KR20140118735A - Intermittent coating apparatus and coating film forming system - Google Patents

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Abstract

Provided is an intermittent coating apparatus in which vibration transferred from a switching unit to a nozzle may be reduced. A coating nozzle (11) ejects a coating liquid onto a substrate (5). A supply pipe (30) is connected to the coating nozzle (11) and the coating liquid flows toward the coating nozzle (11). A switching unit (32) repeatedly switches opening/closing of the supply pipe (30) so that the coating liquid is intermittently ejected from the coating nozzle (11). The coating nozzle (11) is placed on a nozzle base (50). A base (60) of the switching unit is a body separated from the nozzle base (50), and the switching unit (32) is placed thereon.

Description

간헐 도공 장치 및 도막 형성 시스템{INTERMITTENT COATING APPARATUS AND COATING FILM FORMING SYSTEM}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an intermittent coating apparatus and a coating film forming system,

이 발명은, 노즐로부터 기재를 향해 도공(塗工)액을 간헐적으로 도공하는 간헐 도공 장치 및 그 간헐 도공 장치를 가지는 도막 형성 시스템에 관한 것이다. The present invention relates to an intermittent coating apparatus for intermittently coating a coating liquid from a nozzle toward a substrate and a coating film forming system having the intermittent coating apparatus.

종래부터, 리튬 이온 전지 등의 화학 전지의 제조에 있어서는, 기재로서의 금속박 상에 노즐로부터 비교적 고점도의 전극 재료의 도공액을 토출하여 도공막을 형성하는 도공 장치가 사용되고 있다. 이러한 도공 장치에는, 전극 재료를 단속적으로 도공하여 도공 영역과 비도공 영역을 교호로 형성하는 간헐 도공을 행하는 것이 있다(예를 들면, 특허 문헌 1). Conventionally, in the production of a chemical cell such as a lithium ion battery, a coating apparatus for discharging a coating solution of an electrode material having a relatively high viscosity from a nozzle onto a metal foil as a base material to form a coating film is used. Such a coating apparatus includes intermittently coating an electrode material intermittently to form a coating region and a non-coating region alternately (see, for example, Patent Document 1).

특허 문헌 1에 개시된 간헐 도공을 행하는 장치에 있어서는, 미소한 슬릿형상의 토출구를 가지는 슬롯 다이로부터 도공액을 단속적으로 토출한다. 이 장치에서는, 도액 저장 수단으로부터 슬롯 다이에 연결되는 송액 경로로부터 분기하여 릴리프 경로가 설치되어 있으며, 삼방 밸브에 의해 경로를 반복해서 전환함으로써 간헐 도공이 행해진다. 비도공 시에 릴리프 경로에 흘러든 도공액은 도액 저장 수단으로 환류된다. In the apparatus for performing intermittent coating disclosed in Patent Document 1, the coating liquid is intermittently discharged from a slot die having a discharge port of a small slit shape. In this apparatus, a relief path is provided by branching from the liquid feed path connected to the slot die from the liquid storage means, and the intermittent coating is performed by repeatedly switching the path by the three-way valve. The coating liquid flowing into the relief path at the time of non-coating is refluxed to the coating liquid storing means.

또 본 발명에 관련된 기술로서 특허 문헌 2가 개시되어 있다. Patent Document 2 is disclosed as a technique related to the present invention.

일본국 특허공개 2012-30193호 공보Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-30193 일본국 특허공개 2011-83719호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-83719

간헐 도공을 행할 때에는, 슬롯 다이의 토출구와 기재의 간격을 정밀도 있게 유지하는 것이 중요해진다. 토출구가 기재에 대해 변동되면, 원하는 형상으로 정밀도 있게 도공 영역을 형성할 수 없기 때문이다. When performing intermittent coating, it is important to precisely maintain the interval between the discharge port of the slot die and the substrate. This is because, if the discharge port varies with respect to the substrate, a coating region can not be formed with a desired shape with high accuracy.

