KR20150096749A - 트랜스-레스베라트롤 또는 트랜스-레스베라트롤 유도체 조성물 - Google Patents

트랜스-레스베라트롤 또는 트랜스-레스베라트롤 유도체 조성물 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 생리적으로 허용가능한 매질 중에, 적어도 트랜스-레스베라트롤 및/또는 하나 이상의 트랜스-레스베라트롤 유도체, 및 하나 이상의 UVA 필터 및 하나 이상의 UVB 필터 및/또는 하나 이상의 혼합된 UVA-UVB 필터를 포함하는 유기 필터링 시스템을 포함하는 미용 또는 피부과용 조성물로서, SPF 15 이상 및 PPD 5 이상을 갖는 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 또한 트랜스-레스베라트롤 및/또는 하나 이상의 트랜스-레스베라트롤 유도체를 포함하는 조성물의 안정화, 특히 광안정화를 위한, 하나 이상의 UVA 필터 및 하나 이상의 UVB 필터 및/또는 하나 이상의 혼합된 UVA-UVB 필터를 포함하는 필터링 시스템의 용도에 관한 것이다.

Description

트랜스-레스베라트롤 또는 트랜스-레스베라트롤 유도체 조성물 {TRANS-RESVERATROL OR TRANS-RESVERATROL DERIVATIVE COMPOSITION}
본 발명은, 특히 항산화제, 항노화제 또는 탈색제로서의, 트랜스-레스베라트롤 및/또는 하나 이상의 트랜스-레스베라트롤 유도체를 포함하는 조성물의 분야에 관한 것이다.
레스베라트롤은 스틸벤 클래스의 폴리페놀이며, 아래 나타낸 시스 형태 및 트랜스 형태로 존재한다.
Figure pct00001
트랜스-레스베라트롤은 수많은 생물학적 특성, 예컨대 항산화, 항염증 또는 항종양 활성을 갖는 것으로 알려져 있다.
그러나, 트랜스-레스베라트롤은 빛에 노출시 그것의 시스 이성질체로 비가역적으로 전환되는 감광성 분자이나, 트랜스 이성질체가 가장 활성인 형태이다.
따라서, 특히 빛에 관하여 안정적인 트랜스-레스베라트롤을 함유하는 조성물이 여전히 필요하다.
본 발명자들은 UVA- 및 UVB-스크리닝제를 조성물에 도입함으로써 그러한 조성물을 수득하는 것이 가능하다는 점에 주목했다.
따라서, 본 발명의 주제는, 첫번째 양상에 따르면, 생리적으로 허용가능한 매질 중에, 적어도 트랜스-레스베라트롤 및/또는 하나 이상의 트랜스-레스베라트롤 유도체, 및 하나 이상의 UVA-스크리닝제 및 하나 이상의 UVB-스크리닝제 및/또는 하나 이상의 혼합된 UVA-UVB-스크리닝제를 포함하는 유기 스크리닝 시스템을 포함하는 미용 또는 피부과용 조성물로서, SPF 15 이상 및 PPD 5 이상을 갖는 조성물이다.
바람직하게는, 트랜스-레스베라트롤 또는 트랜스-레스베라트롤 유도체는 조성물의 총 중량에 대해 0.001 중량% 내지 10 중량% 범위의 함량으로 존재한다.
특히, 본 발명에 따른 조성물은 SPF/PPD 비율이 1 내지 3, 바람직하게는 1.3 내지 2.7, 더욱 바람직하게는 1.5 내지 2.5 범위인 것을 특징으로 한다.
두번째 양상에 따르면, 본 발명은 트랜스-레스베라트롤 및/또는 하나 이상의 트랜스-레스베라트롤 유도체를 포함하는 조성물의 안정화, 특히 광안정화 방법으로서, 하나 이상의 UVA-스크리닝제 및 하나 이상의 UVB-스크리닝제 및/또는 하나 이상의 혼합된 UVA-UVB-스크리닝제를 포함하는 유기 스크리닝 시스템이 상기 조성물에 조성물의 SPF 가 15 이상의 값이 되고 조성물의 PPD 가 5 이상의 값이 되게 하는 양으로 첨가되는 단계를 포함하는 방법에 관한 것이다.
본 발명은 또한 트랜스-레스베라트롤 및/또는 하나 이상의 트랜스-레스베라트롤 유도체를 포함하는 조성물의 안정화, 특히 광안정화를 위한, 하나 이상의 UVA-스크리닝제 및 하나 이상의 UVB-스크리닝제 및/또는 하나 이상의 혼합된 UVA-UVB-스크리닝제를 포함하는 스크리닝 시스템의 용도에 관한 것이다.
이러한 용도는 특히 상기 조성물에 상기 유기 스크리닝 시스템을 조성물의 SPF 가 15 이상의 값이 되고 조성물의 PPD 가 5 이상의 값이 되게 하는 양으로 첨가하는 것을 포함한다.
놀랍게도, 발명자들은 본 발명에 따른 조성물에 존재하는 트랜스-레스베라트롤이 빛에 노출된 후에 특별히 안정적이라는 점에 주목했다.
본 발명의 목적을 위해, 용어 "트랜스-레스베라트롤 유도체" 는 트랜스-레스베라트롤의 에스테르, 글루코시드 및 포스페이트를 의미하는 것으로 의도된다.
이들 화합물 모두는 트랜스-레스베라트롤과 동일한 생물학적 특성을 갖고, 트랜스 입체화학을 갖는다. 트랜스-레스베라트롤처럼, 그들은 감광성이고 빛에 노출시 그들의 시스 이성질체로 비가역적으로 전환된다.
명세서의 나머지에서, 용어 "트랜스-레스베라트롤" 은 트랜스-레스베라트롤 또는 하나 이상의 트랜스-레스베라트롤 유도체 또는 트랜스-레스베라트롤 및 트랜스-레스베라트롤 유도체(들)의 혼합물을 의미하는 것으로 의도된다.
본 발명의 목적을 위해, 용어 "안정적" 은 트랜스-레스베라트롤이 특히 빛에 노출시, 특히 그것의 시스 이성질체로의 전환에 의한, 붕괴를 적게 겪는 조성물을 의미하는 것으로 의도된다. 바람직하게는, 본 발명에 따른 안정적 조성물은 조성물에 초기에 도입된 레스베라트롤의 총 중량에 대해 70 중량% 이상의 레스베라트롤, 유리하게는 75 중량% 이상의 레스베라트롤, 특히 80 중량% 이상의 레스베라트롤을 포함한다.
본 발명의 목적을 위해, 용어 "SPF" 는 UVB 방사선에 대한 보호의 수준을 측정하는, 일광 보호 지수를 의미하는 것으로 의도된다. SPF 의 값은 선스크린 조성물을 이용할 때 일광화상에 도달하는데 필수적인 최소 시간과 제품을 사용하지 않을 때 최소 시간 사이의 비율에 해당한다.
그것은 UV-스크리닝제를 사용할 때 홍반유발 역치에 도달하는데 필수적인 UV 방사선량 대 UV-스크리닝제를 사용하지 않을 때 홍반유발 역치에 도달하는데 필수적인 UV 방사선량의 비율에 의해 수학적으로 표현된다. 따라서 이러한 지수는 생물학적 작용 범위의 중심이 UVB 영역에 있는 보호의 효능과 관련되고, 결과적으로 이러한 UVB 방사선에 관한 보호를 설명한다.
UVA 에 관한 보호를 특징짓기 위해, UVA 방사선에 피부를 노출한지 2 내지 4 시간 후에 관찰되는 피부 색을 측정하는 PPD (지속적 색소 침착) 방법이 특히 권장되고 사용된다. 이러한 방법은 1996 년 이후 일본 화장품 산업 협회 (Japanese Cosmetic Industry Association) (JCIA) 에 의해 제품의 UVA 라벨링을 위한 공식 시험 절차로서 채택되어 왔고, 유럽 및 미국에서 시험 실험실에 의해 빈번히 사용된다; (Japan Cosmetic Industry Association Technical Bulletin. Measurement Standards for UVA protection efficacy. Issued November 21, 1995 and effective as of January 1, 1996).
UVA PPD 자외선 차단 지수 (UVAppd PF) 는 UV-스크리닝제를 사용할 때 착색 역치에 도달하는데 필수적인 UVA 방사선량 (MPPDp) 대 UV-스크리닝제를 사용하지 않을 때 착색 역치에 도달하는데 필수적인 UVA 방사선량 (MPPDnp) 의 비율에 의해 수학적으로 표현된다.
Figure pct00002
본 출원은 또한 또다른 양상에 따르면, 특히 산화 스트레스에 의해 유도되는, 피부 노화의 징후를 예방하기 위한, 유효량의 이전에 정의된 트랜스-레스베라트롤 또는 하나 이상의 트랜스-레스베라트롤 유도체의 미용 용도에 관한 것이다.
실제로, 산화 스트레스는 특히 외부 인자 예컨대 자외선 방사, 오염, 열 스트레스 또는 다양한 독소 예컨대 피부와 접촉될 수 있는 화학물질 (담배, 중금속, 대기 오염물질 등) 과 관련된다.
