KR20160019589A - 플렉서블 디스플레이 장치와, 이의 제조 방법 - Google Patents

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KR20160019589A
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박응석
윤원민
정윤아
조윤형
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Abstract

플렉서블 디스플레이 장치와, 이의 제조 방법을 개시한다. 본 발명은 박막 봉지층용 유기막 원소재를 준비하는 단계:와, 기판의 가장자리 영역 및 중앙 영역에 복수의 노즐을 이용하여 유기막 원소재를 도포하는 단계;와, 기판 상에 박막 봉지층용 유기막층을 완성하는 단계;를 포함하되, 기판의 영역별로 가변 조정부를 선택적으로 구동시켜서 유기막 원소재의 양을 조절한다.

Description

플렉서블 디스플레이 장치와, 이의 제조 방법{Flexible display device and the fabrication method thereof}
본 발명은 플렉서블 디스플레이 장치와, 이의 제조 방법에 관한 것이다.
통상적으로, 유기 발광 디스플레이 장치(organic light emitting display device)와 같은 디스플레이 장치는 스마트 폰, 태블릿 퍼스널 컴퓨터, 랩 탑 컴퓨터, 디지털 카메라, 캠코더, 휴대 정보 단말기와 같은 모바일 기기용 디스플레이 장치나, 초박형 텔레비전과 같은 전자/전기 제품에 이용할 수 있다.
최근 들어서는, 보다 슬림화된 디스플레이 장치를 제조하기 위하여 연구중이다. 이중에서, 휴대하기가 용이하고, 다양한 형상의 장치에 적용할 수 있도록 플렉서블 디스플레이 장치(flexible display device)가 차세대 디스플레이 장치로 각광받고 있다.
이중에서, 유기 발광 디스플레이 기술을 기반으로 하는 플렉서블 디스플레이 장치가 가장 유력한 디스플레이 장치로 유력시되고 있다. 플렉서블 디스플레이 장치는 디스플레이부를 커버하기 위한 박막 봉지층을 구비하고 있다. 박막 봉지층은 균일한 두께를 가지는 것이 필요하다.
본 발명의 실시예들은 플렉서블 디스플레이 장치와, 이의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 플렉서블 디스플레이 장치의 제조 방법은,
박막 봉지층용 유기막 원소재를 준비하는 단계: 및
기판의 가장자리 영역 및 중앙 영역에 복수의 노즐을 이용하여 유기막 원소재를 도포하는 단계; 및
상기 기판 상에 박막 봉지층용 유기막층을 완성하는 단계;를 포함하되,
상기 기판의 영역별로 가변 조정부를 선택적으로 구동시켜서 유기막 원소재의 양을 조절한다.
일 실시예에 있어서, 상기 노즐은 상기 기판의 제 1 방향을 따라 가장자리 영역 및 중앙 영역에 복수개 배열된다.
일 실시예에 있어서, 상기 제 1 방향과 교차하는 기판의 제 2 방향을 따라 상기 노즐을 이송시키면서 기판의 가장자리 영역 및 중앙 영역에 다같이 유기막 원소재를 도포한다.
일 실시예에 있어서, 상기 기판의 가장자리 영역은 상기 중앙 영역에 이웃하는 에지 크롤링이 시작되는 라인으로부터 기판의 일측 가장자리인 에지 라인까지의 영역을 포함하며, 상기 기판의 가장자리 영역에서는 가변 조정부를 구동시켜서 유기막 원소재의 양을 조절하여 도포한다.
일 실시예에 있어서, 상기 에지 크롤링이 시작되는 라인으로부터 에지 라인까지 영역별로 각 노즐마다 상기 가변 조정부에 의하여 서로 다른 양의 유기막 원소재를 도포한다.
일 실시예에 있어서, 상기 에지 크롤링이 시작되는 라인으로부터 에지 라인까지 영역별로 각 노즐의 주파수를 가변시켜서 유기막 원소재가 도포되는 간격을 조절한다.
일 실시예에 있어서, 상대적으로 높은 주파수가 인가되는 노즐로부터 상대적으로 낮은 주파수가 인가되는 노즐로 갈수록 유기막 원소재가 도포되는 간격이 늘어난다.
일 실시예에 있어서, 상기 에지 크롤링이 시작되는 라인으로부터 에지 라인까지 각 영역별로 각 노즐의 전압을 가변시켜서 유기막 원소재의 양을 조절한다.
일 실시예에 있어서, 상대적으로 높은 전압이 인가되는 노즐로부터 상대적으로 낮은 전압이 인가되는 노즐로 갈수록 도포되는 유기막 원소재의 양이 줄어든다.
일 실시예에 있어서, 상기 에지 크롤링이 시작되는 라인으로부터 상기 에지 라인으로 갈수록 유기막 원소재의 양이 줄어든다.
일 실시예에 있어서, 상기 기판의 중앙 영역에서는 가변 조정부를 구동하지 않고, 일정 전압으로 유기막 원소재를 도포한다.
일 실시예에 있어서, 상기 유기막의 두께가 4 마이크로미터 이상으로 형성시에는 상기 가장자리 영역에서 최고의 높이를 나타내는 지점과 중앙 영역의 최저 높이를 나타내는 지점과의 차이는 100 나노미터 이하로 형성된다.
일 실시예에 있어서, 상기 유기막층은 잉크젯 방식에 의하여 형성된다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 플렉서블 디스플레이 장치는,
플렉서블 기판;
상기 플렉서블 표시 기판 상에 형성된 디스플레이부; 및
상기 디스플레이부를 커버하며, 적어도 하나의 유기막 및 적어도 하나의 무기막이 적층된 박막 봉지층;을 포함하되,
상기 박막 봉지층의 유기막은 기판의 가장자리 영역 및 중앙 영역에 걸쳐서 두께 차이가 100 나노미터 이하로 형성된다.
일 실시예에 있어서, 상기 기판의 가장자리 영역은 상기 중앙 영역에 이웃하는 에지 크롤링이 시작되는 라인으로부터 기판의 일측 가장자리인 에지 라인까지의 영역을 포함하며, 상기 유기막의 두께가 4 마이크로미터 이상으로 형성되며, 상기 가장자리 영역에서 최고 높이를 나타내는 지점과 상기 중앙 영역의 최저 높이를 나타내는 지점과의 차이가 100 나노미터 이하이다.
