KR20140145383A - Inline Type OLED Face Up Evaporator for large size OLED - Google Patents
Inline Type OLED Face Up Evaporator for large size OLED Download PDFInfo
- Publication number
- KR20140145383A KR20140145383A KR1020130067762A KR20130067762A KR20140145383A KR 20140145383 A KR20140145383 A KR 20140145383A KR 1020130067762 A KR1020130067762 A KR 1020130067762A KR 20130067762 A KR20130067762 A KR 20130067762A KR 20140145383 A KR20140145383 A KR 20140145383A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- chamber
- substrate
- mask
- tray
- evaporator
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/12—Organic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/10—Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 초대면적(8세대 ~ 11세대급) OLED(Organic Lighting Emission Display) 박막의 대량생산 제조용 하향식 선형 증발원과 기판과 마스크 얼라인장치를 사용한 하향식 증착기 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 대형 유기 박막 제조의 대량 생산성을 획기적으로 향상시킬 수 있도록 기판의 처짐이 전혀 없도록 하기 위하여, 매우 얇은 유리 기판등을 챔버의 하부에서 이송되는 기판 트레이상에 놓이게 하고, 기판위에 발광용 유기물로 구성되는 박막을 연속 제조하기 위하여 고진공 분위기의 챔버 내에서 다수개의 하향식 선형 증발원을 챔버의 상부에 구성하게 하고, 기판트레이의 이송작동으로 인한 파티클이 발생되는 것을 방지하여, 유기박막에 오염되지 않도록 하기 위하여 기판트레이의 하부에 이송롤러 장치를 설치하고 분리벽을 설치하여 디퍼런셜 펌핑을 하여 파티클의 발생을 방지하고, 하향으로 유기물 기체를 유도 증발하여 처짐이 전형 없는 기판 마스크가 얼라인되어 이송되어, 기판에 유기물을 증착 형성하게 함으로써, 대면적의 유기박막을 대량 생산 하는 하향식 증착기의 파티클의 발생이 방지된 기판 이송 장치와 생산성을 더욱 향상하는 인라인형 듀얼 증착기 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a top-down linear evaporation source for mass production of an OLED (Organic Lighting Emission Display) thin film having a large area (8th to 11th generation), a top-down evaporator using the substrate and a mask aligning apparatus, and more particularly, A very thin glass substrate or the like is placed on a substrate tray that is transported from the bottom of the chamber so that the substrate is not sagged so as to significantly improve the mass productivity of the substrate. A plurality of downward linear evaporation sources are formed in the upper part of the chamber in a chamber of a high vacuum atmosphere to prevent generation of particles due to the transport operation of the substrate tray and to prevent contamination of the organic thin film, By installing the feed roller device and installing a separation wall, differential pumping A top-down evaporator that mass-produces a large-area organic thin film by preventing the generation of particles, inducing evaporation of the organic gas downward, transporting the substrate mask with no deflection typical, and depositing organic substances on the substrate To a substrate transfer apparatus in which particles are prevented from being generated, and to an inline type dual deposition apparatus in which productivity is further improved.
OLED 디스플레이는 포스트 엘시디(Post LCD) 디스플레이로서뿐만 아니라 조명용 면 발광장치로서 그 에너지성과 저렴성이 입증되어 세계적으로 각광받고 있다. OLED 발광장치의 핵심 공정기술로서, 유기물 발광재료를 기체 증발하여 유리기판에 고진공 상태에서 증착하여 유기물 박막을 제조하는 열증발 증착공정(thermal evaporation deposition)이 주로 사용되고 있다.
The OLED display is not only a post LCD display but also a surface emitting device for illumination, and its energy efficiency and low cost have been proved worldwide. As a key process technology of an OLED light emitting device, a thermal evaporation deposition process in which an organic light emitting material is vaporized by vaporization and deposited on a glass substrate in a high vacuum state to produce an organic thin film is mainly used.
열증발 증착공정은 유기물을 증발하기 위한 소스로서, 열복사에 의한 유도 증발장치인 증발원과 기판을 고정해주는 기판 트레이와 패터닝을 제조하는 세도우 마스크장치 및 증발기체의 양을 미세 조정하는 두께 센서인 QCM 다점 센서등이 고진공 챔버내에 구성되어 사용 된다.
The thermal evaporation process is a source for evaporating organic matter, a substrate tray for fixing the evaporation source and the substrate, which is an induction evaporation device by thermal radiation, a shadow mask device for manufacturing the patterning, and a QCM A multi-point sensor or the like is used in the high vacuum chamber.
특히 최근 들어서, OLED 제품의 단가를 낮추기 위하여, 기판의 크기를 더욱 크게 제작한 후, 나중에 작게 잘라서 여러 장 제조하는 기술이 필요하게 되었다. 이를 테면, 4세대나 5세대급 기판을 증착하여 유기박막을 만들고, 용도에 맞추어 2인치나 4인치용으로 잘라 쓰면, 그 생산성이 향상되어 제조원가를 떨어뜨리게 되는 것이다. 하지만, 최근 대형(55인치이상)의 OLED TV를 대량생산하기 위하여, 8세대급(2200mmX2500mm) 크기의 유리 기판이 사용되는데, 이때 유리기판의 두께가 0.7mm 정도이므로, 쉽게 처짐으로 인하여 기판 핸들링 시 깨어지기가 매우 쉽다.
Especially recently, in order to lower the unit cost of the OLED product, there has been a need for a technique of manufacturing a larger size of a substrate, followed by cutting a small piece into several pieces. For example, if an organic thin film is formed by depositing a 4th generation or a 5th generation substrate and cut to 2 inch or 4 inch according to the application, the productivity is improved and the manufacturing cost is lowered. However, recently, in order to mass-produce OLED TVs of large size (55 inches or more), an 8th generation (2200 mm × 2500 mm) glass substrate is used. At this time, since the thickness of the glass substrate is about 0.7 mm, It is very easy to break.
