KR20160017708A - 풀리 및 이를 가지는 기판 처리 장치 - Google Patents

풀리 및 이를 가지는 기판 처리 장치 Download PDF

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KR20160017708A
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최용구
김형배
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세메스 주식회사
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    • H01L21/67706—Mechanical details, e.g. roller, belt

Abstract

본 발명의 실시예는 기판을 반송 처리하는 장치 및 풀리를 제공한다. 기판 처리 장치는 내부에 기판을 처리하는 처리 공간을 제공하는 공정 챔버, 상기 공정 챔버에서 기판을 제1방향으로 반송하는 반송 어셈블리, 그리고 상기 반송 어셈블리에 의해 지지된 기판 상에 처리액을 공급하는 액 공급 유닛을 포함하되, 상기 반송 어셈블리는 상기 제1방향으로 배열되는 복수 개의 반송 샤프트들, 상기 반송 샤프트들 각각에 복수 개가 장착되며, 기판을 지지하는 반송 롤러, 그리고 상기 반송 샤프트들을 회전시키는 구동 유닛을 포함하되, 상기 구동 유닛은 상기 제1방향으로 배열되며, 상기 반송 샤프트들에 연결되는 풀리들, 인접하는 상기 풀리들의 외측면을 감싸는 벨트, 그리고 상기 풀리를 회전시키는 구동기를 포함하되, 상기 풀리는 그 중앙 영역이 가장자리 영역보다 작은 직경을 가지도록 제공된다. 벨트는 중력에 의해 풀리의 중앙 영역을 감싸는 정위치에 고정될 수 있다.

Description

풀리 및 이를 가지는 기판 처리 장치{Pulley and Apparatus for treating substrate with the pulley}
본 발명은 기판을 처리하는 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판을 반송 처리하는 장치에 관한 것이다.
액정 디스플레이(LCD)와 같은 평판 표시 패널을 제조하기 위해 베이크, 도포, 현상, 식각, 애싱, 그리고 세정 등 다양한 공정들이 요구된다. 이들 공정들 중 현상, 식각, 애싱, 그리고 세정 공정은 케미칼과 같은 처리액으로 기판을 처리하는 액 처리 공정으로 제공된다.
일반적으로 액 처리 공정은 기판을 반송 샤프트 및 반송 롤러에 의해 반송되는 기판 상에 처리액을 공급한다. 복수 개의 반송 샤프트들은 복수 개의 풀리들에 각각 연결되고, 벨트는 풀리들을 감싸도록 제공된다. 구동기는 복수 개의 풀리들 중 하나를 회전시키고, 벨트는 회전력을 다른 풀리들에 전달한다. 이에 따라 복수 개의 풀리들은 동시에 회전되고, 반송 샤프트들은 풀리와 함께 회전된다.
그러나 액 처리 공정은 공정 분위기 또는 파티클에 매우 민감하게 반응한다. 이에 따라 풀리와 벨트에는 이들 간에 마찰력을 줄이기 위한 윤활제가 사용되지 않는다. 도 1은 일반적인 풀림 및 벨트를 보여주는 단면도이다. 도 1을 참조하면, 벨트(4)는 풀리(2)의 중앙 영역을 감싸는 정위치에 위치되어야 한다. 그러나 풀리(2)의 일단이 기울도록 위치되거나, 주변 환경에 따라 벨트(4)는 정위치를 벗어나게 된다. 풀리(2)는 벨트(4)의 일측과 접촉된 상태에서 회전되고, 풀리(2)와 벨트(4) 간에 마찰이 계속적으로 발생된다. 이에 따라 벨트(4)는 풀리(2)에 의해 갈림이 발생되고, 이는 다량의 파티클을 발생시킨다.
또한 풀리(2)에 의해 발생되는 갈림이 지속될수록 벨트(4)는 손상되어 끊어지거나, 풀리들(2) 간에 회전력을 원활하게 전달하지 못한다.
