KR20150017715A - 내구성 태양 미러 필름 - Google Patents

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KR20150017715A
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아틸라 몰나르
앤드류 제이 헨더슨
조세프 에이치 이튼
랄프 기엘리센
다니엘 티 첸
마크 비 오닐
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쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니
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Abstract

본 발명은 일반적으로 내구성 태양 미러 필름, 내구성 태양 미러 필름의 제조 방법, 및 내구성 태양 미러 필름을 포함하는 구조물에 관한 것이다. 본 발명의 일부 실시 형태는 전체 내후성 층을 가로질러 반사 층 재료를 포함하지는 않는 태양 미러 필름의 제조 방법에 관한 것이다. 일부 실시 형태는 제1 주 표면 및 제2 주 표면을 갖는 내후성 층 (220)을 제공하는 단계; 내후성 층의 제1 주 표면 상에 반사 재료(240)를 침착하는 단계; 및 반사 재료(240)의 일부분(230a 내지 230d)을 초음파로 또는 열적으로 제거하는 단계를 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법에 관한 것이다.

Description

내구성 태양 미러 필름 {DURABLE SOLAR MIRROR FILMS}
미국 정부의 실시권
미국 정부는 미국 에너지부에 의해 수여된 DE-AC36-08GO28308 (CRADA No. 08-316)에 준하여 본 특허 출원에 기재된 발명의 적어도 일부에 대해 권리를 갖는다.
본 발명은 일반적으로 내구성 태양 미러 필름(solar mirror film), 내구성 태양 미러 필름의 제조 방법, 및 내구성 태양 미러 필름을 포함하는 구조물에 관한 것이다.
재생 에너지는 보충될 수 있는 천연 자원으로부터 유래된 에너지, 예컨대 태양광, 바람, 비, 조류(tide) 및 지열이다. 재생 에너지에 대한 요구는 기술의 발달 및 세계 인구의 증가로 인해서 실질적으로 증가되고 있다. 화석 연료가 오늘날 에너지 소비의 대부분을 공급하지만, 이들 연료는 재생가능하지 않다. 이들 화석 연료에 대한 세계적인 의존성은 이들의 고갈과 관련된 증가되는 문제뿐만 아니라 이들 연료를 연소시킴으로써 생성되는 배출물과 관련된 환경적인 문제를 갖는다. 이러한 문제의 결과로서, 전세계의 국가들은 대규모 및 소규모 재생 에너지 자원 둘 모두를 개발하기 위한 계획을 수립하였다. 오늘날 유망한 에너지 자원 중 하나는 태양광이다. 세계적으로, 수백만 가정이 현재 태양 광기전 시스템으로부터 전력을 수득한다.
일반적으로, 집중형 태양 기술(concentrated solar technology)은 전기를 직접적으로 또는 간접적으로 생성하기 위한 태양 방사선의 수집을 수반한다. 집중형 태양 기술의 3가지 주요 유형은 집중형 광기전(concentrated photovoltaic), 집중형 태양 발전(concentrated solar power), 및 태양열(solar thermal) 기술이다.
집중형 광기전(CPV) 기술에서, 집중된 태양광은 광기전 효과를 통해 전기로 직접 변환된다. 일반적으로, CPV 기술은 광학 물품 (예를 들어, 렌즈 또는 미러)을 사용하여 대량의 태양광을 적은 면적의 태양 광기전 재료 상에 집중시켜 전기를 발생시킨다. CPV 시스템은 다른 유형의 광기전 에너지 생성보다 종종 훨씬 비용이 덜 드는데, 태양 에너지의 집중으로 인해 더 고가의 태양 전지를 훨씬 더 적은 수로 사용할 수 있기 때문이다.
집중형 태양 발전(CSP) 기술에서는, 집중된 태양광이 열로 변환되고, 이어서 열이 전기로 변환된다. 일반적으로, CSP 기술은 다수의 기하학적 형태 (예를 들어, 평탄한 미러, 포물선형 접시, 및 포물선형 트로프(trough))의 미러형 표면을 사용하여 태양광을 수집기 상에 집중시킨다. 이는 결국 동작 유체 (예를 들어, 합성유 또는 용융염)를 가열하거나, 또는 열기관 (예를 들어, 증기 터빈)을 구동시킨다. 일부 경우에, 동작 유체는 전기를 생성하는 기관을 구동시키는 것이다. 다른 경우에, 동작 유체는 열교환기를 통과하여 증기를 생성하며, 증기는 증기 터빈에 동력을 공급하여 전기를 발생시키는 데 사용된다.
태양열 시스템은 태양 방사선을 수집하여 물을 가열하거나, 또는 산업 공장에서의 공정 스트림을 가열한다. 일부 태양열 설계는 반사 미러를 사용하여, 물 또는 공급 스트림을 수용하는 수집기 상에 태양광을 집중시킨다. 작동 원리는 집중형 태양 발전 유닛과 매우 유사하지만, 태양광의 집중 및 이로 인한 작업 온도가 그만큼 높지는 않다.
태양 발전에 대한 증가되는 요구는 이러한 응용에 대한 요건을 충족시킬 수 있는 반사 장치 및 재료에 대한 증가되는 요구를 수반하였다. 이러한 태양 반사체 기술 중 일부는 유리 미러, 알루미늄 처리된 미러, 및 금속 처리된 중합체 필름을 포함한다. 이들 중에서, 금속 처리된 중합체 필름이 특히 매력적인데, 그 이유는 이들이 경량이고, 설계 유연성을 제공하고, 종래의 유리 미러보다 비용이 덜 드는 설치 시스템 설계가 잠재적으로 가능하기 때문이다. 중합체는 경량이고, 저가이며, 제조가 용이하다. 중합체 상에서 금속 표면 특성을 달성하기 위해서, 금속(예를 들어, 은)의 얇은 층이 중합체 표면 상에 코팅된다.
한 가지 예시적인 구매가능한 태양 미러 필름이 도 1에 도식적으로 나타나있다. 도 1의 태양 미러 필름(100)은 예비 마스크 층(premask layer; 110), 내후성 층(120) (예를 들어, 중합체를 포함함), 얇은, 스퍼터-코팅된 타이 층(tie layer; 140), 반사 층(150) (예를 들어, 은과 같은 반사 금속을 포함함), 내부식성 층(160) (예를 들어, 구리와 같은 금속을 포함함), 접착제 층(170), 및 라이너(180)를 포함한다. 전형적으로, 라이너(180)를 제거하고 접착제 층(170)을 지지 기재에 인접하게 배치함으로써 도 1의 필름을 지지 기재에 적용한다. 이어서, 예비 마스크 층(110)을 제거하여 내후성 층(120)을 태양광에 노출시킨다.
집중형 태양 발전 유닛 및 집중형 광기전 태양 시스템에 사용되는 금속 처리된 중합체 필름은 악천후에 연속적으로 노출된다. 그 결과로, 금속 처리된 중합체 반사 필름을 설계하고 제조하는 데 있어서의 기술적인 난제는 가혹한 환경 조건에 노출 시에 장기간 (예를 들어, 20년)의 내구성을 성취하는 것이다. 집중형 태양 발전 유닛 또는 집중형 광기전 전지에 일단 설치되면, 내구성 및 유지되는 광학 성능 (예를 들어, 반사성)을 제공하는, 금속 처리된 중합체 필름이 요구된다. 기계적 특성, 광학 투명도, 내부식성, 자외광 안정성, 및 실외 기후 조건에 대한 저항성이 모두 장기간의 작동에 걸친 재료의 점진적인 열화에 기여할 수 있는 요인이다.
본 발명의 발명자들은, 광학 성능을 유지하는 장기간의 실외 사용이 가능한 내구성의 금속 처리된 중합체 필름을 형성하는 데 있어서의 다수의 기술적 문제가 금속과 중합체의 물리적 및 화학적 속성 및 특성의 근본적인 부정합으로부터 기인하는 것으로 인지하였다. 한 가지 특별한 어려움은 중합체 층과 금속 반사 표면 사이의 양호한 접착을 보장하는 것과 관련된다. 이들 층 사이에 양호한 접착이 이루어지지 않으면, 탈층(delamination)이 일어난다. 중합체 층과 금속 층 사이의 탈층은 종종 "터널링"(tunneling)으로 지칭된다.
본 발명의 발명자들은, 탈층이 전형적으로 중합체 층과 금속 층 사이의 감소된 접착으로 인해 생긴다고 인지하였다. 이러한 감소된 접착은 수많은 요인들 중 어느 하나에 의해, 그리고 종종 이들 요인의 조합에 의해 야기될 수 있다. 본 발명의 발명자들이 인지한 일부 예시적인 요인에는 (1) 중합체 층과 금속 층 사이의 증가된 기계적 응력; (2) 금속 층의 산화; (3) 금속 층에 인접한 접착제의 산화; 및 (4) 중합체 층의 열화 (이는, 예를 들어, 태양광에 대한 노출 때문일 수 있음)가 포함된다. 이들 요인 각각은, 예를 들어, 환경 온도 (환경 온도의 편차를 포함함), 열충격, 습도, 수분에 대한 노출, 예를 들어, 염 및 황과 같은 공기 불순물에 대한 노출, UV 노출, 제품 취급, 및 제품 보관과 같은 수많은 외부 조건에 의해 영향을 받을 수 있다.
가장 까다로운 문제 중 하나는 금속/중합체 계면에서의 응력과 관련된다. 응력이 너무 커지면, 좌굴(buckling)이 발생할 수 있어서, 중합체 층이 금속 층으로부터 탈층되게 할 수 있다. 게다가, 금속 처리된 중합체 필름이 절단될 때, 그의 에지가 파열될 수 있거나 보호되지 않을 수 있다. 금속 처리된 중합체의 부식이 그의 에지에서 시작되므로, 파열되고 노출된 금속 에지와 상기에 열거된 순 계면 응력(net interfacial stress)의 이러한 조합은 접착 강도를 뛰어넘을 수 있으며 터널링을 야기할 수 있다. 본 발명의 발명자들은, 중합체 층과 금속 층 사이의 계면을, 특히 이러한 계면의 에지를 따라서, 보호하는 것이 중요함을 인지하였다.