그런데 간헐 도공은 예를 들면 삼방 밸브에 의해 경로를 반복해서 전환함으로써 행해지므로, 경로의 전환은 기계적인 동작(배관의 개폐)을 수반하므로, 상기 전환에 따라 삼방 밸브에는 진동이 발생한다. 그리고, 이 진동이 토출구로 전달되면, 토출구와 기재의 간격에 변동이 생길 수 있다. 이것은 상기 서술한 대로 바람직하지 않다. However, since the intermittent coating is performed by, for example, repeatedly switching the path by the three-way valve, the switching of the path involves a mechanical operation (opening and closing of the pipe). When this vibration is transmitted to the discharge port, the interval between the discharge port and the substrate may vary. This is not preferable as described above.

본 발명은, 상기 과제를 감안하여 이루어진 것이며, 전환 수단으로부터 노즐로 전달되는 진동을 저감할 수 있는 간헐 도공 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide an intermittent coating apparatus capable of reducing vibration transmitted from a switching means to a nozzle.

상기 과제를 해결하기 위해, 청구항 1의 발명은, 노즐로부터 기재를 향해 도공액을 간헐적으로 도공하는 간헐 도공 장치로서, 노즐과, 상기 노즐에 접속되며, 도공액이 상기 노즐을 향해 흐르는 공급 배관과, 상기 공급 배관의 개폐를 반복해서 전환함으로써, 상기 노즐로부터 상기 기재를 향해 상기 도공액을 간헐적으로 토출시키는 전환 수단과, 상기 노즐이 올려놓아지는 노즐 베이스와, 상기 노즐 베이스와 별체이며, 상기 전환 수단이 올려놓아지는 전환 수단 베이스를 구비하는 것을 특징으로 한다. According to a first aspect of the present invention, there is provided an intermittent coating apparatus for intermittently coating a coating liquid from a nozzle toward a substrate, the apparatus comprising: a nozzle; a supply pipe connected to the nozzle, Switching means for intermittently discharging the coating liquid from the nozzle toward the substrate by repeatedly switching on / off the supply pipe, a nozzle base on which the nozzle is mounted, And a switching means base on which the means is mounted.

또, 청구항 2의 발명은, 청구항 1의 발명에 관련된 도공 장치에 있어서, 상기 노즐 베이스를 이동시켜 상기 노즐의 상기 기재에 대한 위치를 조정하는 노즐 이동 수단과, 상기 노즐 이동 수단에 의한 상기 노즐 베이스의 이동 방향과 동일한 방향으로 상기 전환 수단을 이동시키는 전환 이동 수단을 더 구비하는 것을 특징으로 한다. According to a second aspect of the present invention, there is provided a coating apparatus according to the first aspect of the invention, comprising: nozzle moving means for moving the nozzle base to adjust the position of the nozzle with respect to the base material; And a switching means for moving the switching means in the same direction as the moving direction of the switching means.

또, 청구항 3의 발명은, 청구항 2에 기재된 간헐 도공 장치에 있어서, 상기 노즐 이동 수단은 상기 노즐 베이스를 수평 방향으로 이동시키고, 상기 전환 이동 수단은, 임의의 수평 방향으로 상기 전환 수단을 자유롭게 이동 가능하며, 상기 노즐의 이동이 상기 공급 배관을 통하여 전달됨으로써, 상기 이동 방향과 동일한 방향으로 상기 전환 수단을 이동시키는 것을 특징으로 한다. According to a third aspect of the present invention, in the intermittent coating apparatus according to the second aspect, the nozzle moving means moves the nozzle base in the horizontal direction, and the switching moving means freely moves the switching means in an arbitrary horizontal direction And the movement of the nozzle is transmitted through the supply pipe, thereby moving the switching means in the same direction as the moving direction.

또, 청구항 4의 발명은, 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 기재된 간헐 도공 장치에 있어서, 상기 전환 수단 베이스에 설치되며, 상기 전환 수단으로부터 상기 노즐로의 진동 전달을 억제하는 진동 억제 수단을 더 구비하는 것을 특징으로 한다. According to a fourth aspect of the present invention, in the intermittent coating apparatus according to any one of the first to fourth aspects, the vibration suppressing means provided in the switching means base for suppressing transmission of vibration from the switching means to the nozzle .