한국 특허 공개 번호 2011-0095029호
본 발명은 풀리를 회전 시 이를 감싸는 벨트가 풀리에 의해 발생되는 마찰을 최소화할 수 있는 장치를 제공하고자 한다.
또한 본 발명은 벨트가 풀리에 의해 발생되는 갈림을 최소화할 수 있는 장치를 제공하고자 한다.
본 발명의 실시예는 기판을 반송 처리하는 장치 및 풀리를 제공한다. 기판 처리 장치는 내부에 기판을 처리하는 처리 공간을 제공하는 공정 챔버, 상기 공정 챔버에서 기판을 제1방향으로 반송하는 반송 어셈블리, 그리고 상기 반송 어셈블리에 의해 지지된 기판 상에 처리액을 공급하는 액 공급 유닛을 포함하되, 상기 반송 어셈블리는 상기 제1방향으로 배열되는 복수 개의 반송 샤프트들, 상기 반송 샤프트들 각각에 복수 개가 장착되며, 기판을 지지하는 반송 롤러, 그리고 상기 반송 샤프트들을 회전시키는 구동 유닛을 포함하되, 상기 구동 유닛은 상기 제1방향으로 배열되며, 상기 반송 샤프트들에 연결되는 풀리들, 인접하는 상기 풀리들의 외측면을 감싸는 벨트, 그리고 상기 풀리를 회전시키는 구동기를 포함하되, 상기 풀리는 그 중앙 영역이 가장자리 영역보다 작은 직경을 가지도록 제공된다.
상기 외측면은 라운드지도록 제공될 수 있다.
풀리는 일측판, 상기 일측판과 마주보는 타측판, 그리고 상기 일측판 및 상기 타측판 사이에 위치되며, 벨트가 감기는 몸체를 포함하되, 상기 몸체의 중앙영역은 가장자리영역에 비해 작은 직경을 가진다.
상기 외측면은 라운드지도록 제공될 수 있다.
본 발명의 실시예에 의하면, 벨트가 감싸는 풀리의 외측면은 중앙 영역이 가장자리 영역보다 작은 원주를 가지도록 제공된다. 이에 따라 벨트는 중력에 의해 풀리의 중앙 영역을 감싸는 정위치에 고정될 수 있다.
또한 본 발명의 실시예에 의하면, 벨트는 정위치에 고정된 채로 회전되므로, 그 일측 또는 타측이 풀리에 마찰되어 갈림이 발생되는 것을 최소화할 수 있다.
도 1은 일반적인 풀리 및 벨트를 보여주는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치를 보여주는 단면도이다.
도 3은 도 2의 반송 어셈블리의 반송 유닛을 보여주는 평면도이다.
도 4는 도 3의 반송 어셈블리의 구동 유닛을 보여주는 측면도이다.
도 5는 도 4의 풀리 및 벨트를 보여주는 단면도이다.
도 6은 도 4의 풀리의 다른 실시예를 보여주는 단면도이다.
본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예로 인해 한정되어 지는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장된 것이다.
본 실시예에서 기판은 평판 표시 패널 제조에 사용되는 글라스(G)을 예로 들어 설명한다. 그러나 이와 달리 기판은 반도체 칩 제조에 사용되는 웨이퍼(W)일 수 있다. 또한 본 실시예에는 기판(G)을 세정 처리하는 공정에 대해 설명한다. 그러나 본 발명의 실시예는 이에 한정되지 않고, 현상, 식각, 그리고 애싱 등 기판을 액 처리하는 공정이라면 다양하게 적용 가능하다. 이하, 본 발명은 도 2 내지 도 6을 참조하여 본 발명의 일 예를 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치를 보여주는 단면도이다. 도 2를 참조하면, 기판 처리 장치는 기판(S)을 세정 처리하는 공정을 수행한다. 기판 처리 장치는 세정 모듈(350) 및 건조 모듈(330)을 포함한다. 세정 모듈(350)은 기판(S) 상에 잔류된 이물을 세정처리하고, 건조 모듈(330)은 기판(S) 상에 잔류된 기판 처리액을 건조 처리한다. 세정 모듈(350) 및 건조 모듈(330)은 제1방향(12)을 따라 순차적으로 배치된다.
세정 모듈(350)은 세정 챔버(351), 액 공급유닛(360), 브러쉬 유닛(310), 그리고 반송 어셈블리(400)를 포함한다. 세정 챔버(351)는 내부에 기판(S)을 처리하는 공간을 가지는 공정 챔버로 제공된다. 세정 챔버(351)는 직육면체 형상을 가지도록 제공된다. 세정 챔버(351)는 내부에 제1처리공간(355)을 제공한다. 세정 챔버(351)의 바닥면에는 배출구(미도시)가 형성된다. 세정 챔버(351)의 양 측단에는 개구(352,353)가 형성된다. 세정 챔버(351)의 일단에 형성된 개구(353)는 기판(S)이 반입되는 입구로 제공되고, 세정 챔버(351)의 타단에 형성된 개구(352)는 기판(S)이 반입되는 출구로 제공된다. 세정 챔버(351)의 출구(352)는 건조 챔버(331)의 입구(333)와 대향되게 위치된다. 세정 챔버(351)의 입구(353) 및 출구(352)는 동일 높이에 형성된다. 세정 챔버(351)의 출구는 건조 모듈(330)과 대향되게 위치된다. 세정 챔버(351)의 제1처리공간(355)은 건조 모듈(330)의 내부와 서로 통하도록 제공된다.
액 공급유닛(360)은 제1처리공간(355)에 위치된 기판(S)으로 처리액을 공급한다. 액 공급유닛(360)은 복수 개의 노즐들(361)을 포함한다. 노즐들(361) 각각은 동일한 형상을 가지도록 제공된다. 노즐(361)은 바 형상을 가지며, 그 길이방향이 제1방향(12)과 수직한 제2방향(14)을 향하도록 제공된다. 노즐들(361) 각각에는 슬릿 형상의 토출홀이 형성된다. 토출홀의 길이방향은 제2방향(14)을 향하도록 제공된다. 일 예에 의하면, 토출홀의 길이는 기판(S)의 폭과 대응되거나 이보다 길게 제공될 수 있다. 복수 개의 노즐들(361) 중 일부는 반송 어셈블리(400)의 상부에 위치되고, 다른 일부는 하부에 위치된다. 상부노즐(361a)에는 토출홀이 아래를 향하도록 제공되고, 하부노즐(361b)에는 토출홀이 위를 향하도록 제공된다. 상부노즐(361a)들은 제1방향(12)을 따라 나란히 위치된다. 하부노즐(361b)들은 제1방향(12)을 따라 나란히 위치된다. 하부노즐(361b)과 상부노즐(361a)은 상하로 서로 마주보도록 위치된다. 일 예에 의하면, 처리액은 기판(S)을 세정 처리하는 케미칼일 수 있다. 케미칼은 강산 또는 강염기의 성질을 가지는 액일 수 있다. 선택적으로 케미칼은 현상액 또는 식각액일 수 있다.
브러쉬 유닛(310)은 기판(S)을 물리적 접촉력을 사용하여 세정한다. 브러쉬 유닛(310)은 액 공급유닛(360)에 의해 세정이 이뤄진 기판(S)을 2 차 세정한다. 브러쉬 유닛(310)는 처리액에 의해 기판(S)에 대한 부착력이 저하된 파티클을 기판(S)으로부터 제거한다. 브러쉬 유닛(310)은 제1처리공간(355)에서 기판(S)의 반송방향에 대해 액 공급유닛(360)보다 하류에 위치된다. 브러쉬 유닛(310)은 상부 브러쉬(312) 및 하부 브러쉬(314)를 포함한다. 상부 브러쉬(312)는 반송 샤프트(412)의 상부에 위치되고, 하부 브러쉬(314)는 반송 샤프트(412)의 하부에 위치된다. 상부 브러쉬(312)는 그 길이방향이 제2방향(14)을 향하도록 제공된다. 상부 브러쉬(312)는 모터(미도시)에 의해 그 중심축을 중심으로 회전된다. 상부 브러쉬(312)는 기판(S)의 폭과 대응되거나 이보다 길게 제공된다.
하부 브러쉬(314)는 반송 샤프트(412)를 중심으로 상부 브러쉬(312)와 상하로 마주보도록 위치된다. 하부 브러쉬(314)는 상부 브러쉬(312)와 동일한 형상을 가지므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.
반송 어셈블리(400)는 기판(S)을 제1방향(12)(12)으로 반송한다. 반송 어셈블리(400)는 세정 모듈(330)과 건조 모듈(350)에 각각 배치된다. 반송 어셈블리(400)는 반송 유닛(410) 및 구동 유닛(430)을 포함한다. 반송 유닛(410)은 기판(S)을 지지 및 반송시키고, 구동 유닛(430)은 반송 유닛(410)에 구동력을 제공한다. 도 3은 도 2의 반송 유닛을 보여주는 평면도이다. 도 3을 참조하면, 반송 유닛(410)은 반송 샤프트(412), 반송 롤러(414), 그리고 가이드 롤러(416)를 포함한다. 반송 샤프트(412)는 복수 개로 제공된다. 각각의 반송 샤프트(412)는 제1방향(12)을 따라 나란히 배치된다. 상부에서 바라볼 때, 각각의 반송 샤프트(412)의 그 길이방향은 제1방향(12)과 수직한 제2방향(14)을 향하도록 제공된다. 각각의 반송 샤프트(412)는 서로 간에 이격되게 배치된다. 반송 샤프트(412)는 세정 모듈(350)의 입구(353) 및 출구(352)에 대응되는 높이에 위치된다. 선택적으로, 반송 샤프트(412)는 기판(S) 상에 잔류된 처리액이 용이하게 제거되도록, 기판(S)을 일정 각도 경사진 상태에서 반송할 수 있다. 반송 샤프트(412)는 그 양단이 서로 상이한 높이를 가지도록 제공될 수 있다. 반송 샤프트(412)들의 양단은 베어링 등의 회전지지부재(미도시)에 의해 지지된다,
반송 롤러(414)는 각각의 반송 샤프트(412)에 복수 개로 제공된다. 반송 롤러(414)는 반송 샤프트(412)에 장착되어 기판(S)의 저면을 지지한다. 반송 롤러(414)는 그 중심축에 홀이 형성되고, 그 홀을 통해 반송 샤프트(412)에 강제 끼움된다. 반송 롤러(414)는 반송 샤프트(412)와 함께 회전된다.
가이드 롤러(416)는 반송 샤프트(412)에 지지된 기판(S)이 슬립되는 것을 방지한다. 가이드 롤러(416)는 서로 인접한 2 개의 반송 샤프트(412)들 사이에 위치된다. 가이드 롤러(416)는 반송 샤프트(412)의 일측부에 인접하게 위치된다. 가이드 롤러(416)는 기판(S)의 일측단을 지지하여 기판(S)이 정위치를 이탈하는 것을 방지한다.
구동 유닛(430)은 반송 샤프트(412)에 회전력을 제공한다. 구동 유닛(430)은 세정 챔버의 외측에 위치된다. 도 4는 도 3의 구동 유닛을 보여주는 측면도이고, 도 5는 도 4의 풀리들 및 벨트를 보여주는 단면도이다. 도 4 및 도 5를 참조하면, 구동 유닛(430)은 구동 샤프트(432), 자성 부재(434), 구동 풀리(442), 연결 풀리(444), 벨트(436), 장력 형성 부재(438), 구동기(439)를 포함한다. 구동 샤프트(432)는 반송 샤프트(412)와 일대일 대응되는 개수로 제공된다. 구동 샤프트(432)는 그 길이방향이 제2방향(14)을 향하며, 제1방향(12)을 따라 나란하게 배열된다. 구동 샤프트(432)는 세정 챔버(351)의 외측에 위치된다. 구동 샤프트(432)는 세정 챔버(351)의 일측벽을 사이에 두고 제2방향(14)에 대해 반송 샤프트(412)와 대향되게 위치된다.
자성 부재(434)는 구동 샤프트(432)의 회전력을 반송 샤프트(412)에 전달한다. 자성 부재(434)는 내측 자석(434a) 및 외측 자석(434b)을 포함한다. 내측 자석(434a)은 반송 샤프트(412)들 각각에 고정 결합된다. 내측 자석(434a)은 반송 샤프트(412)와 함께 회전 가능하도록 제공된다. 내측 자석(434a)은 구동 샤프트(432)와 인접한 반송 샤프트(412)의 일단에 위치된다. 외측 자석(434b)은 구동 샤프트(432)들 각각에 고정 결합된다. 외측 자석(434b)은 구동 샤프트(432)와 함께 회전 가능하도록 제공된다. 외측 자석(434b)은 반송 샤프트(412)와 인접한 구동 샤프트(432)의 타단에 위치된다. 외측 자석(434b)은 내측 자석(434a)과 자력이 작용된다. 따라서 외측 자석(434b)은 구동 샤프트(432)와 함께 회전되고, 자력에 의해 내측 자석(434a) 및 반송 샤프트(412)는 회전된다.
구동 풀리(442)는 몸체(445), 일측판, 그리고 타측판을 가진다. 몸체(445)는 복수 개로 제공되며, 각각은 구동 샤프트(432)에 고정 결합된다. 따라서 몸체(445)들은 제1방향(12)을 따라 일렬로 배열되게 위치된다. 몸체(445)는 원통 형상을 가지도록 제공된다. 몸체(445)는 그 길이방향이 제2방향(14)을 향하도록 제공된다. 몸체(445)의 외측면은 라운드지도록 제공된다. 몸체(445)의 외측면은 일단에서 타탄을 향하는 방향에 대해 라운드지도록 제공된다. 몸체(445)의 외측면은 중앙 영역이 양측 가장자리 영역에 비해 낮은 높이를 가지도록 제공된다. 제2방향(14)에 대해 몸체(445)의 중앙 영역은 가장자리 영역에 비해 작은 원주를 가지도록 제공된다. 일측판 및 타측판은 몸체(445)를 감싸는 벨트(436)가 정위치를 이탈하는 것을 방지한다. 일측판 및 타측판 각각은 원판 형상을 가지도록 제공된다. 일측판은 몸체(445)의 일단에 결합되고, 타측판은 몸체의 타단에 결합된다. 일측판 및 타측판은 몸체(445)의 가장자리 영역에 비해 큰 원주를 가지도록 제공된다. 일측판 및 타측판은 몸체(445)와 그 중심축이 일치되도록 몸체(445)에 결합된다.
연결 풀리(444)는 구동 풀리(442)의 아래에 위치된다. 연결 풀리(444)는 복수 개로 제공되며, 구동 풀리(442)와 동일한 형상을 가지도록 제공된다. 상부에서 바라볼 때 연결 풀리(444)들은 구동 풀리(442)들과 중첩되지 않도록 위치된다. 상부에서 바라볼 때 연결 풀리(444)들은 서로 인접한 2 개의 구동 풀리(442)들의 사이 공간에 위치된다. 일 예에 의하면, 연결 풀리(444)들은 구동 풀리(442)에 비해 적은 개수로 제공될 수 있다. 연결 풀리(444)들은 2 개로 제공될 수 있다. 연결 풀리(444)들은 제1방향(12)을 향하는 제1처리공간의 일단 영역 및 이와 반대되는 타단 영역 각각에 위치될 수 있다.
벨트(436)는 구동 풀리(442)들 간에, 그리고 구동 풀리(442)와 연결 풀리(444) 간에 회전력을 전달한다. 벨트(436)는 복수 개의 구동 풀리(442)들 중 어느 하나가 회전 시 다른 구동 풀리(442)들이 회전되도록 서로 인접한 구동 풀리(442)들에 회전력을 전달한다. 벨트(436)는 구동 풀리(442) 및 연결 풀리(444)를 감싸도록 제공된다. 벨트(436)는 내측면이 구동 풀리(442) 및 연결 풀리(444)에 접촉된다. 따라서 벨트(436)의 상부면은 구동 풀리(442)에 접촉되고, 하부면은 연결 풀리(444)에 접촉된다.
장력 형성 부재(438)는 벨트(436)에 장력을 형성한다. 장력 형성 부재(438)는 상부 롤러(438a) 및 하부 롤러(438b)를 포함한다. 상부 롤러(438a)는 서로 인접한 2 개의 구동 풀리(442)들 사이에 위치된다. 상부 롤러(438a)는 그 하단이 구동 풀리(442)의 상단보다 낮게 위치된다. 상부 롤러(438a)의 하단은 벨트(436)의 상부면에 접촉되게 위치된다. 이에 따라 벨트(436)는 서로 인접한 2 개의 구동 풀리(442)들 사이에서 장력을 형성한다. 하부 롤러(438b)는 연결 풀리(444)들 사이에 위치된다. 하부 롤러(438b)는 그 상단이 연결 풀리(444)의 상단보다 높게 위치된다. 일 예에 의하면, 상부 롤러(438a)는 구동 풀리(442)에 비해 적은 개수로 제공되고, 하부 롤러(438b)는 연결 풀리(444)와 동일한 개수로 제공될 수 있다.
구동기(439)는 구동 샤프트(432)들 중 하나를 회전시킨다. 구동 샤프트(432)는 구동기(439)에 의해 회전되고, 이의 회전력은 풀리 및 벨트(436)에 의해 다른 구동 샤프트(432)들에 전달된다. 각각의 구동 샤프트(432)들이 회전됨에 따라 이와 대향되는 반송 샤프트(412)들은 회전된다.
다시 도2를 참조하면, 건조 모듈(330)은 건조 챔버(331) 및 가스 공급 유닛(345)을 포함한다. 건조 챔버(331)는 내부에 공정이 수행되는 제2처리공간(335)을 가지는 공정 챔버로 제공된다. 건조 챔버(331)는 세정 챔버(351)와 대체로 동일한 형상을 가진다. 건조 챔버(331)의 입구(333)는 세정 챔버(351)의 출구(352)와 대향되게 위치된다. 상술한 바와 같이, 반송 어셈블리(400)는 제1방향(12)을 따라 제1처리공간(355) 및 제2처리공간 각각에 연장되게 위치된다. 반송 어셈블리(400)는 제1처리공간(355)에 제공된 기판(S)을 제1방향(12)에 따라 제2처리공간(335)으로 반송한다.
가스 공급 유닛(345)은 기판(S) 상에 잔류된 수분을 제거한다. 가스 공급 유닛(345)은 기판(S) 상에 건조가스를 공급하여 기판(S)을 건조한다. 예컨대 건조가스는 공기, 질소가스 또는 비활성 가스일 수 있다. 건조 가스는 상온 또는 가열된 상태로 공급될 수 있다. 가스 공급 유닛(345)은 가스 노즐(345)을 포함한다. 가스 노즐(345)은 그 길이방향이 제2방향(14)을 향하도록 제공된다. 가스 노즐(345)은 반송 샤프트(412)를 기준으로 이의 상부 및 하부에 각각 위치된다. 가스 노즐(345)은 기판(S)의 반송 방향에 대해 경사진 방향으로 가스를 분사한다. 일 예에 의하면, 상부 가스 노즐(345a)의 분사구는 기판(S) 상에 잔류하는 수분을 기판(S)의 반송방향과 반대 방향을 밀어내도록 하향 경사진 방향을 향하게 제공될 수 있다. 하부 가스 노즐(345b)의 분사구는 기판(S) 상에 잔류하는 수분을 기판(S)의 반송 방향과 반대방향을 밀어내도록 하향 경사진 방향을 향하게 제공될 수 있다.
상술한 실시예에는 몸체(445)의 외측면이 라운드지며, 중앙 영역이 가장자리 영역에 비해 작은 원주를 가지도록 제공된다. 이에 따라 몸체(445)를 감싸는 벨트(436)는 회전되는 중에 몸체(445)의 가장자리 영역으로 이동되거나 그 설정 위치가 잘못되더라도, 중력에 의해 몸체(445)의 중앙 영역으로 자동 조정된다. 이는 벨트(436)와 각각의 측판(446, 447) 간에 마찰을 방지할 수 있으며, 벨트(436)의 갈림이 발생되는 것을 최소화할 수 있다.
다음은 본 발명의 반송 어셈블리의 다른 실시예에 대해 설명한다. 도 6은 도 4의 풀리의 다른 실시예를 보여주는 단면도이다. 도 6을 참조하면, 구동 풀리(442) 및 연결 풀리(444) 각각의 몸체(445)는 원통 형상을 가지도록 제공될 수 있다. 몸체(445)는 중앙 영역과 가장자리 영역이 동일한 직경을 가지도록 제공될 수 있다. 따라서 몸체(445)를 정면에서 바라볼 때 몸체(445)의 상단 및 하단은 평평하게 제공될 수 있다. 몸체(445)의 외측면에는 이로부터 돌출되는 돌기(448)가 형성될 수 있다. 돌기(448)는 몸체(445)의 중앙영역으로부터 돌출되게 제공될 수 있다. 돌기는 환형의 링 형상을 가지며, 몸체(445)의 외주면을 감싸도록 제공될 수 있다. 따라서 벨트(436)는 몸체(445) 및 돌기(448)를 함께 감싸도록 제공될 수 있다. 벨트(436)는 돌기(448)에 걸려 그 위치가 고정될 수 있다.
410: 반송 유닛 412: 반송 샤프트
414: 반송 롤러 430: 구동 유닛
442: 구동 풀리 436: 벨트
445: 몸체 446: 일측판
447: 타측판 448: 돌기

Claims (4)

  1. 내부에 기판을 처리하는 처리 공간을 제공하는 공정 챔버와;
    상기 공정 챔버에서 기판을 제1방향으로 반송하는 반송 어셈블리와;
    상기 반송 어셈블리에 의해 지지된 기판 상에 처리액을 공급하는 액 공급 유닛을 포함하되,
    상기 반송 어셈블리는,
    상기 제1방향으로 배열되는 복수 개의 반송 샤프트들과;
    상기 반송 샤프트들 각각에 복수 개가 장착되며, 기판을 지지하는 반송 롤러와;
    상기 반송 샤프트들을 회전시키는 구동 유닛을 포함하되,
    상기 구동 유닛은,
    상기 제1방향으로 배열되며, 상기 반송 샤프트들에 연결되는 풀리들과;
    인접하는 상기 풀리들의 외측면을 감싸는 벨트와;
    상기 풀리를 회전시키는 구동기를 포함하되,
    상기 풀리는 그 중앙 영역이 가장자리 영역보다 작은 직경을 가지도록 제공되는 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 외측면은 라운드지도록 제공되는 기판 처리 장치.
  3. 일측판과;
    상기 일측판과 마주보는 타측판과;
    상기 일측판 및 상기 타측판 사이에 위치되며, 벨트가 감기는 몸체를 포함하되,
    상기 몸체의 중앙영역은 가장자리영역에 비해 작은 직경을 가지는 풀리.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 외측면은 라운드지도록 제공되는 풀리.
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