KR20160033842A - 광각 보정 장치와 이를 사용하는 노광 장치 및 광각 보정 방법 - Google Patents

광각 보정 장치와 이를 사용하는 노광 장치 및 광각 보정 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20160033842A
KR20160033842A KR1020140124299A KR20140124299A KR20160033842A KR 20160033842 A KR20160033842 A KR 20160033842A KR 1020140124299 A KR1020140124299 A KR 1020140124299A KR 20140124299 A KR20140124299 A KR 20140124299A KR 20160033842 A KR20160033842 A KR 20160033842A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
wide angle
angle correction
exposure
mask
light
Prior art date
Application number
KR1020140124299A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101721189B1 (ko
Inventor
김채수
성용호
Original Assignee
주식회사 필옵틱스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 필옵틱스 filed Critical 주식회사 필옵틱스
Priority to KR1020140124299A priority Critical patent/KR101721189B1/ko
Publication of KR20160033842A publication Critical patent/KR20160033842A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101721189B1 publication Critical patent/KR101721189B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2045—Exposure; Apparatus therefor using originals with apertures, e.g. stencil exposure masks
    • G03F7/2047—Exposure with radiation other than visible light or UV light, e.g. shadow printing, proximity printing
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

본 발명의 실시례는 노광 장치의 거울과 노광부 사이에 위치되며 상부에 구멍이 형성되어 있는 경통부와, 상기 경통부의 내측 하면을 관측할 수 있는 카메라부를 포함하는 것을 특징으로 하는 광각 보정 장치에 관한 것이다.

Description

광각 보정 장치와 이를 사용하는 노광 장치 및 광각 보정 방법{Angle of the light adjustment device and exposure device and Angle of the light adjustment method using it}
본 발명은 광각 보정 장치와 이를 사용하는 노광 장치 및 광각 보정 방법에 관한 것이며, 좀 더 구체적으로 설명하면 근접(Proximity) 광학계의 광각 보정 장치와 이를 사용하는 근접 노광 장치 및 광각 보정 방법에 관한 것이다.
일반적으로 노광 방식에는 렌즈 또는 거울을 이용해 마스크의 패턴(Pattern)을 기판상에 투영하는 투영방식과, 마스크와 기판 사이에 미소한 간격을 설치해 마스크의 패턴을 기판에 전사하는 근접(Proximity) 방식이 있다.
상기 근접 방식은 투영방식에 비해 패턴 해상 성능은 낮지만, 조사 광학계의 구성이 간단하고 처리 능력이 높아 대량생산에 적합하다.
이러한 근접 방식에 사용되는 근접 노광 장치는 기판을 지지하는 척(Chuck)과 마스크를 지지하는 마스크 홀더 및 빛을 조사하는 광조사 장치를 포함하며, 마스크와 기판을 근접시키고 노광을 실시한다.
최근 표시용 패널의 대화면화에 수반해 기판이 대형화되는 만큼, 마스크도 대형화되어 자중에 의한 처짐이 커지는 현상이 발생된다.
근접 노광 장치에서는 대형의 기판 및 마스크를 안정되게 지지하기 위해서 기판을 수평으로 지지하고 노광을 실시하는 것이 일반적인데, 마스크에 처짐이 발생되면 기판으로의 패턴 인화가 균일하게 행해지지 않는다.
따라서, 원샷 노광 방식으로는 마스크의 처짐에 따른 간격 조절이 힘들어짐에 따라 대형면적에서는 분할 노광이 실시된다.
그러나, 종래 분할 노광을 실시할 때 각 스텝마다 다른 광각으로 인해 정밀한 형상을 노광하기가 쉽지 않다는 문제점이 발생된다.
일본공개특허 제2003－131388호
본 발명에 따른 광각 보정 장치와 이를 사용하는 근접 노광 장치 및 광각 보정 방법은 분할 노광을 실시할 때 광각을 보정할 수 있는 광각 보정 장치와 이를 사용하는 근접 노광 장치 및 광각 보정 방법을 제공하고자 한다.
본 발명은 노광 장치의 거울과 노광부 사이에 위치되며 상부에 구멍이 형성되어 있는 경통부와, 상기 경통부의 내측 하면을 관측할 수 있는 카메라부를 포함하는 것을 특징으로 하는 광각 보정 장치를 제공한다.