2가지의 종래 기술의 접근법이 이들 문제를 다루는 데 사용되어 왔다. 첫째로, 금속 처리된 필름의 에지 둘레에 밀봉 코크(sealing caulk)를 적용하였다. 둘째로, 금속 처리된 필름의 에지 둘레에 테이프를 감았다. 적절히 적용된다면, 이러한 접근법 둘 모두가 단기간 탈층 및/또는 터널링을 최소화하는 데 효과적이다. 그러나, 불리하게도 이러한 접근법 둘 모두는 총 가용 반사 면적(total available reflective area)을 감소시킨다. 또한, 불리하게도 이러한 접근법 둘 모두는 금속 처리된 필름의 전방 표면에 별개의 재료를 도입하게 되는데, 이는 금속 처리된 필름의 평면의 위 및 아래에서 융기부(ridge) 또는 돌출부(protrusion)를 생성한다. 이러한 융기부 또는 돌출부는, 금속 처리된 필름이, 예를 들어, 바람 및 우박에 노출될 때, 잠재적인 추가 응력의 영역이 된다. 이 추가 응력은, 예를 들어, 이용 동안의 취급 및 세정 (예를 들어, 가압 세척)을 포함하는 일상적인 유지보수 공정 동안 증가된다. 또한, 금속 처리된 필름의 수명 (예를 들어, 20년)에 걸쳐 효과적이도록, 별개의 재료는 금속 처리된 필름에 필름의 수명 동안 접착되어 있어야만 한다. 이러한 재료는 그렇게 할 수 있는 데에 한계가 있었다.
본 발명의 발명자들은, 기존의 태양 미러 필름에서의 반사 층이 전체 내후성 층을 가로질러 연장됨을 인지하였다. 상기에 논의된 바와 같이, 이들 층의 특성의 부정합은 그들의 계면이, 특히 미러 필름의 에지에서, 탈층 및 터널링되기 쉽게 한다. 따라서, 본 발명의 발명자들은, 태양 미러 필름의 에지의 일부 또는 전부를 따라서 은을 덜 갖거나 또는 전혀 갖지 않는 태양 미러 필름이 증가된 내구성 및 감소된 탈층 및/또는 터널링을 나타냄을 인지하였다.
본 발명의 발명자들은 또한 에지 부분에서 반사 재료를 덜 갖거나, 최소한으로 갖거나, 또는 전혀 갖지 않는 태양 미러 필름을 형성하는 새로운 방식을 알아내었다. 예를 들어, 본 발명의 발명자들은 초음파 용접을 사용하여 본 명세서에 기재된 바와 같은 태양 미러 필름을 형성하는 독특한 방식을 알아내었다.
본 발명의 일 실시 형태는, 제1 주 표면(major surface) 및 제2 주 표면을 갖는 내후성 층을 제공하는 단계; 내후성 층의 제1 주 표면 상에 반사 재료를 침착하는 단계; 및 반사 재료의 일부분을 초음파로 제거하는 단계를 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명의 다른 실시 형태는, 제1 주 표면 및 제2 주 표면을 갖는 내후성 층을 제공하는 단계; 내후성 층의 제1 주 표면 상에 반사 재료를 침착하는 단계; 및 반사 재료의 일부분을 열적으로 제거하는 단계를 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법에 관한 것이다.
일부 실시 형태에서, 내후성 층으로부터 제거되는 반사 재료의 일부분은 내후성 층의 하나 이상의 에지 영역을 따른다. 일부 실시 형태에서, 에지 영역들 중 적어도 하나는 내후성 층의 말단 에지로부터 제1 주 표면 상으로 2 mm까지 연장된다. 일부 실시 형태에서, 에지 영역은 내후성 층의 말단 에지로부터 제1 주 표면 상으로 약 2 mm 내지 약 20 mm까지 연장된다.
일부 실시 형태에서, 반사 재료를 침착하는 단계는 스퍼터 코팅, e-빔 또는 열적 방법을 통한 증발, 이온-보조 e-빔 증발(ion-assisted e-beam evaporation), 전기도금, 스프레이 페인팅, 진공 침착, 및 이들의 조합을 통한 적어도 하나의 물리 증착을 포함한다. 일부 실시 형태에서, 반사 재료는 내후성 층의 제1 주 표면의 98% 이상을 덮는다.
일부 실시 형태에서, 반사 재료를 초음파로 제거하는 단계는 널 패턴(knurl pattern)을 사용하는 것을 포함한다. 일부 실시 형태에서, 본 발명은 내후성 층의 일부분을 초음파로 제거하는 단계를 추가로 포함한다.
일부 실시 형태에서, 본 발명은 반사 재료가 제거된 영역 내에 충전제를 배치하는 단계를 추가로 포함한다. 일부 실시 형태에서, 충전제는 중합체 재료이다. 일부 실시 형태에서, 충전제는 열가소성 재료이다.
일부 실시 형태에서, 내후성 층은 PMMA, 폴리카르보네이트, 폴리에스테르, 다층 광학 필름, 플루오로중합체, 및 아크릴레이트와 플루오로중합체의 블렌드 중 적어도 하나를 포함한다. 일부 실시 형태에서, 반사 재료는 은, 금, 알루미늄, 구리, 니켈, 및 티타늄 중 적어도 하나를 포함한다.
일부 실시 형태에서, 본 방법은 내후성 층과 반사 재료 사이에 타이 층을 배치하는 단계를 추가로 포함한다. 일부 실시 형태에서, 타이 층은 접착제를 포함한다. 일부 실시 형태에서, 본 방법은 타이 층의 일부분을 초음파로 제거하는 단계를 추가로 포함한다.
일부 실시 형태에서, 본 방법은 내후성 층과 반사 재료 사이에 중합체 재료를 배치하는 단계를 추가로 포함한다. 일부 실시 형태에서, 본 방법은 반사 층에 인접하게 부식 보호 층을 배치하는 단계를 추가로 포함한다. 일부 실시 형태에서, 부식 보호 층은 구리 및 불활성 금속 합금 중 적어도 하나를 포함한다.
일부 실시 형태에서, 본 발명은 집중형 광기전 시스템(concentrated photovoltaic system), 집중형 태양 시스템(concentrated solar system), 또는 반사기 조립체(reflector assembly) 중 적어도 하나 내에 태양 미러 필름을 배치하는 단계를 추가로 포함한다.
본 발명의 다른 실시 형태는, 상기한 실시 형태들 중 임의의 것을 포함하지만 이로 한정되지 않는, 본 명세서에 기재된 바와 같은 태양 미러 필름을 포함하는 집중형 태양 발전 시스템에 관한 것이다.
본 발명의 다른 실시 형태는, 상기한 실시 형태들 중 임의의 것을 포함하지만 이로 한정되지 않는, 본 명세서에 기재된 바와 같은 태양 미러 필름을 포함하는 집중형 광기전 발전 시스템에 관한 것이다.
본 발명의 예시적인 실시 형태의 다양한 태양 및 장점에 대해 요약하였다. 상기의 발명의 내용은 본 발명의 각각의 예시된 실시 형태 또는 모든 구현 형태를 개시하고자 하는 것은 아니다. 하기한 도면 및 상세한 설명은 본 명세서에 개시된 다양한 실시 형태를 더욱 구체적으로 예시한다. 이들 및 다양한 다른 특징 및 이점은 하기 상세한 설명을 읽음으로써 분명해질 것이다.
<도 1>
도 1은 종래 기술의 태양 미러 필름의 개략도.
<도 2>
도 2는 본 발명에 따른 태양 미러 필름의 예시적인 일 실시 형태의 개략 평면도.
<도 3>
도 3은 본 발명에 따른 태양 미러 필름의 다른 예시적인 실시 형태의 개략 평면도.
<도 4>
도 4는 본 발명에 따른 태양 미러 필름의 다른 예시적인 실시 형태의 개략 평면도.
<도 5>
도 5는 본 발명에 따른 태양 미러 필름의 다른 예시적인 실시 형태의 개략 평면도.
본 발명의 일부 실시 형태는 내후성 층 상의 반사 재료의 적어도 일부를 열적으로 제거하는 방법을 포함한다. 일부 실시 형태에서, 타이 층 및 내후성 층 중 적어도 하나의 일부분이 또한 제거된다. 예시적인 열적 제거 방법은 초음파 제거 (예를 들어, 초음파 용접) 및 레이저 제거를 포함하지만 이로 한정되지 않는 임의의 열적 공정을 포함한다. 열적 제거 공정은 또한 전도, 복사, 또는 대류를 통해 에너지를 전달하는 공정을 포함한다.
본 발명의 일부 실시 형태는 전체 내후성 층을 가로질러 반사 층 재료를 포함하지는 않는 태양 미러 필름의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일부 실시 형태는 태양 미러 필름의 하나 이상의 에지 부분 상에 반사 재료를 포함하지 않는 태양 미러 필름의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일부 실시 형태는 태양 미러 필름의 에지 부분에 불연속부를 갖는 반사 층을 갖는 태양 미러 필름의 제조 방법에 관한 것이다.