일 실시예에 있어서, 상기 유기막은 에폭시, 폴리이미드, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌, 폴리아크릴레이트 중에서 선택된 어느 하나이다.
일 실시예에 있어서, 상기 무기막은 알루미늄 옥사이드, 지르코늄 옥사이드, 징크 옥사이드, 티타늄 옥사이드, 크롬 옥사이드, 마그네슘 옥사이드, 실리콘 나이트라이드, 실리콘 옥시나이트라이드, 실리콘 옥사이드, 실리콘 카바이드 중에서 선택된 어느 하나이다.
일 실시예에 있어서, 상기 디스플레이부는, 적어도 하나의 박막 트랜지스터; 및 상기 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결되며, 제 1 전극과, 유기 발광층을 구비한 중간층과, 제 2 전극을 구비한다.
일 실시예에 있어서, 상기 유기막과 무기막은 상기 디스플레부 상에 직접적으로 형성된다.
일 실시예에 있어서, 상기 유기막은 잉크젯 방식에 의하여 형성된다.
이상과 같이, 본 발명의 플렉서블 디스플레이 장치와, 이의 제조 방법은 기판의 중앙 영역과 가장자리 영역에서 균일한 두께를 가지는 박막 봉지층의 유기막을 형성할 수 있다.
본 발명의 효과는 상술한 내용 이외에도, 도면을 참조하여 이하에서 설명할 내용으로부터도 도출될 수 있음은 물론이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉서블 디스플레이 장치가 펴진 상태를 도시한 사시도이다.
도 2는 도 1의 플렉서블 디스플레이 장치가 휜 상태를 도시한 사시도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉서블 디스플레이 장치의 일 서브 픽셀을 도시한 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 상에 유기막 원소재가 도포된 것을 도시한 평면도이다.
도 5는 도 4의 기판 상에 유기막 원소재가 도포된 것을 도시한 그래프이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 상에 유기막 원소재가 도포된 것을 두께별로 도시한 그래프이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 상에 유기막 원소재가 도포된 것을 도시한 평면도이다.
도 8은 도 7의 기판 상에 유기막 원소재가 도포된 것을 도시한 그래프이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 상에 유기막 원소재를 도포하는 잉크젯 시스템의 개략적인 구성도이다.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 상에 유기막 원소재를 형성하는 것을 도시한 순서도이다.
도 11은 비교예에 따른 기판 상에 유기막 원소재가 도포된 것을 도시한 평면도이다.
도 12는 도 11의 기판 상에 유기막 원소재가 도포된 것을 도시한 그래프이다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고, 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
제 1, 제 2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 구성 요소들은 용어들에 의하여 한정되어서는 안된다. 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, “포함한다” 또는 “가지다” 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
이하, 본 발명에 따른 플렉서블 디스플레이 장치와, 이의 제조 방법의 일 실시예를 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉서블 디스플레이 장치(100)가 펴진 상태를 도시한 사시도이고, 도 2는 도 1의 플렉서블 디스플레이 장치(100)가 휜 상태를 도시한 사시도이다.
본 실시예에 있어서, 상기 플렉서블 디스플레이 장치(100)는 유기 발광 디스플레이 장치를 예를 들어 설명하나, 액정 디스플레이 장치(Liquid crystal display device)나, 전계 방출 디스플레이 장치(Field emission display device)나, 전자 종이 디스플레이 장치(Electronic paper display device) 등 다른 플렉서블 디스플레이 장치에도 적용할 수 있다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 상기 플렉서블 디스플레이 장치(100)는 화상을 표시하는 플렉서블 디스플레이 패널(110)과, 상기 플렉서블 디스플레이 패널(110)이 설치되는 플렉서블 홀더(120)를 포함한다. 상기 플렉서블 디스플레이 패널(110)은화면을 구현하기 위한 디스플레이부가 형성된 플렉서블 기판 뿐만 아니라, 터치 스크린(Touch screen), 편광판 등 다양한 필름을 포함한다.
상기 플렉서블 디스플레이 장치(100)는 펼쳐진 형상이나, 소정 각도로 벤딩된 형상이나, 원통형으로 감겨진 형상 등 다양한 형상으로 변형가능하며, 사용자는 다양한 각도에서 화상을 감상할 수 있다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉서블 디스플레이 장치(300)의 일 서브 픽셀을 도시한 것이다.
여기서, 서브 픽셀들은 적어도 하나의 박막 트랜지스터(TFT)와, 유기 발광 소자(OLED)를 가진다. 상기 박막 트랜지스터는 반드시 도 3의 구조로만 가능한 것은 아니며, 그 수와 구조는 다양하게 변형가능하다.
도면을 참조하면, 상기 플렉서블 디스플레이 장치(300)는 디스플레이부(310)를 포함한다. 상기 디스플레이부(310)는 화상을 표시할 수 있다.
상기 디스플레이부(310)는 플렉서블 기판(311)을 포함한다. 상기 플렉서블 기판(311)은 유연성을 가지는 절연성 소재일 수 있다. 예컨대, 상기 플렉서블 기판(311)은 폴리이미드(polyimide, PI)나, 폴리 카보네이트(polycarbonate, PC)나, 폴리 에테르 설폰(polyethersulphone, PES)이나, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate, PET)나, 폴리에틸렌 나프탈레이트(polyethylenenaphthalate, PEN)나, 폴리아릴레이트(polyarylate, PAR)나, 유리섬유 강화플라스틱(fiber glass reinforced plastic, FRP) 등의 고분자 소재를 포함할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 상기 플렉서블 기판(311)은 휘어질 수 있는 얇은 두께를 가지는 글래스로 형성될 수 있다.
상기 플렉서블 기판(311)은 투명하거나, 반투명하거나, 불투명할 수 있다.
상기 플렉서블 기판(311) 상에는 버퍼막(312)이 형성될 수 있다. 상기 버퍼막(312)은 상기 플렉서블 기판(311)의 표면을 평활하게 하고, 수분이나, 외기의 침투를 방지하는 역할을 한다. 상기 버퍼막(312)은 실리콘 옥사이드(SiOx), 실리콘 나이트라이드(SiNx), 실리콘 옥시나이트라이드(SiOxNy), 알루미늄 옥사이드(AlOx), 알루미늄나이트라이드(AlOxNy) 등의 무기막이나, 아크릴, 폴리이미드, 폴리에스테르 등의 유기막 중에서 선택된 어느 하나를 포함할 수 있다. 상기 버퍼막(312)은 단일막, 또는, 다층막으로 형성될 수 있다.
