JP6379109B2

JP6379109B2 - トランス−レスベラトロール又はトランス−レスベラトロール誘導体組成物

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Publication number: JP6379109B2
Application number: JP2015548873A
Authority: JP
Inventors: シュヴァリエ，ヴェロニク; セローイン−コエリー，サンドリン
Original assignee: LOreal SA
Current assignee: LOreal SA
Priority date: 2012-12-21
Filing date: 2013-12-20
Publication date: 2018-08-22
Anticipated expiration: 2033-12-20
Also published as: WO2014097260A1; KR20150096749A; EP2934698A1; CN105073201B; JP2016503788A; ES2716050T3; KR102196826B1; FR2999911A1; CN105073201A; EP2934698B1; US20150359715A1

Description

本発明は、特に抗酸化剤、アンチエイジング剤又は脱色剤としての、トランス−レスベラトロール及び／又は少なくとも１つのトランス−レスベラトロール誘導体を含む組成物、の分野に関する。

レスベラトロールは、下記に示されるシス形及びトランス形で存在するスチルベン・クラスのポリフェノールである。

トランス−レスベラトロールは、多数の生物学的特性、例えば抗酸化、抗炎症又は抗癌活性、を有するとして知られている。

しかしながら、トランス−レスベラトロールは、光の暴露下でそのシス異性体に不可逆的に変換される感光性分子であり、しかしながら、トランス異性体が最も活性な形である。

従って、特に光に関して、安定であるトランス−レスベラトロールを含む組成物を有する必要性がある。

本発明は、UVA-及びUVB-遮蔽剤を上記組成物内に導入することによってそのような組成物を得ることが可能であることを見出した。

従って、本発明の主題は、その観点の第１に従うと、生理学的に許容可能な媒体中に、トランス−レスベラトロール及び／又は少なくとも１つのトランス−レスベラトロール誘導体、並びに、少なくとも１つのUVA-遮蔽剤及び少なくとも１つのUVB-遮蔽剤及び／又は少なくとも１つのUVA-UVB-両用遮蔽剤を含む有機遮蔽系を少なくとも含む化粧用又は皮膚用組成物であり、上記組成物は15よりも大きく又はそれに等しいSPF及び5よりも大きく又はそれに等しいPPDを有する。
特には、本発明は、化粧用又は皮膚用組成物であって、生理学的に許容可能な媒体中に、トランス−レスベラトロール及び／又は少なくとも１つのトランス−レスベラトロール誘導体、並びに、少なくとも１つのUVA-遮蔽剤及び少なくとも１つのUVB-遮蔽剤及び／又は少なくとも１つのUVA-UVB-両用遮蔽剤を含む有機遮蔽系を少なくとも含み、
上記組成物は15以上のSPF及び5以上のPPDを有し、
上記UVA-遮蔽剤が、水溶性のカンファー誘導体から選択される水溶性のUVA-遮蔽剤であり且つ上記組成物の総重量に対して1重量%〜20重量%の範囲の含有量で存在し、
上記UVB-遮蔽剤が、サリチル酸誘導体、シンナメート、β,β’-ジフェニルアクリレート誘導体、トリアジン誘導体、及びそれらの混合物から選択され且つ上記組成物の総重量に対して1重量%〜20重量%の範囲の含有量で存在し、
上記UVA-UVB-両用遮蔽剤が、フェニルベンゾトリアゾール誘導体及びビス−レゾルシニルトリアジン誘導体から選択され且つ上記組成物の総重量に対して1重量%〜20重量%の範囲の含有量で存在する、
上記組成物を提供する。

好ましくは、上記トランス−レスベラトロール又はトランス−レスベラトロール誘導体は、上記組成物の総重量に対して0.001重量%〜10重量%の範囲の含有量で存在する。

特に、本発明に従う上記組成物は、SPF/PPD比が、1〜3、好ましくは1.3〜2.7、及びより良くは1.5〜2.5、の範囲にあることを特徴とする。

第２の観点に従うと、本発明は、トランス−レスベラトロール及び／又は少なくとも１つのトランス−レスベラトロール誘導体を含む組成物を安定させる為の、特に光安定化させる為の、方法であって、上記組成物のSPFが15よりも大きく又はそれに等しい値にもたらされ且つ上記組成物のPPDが5よりも大きく又はそれに等しい値にもたらされる量で、少なくとも１つのUVA-遮蔽剤及び少なくとも１つのUVB-遮蔽剤及び／又は少なくとも１つのUVA-UVB-両用遮蔽剤を含む有機遮蔽系が上記組成物に添加される工程を含む、上記方法に向けられる。
特には、本発明は、トランス−レスベラトロール及び／又は少なくとも１つのトランス−レスベラトロール誘導体を含む組成物を安定させる為の方法であって、
上記組成物のSPFが15以上の値にもたらされ且つ上記組成物のPPDが5以上の値にもたらされる量で、少なくとも１つのUVA-遮蔽剤及び少なくとも１つのUVB-遮蔽剤及び／又は少なくとも１つのUVA-UVB-両用遮蔽剤を含む有機遮蔽系が上記組成物に添加される工程を含み、
上記UVA-遮蔽剤が、水溶性のカンファー誘導体から選択される水溶性のUVA-遮蔽剤であり且つ上記組成物の総重量に対して1重量%〜20重量%の範囲の含有量で存在し、
上記UVB-遮蔽剤が、サリチル酸誘導体、シンナメート、β,β’-ジフェニルアクリレート誘導体、トリアジン誘導体、及びそれらの混合物から選択され且つ上記組成物の総重量に対して1重量%〜20重量%の範囲の含有量で存在し、
上記UVA-UVB-両用遮蔽剤が、フェニルベンゾトリアゾール誘導体及びビス−レゾルシニルトリアジン誘導体から選択され且つ上記組成物の総重量に対して1重量%〜20重量%の範囲の含有量で存在する、
上記方法を提供する。

本発明はまた、トランス−レスベラトロール及び／又は少なくとも１つのトランス−レスベラトロール誘導体を含む組成物を安定させる為に、特に光安定化させる為に、少なくとも１つのUVA-遮蔽剤及び少なくとも１つのUVB-遮蔽剤及び／又は少なくとも１つのUVA-UVB-両用遮蔽剤を含む遮蔽系を使用する方法に向けられる。
特には、本発明は、トランス−レスベラトロール及び／又は少なくとも１つのトランス−レスベラトロール誘導体を含む組成物を安定させる為に、少なくとも１つのUVA-遮蔽剤及び少なくとも１つのUVB-遮蔽剤及び／又は少なくとも１つのUVA-UVB-両用遮蔽剤を含む遮蔽系を使用する方法であって、
上記UVA-遮蔽剤が、水溶性のカンファー誘導体から選択される水溶性のUVA-遮蔽剤であり且つ上記組成物の総重量に対して1重量%〜20重量%の範囲の含有量で存在し、
上記UVB-遮蔽剤が、サリチル酸誘導体、シンナメート、β,β’-ジフェニルアクリレート誘導体、トリアジン誘導体、及びそれらの混合物から選択され且つ上記組成物の総重量に対して1重量%〜20重量%の範囲の含有量で存在し、
上記UVA-UVB-両用遮蔽剤が、フェニルベンゾトリアゾール誘導体及びビス−レゾルシニルトリアジン誘導体から選択され且つ上記組成物の総重量に対して1重量%〜20重量%の範囲の含有量で存在する、
上記方法を提供する。

この使用は特に、上記組成物のSPFが15よりも大きく又はそれに等しい値にもたらされ且つ上記組成物のPPDが5よりも大きく又はそれに等しい値にもたらされる量で、上記組成物に上記有機遮蔽系を添加することを含む。

驚くべきことに、本発明は、本発明に従う上記組成物中に存在するトランス−レスベラトロールが特に、光に暴露された後に安定であることを見出した。

本発明の目的の為に、語「トランス−レスベラトロール誘導体」は、トランス−レスベラトロールのエステル、グルコシド及びフォスフェートを意味することが意図される。

これら化合物全ては、トランス−レスベラトロールと同じ生物学的特性を有し、且つ、トランス立体化学を有する。トランス−レスベラトロールと同様に、それらは、感光性であり、且つ、光の暴露下でそれらシス異性体に不可逆的である。

発明の詳細な説明の残りの部分において、語「トランス−レスベラトロール」は、トランス−レスベラトロール又は少なくとも１つのトランス−レスベラトロール誘導体、又はトランス−レスベラトロールと１又は複数のトランス−レスベラトロール誘導体との混合物を意味することが意図される。

本発明の目的の為に、語「安定な」は、トランス−レスベラトロールが、特に光の暴露下において、特にそのシス異性体への変換による、ほとんど分解しない組成物を意図される。好ましくは、本発明に従う安定な組成物は、上記組成物内に最初に導入されたレスベラトロールの総重量に対して少なくとも70重量のレスベラトロール、有利には少なくとも75重量%のレスベラトロール、特には少なくとも80重量%のレスベラトロール、を含む。

本発明の目的の為に、語「SPF」は、UVB照射に対する保護のレベルを測定する太陽光線保護指数を意味することが意図される。上記SPFの値は、日焼け止め組成物での日焼けを得る為に必要な最小時間と、当該製品無しの最小時間との比に相当する。

それは、UV-遮蔽剤無しで紅斑を引き起こす閾値に到達する為に必要なUV照射線量に対する上記UV-遮蔽剤有りで紅斑を引き起こす閾値に到達する為に必要なUV照射線量の比によって数学的に表される。従って、この要因は、保護の有効性、UVB範囲に集中される行動の生物学的スペクトルに関し、その結果、UVB照射に関する保護の主要因である。

UVAに関する保護を特徴付ける為に、皮膚のUVA照射に対する暴露後の2〜4時間後に観察される皮膚色を測定するPPD(持続型即時黒化：persistent pigment darkening)方法が特に、推奨され且つ使用される。この方法は、製品のUVAラベル付けのための公式試験手順として、日本化粧品工業連合会（JCIA）によって1996年から採用されており、且つ、欧州及び米国における試験機関によって頻繁に使用される(Japan Cosmetic Industry Association Technical Bulletin，Measurement Standards for UVA protection efficacy，1995年11月21日発行、及び、1996年1月1日より有効)。

上記UVA PPD太陽光線保護指数(UVA PPD PF)は、UV-遮蔽剤(MPPDnp)無しで色素沈着の閾値に到達する為に必要なUVA照射の量に対する上記UV-遮蔽剤(MPPDp)有りで色素沈着の閾値に到達する為に必要なUVA照射の量の比によって数学的に表される。

本出願はまた、その観点の他に従うと、特に酸化的ストレスによって誘発される、皮膚の老化の兆候と戦う為の、上記に定義されたトランス−レスベラトロールの又は少なくとも１つのトランス−レスベラトロール誘導体の有効量の化粧的使用に関する。

事実、酸化的ストレスは特に、外部物質、例えば紫外線照射、汚染、熱ストレス、又はその他の様々な毒素、例えば皮膚が接触しうる化学物質(タバコ、重金属、大気汚染物質など)、にリンクされる。

特に、本発明に従う上記使用は、皮膚の老化の兆候、特に化学線(actinic)起源の皮膚の老化の兆候を減少させることを目的とする。

特に酸化的ストレスによって誘発される、皮膚の老化の兆候、特に化学線起源の兆候、のうちで、皮膚の堅さ及び／又は弾力性及び／又はトーン及び／又は柔軟性の喪失、特に前額上及び眉間の空間内の、しわ及び小皺、表情線、口周囲のしわ及び小皺の形成、唇の周りの領域における、特に上唇の領域（上唇と鼻との間の領域）における、緩み、顔色の鈍い外観、及び皮膚のしわくちゃの外観が特に言及される。

この使用は特に、成熟した又は非常に成熟した皮膚を持つ個人について意図される。

本発明に従うと、語「成熟した皮膚」は、少なくとも40歳である人を特に意味することを意図される。

本発明に従うと、語「非常に成熟した皮膚」は、少なくとも50歳、特に少なくとも60歳、又は65歳以上である人を特に意味することを意図される。

表情皺が、顔つきを許す皮膚筋肉によって皮膚に与えらえる歪みの効果に起因して作られる。顔の形、顔の表情の頻度、及びあるうるチックに依存して、それらは子供の頃から現れうる。ある環境的因子、例えば酸化ストレス、太陽への暴露、及びまた年齢がそれを生成することに関与していないが、それらをより深くし且つそれらを永久的にしうる。表情皺は、それらの周りの筋肉である、鼻（鼻溝）、口（口周囲皺及び「渋い表情の」(sour-face)皺）及び目（カラスの足跡のような皺(crow’s-feet wrinkles)）によって形成される開口部周囲、並びにまた眉（眉間皺又はライオン皺(lion wrinkles)）と額上との間の溝部に存在することによって特徴付けられる。

皮膚のしわくちゃの外観は、外観における変化及びまた接触に対する皮膚の振る舞いにおける変化によって特徴付けられる。より特には、皮膚は視覚的に、シガレットペーパーの外観をとり、それはパピルスのシートのそれと同様の外観を与える。加えて、それが親指と人差し指の間に穏やかに挟まれる場合に、該皮膚は、くしゃくしゃの紙の外観を有する多数の微細な鋭い折り目(folds)を形成する。最後に、皮膚の感触は、その表面部分が深い部分上で浮遊するように見えることを示し、しわくちゃの外観の表に進展した段階において、ぼろぼろにくたびれた紙(worn-looking paper)の外観を皮膚に与える。皮膚のしわくちゃの外観は、顔上に見られ、且つ高齢者の手の甲上にさらに特徴的である。

表情皺を予防し及び／又は伸ばす為に意図される本発明に従う上記組成物は、顔に施与される。

皮膚のしわくちゃの外観を予防し及び／又は処置する為に意図される本発明に従う上記組成物は特に、手の甲に施与される。

毛穴の出現及び／又は視認性を減少させる為に意図される本発明に従う上記組成物は、特にTゾーン（額、鼻、頬、あご）に施与される。

抗酸化活性剤の使用は、アンチエイジング組成物中又は脱色組成物中で有用であることが証明出来る。

本発明に従う上記使用はまた、より特には、油性肌を持つ人の為に意図されることができる。

本発明に従う上記組成物は、特に皮膚における、ケラチン物質の為のメークアップ製品又はケア製品でありうる。

より特には、メークアップ製品は、例えばファンデーション、フェイスパウダー、アイシャドウ、コンシーラー製品、若しくは頬紅、又は代替的に、ボディメイクアップ製品若しくは皮膚着色製品の種類でありうる。

スキンケア製品は、顔の為の、手の為の、足の為の、主な解剖学的折り目(folds)又は体の為の、保護、処置又はケア組成物、例えばデイクリーム、ナイトクリーム、日焼け止め組成物、保護又はケアボディミルク、アフターサンミルク、スキンケアローション、ゲル若しくはフォーム、又は人工日焼け組成物；又はアフターシェーブ組成物、でありうる。

本発明はまた、皮膚及び／又は皮膚付属器の化粧措置の為の、特に酸化的ストレスによって誘発された、皮膚の老化を予防し及び／又は処置する為に意図された方法であって、本発明に従う少なくとも１つの組成物の少なくとも有効量を酸化的ストレスによって誘発された皮膚の老化の兆候を呈する皮膚及び／又は皮膚付属器に施与することを含む少なくとも一つの段階を含む上記方法に関する。

本発明はまた、酸化的ストレスの影響に対して、特にUV照射及び／又は毒素及び／又は汚染の影響に対して、皮膚及び／又は皮膚付属器を保護することを目的とした、皮膚及び／又は皮膚付属器の化粧処置の方法であって、本発明に従う少なくとも１つの組成物の少なくとも有効量を皮膚及び／又は皮膚付属器に施与することを含む少なくとも１つの段階を含む上記方法に関する。本発明に従う上記組成物は、局所適用に適している。

語「皮膚」は、顔の及び／又は身体の皮膚、頭皮及び半粘膜（唇）を意味することが意図される。好ましくは、それは、顔の及び／又は身体の皮膚、及び／又は唇を含む。

語「皮膚付属器」は、頭髪、体毛、睫毛、爪、及び好ましくは、頭髪を意味することが意図される。

最後に、本発明は、酸化ストレスによって誘発される皮膚刺激(skin irritation)を防ぐ為に意図された化粧処置工程であって、以前に定義された通りの少なくとも１つの組成物の少なくとも有効量を酸化的ストレスにさらされうる皮膚に施与することを含む少なくとも１つの段階を含む上記方法に関する。

本出願において使用される語「酸化的ストレス」は、対象におけるフリーラジカルによって生じる障害の全てを対象にする。

この酸化的ストレスによって生成される障害の程度は、上記フリーラジカルが生成され、その後酸化防止剤によって不活性化される迅速さに依存する。

トランス−レスベラトロール

レスベラトロールは、天然状態でそのシス及びトランス形で存在するだけでなく、他の形、例えばグルコシル化された形でも存在する。それは、多くの植物及び果物中に存在する。それは特に、イタドリ(Japanese knotweed)(Polygonum cupistadum又はReynoutria japonicaとしても知られているFallopia japonica)において又はブドウ、例えばブドウの木の種(grapevine species)Vitis viniferaからのそれら、において見られる。より特には、レスベラトロールは、例えばブラックベリー、ワイン、又はピーナッツにおいて見られる。

一般的に、レスベラトロールは、下記の植物ファミリー：ブドウ科(Vitaceae)、フトモモ科(Myrtaceae)、フタバガキ科(Dipterocarpaceae)、カヤツリグサ科(Cyperaceae)、グネツム科(Gnetaceae)、マメ科(Fabaceae)、マツ科(Pinaceae)、タデ科(Polygonaceae)、クワ科(Moraceae)、ブナ科(Fagaceae)、ユリ科(Liliaceae)などにおいて見られる。

本発明に従う上記組成物中に存在する上記トランス−レスベラトロールは、トランス−レスベラトロールを含む植物抽出物の形でありうる。

本発明の一つの特定の実施態様に従うと、上記トランス−レスベラトロール及び／又は少なくとも１つのトランス−レスベラトロール誘導体は、上記組成物の総重量に対して0.01重量%〜5重量%、好ましくは0.05重量%〜2重量%、の含有量で本発明に従う上記組成物中に存在する。

本発明の目的の為に、語「含有量」は、活性物質含有量を意味することが意図される。

本発明はまた、上記組成物を調製する為の工程に対して向けられる。

有機遮蔽剤

以前に特定された通り、本発明に従う組成物は、少なくとも１つのUVA-遮蔽剤及び少なくとも１つのUVB-遮蔽剤及び／又は少なくとも１つのUVA-UVB-両用遮蔽剤を含む有機遮蔽系を含む。

UVA-遮蔽剤

本発明に従う１又は複数の上記UVA-遮蔽剤は、下記遮蔽剤から選択されることができる。

１）疎水性のUVA-遮蔽剤

ジベンゾイルメタン誘導体：
−特にDSM Nutritional Products, Inc.によってParsol 1789の商品名で販売されているブチルメトキシジベンゾイルメタン；
−イソプロピルジベンゾイルメタン；

アミノベンゾフェノン：
−特にBASFによって商品名Uvinul A+の名称下で販売されている、n-ヘキシル2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)ベンゾエート；

アントラニル誘導体：
−特にSymriseによって商品名Neo Heliopan MAの名称下で販売されている、メンチルアンチスラネート；

4,4-ジアリールブタジエン誘導体：
−1,1-ジカルボキシ-(2,2’-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン；

メロシアニン誘導体：
−オクチル5-N,N-ジエチルアミノ-2-フェニルスルホニル-2,4-ペンタジエノエート。

２）水溶性のUVA-遮蔽剤

−カンファー誘導体、例えばChimexによってMexoryl Sの名称下で販売されているテレフタリリデンジカンファースルホン酸；

−特許欧州特許出願公開第EP 669 323号明細書及び米国特許US 2 463 264号明細書に記載されている通りのビス-ベンゾアゾリル誘導体、及びより特には、Symriseによって商品名Neo Heliopan APの名称下で販売されている化合物フェニルジベンズイミダゾテトラスルホネート二ナトリウム。

一つの好ましい実施態様に従うと、上記少なくとも１つのUVA-遮蔽剤が、疎水性のジベンゾイルメタン誘導体、水溶性のカンファー誘導体、及びそれらの混合物から選択される。

より特には、上記少なくとも１つのUVA-遮蔽剤が、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、テレフタリリデンジカンファースルホン酸、及びそれらの混合物から選択される。好ましくは、本発明に従う組成物は、上記少なくとも１つのUVA-遮蔽剤が、上記組成物の総重量に対して1%〜20%、特に2重量%〜15重量%、の範囲の含有量で存在することを特徴とする。

他の実施態様に従うと、上記少なくとも１つのUVA-遮蔽剤が水溶性のUVA-遮蔽剤である。

UVB-遮蔽剤

本発明に従う１又は複数の上記UVB-遮蔽剤は、下記遮蔽剤から選択されることができる。

１）疎水性のUVB-遮蔽剤

パラ-アミノベンゾエート：
−エチルPABA；
−エチルジヒドロキイプロピルPABA；
−エチルヘキシルジメチルPABA(ISPからのEscalol 507)。

サリチル酸誘導体：
−特にRona/EM IndustriesによってEusolex HMSの名称下で販売されている、ホモサレート(Homosalate)；
−特にSymriseによってNeo Heliopan OSの名称下で販売されている、エチルヘキシルサリチレート；
−特にScherによってDipsalの名称下で販売されている、ジプロピレングリコールサリチレート；
−SymriseによってNeo Heliopan TSの名称下でのTEAサリチレート。

シンナメート
−特にDSM Nutritional Products, Inc.によってParsol MCXの商品名下で販売されている、エチルヘキシルメトキシシンナメート；
−イソプロピルメトキシシンナメート；
−特にSymriseによってNeo Heliopan E 1000の商品名下で販売されている、イソアミルメトキシシンナメート；
−ジイソプロピルメチルシンナメート；
−シノキセート(Cinnoxate)；
−グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート。

β,β’-ジフェニルアクリレート誘導体：
−特にBASFによってUvinul N539の商品名下で販売されている、オクトクリレン；
−特にBASFによってUvinul N35の商品名下で販売されている、エトクリレン(Etocrylene)。

ベンジリデンカンファー誘導体：
−ChimexによってMexoryl SDの名称下で製造される3-ベンジリデンカンファー；
−特にMerckによってEusolex 6300の名称下で販売されている、メチルベンジリデンカンファー；
−ChimexによってMexoryl SWの名称下で製造されるポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー。

トリアジン誘導体：
−特にBASFによってUvinul T150の商品名下で販売されている、エチルヘキシルトリアゾン；
−特にSigma 3VによってUvasorb HEBの商品名下で販売されている、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン；
−2,4,6-トリス(ジネオペンチル4’-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン；
−2,4,6-トリス(ジイソブチル 4’-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン；
−2,4-ビス(ジネオペンチル 4’-アミノベンザルマロネート)-6-(n-ブチル 4’-アミノベンゾエート)-s-トリアジン；
−2,4-ビス(n-ブチル 4’-アミノベンゾエート)-6-(アミノプロピルトリシロキサン)-s-トリアジン；
−特許米国特許US 6 225 467号明細書、出願国際公開第WO2004/085412号(化合物6及び9を参照)又は文書"Symetrical Triazine Derivatives" IP.COM Journal, IP.COM Inc West Henrietta, NY, US (September 20, 2004)に記載されている対称なトリアジン遮蔽剤、特に2,4,6-トリス-(ジフェニル)-1,3,5-トリアジン(特に、2,4,6-トリス(ジフェニル-4-イル-1,3,5-トリアジン)及び2,4,6-トリス(テルフェニル)-1,3,5-トリアジン、後者２つの遮蔽剤は、出願国際公開第WO06/035000号、国際公開第WO06/034982号、国際公開第WO 06/034991号、国際公開第WO06/035007号、国際公開第WO2006/034992号、国際公開第WO2006/034985に記載されている)。

イミダゾリン誘導体：
−エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオネート。

ベンザルマロネート誘導体：
−ベンザルマロネート官能基を含むポリオルガノシロキサン、例えば特にDSM Nutritional Products, IncによってParsol SLXの商品名下で販売されている、ポリシリコーン-15；
−ジネオペンチル4’-メトキシベンザルマロネート。

２）水溶性のUVB-遮蔽剤

下記p-アミノ安息香酸(PABA)誘導体：
−PABA、
−グリセリルPABA、及び
−特にBASFによってUvinul P25の商品名下で販売されている、PEG-25 PABA、
−特にMerckによってEusolex 232の商品名下で販売されている、フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
−フェルラ酸、
−サリチル酸、
−DEAメトキシシンナメート、
−ChimexによってMexoryl SLの名称下で製造されるベンジリデンカンファースルホン酸、
−ChimexによってMexoryl SOの名称下で製造されるカンファーベンザルコニウムメトサルフェート。

一つの好ましい実施態様に従うと、本発明に従う組成物に含まれる上記少なくとも１つのUVB-遮蔽剤が疎水性のUVB-遮蔽剤である。

特に、上記少なくとも１つの疎水性のUVB-遮蔽剤が、サリチル酸誘導体、シンナメート、β,β’-ジフェニルアクリレート誘導体、トリアジン誘導体、及びそれらの混合物から選択される。

好ましくは、上記少なくとも１つのUVB-遮蔽剤が、エチルヘキシルサリチレート、エチルヘキシルメトキシシンナメート、オクトクリレン、エチルヘキシルトリアゾン、及びそれらの混合物から選択される。

好ましくは、本発明に従う組成物は、上記少なくとも１つのUVB-遮蔽剤が、上記組成物の総重量に対して1%〜20%、特に5重量%〜15重量%、及び好ましくは7重量%〜10重量%、の含有量で存在することを特徴とする。

本発明の一つの特定の変形に従うと、本発明において使用される上記有機遮蔽系は、１又は複数のUVA-UVB-両用遮蔽剤を含み又はそれらからなる。

有利には、本発明において使用される上記有機遮蔽系が、１又はそれよりも多いUVA-遮蔽剤、１又はそれよりも多いUVB-遮蔽剤、及び１又はそれょりも多いUVA-UVB-両用遮蔽剤を含む。

UVA-UVB-両用遮蔽剤

上記少なくとも１つのUVA-UVB-両用遮蔽剤が、下記遮蔽剤から選択されることができる。

１）疎水性のUVA-UVB-両用遮蔽剤

ベンゾフェノン誘導体
−特にBASFによってUvinul 400の商品名下で販売されている、ベンゾフェノン-1；
−特にBASFによってUvinul D50の商品名下で販売されている、ベンゾフェノン-2；
−特にBASFによってUvinul M40の商品名下で販売されている、ベンゾフェノン-3又はオキシベンゾン；
−特にNorquayによってHelisorb 11の商品名下で販売されている、ベンゾフェノン-6；
−特にAmerican CyanamidによってSpectra-Sorb UV-24の商品名下で販売されている、ベンゾフェノン-8；
−ベンゾフェノン-10；
−ベンゾフェノン-11；
−ベンゾフェノン-12。

フェニルベンゾトリアゾール誘導体：
−特にRhodia ChimieによってSilatrizoleの名称下で販売されている又は会社ChimexによってMexoryl XLの名称下で製造される、ドロメトリゾールトリシロキサン；
−特にFairmount ChemicalによってMixxim BB/100の商品名下で固形形において又はCiba Specialty ChemicalsによってTinosorb Mの商品名下で水性分散物として微粉末化形において販売されている、メチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブチルフェノール。

ビス−レゾルシニルトリアジン誘導体：
−特にCiba-GeigyによってTinosorb Sの商品名下で販売されているビス(エチルヘキシルオキシフェノール)メトキシフェニルトリアジン。

ベンゾオキサゾール誘導体：
−特にSigma 3VによってUvasorb K2Aの名称下で販売されている、2,4-ビス[5-(1-ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-2-イル-(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン。

２）水溶性のUVA-UVB-両用遮蔽剤

ベンゾフェノン誘導体は、少なくとも１つのスルホンラジカル、例えば、
−特にBASFによってUvinul MS 40の商品名下で販売されているベンゾフェノン-4、
−ベンゾフェノン-5、及び
−ベンゾフェノン-9
を含む。

好ましくは、本発明に従う上記少なくとも１つのUVA-UVB-両用遮蔽剤が、疎水性の遮蔽剤である。

特に、上記UVA-UVB-両用遮蔽剤が、フェニルベンゾトリアゾール誘導体及びビス−レゾルシニルトリアジン誘導体から選択され、それは好ましくは、ドロメトリゾールトリシロキサン、ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、及びそれらの混合物から選択される。

好ましくは、本発明に従う組成物は、上記少なくとも１つのUVA-UVB-両用遮蔽剤が、上記組成物の総重量に対して1%〜20%、特に1%〜10%、及び好ましくは1重量%〜4重量%、の範囲の含有量で存在することを特徴とする。

一つの特定の実施態様に従うと、本発明の組成物は、上記有機遮蔽系が、テレフタリリデンジカンファースルホン酸、ドロメトリゾールトリシロキサン、及びそれらの混合物から選択される少なくとも１つの遮蔽剤を含むことを特徴とする。

第１の好ましい変形に従うと、本発明に従う上記組成物は、オクトクリレン、エチルヘキシルトリアゾン(Uvinul T150)、ドロメトリゾールトリシロキサン(Mexoryl XL)、ブチルメトキシジベンゾイルメタン(Avobenzone)、TiO₂を有する又は有しないテレフタリリデンジカンファースルホン酸(Mexoryl SX)を含む。

第２の好ましい変形に従うと、本発明に従う上記組成物は、ドロメトリゾールトリシロキサン(Mexoryl XL)、エチルヘキシルメトキシシンナメート、テレフタリリデンジカンファースルホン酸(Mexoryl SX)、及び例えばステアリン酸アルミニウムで処置されているTiO₂を含む。

第３の好ましい変形に従うと、本発明に従う上記組成物は、ドロメトリゾールトリシロキサン(Mexory XL)、ホモサレート、エチルヘキシルトリアゾン(Uvinul T150)、エチルヘキシルサリチレート、ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、ブチルメトキシジベンゾイルメタン(Avobenzone)、及びテレフタリリデンジカンファースルホン酸(Mexoryl SX)を含む。

有利には、本発明に従う組成物及びより特には、それがエマルジョンの形になる場合に、上記有機遮蔽系が、少なくとも１つの水溶性の遮蔽剤及び少なくとも１つの疎水性の遮蔽剤を含み、上記水溶性の遮蔽剤が好ましくはUVA-遮蔽剤である、ことを特徴とする。

従って、上記有機遮蔽系は好ましくは、少なくとも１つの水溶性のUVA-遮蔽剤及び少なくとも１つの疎水性のUVB-遮蔽剤を含み、；特に、それは少なくとも１つの水溶性のUVA-遮蔽剤及び少なくとも１つの疎水性のUVB-遮蔽剤の組み合わせからなる。

より特には、本発明に従う上記組成物は、上記組成物の総重量に対して下記UV-遮蔽剤混合物を含む：
−上記組成物の総重量に対して、1%〜5%のブチルメトキシジベンゾイルメタン、0.1%〜3%のエチルヘキシルトリアゾン、0.5%〜4%のテレフタリリデンジカンファースルホン酸、5%〜10%のオクトクリレン、0.5%〜4%のドロメトリゾールトリシロキサン、及び0.1%〜3%のTiO₂；
−上記組成物の総重量に対して、1%〜5%のブチルメトキシジベンゾイルメタン、3%〜7%のエチルヘキシルサリチレート、0.1%〜3%のエチルヘキシルトリアゾン、1.5%〜6%のテレフタリリデンジカンファースルホン酸、1%〜5%のオクトクリレン、0.1%〜1%のドロメトリゾールトリシロキサン、0.1%〜3%のビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、及び1%〜3%のTiO₂；
−上記組成物の総重量に対して、5%〜10%のエチルヘキシルメトキシシンナメート、10%〜15%のテレフタリリデンジカンファースルホン酸、0.5%〜4%のドロメトリゾールトリシロキサン、及び0.1%〜3%のTiO₂；
−上記組成物の総重量に対して、2%〜6%のブチルメトキシジベンゾイルメタン、3%〜7%のエチルヘキシルサリチレート、0.1%〜3%のエチルヘキシルトリアゾン、1%〜5%のテレフタリリデンジカンファースルホン酸、1%〜5%のオクトクリレン、0.1%〜2%のドロメトリゾールトリシロキサン、1%〜5%のビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、及び3%〜7%のTiO₂；
−0.1%〜2%のドロメトリゾールトリシロキサン、4%〜8%のホモサレート、1%〜5%のビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、2%〜6%のブチルメトキシジベンゾイルメタン、1%〜5%のテレフタリリデンジカンファースルホン酸、3%〜7%のエチルヘキシルサリチレート、及び1%〜5%のエチルヘキシルトリアゾン。

添加剤

本発明に従う本発明に従う上記組成物はまた、添加剤例えば、例えば無機遮蔽剤、活性剤、充填剤、脂肪物質、ポリマー又はシリコーン、を含みうる。

無機遮蔽剤

上記無機遮蔽剤は、主な粒子の平均粒径が好ましくは5nm〜100nm(好ましくは10nm〜50nm)である被覆された又は被覆されていない金属酸化物顔料、例えば酸化チタン(非結晶質形又はルチル及び／又はアナターゼ形において結晶化された)酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウム顔料(それらは全て、それ自体周知である)、から選択される。

上記顔料は、被覆されていてもよく又は被覆されていなくともよい。

上記被覆された顔料は、例えばCosmetics & Toiletries，February 1990，Vol. 105，pp. 53-64、に記載されている通りの化合物、例えばアミノ酸、ミツロウ、脂肪酸、脂肪アルコール、アニオン性界面活性剤、レシチン、脂肪酸のナトリウム、カリウム、亜鉛、鉄、又はアルミニウム塩、金属アルコキシド(チタン又はアルミニウムアルコキシド)、ポリエチレン、シリコーン、タンパク質(コラーゲン、エラスチン)、アルカノールアミン、酸化ケイ素、金属酸化物又はヘキサメタリン酸ナトリウム、で化学的、電気的、機械化学的及び／又は機械的性質の表面処置の１以上が施されている顔料である。

知られている通り、シリコーンは、オルガノシリコンポリマー又はオリゴマーであり、それらは直鎖の又は環状の、分岐された又は架橋化された構造の、可変分子量の、適切に官能基化されたシランの重合及び／又は重縮合によって得られ、且つ、ケイ素原子が酸素原子を介して互いに結合されている主単位（シロキサン結合）の繰り返しから基本的に構成されており、任意的に炭素元素を介して上記ケイ素原子に直接的に連結されている炭化水素基で置換されている。

語「シリコーン」はまた、それらの調製の為に要求されるシラン、特にアルキルシラン、を包含する。

本発明の為に適する、上記顔料を被覆する為に使用される上記シリコーンは好ましくは、アルキルシラン、ポリジアルキルシロキサン及びポリアルキルヒドロゲノ(hydrogeno)シロキサンを含むグループから選択される。さらにより好ましくは、上記シリコーンは、オクチルトリメチルシラン、ポリジメチルシロキサン及びポリメチルヒドロゲノシロキサンを含むグループから選択される。

もちろん、シリコーンで処置される前に、上記金属酸化物顔料は、他の表面剤で、特に酸化セリウム、アルミナ、シリカ、アルミニウム化合物若しくはシリコン化合物、又はそれらの混合物で、処置されていてもよい。

上記被覆された顔料はより特には、：
−シリカ、例えば会社Ikedaからの商品Sunveil及び会社Merckからの商品Eusolex T-AVO、で、
−シリカ及び酸化鉄、例えば会社Ikedaからの商品Sunveil F、で、
−シリカ及びアルミナ、例えば会社Taycaからの商品Microtitanium Dioxide MT 500 SA及びMicrotitanium Dioxide MT 100 SA、会社Tioxideからの商品Tioveil、並びに会社Rhodiaからの商品Mirasun TiW 60、で、
−アルミナ、例えば会社Ishiharaからの商品Tipaque TTO-55 (B)及びTipaque TTO-55 (A)並びに会社Kemiraからの商品UVT 14/4、で、
−アルミナ及びステアリン酸アルミニウム、例えば会社Taycaからの商品Microtitanium Dioxide MT 100 TV、MT 100 TX、MT 100 Z及びMT-01 、及び会社Uniqemaからの商品Solaveil CT-10 W、Solaveil CT 100及びSolaveil CT 200、で、
−シリカ、アルミナ及びアルギン酸、例えば会社Taycaからの商品MT-100 AQ、で、
−アルミナ及びラウリン酸アルミニウム、例えば会社Taycaからの商品Microtitanium Dioxide MT 100 S、で、
−酸化鉄及びステアリン酸鉄、例えば会社Taycaからの商品Microtitanium Dioxide MT 100 F、で、
−酸化亜鉛及びステアリン酸亜鉛、例えば会社Taycaからの商品BR351、で
−シリコーンで処置されたシリカ及びアルミナ、例えば会社Taycaからの商品Microtitanium Dioxide MT 600 SAS、Microtitanium Dioxide、MT 500 SAS 又はMicrotitanium Dioxide MT 100 SAS、で、
−シリコーンで処置された、シリカ、アルミナ及びステアリン酸アルミニウム、例えば会社Titan Kogyoからの商品STT-30-DS、で、
−シリコーンで処置されたシリカ、例えば会社Kemiraからの商品UV-Titan X 195、又は会社Taycaからの商品SMT-100 WRS、で、
−シリコーンで処置されたアルミナ、例えば会社Ishiharaからの商品Tipaque TTO-55 (S)、又は会社KemiraからのUV Titan M 262、で、
−トリエタノールアミン、例えば会社Titan Kogyoからの商品STT-65-S、で、
−ステアリン酸、例えば会社Ishiharaからの商品Tipaque TTO-55(C)、で、
−ヘキサメタリン酸ナトリウム、例えば会社Taycaからの商品Microtitanium Dioxide MT 150 W、で、
被覆されている酸化チタンである。

シリコーンで処置された他の酸化チタン顔料は好ましくは、オクチルトリメチルシランで処置されたTiO₂であり且つその基本的な粒子の平均寸法が25〜40nmであり、例えば会社Degussa SilicesによってT 805の商品名下で販売されている商品、ポリジメチルシロキサンで処置されたTiO₂であり且つその基本的な粒子の平均寸法が21nmであり、例えば会社Cardreによって70250 Cardre UF TiO2SI3の商品名下で販売されている商品、ポリジメチルヒドロゲノシロキサンで処置されたアナターゼ/ルチルTiO₂且つその基本的な粒子の平均寸法が25nmであり、例えば商品名Color TechniquesによってMicro Titanium Dioxide USP Grade Hydrophobicの商品名下で販売されている商品、である。

上記被覆されていない酸化チタン顔料は、例えば、会社TaycaによってMicrotitanium Dioxide MT 500 B又はMicrotitanium Dioxide MT 600 Bの商品名下で、会社DegussaによってP 25の商品名下で、会社WackherによってTransparent titanium oxide PWの名称下で、会社Miyoshi KaseiによってUFTRの名称下で、会社TomenによってITSの名称下で、及び会社TioxideによってTioveil AQの名称下で販売されている。

上記被覆されていない酸化亜鉛顔料は、例えば、
−会社SunsmartによってZ-Coteの名称下で販売されているそれら；
−会社ElementisによってNanoxの名称下で販売されているそれら；
−会社Nanophase TechnologiesによってNanogard WCD 2025の名称下で販売されているそれら、
である。

上記被覆された酸化亜鉛顔料は、例えば、
−会社SunsmartによってZ-Cote HP1の名称下で販売されているそれら(ジメチコン-被覆されたZnO)；
−会社ToshibiによってZinc Oxide CS-5の名称下で販売されているそれら(ポリメチルヒドロゲノシロキサンで被覆されたZnO)；
−会社Nanophase TechnologiesによってNanogard Zinc Oxide FNの名称下で販売されているそれら(Finsolv TN、C12-C15 アルキルベンゾエート中の40%分散物として)；
−会社Daito によってDaitopersion ZN-30及びDaitopersion Zn-50の名称下で販売されているそれら(シリカ及びポリメチルヒドロゲノシロキサンで被覆された30%又は50%のナノ酸化亜鉛を含む、シクロポリメチルシロキサン/オキシエチレン化されたポリジメチルシロキサン中の分散物)；
−会社DaikinによってNFD Ultrafine ZnOの名称下で販売されているそれら(シクロペンタシロキサン中の分散物としての、パーフルオロアルキルフォスフェート(perfluoroalkyl phosphate)及びパーフルオロアルキルエチルに基づくコポリマーで被覆されたZnO)；
−会社Shin-EtsuによってSPD-Z1の名称下で販売されているそれら(シクロジメチルシロキサン中に分散された、シリコーン-グラフト化されたアクリルポリマーで被覆されたZnO)；
−会社ISPによってEscalol Z100の名称下で販売されているそれら(エチルヘキシルメトキシシンナメート/コポリマーPVP-ヘキサデセン/メチコン混合物中に分散された、アルミナで処置されたZnO)；
−会社Fuji PigmentによってFuji ZnO-SMS-10の名称下で販売されているそれら(シリカ及びポリメチルシルセスキオキサンで被覆されたZnO)；
−会社ElementisによってNanox Gel TNの名称下で販売されているそれら(ヒドロキシステアリン酸重縮合体を含むC₁₂-C₁₅アルキルベンゾエート中に55%の濃度で分散されたZnO)
である。

上記被覆されていない酸化セリウム顔料は、例えば会社Rhone-PoulencによってColloidal Cerium Oxideの名称下で販売されている。

上記被覆されていない酸化鉄顔料は例えば、会社ArnaudによってNanogard WCD 2002(FE 45B)、Nanogard Iron FE 45 BL AQ、Nanogard FE 45R AQ、及びNanogard WCD 2006 (FE 45R)の名称下で、又は会社MitsubishiによってTY-220の名称下で販売されている。

上記被覆された酸化鉄顔料は例えば、会社ArnaudによってNanogard WCD 2008(FE 45B FN)、Nanogard WCD 2009(FE 45B 556)、Nanogard FE 45 BL 345、及びNanogard FE 45 BLの名称下で、又は会社BASFによってTransparent Iron Oxideの名称下で販売されている。

金属酸化物の混合物、特に、会社IkedaによってSunveil Aの名称下で販売されている、シリカで被覆された二酸化チタン及び二酸化セリウムの等重量混合物を含む、二酸化チタン及び二酸化セリウムの金属酸化物の混合物、及び、アルミナ、シリカ及びシリコーンで被覆された、二酸化チタン及び二酸化亜鉛の混合物、例えば会社KemiraによってM 261の商品名下で販売されている商品、又は、アルミナ、シリカ及びグリセロールで被覆された、二酸化チタン及び二酸化亜鉛の混合物、例えば会社KemiraによってM 211の商品名下で販売されている商品、がまた言及されうる。

複合粒子

本発明に従う上記組成物はまた複合粒子を無機遮蔽剤の目的で含みうる。

本発明に従って使用されることができる上記複合粒子は、マトリックス及び無機UV遮蔽剤を含む。上記マトリックスは、１以上の有機及び／又は無機物質を含む。上記無機UV遮蔽剤は一般的に、金属酸化物から選択される。

好ましい一つの変形に従うと、上記マトリックスは、有機及び／又は無機物質から基本的に構成される。

本発明に従う上記マトリックスにおいて使用されることができる上記無機物質は、雲母、合成雲母、タルク、絹雲母、窒化ホウ素、ガラス、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、ヒドロキシアパタイト、シリカ、シリケート、硫酸マグネシウム、炭酸マグネシウム、三ケイ酸マグネシウム、酸化アルミニウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸カルシウム、リン酸カルシウム、酸化マグネシウム、オキシ塩化ビスマス、カオリン、ハイドロタルサイト、鉱物粘土、合成粘土、及びこれらの混合物によって形成されるグループから選択される。

上記マトリックスを形成する為に使用されることができる上記有機物質は、ポリ（メタ）アクリレート、ポリアミド、シリコーン、ポリウレタン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリヒドロキシアルカノエート、ポリカプロラクタム、ポリ（ブチレンサクシネート）、多糖類、ポリペプチド、ポリビニルアルコール、ポリビニル樹脂、フルオロポリマー、ワックス、ポリエステル、ポリエーテル、及びそれらの混合物によって形成されるグループから選択される。

上記複合粒子において使用されることができる上記無機UV遮蔽剤は、金属酸化物から選択される。

好ましくは、これら金属酸化物は、二酸化チタン TiO₂、酸化亜鉛 ZnO及び酸化鉄 FeOから選択される。特に好ましくは、上記無機UV遮蔽剤が、TiO₂である。

これら金属酸化物は、一般的に0.2μm未満の平均寸法を有する粒子の形でありうる。有利的には、使用されるTiO₂粒子は、0.1μm以下の平均寸法を有する。

これら金属酸化物はまた、層、好ましくは一般的に0.2μmの平均厚さを有する多層、の形態であってもよい。

好ましくは、本発明に従う上記組成物の複合粒子の含有量は、化粧用組成物の総重量に対して、1%〜70%、好ましくは1.5%〜45%、好ましくは2重量%〜20重量%である。

本発明に従い使用されることが出来る複合粒子は好ましくは、球状である。

それらは、中空、滑らか、粗い又は多孔性でありうる。

上記複合粒子が球状の形である場合に、それらは、0.1μm〜30μm、好ましくは0.2μm〜20μm、及びより好ましくは0.3〜10μm、有利的には0.5μm〜10μm、の平均直径によって特徴付けられる。

語「球状」は、粒子が1.2未満の球形度指数、すなわちその最大直径とその最小直径との比、を有することを意味することが意図される。

上記複合粒子の形

第１の変形に従うと、上記複合粒子は、有機及び／又は無機物質を含むマトリックスを含み、無機UV遮蔽剤のマトリックス粒子が含まれる。好ましくは、上記複合粒子は、有機及び／又は無機物質を含むマトリックスからなり、無機UV遮蔽剤のマトリックス粒子が含まれる。

この実施態様に従うと、上記マトリックスは封入体を示し、且つ、無機UV遮蔽剤の粒子が該マトリックスの該封入体中に配置されていることを示す。

好ましくは、上記複合粒子は、球状であり且つ無機UV遮蔽剤の粒子がその中に配置されている封入体を有する。

この変形に対応する複合粒子として、会社Sunjin Chemicalによって販売されている商Sunsil TIN 50及びSunsil TIN 40が言及されうる。2〜7μmの平均寸法を有するこれらの球状の複合粒子は、シリカマトリックス中に封入されたTiO₂の形をなす。

第２の変形に従うと、上記複合粒子は、有機及び／又は無機物質で作られるマトリックスを含み、該マトリックスは、結合剤を使用してマトリックスに接続されることができる無機UV遮蔽剤の少なくとも１つの層で被覆されている。

この第２の変形に従うと、上記マトリックス粒子は好ましくは、球状の形状である。

この第２の変形に従うと、無機UV遮蔽剤の層の平均厚さは一般的に、ほぼ10ナノメートルである。無機UV遮蔽剤の層の平均厚さは有利的には、10^-3〜0.2μm、好ましくは10^-2〜0.2μmである。

第３の変形に従うと、上記複合粒子は、有機及び／又は無機物質の層の少なくとも１つで被覆される無機UV遮蔽剤を含む。この第３の変形に従うと、無機UV遮蔽剤の上記粒子は、一般的に10^-3〜0.2μmの平均基本寸法(an average elementary size)によって特徴付けられる。有利的には、使用される上記金属酸化物粒子は、10^-2〜0.1μmの平均基本寸法(a mean elementary size)を有する。

上記マトリックスは、１以上の有機又は無機物質から形成されうる。従って、物質、例えば合金、の連続相、すなわち物質はもはや分離されないことが可能な連続相、又は、例えば他の異なる有機若しくは無機物質で被覆された有機又は無機物質から構成される、物質の非連続相がありうる。

一つの変形に従うと、特に上記複合粒子がUV遮蔽剤の層で被覆されるマトリックスを含む場合に、さらに上記複合粒子が、生分解性又は生体適合性物質、脂質物質、例えば界面活性剤又は乳化剤、ポリマー、及び酸化物から特に選択される、追加の被覆剤で被覆されうる。

本発明に従い使用される上記複合粒子は、0.1〜30μm、好ましくは0.5〜20μm、及びより好ましくは、0.3〜10μm、有利には0.5〜10μm、の寸法を有する。

好ましくは、複合粒子において使用される上記UV遮蔽剤は、TiO₂、又はTiO₂及びZnOの混合物である。

好ましくは、上記球状の複合粒子の上記マトリックスは、
−SiO₂、
−ポリメチルメタクリレート、
−スチレンとC₁/C₅アルキル(メタ)アクリレート誘導体とのコポリマー、
−ポリアミド、例えばナイロン
から選択される物質又は物質の混合物を含む。

この変形に対応する複合粒子として会社Sunjin Chemicalによって販売されている商品Sunsil TIN 50及びSunsil TIN 40が言及されうる。平均寸法2〜7μmを有するこれら球状の複合粒子は、シリカマトリックス.中に封入されたTiO₂の形をなす。

下記粒子：
−4〜8μmの平均寸法を有し、TiO₂及びSiO₂を含み、会社Creations Couleursによって販売されている商品名Eospoly TRを有する球状の複合粒子、
−TiO₂及びスチレン/アルキルアクリレートコポリマーマトリックスを含み、会社Creations CouleursによってEospoly UV TR22 HB 50の名称下で販売されている、複合粒子、
−TiO₂及びZnO及びPMMAマトリックスを含み、会社Sunjin Chemicalによって販売されている商品名Sun PMMA-T50を有する、複合粒子
が、また言及されうる。

本発明に従い使用されることができる上記複合粒子の間で、TiO₂及びSiO₂を含み、会社JGC Catalysts and Chemicalによって供給されている商品名STM ACS-0050510を有する、球状の複合粒子がまた言及されうる。

好ましくは、上記無機遮蔽剤は、水酸化アルミニウムで及びステアリン酸で任意的に被覆された二酸化チタン、二酸化チタンで任意的に被覆された二酸化チタン、ステアリン酸で及びアルミナで任意的に被覆された二酸化チタン、並びにそれらの混合物から選択される。

本発明の一つの特定の実施態様に従うと、上記少なくとも１つの無機遮蔽剤は、上記組成物の総重量に対して0.01重量%〜20重量%、好ましくは0.1重量%〜10重量%、好ましくは0.5重量%〜7重量%、及び特には0.8重量%〜6重量%、の範囲の含有量で本発明に従う上記組成物中に存在する。

本発明に従う組成物はまた、特に、イオン性又は非イオン性、親水性又は親油性増粘剤、柔軟剤、湿潤剤、乳白剤、安定剤、エモリエント、シリコーン、消泡剤、香料、保存剤、アニオン性、カチオン性、非イオン性、両性イオン若しくは両性界面活性剤、充填剤、ポリマー、噴射剤、塩基性化若しくは酸性化剤、又は、化粧用及び／又は皮膚用分野において一般に使用される任意の他の成分から選択される標準的な化粧用補助剤を含みうる。

言及されうる有機溶媒の間で、低級アルコール及びポリオールが言及される。後者は、グリコール、例えばプロピレングリコール、ブチレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセロール、1,3-プロパンジオール、ペンチレングリコール又はヘキシレングリコールから選択されうる。

言及されうる親水性増粘剤は、カルボキシビニルポリマー、例えばCarbopols (Carbomers) and the Pemulens(アクリレート/C10-C30アルキルアクリレートコポリマー)；ポリアクリルアミド、例えば会社SEPPICによってSepigel 305(CTFA名：ポリアクリルアミド/C13-C14イソパラフィン/ラウレス(laureth) 7)又はSimulgel 600(CTFA名：アクリルアミド/アクリロイルジメチルタウリン酸ナトリウム・コポリマー/イソヘキサデカン/ポリソルベート 80)の名称下で販売されている架橋化されたコポリマー；任意的に架橋化された及び／又は中和された、2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸ポリマー及びコポリマー、例えば会社HoechstによってHostacerin AMPS(CTFA名：会社SEPPICによって販売されているポリアクリロイルジメチルタウリンアンモニウムの商品名下で又は会社SEPPICによってSimulgel 800(CTFA名：ポリアクリロイルジメチルタウリンアンモニウム(ポリアクリロイルジメチルタウリンアンモニウム)/ポリソルベート 80/ソルビタンオレート)の名称下で販売されているポリ(2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸)；2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸とヒドロキシエチルアクリレートとのコポリマー、例えば会社SEPPICによって販売されているSimulgel NS及びSepinov EMT 10；セルロース誘導体、例えばヒドロキシエチルセルロース；多糖類、特にガム、例えばキサンタンガム；及びそれらの混合物を含む。

親油性増粘剤として、合成ポリマー、例えば会社LandecによってIntelimer IPA 13-1及びIntelimer IPA 13-6の名称下で販売されているポリ(C₁₀-C₃₀アルキルアクリレート)、又は、例えばBentoneの名称下で販売されている改質粘土、例えばヘクトライト(hectorite)及びそれらの誘導体が言及されうる。

言うまでもなく、本発明に従う上記組成物に本質的に関連付けられた有利な特性が１又は複数の想定された追加によって影響されないように、又は、実質的に、不利に影響されないように、当業者は上記に言及された任意的な追加の１又は複数の化合物及び／又はそれらの量を選択することに注意する。

本発明に従う上記組成物は、当業者に周知である技術に従って調製されうる。それらは、特に、直接(direct)エマルジョン、逆(inverse)エマルジョン、又はマルチプル(multiple)エマルジョン(O/W、W/O、O/W/O又はW/O/W)の形でありうる。
それらは任意的に、エアロゾルとしてパッケージ化されることができ、及びスプレーの形でありうる。

本発明に従う上記組成物は、好ましくは水中油型又は油中水型エマルジョン、より特には水中油型エマルジョン、の形である。

上記エマルジョンは一般に、単独で又は混合物として使用される、両性、アニオン性、カチオン性、又は非イオン性の乳化剤から選択される少なくとも１つの乳化剤を含む。上記乳化剤は、得られるべき乳化剤(W/O又はO/W)に従って適切に選択される。上記乳化剤はまた、他の種類の安定剤、例えば充填剤、ゲル化ポリマー(gelling polymer)又は剤又は増粘用ポリマー(thickening polymer)、を含み得る。

上記W/Oエマルジョンの調製の為に使用されうる乳化界面活性剤(emulsifying surfactants)として、言及されうる例は、ソルビタン、グリセロール又はシュガーアルキルエステル又はエーテル；シリコーン面活性剤、例えばジメチコンコポリオール、例えば会社Shin EtsuによってX-22-6711Dの名称下で販売されているジメチコンとPEG/ポリプロピレングリコール(PPG)18/18ジメチコンとの混合物、及びアルキルジメチコンコポリオール、例えば会社Dow CorningによってDow Corning 5200 Formulation Aidの名称下で販売されているラウリルメチコンコポリオール；セチルジメチコンコポリオール、例えば会社GoldschmidtによってAbil EM 90Rの名称下で販売されている商品、及び、会社GoldschmidtによってAbil WE O9の名称下で販売されている、セチルジメチコンコポリオールの、ポリグリセリルイソステアレート(4mol)の及びラウリル酸ヘキシルの混合物を含む。ポリオールアルキルエステル又は乳化性シリコーンエラストマー(emulsifying silicone elastomers)、例えばジメチコンの混合物、及びKSG-210の名称下で販売されているジメチコン/PEG-10/15の架橋化されたポリマーを含むグループから有利的に選択される１以上の共乳化剤をそれらに加えることがまた可能である。

特に言及されうるポリオールアルキルエステルは、ポリエチレングリコールエステル、例えばPEG-30ジポリヒドロキシステアレート、例えば会社ICIによってArlacel P135の名称下で販売されている製品、を含む。

言及されうるグリセロール及び／又はソルビタンエステルは例えば、ポリグリセリルイソステアレート、例えば会社GoldschmidtによってIsolan GI 34の名称下で販売されている製品；ソルビタンイソステアレート、例えば会社ICIによってArlacel 987の名称下で販売されている製品；ソルビタングリセリルイソステアレート、例えば会社ICIによってArlacel 986の名称下で販売されている製品、及びそれらの混合物を含む。

上記O/Wエマルジョンについて、言及されうる乳化剤の例は、非イオン性乳化剤、例え脂肪酸とグリセロールとのオキシアルキレン化された(より特には、ポリオキシエチレン化された)エステル；脂肪酸とソルビタンとのオキシアルキレン化されたエステル；脂肪酸のオキシアルキレン化された(オキシエチレン化された及び／又はオキシプロピレン化された)エステル、例えば会社ICIによってArlacel 165の名称下で販売されている、例えばPEG-100ステアレート/ステアリン酸グリセリル混合物；脂肪アルコールのオキシアルキレン化された(オキシエチレン化された及び／又はオキシプロピレン化された)エーテル；糖類のエステル、例えばスクロースステアレート；脂肪アルコールの及びシュガーのエーテル、特にアルキルポリグルコシド(APGs)、例えばデシルグルコシド及びラウリルグルコシド、例えば会社HenkelによってPlantaren 2000及びPlantaren 1200の個々の名称下で販売されているそれら、セトステアリルグルコシド、任意的にセトステアリルアルコールを有する混合物として、例えば会社SEPPICによってMontanov 68の名称下で、会社GoldschmidtによってTegocare CG90の名称下で、及び会社HenkelによってEmulgade KE3302の名称下で販売されるそれら、及びまた、例えアラキジルアルコール、ベヘニル(behenyl)アルコール及びアラキジルグルコシドの混合物の形にある、アラキジルグルコシド、会社SEPPICによってMontanov 202の名称下で販売されるそれら、を含む。本発明の一つの特定の実施態様に従うと、対応する脂肪アルコールを有する上記に定義された通りのアルキルポリグルコシドの混合物は、例えば文書国際公開WO-A-92/06778号に記載されている通りの、自己乳化性(self-emulsifying)組成物の形であることができる。

下記の実施例は、本発明の範囲を制限すること無しに本発明を示す。

発明の詳細な説明及び実施例において、パーセントは重量パーセントである。成分は、順番に且つ当業者によって容易に決定された条件下で混合される。

実施例１：本発明に従う組成物

上記組成物は、下記成分を混合することによって調整される：

組成物1〜4のエマルジョンは、経時的に、微細で、均一で、光沢があり、滑らかで、且つ安定である。

実施例２：本発明に従わない組成物

実施例３：組成物1〜8の特徴

(1)レスベラトロールの残留率は、UVの5J/cm²（一日量に対応する）に対する上記組成物の暴露後に測定される。

本発明(組成物1〜4)に従う上記４つの組成物は、UVの5J/cm²に対する上記組成物の暴露後にレスベラトロールの非常に高い残留率を有し、それは日光と接触するとレスベラトロールが非常に少なく分解することを意味する。

上記組成物が何らのUV-遮蔽剤を含まない場合(組成物5)に、UVの5J/cm²に対する上記組成物の暴露後においてレスベラトロールの分解が事実上完了しており、それは日光と接触するとレスベラトロールが多量に分解することを意味する。

上記組成物が低いUVA太陽光線保護指数(PPD)(組成物6、7及び8)を有する場合に、トランス−レスベラトロールの相当な分解がまた観察される。

実施例４：TiO ₂ を有しない本発明に従う組成物

この組成物は、経時的に均質であり且つ安定している。

Claims

化粧用又は皮膚用組成物であって、生理学的に許容可能な媒体中に、トランス−レスベラトロール及び／又は少なくとも１つのトランス−レスベラトロール誘導体、並びに、少なくとも１つのUVA-遮蔽剤及び少なくとも１つのUVB-遮蔽剤及び／又は少なくとも１つのUVA-UVB-両用遮蔽剤を含む有機遮蔽系を少なくとも含み、
上記組成物は15以上のSPF及び5以上のPPDを有し、
上記UVA-遮蔽剤が、水溶性のカンファー誘導体から選択される水溶性のUVA-遮蔽剤であり且つ上記組成物の総重量に対して1重量%〜20重量%の範囲の含有量で存在し、
上記UVB-遮蔽剤が、サリチル酸誘導体、シンナメート、β,β’-ジフェニルアクリレート誘導体、トリアジン誘導体、及びそれらの混合物から選択され且つ上記組成物の総重量に対して1重量%〜20重量%の範囲の含有量で存在し、
上記UVA-UVB-両用遮蔽剤が、フェニルベンゾトリアゾール誘導体及びビス−レゾルシニルトリアジン誘導体から選択され且つ上記組成物の総重量に対して1重量%〜20重量%の範囲の含有量で存在する、
上記組成物。
上記トランス−レスベラトロール及び／又は１又は複数のトランス−レスベラトロール誘導体が、上記組成物の総重量に対して0.001重量%〜10重量%の含有量で存在する、請求項１に記載の上記組成物。
SPF/PPD比が、1〜3の範囲にある、請求項１又は２に記載の上記組成物。
疎水性のジベンゾイルメタン誘導体から選択される上記少なくとも１つのUVA-遮蔽剤をさらに含む、請求項１に記載の上記組成物。
上記少なくとも１つのUVA-遮蔽剤が、上記組成物の総重量に対して2重量%〜15重量%の範囲の含有量で存在する、請求項１に記載の上記組成物。
上記少なくとも１つのUVB-遮蔽剤は、上記組成物の総重量に対して5重量%〜15重量%の含有量で存在する、請求項１に記載の上記組成物。
上記有機遮蔽系が、少なくとも１つのUVA-UVB-両用遮蔽剤を含む、請求項１に記載の上記組成物。
上記UVA-UVB-両用遮蔽剤が、ドロメトリゾールトリシロキサン、ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、及びそれらの混合物から選択される、請求項１に記載の上記組成物。
上記有機遮蔽系が、少なくとも１つの水溶性のUVA-遮蔽剤及び少なくとも１つの疎水性のUVB-遮蔽剤を含む、請求項１に記載の上記組成物。
トランス−レスベラトロール及び／又は少なくとも１つのトランス−レスベラトロール誘導体を含む組成物を安定させる為の方法であって、
上記組成物のSPFが15以上の値にもたらされ且つ上記組成物のPPDが5以上の値にもたらされる量で、少なくとも１つのUVA-遮蔽剤及び少なくとも１つのUVB-遮蔽剤及び／又は少なくとも１つのUVA-UVB-両用遮蔽剤を含む有機遮蔽系が上記組成物に添加される工程を含み、
上記UVA-遮蔽剤が、水溶性のカンファー誘導体から選択される水溶性のUVA-遮蔽剤であり且つ上記組成物の総重量に対して1重量%〜20重量%の範囲の含有量で存在し、
上記UVB-遮蔽剤が、サリチル酸誘導体、シンナメート、β,β’-ジフェニルアクリレート誘導体、トリアジン誘導体、及びそれらの混合物から選択され且つ上記組成物の総重量に対して1重量%〜20重量%の範囲の含有量で存在し、
上記UVA-UVB-両用遮蔽剤が、フェニルベンゾトリアゾール誘導体及びビス−レゾルシニルトリアジン誘導体から選択され且つ上記組成物の総重量に対して1重量%〜20重量%の範囲の含有量で存在する、
上記方法。
トランス−レスベラトロール及び／又は少なくとも１つのトランス−レスベラトロール誘導体を含む組成物を安定させる為に、少なくとも１つのUVA-遮蔽剤及び少なくとも１つのUVB-遮蔽剤及び／又は少なくとも１つのUVA-UVB-両用遮蔽剤を含む遮蔽系を使用する方法であって、
上記UVA-遮蔽剤が、水溶性のカンファー誘導体から選択される水溶性のUVA-遮蔽剤であり且つ上記組成物の総重量に対して1重量%〜20重量%の範囲の含有量で存在し、
上記UVB-遮蔽剤が、サリチル酸誘導体、シンナメート、β,β’-ジフェニルアクリレート誘導体、トリアジン誘導体、及びそれらの混合物から選択され且つ上記組成物の総重量に対して1重量%〜20重量%の範囲の含有量で存在し、
上記UVA-UVB-両用遮蔽剤が、フェニルベンゾトリアゾール誘導体及びビス−レゾルシニルトリアジン誘導体から選択され且つ上記組成物の総重量に対して1重量%〜20重量%の範囲の含有量で存在する、
上記方法。