특히, 본 발명에 따른 용도는 피부 노화의 징후, 특히 화학선 기원의 피부 노화, 예컨대 광노화의 징후를 감소시키는 것을 목적으로 한다.
특히 화학선 기원의, 특히 산화 스트레스에 의해 유도되는, 피부 노화의 징후 중에서, 특히 피부의 견고성 및/또는 탄력성 및/또는 톤 및/또는 유연성의 상실, 특히 이마 위 및 눈썹 사이 공간에서의, 주름 및 잔주름, 표정선, 입주위 주름 및 잔주름의 형성, 및/또는, 입술 주위 부위에서의, 특히 윗입술 부위 (윗입술과 코 사이의 부위) 에서의, 처짐, 칙칙한 외관의 안색, 및 주름이 쪼글쪼글한 외관의 피부가 언급될 수 있다.
이러한 용도는 특히 성숙한, 또는 심지어는 매우 성숙한 피부를 갖는 개체를 위해 의도될 것이다.
본 발명에 따른, 용어 "성숙한 피부" 는 특히 적어도 40 세인 개체를 의미하는 것으로 의도된다.
본 발명에 따른, 용어 "매우 성숙한 피부" 는 특히 적어도 50 세, 특히 적어도 60 세, 또는 심지어는 65 세인 개체를 의미하는 것으로 의도된다.
표정 주름은 얼굴 표정을 허용하는 피부 근육에 의해 피부에 가해지는 변형의 효과로 인해 생성된다. 얼굴의 모양, 얼굴 표정의 빈도 및 가능한 틱에 따라, 표정 주름은 아동기부터 나타날 수 있다. 특정 환경 인자, 예컨대 산화 스트레스, 일광에의 노출, 및 또한 연령은 표정 주름을 생성하는데 관여하지 않으나, 표정 주름을 더 깊게 만들고 영구적으로 만들 수 있다. 표정 주름은 코 (코 홈), 입 (입주위 주름 및 "뚱한 얼굴" 주름) 및 눈 (눈가 주름) 에 의해 형성되는 구멍 (이 주위에 피부 근육이 있음) 주위, 및 또한 눈썹 사이 (미간 주름 또는 사자 주름) 및 이마 위의 홈의 존재에 의해 특징지어 진다. 특히, 이마 및 눈썹 사이 부위의 주름을 예방하거/거나 펴는 것이 추구될 것이다.
주름이 쪼글쪼글한 외관의 피부는 시각적 외관, 및 또한 터치에 대한 피부의 거동의 변화에 의해 특징지어 진다. 더욱 구체적으로, 피부는 시각적으로 담배 종이의 외관을 취하며, 한 장의 파피루스와 유사한 외관을 제공한다. 또한, 엄지 및 검지 손가락 사이에서 약하게 꼬집혔을 때, 피부는 구겨진 종이의 외관을 갖는 수많은 미세한 날카로운 주름을 형성한다. 마지막으로, 피부의 느낌으로는 그것의 표면 부분이 깊은 부분 위에서 떠있는 것 같고, 주름이 쪼글쪼글한 외관의 매우 진행된 시기에 피부에 닳아 보이는 종이의 외관을 제공하는 것 같다. 주름이 쪼글쪼글한 외관의 피부는 얼굴에서 보이고, 심지어는 노인의 손등에서 더욱 특징적이다.
표정 주름을 예방하고/거나 펴기 위해 의도되는 본 발명에 따른 조성물은 얼굴에 적용될 것이다.
주름이 쪼글쪼글한 외관의 피부의 예방 및/또는 치료를 위해 의도되는 본 발명에 따른 조성물은 특히 손등에 적용될 것이다.
모공의 출현 및/또는 가시성의 감소를 위해 의도되는 본 발명에 따른 조성물은 특히 T 존 (이마, 코, 볼, 턱) 에 적용될 것이다.
항산화 활성제의 사용은 항-노화 조성물 또는 심지어는 탈색 조성물에서 유용한 것으로 증명될 수 있다.
본 발명에 따른 용도는 또한 더욱 특히 지성 피부를 갖는 개체를 위해 의도될 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 케라틴 물질, 특히 피부를 위한 메이크업 또는 케어 제품일 수 있다.
더욱 구체적으로, 메이크업 제품은 파운데이션, 페이스 파우더, 아이섀도우, 컨실러 제품 또는 블러셔, 또는 대안적으로 바디 메이크업 제품 또는 피부 착색 제품과 같은 유형일 수 있다.
피부케어 제품은 얼굴, 손, 발, 주요 해부학적 주름 또는 몸을 위한 보호, 치료 또는 케어 조성물, 예를 들어, 데이 크림, 나이트 크림, 항일광 조성물, 보호 또는 케어 바디 밀크, 애프터선 밀크, 피부케어 로션, 겔 또는 폼, 또는 인공 태닝 조성물; 또는 애프터쉐이브 조성물일 수 있다.
본 발명은 또한, 특히 산화 스트레스에 의해 유도되는, 피부 노화의 예방 및/또는 치료를 위해 의도되는 피부 및/또는 피부 부속기관의 미용 처리 방법으로서, 산화 스트레스에 의해 유도되는 피부 노화의 징후를 보이는 피부 및/또는 피부 부속기관에 유효량 이상의 하나 이상의 본 발명에 따른 조성물을 적용하는 것으로 이루어지는 하나 이상의 단계를 포함하는 방법에 관한 것이다.
본 발명은 또한 산화 스트레스의 효과에 대항해, 특히 UV 방사선 및/또는 독소 및/또는 오염의 효과에 대항해 피부 및/또는 피부 부속기관을 보호하는 것을 목적으로 하는 피부 및/또는 피부 부속기관의 미용 처리 방법으로서, 피부 및/또는 피부 부속기관에 유효량 이상의 하나 이상의 본 발명에 따른 조성물을 적용하는 것으로 이루어지는 하나 이상의 단계를 포함하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 조성물은 국소 적용에 적합하다.
용어 "피부" 는 얼굴 및/또는 몸, 두피 및 반-점막 (입술) 의 피부를 의미하는 것으로 의도된다. 바람직하게는, 그것은 얼굴 및/또는 몸 및/또는 입술의 피부를 포함한다.
용어 "피부 부속기관" 은 두발, 체모, 속눈썹, 손발톱, 바람직하게는 두발을 의미하는 것으로 의도된다.
마지막으로, 본 발명은 산화 스트레스에 의해 유도되는 피부 자극의 예방을 위해 의도되는 미용 처리 방법으로서, 산화 스트레스를 받을 수 있는 피부에 유효량 이상의 하나 이상의 이전에 정의된 조성물을 적용하는 것으로 이루어지는 하나 이상의 단계를 포함하는 방법에 관한 것이다.
본 출원에서 사용되는 용어 "산화 스트레스" 는 대상에서 자유 라디칼에 의해 야기되는 모든 손상을 포괄한다.
이러한 산화 스트레스에 의해 생성되는 손상의 정도는 자유 라디칼이 생성되고 후속적으로 항산화제에 의해 불활성화되는 속도에 좌우된다.
트랜스-레스베라트롤
레스베라트롤은 자연 상태에서 그것의 시스 및 트랜스 형태로, 뿐만 아니라 다른 형태, 예를 들어 글루코실화 형태로 존재한다. 그것은 많은 식물 및 열매에 존재한다. 그것은 특히 호장근 (폴리고눔 쿠피스타둠 (Polygonum cupistadum) 으로도 알려진 팔로피아 자포니카 (Fallopia japonica) 그렇지 않으면 레이노우트리아 자포니카 (Reynoutria japonica)) 에서 또는 포도, 예를 들어 포도덩굴 종 비티스 비니페라 (Vitis vinifera) 에 속하는 것에서 발견된다. 더욱 특히, 레스베라트롤은, 예를 들어, 블랙베리, 와인 또는 땅콩에서 발견된다.
일반적으로, 레스베라트롤은 하기 식물 과에서 발견된다: 포도과 (Vitaceae), 도금양과 (Myrtaceae), 이엽시과 (Dipterocarpaceae), 사초과 (Cyperaceae), 네타과 (Gnetaceae), 콩과 (Fabaceae), 소나무과 (Pinaceae), 마디풀과 (Polygonaceae), 뽕나무과 (Moraceae), 참나무과 (Fagaceae), 백합과 (Liliaceae) 등.
본 발명에 따른 조성물에 존재하는 트랜스-레스베라트롤은 트랜스-레스베라트롤을 함유하는 식물 추출물 형태일 수 있다.
본 발명의 하나의 특정 구현예에 따르면, 상기 트랜스-레스베라트롤 및/또는 하나 이상의 트랜스-레스베라트롤 유도체는 본 발명에 따른 조성물에 조성물의 총 중량에 대해 0.01 중량% 내지 5 중량%, 바람직하게는 0.05 중량% 내지 2 중량% 범위의 함량으로 존재한다.
본 발명의 목적을 위해, 용어 "함량" 은 활성 물질 함량을 의미하는 것으로 의도된다.
본 발명은 또한 상기 조성물의 제조 방법에 관한 것이다.
유기 스크리닝제
이전에 명시된, 본 발명에 따른 조성물은 하나 이상의 UVA-스크리닝제 및 하나 이상의 UVB-스크리닝제 및/또는 하나 이상의 혼합된 UVA-UVB-스크리닝제를 포함하는 유기 스크리닝 시스템을 포함한다.
UVA-스크리닝제
본 발명에 따른 UVA-스크리닝제(들)은 하기 스크리닝제로부터 선택될 수 있다.
1) 소수성 UVA-스크리닝제
디벤조일메탄 유도체:
- 특히 상표명 Parsol 1789 하에 DSM Nutritional Products, Inc. 에 의해 판매되는 부틸메톡시디벤조일메탄;
- 이소프로필 디벤조일메탄;
아미노벤조페논:
- 특히 상표명 Uvinul A+ 하에 BASF 에 의해 판매되는 n-헥실 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)벤조에이트;
안트라닐산 유도체:
- 특히 상표명 Neo Heliopan MA 하에 Symrise 에 의해 판매되는 멘틸 안트라닐레이트;
4,4-디아릴부타디엔 유도체:
- 1,1-디카르복시-(2,2'-디메틸프로필)-4,4-디페닐부타디엔;
메로시아닌 유도체:
- 옥틸 5-N,N-디에틸아미노-2-페닐술포닐-2,4-펜타디에노에이트.
2) 수용성 UVA-스크리닝제
- 캄포르 유도체 예컨대 명칭 Mexoryl SX 하에 Chimex 에 의해 생산되는 테레프탈일리덴디캄포르술폰산;
- 특허 EP 669 323, 및 US 2 463 264 에 기재된 비스-벤조아졸일 유도체, 더욱 특히 상표명 Neo Heliopan AP 하에 Symrise 에 의해 판매되는 화합물 디소듐 페닐디벤즈이미다조테트라술포네이트.
하나의 바람직한 구현예에 따르면, 상기 하나 이상의 UVA-스크리닝제는 소수성 디벤조일메탄 유도체, 수용성 캄포르 유도체, 및 그들의 혼합물로부터 선택된다.
더욱 특히, 상기 하나 이상의 UVA-스크리닝제는 부틸 메톡시디벤조일메탄, 테레프탈일리덴디캄포르술폰산, 및 그들의 혼합물로부터 선택된다. 바람직하게는, 본 발명에 따른 조성물은 상기 하나 이상의 UVA-스크리닝제가 조성물의 총 중량에 대해 1 중량% 내지 20 중량%, 특히 2 중량% 내지 15 중량% 범위의 함량으로 존재하는 것을 특징으로 한다.
또다른 구현예에 따르면, 상기 하나 이상의 UVA-스크리닝제는 수용성 UVA-스크리닝제이다.
UVB-스크리닝제
본 발명에 따른 UVB-스크리닝제(들)은 하기 스크리닝제로부터 선택될 수 있다.
1) 소수성 UVB-스크리닝제
파라 -아미노벤조에이트:
- 에틸 PABA;
- 에틸 디히드록시프로필 PABA;
- 에틸헥실 디메틸 PABA (ISP 로부터의 Escalol 507).
살리실산 유도체:
- 특히 명칭 Eusolex HMS 하에 Rona/EM Industries 에 의해 판매되는 호모살레이트;
- 특히 명칭 Neo Heliopan OS 하에 Symrise 에 의해 판매되는 에틸헥실 살리실레이트;
- 특히 명칭 Dipsal 하에 Scher 에 의해 판매되는 디프로필렌 글리콜 살리실레이트;
- 명칭 Neo Heliopan TS 하에 Symrise 에 의해 판매되는 TEA 살리실레이트.
신나메이트
- 특히 상표명 Parsol MCX 하에 DSM Nutritional Products, Inc. 에 의해 판매되는 에틸헥실 메톡시신나메이트;
- 이소프로필 메톡시신나메이트;
- 특히 상표명 Neo Heliopan E 1000 하에 Symrise 에 의해 판매되는 이소아밀 메톡시신나메이트;
- 디이소프로필 메틸신나메이트;
- 신녹세이트;
- 글리세릴 에틸헥사노에이트 디메톡시신나메이트.
β,β'-디페닐아크릴레이트 유도체:
- 특히 상표명 Uvinul N539 하에 BASF 에 의해 판매되는, 옥토크릴렌;
- 특히 상표명 Uvinul N35 하에 BASF 에 의해 판매되는 에토크릴렌.
벤질리덴캄포르 유도체:
- 명칭 Mexoryl SD 하에 Chimex 에 의해 생산되는 3-벤질리덴캄포르;
- 특히 명칭 Eusolex 6300 하에 Merck 에 의해 판매되는 메틸벤질리덴캄포르;
- 명칭 Mexoryl SW 하에 Chimex 에 의해 생산되는 폴리아크릴아미도메틸벤질리덴캄포르.
트리아진 유도체:
- 특히 상표명 Uvinul T150 하에 BASF 에 의해 판매되는 에틸헥실트리아존;
- 특히 상표명 Uvasorb HEB 하에 Sigma 3V 에 의해 판매되는 디에틸헥실부타미도트리아존;
- 2,4,6-트리스(디네오펜틸 4'-아미노벤잘말로네이트)-s-트리아진;
- 2,4,6-트리스(디이소부틸 4'-아미노벤잘말로네이트)-s-트리아진;
- 2,4-비스(디네오펜틸 4'-아미노벤잘말로네이트)-6-(n-부틸 4'-아미노벤조에이트)-s-트리아진;
- 2,4-비스(n-부틸 4'-아미노벤조에이트)-6-(아미노프로필트리실록산)-s-트리아진;
- 특허 US 6 225 467, 특허 출원 WO 2004/085 412 (화합물 6 및 9 참고) 또는 문헌 "Symmetrical Triazine Derivatives" IP.COM Journal, IP.COM Inc West Henrietta, NY, US (2004 년 9 월 20 일) 에 기재된 대칭적 트리아진 스크리닝제, 특히 2,4,6-트리스-(디페닐)-1,3,5-트리아진 (특히 2,4,6-트리스(디페닐-4-일-1,3,5-트리아진) 및 2,4,6-트리스(테르페닐)-1,3,5-트리아진, 뒤의 2 개의 스크리닝제는 Beiersdorf 출원 WO 06/035 000, WO 06/034 982, WO 06/034 991, WO 06/035 007, WO 2006/034 992, WO 2006/034 985 에 기재되어 있음).
이미다졸린 유도체:
- 에틸헥실 디메톡시벤질리덴 디옥소이미다졸린 프로피오네이트.
벤잘말로네이트 유도체:
- 벤잘말로네이트 관능기를 함유하는 폴리오르가노실록산, 예를 들어, 특히 상표명 Parsol SLX 하에 DSM Nutritional Products, Inc. 에 의해 판매되는, Polysilicone-15;
- 디네오펜틸 4'-메톡시벤잘말로네이트.
2) 수용성 UVB-스크리닝제
하기 p-아미노벤조산 (PABA) 유도체:
- PABA,
- 글리세릴 PABA, 및
- 특히 상표명 Uvinul P25 하에 BASF 에 의해 판매되는 PEG-25 PABA,
- 특히 상표명 Eusolex 232 하에 Merck 에 의해 판매되는 페닐벤즈이미다졸 술폰산,
- 페룰산,
- 살리실산,
- DEA 메톡시신나메이트,
- 명칭 Mexoryl SL 하에 Chimex 에 의해 생산되는 벤질리덴캄포르술폰산,
- 명칭 Mexoryl SO 하에 Chimex 에 의해 생산되는 캄포르벤잘코늄 메토술페이트.
하나의 바람직한 구현예에 따르면, 본 발명에 따른 조성물에 포함되는 하나 이상의 UVB-스크리닝제는 소수성 UVB-스크리닝제이다.
특히, 상기 하나 이상의 소수성 UVB-스크리닝제는 살리실산 유도체, 신나메이트, β,β'-디페닐아크릴레이트 유도체, 트리아진 유도체, 및 그의 혼합물로부터 선택된다.
바람직하게는, 하나 이상의 UVB-스크리닝제는 에틸헥실 살리실레이트, 에틸헥실 메톡시신나메이트, 옥토크릴렌, 에틸헥실 트리아존, 및 그의 혼합물로부터 선택된다.
바람직하게는, 본 발명에 따른 조성물은 상기 하나 이상의 UVB-스크리닝제가 조성물의 총 중량에 대해 1 중량% 내지 20 중량%, 특히 5 중량% 내지 15 중량%, 바람직하게는 7 중량% 내지 10 중량% 범위의 함량으로 존재하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 특정 변형예에 따르면, 본 발명에서 사용되는 상기 유기 스크리닝 시스템은 하나 이상의 혼합된 UVA-UVB-스크리닝제를 함유하거나 심지어는 그것으로 이루어진다.
유리하게는, 본 발명에서 사용되는 상기 유기 스크리닝 시스템은 하나 이상의 UVA-스크리닝제, 하나 이상의 UVB-스크리닝제 및 하나 이상의 혼합된 UVA-UVB-스크리닝제를 함유한다.
혼합된 UVA- 및 UVB-스크리닝제
상기 하나 이상의 혼합된 UVA-UVB-스크리닝제는 하기 스크리닝제로부터 선택될 수 있다.
1) 소수성 혼합된 UVA- 및 UVB-스크리닝제
벤조페논 유도체:
- 특히 상표명 Uvinul 400 하에 BASF 에 의해 판매되는 벤조페논-1;
- 특히 상표명 Uvinul D50 하에 BASF 에 의해 판매되는 벤조페논-2;
- 특히 상표명 Uvinul M40 하에 BASF 에 의해 판매되는 벤조페논-3 또는 옥시벤존;
- 특히 상표명 Helisorb 11 하에 Norquay 에 의해 판매되는 벤조페논-6;
- 특히 상표명 Spectra-Sorb UV-24 하에 American Cyanamid 에 의해 판매되는 벤조페논-8;
- 벤조페논-10;
- 벤조페논-11;
- 벤조페논-12.
페닐벤조트리아졸 유도체:
- 특히 명칭 Silatrizole 하에 Rhodia Chimie 에 의해 판매되는 또는 명칭 Meroxyl XL 하에 Chimex 사에 의해 생산되는 드로메트리졸 트리실록산;
- 고체 형태로 특히 상표명 Mixxim BB/100 하에 Fairmount Chemical 에 의해 판매되는, 또는 미분 형태로 수성 분산물로서 특히 상표명 Tinosorb M 하에 Ciba Specialty Chemicals 에 의해 판매되는 메틸렌비스(벤조트리아졸일)테트라메틸부틸페놀.
비스-레소르시닐 트리아진 유도체:
- 특히 상표명 Tinosorb S 하에 Ciba-Geigy 에 의해 판매되는 비스(에틸헥실옥시페놀)메톡시페닐트리아진.
벤즈옥사졸 유도체:
- 특히 명칭 Uvasorb K2A 하에 Sigma 3V 에 의해 판매되는, 2,4-비스[5-(1-디메틸프로필)벤즈옥사졸-2-일-(4-페닐)이미노]-6-(2-에틸헥실)이미노-1,3,5-트리아진.
2) 수용성 혼합된 UVA- 및 UVB-스크리닝제
하나 이상의 술폰산 라디칼을 포함하는 벤조페논 유도체, 예컨대
- 특히 상표명 Uvinul MS 40 하에 BASF 에 의해 판매되는 벤조페논-4,
- 벤조페논-5, 및
- 벤조페논-9.
바람직하게는, 본 발명에 따른 상기 하나 이상의 혼합된 UVA-UVB-스크리닝제는 소수성 스크리닝제이다.
특히, 상기 혼합된 UVA-UVB-스크리닝제는 페닐벤조트리아졸 유도체 및 비스-레조르시닐 트리아진 유도체로부터 선택되고, 바람직하게는 드로메트리졸 트리실록산, 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진, 및 그들의 혼합물로부터 선택된다.
바람직하게는, 본 발명에 따른 조성물은 상기 하나 이상의 혼합된 UVA-UVB-스크리닝제가 조성물의 총 중량에 대해 1 중량% 내지 20 중량%, 특히 1 중량% 내지 10 중량%, 바람직하게는 1 중량% 내지 4 중량% 범위의 함량으로 존재하는 것을 특징으로 한다.
하나의 특정 구현예에 따르면, 본 발명의 조성물은 상기 유기 스크리닝 시스템이 테레프탈일리덴디캄포르술폰산, 드로메트리졸 트리실록산, 및 그들의 혼합물로부터 선택되는 하나 이상의 스크리닝제를 포함하는 것을 특징으로 한다.
첫번째 바람직한 변형예에 따르면, 본 발명에 따른 조성물은 옥토크릴렌, 에틸헥실트리아존 (Uvinul T150), 드로메트리졸 트리실록산 (Mexoryl XL), 부틸 메톡시디벤조일메탄 (Avobenzone), 테레프탈일리덴디캄포르술폰산 (Mexoryl SX) 을 포함하며, TiO2 를 포함하거나 포함하지 않는다.
두번째 바람직한 변형예에 따르면, 본 발명에 따른 조성물은 드로메트리졸 트리실록산 (Mexoryl XL), 에틸헥실 메톡시신나메이트, 테레프탈일리덴디캄포르술폰산 (Mexoryl SX) 및 예를 들어 알루미늄 스테아레이트로 처리된 TiO2 를 포함한다.
세번째 바람직한 변형예에 따르면, 본 발명에 따른 조성물은 드로메트리졸 트리실록산 (Mexoryl XL), 호모살레이트, 에틸헥실트리아존 (Uvinul T150), 에틸헥실 살리실레이트, 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진, 부틸 메톡시디벤조일메탄 (Avobenzone), 및 테레프탈일리덴디캄포르술폰산 (Mexoryl SX) 을 포함한다.
유리하게는, 본 발명에 따른 조성물은, 더욱 특히 에멀전 형태일 때, 상기 유기 스크리닝 시스템이 하나 이상의 수용성 스크리닝제 및 하나 이상의 소수성 스크리닝제를 포함하고, 상기 수용성 스크리닝제가 바람직하게는 UVA-스크리닝제인 것을 특징으로 한다.
따라서, 유기 스크리닝 시스템은 바람직하게는 하나 이상의 수용성 UVA-스크리닝제 및 하나 이상의 소수성 UVB-스크리닝제를 포함하고; 특히, 하나 이상의 수용성 UVA-스크리닝제 및 하나 이상의 소수성 UVB-스크리닝제의 조합으로 이루어진다.
더욱 특히, 본 발명에 따른 조성물은 조성물의 총 중량에 대한 중량에 의해 하기 UV-스크리닝제 혼합물을 포함한다:
- 조성물의 총 중량에 대해 1 중량% 내지 5 중량% 의 부틸 메톡시디벤조일메탄, 0.1 중량% 내지 3 중량% 의 에틸헥실트리아존, 0.5 중량% 내지 4 중량% 의 테레프탈일리덴디캄포르술폰산, 5 중량% 내지 10 중량% 의 옥토크릴렌, 0.5 중량% 내지 4 중량% 의 드로메트리졸 트리실록산 및 0.1 중량% 내지 3 중량% 의 TiO2;
- 조성물의 총 중량에 대해 1 중량% 내지 5 중량% 의 부틸 메톡시디벤조일메탄, 3 중량% 내지 7 중량% 의 에틸헥실 살리실레이트, 0.1 중량% 내지 3 중량% 의 에틸헥실트리아존, 1.5 중량% 내지 6 중량% 의 테레프탈일리덴디캄포르술폰산, 1 중량% 내지 5 중량% 의 옥토크릴렌, 0.1 중량% 내지 1 중량% 의 드로메트리졸 트리실록산, 0.1 중량% 내지 3 중량% 의 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진 및 1 중량% 내지 3 중량% 의 TiO2;
- 조성물의 총 중량에 대해 5 중량% 내지 10 중량% 의 에틸헥실 메톡시신나메이트, 10 중량% 내지 15 중량% 의 테레프탈일리덴디캄포르술폰산, 0.5 중량% 내지 4 중량% 의 드로메트리졸 트리실록산 및 0.1 중량% 내지 3 중량% 의 TiO2;
- 조성물의 총 중량에 대해 2 중량% 내지 6 중량% 의 부틸 메톡시디벤조일메탄, 3 중량% 내지 7 중량% 의 에틸헥실 살리실레이트, 0.1 중량% 내지 3 중량% 의 에틸헥실트리아존, 1 중량% 내지 5 중량% 의 테레프탈일리덴디캄포르술폰산, 1 중량% 내지 5 중량% 의 옥토크릴렌, 0.1 중량% 내지 2 중량% 의 드로메트리졸 트리실록산, 1 중량% 내지 5 중량% 의 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진 및 3 중량% 내지 7 중량% 의 TiO2;
- 0.1 중량% 내지 2 중량% 의 드로메트리졸 트리실록산, 4 중량% 내지 8 중량% 의 호모살레이트, 1 중량% 내지 5 중량% 의 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진, 2 중량% 내지 6 중량% 의 부틸 메톡시디벤조일메탄, 1 중량% 내지 5 중량% 의 테레프탈일리덴디캄포르술폰산, 3 중량% 내지 7 중량% 의 에틸헥실 살리실레이트, 및 1 중량% 내지 5 중량% 의 에틸헥실트리아존.
첨가제
본 발명에 따른 조성물은 또한 첨가제 예컨대, 예를 들어, 무기 스크리닝제, 활성제, 충전제, 지방 물질, 중합체 또는 실리콘을 포함할 수 있다.
무기 스크리닝제
무기 스크리닝제는 일차 입자의 평균 크기가 우선적으로는 5 ㎚ 내지 100 ㎚ (바람직하게는 10 ㎚ 내지 50　㎚) 인 코팅된 또는 코팅되지 않은 금속 옥시드 색소, 예를 들어 티타늄 옥시드 (비결정질 또는 결정질 금홍석 및/또는 예추석 형태), 철 옥시드, 아연 옥시드, 지르코늄 옥시드 또는 세륨 옥시드 색소 (이들은 모두 그 자체로 공지된 UV-광보호제임) 로부터 선택된다.
색소는 코팅되거나 코팅되지 않을 수 있다.