상기 버퍼막(312) 상에는 박막 트랜지스터(thin film transistor, TFT)가 형성될 수 있다. 본 실시예에 따른 박막 트랜지스터는 탑 게이트(top gate) 방식의 박막 트랜지스터를 예시하나, 바텀 게이트(bottom gate) 방식 등 다른 구조의 박막 트랜지스터가 구비될 수 있음은 물론이다.
상기 버퍼막(312) 상에는 반도체 활성층(313)이 형성될 수 있다. 상기 반도체 활성층(313)에는 N형 불순물 이온이나, P형 불순물 이온을 도핑하는 것에 의하여 소스 영역(314)과, 드레인 영역(315)이 형성될 수 있다. 상기 소스 영역(314)과, 드레인 영역(315) 사이의 영역은 불순물이 도핑되지 않는 채널 영역(316)이다.
상기 반도체 활성층(313)은 비정질 실리콘(amorphous silicon), 또는, 폴리 실리콘(poly silicon)과 같은 무기 반도체나, 유기 반도체가 사용될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 반도체 활성층(313)은 산화물 반도체로 형성될 수 있다. 예컨대, 산화물 반도체는 아연(Zn), 인듐(In), 갈륨(Ga), 주석(Sn), 카드뮴(Cd), 게르마늄(Ge), 하프늄(Hf)과 같은 4, 12, 13, 14족 금속 원소 및 이들의 조합에서 선택된 물질의 산화물을 포함한다.
상기 반도체 활성층(313) 상에는 게이터 절연막(317)이 증착될 수 있다. 상기 게이트 절연막(317)은 실리콘 옥사이드나, 실리콘 나이트라이드나, 금속 산화물과 같은 무기막을 포함할 수 있다. 상기 게이트 절연막(317)은 단일층, 또는, 복층의 구조일 수 있다.
상기 게이트 절연막(317) 상의 소정 영역에는 게이트 전극(318)이 형성될 수 있다. 상기 게이트 전극(318)은 Au, Ag, Cu, Ni, Pt, Pd, Al, Mo, Cr 등의 단일막, 또는, 다층막을 포함할 수 있다. 상기 게이트 전극(318)은 Al:Nd, Mo:W 와 같은 합금을 포함할 수 있다.
상기 게이트 전극(318) 상에는 층간 절연막(319)이 형성될 수 있다. 상기 층간 절연막(319)은 실리콘 옥사이드나, 실리콘 나이트라이드 등과 같은 무기막으로 형성될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 상기 층간 절연막(319)은 유기막을 포함할 수 있다.
상기 층간 절연막(319) 상에는 소스 전극(320)과, 드레인 전극(321)이 형성되어 있다. 구체적으로, 상기 게이트 절연막(317) 및 층간 절연막(319)에는 이들을 선택적으로 제거하는 것에 의하여 콘택 홀이 형성되고, 콘택 홀을 통하여 소스 영역(314)에 대하여 소스 전극(320)이 전기적으로 연결되고, 드레인 영역(315)에 대하여 드레인 전극(321)이 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 소스 전극(320)과, 드레인 전극(321) 상에는 패시베이션막(322)이 형성될 수 있다. 상기 패시베이션막(322)은 실리콘 옥사이드나, 실리콘 나이트라이드와 같은 무기막, 또한, 유기막으로 형성시킬 수 있다.
상기 패시베이션막(322) 상에는 평탄화막(323)이 형성될 수 있다. 상기 평탄화막(323)은 아크릴(acryl), 폴리이미드(polyimide), BCB(Benzocyclobutene) 등의 유기막을 포함할 수 있다.
상기 패시베이션막(322)과, 평탄화막(323)중 어느 하나는 생략할 수 있다.
상기 박막 트랜지스터의 상부에는 유기 발광 소자(OLED)가 형성될 수 있다.
유기 발광 소자(OLED)는 상기 평탄화막(323) 상에 형성된다. 상기 유기 발광 소자(OLED)는 제 1 전극(325), 유기 발광층을 포함하는 중간층(326), 및 제 2 전극(327)을 포함한다.
픽셀 정의막(324)은 상기 평탄화막(323) 및 상기 제 1 전극(325)의 일부를 커버한다. 상기 픽셀 정의막(324)은 유기막, 또는, 무기막으로 형성할 수 있다. 이를테면, 이를테면, 상기 픽셀 정의막(324)은 폴리이미드, 폴리아마이드, 벤조사이클로부텐, 아크릴 수지, 페놀 수지 등과 같은 유기물이나, SiNx와 같은 무기물로 형성할 수 있다. 상기 픽셀 정의막(324)은 단일막, 또는, 다중막으로 구성될 수 있다.
유기 발광 소자(OLED)의 제 1 전극(325)과, 제 2 전극(327)에서 주입되는 정공과 전자는 중간층(326)의 유기 발광층에서 결합하면서 빛이 발생할 수 있다.
상기 중간층(326)은 유기 발광층을 구비할 수 있다. 선택적인 다른 예로서, 상기 중간층(326)은 유기 발광층(emissive layer)을 구비하고, 그 외에 정공 주입층(hole injection layer, HIL), 정공 수송층(hole transport layer, HTL), 전자 수송층(electron transport layer, ETL), 전자 주입층(electron injection layer, EIL)중 적어도 어느 하나를 더 구비할 수 있다. 본 실시예에서는 이에 한정되지 않고, 상기 중간층(326)이 유기 발광층을 구비하고, 기타 다양한 기능층을 더 구비할 수 있다.
상기 제 2 전극(327)은 상기 중간층(326) 상에 형성될 수 있다. 상기 제 2 전극(327)은 제 1 전극(325)과 전계를 형성하여, 상기 중간층(326)에서 빛이 방출될 수 있게 한다. 제 1 전극(325)은 픽셀마다 패터닝될 수 있으며, 제 2 전극(327)은 모든 픽셀에 걸쳐 공통된 전압이 인가되도록 형성될 수 있다.
