KR20150083773A - Antistatic surface protection film - Google Patents

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KR20150083773A
KR20150083773A KR1020140161392A KR20140161392A KR20150083773A KR 20150083773 A KR20150083773 A KR 20150083773A KR 1020140161392 A KR1020140161392 A KR 1020140161392A KR 20140161392 A KR20140161392 A KR 20140161392A KR 20150083773 A KR20150083773 A KR 20150083773A
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타케시 나가쿠라
류스케 시마구치
료 하세가와
히로유키 고바야시
마코토 가스가
히로토 니이미
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후지모리 고교 가부시키가이샤
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Abstract

The present invention relates to an antistatic surface protection film which causes less contamination on a object, is not deteriorated as time passes, and has excellent separation antistatic performance. The antistatic surface protection film is manufactured by the steps of: forming, on one side of a base film (1) made of a transparent resin, an adhesive agent layer (2) made of an adhesive composition, which comprises an acrylic polymer of a copolymer, and additionally comprises a two or greater functional isocyanate compound (F), a crosslinking promoter (G), and a ketoenol tautomer compound (H); and attaching a separation film (5), having a separation agent layer (4) including an antistatic agent stacked on one side of a resin film (3), to a surface of the adhesive agent layer (2) by interposing the separation agent layer (4). The separation agent layer (4) is formed with a resin composition including a separation agent including dimethyl polysiloxane as a main ingredient, a silicon-based compound which is in a liquid state at 20°C, and an antistatic agent. Separation charge voltage of the adhesive agent layer (2) is ±0.6 kV or less.

Description

대전 방지 표면 보호 필름{ANTISTATIC SURFACE PROTECTION FILM}ANTISTATIC SURFACE PROTECTION FILM [0001]

본 발명은 편광판, 위상차판, 디스플레이용 렌즈 필름 등의 광학 부품(이하, 광학용 필름으로 칭하는 경우도 있다)의 표면에 첩합되는 대전 방지 표면 보호 필름에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 피착체에 대한 오염이 적고, 또한 경시 열화되지 않으며 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 대전 방지 표면 보호 필름을 제공하는 것이다.The present invention relates to an antistatic surface protective film that is adhered to the surface of an optical component such as a polarizing plate, a retarder, and a lens film for display (hereinafter, sometimes referred to as an optical film). More particularly, the present invention is to provide an antistatic surface protective film which is less contaminated with an adherend, does not deteriorate with time, and has excellent peeling electrification preventing performance.

편광판, 위상차판, 디스플레이용 렌즈 필름, 반사 방지 필름, 하드 코트 필름, 터치 패널용 투명 도전성 필름 등의 광학용 필름 및 이를 사용한 디스플레이 등의 광학 제품을 제조, 반송할 때는 당해 광학용 필름의 표면에 표면 보호 필름을 첩합하여, 후공정에 있어서의 표면의 오염이나 흠집을 방지하는 것이 이루어지고 있다. 제품인 광학용 필름의 외관 검사는 표면 보호 필름을 박리하였다가 다시 첩합하는 수고를 생략하여 작업 효율을 높이기 위해, 표면 보호 필름을 광학용 필름에 첩합한 상태로 행하는 경우도 있다.When manufacturing and transporting an optical product such as a polarizing plate, a retardation plate, a display lens film, an antireflection film, a hard coat film, a transparent conductive film for a touch panel, and a display using the same, And the surface protective film is laminated to prevent contamination and scratches on the surface in a subsequent step. The appearance inspection of the optically-usable film may be carried out in a state in which the surface-protective film is stuck to the optical film in order to eliminate the labor of peeling the surface-protective film and joining it again to improve the working efficiency.

종래부터, 기재 필름의 한쪽 면에 점착제층을 형성한 표면 보호 필름이 광학 제품의 제조 공정에 있어서, 흠집이나 오염의 부착을 방지하기 위해 일반적으로 사용되고 있다. 표면 보호 필름은 미(微)점착력의 점착제층을 개재하여 광학용 필름에 첩합된다. 점착제층을 미점착력으로 하는 것은 사용이 끝난 표면 보호 필름을 광학용 필름의 표면으로부터 박리하여 제거할 때 용이하게 박리할 수 있고, 또한 점착제가 피착체인 제품의 광학용 필름에 부착되어 잔류하지 않도록(이른바, 점착제 잔여물의 발생을 방지) 하기 위함이다.Background Art [0002] Conventionally, a surface protective film having a pressure-sensitive adhesive layer formed on one surface of a base film is generally used to prevent scratches or contamination from adhering to the surface of a base film in the production process of optical products. The surface protective film is bonded to the optical film through a pressure sensitive adhesive layer. Adhesive strength of the pressure sensitive adhesive layer can be easily detached when the used surface protective film is peeled off from the surface of the optical film and the adhesive is not adhered to the optical film of the product So as to prevent the occurrence of so-called adhesive residue).

근래에는 액정 디스플레이 패널의 생산 공정에 있어서, 광학용 필름 위에 첩합된 표면 보호 필름을 박리하여 제거할 때 발생하는 박리 대전압에 의해, 액정 디스플레이 패널의 표시 화면을 제어하기 위한 드라이버 IC 등의 회로 부품이 파괴되는 현상이나, 액정 분자의 배향이 손상되는 현상이 발생 건수는 적으나 일어나고 있다.2. Description of the Related Art In recent years, in a production process of a liquid crystal display panel, a circuit component such as a driver IC for controlling a display screen of a liquid crystal display panel by a peeling electrification voltage generated when a surface protective film adhered on an optical film is peeled and removed And the phenomenon that the orientation of the liquid crystal molecules is damaged is small.

또한, 액정 디스플레이 패널의 소비 전력을 저감시키기 위해 액정 재료의 구동 전압이 낮아지고 있고, 이에 수반하여 드라이버 IC의 파괴 전압도 낮아지고 있다. 최근에는 박리 대전압을 ＋0.7㎸∼-0.7㎸ 범위 내로 하는 것이 요구되고 있다.Further, in order to reduce the power consumption of the liquid crystal display panel, the driving voltage of the liquid crystal material is lowered, and accordingly the breakdown voltage of the driver IC is lowered. In recent years, it has been required to set the peeling electrification voltage within the range of +0.7 kV to -0.7 kV.

이 때문에, 표면 보호 필름을 피착체인 광학용 필름으로부터 박리할 때에 박리 대전압이 높은 것에 의한 문제를 방지하기 위해, 박리 대전압을 낮게 억제하기 위한 대전 방지제를 포함하는 점착제층을 사용한 표면 보호 필름이 제안되고 있다.For this reason, in order to prevent a problem caused by a high peeling electrification voltage when peeling the surface protective film from the optical film to be peeled off, a surface protective film using a pressure sensitive adhesive layer containing an antistatic agent for suppressing the peeling electrification voltage Has been proposed.

예를 들면, 특허문헌 1에는 알킬트리메틸암모늄염, 수산기 함유 아크릴계 폴리머, 폴리이소시아네이트로 이루어지는 점착제를 사용한 표면 보호 필름이 개시되어 있다.For example, Patent Document 1 discloses a surface protective film using a pressure-sensitive adhesive composed of an alkyltrimethylammonium salt, a hydroxyl group-containing acrylic polymer, and a polyisocyanate.

또한, 특허문헌 2에는 이온성 액체와 산가가 1.0 이하인 아크릴 폴리머로 이루어지는 점착제 조성물 및 그것을 사용한 점착 시트류가 개시되어 있다.Patent Document 2 discloses a pressure-sensitive adhesive composition comprising an ionic liquid and an acrylic polymer having an acid value of 1.0 or less, and pressure-sensitive adhesive sheets using the same.

또한, 특허문헌 3에는 아크릴 폴리머, 폴리에테르폴리올 화합물, 음이온 흡착성 화합물에 의해 처리된 알칼리 금속염으로 이루어지는 점착 조성물 및 그것을 사용한 표면 보호 필름이 개시되어 있다.Patent Document 3 discloses a pressure-sensitive adhesive composition comprising an alkali metal salt treated with an acrylic polymer, a polyether polyol compound, and an anion adsorptive compound, and a surface protective film using the same.

또한, 특허문헌 4에는 이온성 액체, 알칼리 금속염, 유리 전이 온도 0℃ 이하의 폴리머로 이루어지는 점착제 조성물 및 그것을 사용한 표면 보호 필름이 개시되어 있다.Patent Document 4 discloses a pressure-sensitive adhesive composition comprising an ionic liquid, an alkali metal salt, a polymer having a glass transition temperature of 0 ° C or lower, and a surface protective film using the pressure-sensitive adhesive composition.

또한, 특허문헌 5, 6에는 표면 보호 필름의 점착제층 내에 폴리에테르 변성 실리콘을 혼합하는 것이 개시되어 있다.Patent Documents 5 and 6 disclose mixing polyether-modified silicone in the pressure-sensitive adhesive layer of the surface protective film.

일본 공개특허공보 2005-131957호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-131957 일본 공개특허공보 2005-330464호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2005-330464 일본 공개특허공보 2005-314476호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2005-314476 일본 공개특허공보 2006-152235호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2006-152235 일본 공개특허공보 2009-275128호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-275128 일본 특허공보 제4537450호Japanese Patent Publication No. 4537450

상기 특허문헌 1∼4에서는 점착제층의 내부에 대전 방지제가 첨가되어 있으나, 점착제층의 두께가 두꺼워짐에 따라, 또한, 경과 시간이 지남에 따라, 표면 보호 필름이 첩합된 피착체에 대해서 점착제층에서 피착체로 이행되는 대전 방지제의 양이 많아진다. 또한, LR(Low Reflective) 편광판이나 AG(Anti Glare)-LR 편광판 등의 광학용 필름에서는 광학용 필름의 표면이 실리콘 화합물이나 불소 화합물 등으로 방오 처리되어 있기 때문에, 이러한 광학용 필름에 사용되는 표면 보호 필름을 피착체인 광학용 필름에서 박리할 때의 박리 대전압이 높아진다.In the above Patent Documents 1 to 4, an antistatic agent is added to the pressure-sensitive adhesive layer. However, as the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer becomes thicker and as time elapses, The amount of the antistatic agent transferred to the adherend increases. Further, in optical films such as LR (Low Reflective) polarizing plates and AG (Anti Glare) -LR polarizing plates, the surface of the optical film is treated with a silicone compound or a fluorine compound, The peeling electrification voltage is high when the protective film is peeled off from the optical film as the adhesion.

또한, 특허문헌 5, 6에 기재된 점착제층 내에 폴리에테르 변성 실리콘을 혼합했을 경우에는 표면 보호 필름의 점착력을 미조정하는 것이 곤란하다. 또한, 점착제층 내에, 폴리에테르 변성 실리콘이 혼합되어 있기 때문에, 점착제 조성물을 기재 필름 위에 도공·건조시키는 조건이 변화하면, 표면 보호 필름이 형성된 점착제층의 표면 특성이 미묘하게 변화한다. 또한, 광학용 필름의 표면을 보호한다는 관점에서, 점착제층의 두께를 극단적으로 얇게 할 수 없다. 이 때문에, 점착제층의 두께에 따라, 점착제층 내에 혼합하는 폴리에테르 변성 실리콘의 첨가량을 늘릴 필요가 있어, 결과적으로, 피착체 표면을 오염시키기 쉬워져, 경시에서의 점착력이나 피착체에 대한 오염성이 변화한다.Further, when polyether-modified silicone is mixed in the pressure-sensitive adhesive layer described in Patent Documents 5 and 6, it is difficult to fine-tune the adhesive force of the surface protective film. Further, since the polyether-modified silicone is mixed in the pressure-sensitive adhesive layer, if the conditions for coating and drying the pressure-sensitive adhesive composition on the base film are changed, the surface characteristics of the pressure-sensitive adhesive layer on which the surface- Further, from the viewpoint of protecting the surface of the optical film, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer can not be made extremely thin. Therefore, it is necessary to increase the amount of the polyether-modified silicone to be mixed in the pressure-sensitive adhesive layer depending on the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer. As a result, the adherend surface tends to be contaminated, Change.

근래에는 3D 디스플레이(입체시 디스플레이)의 보급에 수반하여, 편광판 등의 광학용 필름의 표면에 FPR(Film Patterned Retarder) 필름을 첩합한 것이 있다. 편광판 등의 광학용 필름의 표면에 첩합되어 있던 표면 보호 필름을 박리한 후에 FPR 필름이 첩합된다. 그러나, 편광판 등의 광학용 필름의 표면이 표면 보호 필름에 사용되고 있는 점착제나 대전 방지제로 오염되어 있으면, FPR 필름이 접착되기 어렵다는 문제가 있다. 이 때문에, 당해 용도에 사용하는 표면 보호 필름은 피착체에 대한 오염이 적은 것이 요구되고 있다.2. Description of the Related Art In recent years, there has been an FPR (Film Patterned Retarder) film laminated on a surface of an optical film such as a polarizing plate in conjunction with the spread of a 3D display (stereoscopic display). The FPR film is bonded after peeling the surface protective film that has been adhered to the surface of the optical film such as a polarizing plate. However, if the surface of an optical film such as a polarizing plate is contaminated with a pressure-sensitive adhesive or an antistatic agent used in the surface protective film, there is a problem that the FPR film is difficult to adhere. For this reason, it is required that the surface protective film used in this application is less contaminated with the adherend.

한편, 몇 군데의 액정 패널 메이커에서는 표면 보호 필름의 피착체에 대한 오염성의 평가 방법으로서, 편광판 등의 광학용 필름에 첩합되어 있는 표면 보호 필름을 한 번 박리하고, 기포를 혼입시킨 상태로 재첩합한 것을 소정 조건에서 가열 처리한 후, 표면 보호 필름을 박리하여 피착체의 표면을 관찰하는 방법이 채용되고 있다. 이러한 평가 방법에서는 피착체의 표면 오염이 미량이어도, 기포를 혼입시킨 부분과 표면 보호 필름의 점착제가 접하고 있던 부분에 피착체의 표면 오염의 차이가 있으면, 기포의 흔적(기포 얼룩이라고 하는 경우도 있다)으로서 남는다. 이 때문에, 피착체의 표면에 대한 오염성의 평가 방법으로는 매우 엄격한 평가 방법이 된다. 근래에는 이러한 엄격한 평가 방법에 의한 판정 결과여도 피착체의 표면에 대한 오염성에 문제가 없는 표면 보호 필름이 요구되고 있다. 그러나, 종래부터 제안되고 있는 대전 방지제를 함유하는 점착제층을 사용한 표면 보호 필름은 당해 과제를 해결하는 것이 곤란한 상황이었다.On the other hand, in some liquid crystal panel manufacturers, as a method for evaluating the stain resistance of an adherend of a surface protective film, a surface protective film adhered to an optical film such as a polarizing plate is once peeled off, A heat treatment is conducted under a predetermined condition, and then the surface protective film is peeled off to observe the surface of the adherend. In this evaluation method, even if the surface contamination of the adherend is minute, if there is a difference in surface contamination of the adherend at the portion where the air bubbles are mixed and the surface protective film is in contact with the pressure sensitive adhesive, there may be a trace of air bubbles ). Therefore, the evaluation method of the stain on the surface of the adherend is a very strict evaluation method. In recent years, there has been a demand for a surface protective film which does not cause contamination on the surface of an adherend even when the result of the determination is determined by such a strict evaluation method. However, the surface protective film using the pressure-sensitive adhesive layer containing a conventionally proposed antistatic agent has been difficult to solve the problems.

이 때문에, 광학용 필름에 사용하는 표면 보호 필름으로서, 피착체에 대한 오염이 매우 적고, 또한, 피착체에 대한 오염성이 경시 변화되지 않는 것이 필요로 되고 있다. 또한 피착체로부터 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제한 표면 보호 필름이 요구되고 있다.For this reason, it is required that the surface protective film used for the optical film has very little contamination on the adherend, and that the stain resistance to the adherend does not change over time. And a surface protective film in which the peeling electrification voltage at the time of peeling from the adherend is suppressed is required.

본 발명자들은 이 과제를 해결하기 위하여 예의 검토를 행하였다. The present inventors have conducted extensive studies to solve this problem.

피착체에 대한 오염이 적고, 또한 대전 방지 성능의 경시 변화도 작게 하기 위해서는 피착체를 오염시키고 있는 원인으로 추측되는 대전 방지제의 첨가량을 감량시킬 필요가 있다. 그러나, 대전 방지제의 첨가량을 감량시켰을 경우에는 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리할 때의 박리 대전압이 높아진다. 본 발명자들은 대전 방지제의 첨가량의 절대량을 증가시키지 않으며, 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리할 때의, 박리 대전압을 낮게 억제하는 방법에 대해 검토하였다. 그 결과, 점착제 조성물 내에 대전 방지제를 첨가하고 혼합하여 점착제층을 형성하는 것이 아니라, 점착제 조성물을 도공·건조시켜 점착제층을 적층한 후에 점착제층의 표면에 적당량의 대전 방지제 성분을 부여함으로써, 표면 보호 필름을 피착체인 광학용 필름에서 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제할 수 있다는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하였다.It is necessary to reduce the addition amount of the antistatic agent, which is presumed to be a cause of contaminating the adherend, in order to reduce contamination to the adherend and to reduce the change with time of the antistatic performance. However, when the addition amount of the antistatic agent is reduced, the peeling electrification voltage when peeling the surface protective film from the adherend becomes high. The present inventors have studied a method of suppressing the peeling electrification voltage when the surface protective film is peeled from the adherend without increasing the absolute amount of the antistatic agent added. As a result, it has been found that, instead of adding an antistatic agent into the pressure-sensitive adhesive composition and mixing them to form a pressure-sensitive adhesive layer, the pressure-sensitive adhesive composition is coated and dried to laminate the pressure- It is possible to suppress the peeling electrification voltage when the film is peeled off from the optically-usable film as the adherend, thereby completing the present invention.

본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 피착체에 대한 오염이 적고, 또한 경시 열화되지 않으며 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 대전 방지 표면 보호 필름을 제공하는 것을 과제로 한다.An object of the present invention is to provide an antistatic surface protective film which has less stain on an adherend, does not deteriorate with time, and has excellent peeling electrification preventing performance.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름은 점착제 조성물을 도공·건조시켜 점착제층을 적층한 후에, 그 점착제층의 표면에 적당량의 20℃에서 액체인 실리콘계 화합물 및 대전 방지제를 부여함으로써, 피착체에 대한 오염성을 낮게 억제하면서, 피착체인 광학용 필름으로부터 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제하는 것을 기술 사상으로 하고 있다.In order to solve the above problems, the antistatic surface protective film of the present invention is produced by laminating a pressure-sensitive adhesive composition by coating and drying the pressure-sensitive adhesive composition, and then applying a silicone compound and an antistatic agent It is possible to reduce the peeling electrification voltage at the time of peeling from the optical film as the adherend while suppressing the staining property to the adherend to a low level.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 대전 방지 표면 보호 필름으로서, 다음의 공정(1)∼(2), In order to solve the above problems, the present invention provides an antistatic surface protective film comprising the following steps (1) to (2)

공정(1): 투명성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름의 한쪽 면에, (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 적어도 1종과, 공중합 가능한 모노머군으로서 (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머와, (C) 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머와, (D) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머와, (E) 수산기를 함유하지 않는 질소 함유 비닐 모노머 또는 알콕시기 함유 알킬(메타)아크릴레이트 모노머로 이루어지는 공중합 가능한 모노머군 중에서 선택된 적어도 1종을 포함하는 공중합체의 아크릴계 폴리머로 이루어지고, 추가로 (F) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물과, (G) 가교 촉진제와, (H) 케토엔올 호변이성체 화합물을 함유하는 점착제 조성물로 이루어지는 점착제층을 형성하는 공정과,(B) a monomer copolymerizable with at least one of (A) at least one (meth) acrylic ester monomer having an alkyl group having from 4 to 18 carbon atoms on the one surface of a base film made of a resin having transparency, (C) a copolymerizable monomer containing a carboxyl group, (D) a polyalkylene glycol mono (meth) acrylate monomer, and (E) a nitrogen-containing vinyl monomer or alkoxy (F) a bifunctional or higher isocyanate compound, (G) a crosslinking accelerator, and (B) an isocyanate compound having at least two functional groups and at least one functional group selected from the group consisting of (meth) acrylic acid, , (H) a pressure-sensitive adhesive composition comprising a pressure-sensitive adhesive composition containing a keto-enol tautomer compound,

공정(2): 상기 점착제층의 표면에, 수지 필름의 한쪽 면에 대전 방지제를 함유하는 박리제층이 적층된 박리 필름을, 상기 박리제층을 개재하여 첩합하는 공정을 순서대로 거쳐 제작되어 이루어지고, 상기 박리제층이 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와, 20℃에서 액체인 실리콘계 화합물과, 상기 대전 방지제를 포함하는 수지 조성물에 의해 형성되어 이루어지고, 상기 점착제층의 박리 대전압이 ±0.6㎸ 이하인 대전 방지 표면 보호 필름을 제공한다.Step (2): a step of, on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, a step of adhering a release film having a release agent layer containing an antistatic agent on one side of the resin film laminated via the release agent layer in this order, Wherein the releasing agent layer is formed of a releasing agent comprising dimethylpolysiloxane as a main component, a silicone compound as a liquid at 20 占 폚 and a resin composition containing the antistatic agent, wherein the peeling electrification voltage of the pressure- Resistant surface protective film.

또한, 상기 (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머가 8-히드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, N-히드록시(메타)아크릴아미드, N-히드록시메틸(메타)아크릴아미드, N-히드록시에틸(메타)아크릴아미드로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상인 것이 바람직하다.Further, the copolymerizable monomer (B) containing a hydroxyl group is preferably selected from the group consisting of 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl At least one compound selected from the group consisting of N-hydroxyethyl (meth) acrylate, N-hydroxy (meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide and N-hydroxyethyl desirable.

또한, 상기 (C) 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머가, (메타)아크릴산, 카르복시에틸(메타)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸헥사히드로프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시프로필헥사히드로프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸말레산, 카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸테트라히드로프탈산으로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상인 것이 바람직하다.The copolymerizable monomer containing (C) a carboxyl group is preferably at least one monomer selected from the group consisting of (meth) acrylic acid, carboxyethyl (meth) acrylate, carboxypentyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethylhexahydrophthalic acid, (Meth) acryloyloxyethyl methacrylate, 2- (meth) acryloyloxypropyl hexahydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylphthalic acid, 2- , Carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate, and 2- (meth) acryloyloxyethyltetrahydrophthalic acid are preferable.

또한, 상기 (D) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머가, 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트, 에톡시폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트 중에서 선택된 적어도 1종 이상인 것이 바람직하다.In addition, the polyalkylene glycol mono (meth) acrylate monomer (D) is preferably at least one selected from the group consisting of polyalkylene glycol mono (meth) acrylate, methoxypolyalkylene glycol (meth) acrylate, ethoxypolyalkylene glycol ) Acrylate is preferable.

또한, 상기 아크릴계 폴리머가 상기 공중합 가능한 모노머군으로서 상기 (E) 수산기를 함유하지 않는 질소 함유 비닐 모노머 또는 알콕시기 함유 알킬(메타)아크릴레이트 모노머의 적어도 1종 이상을 포함하는 것이 바람직하다.It is preferable that the acryl-based polymer includes at least one or more of nitrogen-containing vinyl monomers or alkoxy group-containing alkyl (meth) acrylate monomers (E) that do not contain a hydroxyl group as the copolymerizable monomer group.

또한, 상기 (F) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물로서 2관능 이소시아네이트 화합물로는, 비고리형 지방족 이소시아네이트 화합물로서, 디이소시아네이트 화합물과 디올 화합물을 반응시켜 생성된 화합물이고, 디이소시아네이트 화합물로는, 지방족 디이소시아네이트로서, 테트라메틸렌디이소시아네이트, 펜타메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 1종과, 디올 화합물로는, 2-메틸-1,3-프로판디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올, 2-메틸-2-프로필-1,3-프로판디올, 2-에틸-2-부틸-1,3-프로판디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올모노히드록시피발레이트, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 1종으로 이루어지고, 3관능 이소시아네이트 화합물로는, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 뷰렛체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 뷰렛체, 톨릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 수첨 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 톨릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 수첨 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체로 이루어지는 것이 바람직하다.The bifunctional isocyanate compound (F) as the bifunctional or higher functional isocyanate compound is a compound produced by reacting a diisocyanate compound with a diol compound as an alicyclic aliphatic isocyanate compound. Examples of the diisocyanate compound include aliphatic diisocyanate compounds , One selected from the group consisting of tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate and lysine diisocyanate, and diol compounds include 2-methyl-1,3-propanediol Propylene-1,3-propanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, 3-methyl- 5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol monohydroxypivalate, polyethylene glycol, and polypropylene glycol Examples of the trifunctional isocyanate compound include an isocyanurate compound of a hexamethylene diisocyanate compound, an isocyanurate compound of an isophorone diisocyanate compound, an adduct of an hexamethylene diisocyanate compound, an isophorone compound of an isophorone An isocyanurate compound of a tolylene diisocyanate compound, an isocyanurate compound of a xylylene diisocyanate compound, an isocyanurate compound of a xylylene diisocyanate compound, an isocyanurate compound of a xylylene diisocyanate compound, an isocyanurate compound of a xylylene diisocyanate compound, An isocyanurate of a xylylene diisocyanate compound, an adduct of a tolylene diisocyanate compound, an adduct of a xylylene diisocyanate compound, and an adduct of a hydrogenated xylylene diisocyanate compound.

또한, 상기 점착제 조성물에, (I) HLB 값이 7∼15인 폴리에테르 변성 실록산 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.Further, it is preferable that the pressure-sensitive adhesive composition comprises (I) a polyether-modified siloxane compound having an HLB value of 7 to 15.

또한, 상기 박리제층 중의 실리콘계 화합물이 폴리에테르 변성 실리콘인 것이 바람직하다.The silicone compound in the release agent layer is preferably polyether-modified silicone.

또한, 상기 박리제층 중의 상기 대전 방지제가 알칼리 금속염인 것이 바람직하다.It is preferable that the antistatic agent in the releasing agent layer is an alkali metal salt.

또한, 상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 투명성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름의 한쪽 면에, (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 적어도 1종과, 공중합 가능한 모노머군으로서 (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머와, (C) 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머와, (D) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머와, (E) 수산기를 함유하지 않는 질소 함유 비닐 모노머 또는 알콕시기 함유 알킬(메타)아크릴레이트 모노머로 이루어지는 공중합 가능한 모노머군 중에서 선택된 적어도 1종을 포함하는 공중합체의 아크릴계 폴리머로 이루어지는 점착제층과, 수지 필름의 한쪽 면에 대전 방지제를 함유하는 박리제층이 적층된 박리 필름이 상기 점착제층과 상기 박리제층이 접하도록 순서대로 적층하여 이루어지고, 상기 박리제층이 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와, 20℃에서 액체인 실리콘계 화합물과, 대전 방지제를 포함하는 수지 조성물에 의해 형성되어 이루어지고, 상기 점착제층의 박리 대전압이 ±0.6㎸ 이하인 대전 방지 표면 보호 필름을 제공한다.In order to solve the above-described problems, the present invention relates to a method for producing a (meth) acrylate-based polymer film, which comprises: (A) (C) a copolymerizable monomer containing a carboxyl group, (D) a polyalkylene glycol mono (meth) acrylate monomer, (E) a polymerizable monomer containing a hydroxyl group A pressure-sensitive adhesive layer composed of an acrylic polymer of a copolymer comprising at least one selected from the group consisting of a nitrogen-containing vinyl monomer or a copolymerizable monomer comprising an alkoxy group-containing alkyl (meth) acrylate monomer; Is peeled off from the peeling agent layer so that the peeling agent layer and the peeling agent layer are in contact with each other in order Wherein the releasing agent layer is formed from a releasing agent comprising dimethylpolysiloxane as a main component, a silicone compound as a liquid at 20 占 폚, and a resin composition comprising an antistatic agent, wherein the peeling electrification voltage of the pressure- An antistatic surface protective film having a thickness of 0.6 kV or less.

또한, 상기 박리제층 중의 실리콘계 화합물이 폴리에테르 변성 실리콘인 것이 바람직하다.The silicone compound in the release agent layer is preferably polyether-modified silicone.

또한, 상기 박리제층 중의 상기 대전 방지제가 알칼리 금속염인 것이 바람직하다.It is preferable that the antistatic agent in the releasing agent layer is an alkali metal salt.

또한, 본 발명은 상기 대전 방지 표면 보호 필름이 첩합되어 이루어지는 광학용 필름을 제공한다.The present invention also provides an optical film in which the antistatic surface protective film is bonded.

또한, 본 발명은 상기 대전 방지 표면 보호 필름이 첩합되어 이루어지는 광학 부품을 제공한다.The present invention also provides an optical component in which the antistatic surface protective film is bonded.

본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름은 피착체에 대한 오염이 적고, 피착체에 대한 저오염성이 경시 변화하지 않는다. 또한, 본 발명에 의하면, LR 편광판이나 AG-LR 편광판 등의, 피착체의 표면이 실리콘 화합물이나 불소 화합물 등으로 방오 처리되어 있는 광학용 필름이어도, 대전 방지 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리할 때에 발생하는 박리 대전압을 낮게 억제할 수 있고, 경시 열화되지 않으며 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 대전 방지 표면 보호 필름을 제공할 수 있다.The antistatic surface protective film of the present invention has little fouling on the adherend, and does not change the stain on the adherend over time. Further, according to the present invention, even when the surface of an adherend, such as an LR polarizing plate or an AG-LR polarizing plate, is an optical film having an anti-fouling treatment with a silicone compound, a fluorine compound or the like, when an antistatic surface protective film is peeled from an adherend It is possible to provide an antistatic surface protective film having a peeling electrification preventing performance which can suppress the generated peeling electrification voltage to a low level and does not deteriorate with time.

본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름에 의하면, 광학용 필름의 표면을 확실히 보호할 수 있는 점에서 생산성의 향상과 수율의 향상을 도모할 수 있다.According to the antistatic surface protective film of the present invention, productivity can be improved and yield can be improved because the surface of the optical film can be reliably protected.

도 1은 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름의 개념을 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름으로부터, 박리 필름을 박리한 상태를 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 광학 부품의 실시예의 하나를 나타낸 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing the concept of an antistatic surface protective film of the present invention.
2 is a cross-sectional view showing a state in which a release film is peeled from an antistatic surface protective film of the present invention.
3 is a cross-sectional view showing one embodiment of the optical component of the present invention.

이하, 실시형태에 기초하여, 본 발명을 자세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments.

도 1은 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름의 개념을 나타낸 단면도이다. 이 대전 방지 표면 보호 필름(10)은 투명한 기재 필름(1)의 한쪽 면의 표면에, 점착제층(2)이 형성되어 있다. 이 점착제층(2)의 표면에는 수지 필름(3)의 표면에 박리제층(4)이 형성된 박리 필름(5)이 첩합되어 있다.1 is a cross-sectional view showing the concept of an antistatic surface protective film of the present invention. In this antistatic surface protective film 10, a pressure-sensitive adhesive layer 2 is formed on the surface of one side of the transparent base film 1. On the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (2), a release film (5) having a release agent layer (4) formed on the surface of the resin film (3) is bonded.

본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 사용되는 기재 필름(1)으로는 투명성 및 가요성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름이 사용된다. 이로써, 대전 방지 표면 보호 필름을 피착체인 광학 부품에 첩합한 상태로, 광학 부품의 외관 검사를 행할 수 있다. 기재 필름(1)으로서 사용하는 투명성을 갖는 수지로 이루어지는 필름은 바람직하게는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에틸렌이소프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르 필름이 사용된다. 폴리에스테르 필름 외에, 필요한 강도를 갖고, 또한 광학 적성을 갖는 것이면, 다른 수지로 이루어지는 필름도 사용 가능하다. 기재 필름(1)은 무연신 필름이어도 되고, 1축 또는 2축 연신된 필름이어도 된다. 또한, 연신 필름의 연신 배율이나, 연신 필름의 결정화에 수반하여 형성되는 축방법의 배향 각도를 특정값으로 제어해도 된다.As the base film (1) used in the antistatic surface protective film (10) according to the present invention, a base film made of a resin having transparency and flexibility is used. Thus, the appearance of the optical component can be inspected with the antistatic surface protective film adhered to the optical component as the adherend. A film made of a resin having transparency used as the base film (1) is preferably a polyester film such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene isophthalate or polybutylene terephthalate. In addition to the polyester film, films made of other resins can be used as long as they have the necessary strength and optical suitability. The base film (1) may be a non-oriented film or a uniaxially or biaxially oriented film. Further, the stretching magnification of the stretched film or the orientation angle of the axial method formed by crystallization of the stretched film may be controlled to a specific value.

본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 사용되는 기재 필름(1)의 두께는 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 12∼100㎛ 정도의 두께가 바람직하고, 20∼50㎛ 정도의 두께이면 취급하기 쉽고, 보다 바람직하다.The thickness of the base film (1) used in the antistatic surface protective film (10) according to the present invention is not particularly limited. For example, the thickness is preferably about 12 to 100 mu m, more preferably about 20 to 50 mu m It is easier to handle and more preferable.

또한, 필요에 따라, 기재 필름(1)의 점착제층(2)이 형성된 면의 반대측의 면에, 표면의 오염을 방지하는 방오층, 대전 방지층, 흠집 방지 하드 코트층 등을 형성할 수 있다. 또한, 기재 필름(1)의 표면에 코로나 방전에 의한 표면 개질, 앵커 코트제의 도포 등의 이(易)접착 처리를 실시해도 된다.If necessary, an antifouling layer, antistatic layer, anti-scratch hard coat layer, or the like for preventing surface contamination can be formed on the surface of the base film 1 opposite to the surface on which the pressure-sensitive adhesive layer 2 is formed. Further, the surface of the base film 1 may be subjected to easy adhesion treatment such as surface modification by corona discharge, application of an anchor coat, and the like.

또한, 본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 사용되는 점착제층(2)은 피착체의 표면에 접착하고, 사용이 끝난 후에 간단히 박리시키고, 또한, 피착체를 오염시키기 어려운 점착제이면 특별히 한정되지 않지만, 광학용 필름에 첩합 후의 내구성 등을 고려하면 (메타)아크릴레이트 공중합체를 가교시켜 이루어지는 아크릴계 점착제를 사용하는 것이 일반적이다.The pressure-sensitive adhesive layer (2) used in the antistatic surface protective film (10) according to the present invention is a pressure-sensitive adhesive which is adhered to the surface of an adherend and is easily peeled off after use, Although not limited, it is general to use an acrylic pressure-sensitive adhesive obtained by crosslinking a (meth) acrylate copolymer in view of durability after bonding to an optical film.

특히, 아크릴계 점착제의 주제가 (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 적어도 1종과, 공중합 가능한 모노머군으로서 (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머와, (C) 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머와, (D) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머와, (E) 수산기를 함유하지 않는 질소 함유 비닐 모노머 또는 알콕시기 함유 알킬(메타)아크릴레이트 모노머로 이루어지는 공중합 가능한 모노머군 중에서 선택된 적어도 1종을 포함하는 공중합체의 아크릴계 폴리머로 이루어지는 점착제층이 바람직하다.(B) a copolymerizable monomer containing a hydroxyl group, and (C) at least one monomer selected from the group consisting of carboxyl group (s), carboxyl group (D) a polyalkylene glycol mono (meth) acrylate monomer, and (E) a nitrogen-containing vinyl monomer containing no hydroxyl group or an alkyl (meth) acrylate monomer containing an alkoxy group A pressure-sensitive adhesive layer composed of an acrylic polymer of a copolymer containing at least one selected from possible monomer groups is preferable.

또한, 상기 아크릴계 폴리머에 첨가하여, (F) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물과, (G) 가교 촉진제와, (H) 케토엔올 호변이성체 화합물을 함유하는 점착제 조성물로 이루어지는 점착제층이 바람직하다.Further, a pressure-sensitive adhesive layer comprising a pressure-sensitive adhesive composition containing (F) a bifunctional or higher isocyanate compound, (G) a crosslinking accelerator and (H) a ketoene aliphatic tautomer compound in addition to the acrylic polymer is preferable.

(A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머로는, 부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, 펜틸(메타)아크릴레이트, 헥실(메타)아크릴레이트, 헵틸(메타)아크릴레이트, 옥틸(메타)아크릴레이트, 이소옥틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 노닐(메타)아크릴레이트, 이소노닐(메타)아크릴레이트, 데실(메타)아크릴레이트, 이소데실(메타)아크릴레이트, 운데실(메타)아크릴레이트, 도데실(메타)아크릴레이트, 트리데실(메타)아크릴레이트, 테트라데실(메타)아크릴레이트, 펜타데실(메타)아크릴레이트, 헥사데실(메타)아크릴레이트, 헵타데실(메타)아크릴레이트, 옥타데실(메타)아크릴레이트, 미리스틸(메타)아크릴레이트, 이소미리스틸(메타)아크릴레이트, 세틸(메타)아크릴레이트, 이소세틸(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 이소스테아릴(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the (meth) acrylic acid ester monomer (A) in which the alkyl group has 4 to 18 carbon atoms include butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (Meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (Meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, tridecyl (Meth) acrylate, heptadecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, myristyl (meth) acrylate, isomyristyl Cetyl (meth) acrylate Sites, and the like can be mentioned stearyl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate.

공중합체의 아크릴계 폴리머의 합계를 100중량부로 할 때, (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머를 50∼95중량부의 비율로 함유하고 있는 것이 바람직하다.It is preferable that (A) the (meth) acrylic acid ester monomer having an alkyl group of C4 to C18 is contained in an amount of 50 to 95 parts by weight, when the total amount of the acrylic polymer of the copolymer is 100 parts by weight.

(B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머로는, 8-히드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트 등의 히드록시알킬(메타)아크릴레이트류나, N-히드록시(메타)아크릴아미드, N-히드록시메틸(메타)아크릴아미드, N-히드록시에틸(메타)아크릴아미드 등의 수산기 함유 (메타)아크릴아미드류 등을 들 수 있다.Examples of the copolymerizable monomer containing a hydroxyl group (B) include a copolymerizable monomer having a hydroxyl group such as 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) (Meth) acrylate such as ethyl (meth) acrylate, N-hydroxy (meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, N-hydroxyethyl (Meth) acrylamides containing hydroxyl groups.

8-히드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, N-히드록시(메타)아크릴아미드, N-히드록시메틸(메타)아크릴아미드, N-히드록시에틸(메타)아크릴아미드로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상인 것이 바람직하다.(Meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, N-hydroxy ) Acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide and N-hydroxyethyl (meth) acrylamide.

공중합체의 아크릴계 폴리머의 합계를 100중량부로 할 때, 상기 (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 0.1∼10중량부의 비율로 함유하고 있는 것이 바람직하다.When the total amount of the acrylic polymer of the copolymer is 100 parts by weight, it is preferable that the copolymerizable monomer containing the hydroxyl group (B) is contained in a proportion of 0.1 to 10 parts by weight.

(C) 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머가 (메타)아크릴산, 카르복시에틸(메타)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸헥사히드로프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시프로필헥사히드로프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸말레산, 카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸테트라히드로프탈산으로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상인 것이 바람직하다. (Meth) acrylic acid, carboxyethyl (meth) acrylate, carboxypentyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethylhexahydrophthalic acid, 2- ) Acryloyloxyethyl methacrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl methacrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl methacrylate, 2- At least one member selected from the group consisting of lactone mono (meth) acrylate and 2- (meth) acryloyloxyethyl tetrahydrophthalic acid is preferable.

공중합체의 아크릴계 폴리머의 합계를 100중량부로 할 때, 상기 (C) 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 0∼1.0중량부의 비율로 함유하고 있는 것이 바람직하다. 본 발명에 따른 점착제층에 있어서, 점착제 조성물에 (C) 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 함유시키지 않아도 된다.When the total amount of the acrylic polymer of the copolymer is 100 parts by weight, it is preferable that the copolymerizable monomer containing the carboxyl group (C) is contained at a ratio of 0 to 1.0 part by weight. In the pressure-sensitive adhesive layer according to the present invention, a copolymerizable monomer containing a carboxyl group (C) may not be contained in the pressure-sensitive adhesive composition.

(D) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머로는, 폴리알킬렌글리콜이 갖는 복수의 수산기 중, 하나의 수산기가 (메타)아크릴산에스테르로서 에스테르화된 화합물이면 된다. (메타)아크릴산에스테르기가 중합성기가 되므로, 주제 폴리머에 공중합할 수 있다. 다른 수산기는 OH인 그대로여도 되고, 메틸에테르나 에틸에테르 등의 알킬에테르나, 초산에스테르 등의 포화 카르복실산에스테르 등이 되어 있어도 된다.As the (D) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer, any of the plurality of hydroxyl groups of the polyalkylene glycol may be a compound in which one hydroxyl group is esterified as a (meth) acrylic acid ester. (Meth) acrylic acid ester group becomes a polymerizable group, it can be copolymerized with the subject polymer. The other hydroxyl group may be the same as OH, or may be an alkyl ether such as methyl ether or ethyl ether, or a saturated carboxylic acid ester such as acetic acid ester.

폴리알킬렌글리콜이 갖는 알킬렌기로는, 에틸렌기, 프로필렌기, 부틸렌기 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되지 않는다. 폴리알킬렌글리콜이 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리부틸렌글리콜 등의 2종 이상의 폴리알킬렌글리콜의 공중합체여도 된다. 폴리알킬렌글리콜의 공중합체로는, 폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜-폴리부틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜 등을 들 수 있고, 당해 공중합체는 블록 공중합체, 랜덤 공중합체여도 된다.Examples of the alkylene group of the polyalkylene glycol include an ethylene group, a propylene group, and a butylene group, but are not limited thereto. The polyalkylene glycol may be a copolymer of two or more kinds of polyalkylene glycols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol and polybutylene glycol. Examples of the copolymer of polyalkylene glycol include polyethylene glycol-polypropylene glycol, polyethylene glycol-polybutylene glycol, polypropylene glycol-polybutylene glycol, and polyethylene glycol-polypropylene glycol-polybutylene glycol. The copolymer may be a block copolymer or a random copolymer.

(D) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머가 폴리알킬렌글리콜 사슬을 구성하는 알킬렌옥사이드의 평균 반복수가 3∼14인 것이 바람직하다. 「알킬렌옥사이드의 평균 반복수」란, (D) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머의 분자 구조에 포함되는 「폴리알킬렌글리콜 사슬」의 부분에 있어서, 알킬렌옥사이드 단위가 반복되는 평균의 수이다.(D) the average number of repeats of the alkylene oxide constituting the polyalkylene glycol chain of the polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer is preferably 3 to 14. [ The "average number of repeating units of alkylene oxide" refers to the number of repeating units in the "polyalkylene glycol chain" included in the molecular structure of the polyalkylene glycol mono (meth) acrylate monomer (D) It is the average number.

(D) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머로는, 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트, 에톡시폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트 중에서 선택된 적어도 1종 이상인 것이 바람직하다.Examples of the polyalkylene glycol mono (meth) acrylate monomer (D) include polyalkylene glycol mono (meth) acrylate, methoxypolyalkylene glycol (meth) acrylate, ethoxypolyalkylene glycol (meth) And at least one selected from the group consisting of:

보다 구체적으로는, 폴리에틸렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트, 폴리부틸렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트; 메톡시폴리에틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리프로필렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 메톡시-폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 메톡시-폴리에틸렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 메톡시-폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 메톡시-폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트; 에톡시폴리에틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 에톡시폴리프로필렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 에톡시폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 에톡시-폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 에톡시-폴리에틸렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 에톡시-폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 에톡시-폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.More specifically, there may be mentioned polyolefin such as polyethylene glycol-mono (meth) acrylate, polypropylene glycol-mono (meth) acrylate, polybutylene glycol- mono (meth) acrylate, polyethylene glycol-polypropylene glycol- Poly (ethylene glycol) -polybutylene glycol-mono (meth) acrylate, polypropylene glycol-polybutylene glycol-mono (meth) acrylate, polyethylene glycol-polypropylene glycol- Rate; Methoxypolyethylene glycol- (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol- (meth) acrylate, methoxypolypropylene glycol- (meth) acrylate, methoxypolybutylene glycol- (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol- (Meth) acrylate, methoxy-polyethylene glycol-polybutylene glycol- (meth) acrylate, methoxypolypropylene glycol-polybutylene glycol- (meth) acrylate, methoxy-polyethylene glycol-polypropylene glycol-polybutylene Glycol - (meth) acrylate; Acrylate, ethoxypolyethylene glycol- (meth) acrylate, ethoxypolyethylene glycol- (meth) acrylate, ethoxypolypropylene glycol- (meth) acrylate, ethoxypolybutylene glycol- (Meth) acrylate, ethoxy-polyethylene glycol-polybutylene glycol- (meth) acrylate, ethoxy-polypropylene glycol-polybutylene glycol- Glycol- (meth) acrylate, and the like.

공중합체의 아크릴계 폴리머의 합계를 100중량부로 할 때, 상기 (D) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머를 0∼50중량부의 비율로 함유하고 있는 것이 바람직하다. 본 발명에 따른 점착제층에 있어서, 점착제 조성물에 (D) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머를 함유시키지 않아도 된다.It is preferable that the polyalkylene glycol mono (meth) acrylate monomer (D) is contained in an amount of 0 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total of the acrylic polymer of the copolymer. In the pressure-sensitive adhesive layer according to the present invention, (D) a polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer may not be contained in the pressure-sensitive adhesive composition.

상기 아크릴계 폴리머가 상기 공중합 가능한 모노머군으로서 (E) 수산기를 함유하지 않는 질소 함유 비닐 모노머 또는 알콕시기 함유 알킬(메타)아크릴레이트 모노머의 적어도 1종 이상을 포함하는 것이 바람직하다.It is preferable that the acryl-based polymer includes at least one or more of nitrogen-containing vinyl monomers (E) containing no hydroxyl group or alkyl (meth) acrylate monomers containing alkoxy groups as the copolymerizable monomer group.

(E) 중, (E-1) 질소 함유 비닐 모노머로는, 아미드 결합을 함유하는 비닐 모노머, 아미노기를 함유하는 비닐 모노머, 질소 함유의 복소 고리형 구조를 갖는 비닐 모노머 등을 들 수 있다. 보다 구체적으로는, N-비닐-2-피롤리돈, N-비닐피롤리돈, 메틸비닐피롤리돈, N-비닐피리딘, N-비닐피페리돈, N-비닐피리미딘, N-비닐피페라진, N-비닐피라진, N-비닐피롤, N-비닐이미다졸, N-비닐옥사졸, N-비닐모르폴린, N-비닐카프로락탐, N-비닐라우릴로락탐 등의, N-비닐 치환의 복소 고리형 구조를 갖는 고리형 질소 비닐 화합물; N-(메타)아크릴로일모르폴린, N-(메타)아크릴로 일피페라진, N-(메타)아크릴로일아지리딘, N-(메타)아크릴로일아제티딘, N-(메타)아크릴로일피롤리딘, N-(메타)아크릴로일피페리딘, N-(메타)아크릴로일아제판, N-(메타)아크릴로일아조칸 등의 N-(메타)아크릴로일 치환의 복소 고리형 구조를 갖는 고리형 질소 비닐 화합물; N-시클로헥실말레이미드, N-페닐말레이미드 등의 질소 원자 및 에틸렌계 불포화 결합을 고리 내에 갖는 복소 고리형 구조를 갖는 고리형 질소 비닐 화합물; (메타)아크릴아미드, N-메틸(메타)아크릴아미드, N-이소프로필 (메타)아크릴아미드, N-t-부틸(메타)아크릴아미드 등의 무치환 또는 모노알킬 치환의 (메타)아크릴아미드; N,N-디메틸(메타)아크릴아미드, N,N-디에틸(메타)아크릴아미드, N,N-디프로필아크릴아미드, N,N-디이소프로필(메타)아크릴아미드, N,N-디부틸(메타)아크릴아미드, N-에틸-N-메틸(메타)아크릴아미드, N-메틸-N-프로필(메타)아크릴아미드, N-메틸-N-이소프로필(메타)아크릴아미드 등의 디알킬 치환 (메타)아크릴아미드; N,N-디메틸아미노메틸(메타)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노프로필(메타)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노이소프로필(메타)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노부틸(메타)아크릴레이트, N,N-디에틸아미노메틸(메타)아크릴레이트, N,N-디에틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, N-에틸-N-메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, N-메틸-N-프로필아미노에틸(메타)아크릴레이트, N-메틸-N-이소프로필아미노에틸(메타)아크릴레이트, N,N-디부틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, t-부틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 디알킬아미노(메타)아크릴레이트; N,N-디메틸아미노프로필(메타)아크릴아미드, N,N-디에틸아미노프로필(메타)아크릴아미드, N,N-디프로필아미노프로필(메타)아크릴아미드, N,N-디이소프로필아미노프로필(메타)아크릴아미드, N-에틸-N-메틸아미노프로필(메타)아크릴아미드, N-메틸-N-프로필아미노프로필(메타)아크릴아미드, N-메틸-N-이소프로필아미노프로필(메타)아크릴아미드 등의 N,N-디알킬 치환 아미노프로필(메타)아크릴아미드; N-비닐포름아미드, N-비닐아세트아미드, N-비닐-N-메틸아세트아미드 등의 N-비닐카르복실산아미드류; N-메톡시메틸(메타)아크릴아미드, N-에톡시에틸(메타)아크릴아미드, N-부톡시메틸(메타)아크릴아미드, 디아세톤아크릴아미드, N,N-메틸렌비스(메타)아크릴아미드 등의 (메타)아크릴아미드류; (메타)아크릴로니트릴 등의 불포화 카르복실산니트릴류; 등을 들 수 있다.Examples of the nitrogen-containing vinyl monomer (E-1) in the component (E) include a vinyl monomer containing an amide bond, a vinyl monomer containing an amino group, and a vinyl monomer having a nitrogen-containing heterocyclic structure. More specifically, there may be mentioned N-vinyl-2-pyrrolidone, N-vinylpyrrolidone, methylvinylpyrrolidone, N- vinylpyridine, N-vinylpiperidone, N- vinylpyrimidine, Substituted vinyls such as N-vinylpyrroles, N-vinylpyrroles, N-vinylimidazoles, N-vinyloxazole, N-vinylmorpholine, N-vinylcaprolactam, N- A cyclic nitrogen vinyl compound having a heterocyclic structure; (Meth) acryloyl morpholine, N- (meth) acryloylpiperazine, N- (meth) acryloyl aziridine, N- (meth) acryloyl azetidine, N- (Meta) acryloyl-substituted complexes such as N- (meth) acryloylpiperidine, N- (meth) acryloyl azelane, N- A cyclic nitrogen vinyl compound having a cyclic structure; A cyclic nitrogen vinyl compound having a heterocyclic structure having a nitrogen atom such as N-cyclohexylmaleimide or N-phenylmaleimide and an ethylenically unsaturated bond in the ring; Unsubstituted or monoalkyl-substituted (meth) acrylamides such as N-methyl (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide and Nt-butyl (meth) acrylamide; (Meth) acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide, N, (Meth) acrylamide, N-methyl-N-methyl (meth) acrylamide, N-methyl- Substituted (meth) acrylamides; N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylate, N, (Meth) acrylate, N, N-dimethylaminobutyl (meth) acrylate, N, N-diethylaminomethyl (Meth) acrylate, N, N-dibutylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (Meth) acrylate, t-butylaminoethyl (meth) acrylate and the like; N, N-diethylaminopropyl (meth) acrylamide, N, N-dipropylaminopropyl (meth) acrylamide, N, N-diisopropylaminopropyl (Meth) acrylamide, N-methyl-N-isopropylaminopropyl (meth) acrylamide, N-methyl- N, N-dialkyl-substituted aminopropyl (meth) acrylamides such as amides; N-vinylcarboxylic acid amides such as N-vinyl formamide, N-vinylacetamide and N-vinyl-N-methylacetamide; (Meth) acrylamide, N, N-methylenebis (meth) acrylamide, and the like can be used in combination with one or more of N-methoxymethyl (meth) acrylamide, N-ethoxyethyl (Meth) acrylamides; Unsaturated carboxylic acid nitriles such as (meth) acrylonitrile; And the like.

(E-1) 질소 함유 비닐 모노머로는, 수산기를 함유하지 않는 것이 바람직하고, 수산기 및 카르복실기를 함유하지 않는 것이 보다 바람직하다. 이러한 모노머로는, 상기 예시한 모노머, 예를 들면, N,N-디알킬 치환 아미노기나 N,N-디알킬 치환 아미드기를 함유하는 아크릴계 모노머; N-비닐-2-피롤리돈, N-비닐카프로락탐, N-비닐-2-피페리돈 등의 N-비닐 치환 락탐류; N-(메타)아크릴로일모르폴린이나 N-(메타)아크릴로일피롤리딘 등의 N-(메타)아크릴로일 치환 고리형 아민류가 바람직하다.The nitrogen-containing vinyl monomer (E-1) is preferably a compound containing no hydroxyl group, and more preferably a compound containing no hydroxyl group and no carboxyl group. Examples of such monomers include acrylic monomers containing the above-exemplified monomers, for example, N, N-dialkyl substituted amino groups and N, N-dialkyl substituted amide groups; Vinyl-substituted lactams such as N-vinyl-2-pyrrolidone, N-vinylcaprolactam and N-vinyl-2-piperidone; N- (meth) acryloyl-substituted cyclic amines such as N- (meth) acryloylmorpholine and N- (meth) acryloylpyrrolidine are preferred.

(E) 중, (E-2) 알콕시기 함유 알킬(메타)아크릴레이트 모노머로는, 2-메톡시 에틸(메타)아크릴레이트, 2-에톡시에틸(메타)아크릴레이트, 2-프로폭시에틸(메타)아크릴레이트, 2-이소프로폭시에틸(메타)아크릴레이트, 2-부톡시에틸(메타)아크릴레이트, 2-메톡시프로필(메타)아크릴레이트, 2-에톡시프로필(메타)아크릴레이트, 2-프로폭시프로필(메타)아크릴레이트, 2-이소프로폭시프로필(메타)아크릴레이트, 2-부톡시프로필(메타)아크릴레이트, 3-메톡시프로필(메타)아크릴레이트, 3-에톡시 프로필(메타)아크릴레이트, 3-프로폭시프로필(메타)아크릴레이트, 3-이소프로폭시프로필(메타)아크릴레이트, 3-부톡시프로필(메타)아크릴레이트, 4-메톡시부틸(메타)아크릴레이트, 4-에톡시부틸(메타)아크릴레이트, 4-프로폭시부틸(메타)아크릴레이트, 4-이소프로폭시부틸(메타)아크릴레이트, 4-부톡시부틸(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.(Meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 2-propoxyethyl (meth) acrylate and the like can be given as examples of the alkyl (meth) (Meth) acrylate, 2-ethoxypropyl (meth) acrylate, 2-butoxyethyl (meth) acrylate, 2- (Meth) acrylate, 2-propoxypropyl (meth) acrylate, 2-isopropoxypropyl (meth) acrylate, 2-butoxypropyl Propyl (meth) acrylate, 3-butoxypropyl (meth) acrylate, 4-methoxybutyl (meth) acrylate, Acrylate, 4-ethoxybutyl (meth) acrylate, 4-propoxybutyl (meth) acrylate, 4-isopropoxybutyl Acrylate, 4-butoxybutyl (meth) acrylate, and the like.

이들 알콕시기 함유 알킬(메타)아크릴레이트 모노머는 알킬(메타)아크릴레이트에 있어서의 알킬기의 원자가 알콕시기로 치환된 구조를 갖는다.These alkoxy group-containing alkyl (meth) acrylate monomers have a structure in which the atom of the alkyl group in the alkyl (meth) acrylate is substituted with an alkoxy group.

공중합체의 아크릴계 폴리머의 합계를 100중량부로 할 때, (E-1) 수산기를 함유하지 않는 질소 함유 비닐 모노머 또는 (E-2) 알콕시기 함유 알킬(메타)아크릴레이트 모노머를 0∼20중량부의 비율로 함유하고 있는 것이 바람직하다. (E-1) 수산기를 함유하지 않는 질소 함유 비닐 모노머 및 (E-2) 알콕시기 함유 알킬(메타)아크릴레이트 모노머를 각각 1종 또는 2종 이상 병용할 수도 있다. 본 발명에 따른 점착제층에 있어서, 점착제 조성물에 (E) 수산기를 함유하지 않는 질소 함유 비닐 모노머 또는 알콕시기 함유 알킬(메타)아크릴레이트 모노머를 함유시키지 않아도 된다.(E-1) a nitrogen-containing vinyl monomer containing no hydroxyl group or an alkyl (meth) acrylate monomer containing an alkoxyl group (E-2) in an amount of from 0 to 20 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total of the acrylic- By weight. (E-1) a nitrogen-containing vinyl monomer containing no hydroxyl group and (E-2) an alkyl (meth) acrylate monomer containing an alkoxy group may be used alone or in combination. In the pressure-sensitive adhesive layer according to the present invention, the pressure-sensitive adhesive composition may not contain a nitrogen-containing vinyl monomer or alkoxy group-containing alkyl (meth) acrylate monomer (E)

(F) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물로는, 1분자 중에 적어도 2개 이상의 이소시아네이트(NCO)기를 갖는 폴리이소시아네이트 화합물로부터 선택되는, 적어도 1종 또는 2종 이상이면 된다. 폴리이소시아네이트 화합물에는 지방족계 이소시아네이트, 방향족계 이소시아네이트, 비고리형계 이소시아네이트, 지환식계 이소시아네이트 등의 분류가 있지만, 어느 것이어도 된다. 폴리이소시아네이트 화합물의 구체예로는, 헥사메틸렌디이소시아네이트(HDI), 이소포론디이소시아네이트(IPDI), 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트(TMDI) 등의 지방족계 이소시아네이트 화합물이나, 디페닐메탄디이소시아네이트(MDI), 자일릴렌디이소시아네이트(XDI), 수첨 자일릴렌디이소시아네이트(H6XDI), 디메틸디페닐렌디이소시아네이트(TOID), 톨릴렌디이소시아네이트(TDI) 등의 방향족계 이소시아네이트 화합물을 들 수 있다.(F) The bifunctional or higher isocyanate compound may be at least one selected from polyisocyanate compounds having at least two isocyanate (NCO) groups in one molecule, or at least two kinds thereof. The polyisocyanate compound may be classified into an aliphatic isocyanate, an aromatic isocyanate, a non-glycidic isocyanate, and an alicyclic isocyanate. Specific examples of the polyisocyanate compound include aliphatic isocyanate compounds such as hexamethylene diisocyanate (HDI), isophorone diisocyanate (IPDI), and trimethylhexamethylene diisocyanate (TMDI), diphenylmethane diisocyanate (MDI) Aromatic isocyanate compounds such as xylylene diisocyanate (XDI), hydrogenated xylylene diisocyanate (H6XDI), dimethyldiphenylenediisocyanate (TOID), and tolylene diisocyanate (TDI).

3관능 이상의 이소시아네이트 화합물로는, 2관능 이소시아네이트 화합물(1분자 중에 2개의 NCO기를 갖는 화합물)의 뷰렛 변성체나 이소시아누레이트 변성체, 트리메틸올프로판(TMP)이나 글리세린 등의 3가 이상의 폴리올(1분자 중에 적어도 3개 이상의 OH기를 갖는 화합물)과의 어덕트체(폴리올 변성체)등을 들 수 있다.Examples of the trifunctional or higher isocyanate compound include buret-modified or isocyanurate-modified bifunctional isocyanate compounds (compounds having two NCO groups in one molecule), trimethylolpropane (TMP), tri- or higher-valent polyols such as glycerin And an adduct (polyol modified product) with a compound having at least three OH groups in the molecule).

(F) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물로서 (F-1) 3관능 이소시아네이트 화합물만, 또는 (F-2) 2관능 이소시아네이트 화합물만을 사용하는 것도 가능하다. 또한, (F-1) 3관능 이소시아네이트 화합물과, (F-2) 2관능 이소시아네이트 화합물을 병용하는 것도 가능하다.It is also possible to use only (F-1) trifunctional isocyanate compound or (F-2) bifunctional isocyanate compound as the (F) bifunctional or higher isocyanate compound. It is also possible to use the (F-1) trifunctional isocyanate compound and the (F-2) bifunctional isocyanate compound in combination.

또한, 본 발명에 사용하는 (F-1) 3관능 이소시아네이트 화합물로는, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 뷰렛체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 뷰렛체로 이루어지는, (F-1-1) 제1 지방족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상과, 톨릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 수첨 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 톨릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 수첨 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체로 이루어지는, (F-1-2) 제2 방향족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상을 포함하는 것이 바람직하다. (F-1-1) 제1 지방족계 이소시아네이트 화합물군과 (F-1-2) 제2 방향족계 이소시아네이트 화합물군을 병용하는 것이 바람직하다. 본 발명에서는 (F-1) 3관능 이소시아네이트 화합물로서 (F-1-1) 제1 지방족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상과, (F-1-2) 제2 방향족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상을 병용함으로써, 저속 박리 영역 및 고속 박리 영역의 점착력 밸런스를 더욱 개선할 수 있다.Examples of the (F-1) trifunctional isocyanate compound used in the present invention include an isocyanurate of a hexamethylene diisocyanate compound, an isocyanurate of an isophorone diisocyanate compound, a compound of a hexamethylene diisocyanate compound At least one member selected from the group of (F-1-1) first aliphatic isocyanate compounds, which is a duct body, an adduct of an isophorone diisocyanate compound, a burette of a hexamethylene diisocyanate compound, and a burette of an isophorone diisocyanate compound An isocyanurate of a tolylene diisocyanate compound, an isocyanurate of a xylenediisocyanate compound, an isocyanurate of a hydrogenated xylylene diisocyanate compound, an adduct of a tolylene diisocyanate compound, The adducts, number of isocyanate compounds And at least one selected from the group of the second aromatic isocyanate compounds (F-1-2), which is an adduct of an adduct of aniline isocyanurate compound and an adduct of an indolinone isocyanate compound. (F-1-1) The first aliphatic isocyanate compound group and (F-1-2) second aromatic isocyanate compound group are preferably used in combination. In the present invention, at least one kind selected from among the (F-1-1) first aliphatic isocyanate compound group and (F-1-2) second aromatic isocyanate compound group as the (F-1) trifunctional isocyanate compound By using at least one selected in combination, it is possible to further improve the adhesive force balance between the low-speed peeling area and the high-speed peeling area.

또한, (F-1) 3관능 이소시아네이트 화합물은 상기 (F-1-1) 제1 지방족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상과, 상기 (F-1-2) 제2 방향족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상을 포함하고, 상기 공중합체의 100중량부에 대해, 합계하여 0.5∼5.0중량부 포함되는 것이 바람직하다. 또한, (F-1-1) 제1 지방족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상과, (F-1-2) 제2 방향족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상의 혼합 비율은 (F-1-1):(F-1-2)가 중량비로 10％:90％∼90％10％의 범위 내인 것이 바람직하다.The (F-1) trifunctional isocyanate compound may be at least one selected from the group of the above-mentioned (F-1-1) first aliphatic isocyanate compounds, , And preferably 0.5 to 5.0 parts by weight, based on 100 parts by weight of the copolymer. The mixing ratio of at least one selected from the group consisting of the first aliphatic isocyanate compound group (F-1-1) and the second aromatic isocyanate compound group (F-1-2) is (F- 1-1) :( F-1-2) is in the range of 10%: 90% to 90% and 10% by weight.

또한, 본 발명에 사용하는 (F-2) 2관능 이소시아네이트 화합물로는, 비고리형 지방족 이소시아네이트 화합물로서, 디이소시아네이트 화합물과 디올 화합물을 반응시켜 생성된 화합물인 것이 바람직하다. The (F-2) bifunctional isocyanate compound to be used in the present invention is preferably a non-cyclic aliphatic isocyanate compound, which is produced by reacting a diisocyanate compound with a diol compound.

예를 들면, 화학식 「O=C=N-X-N=C=O」(다만, X는 2가기)로 디이소시아네이트 화합물을 화학식 「HO-Y-OH」(다만, Y는 2가기)로 디올 화합물을 나타낼 때, 디이소시아네이트 화합물과 디올 화합물을 반응시켜 생성된 화합물로는, 예를 들면, 다음의 화학식 Z로 나타내는 화합물을 들 수 있다.For example, the diisocyanate compound may be represented by the formula " HO-Y-OH " (where Y is divalent) with the formula " O = C = NXN = C = O " , A compound produced by reacting a diisocyanate compound with a diol compound includes, for example, a compound represented by the following formula (Z).

[화학식 Z](Z)

O=C=N-X-(NH-CO-O-Y-O-CO-NH-X) n-N=C=OO = C = NX- (NH-CO-OYO-CO-NH-X) n -N = C = O

여기서, n은 0이상의 정수이다. n이 0인 경우, 화학식 Z는 「O=C=N-X-N=C=O」를 나타낸다. 2관능 비고리형 지방족 이소시아네이트 화합물로서 화학식 Z에 있어서 n이 0인 화합물(디올 화합물에 대해 미반응의 디이소시아네이트 화합물)을 포함해도 되지만, n이 1이상의 정수인 화합물을 필수 성분으로서 포함하는 것이 바람직하다. 2관능 비고리형 지방족 이소시아네이트 화합물은 화학식 Z에 있어서의 n이 상이한 복수의 화합물로 이루어지는 혼합물이어도 된다.Here, n is an integer of 0 or more. When n is 0, the formula Z represents " O = C = N-X-N = C = O ". As the bifunctional aliphatic isocyanate compound, a compound wherein n is 0 in the formula (Z) (diisocyanate compound unreacted with respect to the diol compound) may be contained, but it is preferable that the compound contains n as an essential component. The bifunctional aliphatic isocyanate compound may be a mixture of a plurality of compounds in which n in the general formula (Z) is different.

화학식 「O=C=N-X-N=C=O」로 나타내는 디이소시아네이트 화합물은 지방족 디이소시아네이트이다. X는 비고리형으로 지방족의 2가기인 것이 바람직하다. 상기 지방족 디이소시아네이트로는, 테트라메틸렌디이소시아네이트, 펜타메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상으로 이루어지는 것이 바람직하다.The diisocyanate compound represented by the chemical formula "O = C = N-X-N = C = O" is an aliphatic diisocyanate. X is a non-cyclic, aliphatic divalent radical. The aliphatic diisocyanate is preferably one or more selected from the group consisting of tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, and lysine diisocyanate.

화학식 「HO-Y-OH」로 나타내는 디올 화합물은 지방족 디올이다. Y는 비고리형으로 지방족의 2가기인 것이 바람직하다. 상기 디올 화합물로는, 2-메틸-1,3-프로판디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올, 2-메틸-2-프로필-1,3-프로판디올, 2-에틸-2-부틸-1,3-프로판디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올모노히드록시피발레이트, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상으로 이루어지는 것이 바람직하다.The diol compound represented by the formula " HO-Y-OH " is an aliphatic diol. Y is preferably a divalent aliphatic divalent non-cyclic. Examples of the diol compound include 2-methyl-1,3-propanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, Methyl-1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol monohydroxy pivalate, polyethylene glycol, and polypropylene glycol. It is preferable that it is composed of one kind or two kinds or more selected.

상기 (F-1) 3관능 이소시아네이트 화합물과, (F-2) 2관능 이소시아네이트 화합물의 중량비(F-1/F-2)가 1∼90인 것이 바람직하다. 상기 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해, 상기 (F) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물이 0.1∼10중량부인 것이 바람직하다.The weight ratio (F-1 / F-2) of the (F-1) trifunctional isocyanate compound and the (F-2) bifunctional isocyanate compound is preferably 1 to 90. It is preferable that the (B) isocyanate compound having a bifunctionality of (F) is 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the acryl-based polymer.

(G) 금속 킬레이트 화합물의 가교 촉진제는 폴리이소시아네이트 화합물을 가교제로 하는 경우에, 상기 공중합체와 가교제의 반응(가교 반응)에 대해 촉매로서 기능하는 물질이면 되고, 제3급 아민 등의 아민계 화합물, 금속 킬레이트 화합물, 유기 주석 화합물, 유기 납 화합물, 유기 아연 화합물 등의 유기 금속 화합물 등을 들 수 있다. 본 발명에서는 가교 촉진제로서 금속 킬레이트 화합물이나 유기 주석 화합물이 바람직하다.When the polyisocyanate compound is used as a crosslinking agent, the crosslinking accelerator of the metal chelate compound (G) may be any substance that functions as a catalyst for the reaction (crosslinking reaction) between the copolymer and the crosslinking agent, and an amine compound such as tertiary amine , A metal chelate compound, an organotin compound, an organic lead compound, and an organic zinc compound. In the present invention, a metal chelate compound or an organotin compound is preferably used as a crosslinking accelerator.

금속 킬레이트 화합물로는, 중심 금속 원자 M에 1 이상의 다좌 배위자 L이 결합한 화합물이다. 금속 킬레이트 화합물은 금속 원자 M에 결합하는 1 이상의 단좌 배위자 X를 가져도 되고, 갖지 않아도 된다. 예를 들면, 금속 원자 M이 1개인 금속 킬레이트 화합물의 화학식을 M(L)m(X)n으로 나타낼 때, m≥1, n≥0이다. m이 2 이상인 경우, m개의 L은 동일한 배위자여도 되고, 상이한 배위자여도 된다. n이 2 이상인 경우, n개의 X는 동일한 배위자여도 되고, 상이한 배위자여도 된다.The metal chelate compound is a compound in which one or more Dazoid ligands L are bonded to the central metal atom M. The metal chelate compound may or may not have at least one monocyclic ligand X bonded to the metal atom M. For example, when the chemical formula of a metal chelate compound having one metal atom M is represented by M (L) m (X) n , m? 1, n ? When m is 2 or more, m Ls may be the same ligand or different ligands. When n is 2 or more, n Xs may be the same ligand or different ligands.

금속 원자 M으로는, Fe, Ni, Mn, Cr, V, Ti, Ru, Zn, Al, Zr, Sn 등을 들 수 있다.Examples of the metal atom M include Fe, Ni, Mn, Cr, V, Ti, Ru, Zn, Al, Zr and Sn.

다좌 배위자 L로는, 아세토초산메틸, 아세토초산에틸, 아세토초산옥틸, 아세토초산올레일, 아세토초산라우릴, 아세토초산스테아릴 등의 β-케토에스테르나, 아세틸아세톤(별명 2,4-펜탄디온), 2,4-헥산디온, 벤조일아세톤 등의 β-디케톤을 들 수 있다. 이들은 케토엔올 호변이성체 화합물이고, 다좌 배위자 L에 있어서는 엔올이 탈프로톤한 에놀레이트(예를 들면, 아세틸아세토네이트)여도 된다.Examples of the polycondensate L include β-keto esters such as methyl acetoate, ethyl acetoate, octyl acetoate, oleyl acetoate, lauryl acetoacetate, and stearyl acetoate, acetyl acetone (also called 2,4-pentanedione) , 2,4-hexanedione, and benzoyl acetone. These are keto enol tautomeric compounds, and for the polydentate ligands L, enol may be a deprotonated enolate (for example, acetylacetonate).

단좌 배위자 X로는, 염소 원자, 브롬 원자 등의 할로겐 원자, 펜타노일기, 헥사노일기, 2-에틸헥사노일기, 옥타노일기, 노나노일기, 데카노일기, 도데카노일기, 옥타데카노일기 등의 아실옥시기, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기 등의 알콕시기 등을 들 수 있다.Examples of the monocyclic ligand X include acyloxys such as a halogen atom such as a chlorine atom and a bromine atom, a pentanoyl group, a hexanoyl group, a 2-ethylhexanoyl group, an octanoyl group, a nonanoyl group, a decanoyl group, a dodecanoyl group, A methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, and a butoxy group.

금속 킬레이트 화합물의 구체예로는, 트리스(2,4-펜탄디오네이트) 철(III), 철 트리스아세틸아세토네이트, 티타늄 트리스아세틸아세토네이트, 루테늄 트리스아세틸아세토네이트, 아연 비스아세틸아세토네이트, 알루미늄 트리스아세틸아세토네이트, 지르코늄 테트라키스아세틸아세토네이트, 트리스(2,4-헥산디오네이트) 철(III), 비스(2,4-헥산디오네이트)아연, 트리스(2,4-헥산디오네이트)티탄, 트리스(2,4-헥산디오네이트)알루미늄, 테트라키스(2,4-헥산디오네이트)지르코늄 등을 들 수 있다.Specific examples of the metal chelate compound include tris (2,4-pentanedionate) iron (III), iron trisacetylacetonate, titanium trisacetylacetonate, ruthenium trisacetylacetonate, zinc bisacetylacetonate, aluminum tris (2,4-hexanedionate) iron (III), bis (2,4-hexanedionate) zinc, tris (2,4-hexanedionate) titanium, Tris (2,4-hexanedionate) aluminum, tetrakis (2,4-hexanedionate) zirconium, and the like.

유기 주석 화합물로는, 디알킬주석옥사이드나, 디알킬주석의 지방산염, 제1주석의 지방산염 등을 들 수 있다. 종래, 디부틸 주석 화합물이 많이 사용되어 왔지만, 근래에는 유기 주석 화합물의 독성 문제가 지적되어, 특히 디부틸 주석 화합물에 포함되는 트리부틸주석(TBT)은 내분비 교란 물질로서도 염려되고 있다. 안전성의 관점에서, 디옥틸주석 화합물 등의 장쇄 알킬주석 화합물이 바람직하다. 구체적인 유기 주석 화합물로는, 디옥틸 주석 옥사이드, 디옥틸 주석 디라우레이트 등을 들 수 있다. 잠정적으로는 Sn 화합물도 사용 가능하지만, 장래적으로는, 보다 안전성이 높은 물질의 사용이 요구되는 추세를 감안하여, Sn에 비해 안전성이 높은 Al, Ti, Fe 등의 금속 킬레이트 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.Examples of the organotin compounds include dialkyltin oxide, dialkyltin fatty acid salts, and stannous primary fatty acid salts. Conventionally, dibutyltin compounds have been widely used. However, recently, toxicity problems of organotin compounds have been pointed out. In particular, tributyltin (TBT) contained in dibutyltin compounds is also considered as an endocrine disruptor. From the viewpoint of safety, long-chain alkyltin compounds such as dioctyltin compounds are preferable. Specific organic tin compounds include dioctyltin oxide, dioctyltin dilaurate and the like. Although Sn compounds may be used as a matter of fact, in the future, it is desirable to use metal chelate compounds such as Al, Ti, Fe, etc., which are more safe than Sn, in view of the trend of using a material having higher safety desirable.

본 발명에 따른 점착제 조성물에 있어서의 금속 킬레이트 화합물로는, 알루미늄 킬레이트 화합물, 티탄 킬레이트 화합물, 철 킬레이트 화합물, 주석 킬레이트 화합물(다만, TBT를 포함하지 않는 것)로 이루어지는 군 중에서 선택된 적어도 1종 이상 포함되는 것이 바람직하다.The metal chelate compound in the pressure-sensitive adhesive composition according to the present invention includes at least one selected from the group consisting of an aluminum chelate compound, a titanium chelate compound, an iron chelate compound, and a tin chelate compound (but not including TBT) .

(G) 금속 킬레이트 화합물의 가교 촉진제는 공중합체의 100중량부에 대해, 0.001∼0.5중량부 포함되는 것이 바람직하다.The crosslinking accelerator of the (G) metal chelate compound is preferably contained in an amount of 0.001 to 0.5 parts by weight based on 100 parts by weight of the copolymer.

(H) 케토엔올 호변이성체 화합물로는, 아세토초산메틸, 아세토초산에틸, 아세토초산옥틸, 아세토초산올레일, 아세토초산라우릴, 아세토초산스테아릴 등의 β-케토에스테르나, 아세틸아세톤, 2,4-헥산디온, 벤조일아세톤 등의 β-디케톤을 들 수 있다. 이들은 폴리이소시아네이트 화합물을 가교제로 하는 점착제 조성물에 있어서, 가교제가 갖는 이소시아네이트기를 블록함으로써, 가교제의 배합 후에 있어서의 점착제 조성물의 과잉 점도 상승이나 겔화를 억제하여, 점착제 조성물의 포트 라이프를 연장할 수 있다.Examples of the (H) ketoene tautomer compound include? -Keto esters such as methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, octyl acetoacetate, oleyl acetoacetate, lauryl acetoacetate, stearyl acetoacetate, , 4-hexanedione, and benzoyl acetone. In these pressure-sensitive adhesive compositions using a polyisocyanate compound as a cross-linking agent, blocking of an isocyanate group contained in the cross-linking agent can suppress the increase in the excess viscosity or gelation of the pressure-sensitive adhesive composition after compounding the cross-linking agent and prolong the pot life of the pressure-sensitive adhesive composition.

(H) 케토엔올 호변이성체 화합물은 공중합체의 100중량부에 대해, 0.1∼200중량부 포함되는 것이 바람직하다.(H) The ketoene tautomer compound is preferably contained in an amount of 0.1 to 200 parts by weight based on 100 parts by weight of the copolymer.

(H) 케토엔올 호변이성체 화합물은 (G) 금속 킬레이트 화합물의 가교 촉진제와는 반대로 가교를 억제하는 효과를 갖는 점에서, (G) 금속 킬레이트 화합물의 가교 촉진제에 대한 (H) 케토엔올 호변이성체 화합물의 비율을 적절히 설정하는 것이 바람직하다. 점착제 조성물의 포트 라이프를 길게 하고, 저장 안정성을 향상시키기 위해서는 (G):(H)의 중량비가 바람직하게는 1:1∼1:300의 범위이고, 보다 바람직하게는 1:30∼1:300이며, 가장 바람직하게는 1:80∼1:300이다.(H) Ketoenol tautomeric compound (G) has an effect of inhibiting crosslinking as opposed to (G) a crosslinking accelerator of a metal chelate compound. It is preferable to appropriately set the ratio of the isomeric compound. The weight ratio of (G) :( H) is preferably in the range of 1: 1 to 1: 300, more preferably 1:30 to 1: 300, in order to lengthen the pot life of the pressure- And most preferably from 1:80 to 1: 300.

점착제 조성물은 (I) 폴리에테르 변성 실록산 화합물을 임의로 함유할 수 있다. (I) 폴리에테르 변성 실록산 화합물은 폴리에테르기를 갖는 실록산 화합물이고, 통상의 실록산 단위[-SiR1 2-O-] 외에, 폴리에테르기를 갖는 실록산 단위[-SiR1(R2O(R3O)nR4)-O-]를 갖는다. 여기서, R1은 1종 또는 2종 이상의 알킬기 또는 아릴기, R2 및 R3은 1종 또는 2종 이상의 알킬렌기, R4는 1종 또는 2종 이상의 알킬기나 아실기 등(말단기)을 나타낸다. 폴리에테르기로는, 폴리옥시에틸렌기[(C2H4O)n]나 폴리옥시프로필렌기[(C3H6O)n] 등의 폴리옥시알킬렌기를 들 수 있다.The pressure-sensitive adhesive composition may optionally contain (I) a polyether-modified siloxane compound. (I) a polyether-modified siloxane compound is a siloxane compound having a polyether, a typical siloxane unit [-SiR 1 2 -O-] In addition, the siloxane units having polyether [-SiR 1 (R 2 O ( R 3 O ) n R 4 ) -O-]. (Wherein R 1 represents one or two or more kinds of alkyl groups or aryl groups, R 2 and R 3 represent one or two or more kinds of alkylene groups, and R 4 represents one or two or more kinds of alkyl groups or acyl groups . Examples of the polyether group include polyoxyalkylene groups such as polyoxyethylene group [(C 2 H 4 O) n ] and polyoxypropylene group [(C 3 H 6 O) n ].

(I) 폴리에테르 변성 실록산 화합물은 HLB 값이 7∼15인 폴리에테르 변성 실록산 화합물인 것이 바람직하다. 또한, 공중합체의 100중량부에 대해, (I) 폴리에테르 변성 실록산 화합물이 0.01∼1.0중량부 포함되는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 0.1∼0.5중량부이다.(I) The polyether-modified siloxane compound is preferably a polyether-modified siloxane compound having an HLB value of 7 to 15. Further, it is preferable that 0.01 to 1.0 part by weight of the polyether-modified siloxane compound (I) is contained relative to 100 parts by weight of the copolymer. More preferably 0.1 to 0.5 parts by weight.

HLB란, 예를 들면 JIS K3211(계면활성제 용어) 등으로 규정하는 친수 친유 밸런스(친수성 친유성비)이다.HLB is a hydrophilic lipophilic balance (hydrophilic lipophilic ratio) defined by, for example, JIS K3211 (surfactant term).

(I) 폴리에테르 변성 실록산 화합물은 예를 들면, 수소화규소기를 갖는 폴리오르가노실록산 주쇄에 대해, 불포화 결합 및 폴리옥시알킬렌기를 갖는 유기 화합물을 히드로실릴화 반응에 의해 그래프트시킴으로써 얻을 수 있다. 구체적으로는, 디메틸실록산·메틸(폴리옥시에틸렌)실록산 공중합체, 디메틸실록산·메틸(폴리옥시에틸렌)실록산·메틸(폴리옥시프로필렌)실록산 공중합체, 디메틸실록산·메틸(폴리옥시프로필렌)실록산 중합체 등을 들 수 있다.(I) The polyether-modified siloxane compound can be obtained, for example, by grafting an organic compound having an unsaturated bond and a polyoxyalkylene group to a polyorganosiloxane main chain having a hydrogenated silicon group by a hydrosilylation reaction. Specific examples thereof include dimethylsiloxane · methyl (polyoxyethylene) siloxane copolymer, dimethylsiloxane · methyl (polyoxyethylene) siloxane · methyl (polyoxypropylene) siloxane copolymer, dimethylsiloxane · methyl (polyoxypropylene) .

(I) 폴리에테르 변성 실록산 화합물을 점착제 조성물에 배합함으로써, 점착제의 점착력 및 리워크 성능을 개선할 수 있다. 점착제 조성물이 폴리에테르 변성 실록산 화합물을 함유하지 않는 경우, 보다 저비용이 된다.(I) The blend of the polyether-modified siloxane compound and the pressure-sensitive adhesive composition can improve the adhesive strength and the reworkability of the pressure-sensitive adhesive. When the pressure-sensitive adhesive composition does not contain a polyether-modified siloxane compound, it becomes more inexpensive.

또한, 그 밖의 성분으로서 알킬렌옥사이드를 함유하는 공중합 가능한 (메타)아크릴모노머, (메타)아크릴아미드 모노머, 디알킬 치환 아크릴아미드 모노머, 계면활성제, 경화 촉진제, 가소제, 충전제, 경화 지연제, 가공 보조제, 노화 방지제, 산화 방지제 등의 공지된 첨가제를 적절히 배합할 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상 함께 사용된다.Further, it is also possible to use other components such as a copolymerizable (meth) acrylic monomer, a (meth) acrylamide monomer, a dialkyl substituted acrylamide monomer, a surfactant, a curing accelerator, a plasticizer, a filler, , An antioxidant, and an antioxidant may be appropriately added. These may be used alone or in combination of two or more.

본 발명의 점착제 조성물에 사용되는 주제의 공중합체는 (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 적어도 1종과, 공중합 가능한 모노머군으로서 (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머와, (C) 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머와, (D) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머와, (E) 수산기를 함유하지 않는 질소 함유 비닐 모노머 또는 알콕시기 함유 알킬(메타)아크릴레이트 모노머로 이루어지는 공중합 가능한 모노머군 중에서 선택된 적어도 1종을 공중합시킴으로써 합성할 수 있다. 공중합체의 중합 방법은 특별히 한정되지 않고, 용액 중합, 유화 중합 등, 적절한 중합 방법이 사용 가능하다.The subject copolymer used in the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is a monomer copolymerizable with at least one of (A) a (meth) acrylic acid ester monomer having an alkyl group of C4 to C18 in number, and (B) (D) a polyalkylene glycol mono (meth) acrylate monomer; and (E) a nitrogen-containing vinyl monomer or alkoxy group-containing alkyl (meth) acrylate containing no hydroxyl group. ) Acrylate monomers, which are copolymerizable with each other. The polymerization method of the copolymer is not particularly limited, and suitable polymerization methods such as solution polymerization, emulsion polymerization and the like can be used.

본 발명의 점착제 조성물은 상기 공중합체에 (F) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물, (G) 금속 킬레이트 화합물의 가교 촉진제와, (H) 케토엔올 호변이성체 화합물, 추가로 적절히 임의의 첨가제를 배합함으로써 조제할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is prepared by adding (F) a bifunctional or higher isocyanate compound, (G) a crosslinking accelerator of a metal chelate compound, (H) a ketoene tautomer compound and further optionally an optional additive can do.

상기 공중합체는 아크릴계 폴리머인 것이 바람직하고, (메타)아크릴산에스테르 모노머나 (메타)아크릴산, (메타)아크릴아미드류 등의 아크릴계 모노머를 50∼100중량％ 포함하는 것이 바람직하다.The copolymer is preferably an acrylic polymer, and it is preferable that the copolymer contains 50 to 100% by weight of an acrylic monomer such as (meth) acrylate monomer, (meth) acrylic acid or (meth) acrylamide.

또한, 아크릴계 폴리머의 산가는 0.01∼8.0인 것이 바람직하다. 이로써, 오염성을 개선하고, 점착제 잔여물의 발생 방지 성능을 향상시킬 수 있다.The acid value of the acrylic polymer is preferably 0.01 to 8.0. This makes it possible to improve stain resistance and improve the ability to prevent the occurrence of adhesive residue.

여기서, 「산가」란, 산의 함유량을 나타내는 지표 중 하나이며, 카르복실기를 함유하는 폴리머 1g을 중화하는데 필요한 수산화칼륨의 mg수로 나타내진다.Here, " acid value " is one of indicators showing the content of acid, and is represented by the number of mg of potassium hydroxide necessary for neutralizing 1 g of a carboxyl group-containing polymer.

상기 점착제 조성물을 가교시켜 이루어지는 점착제층의, 저속 박리 속도 0.3m/min에서의 점착력이 0.05∼0.1N/25㎜이고, 고속 박리 속도 30m/min에서의 점착력이 1.0N/25㎜ 이하인 것이 바람직하다. 이로써, 점착력이 박리 속도에 의해서도 변화가 적은 성능을 얻을 수 있고, 고속 박리에 의해서도 신속하게 박리하는 것이 가능해진다. 또한, 다시 붙이기 위해, 일단 표면 보호 필름을 박리할 때도 과대한 힘을 필요로 하지 않아, 피착체로부터 박리하기 쉽다.It is preferable that the pressure-sensitive adhesive layer formed by crosslinking the pressure-sensitive adhesive composition has an adhesive force of 0.05 to 0.1 N / 25 mm at a low speed peeling speed of 0.3 m / min and an adhesive force of 1.0 N / 25 mm or less at a high speed peeling speed of 30 m / . As a result, it is possible to obtain a performance in which the adhesive force does not change even by the peeling speed, and it is possible to peel quickly even by high-speed peeling. In addition, in order to reattach it, an excessive force is not necessary even once the surface protective film is peeled, and it is easy to peel off from the adherend.

상기 점착제 조성물을 가교시켜 이루어지는 점착제층의 표면 저항률이 5.0×10＋12Ω／□ 이하이고, 박리 대전압이 「±0.6㎸ 이하」인 것이 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서, 「±0.6㎸ 이하」란, 0∼-0.6㎸ 및 0∼＋0.6㎸, 즉, -0.6∼＋0.6㎸를 의미한다. 표면 저항률이 크면 박리시에 대전에 의해 발생한 정전기를 빠져 나가게 하는 성능이 떨어지기 때문에, 표면 저항률을 충분히 작게 함으로써, 점착제층을 피착체가 박리할 때에 발생하는 정전기에 수반하여 발생하는 박리 대전압이 저감되어, 피착체의 전기 제어 회로 등에 영향을 주는 것을 억제할 수 있다.It is preferable that the pressure-sensitive adhesive layer formed by crosslinking the pressure-sensitive adhesive composition has a surface resistivity of 5.0 x 10 + 12 ? /? Or less and a peeling electrification voltage of? 0.6 kV or less. In the present invention, "± 0.6 kV or less" means 0 to -0.6 kV and 0 to + 0.6 kV, that is, -0.6 to +0.6 kV. When the surface resistivity is high, the performance for escaping the static electricity generated by the charging at the time of peeling is lowered. Therefore, by sufficiently reducing the surface resistivity, the peeling electrification voltage caused by the static electricity generated when the adherend is peeled off is reduced Thus, it is possible to suppress the influence on the electric control circuit of the adherend or the like.

본 발명의 점착제 조성물을 가교하여 이루어지는 점착제층(가교 후의 점착제)의 겔분율은 95∼100％인 것이 바람직하다. 이와 같이 겔분율이 높음으로써, 저속 박리 속도에 있어서, 점착력이 과대해지지 않고, 공중합체로부터의 미중합 모노머 혹은 올리고머의 용출이 저감되어, 리워크성이나 고온·고습도에 있어서의 내구성이 개선되어 피착체의 오염을 억제할 수 있다.The gel fraction of the pressure-sensitive adhesive layer (pressure-sensitive adhesive after crosslinking) obtained by crosslinking the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is preferably 95 to 100%. As described above, the high gel fraction lowers the adhesive force at a low rate of peeling, reduces elution of the unpolymerized monomer or oligomer from the copolymer, and improves the reworkability and durability at high temperature and high humidity, The contamination of the complex can be suppressed.

본 발명의 점착 필름은 본 발명의 점착제 조성물을 가교하여 이루어지는 점착제층을 수지 필름의 한쪽 면 또는 양면에 형성하여 이루어진다. 또한, 본 발명의 표면 보호 필름은 본 발명의 점착제 조성물을 가교하여 이루어지는 점착제층을 수지 필름의 한쪽 면에 형성하여 이루어지는 표면 보호 필름이다. 본 발명의 점착제 조성물은 상기 (A)∼(H)의 각 성분이 균형있게 배합되어 있기 때문에, 우수한 대전 방지 성능을 구비하고, 저속 박리 속도 및 고속 박리 속도에 있어서, 점착력 밸런스가 우수하고, 또한, 내구 성능 및 리워크 성능(점착제층을 개재하여 표면 보호 필름 위를 볼펜으로 덧쓴 후에 피착체에 오염 이행이 없는 것)도 우수한 것이 된다. 이 때문에, 편광판의 표면 보호 필름의 용도로서 바람직하게 사용할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive film of the present invention is formed by forming a pressure-sensitive adhesive layer formed by crosslinking the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention on one side or both sides of a resin film. The surface protective film of the present invention is a surface protective film comprising a pressure-sensitive adhesive layer formed by crosslinking the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention on one side of a resin film. The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention has excellent antistatic properties because of the balanced combination of the components (A) to (H) described above. The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention exhibits excellent adhesive balance at low and high- , Durability performance and reworkability (no contamination of the adherend after the surface protective film is overlaid with the ballpoint pen through the pressure-sensitive adhesive layer) is also excellent. Therefore, it can be preferably used as a surface protective film of a polarizing plate.

본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 사용되는 점착제층(2)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 5∼40㎛ 정도의 두께가 바람직하고, 10∼30㎛ 정도의 두께가 보다 바람직하다. 대전 방지 표면 보호 필름의 피착체의 표면에 대한 박리 강도(점착력)가 0.03∼0.3N/25㎜ 정도의 미점착력을 갖는 점착제층(2)인 것이 피착체로부터 대전 방지 표면 보호 필름을 박리할 때의 조작성이 우수한 점에서 바람직하다. 또한, 대전 방지 표면 보호 필름(10)으로부터 박리 필름(5)을 박리할 때의 조작성이 우수한 점에서, 박리 필름(5)의 점착제층(2)으로부터의 박리력이 0.2N/50㎜ 이하인 것이 바람직하다.The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer (2) used in the antistatic surface protective film (10) according to the present invention is not particularly limited. For example, the thickness is preferably about 5 to 40 m, Is more preferable. When the antistatic surface protective film is peeled off from the adherend, the peeling strength (adhesive force) of the antistatic surface protective film to the adherend surface is in the range of 0.03 to 0.3 N / 25 mm, In view of its excellent operability. It is also preferable that the peeling force of the release film 5 from the pressure-sensitive adhesive layer 2 is 0.2 N / 50 mm or less because of the excellent operability in peeling the release film 5 from the antistatic surface protective film 10 desirable.

또한, 본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 사용되는 박리 필름(5)은 수지 필름(3)의 한쪽 면에, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와, 20℃에서 액체인 실리콘계 화합물과 대전 방지제를 포함하는 수지 조성물을 사용한 박리제층(4)이 형성되어 있다.The peeling film 5 used in the antistatic surface protective film 10 according to the present invention is formed by applying a releasing agent containing dimethylpolysiloxane as a main component and a silicone compound as a liquid at 20 캜 A release agent layer 4 using a resin composition containing an antistatic agent is formed.

수지 필름(3)으로는, 폴리에스테르 필름, 폴리아미드 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리이미드 필름 등을 들 수 있지만, 투명성이 우수한 것이나 가격이 비교적으로 저렴한 점에서, 폴리에스테르 필름이 특히 바람직하다. 수지 필름은 무연신 필름이어도 되고, 1축 또는 2축 연신된 필름이어도 된다. 또한, 연신 필름의 연신 배율이나, 연신 필름의 결정화에 수반하여 형성되는 축방법의 배향 각도를 특정 값으로 제어해도 된다.As the resin film (3), a polyester film, a polyamide film, a polyethylene film, a polypropylene film, a polyimide film and the like can be given, but a polyester film is particularly preferable because of its excellent transparency and relatively low cost Do. The resin film may be a non-oriented film or a uniaxially or biaxially oriented film. Further, the stretching magnification of the stretched film or the orientation angle of the axial method formed by crystallization of the stretched film may be controlled to a specific value.

수지 필름(3)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 12∼100㎛ 정도의 두께가 바람직하고, 20∼50㎛ 정도의 두께이면 취급하기 쉬워, 보다 바람직하다.The thickness of the resin film 3 is not particularly limited. For example, the thickness of the resin film 3 is preferably about 12 to 100 mu m, and more preferably about 20 to 50 mu m.

또한, 필요에 따라, 수지 필름(3)의 표면에, 코로나 방전에 의한 표면 개질, 앵커 코트제의 도포 등의 이접착 처리를 실시해도 된다.If necessary, the surface of the resin film 3 may be subjected to this adhesion treatment such as surface modification by corona discharge, application of an anchor coat, or the like.

박리제층(4)을 구성하는 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제에는 부가 반응형, 축합 반응형, 양이온 중합형, 라디칼 중합형 등의 공지된 실리콘계 박리제를 들 수 있다. 부가 반응형 실리콘계 박리제로서 시판되고 있는 제품에는, 예를 들면, KS-776A, KS-847T, KS-779H, KS-837, KS-778, KS-830(신에츠 화학 공업(주) 제조), SRX-211, SRX-345, SRX-357, SD7333, SD7220, SD7223, LTC-300B, LTC-350G, LTC-310(도레이 다우코닝(주) 제조) 등을 들 수 있다. 축합 반응형으로서 시판되고 있는 제품에는, 예를 들면, SRX-290, SYLOFF-23(도레이 다우코닝(주) 제조)등을 들 수 있다. 양이온 중합형으로서 시판되고 있는 제품에는, 예를 들면, TPR-6501, TPR-6500, UV9300, VU9315, UV9430(모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈사 제조), X62-7622(신에츠 화학 공업(주) 제조) 등을 들 수 있다. 라디칼 중합형으로서 시판되고 있는 제품에는, 예를 들면, X62-7205(신에츠 화학 공업(주) 제조) 등을 들 수 있다.The releasing agent comprising dimethylpolysiloxane as a main component constituting the releasing agent layer (4) includes known releasing agents such as addition reaction type, condensation reaction type, cationic polymerization type and radical polymerization type. KS-777A, KS-777H, KS-837, KS-778 and KS-830 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), SRX LTC-350, LTC-310 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), and the like. Commercially available products of the condensation reaction type include, for example, SRX-290 and SYLOFF-23 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.). Examples of commercially available products of the cationic polymerization type include TPR-6501, TPR-6500, UV9300, VU9315, UV9430 (manufactured by Momentive Performance Materials Ltd.), X62-7622 (manufactured by Shinetsu Kagaku Kogyo Co., Ltd.) And the like. Commercially available products as the radical polymerization type include, for example, X62-7205 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

박리제층(4)을 구성하는 20℃에서 액체인 실리콘계 화합물로는, 폴리에테르 변성 실리콘, 알킬 변성 실리콘, 카르비놀 고급 지방산 에스테르 변성 실리콘 등을 들 수 있다. 본 발명에서는 점착제층 표면의 대전 방지성을 향상시키기 위해, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 한 박리제층 중에 상용되어 있는 상태의 20℃에서 액체인 실리콘계 화합물이 사용된다. 본 발명의 용도에는 변성 실리콘 화합물 중에서도 폴리에테르 변성 실리콘이 바람직하다. 폴리에테르 변성 실리콘에 있어서의 폴리에테르 사슬은 에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드 등으로 구성되고, 예를 들면, 측쇄에 사용되는 폴리에틸렌옥사이드의 분자량을 선택함으로써, 실리콘 박리제와의 상용성이나 대전 방지 효과 등의 물성이 조정된다.Examples of the silicon-based compound which is liquid at 20 占 폚 constituting the release agent layer 4 include polyether-modified silicone, alkyl-modified silicone, carbinol higher fatty acid ester-modified silicone and the like. In the present invention, in order to improve the antistatic property of the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, a silicone compound which is a liquid at 20 占 폚 in a state of being used in a release agent layer containing dimethylpolysiloxane as a main component is used. Of the modified silicone compounds, polyether-modified silicone is preferred for use in the present invention. The polyether chain in the polyether-modified silicone is composed of ethylene oxide, propylene oxide, and the like. For example, by selecting the molecular weight of the polyethylene oxide used in the side chain, properties such as compatibility with the silicone release agent and antistatic effect Is adjusted.

또한, 폴리에테르 변성 실리콘으로서 시판되고 있는 제품에는, 예를 들면, KF-351A, KF-352A, KF-353, KF-354L, KF-355A, KF-642(신에츠 화학 공업(주) 제조), SH8400, SH8700, SF8410(도레이 다우코닝(주) 제조), TSF-4440, TSF-4441, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4450(모멘티브 퍼포먼스·머티리얼즈사 제조), BYK-300, BYK-306, BYK-307, BYK-320, BYK-325, BYK-330(빅 케미사 제조) 등을 들 수 있다.KF-352A, KF-353A, KF-355A, KF-642 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and KF- (Manufactured by Momentive Performance Materials Co., Ltd.), BYK-300, BYK-300, BYK-300, BYK-300 and BYK- 306, BYK-307, BYK-320, BYK-325 and BYK-330 (manufactured by Big Chemical).

디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제에 대한 20℃에서 액체인 실리콘계 화합물의 첨가량은 실리콘 화합물의 종류나 박리제와의 상용성의 정도에 따라 상이하나, 대전 방지 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리할 때의 원하는 박리 대전압, 피착체에 대한 오염성, 점착 특성 등을 고려하여 설정하면 된다.The amount of the silicon compound added as a liquid at 20 占 폚 to the releasing agent containing dimethylpolysiloxane as a main component differs depending on the kind of the silicone compound and the degree of compatibility with the exfoliating agent. However, when the antistatic surface protective film is peeled off from the adherend, A stain resistance to an adherend, a sticking property, and the like.

박리제층(4)을 구성하는 대전 방지제로는, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제 용액에 대해 분산성이 양호한 것이며, 또한, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제의 경화를 저해하지 않는 것이 바람직하다. 이러한 대전 방지제 로는 알칼리 금속염이 바람직하다.As the antistatic agent constituting the release agent layer 4, it is preferable that the antistatic agent is good in dispersibility with respect to a remover solution containing dimethylpolysiloxane as a main component, and does not inhibit the hardening of the remover containing dimethylpolysiloxane as a main component. As such an antistatic agent, an alkali metal salt is preferable.

알칼리 금속염으로는, 리튬, 나트륨, 칼륨으로 이루어지는 금속염을 들 수 있고, 구체적으로는, 예를 들면, Li＋, Na＋, K＋로 이루어지는 양이온과, Cl-, Br-, I-, BF4 -, PF6 -, SCN-, ClO4 -, CF3SO3 -, (CF3SO2)2N-, (C2F5SO2)2N-, (CF3SO2)3C-로 이루어지는 음이온으로 구성되는 금속염이 바람직하게 사용된다. 그 중에서도 특히, LiBr, LiI, LiBF4, LiPF6, LiSCN, LiClO4, LiCF3SO3, Li(CF3SO2)2N, Li(C2F5SO2)2N, Li(CF3SO2)3C 등의 리튬염이 바람직하게 사용된다. 이들 알칼리 금속염은 단독으로 사용해도 되고, 또한 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 이온성 물질의 안정화를 위해, 폴리옥시알킬렌 구조를 함유하는 화합물을 첨가해도 된다.Examples of the alkali metal salt include a metal salt composed of lithium, sodium and potassium. Specific examples of the alkali metal salt include a cation composed of Li + , Na + , K + and a cation selected from the group consisting of Cl - , Br - , I - , BF 4 -, PF 6 -, SCN - , ClO 4 -, CF 3 SO 3 -, (CF 3 SO 2) 2 N -, (C 2 F 5 SO 2) 2 N -, (CF 3 SO 2) 3 C - Is preferably used as the metal salt. Among others, LiBr, LiI, LiBF 4, LiPF 6, LiSCN, LiClO 4, LiCF 3 SO 3, Li (CF 3 SO 2) 2 N, Li (C 2 F 5 SO 2) 2 N, Li (CF 3 SO 2 ) 3 C and the like are preferably used. These alkali metal salts may be used alone or in combination of two or more. To stabilize the ionic material, a compound containing a polyoxyalkylene structure may be added.

디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제에 대한 대전 방지제의 첨가량은 대전 방지제의 종류나 박리제와의 친화성의 정도에 의해 상이하나, 대전 방지 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리할 때의, 원하는 박리 대전압, 피착체에 대한 오염성, 점착 특성 등을 고려하여 설정하면 된다.The amount of the antistatic agent to be added to the releasing agent containing dimethylpolysiloxane as a main component differs depending on the kind of the antistatic agent and the degree of affinity with the exfoliating agent. However, when the antistatic surface protective film is peeled from the adherend, The stain resistance to the complex, and the adhesive property.

디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와 폴리에테르 변성 실리콘 및 대전 방지제의 혼합 방법은 특별히 한정되지 않는다. 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제에 폴리에테르 변성 실리콘 및 대전 방지제를 첨가하여 혼합한 후에 박리제 경화용 촉매를 첨가·혼합하는 방법, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제를 미리 유기 용제로 희석한 후에 폴리에테르 변성 실리콘 및 대전 방지제와 박리제 경화용 촉매를 첨가, 혼합하는 방법, 실록산을 주성분으로 하는 박리제를 미리 유기 용제에 희석 후, 촉매를 첨가·혼합하고, 그 후 폴리에테르 변성 실리콘과 대전 방지제를 첨가, 혼합하는 방법 등 어느 방법이어도 된다. 또한, 필요에 따라서, 실란 커플링제 등의 밀착 향상제나 폴리옥시알킬렌기를 함유하는 화합물 등의 대전 방지 효과를 보조하는 재료를 첨가해도 된다.The method of mixing the releasing agent containing dimethylpolysiloxane as a main component and the polyether-modified silicone and the antistatic agent is not particularly limited. A method of adding and mixing a polyether-modified silicone and an antistatic agent to a releasing agent containing dimethylpolysiloxane as a main component and then adding and mixing a catalyst for releasing agent curing, a method of diluting a releasing agent containing dimethylpolysiloxane as a main component in advance with an organic solvent, A method of adding and mixing silicone and an antistatic agent and a releasing agent curing catalyst, a method of previously adding a silane-based releasing agent to an organic solvent, adding and mixing a catalyst, and then adding and mixing a polyether- Or the like. If necessary, a material for assisting an antistatic effect, such as a adhesion improver such as a silane coupling agent or a compound containing a polyoxyalkylene group, may be added.

디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와, 폴리에테르 변성 실리콘 및 대전 방지제의 혼합 비율은 특별히 한정되지 않지만, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제의 고형분 100에 대해, 폴리에테르 변성 실리콘 및 대전 방지제를 고형분으로서 5∼100 정도의 비율이 바람직하다. 폴리에테르 변성 실리콘 및 대전 방지제의 고형분 환산 첨가량이 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제의 고형분 100에 대해 5의 비율보다 적으면 점착제층의 표면에 대한 대전 방지제의 전사량도 적어져서 점착제에 대전 방지의 기능이 발휘되기 어려워진다. 또한, 폴리에테르 변성 실리콘 및 대전 방지제의 고형분 환산 첨가량이 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제의 고형분 100에 대해 100의 비율을 초과하면, 폴리에테르 변성 실리콘 및 대전 방지제와 함께 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제도 점착제층의 표면에 전사되기 때문에, 점착제의 점착 특성을 저하시킬 가능성이 있다.The mixing ratio of the releasing agent containing dimethylpolysiloxane as a main component and the polyether-denatured silicone and the antistatic agent is not particularly limited, but the polyether-denatured silicone and the antistatic agent may be added in an amount of from 5 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the releasing agent comprising dimethylpolysiloxane as a main component. 100 is preferable. When the addition amount of the polyether-modified silicone and the antistatic agent in terms of solid content is less than 5 per 100 parts by mass of the solid content of the releasing agent containing dimethylpolysiloxane as the main component, the amount of the antistatic agent transferred to the surface of the pressure- And it becomes difficult to exert. When the added amount of the polyether-modified silicone and the antistatic agent in terms of solid content is more than 100 per 100 parts by mass of the solid content of the releasing agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, a releasing agent containing dimethylpolysiloxane as a main component together with the polyether- And is transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, there is a possibility that the pressure-sensitive adhesive property of the pressure-sensitive adhesive is lowered.

본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)의 기재 필름(1)에, 점착제층(2)을 형성하는 방법 및 박리 필름(5)을 첩합하는 방법은 공지된 방법으로 행하면 되고, 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로는, (1) 기재 필름(1)의 한쪽 면에 점착제층(2)을 형성하기 위한 수지 조성물을 도포, 건조시켜 점착제층을 형성한 후에 박리 필름(5)을 첩합하는 방법, (2) 박리 필름(5)의 표면에 점착제층(2)을 형성하기 위한 수지 조성물을 도포·건조시켜 점착제층을 형성한 후에 기재 필름(1)을 첩합하는 방법 등을 들 수 있지만, 어느 방법을 사용해도 된다.The method of forming the pressure-sensitive adhesive layer (2) and the method of bonding the release film (5) to the base film (1) of the antistatic surface protective film (10) according to the present invention may be carried out by a known method, Do not. Specifically, there are (1) a method of applying a resin composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 on one side of the base film 1 and drying to form a pressure-sensitive adhesive layer, followed by bonding the release film 5, ) A method of applying a resin composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 on the surface of the release film 5 and drying to form a pressure-sensitive adhesive layer, followed by bonding the base film 1, .

또한, 기재 필름(1)의 표면에 점착제층(2)을 형성하는 것은 공지된 방법으로 행하면 된다. 구체적으로는, 리버스 코팅, 콤마 코팅, 그라비아 코팅, 슬롯 다이 코팅, 메이어 바 코팅, 에어 나이프 코팅 등의 공지된 도공 방법을 사용할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive layer (2) may be formed on the surface of the base film (1) by a known method. Specifically, known coating methods such as reverse coating, comma coating, gravure coating, slot die coating, Meyer bar coating and air knife coating can be used.

또한, 동일하게 수지 필름(3)에 박리제층(4)을 형성하는 것은 공지된 방법으로 행하면 된다. 구체적으로는, 그라비아 코팅, 메이어 바 코팅, 에어 나이프 코팅 등의 공지된 도공 방법을 사용할 수 있다.In the same manner, the release agent layer 4 may be formed on the resin film 3 by a known method. Specifically, known coating methods such as gravure coating, Meyer bar coating and air knife coating can be used.

도 2는 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름으로부터, 박리 필름을 박리한 상태를 나타내는 단면도이다.2 is a cross-sectional view showing a state in which a release film is peeled from an antistatic surface protective film of the present invention.

도 1에 나타낸 대전 방지 표면 보호 필름(10)으로부터, 박리 필름(5)을 박리함으로써, 박리 필름(5)의 박리제층(4)에 포함되는, 20℃에서 액체인 실리콘계 화합물 및 대전 방지제(부호 7)의 일부가 대전 방지 표면 보호 필름(10)의 점착제층(2)의 표면에 전사된다(부착된다). 이 때문에, 도 2에 있어서는, 대전 방지 표면 보호 필름의 점착제층(2)의 표면에 전사된, 20℃에서 액체인 실리콘계 화합물 및 대전 방지제를 부호 7의 반점으로 모식적으로 나타내고 있다.The silicone-based compound and the antistatic agent (which are included in the release agent layer 4 of the release film 5) and which are liquid at 20 占 폚 7) is transferred (adhered) to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 of the antistatic surface protective film 10. Therefore, in FIG. 2, the silicone compound and the antistatic agent which are liquid at 20 ° C and transferred onto the surface of the pressure-sensitive adhesive layer (2) of the antistatic surface protective film are schematically shown by the reference numeral 7.

본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름에서는, 도 2에 나타낸 박리 필름을 박리한 상태의 대전 방지 표면 보호 필름(11)을 피착체에 첩합하는데 있어서, 이 점착제층(2)의 표면에 전사된 20℃에서 액체인 실리콘계 화합물 및 대전 방지제가 피착체의 표면에 접촉한다. 이로써, 재차, 피착체로부터 대전 방지 표면 보호 필름을 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제할 수 있다.In the antistatic surface protective film according to the present invention, when the antistatic surface protective film 11 in the peeled state of the release film shown in Fig. 2 is adhered to an adherend, 20 The silicone compound and the antistatic agent which are liquids come into contact with the surface of the adherend. Thereby, the peeling electrification voltage when the antistatic surface protective film is peeled from the adherend can be suppressed again.

도 3은 본 발명의 광학 부품의 실시예를 나타낸 단면도이다.3 is a cross-sectional view showing an embodiment of the optical component of the present invention.

본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름(10)으로부터, 박리 필름(5)이 박리되고, 점착제층(2)이 표출된 상태로, 그 점착제층(2)을 개재하여 피착체인 광학 부품(8)에 첩합된다. The peeling film 5 is peeled off from the antistatic surface protective film 10 of the present invention and the optical component 8 as the adherend is peeled off from the antistatic surface protective film 10 with the pressure sensitive adhesive layer 2 exposed thereon Lt; / RTI >

즉, 도 3에는 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름(10)이 첩합된 광학 부품(20)을 나타내고 있다. 광학 부품으로는, 편광판, 위상차판, 렌즈 필름, 위상차판 겸용 편광판, 렌즈 필름 겸용 편광판 등의 광학용 필름을 들 수 있다. 이러한 광학 부품은 액정 표시 패널 등의 액정 표시 장치, 각종 계기류의 광학계 장치 등의 구성 부재로서 사용된다. 또한, 광학 부품으로는, 반사 방지 필름, 하드 코트 필름, 터치 패널용 투명 도전성 필름 등의 광학용 필름도 들 수 있다. 특히, 표면이 실리콘 화합물이나 불소 화합물 등에 의해 방오 처리되어 있는, 저반사 처리 편광판(LR 편광판)이나 안티 글레어 저반사 처리 편광판(AG-LR 편광판) 등의 광학용 필름의 방오 처리한 면에 첩합되는, 대전 방지 표면 보호 필름으로서 바람직하게 사용할 수 있다.3 shows an optical component 20 to which the antistatic surface protective film 10 of the present invention is bonded. Examples of the optical component include optical films such as a polarizing plate, a retardation plate, a lens film, a polarizing plate serving as a retardation plate, and a polarizing plate serving also as a lens film. Such an optical component is used as a constituent member of a liquid crystal display device such as a liquid crystal display panel and an optical system device of various instruments. Examples of the optical component include optical films such as an antireflection film, a hard coat film, and a transparent conductive film for a touch panel. Particularly, the optical film is adhered to an antifouling treated surface of an optical film such as a low reflection polarizing plate (LR polarizing plate) or an anti-glare low reflection polarizing plate (AG-LR polarizing plate) whose surface has been subjected to antifouling treatment with a silicon compound or a fluorine compound , And an antistatic surface protective film.

본 발명의 광학 부품에 의하면, 대전 방지 표면 보호 필름(10)을 피착체인 광학 부품(광학용 필름)으로부터 박리 제거할 때, 박리 대전압을 충분히 낮게 억제할 수 있으므로, 드라이버 IC, TFT 소자, 게이트선 구동 회로 등의 회로 부품을 파괴할 우려가 없고, 액정 표시 패널 등을 제조하는 공정에서의 생산 효율을 높이고, 생산 공정의 신뢰성을 유지할 수 있다.According to the optical component of the present invention, since the peeling electrification voltage can be suppressed sufficiently low when the antistatic surface protective film 10 is peeled off from the optical component (optical film) as the adherend, the driver IC, the TFT element, There is no risk of destroying circuit components such as a line driving circuit and the like, the production efficiency in the process of manufacturing a liquid crystal display panel or the like can be enhanced and the reliability of the production process can be maintained.

실시예Example

다음에, 실시예에 의해, 본 발명을 자세히 설명한다.EXAMPLES Next, the present invention will be described in detail by examples.

＜점착제 조성물의 제조＞≪ Preparation of pressure-sensitive adhesive composition >

[실시예 1][Example 1]

교반기, 온도계, 환류 냉각기 및 질소 도입관을 구비한 반응 장치에, 질소 가스를 도입하고, 반응 장치 내의 공기를 질소 가스로 치환하였다. 그 후, 반응 장치에 2-에틸헥실아크릴레이트 100중량부, 8-히드록시옥틸아크릴레이트 3.0중량부, 폴리프로필렌글리콜모노아크릴레이트(폴리알킬렌글리콜 사슬을 구성하는 알킬렌옥사이드의 평균 반복수 n=12) 10중량부와 함께 용제(초산에틸)를 60중량부 첨가하였다. 그 후, 중합 개시제로서 아조비스이소부티로니트릴 0.1중량부를 2시간에 걸쳐 적하시키고, 65℃에서 6시간 반응시켜, 중량 평균 분자량 50만의 실시예 1의 아크릴 공중합체 용액을 얻었다. 이 아크릴 공중합체 용액에 대해, 아세틸아세톤 8.5중량부를 첨가하여 교반한 후, 코로네이트 HX(헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체)를 2.0중량부, 티타늄 트리스아세틸아세토네이트 0.1중량부를 첨가하고 교반 혼합하여 실시예 1의 점착제 조성물을 얻었다.Nitrogen gas was introduced into a reactor equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a nitrogen introduction tube, and the air in the reactor was replaced with nitrogen gas. Thereafter, 100 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate, 3.0 parts by weight of 8-hydroxyoctyl acrylate, polypropylene glycol monoacrylate (average number of repeating units of alkylene oxide constituting the polyalkylene glycol chain n = 12) and 60 parts by weight of a solvent (ethyl acetate). Thereafter, 0.1 part by weight of azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator was added dropwise over 2 hours and reacted at 65 DEG C for 6 hours to obtain an acrylic copolymer solution of Example 1 having a weight average molecular weight of 500,000. To this acrylic copolymer solution, 8.5 parts by weight of acetylacetone was added and stirred. Then, 2.0 parts by weight of Coronate HX (isocyanurate of hexamethylene diisocyanate compound) and 0.1 part by weight of titanium trisacetylacetonate were added And the mixture was stirred and mixed to obtain the pressure-sensitive adhesive composition of Example 1.

[실시예 2∼6 및 비교예 1∼2][Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 to 2]

실시예 1의 점착제 조성물의 조성을 각각 표 1및 표 2의 기재된 바와 같이 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 2∼6 및 비교예 1∼2의 점착제 조성물을 얻었다.The pressure-sensitive adhesive compositions of Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 and 2 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition of the pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 was changed as shown in Table 1 and Table 2, respectively.

Figure pat00001
Figure pat00001

Figure pat00002
Figure pat00002

표 1 및 표 2는 각 성분의 배합비를 나타내는 일체의 표를 2개로 나눈 것이고, 전부 (A)군의 합계를 100중량부로서 구한 중량부의 수치를 괄호로 둘러싸 나타낸다. 또한, 표 1 및 표 2에 사용한 각 성분의 약기호의 화합물명을 표 3 및 표 4에 나타낸다. 또한, 코로네이트(등록상표) HX, HL 및 L은 니혼 폴리우레탄 공업 주식회사의 상품명이고, 타케네이트(등록상표) D-140N, D-127N, D-110N은 미츠이 화학 주식회사의 상품명이며, 데스모듈(등록상표) N3400은 스미카 바이엘 우레탄 주식회사의 상품명이다.Tables 1 and 2 show the results obtained by dividing all the tables showing the compounding ratio of each component into two, and the values of the parts by weight obtained by taking the total of the total of the (A) groups as 100 parts by weight are enclosed in parentheses. Tables 3 and 4 show the compound names of the weak symbols of the respective components used in Tables 1 and 2. D-140N, D-127N and D-110N are trade names of Mitsui Chemicals, Inc., and Death Module (trade name) is a trade name of Coronate (registered trademark) HX, HL and L are trade names of Nippon Polyurethane Industry Co., (Registered trademark) N3400 is a trade name of Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.

Figure pat00003
Figure pat00003

Figure pat00004
Figure pat00004

＜2관능 이소시아네이트 화합물의 합성＞<Synthesis of bifunctional isocyanate compound>

합성예 1, 2의 2관능 이소시아네이트 화합물은 하기 방법으로 합성하였다. 표 5및 표 6에 나타낸 바와 같이, 디이소시아네이트와 디올 화합물을 몰비: NCO/OH=16의 비율로 혼합하여, 120℃에서 3시간 반응시키고, 그 후, 박막 증발 장치를 사용하여 감압하에서 미반응의 디이소시아네이트를 제거하고, 목적으로 하는 2관능 이소시아네이트 화합물을 얻었다.The bifunctional isocyanate compounds of Synthesis Examples 1 and 2 were synthesized in the following manner. As shown in Tables 5 and 6, the diisocyanate and the diol compound were mixed at a molar ratio of NCO / OH = 16, and the mixture was reacted at 120 ° C for 3 hours. Thereafter, a thin film evaporator was used to conduct unreacted Of diisocyanate was removed to obtain a desired bifunctional isocyanate compound.

Figure pat00005
Figure pat00005

Figure pat00006
Figure pat00006

＜대전 방지 표면 보호 필름의 제작＞<Preparation of antistatic surface protective film>

[실시예 1][Example 1]

부가 반응형 실리콘(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SRX-345) 5중량부, 폴리에테르 변성 실리콘(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SH8400) 0.15중량부, 과염소산리튬 10％ 초산에틸 용액 5중량부, 톨루엔과 초산에틸의 1:1의 혼합 용매 95중량부 및 백금 촉매(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SRX-212 캐탈리스트) 0.05중량부를 혼합해 교반·혼합하여, 실시예 1의 박리제층을 형성하는 도료를 조정하였다. 두께가 38㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에, 실시예 1의 박리제층을 형성하는 도료를 건조 후의 두께가 0.2㎛가 되도록 메이어 바로 도포하고, 120℃의 열풍 순환식 오븐에서 1분간 건조시켜, 실시예 1의 박리 필름을 얻었다., 5 parts by weight of an addition reaction type silicone (trade name: SRX-345, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), 0.15 part by weight of polyether-modified silicone (SH8400, trade name; manufactured by Toray Dow Corning Co., , 95 parts by weight of a mixed solvent of toluene and ethyl acetate in a ratio of 1: 1, and 0.05 parts by weight of a platinum catalyst (trade name: SRX-212 Catalyst manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) The paint forming the release agent layer of Example 1 was adjusted. A coating material for forming the release agent layer of Example 1 was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 占 퐉 so that the thickness after drying would be 0.2 占 퐉 and dried in a hot air circulating oven at 120 占 폚 for one minute, A release film of Example 1 was obtained.

실시예 1의 점착제 조성물을, 두께가 38㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에, 건조 후의 두께가 20㎛가 되도록 도포한 후, 100℃의 열풍 순환식 오븐에서 2분간 건조시켜 점착제층을 형성하였다. 그 후, 이 점착제층의 표면에, 상기에서 제작한, 실시예 1의 박리 필름의 박리제층(실리콘 처리면)을 첩합하였다. 얻어진 점착 필름을 40℃의 환경하에서 5일간 보온하고, 점착제를 경화시켜 실시예 1의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.The pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 was coated on the surface of a 38 占 퐉 -thick polyethylene terephthalate film so that the thickness after drying was 20 占 퐉 and dried in a hot air circulating oven at 100 占 폚 for 2 minutes to form a pressure- . Thereafter, the release agent layer (silicone-treated surface) of the release film of Example 1 prepared above was bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. The obtained pressure-sensitive adhesive film was kept at 40 캜 for 5 days, and the pressure-sensitive adhesive was cured to obtain an antistatic surface protective film of Example 1.

[실시예 2∼6][Examples 2 to 6]

실시예 1의 점착제 조성물을 각각, 실시예 2∼6의 점착제 조성물로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 2∼6의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.An antistatic surface protective film of each of Examples 2 to 6 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 was changed to the pressure-sensitive adhesive composition of each of Examples 2 to 6.

[비교예 1][Comparative Example 1]

부가 반응형의 실리콘(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SRX-345) 5중량부, 톨루엔과 초산에틸의 1:1의 혼합 용매 95중량부 및 백금 촉매(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SRX-212 캐탈리스트) 0.05중량부를 혼합해 교반·혼합하여, 비교예 1의 박리제층을 형성하는 도료를 조정하였다. 두께가 38㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에, 비교예 1의 박리제층을 형성하는 도료를 건조 후의 두께가 0.2㎛가 되도록 메이어 바로 도포하고, 120℃의 열풍 순환식 오븐에서 1분간 건조시켜, 비교예 1의 박리 필름을 얻었다.5 parts by weight of an addition reaction type silicone (trade name: SRX-345, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), 95 parts by weight of a 1: 1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate and 100 parts by weight of a platinum catalyst (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-212 Catalyst) were mixed and stirred and mixed to prepare a coating material for forming the release agent layer of Comparative Example 1. A coating material for forming the release agent layer of Comparative Example 1 was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 占 퐉 so that the thickness after drying would be 0.2 占 퐉 and dried in a hot air circulating oven at 120 占 폚 for one minute, A release film of Comparative Example 1 was obtained.

비교예 1의 점착제 조성물을 두께가 38㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에, 건조 후의 두께가 20㎛가 되도록 도포한 후, 100℃의 열풍 순환식 오븐에서 2분간 건조시켜 점착제층을 형성하였다. 그 후, 이 점착제층의 표면에, 상기에서 제작한, 비교예 1의 박리 필름의 박리제층(실리콘 처리면)을 첩합하였다. 얻어진 점착 필름을 40℃의 환경하에서 5일간 보온하고, 점착제를 경화시켜, 비교예 1의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.The pressure-sensitive adhesive composition of Comparative Example 1 was coated on the surface of a 38 占 퐉 -thick polyethylene terephthalate film so that the thickness after drying was 20 占 퐉 and dried in a hot air circulating oven at 100 占 폚 for 2 minutes to form a pressure-sensitive adhesive layer. Thereafter, a release agent layer (silicone-treated surface) of the release film of Comparative Example 1 prepared above was bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. The obtained pressure-sensitive adhesive film was kept at an environment of 40 캜 for 5 days, and the pressure-sensitive adhesive was cured to obtain an antistatic surface protective film of Comparative Example 1.

[비교예 2][Comparative Example 2]

비교예 1의 점착제 조성물을 비교예 2의 점착제 조성물로 한 것 이외에는, 비교예 1과 동일하게 하여, 비교예 2의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.An antistatic surface protective film of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that the pressure-sensitive adhesive composition of Comparative Example 1 was replaced by the pressure-sensitive adhesive composition of Comparative Example 2.

표 7에 실시예 1∼6 및 비교예 1, 2의 대전 방지 표면 보호 필름에 있어서의 박리제층의 조성 및 두께를 나타낸다.Table 7 shows the compositions and thicknesses of the release agent layers in the antistatic surface protective films of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2.

Figure pat00007
Figure pat00007

＜시험 방법 및 평가＞<Test Method and Evaluation>

실시예 1∼6 및 비교예 1, 2에 있어서의 표면 보호 필름을 23℃, 50％RH의 분위기하에서 7일간 에이징한 후, 박리 필름(실리콘 수지 코트된 PET 필름)을 박리하여, 점착제층을 표출 시킨 것을 표면 저항률의 측정 시료로 하였다.After the surface protective films of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2 were aged for 7 days under the atmosphere of 23 ° C and 50% RH, a release film (PET resin film coated with silicone resin) was peeled off to remove the pressure- The thus-exposed sample was used as a sample for measuring the surface resistivity.

또한, 이 점착제층을 표출시킨 표면 보호 필름을 점착제층을 개재하여 액정 셀에 붙여진 편광판의 표면에 첩합하고, 1일 방치한 후, 50℃, 5기압, 20분간 오토 클레이브 처리하고, 실온에서 다시 12시간 방치한 것을 점착력, 박리 대전압, 및 리워크성의 측정 시료로 하였다.The surface protective film on which the pressure-sensitive adhesive layer was exposed was applied to the surface of the polarizing plate attached to the liquid crystal cell via the pressure-sensitive adhesive layer, allowed to stand for one day, autoclaved at 50 DEG C and 5 atm for 20 minutes, The sample was allowed to stand for 12 hours to measure adhesion, peeling electrification, and reworkability.

＜점착력＞<Adhesion>

상기에서 얻어진 측정 시료(25㎜폭의 표면 보호 필름을 편광판의 표면에 첩합한 것)를 180°방향으로 인장 시험기를 이용하여 저속 박리 속도(0.3m/min) 및 고속 박리 속도(30m/min)에서 박리하고, 측정한 박리 강도를 점착력으로 하였다.The test specimen obtained by mixing the above-obtained measurement specimen (the surface protective film having a width of 25 mm with the surface of the polarizing plate) was stretched in the 180 ° direction at a low speed peeling speed (0.3 m / min) and a high speed peeling speed (30 m / min) , And the peel strength measured was regarded as adhesive force.

＜표면 저항률＞<Surface resistivity>

에이징한 후, 편광판에 첩합시키기 전에, 박리 필름(실리콘 수지 코트 된 PET 필름)을 박리하여 점착제층을 표출시키고, 저항률계 하이레스타 UP-HT450(미츠비시 화학 애널리테크 제조)을 사용하여 점착제층의 표면 저항률을 측정하였다.After aging, a releasing film (PET resin film coated with a silicone resin) was peeled off to form a pressure-sensitive adhesive layer before being adhered to the polarizing plate, and the pressure-sensitive adhesive layer was exposed using a resistivity meter Hiresta UP-HT450 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) The surface resistivity was measured.

＜박리 대전압＞<Peeling Voltage>

상기에서 얻어진 측정 시료를 30m/min의 인장 속도로 180°박리했을 때에 편광판이 대전하여 발생하는 전압(대전압)을 고정밀도 정전기 센서 SK-035, SK-200(주식회사 키엔스 제조)을 사용하여 측정하고, 측정값의 최대값을 박리 대전압으로 하였다.The voltage (high voltage) generated when the polarizing plate was charged by 180 ° peeling at a tensile speed of 30 m / min was measured using a high-precision electrostatic sensor SK-035, SK-200 (manufactured by Keyes Corporation) , And the maximum value of the measured value was taken as the peeling electrification voltage.

＜리워크성＞<Workability>

상기에서 얻어진 측정 시료의 표면 보호 필름 위를 볼펜으로(하중 500g, 3 왕복) 덧쓴 후, 편광판으로부터 표면 보호 필름을 박리하여 편광판의 표면을 관찰하여, 편광판에 오염 이행이 없는 것을 확인하였다. 평가 목표 기준은 편광판에 오염 이행이 없는 경우를 「○」, 볼펜으로 덧쓴 궤적을 따라 적어도 일부에 오염 이행이 확인되었을 경우를 「△」, 볼펜으로 덧쓴 궤적을 따라 오염 이행이 확인되고, 점착제 표면으로부터도 점착제의 이탈이 확인된 경우를 「×」로 평가하였다.The surface protective film of the measurement sample thus obtained was overlaid with a ballpoint pen (load: 500 g, three round trips), and the surface protective film was peeled off from the polarizing plate to observe the surface of the polarizing plate. The evaluation target criterion was "◯" when no pollution was observed on the polarizer, "Δ" when the pollution was confirmed to be at least partially along the locus covered with the ballpoint pen, and the contamination was confirmed along the locus of the ballpoint pen. Quot ;, and the case where the release of the pressure-sensitive adhesive was confirmed also from &quot; X &quot;.

표 8에 평가 결과를 나타낸다. 또한, 표면 저항률은, 「m×10＋n」를 「mE＋n」으로 하는 방식(다만, m는 임의의 실수값, n은 양의 정수)에 의해 표기하였다.Table 8 shows the evaluation results. In addition, the surface resistivity is expressed by a method (m is an arbitrary real number value and n is a positive integer) in which "m x 10 + n " is set to "mE + n".

Figure pat00008
Figure pat00008

표 8에 나타낸 측정 결과로부터, 이하를 알 수 있다.From the measurement results shown in Table 8, the following can be found.

본 발명에 따른 실시예 1∼6의 대전 방지 표면 보호 필름은 적당한 점착력이 있고, 피착체의 표면에 대한 오염이 없고, 또한, 대전 방지 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리했을 때의 박리 대전압이 낮다.The antistatic surface protective film of Examples 1 to 6 according to the present invention had an appropriate adhesive force and was free from contamination to the surface of the adherend and had a peeling electrification voltage when the antistatic surface protective film was peeled from the adherend low.

한편, 실리콘 화합물 및 대전 방지제를 점착제층에 첨가한 비교예 1의 대전 방지 표면 보호 필름은 점착제층의 표면 저항률이 낮고 양호하지만, 점착력이 크기 때문에, 박리 대전압은 높고, 리워크성이 떨어지는 것이었다. 또한, 비교예 2에서는 적당한 점착력이 있지만, 점착제층의 표면 저항률이 높기 때문에, 박리 대전압이 높고, 리워크성이 떨어지는 것이었다.On the other hand, the antistatic surface protective film of Comparative Example 1 in which a silicone compound and an antistatic agent were added to the pressure-sensitive adhesive layer had a low surface resistivity of the pressure-sensitive adhesive layer and a good adhesive strength, resulting in high peeling electrification voltage and poor reworkability . In Comparative Example 2, there was a suitable adhesive force, but the peeling electrification voltage was high because the surface resistivity of the pressure-sensitive adhesive layer was high, and the workability was poor.

즉, 점착제에 실리콘 화합물과 대전 방지제를 혼합시킨 비교예 1, 2에서는 박리 대전압의 저감과 피착체에 대한 오염성을 양립하는 것이 곤란하다. 한편, 박리제층에 실리콘 화합물 및 대전 방지제를 첨가한 후, 점착제층의 표면에 실리콘 화합물 및 대전 방지제를 전사시킨 실시예 1∼6에서는 소량의 첨가량으로 박리 대전압의 저감 효과가 있기 때문에, 피착체에 대한 오염도 없고, 양호한 대전 방지 표면 보호 필름이 얻어진다.That is, in Comparative Examples 1 and 2 in which a silicone compound and an antistatic agent were mixed in a pressure-sensitive adhesive, it was difficult to achieve both reduction in peeling electrification voltage and staining property to an adherend. On the other hand, in Examples 1 to 6, in which a silicone compound and an antistatic agent were added to a release agent layer and a silicone compound and an antistatic agent were transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, there was an effect of reducing the peeling electrification by a small addition amount. A good anti-static surface protective film is obtained.

본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름은 예를 들면, 편광판, 위상차판, 디스플레이용 렌즈 필름 등의 광학용 필름, 그 밖에, 각종 광학 부품 등의 생산 공정 등에 있어서, 당해 광학 부품 등의 표면을 보호하기 위해 사용할 수 있다. 특히, 표면이 실리콘 화합물이나 불소 화합물 등에 의해 방오 처리되어 있는, LR 편광판이나 AG-LR 편광판 등의 광학용 필름의 대전 방지 표면 보호 필름으로서 사용하는 경우에는 피착체로부터 박리할 때 정전기의 발생량을 적게 할 수 있다. The antistatic surface protective film of the present invention can be used for protecting the surface of an optical component or the like in a production process such as a polarizing plate, a retardation film, a lens film for display, an optical film, Can be used for. Particularly, when the antireflection film is used as an antistatic surface protective film for an optical film such as an LR polarizing plate or an AG-LR polarizing plate whose surface has been subjected to antifouling treatment with a silicone compound, a fluorine compound or the like, the amount of static electricity can do.

본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름은 피착체에 대한 오염이 적고 또한, 경시 열화되지 않으며 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 점에서 생산 공정의 수율을 향상시킬 수 있어, 산업상 이용 가치가 크다.The antistatic surface protective film of the present invention is excellent in industrial utility value because it has less stain on the adherend, does not deteriorate with time, and has excellent peeling electrification preventing performance, thereby improving the yield of the production process.

1…기재 필름, 2…점착제층, 3…수지 필름, 4…박리제층, 5…박리 필름, 7…20℃에서 액체인 실리콘계 화합물 및 대전 방지제, 8…피착체(광학 부품), 10…대전 방지 표면 보호 필름, 11…박리 필름을 박리한 대전 방지 표면 보호 필름, 20…대전 방지 표면 보호 필름을 첩합한 광학 부품.One… Base film, 2 ... Adhesive layer, 3 ... Resin film, 4 ... The release agent layer, 5 ... Peeling film, 7 ... Silicone compounds and antistatic agents which are liquid at 20 占 폚, 8 ... Adhesive (optical parts), 10 ... Antistatic surface protection film, 11 ... Antistatic surface protection film with exfoliating film, 20 ... Antistatic surface protective film.

Claims (13)

대전 방지 표면 보호 필름으로서, 다음의 공정(1)∼(2),
공정(1): 투명성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름의 한쪽 면에 (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 적어도 1종과, 공중합 가능한 모노머군으로서 (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머와, (C) 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머와, (D) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머와, (E) 수산기를 함유하지 않는 질소 함유 비닐 모노머 또는 알콕시기 함유 알킬(메타)아크릴레이트 모노머로 이루어지는 공중합 가능한 모노머군 중에서 선택된 적어도 1종을 포함하는 공중합체의 아크릴계 폴리머로 이루어지고, 추가로 (F) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물과, (G) 가교 촉진제와, (H) 케토엔올 호변이성체 화합물을 함유하는 점착제 조성물로 이루어지는 점착제층을 형성하는 공정과,
공정(2): 상기 점착제층의 표면에, 수지 필름의 한쪽 면에 대전 방지제를 함유하는 박리제층이 적층된 박리 필름을, 상기 박리제층을 개재하여 첩합하는 공정을 순서대로 거쳐 제작되어 이루어지고,
상기 박리제층이 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와, 20℃에서 액체인 실리콘계 화합물과, 상기 대전 방지제를 포함하는 수지 조성물에 의해 형성되어 이루어지고, 상기 점착제층의 박리 대전압이 ±0.6㎸ 이하인 대전 방지 표면 보호 필름.As the antistatic surface protective film, the following steps (1) to (2) and
(A) a monomer copolymerizable with at least one kind of (meth) acrylic acid ester monomer having an alkyl group of C4 to C18 on one side of a base film made of a resin having transparency, and (B) (C) a copolymerizable monomer containing a carboxyl group, (D) a polyalkylene glycol mono (meth) acrylate monomer, and (E) a nitrogen-containing vinyl monomer or alkoxy group (F) an isocyanate compound having at least two functional groups, (G) a cross-linking accelerator, and (D) a polyfunctional isocyanate compound. (H) a pressure-sensitive adhesive composition comprising a pressure-sensitive adhesive composition containing a keto-enol tautomer compound,
Step (2): a step of, on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, a step of adhering a release film having a release agent layer containing an antistatic agent on one side of the resin film laminated via the release agent layer in this order,
Wherein the releasing agent layer is formed of a releasing agent comprising dimethylpolysiloxane as a main component, a silicone compound as a liquid at 20 占 폚 and a resin composition containing the antistatic agent, wherein the peeling electrification voltage of the pressure- Anti-surface protective film. 제 1 항에 있어서,
상기 (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머가 8-히드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, N-히드록시(메타)아크릴아미드, N-히드록시메틸(메타)아크릴아미드, N-히드록시에틸(메타)아크릴아미드로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상이고,
상기 (C) 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머가 (메타)아크릴산, 카르복시에틸(메타)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸헥사히드로프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시프로필헥사히드로프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸말레산, 카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸테트라히드로프탈산으로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상인 대전 방지 표면 보호 필름.The method according to claim 1,
(Meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxyethyl (Meth) acrylate, N-hydroxy (meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide and N-hydroxyethyl
(Meth) acrylic acid, carboxyethyl (meth) acrylate, carboxypentyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethylhexahydrophthalic acid, 2- (Meth) acryloyloxyethylmaleic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylphthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylsuccinic acid, 2- (Meth) acrylate mono (meth) acrylate, and 2- (meth) acryloyloxyethyl tetrahydrophthalic acid. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 (D) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머가 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트, 에톡시폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트 중에서 선택된 적어도 1종 이상인 대전 방지 표면 보호 필름.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the polyalkylene glycol mono (meth) acrylate monomer (D) is at least one selected from the group consisting of polyalkylene glycol mono (meth) acrylate, methoxypolyalkylene glycol (meth) acrylate, ethoxypolyalkylene glycol Wherein the antistatic surface protective film is at least one selected from the group consisting of an antistatic surface protective film, 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 아크릴계 폴리머가 상기 공중합 가능한 모노머군으로서 상기 (E) 수산기를 함유하지 않는 질소 함유 비닐 모노머 또는 알콕시기 함유 알킬(메타)아크릴레이트 모노머의 적어도 1종 이상을 포함하는 대전 방지 표면 보호 필름.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the acrylic polymer comprises at least one or more of nitrogen-containing vinyl monomers or alkoxy group-containing alkyl (meth) acrylate monomers (E) containing no hydroxyl group as the copolymerizable monomer group. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 (F) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물로서 2관능 이소시아네이트 화합물로는, 비고리형 지방족 이소시아네이트 화합물로서, 디이소시아네이트 화합물과 디올 화합물을 반응시켜 생성된 화합물이고, 디이소시아네이트 화합물로는, 지방족 디이소시아네이트로서, 테트라메틸렌디이소시아네이트, 펜타메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 1종과, 디올 화합물로는, 2-메틸-1,3-프로판디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올, 2-메틸-2-프로필-1,3-프로판디올, 2-에틸-2-부틸-1,3-프로판디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올 모노히드록시피발레이트, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 1종으로 이루어지고, 3관능 이소시아네이트 화합물로는, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 뷰렛체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 뷰렛체, 톨릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 수첨 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 톨릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 수첨 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체로 이루어지는 대전 방지 표면 보호 필름.3. The method according to claim 1 or 2,
The bifunctional isocyanate compound (F) as the bifunctional or higher functional isocyanate compound is a compound produced by reacting a diisocyanate compound with a diol compound as an alicyclic aliphatic isocyanate compound. Examples of the diisocyanate compound include aliphatic diisocyanates such as tetra Methylene-1,3-propanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 2-methyl-1,3-propanediol and the like can be used as a diol compound selected from the group consisting of methylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, Propylene-1,3-propanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, 3-methyl- Pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol monohydroxypivalate, polyethylene glycol, and polypropylene glycol. Examples of the trifunctional isocyanate compound include an isocyanurate compound of a hexamethylene diisocyanate compound, an isocyanurate compound of an isophorone diisocyanate compound, an adduct of an hexamethylene diisocyanate compound, an isophorone diisocyanate compound of an isophorone diisocyanate compound, An isocyanurate compound of a tolylene diisocyanate compound, an isocyanurate compound of a xylylene diisocyanate compound, an isocyanurate compound of a xylylene diisocyanate compound, an isocyanurate compound of a xylylene diisocyanate compound, an isocyanurate compound of a xylylene diisocyanate compound, An antistatic surface protective film comprising an isocyanurate of a lyrylenedisocyanate compound, an adduct of a tolylene diisocyanate compound, an adduct of a xylylene diisocyanate compound, and an adduct of a hydrogenated xylylene diisocyanate compound. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 점착제 조성물에 (I) HLB 값이 7∼15인 폴리에테르 변성 실록산 화합물을 포함하는 대전 방지 표면 보호 필름.3. The method according to claim 1 or 2,
(I) an antistatic surface protective film comprising a polyether-modified siloxane compound having an HLB value of 7 to 15. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 박리제층 중의 실리콘계 화합물이 폴리에테르 변성 실리콘인 대전 방지 표면 보호 필름.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the silicone compound in the release agent layer is a polyether-modified silicone. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 박리제층 중의 상기 대전 방지제가 알칼리 금속염인 대전 방지 표면 보호 필름.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the antistatic agent in the release agent layer is an alkali metal salt. 투명성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름의 한쪽 면에, (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 적어도 1종과, 공중합 가능한 모노머군으로서 (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머와, (C) 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머와, (D) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머와, (E) 수산기를 함유하지 않는 질소 함유 비닐 모노머 또는 알콕시기 함유 알킬(메타)아크릴레이트 모노머로 이루어지는 공중합 가능한 모노머군 중에서 선택된 적어도 1종을 포함하는 공중합체의 아크릴계 폴리머로 이루어지는 점착제층과, 수지 필름의 한쪽 면에 대전 방지제를 함유하는 박리제층이 적층된 박리 필름이 상기 점착제층과 상기 박리제층이 접하도록, 순서대로 적층하여 이루지고, 상기 박리제층이 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와, 20℃에서 액체인 실리콘계 화합물과, 대전 방지제를 포함하는 수지 조성물에 의해 형성되어 이루어지고, 상기 점착제층의 박리 대전압이 ±0.6㎸ 이하인 대전 방지 표면 보호 필름.(A) a monomer copolymerizable with at least one of (A) a (meth) acrylic acid ester monomer having an alkyl group of C4 to C18 in the presence of a hydroxyl group (D) a polyalkylene glycol mono (meth) acrylate monomer; and (E) a nitrogen-containing vinyl monomer or alkoxy group-containing alkyl (meth) acrylate containing no hydroxyl group. ) Acrylate monomers and a releasing film laminated with a releasing agent layer containing an antistatic agent on one side of the resin film are adhered to the pressure-sensitive adhesive layer Layer and the releasing agent layer are in contact with each other, and the releasing agent layer is laminated in this order, An antistatic surface protective film formed by a releasing agent comprising a polysiloxane as a main component, a silicone compound as a liquid at 20 占 폚, and a resin composition containing an antistatic agent, wherein the peeling electrification voltage of the pressure sensitive adhesive layer is? 제 9 항에 있어서,
상기 박리제층 중의 실리콘계 화합물이 폴리에테르 변성 실리콘인 대전 방지 표면 보호 필름.10. The method of claim 9,
Wherein the silicone compound in the release agent layer is a polyether-modified silicone. 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,
상기 박리제층 중의 상기 대전 방지제가 알칼리 금속염인 대전 방지 표면 보호 필름.11. The method according to claim 9 or 10,
Wherein the antistatic agent in the release agent layer is an alkali metal salt. 제 9 항 또는 제 10 항의 대전 방지 표면 보호 필름이 첩합되어 이루어지는 광학용 필름.An optical film in which the antistatic surface protective film of claim 9 or 10 is bonded. 제 9 항 또는 제 10 항의 대전 방지 표면 보호 필름이 첩합되어 이루어지는 광학 부품.An optical component in which the antistatic surface protective film of claim 9 or 10 is bonded.
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