KR20140134446A - 입자 포집용 트랩장치 - Google Patents

입자 포집용 트랩장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20140134446A
KR20140134446A KR1020130054329A KR20130054329A KR20140134446A KR 20140134446 A KR20140134446 A KR 20140134446A KR 1020130054329 A KR1020130054329 A KR 1020130054329A KR 20130054329 A KR20130054329 A KR 20130054329A KR 20140134446 A KR20140134446 A KR 20140134446A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
screw
exhaust gas
particles
vacuum pump
particle collecting
Prior art date
Application number
KR1020130054329A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101479969B1 (ko
Inventor
고경오
노명근
Original Assignee
(주)클린팩터스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)클린팩터스 filed Critical (주)클린팩터스
Priority to KR20130054329A priority Critical patent/KR101479969B1/ko
Publication of KR20140134446A publication Critical patent/KR20140134446A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101479969B1 publication Critical patent/KR101479969B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

본 발명의 입자 포집용 트랩장치는 공정 체임버와 진공펌프 사이의 라인 또는 진공펌프와 스크러버 사이의 라인에 설치되는 트랩장치로서, 공정 체임버 또는 진공펌프와 연결된 배기가스 주입부와, 상기 배기가스 주입부로 유입된 배기가스가 통과하면서 배기가스에 포함되거나 배기가스에서 생성된 입자가 포집되는 입자 포집부와, 상기 입자 포집부를 통과한 배기가스를 진공펌프 또는 스크러버로 배출시키는 배기가스 배출부를 포함하고, 상기 입자 포집부는 회전하면서 입자를 일 방향으로 이동시키는 스크류를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

입자 포집용 트랩장치{Trap equipment for gathering particle}
본 발명은 입자 포집용 트랩장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 공정 체임버와 진공펌프 사이의 라인 또는 진공펌프와 스크러버 사이의 라인에 설치되어 배기가스에 포함되거나 배기가스에서 생성되는 입자를 포집하는 반도체 또는 디스플레이 공정용 트랩장치에 관한 것이다.
반도체나 디스플레이 제조에는 박막증착이나 건식에칭과 같은 진공 공정이 널리 이용된다. 금속계, 산화물계 박막의 증착공정에는 다양한 종류의 금속-유기계 전구체 가스가 이용되고, 건식에칭공정에도 할로겐족 원소를 포함하는 다양한 에칭 가스가 이용된다. 이러한 전구체 가스나 에칭 가스는 증착 체임버 또는 에칭 체임버로 공급되어 기판의 표면에서 화학반응을 일으켜 원하는 막이 증착되거나 에칭이 이루어지게 하지만, 체임버의 벽면 또는 가스의 이동라인 벽면에서 입자화되기도 한다.
공정 체임버에 공급된 가스는 진공펌프를 통하여 외부로 배출되는데, 배출가스에 포함되거나 배출가스로부터 생성된 입자가 진공펌프나 스크러버로 유입되면 장비의 정비 또는 교환주기가 짧아지거나 장비의 고장이 유발되기도 하고, 배관이 막히는 경우도 있다. 따라서 배출가스가 진공펌프로 유입되기 전, 또는 배출가스가 스크러버로 유입되기 전에 입자를 포집하여야 할 필요성이 있는데, 이러한 기능을 하는 장치가 트랩장치이다.