제 1 전극(325) 및 제 2 전극(327)은 투명 전극 또는 반사형 전극을 구비할 수 있다.
제 1 전극(325)은 애노우드로 기능하는 것으로서, 다양한 도전성 소재로 형성될 수 있다. 상기 제 1 전극(325)은 투명 전극이나, 반사형 전극으로 형성될 수 있다.
이를테면, 상기 제 1 전극(325)이 투명 전극으로 사용시, 상기 제 1 전극(325)은 ITO, IZO, ZnO, In2O3 등의 투명 도전막을 포함한다. 상기 제 1 전극(325)이 반사형 전극으로 사용시, 상기 제 1 전극(325)은 Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr 및 이들의 화합물 등으로 반사막을 형성하고, 이후, 상기 반사막의 상부에 ITO, IZO, ZnO, In2O3 등의 투명 도전막을 형성할 수 있다.
상기 제 2 전극(327)은 캐소우드로 기능할 수 있다. 상기 제 2 전극(327)은 제 1 전극(325)과 마찬가지로 투명 전극, 또는, 반사형 전극으로 형성될 수 있다.
예컨대, 상기 제 2 전극(327)이 투명 전극으로 사용시, 일 함수가 작은 금속, 즉, Li, Ca, LiF/Ca, LiF/Al, Al, Mg 및 이들의 화합물이 중간층(326) 상에 증착되고, 이후, 상기 금속 및 이들의 화합물 위에 ITO, IZO, ZnO, In2O3 등의 투명 도전막이 더 형성할 수 있다. 상기 제 2 전극(327)이 반사형 전극으로 사용시, Li, Ca, LiF/Ca, LiF/Al, Al, Mg 및 이들의 화합물로 형성할 수 있다.
상기 제 1 전극(325)은 애노우드로, 상기 제 2 전극(327)은 캐소우드로 기능할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 예를 들면, 제 1 전극(325)이 캐소우드로, 제 2 전극(327)이 애노우드로 기능할 수 있다.
각 유기 발광 소자(OLED)마다 하나의 픽셀을 형성할 수 있으며, 각 픽셀별로 적색, 녹색, 청색 또는 백색의 색을 구현할 수 있다. 그러나, 본 개시는 이에 한정되지 않는다. 상기 중간층(326)은 픽셀의 위치에 관계없이 제 1 전극(325) 전체에 공통으로 형성될 수 있다. 이때, 유기 발광층은 예를 들어 적색, 녹색, 및 청색의 빛을 방출하는 발광 물질을 포함하는 층이 수직으로 적층되거나, 적색, 녹색, 및 청색의 빛을 방출하는 발광 물질이 혼합되어 형성될 수 있다. 백색광을 방출할 수 있다면, 다른 색의 조합이 가능함은 물론이다. 방출된 백색광을 소정의 컬러로 변환하는 색변환층이나, 컬러 필터를 더 구비할 수 있다.
상기 제 2 전극(327) 상에는 유기 발광 소자(OLED)를 보호하기 위한 캐핑층(capping layer, 328)이 더 형성될 수 있다.
상기 유기 발광 소자의 상부에는 박막 봉지층(340)이 형성될 수 있다. 상기 박막 봉지층(340)은 외부의 수분이나 산소 등으로부터 중간층(326) 및 다른 박막을 보호하기 위하여 형성된다.
상기 박막 봉지층(340)은 적어도 하나의 무기막(341)과, 적어도 하나의 유기막(342)이 적층된 구조일 수 있다. 예컨대, 상기 무기막(341)은 제 1 무기막(343), 제 2 무기막(344), 제 3 무기막(345), 및 제 4 무기막(346)을 포함할 수 있다. 상기 유기막(342)은 제 1 유기막(347) 및 제 2 유기막(348)을 포함할 수 있다. 상기 캐핑층(328)과 제 1 무기막(343) 사이에는 리튬 플루오라이드(LiF)를 포함하는 할로겐화 금속막(349)이 더 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서, 상기 박막 봉지층(340)은 상기 유기 발광 소자(OLED)와 대향되는 부분으로부터 멀어지는 방향으로 리튬 플루오라이드(LiF)를 포함하는 할로겐화 금속막(349), 제 1 알루미늄 옥사이드(AlOx)를 포함하는 제 1 무기막(343), 제 1 모노머를 포함하는 제 1 유기막(347), 제 1 실리콘 나이트라이드(SiNx)를 포함하는 제 2 무기막(344), 제 2 모노머를 포함하는 제 2 유기막(348), 제 2 실리콘 나이트라이드(SiNx)를 포함하는 제 3 무기막(345), 제 2 알루미늄 옥사이드(AlOx)를 포함하는 제 4 무기막(346)이 순차적으로 적층될 수 있다.
상기 리튬 플루오라이드(LiF)를 포함하는 할로겐화 금속막(349)은 상기 제 1 무기막(343)의 증착시 발생되는 강한 플라즈마로부터 캐핑층(328)을 포함한 유기 발광층(330)을 보호하기 위한 버퍼층이다. 상기 할로겐화 금속막(349)은 증발기(evaporator)를 이용하여 증착시킬 수 있다.
상기 제 1 알루미늄 옥사이드(AlOx)를 포함하는 제 1 무기막(343)은 스퍼터링 방식으로 증착시킬 수 있다. 상기 할로겐화 금속막(349)/제 1 무기막(343)은 H2O나 O2와 같은 가스의 분배(distribution) 역할을 할 수 있다.
제 1 모노머를 포함하는 제 1 유기막(347)은 하부 층의 평탄화 및 입자 커버리지(coverage) 역할을 한다. 상기 제 1 유기막(347)은 잉크젯 방식으로 형성할 수 있다.
제 1 실리콘 나이트라이드(SiNx)를 포함하는 제 2 무기막(344)은 메인 배리어층으로서 역할을 한다. 상기 제 2 무기막(344)은 H2O나 O2의 투습을 방지한다. 상기 제 2 무기막(344)은 화학기상장치(chemical vapor deposition, CVD) 방식으로 증착할 수 있다.
제 2 모노머를 포함하는 제 2 유기막(348)은 하부 층의 평탄화 및 입자 커버리지 역할을 한다. 상기 제 2 유기막(348)은 잉크젯 방식으로 형성할 수 있다.
