KR20160009505A - 압출금형의 표면처리방법 및 압출금형 - Google Patents

압출금형의 표면처리방법 및 압출금형 Download PDF

Info

Publication number
KR20160009505A
KR20160009505A KR1020150099377A KR20150099377A KR20160009505A KR 20160009505 A KR20160009505 A KR 20160009505A KR 1020150099377 A KR1020150099377 A KR 1020150099377A KR 20150099377 A KR20150099377 A KR 20150099377A KR 20160009505 A KR20160009505 A KR 20160009505A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
extrusion die
extrusion
mold
layer
extruded
Prior art date
Application number
KR1020150099377A
Other languages
English (en)
Inventor
양비룡
최비공
김현
Original Assignee
금오공과대학교 산학협력단
주식회사대영금속
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 금오공과대학교 산학협력단, 주식회사대영금속 filed Critical 금오공과대학교 산학협력단
Publication of KR20160009505A publication Critical patent/KR20160009505A/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
    • C23C8/36—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases using ionised gases, e.g. ionitriding
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
    • B21C—MANUFACTURE OF METAL SHEETS, WIRE, RODS, TUBES OR PROFILES, OTHERWISE THAN BY ROLLING; AUXILIARY OPERATIONS USED IN CONNECTION WITH METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL
    • B21C25/00—Profiling tools for metal extruding
    • B21C25/02—Dies
    • B21C25/025—Selection of materials therefor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
    • C23C8/08—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases only one element being applied
    • C23C8/24—Nitriding

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)

Abstract

본 발명은 압출금형의 표면처리방법 및 이를 이용하여 제조한 압출금형에 관한 것으로서, 기계적 물성이 우수할 뿐만 아니라, 압출공정 전에 압출금형을 예열처리하는 공정을 생략할 수 있는 발명에 관한 것이다.

Description

압출금형의 표면처리방법 및 압출금형{Surface treating method of extrusion die and Extrusion die}
본 발명은 압출금형을 표면처리하는 방법 및 이 방법으로 표면처리된 압출금형에 관한 것이다.
일반적으로 여러 가지의 기계 부품은 사용목적에 따라 기어, 캠, 클러치 등과 같이 충격에 대한 강도와 표면의 높은 경도를 동시에 필요로 하는 경우가 많다. 이와 같은 경우에, 재료의 표면에 특별한 처리하여 표면경도, 내마모성, 내열성 등의 성질을 개선시키고, 내부는 적당한 강도를 주어 충격에 대한 저항을 크게 하는 방법을 표면경화법이라고 한다.
상기 표면경화법 중 하나로서, 질화법(窒化法)은 질화용 강(鋼)을 암모니아 기류 또는 염욕(salt bath) 중에서 가열하여 질소를 확산 침투하는 것으로, 질화용 강은 질화로 표면에 질화철(FeN)층, 즉 질화층을 만드는 것이다. 이러한 질화법에는 가스질화법, 액체질화법(또는 염욕 질화법), 연질화법, 이온질화법 등의 방법이 있다. 이 중 액체질화법 또는 염욕 질화법은 KCN + KCNO + Na2CO3 를 주성분으로 하는 용융염욕을 사용하여 약 570℃에서 질화하는 방법으로서, 독성의 화학 물질을 사용해야 하는 관계로 폐수처리 및 공정제어가 어렵다.
또한, 연질화법은 경도 개선을 주목적으로 하는 것이 아니라 그 밖의 성질을 개선하는 것을 주목적으로 하는 것으로, 탄소강을 연질화하면 표면경도는 거의 높아지지 않으나, 마찰계수를 감소시키고, 내마모성이 증가하며, 내피로성이 향상되는 등의 효과가 있다.
또한, 이온질화법은 밀폐된 진공 용기에 음극과 양극의 두 전극을 넣고 용기 내 압력을 수 밀리바(mbar)로 감압하여 수백 내지 수천 볼트(volt)의 직류 전압을 인가하여 발생시키는 두 전극 간에 글로우(glow) 방전에 의하여 생성되는 질소이온 플라즈마(plasma)를 이용하여 금속표면을 질화시키는 방법으로서 플라즈마 질화법이라고도 한다.
한편, 가스질화법은 암모니아 가스를 가열 분해하여 생성되는 활성화된 질소를 금속표면과 반응시켜 표면에 경도가 큰 질화층을 얻는 방법으로, 약 50시간 내지 100 시간의 오랜 공정시간을 요할 뿐만 아니라, 가스질화처리시 사용되는 암모니아가스(NH3)는 질소와 산소의 화합물로서 무색이고 인체에 유해한 독성가스이므로 가스질화공정은 산업현장에서 발생할 수 있는 가스누출 사고에 대한 안정성이 미흡한 문제가 있다. 또한, 가스질화 공법은 암모니아의 열 분해반응으로 생성된 질소가 확산되어 피처리재의 표면에 흡착되고 화학반응을 통해 질화층이 생성되는 바, 질소가 균일하게 피처리재 표면으로 확산되도록 조절하기가 어렵기 때문에 질화층의 두께와 조성을 균일하게 조절하기 어렵다. 또한 피처리재과의 계면 결합 특성이 낮아 박리 현상이 쉽게 일어나기 때문에 압출 공정 시 금형 교체 주기가 짧아 생산 효율이 저하된다.
상술한 바와 같은 질화법의 종래 기술로 등록특허 제10-0345809호(공개일자: 2001년04월06일)에는 진공로 내에 540V의 전압을 공급하고 피처리재의 온도를 530?로 하며 H2-N2-CH4 혼합가스를 투입하여 플라즈마를 발생시켜 알루미늄 압출금형을 질화처리하는 방법을 기재하고 있다.
그러나, 상압가스질화는 주로 강재 부품을 대상으로 대표적인 공정으로 인식되어 왔으나, 표면 화합물층 조성제어가 어려울 뿐 아니라, 12~20시간의 전체 공정시간, 더욱이 직경이 미세한 관재의 내부 또는 피질화물을 관통하는 작은 미세 홀(hole) 부분에는 질화반응이 완전하게 이루어지지 못하는 등의 단점이 지적되어 왔다.
또한, 가스질화의 경우에는 표면에 형성되는 질소화합물과 동시에 입계를 따라 침상 질화물(Nitriding Needle)이 형성되어 압출시 또는 반복 질화처리시 표면 질화층이 모재로부터 박리되어 나가는 문제점이 있다.
나아가, 염욕질화 방식의 경우에는 표면에 다공성(porous)의 화합물층을 얻을 수 있다는 장점과 처리비용이 저렴하다는 이점이 있으나, 처리과정에서 유해성분이 발생되어 점차로 그 사용이 감소되고 있으며, 다공성 질소화합물을 통하여 내마모 특성을 향상시키는 데에는 한계가 따르고 있는 실정이다.
그리고, 기존의 방법으로 질화처리된 압출금형은 압출공정 전에 별도의 예열 공정을 수행해야 하는 바, 에너지 소모 및 생산성이 떨어지는 문제가 있었다.
대한민국 공개특허공보 특2001-0027622호(공개일 : 2001.04.06) 대한민국 공개특허공보 10-2010-0107874호(공개일 : 2010.10.06)
본 발명은 압출금형 표면은 압출 성형 시 슬러리(slurry)와 금형 사이에 발생하는 마찰로 인하여 마모, 발열현상이 일어나 금형 교체 주기가 감소되어 생산 효율을 저하시킬 뿐만 아니라, 압출 성형품의 품질을 저하시키는 문제가 있는 바, 압출금형 표면에 코팅처리를 하여 기계적 물성을 향상시킨다. 그런데, 기존의 코팅처리 방법은 앞서 설명한 바와 같이 공정 시간이 너무 오래 걸려서 생산성이 떨어지거나, 비친환경적인 문제가 있는 바, 이를 해결하기 위해 연구한 결과, 특정 조건 하에서 플라즈마 이온질화처리를 하면 우수한 물성을 갖는 압출금형을 제공할 수 있음을 알게 되었다. 즉, 본 발명은 압출금형의 표면처리방법 및 상기 방법으로 제조한 압출금형을 제공하고자 한다.
상술한 과제를 해결하기 위하여 본 발명은 압출금형의 표면처리방법에 관한 것으로서, 압출금형을 챔버에 투입한 후, 챔버 내부를 진공 분위기로 형성시키는 1 단계; 질소(N2) 및 수소(H2)를 1 : 0.8 ~ 1.2 부피비로 함유한 가스(gas) 투입하는 2 단계; 450℃ ~ 600℃ 및 1×10-2 ~ 1×10-6 Torr 하에서, 플라즈마 이온질화처리를 수행하여 압출금형의 표면에 질화층을 형성시키는 3단계;를 포함하는 공정을 수행하는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명의 압출금형의 표면처리방법은 압출금형을 챔버에 투입한 후, 챔버 내부를 진공 분위기로 형성시키는 1 단계; 질소(N2), 수소(H2), 및 질소와 이산화탄소(CO2)의 혼합가스를 1 : 0.9 ~ 1.2 : 2.5 ~ 3.5부피비로 함유한 가스(gas)를 투입하는 2 단계; 450℃ ~ 600℃ 및 1×10-2 ~ 1×10-6 Torr 하에서, 플라즈마 이온질화처리를 수행하여 압출금형의 표면에 질탄화층을 형성시키는 3단계;를 포함하는 공정을 수행하는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 바람직한 일실시예로서, 본 발명의 압출금형의 표면처리방법에 있어서, 상기 3단계의 플라즈마 이온질화처리는 20 ~ 30 시간 동안 수행하는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 바람직한 일실시예로서, 본 발명의 압출금형의 표면처리방법에 있어서, 상기 압출금형은 SUS, SACM, SCM, SKD 또는 SNCM을 포함하는 합금공구강인 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 바람직한 일실시예로서, 본 발명의 압출금형의 표면처리방법에 있어서, 상기 압출금형은 SUS440C, SUS304, SACM645, SCM415, SCM430,　SCM435, SCM440, SKD1, SKD2, SKD6, SKD11, SKD12, SKD61, SNCM 8 또는 SNCM21인 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명은 앞서 설명한 다양한 표면처리방법으로 표면처리한 압출금형에 관한 것이다.
본 발명의 바람직한 일실시예로서, 상기 압출금형은 SUS, SACM, SCM, SKD 또는 SNCM을 포함하는 합금공구강인 것을, 바람직하게는 상기 압출금형은 SUS440C, SUS304, SACM645, SCM415, SCM430,　SCM435, SCM440, SKD1, SKD2, SKD6, SKD11, SKD12, SKD61, SNCM 8 또는 SNCM21인 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 바람직한 일실시예로서, 본 발명의 압출금형은 질탄화층의 평균두께는 250㎛ ~ 350㎛일 수 있다.
본 발명의 바람직한 일실시예로서, 본 발명의 압출금형은 SKD61이고, KS B 0811:2003에 의거하여 로크웰경도 측정시, 상기 압출금형의 표면으로부터 내부 깊이 0.01㎜ ~ 0.12㎜까지 버커스 경도가 970 HV0.3 ~ 1,100 HV0.3인 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 바람직한 일실시예로서, 본 발명의 압출금형은 SKD61이고, KS B 0811:2003에 의거하여 로크웰경도 측정시, KS B 0811:2003에 의거하여 로크웰경도 측정시, 상기 압출금형의 표면으로부터 내부 깊이 0.15㎜ ~ 0.21㎜까지 버커스 경도가 260 HV0.3 ~ 970 HV0.3인 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 바람직한 일실시예로서, 본 발명의 압출금형은 SKD61이고, KS B 0811:2003에 의거하여 로크웰경도 측정시, KS B 0811:2003에 의거하여 로크웰경도 측정시, 상기 압출금형의 표면으로부터 내부 깊이 0.24㎜ ~ 0.30㎜까지 버커스 경도가 185 HV0.3 ~ 250 HV0.3인 것을 특징으로 할 수 있다.
본 발명의 바람직한 일실시예로서, 본 발명의 압출금형은 SKD61이고, 평균표면조도(Rt)가 2.1000 ㎛~ 2.4500 ㎛인 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명은 압출공정시스템에 관한 것으로서, 앞서 설명한 본 발명의 압출금형으로 압출공정을 수행할 때는 압출금형의 예열공정을 수행하는 전처리 공정 없이 압출공정을 수행할 수 있다.
이러한, 본 발명은 종래에 질화 처리 후, 별도의 예열 공정을 수행했던 질화처리방법과는 달리, 예열공정을 필요치 않으면서도, 질화처리 공정시간을 단축시킬 수 있으며, 우수한 기계적 물성을 갖는 압출금형을 높은 생산성으로 제공할 수 있을 뿐만 아니라, 인체에 유해한 독성가스 유출 문제가 없는 친환경적인 방법으로 압출금형을 제공할 수 있는 발명이다.
도 1은 실시예 1에서 제조한 압출금형을 찍은 사진이다.
도 2는 실시예 4에서 제조한 압출금형을 찍은 사진이다.
도 3 ~ 도 4는 실험예 1에서 실시한 표면조도 측정 시험성적서이다.
도 5 ~ 도 6은 실험예 2에서 실시한 버커스 경도 측정 시험성적서이다.
도 7 ~ 도 9는 실험예 3에서 실시한 마찰계수 측정 시험성적서이다.
도 10은 실시예에서 압출금형을 표면처리할 때 사용한 플라즈마 이온기기의 개략도를 나타낸 것이다.
이하에서는 본 발명을 더욱 구체적으로 설명을 한다.
본 발명은 질화층 및/또는 질탄화층이 표면에 형성되어 있는 압출금형에 관한 것으로서, 상기 질화층은 Fe, Cr, N 등을 포함할 수 있으며, 상기 질탄화층은 Fe, Cr, N 뿐만 아니라 탄소원자(C)도 포함하여 화합물층을 형성됨으로써, 압출금형의 기계적 물성을 향상시키는 코팅층을 형성하게 된다.
상기 압출금형은 합금공구강으로서, SUS(Steel use Stainless), SACM(Steel Aluminium Chromium Molybdenum), SCM(Steel Chromium Molybdenum), SKD(Steel Aluminium Tool Dise) 또는 SNCM(Steel Nichel Chromium Molybdenum)을 포함할 수 있으며, 바람직하게는 SUS440C, SUS304, SACM645, SCM415, SCM430,　SCM435, SCM440, SKD1, SKD2, SKD6, SKD11, SKD12, SKD61, SNCM 8 또는 SNCM21을 포함할 수 있으며, 더욱 바람직하게는 SKD11, SKD12 또는 SKD61을 포함할 수 있다.
그리고, 압출금형 표면에 형성된 코팅층이 질화층인 경우, 상기 질화층은 평균두께는 130㎛ ~ 270㎛, 바람직하게는 150㎛ ~ 250㎛, 더욱 바람직하게는 170㎛ ~ 230㎛일 수 있으며, 압출금형 표면에 형성된 코팅층이 질탄화층인 경우, 상기 질탄화층의 평균두께는 230㎛ ~ 370㎛, 바람직하게는 250㎛ ~ 350㎛, 더욱 바람직하게는 270㎛ ~ 330㎛ 일 수 있다. 이때, 질화층 및/또는 질탄화층의 평균두께가 각각 130㎛ 및 230㎛ 미만이면 그 두께가 너무 얇아서 경도, 내마모성 등의 충분한 기계적 물성을 확보할 수 없는 문제가 있을 수 있고, 평균두께가 각각 270㎛ 및 370㎛를 초과하도록 형성시키는 것은 표면처리시간이 너무 길어지고, 두께에 비례하여 더 이상의 물성 향상 효과가 거의 없는 바, 상기 범위 내의 두께로 형성시키는 것이 좋다.
이러한 본 발명의 질화층 및/또는 질탄화층이 표면에 형성되어 있는 압출금형은 KS B 0811:2003에 의거하여 로크웰경도 측정시, 상기 압출금형의 표면으로부터 내부 깊이 0.01㎜ ~ 0.12㎜까지 버커스 경도가 970 HV0.3 ~ 1,100 HV0.3이며, 바람직하게는 980 HV0.3 ~ 1,100 HV0.3인 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명의 압출금형은 KS B 0811:2003에 의거하여 로크웰경도 측정시, 상기 압출금형의 표면으로부터 내부 깊이 0.15㎜ ~ 0.21㎜까지 버커스 경도가 260 HV0.3 ~ 970 HV0.3이고, 바람직하게는 270 HV0.3 ~ 960 HV0.3 인 것을 특징으로 할 수 있다. 그리고, 동일 방법으로 측정시, 상기 압출금형의 표면으로부터 내부 깊이 0.24㎜ ~ 0.30 ㎜까지 버커스 경도가 185 HV0.3 ~ 250 HV0.3 이고, 바람직하게는 192 HV0.3 ~ 240 HV0.3인 것을 특징으로 할 수 있다.
그리고, 본 발명의 상기 압출금형은 박막두께측정장비인 알파스텝IQ(Alpha-Step IQ)를 이용하여, 스캔 범위(scan range) 1,000㎛, 스캔 속도(scan speed) 50 ㎛/sec, 컷-오프(cut-off) 100㎛의 조건에서 표면조도 측정시, 평균표면조도 (Rt)가 2.1000 ㎛~ 2.4500 ㎛인 것을, 바람직하게는 2.1500 ㎛~ 2.4450 ㎛인 것을 특징으로 할 수 있다.
이러한 본 발명의 압출금형은 아래와 같은 방법으로 제조할 수 있다.
본 발명의 압출금형은 압출금형을 챔버에 투입한 후, 챔버 내부를 진공 분위기로 형성시키는 1 단계; 질소(N2) 및 수소(H2)를 1 : 0.8 ~ 1.2 부피비로 함유한 가스(gas) 투입하는 2 단계; 450℃ ~ 600℃ 및 1×10-2 ~ 1×10-6 Torr 하에서, 플라즈마 이온질화처리를 수행하여 압출금형의 표면에 질화층을 형성시키는 3단계;를 포함하는 공정을 수행하여 제조할 수 있다.
상기 2단계에 있어서, 질소 및 수소는 1 : 0.8 ~ 1.2 부피비로, 바람직하게는 1 : 0.9 ~ 1.1 부피비로, 더욱 바람직하게는 1 : 1 부피비로 투입하는 것이 좋은데, 이때, 수소 투입량이 질소에 대하여 0.8 부피비 미만이면 불균일한 질화층 생성하는 문제가 있을 수 있고, 수소 투입량이 1.2 부피비를 초과하면 질화층이 박리하는 문제가 있을 수 있으므로, 상기 부피비로 질소와 수소를 투입시키는 것이 좋다.
그리고, 상기 3단계에 있어서, 플라즈마 이온질화처리는 RF 전압 또는 DC 전압을 가하여, 450℃ ~ 600℃ 및 1×0-2 ~ 1×0-6 Torr 하에서 수행하는 것이, 바람직하게는 500℃ ~ 600℃ 및 5×0-2 ~ 5×0-5 Torr 하에서 수행하는 것이, 더욱 바람직하게는 520℃ ~ 600℃ 및 1×0-3 ~ 1×0-5 Torr 하에서 수행하는 것이 좋다. 이때, 온도가 450℃ 미만이면 압출금형 표면에 질화층이 고르게 형성되지 않을 수 있고, 질화층 내부가 치밀하지 못할 수 있으며, 온도가 600℃를 초과하면 확산에 의해서 격자왜곡이 심해지는 문제가 있을 수 있다. 그리고, 압력이 1×0-2를 초과하면 정밀한 질화층의 두께조절이 어려워지는 문제가 있을 수 있으므로, 상기 압력하에서 수행하는 것이 좋다.
그리고, 상기 플라즈마 이온질화처리는 20 ~ 30 시간 동안, 바람직하게는 20 ~ 28 시간 동안, 더욱 바람직하게는 20 ~ 26 시간 동안 수행하는 것을 좋다. 이때, 30 시간을 초과하면 질화층이 너무 두껍게 형성되어 비경제적일 수 있으며, 20 시간 미만인 경우, 원하는 스펙의 물성을 갖도록 충분한 두께의 질화층이 형성되지 않을 수 있으므로 상기 시간 동안 플라즈마 이온질화처리를 수행하는 것이 좋다.
이러한 공정을 통해서 압출금형의 표면에 질화층을 130㎛ ~ 270㎛, 바람직하게는 150㎛ ~ 250㎛, 더욱 바람직하게는 170㎛ ~ 230㎛로 형성시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 압출금형은 압출금형을 챔버에 투입한 후, 챔버 내부를 진공 분위기로 형성시키는 1 단계; 질소(N2), 수소(H2), 및 질소와 이산화탄소(CO2)의 혼합가스를 1 : 0.9 ~ 1.2 : 2.5 ~ 3.5부피비로 함유한 가스(gas)를 투입하는 2 단계; 450℃ ~ 600℃ 및 1×10-2 ~ 1×10-6 Torr 하에서, 플라즈마 이온질화처리를 수행하여 압출금형의 표면에 질탄화층을 형성시키는 3단계;를 포함하는 공정을 수행하여 제조할 수 있다.
상기 2단계에 있어서, 질소, 수소 및 상기 혼합가스는 1 : 0.9 ~ 1.2 : 2.5 ~ 3.5부피비로, 바람직하게는 1 : 0.9 ~ 1.1 : 2.7 ~ 3.2 부피비로, 더욱 바람직하게는 1 : 1 : 2.9 ~ 3.2부피비로 투입하는 것이 좋은데, 이때, 수소 투입량이 질소에 대하여 0.9 부피비 미만이면 불균일한 질화층을 생성하는 문제가 있을 수 있고, 수소 투입량이 1.1 부피비를 초과하면 질화층이 박리 하는 문제가 있을 수 있으므로, 상기 부피비로 질소와 수소를 투입시키는 것이 좋다. 또한, 상기 혼합가스는 상기 질소에 대하여 2.5 부피비 미만으로 투입시 탄소양이 적어서 화합물층의 기계적 특성이 저하되는 문제가 있을 수 있고, 3.5 부피비를 초과하면 새로운 상을 형성하거나 취성이 강해져서 크랙이 쉽게 생기는 문제가 있을 수 있다.
그리고, 상기 혼합가스는 질소(N2)와 탄소(C)의 혼합가스로서, 질소 1 부피비에 대하여 탄소를 0.2 ~ 0.3 부피비로 포함하도록 하여 사용하는 것이 좋다.
상기 3단계에 있어서, 플라즈마 이온질화처리는 RF 전압 또는 DC 전압을 가하여, 450℃ ~ 600℃ 및 1×0-2 ~ 1×0-6 Torr 하에서 수행하는 것이, 바람직하게는 500℃ ~ 600℃ 및 5×0-2 ~ 5×0-5 Torr 하에서 수행하는 것이, 더욱 바람직하게는 520℃ ~ 600℃ 및 1×0-3 ~ 1×0-5 Torr 하에서 수행하는 것이 좋다. 이때, 온도가 450℃ 미만이면 압출금형 표면에 질탄화층이 고르게 형성되지 않을 수 있고, 질화층 내부가 치밀하지 못할 수 있으며, 온도가 600℃를 초과하면 확산에 의해서 격자왜곡이 심해지는 문제가 있을 수 있다. 그리고, 압력이 1×0-2를 초과하면 정밀한 질화층의 두께조절이 어려워지는 문제가 있을 수 있으므로, 상기 압력하에서 수행하는 것이 좋다.
그리고, 상기 플라즈마 이온질화처리는 20 ~ 30 시간 동안, 바람직하게는 20 ~ 28 시간 동안, 더욱 바람직하게는 20 ~ 26 시간 동안 수행하는 것을 좋다. 이때, 30 시간을 초과하면 질화층이 너무 두껍게 형성되어 비경제적일 수 있으며, 20 시간 미만인 경우, 원하는 스펙의 물성을 갖도록 충분한 두께의 질탄화층이 형성되지 않을 수 있으므로 상기 시간 동안 플라즈마 이온질화처리를 수행하는 것이 좋다.
이러한 공정을 통해서 압출금형의 표면에 질탄화층을 평균두께는 230㎛ ~ 370㎛, 바람직하게는 250㎛ ~ 350㎛, 더욱 바람직하게는 270㎛ ~ 330㎛로 형성시킬 수 있다.
그리고, 앞서 설명한 바와 같이, 상기 압출금형은 합금공구강으로서, SUS, SACM, SCM, SKD 또는 SNCM을 포함할 수 있으며, 바람직하게는 SUS440C, SUS304, SACM645, SCM415, SCM430,　SCM435, SCM440, SKD1, SKD2, SKD6, SKD11, SKD12, SKD61, SNCM 8 또는 SNCM21을 포함할 수 있으며, 더욱 바람직하게는 SKD11, SKD12 또는 SKD61을, 더 더욱 바람직하게는 SKD61을 사용할 수 있다.
앞서 설명한 본 발명의 압출금형으로 압출공정을 수행시에는 종래 압출공정과는 달리, 압출공정 전에 압출금형을 예열시키는 전처리공정을 필요로 하지 않는다.
이하에서는 본 발명을 실시예에 의거하여 더욱 자세하게 설명을 하겠다. 그러나, 본 발명의 권리범위가 실시예에 의해 한정되는 것은 아니며, 하기 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 것이다.
[ 실시예 ]
실시예 1 : 질탄화층이 형성된 압출금형의 제조
도 10에 나타낸 개략도와 같은 구조를 갖는 플라즈마 이온기기의 챔버 내에 SKD 61 압출금형을 투입하였다. 다음으로, 챔버 내부를 진공상태로 만들었다. 다음으로 질소, 수소, 및 혼합가스를 1 : 1 : 3 부피비로 혼합한 가스를 챔버 내에 투입하였다. 이때, 상기 혼합가스는 질소와 이산화탄소 1: 0.25 부피비로 혼합한 가스이다.
다음으로, DC 전압을 가하여, 챔버 내 온도를 580℃까지 상승시키고, 상기 온도 및 1×10-6 Torr 하에서, 26 시간 동안 플라즈마 이온질화처리 공정을 수행하여 표면에 평균두께 295㎛ ~ 300㎛의 질탄화층이 형성된 압출금형을 제조하였으며, 이의 사진을 도 1에 나타내었다.
실시예 2 ~ 실시예 4
(1) 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 질탄화층이 형성된 압출금형을 제조하되, 플라즈마 이온질화처리 온도를 560℃로 달리하여, 평균두께 294㎛ ~ 298㎛의 질탄화층이 형성된 압출금형을 제조하여 실시예 2를 실시하였다.
(2) 또한, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 질탄화층이 형성된 압출금형을 제조하되, 플라즈마 이온질화처리 온도를 520℃로 달리하여 평균두께 294㎛ ~ 298㎛의 질탄화층이 형성된 압출금형을 제조하여 실시예 3을 실시하였다
(3) 또한, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 질탄화층이 형성된 압출금형을 제조하되, 플라즈마 이온질화처리 온도를 600℃로 달리하여 평균두께 296㎛ ~ 300㎛의 질탄화층이 형성된 압출금형을 제조하여 실시예 4를 실시하였다
비교예 1 ~ 비교예 2
(1) 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 질탄화층이 형성된 압출금형을 제조하되, 플라즈마 이온질화처리 온도를 430℃로 달리하여, 평균두께 295㎛ ~ 300㎛의 질탄화층이 형성된 압출금형을 제조하여 비교예 1을 실시하였다.
(2) 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 질탄화층이 형성된 압출금형을 제조하되, 플라즈마 이온질화처리 온도를 640℃로 달리하여, 평균두께 296㎛ ~ 300㎛의 질탄화층이 형성된 압출금형을 제조하여 비교예 2를 실시하였다.
비교예 3 ~ 비교예 4
(1) 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 질탄화층이 형성된 압출금형을 제조하되, SKD 61 압출금형을 질소, 수소, 및 혼합가스(질소와 이산화탄소 1: 0.25 부피비)를 1 : 1.4 : 3 부피비로 혼합한 가스를 챔버 내에 투입한 후, 동일 온도 및 동일 압력 하에서 26 시간 동안 플라즈마 이온질화처리 공정을 수행하여 표면에 평균두께 297㎛ ~ 302㎛의 질탄화층이 형성된 압출금형을 제조하여 비교예 3을 실시하였다.
(2) 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 질탄화층이 형성된 압출금형을 제조하되, SKD 61 압출금형을 질소, 수소, 및 혼합가스(질소와 이산화탄소 1: 0.25 부피비)를 1 : 0.75 : 3 부피비로 혼합한 가스를 챔버 내에 투입한 후, 동일 온도 및 동일 압력 하에서 26 시간 동안 플라즈마 이온질화처리 공정을 수행하여 표면에 평균두께 294㎛ ~ 298㎛의 질탄화층이 형성된 압출금형을 제조하여 비교예 4를 실시하였다.
비교예 5 ~ 비교예 6
(1) 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 질탄화층이 형성된 압출금형을 제조하되, SKD 61 압출금형을 질소, 수소, 및 혼합가스(질소와 이산화탄소 1: 0.25 부피비)를 1 : 1 : 3.8 부피비로 혼합한 가스를 챔버 내에 투입한 후, 동일 온도 및 동일 압력 하에서 26 시간 동안 플라즈마 이온질화처리 공정을 수행하여 표면에 평균두께 332㎛ ~ 335㎛의 질탄화층이 형성된 압출금형을 제조하여 비교예 5를 실시하였다.
(2) 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 질탄화층이 형성된 압출금형을 제조하되, SKD 61 압출금형을 질소, 수소, 및 혼합가스(질소와 이산화탄소 1: 0.25 부피비)를 1 : 1 : 2.2 부피비로 혼합한 가스를 챔버 내에 투입한 후, 동일 온도 및 동일 압력 하에서 26 시간 동안 플라즈마 이온질화처리 공정을 수행하여 표면에 평균두께 224㎛ ~ 227㎛의 질탄화층이 형성된 압출금형을 제조하여 비교예 6을 실시하였다.
실험예 1 : 표면조도측정실험
상기 실시예 1에서 제조한 평균두께 295㎛ ~ 300㎛의 질탄화층이 형성된 압출금형을 구미전자정보기술원에 의뢰하여 이의 표면조도를 측정하였다.
실험은 박막두께측정장비인 알파스텝IQ(Alpha-Step IQ)를 이용하여, 스캔 범위(scan range) 1,000㎛, 스캔 속도(scan speed) 50 ㎛/sec, 컷-오프(cut-off) 100㎛의 조건 및 23℃ ~ 25℃ 및 상대습도 30% ~ 40% 하에서 수행하였으며, 그 결과를 도 3 및 도 4에 나타내었다.
실험 측정은 압출금형의 3군데 지점에서 측정한 후, 이의 평균값으로 평균표면조도(Rt, ㎛)를 측정하였다.
또한, 상기 실시예 2 ~ 실시예 4 및 비교예 1 ~ 비교예 6에서 제조한 압출금형의 표면조도측정결과를 하기 표 1에 나타내었다.
구분 평균표면조도
실시예 1 2.4363㎛
실시예 2 2.4394㎛
실시예 3 2.4412㎛
실시예 4 2.1586㎛
비교예 1 2.6943㎛
비교예 2 1.3896㎛
비교예 3 2.4281㎛
비교예 4 2.7118㎛
비교예 5 2.4336㎛
비교예 6 2.4215㎛
상기 실시예 1 ~ 실시예 4의 경우, 평균표면조도 2.1500 ㎛ ~ 2.4400㎛의 값을 보였으며, 플라즈마 이온질화처리 온도가 증가할수록 표면조도 값이 감소하고, 플라즈마 이온질화처리 온도가 감소할수록 표면조도 값이 증가하는 경향을 보였다.
플라즈마 이온질화처리 온도 450℃ 미만에서 수행했던 비교예 1의 경우, 평균표면조도가 2.7643㎛로 표면이 급격하게 거칠어지는 결과를 보였고, 플라즈마 이온질화처리 온도 600℃를 초과한 640℃에서 수행했던 비교예 2의 경우, 평균표면조도 값이 매우 낮은 결과를 보였다. 특히, 질소, 수소, 및 혼합가스(질소와 이산화탄소) 1 : 0.75 : 3 부피비 하에서 수행한 비교예 4의 경우, 실시예 1과 비교할 때, 불균일한 질화층을 생성되어 표면조도가 크게 증가하는 문제를 보였다.
실험예 2 : 경도 측정실험
상기 실시예 1에서 제조한 질탄화층이 형성된 압출금형을 대구기계부품연구원에 의뢰하여, 경도를 측정하였다.
실험은 KS B 0811:2003에 의거하여, 18℃ ~ 22℃ 및 상대습도 45 ~ 55% 하에서 로크웰 경도 측정을 수행하였으며, 측정 결과를 도 5 및 도 6에 나타내었다.
도 6의 측정결과를 살펴보면, 압출금형의 표면은 버커스 경도가 1058 HV0.1이였으며, 압출금형의 표면으로부터 내부 깊이 0.01㎜ ~ 0.12㎜까지 980 HV0.3 ~ 1,100 HV0.3 이었고, 내부 깊이 0.15㎜ ~ 0.24㎜까지 270 HV0.3 ~ 960 HV0.3이었으며, 표면으로부터 내부 깊이 0.25㎜ ~ 0.30 ㎜까지 버커스 경도가 192 HV0.3 ~ 240 HV0.3 이었다.
또한, 상기 실시예 2 ~ 실시예 4및 비교예 1 ~ 비교예 6에서 제조한 압출금형의 경도 측정 실험 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
구분 표면으로부터 내부깊이에서의 버커스 경도
표면 내부
깊이
0.6㎜		 내부
깊이
0.12㎜		 내부
깊이
0.18㎜		 내부
깊이
0.24㎜		 내부
깊이
0.27㎜		 내부
깊이
0.30㎜
실시예 1 1058
HV0.1		 1005
HV0.3		 982
HV0.3		 661
HV0.3		 212
HV0.3		 211
HV0.3		 195
HV0.3
실시예 2 1056
HV0.1		 1004
HV0.3		 983
HV0.3		 660
HV0.3		 210
HV0.3		 207
HV0.3		 193
HV0.3
실시예 3 1055
HV0.1		 1002
HV0.3		 981
HV0.3		 649
HV0.3		 209
HV0.3		 205
HV0.3		 192
HV0.3
실시예 4 1078
HV0.1		 1023
HV0.3		 998
HV0.3		 693
HV0.3		 239
HV0.3		 227
HV0.3		 218
HV0.3
비교예 1 1012
HV0.1		 976
HV0.3		 951
HV0.3		 658
HV0.3		 208
HV0.3		 200
HV0.3		 186
HV0.3
비교예 2 1094
HV0.1		 1032
HV0.3		 995
HV0.3		 672
HV0.3		 209
HV0.3		 197
HV0.3		 183
HV0.3
비교예 3 852
HV0.1		 705
HV0.3		 597
HV0.3		 534
HV0.3		 185
HV0.3		 174
HV0.3		 165
HV0.3
비교예 4 1035
HV0.1		 1003
HV0.3		 980
HV0.3		 657
HV0.3		 207
HV0.3		 202
HV0.3		 194
HV0.3
비교예 5 1072
HV0.1		 1020
HV0.3		 997
HV0.3		 684
HV0.3		 242
HV0.3		 235
HV0.3		 224
HV0.3
비교예 6 1042
HV0.1		 988
HV0.3		 970
HV0.3		 635
HV0.3		 197
HV0.3		 196
HV0.3		 169
HV0.3
이를 통하여 본 발명이 제시하는 방법으로 질탄화층을 형성시킨 압출금형이 경도가 우수한 것을 확인할 수 있었다.
플라즈마 이온질화처리를 450℃ 미만인 430℃에서 수행한 비교예 1의 경우, 실시예 1과 비교할 때, 표면부터 내부깊이 0.12㎜까지의 경도가 크게 떨어지는 결과를 보였으며, 그리고, 플라즈마 이온질화처리를 600℃를 초과한 640℃에서 수행한 비교예 2의 경우, 표면부터 내부깊이 0.12㎜까지의 경도는 우수하나, 실시예 4와 비교할 때, 내부깊이 0.18㎜ 이상부터 경도가 급격하게 낮아지는 문제를 보였는데, 이는 확산에 의한 격자왜곡이 심해졌기 때문인 것으로 판단된다.
그리고, 질소, 수소 및 혼합가스 중 질소와 수소를 1 : 1.2 부피비를 초과한 1 : 1.4 부피비 하에서 수행한 비교예 3의 경우, 표면부터 내부깊이 0.12㎜까지의 경도가 떨어지는 결과를 보였으며, 질탄화층이 박리현상이 발생했다.
또한, 표면조도가 좋지 못했던 비교예 4의 경우, 실시예 1과 비교할 때, 표면에서의 경도가 다소 떨어졌지만, 이 외에는 실시예 1과 거의 유사한 경도를 보였다.
그리고, 질소, 수소 및 혼합가스 중 질소와 혼합가스를 1 : 3.5 부피비를 초과한 1 : 3.8 부피비 하에서 수행한 비교예 5의 경우, 경도는 전반적으로 우수했으나, 일부 크랙이 발생하는 문제가 있었다.
또한, 질소, 수소 및 혼합가스 중 질소와 혼합가스를 1 : 2.5 부피비를 미만인 1 : 2.2 부피비 하에서 수행한 비교예 6의 경우, 실시예 1과 비교할 때, 경도가 전반적으로 낮게 나왔는데, 이는 질탄화층 형성에 필요한 탄소양이 적게 제공된 결과로 판단된다.
실시예 5
상기 실시예 1과 동일한 방법으로 질탄화층이 형성된 압출금형을 제조하되, 상기 SKD 61 압출금형 대신 도 2와 같은 형태의 SKD 61 압출금형을 사용하였다. 또한, 플라즈마 이온질화처리 공정을 570℃ 및 1×10-6 Torr 하에서, 27 시간 동안 수행하여, 평균두께 290㎛ ~ 297㎛의 질탄화층이 형성된 압출금형을 제조하였으며, 이의 사진을 도 2에 나타내었다.
실험예 3 : 내마모 , 마찰계수 측정실험
상기 실시예 1에서 제조한 질탄화층이 형성된 압출금형을 자동차부품연구원에 의뢰하여, 이의 마찰계수 및 내마모성을 TE77 기기(PLINT partners Co. Ltd 제품)로 측정하였으며, 시험조건은 하기 표 3에 나타내었으며, 그 결과를 도 9 및 하기 표 4에 나타내었다.
시험조건
하중 50 N
속도 4 Hz
스트로크(stroke) 10.8 ㎜
온도 상온(25℃ ~ 28℃)
시간 60 분(steady state)
윤활조건 건식
데이터 취득 1 / 1 sec
시료수 3 EA
구분 시료 1 시료 2 시료 3
마찰계수 평균 0.52 0.51 0.50
마모량(g) 0.0026
(0.0044% 감소)		 0.0031
(0.0052% 감소)		 0.0011
(0.0018% 감소)
상기 표 4 및 도 9의 실험결과를 살펴보면, 마찰계수 및 마모량이 매우 우수한 것을 확인할 수 있었으며, 이를 통하여, 본 발명이 제시하는 플라즈마 이온질화처리 방법, 즉 표면처리방법으로 질탄화층을 형성시킨 압출금형의 기계적 물성이 매우 우수함을 확인할 수 있었다.
상기 실시예 및 실험예를 통하여, 본 발명의 표면처리방법을 통해 제조한 압출금형은 우수한 표면조도, 경도, 내마모성 등의 기계적 물성을 갖을 수 있는 바, 이를 이용하여 압출공정 수행하면, 종래 압출공정 전에 압출금형을 예열처리하던 것과 달리, 예열처리를 필요로 하지 않음을 확인할 수 있었다.

Claims (9)

  1. 압출금형을 챔버에 투입한 후, 챔버 내부를 진공 분위기로 형성시키는 1 단계;
    질소(N2) 및 수소(H2)를 1 : 0.8 ~ 1.2 부피비로 함유한 가스(gas) 투입하는 2 단계;
    450℃ ~ 600℃ 및 10-2 ~ 10-6 Torr 하에서, 플라즈마 이온질화처리를 수행하여 압출금형의 표면에 질화층을 형성시키는 3단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 압출금형의 표면처리방법.
  2. 압출금형을 챔버에 투입한 후, 챔버 내부를 진공 분위기로 형성시키는 1 단계;
    질소(N2), 수소(H2), 및 질소와 이산화탄소(CO2)의 혼합가스를 1 : 0.9 ~ 1.2 : 2.5 ~ 3.5부피비로 함유한 가스(gas)를 투입하는 2 단계;
    450℃ ~ 600℃ 및 10-2 ~ 10-6 Torr 하에서, 플라즈마 이온질화처리를 수행하여 압출금형의 표면에 질탄화층을 형성시키는 3단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 압출금형의 표면처리방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 플라즈마 이온질화처리는 20 ~ 30 시간 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 압출금형의 표면처리방법.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 압출금형은 SUS(Steel use Stainless), SACM(Steel Aluminium Chromium Molybdenum), SCM(Steel Chromium Molybdenum), SKD(Steel Aluminium Tool Dise) 또는 SNCM(Steel Nichel Chromium Molybdenum)을 포함하는 합금공구강인 것을 특징으로 하는 압출금형의 표면처리방법.
  5. 제4항에 있어서, 상기 압출금형은
    SUS440C, SUS304, SACM645, SCM415, SCM430,　SCM435, SCM440, SKD1, SKD2, SKD6, SKD11, SKD12, SKD61, SNCM 8 또는 SNCM21인 것을 특징으로 하는 압출금형의 표면처리방법.
  6. 제5항의 표면처리방법으로 표면처리하여 질탄화층을 형성시킨 압출금형으로서,
    상기 압출금형은 SKD61이고, 질탄화층의 평균두께는 250㎛ ~ 350㎛이며,
    KS B 0811:2003에 의거하여 로크웰경도 측정시, 상기 압출금형의 표면으로부터 내부 깊이 0.01㎜ ~ 0.12㎜까지 버커스 경도가 970 HV0.3 ~ 1,100 HV0.3인 것을 특징으로 하는 압출금형.
  7. 제6항에 있어서, KS B 0811:2003에 의거하여 로크웰경도 측정시, 상기 압출금형의 표면으로부터 내부 깊이 0.15㎜ ~ 0.21㎜까지 버커스 경도가 260 HV0.3 ~ 970 HV0.3인 것을 특징으로 하는 압출금형.
  8. 제6항에 있어서, 상기 압출금형의 평균표면조도(Rt)가 2.1000 ㎛~ 2.4500㎛인 것을 특징으로 하는 압출금형.
  9. 제8항의 압출금형으로 압출공정을 수행하되, 압출공정 전에 압출금형을 예열시키는 전처리공정을 수행하지 않는 것을 특징으로 하는 압출공정시스템.

KR1020150099377A 2014-07-15 2015-07-13 압출금형의 표면처리방법 및 압출금형 KR20160009505A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140089292 2014-07-15
KR20140089292 2014-07-15

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20160009505A true KR20160009505A (ko) 2016-01-26

Family

ID=55307465

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020150099377A KR20160009505A (ko) 2014-07-15 2015-07-13 압출금형의 표면처리방법 및 압출금형

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20160009505A (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220146744A (ko) * 2021-04-23 2022-11-02 한국과학기술연구원 이축 압출기를 이용한 가교 폴리에틸렌 수지의 재생장치

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010027622A (ko) 1999-09-14 2001-04-06 박도봉 단조금형의 표면처리 방법
KR20100107874A (ko) 2009-03-27 2010-10-06 (주)성창공업 금형의 표면처리방법

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010027622A (ko) 1999-09-14 2001-04-06 박도봉 단조금형의 표면처리 방법
KR20100107874A (ko) 2009-03-27 2010-10-06 (주)성창공업 금형의 표면처리방법

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220146744A (ko) * 2021-04-23 2022-11-02 한국과학기술연구원 이축 압출기를 이용한 가교 폴리에틸렌 수지의 재생장치
US11826927B2 (en) 2021-04-23 2023-11-28 Korea Institute Of Science And Technology Recycling apparatus for a cross-linked polyethylene resin using twin screw extruder

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2679701B1 (en) Manufacturing method of a nitrided steel member
DE19526387A1 (de) Doppelt beschichteter Stahlverbundgegenstand und Verfahren zu dessen Herstellung
US7794551B1 (en) Carburization of metal articles
CN104593718B (zh) 一种奥氏体不锈钢材料硬化方法
CN110438319B (zh) 一种滑块的热处理方法
JP2016141874A (ja) 低温セラミックスコーティングの密着力強化方法
WO2007137557A2 (de) Verfahren zum härten von laufflächen von wälzlagerkomponenten
KR101849997B1 (ko) 철계 합금의 코팅 방법 및 이에 의하여 제조된 고경도 및 저마찰 특성을 갖는 제품
KR20160009504A (ko) 압출금형의 표면처리방법, 압출금형 및 압출공정시스템
CN110788327A (zh) 一种粉末冶金齿轮的制造方法
CN105154818B (zh) 一种消除硬质合金渗碳缺陷的方法及其所用涂料
KR20160009505A (ko) 압출금형의 표면처리방법 및 압출금형
RU2419676C1 (ru) Способ ионно-вакуумного азотирования длинномерной стальной детали в тлеющем разряде
CN111593296A (zh) 一种马氏体不锈钢表面硬化剂及其制备方法和应用方法
JP2010222648A (ja) 炭素鋼材料の製造方法および炭素鋼材料
KR20100002194A (ko) 나사 전조가공 다이
KR100327741B1 (ko) 단조금형의 표면처리 방법
CN113182520B (zh) 具有碳化钛增强钛基复合材料硬化层的钛制品及制备方法
CN109811295B (zh) 一种精密零件的真空渗碳炉750℃低温渗碳工艺
CN114686799A (zh) 金属氮化、氧化然后还原的表面处理方法
KR20160009503A (ko) 표면처리된 압출금형 및 이의 표면처리방법
JP2010222649A (ja) 炭素鋼材料の製造方法および炭素鋼材料
RU2684033C1 (ru) Способ и устройство для обработки металлических изделий
JP2007063667A (ja) 有層Ｆｅ基合金及びその製造方法
US20180065184A1 (en) Method for manufacturing sintered and carburized porous stainless steel parts

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application