코팅된 색소는, 예를 들어, Cosmetics & Toiletries, February 1990, Vol. 105, pp. 53-64 에 기재된 화합물, 예컨대 아미노산, 밀랍, 지방산, 지방 알코올, 음이온성 계면활성제, 레시틴, 지방산의 소듐, 포타슘, 아연, 철 또는 알루미늄 염, 금속 알콕시드 (티타늄 또는 알루미늄 알콕시드), 폴리에틸렌, 실리콘, 단백질 (콜라겐, 엘라스틴), 알칸올아민, 규소 옥시드, 금속 옥시드 또는 소듐 헥사메타포스페이트로 화학, 전기, 기계화학 및/또는 기계 성질의 하나 이상의 표면 처리를 받은 색소이다.
알려진 바와 같이, 실리콘은 다양한 분자량의 선형 또는 시클릭, 분지형 또는 가교된 구조의 유기규소 중합체 또는 올리고머이고, 적합하게 관능화된 실란의 중합 및/또는 중축합에 의해 수득되고, 규소 원자가 산소 원자를 통해 함께 연결되어 있는 (실록산 결합) 주된 단위의 반복으로 본질적으로 구성되며, 임의로 치환된 탄화수소 라디칼이 상기 규소 원자에 탄소 원자를 통해 직접 부착되어 있다.
용어 "실리콘" 은 또한 그에 제조에 요구되는 실란, 특히 알킬실란을 포괄한다.
본 발명에 적합한 색소의 코팅에 사용되는 실리콘은 바람직하게는 알킬 실란, 폴리디알킬실록산 및 폴리알킬히드로게노실록산을 포함하는 군으로부터 선택된다. 더욱더 우선적으로는, 실리콘은 옥틸트리메틸실란, 폴리디메틸실록산 및 폴리메틸히드로게노실록산을 포함하는 군으로부터 선택된다.
물론, 실리콘으로 처리되기 전에, 금속 옥시드 색소는 다른 표면 작용제, 특히 세륨 옥시드, 알루미나, 실리카, 알루미늄 화합물 또는 규소 화합물, 또는 그들의 혼합물로 처리되었을 수 있다.
코팅된 색소는 더욱 특히 하기와 같이 코팅된 티타늄 옥시드이다:
- 실리카로 코팅된 티타늄 옥시드, 예컨대 Ikeda 사로부터의 제품 Sunveil 및 Merck 사로부터의 제품 Eusolex T-AVO,
- 실리카 및 철 옥시드로 코팅된 티타늄 옥시드, 예컨대 Ikeda 사로부터의 제품 Sunveil F,
- 실리카 및 알루미나로 코팅된 티타늄 옥시드, 예컨대 Tayca 사로부터의 제품 Microtitanium Dioxide MT 500 SA 및 Microtitanium Dioxide MT 100 SA, Tioxide 사로부터의 제품 Tioveil 및 Rhodia 사로부터의 제품 Mirasun TiW 60,
- 알루미나로 코팅된 티타늄 옥시드, 예컨대 Ishihara 사로부터의 제품 Tipaque TTO-55 (B) 및 Tipaque TTO-55 (A) 및 Kemira 사로부터의 제품 UVT 14/4,
- 알루미나 및 알루미늄 스테아레이트로 코팅된 티타늄 옥시드, 예컨대 Tayca 사로부터의 제품 Microtitanium Dioxide MT 100 TV, MT 100 TX, MT 100 Z 및 MT-01, 및 Uniqema 사로부터의 제품 Solaveil CT-10 W, Solaveil CT 100 및 Solaveil CT 200,
- 실리카, 알루미나 및 알긴산으로 코팅된 티타늄 옥시드, 예컨대 Tayca 사로부터의 제품 MT-100 AQ,
- 알루미나 및 알루미늄 라우레이트로 코팅된 티타늄 옥시드, 예컨대 Tayca 사로부터의 제품 Microtitanium Dioxide MT 100 S,
- 철 옥시드 및 철 스테아레이트로 코팅된 티타늄 옥시드, 예컨대 Tayca 사로부터의 제품 Microtitanium Dioxide MT 100 F,
- 아연 옥시드 및 아연 스테아레이트로 코팅된 티타늄 옥시드, 예컨대 Tayca 사로부터의 제품 BR351,
- 실리카 및 알루미나로 코팅되고 실리콘으로 처리된 티타늄 옥시드, 예컨대 Tayca 사로부터의 제품 Microtitanium Dioxide MT 600 SAS, Microtitanium Dioxide MT 500 SAS 또는 Microtitanium Dioxide MT 100 SAS,
- 실리카, 알루미나 및 알루미늄 스테아레이트로 코팅되고 실리콘으로 처리된 티타늄 옥시드, 예컨대 Titan Kogyo 사로부터의 제품 STT-30-DS,
- 실리카로 코팅되고 실리콘으로 처리된 티타늄 옥시드, 예컨대 Kemira 사로부터의 제품 UV-Titan X 195, 또는 Tayca 사로부터의 제품 SMT-100 WRS,
- 알루미나로 코팅되고 실리콘으로 처리된 티타늄 옥시드, 예컨대 Ishihara 사로부터의 제품 Tipaque TTO-55 (S) 또는 Kemira 사로부터의 제품 UV Titan M 262,
- 트리에탄올아민으로 코팅된 티타늄 옥시드, 예컨대 Titan Kogyo 사로부터의 제품 STT-65-S,
- 스테아르산으로 코팅된 티타늄 옥시드, 예컨대 Ishihara 사로부터의 제품 Tipaque TTO-55 (C),
- 소듐 헥사메타포스페이트로 코팅된 티타늄 옥시드, 예컨대 Tayca 사로부터의 제품 Microtitanium Dioxide MT 150　W.
실리콘으로 처리된 기타 티타늄 옥시드 색소는 바람직하게는 소립자의 평균 크기가 25 내지 40 ㎚ 인 옥틸트리메틸실란으로 처리된 TiO2, 예컨대 상표명 T 805 하에 Degussa Silices 사에 의해 판매되는 제품, 소립자의 평균 크기가 21 ㎚ 인 폴리디메틸실록산으로 처리된 TiO2, 예컨대 상표명 70250 Cardre UF TiO2SI3 하에 Cardre 사에 의해 판매되는 제품, 소립자의 평균 크기가 25 ㎚ 인 폴리디메틸히드로게노실록산으로 처리된 예추석/금홍석 TiO2, 예컨대 상표명 Micro Titanium Dioxide USP Grade Hydrophobic 하에 Color Techniques 사에 의해 판매되는 제품이다.
코팅되지 않은 티타늄 옥시드 색소는, 예를 들어, Tayca 사에 의해 상표명 Microtitanium Dioxide MT 500 B 또는 Microtitanium Dioxide MT 600 B 하에, Degussa 사에 의해 명칭 P 25 하에, Wackher 사에 의해 명칭 Transparent titanium oxide PW 하에, Miyoshi Kasei 사에 의해 명칭 UFTR 하에, Tomen 사에 의해 명칭 ITS 하에 및 Tioxide 사에 의해 명칭 Tioveil AQ 하에 판매된다.
코팅되지 않은 아연 옥시드 색소는, 예를 들어, 하기이다:
- 명칭 Z-Cote 하에 Sunsmart 사에 의해 판매되는 것;
- 명칭 Nanox 하에 Elementis 사에 의해 판매되는 것;
- 명칭 Nanogard WCD 2025 하에 Nanophase Technologies 사에 의해 판매되는 것.
코팅된 아연 옥시드 색소는, 예를 들어, 하기이다:
- 명칭 Z-Cote HP1 하에 Sunsmart 사에 의해 판매되는 것 (디메티콘-코팅된 ZnO);
- 명칭 Zinc Oxide CS-5 하에 Toshibi 사에 의해 판매되는 것 (폴리메틸히드로게노실록산으로 코팅된 ZnO);
- 명칭 Nanogard Zinc Oxide FN 하에 Nanophase Technologies 사에 의해 판매되는 것 (Finsolv TN, C12-C15 알킬 벤조에이트 중 40% 분산물로서);
- 명칭 Daitopersion ZN-30 및 Daitopersion Zn-50 하에 Daito 사에 의해 판매되는 것 (30% 또는 50% 의 실리카 및 폴리메틸히드로게노실록산으로 코팅된 나노 아연 옥시드를 함유하는, 시클로폴리메틸실록산/옥시에틸렌화 폴리디메틸실록산 중 분산물);
- 명칭 NFD Ultrafine ZnO 하에 Daikin 사에 의해 판매되는 것 (시클로펜타실록산 중 분산물로서의 퍼플루오로알킬 포스페이트 및 퍼플루오로알킬에틸에 기초하는 공중합체로 코팅된 ZnO);
- 명칭 SPD-Z1 하에 Shin-Etsu 사에 의해 판매되는 것 (시클로디메틸실록산에 분산된, 실리콘-그래프팅된 아크릴산 중합체로 코팅된 ZnO);
- 명칭 Escalol Z100 하에 ISP 사에 의해 판매되는 것 (에틸헥실 메톡시신나메이트/공중합체 PVP-헥사데센/메티콘 혼합물에 분산된 알루미나-처리된 ZnO);
- 명칭 Fuji ZnO-SMS-10 하에 Fuji Pigment 사에 의해 판매되는 것 (실리카 및 폴리메틸실세스퀴녹산으로 코팅된 ZnO);
- 명칭 Nanox Gel TN 하에 Elementis 사에 의해 판매되는 것 (히드록시스테아르산 중축합물과 C12-C15 알킬 벤조에이트에 55% 의 농도로 분산된 ZnO).
코팅되지 않은 세륨 옥시드 색소는, 예를 들어, 명칭 Colloidal Cerium Oxide 하에 Rhone-Poulenc 사에 의해 판매된다.
코팅되지 않은 철 옥시드 색소는, 예를 들어, Arnaud 사에 의해 명칭 Nanogard WCD 2002 (FE 45B), Nanogard Iron FE 45 BL AQ, Nanogard FE 45R AQ 및 Nanogard WCD 2006 (FE 45R) 하에 또는 Mitsubishi 사에 의해 명칭 TY-220 하에 판매된다.
코팅된 철 옥시드 색소는, 예를 들어, Arnaud 사에 의해 명칭 Nanogard WCD 2008 (FE 45B FN), Nanogard WCD 2009 (FE 45B 556), Nanogard FE 45 BL 345 및 Nanogard FE 45 BL 하에 또는 BASF 사에 의해 명칭 Transparent Iron Oxide 하에 판매된다.
금속 옥시드, 특히 티타늄 디옥시드 및 세륨 디옥시드의 혼합물, 예를 들어, Ikeda 사에 의해 명칭 Sunveil A 하에 판매되는, 실리카로 코팅된 티타늄 디옥시드 및 세륨 디옥시드의 동일-중량 혼합물, 및 또한 알루미나, 실리카 및 실리콘으로 코팅된 티타늄 디옥시드 및 아연 디옥시드의 혼합물, 예컨대 Kemira 사에 의해 판매되는 제품 M 261, 또는 알루미나, 실리카 및 글리세롤로 코팅된 것, 예컨대 Kemira 사에 의해 판매되는 제품 M 211 이 또한 언급될 수 있다.
복합 입자
본 발명에 따른 조성물은, 무기 스크리닝제로서, 복합 입자를 또한 포함할 수 있다.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 복합 입자는 매트릭스 및 무기 UV-스크리닝제를 포함한다. 매트릭스는 하나 이상의 유기 및/또는 무기 재료를 포함한다. 무기 UV 스크리닝제는 일반적으로 금속 옥시드로부터 선택된다.
하나의 바람직한 변형예에 따르면, 매트릭스는 유기 및/또는 무기 재료로 본질적으로 구성된다.
본 발명에 따른 매트릭스에 사용될 수 있는 무기 재료는 미카, 합성 미카, 탈크, 세리사이트, 보론 나이트라이드, 유리, 칼슘 카르보네이트, 바륨 설페이트, 히드록시아파타이트, 실리카, 실리케이트, 마그네슘 설페이트, 마그네슘 카르보네이트, 마그네슘 트리실리케이트, 알루미늄 옥시드, 알루미늄 실리케이트, 칼슘 실리케이트, 칼슘 포스페이트, 마그네슘 옥시드, 비스무쓰 옥시클로라이드, 카올린, 하이드로탈사이트, 광물 점토, 합성 점토 및 그들의 혼합물에 의해 형성되는 군으로부터 선택된다.
매트릭스를 형성하는데 사용될 수 있는 유기 재료는 폴리(메트)아크릴레이트, 폴리아미드, 실리콘, 폴리우레탄, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리히드록시알카노에이트, 폴리카프로락탐, 폴리(부틸렌 숙시네이트), 다당류, 폴리펩티드, 폴리비닐 알코올, 폴리비닐 수지, 플루오로중합체, 왁스, 폴리에스테르, 폴리에테르 및 그들의 혼합물에 의해 형성되는 군으로부터 선택된다.
복합 입자에서 사용될 수 있는 무기 UV 스크리닝제는 금속 옥시드로부터 선택된다.
바람직하게는, 이들 금속 옥시드는 티타늄 디옥시드 TiO2, 아연 옥시드 ZnO 및 철 옥시드 FeO 로부터 선택된다. 특히 바람직하게는, 무기 UV 스크리닝제는 TiO2 이다.
이들 금속 옥시드는 일반적으로 0.2 ㎛ 미만의 평균 크기를 갖는 입자 형태일 수 있다. 유리하게는, 사용되는 TiO2 입자는 0.1 ㎛ 이하의 평균 크기를 갖는다.
이들 금속 옥시드는 또한 일반적으로 0.2 ㎛ 미만의 평균 두께를 갖는 층, 바람직하게는 다층 형태일 수 있다.
바람직하게는, 본 발명에 따른 조성물의 복합 입자의 함량은 미용 조성물의 총 중량에 대해 1 중량% 내지 70 중량%, 바람직하게는 1.5 중량% 내지 45 중량%, 바람직하게는 2 중량% 내지 20 중량% 범위이다.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 복합 입자는 바람직하게는 구형이다.
그들은 속이 비거나, 매끄럽거나, 거칠거나 다공성일 수 있다.
복합 입자가 구형일 때, 그들은 0.1 ㎛ 내지 30 ㎛, 바람직하게는 0.2 ㎛ 내지 20 ㎛, 더욱 바람직하게는 0.3 ㎛ 내지 10 ㎛, 유리하게는 0.5 ㎛ 내지 10 ㎛ 의 평균 직경을 특징으로 한다.
용어 "구형" 은 입자가 1.2 미만의 구형 지수, 즉 그것의 최장 직경과 그것의 최단 직경 사이의 비율을 갖는 것을 의미하는 것으로 의도된다.
복합 입자의 형태
첫번째 변형예에 따르면, 복합 입자는 유기 및/또는 무기 재료를 포함하는 매트릭스를 포함하고, 상기 매트릭스에 무기 UV 스크리닝제의 입자가 포함되어 있다. 바람직하게는, 복합 입자는 유기 및/또는 무기 재료를 포함하는 매트릭스로 구성되고, 상기 매트릭스에 무기 UV 스크리닝제의 입자가 포함되어 있다.
이러한 구현예에 따르면, 매트릭스는 포유물을 나타내고, 무기 UV 스크리닝제의 입자는 매트릭스의 포유물 내에 위치한다.
바람직하게는, 복합 입자는 구형이고, 포유물을 갖고, 포유물 내에 무기 UV 스크리닝제의 입자가 위치한다.
이러한 변형예에 해당하는 복합 입자로서, Sunjin Chemical 사에 의해 판매되는 제품 Sunsil TIN 50 및 Sunsil TIN 40 이 언급될 수 있다. 2 내지 7 ㎛ 의 평균 크기를 갖는 이들 구형 복합 입자는 실리카 매트릭스 내에 캡슐화되어 있는 TiO2 로 형성된다.
두번째 변형예에 따르면, 복합 입자는 유기 및/또는 무기 재료로 이루어지는 매트릭스를 포함하고, 상기 매트릭스는 결합제를 사용하여 매트릭스에 연결될 수 있는 무기 UV 스크리닝제의 하나 이상의 층으로 피복되어 있다.
이러한 두번째 변형예에 따르면, 매트릭스 입자는 바람직하게는 구형이다.
이러한 두번째 변형예에 따르면, 무기 UV 스크리닝제의 층의 평균 두께는 일반적으로 대략 10 ㎚ 이다. 무기 UV-스크리닝제의 층의 평균 두께는 유리하게는 10-3 내지 0.2 ㎛, 바람직하게는 10-2 내지 0.2 ㎛ 이다.
세번째 변형예에 따르면, 복합 입자는 유기 및/또는 무기 재료의 하나 이상의 층으로 피복된 무기 UV 스크리닝제를 함유한다. 이러한 세번째 변형예에 따르면, 무기 UV 스크리닝제의 입자는 일반적으로 10-3 내지 0.2 ㎛ 의 평균 소립자 크기에 의해 특징지어진다. 유리하게는, 사용되는 금속 옥시드 입자는 10-2 내지 0.1 ㎛ 의 평균 소립자 크기를 갖는다.
매트릭스는 하나 이상의 유기 또는 무기 재료로부터 형성될 수 있다. 이때 재료의 연속상, 예컨대 합금, 다시 말해서, 재료가 더이상 분리될 수 없는 연속상, 또는 예를 들어 또다른 상이한 유기 또는 무기 재료의 층으로 피복된 유기 또는 무기 재료로 구성된 재료의 비연속상이 존재할 수 있다.
하나의 변형예에 따르면, 특히 복합 입자가 UV 스크리닝제의 층으로 피복된 매트릭스를 포함할 때, 복합 입자는 게다가, 특히 생분해성 또는 생화합성 재료, 지질 재료, 예를 들어 계면활성제 또는 유화제, 중합체, 및 옥시드로부터 선택되는, 부가적 코팅으로 피복될 수 있다.
본 발명에 따라 사용되는 복합 입자는 0.1 내지 30 ㎛, 바람직하게는 0.5 내지 20 ㎛, 더욱 바람직하게는 0.3 내지 10 ㎛, 유리하게는 0.5 내지 10 ㎛ 의 크기를 갖는다.
바람직하게는, 복합 입자에서 사용되는 UV 스크리닝제는 TiO2 또는 TiO2 와 ZnO 의 혼합물이다.
바람직하게는, 구형 복합 입자의 매트릭스는 하기로부터 선택되는 재료 또는 재료의 혼합물을 함유한다:
- SiO2,
- 폴리메틸 메타크릴레이트,
- 스티렌 및 C1/C5 알킬 (메트)아크릴레이트 유도체의 공중합체,
- 폴리아미드, 예컨대 나일론.
이러한 변형예에 해당하는 복합 입자로서, Sunjin Chemical 사에 의해 판매되는 제품 Sunsil TIN 50 및 Sunsil TIN 40 이 언급될 수 있다. 2 내지 7 ㎛ 의 평균 크기를 갖는 이들 구형 복합 입자는 실리카 매트릭스 내에 캡슐화된 TiO2 로 형성된다.
또한 하기 입자가 언급될 수 있다:
- Creations Couleurs 사에 의해 판매되는 상표명 Eospoly TR 을 갖는 4 내지 8 ㎛ 의 평균 크기를 갖는 TiO2 및 SiO2 를 함유하는 구형 복합 입자,
- 명칭 Eospoly UV TR22 HB 50 하에 Creations Couleurs 사에 의해 판매되는 TiO2 및 스티렌/알킬 아크릴레이트 공중합체 매트릭스를 함유하는 복합 입자,
- Sunjin Chemical 사에 의해 판매되는 상표명 Sun PMMA-T50 을 갖는 TiO2 및 ZnO 및 PMMA 매트릭스를 함유하는 복합 입자.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 복합 입자 중에서, 또한 JGC Catalysts and Chemical 사에 의해 공급되는 상표명 STM ACS-0050510 을 갖는 TiO2 및 SiO2 를 함유하는 구형 복합 입자가 언급될 수 있다.
바람직하게는, 무기 스크리닝제는 알루미늄 히드록시드 및 스테아르산으로 임의로 코팅된 티타늄 디옥시드, 스테아르산 및 알루미나로 임의로 코팅된 티타늄 디옥시드, 및 그들의 혼합물로부터 선택된다.
본 발명의 하나의 특정 구현예에 따르면, 하나 이상의 무기 스크리닝제는 본 발명에 따른 조성물에 조성물의 총 중량에 대해 0.01 중량% 내지 20 중량%, 바람직하게는 0.1 중량% 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.5 중량% 내지 7 중량%, 특히 0.8 중량% 내지 6 중량% 범위의 함량으로 존재한다.
본 발명에 따른 조성물은 특히 유기 용매, 이온성 또는 비이온성, 친수성 또는 친유성 증점제, 연화제, 습윤제, 오패시파이어 (opacifier), 안정화제, 완화제, 실리콘, 소포제, 향료, 보존제, 음이온성, 양이온성, 비이온성, 양쪽이온성 또는 양쪽성 계면활성제, 충전제, 중합체, 추진제, 염기성화 또는 산성화제 또는 미용 및/또는 피부과 분야에서 통상적으로 사용되는 임의의 기타 성분으로부터 선택되는 표준 미용 보조제를 또한 포함할 수 있다.
유기 용매 중에서 저급 알코올 및 폴리올이 언급될 수 있다. 후자는 글리콜 예컨대 프로필렌 글리콜, 부틸렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 글리세롤, 1,3-프로판디올, 펜틸렌 글리콜 또는 헥실렌 글리콜로부터 선택될 수 있다.
언급될 수 있는 친수성 증점제는 카르복시비닐 중합체, 예컨대 Carbopols (Carbomers) 및 Pemulens (아크릴레이트/C10-C30 알킬 아크릴레이트 공중합체); 폴리아크릴아미드, 예를 들어 명칭 Sepigel 305 (CTFA 명칭: 폴리아크릴아미드/C13-C14 이소파라핀/라우레쓰 7) 또는 Simulgel 600 (CTFA 명칭: 아크릴아미드/소듐 아크릴로일디메틸타우레이트 공중합체/이소헥사데칸/폴리소르베이트 80) 하에 SEPPIC 사에 의해 판매되는 가교 공중합체; 임의로 가교 및/또는 중화된, 2-아크릴아미도-2-메틸프로판술폰산 중합체 및 공중합체, 예를 들어 Hoechst 사에 의해 상표명 Hostacerin AMPS (CTFA 명칭: 암모늄 폴리아크릴로일디메틸 타우레이트) 하에 판매되는 폴리(2-아크릴아미도-2-메틸프로판술폰산) 또는 SEPPIC 사에 의해 판매되는 Simulgel 800 (CTFA 명칭: 소듐 폴리아크릴로일디메틸타우레이트/폴리소르베이트 80/소르비탄 올레에이트); 2-아크릴아미도-2-메틸프로판술폰산 및 히드록시에틸 아크릴레이트의 공중합체, 예를 들어 SEPPIC 사에 의해 판매되는 Simulgel NS 및 Sepinov EMT 10; 셀룰로스 유도체 예컨대 히드록시에틸셀룰로스; 다당류, 특히 검 예컨대 잔탄검; 및 그들의 혼합물을 포함한다.
친유성 증점제로서, 합성 중합체 예컨대 명칭 Intelimer IPA 13-1 및 Intelimer IPA 13-6 하에 Landec 사에 의해 판매되는 폴리(C10-C30 알킬 아크릴레이트), 또는 그렇지 않으면 개질 점토 예컨대 헥토라이트 및 그의 유도체, 예를 들어 명칭 Bentone 하에 판매되는 제품이 언급될 수 있다.
말할 필요 없이, 통상의 기술자는 본 발명에 따른 조성물과 본질적으로 연관되는 유리한 특성이 고려되는 부가(들)에 의해 악영향을 받지 않거나 실질적으로 받지 않도록 위에 언급된 임의적 부가적 화합물(들) 및/또는 그의 양을 신중히 선택할 것이다.
본 발명에 따른 조성물은 통상의 기술자에게 공지된 기술에 따라 제조될 수 있다. 본 발명에 따른 조성물은 특히 직접, 역 또는 다중 (O/W, W/O, O/W/O 또는 W/O/W) 에멀전 형태일 수 있다. 본 발명에 따른 조성물은 임의로 에어로졸로서 포장될 수 있고 스프레이 형태일 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 바람직하게는 수중유 또는 유중수 에멀전, 더욱 특히 수중유 에멀전 형태이다.
에멀전은 일반적으로 단독으로 또는 혼합물로 사용되는, 양쪽성, 음이온성, 양이온성 또는 비이온성 유화제로부터 선택되는 하나 이상의 유화제를 함유한다. 유화제는 수득될 에멀전 (W/O 또는 O/W) 에 따라 적절히 선택된다. 에멀전은 또한 다른 유형의 안정화제, 예를 들어 충전제, 또는 겔화 또는 증점 중합체를 함유할 수 있다.
W/O 에멀전의 제조에 사용될 수 있는 유화 계면활성제로서, 언급될 수 있는 예는 소르비탄, 글리세롤 또는 당 알킬 에스테르 또는 에테르; 실리콘 계면활성제, 예를 들어 디메티콘 코폴리올, 예컨대 명칭 X-22-6711D 하에 Shin Etsu 사에 의해 판매되는 PEG/폴리프로필렌 글리콜 (PPG) 18/18 디메티콘 및 디메티콘의 혼합물, 및 알킬 디메티콘 코폴리올 예컨대 명칭 Dow Corning 5200 Formulation Aid 하에 Dow Corning 사에 의해 판매되는 라우릴메티콘 코폴리올; 세틸디메티콘 코폴리올, 예컨대 명칭 Abil EM 90R 하에 Goldschmidt 사에 의해 판매되는 제품, 및 명칭 Abil WE O9 하에 Goldschmidt 사에 의해 판매되는 세틸디메티콘 코폴리올, 폴르글리세릴 이소스테아레이트 (4 mol) 및 헥실 라우레이트의 혼합물을 포함한다. 유리하게는, 폴리올 알킬 에스테르 또는 유화 실리콘 엘라스토머, 예컨대 명칭 KSG-210 하에 판매되는 디메티콘/PEG-10/15 의 가교 중합체 및 디메티콘의 혼합물을 포함하는 군으로부터 선택될 수 있는 하나 이상의 조유화제를 거기에 첨가하는 것이 또한 가능하다.
특히 언급될 수 있는 폴리올 알킬 에스테르는 폴리에틸렌 글리콜 에스테르, 예를 들어 PEG-30 디폴리히드록시스테아레이트, 예컨대 명칭 Arlacel P135 하에 ICI 사에 의해 판매되는 제품을 포함한다.
언급될 수 있는 글리세롤 및/또는 소르비탄 에스테르는, 예를 들어, 폴르글리세릴 이소스테아레이트, 예컨대 명칭 Isolan GI 34 하에 Goldschmidt 사에 의해 판매되는 제품; 소르비탄 이소스테아레이트, 예컨대 명칭 Arlacel 987 하에 ICI 사에 의해 판매되는 제품; 소르비탄 글리세릴 이소스테아레이트, 예컨대 명칭 Arlacel 986 하에 ICI 사에 의해 판매되는 제품, 및 그들의 혼합물을 포함한다.
O/W 에멀전의 경우, 언급될 수 있는 유화제의 예는 비이온성 유화제 예컨대 지방산 및 글리세롤의 옥시알킬렌화 (더욱 특히 폴리옥시에틸렌화) 에스테르; 지방산 및 소르비탄의 옥시알킬렌화 에스테르; 지방산의 옥시알킬렌화 (옥시에틸렌화 및/또는 옥시프로필렌화) 에스테르, 예컨대, 예를 들어, ICI 사에 의해 명칭 Arlacel 165 하에 판매되는 PEG-100 스테아레이트/글리세릴 스테아레이트 혼합물; 지방 알코올의 옥시알킬렌화 (옥시에틸렌화 및/또는 옥시프로필렌화) 에테르; 당의 에스테르, 예컨대 수크로스 스테아레이트; 또는 지방 알코올 및 당의 에테르, 특히 알킬 폴르글루코시드 (APG), 예컨대 예를 들어, Henkel 사에 의해 각각의 명칭 Plantaren 2000 및 Plantaren 1200 하에 판매되는 데실 글루코시드 및 라우릴 글루코시드, 예를 들어, 명칭 Montanov 68 하에 SEPPIC 사에 의해, 명칭 Tegocare CG90 하에 Goldschmidt 사에 의해 및 명칭 Emulgade KE3302 하에 Henkel 사에 의해 판매되는, 임의로 세토스테아릴 알코올과의 혼합물로서의, 세토스테아릴 글루코시드, 및 또한 명칭 Montanov 202 하에 SEPPIC 사에 의해 판매되는, 예를 들어 아라키딜 알코올, 베헤닐 알코올 및 아라키딜 글루코시드의 혼합물의 형태의, 아라키딜 글루코시드를 포함한다. 본 발명의 하나의 특정 구현예에 따르면, 위에 정의된 알킬 폴리글루코시드와 상응하는 지방 알코올의 혼합물은, 예를 들어 문헌 WO-A-92/06778 에 기재된, 반-유화 조성물의 형태일 수 있다.
하기 실시예는 본 발명의 범위를 제한하지 않으면서 본 발명을 설명한다.
명세서 및 실시예에서, 백분율은 중량에 의한 백분율이다. 성분들은 통상의 기술자에 의해 용이하게 결정되는 순서와 조건으로 혼합된다.
실시예
실시예 1: 본 발명에 따른 조성물
조성물을 하기 성분들을 혼합함으로써 제조한다:
Figure pct00003
Figure pct00004
조성물 1 내지 4 의 에멀전은 미세하고, 균일하고, 광택이 있고, 매끄럽고, 시간의 흐름에 따라 안정적이다.
실시예 2: 본 발명에 따르지 않는 조성물
Figure pct00005
Figure pct00006
실시예 3: 조성물 1 내지 8 의 특성
Figure pct00007
(1) 레스베라트롤의 잔류 백분율은 일일 선량에 해당하는 5 J/㎠ 의 UV 에 조성물을 노출시킨 후에 측정한다.
본 발명에 따른 4 가지 조성물 (조성물 1 내지 4) 은 5 J/㎠ 의 UV 에 조성물을 노출시킨 후에 매우 높은 레스베라트롤의 잔류 백분율을 가지며, 이는 상기 레스베라트롤이 일광과 접촉시 매우 적게 붕괴한다는 것을 의미한다.
조성물이 UV-스크리닝제를 포함하지 않을 때 (조성물 5), 5 J/㎠ 의 UV 에 조성물을 노출시킨 후에 레스베라트롤의 붕괴는 거의 완전하며, 이는 상기 레스베라트롤이 일광과 접촉시 많이 붕괴한다는 것을 의미한다.
조성물이 낮은 UVA 자외선 차단 지수 (PPD) 를 가질 때 (조성물 6, 7 및 8), 트랜스-레스베라트롤의 상당한 붕괴가 또한 관찰된다.
실시예 4: TiO 2 를 함유하지 않는 본 발명에 따른 조성물
Figure pct00008
이 조성물은 균일하고 시간의 흐름에 따라 안정적이다.

Claims (19)

  1. 생리적으로 허용가능한 매질 중에, 적어도 트랜스-레스베라트롤 및/또는 하나 이상의 트랜스-레스베라트롤 유도체, 및 하나 이상의 UVA-스크리닝제 및 하나 이상의 UVB-스크리닝제 및/또는 하나 이상의 혼합된 UVA-UVB-스크리닝제를 포함하는 유기 스크리닝 시스템을 포함하는 미용 또는 피부과용 조성물로서,
    SPF 15 이상 및 PPD 5 이상을 갖는 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서, 트랜스-레스베라트롤 및/또는 트랜스-레스베라트롤 유도체(들)이 조성물의 총 중량에 대해 0.001 중량% 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.01 중량% 내지 5 중량%, 바람직하게는 0.05 중량% 내지 2 중량% 범위의 함량으로 존재하는, 조성물.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, SPF/PPD 비율이 1 내지 3, 바람직하게는 1.3 내지 2.7, 더욱 바람직하게는 1.5 내지 2.5 범위인 것을 특징으로 하는, 조성물.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 UVA-스크리닝제가 소수성 디벤조일메탄 유도체, 수용성 캄포르 유도체, 및 그들의 혼합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 조성물.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 UVA-스크리닝제가 부틸 메톡시디벤조일메탄, 테레프탈일리덴디캄포르술폰산, 및 그들의 혼합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 조성물.
  6. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 UVA-스크리닝제가 수용성 UVA-스크리닝제인 것을 특징으로 하는, 조성물.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 UVA-스크리닝제가 조성물의 총 중량에 대해 1 중량% 내지 20 중량%, 특히 2 중량% 내지 15 중량% 범위의 함량으로 존재하는 것을 특징으로 하는, 조성물.
  8. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 UVB-스크리닝제가 소수성 UVB-스크리닝제인 것을 특징으로 하는, 조성물.
  9. 제 8 항에 있어서, 하나 이상의 소수성 UVB-스크리닝제가 살리실산 유도체, 신나메이트, β,β'-디페닐아크릴레이트 유도체, 트리아진 유도체, 및 그들의 혼합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 조성물.
  10. 제 1 항 내지 제 3 항, 제 8 항 또는 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 UVB-스크리닝제가 에틸헥실 살리실레이트, 에틸헥실 메톡시신나메이트, 옥토크릴렌, 에틸헥실 트리아존, 및 그들의 혼합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 조성물.
  11. 제 1 항 내지 제 3 항, 제 8 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 UVB-스크리닝제가 조성물의 총 중량에 대해 1 중량% 내지 20 중량%, 특히 5 중량% 내지 15 중량%, 바람직하게는 7 중량% 내지 10 중량% 범위의 함량으로 존재하는 것을 특징으로 하는, 조성물.
  12. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 유기 스크리닝 시스템이, 바람직하게는 소수성 혼합된 UVA-UVB-스크리닝제로부터 선택되는, 하나 이상의 혼합된 UVA-UVB-스크리닝제를 포함하는 것을 특징으로 하는, 조성물.
  13. 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서, 소수성 혼합된 UVA-UVB-스크리닝제가 페닐벤조트리아졸 유도체 및 비스-레조르시닐 트리아진 유도체로부터, 바람직하게는 드로메트리졸 트리실록산, 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진, 및 그들의 혼합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 조성물.
  14. 제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서, 유기 스크리닝 시스템이 테레프탈일리덴디캄포르술폰산, 드로메트리졸 트리실록산, 및 그들의 혼합물로부터 선택되는 하나 이상의 스크리닝제를 포함하는 것을 특징으로 하는, 조성물.
  15. 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서, 수중유 또는 유중수 에멀전, 더욱 특히 수중유 에멀전 형태인 것을 특징으로 하는, 조성물.
  16. 제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서, 유기 스크리닝 시스템이 하나 이상의 수용성 스크리닝제 및 하나 이상의 소수성 스크리닝제를 포함하고, 상기 수용성 스크리닝제는 바람직하게는 UVA-스크리닝제인 것을 특징으로 하는, 조성물.
  17. 제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서, 유기 스크리닝 시스템이 하나 이상의 수용성 UVA-스크리닝제 및 하나 이상의 소수성 UVB-스크리닝제를 포함하는 것을 특징으로 하는, 조성물.
  18. 트랜스-레스베라트롤 및/또는 하나 이상의 트랜스-레스베라트롤 유도체를 포함하는 조성물의 안정화, 특히 광안정화 방법으로서, 하나 이상의 UVA-스크리닝제 및 하나 이상의 UVB-스크리닝제 및/또는 하나 이상의 혼합된 UVA-UVB-스크리닝제를 포함하는 유기 스크리닝 시스템이 상기 조성물에 조성물의 SPF 가 15 이상의 값이 되고 조성물의 PPD 가 5 이상의 값이 되게 하는 양으로 첨가되는 단계를 포함하는 방법.
  19. 트랜스-레스베라트롤 및/또는 하나 이상의 트랜스-레스베라트롤 유도체를 포함하는 조성물의 안정화, 특히 광안정화를 위한, 하나 이상의 UVA-스크리닝제 및 하나 이상의 UVB-스크리닝제 및/또는 하나 이상의 혼합된 UVA-UVB-스크리닝제를 포함하는 스크리닝 시스템의 용도.
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