제 2 실리콘 나이트라이드(SiNx)를 포함하는 제 3 무기막(345)은 배리어 기능을 수행하는 것으로서, H2O나 O2의 투습을 방지한다. 상기 제 3 무기막(345)은 화학기상장치 방식으로 증착할 수 있다.
제 2 알루미늄 옥사이드(AlOx)를 포함하는 제 4 무기막(346)은 스퍼터링 방식으로 증착할 수 있다.
한편, 상기 무기막(341)은 금속 산화막, 예컨대, 알루미늄 옥사이드(AlOx), 지르코늄 옥사이드(ZrOx), 징크 옥사이드(ZnOx), 티타늄 옥사이드(TiOx), 크롬 옥사이드(CrO), 마그네슘 옥사이드(MgO)이거나, 또는, 실리콘 나이트라이드(SiNx), 실리콘 옥시나이트라이드(SiOxNy), 실리콘 옥사이드(SiOx), 실리콘 카바이드(SiCx) 중에서 선택된 어느 하나일 수 있다.
상기 유기막(342)은 에폭시(Epoxy), 폴리이미드(PI), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리에틸렌(PE), 폴리아크릴레이트(Polyacrylate) 중에서 적어도 어느 하나를 선택할 수 있다.
상기 박막 봉지층(340)은 무기막(341)이 적어도 2층의 구조를 가지고, 유기막(342)이 적어도 1층의 구조를 가질 수 있다. 상기 박막 봉지층(340)중 외부로 노출되는 최상층(346)은 유기 발광 소자(OLED)에 대한 투습을 방지하기 위하여 무기막으로 형성시킬 수 있다.
상기 박막 봉지층(340)에 구비된 무기막(341)과 유기막(342)은 상기 디스플레이부(310)가 형성된 플렉서블 기판(311) 상에 직접적으로 적층될 수 있다.
이때, 상기 무기막(341)은 CVD 증착 방식에 의하여 형성될 수 있다. 상기 유기막(342)은 진공 플래시 증착(vacuum flash evaporation) 방식이나, 잉크젯(ink-jet) 방식 등에 의하여 형성될 수 있다.
상기 유기막(342)을 증착 방식에 의하여 형성시킬 경우, 마스크를 이용하여 증착하게 된다. 따라서, 마스크 및 방착판 교체를 주기적으로 시행해야 하고, 마스크 하단 가장자리 부분에 모노머가 퍼지는 것을 제거하기 위하여 추가적인 공정이 필요하다. 또한, 유기막 원소재의 사용 효율이 좋지 않다.
이러한 점을 개선하기 위하여, 상기 유기막(342)을 잉크젯 방식에 의하여 형성시킬 경우, 상기 유기막(342)이 도포되는 중앙 영역에 비하여 가장자리 영역에서 유기막(342)의 두께가 증가되는 에지 크롤링(edge crawling) 현상이 발생할 수 있다. 에지 크롤링 현상은 상기 디스플레이부(310)에서 에지부 무라(mura)로 인식될 수 있다.
본 실시예에 있어서, 에지 크롤링 현상을 최소화시키기 위하여 가변 조정부를 이용하여 유기막(342)을 형성시킬 수 있다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판(401) 상에 유기막 원소재가 도포된 것을 도시한 평면도이고, 도 5는 도 4의 기판 상에 유기막 원소재가 도포된 것을 도시한 그래프이다.
도 4 및 도 5를 참조하면, 기판(401) 상에는 잉크젯 방식에 의하여 다수의 박막 증착용 유기막 원소재의 액적(402 내지 405)이 도포될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 상기 기판(401)은 디스플레이부가 형성된 플렉서블 기판일 수 있다.
상기 기판(401)에는 중앙 영역(center area, CA)과, 상기 중앙 영역(CA)의 바깥쪽으로 연장되는 가장자리 영역(edge area, EA)이 형성될 수 있다. 상기 가장자리 영역(EA)은 상기 중앙 영역(CA)에 이웃하는 에지 크롤링이 시작되는 라인(EL1)으로부터 기판의 일측 가장자리인 에지 라인(EL2)까지의 영역을 포함한다. 도시되어 있지 않지만, 상기 가장자리 영역(EA)은 상기 기판(410)의 일측과 반대되는 상기 기판(410)의 타측에도 상기 중앙 영역(CA)의 바깥쪽으로 연장되어 형성될 수 있다.
상기 기판(401) 상에 형성되는 액적(402 내지 405)은 노즐에 의하여 도포되기 위하여 상기 기판(401)의 X축 방향(도 4의 가로 방향)으로 복수의 노즐이 배치되며, 복수의 노즐은 상기 기판(401)의 Y축 방향(도 4의 세로 방향)으로 다같이 이동되면서 상기 기판(401) 상에 액적(402 내지 405)을 도포할 수 있다.
상기 기판(401)의 중앙 영역(CA)에는 상기 박막 증착용 유기막 원소재의 액적(402)이 균일하게 도포될 수 있다. 이에 반하여, 상기 기판(401)의 가장자리 영역(EA)에서는 노즐로부터 토출되는 액적(403 내지 405)의 토출량 편차에 의하여 에지 크롤링 현상이 발생하게 된다.
상기한 에지 크롤링 현상을 최소화시키기 위하여, 가장자리 영역(EA)을 가변 조정부에 의하여 조절하여서 토출되는 유기막 원소재의 액적량을 조절하게 된다.
구체적으로, 상기 중앙 영역(CA)에 이웃하는 에지 크롤링이 시작되는 라인(EL1)으로부터 기판(401)의 일측 가장자리인 에지 라인(EL2)까지 영역별로 각 노즐마다 가변 조정부에 의하여 서로 다른 양의 유기막 원소재의 액적(403 내지 405)을 도포하게 된다.
즉, 상기 에지 크롤링이 시작되는 라인(EL1)으로부터 상기 에지 라인(EL2)까지 영역별로 각 노즐에 인가되는 주파수를 가변시키는 것에 의하여 유기막 원소재의 액적(403 내지 405)의 도포되는 간격을 조절하게 된다. 이에 따라, 유기막 원소재의 액적량을 조절하게 된다. 상대적으로 높은 주파수가 인가되는 노즐로부터 상대적으로 낮은 주파수가 인가되는 노즐로 갈수록 유기막 원소재 액적의 도포되는 간격이 늘어나게 된다.
