KR20150088273A - 은 포함 투명 전도층을 포함한 투영식 정전용량 터치 패널 - Google Patents
은 포함 투명 전도층을 포함한 투영식 정전용량 터치 패널 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은, 기판, 복수의 로우 전극의 매트릭스, 복수의 컬럼 전극, 및 복수의 트레이스가 형성된, 은 함유 투명 전도성 코팅, 및 각각의 로우 전극 및 인접한 컬럼 전극 사이의 캐패시턴스를 순차적으로 측정하는 시그널 프로세서를 포함하는 투영식 정전용량 터치 패널을 제공한다. 로우 전극, 복수의 컬럼 전극, 및 복수의 트레이스는 상기 기판에 실질적으로 평행한 면에 있다. 각각의 로우 전극은 복수의 전도성 트레이스 중 하나에 의해 시그널 프로세서에 전기적으로 접속된다. 복수의 트레이스는 적어도 부분적으로 컬럼 전극에 실질적으로 평행하다.
Description
본 출원은 투영식 정전용량 터치 패널, 구체적으로 은 함유 투명 전도층을 포함하는 투영식 정전용량 터치 패널에 관한 것이다.
정전용량 터치 패널은 전도성 코팅으로 코팅된 유리와 같은 절연체를 포함한다. 인체는 전기전도체이기 때문에, 패널의 표면에 접촉하면, 패널의 전기장이 변화되어 캐패시턴스의 변화를 측정할 수 있다. 투명한 터치 패널은 액정 패널과 같은 디스플레이와 결합해서 터치스크린을 제조할 수 있다. 투영식 정전용량(PROCAP) 터치 패널은, 손가락 또는 그 외의 터치에 의해 전도성 코팅 앞의 보호층을 통해 감지될 수 있다. 이러한 보호층은 내구성을 증가시키며, 사용자는 장갑을 끼고 절연체를 통해 터치를 감지하는 능력에 의해 터치 패널을 작동시킬 수 있다.
도 1a 및 1g는 관련 기술 투영식 정전용량 터치 패널의 일례이고, 예를 들면, 미국 특허 제8,138,425 호를 참조하고, 본원에 참조로 포함된다.
도 1a를 참조하면, 기판(11), 로우의 x축 전도체(12), 절연체(13), 컬럼의 y축 전도체(14), 및 전도성 트레이스(15)가 제공된다. 기판(11)은 유리와 같은 투명한 물질일 수 있다. x축 전도체(12) 및 y축 전도체(14)는 일반적으로 인듐 주석 산화물(ITO)과 같은 투명 전도성 코팅일 수 있다. 절연체(13)는, x축 전도체(12) 및 y축 전도체(14) 사이의 전도성을 억제하는, 임의의 절연체 물질(예를 들면, 실리콘 질화물)일 수 있다. 트레이스(15)는, 복수의 전도체 각각과 시그널 프로세서(미도시) 사이의 전기전도도를 제공한다.
도 1b를 참조하면, x축 전도체(12)(예를 들면, ITO)는 기판(11) 상에 형성된다. ITO는 기판(11) 상에 연속층으로 코팅된 후, ITO를 x축 전도체(12)에 패터닝하기 위해 제1 포토리소그래피 공정을 수행한다. 도 1c는 기판(11) 상에 형성된 x축 전도체(12)를 포함하는, 도 1b의 A-A' 단면도이다. 도 1d을 참조하면, 절연체(13)는 기판(11) 상의 x축 전도체(12)의 x축 채널 위에 형성된다. 도 1e는 기판(11) 및 x축 전도체(12) 상에 형성된 절연체(13)을 포함하는, 도 1d의 B-B' 단면도이다. 도 1d-1e에 도시된 절연체 섬(13)은, 기판(11) 상의 전도체(12) 위에 절연 물질(예를 들면, 실리콘 질화물)의 연속층을 증착한 후, 섬(13) 내에 절연 물질을 패터닝하기 위해 절연 물질에 제2포토리소그래피, 에칭 또는 그 외의 패터닝 공정을 수행해서 형성된다. 도 1f를 참조하면, y축 전도체(14)는 기판 상의 절연체 섬(13) 및 x축 전도체 위에 형성된다. ITO는, 기판(11) 상의 전도체(12) 및 절연체 섬(13) 위에 코팅된 후, ITO를 y축 전도체(14) 내에 패터닝하기 위해 제3포토리소그래피 또는 그 외의 패터닝 공정을 수행한다. 대부분의 y축 전도체 물질(14)은 기판(11) 상에서 바로 형성되고, y축 채널은 x축 전도체(12)와 y축 전도체(14) 사이의 전도도를 억제하기 위해 절연체(13) 상에 형성된다. 도 1g는 기판(11) 상에서 예시의 x축 전도체(12) 위의 절연체 섬(13) 위에 형성된 y축 전도체(14)의 일부를 포함하는, 도 1f의 C-C' 단면도이다. 도 1a-1g에 도시된 구조체의 제조공정은 3개의 증착 단계 및 3개의 포토리소그래피 타입 공정이 필요하기 때문에, 제조공정이 복잡해지고, 비효율적이며 비싸진다.
도 1h는 관련 기술 투영식 정전용량 터치 패널에 따른 x축 전도체(12) 및 y축 전도체(14)의 교차점의 추가의 예이다. 도 1h를 참조하면, ITO 층은 기판(11) 상에 형성되고 제1 포토리소그래피 공정에서 x축 전도체(12) 및 y축 전도체(14) 내에 패터닝될 수 있다. 그 다음에, 절연층이 기판 상에 형성되고 제2포토리소그래피 또는 에칭 공정에서 절연체 섬(13) 내에 패터닝된다. 그 다음에, 금속 전도체층이 기판(11) 상의 전도체(12), 절연체 섬(13), 및 y축 전도체(14) 위에 형성되고 제3포토리소그래피 공정에서 전도성 브리지(16) 내에 패터닝된다. 금속 브리지(16)는 x축 전도체(12) 위의 y축 전도체(14)에 전기전도도를 제공한다. 또한, 이 제조 공정은 3개의 증착 단계 및 3개의 상이한 포토리소그래피 공정이 필요하다.
도 1a 내지 1h에서 도시된 투영식 정전용량 터치 패널은 상호 정전식 장치 및 자체 정전용량 장치일 수 있다.
상호 정전용량 장치 내에는, x축 전도체(12) 및 y축 전도체(14)(또는 금속 브리지(16)) 사이에 모든 교차점에 캐패시터가 존재한다. x축 전도체(12)에 전압이 인가되면서, y축 전도체(14)의 전압이 측정된다(및/또는 그 반대). 사용자가 손가락 또는 전도성 스틸러스를 장치의 표면 가까이에 가져가면, 국소 전기장이 변화되어 상호 캐패시턴스가 감소한다. 격자상 모든 개개의 점에서 캐패시터 변화는 정확하게 터치 위치를 결정하기 위해 측정될 수 있다.
자체 정전용량 장치에서, x축 전도체(12) 및 y축 전도체(14)는 본질적으로 독립적으로 작동한다. 자체 캐패시턴스로, 손가락 등의 캐패시턴스 부하는 각 x축 전도체(12) 및 y 축 전도체(14) 상에 전류계로 측정된다.
도 1g 및 1h에 도시된 바와 같이, 관련 기술 투영식 정전용량 터치 패널은, 터치 감지 구조체 제조시 기판(11) 상에 형성된 적어도 3개의 박막층(예를 들면, ITO 층, 절연체, 및 또 다른 ITO 층 또는 금속 브리지) 및 경우에 따라 또 다른 보호층이 필요하다. 각 박막 필름층에는 일반적으로 포토리소그래피 및/또는 레이저 패터닝 공정이 포함되기 때문에, 비용 및/또는 시간이 증가한다.
상기 기재된 바와 같이, 투명한 전도체(12 및 14)는 일반적으로 고가의 인듐 주석 산화물(ITO)이다. ITO 박막층은, 또한 높은 시트 저항(적어도 약 100 옴/스퀘어)을 갖는다. ITO 층의 시트 저항을 5 옴/스퀘어 미만으로 하기 위해서는, 층이 두꺼워 져야 한다(예를 들면, 400 nm 초과). ITO 층이 두꺼워 지면, 비용이 증가하고 덜 투명하게 된다. 따라서, ITO 박막층의 높은 시트 저항은, 대면적 포맷 터치 패널(예를 들면, 대각선 치수 5 인치를 초과하는 패널) 상에 길고 좁은 트레이스를 필요로 하는 레이아웃에서의 사용이 제한된다. 상기 기재된 하나 이상의 문제 해결을 요구하는 것이 당업계에서 명백할 것이다.
이러한 및 그 외의 제한은, 적어도 제1유전체층과 제2유전체층 사이에 개재될 수 있는 은 함유 투명 전도층을 포함하는 투영식 정전용량 터치 패널에 의해 해결될 수 있다.
본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 기판, 기판에 의해 지지되고, 로우 전극의 매트릭스, 복수의 컬럼 전극, 및 복수의 트레이스가 형성된, 은 함유 투명 전도성 코팅, 및 각각의 로우 전극 및 인접한 컬럼 전극 사이의 캐패시턴스를 순차적으로 측정하는 시그널 프로세서를 포함하고, 로우 전극의 매트릭스, 복수의 컬럼 전극, 및 복수의 트레이스는 상기 기판에 실질적으로 평행한 면에 있고, 각각의 로우 전극은 복수의 트레이스 중 하나에 의해 시그널 프로세서에 전기적으로 접속되고, 복수의 트레이스는 컬럼 전극에 실질적으로 평행한, 투영식 정전용량 터치 패널이 제공된다.
본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 기판 및 시그널 프로세서를 포함하는 투영식 정전용량 터치 패널의 제조방법으로, 상기 방법은, 로우 전극의 매트릭스, 복수의 컬럼 전극, 및 복수의 트레이스를 형성하기 위해 기판 상에 은 함유 투명 전도성 코팅을 증착하는 단계를 포함하고, 상기 로우 전극의 매트릭스, 상기 복수의 컬럼 전극, 및 상기 복수의 트레이스는 상기 기판에 실질적으로 평행한 면에 있고, 상기 로우 전극은 각각 복수의 트레이스 중 하나에 의해 상기 시그널 프로세서에 전기적으로 접속되고, 복수의 트레이스는 컬럼 전극에 실질적으로 평행한, 투영식 정전용량 터치 패널의 제조방법을 제공한다.
은 함유 투명 전도성 코팅은, 상기 기판으로부터 제1실리콘 기반 층, 제1유전체층, 제2유전체층의 제1 및 제2 부분을 형성하기 위해 제3유전체층에 의해 분리되는 제2유전체층, 제2유전체층의 제2부분 위에 직접 접촉하는 은 층, 은 층 위에 직접 접촉하는 니켈 및/또는 크롬 산화물을 포함하는 상부 접촉층, 제4유전체층, 및 제2실리콘 기반 층을 포함할 수 있고, 제3유전체층은 티타늄 산화물 또는 주석 산화물을 포함한다.
도 1a 내지 1h는 관련 기술 투영식 정전용량 터치 패널의 일례이다.
도 2a는 예의 실시형태에 따른 투영식 정전용량 터치 패널의 상부 또는 하부면 레이아웃이다.
도 2b는 도 2a 및/또는 도 3의 투영식 정전용량 터치 패널에 대한 개략 회로도이다.
도 3은 추가의 예의 실시형태에 따른 투영식 정전용량 터치 패널의 상부 또는 하부 면 레이아웃이다.
도 4는 예의 실시형태에 따른 도 2 내지 3의 터치 패널의 은 함유 투명 전도성 코팅의 단면도이다.
도 5는 도 2 내지 3의 터치 패널에 대한 추가의 예의 은 함유 투명 전도성 코팅의 단면도이다.
도 6은 도 2 내지 3의 터치 패널에 대한 추가의 예의 은 함유 투명 전도성 코팅의 단면도이다.
도 7은 휴대폰, 휴대용 패드, 컴퓨터, 등과 같은 전자장치에 사용하기 위해 액정 패널에 커플링된 도 2 내지 6 중 어느 하나에 따른 터치 패널을 포함하는, 본 발명의 예의 실시형태에 따른 디스플레이 어셈블리의 단면도이다.
도 2a는 예의 실시형태에 따른 투영식 정전용량 터치 패널의 상부 또는 하부면 레이아웃이다.
도 2b는 도 2a 및/또는 도 3의 투영식 정전용량 터치 패널에 대한 개략 회로도이다.
도 3은 추가의 예의 실시형태에 따른 투영식 정전용량 터치 패널의 상부 또는 하부 면 레이아웃이다.
도 4는 예의 실시형태에 따른 도 2 내지 3의 터치 패널의 은 함유 투명 전도성 코팅의 단면도이다.
도 5는 도 2 내지 3의 터치 패널에 대한 추가의 예의 은 함유 투명 전도성 코팅의 단면도이다.
도 6은 도 2 내지 3의 터치 패널에 대한 추가의 예의 은 함유 투명 전도성 코팅의 단면도이다.
도 7은 휴대폰, 휴대용 패드, 컴퓨터, 등과 같은 전자장치에 사용하기 위해 액정 패널에 커플링된 도 2 내지 6 중 어느 하나에 따른 터치 패널을 포함하는, 본 발명의 예의 실시형태에 따른 디스플레이 어셈블리의 단면도이다.
예의 실시형태의 상세한 설명은 수반하는 도면을 참조해서 제공된다. 동일한 참조 부호는 도면 내에서 동일한 부분을 나타낸다.
도 2a는 본 발명의 예의 실시형태에 따른 투영식 정전용량 터치 패널의 상부/하부 면 레이아웃이다.
도 2a를 참조하면, 터치 패널(20)이 제공된다. 터치 패널(20)은 n 컬럼 및 m 로우를 포함하는 전극의 매트릭스를 포함하고, 이는 기판(40) 상에 제공된다. 컬럼/로우 전극의 매트릭스는, 일반적으로 사람이 터치 패널을 사용해서 터치하는 부분에 대면하는 기판측(예를 들면, 유리 기판(40)) 상에 제공된다. 즉, 터치 패널에 손가락, 스틸러스, 등을 터치하는 경우, 기판(40)은 일반적으로 손가락과 로우/컬럼 전극의 매트릭스 사이에 위치한다. 손가락 등에 접근에 의한, 매트릭스 내에 인접한 로우 및 컬럼 전극 사이의 캐패시턴스의 변화는 전자 회로에 의해 감지되고, 접속 회로는 손가락 등으로 패널에 터치한 위치를 검출할 수 있다.
예를 들면, 도 2a를 참조하면, 로우 0은 로우 전극 x0,0, x1,0, x2,0 등 내지 xn,0을 포함하고 컬럼 0, 1 및 2는 각각 컬럼 전극 y0, y1, y2 등 내지 yn을 포함한다. 선택적으로 컬럼 방향의 x 전극은, 컬럼 감지를 위해 그룹으로 형성될 수 있다. 로우 및 컬럼 전극의 수는 터치 패널의 크기 및 해상도에 의해 결정된다. 이 실시예에서, 상부 우측 로우 전극은 xn ,m이다.
터치 패널(20)의 각각의 로우 전극 x0,0-xn ,m 은, 전도성 트레이스(22)에 의해 상호 접속 영역(21) 및 상응하는 프로세싱 회로/소프트웨어에 전기적으로 접속된다. 각각의 컬럼 전극 y0-yn 은, 또한 상호 접속 영역(21) 및 상응하는 프로세싱 회로/소프트웨어에 전기적으로 접속된다. 전도성 트레이스(22)는 로우 및 컬럼 전극과 동일한 투명 전도성 물질(예를 들면, 적어도 로우 전극 x0,0, x1,0, x2, 0와 동일한 물질)로 바람직하게 형성된다. 따라서, 특정한 예의 실시형태에서, 로우의 매트릭스 및 컬럼 전극 및 상응하는 트레이스(22)는 단층 코팅(단층 또는 다층 코팅)을 기판에 형성하고 하나의 (또는 최대 둘)포토리소그래피 공정만 수행해서 기판(예를 들면, 유리 기판)(40) 상에 형성될 수 있다. 특정한 예의 실시형태에서, 은 함유 코팅(예를 들면, 도 4 내지 6의 예시의 코팅 참조)은 기판(40) 상에 증착(예를 들면, 스퍼터 증착)된 후, 포토리소그래피 및/또는 레이저 패터닝을 수행해서 은 함유 코팅을 트레이스(22), 로우 전극 x0,0, x1,0, x2,0, x0,1, x,0, 2, x0,3,등 내지 xn ,m, 및 컬럼 전극 y0-yn로 패터닝한다.
로우 전극 x0,0-xn ,m,, 컬럼 전극 y0-yn , 트레이스(22)는, 상부/하부에서 봤을 때 서로 중첩되지 않기 때문에, 로우 전극 x0,0-xn ,m,, 컬럼 전극 y0-yn , 트레이스(22)가 기판(40)에 평행(또는 실질적으로 평행)한 동일 면 상에 형성되고, 그 상에 전극 및 트레이스가 형성될 수 있다. 트레이스(22)의 상당한 부분은 기판(40)에 평행(또는 실질적으로 평행)한 면 내에 컬럼 전극에 평행(또는 실질적으로 평행)할 수 있다.
따라서, 적은 수의 포토리소그래피 또는 레이저 패터닝 단계를 통해 충분한 투명성 및 전도성을 갖는 트레이스가 얻어지는 터치 패널(20)이 제조될 수 있기 때문에, 제조 비용이 감소하고 디스플레이 어셈블리 등에 사용하기 위한 터치 패널에 더 효과적이다.
도 2b는 예시의 실시형태에 따른 도 2a에 도시된 터치 패널(20)의 개략 회로도이다.
터치 패널(20) 내에서, 각각의 로우 전극 및 인접한 컬럼 전극 사이(예를 들면, 로우 전극 x0,0과 컬럼 전극 y0 사이)의 캐패시턴스가 존재한다. 이 캐패시턴스는, 컬럼 전극(예를 들면, 컬럼 전극 y0)에 전압을 인가하고, 인접한 로우 전극(예를 들면, 로우 전극 x0,0)의 전압을 측정함으로써 측정될 수 있다. 사용자가 손가락 또는 전도성 스틸러스를 터치 패널(20)에 가까이 가져가면, 국소 전기장이 변화되어 상호 캐패시턴스가 감소한다. 표면 상의 개개 점에서 캐패시턴 변화는 로우 전극 및 컬럼 전극의 각각의 쌍을 순차적으로 측정함으로써 측정될 수 있다.
동일한 로우에서 각각의 로우 전극의 트레이스(22)(예를 들면, 로우 0에서 로우 전극 x0,0, x1,0, x2,0, 등 내지 xn ,0의 트레이스(22)는 서로 전기적으로 접속될 수 있다(도 2b에 도시). 제1로우 세그먼트의 상호 접속, 제2로우 세그먼트의 상호 접속 등은, 상호 접속 영역 내의 터치 패널의 주위에서 부착된 유연한 회로 상에 제조될 수 있고, 유리에 대한 크로스오버(crossover)가 필요하지 않다. 이러한 예에서, 컬럼 전극에 전압을 인가하고, 또 다른 컬럼 전극에 전압을 인가하는 공정을 반복하기 전에 각각의 로우의 전압을 순차적으로 측정한다. 또한, 각 트레이스(22)는 시그널 프로세서(25)에 접속되고 각각의 트레이스(22)의 전압은 개별적으로 측정될 수 있다.
동일한 캐패시턴스는, 로우 전극에 전압을 인가하고, 컬럼 전극에 전압을 인가하지 않고 인접한 컬럼 전극의 전압을 측정하고 인접한 로우 전극의 전압을 측정함으로써 측정될 수 있다.
시그널 프로세싱(예를 들면, 전압을 인가 및 측정, 인접한 전극 사이의 캐패시턴스 측정, 시간 경과에 따라 캐패시턴스 변화 측정, 사용자 입력에 대응하는 시그널 출력)은, 시그널 프로세서(25)에 의해 수행될 수 있다. 시그널 프로세서(25)는 하나 이상의 하드웨어 프로세서일 수 있고, 휘발성 또는 비휘발성 메모리를 포함할 수 있고, 시그널 프로세싱을 수행하기 위해 컴퓨터 판독 가능한 지침을 포함할 수 있다. 시그널 프로세서(25)는, 칼럼 전극 y0-yn 에 전기적으로 접속되고 트레이스(22)를 통해 로우 전극 x0,0-xn ,m 에 전기적으로 접속된다. 시그널 프로세서(25)는 로우 전극 x0,0-xn ,m, 컬럼 전극 y0-yn, 및 트레이스(22) (예를 들면, 도 2a의 상호 접속 영역(21) 내) 상에 위치하거나 위치하지 않을 수 있다.
도 3은 다른 예시의 실시형태에 따른 투영식 정전용량 터치 패널의 레이아웃이다.
도 3을 참조하면, 터치 패널(30)은, 상부 섹션(31) 및 하부 섹션(32)으로 나뉘고, 각각 n 칼럼 및 m 로우를 포함하는 전극의 매트릭스를 포함하는 것을 제외하고, 도 2a의 터치 패널(20)과 유사하다. 예를 들면, 상부 섹션(31)의 로우 0은 로우 전극 x0,0, x1,0, x2,0, 등 내지 xn ,0 을 포함한다. 상부 섹션(31)은 또한 컬럼 전극 y0, y1, y2, 등 내지 yn을 포함한다. 마찬가지로, 하부 섹션(32)은 로우 전극, 및 컬럼 전극 y0 -yn 을 포함하고, 하부 섹션의 컬럼 전극 y0 -yn 은 상부 섹션(31)의 컬럼 전극 y0-yn과 전기적으로 분리될 수 있다.
따라서, 하부 섹션(32)은 n 컬럼 및 m 로우를 포함하는 로우 전극의 매트릭스 및 n 컬럼 전극을 포함한다. 하부 섹션(32)은 상이한 예의 실시형태에서 상부 섹션(31)보다 적거나 많은 로우를 가질 수 있다.
터치 패널(30)의 로우 및 컬럼 전극의 수는 터치 패널의 크기 및 해상도에 의해 결정된다.
상부 섹션(31)의 각각 컬럼 전극은 상호 접속 영역(21)에 전기적으로 접속되고, 상부 섹션(31)의 로우 전극은 트레이스(22)에 의해 상호 접속 영역(21)에 전기적으로 접속된다. 도 2 실시형태에 대해, 트레이스는 상부 섹션(31)의 컬럼 전극을 상호 접속 영역에 접속하기 위해 사용되거나 사용되지 않을 수 있다. 하부 섹션(32)의 컬럼 전극은 상호 접속 영역(21')에 전기적으로 접속되고, 하부 섹션(32)의 각각의 로우 전극은 트레이스(22)에 의해 상호 접속 영역(21')에 전기적으로 접속된다. 또한, 트레이스는, 상호 접속 영역(21')에 하부 섹션(32)의 컬럼 전극을 접속하기 위해 사용되거나 사용되지 않을 수 있다.
도 3을 참조하면, 터치 패널(30)은, 컬럼 전극에 전압을 인가하고 인접한 로우 전극의 전압을 측정(또는 로우 전극에 전압을 인가하고 인접한 컬럼 전극의 전압을 측정)함으로써 측정할 수 있는, 각각의 로우 전극 및 인접한 컬럼 전극 사이의 캐패시턴스가 존재하는 점에서 터치 패널(20)과 유사하다. 사용자가 손가락 또는 전도성 스틸러스를 터치 패널(30)에 가까이 가져가면, 국소 전기장이 변화되어 상호 캐패시턴스가 감소한다. 표면 개개의 점에서 캐패시턴스 변화는, 로우 전극 및 컬럼 전극의 각각의 쌍을 순차적으로 측정함으로써 측정될 수 있다.
도 3에 도시된, 로우 전극 및 컬럼 전극은 서로 중첩되지 않기 때문에, 로우 전극 및 컬럼 전극은 도 2에 대해 상기 설명한 바와 같이 동일 면 상에서 형성될 수 있다. 따라서, 터치 패널(30)의 전극 구조는 실제로 얇을 수 있고 하나의 공정(예를 들면, 하나의 포토리소그래피 공정 또는 하나의 레이저 패터닝 공정)으로 패터닝될 수 있고, 투영식 정전용량 터치 패널의 제조 비용을 줄일 수 있다.
당업자가 인지한 바와 같이, 상기 기재된 터치 패널(20 및 30)은 도 2 내지 3에 도시되고 상기 기재된 방향으로 제한되지 않는다. 즉, 본 출원 명세서에서 사용되는 "로우", "컬럼", "x축" 및 "y축"은 특정한 방향을 함축하는 것으로 의미하지 않는다. 도 2a의 터치 패널(20)은, 예를 들면, 상호 접속 영역(21)이 터치 패널(20)의 임의의 부분에 위치하도록 수정하거나 회전될 수 있다.
도 2a 및 3에 도시된 바와 같이, 좁고 투명한 전도성 트레이스(22)는 상호 접속 영역(21)(및 상호 접속 영역(21'))에 전극을 전기적으로 접속하기 위해 라우팅된다. 좁은 ITO 트레이스는 저항이 크기 때문에, 단지 스마트폰과 같은 작은 터치 패널에만 사용될 수 있다. 도 2a 및 3에 도시된 레이아웃 중 하나를 큰 터치 패널(예를 들면, 대각선 측정 치수 10인치 초과)에 사용하기 위해서는, 낮은 시트 저항을 갖는 투명 전도성 코팅이 사용되어야 한다. 로우/컬럼 전극 및 트레이스(22) 형성시 사용되는 도 4 내지 6에 도시된 은 함유 코팅은, 일반적인 종래의 ITO 트레이스보다 훨씬 작은 시트 저항을 갖기 때문에 이러한 점에서 바람직하다.
로우 전극, 컬럼 전극 및 트레이스(22)를 형성하기 위해, 낮은 시트 저항을 갖는 은 함유 투명 전도성 코팅(TCC)의 예는, 예시의 실시형태에 따른 도 4 내지 6에 도시된다. 도 4 내지 6에서, TCC는, 낮은 시트 저항 및 높은 투명성 때문에, 로우 및 컬럼 전극뿐 아니라 도 2a 및 3에 도시된 터치 패널의 길고 좁은 트레이스(22)를 형성할 수 있다.
도 4를 참조하면, 코팅(또는 층 시스템)(41)은, 기판(40) 상에 직접 또는 간접적으로 제공된다. 기판(40)은, 예를 들면, 유리일 수 있다. 코팅(41)은, 예를 들면, 하부 유전체 실리콘 질화물 기반 및/또는 함유 층(42)을 포함하고, Si3N4 (특정한 예에서 알루미늄과 같은 그 외의 물질로 도프되거나 도프되지 않을 수 있다) 또는 헤이즈 감소용 Si 풍부형 Si3N4 또는 본 발명의 상이한 실시형태에서 임의의 다른 적합한 화학양론 실리콘 질화물; 티타늄 산화물(예를 들면, TiO2 또는 그 외의 적합한 화학양론)을 포함할 수 있는, 티타늄 산화물 또는 니오브 산화물과 같은 물질이거나 이를 포함하는 높은 인덱스 유전체층(43); 및 주석 산화물이거나 이를 포함하는 유전체 "글루"층(45)에 의해 분리될 수 있는 아연 산화물이거나 이를 포함하는 제1 및 제2 유전체층(44a 및 44b); 은-기반 전도층(46); 산화되고/산화되거나 질화될 수 있는 니켈 및/또는 크롬을 포함하는 상부 접촉층(47); 주석 산화물이거나 이를 포함하는 제2층(48); 및 실리콘 질화물 또는 이를 포함하는 최외 보호층(49)을 포함할 수 있다. 높은 인덱스 유전체층(43)은 상이한 실시형태에서 충분히 산화되거나 아화학양론(sub-stoichiometric)일 수 있다. 아연 산화물을 포함하는 씨드층(44b) 및 니켈 및/또는 크롬 또는 이를 포함하는 상부 접촉층(47)은, 은 기반 전도성층(46)에 직접 접촉한다.
다양한 두께 및 물질은 본 발명의 상이한 실시형태에서 사용될 수 있지만, 도 4 실시형태에서 유리 기판(40) 상의 코팅(41)의 각각의 스퍼터 증착된 층의 예시의 두께 및 물질은, 유리 기판으로부터 외부로 다음과 같이 존재한다:
특정한 예의 실시형태에서, 층(44a 및 44b)은 매칭하거나 실질적으로 매칭하는 두께를 가질 수 있다. 예를 들면, 이러한 층의 두께는 특정한 예에서 15% 이하, 그 외의 예의 경우 10% 이하, 또 다른 예의 경우 3 내지 5% 이하 정도 다를 수 있다. 이는, 상기 실시예 2의 경우가 아닌 상기 실시예 1의 경우이다.
도 5를 참조하면, 추가의 예의 투명 전도성 코팅(또는 층 시스템)(51)은 기판(40) 상에 직접 또는 간접적으로 제공된다. 기판(40)은, 예를 들면, 유리일 수 있다. 도 4 실시형태에 대해, 도 5는 예를 들면, 하부 실리콘 질화물 기반 및/또는 포함 층(42) 및 티타늄 산화물 또는 니오브 산화물(예를 들면, TiO2 또는 그 외의 적합한 화학양론)이거나 이를 포함할 수 있는 높은 인덱스 유전체층(43a)을 포함한다. 그러나, 도 5에 도시된 바와 같이, (Al 등이 도프될 수 있는)아연 산화물을 포함하는 제1 및 제2유전체층(44a 및 44b)은, 티타늄 산화물(예를 들면, TiO2 또는 그 외의 적합한 화학양론)이거나 이를 포함하는 층(43b)에 의해 분리된다. 이를 고려하는 또 다른 방법은, 티타늄 산화물을 포함하는 높은 인덱스 하부 유전체층(43)은, 아연 산화물이거나 이를 포함하는 제1층(44a)에 의해 2개의 하위 층(43a 및 43b)로 분리된다. 산화되고/산화되거나 질화될 수 있는, 니켈 및/또는 크롬을 포함하는 상부 접촉층(47), 주석 산화물이거나 이를 포함하는 층(48), 아연 산화물이거나 이를 포함하는 유전체층(44c) 및 또 다른 실리콘 질화물 기반 유전체층(49)은, 전도성 은 기반층(46) 위에 제공될 수 있다. 제3아연 산화물 함유 층(44c)은 주석 산화물 함유 층(48)과 실리콘 질화물 기반층(49) 사이에 배치될 수 있다. 선택적 지르코늄 산화물 함유 상부 코트(50)는 도 5에 최외층(및 실리콘 질화물 기반층(49) 위)으로서 도시된다. 지르코늄 산화물 포함 상부 코트(50)는 내구성이 더 개선될 수 있다.
본 발명의 상이한 실시형태에서 다양한 두께 및 물질이 사용되지만, 도 5 실시형태에 기판(40) 상에 각 스퍼터 증착 층의 예시의 두께 및 물질은, 기판(40)으로부터 외부로 다음과 같이 존재한다:
도 6은 도 2 내지 3에서 로우 및 컬럼 전극 및 트레이스(22)를 형성하기 위해 사용될 수 있는 또 다른 예시의 투명 전도성 코팅이다. 도 6의 코팅은, 유리 기판(40)으로부터 외부로, 실리콘 질화물이거나 이를 포함하는 유전체층, NiCr, NiCrOx, NiCrNx 등이거나 이를 포함하는 하부 접촉층(75), 은이거나 은을 포함하는 전도성층(46), NiCr, NiCrOx, NiCrNx 등이거나 이를 포함하는 상부 접촉층(47), 실리콘 질화물이거나 이를 포함하는 유전체층(49), 및 이러한 지르코늄 산화물과 같은 물질의 선택적 오버코트(50)를 포함한다.
투영식 정전용량 터치 패널은, 도 2 내지 3에 도시된 터치 패널(20 또는 30)의 로우 전극 x0,0- xn ,m, 컬럼 전극 y0-yn, 및 트레이스(22)를 형성하기 위한 레이아웃 내에 기판(40)(예를 들면, 유리) 상에 패터닝된 은 함유 TCC(예를 들면, 도 4의 코팅(41), 도 5의 코팅(51), 또는 도 6의 코팅(61))를 사용해서 형성될 수 있다. 은 함유 TCC는 하나의 포토리소그래피 공정 및/또는 레이저 패터닝 공정에 의해 패터닝될 수 있기 때문에, 투영식 정전용량 패널의 전체 비용이 감소한다.
은 함유 TCC(41, 51, 61)는 저렴하고, 낮은 시트 저항(바람직하게 15 옴/스퀘어 미만, 더 바람직하게 약 10 또는 5 옴/스퀘어 미만, 일례로 약 4옴/스퀘어)을 갖고, 높은 투과율(바람직하게, 70% 초과, 바람직하게 약 80% 초과)을 유지한다. TCC(41,51 또는 61)은, 손가락 또는 스타일러스와 접촉하거나 분위기에 부식 노출 줄이기 위해 사용자로부터 먼 기판(40)의 주요면 상에 증착될 수 있다. 예를 들면, 도 7에 도시된 예의 디스플레이 어셈블리는 액정 디스플레이 패널 상에 장착된 터치 패널(20 또는 30)을 포함한다. 로우 전극, 컬럼 전극, 및 트레이스는, 손가락에 대면하는 유리 기판(40) 표면의 TCC(41,51,61) 내에 형성되고(도 7), 터치 패널(20,30)은 인덱스 매칭 접착층(85)를 통해 LCD 패널에 부착될 수 있다. LCD 패널은 제1 및 제2 기판(예를 들면, 유리 기판)(100, 200)을 포함하고, 그 사이에 액정층(300)이 제공된다. 터치스크린을 형성하기 위해, 터치 패널(20,30)은 작은 공기 갭(미도시)이 포함된 LCD 패널 상에 장착되거나 인덱스 매칭 접착층(85)으로 디스플레이에 접합될 수 있다.
투영식 정전용량 터치 패널에 대한 픽셀 피치는, 예를 들면, 약 6 또는 7 mm의 범위 내에 있을 수 있다. 터치 위치는 시그널 프로세싱 및 내삽에 의해 약 1 mm까지 정확하게 결정될 수 있다. 트레이스(22)에 대한 라인 폭/간격이 약 10 ㎛ 내지 20 ㎛이면, (대각선 치수)적어도 20 인치인 투영식 정전용량 터치 패널의 TCC 시트 저항이 약 4옴/스퀘어일 수 있도록 산출될 수 있다. 또한, 라우팅의 최적화, 시그널 프로세싱 및/또는 노이즈 억제에 의해, 심지어 더 큰 터치 패널(예를 들면, 대각선 치수 40 또는 50 인치 이하)의 생산이 가능하다.
특정한 예의 실시형태에서, 코팅(41,51,61)을 포함하는 유리 기판(40)은, 예를 들면, 코팅 후 열처리(예를 들면, 열적으로 강화)되거나, 코팅 전 화학적으로 강화될 수 있다.
본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 기판; 상기 기판에 의해 지지되고, 적어도 하나의 은 함유 전도층을 포함하는 다층 투명 전도성 코팅, 상기 다층 투명 전도성 코팅을 포함하는, 복수의 로우 전극, 복수의 컬럼 전극, 및 복수의 전도성 트레이스; 및 상기 터치 패널 상에서 터치 위치 검출시 로우 전극과 컬럼 전극 사이의 캐패시턴스를 측정하는 프로세서, 를 포함하고, 상기 로우 전극, 상기 컬럼 전극, 및 상기 전도성 트레이스는 상기 기판에 실질적으로 평행한 공통 면 내에 실질적으로 형성되고, 상기 로우 전극은 각각 적어도 하나의 상기 전도성 트레이스에 의해 상기 프로세서에 전기적으로 접속되고, 상기 전도성 트레이스는 적어도 부분적으로 상기 컬럼 전극에 실질적으로 평행한, 정전용량 터치 패널이 제공된다.
선행하는 단락의 정전용량 터치 패널에서, 상기 투명 전도성 코팅은, 상기 기판으로부터, 실리콘 질화물을 포함하는 제1유전체층; 금속 산화물을 포함하는 유전체층; 은을 포함하는 전도층; 상기 은을 포함하는 전도층 상에 접촉하는 상부 접촉층; 및 실리콘 질화물을 포함하는 제2유전체층; 을 포함할 수 있다. 상기 금속 산화물을 포함하는 유전체층은 아연 산화물 또는 NiCr 산화물을 포함할 수 있다. 상기 상부 접촉층은 Ni 및/또는 Cr을 포함할 수 있다. 상기 투명 전도성 코팅은 적어도 상기 실리콘 질화물을 포함하는 제1유전체층과 상기 금속 산화물을 포함하는 유전체층 사이에 위치하는 상기 티타늄 산화물을 포함하는 유전체층을 더 포함할 수 있다. 상기 투명 전도성 코팅은, 적어도 상기 실리콘 질화물을 포함하는 제1유전체층과 상기 금속 산화물을 포함하는 유전체층 사이에, 티타늄 산화물을 포함하는 층, 아연 산화물을 포함하는 층, 및 주석 산화물을 포함하는 층을 더 포함할 수 있다. 상기 투명 전도성 코팅은, 적어도 상기 실리콘 질화물을 포함하는 제1유전체층과 상기 금속 산화물을 포함하는 유전체층 사이에, 티타늄 산화물을 포함하는 층, 아연 산화물을 포함하는 층, 및 티타늄 산화물을 포함하는 또 다른 층을 더 포함할 수 있다. 상기 코팅은 지르코늄 산화물을 포함하는 오버코트를 더 포함할 수 있다. 상기 투명 전도성 코팅은, 상기 기판으로부터 실리콘 질화물을 포함하는 제1유전체층; Ni 및/또는 Cr을 포함하는 하부 접촉층; 상기 하부 접촉층에 직접 접촉하는 은을 포함하는 전도층; 상기 은을 포함하는 전도층에 접촉하는 Ni 및/또는 Cr을 포함하는 상부 접촉층; 및 실리콘 질화물을 포함하는 제2유전체층;을 포함할 수 있다.
선행하는 2개의 단락 중 어느 하나의 정전용량 터치 패널에서, 상기 투명 전도성 코팅은 시트 저항이 약 15 옴/스퀘어 이하이고, 바람직하게 약 10 옴/스퀘어 이하 또는 약 5 옴/스퀘어 이하일 수 있다.
디스플레이 어셈블리는, 액정 패널에 커플링되는 선행하는 3개의 단락 중 어느 하나의 정전용량 터치 패널을 포함하고, 상기 액정 패널은 한 쌍의 기판, 및 상기 기판 사이에 액정 층을 포함할 수 있다.
상기 예시의 실시형태는 당업자에게 개시 내용을 이해시키기 위한 것으로 의도된다. 상기 설명은 본 출원 명세서 내에 기재된 발명 개념을 제한하지 않으며, 그 범위는 다음 청구범위로 한정된다.
Claims (20)
- 기판;
상기 기판에 의해 지지되고, 적어도 하나의 은 함유 전도층을 포함하는 다층 투명 전도성 코팅,
상기 다층 투명 전도성 코팅을 포함하는, 복수의 로우 전극, 복수의 컬럼 전극, 및 복수의 전도성 트레이스; 및
상기 터치 패널 상에서 터치 위치 검출시 로우 전극과 컬럼 전극 사이의 캐패시턴스를 측정하는 프로세서,
를 포함하고,
상기 로우 전극, 상기 컬럼 전극, 및 상기 전도성 트레이스는 상기 기판에 실질적으로 평행한 공통 면 내에 실질적으로 형성되고,
상기 로우 전극은 각각 적어도 하나의 상기 전도성 트레이스에 의해 상기 프로세서에 전기적으로 접속되고,
상기 전도성 트레이스는 적어도 부분적으로 상기 컬럼 전극에 실질적으로 평행한, 정전용량 터치 패널.
- 제1항에 있어서,
상기 투명 전도성 코팅은, 상기 기판으로부터
실리콘 질화물을 포함하는 제1유전체층;
금속 산화물을 포함하는 유전체층;
은을 포함하는 전도층;
상기 은을 포함하는 전도층 상에 접촉하는 상부 접촉층; 및
실리콘 질화물을 포함하는 제2유전체층;
을 포함하는, 정전용량 터치 패널.
- 제2항에 있어서,
상기 금속 산화물을 포함하는 유전체층은 아연 산화물을 포함하는, 정전용량 터치 패널.
- 제2항에 있어서,
상기 금속 산화물을 포함하는 유전체층은 NiCr 산화물을 포함하는, 정전용량 터치 패널.
- 제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 상부 접촉층은 Ni 및/또는 Cr을 포함하는, 정전용량 터치 패널.
- 제2항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 투명 전도성 코팅은 적어도 상기 실리콘 질화물을 포함하는 제1유전체층과 상기 금속 산화물을 포함하는 유전체층 사이에 위치하는 티타늄 산화물을 포함하는 유전체층을 더 포함하는, 정전용량 터치 패널.
- 제2항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 투명 전도성 코팅은, 적어도 상기 실리콘 질화물을 포함하는 제1유전체층과 상기 금속 산화물을 포함하는 유전체층 사이에, 티타늄 산화물을 포함하는 층, 아연 산화물을 포함하는 층, 및 주석 산화물을 포함하는 층을 더 포함하는, 정전용량 터치 패널.
- 제2항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 투명 전도성 코팅은, 적어도 상기 실리콘 질화물을 포함하는 제1유전체층과 상기 금속 산화물을 포함하는 유전체층 사이에, 티타늄 산화물을 포함하는 층, 아연 산화물을 포함하는 층, 및 티타늄 산화물을 포함하는 또 다른 층을 더 포함하는, 정전용량 터치 패널.
- 제2항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 코팅은 지르코늄 산화물을 포함하는 오버코트를 더 포함하는, 정전용량 터치 패널.
- 제1항에 있어서,
상기 투명 전도성 코팅은, 상기 기판으로부터
실리콘 질화물을 포함하는 제1유전체층;
Ni 및/또는 Cr을 포함하는 하부 접촉층;
상기 하부 접촉층에 직접 접촉하는 은을 포함하는 전도층;
상기 은을 포함하는 전도층에 접촉하는 Ni 및/또는 Cr을 포함하는 상부 접촉층; 및
실리콘 질화물을 포함하는 제2유전체층;
을 포함하는, 정전용량 터치 패널.
- 상기 어느 한 항에 있어서,
상기 투명 전도성 코팅은 시트 저항이 약 15 옴/스퀘어 이하인, 정전용량 터치 패널.
- 상기 어느 한 항에 있어서,
상기 투명 전도성 코팅은 시트 저항이 약 10 옴/스퀘어 이하인, 정전용량 터치 패널.
- 상기 어느 한 항에 있어서,
상기 투명 전도성 코팅은 시트 저항이 약 5 옴/스퀘어 이하인, 정전용량 터치 패널.
- 액정 패널에 커플링되는 상기 어느 한 항의 정전용량 터치 패널을 포함하고, 상기 액정 패널은 한 쌍의 기판, 및 상기 기판 사이에 액정 층을 포함하는, 디스플레이 어셈블리.
- 기판 및 시그널 프로세서를 포함하는 터치 패널을 제조하는 방법으로서,
상기 기판 상에 은 함유 투명 전도성 코팅을 배치하고, 복수의 로우 전극, 복수의 컬럼 전극, 및 복수의 전도성 트레이스를 형성하기 위해 상기 은 함유 투명 전도성 코팅을 패터닝하는 단계,
를 포함하고,
상기 로우 전극, 상기 컬럼 전극, 및 상기 트레이스는 실질적으로 상기 기판에 평행한 면 내에 있고, 상기 로우 전극은 각각 적어도 하나의 상기 트레이스에 의해 상기 시그널 프로세서에 전기적으로 접속되는, 터치 패널의 제조방법.
- 제15항에 있어서,
상기 투명 전도성 코팅은, 상기 기판으로부터 하기 스퍼터 증착된 층:
실리콘 질화물을 포함하는 제1유전체층;
금속 산화물을 포함하는 유전체층;
은을 포함하는 전도층;
상기 은을 포함하는 전도층 위에 접촉하는 상부 접촉층; 및
실리콘 질화물을 포함하는 제2유전체층;
을 포함하는, 방법.
- 제16항에 있어서,
상기 금속 산화물을 포함하는 유전체층은 아연 산화물을 포함하는, 방법.
- 제16항 또는 제17항에 있어서,
상기 투명 전도성 코팅은 적어도 상기 실리콘 질화물을 포함하는 제1유전체층과 상기 금속 산화물을 포함하는 유전체층 사이에 위치하는 티타늄 산화물을 포함하는 유전체층을 더 포함하는, 방법.
- 제15항에 있어서,
상기 투명 전도성 코팅은, 상기 기판으로부터 하기 스퍼터 증착된 층:
실리콘 질화물을 포함하는 제1유전체층;
Ni 및/또는 Cr을 포함하는 하부 접촉층;
상기 하부 접촉층에 직접 접촉하는 은을 포함하는 전도층;
상기 은을 포함하는 전도층에 접촉하는 Ni 및/또는 Cr을 포함하는 상부 접촉층; 및
실리콘 질화물을 포함하는 제2유전체층;
을 포함하는, 방법.
- 제15항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 투명 전도성 코팅은 시트 저항이 약 10 옴/스퀘어 이하인, 방법.
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|---|---|---|---|
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10444900B2 (en) | 2016-05-26 | 2019-10-15 | Samsung Display Co., Ltd. | Touch sensor |
| KR102397356B1 (ko) * | 2021-03-10 | 2022-05-12 | 이성호 | 복수의 서로 다른 면적으로 구성된 검출부 및 이를 이용한 오브젝트 검출장치 |
Families Citing this family (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10444926B2 (en) | 2012-11-27 | 2019-10-15 | Guardian Glass, LLC | Transparent conductive coating for capacitive touch panel with additional functional film(s) |
| US9557871B2 (en) * | 2015-04-08 | 2017-01-31 | Guardian Industries Corp. | Transparent conductive coating for capacitive touch panel or the like |
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| US10216347B2 (en) | 2012-11-27 | 2019-02-26 | Guardian Glass, LLC | Transparent conductive coating for capacitive touch panel with silver having adjusted resistance |
| US9921703B2 (en) | 2012-11-27 | 2018-03-20 | Guardian Glass, LLC | Transparent conductive coating for capacitive touch panel with additional functional film(s) |
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| US10248274B2 (en) | 2012-11-27 | 2019-04-02 | Guardian Glass, LLC | Transparent conductive coating for capacitive touch panel and method of making same |
| TWM459451U (zh) * | 2012-12-18 | 2013-08-11 | Inv Element Inc | 窄邊框之觸控面板結構 |
| US9280225B2 (en) * | 2013-09-30 | 2016-03-08 | J Touch Corporation | Electrode structure for touchscreen |
| TW201545030A (zh) * | 2014-05-30 | 2015-12-01 | Henghao Technology Co Ltd | 觸控面板及其形成方法 |
| JP2016021170A (ja) * | 2014-07-15 | 2016-02-04 | 日立化成株式会社 | 静電容量結合方式タッチパネル入力装置付き表示装置 |
| KR102341436B1 (ko) * | 2014-08-06 | 2021-12-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 터치 스크린 패널의 제조 방법 및 터치 스크린 패널 |
| KR102291564B1 (ko) | 2015-01-06 | 2021-08-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | 터치 센서를 포함하는 터치 패널 및 그 구동방법 |
| US10133108B2 (en) | 2015-04-08 | 2018-11-20 | Guardian Glass, LLC | Vending machines with large area transparent touch electrode technology, and/or associated methods |
| CN104793825B (zh) * | 2015-04-30 | 2018-04-20 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种触控输入设备和触摸显示设备 |
| CN106295477A (zh) * | 2015-06-03 | 2017-01-04 | 小米科技有限责任公司 | 一种进行指纹识别的终端 |
| WO2018017629A1 (en) * | 2016-07-21 | 2018-01-25 | Guardian Glass, LLC | Vending machines with large area transparent touch electrode technology, and associated method of making |
| WO2018017357A1 (en) * | 2016-07-21 | 2018-01-25 | Guardian Glass, LLC | Capacitive touch panel with silver-inclusive transparent conducting layer(s), method of making the same and display including such a touch panel |
| KR101972364B1 (ko) * | 2016-09-09 | 2019-04-25 | (주)엘지하우시스 | 저방사 코팅 및 저방사 코팅을 포함하는 창호용 기능성 건축 자재 |
| KR102567934B1 (ko) * | 2016-09-30 | 2023-08-18 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광표시장치 및 그의 터치감지방법 |
| US20180190984A1 (en) | 2016-12-30 | 2018-07-05 | Guardian Glass, LLC | Silver nano-metal mesh inclusive electrode, touch panel with silver nano-metal mesh inclusive electrode, and/or method of making the same |
| KR20190125317A (ko) | 2017-02-08 | 2019-11-06 | 가디언 글라스, 엘엘씨 | 은 나노금속 메시 포함 전극, 은 나노금속 메시 포함 전극을 갖는 터치 패널, 및/또는 그의 제조 방법 |
| WO2019035031A1 (en) | 2017-08-16 | 2019-02-21 | Guardian Glass, LLC | TRANSPARENT CONDUCTOR COATING FOR CAPACITIVE TOUCH PANEL |
| WO2019035030A1 (en) | 2017-08-16 | 2019-02-21 | Guardian Glass, LLC | TRANSPARENT CONDUCTOR COATING FOR CAPACITIVE TOUCH SCREEN WITH ADDITIONAL FUNCTIONAL FILM (S) |
| KR102414142B1 (ko) * | 2017-12-06 | 2022-06-30 | 삼성디스플레이 주식회사 | 터치 센서 및 이를 포함하는 터치 표시 장치 |
| WO2019126330A1 (en) | 2017-12-21 | 2019-06-27 | Guardian Glass, LLC | Transparent conductive coating for capacitive touch panel with silver having increased resistivity |
| WO2019126338A1 (en) | 2017-12-21 | 2019-06-27 | Guardian Glass, LLC | Transparent conductive coating for capacitive touch panel with silver having adjusted resistance |
| RU2020126578A (ru) * | 2018-01-11 | 2022-02-11 | ГАРДИАН ГЛАСС, ЭлЭлСи | Прозрачное проводящее покрытие для емкостной сенсорной панели и способ ее изготовления |
| US10539864B2 (en) | 2018-02-08 | 2020-01-21 | Guardian Glass, LLC | Capacitive touch panel having diffuser and patterned electrode |
| CN109032401B (zh) * | 2018-06-30 | 2021-11-12 | 广州国显科技有限公司 | 导电层叠结构、导电层叠结构的制备方法及触控面板 |
| FR3103934B1 (fr) * | 2019-11-29 | 2022-11-18 | Idemia Identity & Security France | Capteur d’empreinte à détection d’impédance |
Family Cites Families (46)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5254413A (en) * | 1991-01-31 | 1993-10-19 | General Electric Company | Method for repair and restoration of a ceramic thermal barrier-coated substrate by providing an intermetallic coating |
| US7663607B2 (en) * | 2004-05-06 | 2010-02-16 | Apple Inc. | Multipoint touchscreen |
| US7267879B2 (en) * | 2001-02-28 | 2007-09-11 | Guardian Industries Corp. | Coated article with silicon oxynitride adjacent glass |
| US6576349B2 (en) | 2000-07-10 | 2003-06-10 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable low-E coated articles and methods of making same |
| US7081302B2 (en) | 2004-02-27 | 2006-07-25 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with low-E coating including tin oxide interlayer |
| US7217460B2 (en) | 2004-03-11 | 2007-05-15 | Guardian Industries Corp. | Coated article with low-E coating including tin oxide interlayer |
| CN101027631B (zh) * | 2004-09-24 | 2014-09-03 | 苹果公司 | 原始数据跟踪板设备和系统 |
| US8203073B2 (en) | 2006-11-02 | 2012-06-19 | Guardian Industries Corp. | Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same |
| US20090141004A1 (en) * | 2007-12-03 | 2009-06-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and method for manufacturing the same |
| US20090194155A1 (en) * | 2008-02-01 | 2009-08-06 | Guardian Industries Corp. | Front electrode having etched surface for use in photovoltaic device and method of making same |
| JP5163174B2 (ja) * | 2008-02-20 | 2013-03-13 | ソニー株式会社 | タッチパネル及びその製造方法 |
| US8576193B2 (en) * | 2008-04-25 | 2013-11-05 | Apple Inc. | Brick layout and stackup for a touch screen |
| US8263227B2 (en) | 2008-06-25 | 2012-09-11 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with low-E coating including zirconium oxide and/or zirconium silicon oxynitride and methods of making same |
| US8508495B2 (en) * | 2008-07-03 | 2013-08-13 | Apple Inc. | Display with dual-function capacitive elements |
| JP4966924B2 (ja) | 2008-07-16 | 2012-07-04 | 日東電工株式会社 | 透明導電性フィルム、透明導電性積層体及びタッチパネル、並びに透明導電性フィルムの製造方法 |
| US8147975B2 (en) * | 2008-08-21 | 2012-04-03 | Guardian Industries Corp. | Plasma display panel including frameless EMI filter, and/or method of making the same |
| RU2385835C1 (ru) * | 2008-10-23 | 2010-04-10 | Учреждение Российской Академии Наук Институт Проблем Химической Физики Ран (Ипхф Ран) | Способ получения наноструктур полупроводника |
| US8080141B2 (en) | 2008-11-18 | 2011-12-20 | Guardian Industries Corp. | ITO-coated article and/or method of making the same via heat treating |
| DE102008063403A1 (de) | 2008-12-31 | 2010-07-08 | Advanced Micro Devices, Inc., Sunnyvale | SOI-Bauelement mit einem vergrabenen isolierenden Material mit erhöhter Ätzwiderstandsfähigkeit |
| TW201025108A (en) * | 2008-12-31 | 2010-07-01 | Acrosense Technology Co Ltd | Capacitive touch panel |
| JP5249806B2 (ja) * | 2009-02-16 | 2013-07-31 | グンゼ株式会社 | タッチスイッチ |
| US7947374B2 (en) | 2009-02-19 | 2011-05-24 | Guardian Industries Corp. | Coated article with sputter-deposited transparent conductive coating capable of surviving harsh environments, and method of making the same |
| TWI529588B (zh) | 2009-07-07 | 2016-04-11 | 華森電子科技股份有限公司 | 投射電容式觸控面板及其製造方法 |
| KR20110029470A (ko) * | 2009-09-15 | 2011-03-23 | 엘지전자 주식회사 | 터치패널 및 이를 구비하는 휴대용 단말기 |
| KR101431927B1 (ko) * | 2009-10-28 | 2014-08-19 | 이 잉크 코포레이션 | 터치 센서들을 갖는 전기 광학 디스플레이 |
| JP2011096068A (ja) * | 2009-10-30 | 2011-05-12 | Kitagawa Ind Co Ltd | 差替え式タッチパネル。 |
| JP2012014669A (ja) * | 2009-11-20 | 2012-01-19 | Fujifilm Corp | 導電シート、導電シートの使用方法及び静電容量方式タッチパネル |
| US8730184B2 (en) * | 2009-12-16 | 2014-05-20 | 3M Innovative Properties Company | Touch sensitive device with multilayer electrode having improved optical and electrical performance |
| KR101107173B1 (ko) | 2010-02-11 | 2012-01-25 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
| AT11941U1 (de) * | 2010-02-12 | 2011-07-15 | Plansee Metall Gmbh | Berührungssensoranordnung |
| US8293344B2 (en) | 2010-02-26 | 2012-10-23 | Guardian Industries Corp. | Articles including anticondensation coatings and/or methods of making the same |
| JP2012088915A (ja) * | 2010-10-19 | 2012-05-10 | Hosiden Corp | 接触式座標入力装置、接触式座標入力装置を有するタッチパネル、及び電子機器 |
| JP5739742B2 (ja) | 2010-11-04 | 2015-06-24 | 日東電工株式会社 | 透明導電性フィルムおよびタッチパネル |
| EP2469327A3 (en) | 2010-12-22 | 2012-11-28 | Chimei InnoLux Corporation | Touch panel |
| EP2666077B1 (en) | 2011-01-19 | 2019-04-17 | LG Innotek Co., Ltd. | Transparent touch panel |
| KR101829495B1 (ko) * | 2011-01-20 | 2018-02-14 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 터치 패널용 코팅 조성물, 코트막 및 터치 패널 |
| US8557391B2 (en) * | 2011-02-24 | 2013-10-15 | Guardian Industries Corp. | Coated article including low-emissivity coating, insulating glass unit including coated article, and/or methods of making the same |
| WO2012128893A1 (en) * | 2011-02-24 | 2012-09-27 | Cypress Semiconductor Corporation | Single layer touch sensor |
| TWM410926U (en) * | 2011-03-23 | 2011-09-01 | Derlead Invest Ltd | Projected capacitive touch control panel |
| US20120242606A1 (en) * | 2011-03-23 | 2012-09-27 | Synaptics Incorporated | Trace design for reduced visibility in touch screen devices |
| JP2012226498A (ja) * | 2011-04-18 | 2012-11-15 | Gunze Ltd | タッチスイッチ |
| TWM416814U (en) * | 2011-05-05 | 2011-11-21 | Mastouch Optoelectronics Technologies Co Ltd | Touch panel and touch control electronic device with photoelectric conversion capability |
| CN202502482U (zh) * | 2012-02-13 | 2012-10-24 | 东元奈米应材股份有限公司 | 触控面板单元及显示装置 |
| US9354755B2 (en) | 2012-11-27 | 2016-05-31 | Guardian Industries Corp. | Projected capacitive touch panel with a silver-inclusive transparent conducting layer(s) |
| US9557871B2 (en) | 2015-04-08 | 2017-01-31 | Guardian Industries Corp. | Transparent conductive coating for capacitive touch panel or the like |
| US9766763B2 (en) | 2014-12-26 | 2017-09-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Functional panel, light-emitting panel, display panel, and sensor panel |
-
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2018
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10444900B2 (en) | 2016-05-26 | 2019-10-15 | Samsung Display Co., Ltd. | Touch sensor |
| US10592052B2 (en) | 2016-05-26 | 2020-03-17 | Samsung Display Co., Ltd. | Touch sensor |
| US10915213B2 (en) | 2016-05-26 | 2021-02-09 | Samsung Display Co., Ltd. | Touch sensor |
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