상기 경통부의 하면에는 상기 상부에 형성된 구멍과 동일 수직선상에 위치하는 수직핀이 형성될 수 있다.
상기 수직핀을 중심으로 동심원이 형성될 수 있다.
본 발명은 상기 경통부 둘레에 형성되는 조도센서를 더 포함할 수 있다.
본 발명은 상기 경통부와 이격되어 노광부의 마스크와 기판 소재가 수직면상에서 일치되는지 촬영할 수 있도록 형성된 마스크 얼라인 카메라부를 더 포함할 수 있다.
본 발명은 상기 경통부와 이격되어 노광부의 마스크와 기판 소재 사이의 거리를 측정하는 갭 센서를 더 포함할 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 광각 보정 장치와, 상기 거울 후면에 형성된 엑츄에이터와, 상기 경통부의 상부 구멍을 통하여 하방으로 이동되는 광을 촬영한 카메라부로부터 이미지를 전송받아 상기 엑츄에이터를 작동시키는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 광각 보정 장치를 사용하는 노광 장치를 제공한다.
상기 제어부는 엑츄에이터를 작동시켜 광이 수직면에 일치되게 경통부로 입사되도록 하여 경사각(D.A)과 조도를 보정할 수 있다.
본 발명은 상기 광각 보정 장치가 장착된 이동프레임을 더 포함할 수 있다.
상기 이동프레임은 기재부재와, 상기 기재부재의 상부에 형성된 리니어 모터에 의해 이동되도록 형성된 제1방향 이동부재와, 상기 제1방향 이동부재에 거치되도록 형성되는 상부지지부재와, 상기 상부지지부재에 형성된 리니어 모터에 의해 이동되도록 형성된 제2방향 이동부재 및, 상기 제2방향 이동부재에 형성되는 광각 보정 장치를 포함하며, 상기 제1방향 이동부재와 제2방향 이동부재는 서로 각질 수 있다.
한편, 본 발명은 상기 광각 보정 장치와 평면거울 및 제어부를 포함하는 노광 장치를 이용하여 노광이 이루어지는 영역에 대한 광각 보정을 진행하는 제1단계와, 상기 제1단계를 진행한 후에 제1단계를 통해 진행된 엑츄에이터의 작동 평균값을 구하는 과정인 제2단계 및, 제2단계를 거친 후에 진행되는 작동 평균값에 따라서 엑츄에이터를 작동시키는 과정인 제3단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광각 보정 장치를 사용하는 광각 보정 방법도 제공한다.
본 발명의 실시례에 따르면 다음과 같은 효과가 발생된다.
첫째, 광각 보정 장치와 제어부 및 평면거울의 엑츄에이터를 작동시켜 경사각(D.A)을 0도가 되도록 조절할 수 있다.
둘째, 제어부는 조도센서에 의해 전달된 조도 정보에 따라서 엑츄에이터를 작동시켜 조도를 조절할 수 있다.
셋째, 마스크 얼라인 카메라부와 갭센서를 광각 보정 장치에 일체로 형성하여 작업 효율을 향상시킬 수 있다.
넷째, 광각 보정 장치는 이동프레임 구조를 통하여 수평방향으로 다양한 위치로 이동될 수 있어 효과적인 광각 보정을 진행할 수 있다.
다섯째, 본 발명의 실시례인 광각 보정 장치를 포함하는 근접 노광 장치의 광각 보정 방법은 한 번의 노광이 이루어지는 영역에 대한 최적의 광각 보정을 형성할 수 있다.
도 1은 근접 노광 장치를 나타내는 개략도.
도 2는 도 1의 A부분을 확대한 개략도.
도 3은 본 발명의 실시례인 광각 보정 장치가 평면거울과 노광부 사이에 위치된 상태를 나타내는 개략도.
도 4는 도 3의 광각 보정 장치를 확대한 개략도.
도 5는 본 발명의 실시례인 광각 보정 장치가 적용되는 것을 나타내는 개략도.
도 6은 광각 보정 과정을 나타내는 경통부 내측 하면의 확대도.
도 7은 광각 보정 장치의 변형례를 나타내는 사시도.
도 8은 본 발명의 실시례인 광각 보정 장치가 장착된 이동프레임 구조를 나타내는 개략사시도.