예컨대, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 에지 크롤링이 시작되는 라인(EL1)에 인접하게 위치한 영역에서는 상대적으로 높은 주파수를 인가하여 5개의 제 1 액적(403)이 도포되고, 제 1 액적(403)이 도포된 영역으로부터 상기 에지 라인(EL2)으로 갈수록 점차적으로 낮은 주파수가 인가되어서 각각 4개의 제 2 액적(404)과, 3개의 제 3 액적(405)이 도포하게 된다.
이처럼, 에지 크롤링이 시작되는 라인(EL1)으로부터 에지 라인(EL2)으로 갈수록 주파수를 가변시키는 것에 의하여 토출되는 유기막 원소재 액적의 도포되는 간격을 늘이는 것에 의하여 액적량을 조절하게 된다.
본 출원인의 실험에 따르면, 가장자리 영역(EA)에서 영역별로 주파수를 가변시키는 것에 의하여 상기 기판(401) 상에 8 마이크로미터의 두께를 가지도록 유기막을 형성시킬 경우, 도 5에 도시된 바와 같이, 1.2 밀리미터의 간격을 가지는 에지 영역(EL1에서 EL2까지의 영역)에서 높이 차이(h1)가 50 나노미터 이하가 되었다. 상기 높이 차이(h1)는 가장자리 영역(EA)에서 최고의 높이를 나타내는 지점과 중앙 영역(CA)의 최저 높이를 나타내는 지점과의 차이에 해당된다. 50 나노미터는 실질적으로 두께 불균일에 의하여 발생될 수 있는 무라를 인식하지 못할 수치값이다.
한편, 기판(401)의 중앙 영역(CA)에서는 가장자리 영역(EA)과는 달리 가변 조정부를 구동하지 않고 일정 전압을 인가하여 상기 박막 증착용 유기막 원소재의 액적(402)을 도포하게 된다.
이와 비교되는 비교예에 따른 가변 조정부를 구동시키지 않고 박막 증착용 유기막 원소재를 도포한 결과는 도 11 및 도 12에 도시된 바와 같다.
도 11 및 도 12를 참조하면, 기판(1101)의 중앙 영역(CA)과, 상기 중앙 영역(CA)의 바깥쪽으로 연장되는 가장자리 영역(EA)에는 주파수나 전압을 가변시키지 않고 박막 증착용 유기막 원소재 액적(1102 내지 1104)을 도포하게 된다. 이때, 가장자리 영역(EA)은 중앙 영역(CA)에 이웃하는 에지 크롤링이 시작되는 라인(EL7)으로부터 기판(1101)의 일측 가장자리인 에지 라인(EL8)까지 영역을 포함한다.
본 출원인의 실험에 따르면, 중앙 영역(EA) 및 가장자리 영역(EA)에서 가변 조정부를 구동하지 않고 상기 기판(1101) 상에 8 마이크로미터의 두께를 가지도록 유기막을 형성시킬 경우, 2.6 밀리미터의 간격을 가지는 에지 영역(EL7에서 EL8까지의 영역)에서 높이 차이(h3)가 831nm가 되었다. 상기 높이 차이(h3)는 가장자리 영역(EA)에서 최고의 높이를 나타내는 지점과 중앙 영역(CA)의 최저 높이를 나타내는 지점과의 차이에 해당된다.
도 5 및 도 12를 비교하여 보면, 동일한 두께의 박막 봉지층의 유기막을 형성시, 본 실시예에 따른 가변 조정부를 구동하여 유기막 원소재를 가장자리 영역(EA)에 도포할 경우가 비교예에 따른 가변 조정부를 구동하지 않고 유기막 원소재를 도포할 경우보다 가장자리 영역(EA)에서의 최고의 높이를 나타내는 지점과 중앙 영역(CA)에서 최저 높이를 나타내는 지점과의 차이가 훨씬 적음을 알 수 있다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 상에 유기막 원소재가 도포된 것을 두께별로 도시한 그래프이다.
도 6의 그래프는 박막 봉지층의 유기막을 형성시 기판의 가장자리 영역(EA)에서 두께가 불균일하게 나타나는 현상을 해결하기 위하여 유기막 원소재가 도포되는 가장자리 영역(CA), 즉, 에지 크롤링이 시작되는 라인(EL3)로부터 에지 라인(EL4)까지 영역별로 주파수를 가변시켜서 국부적으로 유기막 원소재의 양을 줄여 보상되는 거리별 두께 단면도를 나타낸 것이다.
도면을 참조하면, A 내지 I 커브는 가장자리 보상 적용 거리를 나타낸 것으로서, A 커브에서 I 커브 순으로 가장자리 영역의 보상 적용 거리는 각각 0 mm(A 커브), 0.3mm(B 커브), 0.6 mm(C 커브), 0.9 mm(D 커브), 1.2 mm(E 커브), 1.5 mm (F 커브), 1.8 mm(G 커브), 2.1 mm(H 커브), 2.5 mm(I 커브)이다. 이때, 보상 적용 거리가 0 mm 라함은 가변 주파수를 인가하지 않은 경우이며, B 커브에서 I 커브로 갈수록 가변 주파수를 높게 인가하는 경우이다.
상기 기판(1101) 상에 8 마이크로미터의 두께를 가지도록 유기막을 형성할 경우, 에지 영역으로부터 1.2 밀리미터(E 커브)까지 적용시 가장자리 영역과 중앙 영역의 높이 차이가 최소화되어서 에지 크롤링 현상이 최소화됨을 알 수 있다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판(701) 상에 유기막 원소재가 도포된 것을 도시한 평면도이고, 도 8은 도 7의 기판(701) 상에 유기막 원소재가 도포된 것을 도시한 그래프이다.
도 7 및 도 8을 참조하면, 상기 기판(701) 상에는 잉크젯 방식에 의하여 다수의 박막 증착용 유기막 원소재 액적(702 내지 705)이 도포될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 상기 기판(701)은 디스플레이부가 형성된 플렉서블 기판일 수 있다.
상기 기판(701)은 중앙 영역(CA)과, 상기 중앙 영역(CA)의 바깥쪽으로 연장되며, 상기 중앙 영역(CA)에 이웃하는 에지 크롤링이 시작되는 라인(EL5)로부터 기판의 일측 가장자리인 에지 라인(EL6)까지의 영역을 포함하는 가장자리 영역(EA)이 형성될 수 있다.
상기 기판(701) 상에 형성되는 액적(702 내지 705)은 다같이 도포될 수 있도록 기판(701)의 X축 방향(도 7의 가로 방향)으로 복수의 노즐이 배치되며, 복수의 노즐은 상기 기판(701)의 Y축 방향(도 7의 세로 방향)으로 다같이 이동되면서 상기 기판(701) 상에 액적(702 내지 705)을 도포할 수 있다.
상기 기판(701)의 중앙 영역(CA)에는 가변 조정부를 구동하지 않고, 일정 전압을 인가하는 것에 의하여 박막 증착용 유기막 원소재의 액적(702)이 균일하게 도포될 수 있다.
이에 반하여, 가장자리 영역(EA)에서는 에지 크롤링 현상이 발생하므로, 가장자리 영역(EA)에서는 가변 조정부에 의하여 토출되는 유기막 원소재의 액적량을 조절하게 된다.
구체적으로, 중앙 영역(CA)에 이웃하는 에지 크롤링이 시작되는 라인(EL5)으로부터 기판(701)의 일측 가장자리인 에지 라인(EL6)까지 영역별로 각 노즐마다 가변 조정부에 의하여 서로 다른 양의 유기막 원소재 액적(702 내지 705)을 도포하게 된다.
즉, 상기 에지 크롤링이 시작되는 라인(EL5)으로부터 상기 에지 라인(EL6)까지 영역별로 각 노즐에 인가되는 전압을 가변시키는 것에 의하여 유기막 원소재의 액적(703 내지 705)의 양을 조절하게 된다. 상대적으로 높은 전압이 인가되는 노즐로부터 상대적으로 낮은 전압이 인가되는 노즐로 갈수록 도포되는 유기막 원소재의 액적 양이 줄어들게 된다.
이를테면, 도 7에 도시된 바와 같이, 상기 에지 크롤링이 시작되는 라인(EL5)에 인접하게 위치한 영역에서는 상대적으로 높은 전압을 인가하여 제 1 크기를 가지는 제 1 액적(703)이 도포되고, 제 1 액적(703)이 도포된 영역으로부터 상기 에지 라인(EL6)으로 갈수록 점차적으로 낮은 전압을 인가하여 제 2 크기를 가지는 제 2 액적(704)과, 제 3 크기를 가지는 제 3 액적(705)이 도포된다. 이때, 제 2 액적(704)의 크기는 제 1 액적(703)의 크기보다 작으며, 제 3 액적(705)의 크기는 제 2 액적(704)의 크기보다 작다.
이처럼, 에지 크롤링이 시작되는 라인(EL5)으로부터 에지 라인(EL6)으로 갈수록 전압을 가변시키는 것에 의하여 토출되는 유기막 원소재의 액적 크기를 작게 함으로써, 도포되는 액적 양을 조절할 수 있다.
본 출원인의 실험에 따르면, 가장자리 영역(EA)에서 영역별로 가변 전압을 변경시키는 것에 의하여 상기 기판(701) 상에 8 마이크로미터의 두께를 가지도록 유기막을 형성시킬 경우, 도 8에 도시된 바와 같이, 1.2 밀리미터의 간격을 가지는 에지 영역(EL5에서 EL6까지의 영역)에서 높이 차이(h2)가 50 나노미터 이하가 되었다. 상기 높이 차이(h2)는 가장자리 영역(EA)에서 최고의 높이를 나타내는 지점과 중앙 영역(CA)의 최저 높이를 나타내는 지점과의 차이에 해당된다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판(901) 상에 유기막 원소재를 도포하는 잉크젯 시스템(900)을 도시한 구성도이고, 도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판(901) 상에 유기막 원소재를 형성하는 것을 도시한 순서도이다.
도 9 및 도 10을 참조하면, 박막 봉지층용 유기막 원소재를 준비하게 된다.(S10) 상기 유기막 원소재는 에폭시(Epoxy), 폴리이미드(PI), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리에틸렌(PE), 폴리아크릴레이트(Polyacrylate) 중에서 선택된 액상의 소재일 수 있다.
상기 유기막 원소재 액적(L)은 헤더부(902)의 단부에 설치된 노즐(903)를 통하여 상기 기판(901) 상에 토출될 수 있다. 이때, 상기 노즐(903)은 기판(901)의 제 1 방향을 따라 중앙 영역과 가장자리 영역에 걸쳐서 복수개 배열될 수 있다. 상기 노즐(903)은 기판(901)의 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향을 따라 이송부(905)에 의하여 이송되면서 중앙 영역과 가장자리 영역에 다같이 유기막 원소재를 도포할 수 있다.
다음으로, 상기 기판(901)의 가장자리 영역 및 중앙 영역에 걸쳐서 복수의 노즐(903)을 이용하여 유기막 원소재를 도포하게 된다.
이때, 제어부(906)는 기판(901)의 가장자리 영역에서는 가변 조정부(904)를 구동시켜서 유기막 원소재 양을 조절하여 기판(901) 상에 도포하게 된다(S20).
기판(901)의 가장자리 영역은 에지 크롤링이 시작되는 라인으로부터 에지 라인까지 영역별로 각 노즐(903)마다 상기 가변 조정부(904)에 의하여 서로 다른 양의 유기막 소재를 도포하게 된다. 각 노즐(903)의 가변 전압을 변경하여 유기막 원소재의 양을 조절하거나, 각 노즐(9043)의 가변 주파수를 변경하여 유기막 원소재의 도포되는 간격을 조절하는 것에 의하여 가변 조정부(904)를 구동시키게 된다.
반면에, 기판(901)의 중앙 영역에서는 가변 조정부(904)를 구동시키지 않고, 일정한 전압을 인가하여 유기막 원소재를 상기 기판(901) 상에 도포하게 된다.(S30)
이에 따라, 유기막의 두께가 4 마이크로미터 이상으로 형성시, 상기 기판(901)의 가장자리 영역에서 최고의 높이를 나타내는 지점과, 중앙 영역의 최저 높이를 나타내는 지점과의 차이는 100 나노미터 이하로 형성될 수 있다.