또, 청구항 5의 발명은, 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 기재된 간헐 도공 장치와, 상기 간헐 도공 장치에 의해 상기 도공액이 도포된 상기 기재에 대해 가열 처리를 행하여 상기 도공액을 건조시키는 건조 수단과, 상기 기재를 상기 간헐 도공 장치 및 상기 건조 수단으로 순서대로 반송하는 반송 수단을 구비한다. According to a fifth aspect of the present invention, there is provided an intermittent coating apparatus comprising: the intermittent coating apparatus according to any one of claims 1 to 5; and a heat treatment apparatus for performing a heat treatment on the substrate coated with the coating liquid by the intermittent coating apparatus, Drying means, and conveying means for conveying the substrate to the intermittent coating apparatus and the drying means in order.

간헐 도공 장치에 있어서는, 노즐과 전환 수단 사이의 공급 배관이 짧게 설정된다. 이것은, 전환 수단에 의한 공급 배관의 개폐의 전환을, 노즐에서의 간헐적인 토출(즉, 토출/정지)에 신속하게 반영시키기 위해서이다. 그리고 서로 근거리에 배치되는 부재는 통상은 동일체의 베이스형상으로 올려놓아진다. In the intermittent coating apparatus, the supply pipe between the nozzle and the switching means is set short. This is to quickly reflect the switching of the opening and closing of the supply pipe by the switching means into the intermittent discharge (i.e., discharge / stop) in the nozzle. The members disposed in close proximity to each other are usually placed in the base shape of the same body.

한편으로 청구항 1, 5의 발명에 의하면, 이와 같이 근거리에 배치되는 노즐과 전환 수단이 별체의 노즐 베이스와 전환 수단 베이스에 각각 올려놓아진다. 전환 수단에 의한 공급 배관의 개폐의 전환은 기계적 변화를 수반하여 진동이 발생하므로, 이 진동이 베이스를 통하여 노즐에 전달되기 어렵다. 노즐의 진동은 간헐 도공의 정밀도를 악화시키므로, 이러한 간헐 도공의 정밀도 악화를 억제할 수 있다. On the other hand, according to the invention of Claims 1 and 5, the nozzles and the switching means disposed in such proximity are placed on the separate nozzle base and switching means base, respectively. The switching of the opening and closing of the supply pipe by the switching means is accompanied by a mechanical change, so that the vibration is hardly transmitted to the nozzle through the base. Vibration of the nozzle deteriorates the precision of the intermittent coating, so that the deterioration in accuracy of such intermittent coating can be suppressed.

청구항 2의 발명에서는 노즐과 전환 수단의 위치 관계가 변화되기 어렵기 때문에, 공급 배관에 발생하는 응력을 저감할 수 있다. 특히, 간헐 도공 장치에 있어서는 노즐과 전환 수단 사이의 거리가 짧다. 따라서 만일 전환 수단의 위치가 고정되어 있으면, 노즐의 이동에 수반하여 비교적 큰 공급 배관에 응력이 발생한다. 따라서, 응력을 저감할 수 있는 청구항 2의 발명은 간헐 도공 장치에 있어서 특히 적합해지는 것이다. According to the invention of claim 2, since the positional relationship between the nozzle and the switching means is unlikely to change, the stress generated in the supply pipe can be reduced. Particularly, in the intermittent coating apparatus, the distance between the nozzle and the switching means is short. Therefore, if the position of the switching means is fixed, a stress is generated in a relatively large supply pipe with the movement of the nozzle. Therefore, the invention of Claim 2 capable of reducing the stress is particularly suitable for the intermittent coating apparatus.

한편으로 청구항 2의 발명에서는, 전환 수단이 이동한다. 따라서 전환 수단의 상류측(노즐과는 반대측)의 부재, 예를 들면 도공액을 저류하는 저류 수단과, 전환 수단 사이의 상대 위치가 변화될 수 있다. 그런데 간헐 도공의 정밀도 향상이라는 관점에서, 전환 수단의 상류측의 배관 길이를 짧게 설정할 필요성은 낮다. 따라서 상기 배관 길이를 길게 설정할 수 있다. 이와 같이 배관 길이를 길게 설정하면, 전환 수단의 이동에 수반하는 배관의 응력은 작아, 문제가 되기 어렵다. On the other hand, in the invention of claim 2, the switching means moves. Therefore, the relative position between the member on the upstream side (the side opposite to the nozzle) of the switching means, for example, the storing means for storing the coating liquid, and the switching means can be changed. However, from the viewpoint of improving the precision of intermittent coating, it is not necessary to shorten the pipe length on the upstream side of the switching means. Therefore, the pipe length can be set long. If the length of the piping is set long, the stress of the piping due to the movement of the switching means is small, which is not a problem.

청구항 3의 발명에 의하면, 전환 이동 수단이 임의의 수평 방향으로 전환 수단을 자유롭게 이동 가능함으로써, 노즐 이동 수단에 대해 전환 이동 수단의 위치 맞춤을 불필요하게 할 수 있다. According to the invention of claim 3, since the switching means can freely move the switching means in an arbitrary horizontal direction, the positioning of the switching means can be made unnecessary for the nozzle moving means.

또 노즐의 위치가 고정되고 간헐 도공이 행해졌을 때에, 전환 수단은, 자신의 전환 동작에 기인하여 수평 방향으로 이동할 수 있으므로, 전환 수단 베이스를 통한 노즐로의 진동이 전달되기 어렵다. Further, when the position of the nozzle is fixed and the intermittent coating is performed, the switching means can move in the horizontal direction due to the switching operation of the switching means, so that the vibration to the nozzle through the switching means base is hardly transmitted.

청구항 4의 발명에 의하면, 진동의 전달을 더 억제할 수 있다. According to the invention of claim 4, transmission of vibration can be further suppressed.

도 1은 본 발명에 관련된 간헐 도공 장치를 장착한 도막 형성 시스템의 전체 구성을 나타내는 도이다.
도 2는 본 발명에 관련된 간헐 도공 장치의 개략 구성을 나타내는 도이다.
도 3은 본 발명에 관련된 간헐 도공 장치의 일부의 개략 구성을 나타내는 사시도이다.
도 4는 본 발명에 관련된 간헐 도공 장치의 일부의 개략 구성을 나타내는 사시도이다.
도 5는 본 발명에 관련된 간헐 도공 장치의 일부의 개략 구성을 나타내는 도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a diagram showing the overall configuration of a coating film forming system equipped with an intermittent coating apparatus according to the present invention; Fig.
Fig. 2 is a diagram showing a schematic configuration of an intermittent coating apparatus according to the present invention.
3 is a perspective view showing a schematic structure of a part of an intermittent coating apparatus according to the present invention.
4 is a perspective view showing a schematic structure of a part of an intermittent coating apparatus according to the present invention.
5 is a diagram showing a schematic configuration of a part of an intermittent coating apparatus according to the present invention.

이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 실시의 형태에 대해서 상세하게 설명한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

<도막 형성 시스템의 전체 구성>≪ Overall Construction of Coating Film Forming System >

도 1은, 본 발명에 관련된 간헐 도공 장치를 장착한 도막 형성 시스템(1)의 전체 구성을 나타내는 도이다. 또한, 도 1 및 이후의 각 도에 있어서는, 이해의 용이를 위해, 필요에 따라 각 부의 치수나 수를 과장 또는 간략화해서 그리고 있다.  1 is a diagram showing the entire configuration of a coating film forming system 1 equipped with an intermittent coating apparatus according to the present invention. In Fig. 1 and the subsequent figures, for ease of understanding, the dimensions and the number of each part are exaggerated or simplified as necessary.

이 도막 형성 시스템(1)은, 기재로서의 금속박 상에 전극 재료인 활물질의 도공액을 도공하고, 그 도공액의 건조 처리를 행하여 리튬 이온 2차 전지의 전극 제조를 행하는 장치이다. 도막 형성 시스템(1)은, 간헐 도공 장치(10), 건조부(70) 및 반송 기구(80)를 구비한다. 또, 도막 형성 시스템(1)은, 시스템 전체를 관리하는 제어부(90)를 구비한다. This coating film forming system 1 is an apparatus for manufacturing a lithium ion secondary battery by coating a coating liquid of an active material, which is an electrode material, on a metal foil as a base material and drying the coating liquid. The coating film forming system 1 includes an intermittent coating apparatus 10, a drying unit 70, and a transport mechanism 80. The coating film forming system 1 also includes a control unit 90 for managing the entire system.

