KR20150066280A - 기판 처리 장치 및 방법 - Google Patents

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KR20150066280A
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Abstract

본 발명은 기판 처리 장치 및 방법에 관한 것이다. 기판 처리 장치는 상기 기판의 처리 공정이 수행되는 하우징과 상기 하우징의 일측에 위치되는 배기라인을 갖는 챔버; 상기 챔버의 외측에 위치되고, 상기 배기라인과 탈착되는 결합라인을 갖는 메인 배기 유닛; 및 상기 결합라인의 끝단에 배치되어, 상기 배기라인과 상기 결합라인의 결합시 상기 결합라인을 열고, 상기 배기라인과 상기 결합라인의 분리시 상기 결합라인을 닫는 개폐 유닛;을 포함한다.

Description

기판 처리 장치 및 방법{apparatus and method for treating substrate}
본 발명은 기판을 처리하는 장치 및 방법에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자를 제조하기 위해서는 세정, 증착, 포토 리소그래피, 에칭, 그리고 이온 주입 등과 같은 다양한 공정이 수행된다. 기판에 패턴을 형성하기 위해 수행되는 포토 리소그래피 공정은 반도체 소자의 고집적화를 이루는데 중요한 역할을 수행한다. 포토 리소그래피 공정을 수행하는 기판 처리 장치 즉, 스피너(spinner) 설비는 도포 유닛, 노광 유닛, 현상 유닛, 그리고 베이크 유닛들을 포함한다. 기판은 베이크 유닛, 도포 유닛, 베이크 유닛, 노광 유닛, 베이크 유닛, 현상 유닛, 그리고 베이크 유닛을 순차적으로 이동되면서 공정이 수행된다.
베이크 유닛은 웨이퍼를 가열하는 가열 플레이트(Hot Plate : HP)와 웨이퍼를 냉각하는 냉각 플레이트(Cool Plate : CP)를 가진다. 즉, 글라스 기판과 같은 기판 재료를 베이킹 하는 단계와, 이를 냉각하는 단계를 필요로 하는 것이 일반적이다. 예를 들어, 포토레지스트 공정은 베이킹 및 냉각, 또는 열 사이클링을 필요로 한다. 이를 위해 베이크 장치는 히터를 구비하였다. 또한, 가열 플레이트(HP) 공정시 베이크 장치는 측면의 배기구를 통해 직접적인 배기를 하였다.
본 발명은 장치의 유지보수 진행시 배기압력 손실을 방지하는 기판 처리 장치 및 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 배기 압력 변화에 의한 공정 불량의 발생을 예방하는 기판 처리 장치 및 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 기판 처리 장치를 제공한다. 일실시예에 의하면, 상기 기판 처리 장치는, 상기 기판의 처리 공정이 수행되는 하우징과 상기 하우징의 일측에 위치되는 배기라인을 갖는 챔버; 상기 챔버의 외측에 위치되고, 상기 배기라인과 탈착되는 결합라인을 갖는 메인 배기 유닛; 및 상기 결합라인의 끝단에 배치되어, 상기 배기라인과 상기 결합라인의 결합시 상기 결합라인을 열고, 상기 배기라인과 상기 결합라인의 분리시 상기 결합라인을 닫는 개폐 유닛;을 포함한다.
일 예에 의하면, 상기 배기라인과 상기 결합라인은 제1 방향을 따라 일직선상에 위치되고, 상기 챔버는 상기 제1 방향을 따라 슬라이드 이동 가능하며, 상기 배기라인과 상기 결합라인의 결합시 상기 배기라인과 상기 결합라인 중 어느 하나가 다른 하나에 삽입된다.
일 예에 의하면, 상기 개폐 유닛은, 힌지에 의해 회전 가능하고, 상기 회전에 의해 상기 결합라인을 닫는 제1 상태와 상기 결합라인을 여는 제2 상태 간에 이동가능한 플레이트를 갖는다.
일 예에 의하면, 상기 힌지는, 상기 결합라인의 끝단에서 상기 결합라인의 외측벽에 설치되고, 상기 플레이트는, 상기 배기라인과 상기 결합라인의 분리시 상기 결합라인을 닫는 차단 영역과, 상기 배기라인과 상기 결합라인의 결합시 상기 배기라인에 의해 눌려지는 지지 영역을 포함하되, 상기 힌지는 상기 차단 영역과 상기 지지 영역의 사이에 위치된다.
일 예에 의하면, 상기 지지 영역은, 상기 배기라인의 외측에 위치된다.
일 예에 의하면, 상기 결합라인의 끝단은 상기 결합라인의 길이 방향에 대해 경사 또는 수직하게 형성된다.
일 예에 의하면, 상기 제1 상태에서는 상기 플레이트가 상기 제1 방향에 대하여 경사 또는 수직하게 위치되고, 상기 제2 상태에서는 상기 플레이트가 수평하게 위치된다.
일 예에 의하면, 상기 개폐 유닛은, 상기 제2 상태에서 상기 제1 상태로 복원력을 제공하도록 설치된 탄성부재를 더 포함한다.
일 예에 의하면, 상기 탄성부재는, 상기 지지 영역의 하면과 상기 결합라인의 상단 사이에 배치된다.
일 예에 의하면, 상기 차단 영역의 하면은 상기 지지 영역의 하면보다 밀착력이 더 높은 재질로 제공된다.
일 예에 의하면, 상기 차단 영역은, 그 하면에 패드가 설치된다.
또한, 본 발명은 다른 실시예에 의한 기판 처리 장치를 제공한다. 상기 기판 처리 장치는, 상기 기판의 처리 공정이 수행되는 하우징과 상기 하우징의 일측에 위치되는 배기라인을 가지며 적층식으로 배치되는 복수의 챔버; 상기 챔버의 외측에 위치되고, 각각의 상기 배기라인과 탈착되는 결합라인을 복수개 갖는 메인 배기 유닛; 및 각각의 상기 결합라인의 끝단에 배치되어, 각각의 상기 배기라인과 상기 결합라인의 결합시 상기 결합라인을 열고, 각각의 상기 배기라인과 상기 결합라인의 분리시 상기 결합라인을 닫는 복수의 개폐 유닛;을 포함한다.
일 예에 의하면, 각각의 상기 배기라인과 상기 결합라인은 제1 방향을 따라 일직선상에 위치되고, 각각의 상기 챔버는 상기 제1 방향을 따라 슬라이드 이동 가능하며, 각각의 상기 배기라인과 각각의 상기 결합라인의 결합시 상기 배기라인과 상기 결합라인 중 어느 하나가 다른 하나에 삽입된다.
일 예에 의하면, 상기 개폐 유닛은, 각각의 힌지에 의해 회전 가능하고, 상기 회전에 의해 각각의 상기 결합라인을 닫는 제1 상태와 각각의 상기 결합라인을 여는 제2 상태 간에 이동가능한 각각의 플레이트를 갖는다.
일 예에 의하면, 상기 힌지는, 각각의 상기 결합라인의 끝단에서 상기 결합라인의 외측벽에 설치되고, 상기 플레이트는, 각각의 상기 배기라인과 상기 결합라인의 분리시 상기 결합라인을 닫는 차단 영역과, 각각의 상기 배기라인과 상기 결합라인의 결합시 상기 배기라인에 의해 눌려지는 지지 영역을 포함하되, 상기 힌지는 상기 차단 영역과 상기 지지 영역의 사이에 위치된다.
일 예에 의하면, 상기 지지 영역은 각각의 상기 배기라인의 외측에 위치되고, 각각의 상기 결합라인의 끝단은 상기 결합라인의 길이 방향에 대해 경사 또는 수직하게 형성된다.
일 예에 의하면, 상기 제1 상태에서는 각각의 상기 플레이트가 상기 제1 방향에 대하여 경사 또는 수직하게 위치되고, 상기 제2 상태에서는 각각의 상기 플레이트가 수평하게 위치된다.
또한, 본 발명은 기판 처리 방법을 제공한다. 상기 기판 처리 방법은, 배기라인을 갖는 챔버를 결합라인을 갖는 메인 배기 유닛에 탈착하되, 상기 챔버가 상기 메인 배기 유닛에 결합될 때 상기 결합라인에 설치되는 플레이트를 상기 배기라인이 밀어서 상기 플레이트가 상기 결합라인을 개방하고, 상기 챔버가 상기 메인 배기 유닛과 분리될 때 상기 플레이트가 복원력에 의해 상기 결합라인을 닫는다.
일 예에 의하면, 상기 배기라인과 상기 결합라인은 제1 방향을 따라 일직선상에 위치되어, 상기 챔버가 상기 제1 방향을 따라 슬라이드 이동하여 상기 메인 배기 유닛에 결합된다.
일 예에 의하면, 상기 배기라인과 상기 결합라인의 결합은 상기 배기라인과 상기 결합라인 중 어느 하나가 다른 하나에 삽입되어 이루어진다.
일 예에 의하면, 상기 결합라인이 개방된 상태에서는 상기 플레이트가 수평하게 위치되고, 상기 결합라인이 닫힌 상태에서는 상기 플레이트가 경사 또는 수직하게 위치된다.
본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치 및 방법은 장치의 유지보수 진행시 배기압력 손실을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치 및 방법은 배기 압력 변화에 의한 공정 불량의 발생을 예방할 수 있다.
본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 챔버와 배기 유닛 간의 결합 및 분리 상태를 보여주는 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략적인 모습을 보여주는 측단면도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 의한 개폐 유닛의 작동 상태를 보여주는 측면도이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시예에 의한 개폐 유닛을 도시한 측면도이다.
도 5는 본 발명의 제3 실시예에 의한 개폐 유닛을 도시한 측면도이다.
도 6은 본 발명의 제4 실시예에 의한 개폐 유닛을 도시한 측면도이다.
도 7은 본 발명의 실시예에 따라 탄성부재가 결합된 모습을 보여주는 측면도이다.
도 8은 본 발명의 실시예에 따라 패드가 결합된 모습을 보여주는 측면도이다.
이하 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 처리 장치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다. 따라서 도면에서의 도시된 구성 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장된 것이다.
도 1은 챔버와 배기 유닛 간의 결합 및 분리 상태를 보여주는 도면이다.
도 1을 참조하면, 포토 베이크 장치 등에서 챔버와 배기 유닛(20)은 챔버가 배기 유닛(20)에 적층식으로 결합될 수 있다. 따라서 장치의 유지보수를 위해 각각의 챔버는 배기 유닛(20)과 각각 별도로 분리될 수 있다. 챔버는 하우징(12)과 하우징의 일측에 위치되는 배기라인(14)을 가진다. 배기 유닛(20)에는 배기 라인(14)과 연결되는 배기구(22)가 형성된다. 장치의 유지보수를 위해 하나의 챔버와 배기 유닛(20)이 분리되는 경우, 상기 챔버와 연결되었던 해당 배기구(22)가 오픈되어 전체적으로 배기 압력의 손실을 가져온다. 이러한 배기압 손실은 분리되지 않은 다른 챔버들 내에서 공정불량을 발생시킬 수 있다.
본 발명은 상기와 같은 기술적 과제를 개선하기 위해 안출된 것이다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 각 구성에 대해 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략적인 모습을 보여주는 측단면도이다. 도 2를 참조하면, 기판 처리 장치(10)는 챔버(100), 메인 배기 유닛(200), 그리고 개폐 유닛(300)을 포함한다.
챔버(100)는 하우징(120)과 배기라인(140)을 갖는다. 하우징(120)에서는 기판의 처리 공정이 수행된다. 일 예로 하우징(120)은 기판에 대한 베이크 공정이 진행되는 처리공간을 제공한다. 이와 달리 하우징(120)은 하우징(120)내 대기를 배기하는 과정이 필요한 다양한 종류의 공정을 수행할 수 있다. 하우징(120) 내에는 기판을 일정 온도로 가열시키는 가열 유닛이 구비될 수 있다. 배기라인(140)은 하우징의 일측에 위치된다. 배기라인(140)의 일단은 하우징(120)의 일측과 연결되고 타단은 오픈된다. 하우징(120)은 핫 플레이트(HP) 공정시 발생하는 기류를 배기라인(140)을 통해 하우징(120) 외부로 배기한다.
메인 배기 유닛(200)은 챔버(100)의 외측에 위치된다. 메인 배기 유닛(200)은 챔버(100)의 측면에서 수직하게 배치된다. 메인 배기 유닛(200)은 결합라인(220)을 갖는다. 결합라인(220)은 메인 배기 유닛(200)의 일측에서 돌출되어 형성된다.
배기라인(140)과 결합라인(220)은 제1 방향(32)을 따라 일직선상에 위치된다. 챔버(100)는 제1 방향(32)을 따라 슬라이드 이동 가능하다. 결합라인(220)은 배기라인(140)과 탈착된다. 배기라인(140)과 결합라인(220)이 결합되는 경우에 배기라인(140)과 결합라인(220) 중 어느 하나가 다른 하나에 삽입된다. 도 2는 배기라인(140)의 직경이 결합라인(220)의 직경보다 더 크게 형성되어 결합라인(220)이 배기라인(140)에 삽입되는 구조이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 의한 개폐 유닛의 작동 상태를 보여주는 측면도이다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 개폐 유닛(300)은 결합라인(220)의 끝단에 배치된다. 개폐 유닛(300)은 배기라인(140)과 결합라인(220)의 결합시 결합라인(220)을 연다. 또한, 개폐 유닛(300)은 배기라인(140)과 결합라인(220)의 분리시 결합라인(220)을 닫는다.
개폐 유닛(300)은 힌지(320)와 플레이트(340)를 갖는다. 개폐 유닛(300)은 힌지(320)에 의해 회전 가능하다. 힌지(320)는 결합라인(220)의 끝단에서 결합라인(220)의 외측벽에 설치될 수 있다.
도 3에 도시된 바와 같이, 플레이트(340)는 결합라인(220)을 닫는 제1 상태(S1)와 결합라인(220)을 여는 제2 상태(S2) 간에 이동가능하다. 플레이트(340)는 차단 영역(342)과 지지 영역(344)을 포함한다. 차단 영역(342)은 배기라인(140)과 결합라인(220)의 분리시 결합라인(220)을 닫는다. 또한, 차단 영역(342)은 배기라인(140)과 결합라인(220)의 결합시 결합라인(220)을 연다.
도 2에 도시된 바와 같이, 지지 영역(344)은 배기라인(140)과 결합라인(220)의 결합시 배기라인(140)에 의해 눌려진다. 지지 영역(344)이 배기라인(140)에 의해 눌림으로써 차단 영역(342)은 결합라인(220)의 입구에서 상방으로 이격되어 결합라인(220)을 연다.
힌지(320)는 차단 영역(342)과 지지 영역(344)의 사이에 위치된다. 플레이트(340)는 힌지(320)를 회전축으로 하여 상방 또는 하방으로 일정 각도 회전한다. 지지 영역(344)은 배기라인(140)의 외측에 위치된다. 즉, 지지 영역(344)의 상단은 배기라인(140)의 상단보다 높게 위치된다.
도 4는 본 발명의 제2 실시예에 의한 개폐 유닛을 도시한 측면도이다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 결합라인(220,220a)의 끝단은 결합라인(220,220a)의 길이 방향에 대해 경사 또는 수직하게 형성된다. 따라서, 개폐 유닛(300,300a)은 결합라인(220,220a)의 끝단의 형상에 대응하여 형성된다.
도 3의 예와 같이, 개폐 유닛(300)은 제1 상태(S1)에서 플레이트(340)가 제1 방향(12)에 대하여 경사지게 위치된다. 또한, 도 4의 예와 같이, 개폐 유닛(300a)은 제1 상태(S1)에서 플레이트(340a)가 제1 방향(12)에 대하여 수직하게 위치된다. 이에 대응하여 개폐 유닛(300,300a)의 제2 상태(S2)에서는 플레이트(340,340a)가 수평하게 혹은 적어도 수평과 가깝게 위치된다.
도 5는 본 발명의 제3 실시예에 의한 개폐 유닛을 도시한 측면도이고, 도 6은 본 발명의 제4 실시예에 의한 개폐 유닛을 도시한 측면도이다.
상기와 같이, 본 발명은 배기라인(140)과 결합라인(220)이 결합시에 배기라인(140)과 결합라인(220) 중 어느 하나가 다른 하나에 삽입된다. 도 2 내지 도 4에서는 결합라인(220)이 배기라인(140)에 삽입되는 예를 도시한 것이다.
도 5 및 도 6을 참조하면, 본 발명은 배기라인(140)이 결합라인(220)에 삽입되어 결합될 수 있다. 이 경우는 당연히 배기라인(140b,140c)의 직경이 결합라인(220b,220c)의 직경보다 더 작게 형성된다. 도 5 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 배기라인(140b,140c)이 결합라인(220b,220c)에 삽입되는 경우에는 지지 영역이 제거된다. 이 경우에 개폐 유닛(300b,300c)은 힌지와 플레이트의 차단 영역만으로 구성된다. 배기라인(140b,140c)과 결합라인(220b,220c)이 결합되는 경우, 배기라인(140b,140c)이 차단 영역을 밀면서 결합라인(220b,220c)에 삽입되는 형태로 결합라인(220b,220c)이 열린다. 또한, 배기라인(140b,140c)과 결합라인(220b,220c)이 분리되는 경우, 차단 영역이 힌지 또는 별도의 위치에 설치된 탄성부재를 통해 복원력을 제공받아 원위치로 복귀하면서 결합라인(220b,220c)이 닫힌다. 이와 같은 구조에서도 개폐 유닛(300b,300c)은 제1 상태에서 차단 영역이 제1 방향((32)에 대하여 경사 또는 수직하게 위치된다. 또한, 개폐 유닛(300b,300c)은 제2 상태에서 차단 영역이 수평하게 위치된다.
상술한 예에서 힌지(320,320a,320b,320c)는 모두 결합라인(220,220a,220b,220c)의 끝단 상부에 배치되었으나, 본 발명의 실시예에서는 결합라인의 끝단의 형상에 따라 결합라인을 닫을 수 있는 구조와 형태라면 힌지가 결합라인의 끝단 어느 위치에 설치되어도 된다.
도 7은 본 발명의 실시예에 따라 탄성부재가 결합된 모습을 보여주는 측면도이고, 도 8은 본 발명의 실시예에 따라 패드가 결합된 모습을 보여주는 측면도이다.
도 7을 참조하면, 개폐 유닛(300)은 탄성부재(360)를 더 포함한다. 탄성부재(360)는 개폐 유닛(300)이 제2 상태(S2)에서 제1 상태(S1)로 복원력을 제공하도록 설치된다. 도 7에 도시된 바와 같이, 탄성부재(360)는 지지 영역(344)의 하면과 결합라인(220)의 상단 사이에 배치될 수 있다. 또한, 도시되지는 않았지만, 탄성부재(360)는 힌지(320) 내에서 제2 방향(34)으로 복원력을 제공하도록 설치될 수 있다. 탄성부재(360)는 차단 영역(342)에 보다 큰 힘을 제공하여 결합라인(220)이 더욱 밀폐되어 닫히도록 한다.
다만, 본 발명의 개폐 유닛(300)은 탄성부재(360)를 구비하지 않더라도 메인 배기 유닛(200) 내의 배기압이 차단 영역(342)에 작용하거나, 개폐 유닛(300) 또는 차단 영역(342)의 자중에 의해서도 차단 영역(342)이 결합라인(220)을 닫을 수 있다.
차단 영역(342)의 하면은 지지 영역(344)의 하면보다 밀착력이 더 높은 재질로 제공될 수 있다. 또한, 도 8을 참조하면, 차단 영역(342)은 그 하면에 패드(380)가 설치될 수 있다. 패드(380)는 고무 또는 실리콘 등의 재질로 형성될 수 있다. 차단 영역(342) 및 지지 영역(344)을 포함하는 플레이트(340)는 내식성과 내녹성이 강한 스테인레스 스틸(stainless steel)로 형성될 수 있다. 상기와 같은 밀착력이 높은 재질이나 패드(380)의 구성은 차단 영역(342)이 결합라인(220)을 보다 확실하게 닫을 수 있도록 돕는다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 기판의 처리 공정이 수행되는 하우징(120)과 하우징(120)의 일측에 위치되는 배기라인(140)을 가지며 제2 방향(34)으로 적층식으로 배치되는 복수의 챔버(100)와, 챔버(100)의 외측에 위치되고, 각각의 배기라인(140)과 탈착되는 결합라인(220)을 복수개 갖는 메인 배기 유닛(200)과, 각각의 결합라인(220)의 끝단에 배치되어, 각각의 배기라인(140)과 결합라인(220)의 결합시 결합라인(220)을 열고, 각각의 배기라인(140)과 결합라인(220)의 분리시 결합라인(220)을 닫는 복수의 개폐 유닛(300)을 포함한다.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 방법은 배기라인(140)을 갖는 챔버(100)를 결합라인(220)을 갖는 메인 배기 유닛(200)에 탈착하되, 챔버(100)가 메인 배기 유닛(200)에 결합될 때 결합라인(220)에 설치되는 플레이트(340)를 배기라인(140)이 밀어서 플레이트(340)가 결합라인(220)을 개방하고, 챔버(100)가 메인 배기 유닛(200)과 분리될 때 플레이트(340)가 복원력에 의해 결합라인(220)을 닫는다.
이 경우에, 배기라인(140)과 결합라인(220)은 제1 방향(32)을 따라 일직선상에 위치되어, 챔버(100)가 제1 방향(32)을 따라 슬라이드 이동하여 메인 배기 유닛(200)에 결합된다. 또한, 배기라인(140)과 결합라인(220)의 결합은 배기라인(140)과 결합라인(220) 중 어느 하나가 다른 하나에 삽입되어 이루어진다. 결합라인(220)이 개방된 상태에서는 플레이트(340)가 수평하게 위치되고, 결합라인(220)이 닫힌 상태에서는 플레이트(340)가 경사 또는 수직하게 위치된다.
상술한 바와 같은 구성과 방법을 갖는 본 발명은 기판 처리 장치의 유지보수 진행시 배기압력의 손실을 방지하여 배기압의 안정화를 도모할 수 있다. 또한, 본 발명은 배기 압력 변화에 의한 공정 불량의 발생을 예방할 수 있다.
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
10 : 기판 처리 장치 100 : 챔버
120 : 하우징 140 : 배기라인
200 : 메인 배기 유닛 220 : 결합라인
300 : 개폐 유닛 320 : 힌지
340 : 플레이트 342 : 차단 영역
344 : 지지 영역 360 : 탄성부재
380 : 패드

Claims (2)

  1. 기판을 처리하는 장치에 있어서,
    상기 기판의 처리 공정이 수행되는 하우징과 상기 하우징의 일측에 위치되는 배기라인을 갖는 챔버;
    상기 챔버의 외측에 위치되고, 상기 배기라인과 탈착되는 결합라인을 갖는 메인 배기 유닛; 및
    상기 결합라인의 끝단에 배치되어, 상기 배기라인과 상기 결합라인의 결합시 상기 결합라인을 열고, 상기 배기라인과 상기 결합라인의 분리시 상기 결합라인을 닫는 개폐 유닛;을 포함하는 기판 처리 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 배기라인과 상기 결합라인은 제1 방향을 따라 일직선상에 위치되고,
    상기 챔버는 상기 제1 방향을 따라 슬라이드 이동 가능하며,
    상기 배기라인과 상기 결합라인의 결합시 상기 배기라인과 상기 결합라인 중 어느 하나가 다른 하나에 삽입되는 기판 처리 장치.
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