이처럼, 기판(901)의 영역별로 가변 조정부(904)를 선택적으로 구동시켜서 유기막 원소재 양을 조절하여 기판(901) 상에 박막 봉지층용 유기막층을 완성하게 된다.(S40)
300...플렉서블 디스플레이 장치 310...디스플레이부
340...박막 봉지층 341...무기막
342...유기막 344...제 2 무기막
345...제 3 무기막 347...제 1 유기막
348...제 2 유기막 900...잉크젯 시스템
902...헤더부 903...노즐

Claims (20)

  1. 박막 봉지층용 유기막 원소재를 준비하는 단계: 및
    기판의 가장자리 영역 및 중앙 영역에 복수의 노즐을 이용하여 유기막 원소재를 도포하는 단계; 및
    상기 기판 상에 박막 봉지층용 유기막층을 완성하는 단계;를 포함하되,
    상기 기판의 영역별로 가변 조정부를 선택적으로 구동시켜서 유기막 원소재의 양을 조절하는 플렉서블 디스플레이 장치의 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 노즐은 상기 기판의 제 1 방향을 따라 가장자리 영역 및 중앙 영역에 복수개 배열되는 플렉서블 디스플레이 장치의 제조 방법.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 방향과 교차하는 기판의 제 2 방향을 따라 상기 노즐을 이송시키면서 기판의 가장자리 영역 및 중앙 영역에 다같이 유기막 원소재를 도포하는 플렉서블 디스플레이 장치의 제조 방법.
  4. 제 2 항에 있어서,
    상기 기판의 가장자리 영역은 상기 중앙 영역에 이웃하는 에지 크롤링이 시작되는 라인으로부터 기판의 일측 가장자리인 에지 라인까지의 영역을 포함하며,
    상기 기판의 가장자리 영역에서는 가변 조정부를 구동시켜서 유기막 원소재의 양을 조절하여 도포하는 플렉서블 디스플레이 장치의 제조 방법.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 에지 크롤링이 시작되는 라인으로부터 에지 라인까지 영역별로 각 노즐마다 상기 가변 조정부에 의하여 서로 다른 양의 유기막 원소재를 도포하는 플렉서블 디스플레이 장치의 제조 방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 에지 크롤링이 시작되는 라인으로부터 에지 라인까지 영역별로 각 노즐의 주파수를 가변시켜서 유기막 원소재가 도포되는 간격을 조절하는 플렉서블 디스플레이 장치의 제조 방법.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상대적으로 높은 주파수가 인가되는 노즐로부터 상대적으로 낮은 주파수가 인가되는 노즐로 갈수록 유기막 원소재가 도포되는 간격이 늘어나는 플렉서블 디스플레이 장치의 제조 방법.
  8. 제 5 항에 있어서,
    상기 에지 크롤링이 시작되는 라인으로부터 에지 라인까지 각 영역별로 각 노즐의 전압을 가변시켜서 유기막 원소재의 양을 조절하는 플렉서블 디스플레이 장치의 제조 방법.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상대적으로 높은 전압이 인가되는 노즐로부터 상대적으로 낮은 전압이 인가되는 노즐로 갈수록 도포되는 유기막 원소재의 양이 줄어드는 플렉서블 디스플레이 장치의 제조 방법.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 에지 크롤링이 시작되는 라인으로부터 상기 에지 라인으로 갈수록 유기막 원소재의 양이 줄어드는 플렉서블 디스플레이 장치의 제조 방법.
  11. 제 2 항에 있어서,
    상기 기판의 중앙 영역에서는 가변 조정부를 구동하지 않고, 일정 전압으로 유기막 원소재를 도포하는 플렉서블 디스플레이 장치의 제조 방법.
  12. 제 4 항에 있어서,
    상기 유기막의 두께가 4 마이크로미터 이상으로 형성시에는 상기 가장자리 영역에서 최고의 높이를 나타내는 지점과 중앙 영역의 최저 높이를 나타내는 지점과의 차이는 100 나노미터 이하로 형성되는 플렉서블 디스플레이 장치의 제조 방법.
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 유기막층은 잉크젯 방식에 의하여 형성되는 플렉서블 디스플레이 장치의 제조 방법.
  14. 플렉서블 기판;
    상기 플렉서블 표시 기판 상에 형성된 디스플레이부; 및
    상기 디스플레이부를 커버하며, 적어도 하나의 유기막 및 적어도 하나의 무기막이 적층된 박막 봉지층;을 포함하되,
    상기 박막 봉지층의 유기막은 기판의 가장자리 영역 및 중앙 영역에 걸쳐서 두께 차이가 100 나노미터 이하로 형성된 플렉서블 디스플레이 장치.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 기판의 가장자리 영역은 상기 중앙 영역에 이웃하는 에지 크롤링이 시작되는 라인으로부터 기판의 일측 가장자리인 에지 라인까지의 영역을 포함하며,
    상기 유기막의 두께가 4 마이크로미터 이상으로 형성되며,
    상기 가장자리 영역에서 최고 높이를 나타내는 지점과 상기 중앙 영역의 최저 높이를 나타내는 지점과의 차이가 100 나노미터 이하인 플렉서블 디스플레이 장치.
  16. 제 14 항에 있어서,
    상기 유기막은 에폭시, 폴리이미드, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌, 폴리아크릴레이트 중에서 선택된 어느 하나인 플렉서블 디스플레이 장치.
  17. 제 14 항에 있어서,
    상기 무기막은 알루미늄 옥사이드, 지르코늄 옥사이드, 징크 옥사이드, 티타늄 옥사이드, 크롬 옥사이드, 마그네슘 옥사이드, 실리콘 나이트라이드, 실리콘 옥시나이트라이드, 실리콘 옥사이드, 실리콘 카바이드 중에서 선택된 어느 하나인 플렉서블 디스플레이 장치.
  18. 제 14 항에 있어서,
    상기 디스플레이부는,
    적어도 하나의 박막 트랜지스터; 및
    상기 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결되며, 제 1 전극과, 유기 발광층을 구비한 중간층과, 제 2 전극을 구비하는 플렉서블 디스플레이 장치.
  19. 제 14 항에 있어서,
    상기 유기막과 무기막은 상기 디스플레부 상에 직접적으로 형성된 플렉서블 디스플레이 장치.
  20. 제 14 항에 있어서,
    상기 유기막은 잉크젯 방식에 의하여 형성된 플렉서블 디스플레이 장치.
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