본 명세서에 기재된 방법은 모두 더 내구성인 태양 미러 필름을 제공한다. 이러한 증가된 내구성은, 적어도 일부분은, 내후성 층과 접착제 층 사이의 직접적인 접촉의 결과로서 필름의 에지 둘레의 접착성이 향상되기 때문이다. 그 결과로, 탈층 또는 터널링의 발생이 최소화된다. 적어도, 내후성 층이 반사 층 이외의 층 (전형적으로 타이 층)에 직접 결합한다는 이유로 접착성이 향상된다. 내후성 층과 내후성 층에 접착하는 층은, 내후성 층과 반사 층의 접합 강도보다 더 큰 접합 강도를 갖는다.
예시적인 일 실시 형태가 도 2에 개략 평면도로서 나타나있다. 도 2의 태양 미러 필름(200)은, 벌크 영역(220)과 4개의 에지 영역(230a, 230b, 230c, 230d)을 포함하는 내후성 층(210)을 포함한다. 반사 재료(240)는 내후성 층(210)의 벌크 영역(220)에 인접한다. 반사 재료(240)는 에지 영역(230a, 230b, 230c, 230d)에 대부분 (또는 실질적으로) 부재한다. 당업자는, 도 2에 나타낸 특정 실시 형태에서는 반사 재료(240)가 4개의 에지 영역 모두(230)에 실질적으로 부재하지만, 반사 재료(240)가 단지 하나 이상의 에지 영역에만 부재한 것이 본 발명의 범주 내에 속한다는 것을 이해할 것이다. 본 명세서에 사용되는 바와 같이, 반사 재료가 에지 영역(들)에 실질적으로 부재하는 것과 관련하여 "실질적으로 부재하는"이라는 용어는 특정 에지 영역의 97% 이상에서 반사 재료가 결여됨을 말한다.
본 명세서에 사용되는 바와 같이, "에지 영역"이라는 용어는 시트의 하나의 에지와 벌크 영역 사이의 영역을 말한다. 에지 영역은, 시트의 전체 길이 또는 폭을 따라 이어질 수 있지만 그렇지 않아도 된다. 에지 영역의 크기는 특정 응용에 기초하여 달라질 수 있다. 그러나, 에지 영역은, 내후성 층과 반사 층 사이의 접합 강도를 초과하는, 접착제 층과 내후성 층 사이의 접합 강도를 형성하기에 충분히 큰 임의의 크기를 가질 수 있다.
도 3은 직사각형 시트의 4개의 에지 영역 모두에 반사 재료가 없는 것은 아닌 실시 형태를 나타낸다. 구체적으로, 도 3의 개략 평면도는 벌크 영역(320) 및 에지 영역(330a, 330b)을 포함하는 내후성 층(210)을 포함하는 태양 미러 필름(300)을 나타낸다. 반사 재료(240)는 내후성 층(210)의 벌크 영역(320)에 인접한다. 반사 재료(240)는 에지 영역(330a, 330b)에 대부분 (또는 실질적으로) 부재한다.
도 4는 에지 영역이 태양 미러 필름의 전체 길이를 따라 이어지지는 않는 실시 형태를 나타낸다. 구체적으로, 도 4의 개략 평면도는 벌크 영역(420) 및 수많은 에지 영역(430)을 포함하는 내후성 층(210)을 포함하는 태양 미러 필름(400)을 나타낸다. 반사 재료(240)는 내후성 층(210)의 벌크 영역(420)에 인접한다. 반사 재료(240)는 에지 영역(430)에 대부분 (또는 실질적으로) 부재한다. 따라서, 반사 재료는 시트의 에지를 따라 불연속적이다. 반사 재료가 실질적으로 부재하는 에지 영역은 (예를 들어, 도 4에 나타낸 바와 같이) 랜덤 크기일 수 있거나, 또는 (예를 들어, 도 5에 나타낸 바와 같이) 패턴을 형성하는 크기일 수 있다. 따라서, 불연속부는 (예를 들어, 도 4에 나타낸 바와 같이) 패턴 형태일 수 있거나 또는 (예를 들어, 도 5에 나타낸 바와 같이) 랜덤 형태일 수 있다.
도 5는 에지 영역이 태양 미러 필름의 전체 길이를 따라 이어지지는 않는 실시 형태를 나타낸다. 구체적으로, 도 5의 개략 평면도는 벌크 영역(520) 및 수많은 에지 영역(530)을 포함하는 내후성 층(210)을 포함하는 태양 미러 필름(500)을 나타낸다. 반사 재료(240)는 내후성 층(210)의 벌크 영역(520)에 인접한다. 반사 재료(240)는 에지 영역(530)에 대부분 (또는 실질적으로) 부재한다. 따라서, 반사 재료는 시트의 에지를 따라 불연속적이다.
간단히 하기 위해, 도 2 내지 도 5에 나타난 개략도는 단지 내후성 층 및 반사 재료만을 나타낸다. 그러나, 이들 실시 형태 및 이러한 개시는, 예를 들어, 내후성 층과 반사 층 사이의 층 (예를 들어, 타이 층) 및 내후성 층 및/또는 반사 층의 위 또는 아래의 층을 포함하는 다른 층을 태양 미러 필름 내에 포함하도록 의도된다. 잠재적인 층 각각이 하기에서 더욱 상세하게 설명된다.
일부 실시 형태에서, 반사 재료가 결여된 에지 영역은 타이 층 또는 접착제에 인접한다 (그리고 일부 경우에, 직접 인접한다). 일부 실시 형태에서, 반사 재료가 결여된 에지 영역은 중합체 층에 인접한다 (그리고 일부 경우에, 직접 인접한다). 일부 예시적인 중합체 층에는, 예를 들어, PMMA 층, PVDF 층, 및 이들의 블렌드가 포함된다.
일부 실시 형태에서, 반사 재료의 제거는 오목한 영역을 생성한다. 일부 실시 형태에서, 이러한 오목한 영역은 충전제 재료로 채워진다. 일부 실시 형태에서, 충전제 재료는 중합체이다. 일부 실시 형태에서, 중합체는 열가소성 재료이다.
반사 재료의 열적 제거는 초음파 공정에 의해 달성될 수 있다. 일부 실시 형태에서, 초음파 공정은 널 패턴을 사용한다. 일부 실시 형태에서, 흡수된 진동 에너지에 의해 중합체 재료가 가열되고 반사 재료가 분산된다. 초음파 가열은 일정 범위의 압력, 진동수, 출력, 및 진폭에 걸쳐 적용될 수 있다. 재료에 의해 흡수되는 에너지의 양은 공정 조건, 재료의 물리적 특성, 네스트(nest) (앤빌(anvil)) 및 소노트로드(sonotrode) (혼(horn))의 기계적 설계에 따라 좌우된다. 앤빌 설계는 프로파일, 폭, 및 재료에 있어서 다를 수 있다. 초음파 공정의 이점은 가열 시간 및 냉각 시간이 가열 프레스에 비해 상대적으로 짧다는 점이다.
반사 재료의 열적 제거는 레이저 애블레이션(laser ablation)에 의해 달성될 수 있다. 일부 실시 형태에서는, 낮은 레이저 플럭스에서, 흡수된 레이저 에너지에 의해 반사 재료가 가열되어 증발되거나 승화된다. 일부 실시 형태에서는, 더 높은 레이저 플럭스에서, 반사 재료가 플라즈마로 변환된다. 레이저 애블레이션은 펄스형 레이저 또는 연속파 레이저 빔, 또는 둘 모두의 조합을 사용할 수 있다. 레이저 에너지가 흡수되는 깊이, 및 따라서 단일 레이저 펄스에 의해 제거되는 재료의 양은, 재료의 광학 특성 및 레이저 파장에 따라 좌우된다. 레이저 펄스는 매우 광범위한 지속시간 (밀리초 내지 펨토초) 및 플럭스에 걸쳐 다를 수 있다. 레이저 애블레이션을 사용하는 한 가지 이점은 레이저 출력이 정밀하게 제어될 수 있다는 점이다.
예비 마스크 층
예비 마스크 층은 선택적이다. 예비 마스크는, 존재하는 경우, 취급, 라미네이션, 및 설치 동안 내후성 층을 보호한다. 이어서, 그러한 구성은 수송, 보관, 및 소비자 사용을 위해서 편리하게 포장될 수 있다. 일부 실시 형태에서, 예비 마스크는 불투명하여, 실외 설치 동안 작업자를 보호한다. 일부 실시 형태에서, 예비 마스크는 투명하여, 결함에 대한 조사가 가능하다. 임의의 공지된 예비 마스크가 사용될 수 있다. 한 가지 예시적인 구매가능한 예비 마스크는 미국 버지니아주 리치몬드 소재의 트레드가(Tredegar)에 의해 판매되는 포스필드(ForceField)(등록상표) 1035이다. 예비 마스크 층은, 예를 들어, 도 1에 나타난 바와 같이 위치될 수 있다.
내후성 층
일부 실시 형태에서, 내후성 층 또는 시트는 가요성이며 가시광 및 적외광에 투과성이다. 일부 실시 형태에서, 내후성 층 또는 시트는 자외 (UV) 광에 의한 열화에 저항성이 있다. 일부 실시 형태에서, "자외광에 의한 열화에 저항성"이라는 어구는 내후성 시트가 적어도 300 나노미터 내지 400 나노미터의 파장 범위에서 적어도 30 나노미터 범위에 걸쳐 입사 자외광의 50% 이상을 반사하거나 또는 흡수하는 것 중 적어도 하나를 하는 것을 의미한다. (예를 들어, 280 내지 400 nm 범위의) UV 광에 의해 야기되는 광-산화성 열화는 중합체 필름의 광학 및 기계적 특성의 저하 및 색상 변화를 초래할 수 있다. 일부 실시 형태에서, 내후성 시트 또는 층은 일반적으로 내마모성 및 내충격성이며, 예를 들어, 실외 악천후에 노출될 때, 태양 조립체의 열화를 방지할 수 있다.
일부 실시 형태에서, 내후성 층은 하나 이상의 유기 필름-형성 중합체를 포함한다. 일부 예시적인 중합체에는, 예를 들어, 폴리에스테르, 폴리카르보네이트, 폴리에테르, 폴리이미드, 폴리올레핀, 플루오로중합체, 및 이들의 조합이 포함된다. 본 발명에 따른 조립체는 내후성 시트 또는 층을 포함하는데, 이는 단일 층일 수 있거나(단층 실시 형태) 또는 하나를 초과하는 층을 포함할 수 있다(다층 실시 형태).
UV 광에 대한 저항성을 개선하기 위해 다양한 안정제가 내후성 시트에 첨가될 수 있다. 그러한 안정제의 예에는 자외선 흡수제 (UVA) (예를 들어, 적색 편이 UV 흡수제), 장애 아민 광안정제 (HALS), 또는 산화방지제 중 적어도 하나가 포함된다. 이들 첨가제는 하기에 추가로 상세하게 설명된다. 일부 이러한 실시 형태에서, 내후성 시트는 UVA 또는 HALS를 포함할 필요가 없다.
내후성 시트의 UV 저항성은, 예를 들어, 촉진 환경열화 연구(accelerated weathering study)를 사용하여 평가될 수 있다. 촉진 환경열화 연구는 일반적으로 ASTM G-155, "실험실 광원을 사용하는 촉진 시험 장치에 비-금속성 재료를 노출시키는 표준 실무" (Standard practice for exposing non-metallic materials in accelerated test devices that use laboratory light sources)에 기재된 것과 유사한 기술을 사용하여 필름에 대해 수행된다. 물리적 특징의 변화를 탐지하기 위한 한 기작은 ASTM G155에 기재된 환경열화 (weathering) 사이클 및 반사된 모드로 작동하는 D65 광원을 사용하는 것이다. 언급된 시험 하에서, 그리고 UV 보호 층을 물품에 적용할 때, 물품은 상당한 균열, 박리, 탈층 또는 헤이즈(haze)가 시작되기 전에, CIE L*a*b* 공간을 사용하여 수득한 b* 값이 5 이하, 4 이하, 3 이하 또는 2 이하로 증가하기 전에 340 nm에서 18,700 kJ/m2 이상의 노출을 견뎌야 한다.
일부 실시 형태에서, 내후성 시트는 플루오로중합체를 포함한다. 전형적으로 플루오로중합체는 UVA, HALS, 및 산화방지제와 같은 안정제가 없을 때조차 UV 열화에 저항성이다. 일부 예시적인 플루오로중합체에는 에틸렌-테트라플루오로에틸렌 공중합체 (ETFE), 에틸렌-클로로-트라이플루오로에틸렌 공중합체 (ECTFE), 테트라플루오로에틸렌-헥사플루오로프로필렌 공중합체 (FEP), 테트라플루오로에틸렌-퍼플루오로비닐에테르 공중합체 (PFA, MFA), 테트라플루오로에틸렌-헥사플루오로프로필렌-비닐리덴 플루오라이드 공중합체 (THV), 폴리비닐리덴 플루오라이드 단일중합체 및 공중합체 (PVDF), 이들의 블렌드, 및 이들과 기타 플루오로중합체의 블렌드가 포함된다. 플루오로중합체는 전형적으로 TFE, CTFE, VDF, HFP 또는 기타 완전히 플루오르화되거나, 부분적으로 플루오르화되거나, 또는 수소화된 단량체, 예를 들어, 비닐 에테르 및 알파-올레핀, 또는 다른 할로겐 함유 단량체의 단일중합체 또는 공중합체를 포함한다. 전형적으로, 플루오로중합체 필름의 CTE는 탄화수소 중합체로부터 제조되는 필름에 비해 높다. 예를 들어, 플루오로중합체 필름의 CTE는 75, 80, 90, 100, 110, 120, 또는 130 ppm/K 이상일 수 있다. 예를 들어, ETFE의 CTE는 90 내지 140 ppm/K의 범위일 수 있다.
플루오로중합체를 포함하는 내후성 필름은 또한 플루오르화되지 않은 재료를 포함할 수 있다. 예를 들어, 폴리비닐리덴 플루오라이드와 폴리메틸 메타크릴레이트의 블렌드가 사용될 수 있다. 유용한 가요성의 가시광 및 적외광-투과성 기재에는 또한 다층 필름 기재가 포함된다. 다층 필름 기재는 상이한 층에 상이한 플루오로중합체를 가질 수 있거나, 또는 적어도 하나의 플루오로중합체 층 및 적어도 하나의 플루오르화되지 않은 중합체 층을 포함할 수 있다. 다층 필름은 몇 개의 층 (예를 들어, 2 또는 3개 층 이상)을 포함할 수 있거나, 또는 100개 이상의 층 (예를 들어, 총 100 내지 2000개 범위의 층 또는 그 이상)을 포함할 수 있다. 상이한 다층 필름 기재 내의 상이한 중합체는, 예를 들어, 미국 특허 제5,540,978호 (슈렝크(Schrenk))에 기재된 바와 같이 300 내지 400 nm의 파장 범위에서, 예를 들어, 상당한 부분 (예를 들어, 30, 40, 또는 50% 이상)의 UV 광을 반사하도록 선택될 수 있다. 그러한 블렌드 및 다층 필름 기재는 상기한 플루오로중합체보다 더 낮은 CTE를 갖는 UV 저항성 기재를 제공하는 데 유용할 수 있다.
플루오로중합체를 포함하는 일부 예시적인 내후성 시트는, 예를 들어, 미국 델라웨어주 윌밍턴 소재의 이.아이. 듀폰 디 네모아 앤드 컴퍼니(E.I. duPont De Nemours and Co.)로부터 상표명 "테프젤(TEFZEL) ETFE" 및 "테들라"(TEDLAR)로, 그리고 미국 미네소타주 오크데일 소재의 다이네온 엘엘씨(Dyneon LLC)로부터 상표명 "다이네온(DYNEON) ETFE", "다이네온 THV", "다이네온 FEP", 및 "다이네온 PVDF"로 입수가능한 수지로부터 제조된 필름으로, 미국 뉴저지주 웨인 소재의 세인트 고바인 퍼포먼스 플라스틱스(St. Gobain Performance Plastics)로부터 상표명 "노턴(NORTON) ETFE"로, 아사히 글라스(Asahi Glass)로부터 상표명 "사이톱스"(CYTOPS)로, 그리고 일본 도쿄 소재의 덴카 카가쿠 코교 가부시키가이샤(Denka Kagaku Kogyo KK)로부터 상표명 "덴카(DENKA) DX 필름"으로 구매할 수 있다.
일부 유용한 내후성 시트가, UVA, HALS, 및 산화방지제의 부재 하에서 UV 광에 의한 열화에 저항성인 것으로 보고되어 있다. 예를 들어, 소정의 레조르시놀 아이소프탈레이트/테레프탈레이트 코폴리아릴레이트, 예를 들어, 미국 특허 제3,444,129호 제3,460,961호; 제3,492,261호; 및 제3,503,779호에 기재된 것들이 내후성인 것으로 보고되어 있다. 1,3-다이하이드록시벤젠 오르가노다이카르복실레이트로부터 유도되는 구조 단위를 포함하는 층을 포함하는 소정의 내후성 다층 물품이 국제특허 공개 WO 2000/061664호에 보고되어 있으며, 레조르시놀 아릴레이트 폴리에스테르 사슬 구성원을 함유하는 소정 중합체가 미국 특허 제6,306,507호에 보고되어 있다. 적어도 하나의 1,3-다이하이드록시벤젠 및 적어도 하나의 방향족 다이카르복실산으로부터 유도되는 구조 단위를 포함하는 블록 코폴리에스테르카르보네이트를 층으로 형성하고 카르보네이트 구조 단위를 포함하는 다른 중합체와 층을 이루게 하는 것이 미국 특허 공개 제2004/0253428호에 보고되어 있다. 폴리카르보네이트를 함유하는 내후성 시트는, 예를 들어, 폴리에스테르와 비교하여 상대적으로 큰 CTE를 가질 수 있다. 폴리카르보네이트를 함유하는 내후성 시트의 CTE는, 예를 들어, 약 70 ppm/K일 수 있다.
상기한 내후성 시트 또는 층의 실시 형태 중 일부 또는 전부의 경우, 내후성 시트 (예를 들어, 플루오로중합체)의 주 표면은 감압 접착제에 대한 접착성을 개선하도록 처리될 수 있다. 유용한 표면 처리에는, 예를 들어, 적합한 반응성 또는 비반응성 분위기의 존재 하에서의 전기 방전(예를 들어, 플라즈마, 글로우(glow) 방전, 코로나 방전, 유전체 배리어 방전 또는 대기압 방전); 화학적 전처리 (예를 들어, 알칼리 용액 및/또는 액체 암모니아 사용); 화염(flame) 전처리; 또는 전자 빔 처리가 포함된다. 별도의 접착성 증진 층이 또한 내후성 시트의 주 표면과 PSA 사이에 형성될 수 있다. 일부 실시 형태에서, 내후성 시트는, PSA로 코팅되고 이어서 기재와 감압 접착제 사이에 화학 결합을 형성하도록 전자 빔이 조사된 플루오로중합체일 수 있다; (예를 들어, 미국 특허 제6,878,400호 (야마나카(Yamanaka) 등) 참조). 표면 처리된 일부 유용한 내후성 시트는, 예를 들어, 세인트 고바인 퍼포먼스 플라스틱스로부터 상표명 "노턴 ETFE"으로 구매가능하다.
일부 실시 형태에서, 내후성 시트는 두께가 약 0.01 mm 내지 약 1 mm이다. 일부 실시 형태에서, 내후성 시트는 두께가 약 0.05 mm 내지 약 0.25 mm이다. 일부 실시 형태에서, 내후성 시트는 두께가 약 0.05 mm 내지 약 0.15 mm이다.