기재(5)는, 리튬 이온 2차 전지의 집전체로서 기능하는 금속박이다. 도막 형성 시스템(1)에서 리튬 이온 2차 전지의 양극을 제조하는 경우에는, 기재(5)로서 예를 들면 알루미늄박(Al)을 이용할 수 있다. 또, 도막 형성 시스템(1)에서 음극을 제조하는 경우에는, 기재(5)로서 예를 들면 구리박(Cu)을 이용할 수 있다. 기재(5)는 장척의 시트형상의 금속박이며, 그 폭 및 두께에 대해서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 폭 600mm~700mm, 두께 10μm~20μm로 할 수 있다. The base material 5 is a metal foil that functions as a current collector of the lithium ion secondary battery. In the case of producing the anode of the lithium ion secondary battery in the coating film forming system 1, for example, an aluminum foil (Al) can be used as the base material 5. [ In the case of manufacturing the negative electrode in the coating film forming system 1, copper foil (Cu), for example, can be used as the base material 5. The substrate 5 is a long metal foil and its width and thickness are not particularly limited. For example, the width may be 600 mm to 700 mm and the thickness may be 10 m to 20 m.

장척의 기재(5)는, 권출 롤러(81)로부터 송출되어 권취 롤러(82)에 의해 권취됨으로써, 간헐 도공 장치(10), 건조부(70)의 순서로 반송된다. 반송 기구(80)는, 이들 권출 롤러(81) 및 권취 롤러(82)와 복수의 보조 롤러(83)를 구비하여 구성된다. 또한, 보조 롤러(83)의 개수 및 배치 위치에 대해서는, 도 1의 예에 한정되는 것이 아니며, 필요에 따라 적절하게 증감시킬 수 있다. The elongated base material 5 is transported in the order of the intermittent coating apparatus 10 and the drying unit 70 by being discharged from the take-up roller 81 and wound up by the take-up roller 82. [ The conveying mechanism 80 is constituted by the take-up roller 81 and the take-up roller 82 and a plurality of auxiliary rollers 83. The number and position of the auxiliary rollers 83 are not limited to those shown in Fig. 1, and can be increased or decreased as necessary.

건조부(70)는, 간헐 도공 장치(10)에서 기재(5) 상에 형성된 도공액의 도막의 건조 처리를 행한다. 건조부(70)는, 반송 기구(80)에 의해 반송되는 기재(5)를 가열함으로써, 도공액으로부터 용제를 증발시켜 건조 처리를 행한다. 건조부(70)는, 예를 들면, 도공액의 도막을 완만하게 승온시키는 예열부, 도막을 소정 온도에까지 승온시켜 주된 가열을 행하는 메인 건조부, 도막을 보다 고온으로 가열시켜 막 중의 변형이나 잔류 응력을 제거하는 어닐부, 가열된 도막을 냉각하는 냉각 부 등을 구비하고 있어도 된다. The drying section 70 performs drying treatment of the coating film of the coating liquid formed on the base material 5 in the intermittent coating apparatus 10. The drying section 70 heats the substrate 5 conveyed by the conveying mechanism 80 to evaporate the solvent from the coating liquid to perform the drying treatment. The drying section 70 is provided with a preheating section for gently raising the coating film of the coating liquid, a main drying section for heating the coating film up to a predetermined temperature to perform the main heating, An annealing portion for removing stress, a cooling portion for cooling the heated coating film, and the like.

<도공 장치><Coating device>

도 2는, 본 발명에 관련된 간헐 도공 장치(10)의 개략 구성을 나타내는 도이다. 간헐 도공 장치(10)는, 주된 요소로서 도공 노즐(11), 저류 탱크(20), 공급 배관(30, 37) 및 순환 배관(40)을 구비한다. 저류 탱크(20)는, 리튬 이온 2차 전지의 전극 재료인 활물질의 용액을 도공액으로서 저류한다. 도막 형성 시스템(1)에서 양극을 제조하는 경우에는, 양극 재료의 도공액으로서, 예를 들면 양극 활물질인 코발트산 리튬(LiCoO2), 도전조제인 카본(C), 결착제인 폴리불화비닐리덴(PVDF), 용제인 N-메틸-2-피롤리돈(NMP)의 혼합액을 저류한다. 코발트산 리튬 대신에, 양극 활물질로서 니켈산 리튬(LiNiO2), 망간산 리튬(LiMn2O4), 인산철리튬(LiFePO4) 등을 이용할 수도 있다. Fig. 2 is a view showing a schematic structure of an intermittent coating apparatus 10 according to the present invention. The intermittent coating apparatus 10 is provided with a coating nozzle 11, a storage tank 20, supply pipes 30 and 37 and a circulation pipe 40 as main elements. The storage tank 20 stores a solution of an active material, which is an electrode material of a lithium ion secondary battery, as a coating solution. In the case of producing the positive electrode in the coating film forming system 1, for example, lithium cobalt oxide (LiCoO 2 ) as a positive electrode active material, carbon (C) as a conductive additive, polyvinylidene fluoride PVDF) and N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) as a solvent are stored. Lithium nickel oxide (LiNiO 2 ), lithium manganese oxide (LiMn 2 O 4 ), lithium iron phosphate (LiFePO 4 ), or the like may be used as the positive electrode active material in place of lithium cobalt oxide.

한편, 도막 형성 시스템(1)에서 음극을 제조하는 경우에는, 음극 재료의 도공액으로서, 예를 들면 음극 활물질인 흑연(그래파이트), 결착제인 PVDF, 용제인 NMP의 혼합액을 저류 탱크(20)에 저류한다. 흑연 대신에, 음극 활물질로서 하드 카본, 티탄산 리튬(Li4Ti5O12), 실리콘 합금, 주석 합금 등을 이용할 수도 있다. 또, 양극 재료 및 음극 재료의 쌍방에 있어서, 결착제로서 PVDF 대신에 스티렌-부타디엔 고무(SBR) 등을 사용할 수 있으며, 용제로서 NMP 대신에 물(H2O) 등을 사용할 수 있다. 또한, 결착제로서 SBR, 용제로서 물을 이용하는 경우에는, 증점제로서 카르복시메틸셀룰로오스(CMC)를 병용할 수도 있다. 이들 양극 재료 및 음극 재료의 도공액은 고체(미립자)가 분산된 슬러리이며 그 점도는 모두 1Pa·s(파스칼초) 이상이며, 일반적으로 틱소트로피성을 가진다. On the other hand, when the negative electrode is manufactured in the coating film forming system 1, a mixed liquid of graphite (graphite) as a negative electrode active material, PVDF as a binder, and NMP as a solvent is used as a coating material for a negative electrode material in the storage tank 20 It keeps. Instead of graphite, hard carbon, lithium titanate (Li 4 Ti 5 O 12 ), silicon alloy, tin alloy, or the like may be used as the negative electrode active material. Styrene-butadiene rubber (SBR) or the like may be used instead of PVDF as a binder in both the positive electrode material and the negative electrode material, and water (H 2 O) or the like may be used instead of NMP as a solvent. When SBR is used as a binder and water is used as a solvent, carboxymethyl cellulose (CMC) may be used in combination as a thickening agent. The coating liquid of the cathode material and the cathode material is a slurry in which solid (fine particles) are dispersed and has a viscosity of 1 Pa · s (Pascal second) or more, and generally has thixotropy.

저류 탱크(20)에는, 교반기 및 에어 가압 유닛 등이 부설되어 있어도 된다. 교반기는, 저류 탱크(20)에 저류되어 있는 도공액을 교반하여 농도 분포를 균일하게 한다. 에어 가압 유닛은, 고압의 공기를 저류 탱크(20) 내의 기상 부분에 송입하여 저류되어 있는 도공액의 액면을 가압한다. The storage tank 20 may be provided with a stirrer and an air pressure unit. The agitator stirs the coating solution stored in the storage tank 20 to make the concentration distribution uniform. The air pressurizing unit feeds the high pressure air into the vapor phase portion in the storage tank 20 to pressurize the liquid level of the stored coating liquid.

