KR20140138420A - Laser Edge Healing Apparatus for Substrate - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 레이저를 이용한 기판 에지 힐링 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는 상부 패널의 상단 에지 라인과 하부 패널의 하단 에지 라인을 따라 레이저 빔을 조사하여 복합 패널의 외곽 에지 부위를 그라인더를 사용하지 않고 레이저 빔을 이용하여 면취 가공함으로써, 면취 가공의 정확성을 향상하고 면취 가공면의 상태를 매끈하게 하며, 복합 기판의 강도 및 품질을 향상하고 공정 작업을 단순화할 수 있으며, 상부 패널에 대한 상단 에지 라인의 면취 가공시 공구 간섭이 발생하지 않아 전체 에지 라인에 대해 정확하고 균일한 면취 가공을 할 수 있는 레이저를 이용한 기판 에지 힐링 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a substrate edgehearing apparatus using a laser. More particularly, the laser beam is irradiated along the upper edge line of the upper panel and the lower edge line of the lower panel to chamfer the outer edge of the composite panel using a laser beam without using a grinder, It is possible to improve the strength and quality of the composite substrate and to simplify the process operation and to prevent the occurrence of tool interference during chamfering of the upper edge line to the upper panel, And more particularly, to a substrate edge healing apparatus using a laser capable of accurately and uniformly chamfering a substrate edge.
최근 핸드폰(Mobile Phone), PDA, 컴퓨터, 대형 TV와 같은 각종 전자기기가 발전함에 따라 이에 적용할 수 있는 평면 디스플레이 장치에 대한 요구가 점차 증대되고 있다.2. Description of the Related Art Recently, various electronic devices such as a mobile phone, a PDA, a computer, and a large-sized TV have been developed.
이러한 평면 디스플레이 장치는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), FED(Field Emission Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display), OLED(Organic Light Emitting Diodes) 등이 활발히 연구되고 있지만, 양산화 기술, 구동수단의 용이성, 고화질의 구현이라는 이유로 인해 현재 액정표시장치(LCD)가 가장 널리 사용되고 있으나, 최근에는 기술력의 발달로 인해 다양한 장치의 활용이 더욱 증가되고 있는 추세이다.Such a flat display device has been actively studied for a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), a field emission display (FED), a vacuum fluorescent display (VFD), and an organic light emitting diode (OLED) Liquid crystal displays (LCDs) have been widely used for reasons of ease of driving means and high image quality. However, recently, due to the development of technology, various devices are being used more and more.
이러한 평면 디스플레이 장치 등에 사용되는 기판은 일반적으로 각종 소자 등이 실장되는 하부 패널과, 이러한 하부 패널의 상부에 별도의 상부 패널이 결합되는 복합 기판의 형태로 구성된다. 복합 기판은 상부 패널보다 하부 패널이 그 크기가 더 크게 형성되어 하부 패널이 상부 패널의 일측면에 돌출되는 형태로 구성되며, 이와 같이 돌출된 하부 패널의 일측에 외부 기기와의 전기적 접속을 위한 별도의 연결 단자가 배치된다.The substrate used for such a flat panel display device is generally configured in the form of a lower panel on which various devices and the like are mounted and a composite substrate on which an upper panel is coupled to the upper panel. The composite panel is configured such that the lower panel is larger in size than the upper panel, so that the lower panel protrudes from one side of the upper panel, and a separate part for electrical connection with an external device is formed on one side of the protruded lower panel. Are disposed.
이와 같은 복합 기판은 일반적으로 강화 유리 재질로 제작되어 그 강도가 증가되도록 구성되는데, 그럼에도 불구하고 복합 기판의 절단 과정에서 휠(wheel)에 의한 기계적 커팅 공정으로 인해 가공면에서 미세 크랙 등이 발생하여 그 강도가 떨어지는 문제가 있었다. 특히, 이러한 미세 크랙 등은 복합 기판의 에지 라인을 따라 주로 발생하게 되는데, 이를 방지하기 위해 최근에는 복합 기판의 에지 라인 부위를 면취 가공하는 작업 등이 수행되고 있다.Such a composite substrate is generally made of tempered glass to increase its strength. Nevertheless, in the course of cutting a composite substrate, microcracks or the like are generated on a machined surface due to a mechanical cutting process by a wheel There was a problem that the strength dropped. Particularly, these micro cracks are mainly generated along the edge line of the composite substrate. In order to prevent this, recently, the edge line portion of the composite substrate is chamfered.
이러한 에지 라인의 면취 가공 작업은 일반적으로 그라인더를 이용하여 에지 라인을 그라이딩하는 방식으로 진행되고 있는데, 이러한 그라인딩 방식의 면취 작업은 작업 부위에 수분이 공급되어야 하는 WET 공정으로 진행될 뿐만 아니라 마모에 따른 주기적인 그라인더 교체 작업 등 그 작업이 복잡하여 생산성이 저하되는 등의 문제가 있었다.The chamfering of such an edge line is generally carried out by grinding the edge line using a grinder. Such a chamfering operation of the grinding method not only proceeds to a WET process in which moisture is supplied to a work site, There is a problem that productivity is deteriorated due to complicated work such as periodical grinder replacement work.
특히, 상부 패널의 상단 에지 라인을 면취 가공하는 과정에서 상부 패널로부터 돌출되는 하부 패널과 그라인더와의 간섭이 발생하여 상부 패널에 대한 상단 에지 라인을 전체적으로 정확하게 면취 가공할 수 없으며, 이 경우 해당 부위에 대한 강도가 현저히 저하되는 문제가 있었다.
Particularly, in the process of chamfering the upper edge line of the upper panel, interference occurs between the lower panel protruding from the upper panel and the grinder, so that the upper edge line of the upper panel can not be chamfered accurately. There has been a problem in that the strength is remarkably deteriorated.
본 발명은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 발명한 것으로서, 본 발명의 목적은 상부 패널의 상단 에지 라인과 하부 패널의 하단 에지 라인을 따라 레이저 빔을 조사하여 복합 패널의 외곽 에지 부위를 그라인더를 사용하지 않고 레이저 빔을 이용하여 면취 가공함으로써, 면취 가공의 정확성을 향상하고 면취 가공면의 상태를 매끈하게 하며, 복합 기판의 강도 및 품질을 향상하고 공정 작업을 단순화할 수 있는 레이저를 이용한 기판 에지 힐링 장치를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the problems of the prior art, and it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a composite panel by irradiating a laser beam along an upper edge line of an upper panel and a lower edge line of a lower panel, By using a laser beam to perform chamfering without using a laser beam, it is possible to improve the accuracy of the chamfering process, to smooth the state of the chamfered surface, to improve the strength and quality of the composite substrate, Device.