타이 층
일부 실시 형태에서, 타이 층은 금속 산화물, 예를 들어, 산화알루미늄, 산화구리, 이산화티타늄, 이산화규소, 또는 이들의 조합을 포함한다. 타이 층으로서, 이산화티타늄은 놀랍게도 건조 박리 및 습윤 박리 시험에서 탈층에 대한 높은 저항성을 제공하는 것으로 밝혀졌다. 금속 산화물 타이 층의 추가의 선택 사항 및 이점이, 본 명세서에 참고로 포함된 미국 특허 제5,361,172호 (쉬셀(Schissel) 등)에 기재되어 있다.
임의의 전술한 예시적인 실시 형태에서, 타이 층은 두께가 500 마이크로미터 이하이다. 일부 실시 형태에서, 타이 층은 두께가 약 0.1 마이크로미터 내지 약 5 마이크로미터이다. 일부 실시 형태에서, 타이 층은 전체 두께가 0.1 나노미터 이상, 0.25 나노미터 이상, 0.5 나노미터 이상, 또는 1 나노미터 이상인 것이 바람직하다. 일부 실시 형태에서, 타이 층은 전체 두께가 2 나노미터 이하, 5 나노미터 이하, 7 나노미터 이하, 또는 10 나노미터 이하인 것이 바람직하다.
반사 층 / 반사 재료
본 명세서에 기재된 태양 미러 필름은 하나 이상의 반사 재료를 포함하는 하나 이상의 반사 층을 포함한다. (반사 재료를 포함하는) 반사 층(들)은 반사성을 제공한다. 일부 실시 형태에서, 반사 층(들)은 경면인, 평활한 반사 금속 표면을 갖는다. 본 명세서에 사용되는 바와 같이, "경면 표면"이라는 용어는 입사광(incoming light)의 방향 및 출사광(outgoing light)의 방향이 표면 법선에 대해서 동일한 각도를 형성하는 광의 미러-유사 반사를 유도하는 표면을 지칭한다. 임의의 반사 금속이 이러한 목적을 위해서 사용될 수 있지만, 바람직한 금속에는 은, 금, 알루미늄, 구리, 니켈 및 티타늄이 포함된다. 일부 실시 형태에서, 반사 층은 은을 포함한다.
종래 기술의 반사 층은 내후성 층의 전체 주 표면을 가로질러 연장된다. 본 발명에서, 반사 층(들)은 내후성 층의 전체 주 표면을 가로질러 연장되지는 않는다. 내후성 층의 전체 주 표면을 가로질러 연장되지는 않는 반사 층을 생성하기 위해 임의의 방법이 사용될 수 있다.
일부 실시 형태에서는, 반사 재료가 내후성 층의 전체 주 표면을 가로질러 연장되지는 않도록, 반사 층을 내후성 층 상에 침착하거나, 또는 그렇지 않다면 내후성 층에 인접하게 위치시킨다. 일부 실시 형태에서는, 침착 공정 동안 내후성 층의 일부분을 마스킹하여, 컴플라이언트 층(compliant layer)의 오직 미리 결정된 부분 상에만 반사 층을 적용한다. 미국 특허 출원 (사건 번호: 69866US002; 본 발명의 양수인에게 양도됨)이 이러한 방법에 대한 더 상세한 설명을 제공하며, 이는 본 명세서에 참고로 포함된다.
대안적으로 또는 추가적으로, 반사 재료가 내후성 층의 모든 또는 실질적으로 모든 주 표면을 가로질러 연장되도록 반사 재료를 내후성 층에 침착하거나 내후성 층에 인접하게 위치시키고, 이어서, 반사 재료의 일부분을 제거하여 전체 주 표면을 가로질러 연장되지는 않는 반사 층을 형성할 수 있다.
반사 층 / 반사 재료의 개시 내용은, 예를 들어, 스퍼터 코팅, e-빔 또는 열적 방법을 통한 증발, 이온-보조 e-빔 증발, 전기도금, 스프레이 페인팅, 진공 침착, 및 이들의 조합을 통한 물리 증착을 포함하는 수많은 코팅 방법을 사용하여 달성될 수 있다. 금속 처리 공정은 사용된 중합체 및 금속, 비용, 및 다수의 다른 기술적 및 실용적 요인에 기초하여 선택된다. 금속의 물리 증착(PVD)은 깨끗한 계면 상에 가장 순수한 금속을 제공할 수 있기 때문에 일부 응용에 있어서 매우 보편적이다. 이러한 기술에서, 목표 원자를 고에너지 입자 충격에 의해서 탈출시켜, 이들을 기재 상에 부딪치게 하여 얇은 필름을 형성할 수 있다. 스퍼터-침착에서 사용되는 고에너지 입자는 글로우 방전, 또는 예를 들어 전자기장을 아르곤 기체에 적용함으로써 생성되는 자급식 플라즈마(self-sustaining plasma)에 의해서 발생된다. 일부 실시 형태에서, 반사 층 및/또는 반사 재료가 내후성 층에 적용된다. (도면에는 도시되지 않은) 일부 실시 형태에서, 반사 재료의 반사 층은 타이 층 상에 적용된다.
반사 재료의 일부분의 후속적인 제거는 수많은 방식으로, 예를 들어, 초음파에 의해, 기계적 제거 방법 (예를 들어, 물리적 제거 및 레이저 제거를 포함함)을 사용하여, 그리고 열적 제거 방법을 사용하여 달성될 수 있다. 미국 특허 출원 (사건 번호: 69677US002; 본 발명의 양수인에게 양도됨)이 이러한 방법에 대한 더 상세한 설명을 제공하며, 이는 본 명세서에 참고로 포함된다.
반사 재료 또는 층(들)은 바람직하게는 원하는 양의 태양 스펙트럼의 광을 반사하기에 충분히 두껍다. 바람직한 두께는 반사 층의 조성 및 태양 미러 필름의 특정 용도에 따라 다를 수 있다. 일부 예시적인 실시 형태에서, 은, 알루미늄, 구리, 및 금과 같은 금속의 경우 반사 층은 약 75 나노미터 내지 약 100 나노미터 두께이다. 일부 실시 형태에서, 반사 층은 두께가 500 나노미터 이하이다. 일부 실시 형태에서, 반사 층은 두께가 80 nm 내지 250 nm이다. 일부 실시 형태에서, 반사 층은 두께가 25 나노미터 이상, 50 나노미터 이상, 75 나노미터 이상, 90 나노미터 이상, 또는 100 나노미터 이상이다. 추가로, 일부 실시 형태에서, 반사 층은 두께가 100 나노미터 이하, 110 나노미터 이하, 125 나노미터 이하, 150 나노미터 이하, 200 나노미터 이하, 300 나노미터 이하, 400 나노미터 이하, 또는 500 나노미터 이하이다. 도면에 도시되지는 않았지만, 둘 이상의 반사 층이 사용될 수 있다.
내부식성 층
내부식성 층은 선택적이다. 포함되는 경우, 내부식성 층은, 예를 들어, 원소 구리를 포함할 수 있다. 희생 애노드로서 작용하는 구리 층의 사용은 반사 용품에 개선된 내부식성 및 실외 내후성을 제공할 수 있다. 다른 접근법으로서, 비교적 불활성인 금속 합금, 예를 들어, 인코넬(Inconel) (철-니켈 합금)이 또한 사용될 수 있다.
내부식성 층은 바람직하게는 원하는 양의 내부식성을 제공하기에 충분히 두껍다. 바람직한 두께는 내부식성 층의 조성에 따라 다를 수 있다. 일부 예시적인 실시 형태에서, 내부식성 층은 약 75 나노미터 내지 약 100 나노미터 두께이다. 다른 실시 형태에서, 내부식성 층은 약 20 나노미터 내지 약 30 나노미터 두께이다. 도면에 도시되지는 않았지만, 둘 이상의 내부식성 층이 사용될 수 있다.
일부 실시 형태에서, 내부식성 층은 두께가 500 나노미터 이하이다. 일부 실시 형태에서, 내부식성 층은 두께가 80 nm 내지 250 nm이다. 일부 실시 형태에서, 내부식성 층은 두께가 25 나노미터 이상, 50 나노미터 이상, 75 나노미터 이상, 90 나노미터 이상, 또는 100 나노미터 이상이다. 추가로, 일부 실시 형태에서, 내부식성 층은 두께가 100 나노미터 이하, 110 나노미터 이하, 125 나노미터 이하, 150 나노미터 이하, 200 나노미터 이하, 300 나노미터 이하, 400 나노미터 이하, 또는 500 나노미터 이하이다.
접착제 층
접착제 층은 선택적이다. 접착제 층은, 존재하는 경우, 다층 구조물을 기재에 접착한다 (도면에는 도시되지 않음). 일부 실시 형태에서, 접착제는 감압 접착제이다. 본 명세서에 사용되는 바와 같이, 용어 "감압 접착제"는 강력하고 지속적인 점착성, 지압 이하를 사용한 기재에 대한 접착성, 및 기재로부터 제거가능하기에 충분한 응집 강도를 나타내는 접착제를 지칭한다. 예시적인 감압 접착제에는, 본 명세서에 참고로 포함된 국제특허 공개 WO 2009/146227호 (조셉(Joseph) 등)에 기재된 것들이 포함된다.
라이너
라이너는 선택적이다. 라이너는, 존재하는 경우, 접착제를 보호하며, 태양 미러 필름이 다른 기재 상으로 전달될 수 있게 한다. 이어서, 그러한 구성은 수송, 보관 및 소비자 사용을 위해서 편리하게 포장될 수 있다. 일부 실시 형태에서, 라이너는 이형 라이너이다. 일부 실시 형태에서, 라이너는 실리콘-코팅된 이형 라이너이다.
기재
본 명세서에 기재된 필름은, 라이너(180) (존재하는 경우)를 제거하고 기재에 인접하게 접착제 층(170) (존재하는 경우)을 배치함으로써, 기재에 적용될 수 있다. 이어서, 예비 마스크 층(110) (존재하는 경우)을 제거하여 내후성 층(120)을 태양광에 노출시킨다. 적합한 기재는 일반적으로 소정의 특징을 공유한다. 가장 중요하게는, 기재는 충분히 강성(rigid)이어야 한다. 둘째로, 기재는 충분히 평활하여, 기재의 텍스쳐(texture)가 접착제/금속/중합체 스택(stack)을 통해 전해지지 않아야 한다. 결과적으로, 이것은 유리한데, 그 이유는 (1) 광학적으로 정밀한 미러를 가능하게 하고, (2) 금속 반사 층을 부식시키거나 접착제를 열화시킬 수 있는 반응성 화학종의 침투를 위한 경로(channel)를 없앰으로써 금속 반사 층의 물리적 완전성(integrity)을 유지하고, (3) 반사 필름-기재 스택 내에서 제어되고 규정된 응력 집중을 제공하기 때문이다. 셋째로, 기재는 바람직하게는 반사 미러 스택과 비반응성이어서 부식을 방지한다. 넷째로, 기재는 바람직하게는 접착제가 내구성있게 접착하는 표면을 갖는다.
반사 필름을 위한 예시적인 기재는, 관련 선택 사항 및 이점과 함께, 국제특허 공개 WO04114419호 (슈립세마(Schripsema)), 및 WO03022578호 (존스턴(Johnston) 등); 미국 특허 출원 공개 제2010/0186336호 (발렌테(Valente) 등) 및 제2009/0101195호 (레이놀즈(Reynolds) 등); 및 미국 특허 제7,343,913호 (나이더마이어(Neidermeyer))에 기재되어 있으며, 이들 모두는 본 명세서에 전체적으로 포함된다. 예를 들어, 물품은, 본 명세서에 전체적으로 포함된, 공-계류 중이며 공동 소유된 미국 가특허 출원 제13/393,879호 (코스그로브(Cosgrove) 등)에 기재된 바와 같은 다수의 미러 패널 조립체 중 하나에 포함될 수 있다. 다른 예시적인 기재는, 예를 들어, 알루미늄, 강, 유리, 또는 복합 재료와 같은 금속을 포함한다.
본 발명의 이점 및 실시 형태가 하기 실시예에 의해 추가로 예시되며, 이들 실시예에 인용되는 특정 재료 및 그의 양, 및 또한 다른 조건 및 세부 내용은 본 발명을 부당하게 제한하는 것으로 이해되지 않아야 한다. 이들 실시예는 단지 예시적인 목적을 위한 것이며 첨부된 특허청구범위의 범주에 대해 제한하는 것으로 의도되지 않는다. 본 발명의 넓은 범주를 나타내는 수치적 범위 및 파라미터가 근사치임에도 불구하고, 특정 실시예에서 나타내어지는 수치는 가능한 한 정확하게 보고된다. 그러나, 임의의 수치값은 본질적으로 소정의 오류를 포함하는데, 이러한 오류는 그들의 각각의 시험 측정치에서 발견되는 표준 편차로부터 필연적으로 기인된 것이다. 최소한, 그리고 특허청구범위의 범주에 대한 균등론의 개시를 제한하려고 시도함이 없이, 각각의 수치 파라미터는 적어도 보고된 유효 숫자의 수의 관점에서 그리고 통상의 반올림 기법을 적용함으로써 해석되어야 한다. 또한, 이들 실시예에서, 모든 백분율, 비율 및 비는 달리 표시되지 않으면 중량 기준이다.
실시예
시험 방법
중성 염 스프레이 시험
염 스프레이 중의 다양한 시간 후의 % 반사 면적으로서 또는 단순히 염 스프레이 중에 있는 동안 시각적 관찰 파괴(visual observation failure)로서 결과를 보고한 점을 제외하고는, ISO 9227:2006, "인공 분위기에서의 부식 시험- 염 스프레이 시험"(Corrosion tests in artificial atmospheres -- Salt spray tests)에 약술된 절차에 따라 비교예 및 실시예의 부식을 평가하였다. 시각적 관찰 파괴는 샘플이 염 스프레이 중에 있는 동안의 부식에 대한 첫 번째 시각적 징후를 의미한다.
퍼센트 반사 면적
부식 또는 탈층으로 인한 변색의 어떠한 징후도 나타내지 않는 라미네이팅된 샘플의 표면적을 각각의 샘플에 대한 반사 면적으로서 취하였다. 이어서, 이러한 면적을 샘플의 초기 반사 표면적에 대한 퍼센트로서 보고하였다. 대조군 샘플의 전체 표면적으로서, 그리고 초음파로 에지 처리된 샘플에 대해서는 초음파 밀봉 내의 면적으로서 샘플의 초기 반사 면적을 취하였다. 이것은, 시험 후의 라미네이트의 사진복사물을 만들고, 사진복사물의 흑색 부분을 절단하여 칭량함으로써 결정하였다. 부식된 면적은 사진복사물에서 흑색이 아닌 것으로 보인다.
비교예 1
중합체 층 및 금속 처리된 층을 포함하는 반사 미러 필름 (미국 미네소타주 세인트 폴 소재의 쓰리엠 컴퍼니(3M Company)로부터 상표명 "태양 미러 필름 SMF-1100"으로 입수함)을, 금속 처리된 면 상의 감압 접착제 라이너를 제거한 후에, 두께가 대략 0.02 in (0.05 cm)인 페인팅된 알루미늄 기재 상에 라미네이팅하였다. 이어서, 전단 커터(shear cutter)를 사용하여 알루미늄 기재를 10.2 cm × 10.2 cm (4 in × 4 in) 샘플로 절단하였다. 예비 마스크를 제거하였다. 3개의 샘플을 상기한 "중성 염 스프레이 시험"에 따라 시험하였다. 시험 결과가 표 1에 제공되어 있다.
추가로 하나의 0.9 m × 1.2 m의 샘플을 1주일 동안 상기한 "중성 염 스프레이 시험"에 노출시키고, 이어서 2개월 동안 태양 및 수분 중에 놓아두었고, 그 후에 표면의 80%가 1.3 cm (0.5 in) 터널(tunnel)로 덮였다. 이러한 데이터는 표 1에 보고되어 있지 않다.
비교예 2
중합체 층 및 금속 처리된 층을 포함하는 반사 미러 필름 (미국 미네소타주 세인트 폴 소재의 쓰리엠 컴퍼니로부터 상표명 "태양 미러 필름 SMF-1100"으로 입수함)을, 금속 처리된 면 상의 감압 접착제 라이너를 제거한 후에, 두께가 대략 0.02 in (0.05 cm)인 페인팅된 알루미늄 기재 상에 라미네이팅하였다. 이어서, 전단 커터를 사용하여 알루미늄 기재를 10.2 cm × 10.2 cm (4 in × 4 in) 샘플로 절단하였다. 예비 마스크를 제거하였다. 6.4 mm (0.25 in)의 테이프를 샘플의 전방측 및 에지 면 둘레에 접착하고 나머지 에지 테이프를 샘플에 단단하게 접음으로써, 샘플의 4개의 에지 모두를 12.7 mm (0.5 in) 폭의 "3M 내후성 필름 테이프(Weather Resistant Film Tape) 838" (미국 미네소타주 세인트 폴 소재의 쓰리엠 컴퍼니로부터 구매가능함)로 테이핑하였다. 샘플을 상기한 "중성 염 스프레이 시험"에 따라 시험하였고, 샘플은 2주 후에 부식의 징후를 나타내었다.
실시예 1
중합체 층 및 금속 처리된 층을 포함하는 반사 미러 필름 (미국 미네소타주 세인트 폴 소재의 쓰리엠 컴퍼니로부터 상표명 "태양 미러 필름 SMF-1100"으로 입수함)을, 금속 처리된 면 상의 감압 접착제 라이너를 제거한 후에, 두께가 대략 0.02 in (0.05 cm)인 페인팅된 알루미늄 기재 상에 라미네이팅하였다. 이어서, 전단 커터를 사용하여 알루미늄 기재를 10.2 cm × 10.2 cm (4 in × 4 in) 샘플로 절단하였다. 예비 마스크를 제거하였다.
다음과 같이 초음파 에너지를 사용하여 반사 미러 필름을 그의 에지를 따라 용접하였다. 3 in (7.62 cm) 공기 실린더 (미국 미주리주 세인트루이스 소재의 에머슨 인더스트리얼 오토메이션(Emerson Industrial Automation)으로부터 구매가능한 브랜슨(BRANSON) 모델 "2000X"), 브랜슨 컴퍼니(Branson Company)에 의해 제조되는 구매가능한 1.5 게인(gain)의 티타늄 부스터, 및 3.0 게인의 티타늄 바아 혼(bar horn)을 갖는 초음파 용접기를 20 ㎑의 진동수, 4 kW의 출력(power output)으로 사용하였다. 이러한 초음파 에너지 출력은 89 내지 99 마이크로미터 (3.5 내지 3.9 밀) 피크-피크(peak to peak)의 진폭에 상응한다. 혼은 15 cm × 1.3 cm (6 in × 0.5 in)의 용접 면을 가졌다. 라미네이팅된 알루미늄 샘플을 그의 4개의 변 각각에 대해 140 ㎪ (20 psi)의 압력, 350 ㎪ (50 lbf)의 트리거 힘, 및 0.15초의 용접 체류 시간을 사용하여 플런지 용접(plunge welded)하였다.
샘플을 상기한 "중성 염 스프레이 시험"에 따라 시험하였고, 결과가 표 1에 제공되어 있다.
실시예 2
280 ㎪ (40 lbf)의 압력을 사용한 점을 제외하고는, 실시예 1에 기재된 바와 같이 용접된 샘플을 제조하였다. 샘플을 상기한 "중성 염 스프레이 시험"에 따라 시험하였고, 결과가 표 1에 제공되어 있다.
실시예 3
폴리올레핀 예비 마스크를 제거하지 않은 점을 제외하고는, 실시예 1에 기재된 바와 같이 용접된 샘플을 제조하였다. 10.2 cm × 10.2 cm (4 in × 4 in) 샘플의 4개의 변 모두를, 각각의 에지로부터 약 0.125 in (0.318 cm)의 거리에서, 각각의 변에 대해 140 ㎪ (20 psi)의 압력, 350 ㎪ (50 lbf)의 트리거 힘, 및 0.15초의 체류 시간으로 용접하였다. 샘플을 상기한 "중성 염 스프레이 시험"에 따라 시험하였고, 결과가 표 1에 제공되어 있다.
실시예 4
240 ㎪ (35 psi)의 압력을 사용하고 샘플의 각각의 변에 대해 0.10초 동안 트리거 힘을 적용한 점을 제외하고는, 실시예 3에 기재된 바와 같이 라미네이팅된 알루미늄 기재를 제조하였다. 샘플을 상기한 "중성 염 스프레이 시험"에 따라 시험하였고, 결과가 표 1에 제공되어 있다.
실시예 5
254 마이크로미터 (10 밀) 두께의 폴리비닐리덴플루오라이드(PVDF) 단일중합체 필름 (미국 뉴저지주 웨스트 뎁트포드 소재의 솔베이 솔렉시스(Solvay Solexis)로부터 상표명 "솔레프(SOLEF) 1010"으로 입수함)을 제공하였다. 약 0.1 cm의 폭으로 절단한 PVDF 필름을 에지로부터 약 0.125 in (0.318 cm)에서 미러 필름 위에 놓았다. 실시예 1에 기재된 초음파 용접기를 사용하여, 10.2 cm × 10.2 cm 구조물의 4개의 에지 모두를, 각각의 에지로부터 약 3.18 mm (0.125 in)의 거리에서, 모든 변에 대해 480 ㎪ (70 psi)의 압력, 모든 변에 대해 2100 ㎪ (300 lbf)의 트리거 힘, 및 모든 변에 대해 0.09초의 시간으로 용접하였다. 따라서, 이러한 방법을 사용하여 PVDF 필름의 스트립을 초음파 용접기의 혼 아래에 정렬하고, PMMA 층 내로 "녹아들게 하였다".
샘플을 상기한 "중성 염 스프레이 시험"에 따라 시험하였고, 결과가 표 1에 제공되어 있다.
실시예 6
충격 개질된 PMMA계 수지의 254 마이크로미터 (10 밀) 캐스트 필름을 그러한 수지에 대해 권고되는 업계 압출 조건(recommended industry extrusion condition)에 따라 얻었다. 수지는 미국 오하이오주 콜럼버스 소재의 플라스콜라이트(Plaskolite)로부터 입수하였으며(옵틱스(OPTIX) CA-923 UVA2), 15%의 2층 타입 충격 개질제, 1.5%의 UV 흡수제를 함유하였고, 용융 유량이 2.0 내지 3.0 (g/10분, ASTM D 1238 (3.8/230)에 따름)이었다. 필름을 0.1 cm의 폭으로 절단하고, 10.2 cm × 10.2 cm의 라미네이팅된 알루미늄 기재의 반사 미러 필름 면 위에 놓고, 각각의 에지로부터 약 3.18 mm (0.125 in)의 거리에서 480 ㎪ (70 psi)의 압력, 2100 ㎪ (300 lbf)의 트리거 힘을 사용하여, 제1, 제2, 제3 및 제4 변에 대해 각각 0.09초, 0.13초, 0.10초 및 0.10초 동안 용접하였다. 2개의 추가적인 복제 샘플 (총 3개)을 제조하여 시험하였는데, 이때 염 스프레이 시험 결과는 표 1에서 실시예 6에 대해 보고된 바와 같이 첫 번째 샘플과 동일하였다. 시험된 실시예에 손상을 주거나 충격을 가하지는 않았지만, 있을 수 있는 용접 구멍을 좁은 충격 개질된 PMMA 스트립으로 채워서 충격 및 손상으로부터 보호하고자 하였다.
샘플을 "중성 염 스프레이 시험"에 기재된 바와 같이 시험하였고, 결과가 표 1에 나타나있다.
실시예 7
실시예 1에 기재된 바와 같이 10.2 cm × 10.2 cm (4 in × 4 in)의 라미네이트의 샘플을 제조하였다. PSA 및 라이너가 없는 샘플은 4개의 금속 에지 모두가 탄화규소 핸드 툴(hand tool) (정사각형 날을 갖는 12.7 mm (0.5 in) 폭의 블레이드)에 의해 라미네이트의 금속 면으로부터 수동으로 기계적으로 스크래핑되었다. 이 툴을 사용하여 4개의 에지 모두로부터 3.18 mm (0.125 in)의 은을 제거하였다. 이러한 기계적 제거 후에, 라미네이트의 스크래핑된 금속 면에 동량의 PSA를 코팅하고, 이어서 "알루미늄 기재 제조" 하에 기재된 바와 같이 라미네이트를 알루미늄 기재에 접착하였다.
샘플을 "중성 염 스프레이 시험"에 기재된 바와 같이 시험하였고, 샘플은 67일 후에 부식의 징후를 나타내지 않았다.
추가로 하나의 0.9 m × 1.2 m 샘플을 1주일 동안 상기한 중성 염 스프레이 시험에 노출시키고, 이어서 1년 동안 태양 및 수분 중에 노출시켰다. 심지어 1년의 그러한 노출 후에도, 샘플은 터널링의 징후를 나타내지 않았다. 이러한 데이터는 표 1에 보고되어 있지 않다.
실시예 8
실시예 1에 기재된 바와 같이 10.2 cm × 10.2 cm (4 in × 4 in)의 라미네이트의 샘플을 제조하였다. 이어서, 샘플을 레이저 애블레이팅하여, 라미네이트의 에지로부터 약 12.7 mm 내지 25.4 mm (0.5 in 내지 1.0 in)에 15 mm × 15 mm의 정사각형 웰(well)을 생성하였다. 텔레센트릭 F-세타 오브젝티브(telecentric F-Theta Objective) (f=100mm 초점 길이)가 구비된 "허리스캔(hurrySCAN) 20" 스캐너 (독일 뮌헨 소재의 스캔랩 아게(Scanlab AG)로부터 구매가능함)와 함께 에스피아이 레이저스(SPI Lasers)로부터의 A SP-40P-HL 레이저를 사용하였다. 스캐너 및 레이저는 컴퓨터로 제어하였다. 설정치에는 파장 1070 nm, 펄스 길이 250 ns, 속도 500 mm/sec 및 반복률 30 ㎑ 포함되었다. 레이저 최대 출력은 40 W였지만, 실시예에 사용된 실제 출력은 50% 또는 20 W였다. 레이저 배향은 라미네이트의 PMMA 면을 통과하는 것이었다. 단일 또는 삼중 스캔에 의해 단일 또는 삼중 폭 라인을 생성하였다.
샘플을 "중성 염 스프레이 시험"에 기재된 바와 같이 시험하였고, 샘플은 7일 후에 부식의 징후를 나타내었다.
실시예 9
실시예 8에 기재된 바와 같이 샘플을 제조하였으나 60% 출력으로 레이저 애블레이팅하였다. 샘플을 "중성 염 스프레이 시험"에 기재된 바와 같이 시험하였고, 샘플은 21일 후에 부식의 징후를 나타내었다.
실시예 10
실시예 8에 기재된 바와 같이 샘플을 제조하였으나 알루미늄 기재에 라미네이션 전에 레이저 애블레이팅하였다. 샘플을 "중성 염 스프레이 시험"에 기재된 바와 같이 시험하였고, 샘플은 9일 후에 부식의 징후를 나타내지 않았으며, 이 시점에 시험을 중단하였다.
실시예 11
실시예 10에 기재된 바와 같이 샘플을 제조하였으나 60% 출력을 사용하였다. 샘플을 "중성 염 스프레이 시험"에 기재된 바와 같이 시험하였고, 샘플은 9일 후에 부식의 징후를 나타내지 않았다.
실시예 12
초음파 실시예 1 내지 실시예 6에 더하여, 널형 앤빌(knurled anvil)을 사용하여 초음파 용접을 또한 입증하였다. 몇몇 널 패턴을 시도하였고 최적화된 널 패턴은 0.020 인치의 반복 피치, 90도의 끼인각 및 0.64 cm (0.25 in)의 폭을 갖는 패턴인 것으로 결정되었다. 접착성 예비 마스크 면이 널 패턴의 앤빌을 향하고 있는 "태양 미러 필름 SMF-1100" 필름 (알루미늄 기재에 라미네이팅되지 않음)을 바아 혼 아래로 통과시켰다. 혼은 20 ㎑의 진동수로 진동하고 있었다. 혼의 용접 면은 15 cm × 2.5 cm (6 in × 1 in)였다. 혼은 2.5 cm (1 in)의 용접 면을 가로질러 연속되는 6.22 cm (2.45 in)의 반경을 가졌다. 용접 면에서 측정된 진폭은 총 출력의 75%인 44.7 마이크로미터 (1.76 밀) 피크-피크였으며, 필름의 속도는 10.7 m/min (35 피트/분)이고 힘은 667 N (150 lbf)이었다.
샘플을 "중성 염 스프레이 시험"에 기재된 바와 같이 시험하였고, 샘플은 16일 후에 5% 미만의 부식을 나타내었다.
실시예 13
진폭이 총 출력의 87.5%이고, 속도가 15 m/min (50 피트/분)이고, 힘이 500 N (112.5 lbf)인 점을 제외하고는, 실시예 12에 기재된 바와 같이 샘플을 제조하였다. 샘플을 "중성 염 스프레이 시험"에 따라 시험하였고, 샘플은 16일 후에 부식의 징후를 나타내지 않았다.
실시예 14
진폭이 총 출력의 100%이고, 속도가 11 m/min (35 피트/분)이고, 힘이 334 N (75 lbf)인 점을 제외하고는, 실시예 12에 기재된 바와 같이 샘플을 제조하였다. 샘플을 "중성 염 스프레이 시험"에 따라 시험하였고, 샘플은 16일 후에 5% 미만의 부식을 나타내었다.
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본 명세서에 언급된 모든 참고 문헌은 참고로 포함된다.
달리 지시되지 않는 한, 본 명세서 및 특허청구범위에서 사용되는, 특징부의 크기, 양 및 물리적 특성을 표현하는 모든 수치는 모든 경우에 용어 "약"에 의해 수식되는 것으로 이해되어야 한다. 따라서, 반대로 지시되지 않는 한, 전술된 명세서 및 첨부된 특허청구범위에 기재된 수치 파라미터는 당업자가 본 명세서에 개시된 교시 내용을 이용하여 얻고자 하는 원하는 특성에 따라 변할 수 있는 근사치이다.
본 명세서 및 첨부된 특허청구범위에 사용되는 바와 같이, 단수형("a", "an", 및 "the")은 그 내용이 달리 명백히 나타내지 않는 한 복수의 지시대상을 갖는 실시 형태들을 포함한다. 본 명세서 및 첨부된 특허청구범위에서 사용되는 바와 같이, 용어 "또는"은 일반적으로 그 내용이 명백히 달리 지시하지 않는 한 "및/또는"을 포함하는 의미로 사용된다.
본 발명의 다양한 실시 형태 및 구현 형태가 개시되어 있다. 개시된 실시 형태들은 예시 목적으로 제시되며 제한적이지 않다. 전술한 구현 형태 및 기타 구현 형태가 하기의 특허청구범위의 범주 내에 속한다. 당업자는 본 발명이 개시된 것들 이외의 실시 형태 및 구현 형태로 실시될 수 있음을 이해할 것이다. 당업자라면, 전술된 실시 형태 및 구현 형태의 기본 원리로부터 벗어남이 없이 그러한 실시 형태 및 구현 형태의 상세 사항에 대해 많은 변경이 이루어질 수 있음을 이해할 것이다. 본 발명은 본 명세서에 개시된 예시적 실시 형태 및 실시예로 부당하게 제한하고자 하는 것이 아니며, 그러한 실시예 및 실시 형태는 단지 예시의 목적으로 제시되고, 본 발명의 범주는 이하의 본 명세서에 개시된 특허청구범위로만 제한하고자 함을 이해하여야 한다. 또한, 본 발명의 다양한 변형 및 변경이 본 발명의 사상 및 범주로부터 벗어남이 없이 당업자에게 명백해질 것이다. 따라서, 본 발명의 범주는 하기의 특허청구범위에 의해서만 결정되어야 한다.

Claims (40)

  1. 제1 주 표면 및 제2 주 표면을 갖는 내후성 층을 제공하는 단계;
    내후성 층의 제1 주 표면 상에 반사 재료를 침착하는 단계; 및
    반사 재료의 일부분을 초음파로 제거하는 단계를 포함하는, 태양 미러 필름(solar mirror film)의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 내후성 층으로부터 제거되는 반사 재료의 일부분은 내후성 층의 하나 이상의 에지 영역을 따르는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 에지 영역들 중 적어도 하나는 내후성 층의 말단 에지로부터 제1 주 표면 상으로 2 mm까지 연장되는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 에지 영역은 내후성 층의 말단 에지로부터 제1 주 표면 상으로 약 2 mm 내지 약 20 mm까지 연장되는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 반사 재료를 침착하는 단계는 스퍼터 코팅, e-빔 또는 열적 방법을 통한 증발, 이온-보조 e-빔 증발(ion-assisted e-beam evaporation), 전기도금, 스프레이 페인팅, 진공 침착, 및 이들의 조합을 통한 적어도 하나의 물리 증착을 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 반사 재료는 내후성 층의 제1 주 표면의 98% 이상을 덮는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 반사 재료를 초음파로 제거하는 단계는 널 패턴(knurl pattern)을 사용하는 것을 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    내후성 층의 일부분을 초음파로 제거하는 단계를 추가로 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
    반사 재료가 제거된 영역 내에 충전제를 배치하는 단계를 추가로 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  10. 제9항에 있어서, 충전제는 중합체 재료인, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  11. 제9항 또는 제10항에 있어서, 충전제는 열가소성 재료인, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 내후성 층은 PMMA, 폴리카르보네이트, 폴리에스테르, 다층 광학 필름, 플루오로중합체, 및 아크릴레이트와 플루오로중합체의 블렌드 중 적어도 하나를 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 반사 재료는 은, 금, 알루미늄, 구리, 니켈, 및 티타늄 중 적어도 하나를 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
    내후성 층과 반사 재료 사이에 타이 층(tie layer)을 배치하는 단계를 추가로 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  15. 제14항에 있어서, 타이 층은 접착제를 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  16. 제14항 또는 제15항에 있어서,
    타이 층의 일부분을 초음파로 제거하는 단계를 추가로 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  17. 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,
    내후성 층과 반사 재료 사이에 중합체 재료를 배치하는 단계를 추가로 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  18. 제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서,
    반사 층에 인접하게 부식 보호 층을 배치하는 단계를 추가로 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  19. 제18항에 있어서, 부식 보호 층은 구리 및 불활성 금속 합금 중 적어도 하나를 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  20. 제1항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서,
    집중형 광기전 시스템(concentrated photovoltaic system), 집중형 태양 시스템(concentrated solar system), 또는 반사기 조립체(reflector assembly) 중 적어도 하나 내에 태양 미러 필름을 배치하는 단계를 추가로 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  21. 제1 주 표면 및 제2 주 표면을 갖는 내후성 층을 제공하는 단계;
    내후성 층의 제1 주 표면 상에 반사 재료를 침착하는 단계; 및
    반사 재료의 일부분을 열적으로 제거하는 단계를 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  22. 제21항에 있어서, 내후성 층으로부터 제거되는 반사 재료의 일부분은 내후성 층의 하나 이상의 에지 영역을 따르는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  23. 제21항 또는 제22항에 있어서, 에지 영역들 중 적어도 하나는 내후성 층의 말단 에지로부터 제1 주 표면 상으로 2 mm까지 연장되는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  24. 제21항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서, 에지 영역은 내후성 층의 말단 에지로부터 제1 주 표면 상으로 약 2 mm 내지 약 20 mm까지 연장되는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  25. 제21항 내지 제24항 중 어느 한 항에 있어서, 반사 재료를 침착하는 단계는 스퍼터 코팅, e-빔 또는 열적 방법을 통한 증발, 이온-보조 e-빔 증발, 전기도금, 스프레이 페인팅, 진공 침착, 및 이들의 조합을 통한 적어도 하나의 물리 증착을 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  26. 제21항 내지 제25항 중 어느 한 항에 있어서, 반사 재료는 내후성 층의 제1 주 표면의 98% 이상을 덮는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  27. 제21항 내지 제26항 중 어느 한 항에 있어서, 반사 재료를 열적으로 제거하는 단계는 반사 재료를 초음파로 제거하는 것을 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  28. 제21항 내지 제27항 중 어느 한 항에 있어서,
    내후성 층의 일부분을 열적으로 제거하는 단계를 추가로 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  29. 제21항 내지 제28항 중 어느 한 항에 있어서,
    반사 재료가 제거된 영역 내에 충전제를 배치하는 단계를 추가로 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  30. 제29항에 있어서, 충전제는 중합체 재료인, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  31. 제29항 또는 제30항에 있어서, 충전제는 열가소성 재료인, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  32. 제21항 내지 제31항 중 어느 한 항에 있어서, 내후성 층은 PMMA, 폴리카르보네이트, 폴리에스테르, 다층 광학 필름, 플루오로중합체, 및 아크릴레이트와 플루오로중합체의 블렌드 중 적어도 하나를 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  33. 제21항 내지 제32항 중 어느 한 항에 있어서, 반사 재료는 은, 금, 알루미늄, 구리, 니켈, 및 티타늄 중 적어도 하나를 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  34. 제21항 내지 제33항 중 어느 한 항에 있어서,
    내후성 층과 반사 재료 사이에 타이 층을 추가로 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  35. 제34항에 있어서, 타이 층은 접착제를 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  36. 제21항 내지 제35항 중 어느 한 항에 있어서,
    타이 층의 일부분을 열적으로 제거하는 단계를 추가로 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  37. 제21항 내지 제36항 중 어느 한 항에 있어서,
    내후성 층과 반사 재료 사이에 중합체 재료를 배치하는 단계를 추가로 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  38. 제21항 내지 제37항 중 어느 한 항에 있어서,
    반사 층에 인접하게 부식 보호 층을 배치하는 단계를 추가로 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  39. 제38항에 있어서, 부식 보호 층은 구리 및 불활성 금속 합금 중 적어도 하나를 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
  40. 제21항 내지 제39항 중 어느 한 항에 있어서,
    집중형 광기전 시스템, 집중형 태양 시스템, 또는 반사기 조립체 중 적어도 하나 내에 태양 미러 필름을 배치하는 단계를 추가로 포함하는, 태양 미러 필름의 제조 방법.
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