반도체 또는 디스플레이 공정용 트랩장치에 관한 선행기술로는 한국공개특허 제2009-0040001호가 있다. 상기 선행기술은 배기라인의 도중에 설치되어 배기가스가 통과하는 파우더 컬렉터 모듈과, 상기 파우더 컬렉터 모듈의 내부 공간에 설치되어 배기가스와 열교환 함으로써 파우더가 파우더 컬렉터 모듈에 포집되도록 하는 냉각라인과, 상기 냉각라인의 입구측에 연결되어 외부에서 유입되는 압축기체를 고온기체와 저온기체로 분리한 후 상기 저온기체를 냉각라인에 공급되는 냉기공급수단과, 상기 파우더 컬렉터 모듈의 일측과 타측 배기라인에 각각 구비되어 배기라인 상의 배기가스 흐름을 허용 또는 차단하기 위해 개폐동작하는 진공밸브와, 상기한 각 구성요소의 작동을 제어하는 컨트롤러로 이루어지는 파우더 트랩장치에 관한 개시하고 있다. 그러나 상기의 선행기술에 개시된 파우더 트랩장치는 포집된 파우더를 분리하여 보관하기 위한 수단을 구비하고 있지 않기 때문에 트랩장치의 교환주기가 짧아지는 문제점을 해결하지 못하고 있다.
따라서, 공정 체임버의 배출가스에서 생성되는 입자를 효과적으로 포집하는 동시에 트랩의 교환주기를 증가시킬 수 있는 새로운 형태의 입자 포집용 트랩장치의 개발 필요성이 크다.
따라서, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 공정 체임버의 배출가스에서 생성된 입자를 효과적으로 포집하여 진공펌프 또는 스크러버로 유입되는 것을 방지할 수 있고, 포집된 입자를 분리시켜 보관함으로써 트랩의 교환주기를 늘일 수 있는 입자 포집용 트랩장치를 제공하는 것이다.
본 발명은 상기 과제를 달성하기 위하여, 공정 체임버와 진공펌프 사이의 라인 또는 진공펌프와 스크러버 사이의 라인에 설치되는 트랩장치으로서, 공정 체임버 또는 진공펌프와 연결된 배기가스 주입부와, 상기 배기가스 주입부로 유입된 배기가스가 통과하면서 배기가스에 포함되거나 배기가스에서 생성된 입자가 포집되는 입자 포집부와, 상기 입자 포집부를 통과한 배기가스를 진공펌프 또는 스크러버로 배출시키는 배기가스 배출부를 포함하고, 상기 입자 포집부는 회전하면서 입자를 일 방향으로 이동시키는 스크류를 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 포집용 트랩장치를 제공한다.
본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 입자 포집부는 배기가스 주입부와 배기가스 배출부 사이의 경로에 설치되는 제1스크류와, 제1스크류와 이격된 공간에 설치되는 제2스크류를 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 구현예에 따르면, 상기 제1스크류와 제2스크류는 반대방향으로 입자를 이동시킬 수 있다.
본 발명의 또 다른 구현예에 따르면, 상기 스크류는 스크류 회전축 및 상기 스크류 회전축의 외측에 나선형태로 돌출된 배플로 이루어질 수 있다.
본 발명의 또 다른 구현예에 따르면, 상기 배플은 가스는 통과시키고 입자는 필터링할 수 있는 구조로 이루어질 수 있다.
본 발명의 또 다른 구현예에 따르면, 상기 입자 포집부는 포집된 입자를 스크류에서 분리하기 위한 가스 분사 수단을 더 구비할 수 있다.
본 발명의 또 다른 구현예에 따르면, 입자 포집용 트랩장치는 상기 스크류에 의하여 이동된 입자를 저장하는 포집통을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 구현예에 따르면, 상기 입자 포집부는 냉각수단 또는 가열수단을 구비할 수 있다.
본 발명의 또 다른 구현예에 따르면, 입자 포집용 트랩장치는 배기가스 주입부, 입자 포집부 및 배기가스 배출부를 포함하고, 상기 입자 포집부는 상기 배기가스 주입부와 배출부 사이의 경로에 설치되고, 배기가스에 포함되거나 배기가스에서 생성된 입자를 일방향으로 이동시키기 위한 제1스크류와, 상기 제1스크류의 하부에 설치되고 제1스크류와 서로 다른 방향으로 입자를 이동시키는 제2스크류와, 상기 제1스크류와 제2스크류를 회전시키기 위한 모션 어셈블리를 포함할 수 있다.
본 발명의 입자 포집용 트랩장치는 아래의 효과를 가진다.
1. 포집 바디 내부에 형성된 스크류는 배출가스가 나선형 경로를 따라 이동하도록 유도하므로 이동경로를 늘여서 입자의 포집 효율을 향상시킬 수 있다.
2. 스크류가 회전하면서 포집된 입자를 일방향으로 이동시켜 포집통에 분리된 형태로 입자를 저장하므로, 트랩장치의 교환주기를 늘일 수 있다.
3. 배출가스 주입부와 배출부 사이의 경로에 설치된 제1포집 바디와, 공간적으로 분리된 제2포집 바디에 의하여 포집된 입자가 분리되므로 포집된 입자가 역류하여 배기라인으로 유입되는 것을 방지할 수 있다.
4. 스크류 회전축에 도출된 배플은 포집 바디 내부 벽면과 마찰하면서 입자를 분리시키므로 포집 또는 생성된 입자를 효과적으로 이동시킬 수 있고, 스크류의 헬리컬 운동에 의하여 입자가 역류하는 것을 방지할 수 잇다.
5. 스크류의 배플은 입자를 필터링할 수 있는 구조를 가지므로 입자가 진공펌프 또는 스크러버로 유입되는 것을 방지할 수 있다.
6. 포집 바디에 설치된 노즐블록은 배플에 흡착된 입자를 분리하여 포집통 방향으로 이동시키므로 트랩장치의 교환주기를 늘일 수 있다.
7. 포집 바디와 포집통 사이에 밸브가 형성되어 공정이 진행되는 동안에 포집통의 입자를 수거할 수 있다.
8. 제1스크류와 제2스크류가 서로 다른 방향으로 회전하면서 입자를 이동시키므로 입자 포집용 트랩장치의 구조를 간단히 하고 설치 부피를 줄일 수 있다.
9. 구동풀리와 벨트를 이용하여 하나의 구동모터로 제1스크류와 제2스크류를 구동시킬 수 있다.
도 1은 공정 체임버, 진공펌프 및 스크러버의 연결관계를 도시한 것이다.
도 2는 공정 체임버와 진공펌프 사이 및 진공펌프와 스크러버 사이에 설치된 형태의 입자 포집용 트랩장치를 도시한 것이다.
도 3은 본 발명의 일 구현예에 따른 입자 포집용 트랩장치의 구성과 내부 구조를 설명하기 위한 사시도이다.
도 4는 본 발명의 일 구현예에 따른 입자 포집용 트랩장치의 구성과 내부 구조를 설명하기 위한 분해도이다.
도 5는 본 발명의 입자 포집용 트랩장치에서 입자의 포집이 일어나는 과정을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 본 발명의 입자 포집용 트랩장치의 모션 어셈블리 구성을 도시한 단면도이다.
도 7은 본 발명의 입자 포집용 트랩장치의 스크류에 관한 사시도와 사진이다.
도 8은 본 발명의 입자 포집용 트랩장치의 노즐블록의 기능을 설명하기 위한 도면이다.
도 9는 본 발명의 입자 포집용 트랩장치의 노즐블록의 구조를 설명하기 위한 도면이다.
도 10은 본 발명의 다른 구현예에 따른 입자 포집용 트랩장치의 구성과 내부 구조를 설명하기 위한 사시도이다.
본 발명의 입자 포집용 트랩장치는 공정 체임버와 진공펌프 사이의 라인 또는 진공펌프와 스크러버 사이의 라인에 설치되는 트랩장치로서, 공정 체임버 또는 진공펌프와 연결된 배기가스 주입부와, 상기 배기가스 주입부로 유입된 배기가스가 통과하면서 배기가스에 포함되거나 배기가스에서 생성된 입자가 포집되는 입자 포집부와, 상기 입자 포집부를 통과한 배기가스를 진공펌프 또는 스크러버로 배출시키는 배기가스 배출부를 포함하고, 상기 입자 포집부는 회전하면서 입자를 일 방향으로 이동시키는 스크류를 포함하는 것을 특징으로 한다.
아래에서 도면을 이용하여 본 발명에 대하여 설명한다.
도 1은 공정 체임버, 진공펌프 및 스크러버의 연결관계를 도시한 것이다. 도 1을 참조하면, 공정 체임버(101)와 진공펌프(102)가 공정 체임버 배기라인(104)으로 연결되고, 진공펌프(102)와 스크러버(103)가 진공펌프 배기라인(105)으로 연결되어 있다. 박막증착용 전구체가 포함된 배출가스는 특정 온도, 압력조건에서 입자화될 수 있는데, 공정 체임버에서 생성된 입자가 진공펌프나 스크러버 내부에서 유입되거나 진공펌프 또는 스크러버에서 입자화가 일어나는 경우 마찰에 의하여 진공펌프나 스크러버를 손상시킬 수 있다.
본 발명의 입자 포집용 트랩장치는 공정 체임버의 배출가스에 포함된 입자나 배출가스에서 생성된 입자가 진공펌프나 스크러버로 유입되는 것을 방지하는 기능을 한다. 구체적으로 입자 포집용 트랩장치는 공정 체임버와 진공펌프 사이 또는 진공펌프와 스크러버 사이에 설치되어 진공펌프나 스크러버에 입자가 유입되거나 생성되는 것을 억제할 수 있다.
도 2의 (가)와 (나)는 각각 공정 체임버와 진공펌프 사이 및 진공펌프와 스크러버 사이에 설치된 형태의 입자 포집용 트랩장치를 도시한 것이다. 도 2의 (가)를 참조하면, 공정 체임버(101)와 진공펌프(102)가 공정 체임버 배기라인(104)으로 연결되고, 진공펌프(102)와 스크러버(103)가 진공펌프 배기라인(105)으로 연결되어 있으며, 공정 체임버 배기라인(104) 중간에 트랩장치(200)가 설치되어 있다. 트랩장치(200)는 공정 체임버에서 이동된 입자를 포집하여 진공펌프(102)로 입자가 유입되는 것을 방지하고, 배출가스에 포함된 전구체가 진공펌프 내부에서 입자화되는 것을 방지하여 진공펌프를 보호하는 기능을 한다. 도 2의 (나)를 참조하면, 공정 체임버(101)와 진공펌프(102)가 공정 체임버 배기라인(104)으로 연결되고, 진공펌프(102)와 스크러버(103)가 진공펌프 배기라인(105)으로 연결되어 있으며, 진공펌프 배기라인(105) 중간에 트랩장치(300)가 설치되어 있다. 트랩장치(300)는 배출가스에 포함된 입자가 스크러버 내부로 유입되는 것을 방지한다.
도 3과 도 4는 각각 본 발명의 일 구현예에 따라 공정 체임버와 진공펌프 사이에 설치될 수 있는 입자 포집용 트랩장치의 구성과 내부 구조를 설명하기 위한 사시도와 분해도이다. 도 3과 도 4를 참조하면, 트랩장치(200)는 배기가스 주입부(201), 제1포집 바디(202), 제2포집 바디(205), 포집통(207), 모션 어셈블리(208), 배기가스 배출부(210) 및 노즐블록(211)을 포함한다. 배기가스 주입부(201)는 공정 체임버의 배출가스가 유입되는 부분이고, 배기가스 배출부(210)는 트랩장치를 통과한 가스가 진공펌프 방향으로 배출되는 부분이다. 제1포집 바디(202)는 배기가스 주입부(201)와 배기가스 배출부(210)의 연결 경로 상에 위치하는데, 원통형의 파이프로 이루어질 수 있고, 내부에 제1스크류(203)가 삽입되어 있다. 제1스크류(203)는 제1포집 바디 내부에 길이 방향으로 설치되고, 모션 어셈블리(208)의 구동모터(209)에 의하여 회전할 수 있다. 제2포집 바디(205)는 제1포집 바디(202)의 하부에 설치되는데, 연결라인(204)에 의하여 제1포집 바디(202)의 일 방향 끝과 연결된다. 제2포집 바디(205)도 원통형의 파이프로 이루어질 수 있고, 내부에 제2스크류(206)가 삽입되어 설치된다. 제2스크류(206)는 제2포집 바디 내부에 길이 방향으로 설치되고, 모션 어셈블리(208)의 구동모터(209)에 의하여 회전할 수 있다. 제2포집 바디(205)에는 포집통(207)이 연결되어 있다.
아래에서 도 5를 이용하여 본 발명의 트랩장치에서 입자가 포집되는 과정을 설명하기로 한다.
도 5는 본 발명의 입자 포집용 트랩장치에서 입자의 포집이 일어나는 과정을 설명하기 위한 도면이다. 도 5를 참조하면, 배기가스 주입부(201)로 공정후 가스가 주입되면, 주입된 가스는 제1포집 바디(202)를 통과하면서 배기가스 배출부(210)로 배출된다. 이 과정에서 배기가스는 제1스크류(203)의 배플에 의하여 생성된 헬리칼 경로를 따라 이동하게 되며, 배기가스에 포함된 입자들은 제1스크류(203)의 배플이나 제1포집 바디(202)의 내부에 포집된다. 스크류의 회전은 공정이 진행되는 동안에 이루어질 수도 있고, 공정이 중단된 상태에서 이루어질 수도 있다. 제1포집 바디(202)가 가열되거나 냉각되어 배기가스에 포함된 전구체들이 입자화될 수 있는 조건을 추가로 제공할 수도 있고, 이 경우는 제1포집 바디(202)의 내부 벽면에 형성된 입자를 배플이 마찰하면서 바닥면으로 떼어낼 수 있다. 제1스크류(203)가 회전하여 배플이 배기가스 주입부 방향으로 헬리칼 회전을 하면, 제1스크류(203)의 배플이나 제1포집 바디(202)의 내부에 포집된 입자들은 배플을 따라서 연결라인(204)을 통하여 제2포집 바디(205)로 이동된다. 연결라인(204)을 따라 제2포집 바디(205)로 유입된 입자들은 제2스크류(206)와 배플에 의하여 포집통(207)으로 이동하게 된다. 이러한 스크류의 회전은 입자의 이동뿐 아니라 입자들이 반대방향으로 역류하는 것을 방지하는 기능도 한다. 이때 상기 입자는 고체 상태의 입자일 수 있고, 액체 상태의 입자일 수도 있다. 액체 상태의 입자는 배기가스에 액체의 상태로 존재하다가 입자 포집용 트랩장치에서 포집되거나, 배기가스에 기상으로 존재하던 물질이 액화된 형태로 포집된 경우일 수 있고, 경우에 따라서는 고체 상태의 입자가 온도 변화에 따라 액화된 형태일 수도 있다. 액화된 입자 또는 액체 입자들은 제1포집 바디 또는 제2포집 바디의 바닥면에 고인 상태로 제1스크류 또는 제2스크류에 의하여 일 방향으로 이동될 수 있다.
제1스크류(203)와 제2스크류(206)의 진행 방향이 서로 반대일 수 있고, 이 경우 모션 어셈블리(208)의 일측에 제1포집 바디(202)와 제2포집 바디(205)를 모두 설치하는 것이 용이해진다. 포집통(207)과 제2포집 바디(205) 사이에 밸브를 형성할 수 있고, 이 경우 밸브를 닫은 상태에서 포집통(207)을 분리할 수 있기 때문에 공정 진행의 중단없이 포집통의 입자를 수거할 수 있다. 본 발명의 일 구현예에서 포집 바디와 스크류를 2단으로 형성한 것은 포집된 입자의 역류를 방지하기 위한 목적을 포함한다. 제2포집 바디는 배출가스 주입부와 배출가스 배출부 사이의 경로가 아닌 제1포집 바디의 하부에 형성되어 있고, 제2스크류의 회전에 의하여 포집통까지 이동된 입자가 역류하여 펌프 또는 스크러버로 유입되기 어렵기 때문이다. 도 5에 도시한 바와 같이, 제1스크류는 입자를 배기가스의 이동방향과 반대방향으로 이동시키도록 회전시키는 것이 바람직하지만, 제2포집 바디의 위치를 공정후 가스 배출 방향으로 설치하면 제1스크류가 입자를 배기가스의 이동방향으로 이동시키도록 회전시키는 것도 가능하다. 제1스크류가 배기가스의 이동방향으로 입자를 이동시키도록 회전하면 배기가스의 이동이 원활해져서 컨덕턴스가 실질적으로 증가하는 효과를 가질 수 있다.
도 6은 본 발명의 입자 포집용 트랩장치의 모션 어셈블리의 구성을 도시한 단면도이다. 도 6을 참조하면, 모션 어셈블리는 모션 어셈블리 커버(213), 구동모터(209), 제1구동풀리(214), 제2구동풀리(215), 벨트(216) 등을 포함한다. 구동모터(209)는 제1스크류의 회전축과 연결되어 있고, 제1구동풀리(214), 제2구동풀리(215) 및 벨트(216)에 의하여 제2스크류에도 회전력을 전달한다. 이때, 제1스크류와 제2스크류의 회전방향을 동일하게 하면, 제1스크류와 제2스크류의 진행방향(배플의 헬리칼 운동에 의하여 입자가 이동되는 방향)을 반대로 하기 위하여 배플의 회전 방향을 반대로 형성할 수 있다. 도면에서는 구동풀리와 벨트를 이용한 동력전달 방식에 대하여 도시하였지만, 기어 등의 다른 방식의 동력전달 수단이 이용될 수 있다.
도 7은 본 발명의 입자 포집용 트랩장치의 스크류에 관한 사시도와 사진이다. 도 7 (가)를 참조하면, 제1스크류(203)는 스크류 회전축(203a)과 배플(203b)로 이루어진다. 스크류 회전축(203a)은 구동모터에 연결되어 제1포집 바디 내부에서 회전하고, 배플(203b)은 스크류 회전축(203a)의 외면에 나선형으로 돌출되어 형성되어 있다. 도 7의 (나)를 참조하면, 배플은 적절한 강성을 지닌 브러쉬 형태의 섬유 다발로 이루어질 수 있는데, 이 경우 섬유의 사이에 형성된 기공에 의하여 입자가 통과하는 것을 막는 필터 기능을 하고, 제1포집 바디 내부 벽면과 섬유들이 마찰하면서 벽면에 흡착되거나 증착된 입자들을 아래쪽으로 떼어낼 수 있다. 배플은 금속, 고분자 등으로 이루어질 수 있고, 탄성을 가지는 것이 바람직하다.
트랩방치의 장기간 사용에 의하여 배플에 입자들이 많이 축적되면 이를 제거할 수 있는 수단이 필요하다. 본 발명의 입자 포집용 트랩장치는 노즐블록을 이용하여 장치를 분해하지 않고도 배플의 입자를 제거할 수 있는 수단을 구비하고 있다.
도 8은 본 발명의 입자 포집용 트랩장치의 노즐블록의 기능을 설명하기 위한 도면이다. 도 8을 참조하면, 제1포집 바디(202)의 상부에 노즐블록(211)이 설치되어 있다. 노즐블록(211)은 가스 주입라인(212)과 연결되어서 적절한 시기에 가스 주입라인을 통하여 질소 등의 가스가 주입되면 노즐을 통하여 가스가 분사되어서 배플에 축적된 입자들을 아래쪽을 분리할 수 있다. 노즐블록의 자세한 구성은 아래의 도 9에서 설명한다.
도 9는 본 발명의 입자 포집용 트랩장치의 노즐블록의 구조를 설명하기 위한 도면이다. 도 9를 참조하면, 노즐블록(211)은 노즐블록 바디(211a)와 분사노즐(211b)로 이루어진다. 노즐블록 바디(211a)는 분사노즐(211b), 가스통로(211c) 및 가스 주입구(211d)가 형성되는 몸체이고, 분사노즐(211b)은 제1포집 바디의 내부와 연결되어 있다. 분사노즐은 분사되는 방향으로 갈수록 넓은 면적을 가질 수 있고, 이 경우 분사되는 가스의 면적을 증가시킬 수 있다.
도 10은 본 발명의 다른 구현예에 따른 입자 포집용 트랩장치의 구성과 내부 구조를 설명하기 위한 사시도이다. 도 10을 참조하면, 트랩장치(300)는 배기가스 주입부(301), 제1포집 바디(302), 제1스크류(303), 연결라인(304), 제2포집 바디(305), 제2스크류(306), 포집통(307), 모션 어셈블리(308), 구동모터(309), 배기가스 배출부(310), 노즐블록(311) 및 가스 주입라인(312)을 포함한다. 전체적으로 도 3에 도시된 트랩장치와 구성이 유사하지만, 배기가스 주입부와 배출부의 위치와 포집통의 형태가 변형되어 있다. 이는 공정 체임버, 진공펌프, 스크러버의 배치와 관계되는 것으로서 각각의 연결 위치에 따라 트랩장치의 구체적인 구성이 변형될 수 있다.
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 일 구현예를 이용하여 설명한 것으로써, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 갖는 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에서 설명된 구현예는 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이런 구현예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호범위는 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
101: 공정 체임버 102: 진공펌프
103: 스크러버 104: 공정 체임버 배기라인
105: 진공펌프 배기라인
200: 트랩장치 201: 배기가스 주입부
202: 제1포집 바디 203: 제1스크류
203a: 스크류 회전축 203b: 배플
204: 연결라인 205: 제2포집 바디
206: 제2스크류 207: 포집통
208: 모션 어셈블리 209: 구동모터
210: 배기가스 배출부 211: 노즐블록
211a: 노즐블록 바디 211b: 분사노즐
211c: 가스통로 211d: 가스 주입구
212: 가스 주입라인 213: 모션 어셈블리 커버
214: 제1구동풀리 215: 제2구동풀리
216: 벨트
300: 트랩장치 301: 배기가스 주입부
302: 제1포집 바디 303: 제1스크류
304: 연결라인 305: 제2 포집 바디
306: 제2스크류 307: 포집통
308: 모션 어셈블리 309: 구동모터
310: 배기가스 배출부 311: 노즐블록
312: 가스 주입라인

Claims (9)

  1. 공정 체임버와 진공펌프 사이의 라인 또는 진공펌프와 스크러버 사이의 라인에 설치되는 트랩장치에 있어서,
    공정 체임버 또는 진공펌프와 연결된 배기가스 주입부;
    상기 배기가스 주입부로 유입된 배기가스가 통과하면서 배기가스에 포함되거나 배기가스에서 생성된 입자가 포집되는 입자 포집부; 및
    상기 입자 포집부를 통과한 배기가스를 진공펌프 또는 스크러버로 배출시키는 배기가스 배출부;를 포함하고,
    상기 입자 포집부는 회전하면서 입자를 일 방향으로 이동시키는 스크류를 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 포집용 트랩장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 입자 포집부는 배기가스 주입부와 배기가스 배출부 사이의 경로에 설치되는 제1스크류와, 제1스크류와 이격된 공간에 설치되는 제2스크류를 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 포집용 트랩장치.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 제1스크류와 제2스크류는 반대방향으로 입자를 이동시키는 것을 특징으로 하는 하는 입자 포집용 트랩장치.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 스크류는 스크류 회전축 및 상기 스크류 회전축의 외측에 나선형태로 돌출된 배플로 이루어진 것을 특징으로 하는 입자 포집용 트랩장치.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 배플은 가스는 통과시키고 입자는 필터링할 수 있는 구조로 이루어진 것을 특징으로 하는 입자 포집용 트랩장치.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 입자 포집부는 포집된 입자를 스크류에서 분리하기 위한 가스 분사 수단을 더 구비한 것을 특징으로 하는 입자 포집용 트랩장치.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 스크류에 의하여 이동된 입자를 저장하는 포집통을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 포집용 트랩장치.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 입자 포집부는 냉각수단 또는 가열수단을 구비한 것을 특징으로 하는 입자 포집용 트랩장치.
  9. 배기가스 주입부, 입자 포집부 및 배기가스 배출부를 포함하는 트랩장치에 있어서,
    상기 입자 포집부는,
    상기 배기가스 주입부와 배출부 사이의 경로에 설치되고, 배기가스에 포함되거나 배기가스에서 생성된 입자를 일방향으로 이동시키기 위한 제1스크류;
    상기 제1스크류의 하부에 설치되고, 제1스크류와 서로 다른 방향으로 입자를 이동시키는 제2스크류; 및
    상기 제1스크류와 제2스크류를 회전시키기 위한 모션 어셈블리;를 포함하는 입자 포집용 트랩장치.
KR20130054329A 2013-05-14 2013-05-14 입자 포집용 트랩장치 KR101479969B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20130054329A KR101479969B1 (ko) 2013-05-14 2013-05-14 입자 포집용 트랩장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20130054329A KR101479969B1 (ko) 2013-05-14 2013-05-14 입자 포집용 트랩장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140134446A true KR20140134446A (ko) 2014-11-24
KR101479969B1 KR101479969B1 (ko) 2015-01-07

Family

ID=52455509

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR20130054329A KR101479969B1 (ko) 2013-05-14 2013-05-14 입자 포집용 트랩장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101479969B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102067074B1 (ko) * 2019-06-14 2020-01-16 (주) 엠엠티케이 부산물 포집장치

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4053112B2 (ja) * 1997-03-27 2008-02-27 敏夫 淡路 半導体製造工程の排ガス処理方法及び半導体製造工程の排ガス処理装置
KR101287064B1 (ko) * 2011-10-27 2013-07-17 강상희 반도체 제조장비의 부산물 포집장치

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102067074B1 (ko) * 2019-06-14 2020-01-16 (주) 엠엠티케이 부산물 포집장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR101479969B1 (ko) 2015-01-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2606619C2 (ru) Устройство для очистки воздуха от загрязнений
CN100364642C (zh) 涤气器及废气处理装置
KR102006832B1 (ko) 차량용 선택적 환원촉매 저감장치 재생 청소장치
KR101367327B1 (ko) 매연 저감 필터 청소장치
TWI453297B (zh) 捕捉裝置
JP3168894U (ja) コンプレッサ用洗浄装置
KR101287064B1 (ko) 반도체 제조장비의 부산물 포집장치
CN218130692U (zh) 真空钎焊炉废气处理装置
KR101479969B1 (ko) 입자 포집용 트랩장치
CN102080209A (zh) 真空镀膜设备
KR102201424B1 (ko) 반영구적인 사용이 가능한 가공유 필터링 장치
CN103732994A (zh) 抽油烟机
CN110006268A (zh) 冷却塔和清洗方法
CN203454241U (zh) 蒸汽发生器、清洗系统和吸油烟机
JP7541596B2 (ja) 希土類焼成排ガス処理装置
US20220176301A1 (en) Scrubber, ald process system including the scrubber and method for fabricating semiconductor device using the scrubber
CN104776738B (zh) 热交换器流出物收集器
CN101191696A (zh) 干燥装置及干燥方法
CN112691966B (zh) 一种用于机械加工的自动清洗装置
KR102262057B1 (ko) 배기가스 처리장치
WO2017092425A1 (zh) 一种用于多级过滤装置的螺旋结构、过滤装置、除尘设备
JP2007222716A (ja) フィルタ洗浄容器
CN210952434U (zh) 污气冷却器
CN113237255A (zh) 一种制冷剂用净化仪
CN113144780A (zh) 一种废气过滤装置以及处理设备

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171211

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191024

Year of fee payment: 6