본 발명의 다른 목적은 별도의 그라인더를 사용하지 않고 레이저 빔을 이용하여 복합 기판에 대한 에지 라인을 면취 가공하도록 함으로써, 상부 패널에 대한 상단 에지 라인의 면취 가공시 공구 간섭이 발생하지 않아 전체 에지 라인에 대해 정확하고 균일한 면취 가공을 할 수 있는 레이저를 이용한 기판 에지 힐링 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to chamfer the edge line of the composite substrate using a laser beam without using a separate grinder, so that no tool interference occurs during chamfering of the upper edge line to the upper panel, Which can accurately and uniformly perform chamfering with respect to the substrate edge healing apparatus using a laser.
본 발명의 또 다른 목적은 복합 기판의 상하 배치 상태를 역전시킬 수 있는 리버스 유닛을 구비함으로써, 하나의 레이저 유닛과 리버스 유닛을 통해 상단 에지 라인 및 하단 에지 라인을 모두 면취 가공할 수 있고 더욱 신속하고 간편하게 면취 가공 작업을 수행할 수 있는 레이저를 이용한 기판 에지 힐링 장치를 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide a reverse unit capable of reversing the vertical alignment state of the composite substrate so that both the upper edge line and the lower edge line can be chamfered through one laser unit and the reverse unit, And to provide a substrate edgehearing apparatus using a laser capable of easily performing a chamfering operation.
본 발명의 또 다른 목적은 레이저 유닛을 고정시킨 상태로 챔퍼링 라인을 따라 레이저 빔을 조사할 수 있도록 함으로써, 더욱 신속한 공정이 가능하며 장치 전체의 구성을 단순화하고 소형화할 수 있는 레이저를 이용한 기판 에지 힐링 장치를 제공하는 것이다.
It is still another object of the present invention to provide a laser processing method and apparatus that can irradiate a laser beam along a chamfering line while fixing a laser unit, Thereby providing a healing apparatus.
본 발명은, 상부 패널과 하부 패널로 이루어진 복합 기판의 외곽 에지 부위를 면취 가공하는 기판 에지 힐링 장치에 있어서, 360°를 분할 회전하는 인덱스 테이블; 상기 인덱스 테이블의 정위치에 복합 기판을 안착시키는 로딩 유닛; 상기 로딩 유닛을 통해 상기 인덱스 테이블에 안착된 복합 기판의 위치를 검사하는 얼라인 유닛; 상기 상부 패널의 상단 에지 라인을 따라 레이저 빔을 조사하여 상단 에지를 면취 가공하는 1차 힐링 작업과 상기 하부 패널의 하단 에지 라인을 따라 레이저 빔을 조사하여 하단 에지를 면취 가공하는 2차 힐링 작업을 수행하는 레이저 유닛; 상기 인덱스 테이블에 안착된 복합 기판의 배치 상태가 상하 역전되도록 상기 복합 기판의 상하 배치 상태를 변경시키는 리버스 유닛; 및 상기 레이저 유닛에 의해 외곽 에지 부위가 면취 가공된 복합 기판을 상기 인덱스 테이블로부터 배출하는 언로딩 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 기판 에지 힐링 장치를 제공한다.The present invention relates to a substrate edge heeling apparatus for chamfering the edge of an outer edge of a composite substrate composed of an upper panel and a lower panel, comprising: an index table for rotating 360 degrees; A loading unit that seats the composite substrate at a predetermined position of the index table; An aligning unit for inspecting the position of the composite substrate placed on the index table through the loading unit; A first healing operation for chamfering an upper edge by irradiating a laser beam along an upper edge line of the upper panel and a second healing operation for chamfering a lower edge by irradiating a laser beam along a lower edge line of the lower panel A laser unit to be operated; A reverse unit for changing the vertical arrangement state of the composite substrate so that the arrangement state of the composite substrate seated on the index table is reversed; And an unloading unit for ejecting the composite substrate having chamfered edges formed by the laser unit from the index table.
이때, 상기 복합 기판은 상기 레이저 유닛에 의해 1차 힐링 작업이 완료된 상태에서 상기 인덱스 테이블과 함께 회전한 후 상기 리버스 유닛에 의해 상하 배치 상태가 역전되고, 이후 상기 인덱스 테이블과 함께 회전하여 다시 상기 레이저 유닛에 의해 2차 힐링 작업되도록 구성될 수 있다.At this time, the composite substrate is rotated together with the index table in the state where the primary healing operation is completed by the laser unit, and then the vertical arrangement state is reversed by the reverse unit. Then, the composite substrate is rotated together with the index table, May be configured to be a secondary healing operation by the unit.
또한, 상기 리버스 유닛은 상기 인덱스 테이블의 하부에 위치하여 상기 복합 기판을 상기 인덱스 테이블로부터 상하 이송시키는 리프트 모듈; 및 상기 리프트 모듈에 의해 상승된 복합 기판을 상하 회전시켜 상하 배치 상태를 역전시키는 반전 모듈을 포함하여 구성될 수 있다.In addition, the reverse unit may include a lift module positioned below the index table and transferring the composite substrate upward and downward from the index table; And a reversing module for rotating the composite substrate raised by the lift module up and down to reverse the vertical arrangement state.
이때, 상기 리프트 모듈은 상기 복합 기판의 하면을 지지하며 상기 복합 기판을 상하 이송시킬 수 있도록 상기 인덱스 테이블의 하부에서 상기 인덱스 테이블을 관통하며 상하 이동하는 리프트 핀; 상기 리프트 핀에 결합되어 상기 리프트 핀을 상하 이동시키는 리프트 구동부를 포함하여 구성될 수 있다.The lift module supports the lower surface of the composite substrate and moves up and down through the index table at a lower portion of the index table to vertically transfer the composite substrate. And a lift driver coupled to the lift pins to move the lift pins up and down.
