KR20160004047A - 터치 패널 전극 구조체 및 그의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 유닛 와이어와 그에 연속되는 다른 유닛 와이어의 접촉 면적이 전체 선폭에서 감소되면서 연속되어 불규칙 패턴을 갖는 터치 패널 전극 구조체 및 그의 제조 방법에 관한 것으로, 연속되는 유닛 와이어들로 이루어진 메탈 와이어가, 어느 하나의 유닛 와이어와 그에 연속되는 다른 유닛 와이어의 접촉 면적이 선폭을 임의의 실수로 나누어 구해진 비접촉 크기값(k) 만큼 전체 선폭에서 감소되는 불규칙 패턴을 갖는 것이다.

Description

터치 패널 전극 구조체 및 그의 제조 방법{Electrode structure for touch panel and method for fabricating the same}
본 발명은 터치 패널에 관한 것으로, 구체적으로 유닛 와이어와 그에 연속되는 다른 유닛 와이어의 접촉 면적이 전체 선폭에서 감소되면서 연속되어 불규칙 패턴을 갖는 터치 패널 전극 구조체 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.
터치 패널은 디스플레이 화면상에서 사용자의 접촉 위치를 감지하고 감지된 접촉 위치에 관한 정보를 받아들여 디스플레이 화면 제어를 포함한 전자기기의 전반적인 제어를 수행하기 위한 입출력 수단으로, 손가락이나 터치펜 등의 물체가 스크린에 접촉될 때 이를 입력신호로 인식하는 장치이다.
터치 입력장치는 근래 휴대폰(mobile phone), PDA(Personal Digital Assistants), PMP(Portable Multimedia Player) 등과 같은 모바일 기기에 많이 장착되고 있으며, 그밖에도 네비게이션, 넷북, 노트북, DID(Digital Information Device), 터치입력 지원 운영체제를 사용하는 테스크탑 컴퓨터, IPTV(Internet Protocol TV), 최첨단 전투기, 탱크, 장갑차 등 전 산업분야에 걸쳐 이용되고 있다.
이러한 터치 패널은 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), OLED(Organic Light Emitting Diode), AMOLED(Active Matrix Organic Light Emitting Diode) 등과 같은 표시장치 위에 부가되거나 표시장치 내에 내장 설계된다.
이러한 터치 패널은 광투과성을 가지며, 도전성을 띄는 소재를 이용한 감지부를 구비한다.
감지부는 터치 패널상의 입력신호의 위치를 인식하기 위하여 반복적인 패턴으로 형성되는데, 감지부를 포함하는 센서층이 평행하게 적층됨에 따라 패턴들이 겹치게 되어 패턴의 상호 간섭에 의한 모아레 현상이 발생하는 문제점이 있다.
이와 같이 감지 전극을 구성하는 패턴들이 감지기판 간의 적층 또는 영상 표시 패널과의 적층에 따라 상호 겹치는 경우, 패턴 간에 소정의 각에 따른 비틀림을 주어 모아레 무늬 발생을 방지함으로써 모아레 무늬에 의해 발생하는 시인성이 저하되는 문제를 해결하기 위한 방법들이 제시되고 있다.
대한민국 공개특허 제10-2010-0129230호에는, 감지부를 구성하는 도전막에서 메쉬 패턴의 측벽 형성을 제어함으로써 모아레가 감소되도록 하는 방법이 개시되고 있다.
도전막을 형성하기 위한 공정 단계에서 감광성 재료를 70 내지 200㎛의 근접 갭으로 배치된 포토마스크를 통해 근접 노광시키고, 주기적으로 반복된 포토마스크의 마스크 패턴에 대응하는 주기적인 패턴을 형성하는 것이다.
도전막을 구성하는 제 1 및 제2 도전성 얇은 금속 와이어의 측면에는 얇은 금속 와이어의 설계된 폭을 나타내는 가상 라인으로부터 개구부를 향해 연장되는 돌출부를 가지며, 돌출부의 돌출량은 설계된 폭의 1/25 내지 1/6이다.
이와 같은 종래 기술의 경우에는 메쉬 패턴의 측벽 형성을 제어하여 모아레가 감소되도록 하는 것이나, 돌출부의 형성 위치 제어가 마스크의 배치 제어에 의해 이루어지는 것으로, 돌출부의 미세 패턴을 도전막의 선 폭이 얇아질수록 정확하게 제어하기 어려워 전체 영역에서의 모아레 현상의 억제에 균일하게 이루어지기 어렵다.