이러한 8세대급 이상의 대형의 유리기판(1)에 유기박막을 상향 증착할 경우에 기존에 사용되는 증착기 내부의 개념도를 도 1에서 나타낸 바와 같이, 증착기의 상부에는 선형의 상향식 증발원(3)이 놓이고, 상향으로 유기물이 복사열에 의해 유도 가열되어 증발된다. 챔버의 상부에는 대형의 기판 처짐을 방지하기 위하여 기판척 장치가 놓이게 되고, 기판 가장자리는 IC 회로 연결부로서, 증착을 방지하도록 하기 위하여, 오픈 마스크(2)를 사용하고, 마스크 처짐방지용 마스크 척을 사용하며, 척과 기판등이 합치되도록 클램프 장치를 사용한다. 문제는 이러한 기판 반송용 척 장치가 800kg이상 1.5톤까지 되므로 장치가 매우 비싸지기도 하고, 무거운 장치를 이송하여주는 롤러 장치등이 너무 부하가 심하여, 장비의 내구성이 떨어지게 되므로 양산성 수율이 매우 낮아지게 되는 것이다.
As shown in FIG. 1, a conceptual diagram of the inside of a conventional evaporator when upwardly depositing an organic thin film on a glass substrate 1 of a level of 8th generation or more is shown in FIG. 1, and a linear bottom- , And the organic matter is evaporated by induction heating by the radiant heat upward. The substrate chuck device is placed on the upper part of the chamber to prevent the substrate from being sagged. The edge of the substrate is an IC circuit connection part. To prevent evaporation, an
이러한 문제를 해결하기 위하여는 기판 처짐을 방지하게 되는 하향식 증착기를 개발하여야 하며, 특히, 기판과 트레이가 선형 이송시 이송 장치등에 의해 발생되는 파티클 발생이 억제되도록 하는 특수하고도 역 발상적인 대형 OLED 박막 증착용 기판이송 장치의 개발이 절실하며, 신개념의 증착기술이 세계적인 경쟁기술로 부상하고 있으나, 아직 개발에 성공한 사례는 보고 되고 있지 않다.
In order to solve this problem, it is necessary to develop a top-down evaporator which prevents substrate deflection, and in particular, a special and highly controversial large-sized OLED thin film which suppresses generation of particles generated by a transferring device, Development of vapor deposition substrate transport system is urgent, and new concept deposition technology is emerging as a world-class competitive technology, but no successful case has been reported yet.
기존의 고진공 증착 챔버 내에는 기판의 이송을 위하여 롤러장치를 사용하는데, 이때 롤러에서 발생하는 마찰에 의한 파티클이 기판에 착지되어 유기박막이 오염되어, 소자의 발광효율이 저하된다. 즉, 기판이송에 의한 파티클을 방지하여야 하는 하향식 고진공 증착챔버의 기술의 개발이 요원하다.
In the conventional high vacuum deposition chamber, a roller device is used for transferring the substrate. At this time, particles caused by friction generated by the roller are landed on the substrate, and the organic thin film is contaminated, and the luminous efficiency of the device is lowered. That is, development of a technique of a top-down high vacuum deposition chamber, in which particles due to substrate transfer must be prevented, is a challenge.
상기의 파티클 발생을 방지하기 위하여, 본 발명에서는 디퍼런셜 펌핑을 활용하고자 한다. 즉, 트레이가 이송롤러를 타고 직선모션이 가능하게 하고, 롤러 마찰에 의한 파티클의 발생을 방지하게 된다. 또한, 기판 트레이의 하중을 가볍게 하기 위하여, 트레이의 하부에는 지지부가 부착하여 하중을 지지하도록 할 것이다. 트레이 지지핀과 롤러사이에서 발생하는 미세한 파티클이 기판에 접근하는 것을 방지하도록, 분리벽을 설치하여 디퍼런셜 펌핑을 시도할 것이다.
To prevent the generation of the particles, the present invention attempts to utilize differential pumping. That is, the trays can ride on the conveying rollers to enable linear motion and to prevent the generation of particles due to roller friction. Further, in order to lighten the load of the substrate tray, a supporting portion is attached to the lower portion of the tray to support the load. Differential pumping will be attempted by installing a separation wall to prevent microscopic particles that may occur between the tray support pin and the roller from approaching the substrate.
본 발명에 의하면, 고진공 하향식 OLED 증착 챔버내에 형성되는 기판의 이송을 위한 롤러장치가 발명되고, 트레이와 롤러사이의 마찰에 의한 파티클의 발생을 방지하게 되어, 파티클에 의한 유기박막의 오염을 방지하게 되어, 유기소자의 생산 수율을 향상하는 효과가 있다.
According to the present invention, a roller device for transferring a substrate formed in a high vacuum top-down OLED deposition chamber is invented, and the generation of particles due to friction between the tray and the roller is prevented, thereby preventing contamination of the organic thin film by the particles Thereby improving the production yield of the organic device.
도1은 종래의 OLED 박막을 증착하는 상향식 증착기를 개략적으로 나타낸 개념도
도2는 하향식 OLED 증착기의 측면 내부구조를 나타내는 개략도
도3은 하향식 OLED 증착기의 단면 내부구조를 나타내는 개략도
도4는 하향식 OLED 양산용 증착기의 하향식 선형 증발원이 일렬로 구성되는 형상을 나타내는 개략도
도5은 듀얼 기판을 적재하여, 번갈아 증착이 가능한 증발원의 위치 변경이 가능한 듀얼 증착기의 개략도
도6은 듀얼증착기를 사용하는 파티클 발생이 방지되며, OLED 소자를 제작하는 클러스터형의 증착기의 개념도
도7은 듀얼증착기를 사용하는 파티클 발생이 방지되며, OLED 소자를 제작하는 선형의 증착기의 개념도
도8은 기판로딩챔버, TM챔버, 플라즈마 전처리챔버, 선형증착챔버, 메탈증착챔버, 기판언로딩 챔버들이 일렬로 연결되어, 유기소자를 제작할 수 있는 턴키용 양산용 하향식 증착라인을 나타내는 개념도
도9는 기판로딩 챔버,TM챔버, 트레이인챔버, 유기마스크인챔버, 선형증착챔버, 유기마스크아웃챔버, 메탈마스크인챔버, 메탈증착챔버, 메탈마스크아웃챔버, 트레이아웃챔버, TM챔버, 기판언로딩 챔버들이 일렬로 연결되어, 유기소자를 제작할 수 있는 턴키용 양산용 인라인 하향식 증착라인을 나타내는 개념도
도10은 하향식 선형 증발원 하부에 파인마스크와 얼라이너와 마스크홀더의 구조를 나타내는 개념도
도11은 파인 홀(fine hole)의 배열을 가진 프레임 파인마스크의 개념도FIG. 1 is a conceptual diagram schematically showing a bottom-up evaporator for depositing a conventional OLED thin film
2 is a schematic diagram illustrating the lateral internal structure of a top-down OLED evaporator;
3 is a schematic diagram illustrating the internal cross-sectional structure of a top-down OLED vapor deposition apparatus;
4 is a schematic view showing a configuration in which a top-down linear evaporation source of a top-down OLED mass production evaporator is arranged in a row
5 is a schematic view of a dual evaporator capable of changing the position of an evaporation source capable of alternately depositing a dual substrate,
Fig. 6 is a conceptual view of a clustered evaporator in which particle generation using a dual evaporator is prevented, and OLED elements are fabricated
7 is a conceptual view of a linear evaporator in which the generation of particles using a dual evaporator is prevented and the OLED device is manufactured
8 is a conceptual diagram showing a top-down deposition line for mass production of a turn-key, in which a substrate loading chamber, a TM chamber, a plasma pretreatment chamber, a linear deposition chamber, a metal deposition chamber,
FIG. 9 is a cross-sectional view of a substrate loading chamber, a TM chamber, a tray chamber, an organic mask chamber, a linear deposition chamber, an organic mask out chamber, a metal mask chamber, a metal deposition chamber, a metal mask out chamber, A conceptual diagram showing an inline top-down deposition line for mass production of turnkeys in which unloading chambers are connected in series to produce organic devices
10 is a conceptual diagram showing the structure of the fine mask, the aligner and the mask holder at the bottom of the bottom-down linear evaporation source
11 is a conceptual view of a frame fine mask having an array of fine holes
도2에 나타낸 바와 같이, 고진공챔버(10)의 내부에는 중앙상부에 2개이상의 하향식 선형 증발원(11)이 고정되어 있으며, 하향으로 유기물이 증발된다. 기판 트레이(17)의 상부에는 마스크프레임(14) 홈과 기판 홈이 형성되어 있어 트레이와 기판(16) 마스크(15)는 한몸이 되어 이송이 가능하여, 기판상에 증발증착이 가능하게 된다. 트레이의 하부에는 지지핀(20)이 부착되어 있고, 트레이가 이송롤러(21)를 타고 선형 이송된다. 챔버의 왼측 상부에는 마스크 얼라이너(12)가 다수개 형성되고, 챔버 안쪽으로 마스크 홀딩 바(13)가 달려있어, 이 홀딩바에 마스크 프레임(14)이 홀딩되어 마스크의 업다운 모션이 가능하여, 트레이로부터 마스크의 이탈이 가능하기도 하고, 마스크와 기판의 얼라인기능이 가능하기도 하는 것이다. As shown in FIG. 2, two or more top-down
도3에는 하향식 고진공 증착챔버(10)의 단면을 보여주고 있다. 챔버의 측면에는 펌핑포트(23)가 다수개 형성되어 있으며, 고진공 펌프를 대칭으로 설치하게 된다. 트레이(17)의 하부에는 다수개의 트레이 지지핀(20)이 부착되어 있으며, 이 핀들은 롤러에 지지되어 있다. 즉 트레이의 하중은 이 지지핀에 의해 지지하게 되므로, 트레이의 무게를 가볍게 할 수 있게 된다. 또한, 지지핀은 분리벽(22)에 형성된 구멍들을 관통하도록 되어 있고, 분리벽을 사이에 놓고 디퍼런셜 펌핑이 가능하다. 즉, 분리벽을 기준으로 상하로 펌핌포트(23)들이 형성되는 것이다. 결국, 마찰에 의한 파티클 발생을 방지하게되는 효과가 있어서, 고진공 증착챔버내에서 이송에 의한 파티클 발생을 방지하게 되어, 고성능의 유기박막의 제조가 가능하게 되는 것이다. 이때, 분리벽에 형성되는 구멍의 사이즈가 작으면 작을수록 좋다.(예를 들면, 약 1cm) 즉, Mean free path(약 100m이상)가 충분히 긴 파티클 입자가 작은 크기의 구멍을 통해 기판까지 전달되기는 어려우므로, 롤러면에서 발생하는 마찰에 의한 파티클들이 기판상에 유입되어 기판에 달라붙는 현상을 방지하게 된다. 즉, 파티클의 발생을 방지하는 효과가 있는 것이다. 도2에는 지지핀이 3개 나타내었지만, 트레이의 크기에 따라서, 더욱 많은 개수를 설치할 수도 있다. 이렇게 하면, 대형의 트레이가 처짐이 없이, 트레이의 무게를 가볍게 유지할 수도 있는 것이다.
3 shows a cross-sectional view of a top-down high
하향식 증발원의 하부에는 증발원셔터(24)가 형성되고, 그 하부에는 고정형 증착가림부(25)가 형성되며, 증착가림부 하부에는 기판셔터(26)가 설치된다. 증발원셔터와 기판셔터는 좌우 이송이 가능하여 증발과 증착을 on-off하는 기능을 가지게 된다. 증착가림부 중앙에는 일정면적을 가지는 오프닝이 형성되어 있어 기판에 증착되는 증착면을 정의하도록 한다.
An
도4에는 고진공 증착 챔버(50)의 상부면에 HIL박막용 하향식 선형 증발원, HTL용, EML용, HBL용, ETL용, EIL용 유기박막의 제조용 하향식 선형 증발원(51)들이 separator wall(55)을 사이에 두고 선형 정열되어 있으며, 챔부의 하부에는 마스크프레임(54)과 기판(53)이 얹혀진 트레이(52)가 증발원 아래에서 직선방향으로 이송되므로써, 하향증발된 유기물기체들이 기판상에 증착됨으로써, 유기박막이 형성되는 것이다. 트레이의 하부에는 트레이 지지면(56)이 형성되어 있다. 참고로, 도4에는 분리벽을 나타내지 않았다. 이러한 식으로 다수개의 하향식 선형 증발원을 다수개 설치하면, 한 챔버내에 모든 필요한 증발원들을 일거에 설치하여, 한번의 기판 이송을 하여, 원하는 다수개층의 유기박막을 증착하게 되어 그 생산성이 매우 향상되는 것이다. 기존에는 한챔버에 한 개의 증발원만 설치되어, 매우 많은 수의 챔버들이 필요하여, 장비가 고가이며, 생산성이 떨어지기도 한다. EML 박막은 주로 호스트물질 증발원과 도판트물질 증발원으로 구성되어있어 2개이상의 증발원들로 증착공정을 수행하게 된다.One Host, Two Dopant의 경우에는 3개의 증발원이 필요하기도 하다.4 shows a top-down
도5에는 한 개의 고진공 증착챔버에 두개의 트레이(32, 33)가 구성되어, 두개의 기판(35, 36)이 소개되는 듀얼증착챔버(30)를 나타내었다. 각 트레이의 사이에는 중앙 분리벽(34)이 형성되어 있어, 두개의 트레이를 구분하게 된다. 챔버의 상부에는 하향식 증발원(31)을 좌우로 이송하는 소스 이송 장치(37)가 형성되어 있다. 즉, 기판1이 증착될 때, 기판2는 소개되어 마스크와 얼라인을 수행하고, 기판1의 증착이 완료되면, 증발원은 기판 2쪽으로 이송되어 기판2를 증착하게 되고, 동시에 기판1은 챔버에서 나가게되어 다음공정을 하게되고 새로운 기판1이 다시 소개되어 마스크와 얼라인하게 되고, 증착을 기다리게 되는 것이다. 이렇게 하면, 기존방법보다, 2배로 생산성이 향상되고, 증발원의 물질 사용율도 2배 향상되는 효과가 있게 된다.
5 shows a
도6에는 듀얼 증착챔버(101, 102, 103)가 다수개 설치되고, 케소드 금속 증착챔버(104), 기판 로딩챔버(100), 언로딩 챔버(106), 플라즈마 전처리 챔버(105)등이 7각형 로봇 챔버(110)에 클러스터형으로 연결되어 유기박막의 제조가 향상되는 양산용 장치의 모습을 나타내고 있다. 로봇챔버(110)에는 진공로봇(111)인 arm robot이 설치되어 있어 기판의 소개가 원활하게 된다. 듀얼 증착 챔버에는 기판 2개(107, 108)가 번갈아 소개되어 증착이 가능하다. 케소드 금속 증착 챔버에는 2개의 회전 테이블(112, 113)이 형성되어 있어서, 기판을 회전하면서, 하향식 금속 증발원으로 금속 박막의 형성이 가능하다. 특히 OLED 소자의 양산시, 생산성을 향상하기 위하여, 여러 개의 클러스터형 챔버들이 일렬로 연결되어 사용하게 된다.A plurality of
도7에는 기판의 로딩챔버(120), 플라즈마 전처리 챔버(121), 다수개의 듀얼증착챔버(122,123,124), 금속증착챔버(125), 언로딩챔버(126)들이 선형구조의 로봇 챔버(129)에 부착되어 있으며, 로봇 이송 장치(127)상에 놓여있는 암로봇(128)을 이용하여, 각 챔버에 기판을 소개하는 것이다. 양산지, 이러한 형태의 장비가 다수개 연결되면, 생산성을 향상하게 되는 것이다.
7, the
도8에는 기판 로딩챔버(130), TM(Transfer Module) 챔버(131), 플라즈마 전처리 챔버(132), TM챔버(133), 선형 증착챔버(134), TM챔버(135), 메탈 증착챔버(136), TM챔버(137),기판언로딩 챔버(138)들이 일렬로 연결되어 있는 인라인형 턴키용 대면적 하향식 증착라인을 나타낸다. 기판로딩 챔버나 기판 언로딩 챔버의 내부에는 기판을 여러 개 적재하는 카세트가 설치되며, TM챔버 내에는 진공용 로봇이 설치되어, 기판을 한장씩 이웃챔버로 전달해준다. 선형 증착챔버 내에는 마스크를 정열 및 이탈시키는 마스크홀더(140)들이 챔버의 상부 좌우에 설치되며, 마스크와 기판이 놓여진 트레이는 직선이송되어 하향으로 연속적으로 다층의 유기박막이 증착형성된다. 선형 증착챔버의 상부에는 다수개의 하향식 선형 증발원(141)들이 어레이를 이루어 일렬로 정렬되어 있으므로, 하향으로 원하는 유기기체를 동시에 증발하게 된다. 증착이 완료된 기판은 트레이로부터 이탈되어 로봇에 의해 다음공정인 메탈증착 챔버로 이송되는 것이다. 기판이 이탈된 트레이는 선형 증착챔버 내에서 직선운동에 의해 원점으로 되돌아갈 수도 있으나, 생산성을 위한 다음 트레이의 연속 증착을 위해서, 리턴챔버(142)를 통해서, 되돌아가게 된다. 리턴챔버내에는 필요시, 마스크와 트레이가 세정 또는 클리닝될수 있는 장치를 추가로 설치하게된다. 메탈증착챔버의 상부에는 하향식 포인트 소스챔버(139)가 2개이상 설치되어, 번갈아 사용하여, 소스의 물질이 떨어지면, 물질의 재충진이 가능하기도 하며, 기판은 기판 회전테이블(143)상에 놓여져 회전하면서 금속 박막이 증착되므로, 대면적의 경우에도 박막의 균일도를 확보할 수 있게되는 것이다. 이러한 턴키용 인라인 장비를 사용하면, 최소의 숫자로 구성되는 고진공 챔버들로 양산용 장비를 구성하게되어, 초기 설비비용을 절감할 수 있는 효과를 가진다.
8 shows a
도9에는 파티클의 발생이 방지된, 턴키용 대면적 OLED 인라인 하향식 증착기의 모습을 나타내었다. 기판 로딩챔버(150), TM챔버(151), 트레이인챔버(152), 유기마스크인챔버(153), 선형증착챔버(154), 유기마스크아웃챔버(155), 매탈마스크인챔버(156), 메탈증착챔버(157), 메탈마스크아웃챔버(158), 트레이아웃챔버(159), TM챔버(160), 기판언로딩챔버(161)들이 게이트밸브를 사이에 두고 일렬로 선형으로 연결되어 있다. 유기마스인챔버와 유기마스아웃챔버사이에는 유기마스크 리턴챔버(162)가 연결되어 있어, 이미 사용된 유기마스크는 트레이로부터 탈착되어 되돌아간다. 메탈마스크인챔버와 메탈마스크아웃 챔버는 메탈마스크 리턴챔버(163)로 연결되어 있어, 이미 사용된 메탈마스크는 트레이로부터 탈착되어 되돌아간다. 트레이인챔버와 트레이아웃챔버는 트레이 리턴챔버(164)로 서로 연결되어 있어 이미 사용된 트레이는 되돌아가서 재사용된다.
Fig. 9 shows a large-area OLED inline top-down evaporator for turn-key, in which the generation of particles is prevented. A
기판로딩과 언로딩챔버내에는 다수개의 기판을 적재할 목적으로 기판 카세트가 설치되어 업다운 모션을 하여 TM챔버에 설치된 진공로봇이 기판을 이웃공정챔버로 전달하게 된다. 트레이인챔버에는 트레이가 놓여있고, 트레이상에 기판이 놓여지며, 유기마스크챔버로 이송롤러에 의해 이송된다. 유기마스크는 핀얼라인되어 트레이상에 놓여지고, 기판과 얼라인 되어진다. 즉, 마스크, 기판, 트레이는 한몸이 되어 직선이송하며, 선형증착챔버내에 일렬로 설치된 하향식 선형 증발원으로부터 분출되는 유기물이 증착되어 다층의 유기박막이 연속으로 형성된다. 유기증착이 완료되어 유기마스크아웃챔버로 이송되면, 유기마스크는 이탈되어 되돌아가고, 메탈마스크가 얼라인 된다. 메탈박막증착이 완료되면, 메탈마스크가 이탈되고, 기판은 로봇에의해 언로딩챔버의 카세트에 적재되고, 트레이는 되돌아 가게되는 것이다. 이렇게 하여, 연속적으로 대면적의 OLED 소자를 인라인으로 양산화하게 되는 것이다. 메탈증착챔버내에는 하향식 포인트증발원이 정열되거나, 하향식 선형 증발원이 설치되어 하향식 금속(Al, Ag등)박막의 증착공정이 이루어진다. 특히, 기존의 상향식 인라인 장비와는 다르게, 기판의 인버전기능이 없고, 기판의 처짐이 없어, 기판척 및 디척하는 기능이 없으므로, 생산성이 매우 향상되는 효과를 가지게 된다. 특히, 트레이인 챔버로부터, 트레이 아웃챔버까지 기판트레이가 이송시, 롤러에 지지되는 트레이의 지지핀으로부터 발생되는 미미한 파티클은 분리벽과 디퍼런셜펌핑에 의해 펌핑되므로, 파티클이 기판상에 접근되는 것이 방지되므로 파티클 오염이 방지된 유기박막 양산장비가 완성되는 것이다.
In the substrate loading and unloading chambers, a substrate cassette is installed for loading a plurality of substrates, and the vacuum robot installed in the TM chamber transfers the substrate to a neighboring process chamber by up-down motion. A tray is placed in the tray-in chamber, the substrate is placed above the tray, and transported by the transport roller to the organic mask chamber. The organic mask is pinned and placed over the tray, and is aligned with the substrate. That is, the mask, the substrate, and the tray are linearly transported, and the organic material ejected from the top-down linear evaporation source arranged in a line in the linear deposition chamber is deposited to continuously form the organic thin film of the multilayer. When the organic deposition is completed and transferred to the organic mask out chamber, the organic mask is detached and returned, and the metal mask is aligned. When the metal thin film deposition is completed, the metal mask is released, the substrate is loaded on the cassette of the unloading chamber by the robot, and the tray is returned. In this way, large-area OLED elements are mass-produced in-line continuously. In the metal deposition chamber, a top-down point evaporation source is arranged or a top-down linear evaporation source is installed to deposit a thin film of a top-down metal (Al, Ag, etc.). In particular, unlike the conventional bottom-up type inline equipment, there is no inversion function of the substrate, there is no sagging of the substrate, no substrate chucking function, and thus the productivity is greatly improved. Particularly, when the substrate tray is transferred from the tray-in chamber to the tray-out chamber, fine particles generated from the support pins of the tray supported by the roller are pumped by the separation wall and differential pumping so that the particles are prevented from approaching the substrate And thus the organic thin film mass production equipment in which particle contamination is prevented is completed.
도10에는 하향식 선형 증발원(11) 하부에 일정거리의 높이에 파인마스크(183)가 설치되는 구조를 나타내고 있다. 파인마스크는 파인홀(fine hole)(185)의 배열을 길이 방향으로 형성되며, 파인 마스크 프레임(184)에 고정되어 있으며, 도 11에 나타내었다. 파인마스크 프레임은 파인마스크 얼라이너(180,181)와 마스크홀더(182)에 의해 챔버에 달려서 고정되어 있으며, 기판과 미세얼라인이 가능하도록 구성된다. 기판을 이송하는 기판트레이가 하향식 선형 증발원 하부를 선형이송하면, 파인홀을 관통하는 유기물 기체가 기판상에 스트립(strip)형의 패턴된 박막이 형성되어 화소패턴을 비로소 형성하게 되는 것이다. 또한, 대형의 마스크를 제작하지 않아도 되므로, 마스크의 처짐이 발생하지 않아 마스크 척이 필요없게 된다. 파인마스크와 기판사이의 거리를 매우 적게 (예, 10 ~ 20um) 유지하여 미세한 폭을 가지는 스트립 패턴을 형성하게 되어, 풀칼라(full color)의 유기박막의 제조가 가능하게 된다.
10 shows a structure in which a
1: 기판 2: 프레임 마스크
3: 상향식 증발원
10: 증착챔버 11:하향식 선형 증발원
12: 마스크얼라이너 13: 마스크 홀딩바
14: 마스크 프레임 15: 마스크
16: 기판 17: 트레이
18: 증발원 셔터
20: 트레이 지지핀 21: 롤러
22: 분리벽 23: 펌핑 포트
24: 증발원 셔터 25: 고정형 증착가림부
26: 기판셔터
30: 듀얼 증착챔버 31:하향식 선형 증발원
32: 트레이1 33: 트레이2
34: 중앙 분리벽 35: 기판1
36: 기판2 37: 증발원 이송 장치
38: 이송롤러 39: 이송롤러
50: 증착챔버 51: 하향식 선형 증발원
52: 기판트레이 53: 기판
54: 마스크 55: separator wall
56: 트레이 지지면
100: 기판로딩챔버 101: OLED 듀얼증착챔버1
102: OLED 듀얼증착챔버2 103: OLED 듀얼증착챔버3
104: 케소드 금속 듀얼증착챔버 105: 플라즈마 전처리 챔버
106: 언로딩 챔버 107: 기판1
108: 기판2 109: 하향식 선형 증발원
110: 7각형 로봇 챔버 111: Arm Robot
112: 회전 테이블1 113: 회전 테이블2
120: 로딩 챔버 121 플라즈마 전처리 챔버
122: HIL/HTL 듀얼증착챔버 123: EML 듀얼증착챔버
124: ETL 듀얼증착챔버 125: EIL/Al 듀얼증착챔버
126: 언로딩 챔버 127: 로봇 이송 장치
128: 암 로봇 129: 로봇 챔버
130: 기판로딩챔버 131:TM챔버
132: 플라즈마 전처리챔버 133: TM챔버
134: 선형증착챔버 135:TM챔버
136: 메탈증착챔버 137: TM챔버
138: 기판 언로딩챔버 139: 하향식 포인트 소스챔버
140: 마스크 홀더 141: 하향식 선형 증발원
142: 리턴챔버 143: 기판 회전 테이블
150: 기판 로딩 챔버 151:TM 챔버
152: 트레이인챔버 153: 유기마스크인챔버
154: 선형증착챔버 155: 유기마스크아웃챔버
156: 메탈마스크인챔버 157: 메탈증착챔버
158: 메탈마스크아웃챔버 159: 트레이아웃챔버
160: TM 챔버 161: 기판언로딩챔버
162: 유기마스크 리턴 챔버 163: 메탈 마스크 리턴 챔버
164: 트레이 리턴 챔버
180: 파인마스크 얼라이너 181: 파인마스크 얼라이너
182: 마스크홀더 183: 파인마스크
184: 파인 마스크 프레임 185: 파인홀(fine hole)1: substrate 2: frame mask
3: bottom-up evaporative source
10: deposition chamber 11: top-down linear evaporation source
12: mask aligner 13: mask holding bar
14: mask frame 15: mask
16: substrate 17: tray
18: evaporation source shutter
20: tray support pin 21: roller
22: separating wall 23: pumping port
24: evaporation source shutter 25: fixed deposition evaporation portion
26: Substrate shutter
30: dual deposition chamber 31: top down linear evaporation source
32: Tray 1 33:
34: central separating wall 35: substrate 1
36:
38: Feed roller 39: Feed roller
50: deposition chamber 51: top-down linear evaporation source
52: substrate tray 53: substrate
54: mask 55: separator wall
56: tray supporting surface
100: substrate loading chamber 101: OLED dual deposition chamber 1
102: OLED
104: cathodal metal dual deposition chamber 105: plasma pretreatment chamber
106: unloading chamber 107: substrate 1
108:
110: 7 rectangular robot chamber 111: Arm Robot
112: rotary table 1 113: rotary table 2
120:
122: HIL / HTL dual deposition chamber 123: EML dual deposition chamber
124: ETL dual deposition chamber 125: EIL / Al dual deposition chamber
126: Unloading chamber 127: Robot transfer device
128: Arm robot 129: Robot chamber
130: substrate loading chamber 131: TM chamber
132: plasma pretreatment chamber 133: TM chamber
134: Linear deposition chamber 135: TM chamber
136: metal deposition chamber 137: TM chamber
138: Substrate unloading chamber 139: Top-down point source chamber
140: mask holder 141: top-down linear evaporator source
142: return chamber 143: substrate rotating table
150: substrate loading chamber 151: TM chamber
152: Tray-in chamber 153: chamber which is organic mask
154: Linear deposition chamber 155: Organic mask out chamber
156: chamber which is a metal mask 157: metal deposition chamber
158: metal mask out chamber 159: trap layout chamber
160: TM chamber 161: substrate unloading chamber
162: organic mask return chamber 163: metal mask return chamber
164: tray return chamber
180: Fine mask aligner 181: Fine mask aligner
182: mask holder 183: fine mask
184: Fine mask frame 185: Fine hole
Claims (29)
There is a tray in which two or more mask aligners are attached to the upper part of the high vacuum deposition chamber, a mask holding bar is connected thereto, and mask grooves and substrate grooves are formed. A support pin is attached to the lower part of the tray, A large-area OLED top-down evaporator
The large-area OLED top-down evaporator of claim 1, wherein a plurality of transport roller devices are arranged
The large-area OLED top-down evaporator according to claim 1, wherein a frame mask and a substrate are placed on top of the tray,
The large-area OLED top-down evaporator according to claim 1, wherein the rotating rollers are formed at a predetermined distance on the rotating shaft
The large-area OLED top-down evaporator according to claim 1, wherein the top-down linear evaporation source is fixed to an upper portion of the chamber, and a plurality of tray supporting pins are formed in a lower portion of the chamber,
[6] The large-area OLED top-down evaporator according to claim 5, wherein at least two support pins are attached to a lower portion of the substrate tray
6. The large-area OLED top-down evaporator of claim 5, wherein the support pins of the substrate tray are supported on the upper surface of the roller.
[6] The large-area OLED top-down evaporator according to claim 5, wherein a pumping port is formed in the chamber at a lower portion with respect to the partition wall,
The large-area OLED top-down method according to claim 5, characterized in that a plurality of top-down linear evaporation sources are mounted on top of the chamber in a row with a separator wall interposed therebetween, and a substrate tray carrying the substrate and the mask is linearly transferred, Evaporator
Characterized in that a top-down evaporation source transfer device is formed on top of the high vacuum chamber, two substrates are stackable and two substrate trays are formed with a central partition wall therebetween.
A dual cathode metallization chamber, a plasma pretreatment chamber, a loading chamber, and an unloading chamber are clustered with a polygonal vacuum robot chamber at the center,
Characterized in that the dual helium, plasma pretreatment chamber, cathodic metal deposition, loading chamber, unloading chambers are linearly connected to a robotic chamber of a rectangular parallelepiped structure.
대면적 OLED 하향식 증착기
The robot according to claim 12, characterized in that the arm robot is placed on the robot transfer device
Large area OLED top-down evaporator
The large-area OLED top-down evaporator according to claim 1, wherein an evaporation source shutter, a fixed evaporation closure, and a substrate shutter are formed under the top-down evaporation source, and the evaporation source shutter and the substrate shutter can be moved right-
A substrate loading chamber, a TM chamber, a pretreatment chamber, a TM chamber, a linear deposition chamber, a TM chamber, a metal deposition chamber, a TM chamber and an unloading chamber are connected in series and a return chamber is connected to the linear deposition chamber Large-area OLED top-down evaporator
16. The large-area OLED top-down evaporator according to claim 15, wherein the return chamber functions to return the tray and the mask.
16. The large-area OLED top-down evaporator of claim 15, wherein the return chamber serves to clean trays and masks.
16. The large-area OLED top-down evaporator of claim 15, wherein at least two top-point source chambers are formed in the upper portion of the metal deposition chamber, and a substrate rotation table is formed in the lower portion of the metal deposition chamber.
A substrate loading chamber, a TM chamber, a tray chamber, an organic mask chamber, a linear deposition chamber, an organic mask out chamber, a metal mask chamber, a metal deposition chamber, a metal mask out chamber, a trap layout chamber, a TM chamber, Wherein a tray return chamber is connected to the chamber which is a tray, an organic mask return chamber is connected to the chamber which is an organic mask, and a metal mask return chamber is connected to the chamber which is a metal mask OLED Inline top-down evaporator
21. The large-area OLED inline top-down evaporator of claim 19, wherein a substrate cassette is mounted within the substrate loading and unloading chamber to effect up-down motion.
21. The large-area OLED inline top-down evaporator of claim 19, wherein the substrate tray is mounted in the tray in /
The large-area OLED in-line down-type evaporator according to claim 19, wherein an open mask for forming an organic thin film is mounted on the organic mask in /
The large-area OLED inline top-down type evaporator according to claim 19, characterized in that an open mask for forming a metal thin film is mounted on the metal mask in /
The large-area OLED inline top-down evaporator according to claim 19, wherein a plurality of linear and point evaporation sources for forming a top-down metal thin film are mounted in the metal deposition chamber
The large-area OLED inline top-down type evaporator according to claim 19, wherein the TM chamber is mounted with a robot arm for vacuum
21. The method of claim 19, wherein an electromagnetic coil device and a tray guide device are mounted in the tray in / out chamber, the organic mask in / out chamber, the linear deposition chamber, the metal mast in / Is transferred in a linear motion. The large-area OLED in-line top-down evaporator
A large-area OLED inline top-down type evaporator characterized in that fine mask aligners and mask holders are arranged below the top-down linear evaporation source to position the mask in the longitudinal direction of the evaporation source and the fine mask and the substrate are micro-
27. The large-area OLED inline top-down evaporator of claim 26, wherein the fine mask is fixed to the frame with a fine mask having an array of a plurality of fine holes and the arrangement of the fine holes is arranged in the longitudinal direction of the down-
27. The large-area OLED inline top-down type evaporator according to claim 26, wherein the strip-like organic pattern thin film is formed on the substrate by linearly transferring the substrate tray at a predetermined distance below the fine mask,
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020130067762A KR20140145383A (en) | 2013-06-13 | 2013-06-13 | Inline Type OLED Face Up Evaporator for large size OLED |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020130067762A KR20140145383A (en) | 2013-06-13 | 2013-06-13 | Inline Type OLED Face Up Evaporator for large size OLED |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20140145383A true KR20140145383A (en) | 2014-12-23 |
Family
ID=52675187
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020130067762A KR20140145383A (en) | 2013-06-13 | 2013-06-13 | Inline Type OLED Face Up Evaporator for large size OLED |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20140145383A (en) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20170016051A (en) * | 2015-08-03 | 2017-02-13 | 주식회사 야스 | In-line depositon system of substrate continuous transportation with shuttle |
KR20170059333A (en) * | 2015-11-20 | 2017-05-30 | 황창훈 | Plane evaporation source and plane source evaporator deposition equipments for OLED device production |
CN107587104A (en) * | 2016-07-08 | 2018-01-16 | 佳能特机株式会社 | Vacuum film formation apparatus |
WO2018186634A1 (en) * | 2017-04-02 | 2018-10-11 | 주식회사 올레드온 | Mass production equipment of high resolution amoled devices using plane type evaporation source |
CN109075267A (en) * | 2017-04-02 | 2018-12-21 | 株式会社Oledon | Utilize the volume production equipment of the high resolution A MOLED element of face evaporation source |
CN109182976A (en) * | 2018-10-23 | 2019-01-11 | 黄建宁 | A kind of deposition system and corresponding vapor deposition and mask plate cleaning method |
KR20200010707A (en) * | 2018-07-20 | 2020-01-31 | 삼성디스플레이 주식회사 | Apparatus and method for manufacturing a display apparatus |
CN114574817A (en) * | 2022-01-18 | 2022-06-03 | 合肥莱德装备技术有限公司 | Downward evaporation system and device |
-
2013
- 2013-06-13 KR KR1020130067762A patent/KR20140145383A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20170016051A (en) * | 2015-08-03 | 2017-02-13 | 주식회사 야스 | In-line depositon system of substrate continuous transportation with shuttle |
KR20170059333A (en) * | 2015-11-20 | 2017-05-30 | 황창훈 | Plane evaporation source and plane source evaporator deposition equipments for OLED device production |
CN107587104A (en) * | 2016-07-08 | 2018-01-16 | 佳能特机株式会社 | Vacuum film formation apparatus |
CN107587104B (en) * | 2016-07-08 | 2020-05-05 | 佳能特机株式会社 | Vacuum film forming apparatus |
WO2018186634A1 (en) * | 2017-04-02 | 2018-10-11 | 주식회사 올레드온 | Mass production equipment of high resolution amoled devices using plane type evaporation source |
CN109075267A (en) * | 2017-04-02 | 2018-12-21 | 株式会社Oledon | Utilize the volume production equipment of the high resolution A MOLED element of face evaporation source |
JP2019518131A (en) * | 2017-04-02 | 2019-06-27 | オーレッドオン シーオー.,エルティーディー. | Mass production equipment for high resolution AMOLED devices using evaporation sources |
KR20200010707A (en) * | 2018-07-20 | 2020-01-31 | 삼성디스플레이 주식회사 | Apparatus and method for manufacturing a display apparatus |
CN109182976A (en) * | 2018-10-23 | 2019-01-11 | 黄建宁 | A kind of deposition system and corresponding vapor deposition and mask plate cleaning method |
CN109182976B (en) * | 2018-10-23 | 2024-05-07 | 安徽微迈思科技有限公司 | Evaporation system and corresponding evaporation and mask plate cleaning method |
CN114574817A (en) * | 2022-01-18 | 2022-06-03 | 合肥莱德装备技术有限公司 | Downward evaporation system and device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20140145383A (en) | Inline Type OLED Face Up Evaporator for large size OLED | |
US9306191B2 (en) | Organic light-emitting display apparatus and method of manufacturing the same | |
JP6741594B2 (en) | System for depositing one or more layers on a substrate supported by a carrier, and methods of using the system | |
KR101191691B1 (en) | Organic thin film deposition device, organic el element manufacturing device, and organic thin film deposition method | |
EP2290118B1 (en) | Thin film deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus using the same | |
US9246135B2 (en) | Organic layer deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display apparatus using the same, and organic light-emitting display apparatus manufactured using the method | |
KR101826068B1 (en) | Apparatus for thin layer deposition | |
JP5686185B2 (en) | Thin film deposition equipment | |
JP5356627B2 (en) | Vapor deposition particle injection apparatus and vapor deposition apparatus | |
KR20120131545A (en) | Apparatus for organic layer deposition and method for manufacturing of organic light emitting display apparatus using the same | |
TW201307591A (en) | Deposition source assembly, organic layer deposition apparatus, and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus by using the organic layer deposition apparatus | |
KR20120039944A (en) | Depositing system for substrate and dspoiting method for the same | |
US20170250379A1 (en) | Evaporation source having multiple source ejection directions | |
KR20070038640A (en) | Thermal induced sublimation technology with downward evaporation for large-sized oled manufacturing | |
US8962360B2 (en) | Organic layer deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the organic layer deposition apparatus | |
JP4781835B2 (en) | Deposition equipment | |
KR20130008779A (en) | In-line deposition system with mask shuttle loop | |
KR102260368B1 (en) | Vacuum processing system and method of operation of vacuum processing system | |
KR20140038844A (en) | Top down linear type evaporation source and downward evaporator for manufacturing the super large size oled thin film | |
KR20140146450A (en) | Apparatus for organic layer deposition, and method for manufacturing of organic light emitting display apparatus using the same | |
US9136476B2 (en) | Method of manufacturing organic light-emitting display apparatus, and organic light-emitting display apparatus manufactured by the method | |
US20140329349A1 (en) | Organic layer deposition apparatus, and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus by using the same | |
KR20140133105A (en) | Evaporation source transferring apparatus and fine accuracy aligning apparatus of substrate and shadow mask used in downward type OLED evaporator | |
KR20140084527A (en) | Apparatus and method for transferring substrate | |
KR102444830B1 (en) | Methods for handling masks in a vacuum system and vacuum system |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
N231 | Notification of change of applicant | ||
WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid |