KR20140131682A - 유기발광소자용 기판, 그 제조방법 및 이를 구비하는 유기발광소자 - Google Patents

유기발광소자용 기판, 그 제조방법 및 이를 구비하는 유기발광소자 Download PDF

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이영석
윤경민
이재호
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Abstract

본 발명은 유기발광소자용 기판, 그 제조방법 및 이를 구비하는 유기발광소자에 관한 것으로서 더욱 상세하게는 유기발광소자의 광추출 효율을 향상시킴과 동시에 투과율 또한 확보할 수 있는 유기발광소자용 기판, 그 제조방법 및 이를 구비하는 유기발광소자에 관한 것이다.
이를 위해, 본 발명은, 유기발광소자로부터 발광된 빛이 외부로 방출되는 일면에 배치되는 기판에 있어서, 기판몸체; 및 상기 기판몸체 내부에 형성되어 있는 다수의 결정화 입자를 포함하되, 상기 다수의 결정화 입자는 상기 기판몸체 내부에서 패턴을 이루는 것을 특징으로 하는 유기발광소자용 기판, 그 제조방법 및 이를 구비하는 유기발광소자를 제공한다.

Description

유기발광소자용 기판, 그 제조방법 및 이를 구비하는 유기발광소자{SUBSTRATE FOR OLED, METHOD FOR FABRICATING THEREOF AND OLED HAVING THE SAME}
본 발명은 유기발광소자용 기판, 그 제조방법 및 이를 구비하는 유기발광소자에 관한 것으로서 더욱 상세하게는 유기 발광소자의 광추출 효율을 향상시킴과 동시에 투과율 또한 확보할 수 있는 유기발광소자용 기판, 그 제조방법 및 이를 구비하는 유기발광소자에 관한 것이다.
일반적으로, 유기발광소자(organic light emitting diode; OLED)는 애노드(anode), 발광층 및 캐소드(cathode)를 포함하여 형성된다. 여기서, 애노드와 캐소드 간에 전압을 인가하면, 정공은 애노드로부터 전공 주입층 내로 주입되고 전공 수송층을 거쳐 발광층으로 이동되며, 전자는 캐소드로부터 전자 주입층 내로 주입되고 전자 수송층을 거쳐 발광층으로 이동된다. 이때, 발광층 내로 주입된 정공과 전자는 발광층에서 재결합하여 엑시톤(exciton)을 생성하고, 이러한 엑시톤이 여기상태(excited state)에서 기저상태(ground state)로 전이하면서 빛을 방출하게 된다.
한편, 이러한 유기발광소자로 이루어진 유기발광 표시장치는 매트릭스 형태로 배치된 N×M개의 화소들을 구동하는 방식에 따라, 수동 매트릭스(passive matrix) 방식과 능동 매트릭스(active matrix) 방식으로 나뉘어진다.
여기서, 능동 매트릭스 방식의 경우 단위화소 영역에는 발광영역을 정의하는 화소전극과 이 화소전극에 전류 또는 전압을 인가하기 위한 단위화소 구동회로가 위치하게 된다. 이때, 단위화소 구동회로는 적어도 두 개의 박막트랜지스터(thin film transistor; TFT)와 하나의 캐패시터(capacitor)를 구비하며, 이를 통해, 화소수와 상관없이 일정한 전류의 공급이 가능해져 안정적인 휘도를 나타낼 수 있다. 이러한 능동 매트릭스 방식의 유기 발광 표시장치는 전력 소모가 적어, 고해상도 및 대형 디스플레이의 적용에 유리하다는 장점을 갖고 있다.
여기서, 100%의 내부 발광효율을 가지는 유기 발광소자에 의해 발광된 빛이 예컨대, ITO로 이루어진 투명 도전막과 기판으로 사용된 유리를 투과하여 밖으로 나올 때, 그 효율은 스넬(snell)의 법칙에 의해서 약 17.5%이다. 이러한 효율 감소는 유리를 기판으로 사용하는 유기 발광소자에서 내, 외부 발광효율 감소에 큰 영향을 미치고 있다. 이를 극복하기 위해, 광학적인 광추출을 증가시켜 투과 효율을 증가시키고 있는데, 이에 광학적 광추출을 증가시키기 위한 다양한 방법이 연구되고 있다.
종래의 광추출 방법에는 텍스처(texture) 구조를 가지는 면을 유리판에 처리하는 방법, 마이크로스피어(microspheres)를 ITO가 증착되어 있는 유리면에 사용하는 방법, ITO가 증착되어 있는 유리면에 마이크로 렌즈(micro lens)를 사용하는 방법, 메사(Mesa) 구조를 사용하는 방법 그리고 ITO와 유리면에 실리카 에어로겔(silica aerogel)을 사용하는 방법 등이 있다. 이중에서, 실리카 에어로겔을 사용하는 방법은 100% 광량이 증가하는 효과를 나타내었으나 실리카 에어로겔이 수분에 매우 민감하고 불안정하여 소자의 수명이 짧아지는 결과를 나타냄에 따라 상업적으로 사용하기에는 불가능하였다.
또한, 마이크로 렌즈나 메사 구조를 이용하는 방법은 외부 발광효율 증가는 나타났으나 이를 제작하기 위해서는 비용이 많이 증가하여, 그 실효성이 낮은 문제가 있었다. 그리고 마이크로스피어를 이용하는 방법은 외부 발광효율의 증가는 나타나지 않고, 빛의 분산에 의한 파장 변화만이 관찰되었다. 그러므로, 유기 발광소자에서 30%의 효율 증가를 가져온 텍스처 구조를 이용한 방법이 소자의 수명이나 비용적이 측면에서 가장 유리하다. 그러나 유리가 비정질 형태를 이루고 있기 때문에 유리 위에 텍스처 구조를 일정한 모양으로 형성하기는 매우 어렵다. 또한, 유리 위에 텍스처를 형성시킨다 해도, 텍스처로 인해 평탄도가 낮아지고, 이로 인해, 이와 접하게 되는 애노드의 표면에도 텍스처 구조가 형성되어 누설전류가 발생하는 등의 문제가 초래되므로, 텍스처 구조를 내부 광추출용으로 적용 시, 별도의 평탄막을 구비해야 하는 등 구조적으로나 공정 상 많은 문제를 유발하게 된다.
미국 등록특허공보 US8,096,147(2012.01.17.)
본 발명은 상술한 바와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 유기발광소자의 광추출 효율을 향상시킴과 동시에 투과율 또한 확보할 수 있는 유기발광소자용 기판, 그 제조방법 및 이를 구비하는 유기발광소자를 제공하는 것이다.
이를 위해, 본 발명은, 유기발광소자로부터 발광된 빛이 외부로 방출되는 일면에 배치되는 기판에 있어서, 기판몸체; 및 상기 기판몸체 내부에 형성되어 있는 다수의 결정화 입자를 포함하되, 상기 다수의 결정화 입자는 상기 기판몸체 내부에서 패턴을 이루는 것을 특징으로 하는 유기발광소자용 기판을 제공한다.
여기서, 상기 패턴은 상기 기판몸체 대비 50~90% 면적을 차지하고 있을 수 있다.
또한, 상기 결정화 입자는 10~100㎚ 크기를 가질 수 있다.
그리고 상기 기판몸체는 감광성 유리로 이루어질 수 있다.
이때, 상기 기판몸체는 리튬 실리케이트계 유리로 이루어지고 감광성 금속을 포함할 수 있다.
아울러, 상기 유기발광소자용 기판은, 굴절률이 1.65 이상일 수 있다.
또한, 상기 유기발광소자용 기판은, 투과율이 50% 이상일 수 있다.
한편, 본 발명은, 감광성 유리를 준비하는 준비단계; 상기 감광성 유리 상에 광투과부가 형성되어 있는 포토 마스크를 배치하는 포토 마스크 배치단계; 상기 포토 마스크를 통해 상기 감광성 유리를 노광하는 노광단계; 및 노광된 상기 감광성 유리를 열처리하여 상기 감광성 유리 내부에 패턴화된 다수의 결정화 입자를 형성하는 결정화 입자 형성단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자용 기판 제조방법을 제공한다.
여기서, 상기 감광성 유리로는 감광성 금속이 포함되어 있는 리튬 실리케이트계 유리를 사용할 수 있다.
더불어, 본 발명은, 상기의 유기발광소자용 기판을 발광된 빛이 방출되는 일면에 배치되는 광추출 기판으로 구비하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자를 제공한다.
본 발명에 따르면, 감광성 유리로 이루어진 기판에 대한 열처리를 통해 기판의 굴절률 및 기판 내의 결정화 입자들의 크기를 제어함으로써, 유기발광소자로부터 발광된 빛이 기판 통과 시 기판 내의 결정화 입자들을 통해 산란되어, 결국, 유기발광소자의 광추출 효율을 증가시킴과 동시에 투과율 또한 확보할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 결정화 입자들을 특정 형태로 패턴화시킴으로써, 직진성 빛의 투과율을 높게 하여 유기발광소자의 광추출 효율을 증가시킬 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 표면 평탄도가 높은 투명 감광성 결정화 유리로 이루어진 유기발광소자용 기판 자체가 유기 발광소자의 외부 광추출층 뿐만 아니라 내부 광추출층으로서의 역할을 동시에 수행하게 됨으로써, 기판 유리의 일면과 타면에 각각 외부 광추출층 및 내부 광추출층이 형성된 종래의 유기발광소자보다 구조를 단순화시킬 수 있어, 구조적 안정성을 확보할 수 있고, 기판 유리와 별도로 형성되던 외부, 내부 광추출층 및 평탄막 등을 생략할 수 있어, 제조 공정을 단순화시킬 수 있고, 제조 원가를 절감할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 투명 감광성 결정화 유리로 이루어진 유기발광소자용 기판을 유기발광소자의 광추출용 기판으로 적용 시 유기발광소자의 광추출 효율 향상을 통해 유기발광소자의 소비 전력을 감소시킬 수 있고, 이는 발열의 최소화로 이어져 결국, 유기발광소자의 수명을 연장시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 유기발광소자용 기판 및 이를 광추출용 기판으로 구비하는 유기발광소자를 개략적으로 나타낸 단면도.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 유기발광소자용 기판을 나타낸 평면도.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 유기발광소자용 기판의 표면을 촬영한 사진.
도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 유기발광소자용 기판 제조방법을 나타낸 공정 순서도.
도 5 내지 도 7은 본 발명의 실시 예에 따른 유기발광소자용 기판 제조방법을 공정 순으로 나타낸 공정 모식도.
도 8은 본 발명의 실시 예에 따른 유기발광소자용 기판 제조방법에서 노광 후 결정화된 기판을 보여주는 사진들.
이하에서는 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시 예에 따른 유기발광소자용 기판, 그 제조방법 및 이를 구비하는 유기발광소자에 대해 상세히 설명한다.
아울러, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단된 경우 그 상세한 설명은 생략한다.
도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 유기발광소자용 기판(100)은 유기발광소자(1)를 밀봉하는 서로 대향되는 기판 중 유기발광소자(1)의 일면, 구체적으로는 유기발광소자(1)로부터 발광된 빛이 외부로 방출되는 전면에 배치 혹은 접합되는 기판이다. 이러한 유기발광소자용 기판(100)은 유기발광소자(1)를 외부환경으로부터 보호함과 동시에 유기발광소자(1)로부터 발광된 빛을 외부로 추출하는 광추출층으로서의 역할을 한다.
본 발명의 실시 예에서는 유기발광소자용 기판(100) 자체가 유기발광소자(1)의 광추출 효율을 향상시키는 광추출층으로 적용되는데, 그 표면이 고 평탄도로 구현됨에 따라, 유기발광소자(1)의 광추출층으로 적용 시 종래 독립된 층을 이루던 내부 및 외부 광추출층으로서의 역할을 동시에 하게 된다.
여기서, 유기발광소자(1)는 본 발명의 실시 예에 따른 기판(100)과 이와 대향되는 봉지(encapsulation) 기판 사이에 배치되는 애노드(11), 유기 발광층(12) 및 캐소드(13)의 적층 구조로 이루어진다. 이때, 애노드(11)는 정공 주입이 잘 일어나도록 일함수(work function)가 큰 금속, 예컨대, Au, In, Sn으로 이루어지거나 ITO와 같은 금속산화물로 이루어질 수 있다. 또한, 캐소드(13)는 전자 주입이 잘 일어나도록 일함수가 작은 Al, Al:Li 또는 Mg:Ag의 금속 박막으로 이루어질 수 있고, 유기발광소자(1)가 전면 발광(top emission) 구조인 경우, 유기 발광층(12)에서 발광된 빛이 잘 투과될 수 있도록 Al, Al:Li 또는 Mg:Ag의 금속 박막의 반투명 전극(semitransparent electrode)과 인듐 주석산화물(indium tin oxide; ITO)과 같은 산화물 투명 전극(transparent electrode) 박막의 다층구조로 이루어질 수 있다. 그리고 구체적으로 도시하진 않았지만, 유기 발광층(12)은 애노드(11) 상에 차례로 적층되는 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층, 전자 수송층 및 전자 주입층을 포함하여 형성될 수 있다. 이러한 구조에 따라, 애노드(11)와 캐소드(13) 사이에 순방향 전압이 인가되면, 캐소드(13)로부터 전자가 전자 주입층 및 전자 수송층을 통해 발광층으로 이동하게 되고, 애노드(11)로부터 정공이 정공 주입층 및 정공 수송층을 통해 발광층으로 이동하게 된다. 이때, 발광층 내로 주입된 전자와 정공은 발광층에서 재결합하여 엑시톤(exciton)을 생성하고, 이러한 엑시톤이 여기상태(excited state)에서 기저상태(ground state)로 전이하면서 빛을 방출하게 되는데, 이때, 방출되는 빛의 밝기는 애노드(11)와 캐소드(13) 사이에 흐르는 전류량에 비례하게 된다.
한편, 본 발명의 실시 예에 따른 유기발광소자용 기판(100)은 기판몸체(110) 및 결정화 입자(120)를 포함하여 형성된다.
기판몸체(110)는 그 자체로는 유기발광소자(1)로부터 발광된 빛을 외부로 투과시키는 역할과 외부 환경으로부터 유기발광소자(1)를 보호하는 역할을 한다. 또한, 기판몸체(110)의 내부에는 다수의 결정화 입자(120)가 형성된다. 본 발명의 실시 예에서, 이러한 기판몸체(110)는 감광성 유리로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 기판몸체(110)는 리튬 실리케이트계 유리로 이루어질 수 있다. 이때, 리튬 실리케이트계 유리에는 CeO2, Al2O3 등과 Ag, Sb 등의 금속이 첨가될 수 있다. 이에 따라, 기판몸체(110)는 감광성을 나타내게 된다. 여기서, 기판몸체(110)가 감광성 유리로 이루어지는 이유는 노광(exposure) 공정을 통해 내부에 결정화 입자(120)를 형성 및 패턴화시키기 위함으로, 이에 대해서는 하기의 유기발광소자용 기판 제조방법에서 보다 상세히 설명하기로 한다.
본 발명의 실시 예에서는 기판몸체(110)가 상기와 같은 조성의 리튬 실리케이트계 감광성 유리로 이루어짐에 따라, 결정화를 위한 열처리 후 기판몸체(110)의 굴절률은 1.65 이상이 된다. 이와 같이, 기판몸체(110)가 고 굴절률을 갖게 되면, 유기발광소자(1)로부터 발광된 빛에 대한 추출을 보다 용이하게 할 수 있다.
결정화 입자(120)는 기판몸체(110) 내부에 다수 개 형성되어 있다. 결정화 입자(120)는 감광성 유리로 이루어진 기판몸체(110)를 노광 및 열처리하는 공정을 통해 기판몸체(110) 내부에 형성된다. 즉, 비정질 구조의 기판몸체(110)를 열처리하면, 내부에 결정질 구조가 형성된다. 이러한 결정화 입자(120)는 유기발광소자(1)로부터 발광된 빛을 산란시키는 역할을 한다. 이를 통해, 유기발광소자(1)의 광추출 효율을 증가된다.
본 발명의 실시 예에서, 결정화 입자(120)는 10~100㎚ 크기로 형성될 수 있다. 여기서, 결정화 입자(120)의 크기가 10㎚보다 작으면, 광산란 효과가 적어, 광추출 효율이 떨어지게 되고, 반면에 100㎚보다 크면, 투과율이 떨어지게 되어, 직진성 광 효율이 떨어지게 된다.
한편, 본 발명의 실시 예에서, 이러한 다수의 결정화 입자(120)는 기판몸체(110) 내부에서 패턴을 이룬다. 즉, 기판몸체(110)가 감광성 유리로 이루어지는 이유는, 결정화 공정 시 형성되는 다수의 결정화 입자(120)를 패턴화시키기 위함이다. 이와 같이, 다수의 결정화 입자(120)가 특정 형태로 패턴화되면, 직진성 빛의 투과율을 보다 향상시킬 수 있다.
본 발명의 실시 예에서, 이와 같이, 다수의 결정화 입자(120)로 이루어진 패턴은 기판몸체(110) 대비 50~90% 면적을 차지하게 된다. 즉, 기판몸체(110)의 결정화도는 50~90%가 된다. 여기서, 기판몸체(110)의 결정화도가 50% 미만이면, 유기발광소자(1)의 광추출 효율이 떨어지게 되고, 90%를 넘게 되면, 기판몸체(110)의 투과율이 떨어지게 된다. 이때, 다수의 결정화 입자(120)로 이루어진 패턴의 형태는 도시한 바와 같이, 격자 형태로 이루어질 수 있고, 이 외에도 무정형 등의 다양한 형태로도 이루어질 수 있다.
도 2 및 도 3에 나타낸 바와 같이, 다수의 결정화 입자(120)가 패턴화됨에 따라, 기판몸체(110)는 패턴부(111)와 비패턴부(112)로 구분된다. 패턴부(111)는 다수의 결정화 입자(120)가 밀집되어 있는 영역으로, 유기발광소자(1)로부터 발광된 빛을 산란시키는 역할을 하게 되고, 비패턴부(112)는 결정화되지 않은 비정질 구조로 이루어지고, 직진성 빛의 투과율을 높여, 기판몸체(110)가 소정의 투과율, 예컨대 50% 이상의 투과율을 확보할 수 있게 하는 역할을 한다.
상술한 바와 같이, 기판몸체(110) 및 이의 내부에 형성되고 패턴화된 다수의 결정화 입자(120)를 포함하는 유기발광소자용 기판(100)은 유기발광소자(1)로부터 발광된 빛에 대한 광추출 효율을 향상시킴은 물론 투과율도 확보할 수 있다. 또한, 빛을 산란시키는 구조가 기판몸체(110)의 내부에 형성됨에 따라, 유기발광소자용 기판(100)의 표면은 예컨대, 표면 조도가 1㎛ 이하인 고 평탄면을 갖게 된다. 이에, 본 발명의 실시 예에 따른 유기발광소자용 기판(100)은 유기발광소자(1)의 외부 뿐만 아니라 내부 광추출층으로서의 역할도 할 수 있다.
더불어, 본 발명의 실시 예에 따른 유기발광소자용 기판(100)을 광추출층으로 적용한 유기발광소자(1)는 광추출 효율 향상을 통해 소비 전력이 저감될 수 있고, 이는, 발열의 최소화로 이어져, 결국, 수명이 연장되는 효과가 있다.
이하, 본 발명의 실시 예에 따른 유기발광소자용 기판 제조방법에 대하여 도 4 내지 도 8을 참조하여 설명하기로 한다.
도 4에 도시한 바와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 유기발광소자용 기판 제조방법은 준비단계(S1), 포토 마스크 배치단계(S2), 노광단계(S3) 및 결정화 입자 형성단계(S4)를 포함한다.
먼저, 도 5에 도시한 바와 같이, 준비단계(S1)에서는 감광성 유리(110)를 준비한다. 감광성 유리(110)로는 리튬 실리케이트계 유리를 사용할 수 있다. 구체적으로는 하기의 표 1과 같은 조성의 유리를 감광성 유리(110)로 사용할 수 있다.
조성 1(%) 조성 2(%)
SiO2 79.6 71.66
Li2O 10 11
Al2O3 4 6
ZnO 2
K2O 4.3 6
CeO2 0.014 0.04
Ag2O 0.12 0.15
Sb2O3 0.4 0.4
Na2O 1.6 2
B2O3 0.75
다음으로, 도 6에 도시한 바와 같이, 포토 마스크 배치단계(S2)에서는 감광성 유리(110) 상에 광투과부(11)가 형성되어 있는 포토 마스크(10)를 배치한다. 여기서, 포토 마스크(10)의 광투과부(11)의 넓이 및 형상에 따라, 감광성 유리(110)의 결정화도 및 결정화 입자(도 7의 120)가 이루는 패턴의 형태가 결정된다. 이에, 본 발명이 실시 예에서는 다수의 결정화 입자(도 7의 120)가 차지하는 면적이 감광성 유리(110) 대비 50~90%가 되도록, 포토 마스크(10)의 광투과부(11)를 패터닝할 수 있다. 이와 같은 범위로 다수의 결정화 입자(도 7의 120)가 패턴화되면, 광추출 효율을 증가시킴과 동시에 일정 수준 이상, 예컨대, 50% 이상의 투과율 또한 확보할 수 있다.
다음으로, 노광단계(S3)에서는 포토 마스크(10)를 통해 감광성 유리(110)를 노광한다. 본 발명의 실시 예에서는 자외선(UV)을 통해 감광성 유리(110)를 노광한다. 노광 시, 자외선은 포토 마스크(10)의 광투과부(11)를 통하여 감광성 유리(110) 상에 조사된다.
마지막으로, 도 7에 도시한 바와 같이, 결정화 입자 형성단계(S4)에서는 노광된 감광성 유리(110)를 열처리한다. 이와 같이, 노광된 감광성 유리(110)를 열처리하면, 감광성 유리(110)의 노광된 부분에는 노광에 의해 전이된 금속이온들이 감광성 유리(110) 내의 감광성 금속이온과 반응됨으로써, 금속원소들이 석출되고, 그 결과, 도 8의 사진에서 보여지는 바와 같이, 감광성 유리(110)의 노광된 부분에는 석출된 금속원소들을 핵으로 하여 금속 주위에 SiO2 및 Li2O 등의 결정화 입자(120)가 형성된다. 이때, 이와 같이 형성된 다수의 결정화 입자(120)는 포토 마스크(10)의 광투과부(11)와 대응되는 형태의 패턴을 이루게 된다. 이때, 본 발명의 실시 예에서는 광추출 효율을 향상시킴과 동시에 투과율을 확보하기 위해, 형성되는 결정화 입자(120)의 크기가 10~100㎚가 되도록 열처리 조건을 제어할 수 있다. 이와 같이, 결정화 입자(120)의 크기는 열처리 조건을 조절함으로써, 제어될 수 있다. 상기와 같은 범위로 결정화 입자(120)의 크기를 제어하기 위해, 본 발명의 실시 예에서는 노광된 감광성 유리(110)를 400~500℃의 온도 범위로 열처리할 수 있다.
한편, 상기 표 1의 조성 1로 이루어진 감광성 유리(110)의 경우에는 열처리 전 굴절률이 1.502로 측정되었고, 결정화를 위한 열처리 후 굴절률이 1.658로 증가되는 것으로 측정되었다. 또한, 상기 표 1의 조성 2로 이루어진 감광성 유리(110)의 경우에는 열처리 전 굴절률이 1.515로 측정되었고, 열처리 후에는 1.658로 굴절률이 증가되었다.
아울러, 다수의 결정화 입자(120)가 감광성 유리(110) 내부에 형성됨에 따라 감광성 유리(110)의 표면은 표면조도가 1㎛ 이하인 고 평탄면으로 이루어지게 된다.
즉, 본 발명의 실시 예에 따르면, 굴절률 1.65 이상, 투과율 50% 이상 및 표면조도 1㎛ 이하의, 결정화 입자(120) 및 감광성 유리(110)로 이루어진 유기발광소자용 기판(100)을 제조할 수 있고, 이를 유기발광소자(도 1의 1)의 외부 뿐만 아니라 내부 광추출 기판으로도 사용할 수 있게 된다.
또한, 본 발명의 실시 예에 따른 유기발광소자용 기판 제조방법을 통해 유기발광소자용 기판(100)을 제조하면, 기판 유리의 일면과 타면에 각각 외부 광추출층 및 내부 광추출층이 형성된 종래의 유기발광소자보다 구조를 단순화시킬 수 있어, 구조적 안정성을 확보할 수 있고, 기판 유리와 별도로 형성되던 외부, 내부 광추출층 및 평탄막 등을 생략할 수 있어, 제조 공정을 단순화시킬 수 있고, 제조 원가를 절감할 수 있다.
이상과 같이 본 발명은 비록 한정된 실시 예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 상기의 실시 예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다.
그러므로 본 발명의 범위는 설명된 실시 예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
100: 유기발광소자용 기판 110: 기판몸체
111: 패턴부 112: 비패턴부
120: 결정화 입자 10: 포토 마스크
11: 광투과부 1: 유기발광소자
11: 애노드 12: 유기 발광층
13: 캐소드

Claims (10)

  1. 유기발광소자로부터 발광된 빛이 외부로 방출되는 일면에 배치되는 기판에 있어서,
    기판몸체; 및
    상기 기판몸체 내부에 형성되어 있는 다수의 결정화 입자;
    를 포함하되,
    상기 다수의 결정화 입자는 상기 기판몸체 내부에서 패턴을 이루는 것을 특징으로 하는 유기발광소자용 기판.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 패턴은 상기 기판몸체 대비 50~90% 면적을 차지하고 있는 것을 특징으로 하는 유기발광소자용 기판.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 결정화 입자는 10~100㎚ 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 유기발광소자용 기판.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 기판몸체는 감광성 유리로 이루어진 것을 특징으로 하는 유기발광소자용 기판.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 기판몸체는 리튬 실리케이트계 유리로 이루어지고 감광성 금속을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자용 기판.
  6. 제1항에 있어서,
    굴절률이 1.65 이상인 것을 특징으로 하는 유기발광소자용 기판.
  7. 제1항에 있어서,
    투과율이 50% 이상인 것을 특징으로 하는 유기발광소자용 기판.
  8. 감광성 유리를 준비하는 준비단계;
    상기 감광성 유리 상에 광투과부가 형성되어 있는 포토 마스크를 배치하는 포토 마스크 배치단계;
    상기 포토 마스크를 통해 상기 감광성 유리를 노광하는 노광단계; 및
    노광된 상기 감광성 유리를 열처리하여 상기 감광성 유리 내부에 패턴화된 다수의 결정화 입자를 형성하는 결정화 입자 형성단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자용 기판 제조방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 감광성 유리로는 감광성 금속이 포함되어 있는 리튬 실리케이트계 유리를 사용하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자용 기판 제조방법.
  10. 제1항에 따른 유기발광소자용 기판을 발광된 빛이 방출되는 일면에 배치되는 광추출 기판으로 구비하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자.
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