또한, 상기 반전 모듈은 상기 리프트 핀에 의해 상향 이송된 복합 기판을 파지할 수 있는 리버스 포크; 상기 리버스 포크에 의해 파지된 복합 기판의 상하 배치 상태가 역전되도록 상기 리버스 포크를 회전시키는 회전 구동부; 상기 리버스 포크를 수평 방향으로 직선 이동시키는 수평 이송 구동부; 및 상기 리버스 포크를 수직 방향으로 직선 이동시키는 수직 이송 구동부를 포함하여 구성될 수 있다.The reversing module may further include: a reverse fork capable of gripping the composite substrate transported upward by the lift pins; A rotation driving unit for rotating the reverse fork so that the composite substrate held by the reverse fork is reversed in a vertical direction; A horizontal feed drive unit for linearly moving the reverse fork in a horizontal direction; And a vertical feed driving unit for linearly moving the reverse fork in a vertical direction.
또한, 상기 레이저 유닛은 레이저 빔의 초점이 상기 복합 패널의 상단 또는 하단 에지 라인에 위치하도록 포커싱하며 상기 복합 기판에 대해 수직 방향으로 레이저 빔을 조사하도록 구성될 수 있다.The laser unit may be configured to focus the laser beam so that the focal point of the laser beam is positioned at the upper or lower edge line of the composite panel and irradiate the laser beam in a direction perpendicular to the composite substrate.
이때, 상기 레이저 유닛은 레이저 빔을 발생시키는 레이저 발생기; 상기 레이저 발생기로부터 발생된 레이저 빔을 반사하여 상기 복합 패널의 상단 또는 하단 에지 라인을 따라 조사되도록 상기 레이저 빔의 진행 경로를 조절하는 갈바노미터; 및 상기 갈바노미터로부터 반사된 레이저 빔이 상기 복합 기판에 대해 수직 방향으로 조사되도록 레이저 빔을 포커싱하는 텔레센트릭 렌즈를 포함하여 구성될 수 있다.The laser unit may include a laser generator for generating a laser beam; A galvanometer for reflecting a laser beam generated from the laser generator and adjusting a path of the laser beam to be irradiated along an upper or lower edge line of the composite panel; And a telecentric lens for focusing the laser beam such that the laser beam reflected from the galvanometer is irradiated in a direction perpendicular to the composite substrate.
또한, 상기 로딩 유닛 및 언로딩 유닛은 진공압을 통해 복합 기판을 진공 압착 또는 압착 해제하는 방식으로 복합 기판을 부착 또는 부착 해제시키는 압착 패드; 상기 압착 패드를 상하 이동시키는 실린더 모듈; 및 상기 실린더 모듈을 수평 방향으로 직선 이동시키는 수평 이송 모듈을 포함하여 구성될 수 있다.The loading unit and the unloading unit may include a compression pad for attaching or detaching a composite substrate by vacuum pressing or squeezing the composite substrate through vacuum pressure; A cylinder module for vertically moving the pressing pad; And a horizontal transfer module for linearly moving the cylinder module in a horizontal direction.
한편, 상기 레이저 유닛에 의해 조사되는 레이저 빔은 초단파 레이저 빔으로 적용되고, 상기 초단파 레이저 빔은 파장: 200nm ~ 800nm, 펄스 폭: 100fs ~ 20ps, 주파수: 200kHz ~ 2000kHz 범위로 형성될 수 있다.
Meanwhile, the laser beam irradiated by the laser unit is applied as an ultra-violet laser beam, and the ultra-violet laser beam may have a wavelength of 200 nm to 800 nm, a pulse width of 100 fs to 20 ps, and a frequency of 200 kHz to 2000 kHz.
본 발명에 의하면, 상부 패널의 상단 에지 라인과 하부 패널의 하단 에지 라인을 따라 레이저 빔을 조사하여 복합 패널의 외곽 에지 부위를 그라인더를 사용하지 않고 레이저 빔을 이용하여 면취 가공함으로써, 면취 가공의 정확성을 향상하고 면취 가공면의 상태가 매끈하며, 복합 기판의 강도 및 품질을 향상하고 공정 작업을 단순화할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, a laser beam is irradiated along the upper edge line of the upper panel and the lower edge line of the lower panel to chamfer the edge of the outer edge of the composite panel using a laser beam without using a grinder, Thereby improving the strength and quality of the composite substrate and simplifying the process operation.
또한, 별도의 그라인더를 사용하지 않고 레이저 빔을 이용하여 복합 기판에 대한 에지 라인을 면취 가공하도록 함으로써, 상부 패널에 대한 상단 에지 라인의 면취 가공시 공구 간섭이 발생하지 않아 전체 에지 라인에 대해 정확하고 균일한 면취 가공을 할 수 있는 효과가 있다.Further, since the edge line of the composite substrate is chamfered by using a laser beam without using a separate grinder, tool interference does not occur during chamfering of the upper edge line to the upper panel, So that uniform chamfering can be performed.
또한, 복합 기판의 상하 배치 상태를 역전시킬 수 있는 리버스 유닛을 구비함으로써, 하나의 레이저 유닛과 리버스 유닛을 통해 상단 에지 라인 및 하단 에지 라인을 모두 면취 가공할 수 있고 더욱 신속하고 간편하게 면취 가공 작업을 수행할 수 있는 효과가 있다.Further, by providing the reverse unit capable of reversing the vertical arrangement state of the composite substrate, it is possible to chamfer both the upper edge line and the lower edge line through one laser unit and the reverse unit, and furthermore, There is an effect that can be performed.
또한, 레이저 유닛을 고정시킨 상태로 챔퍼링 라인을 따라 레이저 빔을 조사할 수 있도록 함으로써, 더욱 신속한 공정이 가능하며 장치 전체의 구성을 단순화하고 소형화할 수 있는 효과가 있다.
Further, by allowing the laser beam to be irradiated along the chamfering line in a state where the laser unit is fixed, it is possible to perform a more rapid process, and the structure of the entire device can be simplified and miniaturized.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 에지 힐링 장치의 구성을 개략적으로 도시한 개략도,
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 에지 힐링 장치를 이용한 에지 라인 면취 공정 순서를 개략적으로 도시한 공정도,
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 에지 힐링 장치의 공정 흐름을 인덱스 테이블을 중심으로 도시한 공정 흐름도,
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 에지 힐링 장치의 로딩 유닛 및 언로딩 유닛에 대한 구성을 개략적으로 도시한 도면,
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 에지 힐링 장치의 레이저 유닛에 대한 구성을 개략적으로 도시한 도면,
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 에지 힐링 장치의 리버스 유닛에 대한 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic view schematically illustrating the configuration of a substrate edgehearing apparatus according to an embodiment of the present invention;
FIG. 2 is a process diagram schematically showing an edge line chamfering process sequence using a substrate edgehearing apparatus according to an embodiment of the present invention; FIG.
FIG. 3 is a process flow chart showing the process flow of the substrate edgehearing apparatus according to one embodiment of the present invention,
FIG. 4 is a schematic view illustrating a configuration of a loading unit and an unloading unit of a substrate edgehearing apparatus according to an embodiment of the present invention; FIG.
5 is a schematic view illustrating a configuration of a laser unit of a substrate edgehearing apparatus according to an embodiment of the present invention;
6 is a view schematically showing a configuration of a reverse unit of a substrate edgehearing apparatus according to an embodiment of the present invention.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명한다. 우선 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the same reference numerals are used to designate the same or similar components throughout the drawings. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 에지 힐링 장치의 구성을 개략적으로 도시한 개략도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 에지 힐링 장치를 이용한 에지 라인 면취 공정 순서를 개략적으로 도시한 공정도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 에지 힐링 장치의 공정 흐름을 인덱스 테이블을 중심으로 도시한 공정 흐름도이다.FIG. 1 is a schematic view schematically showing the configuration of a substrate edge healing apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 schematically shows an edge line chamfering process sequence using a substrate edge hearing apparatus according to an embodiment of the present invention. And FIG. 3 is a process flow chart showing the process flow of the substrate edgehearing apparatus according to an embodiment of the present invention, centering on an index table.
먼저, 복합 기판(10)은 종래 기술에서 설명한 바와 같이 각종 평면 디스플레이 장치 등에 사용되는 기판이 적용될 수 있는데, 이러한 복합 기판(10)은 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 상부 패널(11)과 하부 패널(12)로 구성되며, 하부 패널(12)이 상부 패널(11)보다 더 크게 형성되어 상부 패널(11)로부터 돌출되는 형태로 구성된다. 하부 패널(12)의 돌출 부위에는 외부 기기와의 전기적 접속을 위한 별도의 연결 단자(13)가 장착된다.As shown in FIGS. 1 and 2, the
본 발명의 일 실시예에 따른 레이저를 이용한 기판 에지 힐링 장치는 상부 패널(11)의 상단 에지 라인(E1)과 하부 패널(12)의 하단 에지 라인(E2)에 레이저 빔(L)을 조사하여 복합 기판(10)의 외곽 에지 부위를 면취 가공하는 장치로서, 인덱스 테이블(100), 로딩 유닛(300a), 얼라인 유닛(200), 레이저 유닛(400), 리버스 유닛(800) 및 언로딩 유닛(300b)을 포함하여 구성된다.A substrate edge healing apparatus using a laser according to an embodiment of the present invention irradiates a laser beam L to the upper edge line E1 of the
인덱스 테이블(100)은 360°를 분할 회전하도록 구성되는데, 인덱스 테이블(100)의 상면에는 분할 회전 각도에 대응하도록 원주 방향을 따라 다수개의 기판 안착부(110)가 형성되며, 각각의 기판 안착부(110)에 복합 기판(10)이 공급 안착되도록 구성된다.The index table 100 is configured to rotate 360 degrees in a divided manner. On the upper surface of the index table 100, a plurality of
로딩 유닛(300a)은 별도의 공급부(미도시)로부터 복합 기판(10)을 공급받아 인덱스 테이블(100)의 기판 안착부(110)에 복합 기판(10)을 안착시키는 구성으로, 복합 기판(10)을 파지하여 인덱스 테이블(100)의 정위치에 복합 기판(10)을 이송시키는 다양한 방식으로 구성될 수 있다. The
얼라인 유닛(200)은 로딩 유닛(300a)을 통해 인덱스 테이블(100)에 안착된 복합 기판(10)이 정위치에 안착되었는지 복합 기판(10)의 위치를 검사하는 구성으로, 별도의 카메라(미도시)를 이용하여 복합 기판(10)의 위치 상태를 검사하는 방식으로 구성될 수 있다. 이러한 얼라인 유닛(200)은 다양한 크기의 복합 기판(10)에 대해 적용할 수 있도록 2개의 카메라를 직선 이동 가능하게 장착하고, 카메라의 촬영 각도를 조절하는 미러와, 조명을 위한 백라이트를 구비하는 방식으로 구성될 수 있다. 물론, 이러한 방식 이외에도 복합 기판(10)의 위치를 검사할 수 있는 다양한 방식으로 구성될 수 있는데, 예를 들면, 위치 고정된 4개의 카메라를 이용하여 복합 기판(10)에 대한 4개의 모서리 정보를 신속하게 얻을 수 있도록 하는 방식으로 구성될 수 있다.The
레이저 유닛(400)은 복합 기판(10)에 레이저 빔을 조사하여 외곽 에지 부위를 면취 가공하는 구성으로, 상부 패널(11)의 상단 에지 라인(E1)을 따라 레이저 빔(L)을 조사하여 상단 에지를 면취 가공하는 1차 힐링 작업과, 하부 패널(12)의 하단 에지 라인(E2)을 따라 레이저 빔(L)을 조사하여 하단 에지를 면취하는 2차 힐링 작업을 수행하도록 구성된다. 1차 힐링 작업과 2차 힐링 작업은 후술하는 리버스 유닛(800)에 의해 복합 기판(10)의 배치 상태가 반전되는 과정의 전후에 각각 순차적으로 진행되도록 동작 제어된다.The
한편, 이와 같은 레이저 유닛(400)에 의해 조사되는 레이저 빔은 본 발명의 일 실시예에 따라 초단파 레이저 빔이 적용되는 것이 바람직하다. 초단파 레이저는 물질에 열 영향을 최소화하고 물질을 순간적으로 절단할 수 있으며, 절단면이 매끄러운 고품질의 절단 가공이 가능한 장점이 있다. 이러한 초단파 레이저는 본 발명의 일 실시예에 따라 파장: 200nm ~ 800nm, 펄스 폭: 100fs ~ 20ps, 주파수: 200kHz ~ 2000kHz 범위를 이용하는 것이 바람직하다.Meanwhile, the laser beam irradiated by the
리버스 유닛(800)은 인덱스 테이블(100)의 기판 안착부(110)에 안착된 복합 기판(10)의 배치 상태가 상하 역전되도록 복합 기판(10)의 상하 배치 상태를 변경시키도록 구성된다.The
레이저 유닛(400)과 리버스 유닛(800)은 이와 같이 하나씩 구비되어 복합 기판(10)의 상단 에지 라인(E1) 및 하단 에지 라인(E2)을 모두 면취 가공할 수 있도록 구성된다.The
예를 들면, 도 2에 도시된 바와 같이 레이저 유닛(400)은 복합 기판(10)의 상부에 이격되게 위치하여 복합 기판(10)을 향해 하향 진행하는 레이저 빔(L)을 조사하도록 구성될 수 있는데, 이 상태에서 복합 기판(10)이 도 2의 (a)에 도시된 바와 같이 상부 패널(11)이 상부에 위치하고 하부 패널(12)이 하부에 위치한 기준 상태로 공급되면, 도 2의 (b)에 도시된 바와 같이 레이저 유닛(400)에 의해 상부 패널(11)의 상단 에지 라인(E1)이 면취 가공되며 1차 힐링 작업이 수행된다. 이때, 레이저 유닛(400)은 복합 기판(10)에 대해 수직한 방향으로 레이저 빔(L)을 조사하며, 상단 에지 라인(E1)을 따라 레이저 빔(L)이 조사되도록 동작 제어된다. 이후, 도 2의 (c)에 도시된 바와 같이 리버스 유닛(800)에 의해 복합 기판(10)의 배치 상태가 역전된다. 즉, 하부 패널(12)이 상부에 위치하고 상부 패널(11)이 하부에 위치하도록 상하 배치 상태가 180°역전된다. 이와 같이 복합 기판(10)의 배치 상태가 역전되면, 하부 패널(12)의 하단 에지 라인(E2)이 상단에 배치되게 되므로, 이 상태에서 도 2의 (d)에 도시된 바와 같이 레이저 유닛(400)에 의해 레이저 빔(L)이 조사되어 하부 패널(12)의 하단 에지 라인(E2)이 면취 가공되며 2차 힐링 작업이 수행된다. 이때, 레이저 유닛(400)은 복합 기판(10)에 대해 수직한 방향으로 레이저 빔(L)을 조사하며, 하단 에지 라인(E2)을 따라 레이저 빔(L)이 조사되도록 동작 제어된다. For example, as shown in FIG. 2, the
이와 같은 1차 힐링 작업 및 2차 힐링 작업은 인덱스 테이블(100)이 정지한 동안 모두 수행되도록 구성될 수도 있으나, 1차 힐링 작업 이후 복합 기판(10)이 인덱스 테이블(100)과 함께 1회전하여 다시 레이저 유닛(400)의 위치에 도달한 상태에서 2차 힐링 작업이 이루어지도록 구성되는 것이 공정의 신속함을 위해 바람직하다. 이 경우, 리버스 유닛(800)에 의한 복합 기판(10)의 반전 작업은 1차 힐링 작업 및 2차 힐링 작업 사이 구간에서 이루어지도록 구성된다. 즉, 레이저 유닛(400)에 의한 1차 힐링 작업 이후 복합 기판(10)이 인덱스 테이블(100)과 함께 회전한 후 리버스 유닛(800)에 의해 배치 상태가 반전되고, 다시 인덱스 테이블(100)과 함께 회전한 후 레이저 유닛(400)에 의해 2차 힐링 작업되도록 구성된다.The primary healing operation and the secondary healing operation may be performed while the index table 100 is stopped. However, after the primary healing operation, the
따라서, 복합 기판(10)은 레이저 유닛(400)에 의해 상단 에지 라인(E1)이 면취 가공되는 1차 힐링 작업이 완료된 상태에서 인덱스 테이블(100)과 함께 회전한 후 리버스 유닛(800)에 의해 상하 배치 상태가 역전되고, 이후 인덱스 테이블(100)과 함께 회전하여 다시 레이저 유닛(400)에 의해 하단 에지 라인(E2)이 면취 가공되는 2차 힐링 작업이 완료되도록 구성된다.The
언로딩 유닛(300b)은 레이저 유닛(400)에 의해 상부 패널(11)의 상단 에지 라인(E1)과 하부 패널(12)의 하단 에지 라인(E2)이 면취 가공된 상태의 복합 기판(10)을 인덱스 테이블(100)로부터 배출하도록 구성된다. 이러한 언로딩 유닛(300b)은 인덱스 테이블(100)에 안착된 복합 기판(10)을 파지하여 인덱스 테이블(100)의 외부에 위치한 별도의 배출부(미도시)로 이송시키는 다양한 방식으로 구성될 수 있으며, 이는 전술한 로딩 유닛(300a)과 대응되는 동일한 방식으로 구성될 수 있다.The
도 3에는 이러한 복합 기판(10)에 대한 에지 힐링 작업의 공정도가 도시되는데, 도 3에 도시된 바와 같이 인데스 테이블(100)에는 각각 45°간격으로 8개의 기판 안착부(110)가 형성되고, 로딩 유닛(300a)은 이러한 인덱스 테이블(100)에 90°간격으로 각각 새로운 복합 기판(10)을 공급 안착시키도록 구성될 수 있다.FIG. 3 shows a process chart of an edge healing operation for the
이와 같이 공급되는 복합 기판(10)은 인덱스 테이블(100)을 따라 90°회전한 상태에서 얼라인 유닛(200)에 의해 안착 위치가 검사되고, 이후 다시 90°회전한 상태에서 레이저 유닛(400)에 의해 상단 에지 라인(E1)이 면취 가공되는 1차 힐링 작업이 수행된다. 이후, 다시 135°회전하여 리버스 유닛(800)에 의해 복합 기판(10)의 배치 상태가 상하 역전된다. 이때, 리버스 유닛(800)에 의한 복합 기판(10)의 배치 상태 반전 작업 중에 인덱스 테이블(100)이 45°더 회전하도록 구성되어 복합 기판(10)이 인덱스 테이블(100)의 후순위 기판 안착부(110)에 안착되도록 구성될 수 있다. 이 상태에서 다시 135°회전하여 얼라인 유닛(200)에 의해 반전 배치된 복합 기판(10)의 위치가 다시 검사되고, 이후 다시 90°회전한 상태에서 레이저 유닛(400)에 의해 하단 에지 라인(E2)이 면취 가공되는 2차 힐링 작업이 수행된다. 2차 힐링 작업이 완료되면, 이 상태에서 90°회전한 후 언로딩 유닛(300b)에 의해 인덱스 테이블(100)로부터 배출된다.The
이상에서 설명한 인덱스 테이블(100)을 이용한 공정 흐름은 예시적인 것으로, 사용자의 필요에 따라 이와 달리 다양한 공정 흐름으로 변경할 수 있을 것이다.
The process flow using the index table 100 described above is exemplary and may be changed to various process flows differently according to the needs of the user.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 에지 힐링 장치의 로딩 유닛 및 언로딩 유닛에 대한 구성을 개략적으로 도시한 도면이고, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 에지 힐링 장치의 레이저 유닛에 대한 구성을 개략적으로 도시한 도면이고, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 에지 힐링 장치의 리버스 유닛에 대한 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.FIG. 4 is a schematic view illustrating a configuration of a loading unit and an unloading unit of a substrate edgehearing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a cross- 6 is a view schematically showing a configuration of a reverse unit of a substrate edge healing apparatus according to an embodiment of the present invention.
본 발명의 일 실시예에 따른 로딩 유닛(300a) 및 언로딩 유닛(300b)은 전술한 바와 같이 복합 기판(10)을 파지하여 이송시키는 서로 동일한 형태로 구성될 수 있는데, 도 4에 도시된 바와 같이 진공압을 통해 복합 기판(10)을 진공 압착하거나 압착 해제하는 방식으로 복합 기판(10)을 부착 또는 부착 해제하는 압착 패드(310)와, 압착 패드(310)를 상하 이동시키는 실린더 모듈(320)과, 실린더 모듈(320)을 수평 방향으로 직선 이동시키는 수평 이송 모듈(330)을 포함하여 구성된다.The
압착 패드(310)는 별도의 진공 파이프(312)의 일단에 결합되고, 진공 파이프(312)에는 도시되지는 않았으나 별도의 공기압 호스(미도시)가 연결되어 공기압 호스를 통해 진공압을 공급하거나 공급 해제함으로써, 압착 패드(310)가 진공압에 의해 복합 기판(10)을 부착 또는 부착 해제하도록 구성될 수 있다. 이러한 압착 패드(310) 및 진공 파이프(312)는 별도의 지지 브래킷(311)에 연결 결합될 수 있으며, 실린더 모듈(320)은 이러한 지지 브래킷(311)을 상하 이동시키도록 구성될 수 있다. 실린더 모듈(320)은 공기압 또는 유압을 이용한 방식으로 구성된다. 수평 이송 모듈(330)은 실린더 모듈(320)을 수평 방향으로 인덱스 테이블(100)을 향해 근접 또는 원격 방향으로 이동시킨다.A separate pneumatic hose (not shown) is connected to the
이러한 구조에 따라 압착 패드(310)가 복합 기판(10)을 부착시킨 상태로 상하 또는 수평 이동하며 복합 기판(10)을 별도의 저장대(20)로부터 인덱스 테이블(100)에 공급 안착시키거나 또는 인덱스 테이블(100)로부터 별도의 저장대(20)로 배출시키는 방식으로 작동하게 된다.
According to this structure, the
레이저 유닛(400)은 도 5에 도시된 바와 같이 레이저 빔(L)을 발생시키는 레이저 발생기(410)와, 레이저 발생기(410)로부터 발생된 레이저 빔(L)을 반사하여 상단 에지 라인(E1) 또는 하단 에지 라인(E2)을 따라 조사되도록 레이저 빔(L)의 진행 경로를 조절하는 갈바노미터(420)와, 갈바노미터(420)로부터 반사된 레이저 빔(L)이 복합 기판(10)에 대해 수직 방향으로 조사되도록 레이저 빔(L)을 포커싱하는 텔레센트릭 렌즈(430)를 포함하여 구성된다.The
즉, 레이저 발생기(410)로부터 발생된 레이저 빔(L)은 갈바노미터(420) 내부의 반사 미러(421)에 의해 반사되며 진행 경로가 조절되며, 반사 미러(421)에 의해 반사된 레이저 빔(L)은 텔레센트릭 렌즈(430)를 통과하며 복합 기판(10)에 대해 수직 방향으로 조사되도록 구성된다. 이때, 갈바노미터(420)의 반사 미러(421)는 레이저 빔(L)의 진행 경로를 조절할 수 있도록 회전 가능하게 장착되며, 텔레센트릭 렌즈(430)는 다수개 배치되어 어느 방향의 레이저 빔(L)에 대해서도 항상 복합 기판(10)에 대해 수직 방향으로 조사되도록 레이저 빔(L)을 에지 라인(E1,E2)을 따라 포커싱한다. That is, the laser beam L generated from the
이와 같이 레이저 빔(L)이 복합 기판(10)에 대해 직각 방향으로 조사되기 때문에, 도 5의 확대도에 도시된 바와 같이 상부 패널(11) 및 하부 패널(12)에는 상단 에지 라인(E1) 및 하단 에지 라인(E2)을 따라 균일하게 경사진 형태의 면취 가공면을 형성할 수 있다. 이러한 면취 가공면은 레이저 빔(L)의 초점 위치를 조절함에 따라 그 경사 각도가 변경되는 등의 방식으로 형상 조절될 수 있다.5, since the laser beam L is irradiated in a direction perpendicular to the
이와 같은 구조에 따라 레이저 유닛(400)은 상단 에지 라인(E1) 및 하단 에지 라인(E2)을 따라 레이저 빔(L)을 조사하는 과정에서 상단 에지 라인(E1) 및 하단 에지 라인(E2)을 따라 이동하지 않고 고정된 상태로 유지되며, 갈바노미터(420) 및 텔레센트릭 렌즈(430)를 이용하여 레이저 빔(L)이 상단 에지 라인(E1) 및 하단 에지 라인(E2)을 따라 직각 방향으로 조사되도록 작동한다. 따라서, 레이저 유닛(400)을 전체적으로 이동시키지 않고 힐링 공정을 수행할 수 있어 더욱 신속한 작업이 가능하며, 장치 전체의 구성을 단순화 소형화할 수 있다.
According to this structure, in the course of irradiating the laser beam L along the upper edge line E1 and the lower edge line E2, the
리버스 유닛(800)은 도 6에 도시된 바와 같이 인덱스 테이블(100)의 하부에 위치하여 인덱스 테이블(100)에 안착된 복합 기판(10)을 인덱스 테이블(100)로부터 상하 이송시키는 리프트 모듈(810)과, 리프트 모듈(810)에 의해 상승된 복합 기판(10)을 상하 회전시켜 상하 배치 상태를 역전시키는 반전 모듈(820)을 포함하여 구성된다.6, the
리프트 모듈(810)은 복합 기판(10)의 하면을 지지하며 복합 기판(10)을 상하 이송시킬 수 있도록 인덱스 테이블(100)의 하부에서 인덱스 테이블(100)을 관통하며 상하 이동하는 리프트 핀(811)과, 리프트 핀(811)에 결합되어 리프트 핀(811)을 상하 이동시키는 리프트 구동부(813)를 포함하여 구성된다. 이때, 리프트 핀(811)은 별도의 지지 브래킷(812)에 의해 지지 결합되고, 리프트 구동부(813)는 이러한 지지 브래킷(812)을 상하 이동시키는 방식으로 리프트 핀(811)을 상하 이동시킬 수 있다. 또한, 리프트 구동부(813)는 공기압 또는 유압을 이용한 실린더 형태로 구성될 수 있으며, 이외에도 모터(미도시)를 이용한 이동 스크류 방식 등 리프트 핀(811)을 상하 방향으로 직선 이동시킬 수 있는 다양한 형태로 변경 가능하다.The
반전 모듈(820)은 리프트 핀(811)에 의해 상향 이송된 복합 기판(10)을 파지할 수 있는 리버스 포크(821)와, 리버스 포크(821)에 의해 파지된 복합 기판(10)의 상하 배치 상태가 역전되도록 리버스 포크(821)를 회전시키는 회전 구동부(823)와, 리버스 포크(821)를 수평 방향으로 직선 이동시키는 수평 이송 구동부(824)와, 리버스 포크(821)를 수직 방향으로 직선 이동시키는 수직 이송 구동부(825)를 포함하여 구성될 수 있다.The reversing
리버스 포크(821)는 별도의 이동 블록(821-1)에 회전 가능하게 결합되며, 일측면에는 별도의 진공 압착 패드(822)가 장착된다. 진공 압착 패드(822)는 진공압에 의해 복합 기판(10)을 파지할 수 있도록 형성되며, 공기압 호스(미도시)를 통한 진공압을 공급하거나 또는 공급 해제함으로써 진공 압착 패드(822)가 복합 기판(10)을 파지하거나 파지 해제하도록 구성될 수 있다. 회전 구동부(823)는 공기압 또는 유압을 이용한 회전 실린더 형태로 구성될 수 있으며, 이동 블록(821-1)에 결합된 리버스 포크(821)를 180°회전시키도록 구성된다. 수평 이송 구동부(824) 및 수직 이송 구동부(825)는 이러한 이동 블록(821-1)을 각각 수평 및 수직 이송시킬 수 있도록 실린더 또는 모터 방식 등 다양한 방식으로 구성될 수 있다.The
이러한 구조에 따라 리프트 모듈(810)이 인덱스 테이블(100)에 안착된 복합 기판(10)을 상승 이동시키면, 이 상태에서 리버스 포크(821)가 수평 이송 구동부(824)에 의해 수평 이송하여 복합 기판(10)의 하부로 이동하게 되고, 진공 압착 패드(822)를 통해 복합 기판(10)의 하면을 파지하게 된다. 이후, 리버스 포크(821)가 수직 이송 구동부(825)에 의해 상향 이동한 후, 회전 구동부(823)에 의해 리버스 포크(821)가 180°회전하게 되고, 이에 따라 리버스 포크(821)에 부착된 복합 기판(10)의 상하 배치 상태가 역전되고, 이 상태에서 수직 이송 구동부(825)에 의해 리버스 포크(821)가 하향 이동하여 복합 기판(10)을 다시 리프트 모듈(810)의 리프트 핀(811)에 안착시키고, 리프트 핀(811)이 하향 이동하며 복합 기판(10)이 인덱스 테이블(100)에 역전 배치된 상태로 안착된다.
According to this structure, when the
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
The foregoing description is merely illustrative of the technical idea of the present invention and various changes and modifications may be made by those skilled in the art without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are intended to illustrate rather than limit the scope of the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present invention should be construed according to the following claims, and all technical ideas falling within the scope of the same shall be construed as falling within the scope of the present invention.
10: 복합 기판 11: 상부 패널
12: 하부 패널 100: 인덱스 테이블
200: 얼라인 유닛 300a: 로딩 유닛
300b: 언로딩 유닛 310: 압착 패드
320: 실린더 모듈 330: 수평 이송 모듈
400: 레이저 유닛 410: 레이저 발생기
420: 갈바노미터 430: 텔레센트릭 렌즈
800: 리버스 유닛 810: 리프트 모듈
811: 리프트 핀 813: 리프트 구동부
820: 반전 모듈 821: 리버스 포크
823: 회전 구동부 824: 수평 이송 구동부
825: 수직 이송 구동부10: composite substrate 11: upper panel
12: lower panel 100: index table
200:
300b: Unloading unit 310: Crimp pad
320: Cylinder module 330: Horizontal feed module
400: laser unit 410: laser generator
420: Galvanometer 430: Telecentric lens
800: Reverse unit 810: Lift module
811: Lift pin 813: Lift driving part
820: Inversion module 821: Reverse fork
823: rotation drive part 824: horizontal feed drive part
825: Vertical feed drive part
Claims (9)
360°를 분할 회전하는 인덱스 테이블;
상기 인덱스 테이블의 정위치에 복합 기판을 안착시키는 로딩 유닛;
상기 로딩 유닛을 통해 상기 인덱스 테이블에 안착된 복합 기판의 위치를 검사하는 얼라인 유닛;
상기 상부 패널의 상단 에지 라인을 따라 레이저 빔을 조사하여 상단 에지를 면취 가공하는 1차 힐링 작업과 상기 하부 패널의 하단 에지 라인을 따라 레이저 빔을 조사하여 하단 에지를 면취 가공하는 2차 힐링 작업을 수행하는 레이저 유닛;
상기 인덱스 테이블에 안착된 복합 기판의 배치 상태가 상하 역전되도록 상기 복합 기판의 상하 배치 상태를 변경시키는 리버스 유닛; 및
상기 레이저 유닛에 의해 외곽 에지 부위가 면취 가공된 복합 기판을 상기 인덱스 테이블로부터 배출하는 언로딩 유닛
을 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 기판 에지 힐링 장치.
A substrate edge heeling apparatus for chamfering an edge edge portion of a composite substrate composed of an upper panel and a lower panel,
An index table for rotating 360 ° in a divided manner;
A loading unit that seats the composite substrate at a predetermined position of the index table;
An aligning unit for inspecting the position of the composite substrate placed on the index table through the loading unit;
A first healing operation for chamfering an upper edge by irradiating a laser beam along an upper edge line of the upper panel and a second healing operation for chamfering a lower edge by irradiating a laser beam along a lower edge line of the lower panel A laser unit to be operated;
A reverse unit for changing the vertical arrangement state of the composite substrate so that the arrangement state of the composite substrate seated on the index table is reversed; And
And an unloading unit for ejecting the composite substrate having the outer edge portion chamfered by the laser unit from the index table,
Wherein the substrate edge heeling apparatus comprises:
상기 복합 기판은 상기 레이저 유닛에 의해 1차 힐링 작업이 완료된 상태에서 상기 인덱스 테이블과 함께 회전한 후 상기 리버스 유닛에 의해 상하 배치 상태가 역전되고, 이후 상기 인덱스 테이블과 함께 회전하여 다시 상기 레이저 유닛에 의해 2차 힐링 작업되는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 기판 에지 힐링 장치.
The method according to claim 1,
The composite substrate is rotated together with the index table in a state where the primary healing operation is completed by the laser unit, and then the up-down arrangement state is reversed by the reverse unit. Then, the composite substrate is rotated together with the index table, Wherein the second healing operation is performed by the laser beam.
상기 리버스 유닛은
상기 인덱스 테이블의 하부에 위치하여 상기 복합 기판을 상기 인덱스 테이블로부터 상하 이송시키는 리프트 모듈; 및
상기 리프트 모듈에 의해 상승된 복합 기판을 상하 회전시켜 상하 배치 상태를 역전시키는 반전 모듈
을 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 기판 에지 힐링 장치.
3. The method of claim 2,
The reverse unit
A lift module positioned below the index table for vertically moving the composite substrate from the index table; And
A reversing module for reversing the vertical arrangement state by rotating the composite substrate raised by the lift module up and down,
Wherein the substrate edge heeling apparatus comprises:
상기 리프트 모듈은
상기 복합 기판의 하면을 지지하며 상기 복합 기판을 상하 이송시킬 수 있도록 상기 인덱스 테이블의 하부에서 상기 인덱스 테이블을 관통하며 상하 이동하는 리프트 핀;
상기 리프트 핀에 결합되어 상기 리프트 핀을 상하 이동시키는 리프트 구동부
를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 기판 에지 힐링 장치.
The method of claim 3,
The lift module
A lift pin supporting the lower surface of the composite substrate and moving up and down through the index table at a lower portion of the index table so as to vertically transfer the composite substrate;
A lift driving unit coupled to the lift pins for moving the lift pins up and down,
Wherein the substrate edge heeling apparatus comprises:
상기 반전 모듈은
상기 리프트 핀에 의해 상향 이송된 복합 기판을 파지할 수 있는 리버스 포크;
상기 리버스 포크에 의해 파지된 복합 기판의 상하 배치 상태가 역전되도록 상기 리버스 포크를 회전시키는 회전 구동부;
상기 리버스 포크를 수평 방향으로 직선 이동시키는 수평 이송 구동부; 및
상기 리버스 포크를 수직 방향으로 직선 이동시키는 수직 이송 구동부
를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 기판 에지 힐링 장치.
5. The method of claim 4,
The inversion module
A reverse fork capable of gripping the composite substrate transported upward by the lift pins;
A rotation driving unit for rotating the reverse fork so that the composite substrate held by the reverse fork is reversed in a vertical direction;
A horizontal feed drive unit for linearly moving the reverse fork in a horizontal direction; And
A vertical feed driving unit for linearly moving the reverse fork in the vertical direction,
Wherein the substrate edge heeling apparatus comprises:
상기 레이저 유닛은
레이저 빔의 초점이 상기 복합 패널의 상단 또는 하단 에지 라인에 위치하도록 포커싱하며 상기 복합 기판에 대해 수직 방향으로 레이저 빔을 조사하는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 기판 에지 힐링 장치.
3. The method of claim 2,
The laser unit
Wherein the laser beam is focused in such a way that the focus of the laser beam is positioned at the upper or lower edge line of the composite panel and the laser beam is irradiated in a direction perpendicular to the composite substrate.
상기 레이저 유닛은
레이저 빔을 발생시키는 레이저 발생기;
상기 레이저 발생기로부터 발생된 레이저 빔을 반사하여 상기 복합 패널의 상단 또는 하단 에지 라인을 따라 조사되도록 상기 레이저 빔의 진행 경로를 조절하는 갈바노미터; 및
상기 갈바노미터로부터 반사된 레이저 빔이 상기 복합 기판에 대해 수직 방향으로 조사되도록 레이저 빔을 포커싱하는 텔레센트릭 렌즈
를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 기판 에지 힐링 장치.
The method according to claim 6,
The laser unit
A laser generator for generating a laser beam;
A galvanometer for reflecting a laser beam generated from the laser generator and adjusting a path of the laser beam to be irradiated along an upper or lower edge line of the composite panel; And
A telecentric lens for focusing the laser beam so that the laser beam reflected from the galvanometer is irradiated in a direction perpendicular to the composite substrate;
Wherein the substrate edge heeling apparatus comprises:
상기 로딩 유닛 및 언로딩 유닛은
진공압을 통해 복합 기판을 진공 압착 또는 압착 해제하는 방식으로 복합 기판을 부착 또는 부착 해제시키는 압착 패드;
상기 압착 패드를 상하 이동시키는 실린더 모듈; 및
상기 실린더 모듈을 수평 방향으로 직선 이동시키는 수평 이송 모듈
을 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 기판 에지 힐링 장치.
The method according to claim 1,
The loading unit and the unloading unit
A pressing pad for attaching or detaching the composite substrate by vacuum pressing or pressing off the composite substrate through vacuum pressure;
A cylinder module for vertically moving the pressing pad; And
A horizontal feed module for linearly moving the cylinder module in a horizontal direction,
Wherein the substrate edge heeling apparatus comprises:
상기 레이저 유닛에 의해 조사되는 레이저 빔은 초단파 레이저 빔으로 적용되고, 상기 초단파 레이저 빔은 파장: 200nm ~ 800nm, 펄스 폭: 100fs ~ 20ps, 주파수: 200kHz ~ 2000kHz 범위로 형성되는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 기판 에지 힐링 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the laser beam irradiated by the laser unit is applied as an ultra-violet laser beam, and the laser beam is formed in a wavelength range of 200 nm to 800 nm, a pulse width of 100 fs to 20 ps, and a frequency of 200 kHz to 2000 kHz. A substrate edge healing device used.
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