도 9는 마스크에 형성된 격자 무늬에서 광각 보정 장치가 작용되는 것을 설명하기 위한 개략도.
도 10은 본 발명의 실시례인 근접 노광 장치의 광각 보정 방법을 나타내는 순서도.
이하 본 발명의 실시례에 대하여 첨부한 도면을 참조하여 상세하게 설명하기로 한다. 다만, 첨부된 도면은 본 발명의 내용을 보다 쉽게 개시하기 위하여 설명되는 것일 뿐, 본 발명의 범위가 첨부된 도면의 범위로 한정되는 것이 아님은 이 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 용이하게 알 수 있을 것이다.
그리고, 본 실시례를 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 동일 부호가 사용되며 이에 따른 부가적인 설명은 생략하기로 한다.
또한, 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시례를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
도 1은 근접 노광 장치를 나타내는 개략도이고, 도 2는 도 1의 A부분을 확대한 개략도이다.
본 발명의 실시례인 근접 노광 장치(100)는 도 1과 같이 광을 조사하는 광원부(110)와, 상기 광원부(110)로부터 조사된 광을 반사하는 오목거울(120)과, 상기 오목거울(120)을 통해 반사된 광을 반사하는 평면거울(130) 및 상기 평면거울(130)에서 반사된 광이 전달되는 노광부(140)를 포함한다.
상기 오목거울(120)은 광원부(110)로부터 전달되는 광을 모아서 평면거울(130)의 형상에 부합되게 전달하는 기능을 수행한다.
그리고 평면거울(130)은 오목거울(120)로부터 전달된 광을 노광부(140)의 마스크(142)에 조사하는 기능을 수행한다.
종래의 평면거울은 후방에 엑츄에이터가 형성되어 있지 않고 볼트 형태의 고정형 부재가 형성되어 있어 평면거울을 통하여 마스크로 전달되는 광이 수직면과 사이에 경사각(Declination angle)을 발생시키는 경우에 수작업을 통하여 볼트를 조이는 방식으로 조절되었다.
그러나, 본 발명의 실시례에서 사용되는 평면거울(130)은 도 2와 같이 두께가 얇은 박막형이며, 후면에 복수개의 엑츄에이터(132)가 장착되어 평면거울(130)의 일부분을 각각 조절할 수 있다.
이를 통하여 평면거울(130)은 전체 형상이 미세하게 변화되면서 반사되는 광의 경로를 조절한다.
따라서, 도 2와 같이 평면거울(130)을 통해서 반사되어 마스크(142)에 도달되는 광이 수직면과 일치되지 않아 수직면과 사이에 경사각(D.A: Declination angle)(θ)이 형성되는 경우에 엑츄에이터(132)를 통하여 평면거울(130)을 조절하여 수직면과의 경사각(θ)이 발생되지 않도록 조절될 수 있다.
도 3은 본 발명의 실시례인 광각 보정 장치가 평면거울과 노광부 사이에 위치된 상태를 나타내는 개략도이고, 도 4는 도 3의 광각 보정 장치를 확대한 개략도이다.
본 발명의 실시례인 광각 보정 장치(160)는 마스크(142)가 대형면적이고, 분할 노광이 실시되는 경우에 사용되며, 각 분할 노광 위치에서 평면거울(130)과 노광부(140) 사이에 위치된다.
좀 더 자세히 설명하면, 광각 보정 장치(160)는 평면거울(130) 아래에서 마스크(142)의 상면에 근접하게 위치된다.
이 상태에서 도 3과 같이 광은 평면거울(130)에 반사되어 광각 보정 장치(160)로 전달된다.
본 발명의 실시례인 광각 보정 장치(160)는 원통형상이며 상부 중심에 수직방향으로 구멍(164)이 형성되어 있는 경통부(162)와, 상기 경통부(162)의 둘레에 형성되어 경통 내측 하면을 관측할 수 있는 카메라부(166) 및 경통부(162)의 하부 둘레에 형성되는 조도센서(168)를 포함한다.
상기 경통부(162)의 하면은 막힌 상태이며 하면의 평평한 바닥 중심에는 상기 상부에 형성된 구멍(164)과 동일 수직선상에 위치하는 수직핀(169)이 형성된다.
그리고 상기 수직핀(169)의 주위는 수직핀(169)을 중심으로 해서 일정 간격으로 형성된 동심원(171)이 복수개 형성된다.
경통부(162)의 내측은 광이 이동되는 경로이며, 밀폐된 암실형태로 광의 진행을 용이하게 관찰할 수 있도록 형성된다.
상기 카메라부(166)는 경통부(162)의 내측 하면을 관찰할 수 있도록 장착되어 광이 경통부(162)의 내측 하면에 도달된 상태를 촬영한 후 촬영된 이미지를 근접 노광 장치(100)에 형성된 제어부(180)에 전송한다.
상기 조도센서(168)는 경통부(162)의 내측 하면에 도달된 광의 조도를 감지한 후 감지 결과를 제어부(180)에 전달한다.
즉, 경통부(162)의 내측을 통하여 하면으로 도달되는 광의 경로가 수직면과 일치하지 않고 경사진 경우에 수직면과 일치하는 경우를 기준으로 조도가 변화됨으로 조도센서(168)는 이를 감지하여 제어부(180)에 전달하는 것이다.
도 5는 본 발명의 실시례인 광각 보정 장치가 적용되는 것을 나타내는 개략도이고, 도 6은 광각 보정 과정을 나타내는 경통부 내측 하면의 확대도이다.
광(a)이 경통부(162)의 상부 구멍(164)을 통하여 하방으로 이동되어 광의 중심이 수직핀(169)에 정확하게 도달하는 경우에는 평면거울을 통하여 마스크에 도달될 광이 수직면과 일치된 경우이므로 경사각(D.A), 조도의 조절이 필요없다.
그러나, 광(b)이 경통부(162)의 상부 구멍(164)을 통하여 하방으로 이동될 때, 광의 중심이 수직핀(169)에 도달하지 않고 수직핀(169)에서 일정거리 이격된 위치에 도달한 경우에는 카메라부(166)가 이를 촬영하여 제어부(180)에 전송하고 제어부(180)는 평면거울(130)의 엑츄에이터(132)를 작동시켜 도 6과 같이 광의 중심이 화살표(501) 방향으로 이동되어 수직핀(169)의 중심에 오도록 조절한다.
이를 통하여 경사각(D.A)은 0도가 되며, 조도센서(168)에서 감지되는 조도 또한 일정하게 된다.
이를 통하여 본 발명의 실시례인 광각 보정 장치(160)는 광의 진행경로를 정확히 파악하여 제어할 수 있는 효과가 발생된다.
도 7은 광각 보정 장치의 변형례를 나타내는 사시도이다.
본 발명의 실시례인 광각 보정 장치(160)는 도 7과 같이 경통부(162)와 이격되어 수직 하방을 촬영할 수 있도록 형성된 마스크 얼라인 카메라부(190)와, 마스크(142)와 기판 소재(144) 사이의 거리를 측정하는 갭(GAP)센서(192)를 추가로 포함한다.
상기 마스크 얼라인 카메라부(190)는 마스크(142)에 형성된 일정 지점과 상기 일정 지점에 대응되도록 기판 소재(144)에 형성된 대응 지점이 수직면상에서 일치되는지 확인하는 기능을 수행한다.
상기 갭센서(192)는 마스크(142)와 기판 소재(144) 사이의 간격을 측정하는 기능을 수행한다.
본 발명의 실시례인 광각 보정 장치(160)를 통하여 광각 보정을 하기 전에 마스크 얼라인 카메라부(190)와 갭센서(192)를 통하여 파악된 정보에 의해 필요한 조정작업이 진행된다.
즉, 마스크 얼라인 카메라부(190)에 의해 파악된 마스크(142)에 형성된 일정 지점과 상기 일정 지점에 대응되도록 기판 소재(144)에 형성된 대응 지점이 수직면상에서 일치되지 않는 경우에는 제어부는 기판 소재(144)의 위치를 교정하여 마스크(142)에 형성된 일정 지점과 상기 일정 지점에 대응되도록 기판 소재(144)에 형성된 대응 지점이 수직면상에서 일치되도록 한다.
그리고 갭센서(192)에 의해 파악된 마스크(142)와 기판 소재(144) 사이의 간격이 기준치를 벗어난 경우에 제어부는 기판 소재(144)의 높이를 교정하여 마스크(142)와 기판 소재(144) 사이의 간격이 기준치에 위치되도록 한다.
따라서, 마스크 얼라인 카메라부(190)와 갭센서(192)를 별도로 장착하는 경우보다 광각 보정 장치(160)에 일체로 형성하여 작업 효율을 향상시킬 수 있다.
도 8은 본 발명의 실시례인 광각 보정 장치가 장착된 이동프레임 구조를 나타내는 개략사시도이다.
본 발명의 실시례인 광각 보정 장치(160)가 장착된 이동프레임(300) 구조는 서로 나란히 일정간격 이격되어 형성되는 2개의 기재부재(312, 314)와, 상기 2개의 기재부재(312, 314) 각각의 상부에 형성된 리니어 모터(315)에 의해 기재부재(312, 314)가 위치된 방향을 따라 이동되도록 형성된 2개의 제1방향 이동부재(322, 324)와, 상기 제1방향 이동부재(322, 324)들의 양측단 사이에 거치되도록 형성되는 2개의 상부지지부재(342, 344)와, 상기 2개의 상부지지부재(342, 344) 각각에 형성된 리니어 모터(317)에 의해 상부지지부재(342, 344)가 위치된 방향을 따라 이동되도록 형성된 2개의 제2방향 이동부재(352, 354) 및, 상기 제2방향 이동부재(352, 354)의 양단에 각각 형성되는 광각 보정 장치(160)를 포함한다.
상기 제1방향 이동부재(322, 324)와 제2방향 이동부재(352, 354)는 서로 수직이며, 광각 보정 장치(160)는 이동프레임(300) 구조에 4개가 장착되어 리니어 모터(315, 317)에 의해 필요한 위치로 이동된다.
본 발명의 실시례인 광각 보정 장치(160)는 이동프레임(300) 구조를 통하여 수평방향으로 다양한 위치로 이동될 수 있어 효과적인 광각 보정을 진행할 수 있는 효과가 발생된다.
도 9는 마스크에 형성된 격자 무늬에서 광각 보정 장치가 작용되는 것을 설명하기 위한 개략도이다.
도 9는 마스크(142)에 형성된 격자 무늬(142-1)에서 한 번의 노광이 이루어지는 영역을 나타내며, 각 격자 무늬(142-1)의 교차 지점(147, 148, 149)마다 보정되기 전의 광이 도달된 면적(147a, 148a, 149a)을 도시한 것이다.
각 격자 무늬(142-1)의 교차 지점(147, 148, 149)과 광의 도달 면적(147a, 148a, 149a) 중심이 일치하지 않는 경우에 엑츄에이터(132)를 이용하여 평면거울(130)을 조절한다.
그리고 이동프레임(300) 구조를 통하여 한번에 4개의 교차 지점(147, 148, 151, 152)에서 광각 보정을 진행한 후 리니어 모터(315, 317)를 작동하여 경통부(162)를 다른 4개의 교차 지점으로 이동시킨 후에 광각 보정을 진행한다.
상기와 같은 광각 보정 과정을 진행하여 한 번의 노광이 이루어지는 영역에 대한 전체적인 광각 보정을 진행하는데, 하나의 교차 지점(147)에 대한 광각 보정이 이루어진 후 다른 교차 지점(149)에 대한 광각 보정시 엑츄에이터(132)에 의한 평면거울(130)의 형태는 변화될 수 밖에 없다.
따라서, 한 번의 노광이 이루어지는 영역에 대한 모든 지점에서 동시에 정확한 광각 보정이 형성되지는 못하기 때문에 최선의 광각을 확보하기 위해서 한 번의 노광이 이루어지는 영역에 속한 모든 지점에 대한 광각 보정을 진행하는 과정에서 각 엑츄에이터(132)의 작동 상황을 모니터링 한 후에 한 번의 노광이 이루어지는 영역에 대한 광각 보정이 진행된 데이터를 평균치하여 최종적인 광각 보정이 진행된다.
도 10은 본 발명의 실시례인 근접 노광 장치의 광각 보정 방법을 나타내는 순서도이다.
본 발명의 실시례인 광각 보정 장치(160)를 사용하는 근접 노광 장치(100)의 광각 보정 방법은 상기 광각 보정 장치(160)와 평면거울(130) 및 제어부(180) 등을 포함하는 근접 노광 장치(100)를 이용하여 한 번의 노광이 이루어지는 영역에 대한 광각 보정을 진행하는 제1단계(S100)와, 상기 제1단계(S100)를 진행한 후에 제1단계(S100)를 통해 진행된 엑츄에이터(132)의 작동 평균값을 구하는 과정인 제2단계(S200) 및, 제2단계(S200)를 거친 후에 진행되는 작동 평균값에 따라서 엑츄에이터(132)를 작동시키는 과정인 제3단계(S300)를 포함한다.
상기와 같은 과정을 통하여 본 발명의 실시례인 광각 보정 장치(160)를 포함하는 근접 노광 장치(100)의 광각 보정 방법은 한 번의 노광이 이루어지는 영역에 대한 최적의 광각 보정을 형성하는 효과가 발생된다.
이상과 같이 본 발명에 따른 실시례를 살펴보았으며, 앞서 설명된 실시례 이외에도 본 발명이 그 취지나 범주에서 벗어남이 없이 다른 특정 형태로 구체화 될 수 있다는 사실은 해당 기술에 통상의 지식을 가진 이들에게는 자명한 것이다. 그러므로, 상술된 실시례는 제한적인 것이 아니라 예시적인 것으로 여겨져야 하고, 이에 따라 본 발명은 상술한 설명에 한정되지 않고 첨부된 청구항의 범주 및 그 동등 범위 내에서 변경될 수도 있다.
100: 근접 노광 장치 110: 광원부
120: 오목거울 130: 평면거울
132: 엑츄에이터 140: 노광부
142: 마스크 160: 광각 보정 장치
162: 경통부 164: 구멍
166: 카메라부 180: 제어부

Claims (11)

  1. 노광 장치의 거울과 노광부 사이에 위치되며 상부에 구멍이 형성되어 있는 경통부와,
    상기 경통부의 내측 하면을 관측할 수 있는 카메라부
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 광각 보정 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 경통부의 하면에는 상기 상부에 형성된 구멍과 동일 수직선상에 위치하는 수직핀이 형성되는 것을 특징으로 하는 광각 보정 장치.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 수직핀을 중심으로 동심원이 형성된 것을 특징으로 하는 광각 보정 장치.
  4. 청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 경통부 둘레에 형성되는 조도센서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광각 보정 장치.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 경통부와 이격되어 노광부의 마스크와 기판 소재가 수직면상에서 일치되는지 촬영할 수 있도록 형성된 마스크 얼라인 카메라부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광각 보정 장치.
  6. 청구항 4에 있어서,
    상기 경통부와 이격되어 노광부의 마스크와 기판 소재 사이의 거리를 측정하는 갭 센서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광각 보정 장치.
  7. 청구항 1의 광각 보정 장치와,
    상기 거울 후면에 형성된 엑츄에이터와,
    상기 경통부의 상부 구멍을 통하여 하방으로 이동되는 광을 촬영한 카메라부로부터 이미지를 전송받아 상기 엑츄에이터를 작동시키는 제어부
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 광각 보정 장치를 사용하는 노광 장치.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 제어부는 엑츄에이터를 작동시켜 광이 수직면에 일치되게 경통부로 입사되도록 하여 경사각(D.A)과 조도를 보정하는 것을 특징으로 하는 광각 보정 장치를 사용하는 노광 장치.
  9. 청구항 7 또는 8에 있어서,
    상기 광각 보정 장치가 장착된 이동프레임을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광각 보정 장치를 사용하는 노광 장치.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 이동프레임은
    기재부재와,
    상기 기재부재의 상부에 형성된 리니어 모터에 의해 이동되도록 형성된 제1방향 이동부재와,
    상기 제1방향 이동부재에 거치되도록 형성되는 상부지지부재와,
    상기 상부지지부재에 형성된 리니어 모터에 의해 이동되도록 형성된 제2방향 이동부재 및,
    상기 제2방향 이동부재에 형성되는 광각 보정 장치를 포함하며,
    상기 제1방향 이동부재와 제2방향 이동부재는 서로 각진 것을 특징으로 하는 광각 보정 장치를 사용하는 노광 장치.
  11. 청구항 1의 광각 보정 장치와 평면거울 및 제어부를 포함하는 노광 장치를 이용하여 노광이 이루어지는 영역에 대한 광각 보정을 진행하는 제1단계와,
    상기 제1단계를 진행한 후에 제1단계를 통해 진행된 엑츄에이터의 작동 평균값을 구하는 과정인 제2단계 및,
    제2단계를 거친 후에 진행되는 작동 평균값에 따라서 엑츄에이터를 작동시키는 과정인 제3단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광각 보정 장치를 사용하는 광각 보정 방법.


KR1020140124299A 2014-09-18 2014-09-18 광각 보정 장치와 이를 사용하는 노광 장치 및 광각 보정 방법 KR101721189B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140124299A KR101721189B1 (ko) 2014-09-18 2014-09-18 광각 보정 장치와 이를 사용하는 노광 장치 및 광각 보정 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140124299A KR101721189B1 (ko) 2014-09-18 2014-09-18 광각 보정 장치와 이를 사용하는 노광 장치 및 광각 보정 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160033842A true KR20160033842A (ko) 2016-03-29
KR101721189B1 KR101721189B1 (ko) 2017-03-31

Family

ID=55661722

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140124299A KR101721189B1 (ko) 2014-09-18 2014-09-18 광각 보정 장치와 이를 사용하는 노광 장치 및 광각 보정 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101721189B1 (ko)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003131388A (ja) 2001-10-22 2003-05-09 Hitachi Electronics Eng Co Ltd マスクのたわみ補正機能を備えたマスク保持装置
JP2004128338A (ja) * 2002-10-04 2004-04-22 Riipuru:Kk 電子ビーム近接露光方法
KR100727612B1 (ko) * 2006-04-05 2007-06-14 주식회사 대우일렉트로닉스 얼라인 방법 및 얼라인 장치
KR20110011519A (ko) * 2009-07-28 2011-02-08 닛본 세이고 가부시끼가이샤 노광 장치 및 노광 방법

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003131388A (ja) 2001-10-22 2003-05-09 Hitachi Electronics Eng Co Ltd マスクのたわみ補正機能を備えたマスク保持装置
JP2004128338A (ja) * 2002-10-04 2004-04-22 Riipuru:Kk 電子ビーム近接露光方法
KR100727612B1 (ko) * 2006-04-05 2007-06-14 주식회사 대우일렉트로닉스 얼라인 방법 및 얼라인 장치
KR20110011519A (ko) * 2009-07-28 2011-02-08 닛본 세이고 가부시끼가이샤 노광 장치 및 노광 방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR101721189B1 (ko) 2017-03-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW201818163A (zh) 一種光學測量裝置和方法
TWI470377B (zh) 曝光設備及裝置製造方法
WO2017167258A1 (zh) 一种投影曝光装置及方法
TWI488012B (zh) 繪圖裝置及其焦點調整方法
KR20110072440A (ko) 마스크리스 노광 장치 및 그 멀티 헤드의 교정 방법
TW201335722A (zh) 曝光裝置、曝光方法及顯示用面板基板的製造方法
JP4273679B2 (ja) 分割逐次近接露光装置
JP2008015314A (ja) 露光装置
JP4760019B2 (ja) 露光装置及びデバイスの製造方法
JP2012049326A (ja) マスクの位置決め装置及びマスクの回転中心算出方法
JP6655753B2 (ja) 照明源としてのマイクロｌｅｄアレイ
US9041907B2 (en) Drawing device and drawing method
KR101721189B1 (ko) 광각 보정 장치와 이를 사용하는 노광 장치 및 광각 보정 방법
JP2012133122A (ja) 近接露光装置及びそのギャップ測定方法
KR20160006683A (ko) 노광 장치
JP4799324B2 (ja) 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法
JP2013026383A (ja) 位置合わせ装置、位置合わせ方法、および、描画装置
JP4487688B2 (ja) ステップ式近接露光装置
JP2008209631A (ja) 露光装置及びそのマスク装着方法
JPH10233358A (ja) 走査型露光装置
JP2007086684A (ja) 露光装置
JP5166681B2 (ja) ステップ式近接露光装置
JP2007171667A (ja) 露光装置
JPH02199815A (ja) 投影露光装置及び投影露光方法
JP2007140057A (ja) 露光装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant