JP6876855B2 - Release film for antistatic surface protection film - Google Patents

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本発明は、粘着剤組成物及び表面保護フィルムに関する。さらに詳細には、帯電防止性能を備えた帯電防止表面保護フィルムに関する。さらに詳細には、被着体に対する汚染性が少なく、且つ、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有する帯電防止表面保護フィルムの製造方法、および帯電防止表面保護フィルムを提供するものである。 The present invention relates to pressure-sensitive adhesive compositions and surface protective films. More specifically, the present invention relates to an antistatic surface protective film having antistatic performance. More specifically, the present invention provides a method for producing an antistatic surface protective film, which is less contaminated with an adherend and has excellent peeling antistatic performance without deterioration over time, and an antistatic surface protective film.

偏光板、位相差板、ディスプレイ用のレンズフィルム、反射防止フィルム、ハードコートフィルム、タッチパネル用透明導電性フィルム等の光学用フィルム、及びそれを用いたディスプレイなどの光学製品を製造、搬送する際には、該光学用フィルムの表面に表面保護フィルムを貼合して、後工程における表面の汚れや傷付きを防止することがなされている。製品である光学用フィルムの外観検査は、表面保護フィルムを剥がして、再び、貼合する手間を省いて作業効率を高めるため、表面保護フィルムを光学用フィルムに貼合したまま行うこともある。
従来から、基材フィルムの片面に、粘着剤層を設けた表面保護フィルムが、光学製品の製造工程において、傷や汚れの付着を防止するために、一般的に使用されている。表面保護フィルムは、微粘着力の粘着剤層を介して光学用フィルムに貼合される。粘着剤層を微粘着力とするのは、使用済みの表面保護フィルムを光学用フィルムの表面から剥離して取り除くときに、容易に剥離でき、且つ、粘着剤が、被着体である製品の光学用フィルムに付着して残留しないようにする(いわゆる、糊残りの発生を防ぐ)ためである。
When manufacturing and transporting optical films such as polarizing plates, retardation plates, lens films for displays, antireflection films, hard coat films, transparent conductive films for touch panels, and optical products such as displays using them. Is made by sticking a surface protective film on the surface of the optical film to prevent the surface from being soiled or scratched in a subsequent step. The appearance inspection of the optical film, which is a product, may be performed with the surface protective film attached to the optical film in order to save the trouble of peeling off the surface protective film and attaching it again to improve work efficiency.
Conventionally, a surface protective film having an adhesive layer provided on one side of a base film has been generally used in the manufacturing process of an optical product in order to prevent the adhesion of scratches and stains. The surface protective film is attached to the optical film via an adhesive layer having a slight adhesive strength. The reason why the adhesive layer has a slight adhesive strength is that the used surface protective film can be easily peeled off when it is peeled off from the surface of the optical film, and the adhesive is an adherend of the product. This is to prevent the adhesive from adhering to the optical film and remaining (so-called adhesive residue is prevented).

近年、液晶ディスプレイパネルの生産工程において、光学用フィルムの上に貼合された表面保護フィルムを、剥離して取り除くときに発生する剥離帯電圧により、液晶ディスプレイパネルの表示画面を制御するための、ドライバーIC等の回路部品が破壊される現象や、液晶分子の配向が損傷する現象が、発生件数は少ないながらも起きている。
また、液晶ディスプレイパネルの消費電力を低減させるため、液晶材料の駆動電圧が低くなってきており、これに伴って、ドライバーICの破壊電圧も低くなっている。最近では、剥離帯電圧を+0.7kV〜−0.7kVの範囲内にすることが求められてきている。
このため、表面保護フィルムを、被着体である光学用フィルムから剥離する時に、剥離帯電圧が高いことによる不具合を防止するため、剥離帯電圧を低く抑えるための帯電防止剤を含む粘着剤層を用いた表面保護フィルムが、提案されている。
In recent years, in the production process of a liquid crystal display panel, the display screen of the liquid crystal display panel is controlled by the peeling band voltage generated when the surface protective film bonded on the optical film is peeled off and removed. Although the number of occurrences is small, the phenomenon that circuit parts such as driver ICs are destroyed and the phenomenon that the orientation of liquid crystal molecules is damaged are occurring.
Further, in order to reduce the power consumption of the liquid crystal display panel, the driving voltage of the liquid crystal material is getting lower, and the breaking voltage of the driver IC is also getting lower accordingly. Recently, it has been required to set the peeling band voltage within the range of +0.7 kV to −0.7 kV.
Therefore, when the surface protective film is peeled from the optical film as an adherend, an adhesive layer containing an antistatic agent for suppressing the peeling band voltage is prevented in order to prevent a problem due to a high peeling band voltage. A surface protective film using the above has been proposed.

例えば、特許文献1には、アルキルトリメチルアンモニウム塩、水酸基含有アクリル系ポリマー、ポリイソシアネートからなる粘着剤を用いた、表面保護フィルムが開示されている。
また、特許文献2には、イオン性液体と酸価が1.0以下のアクリルポリマーからなる粘着剤組成物、及びそれを用いた粘着シート類が開示されている。
また、特許文献3には、アクリルポリマー、ポリエーテルポリオール化合物、アニオン吸着性化合物により処理したアルカリ金属塩からなる粘着組成物、及びそれを用いた表面保護フィルムが開示されている。
また、特許文献4には、イオン性液体、アルカリ金属塩、ガラス転移温度0℃以下のポリマーからなる粘着剤組成物、及びそれを用いた表面保護フィルムが開示されている。
また、特許文献5,6には、表面保護フィルムの粘着剤層の中に、ポリエーテル変性シリコーンを混合することが示されている。
For example, Patent Document 1 discloses a surface protective film using a pressure-sensitive adhesive composed of an alkyltrimethylammonium salt, a hydroxyl group-containing acrylic polymer, and a polyisocyanate.
Further, Patent Document 2 discloses a pressure-sensitive adhesive composition composed of an ionic liquid and an acrylic polymer having an acid value of 1.0 or less, and pressure-sensitive adhesive sheets using the same.
Further, Patent Document 3 discloses an adhesive composition composed of an acrylic polymer, a polyether polyol compound, an alkali metal salt treated with an anion-adsorbing compound, and a surface protective film using the same.
Further, Patent Document 4 discloses an adhesive composition composed of an ionic liquid, an alkali metal salt, a polymer having a glass transition temperature of 0 ° C. or lower, and a surface protective film using the same.
Further, Patent Documents 5 and 6 show that a polyether-modified silicone is mixed in the pressure-sensitive adhesive layer of the surface protective film.

特開2005−131957号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-131957 特開2005−330464号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-330464 特開2005−314476号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-314476 特開2006−152235号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-152235 特開2009−275128号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-275128 特許第4537450号公報Japanese Patent No. 4537450

上記の特許文献1〜4では、粘着剤層の内部に帯電防止剤が添加されているが、粘着剤層の厚みが厚くなる程、また、経過時間が経つにつれて、表面保護フィルムの貼合された被着体に対して、粘着剤層から被着体へ移行する帯電防止剤の量が多くなる。また、LR(Low Reflective)偏光板やAG(Anti Glare)−LR偏光板などの光学用フィルムでは、光学用フィルムの表面が、シリコーン化合物やフッ素化合物などで防汚染処理されているため、このような光学用フィルムに使用する表面保護フィルムを、被着体である光学用フィルムから剥離する時の剥離帯電圧が高くなる。 In Patent Documents 1 to 4 described above, an antistatic agent is added to the inside of the pressure-sensitive adhesive layer, but the surface protective film is bonded as the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer increases and as the elapsed time elapses. The amount of antistatic agent transferred from the pressure-sensitive adhesive layer to the adherend increases with respect to the adherend. Further, in optical films such as LR (Low Reflective) polarizing plates and AG (AntiGale) -LR polarizing plates, the surface of the optical film is treated with a silicone compound, a fluorine compound, or the like to prevent stains. When the surface protective film used for the optical film is peeled off from the optical film as an adherend, the peeling band voltage becomes high.

また、特許文献5,6に記載の、粘着剤層の中にポリエーテル変性シリコーンを混合した場合には、表面保護フィルムの粘着力を微調整することが難しい。また、粘着剤層内に、ポリエーテル変性シリコーンを混ぜているため、粘着剤組成物を基材フィルムの上に塗工・乾燥する条件が変化すると、表面保護フィルムの形成された粘着剤層の表面の特性が、微妙に変化する。さらに、光学用フィルムの表面を保護するという観点から、粘着剤層の厚さを極端に薄くすることができない。そのため、粘着剤層の厚みに応じて、粘着剤層内に混ぜるポリエーテル変性シリコーンの添加量を増やす必要があり、結果的に、被着体表面を汚染し易くなり、経時での粘着力や被着体に対する汚染性が変化する。 Further, when the polyether-modified silicone described in Patent Documents 5 and 6 is mixed in the pressure-sensitive adhesive layer, it is difficult to finely adjust the adhesive strength of the surface protective film. Further, since the polyether-modified silicone is mixed in the pressure-sensitive adhesive layer, when the conditions for coating and drying the pressure-sensitive adhesive composition on the base film change, the pressure-sensitive adhesive layer on which the surface protective film is formed The surface properties change subtly. Further, from the viewpoint of protecting the surface of the optical film, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer cannot be made extremely thin. Therefore, it is necessary to increase the amount of the polyether-modified silicone mixed in the pressure-sensitive adhesive layer according to the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer. The contamination of the adherend changes.

近年、3Dディスプレイ(立体視ディスプレイ)の普及に伴い、偏光板等の光学用フィルムの表面にFPR(Film Patterned Retarder)フィルムを貼合したものがある。偏光板等の光学用フィルムの表面に貼合されていた表面保護フィルムを剥がした後に、FPRフィルムが貼合される。しかし、偏光板等の光学用フィルムの表面が、表面保護フィルムに使用している粘着剤や帯電防止剤で汚染されていると、FPRフィルムが接着し難いという問題がある。このため、当該用途に用いる表面保護フィルムには、被着体に対する汚染の少ないものが求められている。 In recent years, with the widespread use of 3D displays (stereoscopic displays), there are some films in which an FPR (Film Patterned Render) film is attached to the surface of an optical film such as a polarizing plate. After peeling off the surface protective film attached to the surface of the optical film such as a polarizing plate, the FPR film is attached. However, if the surface of an optical film such as a polarizing plate is contaminated with an adhesive or an antistatic agent used for the surface protective film, there is a problem that the FPR film is difficult to adhere. Therefore, the surface protective film used for this purpose is required to have less contamination on the adherend.

一方、いくつかの液晶パネルメーカーにおいては、表面保護フィルムの被着体に対する汚染性の評価方法として、偏光板等の光学用フィルムに貼合されている表面保護フィルムを一度剥がし、気泡を混入させた状態で再貼合したものを所定条件で加熱処理し、その後、表面保護フィルムを剥がして被着体の表面を観察する方法が採用されている。このような評価方法では、被着体の表面汚染が微量であっても、気泡を混入させた部分と、表面保護フィルムの粘着剤が接していた部分とで、被着体の表面汚染の差があると、気泡の跡(気泡ジミと言うこともある)として残る。そのため、被着体の表面に対する汚染性の評価方法としては、非常に厳しい評価方法となる。近年、こうした厳しい評価方法による判定の結果でも、被着体の表面に対する汚染性に問題がない表面保護フィルムが求められている。しかし従来から提案されている、帯電防止剤を含有する粘着剤層を用いた表面保護フィルムでは、当該課題を解決するのが難しい状況にあった。 On the other hand, in some liquid crystal panel makers, as a method of evaluating the contamination of the surface protective film on the adherend, the surface protective film attached to the optical film such as a polarizing plate is once peeled off and air bubbles are mixed. A method is adopted in which the reattached film is heat-treated under predetermined conditions, and then the surface protective film is peeled off to observe the surface of the adherend. In such an evaluation method, even if the surface contamination of the adherend is very small, the difference in surface contamination of the adherend is between the portion where air bubbles are mixed and the portion where the adhesive of the surface protective film is in contact. If there is, it remains as a trace of bubbles (sometimes called bubble stain). Therefore, it is a very strict evaluation method as a method for evaluating the contamination of the surface of the adherend. In recent years, even as a result of judgment by such a strict evaluation method, there is a demand for a surface protective film that does not have a problem of stainability on the surface of the adherend. However, it has been difficult to solve the problem with the conventionally proposed surface protective film using an adhesive layer containing an antistatic agent.

このため、光学用フィルムに使用する表面保護フィルムであって、被着体に対する汚染が非常に少なく、かつ、被着体に対する汚染性が経時変化しないものが必要とされている。さらに、被着体から剥離する時の剥離帯電圧を、低く抑えた表面保護フィルムが求められている。 For this reason, there is a need for a surface protective film used for an optical film, which has very little contamination on the adherend and whose stainability on the adherend does not change with time. Further, there is a demand for a surface protective film in which the peeling band voltage at the time of peeling from the adherend is suppressed to a low level.

本発明者らは、この課題を解決することについて、鋭意、検討を行なった。
被着体に対する汚染が少なく、且つ、帯電防止性能の経時変化も少なくするためには、被着体を汚染している原因と推測される帯電防止剤の添加量を減量させる必要がある。しかし、帯電防止剤の添加量を減量させた場合には、表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、剥離帯電圧が高くなってしまう。本発明者らは、帯電防止剤の添加量の絶対量を増加させないで、表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、剥離帯電圧を低く抑える方法について検討した。その結果、粘着剤組成物の中に、帯電防止剤を添加し混ぜて粘着剤層を形成するのではなく、粘着剤組成物を塗工・乾燥させて粘着剤層を積層した後に、粘着剤層の表面に、適量の帯電防止剤の成分を付与することにより、表面保護フィルムを、被着体である光学用フィルムから剥離する時の、剥離帯電圧を低く抑えられることを見出し、本発明を完成した。
The present inventors have diligently studied to solve this problem.
In order to reduce the contamination of the adherend and the change in antistatic performance with time, it is necessary to reduce the amount of the antistatic agent added, which is presumed to be the cause of contaminating the adherend. However, when the amount of the antistatic agent added is reduced, the peeling band voltage when the surface protective film is peeled from the adherend becomes high. The present inventors have studied a method of suppressing the peeling band voltage when peeling the surface protective film from the adherend without increasing the absolute amount of the antistatic agent added. As a result, instead of adding an antistatic agent and mixing them to form a pressure-sensitive adhesive layer in the pressure-sensitive adhesive composition, the pressure-sensitive adhesive composition is applied and dried to laminate the pressure-sensitive adhesive layer, and then the pressure-sensitive adhesive is applied. We have found that by applying an appropriate amount of an antistatic agent component to the surface of the layer, the peeling band voltage when the surface protective film is peeled from the optical film as an adherend can be suppressed to a low level, and the present invention has been made. Was completed.

本発明は、上記事情に鑑みて成されたものであって、被着体に対する汚染が少なく、且つ、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有する帯電防止表面保護フィルムの製造方法、および帯電防止表面保護フィルムを提供することを課題とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and is a method for producing an antistatic surface protective film having less contamination on the adherend and excellent peeling antistatic performance without deterioration over time, and charging. An object of the present invention is to provide a preventive surface protective film.

上記の課題を解決するため、本発明の帯電防止表面保護フィルムは、粘着剤組成物を塗工・乾燥して粘着剤層を積層した後に、その粘着剤層の表面に適量の20℃において液体のシリコーン系化合物および帯電防止剤を付与することにより、被着体に対する汚染性を低く抑えた上、被着体である光学用フィルムから剥離する時の剥離帯電圧を低く抑えることを技術思想としている。 In order to solve the above problems, the antistatic surface protective film of the present invention is a liquid at an appropriate amount of 20 ° C. on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer after the pressure-sensitive adhesive composition is applied and dried to laminate the pressure-sensitive adhesive layer. By adding the silicone-based compound and antistatic agent of the above, the technical idea is to keep the contamination property to the adherend low and to keep the peeling band voltage low when peeling from the optical film which is the adherend. There is.

上記の課題を解決するため、本発明は、透明性を有する樹脂からなる基材フィルムの片面に、粘着剤層が形成されてなり、前記粘着剤層の表面に帯電防止剤が転写されてなる、帯電防止表面保護フィルムの製造方法であって、前記粘着剤層は、アクリル系ポリマーと、(D)2官能以上のイソシアネート化合物と、(E)架橋促進剤と、(F)ケトエノール互変異性体化合物と、を含有する粘着剤組成物を架橋させた粘着剤層であり、前記アクリル系ポリマーが、(A)アルキル基の炭素数が、C4〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも1種と、共重合可能なモノマー群として、(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーと、(C)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーまたはアルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーと、からなる共重合可能なモノマー群の中から選択された少なくとも1種と、を共重合させたアクリル系ポリマーであり、前記(E)架橋促進剤に対する前記(F)ケトエノール互変異性体化合物の割合として、(E):(F)の重量比が1:80〜1:500であり、樹脂フィルムの片面に、帯電防止剤を含有する剥離剤層が積層されてなり、前記剥離剤層が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、20℃において液体のシリコーン系化合物と、帯電防止剤とを含む樹脂組成物により形成されてなる剥離フィルムを、前記剥離剤層を介して前記粘着剤層の表面に貼り合せた後に、前記粘着剤層の表面から前記剥離フィルムを剥がして、前記粘着剤層の表面のみに、前記剥離剤層の前記シリコーン系化合物および前記帯電防止剤を転写することを特徴とする帯電防止表面保護フィルムの製造方法を提供する。 In order to solve the above problems, in the present invention, a pressure-sensitive adhesive layer is formed on one side of a base film made of a transparent resin, and an antioxidant is transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. , A method for producing an antistatic surface protective film, wherein the pressure-sensitive adhesive layer is composed of an acrylic polymer, (D) a bifunctional or higher functional isocyanate compound, (E) a cross-linking accelerator, and (F) ketoenol copolymer. A pressure-sensitive adhesive layer obtained by cross-linking a pressure-sensitive adhesive composition containing a body compound, wherein the acrylic polymer has at least (meth) acrylic acid ester monomer having (A) alkyl groups having C4 to C18 carbon atoms. As a group of copolymerizable monomers, (B) a copolymerizable monomer containing a hydroxyl group, and (C) a nitrogen-containing vinyl monomer containing no hydroxyl group or an alkoxy group-containing alkyl (meth) acrylate monomer It is an acrylic polymer obtained by copolymerizing at least one selected from the copolymerizable monomer group, and as the ratio of the (F) ketoenol tetherable compound to the (E) cross-linking accelerator. , (E): (F) have a weight ratio of 1:80 to 1: 500, and a release agent layer containing an antioxidant is laminated on one side of the resin film, and the release agent layer is dimethyl. A release film formed of a resin composition containing a release agent containing a polysiloxane as a main component, a silicone-based compound liquid at 20 ° C., and an antistatic agent is formed through the release agent layer to form the pressure-sensitive adhesive layer. The release film is peeled off from the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, and the silicone-based compound of the release agent layer and the antistatic agent are transferred only to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. Provided is a method for producing a characteristic antistatic surface protective film.

また、前記共重合可能なモノマー群として、さらに、(G)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーを含むことが好ましい。 Further, it is preferable that the copolymerizable monomer group further contains (G) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer.

また、前記(E)架橋促進剤が、アルミニウムキレート化合物、チタンキレート化合物、鉄キレート化合物からなる群の中から選択された少なくとも1種以上であることが好ましい。 Further, it is preferable that the (E) cross-linking accelerator is at least one selected from the group consisting of an aluminum chelate compound, a titanium chelate compound, and an iron chelate compound.

また、前記(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーが、8−ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、6−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、N−ヒドロキシ(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミドからなる化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上であることが好ましい。 The copolymerizable monomer containing the (B) hydroxyl group is 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, or 2-hydroxyethyl (meth). ) At least one selected from the compound group consisting of acrylate, N-hydroxy (meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, and N-hydroxyethyl (meth) acrylamide is preferable.

また、前記(G)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーが、ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリレートの中から選択された、少なくとも一種以上であることが好ましい。 Further, the (G) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer is selected from polyalkylene glycol mono (meth) acrylate, methoxypolyalkylene glycol (meth) acrylate, and ethoxypolyalkylene glycol (meth) acrylate. Moreover, it is preferable that there is at least one kind or more.

また、前記(D)2官能以上のイソシアネート化合物として、2官能イソシアネート化合物としては、非環式脂肪族イソシアネート化合物で、ジイソシアネート化合物とジオール化合物とを反応させて生成された化合物であり、ジイソシアネート化合物としては、脂肪族ジイソシアネートであり、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネートからなる化合物群の中から選択された一種と、ジオール化合物としては、2−メチル−1,3−プロパンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオールモノヒドロキシピバレート、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールからなる化合物群の中から選択された一種からなり、3官能イソシアネート化合物としては、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、イソホロンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のアダクト体、イソホロンジイソシアネート化合物のアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のビュレット体、イソホロンジイソシアネート化合物のビュレット体、トリレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、キシリレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、水添キシリレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、トリレンジイソシアネート化合物のアダクト体、キシリレンジイソシアネート化合物のアダクト体、水添キシリレンジイソシアネート化合物のアダクト体、からなることが好ましい。 Further, as the (D) bifunctional or higher functional isocyanate compound, the bifunctional isocyanate compound is an acyclic aliphatic isocyanate compound, which is a compound produced by reacting a diisocyanate compound with a diol compound, and is used as a diisocyanate compound. Is an aliphatic diisocyanate, which is one selected from the compound group consisting of tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, and lysine diisocyanate, and 2-methyl-1 as the diol compound. , 3-Propanediol, 2,2-dimethyl-1,3-Propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, 3 -Methyl-1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol Monohydroxypivalate, polyethylene glycol, polypropylene glycol Consists of a type selected from the compound group, and is a trifunctional isocyanate compound. Examples include isocyanurates of hexamethylene diisocyanate compounds, isocyanurates of isophorone diisocyanate compounds, adducts of hexamethylene diisocyanate compounds, adducts of isophorone diisocyanate compounds, bullets of hexamethylene diisocyanate compounds, and bullets of isophorone diisocyanate compounds. Isocyanurate of tolylene diisocyanate compound, isocyanurate of xylylene diisocyanate compound, isocyanurate of hydrogenated xylylene diisocyanate compound, adduct of tolylene diisocyanate compound, adduct of xylylene diisocyanate compound, hydrogenated xylylene diisocyanate It is preferably composed of a compound adduct.

また、前記粘着剤組成物にHLB値が7〜15である(H)ポリエーテル変性シロキサン化合物を含むことが好ましい。 Further, it is preferable that the pressure-sensitive adhesive composition contains a (H) polyether-modified siloxane compound having an HLB value of 7 to 15.

また、前記剥離剤層中のシリコーン系化合物が、ポリエーテル変性シリコーンであることが好ましい。 Further, it is preferable that the silicone compound in the release agent layer is a polyether-modified silicone.

また、前記剥離剤層中の前記帯電防止剤が、アルカリ金属塩であることが好ましい。 Further, it is preferable that the antistatic agent in the release agent layer is an alkali metal salt.

また、上記の課題を解決するため、本発明は、透明性を有する樹脂からなる基材フィルムの片面に、(A)アルキル基の炭素数が、C4〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも1種と、共重合可能なモノマー群として、カルボキシル基を含有する共重合可能なモノマーを含まないが、(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーと、(C)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーまたは水酸基を含有しないアルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーと、からなる共重合可能なモノマー群の中から選択された少なくとも1種と、を共重合させた共重合体からなるアクリル系ポリマーと、さらに、(D)2官能以上のイソシアネート化合物と、(E)架橋促進剤と、(F)ケトエノール互変異性体化合物と、を含有する粘着剤組成物を架橋させた粘着剤層が形成されてなり、前記粘着剤層の表面に、樹脂フィルムの片面に帯電防止剤を含有する剥離剤層が積層された剥離フィルムが、前記剥離剤層を介して貼り合わせてなり、前記剥離剤層が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、20℃において液体のシリコーン系化合物と、帯電防止剤とを含む樹脂組成物により形成されてなり、前記粘着剤層の表面のみに、前記剥離剤層の前記シリコーン系化合物および前記帯電防止剤が転写されてなり、前記(E)架橋促進剤に対する前記(F)ケトエノール互変異性体化合物の割合として、(E):(F)の重量比が1:80〜1:500であることを特徴とする帯電防止表面保護フィルムを提供する。 Further, in order to solve the above problems, in the present invention, on one side of a base film made of a transparent resin, a (meth) acrylic acid ester monomer having (A) alkyl groups having C4 to C18 carbon atoms is used. The copolymerizable monomer group with at least one type does not contain a copolymerizable monomer containing a carboxyl group, but (B) a copolymerizable monomer containing a hydroxyl group and (C) a nitrogen containing no hydroxyl group. Acrylic based on a copolymer obtained by copolymerizing a vinyl-containing monomer or an alkoxy group-containing alkyl (meth) acrylate monomer containing no hydroxyl group and at least one selected from the copolymerizable monomer group. A pressure-sensitive adhesive layer obtained by cross-linking a pressure-sensitive adhesive composition containing a polymer, (D) a bifunctional or higher-functional isocyanate compound, (E) a cross-linking accelerator, and (F) a ketoenol copolymer compound. A release film formed by laminating a release agent layer containing an antioxidant on one side of the resin film on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer is bonded via the release agent layer to form the release agent. The layer is formed of a resin composition containing a release agent containing a dimethylpolysiloxane as a main component, a silicone-based compound that is liquid at 20 ° C., and an antioxidant, and is formed only on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. The weight of (E): (F) as the ratio of the (F) ketoenol copolymer compound to the (E) cross-linking accelerator obtained by transferring the silicone-based compound and the antistatic agent in the release agent layer. Provided is an antistatic surface protective film characterized by a ratio of 1:80 to 1: 500.

また、前記共重合可能なモノマー群として、さらに、(G)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーを含むことが好ましい。 Further, it is preferable that the copolymerizable monomer group further contains (G) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer.

また、前記剥離剤層中のシリコーン系化合物が、ポリエーテル変性シリコーンであることが好ましい。 Further, it is preferable that the silicone compound in the release agent layer is a polyether-modified silicone.

また、前記剥離剤層中の前記帯電防止剤が、アルカリ金属塩であることが好ましい。 Further, it is preferable that the antistatic agent in the release agent layer is an alkali metal salt.

また、本発明は、上記の帯電防止表面保護フィルムが貼り合わされてなる光学用フィルムを提供する。 The present invention also provides an optical film to which the above antistatic surface protective film is bonded.

また、本発明は、上記の帯電防止表面保護フィルムが貼り合わされてなる光学部品を提供する。 The present invention also provides an optical component to which the above antistatic surface protective film is bonded.

本発明の帯電防止表面保護フィルムは、被着体に対する汚染が少なく、被着体に対する低汚染性が経時変化しない。また、本発明によれば、LR偏光板やAG−LR偏光板などの、被着体の表面が、シリコーン化合物やフッ素化合物などで防汚染処理してある光学用フィルムであっても、帯電防止表面保護フィルムを、被着体から剥離する時に発生する剥離帯電圧を低く抑えることができ、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有する帯電防止表面保護フィルムを提供できる。
本発明の帯電防止表面保護フィルムによれば、光学用フィルムの表面を確実に保護することができることから、生産性の向上と歩留まりの向上を図ることができる。
The antistatic surface protective film of the present invention has less contamination on the adherend, and the low contamination on the adherend does not change with time. Further, according to the present invention, even if the surface of the adherend, such as an LR polarizing plate or an AG-LR polarizing plate, is antistatically treated with a silicone compound or a fluorine compound, antistatic is prevented. It is possible to provide an antistatic surface protective film which can suppress the peeling band voltage generated when the surface protective film is peeled from an adherend to a low value and has excellent peeling antistatic performance without deterioration over time.
According to the antistatic surface protective film of the present invention, the surface of the optical film can be reliably protected, so that productivity and yield can be improved.

本発明の帯電防止表面保護フィルムの、概念を示した断面図である。It is sectional drawing which showed the concept of the antistatic surface protection film of this invention. 本発明の帯電防止表面保護フィルムから、剥離フィルムを剥がした状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which peeled off the release film from the antistatic surface protection film of this invention. 本発明の光学部品の、実施例の1つを示した断面図である。It is sectional drawing which showed one of Examples of the optical component of this invention.

以下、実施の形態に基づいて、本発明を詳しく説明する。
図1は、本発明の帯電防止表面保護フィルムの、概念を示した断面図である。この帯電防止表面保護フィルム10は、透明な基材フィルム1の片面の表面に、粘着剤層2が形成されている。この粘着剤層2の表面には、樹脂フィルム3の表面に剥離剤層4が形成された剥離フィルム5が、貼合されている。
Hereinafter, the present invention will be described in detail based on the embodiments.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a concept of the antistatic surface protective film of the present invention. In the antistatic surface protective film 10, the pressure-sensitive adhesive layer 2 is formed on the surface of one side of the transparent base film 1. On the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2, a release film 5 having a release agent layer 4 formed on the surface of the resin film 3 is bonded.

本発明に係わる帯電防止表面保護フィルム10に使用される基材フィルム1としては、透明性及び可撓性を有する樹脂からなる基材フィルムが用いられる。これにより、帯電防止表面保護フィルムを、被着体である光学部品に貼合した状態で、光学部品の外観検査を行うことができる。基材フィルム1として用いる透明性を有する樹脂からなるフィルムは、好適には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステルフィルムが用いられる。ポリエステルフィルムのほか、必要な強度を有し、かつ光学適性を有するものであれば、他の樹脂からなるフィルムも使用可能である。基材フィルム1は、無延伸フィルムであっても、一軸または二軸延伸されたフィルムであってもよい。また、延伸フィルムの延伸倍率や、延伸フィルムの結晶化に伴い形成される軸方法の配向角度を、特定の値に制御してもよい。
本発明に係わる帯電防止表面保護フィルム10に使用される基材フィルム1の厚みは、特に限定はないが、例えば、12〜100μm程度の厚みが好ましく、20〜50μm程度の厚みであれば取り扱い易く、より好ましい。
また、必要に応じて、基材フィルム1の粘着剤層2が形成された面の反対側の面に、表面の汚れを防止する防汚層、帯電防止層、傷つき防止のハードコート層などを設けることができる。また、基材フィルム1の表面に、コロナ放電による表面改質、アンカーコート剤の塗付などの易接着処理を施してもよい。
As the base film 1 used in the antistatic surface protective film 10 according to the present invention, a base film made of a transparent and flexible resin is used. This makes it possible to inspect the appearance of the optical component in a state where the antistatic surface protective film is attached to the optical component which is an adherend. As the film made of a transparent resin used as the base film 1, a polyester film such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene isophthalate, or polybutylene terephthalate is preferably used. In addition to the polyester film, a film made of another resin can be used as long as it has the required strength and optical suitability. The base film 1 may be a non-stretched film or a uniaxially or biaxially stretched film. Further, the draw ratio of the stretched film and the orientation angle of the axial method formed by crystallization of the stretched film may be controlled to a specific value.
The thickness of the base film 1 used for the antistatic surface protective film 10 according to the present invention is not particularly limited, but is preferably about 12 to 100 μm, and is easy to handle if the thickness is about 20 to 50 μm. , More preferred.
Further, if necessary, an antifouling layer for preventing surface stains, an antistatic layer, a hard coat layer for preventing scratches, and the like are provided on the surface of the base film 1 opposite to the surface on which the adhesive layer 2 is formed. Can be provided. Further, the surface of the base film 1 may be subjected to an easy adhesion treatment such as surface modification by corona discharge or application of an anchor coating agent.

また、本発明に係わる帯電防止表面保護フィルム10に使用される粘着剤層2は、被着体の表面に接着し、用済み後に簡単に剥がせ、かつ、被着体を汚染しにくい粘着剤であれば特に限定されるものではないが、光学用フィルムに貼合後の耐久性などを考慮すると(メタ)アクリレート共重合体を架橋させてなるアクリル系粘着剤を用いるのが一般的である。 Further, the adhesive layer 2 used in the antistatic surface protective film 10 according to the present invention is an adhesive that adheres to the surface of the adherend, can be easily peeled off after use, and does not easily contaminate the adherend. If this is the case, the present invention is not particularly limited, but in consideration of durability after bonding to an optical film, it is common to use an acrylic pressure-sensitive adhesive obtained by cross-linking a (meth) acrylate copolymer. ..

特に、アクリル系粘着剤の主剤が、(A)アルキル基の炭素数が、C4〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも一種と、共重合可能なモノマー群として、カルボキシル基を含有する共重合可能なモノマーを含まないが、(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーと、(C)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーまたはアルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーと、からなる共重合可能なモノマー群の中から選択された少なくとも一種と、の共重合体のアクリル系ポリマーからなる粘着剤層が好ましい。
前記共重合可能なモノマー群として、さらに、(G)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーを含むことができる。
さらに、前記アクリル系ポリマーに加えて、(D)2官能以上のイソシアネート化合物と、(E)架橋促進剤と、(F)ケトエノール互変異性体化合物と、を含有する粘着剤組成物からなる粘着剤層が好ましい。
In particular, the main agent of the acrylic pressure-sensitive adhesive contains a carboxyl group as a group of monomers copolymerizable with at least one (meth) acrylic acid ester monomer having (A) alkyl groups having C4 to C18 carbon atoms. Copolymerization consisting of (B) a copolymerizable monomer that does not contain a polymerizable monomer but contains a hydroxyl group, and (C) a nitrogen-containing vinyl monomer or an alkoxy group-containing alkyl (meth) acrylate monomer that does not contain a hydroxyl group. A pressure-sensitive adhesive layer made of an acrylic polymer, which is a copolymer of at least one selected from a group of possible monomers, is preferable.
The copolymerizable monomer group may further include (G) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer.
Further, a pressure-sensitive adhesive composition comprising (D) a bifunctional or higher functional isocyanate compound, (E) a cross-linking accelerator, and (F) a keto-enol tautomer compound in addition to the acrylic polymer. The agent layer is preferred.

(A)アルキル基の炭素数が、C4〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、テトラデシル(メタ)アクリレート、ペンタデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、ヘプタデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート、ミリスチル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、イソセチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、などが挙げられる。
共重合体のアクリル系ポリマーの合計を100重量部とする時、(A)アルキル基の炭素数が、C4〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーを50〜95重量部の割合で含有していることが好ましい。
Examples of the (meth) acrylic acid ester monomer having an alkyl group having C4 to C18 carbon atoms include butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, and heptyl (meth). Meta) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate Meta) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, tetradecyl (meth) acrylate, pentadecyl (meth) acrylate, hexadecyl (meth) acrylate, heptadecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, myristyl (meth) Examples thereof include acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, isosetyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, and isostearyl (meth) acrylate.
When the total amount of the acrylic polymers of the copolymer is 100 parts by weight, the (A) alkyl group contains 50 to 95 parts by weight of the (meth) acrylic acid ester monomer having C4 to C18 carbon atoms. It is preferable to have.

(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーとしては、8−ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、6−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類や、N−ヒドロキシ(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド等の水酸基含有(メタ)アクリルアミド類などが挙げられる。
8−ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、6−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、N−ヒドロキシ(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミドからなる化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上であることが好ましい。
共重合体のアクリル系ポリマーの合計を100重量部とする時、前記(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーを0.1〜10重量部の割合で含有していることが好ましい。
Examples of the copolymerizable monomer containing the (B) hydroxyl group include 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate. Examples thereof include hydroxyalkyl (meth) acrylates such as N-hydroxy (meth) acrylamide, and hydroxyl group-containing (meth) acrylamides such as N-hydroxy (meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, and N-hydroxyethyl (meth) acrylamide.
8-Hydroxyoctyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, N-hydroxy (meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) ) At least one selected from the compound group consisting of acrylamide and N-hydroxyethyl (meth) acrylamide is preferable.
When the total amount of the acrylic polymers of the copolymer is 100 parts by weight, it is preferable that the copolymerizable monomer containing the hydroxyl group (B) is contained in an amount of 0.1 to 10 parts by weight.

前記アクリル系ポリマーが、前記共重合可能なモノマー群として、(C)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーまたはアルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーの少なくとも一種以上を含むことが好ましい。 It is preferable that the acrylic polymer contains at least one or more of (C) a hydroxyl group-free nitrogen-containing vinyl monomer or an alkoxy group-containing alkyl (meth) acrylate monomer as the copolymerizable monomer group.

(C)のうち、(C−1)窒素含有ビニルモノマーとしては、アミド結合を含有するビニルモノマー、アミノ基を含有するビニルモノマー、窒素含有の複素環式構造を有するビニルモノマー等が挙げられる。より具体的には、N−ビニル−2−ピロリドン、N−ビニルピロリドン、メチルビニルピロリドン、N−ビニルピリジン、N−ビニルピペリドン、N−ビニルピリミジン、N−ビニルピペラジン、N−ビニルピラジン、N−ビニルピロール、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルオキサゾール、N−ビニルモルホリン、N−ビニルカプロラクタム、N−ビニルラウリロラクタム等の、N−ビニル置換の複素環式構造を有する環状窒素ビニル化合物;N−(メタ)アクリロイルモルホリン、N−(メタ)アクリロイルピペラジン、N−(メタ)アクリロイルアジリジン、N−(メタ)アクリロイルアゼチジン、N−(メタ)アクリロイルピロリジン、N−(メタ)アクリロイルピペリジン、N−(メタ)アクリロイルアゼパン、N−(メタ)アクリロイルアゾカン等の、N−(メタ)アクリロイル置換の複素環式構造を有する環状窒素ビニル化合物;N−シクロヘキシルマレイミド、N−フェニルマレイミド等の、窒素原子及びエチレン系不飽和結合を環内に有する複素環式構造を有する環状窒素ビニル化合物;(メタ)アクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N−t−ブチル(メタ)アクリルアミド等の無置換又はモノアルキル置換の(メタ)アクリルアミド;N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジプロピルアクリルアミド、N,N−ジイソプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジブチル(メタ)アクリルアミド、N−エチル−N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−メチル−N−プロピル(メタ)アクリルアミド、N−メチル−N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド等のジアルキル置換(メタ)アクリルアミド;N,N−ジメチルアミノメチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノイソプロピル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノブチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノメチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N−エチル−N−メチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N−メチル−N−プロピルアミノエチル(メタ)アクリレート、N−メチル−N−イソプロピルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジブチルアミノエチル(メタ)アクリレート、t−ブチルアミノエチル(メタ)アクリレート等のジアルキルアミノ(メタ)アクリレート;N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジプロピルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジイソプロピルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N−エチル−N−メチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N−メチル−N−プロピルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N−メチル−N−イソプロピルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド等のN,N−ジアルキル置換アミノプロピル(メタ)アクリルアミド;N−ビニルホルムアミド、N−ビニルアセトアミド、N−ビニル−N−メチルアセトアミド等のN−ビニルカルボン酸アミド類;N−メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−エトキシエチル(メタ)アクリルアミド、N−ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、N,N−メチレンビス(メタ)アクリルアミド等の、(メタ)アクリルアミド類;(メタ)アクリロニトリル等の不飽和カルボン酸ニトリル類;などが挙げられる。 Among (C), examples of the (C-1) nitrogen-containing vinyl monomer include a vinyl monomer containing an amide bond, a vinyl monomer containing an amino group, and a vinyl monomer having a nitrogen-containing heterocyclic structure. More specifically, N-vinyl-2-pyrrolidone, N-vinylpyrrolidone, methylvinylpyrrolidone, N-vinylpyridine, N-vinylpiperidone, N-vinylpyrimidine, N-vinylpiperazine, N-vinylpyrazine, N-vinyl. Cyclic nitrogen-vinyl compounds having an N-vinyl-substituted heterocyclic structure, such as pyrrol, N-vinylimidazole, N-vinyloxazole, N-vinylmorpholin, N-vinylcaprolactam, N-vinyllauryllolactum; Meta) acryloyl morpholine, N- (meth) acryloyl piperazine, N- (meth) acryloyl azidine, N- (meth) acryloyl azetidine, N- (meth) acryloyl pyrrolidine, N- (meth) acryloyl piperidine, N- (meta) ) Cyclic nitrogen-vinyl compounds having a heterocyclic structure of N- (meth) acryloyl substitution, such as acryloyl azepan and N- (meth) acryloyl azocan; A cyclic nitrogen-vinyl compound having a heterocyclic structure having an ethylene-based unsaturated bond in the ring; (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, N-t-butyl (meth) Unsubstituted or monoalkyl-substituted (meth) acrylamide such as acrylamide; N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide, N, N-dipropylacrylamide, N, N-diisopropyl (meth). ) Acrylamide, N, N-dibutyl (meth) acrylamide, N-ethyl-N-methyl (meth) acrylamide, N-methyl-N-propyl (meth) acrylamide, N-methyl-N-isopropyl (meth) acrylamide, etc. Dialkyl-substituted (meth) acrylamide; N, N-dimethylaminomethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoisopropyl (Meta) acrylate, N, N-dimethylaminobutyl (meth) acrylate, N, N-diethylaminomethyl (meth) acrylate, N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate, N-ethyl-N-methylaminoethyl (meth) ) Acrylic, N-methyl-N-propylaminoethyl (meth) acrylate, N-methyl-N-isopropylaminoethyl (me) Dialkylamino (meth) acrylates such as t) acrylate, N, N-dibutylaminoethyl (meth) acrylate, t-butylaminoethyl (meth) acrylate; N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, N, N- Diethylaminopropyl (meth) acrylamide, N, N-dipropylaminopropyl (meth) acrylamide, N, N-diisopropylaminopropyl (meth) acrylamide, N-ethyl-N-methylaminopropyl (meth) acrylamide, N-methyl- N, N-dialkyl-substituted aminopropyl (meth) acrylamides such as N-propylaminopropyl (meth) acrylamide, N-methyl-N-isopropylaminopropyl (meth) acrylamide; N-vinylformamide, N-vinylacetamide, N- N-vinylcarboxylic acid amides such as vinyl-N-methylacetamide; N-methoxymethyl (meth) acrylamide, N-ethoxyethyl (meth) acrylamide, N-butoxymethyl (meth) acrylamide, diacetoneacrylamide, N, N -(Meta) acrylamides such as methylenebis (meth) acrylamide; unsaturated carboxylic acid nitriles such as (meth) acrylonitrile; and the like.

(C−1)窒素含有ビニルモノマーとしては、水酸基を含有しないものが好ましく、水酸基およびカルボキシル基を含有しないものがより好ましい。このようなモノマーとしては、上に例示したモノマー、例えば、N,N−ジアルキル置換アミノ基やN,N−ジアルキル置換アミド基を含有するアクリル系モノマー;N−ビニル−2−ピロリドン、N−ビニルカプロラクタム、N−ビニル−2−ピペリドンなどのN−ビニル置換ラクタム類;N−(メタ)アクリロイルモルホリンやN−(メタ)アクリロイルピロリジンなどのN−(メタ)アクリロイル置換環状アミン類が好ましい。 The nitrogen-containing vinyl monomer (C-1) preferably does not contain a hydroxyl group, and more preferably does not contain a hydroxyl group or a carboxyl group. Examples of such a monomer include acrylic monomers containing the above-exemplified monomers such as N, N-dialkyl-substituted amino groups and N, N-dialkyl-substituted amide groups; N-vinyl-2-pyrrolidone, N-vinyl. N-vinyl-substituted lactams such as caprolactam and N-vinyl-2-piperidone; N- (meth) acryloyl-substituted cyclic amines such as N- (meth) acryloylmorpholine and N- (meth) acryloylpyrrolidin are preferred.

(C)のうち、(C−2)アルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーとしては、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、2−プロポキシエチル(メタ)アクリレート、2−イソプロポキシエチル(メタ)アクリレート、2−ブトキシエチル(メタ)アクリレート、2−メトキシプロピル(メタ)アクリレート、2−エトキシプロピル(メタ)アクリレート、2−プロポキシプロピル(メタ)アクリレート、2−イソプロポキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ブトキシプロピル(メタ)アクリレート、3−メトキシプロピル(メタ)アクリレート、3−エトキシプロピル(メタ)アクリレート、3−プロポキシプロピル(メタ)アクリレート、3−イソプロポキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ブトキシプロピル(メタ)アクリレート、4−メトキシブチル(メタ)アクリレート、4−エトキシブチル(メタ)アクリレート、4−プロポキシブチル(メタ)アクリレート、4−イソプロポキシブチル(メタ)アクリレート、4−ブトキシブチル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
これらのアルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーは、アルキル(メタ)アクリレートにおけるアルキル基の原子がアルコキシ基で置換された構造を有する。
Among (C), examples of the (C-2) alkoxy group-containing alkyl (meth) acrylate monomer include 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, and 2-propoxyethyl (meth) acrylate. 2-Isopropoxyethyl (meth) acrylate, 2-butoxyethyl (meth) acrylate, 2-methoxypropyl (meth) acrylate, 2-ethoxypropyl (meth) acrylate, 2-propoxypropyl (meth) acrylate, 2-isopropoxy Propyl (meth) acrylate, 2-butoxypropyl (meth) acrylate, 3-methoxypropyl (meth) acrylate, 3-ethoxypropyl (meth) acrylate, 3-propoxypropyl (meth) acrylate, 3-isopropoxypropyl (meth) Acrylate, 3-butoxypropyl (meth) acrylate, 4-methoxybutyl (meth) acrylate, 4-ethoxybutyl (meth) acrylate, 4-propoxybutyl (meth) acrylate, 4-isopropoxybutyl (meth) acrylate, 4- Butoxybutyl (meth) acrylate and the like can be mentioned.
These alkoxy group-containing alkyl (meth) acrylate monomers have a structure in which the alkyl group atom in the alkyl (meth) acrylate is substituted with an alkoxy group.

共重合体のアクリル系ポリマーの合計を100重量部とする時、(C−1)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーまたは(C−2)アルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーを0〜20重量部の割合で含有していることが好ましい。(C−1)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマー及び(C−2)アルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーを、それぞれ1種または2種以上併用することもできる。本発明に係わる粘着剤層において、粘着剤組成物に(C)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーまたはアルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーを含有させなくてもよい。 When the total amount of the acrylic polymers of the copolymer is 100 parts by weight, 0 to 20 parts by weight of (C-1) hydroxyl group-free nitrogen-containing vinyl monomer or (C-2) alkoxy group-containing alkyl (meth) acrylate monomer is used. It is preferably contained in a proportion of parts. (C-1) A nitrogen-containing vinyl monomer containing no hydroxyl group and (C-2) an alkyl (meth) acrylate monomer containing an alkoxy group can be used alone or in combination of two or more. In the pressure-sensitive adhesive layer according to the present invention, the pressure-sensitive adhesive composition may not contain (C) a nitrogen-containing vinyl monomer containing no hydroxyl group or an alkoxy group-containing alkyl (meth) acrylate monomer.

(D)2官能以上のイソシアネート化合物としては、1分子中に少なくとも2個以上のイソシアネート(NCO)基を有するポリイソシアネート化合物から選択される、少なくとも1種または2種以上であればよい。ポリイソシアネート化合物には、脂肪族系イソシアネート、芳香族系イソシアネート、非環式系イソシアネート、脂環式系イソシアネートなどの分類があるが、いずれでもよい。ポリイソシアネート化合物の具体例としては、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート(TMDI)等の脂肪族系イソシアネート化合物や、ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、キシリレンジイソシアネート(XDI)、水添キシリレンジイソシアネート(H6XDI)、ジメチルジフェニレンジイソシアネート(TOID)、トリレンジイソシアネート(TDI)等の芳香族系イソシアネート化合物が挙げられる。
3官能以上のイソシアネート化合物としては、2官能イソシアネート化合物(1分子中に2個のNCO基を有する化合物)のビュレット変性体やイソシアヌレート変性体、トリメチロールプロパン(TMP)やグリセリン等の3価以上のポリオール(1分子中に少なくとも3個以上のOH基を有する化合物)とのアダクト体(ポリオール変性体)などが挙げられる。
(D)2官能以上のイソシアネート化合物として、(D−1)3官能イソシアネート化合物のみ、または(D−2)2官能イソシアネート化合物のみを用いることも可能である。また、(D−1)3官能イソシアネート化合物と、(D−2)2官能イソシアネート化合物を併用することも可能である。
(D) The bifunctional or higher functional isocyanate compound may be at least one or more selected from polyisocyanate compounds having at least two or more isocyanate (NCO) groups in one molecule. Polyisocyanate compounds are classified into aliphatic isocyanates, aromatic isocyanates, acyclic isocyanates, alicyclic isocyanates, and the like, but any of them may be used. Specific examples of the polyisocyanate compound include aliphatic isocyanate compounds such as hexamethylene diisocyanate (HDI), isophorone diisocyanate (IPDI), and trimethylhexamethylene diisocyanate (TMDI), diphenylmethane diisocyanate (MDI), and xylylene diisocyanate (XDI). , Aromatic isocyanate compounds such as hydrogenated xylylene diisocyanate (H6XDI), dimethyldiphenylenediocyanate (TOID), and tolylene diisocyanate (TDI).
Examples of the trifunctional or higher functional isocyanate compound include a bullet-modified compound of a bifunctional isocyanate compound (a compound having two NCO groups in one molecule), an isocyanurate-modified compound, and trivalent or higher valents such as trimethylolpropane (TMP) and glycerin. Examples thereof include an adduct (modified polyol) with a polyol (a compound having at least 3 or more OH groups in one molecule).
As the (D) bifunctional or higher functional isocyanate compound, it is also possible to use only the (D-1) trifunctional isocyanate compound or only the (D-2) bifunctional isocyanate compound. It is also possible to use the (D-1) trifunctional isocyanate compound and the (D-2) bifunctional isocyanate compound in combination.

さらに、本発明に用いる(D−1)3官能イソシアネート化合物としては、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、イソホロンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のアダクト体、イソホロンジイソシアネート化合物のアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のビュレット体、イソホロンジイソシアネート化合物のビュレット体からなる、(D−1−1)第1の脂肪族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上と、トリレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、キシリレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、水添キシリレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、トリレンジイソシアネート化合物のアダクト体、キシリレンジイソシアネート化合物のアダクト体、水添キシリレンジイソシアネート化合物のアダクト体からなる、(D−1−2)第2の芳香族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上とを含むことが好ましい。(D−1−1)第1の脂肪族系のイソシアネート化合物群と、(D−1−2)第2の芳香族系のイソシアネート化合物群とを、併用することが好ましい。本発明では、(D−1)3官能イソシアネート化合物として、(D−1−1)第1の脂肪族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上と、(D−1−2)第2の芳香族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上とを、併用することにより、低速剥離領域および高速剥離領域の粘着力のバランスをさらに改善することができる。 Further, as the (D-1) trifunctional isocyanate compound used in the present invention, an isocyanurate form of a hexamethylene diisocyanate compound, an isocyanurate form of an isophorone diisocyanate compound, an adduct form of a hexamethylene diisocyanate compound, an adduct form of an isophorone diisocyanate compound, and the like. At least one selected from the (D-1-1) first aliphatic isocyanate compound group consisting of a burette of a hexamethylene diisocyanate compound and a burette of an isophorone diisocyanate compound, and a tolylene diisocyanate compound. Isocyanurate, isocyanurate of xylylene diisocyanate compound, isocyanurate of hydrogenated xylylene diisocyanate compound, adduct of tolylene diisocyanate compound, adduct of xylylene diisocyanate compound, adduct of hydrogenated xylylene diisocyanate compound It is preferable to contain at least one selected from the group of (D-1-2) second aromatic isocyanate compounds comprising. It is preferable to use (D-1-1) the first aliphatic isocyanate compound group and (D-1-2) the second aromatic isocyanate compound group in combination. In the present invention, as the (D-1) trifunctional isocyanate compound, at least one selected from the (D-1-1) first aliphatic isocyanate compound group and (D-1-2). ) By using at least one selected from the second aromatic isocyanate compound group in combination, the balance of adhesive strength between the low-speed peeling region and the high-speed peeling region can be further improved.

また、(D−1)3官能イソシアネート化合物は、前記(D−1−1)第1の脂肪族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上と、前記(D−1−2)第2の芳香族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上とを含み、前記共重合体の100重量部に対して、合計して0.5〜5.0重量部含まれることが好ましい。また、(D−1−1)第1の脂肪族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上と、(D−1−2)第2の芳香族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上との混合比率は、(D−1−1):(D−1−2)が重量比で10%:90%〜90%:10%の範囲内であることが好ましい。 Further, the (D-1) trifunctional isocyanate compound includes at least one selected from the (D-1-1) first aliphatic isocyanate compound group and the above (D-1-2). ) Contains at least one selected from the second aromatic isocyanate compound group, and contains 0.5 to 5.0 parts by weight in total with respect to 100 parts by weight of the copolymer. Is preferable. In addition, at least one selected from the (D-1-1) first aliphatic isocyanate compound group and (D-1-2) second aromatic isocyanate compound group. The mixing ratio with at least one selected from the above is that (D-1-1) :( D-1-2) is in the range of 10%: 90% to 90%: 10% by weight. Is preferable.

さらに、本発明に用いる(D−2)2官能イソシアネート化合物としては、非環式脂肪族イソシアネート化合物で、ジイソシアネート化合物とジオール化合物とを反応させて生成された化合物であることが好ましい。
例えば、一般式「O=C=N−X−N=C=O」(ただし、Xは2価基)でジイソシアネート化合物を、一般式「HO−Y−OH」(ただし、Yは2価基)でジオール化合物を表すとき、ジイソシアネート化合物とジオール化合物とを反応させて生成された化合物としては、例えば、次の一般式Zで表される化合物が挙げられる。
Further, the (D-2) bifunctional isocyanate compound used in the present invention is preferably an acyclic aliphatic isocyanate compound, which is produced by reacting a diisocyanate compound with a diol compound.
For example, a diisocyanate compound has a general formula "O = C = N-X-N = C = O" (where X is a divalent group), and a general formula "HO-Y-OH" (where Y is a divalent group). ) Represents a diol compound, and examples of the compound produced by reacting the diisocyanate compound with the diol compound include a compound represented by the following general formula Z.

〔一般式Z〕
O=C=N−X−(NH−CO−O−Y−O−CO−NH−X)−N=C=O
[General formula Z]
O = C = N-X- (NH-CO-O-YO-O-CO-NH-X) n- N = C = O

ここで、nは0以上の整数である。nが0の場合、一般式Zは、「O=C=N−X−N=C=O」を表す。2官能非環式脂肪族イソシアネート化合物として、一般式Zにおいてnが0の化合物(ジオール化合物に対して未反応のジイソシアネート化合物)を含んでもよいが、nが1以上の整数である化合物を必須成分として含むことが好ましい。2官能非環式脂肪族イソシアネート化合物は、一般式Zにおけるnが異なる、複数の化合物からなる混合物であってもよい。 Here, n is an integer of 0 or more. When n is 0, the general formula Z represents "O = C = N-X-N = C = O". The bifunctional acyclic aliphatic isocyanate compound may contain a compound in which n is 0 in the general formula Z (diisocyanate compound which has not reacted with the diol compound), but a compound in which n is an integer of 1 or more is an essential component. It is preferable to include as. The bifunctional acyclic aliphatic isocyanate compound may be a mixture composed of a plurality of compounds having different n in the general formula Z.

一般式「O=C=N−X−N=C=O」で表されるジイソシアネート化合物は、脂肪族ジイソシアネートである。Xは、非環式で脂肪族の2価基であることが好ましい。前記脂肪族ジイソシアネートとしては、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネートからなる化合物群の中から選択された一種又は二種以上からなることが好ましい。 The diisocyanate compound represented by the general formula "O = C = N-X-N = C = O" is an aliphatic diisocyanate. X is preferably an acyclic and aliphatic divalent group. The aliphatic diisocyanate preferably comprises one or more selected from the compound group consisting of tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, and lysine diisocyanate.

一般式「HO−Y−OH」で表されるジオール化合物は、脂肪族ジオールである。Yは、非環式で脂肪族の2価基であることが好ましい。前記ジオール化合物としては、2−メチル−1,3−プロパンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオールモノヒドロキシピバレート、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールからなる化合物群の中から選択された一種又は二種以上からなることが好ましい。 The diol compound represented by the general formula "HO-Y-OH" is an aliphatic diol. Y is preferably an acyclic and aliphatic divalent group. Examples of the diol compound include 2-methyl-1,3-propanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, and 2-ethyl-2. -From the compound group consisting of butyl-1,3-propanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol monohydroxypivalate, polyethylene glycol, and polypropylene glycol. It preferably consists of one or more selected species.

前記(D−1)3官能イソシアネート化合物と、(D−2)2官能イソシアネート化合物との重量比(D−1/D−2)が、1〜90であることが好ましい。前記アクリル系ポリマー100重量部に対して、前記(D)2官能以上のイソシアネート化合物が、0.1〜10重量部であることが好ましい。 The weight ratio (D-1 / D-2) of the (D-1) trifunctional isocyanate compound to the (D-2) bifunctional isocyanate compound is preferably 1 to 90. The amount of the (D) bifunctional or higher functional isocyanate compound is preferably 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the acrylic polymer.

(E)架橋促進剤は、ポリイソシアネート化合物を架橋剤とする場合に、前記共重合体と架橋剤との反応(架橋反応)に対して触媒として機能する物質であればよく、第三級アミン等のアミン系化合物、金属キレート化合物、有機錫化合物、有機鉛化合物、有機亜鉛化合物等の有機金属化合物等が挙げられる。本発明では、架橋促進剤として、金属キレート化合物や有機錫化合物が好ましい。 The (E) cross-linking accelerator may be a substance that functions as a catalyst for the reaction (cross-linking reaction) between the copolymer and the cross-linking agent when the polyisocyanate compound is used as the cross-linking agent, and is a tertiary amine. Examples thereof include amine compounds such as, metal chelate compounds, organic tin compounds, organic lead compounds, and organic metal compounds such as organozinc compounds. In the present invention, a metal chelate compound or an organic tin compound is preferable as the cross-linking accelerator.

金属キレート化合物としては、中心金属原子Mに、1以上の多座配位子Lが結合した化合物である。金属キレート化合物は、金属原子Mに結合する1以上の単座配位子Xを有してもよく、有しなくてもよい。例えば、金属原子Mが1つである金属キレート化合物の一般式を、M(L)(X)で表すとき、m≧1、n≧0である。mが2以上の場合、m個のLは同一の配位子でもよく、異なる配位子でもよい。nが2以上の場合、n個のXは同一の配位子でもよく、異なる配位子でもよい。 The metal chelate compound is a compound in which one or more polydentate ligands L are bonded to the central metal atom M. The metal chelate compound may or may not have one or more bidentate ligands X that bind to the metal atom M. For example, when the general formula of a metal chelate compound having one metal atom M is represented by M (L) m (X) n , m ≧ 1 and n ≧ 0. When m is 2 or more, m L may be the same ligand or may be different ligands. When n is 2 or more, n Xs may be the same ligand or different ligands.

金属原子Mとしては、Fe,Ni,Mn,Cr,V,Ti,Ru,Zn,Al,Zr,Sn等が挙げられる。
多座配位子Lとしては、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸オクチル、アセト酢酸オレイル、アセト酢酸ラウリル、アセト酢酸ステアリル等のβ−ケトエステルや、アセチルアセトン(別名2,4−ペンタンジオン)、2,4−ヘキサンジオン、ベンゾイルアセトン等のβ−ジケトンが挙げられる。これらは、ケトエノール互変異性体化合物であり、多座配位子Lにおいてはエノールが脱プロトンしたエノラート(例えばアセチルアセトネート)であってもよい。
単座配位子Xとしては、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、2−エチルヘキサノイル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基等のアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基などが挙げられる。
Examples of the metal atom M include Fe, Ni, Mn, Cr, V, Ti, Ru, Zn, Al, Zr, Sn and the like.
Examples of the polydentate ligand L include β-ketoesters such as methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, octyl acetoacetate, oleyl acetoacetic acid, lauryl acetoacetic acid, and stearyl acetoacetic acid, acetylacetone (also known as 2,4-pentandione), Examples thereof include β-diketones such as 2,4-hexanedione and benzoylacetone. These are keto-enol tautomeric compounds and may be enol-deprotonated enolates (eg, acetylacetonate) in the polydentate ligand L.
The monodentate ligand X includes halogen atoms such as chlorine atom and bromine atom, pentanoyl group, hexanoyl group, 2-ethylhexanoyl group, octanoyl group, nonanoyl group, decanoyyl group, dodecanoyl group, octadecanoyl group and other acyloxy. Examples thereof include an alkoxy group such as a group, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group and a butoxy group.

金属キレート化合物の具体例としては、トリス(2,4−ペンタンジオナト)鉄(III)、鉄トリスアセチルアセトネート、チタニウムトリスアセチルアセトネート、ルテニウムトリスアセチルアセトネート、亜鉛ビスアセチルアセトネート、アルミニウムトリスアセチルアセトネート、ジルコニウムテトラキスアセチルアセトネート、トリス(2,4−ヘキサンジオナト)鉄(III)、ビス(2,4−ヘキサンジオナト)亜鉛、トリス(2,4−ヘキサンジオナト)チタン、トリス(2,4−ヘキサンジオナト)アルミニウム、テトラキス(2,4−ヘキサンジオナト)ジルコニウム等が挙げられる。 Specific examples of the metal chelate compound include tris (2,4-pentanedionato) iron (III), iron trisacetylacetonate, titaniumtrisacetylacetonate, rutheniumtrisacetylacetonate, zinc bisacetylacetonate, and aluminum tris. Acetylacetonate, zirconite tetrakis acetylacetonate, tris (2,4-hexanedionat) iron (III), bis (2,4-hexanedionat) zinc, tris (2,4-hexanedionat) titanium, tris Examples thereof include (2,4-hexane dionat) aluminum and tetrakis (2,4-hexane dionate) zirconium.

有機錫化合物としては、ジアルキル錫オキシドや、ジアルキル錫の脂肪酸塩、第1錫の脂肪酸塩等が挙げられる。従来、ジブチル錫化合物が多く使用されてきたが、近年、有機錫化合物の毒性の問題が指摘され、特にジブチル錫化合物に含まれるトリブチル錫(TBT)は、内分泌攪乱物質としても懸念されている。安全性の観点から、ジオクチル錫化合物等の長鎖アルキル錫化合物が好ましい。具体的な有機錫化合物としては、ジオクチル錫オキシド、ジオクチル錫ジラウレート等が挙げられる。暫定的にはSn化合物も使用可能であるが、将来的には、より安全性の高い物質の使用が要求される趨勢に鑑み、Snに比べて安全性の高い、Al,Ti,Fe等の金属キレート化合物を用いることが好ましい。
本発明に係わる粘着剤組成物における(E)架橋促進剤としては、アルミニウムキレート化合物、チタンキレート化合物、鉄キレート化合物からなる群の中から選択された少なくとも1種以上であることが好ましい。
(E)架橋促進剤は、共重合体の100重量部に対して、0.001〜0.5重量部含まれることが好ましい。
Examples of the organic tin compound include dialkyltin oxide, a fatty acid salt of dialkyltin, and a fatty acid salt of first tin. Conventionally, dibutyltin compounds have been widely used, but in recent years, the problem of toxicity of organotin compounds has been pointed out, and in particular, tributyltin (TBT) contained in dibutyltin compounds is also a concern as an endocrine disruptor. From the viewpoint of safety, a long-chain alkyl tin compound such as a dioctyl tin compound is preferable. Specific examples of the organic tin compound include dioctyl tin oxide and dioctyl tin dilaurate. Sn compounds can be used provisionally, but in the future, in view of the trend that the use of safer substances is required, Al, Ti, Fe, etc., which are safer than Sn, etc. It is preferable to use a metal chelate compound.
The (E) cross-linking accelerator in the pressure-sensitive adhesive composition according to the present invention is preferably at least one selected from the group consisting of an aluminum chelate compound, a titanium chelate compound, and an iron chelate compound.
The cross-linking accelerator (E) is preferably contained in an amount of 0.001 to 0.5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the copolymer.

(F)ケトエノール互変異性体化合物としては、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸オクチル、アセト酢酸オレイル、アセト酢酸ラウリル、アセト酢酸ステアリル等のβ−ケトエステルや、アセチルアセトン、2,4−ヘキサンジオン、ベンゾイルアセトン等のβ−ジケトンが挙げられる。これらは、ポリイソシアネート化合物を架橋剤とする粘着剤組成物において、架橋剤の有するイソシアネート基をブロックすることにより、架橋剤の配合後における粘着剤組成物の過剰な粘度上昇やゲル化を抑制し、粘着剤組成物のポットライフを延長することができる。
(F)ケトエノール互変異性体化合物は、共重合体の100重量部に対して、0.1〜200重量部含まれることが好ましい。
(F) Examples of the ketoenol tether compound include β-ketoesters such as methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, octyl acetoacetate, oleyl acetoacetic acid, lauryl acetoacetic acid, and stearyl acetoacetic acid, and acetylacetone and 2,4-hexanedione. , Β-diketone such as benzoylacetone. In a pressure-sensitive adhesive composition using a polyisocyanate compound as a cross-linking agent, these prevent excessive increase in viscosity and gelation of the pressure-sensitive adhesive composition after blending the cross-linking agent by blocking the isocyanate group contained in the cross-linking agent. , The pot life of the pressure-sensitive adhesive composition can be extended.
The keto-enol tautomer compound is preferably contained in an amount of 0.1 to 200 parts by weight based on 100 parts by weight of the copolymer.

(F)ケトエノール互変異性体化合物は、(E)架橋促進剤とは反対に、架橋を抑制する効果を有することから、(E)架橋促進剤に対する(F)ケトエノール互変異性体化合物の割合を適切に設定することが好ましい。粘着剤組成物のポットライフを長くし、貯蔵安定性を向上させるには、(E):(F)の重量比が、好ましくは1:1〜1:500の範囲であり、さらに好ましくは、1:30〜1:500であり、最も好ましくは、1:80〜1:500である。 Since the (F) keto-enol tautomer compound has an effect of suppressing cross-linking as opposed to the (E) cross-linking accelerator, the ratio of the (F) keto-enol tautomer compound to the (E) cross-linking accelerator Is preferably set appropriately. In order to prolong the pot life of the pressure-sensitive adhesive composition and improve the storage stability, the weight ratio of (E): (F) is preferably in the range of 1: 1 to 1: 500, and more preferably. It is 1:30 to 1: 500, most preferably 1:80 to 1: 500.

前記アクリル系ポリマーは、前記共重合可能なモノマー群として、さらに、(G)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーを任意に含有することができる。(G)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、ポリアルキレングリコールの有する複数の水酸基のうち、一つの水酸基が(メタ)アクリル酸エステルとしてエステル化された化合物であればよい。(メタ)アクリル酸エステル基が重合性基となるので、主剤ポリマーに共重合することができる。他の水酸基は、OHのままでもよく、メチルエーテルやエチルエーテル等のアルキルエーテルや、酢酸エステル等の飽和カルボン酸エステル等となっていてもよい。
ポリアルキレングリコールの有するアルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基などが挙げられるが、これらに限定されない。ポリアルキレングリコールが、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール等の2種以上のポリアルキレングリコールの共重合体であってもよい。ポリアルキレングリコールの共重合体としては、ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール−ポリブチレングリコール、ポリプロピレングリコール−ポリブチレングリコール、ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−ポリブチレングリコール等が挙げられ、該共重合体は、ブロック共重合体、ランダム共重合体であってもよい。
(G)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーが、ポリアルキレングリコール鎖を構成するアルキレンオキサイドの平均繰り返し数が3〜14であることが好ましい。「アルキレンオキサイドの平均繰り返し数」とは、(G)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーの分子構造に含まれる「ポリアルキレングリコール鎖」の部分において、アルキレンオキサイド単位が繰り返す平均の数である。
The acrylic polymer can optionally further contain (G) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer as the copolymerizable monomer group. The (G) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer may be a compound in which one hydroxyl group of the plurality of hydroxyl groups of the polyalkylene glycol is esterified as a (meth) acrylic acid ester. Since the (meth) acrylic acid ester group becomes a polymerizable group, it can be copolymerized with the main polymer. The other hydroxyl group may be OH as it is, or may be an alkyl ether such as methyl ether or ethyl ether, a saturated carboxylic acid ester such as an acetate ester, or the like.
Examples of the alkylene group contained in the polyalkylene glycol include, but are not limited to, an ethylene group, a propylene group, and a butylene group. The polyalkylene glycol may be a copolymer of two or more kinds of polyalkylene glycols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polybutylene glycol. Examples of the copolymer of polyalkylene glycol include polyethylene glycol-polypropylene glycol, polyethylene glycol-polybutylene glycol, polypropylene glycol-polybutylene glycol, polyethylene glycol-polypropylene glycol-polybutylene glycol, and the like. It may be a block copolymer or a random copolymer.
It is preferable that the polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer (G) has an average number of repetitions of alkylene oxides constituting the polyalkylene glycol chain of 3 to 14. The "average number of repetitions of alkylene oxide" is the average number of repetitions of the alkylene oxide unit in the portion of the "polyalkylene glycol chain" contained in the molecular structure of the (G) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer. is there.

(G)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリレートの中から選択された、少なくとも一種以上であることが好ましい。
より具体的には、ポリエチレングリコール−モノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール−モノ(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコール−モノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−モノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール−ポリブチレングリコール−モノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール−ポリブチレングリコール−モノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−ポリブチレングリコール−モノ(メタ)アクリレート;メトキシポリエチレングリコール−(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール−(メタ)アクリレート、メトキシポリブチレングリコール−(メタ)アクリレート、メトキシ−ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−(メタ)アクリレート、メトキシ−ポリエチレングリコール−ポリブチレングリコール−(メタ)アクリレート、メトキシ−ポリプロピレングリコール−ポリブチレングリコール−(メタ)アクリレート、メトキシ−ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−ポリブチレングリコール−(メタ)アクリレート;エトキシポリエチレングリコール−(メタ)アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール−(メタ)アクリレート、エトキシポリブチレングリコール−(メタ)アクリレート、エトキシ−ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−(メタ)アクリレート、エトキシ−ポリエチレングリコール−ポリブチレングリコール−(メタ)アクリレート、エトキシ−ポリプロピレングリコール−ポリブチレングリコール−(メタ)アクリレート、エトキシ−ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−ポリブチレングリコール−(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
共重合体のアクリル系ポリマーの合計を100重量部とする時、前記(G)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーを0〜50重量部の割合で含有していることが好ましい。本発明に係わる粘着剤層において、粘着剤組成物に(G)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーを含有させなくてもよい。
The (G) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer was selected from polyalkylene glycol mono (meth) acrylate, methoxypolyalkylene glycol (meth) acrylate, and ethoxypolyalkylene glycol (meth) acrylate. It is preferable that there is at least one kind or more.
More specifically, polyethylene glycol-mono (meth) acrylate, polypropylene glycol-mono (meth) acrylate, polybutylene glycol-mono (meth) acrylate, polyethylene glycol-polypropylene glycol-mono (meth) acrylate, polyethylene glycol-poly. Butylene glycol-mono (meth) acrylate, polypropylene glycol-polybutylene glycol-mono (meth) acrylate, polyethylene glycol-polyethylene glycol-polybutylene glycol-mono (meth) acrylate; methoxypolyethylene glycol- (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol -(Meta) acrylate, methoxypolyethylene glycol- (meth) acrylate, methoxy-polyethylene glycol-polypropylene glycol- (meth) acrylate, methoxy-polyethylene glycol-polybutylene glycol- (meth) acrylate, methoxy-polyethylene glycol-polybutylene Glycol- (meth) acrylate, methoxy-polyethylene glycol-polypropylene glycol-polybutylene glycol- (meth) acrylate; ethoxypolyethylene glycol- (meth) acrylate, ethoxypolyethylene glycol- (meth) acrylate, ethoxypolybutylene glycol- (meth) Acrylate, ethoxy-polyethylene glycol-polyethylene glycol- (meth) acrylate, ethoxy-polyethylene glycol-polybutylene glycol- (meth) acrylate, ethoxy-polyethylene glycol-polybutylene glycol- (meth) acrylate, ethoxy-polyethylene glycol-polypropylene glycol -Polybutylene glycol- (meth) acrylate and the like.
When the total amount of the acrylic polymers of the copolymer is 100 parts by weight, it is preferable that the (G) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer is contained in a ratio of 0 to 50 parts by weight. In the pressure-sensitive adhesive layer according to the present invention, the pressure-sensitive adhesive composition may not contain the (G) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer.

粘着剤組成物は、(H)ポリエーテル変性シロキサン化合物を任意に含有することができる。(H)ポリエーテル変性シロキサン化合物は、ポリエーテル基を有するシロキサン化合物であり、通常のシロキサン単位〔−SiR −O−〕の他に、ポリエーテル基を有するシロキサン単位〔−SiR(RO(RO))−O−〕を有する。ここで、Rは1種又は2種以上のアルキル基又はアリール基、R及びRは1種又は2種以上のアルキレン基、Rは1種又は2種以上のアルキル基やアシル基等(末端基)を示す。ポリエーテル基としては、ポリオキシエチレン基〔(CO)〕やポリオキシプロピレン基〔(CO)〕等のポリオキシアルキレン基が挙げられる。 The pressure-sensitive adhesive composition can optionally contain the (H) polyether-modified siloxane compound. The (H) polyether-modified siloxane compound is a siloxane compound having a polyether group, and is a siloxane unit having a polyether group [-SiR 1 (R )] in addition to the usual siloxane unit [-SiR 1 2-O-]. It has 2 O (R 3 O) n R 4 ) -O-]. Here, R 1 is one or more alkyl groups or aryl groups, R 2 and R 3 are one or more alkylene groups, and R 4 is one or more alkyl groups or acyl groups. Etc. (terminal groups). Examples of the polyether group include a polyoxyalkylene group such as a polyoxyethylene group [(C 2 H 4 O) n ] and a polyoxypropylene group [(C 3 H 6 O) n ].

(H)ポリエーテル変性シロキサン化合物は、HLB値が7〜15であるポリエーテル変性シロキサン化合物であることが好ましい。また、共重合体の100重量部に対して、(H)ポリエーテル変性シロキサン化合物が0.01〜1.0重量部含まれることが好ましい。より好ましくは、0.1〜0.5重量部である。
HLBとは、例えばJIS K3211(界面活性剤用語)等に規定する親水親油バランス(親水性親油性比)である。
The (H) polyether-modified siloxane compound is preferably a polyether-modified siloxane compound having an HLB value of 7 to 15. Further, it is preferable that 0.01 to 1.0 part by weight of the (H) polyether-modified siloxane compound is contained with respect to 100 parts by weight of the copolymer. More preferably, it is 0.1 to 0.5 parts by weight.
The HLB is, for example, a hydrophilic lipophilic balance (hydrophilic lipophilic ratio) defined in JIS K3211 (surfactant term) and the like.

(H)ポリエーテル変性シロキサン化合物は、例えば、水素化ケイ素基を有するポリオルガノシロキサン主鎖に対し、不飽和結合及びポリオキシアルキレン基を有する有機化合物をヒドロシリル化反応によりグラフトさせることによって得ることができる。具体的には、ジメチルシロキサン・メチル(ポリオキシエチレン)シロキサン共重合体、ジメチルシロキサン・メチル(ポリオキシエチレン)シロキサン・メチル(ポリオキシプロピレン)シロキサン共重合体、ジメチルシロキサン・メチル(ポリオキシプロピレン)シロキサン重合体等が挙げられる。
(H)ポリエーテル変性シロキサン化合物を粘着剤組成物に配合することにより、粘着剤の粘着力及びリワーク性能を改善することができる。粘着剤組成物がポリエーテル変性シロキサン化合物を含有しない場合、より低コストとなる。
The (H) polyether-modified siloxane compound can be obtained, for example, by grafting an organic compound having an unsaturated bond and a polyoxyalkylene group on a polyorganosiloxane main chain having a silicon hydride group by a hydrosilylation reaction. it can. Specifically, dimethylsiloxane / methyl (polyoxyethylene) siloxane copolymer, dimethylsiloxane / methyl (polyoxyethylene) siloxane / methyl (polyoxypropylene) siloxane copolymer, dimethylsiloxane / methyl (polyoxypropylene) Examples thereof include a siloxane polymer.
By blending the (H) polyether-modified siloxane compound into the pressure-sensitive adhesive composition, the adhesive strength and rework performance of the pressure-sensitive adhesive can be improved. If the pressure-sensitive adhesive composition does not contain a polyether-modified siloxane compound, the cost will be lower.

さらに、その他成分として、アルキレンオキサイドを含有する共重合可能な(メタ)アクリルモノマー、(メタ)アクリルアミドモノマー、ジアルキル置換アクリルアミドモノマー、界面活性剤、硬化促進剤、可塑剤、充填剤、硬化遅延剤、加工助剤、老化防止剤、酸化防止剤などの公知の添加剤を適宜に配合することが出来る。これらは、単独でもしくは2種以上併せて用いられる。 Further, as other components, copolymerizable (meth) acrylic monomer containing alkylene oxide, (meth) acrylamide monomer, dialkyl-substituted acrylamide monomer, surfactant, curing accelerator, plasticizer, filler, curing retarder, Known additives such as processing aids, antioxidants, and antioxidants can be appropriately added. These may be used alone or in combination of two or more.

本発明の粘着剤組成物に用いられる主剤の共重合体は、(A)アルキル基の炭素数が、C4〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも一種と、共重合可能なモノマー群として(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーと、(C)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーまたはアルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーと、からなる共重合可能なモノマー群の中から選択された少なくとも一種と、を共重合させることで合成することができる。前記共重合可能なモノマー群として、さらに、(G)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーを含んでもよい。共重合体の重合方法は特に限定されるものではなく、溶液重合、乳化重合等、適宜の重合方法が使用可能である。
本発明の粘着剤組成物は、上記の共重合体に、(D)2官能以上のイソシアネート化合物、(E)架橋促進剤と、(F)ケトエノール互変異性体化合物、さらに適宜任意の添加剤を配合することで調製することができる。
The main agent copolymer used in the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is a group of monomers copolymerizable with at least one (meth) acrylic acid ester monomer having (A) alkyl groups having C4 to C18 carbon atoms. It is selected from the copolymerizable monomer group consisting of (B) a copolymerizable monomer containing a hydroxyl group and (C) a nitrogen-containing vinyl monomer containing no hydroxyl group or an alkoxy group-containing alkyl (meth) acrylate monomer. It can be synthesized by copolymerizing with at least one kind. The copolymerizable monomer group may further contain (G) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer. The polymerization method of the copolymer is not particularly limited, and an appropriate polymerization method such as solution polymerization or emulsion polymerization can be used.
The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention comprises the above-mentioned copolymer, (D) a bifunctional or higher functional isocyanate compound, (E) a cross-linking accelerator, (F) a keto-enol tautomer compound, and an optional additive as appropriate. Can be prepared by blending.

前記共重合体は、アクリル系ポリマーであることが好ましく、(メタ)アクリル酸エステルモノマーや(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリルアミド類などのアクリル系モノマーを50〜100重量%含むことが好ましい。
前記アクリル系ポリマーが、共重合可能なモノマー群として、カルボキシル基を含有する共重合可能なモノマーを含まないことにより、架橋速度の向上および粘着力の安定化に効果がある。架橋剤として使用される(D)2官能以上のイソシアネート化合物と反応するモノマーとして、(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーを用いることが好ましい。前記共重合体の好ましいモノマー組成としては、前記(A)と前記(B)とからそれぞれ1種以上、前記(A)と前記(B)と前記(C)とからそれぞれ1種以上、前記(A)と前記(B)と前記(G)とからそれぞれ1種以上、前記(A)と前記(B)と前記(C)と(G)とからそれぞれ1種以上、などが挙げられる。
The copolymer is preferably an acrylic polymer, and preferably contains 50 to 100% by weight of an acrylic monomer such as (meth) acrylic acid ester monomer, (meth) acrylic acid, and (meth) acrylamides.
Since the acrylic polymer does not contain a copolymerizable monomer containing a carboxyl group as a copolymerizable monomer group, it is effective in improving the crosslinking rate and stabilizing the adhesive strength. As the monomer that reacts with the (D) bifunctional or higher functional isocyanate compound used as a cross-linking agent, it is preferable to use (B) a copolymerizable monomer containing a hydroxyl group. The preferred monomer composition of the copolymer is one or more of the above (A) and the above (B), and one or more of the above (A), the above (B) and the above (C), respectively. One or more of each of A), the above (B) and the above (G), and one or more of the above (A), the above (B), the above (C) and (G), and the like can be mentioned.

前記粘着剤組成物を架橋させてなる粘着剤層の、低速の剥離速度0.3m/minでの粘着力が0.05〜0.1N/25mmであり、高速の剥離速度30m/minでの粘着力が1.0N/25mm以下であることが好ましい。これにより、粘着力が剥離速度によっても変化が少ない性能が得られ、高速剥離によっても、速やかに剥離することが可能になる。また、貼り直しのため、一旦、表面保護フィルムを剥がすときにも、過大な力を必要とせず、被着体から剥がし易い。 The pressure-sensitive adhesive layer obtained by cross-linking the pressure-sensitive adhesive composition has an adhesive force of 0.05 to 0.1 N / 25 mm at a low-speed peeling speed of 0.3 m / min and a high-speed peeling speed of 30 m / min. The adhesive strength is preferably 1.0 N / 25 mm or less. As a result, it is possible to obtain a performance in which the adhesive strength does not change much depending on the peeling speed, and it is possible to quickly peel even by high-speed peeling. Further, since it is reattached, even when the surface protective film is once peeled off, it does not require an excessive force and can be easily peeled off from the adherend.

前記粘着剤組成物を架橋させてなる粘着剤層の、表面抵抗率が5.0×10+12Ω/□以下であり、剥離帯電圧が「±0.6kV以下」であることが好ましい。なお、本発明において、「±0.6kV以下」とは、0〜−0.6kV及び0〜+0.6kV、すなわち、−0.6〜+0.6kVを意味する。表面抵抗率が大きいと、剥離時に帯電で発生した静電気を逃がす性能に劣るため、表面抵抗率を十分に小さくすることにより、粘着剤層を被着体が剥がす時に発生する静電気に伴って生じる剥離帯電圧が低減され、被着体の電気制御回路等に影響することを抑制することができる。 It is preferable that the surface resistivity of the pressure-sensitive adhesive layer obtained by cross-linking the pressure-sensitive adhesive composition is 5.0 × 10 +12 Ω / □ or less, and the peeling band voltage is “± 0.6 kV or less”. In the present invention, "± 0.6 kV or less" means 0 to −0.6 kV and 0 to +0.6 kV, that is, −0.6 to +0.6 kV. If the surface resistivity is large, the performance to release the static electricity generated by charging during peeling is inferior. Therefore, by making the surface resistivity sufficiently small, the peeling that occurs due to the static electricity generated when the adherend peels off the adhesive layer. The band voltage is reduced, and it is possible to suppress the influence on the electric control circuit of the adherend.

本発明の粘着剤組成物を架橋してなる粘着剤層(架橋後の粘着剤)のゲル分率は、95〜100%であることが好ましい。このようにゲル分率が高いことにより、低速の剥離速度において、粘着力が過大にならず、共重合体からの未重合モノマーあるいはオリゴマーの溶出が低減して、リワーク性や高温・高湿度における耐久性が改善され、被着体の汚染を抑制することができる。 The gel fraction of the pressure-sensitive adhesive layer (the pressure-sensitive adhesive after cross-linking) formed by cross-linking the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is preferably 95 to 100%. Due to such a high gel fraction, the adhesive force does not become excessive at a low peeling rate, the elution of unpolymerized monomers or oligomers from the copolymer is reduced, and the reworkability and high temperature / high humidity are satisfied. Durability is improved and contamination of the adherend can be suppressed.

本発明の粘着フィルムは、本発明の粘着剤組成物を架橋してなる粘着剤層を、樹脂フィルムの片面または両面に形成してなる。また、本発明の表面保護フィルムは、本発明の粘着剤組成物を架橋してなる粘着剤層を、樹脂フィルムの片面に形成してなる表面保護フィルムである。本発明の粘着剤組成物は、上記の(A)〜(F)の各成分がバランスよく配合されているため、優れた帯電防止性能を備え、低速の剥離速度、及び高速の剥離速度において、粘着力のバランスが優れ、さらに、耐久性能、及びリワーク性能(粘着剤層を介して表面保護フィルムの上をボールペンでなぞった後に、被着体に汚染移行のないこと)にも優れたものとなる。このため、偏光板の表面保護フィルムの用途として好適に使用することができる。 The pressure-sensitive adhesive film of the present invention is formed by forming a pressure-sensitive adhesive layer formed by cross-linking the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention on one or both sides of a resin film. Further, the surface protective film of the present invention is a surface protective film formed by forming an adhesive layer formed by cross-linking the adhesive composition of the present invention on one side of a resin film. Since the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention contains the above-mentioned components (A) to (F) in a well-balanced manner, it has excellent antistatic performance, and has a low peeling speed and a high peeling speed. It has an excellent balance of adhesive strength, and also has excellent durability and rework performance (there is no transfer of contamination to the adherend after tracing the surface protective film with a ballpoint pen through the adhesive layer). Become. Therefore, it can be suitably used as a surface protective film for a polarizing plate.

本発明に係わる帯電防止表面保護フィルム10に使用される粘着剤層2の厚みは、特に限定はないものの、例えば、5〜40μm程度の厚みが好ましく、10〜30μm程度の厚みがより好ましい。帯電防止表面保護フィルムの被着体の表面に対する剥離強度(粘着力)が、0.03〜0.3N/25mm程度の、微粘着力を有する粘着剤層2であることが、被着体から帯電防止表面保護フィルムを剥がす時の操作性に優れることから好ましい。また、帯電防止表面保護フィルム10から剥離フィルム5を剥がす時の操作性に優れることから、剥離フィルム5の粘着剤層2からの剥離力が、0.2N/50mm以下であることが好ましい。 The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 2 used in the antistatic surface protective film 10 according to the present invention is not particularly limited, but is preferably about 5 to 40 μm, more preferably about 10 to 30 μm, for example. From the adherend, the pressure-sensitive adhesive layer 2 having a slight adhesive strength having a peeling strength (adhesive strength) of the antistatic surface protective film on the surface of the adherend of about 0.03 to 0.3 N / 25 mm is determined from the adherend. It is preferable because it has excellent operability when the antistatic surface protective film is peeled off. Further, since the release film 5 is excellent in operability when the release film 5 is peeled from the antistatic surface protective film 10, the release force of the release film 5 from the pressure-sensitive adhesive layer 2 is preferably 0.2 N / 50 mm or less.

また、本発明に係わる帯電防止表面保護フィルム10に使用される剥離フィルム5は、樹脂フィルム3の片面に、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、20℃において液体のシリコーン系化合物と、帯電防止剤とを含む樹脂組成物を用いた剥離剤層4が形成されている。 Further, the release film 5 used for the antistatic surface protective film 10 according to the present invention comprises a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component and a silicone compound liquid at 20 ° C. on one side of the resin film 3. A release agent layer 4 using a resin composition containing an antistatic agent is formed.

樹脂フィルム3としては、ポリエステルフィルム、ポリアミドフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリイミドフィルムなどが挙げられるが、透明性に優れていることや価格が比較的に安価であることから、ポリエステルフィルムが特に好ましい。樹脂フィルムは、無延伸フィルムであっても、一軸または二軸延伸されたフィルムであってもよい。また、延伸フィルムの延伸倍率や、延伸フィルムの結晶化に伴い形成される軸方法の配向角度を、特定の値に制御してもよい。
樹脂フィルム3の厚みは、特に限定はないが、例えば、12〜100μm程度の厚みが好ましく、20〜50μm程度の厚みであれば取り扱い易く、より好ましい。
また、必要に応じて、樹脂フィルム3の表面に、コロナ放電による表面改質、アンカーコート剤の塗付などの易接着処理を施してもよい。
Examples of the resin film 3 include a polyester film, a polyamide film, a polyethylene film, a polypropylene film, and a polyimide film, but the polyester film is particularly preferable because of its excellent transparency and relatively low price. .. The resin film may be a non-stretched film or a uniaxially or biaxially stretched film. Further, the draw ratio of the stretched film and the orientation angle of the axial method formed by crystallization of the stretched film may be controlled to a specific value.
The thickness of the resin film 3 is not particularly limited, but is preferably about 12 to 100 μm, and more preferably about 20 to 50 μm because it is easy to handle.
Further, if necessary, the surface of the resin film 3 may be subjected to an easy-adhesion treatment such as surface modification by corona discharge or application of an anchor coating agent.

剥離剤層4を構成するジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤には、付加反応型、縮合反応型、カチオン重合型、ラジカル重合型などの、公知のシリコーン系剥離剤が挙げられる。付加反応型シリコーン系剥離剤として市販されている製品には、例えば、KS−776A、KS−847T、KS−779H、KS−837、KS−778、KS−830(信越化学工業(株)製)、SRX−211、SRX−345、SRX−357、SD7333、SD7220、SD7223、LTC−300B、LTC−350G、LTC−310(東レダウコーニング(株)製)などが挙げられる。縮合反応型として市販されている製品には、例えば、SRX−290、SYLOFF−23(東レダウコーニング(株)製)などが挙げられる。カチオン重合型として市販されている製品には、例えば、TPR−6501、TPR−6500、UV9300、VU9315、UV9430(モメンティブ・パーフォーマンス・マテリアルズ社製)、X62−7622(信越化学工業(株)製)などが挙げられる。ラジカル重合型として市販されている製品には、例えば、X62−7205(信越化学工業(株)製)などが挙げられる。 Examples of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component constituting the release agent layer 4 include known silicone-based release agents such as addition reaction type, condensation reaction type, cationic polymerization type, and radical polymerization type. Products commercially available as addition reaction type silicone release agents include, for example, KS-776A, KS-847T, KS-779H, KS-837, KS-778, KS-830 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). , SRX-211, SRX-345, SRX-357, SD7333, SD7220, SD7223, LTC-300B, LTC-350G, LTC-310 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) and the like. Examples of products commercially available as a condensation reaction type include SRX-290 and SYLOFF-23 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.). Products commercially available as cationically polymerized types include, for example, TPR-6501, TPR-6500, UV9300, VU9315, UV9430 (manufactured by Momentive Performance Materials), X62-7622 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). ) And so on. Examples of products commercially available as a radical polymerization type include X62-7205 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

剥離剤層4を構成する20℃において液体のシリコーン系化合物としては、ポリエーテル変性シリコーン、アルキル変性シリコーン、カルビノール高級脂肪酸エステル変性シリコーンなどが挙げられる。本発明では、粘着剤層の表面の帯電防止性を向上するために、ジメチルポリシロキサンを主成分とした剥離剤層の中に相溶している状態の20℃において液体のシリコーン系化合物が用いられる。本発明の用途には、変性シリコーン化合物の中でも、ポリエーテル変性シリコーンが好ましい。ポリエーテル変性シリコーンにおけるポリエーテル鎖は、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドなどで構成され、例えば、側鎖に用いるポリエチレンオキサイドの分子量を選択することにより、シリコーン剥離剤との相溶性や帯電防止効果などの物性が調整される。
また、ポリエーテル変性シリコーンとして市販されている製品には、例えば、KF−351A、KF−352A、KF−353、KF−354L、KF−355A、KF−642(信越化学工業(株)製)、SH8400、SH8700、SF8410(東レダウコーニング(株)製)、TSF−4440、TSF−4441、TSF−4445、TSF−4446、TSF−4450(モメンティブパーフォーマンス・マテリアルズ社製)、BYK−300、BYK−306、BYK−307、BYK−320、BYK−325、BYK−330(ビックケミー社製)などが挙げられる。
ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤に対する20℃において液体のシリコーン系化合物の添加量は、シリコーン化合物の種類や剥離剤との相溶性の度合いにより異なるが、帯電防止表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、望まれる剥離帯電圧、被着体に対する汚染性、粘着特性などを考慮して設定すればよい。
Examples of the silicone-based compound that is liquid at 20 ° C. constituting the release agent layer 4 include polyether-modified silicone, alkyl-modified silicone, and carbinol higher fatty acid ester-modified silicone. In the present invention, in order to improve the antistatic property on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, a silicone-based compound that is liquid at 20 ° C. in a state of being compatible with the release agent layer containing dimethylpolysiloxane as a main component is used. Be done. Among the modified silicone compounds, polyether-modified silicone is preferable for the application of the present invention. The polyether chain in the polyether-modified silicone is composed of ethylene oxide, propylene oxide, etc. For example, by selecting the molecular weight of the polyethylene oxide used for the side chain, physical properties such as compatibility with the silicone release agent and antistatic effect can be obtained. Is adjusted.
In addition, products commercially available as polyether-modified silicone include, for example, KF-351A, KF-352A, KF-353, KF-354L, KF-355A, KF-642 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). SH8400, SH8700, SF8410 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), TSF-4440, TSF-4441, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4450 (manufactured by Momentive Performance Materials), BYK-300, BYK -306, BYK-307, BYK-320, BYK-325, BYK-330 (manufactured by Big Chemie) and the like.
The amount of the silicone compound added, which is liquid at 20 ° C. to the release agent containing dimethylpolysiloxane as the main component, varies depending on the type of the silicone compound and the degree of compatibility with the release agent, but an antistatic surface protective film is adhered. The setting may be made in consideration of the desired peeling band voltage, the contaminating property to the adherend, the adhesive property, and the like when peeling from the film.

剥離剤層4を構成する帯電防止剤としては、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤溶液に対して分散性の良いもので、かつ、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の硬化を阻害しないものが好ましい。こうした帯電防止剤としてはアルカリ金属塩が好適である。 The antistatic agent constituting the release agent layer 4 has good dispersibility in a release agent solution containing dimethylpolysiloxane as a main component and inhibits curing of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component. Those that do not are preferable. Alkali metal salts are suitable as such antistatic agents.

アルカリ金属塩としては、リチウム、ナトリウム、カリウムからなる金属塩があげられ、具体的には、たとえば、Li、Na、Kよりなるカチオンと、Cl、Br、I、BF 、PF 、SCN、ClO 、CFSO 、(CFSO、(CSO、(CFSOよりなるアニオンから構成される金属塩が好適に用いられる。なかでも特に、LiBr、LiI、LiBF、LiPF、LiSCN、LiClO、LiCFSO、Li(CFSON、Li(CSON、Li(CFSOCなどのリチウム塩が好ましく用いられる。これらのアルカリ金属塩は単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよい。イオン性物質の安定化のため、ポリオキシアルキレン構造を含有する化合物を添加しても良い。
ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤に対する帯電防止剤の添加量は、帯電防止剤の種類や剥離剤との親和性の度合いにより異なるが、帯電防止表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、望まれる剥離帯電圧、被着体に対する汚染性、粘着特性などを考慮して設定すればよい。
Examples of the alkali metal salt include metal salts composed of lithium, sodium and potassium. Specifically, for example, cations composed of Li + , Na + and K + , Cl − , Br , I and BF 4 , PF 6 , SCN , ClO 4 , CF 3 SO 3 , (CF 3 SO 2 ) 2 N , (C 2 F 5 SO 2 ) 2 N , (CF 3 SO 2 ) 3 C A metal salt composed of an anion composed of the above is preferably used. Among them, especially LiBr, LiI, LiBF 4 , LiPF 6 , LiSCN, LiClO 4 , LiCF 3 SO 3 , Li (CF 3 SO 2 ) 2 N, Li (C 2 F 5 SO 2 ) 2 N, Li (CF 3) lithium salts such as SO 2) 3 C is preferably used. These alkali metal salts may be used alone or in combination of two or more. A compound containing a polyoxyalkylene structure may be added to stabilize the ionic substance.
The amount of the antistatic agent added to the release agent containing dimethylpolysiloxane as the main component varies depending on the type of the antistatic agent and the degree of affinity with the release agent, but when the antistatic surface protective film is peeled off from the adherend. However, it may be set in consideration of the desired peeling band voltage, stain resistance to the adherend, adhesive properties, and the like.

ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤との混合方法には、特に限定はない。ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤に、ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤を添加して、混合した後に剥離剤硬化用の触媒を添加・混合する方法、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤を、あらかじめ有機溶剤で希釈したのちにポリエーテル変性シリコーン及び帯電防止剤と剥離剤硬化用の触媒を添加、混合する方法、シロキサンを主成分とする剥離剤をあらかじめ有機溶剤に希釈後、触媒を添加・混合し、その後ポリエーテル変性シリコーンと帯電防止剤を添加、混合する方法など、いずれの方法でも良い。また、必要に応じて、シランカップリング剤などの密着向上剤やポリオキシアルキレン基を含有する化合物などの帯電防止効果を補助する材料、を添加しても良い。 The method of mixing the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component with the polyether-modified silicone and the antistatic agent is not particularly limited. A method of adding a polyether-modified silicone and an antistatic agent to a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, mixing the mixture, and then adding and mixing a catalyst for curing the release agent. Removal using dimethylpolysiloxane as a main component. A method of diluting the agent with an organic solvent in advance and then adding and mixing a polyether-modified silicone and an antioxidant and a catalyst for curing the release agent. A release agent containing siloxane as a main component is diluted with an organic solvent in advance, and then the catalyst is used. Any method may be used, such as a method of adding and mixing the mixture, and then adding and mixing the polyether-modified silicone and the antistatic agent. Further, if necessary, an adhesion improver such as a silane coupling agent or a material that assists the antistatic effect such as a compound containing a polyoxyalkylene group may be added.

ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤との混合比率は、特に限定はないが、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分100に対して、ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤を固形分として5〜100程度の割合が好ましい。ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤の固形分換算の添加量が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分100に対して5の割合より少ないと、粘着剤層の表面への帯電防止剤の転写量も少なくなり、粘着剤に帯電防止の機能が発揮され難くなる。また、ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤の固形分換算の添加量が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分100に対して100の割合を越えると、ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤とともにジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤も、粘着剤層の表面に転写されてしまうため、粘着剤の粘着特性を低下させる可能性がある。 The mixing ratio of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, the polyether-modified silicone and the antistatic agent is not particularly limited, but with respect to the solid content 100 of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, The solid content of the polyether-modified silicone and the antistatic agent is preferably about 5 to 100. When the amount of the polyether-modified silicone and the antistatic agent added in terms of solid content is less than 5 with respect to the solid content of 100 of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, antistatic on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer is prevented. The transfer amount of the agent is also reduced, and it becomes difficult for the adhesive to exert the antistatic function. Further, when the addition amount of the polyether-modified silicone and the antistatic agent in terms of solid content exceeds 100 with respect to the solid content of 100 of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, the polyether-modified silicone and the antistatic agent are prevented from being charged. Along with the agent, a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component is also transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, which may reduce the pressure-sensitive adhesive properties of the pressure-sensitive adhesive.

本発明に係わる帯電防止表面保護フィルム10の基材フィルム1に、粘着剤層2を形成する方法、及び剥離フィルム5を貼合する方法は、公知の方法で行えばよく、特に限定されない。具体的には、(1)基材フィルム1の片面に、粘着剤層2を形成するための樹脂組成物を塗布、乾燥し粘着剤層を形成した後に、剥離フィルム5を貼合する方法、(2)剥離フィルム5の表面に、粘着剤層2を形成するための樹脂組成物を塗布・乾燥し粘着剤層を形成した後に、基材フィルム1を貼合する方法などが挙げられるが、いずれの方法を用いても良い。 The method of forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 and the method of attaching the release film 5 to the base film 1 of the antistatic surface protective film 10 according to the present invention may be performed by a known method and is not particularly limited. Specifically, (1) a method in which a resin composition for forming an adhesive layer 2 is applied to one side of a base film 1, dried to form an adhesive layer, and then a release film 5 is attached. (2) A method of applying and drying a resin composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 on the surface of the release film 5 to form the pressure-sensitive adhesive layer, and then laminating the base film 1 and the like can be mentioned. Any method may be used.

また、基材フィルム1の表面に、粘着剤層2を形成するのは、公知の方法で行えばよい。具体的には、リバースコーティング、コンマコーティング、グラビアコーティング、スロットダイコーティング、メイヤーバーコーティング、エアーナイフコーティングなどの、公知の塗工方法を使用することができる。 Further, the pressure-sensitive adhesive layer 2 may be formed on the surface of the base film 1 by a known method. Specifically, known coating methods such as reverse coating, comma coating, gravure coating, slot die coating, Mayer bar coating, and air knife coating can be used.

また、同様に、樹脂フィルム3に、剥離剤層4を形成するのは、公知の方法で行えばよい。具体的には、グラビアコーティング、メイヤーバーコーティング、エアーナイフコーティングなどの、公知の塗工方法を使用することができる。 Similarly, the release agent layer 4 may be formed on the resin film 3 by a known method. Specifically, known coating methods such as gravure coating, Mayer bar coating, and air knife coating can be used.

図2は、本発明の帯電防止表面保護フィルムから、剥離フィルムを剥がした状態を示す断面図である。
図1に示した帯電防止表面保護フィルム10から、剥離フィルム5を剥がすことにより、剥離フィルム5の剥離剤層4に含まれる、20℃において液体のシリコーン系化合物および帯電防止剤(符号7)の一部が、帯電防止表面保護フィルム10の粘着剤層2の表面に、転写される(付着する)。そのため、図2においては、帯電防止表面保護フィルムの粘着剤層2の表面に転写された、20℃において液体のシリコーン系化合物および帯電防止剤を、符号7の斑点で模式的に示している。
本発明に係わる帯電防止表面保護フィルムでは、図2に示した剥離フィルムを剥がした状態の帯電防止表面保護フィルム11を、被着体に貼合するに当たり、この粘着剤層2の表面に転写された、20℃において液体のシリコーン系化合物および帯電防止剤が、被着体の表面に接触する。そのことにより、再度、被着体から帯電防止表面保護フィルムを剥がす時の、剥離帯電圧を低く抑えることができる。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state in which the release film is peeled off from the antistatic surface protective film of the present invention.
By peeling the release film 5 from the antistatic surface protective film 10 shown in FIG. 1, the silicone-based compound and the antistatic agent (reference numeral 7) liquid at 20 ° C. contained in the release agent layer 4 of the release film 5 A part is transferred (adhered) to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 of the antistatic surface protective film 10. Therefore, in FIG. 2, the silicone-based compound and the antistatic agent, which are liquid at 20 ° C. and transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 of the antistatic surface protective film, are schematically shown by the spots of reference numeral 7.
In the antistatic surface protective film according to the present invention, when the antistatic surface protective film 11 in the state where the release film shown in FIG. 2 is peeled off is attached to the adherend, it is transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2. In addition, the liquid silicone compound and antistatic agent come into contact with the surface of the adherend at 20 ° C. As a result, when the antistatic surface protective film is peeled off from the adherend again, the peeling band voltage can be suppressed to a low level.

図3は、本発明の光学部品の実施例を示した断面図である。
本発明の帯電防止表面保護フィルム10から、剥離フィルム5が剥がされて、粘着剤層2が表出した状態で、その粘着剤層2を介して被着体である光学部品8に貼合される。
すなわち、図3には、本発明の帯電防止表面保護フィルム10が貼合された光学部品20を示している。光学部品としては、偏光板、位相差板、レンズフィルム、位相差板兼用の偏光板、レンズフィルム兼用の偏光板などの光学用フィルムが挙げられる。このような光学部品は、液晶表示パネルなどの液晶表示装置、各種計器類の、光学系装置等の構成部材として使用される。また、光学部品としては、反射防止フィルム、ハードコートフィルム、タッチパネル用透明導電性フィルムなどの、光学用フィルムも挙げられる。特に、表面がシリコーン化合物やフッ素化合物などで防汚染処理してある、低反射処理偏光板(LR偏光板)やアンチグレア低反射処理偏光板(AG−LR偏光板)などの光学用フィルムの、防汚染処理した面に貼合される、帯電防止表面保護フィルムとして好適に使用することができる。
本発明の光学部品によれば、帯電防止表面保護フィルム10を、被着体である光学部品(光学用フィルム)から剥離除去するとき、剥離帯電圧を充分に低く抑制することができるので、ドライバーIC、TFT素子、ゲート線駆動回路などの回路部品を破壊する恐れがなく、液晶表示パネル等を製造する工程での生産効率を高め、生産工程の信頼性を保つことができる。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing an embodiment of the optical component of the present invention.
The release film 5 is peeled off from the antistatic surface protective film 10 of the present invention, and the pressure-sensitive adhesive layer 2 is exposed and attached to the optical component 8 which is an adherend via the pressure-sensitive adhesive layer 2. To.
That is, FIG. 3 shows the optical component 20 to which the antistatic surface protective film 10 of the present invention is attached. Examples of the optical component include an optical film such as a polarizing plate, a retardation plate, a lens film, a polarizing plate that also serves as a retardation plate, and a polarizing plate that also serves as a lens film. Such optical components are used as constituent members of liquid crystal display devices such as liquid crystal display panels and various instruments such as optical system devices. Further, examples of the optical component include an optical film such as an antireflection film, a hard coat film, and a transparent conductive film for a touch panel. In particular, the prevention of optical films such as low-reflection treated polarizing plates (LR polarizing plates) and anti-glare low-reflection treated polarizing plates (AG-LR polarizing plates) whose surfaces are antifouling treated with silicone compounds or fluorine compounds. It can be suitably used as an antistatic surface protective film to be attached to a contaminated surface.
According to the optical component of the present invention, when the antistatic surface protective film 10 is peeled off and removed from the optical component (optical film) which is an adherend, the peeling band voltage can be suppressed sufficiently low, so that the driver There is no risk of damaging circuit components such as ICs, TFT elements, and gate wire drive circuits, and production efficiency in the process of manufacturing liquid crystal display panels and the like can be improved, and reliability of the production process can be maintained.

次に、実施例により、本発明をさらに説明する。 Next, the present invention will be further described with reference to Examples.

<粘着剤組成物の製造>
[実施例1]
撹拌機、温度計、還流冷却器及び窒素導入管を備えた反応装置に、窒素ガスを導入して、反応装置内の空気を窒素ガスで置換した。その後、反応装置に2−エチルヘキシルアクリレート100重量部、8−ヒドロキシオクチルアクリレート5.0重量部とともに溶剤(酢酸エチル)を60重量部加えた。その後、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル0.1重量部を2時間かけて滴下させ、65℃で6時間反応させ、重量平均分子量50万の、実施例1のアクリル共重合体溶液を得た。このアクリル共重合体溶液に対して、アセチルアセトン8.5重量部を加え撹拌したのち、コロネートHX(ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体)を2.0重量部、チタニウムトリスアセチルアセトネート0.1重量部を加えて撹拌混合して実施例1の粘着剤組成物を得た。
<Manufacturing of adhesive composition>
[Example 1]
Nitrogen gas was introduced into a reactor equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser and a nitrogen introduction pipe, and the air in the reactor was replaced with nitrogen gas. Then, 60 parts by weight of a solvent (ethyl acetate) was added to the reaction apparatus together with 100 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate and 5.0 parts by weight of 8-hydroxyoctyl acrylate. Then, 0.1 part by weight of azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator was added dropwise over 2 hours and reacted at 65 ° C. for 6 hours to obtain an acrylic copolymer solution of Example 1 having a weight average molecular weight of 500,000. Obtained. To this acrylic copolymer solution, 8.5 parts by weight of acetylacetone was added and stirred, and then 2.0 parts by weight of coronate HX (isocyanurate compound of hexamethylene diisocyanate compound) and 0.1 weight by weight of titanium trisacetylacetonate were added. The parts were added and mixed with stirring to obtain the pressure-sensitive adhesive composition of Example 1.

[実施例2〜6及び比較例1〜3]
実施例1の粘着剤組成物の組成を各々、表1及び表2の記載のようにした以外は、実施例1と同様にして、実施例2〜6及び比較例1〜3の粘着剤組成物を得た。表1及び表2中、アクリル共重合体に含まれる(共重合される)モノマーは、(A)、(B)、(C)、(G)、及び「カルボキシル基含有モノマー」である。
[Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 to 3]
The pressure-sensitive adhesive compositions of Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 are the same as those of Example 1 except that the composition of the pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 is as shown in Tables 1 and 2, respectively. I got something. In Tables 1 and 2, the monomers contained (copolymerized) in the acrylic copolymer are (A), (B), (C), (G), and "carboxyl group-containing monomer".

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表1及び表2は、各成分の配合比を示す一体の表を2つに分けたものであり、いずれも(A)群の合計を100重量部として求めた重量部の数値を括弧で囲んで示す。また、表1及び表2に用いた各成分の略記号の化合物名を、表3及び表4に示す。なお、コロネート(登録商標)HX、同HL及び同Lは日本ポリウレタン工業株式会社の商品名であり、タケネート(登録商標)D−140N、D−127N、D−110Nは三井化学株式会社の商品名である。 Tables 1 and 2 are two separate tables showing the compounding ratio of each component, and in each case, the numerical value of the weight part obtained by assuming that the total of the group (A) is 100 parts by weight is enclosed in parentheses. Indicated by. The compound names of the abbreviations of the respective components used in Tables 1 and 2 are shown in Tables 3 and 4. Coronate (registered trademark) HX, HL and L are trade names of Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., and Takenate (registered trademark) D-140N, D-127N and D-110N are trade names of Mitsui Chemicals Co., Ltd. Is.

Figure 0006876855
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<2官能イソシアネート化合物の合成>
合成例1,2の、2官能イソシアネート化合物は、下記の方法で合成した。表5及び表6に示すように、ジイソシアネートとジオール化合物を、モル比:NCO/OH=16の比率で混合し、120℃で3時間反応させ、その後、薄膜蒸発装置を使用して減圧下で未反応のジイソシアネートを除去し、目的の2官能イソシアネート化合物を得た。
<Synthesis of bifunctional isocyanate compound>
The bifunctional isocyanate compounds of Synthesis Examples 1 and 2 were synthesized by the following methods. As shown in Tables 5 and 6, the diisocyanate and the diol compound were mixed at a molar ratio of NCO / OH = 16, reacted at 120 ° C. for 3 hours, and then under reduced pressure using a thin film evaporator. The unreacted diisocyanate was removed to obtain the desired bifunctional isocyanate compound.

Figure 0006876855
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<帯電防止表面保護フィルムの作製>
[実施例1]
付加反応型のシリコーン(東レダウコーニング(株)製、品名:SRX−345)5重量部、ポリエーテル変性シリコーン(東レダウコーニング(株)製、品名:SH8400)0.15重量部、過塩素酸リチウム10%酢酸エチル溶液5重量部、トルエンと酢酸エチルの1:1の混合溶媒95重量部、及び白金触媒(東レダウコーニング(株)製、品名:SRX−212キャタリスト)0.05重量部を混ぜ合わせて撹拌・混合して、実施例1の剥離剤層を形成する塗料を調整した。厚みが38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、実施例1の剥離剤層を形成する塗料を、乾燥後の厚さが0.2μmになるようにメイヤバーにて塗布し、120℃の熱風循環式オーブンにて1分間乾燥し、実施例1の剥離フィルムを得た。
実施例1の粘着剤組成物を、厚みが38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、乾燥後の厚さが20μmとなるように、塗布した後、100℃の熱風循環式オーブンにて2分間乾燥させて粘着剤層を形成した。その後、この粘着剤層の表面に、上記にて作製した、実施例1の剥離フィルムの剥離剤層(シリコーン処理面)を貼合した。得られた粘着フィルムを40℃の環境下で5日間保温し、粘着剤を硬化させて、実施例1の帯電防止表面保護フィルムを得た。
<Preparation of antistatic surface protection film>
[Example 1]
Additive reaction type silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-345) 5 parts by weight, polyether-modified silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SH8400) 0.15 parts by weight, perchlorate 5 parts by weight of lithium 10% ethyl acetate solution, 95 parts by weight of a 1: 1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate, and 0.05 parts by weight of platinum catalyst (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-212 catalyst) Was mixed, stirred and mixed to prepare a coating material forming the release agent layer of Example 1. The paint forming the release agent layer of Example 1 is applied to the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm with a mayer bar so that the thickness after drying becomes 0.2 μm, and a hot air circulation oven at 120 ° C. The film was dried for 1 minute to obtain a release film of Example 1.
The pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm so as to have a thickness of 20 μm after drying, and then dried in a hot air circulation oven at 100 ° C. for 2 minutes. Formed a pressure-sensitive adhesive layer. Then, the release agent layer (silicone-treated surface) of the release film of Example 1 prepared above was bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. The obtained adhesive film was kept warm in an environment of 40 ° C. for 5 days to cure the adhesive to obtain an antistatic surface protective film of Example 1.

[実施例2〜6]
実施例1の粘着剤組成物を各々、実施例2〜6の粘着剤組成物にした以外は、実施例1と同様にして、実施例2〜6の帯電防止表面保護フィルムを得た。
[Examples 2 to 6]
An antistatic surface protective film of Examples 2 to 6 was obtained in the same manner as in Example 1 except that each of the pressure-sensitive adhesive compositions of Example 1 was made into the pressure-sensitive adhesive compositions of Examples 2 to 6.

[比較例1]
付加反応型のシリコーン(東レダウコーニング(株)製、品名:SRX−345)5重量部、トルエンと酢酸エチルの1:1の混合溶媒95重量部、及び白金触媒(東レダウコーニング(株)製、品名:SRX−212キャタリスト)0.05重量部を混ぜ合わせて撹拌・混合して、比較例1の剥離剤層を形成する塗料を調整した。厚みが38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、比較例1の剥離剤層を形成する塗料を、乾燥後の厚さが0.2μmになるようにメイヤバーにて塗布し、120℃の熱風循環式オーブンにて1分間乾燥し、比較例1の剥離フィルムを得た。
比較例1の粘着剤組成物を、厚みが38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、乾燥後の厚さが20μmとなるように、塗布した後、100℃の熱風循環式オーブンにて2分間乾燥させて粘着剤層を形成した。その後、この粘着剤層の表面に、上記にて作製した、比較例1の剥離フィルムの剥離剤層(シリコーン処理面)を貼合した。得られた粘着フィルムを40℃の環境下で5日間保温し、粘着剤を硬化させて、比較例1の帯電防止表面保護フィルムを得た。
[Comparative Example 1]
Addition reaction type silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-345) 5 parts by weight, 95 parts by weight of a 1: 1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate, and platinum catalyst (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) , Product name: SRX-212 catalyst) 0.05 parts by weight were mixed, stirred and mixed to prepare a coating material forming the release agent layer of Comparative Example 1. On the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm, a paint for forming a release agent layer of Comparative Example 1 is applied with a mayer bar so that the thickness after drying becomes 0.2 μm, and a hot air circulation type oven at 120 ° C. The film was dried for 1 minute to obtain a release film of Comparative Example 1.
The pressure-sensitive adhesive composition of Comparative Example 1 was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm so as to have a thickness of 20 μm after drying, and then dried in a hot air circulation oven at 100 ° C. for 2 minutes. Formed a pressure-sensitive adhesive layer. Then, the release agent layer (silicone-treated surface) of the release film of Comparative Example 1 prepared above was bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. The obtained adhesive film was kept warm in an environment of 40 ° C. for 5 days to cure the adhesive to obtain an antistatic surface protective film of Comparative Example 1.

[比較例2]
比較例1の粘着剤組成物を、比較例2の粘着剤組成物にした以外は、比較例1と同様にして、比較例2の帯電防止表面保護フィルムを得た。
[Comparative Example 2]
An antistatic surface protective film of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that the pressure-sensitive adhesive composition of Comparative Example 1 was changed to the pressure-sensitive adhesive composition of Comparative Example 2.

[比較例3]
実施例1の粘着剤組成物を、比較例3の粘着剤組成物にした以外は、実施例1と同様にして、比較例3の帯電防止表面保護フィルムを得た。
[Comparative Example 3]
An antistatic surface protective film of Comparative Example 3 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 was changed to the pressure-sensitive adhesive composition of Comparative Example 3.

表7に、実施例1〜6及び比較例1〜3の帯電防止表面保護フィルムにおける、剥離剤層の組成及び厚さを示す。 Table 7 shows the composition and thickness of the release agent layer in the antistatic surface protective films of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3.

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<試験方法及び評価>
実施例1〜6、及び比較例1〜3における表面保護フィルムを、23℃、50%RHの雰囲気下で7日間エージングした後、剥離フィルム(シリコーン樹脂コートされたPETフィルム)を剥がして、粘着剤層を表出させたものを、表面抵抗率の測定試料とした。
さらに、この粘着剤層を表出させた表面保護フィルムを、粘着剤層を介して液晶セルに貼られた偏光板の表面に貼り合わせ、1日放置した後、50℃、5気圧、20分間オートクレーブ処理し、室温でさらに12時間放置したものを、粘着力、剥離帯電圧、及びリワーク性の測定試料とした。
<Test method and evaluation>
The surface protective films of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 were aged at 23 ° C. and 50% RH for 7 days, and then the release film (silicone resin coated PET film) was peeled off to adhere. The exposed agent layer was used as a sample for measuring the surface resistivity.
Further, the surface protective film on which the pressure-sensitive adhesive layer is exposed is attached to the surface of the polarizing plate attached to the liquid crystal cell via the pressure-sensitive adhesive layer, left for 1 day, and then at 50 ° C., 5 atm, for 20 minutes. The sample which was autoclaved and left at room temperature for another 12 hours was used as a measurement sample of adhesive strength, peeling band voltage, and reworkability.

<粘着力>
上記で得られた測定試料(25mm幅の表面保護フィルムを偏光板の表面に貼り合わせたもの)を、180°方向に引張試験機を用いて低速の剥離速度(0.3m/min)及び高速の剥離速度(30m/min)において剥がして、測定した剥離強度を粘着力とした。
<Adhesive strength>
The measurement sample obtained above (a 25 mm wide surface protective film bonded to the surface of the polarizing plate) was peeled at a low speed (0.3 m / min) and a high speed in the 180 ° direction using a tensile tester. The peeling strength was taken as the adhesive strength after peeling at the peeling speed (30 m / min).

<表面抵抗率>
エージングした後、偏光板に貼り合わせる前に、剥離フィルム(シリコーン樹脂コートされたPETフィルム)を剥がして粘着剤層を表出し、抵抗率計ハイレスタUP−HT450(三菱化学アナリテック製)を用いて粘着剤層の表面抵抗率を測定した。
<Surface resistivity>
After aging, before sticking to the polarizing plate, the release film (silicone resin coated PET film) is peeled off to expose the adhesive layer, and the resistivity meter Hiresta UP-HT450 (manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech) is used. The surface resistivity of the pressure-sensitive adhesive layer was measured.

<剥離帯電圧>
上記で得られた測定試料を、30m/minの引張速度で180°剥離した際に偏光板が帯電して発生する電圧(帯電圧)を、高精度静電気センサSK−035、SK−200(株式会社キーエンス製)を用いて測定し、測定値の最大値を剥離帯電圧とした。
<Peeling band voltage>
High-precision electrostatic sensors SK-035 and SK-200 (stocks) can be used to measure the voltage (voltage band) generated by charging the polarizing plate when the measurement sample obtained above is peeled 180 ° at a tensile speed of 30 m / min. It was measured using (manufactured by the company Keyence), and the maximum value of the measured value was taken as the peeling band voltage.

<リワーク性>
上記で得られた測定試料の、表面保護フィルムの上をボールペンで(荷重500g、3往復)なぞった後、偏光板から表面保護フィルムを剥離して偏光板の表面を観察し、偏光板に汚染移行の無いことを確認した。評価目標基準は、偏光板に汚染移行の無い場合を「○」、ボールペンでなぞった軌跡に沿って少なくとも一部に汚染移行が確認された場合を「△」、ボールペンでなぞった軌跡に沿って汚染移行が確認され、粘着剤表面からも粘着剤の離脱が確認された場合を「×」と評価した。
<Reworkability>
After tracing the surface protective film of the measurement sample obtained above with a ball pen (load 500 g, 3 reciprocations), the surface protective film is peeled off from the polarizing plate, the surface of the polarizing plate is observed, and the polarizing plate is contaminated. It was confirmed that there was no migration. The evaluation target criteria are "○" when there is no contamination transfer on the polarizing plate, "△" when contamination transfer is confirmed at least in part along the trajectory traced with the ballpoint pen, and along the trajectory traced with the ballpoint pen. When the transfer of contamination was confirmed and the detachment of the adhesive was confirmed from the surface of the adhesive, it was evaluated as "x".

表8に、評価結果を示す。なお、表面抵抗率は、「m×10+n」を「mE+n」とする方式(ただし、mは任意の実数値、nは正の整数)により表記した。 Table 8 shows the evaluation results. The surface resistivity is expressed by a method in which "m × 10 + n " is set to "mE + n" (where m is an arbitrary real value and n is a positive integer).

Figure 0006876855
Figure 0006876855

表8に示した測定結果から、以下のことが分かる。
本発明に係わる実施例1〜6の帯電防止表面保護フィルムは、適度な粘着力があり、被着体の表面に対する汚染がなく、かつ、帯電防止表面保護フィルムを被着体から剥離した時の剥離帯電圧が低い。
一方、シリコーン化合物および帯電防止剤を粘着剤層に添加した比較例1の帯電防止表面保護フィルムは、粘着剤層の表面抵抗率は低く良好であるが、粘着力が大きいため、剥離帯電圧は高く、リワーク性に劣るものであった。また、比較例2では、架橋促進剤の添加量が多いためか、粘着剤がゲル化し、塗工できなくなった。また、比較例3では、カルボキシル基を含有するモノマーを含むことから、粘着力が大きく、リワーク性がやや劣っていた。
すなわち、粘着剤に、シリコーン化合物と帯電防止剤とを混合させた比較例1、2では、剥離帯電圧の低減と被着体に対する汚染性を両立することが難しい。他方、剥離剤層に、シリコーン化合物および帯電防止剤を添加した後、粘着剤層の表面に、シリコーン化合物および帯電防止剤を転写させた実施例1〜6では、少量の添加量で剥離帯電圧の低減効果があるため、被着体に対する汚染もなく、良好な帯電防止表面保護フィルムが得られた。
From the measurement results shown in Table 8, the following can be seen.
The antistatic surface protective films of Examples 1 to 6 according to the present invention have appropriate adhesive strength, are not contaminated on the surface of the adherend, and when the antistatic surface protective film is peeled off from the adherend. The peeling band voltage is low.
On the other hand, the antistatic surface protective film of Comparative Example 1 in which a silicone compound and an antistatic agent are added to the pressure-sensitive adhesive layer has a good low surface resistivity of the pressure-sensitive adhesive layer, but has a high adhesive strength, so that the peeling band voltage is high. It was expensive and inferior in reworkability. Further, in Comparative Example 2, probably because the amount of the cross-linking accelerator added was large, the adhesive gelled and could not be applied. Further, in Comparative Example 3, since the monomer containing a carboxyl group was contained, the adhesive strength was large and the reworkability was slightly inferior.
That is, in Comparative Examples 1 and 2 in which the silicone compound and the antistatic agent are mixed in the pressure-sensitive adhesive, it is difficult to achieve both reduction of the peeling zone voltage and contamination of the adherend. On the other hand, in Examples 1 to 6 in which the silicone compound and the antistatic agent were added to the release agent layer and then the silicone compound and the antistatic agent were transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, the release zone voltage was applied with a small amount of addition. A good antistatic surface protective film was obtained without contamination of the adherend.

本発明の帯電防止表面保護フィルムは、例えば、偏光板、位相差板、ディスプレイ用のレンズフィルム、などの光学用フィルム、その他、各種の光学部品等の生産工程などにおいて、該光学部品等の表面を保護するために用いることができる。特に、表面がシリコーン化合物やフッ素化合物などで防汚染処理してある、LR偏光板やAG−LR偏光板などの光学用フィルムの帯電防止表面保護フィルムとして使用する場合には、被着体から剥離する時に、静電気の発生量を少なくすることができる。
本発明の帯電防止表面保護フィルムは、被着体に対する汚染が少なくさらには、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有することから生産工程の歩留まりを向上させることができ、産業上の利用価値が大である。
The antistatic surface protective film of the present invention is, for example, an optical film such as a polarizing plate, a retardation plate, a lens film for a display, and the surface of the optical component in a production process of various other optical components. Can be used to protect. In particular, when it is used as an antistatic surface protective film for an optical film such as an LR polarizing plate or an AG-LR polarizing plate whose surface is antifouling treated with a silicone compound or a fluorine compound, it is peeled off from the adherend. When doing so, the amount of static electricity generated can be reduced.
The antistatic surface protective film of the present invention has less contamination on the adherend and has excellent peeling antistatic performance without deterioration over time, so that the yield in the production process can be improved, and its industrial utility value. Is large.

1…基材フィルム、2…粘着剤層、3…樹脂フィルム、4…剥離剤層、5…剥離フィルム、7…20℃において液体のシリコーン系化合物および帯電防止剤、8…被着体(光学部品)、10…帯電防止表面保護フィルム、11…剥離フィルムを剥がした帯電防止表面保護フィルム、20…帯電防止表面保護フィルムを貼合した光学部品。 1 ... Base film, 2 ... Adhesive layer, 3 ... Resin film, 4 ... Release agent layer, 5 ... Release film, Silicone compound and antistatic agent liquid at 7 ... 20 ° C., 8 ... Adhesive (optical) Parts), 10 ... Antistatic surface protective film, 11 ... Antistatic surface protective film from which the release film has been peeled off, 20 ... Optical parts to which the antistatic surface protective film has been attached.

Claims (2)

透明性を有する樹脂からなる基材フィルムの片面に粘着剤層が形成された帯電防止表面保護フィルムの、前記粘着剤層の表面に、帯電防止剤を転写することができる帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムであって、
前記帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムは、樹脂フィルムの片面に、帯電防止剤を含有する剥離剤層が積層されてなり、前記剥離剤層が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、20℃において液体のシリコーン系化合物であるポリエーテル変性シリコーンと、前記帯電防止剤としてアルカリ金属塩を含む樹脂組成物により形成されてなり、
前記粘着剤層は、アクリル系ポリマーと、架橋剤と、架橋促進剤と、ケトエノール互変異性体化合物と、を含有する粘着剤組成物を架橋させて形成されてなり、
前記アクリル系ポリマーが、(A)アルキル基の炭素数が、C4〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも1種と、共重合可能なモノマー群として、(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーと、(C)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーまたはアルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーと、からなる共重合可能なモノマー群の中から選択された少なくとも1種と、を共重合させたアクリル系ポリマーであり、
前記架橋促進剤が、アルミニウムキレート化合物、チタンキレート化合物、及び鉄キレート化合物からなる群の中から選択された少なくとも1種であり、
前記粘着剤層の内部には、帯電防止剤が含まれておらず、
前記剥離剤層が、前記ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分100重量部に対して、前記ポリエーテル変性シリコーン及び前記アルカリ金属塩を固形分として5〜100重量部の割合で含み、
前記帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムを、前記剥離剤層を介して前記粘着剤層の表面に貼り合せた後に、前記粘着剤層の表面から前記帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムを剥がして、前記粘着剤層の表面のみに、前記剥離剤層に含まれる前記ポリエーテル変性シリコーンと、前記アルカリ金属塩とを転写することができることを特徴とする帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルム。
For an antistatic surface protective film in which an adhesive layer is formed on one side of a base film made of a transparent resin, and an antistatic agent can be transferred to the surface of the adhesive layer. It ’s a release film,
The release film for an antistatic surface protective film is formed by laminating a release agent layer containing an antistatic agent on one side of a resin film, and the release agent layer is a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component. It is formed of a polyether-modified silicone which is a liquid silicone-based compound at 20 ° C. and a resin composition containing an alkali metal salt as the antistatic agent.
The pressure-sensitive adhesive layer is formed by cross-linking a pressure-sensitive adhesive composition containing an acrylic polymer, a cross-linking agent, a cross-linking accelerator, and a keto-enol tautomer compound.
Copolymerization in which the acrylic polymer contains (B) a hydroxyl group as a group of monomers copolymerizable with at least one (meth) acrylic acid ester monomer having (A) alkyl groups having C4 to C18 carbon atoms. Copolymerization of a possible monomer, (C) a nitrogen-containing vinyl monomer containing no hydroxyl group or an alkoxy group-containing alkyl (meth) acrylate monomer, and at least one selected from a copolymerizable monomer group consisting of (C) a copolymer. It is an acrylic polymer that has been made to
The cross-linking accelerator is at least one selected from the group consisting of an aluminum chelate compound, a titanium chelate compound, and an iron chelate compound.
The inside of the pressure-sensitive adhesive layer does not contain an antistatic agent and
The release agent layer contains the polyether-modified silicone and the alkali metal salt in a proportion of 5 to 100 parts by weight as a solid content with respect to 100 parts by weight of the solid content of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component. ,
After the release film for the antistatic surface protective film is attached to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer via the release agent layer, the release film for the antistatic surface protection film is peeled off from the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. A release film for an antistatic surface protective film, characterized in that the polyether-modified silicone contained in the release agent layer and the alkali metal salt can be transferred only to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer.
請求項1に記載の帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムが貼り合せてなることを特徴とする帯電防止表面保護フィルム。 The antistatic surface protective film according to claim 1, wherein the release film for the antistatic surface protective film is laminated.
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