스프레이로 도포하고 자외선을 100J/㎠로 10초 동안 조사하여 경화시킨 도막 두께 5㎛의 시편을 형성한다. ICP dry etcher(Plasma lab system 133, Oxford instruments사)를 사용하여 ICP power 2500W, RF power 300W, DC bias 200V, Ar flow 50 sccm, 압력 10mtorr 조건에서 아르곤 가스를 1분간 드라이 에칭한다. 플라즈마 식각률은 드라이 에칭 실시 전의 유기 보호층의 두께(T0)와 실시 후의 유기 보호층의 두께(T1)를 측정하여 상기 식 2에 의하여 계산할 수 있다.The etching rate is measured by, for example, applying the photocurable composition onto a silicon wafer by spraying and irradiating ultraviolet rays at 100 J / cm 2 for 10 seconds to form a specimen having a coating film thickness of 5 탆. Using an ICP dry etcher (Plasma lab system 133, Oxford instruments), dry the argon gas for 1 minute under conditions of ICP power 2500 W, RF power 300 W, DC bias 200 V, Ar flow 50 sccm, and
본 발명의 광경화 조성물은 플렉서블 유기 전계 발광 소자, 유기 전계 발광 소자, 조명 장치, 금속 센서 패드, 마이크로디스크 레이저, 전기변색 장치, 광변색 장치, 마이크로전자기계 시스템, 태양전지, 집적 회로, 전하 결합 장치, 발광 중합체 의 봉지제용 광경화 조성물일 수 있다.
The photocurable composition of the present invention can be applied to a flexible organic electroluminescent device, an organic electroluminescent device, an illumination device, a metal sensor pad, a micro disk laser, an electrochromic device, a photochromic device, a microelectromechanical system, a solar cell, Device, a photocurable composition for encapsulating an emissive polymer.
본 발명의 일 실시예에 따른 광경화 조성물은 유기 전계 발광소자(organic lighting emitting diode, OLED), LED(light emitting diode), OLED 또는 LED 조명 중 선택된 디스플레이 봉지제용인 광경화 조성물일 수 있다.
The photocurable composition according to an exemplary embodiment of the present invention may be a photocurable composition for a display encapsulation material selected from an organic light emitting diode (OLED), a light emitting diode (LED), an OLED, or an LED illumination.
본 발명 실시예들에 따른 광경화 조성물은 유기 전계 발광 소자의 봉지재로서 사용될 수 있다. 구체적으로, 유기 전계 발광 소자가 주변 환경, 예를 들어 액체 또는 기체, 구체적으로 수분 또는 산소에 의하여 손상되거나, 유기 전계 발광 소자를 포함하는 장치의 제조 공정에서 사용되는 화학물질에 의하여 손상되거나 특성이 열화되는 것을 방지하기 위하여 유기 전계 발광 소자를 주변 환경으로부터 차단시키는 유기 보호층을 형성하는 봉지재로서 사용될 수 있다. The photocurable composition according to embodiments of the present invention can be used as an encapsulant of an organic electroluminescent device. Specifically, when the organic electroluminescent device is damaged or deteriorated by a chemical substance used in a manufacturing process of an apparatus including the organic electroluminescent device, for example, the organic electroluminescent device is damaged by the surrounding environment such as liquid or gas, specifically moisture or oxygen It can be used as an encapsulant for forming an organic protective layer that shields the organic electroluminescent device from the surrounding environment to prevent deterioration.
본 발명 실시예들에 따른 광경화 조성물은 유기 전계 발광 소자 상에 형성되는 유기 보호층, 또는 유기 전계 발광 소자 상에 형성된 무기 보호층 상에 형성되는 유기 보호층을 형성하는 용도로 사용될 수 있다. 상기 유기 보호층은 증착, 잉크젯 등의 방법 을 사용하여 형성될 수 있으나 이에 한정되지 않는다.
The photocurable composition according to embodiments of the present invention can be used to form an organic protective layer formed on an organic electroluminescent device or an organic protective layer formed on an inorganic protective layer formed on an organic electroluminescent device. The organic protective layer may be formed using a method such as vapor deposition, ink jet, or the like, but is not limited thereto.
본 발명 실시예들에 따른 광경화 조성물은 장치용 부재의 봉지재로서 사용될 수 있다. 구체적으로, 장치용 부재가 주변 환경, 예를 들어 액체 또는 기체, 구체적으로 수분 또는 산소에 의하여 손상되거나, 유기 전계 발광 소자를 포함하는 장치의 제조 공정에서 사용되는 화학물질에 의하여 손상되거나 특성이 열화되는 것을 방지하기 위하여 장치용 부재를 주변 환경으로부터 차단시키는 유기 보호층을 형성하는 봉지재로서 사용될 수 있다. 상기 장치용 부재는 예를 들어 플렉서블 유기 전계 발광 소자, 유기 전계 발광 소자, 조명 장치, 금속 센서 패드, 마이크로디스크 레이저, 전기변색 장치, 광변색 장치, 마이크로전자기계 시스템, 태양전지, 집적 회로, 전하 결합 장치, 발광 중합체, 발광 다이오드 등일 수 있으나 이에 한정되지 않는다.
The photocurable composition according to embodiments of the present invention can be used as an encapsulant of a member for an apparatus. Specifically, when a member for an apparatus is damaged by a surrounding environment, for example, a liquid or gas, specifically moisture or oxygen, or is damaged or deteriorated in properties by chemicals used in a manufacturing process of an apparatus including an organic electroluminescent device The sealing member can be used as an encapsulant to form an organic protective layer that shields the device member from the surrounding environment. The device member may be, for example, a flexible organic electroluminescent device, an organic electroluminescent device, a lighting device, a metal sensor pad, a microdisk laser, an electrochromic device, a photochromic device, a microelectromechanical system, a solar cell, Bonding devices, light emitting polymers, light emitting diodes, and the like.
본 발명 일실시예에 따른 봉지화된 장치는 장치용 부재, 및 상기 장치용 부재 위에 형성된 보호층을 포함하고, 상기 보호층은 무기보호층 및 유기보호층을 포함하고, 상기 유기보호층은 본 발명 실시예들의 광경화 조성물로 형성될 수 있다.An encapsulated device according to an embodiment of the present invention includes a member for an apparatus, and a protective layer formed on the member for the apparatus, wherein the protective layer includes an inorganic protective layer and an organic protective layer, Curable composition of the invention embodiments.
이하, 도 1을 참조하여 본 발명 일실시예의 봉지화된 장치를 설명한다. Hereinafter, an encapsulated device of one embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
도 1은 본 발명 일실시예의 봉지화된 장치의 단면도이다. 본 실시예의 봉지화된 장치(100)는 기판(10), 기판(10) 위에 형성된 장치용 부재(20), 및 장치용 부재 (20) 위에 형성되고 무기보호층(31)과 유기보호층(32)을 포함하는 복합보호층(30)을 포함하고, 무기보호층(31)은 장치용 부재(20)와 접촉하는 상태로 형성되고, 유기보호층(32)은 본 발명 실시예들의 광경화 조성물로 형성될 수 있다.1 is a cross-sectional view of an encapsulated device of one embodiment of the present invention. The encapsulated
상기 장치용 부재는 플렉서블 유기 전계 발광 소자, 유기 전계 발광 소자, 조명 장치, 금속 센서 패드, 마이크로디스크 레이저, 전기변색 장치, 광변색 장치, 마이크로전자기계 시스템, 태양전지, 집적 회로, 전하 결합 장치, 발광 중합체 등일 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 본 발명의 일예에서, 장치용 부재는 유기 전계 발광 소자(OLED), LED(light emitting diode), OLED 조명 장치, LED 조명장치중 하나 일 수 있다. The device member may be a flexible organic electroluminescent device, an organic electroluminescent device, an illumination device, a metal sensor pad, a micro disk laser, an electrochromic device, a photochromic device, a micro electro mechanical system, a solar cell, A light emitting polymer, and the like. In an embodiment of the present invention, the device member may be one of an organic electroluminescent device (OLED), a light emitting diode (LED), an OLED lighting device, and an LED lighting device.
기판(10)은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 투명 유리, 플라스틱 필름, 실리콘 또는 금속 기판 등을 사용할 수 있다..The
장치용 부재(20)는 예를 들어 유기 전계 발광 소자일 수 있으며, 제1전극, 제2전극, 제1전극과 제2전극 사이에 형성된 유기발광층을 포함하고, 유기발광층은 홀 주입층, 홀 수송층, 발광층, 전자 수송층, 전자 주입층이 순차적으로 적층된 것일 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.The
복합보호층(30)은 무기보호층(31)과 유기보호층(32)을 포함하고, 무기보호층(31)과 유기보호층(32)은 층을 구성하는 성분이 상이하여 각각이 장치용 부재의 봉지재로서 작용할 수 있다.The composite protective layer 30 includes an inorganic
무기보호층(31)은 유기보호층(32)과 성분이 상이하며, 유기보호층(32)의 효과를 보완할 수 있다. 무기보호층(31)은 광투과성이 우수하고, 수분 및/또는 산소 차단성이 우수한 무기 소재로 형성될 수 있다. 예를 들면, 무기보호층(31)은 금속, 비금속, 금속간 화합물 또는 합금, 비금속간 화합물 또는 합금, 금속 또는 비금속의 산화물, 금속 또는 비금속의 불화물, 금속 또는 비금속의 질화물, 금속 또는 비금속의 탄화물, 금속 또는 비금속의 산소질화물, 금속 또는 비금속의 붕소화물, 금속 또는 비금속의 산소붕소화물, 금속 또는 비금속의 실리사이드, 또는 이들의 혼합물일 수 있다. 금속 또는 비금속은 실리콘(Si), 알루미늄(Al), 셀레늄(Se), 아연(Zn), 안티몬(Sb), 인듐(In), 게르마늄(Ge), 주석(Sn), 비스무트(Bi), 전이금속, 란탄족 금속 등이 될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 구체적으로, 무기보호층은 실리콘 산화물(SiOx), 실리콘 질화물(SiNx), 실리콘 산소 질화물(SiOxNy), ZnSe, ZnO, Sb2O3, Al2O3 등을 포함하는 AlOx, In2O3, SnO2일 수 있다. 상기에서 x, y는 각각 1~5이다.The inorganic
무기보호층(31)은 플라즈마 공정, 진공 공정, 예를 들면 스퍼터링, 화학기상증착, 플라즈마화학기상증착, 증발, 승화, 전자사이클로트론공명-플라즈마증기증착 및 이들의 조합을 통하여 증착될 수 있다.The inorganic
무기보호층(31)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 100-2000Å일 수 있다.The thickness of the inorganic
유기보호층(32)은 본 발명 실시예들의 광경화 조성물의 증착, 잉크젯, 스크린 인쇄, 스핀 코팅, 블레이드 코팅, 경화 단독 또는 이들의 조합에 의해 형성될 수 있다. 예를 들면, 광경화 조성물을 1㎛ 내지 50㎛ 두께로 코팅하고, 10 내지 500mW/㎠에서 1초 내지 100초 동안 조사하여 경화시킬 수 있다.The organic
도 1에서 도시되지 않았지만, 유기보호층과 무기보호층은 3층 이상 교대로 증착될 수 있다. 유기보호층이 2 이상의 무기보호층 사이에 증착되는 경우 무기보호층의 평활화 특성을 확보하고, 무기보호층의 결함이 또 다른 무기보호층으로 전파되는 것을 막을 수 있다. 또한 2 이상의 유기보호층 사이에 증착되는 무기보호층은 장치에 대한 봉지 효과를 보완 또는 강화할 수 있다.Although not shown in FIG. 1, the organic protective layer and the inorganic protective layer may be deposited in three or more layers alternately. When the organic protective layer is deposited between two or more inorganic protective layers, the smoothing property of the inorganic protective layer can be ensured and defects in the inorganic protective layer can be prevented from propagating to another inorganic protective layer. In addition, the inorganic protective layer deposited between two or more organic protective layers can complement or enhance the sealing effect on the device.
복합보호층(30)은 무기보호층(31)과 유기보호층(32)을 교대로 포함하되, 무기보호층(31)과 유기보호층(32)의 총 개수는 제한되지 않는다. 무기보호층(31)과 유기보호층(32)의 총 개수는 산소 및/또는 수분 및/또는 수증기 및/또는 화학 물질에 대한 투과 저항성의 수준에 따라 변경할 수 있다. 예를 들면, 무기보호층(31)과 유기보호층(32)의 총 개수는 10층 이하, 예를 들면 2 내지 7층이 될 수 있고, 구체적으로 무기보호층/유기보호층/무기보호층/유기보호층/무기보호층/유기보호층/무기보호층의 순서로 7층으로 형성될 수 있다.The composite protective layer 30 includes the inorganic
상기 봉지화된 장치는 아웃가스 발생량이 2000ppm 이하일 수 있다. 상기 범위 내에서, 장치용 부재의 수명이 길어져 신뢰성이 높아질 수 있으며, 구체적으로는 10ppm 내지 1000ppm일 수 있다.The encapsulated device may have an outgassing amount of 2000 ppm or less. Within this range, the lifetime of the member for the device can be prolonged and reliability can be enhanced, specifically 10 ppm to 1000 ppm.
이하, 도 2를 참조하여 본 발명 다른 실시예의 봉지화된 장치를 설명한다. 도 2는 본 발명 다른 실시예의 봉지화된 장치의 단면도이다.Hereinafter, an encapsulated device of another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 2 is a cross-sectional view of an encapsulated device of another embodiment of the present invention.
도 2를 참조하면, 본 발명 다른 실시예의 봉지화된 장치 (200)는 기판(10), 기판(10) 위에 형성된 장치용 부재(20), 및 장치용 부재(20) 위에 형성되고 무기보호층(31)과 유기보호층(32)을 포함하는 복합보호층(30)을 포함하고, 무기보호층(31)은 장지용 부재(20)가 수용된 내부 공간(40)을 봉지하고, 유기보호층(32)은 본 발명 실시예들의 광경화 조성물로 형성될 수 있다. 무기보호층(31)이 장치용 부재(20)와 접촉하지 않은 점을 제외하고는 상술한 본 발명 일 실시예의 유기발광소자 표시장치와 실질적으로 동일하므로 기술을 생략한다.2, an encapsulated
이하, 실시예, 비교예 및 시험예를 들어 본 발명의 구성 및 효과를 보다 구체적으로 설명한다. 그러나 이들 실시예, 비교예 및 시험예는 본 발명에 대한 이해를 돕기 위해 예시의 목적으로만 제공된 것일 뿐 본 발명의 범주 및 범위가 하기 실시예, 비교예 및 시험예에 의해 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the constitution and effects of the present invention will be described in more detail with reference to examples, comparative examples and test examples. However, these examples, comparative examples and test examples are provided for illustrative purposes only in order to facilitate understanding of the present invention, and the scope and scope of the present invention are not limited by the following examples, comparative examples and test examples.
제조예 1Production Example 1
냉각관과 교반기를 구비한 3000㎖ 반응기에 디클로로메탄(dichloromethane, 시그마알드리치사) 300㎖를 넣고, 4-히드록시부틸아크릴레이트(4-hydroxibutyl acrylate, 신나까무라사) 200g과 트리에틸아민 168g을 넣고, 플라스크 내 온도를 0℃로 내린 후 p-톨루엔설포닐클로라이드(p-toluene sulfonyl chloride, 시그마알드리치사) 278g을 디클로로메탄 500㎖에 녹인 용액을 2시간 동안 적하하며 교반하였다. 추가로 5시간 교반 후 잔류 용매를 증류로 제거하였다. 얻어진 화합물 300g을 아세토니트릴(acetonitrile, 시그마알드리치사) 1000㎖에 넣고 포타슘카보네이트(potassium carbonate, Aldrich사) 220g과 2-페닐페놀(2-phenylphonol, 시그마알드리치사) 141g을 추가하고 80℃에서 교반하였다. 잔류 용매와 반응 잔류물을 제거하여, 하기 화학식 1의 화합물(분자량 296.36)을 HPLC 순도 93%로 얻었다. 300 ml of dichloromethane (Sigma Aldrich) was added to a 3000 ml reactor equipped with a cooling tube and a stirrer, 200 g of 4-hydroxibutyl acrylate (Shin-Nakamura) and 168 g of triethylamine were added , The temperature in the flask was lowered to 0 캜, and a solution of 278 g of p-toluene sulfonyl chloride (Sigma Aldrich) in 500 ml of dichloromethane was added dropwise over 2 hours and stirred. After further stirring for 5 hours, the residual solvent was removed by distillation. 300 g of the obtained compound was placed in 1000 ml of acetonitrile (Sigma Aldrich), 220 g of potassium carbonate (Aldrich) and 141 g of 2-phenylphenol (Sigma Aldrich) were added and stirred at 80 캜 . The residual solvent and the reaction residue were removed to obtain a compound of the following formula (molecular weight: 296.36) having an HPLC purity of 93%.
<화학식 1>≪ Formula 1 >
제조예 2Production Example 2
냉각관과 교반기를 구비한 1000㎖ 반응기에 디클로로메탄(dichloromethane, 시그마알드리치사) 200㎖를 넣고, 벤젠티올(benzene thiol, Aldrich 사) 100g과 스티렌옥사이드(styrene oxide, 시그마알드리치사) 109g을 넣고, 플라스크 내 온도를 0℃로 내린 후 아연 퍼클로레이트(zinc perchlorate, 시그마알드리치사) 4g을 넣은 후 8시간 교반 후 잔류 용매를 증류로 제거하였다. 얻어진 화합물 150g을 디클로로메탄 500㎖에 넣고 트리에틸아민(triethylamine, 대정화금) 70g과 0℃에서 교반하면서 아크릴로일클로라이드(acryloyl chloride, TCI사) 65g을 2시간 동안 적하하며 교반하였다. 추가로 5시간 교반 후 잔류 용매와 반응 잔류물을 제거하여, 하기 화학식 2의 화합물(분자량 284.37)을 HPLC 순도 94%로 얻었다.200 ml of dichloromethane (Sigma Aldrich) was added to a 1000 ml reactor equipped with a cooling tube and a stirrer, 100 g of benzene thiol (Aldrich) and 109 g of styrene oxide (Sigma Aldrich) After the temperature in the flask was lowered to 0 ° C., 4 g of zinc perchlorate (Sigma Aldrich) was added, stirred for 8 hours, and the residual solvent was removed by distillation. 150 g of the obtained compound was placed in 500 ml of dichloromethane and stirred at 0 캜 with 70 g of triethylamine and 65 g of acryloyl chloride (TCI) while stirring for 2 hours. After further stirring for 5 hours, the residual solvent and the reaction residue were removed to obtain a compound of the following formula (2) (molecular weight 284.37) with an HPLC purity of 94%.
<화학식 2>(2)
제조예 3Production Example 3
냉각관과 교반기를 구비한 2000㎖ 플라스크에 디클로로메탄(dichloromethane, 시그마알드리치사) 600㎖을 채우고 히드록시에틸메타아크릴레이트(hydroxyethyl methacrylate, Aldrich사) 58.8g과 트리에틸아민(triethylamine, 시그마알드리치사 ) 52.2g을 0℃에서 교반하면서 트리페닐클로로메탄(triphenyl chloromethane, 시그마알드리치사, 제품명 trityl chloride) 100g을 천천히 첨가하였다. 온도를 25℃으로 올린 후 4시간 교반하였다. 디클로로메탄을 감압 증류하여 제거한 후 실리카겔 칼럼을 통해 하기 화학식 3의 화합물을 124g을 HPLC 순도 97%로 얻었다.600 ml of dichloromethane (Sigma Aldrich) was charged in a 2000 ml flask equipped with a condenser and a stirrer, and 58.8 g of hydroxyethyl methacrylate (Aldrich) and 58.8 g of triethylamine (Sigma Aldrich) 100 g of triphenyl chloromethane (product name: trityl chloride, product name: Sigma Aldrich) was slowly added while stirring at 52 캜. The temperature was raised to 25 캜 and stirred for 4 hours. Dichloromethane was removed by distillation under reduced pressure, and 124 g of a compound of the following formula (3) was obtained through a silica gel column with an HPLC purity of 97%.
<화학식 3>(3)
제조예 4Production Example 4
냉각관과 교반기를 구비한 2000㎖ 플라스크에 아세토니트릴(acetonitrile, 시그마알드리치사) 800㎖을 채우고 포타슘카보네이트(potassium carbonate, Aldrich사) 180g과 아크릴산 108g을 0℃에서 교반하면서 4,4'-비스(클로로메틸) 비페닐(4,4'-bis(chloromethyl) biphenyl, TCI사) 150g을 천천히 첨가하였다. 온도를 70℃으로 올린 후 12시간 교반하였다. 아세토니트릴을 감압 증류하여 제거한 후 실리카겔 칼럼을 통해 하기 화학식 4의 화합물을 177g 를 HPLC 순도 97%로 얻었다.800 ml of acetonitrile (Sigma Aldrich) was charged into a 2000 ml flask equipped with a cooling tube and a stirrer, 180 g of potassium carbonate (Aldrich) and 108 g of acrylic acid were stirred at 0 ° C to obtain 4,4'-bis 150 g of 4,4'-bis (chloromethyl) biphenyl (TCI) was slowly added thereto. The temperature was raised to 70 DEG C and the mixture was stirred for 12 hours. Acetonitrile was removed by distillation under reduced pressure, and 177 g of a compound of the following formula (4) was obtained through a silica gel column with an HPLC purity of 97%.
<화학식 4>≪ Formula 4 >
하기 실시예 및 비교예에서 사용된 성분은 다음과 같다.The ingredients used in the following examples and comparative examples are as follows.
(A)광경화성 모노머: (A) Photocurable monomer:
(a1) 도데칸디올 디메타아크릴레이트(dodecandiol dimethacrylate, Satomer사)(a1) dodecanediol dimethacrylate (Satomer)
(a2) 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트(trimethylolpropane triacrylate, BASF사)(a2) trimethylolpropane triacrylate (BASF)
(a3) 1,3-비스(3-메타크릴록시프로필) 테트라메틸 디실록산 (1,3-bis(3-methacryloxypropyl)tetramethyldisiloxane, SIB1402.0, Gelest사)(a3) 1,3-bis (3-methacryloxypropyl) tetramethyldisiloxane (SIB1402.0, Gelest)
(a4) 2-페닐페녹시에틸 아크릴레이트(2-phenylphenoxyethyl acrylate, FA-301A, Hitachi chemical사)(a4) 2-phenylphenoxyethyl acrylate (FA-301A, Hitachi Chemical Co., Ltd.)
(a5) 제조예 1의 방향족 탄화수소기를 갖는 모노머(a5) The monomer having an aromatic hydrocarbon group of Production Example 1
(a6) 제조예 2의 방향족 탄화수소기를 갖는 모노머(a6) The monomer having an aromatic hydrocarbon group of Production Example 2
(a7) 제조예 3의 방향족 탄화수소기를 갖는 모노머(a7) A monomer having an aromatic hydrocarbon group of Production Example 3
(a8) 페닐티오에틸 아크릴레이트(phenylthioethyl acrylate, KOREMUL-PT-011, 한농화성사)(a8) Phenylthioethyl acrylate (KOREMUL-PT-011, manufactured by Hana Chemical Co., Ltd.)
(a9) 제조예 4의 방향족 탄화수소기를 갖는 모노머
(a9) The monomer having an aromatic hydrocarbon group of Production Example 4
(B) 광개시제: 인계 개시제(Darocur TPO, BASF사)
(B) Photoinitiator: Phosphorus initiator (Darocur TPO, BASF)
실시예 1Example 1
(a1) 65중량부, (a4) 35중량부 및 (B) 5중량부를 125㎖ 갈색 폴리프로필렌 병에 넣고, 쉐이커를 이용하여 3시간 동안 교반하여 실시예 1의 광경화 조성물을 제조하였으며, 하기 식에 따라 POC 파라미터 값을 계산하여 표 1에 기재하였다., 65 parts by weight of (a1), 35 parts by weight of (a4) and 5 parts by weight of (B) were placed in a 125 mL brown polypropylene bottle and stirred with a shaker for 3 hours to prepare a photocurable composition of Example 1, The POC parameter values are calculated according to the equation and are shown in Table 1.
상기 식에서, Pcn은 각 모노머의 방향족 고리의 개수, Ocn은 각 모노머의 O원자 및 S원자의 개수, Wrn은 총 모노머 중 각 모노머의 중량%, Mwn는 모노머의 중량평균분자량을 나타낸다.
Wherein Pc n is the number of aromatic rings of each monomer, Oc n is the number of O and S atoms of each monomer, Wr n is the weight percent of each monomer in the total monomer, and Mw n is the weight average molecular weight of the monomer .
실시예 2~11 및 비교예 1~3Examples 2 to 11 and Comparative Examples 1 to 3
각 성분의 종류 및 함량을 하기 표 1에 기재된 바와 같이 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 광경화 조성물을 제조하였으며, POC 파라미터 값을 계산하여 표 1 및 표 2에 기재하였다.
A photocurable composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the kinds and contents of the respective components were used as shown in Table 1. The POC parameter values were calculated and reported in Tables 1 and 2.
물성 평가Property evaluation
(1) 플라즈마 식각률(%): 실리콘 웨이퍼 위에 상기 실시예 및 비교예의 광경화 조성물을 스프레이로 도포하고 자외선을 100J/㎠로 10초 동안 조사하여 경화시켜 형성한 유기보호층 두께 5㎛의 시편을 제조하였다. 제조된 시편을 ICP dry etcher(Plasma lab system 133, Oxford instruments사)를 사용하여 ICP power 2500W, RE power 300W, DC bias 200V, Ar flow 50 sccm, 압력 10mtorr 조건에서 아르곤 가스를 1분간 드라이 에칭하였다. 플라즈마 식각률은 드라이 에칭 실시 전의 유기 보호층의 두께(T0)와 실시 후의 유기 보호층의 두께(T1)를 측정하여 하기 식에 의하여 계산하였으며, 하기 표 1 및 표 2에 결과를 나타내었다.(1) Plasma etching rate (%): A specimen having an organic protective layer thickness of 5 占 퐉 formed by applying a photocurable composition of the above Examples and Comparative Examples onto a silicon wafer by spraying and irradiating it with ultraviolet rays at 100 J / . The prepared specimens were dry-etched for 1 minute using ICP dry etcher (Plasma lab system 133, Oxford instruments) under conditions of ICP power of 2500 W, RE power of 300 W, DC bias of 200 V, Ar flow of 50 sccm and pressure of 10 mtorr. Plasma etching rates were calculated by the following equation by measuring the thickness (T0) of the organic protective layer before the dry etching and the thickness (T1) of the organic protective layer after the execution, and the results are shown in Tables 1 and 2 below.
플라즈마 식각률(%) = { (T0 - T1) / T0 } × 100Plasma etching rate (%) = {(T0 - T1) / T0} × 100
(%)Plasma etching rate
(%)
상기 표 1 및 표 2의 결과에서, POC 파라미터 값이 본 발명 범위 내인 실시예의 경우 플라즈마 식각률이 매우 낮아 내플라즈마성이 현저하게 우수한 점을 알 수 있다. 반면, POC 파라미터 값이 본 발명의 범위를 벗어나는 비교예의 경우 실시예에 비해 식각률이 높게 나타난다.
From the results of Tables 1 and 2, it can be seen that the plasma etching rate is extremely low and the plasma resistance is remarkably excellent in the embodiment where the POC parameter value is within the range of the present invention. On the other hand, in the comparative example in which the POC parameter value is outside the range of the present invention, the etching rate is higher than in the embodiment.
Claims (14)
<식 1>
상기 식에서, Pcn은 각 모노머의 방향족 고리의 개수, Ocn은 각 모노머의 O원자 및 S원자의 개수, Wrn은 총 모노머 중 각 모노머의 중량%, Mwn는 모노머의 중량평균분자량을 나타낸다.1. A photocurable composition comprising a photocurable monomer having an aromatic hydrocarbon group and a photopolymerization initiator and having a POC parameter value of not less than 0.1 and not more than 0.35,
<Formula 1>
Wherein Pc n is the number of aromatic rings of each monomer, Oc n is the number of O and S atoms of each monomer, Wr n is the weight percent of each monomer in the total monomer, and Mw n is the weight average molecular weight of the monomer .
방향족 탄화수소기를 가지지 않는 (메타)아크릴레이트계 모노머를 더 포함하는 광경화 조성물.The method according to claim 1,
And a (meth) acrylate monomer having no aromatic hydrocarbon group.
방향족 탄화수소기를 갖는 광경화성 모노머의 Pcn은 1 이상인 5 이하인 광경화 조성물.The method according to claim 1,
Wherein the photocurable monomer having an aromatic hydrocarbon group has a Pc n of 1 or more and 5 or less.
상기 방향족 탄화수소기를 갖는 모노머 및 방향족 탄화수소기를 가지지 않는 (메타)아크릴계 모노머의 중량평균분자량은 100.00 내지 500.00g/mol인 광경화 조성물. 3. The method of claim 2,
The weight average molecular weight of the (meth) acrylic monomer having no aromatic hydrocarbon group and the monomer having an aromatic hydrocarbon group is 100.00 to 500.00 g / mol.
상기 방향족 탄화수소기는 치환 또는 비치환된 페닐기, 치환 또는 비치환된 비페닐기, 치환 또는 비치환된 나프틸기, 치환 또는 비치환된 비페닐렌기, 치환 또는 비치환된 트리페닐메틸기, 치환 또는 비치환된 터페닐기, 치환 또는 비치환된 안트라센기, 치환 또는 비치환된 페난트렌기, 치환 또는 비치환된 플루오렌기 및 치환 또는 비치환된 트리페닐렌기, 치환 또는 비치환된 테트라페닐렌기, 2-페닐-2-(페닐티오)에틸기, 3-페닐-2-(페닐티오)에틸기 2,2-디페닐프로판기, 디페닐메틸기, 치환 또는 비치환된 비페닐옥시기, 치환 또는 비치환된 터페닐옥시기, 치환 또는 비치환된 쿼터페닐옥시기, 치환 또는 비치환된 퀸퀴페닐옥시기 및 이들의 구조적 이성질체 중에서 선택되는 1종 이상인 광경화 조성물.The method according to claim 1,
The aromatic hydrocarbon group may be a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted biphenyl group, a substituted or unsubstituted naphthyl group, a substituted or unsubstituted biphenylene group, a substituted or unsubstituted triphenylmethyl group, a substituted or unsubstituted A substituted or unsubstituted phenanthrene group, a substituted or unsubstituted fluorene group and a substituted or unsubstituted triphenylene group, a substituted or unsubstituted tetraphenylene group, a substituted or unsubstituted tetranophenylene group, a 2-phenyl Substituted or unsubstituted naphthyl groups, substituted or unsubstituted naphthyl groups, substituted or unsubstituted naphthyl groups, substituted or unsubstituted naphthyl groups, substituted or unsubstituted naphthyl groups, substituted or unsubstituted naphthyl groups, A substituted or unsubstituted quaterphenyl group, a substituted or unsubstituted quaterphenyl group, a substituted or unsubstituted quaterphenyl group, and a structural isomer thereof.
상기 방향족 탄화수소기를 가지지 않는 (메타)아크릴레이트계 모노머는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬기를 갖는 모노(메트)아크릴레이트, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬렌기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬기를 갖는 디(메트)아크릴레이트, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬렌기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬기를 갖는 트리(메트)아크릴레이트 중 하나 이상을 포함하는 광경화 조성물.3. The method of claim 2,
The (meth) acrylate monomer having no aromatic hydrocarbon group may be a mono (meth) acrylate having a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group or a substituted or unsubstituted (Meth) acrylate having a C1 to C20 alkyl group, a tri (meth) acrylate having a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, Photocuring composition.
상기 광경화성 모노머 중 방향족 탄화수소기를 갖는 모노머를 5중량% 내지 50중량%로 포함하고, 상기 광경화성 모노머 중 상기 방향족 탄화수소기를 가지지 않는 (메타)아크릴레이트계 모노머를 50중량% 내지 95중량%로 포함하는 광경화 조성물.3. The method of claim 2,
And 5 to 50% by weight of a monomer having an aromatic hydrocarbon group in the photocurable monomer, and 50 to 95% by weight of a (meth) acrylate monomer having no aromatic hydrocarbon group in the photocurable monomer / RTI >
상기 POC 파라미터값은 0.100 이상 0.230이하인 광경화조성물.The method according to claim 1,
Wherein the POC parameter value is 0.100 or more and 0.230 or less.
상기 방향족 탄화수소기를 갖는 광경화성 모노머는 C, H, O, N 또는 S에서 선택되는 원소 만으로 이루어지는 광경화 조성물.The method according to claim 1,
Wherein the photocurable monomer having an aromatic hydrocarbon group is composed only of elements selected from C, H, O, N or S.
상기 광중합 개시제는 트리아진계, 아세토페논계, 벤조페논계, 티오크산톤계, 벤조인계, 인계, 옥심계 중에서 선택되는 1종 이상인 광경화 조성물.The method according to claim 1,
Wherein said photopolymerization initiator is at least one selected from the group consisting of triazine, acetophenone, benzophenone, thioxanthone, benzoin, phosphorus, and oxime.
광경화 조성물은 유기 전계 발광소자(organic lighting emitting diode, OLED), LED(light emitting diode), OLED 또는 LED 조명 중 선택된 디스플레이 봉지제용인 광경화 조성물. The method according to claim 1,
The photo-curable composition is a selected encapsulating composition selected from organic light emitting diodes (OLEDs), LEDs (light emitting diodes), OLEDs or LED illuminations.
상기 복합보호층은 무기보호층 및 유기보호층을 포함하고,
상기 유기보호층은 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항의 광경화 조성물의 경화물을 포함하는 봉지화된 장치.And a composite protective layer formed on the member for the apparatus,
Wherein the composite protective layer comprises an inorganic protective layer and an organic protective layer,
Wherein the organic protective layer comprises a cured product of the photocurable composition of any one of claims 1 to 11.
상기 무기보호층은 금속, 금속 산화물, 금속 불화물, 금속 질화물, 금속 산질화물, 금속 붕소화물, 금속 산붕소화물, 금속 실리사이드에서 선택되는 1종 이상을 포함하고,
상기 금속은 실리콘(Si), 알루미늄(Al), 셀레늄(Se), 아연(Zn), 안티몬(Sb), 인듐(In), 게르마늄(Ge), 주석(Sn), 비스무트(Bi), 전이금속, 란탄족 금속 중에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 장치.13. The method of claim 12,
Wherein the inorganic protective layer includes at least one selected from a metal, a metal oxide, a metal fluoride, a metal nitride, a metal oxynitride, a metal boride, a metal oxynitride, and a metal silicide,
The metal may be selected from the group consisting of Si, Al, Se, Zn, Sb, In, Ge, Sn, Bi, , And a lanthanide metal.
상기 장치용 부재는 플렉서블 유기 전계 발광소자, 유기 전계 발광 소자(OLED), LED(light emitting diode), OLED 조명 장치, LED 조명장치 중 하나 이상을 포함하는 장치.13. The method of claim 12,
Wherein the member for the device comprises at least one of a flexible organic electroluminescent device, an organic electroluminescent device (OLED), a light emitting diode (LED), an OLED lighting device, and an LED lighting device.
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