대한민국 등록특허 제10-1301480호 대한민국 공개특허 제10-2010-0129230호
본 발명은 이와 같은 종래 기술의 터치 패널의 문제를 해결하기 위한 것으로, 유닛 와이어와 그에 연속되는 다른 유닛 와이어의 접촉 면적이 전체 선폭에서 감소되면서 연속되어 불규칙 패턴을 갖는 터치 패널 전극 구조체 및 그의 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명은 어느 하나의 유닛 와이어와 그에 연속되는 다른 유닛 와이어의 접촉 면적이 선폭을 임의의 실수로 나누어 구해진 비접촉 크기값(k) 만큼 전체 선폭에서 감소되어 연속되도록 변화시켜 모아레 현상의 발생을 억제할 수 있도록 한 터치 패널 전극 구조체 및 그의 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명은 감지 전극을 구성하는 메탈 와이어가 정밀하게 제어된 형태로 불규칙 패턴을 갖도록 하여 모아레 현상을 억제하여 패널의 시인성을 개선할 수 있도록 한 터치 패널 전극 구조체 및 그의 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명의 목적들은 이상에서 언급한 목적들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 터치 패널 전극 구조체는 연속되는 유닛 와이어들로 이루어진 메탈 와이어가, 어느 하나의 유닛 와이어와 그에 연속되는 다른 유닛 와이어의 접촉 면적이 선폭을 임의의 실수로 나누어 구해진 비접촉 크기값(k) 만큼 전체 선폭에서 감소되는 불규칙 패턴을 갖는 것을 특징으로 한다.
여기서, 어느 하나의 메탈 와이어에 다른 메탈 와이어가 반복적으로 교차하여 메쉬 패턴을 형성하는 것을 특징으로 한다.
그리고 유닛 와이어는, 메탈 와이어의 선폭(Wm)을 한 변의 길이로 갖는 정사각형인 것을 특징으로 한다.
그리고 비접촉 크기값(k)은, 메탈 와이어의 선폭(Wm)을 임의의 실수(r)로 나눈(k = Wm / r) 유닛 와이어 간의 비접촉 성분인 것을 특징으로 한다.
그리고 어느 하나의 유닛 와이어와 그에 연속되는 다른 유닛 와이어 간의 배치 조건이 kn +1 = kn+k 또는 kn +1 = kn-k를 만족하는 형태로 메탈 와이어가 구성되는 것을 특징으로 한다.
그리고 메탈 와이어의 진행 방향에서의 다음 유닛 와이어의 형성 위치가 좌에서 우 방향으로 (k)만큼 이동되어(kn +1 = kn+k) 접촉 면적이 전체 선폭에서 (k)만큼 감소되어 연속되는 형태인 것을 특징으로 한다.
그리고 메탈 와이어의 진행 방향에서의 다음 유닛 와이어의 형성 위치가 우에서 좌 방향으로 (k)만큼 이동되어(kn +1 = kn-k) 접촉 면적이 전체 선폭에서 (k)만큼 감소되어 연속되는 형태인 것을 특징으로 한다.
그리고 메탈 와이어의 진행 방향에서의 다음 유닛 와이어의 형성 위치가 좌에서 우 방향으로 이동되는(kn +1 = kn+k) 것과 우에서 좌 방향으로 이동되는(kn +2 = kn-k) 것이 유닛 와이어 단위로 교번되는 형태인 것을 특징으로 한다.
그리고 메탈 와이어를 일정 크기의 구간들로 구분하여 어느 하나의 구간에서는 메탈 와이어의 진행 방향에서의 다음 유닛 와이어의 형성 위치가 좌에서 우 방향으로 이동되고(kn +1 = kn+k), 다른 구간에서는 우에서 좌 방향으로 이동되는(kn +1 = kn-k) 형태인 것을 특징으로 한다.
그리고 연속되는 유닛 와이어들로 이루어진 메탈 와이어의 유닛와이어와 다른 유닛 와이어의 접촉비를 메탈 와이어의 선폭을 3㎛를 기준으로 서로 다른 접촉비를 갖도록, 선폭(Wm)이 3㎛ 미만인 경우에는
Figure pat00001
으로,
선폭(Wm)이 3㎛ 보다 큰 경우에는
Figure pat00002
을 적용하고, 여기서, Wm은 메탈 와이어의 선폭, k는 비접촉 크기값인 것을 특징으로 한다.
다른 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 터치 패널 전극 구조체의 제조 방법은 기재상에 메탈막을 형성하는 단계;메쉬 패턴이 형성된 포토마스크를 사용하여 상기 메탈막을 패터닝하여 메쉬 패턴을 구성하는 메탈 와이어를 형성하는 단계;를 포함하고, 연속되는 유닛 와이어들로 이루어진 메탈 와이어가 어느 하나의 유닛 와이어와 그에 연속되는 다른 유닛 와이어의 접촉 면적이 메탈 와이어 선폭을 임의의 실수로 나누어 구해진 비접촉 크기값(k) 만큼 전체 선폭에서 감소되는 불규칙 패턴을 갖는 것을 특징으로 한다.
여기서, 상기 메탈막을 패터닝하여 메쉬 패턴을 구성하는 메탈 와이어를 형성하는 단계에서, 메탈 와이어의 진행 방향에서의 다음 유닛 와이어의 형성 위치가 좌에서 우 방향으로 (k)만큼 이동되어(kn +1 = kn+k) 접촉 면적이 전체 선폭에서 (k)만큼 감소되어 연속되는 형태로 패터닝하는 것을 특징으로 한다.
그리고 상기 메탈막을 패터닝하여 메쉬 패턴을 구성하는 메탈 와이어를 형성하는 단계에서, 메탈 와이어의 진행 방향에서의 다음 유닛 와이어의 형성 위치가 우에서 좌 방향으로 (k)만큼 이동되어(kn +1 = kn-k) 접촉 면적이 전체 선폭에서 (k)만큼 감소되어 연속되는 형태로 패터닝하는 것을 특징으로 한다.
그리고 상기 메탈막을 패터닝하여 메쉬 패턴을 구성하는 메탈 와이어를 형성하는 단계에서, 메탈 와이어의 진행 방향에서의 다음 유닛 와이어의 형성 위치가 좌에서 우 방향으로 이동되는(kn +1 = kn+k) 것과 우에서 좌 방향으로 이동되는(kn +2 = kn-k) 것이 유닛 와이어 단위로 교번되는 형태로 패터닝하는 것을 특징으로 한다.
그리고 상기 메탈막을 패터닝하여 메쉬 패턴을 구성하는 메탈 와이어를 형성하는 단계에서, 메탈 와이어를 일정 크기의 구간들로 구분하여 어느 하나의 구간에서는 메탈 와이어의 진행 방향에서의 다음 유닛 와이어의 형성 위치가 좌에서 우 방향으로 이동되고(kn +1 = kn+k), 다른 구간에서는 우에서 좌 방향으로 이동되는(kn +1 = kn-k) 형태로 패터닝하는 것을 특징으로 한다.
이와 같은 본 발명에 따른 터치 패널 전극 구조체 및 그의 제조 방법은 다음과 같은 효과를 갖는다.
첫째, 유닛 와이어와 그에 연속되는 다른 유닛 와이어의 접촉 면적이 전체 선폭에서 감소되어 연속되는 형태의 불규칙 패턴 형성을 정밀하게 제어할 수 있다.
둘째, 정밀하게 제어된 불규칙 패턴에 의해 모아레 현상의 발생을 억제하여 패널의 시인성을 개선할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 전극 구조체가 적용되는 터치 패널의 일 예를 나타낸 구성도
도 2는 본 발명에 따른 메탈 와이어 및 유닛 와이어 구성도
도 3a내지 도 3c는 본 발명에 따른 메탈 와이어의 불규칙 패턴 구조를 나타낸 구성도
도 4a내지 도 4d는 본 발명에 따른 전극 구조체의 불규칙 패턴의 실시 예를 나타낸 구성도
도 5a내지 도 5v는 본 발명에 따른 전극 구조체의 제조를 위한 공정 단면도
이하, 본 발명에 따른 터치 패널 전극 구조체 및 그의 제조 방법의 바람직한 실시 예에 관하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명에 따른 터치 패널 전극 구조체 및 그의 제조 방법의 특징 및 이점들은 이하에서의 각 실시 예에 대한 상세한 설명을 통해 명백해질 것이다.
도 1은 본 발명에 따른 전극 구조체가 적용되는 터치 패널의 일 예를 나타낸 구성도이고, 도 2는 본 발명에 따른 메탈 와이어 및 유닛 와이어 구성도이다.
본 발명은 터치 패널의 감지부를 구성하는 메탈 와이어를 연속되는 유닛 와이어들로 정의하여, 어느 하나의 유닛 와이어와 그에 연속되는 다른 유닛 와이어의 접촉 면적이 선폭을 임의의 실수로 나누어 구해진 비접촉 크기값(k) 만큼 전체 선폭에서 감소되어 연속되도록 변화시켜 불규칙 패턴들을 갖도록 한 것이다.
도 1은 본 발명에 따른 전극 구조체가 적용되는 터치 패널의 일 형태를 나타낸 것으로 감지부를 구성하는 레이아웃 상에서의 구조가 이 구조로 제한되는 것은 아니다.
본 발명에 따른 전극 구조체는 복수 개의 도전 영역들(가)과, 서로 연속되는 도전 영역들(가) 사이의 개구부(나)들을 포함하고, 도전 영역들(가)과 개구부(나)들의 결합에 의해 메쉬 형상을 갖는다.
메쉬 형상은 하나의 개구부(나)와 이 개구부(나)를 둘러싸는 4개의 도전 영역(가)에 의해 형성되는 구조이다.
본 발명에 따른 전극 구조체의 도전 영역들(가)은 일 방향으로 제 1 피치(L1)를 갖고 배열된 복수 개의 제 1 메탈 와이어(10)와 다른 방향으로 제 2 피치(L2)를 갖고 배열된 복수 개의 제 2 메탈 와이어(11)가 교차 영역(12)에서 교차되어 메쉬 패턴을 갖는다.
여기서, 제 1 메탈 와이어(10)와 제 2 메탈 와이어(11)가, 일정한 선폭 및 접촉 면적을 갖는 것이 아니고, 어느 하나의 유닛 와이어와 그에 연속되는 다른 유닛 와이어의 접촉 면적이 선폭을 임의의 실수로 나누어 구해진 비접촉 크기값(k) 만큼 전체 선폭에서 감소되는 불규칙 패턴을 갖도록 하는 것이다.
불규칙 패턴들의 형태는 도 1에서와 같은 형태 및 방향으로 제한되지 않는다.
그리고 제 1 피치(L1)와 제 2 피치(L2)는 동일한 크기이거나, 다른 크기가 될수 있고, 동일한 크기와 다른 크기가 조합될 수도 있다.
도 2는 본 발명에 따른 유닛 메쉬 및 유닛 와이어 구성을 나타낸 것으로, 본 명세서에서는 메탈 와이어와 다른 메탈 와이어가 교차되어 형성되는 메쉬 패턴의 어느 하나를 유닛 메쉬로 정의하고, 유닛 메쉬를 구성하는 메탈 와이어의 선폭(Wm)을 한 변의 길이로 갖는 정사각형을 유닛 와이어(Unit Wire)로 정의한다.
메탈 와이어는 이러한 유닛 와이어들이 연속되어 이루어진 것이고, 메탈 메쉬는 유닛 메쉬들이 연결되어 구성된 것을 의미한다.
비접촉 크기값(k)은, 선폭(Wm)을 임의의 실수(r)로 나눈 유닛 와이어 간의 비접촉 성분을 의미한다.(k = Wm / r)
그리고 인접 유닛 와이어 간의 배치 조건이 kn +1 = kn+k 또는 kn +1 = kn-k를 만족하는 형태로 메탈 와이어가 구성된다.
도 3a는 임의의 실수(r)가 4인 경우에 비접촉 크기값(k)이 1/4Wm인 경우를 나타낸 것이다.
접촉 면적이 변화되는 방향은 유닛 와이어와 그에 이웃하는 다른 유닛 와이어가 연속되는 메탈 와이어의 진행 방향의 오른쪽에서 감소되거나(-k), 증가 된다.(+k)
여기서, (-k)는 메탈 와이어의 진행 방향에서의 다음 유닛 와이어의 형성 위치가 우에서 좌로 이동되어 접촉 면적이 전체 선폭에서 (k)만큼 감소되어 연속되는 것을 의미한다.
그리고 (+k)는 메탈 와이어의 진행 방향에서의 다음 유닛 와이어의 형성 위치가 좌에서 우로 이동되어 접촉 면적이 전체 선폭에서 (k)만큼 감소되어 연속되는 것을 의미한다.
도 3b는 임의의 실수(r)가 5인 경우에 비접촉 크기값(k)이 1/5Wm인 경우를 나타낸 것이다.
그리고 도 3c는 임의의 실수(r)가 8인 경우에 비접촉 크기값(k)이 1/8Wm인 경우를 나타낸 것이다.
이와 같은 본 발명에 따른 터치 패널 전극 구조체의 실시 형태를 설명하면 다음과 같다.
도 4a내지 도 4d는 본 발명에 따른 전극 구조체의 불규칙 패턴의 실시 예를 나타낸 구성도이다.
도 4a는 전극 구조체를 구성하는 메탈 와이어가 정밀하게 제어된 불규칙 패턴을 갖도록 한 것으로, 임의의 실수(r)가 8인 경우에 비접촉 크기값(k)이 1/8Wm인 경우를 나타낸 것이다.
즉, 도 4a는 메탈 와이어의 진행 방향에서의 다음 유닛 와이어의 형성 위치가 좌에서 우 방향으로 이동되어(kn +1 = kn+k) 접촉 면적이 전체 선폭에서 (k)만큼 감소되어 연속되는 형태를 나타낸 것이다.
그리고 도 4b는 임의의 실수(r)가 8인 경우에 비접촉 크기값(k)이 1/8Wm인 경우를 나타낸 것으로, 메탈 와이어의 진행 방향에서의 다음 유닛 와이어의 형성 위치가 우에서 좌 방향으로 이동되어(kn +1 = kn-k) 접촉 면적이 전체 선폭에서 (k)만큼 감소되어 연속되는 형태를 나타낸 것이다.
그리고 도 4c는 임의의 실수(r)가 8인 경우에 비접촉 크기값(k)이 1/8Wm인 경우를 나타낸 것으로, 메탈 와이어의 진행 방향에서의 다음 유닛 와이어의 형성 위치가 좌에서 우 방향으로 이동되는(kn +1 = kn+k) 것과 우에서 좌 방향으로 이동되는(kn +2 = kn-k) 것이 유닛 와이어 단위로 교번되는 형태를 나타낸 것이다.
그리고 도 4d는 임의의 실수(r)가 8인 경우에 비접촉 크기값(k)이 1/8Wm인 경우를 나타낸 것으로, 메탈 와이어를 일정 길이로 구분하여 어느 하나의 영역에서는 메탈 와이어의 진행 방향에서의 다음 유닛 와이어의 형성 위치가 좌에서 우 방향으로 이동되고(kn +1 = kn+k), 다른 영역에서는 우에서 좌 방향으로 이동되는(kn +1 = kn-k) 형태를 나타낸 것이다.
이와 같은 본 발명에 따른 전극 구조체의 메탈 와이어 형태는 도 4a내지 도 4d에서의 형태로 제한되지 않고 다른 형태로 변경되어 실시될 수 있음은 당연하다.
이와 같은 본 발명에 따른 터치 패널 전극 구조체의 제조 방법은 다음과 같다.
도 5a내지 도 5v는 본 발명에 따른 전극 구조체의 제조를 위한 공정 단면도이다.
이하의 설명에서의 제조 공정은 본 발명에 따른 전극 구조체가 적용되는 공정의 일 예를 나타낸 것으로, 이와 같은 구조 및 공정 조건으로 제한되지 않고, 다르게 형성할 수 있음은 당연하다.
먼저, 도 5a에서와 같이, 투명 기판(50) 상에 1차 산화막(51) 및 1차 메탈막(52)을 형성한다.
1차 산화막(51)은 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide)이 사용될 수 있고, 메탈막(52)은 Mo 및 Ag 합금, Al 합금 등이 사용될 수 있다.
그리고 도 5b에서와 같이, 1차 메탈막(52)상에 감광물질(photo resist)(53)을 도포한 후 감광물질(53)을 도 5c에서와 같이 메쉬 패턴이 형성된 포토마스크(54)를 사용하여 노광시킨다.
이어, 도 5d에서와 같이, 상기 감광물질(53)을 현상(develop)하여 감광물질 패턴층(53a)을 형성하고 도 5e에서와 같이 감광물질 패턴층(53a)을 이용하여 1차 메탈막(52) 및 1차 산화막(51)을 습식 식각용액을 사용하여 1차 산화막 패턴(51a) 및 1차 메탈 패턴(52a)을 형성한다.
여기서, 1차 메탈 패턴(52a)은 감지부를 구성하는 어느 한 방향의 메탈 와이어가 되는 것으로 도 4a 내지 도 4d에서와 같은 형태로 패터닝될 수 있다.
즉, 연속되는 유닛 와이어들로 이루어진 메탈 와이어가, 어느 하나의 유닛 와이어와 그에 연속되는 다른 유닛 와이어의 접촉 면적이 선폭을 임의의 실수로 나누어 구해진 비접촉 크기값(k) 만큼 전체 선폭에서 감소되는 불규칙 패턴을 갖는 형태가 된다.
그리고 도 5f에서와 같이, 감광물질 패턴층(53a)을 제거하고, 상기 1차 메탈 패턴(52a) 상에 절연막(SiON)(55)을 형성한다.
이어, 도 5g에서와 같이, 상기 절연막(55) 상에 감광물질(PR)(56)을 도포한 후 도 5h에서와 같이 감광물질(56)을 홀 패턴이 형성된 포토마스크(57)를 사용하여 노광하여 도 5i에서와 같이 감광물질 패턴층(56a)을 형성한다.
그리고 도 5j에서와 같이, 감광물질 패턴층(56a)을 이용하여 상기 절연막(55)을 건식 식각 공정으로 선택적으로 제거하여 연결부 홀(57)을 형성하고, 도 5k에서와 같이 감광물질 패턴층(56a)을 제거한다.
도 5l에서와 같이, 연결부 홀(57)이 형성된 절연막 패턴(55a) 상에 2차 산화막(58) 및 2차 메탈막(59)을 형성한다.
그리고 도 5m에서와 같이, 2차 메탈막(59) 상에 감광물질(photo resist)(60)을 도포한 후 도 5n에서와 같이 감광물질(60)을 메쉬브릿지 패턴이 형성된 포토마스크(61)를 사용하여 노광한다.
이어, 도 5o에서와 같이, 감광물질(60)을 현상(develop)하여 감광물질 패턴층(60a)을 형성하고, 도 5p에서와 같이 감광물질 패턴층(60a)을 이용하여 2차 메탈막(59) 및 2차 산화막(58)을 습식 식각 용액을 사용하여 선택적으로 패터닝하여 2차 산화막 패턴(58a) 및 메쉬브릿지 패턴(59a)을 형성한다.
그리고 도 5q 내지 도 5v에서와 같이, 메쉬브릿지 패턴(59a)상에 무기 또는 유기 절연막층(62)을 형성하고, 감광물질(63) 도포 및 포토마스크(64)를 사용한 노광 및 현상을 진행하여 감광물질 패턴층(63a)을 형성하여 무기 또는 유기 절연막 패턴층(62a)을 형성하여 감지전극 및 구동전극이 형성된 기판을 제조한다.
이와 같은 본 발명에 따른 터치 패널 전극 구조체는 다음과 같은 모아레 억제 특성을 갖는다.
Figure pat00003
Figure pat00004
표 1은 선폭(Wm)이 1 ~ 3㎛인 경우를 나타낸 것이고, 표 2는 선폭이 4 ~ 5㎛인 경우를 나타낸 것이다.
상기 실시 예는 kn +1 = kn + k / kn +2 = kn +1 - k를 만족하는 패턴을 형성하여, 직선 대비 저항 증가 특성 및 패턴 형성의 정밀도, 모아레 특성을 비교한 것이다.
패턴 형성 정도의 확인은 설계 수치 대비 30%미만인 경우를 A, 30% 이상 ~ 70% 미만인 경우를 B, 70% 이상인 경우를 C로 평가한 것이다.
그리고 모아레 특성 평가는, 패턴의 회전에 따른 모아레 발생을 선폭 및 접촉 면적별로 관찰하여, 모아레 현상이 전혀 발견되지 않으면 A, 희미하게 보이는 정도를 B, 모아레 현상이 확연한 경우를 C로 평가한 것이다.
접촉비 0.9 이상에서는 직선 형태의 메탈 와이어로 보이며, 모아레 현상이 C 이하인 것으로 판단된다.
그리고 직선 메탈 와이어 대비 저항 증가 특성을 고려하여 선폭을 3㎛를 기준으로 서로 다른 기준의 접촉비를 갖도록 하는 것이 바람직하다.
Figure pat00005
Figure pat00006
수학식 1은 선폭(Wm)이 3㎛ 미만인 경우에 적용하는 기준이고, 수학식 2는 선폭(Wm)이 3㎛ 보다 큰 경우에 적용하는 기준이다.
이와 같은 본 발명에 따른 터치 패널 전극 구조체 및 그의 제조 방법은 메탈 와이어를 구성하는 어느 하나의 유닛 와이어와 그에 연속되는 다른 유닛 와이어의 접촉 면적이 선폭을 임의의 실수로 나누어 구해진 비접촉 크기값(k) 만큼 전체 선폭에서 감소되어 연속되도록 변화시켜 모아레 현상의 발생을 억제하여 패널의 시인성을 개선할 수 있도록 한 것이다.
이상에서의 설명에서와 같이 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 변형된 형태로 본 발명이 구현되어 있음을 이해할 수 있을 것이다.
그러므로 명시된 실시 예들은 한정적인 관점이 아니라 설명적인 관점에서 고려되어야 하고, 본 발명의 범위는 전술한 설명이 아니라 특허청구 범위에 나타나 있으며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 차이점은 본 발명에 포함된 것으로 해석되어야 할 것이다.
10. 제 1 메탈 와이어 11. 제 2 메탈 와이어
12. 교차 영역

Claims (15)

  1. 연속되는 유닛 와이어들로 이루어진 메탈 와이어가,
    어느 하나의 유닛 와이어와 그에 연속되는 다른 유닛 와이어의 접촉 면적이 선폭을 임의의 실수로 나누어 구해진 비접촉 크기값(k) 만큼 전체 선폭에서 감소되는 불규칙 패턴을 갖는 것을 특징으로 하는 터치 패널 전극 구조체.
  2. 제 1 항에 있어서, 어느 하나의 메탈 와이어에 다른 메탈 와이어가 반복적으로 교차하여 메쉬 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 터치 패널 전극 구조체.
  3. 제 1 항에 있어서, 유닛 와이어는,
    메탈 와이어의 선폭(Wm)을 한 변의 길이로 갖는 정사각형인 것을 특징으로 하는 터치 패널 전극 구조체.
  4. 제 1 항에 있어서, 비접촉 크기값(k)은,
    메탈 와이어의 선폭(Wm)을 임의의 실수(r)로 나눈(k = Wm / r) 유닛 와이어 간의 비접촉 성분인 것을 특징으로 하는 터치 패널 전극 구조체.
  5. 제 1 항에 있어서, 어느 하나의 유닛 와이어와 그에 연속되는 다른 유닛 와이어 간의 배치 조건이 kn +1 = kn+k 또는 kn +1 = kn-k를 만족하는 형태로 메탈 와이어가 구성되는 것을 특징으로 하는 터치 패널 전극 구조체.
  6. 제 1 항에 있어서, 메탈 와이어의 진행 방향에서의 다음 유닛 와이어의 형성 위치가 좌에서 우 방향으로 (k)만큼 이동되어(kn +1 = kn+k) 접촉 면적이 전체 선폭에서 (k)만큼 감소되어 연속되는 형태인 것을 특징으로 하는 터치 패널 전극 구조체.
  7. 제 1 항에 있어서, 메탈 와이어의 진행 방향에서의 다음 유닛 와이어의 형성 위치가 우에서 좌 방향으로 (k)만큼 이동되어(kn +1 = kn-k) 접촉 면적이 전체 선폭에서 (k)만큼 감소되어 연속되는 형태인 것을 특징으로 하는 터치 패널 전극 구조체.
  8. 제 1 항에 있어서, 메탈 와이어의 진행 방향에서의 다음 유닛 와이어의 형성 위치가 좌에서 우 방향으로 이동되는(kn +1 = kn+k) 것과 우에서 좌 방향으로 이동되는(kn +2 = kn-k) 것이 유닛 와이어 단위로 교번되는 형태인 것을 특징으로 하는 터치 패널 전극 구조체.
  9. 제 1 항에 있어서, 메탈 와이어를 일정 크기의 구간들로 구분하여 어느 하나의 구간에서는 메탈 와이어의 진행 방향에서의 다음 유닛 와이어의 형성 위치가 좌에서 우 방향으로 이동되고(kn +1 = kn+k), 다른 구간에서는 우에서 좌 방향으로 이동되는(kn +1 = kn-k) 형태인 것을 특징으로 하는 터치 패널 전극 구조체.
  10. 제 1 항에 있어서, 연속되는 유닛 와이어들로 이루어진 메탈 와이어의 유닛와이어와 다른 유닛 와이어의 접촉비를 메탈 와이어의 선폭을 3㎛를 기준으로 서로 다른 접촉비를 갖도록,
    선폭(Wm)이 3㎛ 미만인 경우에는
    Figure pat00007
    으로,
    선폭(Wm)이 3㎛ 보다 큰 경우에는
    Figure pat00008
    을 적용하고,
    여기서, Wm은 메탈 와이어의 선폭, k는 비접촉 크기값인 것을 특징으로 하는 터치 패널 전극 구조체.
  11. 기재상에 메탈막을 형성하는 단계;
    메쉬 패턴이 형성된 포토마스크를 사용하여 상기 메탈막을 패터닝하여 메쉬 패턴을 구성하는 메탈 와이어를 형성하는 단계;를 포함하고,
    연속되는 유닛 와이어들로 이루어진 메탈 와이어가 어느 하나의 유닛 와이어와 그에 연속되는 다른 유닛 와이어의 접촉 면적이 메탈 와이어 선폭을 임의의 실수로 나누어 구해진 비접촉 크기값(k) 만큼 전체 선폭에서 감소되는 불규칙 패턴을 갖는 것을 특징으로 하는 터치 패널 전극 구조체의 제조 방법.
  12. 제 11 항에 있어서, 상기 메탈막을 패터닝하여 메쉬 패턴을 구성하는 메탈 와이어를 형성하는 단계에서,
    메탈 와이어의 진행 방향에서의 다음 유닛 와이어의 형성 위치가 좌에서 우 방향으로 (k)만큼 이동되어(kn +1 = kn+k) 접촉 면적이 전체 선폭에서 (k)만큼 감소되어 연속되는 형태로 패터닝하는 것을 특징으로 하는 터치 패널 전극 구조체의 제조 방법.
  13. 제 11 항에 있어서, 상기 메탈막을 패터닝하여 메쉬 패턴을 구성하는 메탈 와이어를 형성하는 단계에서,
    메탈 와이어의 진행 방향에서의 다음 유닛 와이어의 형성 위치가 우에서 좌 방향으로 (k)만큼 이동되어(kn +1 = kn-k) 접촉 면적이 전체 선폭에서 (k)만큼 감소되어 연속되는 형태로 패터닝하는 것을 특징으로 하는 터치 패널 전극 구조체의 제조 방법.
  14. 제 11 항에 있어서, 상기 메탈막을 패터닝하여 메쉬 패턴을 구성하는 메탈 와이어를 형성하는 단계에서,
    메탈 와이어의 진행 방향에서의 다음 유닛 와이어의 형성 위치가 좌에서 우 방향으로 이동되는(kn +1 = kn+k) 것과 우에서 좌 방향으로 이동되는(kn +2 = kn-k) 것이 유닛 와이어 단위로 교번되는 형태로 패터닝하는 것을 특징으로 하는 터치 패널 전극 구조체의 제조 방법.
  15. 제 11 항에 있어서, 상기 메탈막을 패터닝하여 메쉬 패턴을 구성하는 메탈 와이어를 형성하는 단계에서,
    메탈 와이어를 일정 크기의 구간들로 구분하여 어느 하나의 구간에서는 메탈 와이어의 진행 방향에서의 다음 유닛 와이어의 형성 위치가 좌에서 우 방향으로 이동되고(kn +1 = kn+k), 다른 구간에서는 우에서 좌 방향으로 이동되는(kn +1 = kn-k) 형태로 패터닝하는 것을 특징으로 하는 터치 패널 전극 구조체의 제조 방법.
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