저류 탱크(20)와 도공 노즐(11)은 공급 배관(30, 37)에 의해 연통 접속되어 있다. 공급 배관(37)은, 저류 탱크(20)에 저류되어 있는 도공액을 공급 밸브(32)를 향해 공급한다. 공급 배관(30)은, 공급 밸브(32)로부터의 도공액을 도공 노즐(11)을 향해 공급한다. 공급 배관(30, 37)으로서는, 스테인레스관 또는 수지관(플렉서블 배관을 포함한다, 이하 동일)을 이용할 수 있다. 공급 배관(37)의 경로 도중에는 펌프(31)가 끼워지고, 공급 배관(30)의 경로 도중에는 필터(33) 및 시린지(36)가 끼워져 있다. 또, 공급 배관(37)의 경로 도중부터 분기하여 순환 배관(40)이 설치되어 있다. 순환 배관(40)의 기단측은, 펌프(31)보다 하류측(도공 노즐(11)에 가까운 측)의 위치에서 공급 배관(37)에 접속되며, 선단측은 저류 탱크(20)에 접속되어 있다. The reservoir tank 20 and the coating nozzle 11 are communicatively connected by supply pipes 30 and 37. The supply pipe 37 supplies the coating liquid stored in the storage tank 20 toward the supply valve 32. The supply piping 30 supplies the coating liquid from the supply valve 32 toward the coating nozzle 11. As the supply pipes 30 and 37, a stainless pipe or a resin pipe (including a flexible pipe, hereinafter the same) can be used. A pump 31 is inserted in the path of the supply pipe 37 and a filter 33 and a syringe 36 are inserted in the path of the supply pipe 30. In addition, the circulation pipe 40 is branched from the path of the supply pipe 37. The proximal end side of the circulation pipe 40 is connected to the supply pipe 37 at a position on the downstream side of the pump 31 (on the side closer to the coating nozzle 11) and the distal end side is connected to the reservoir tank 20.

펌프(31)는, 순환 배관(40)의 접속 부위보다 상류측(저류 탱크(20)에 가까운 측)에 설치되어 있으며, 제어부(90)에 의해 제어되어, 저류 탱크(20)에 저류되어 있는 전극 재료의 도공액을 공급 배관(37)에 압송한다. 공급 밸브(32)는, 제어부(90)에 의해 제어되어, 공급 배관(30)의 유로를 반복해서 개폐한다. 이것에 의해, 도공 노즐(11)로의 도공액의 공급/정지가 반복해서 전환된다. 필터(33)는, 공급 밸브(32)와, 공급 배관(30)의 경로에 있어서의 순환 배관(40)과의 접속 부위 사이에 끼워져, 공급 배관(30)의 도공 노즐(11)을 향해 흐르는 도공액으로부터 이물을 제거한다. 시린지(36)는 공급 밸브(32)와 도공 노즐(11) 사이에 설치되어 있다. 시린지(36)는, 제어부(90)에 의해 제어되어, 공급 밸브(32)를 폐지할 때에 공급 배관(30)으로부터 도공액을 흡입한다. 이것에 의해, 도공 노즐(11)로부터의 도공액의 토출을 신속하게 정지시킬 수 있다. The pump 31 is provided on the upstream side (the side near the storage tank 20) with respect to the connecting portion of the circulation pipe 40 and is controlled by the control unit 90 to store the pump 31 in the storage tank 20 And the coating liquid of the electrode material is fed to the supply pipe 37. The supply valve 32 is controlled by the control unit 90 to repeatedly open and close the flow path of the supply pipe 30. As a result, supply / stop of the coating liquid to the coating nozzle 11 is repeatedly switched. The filter 33 is sandwiched between the supply valve 32 and the connection portion between the circulation pipe 40 in the path of the supply pipe 30 and flows toward the coating nozzle 11 of the supply pipe 30 The foreign substance is removed from the coating liquid. A syringe 36 is provided between the supply valve 32 and the coating nozzle 11. The syringe 36 is controlled by the control unit 90 to suck the coating liquid from the supply pipe 30 when the supply valve 32 is closed. Thus, the discharge of the coating liquid from the coating nozzle 11 can be quickly stopped.

도공 노즐(11)은, 기재(5)의 폭방향을 따라 슬릿형상의 토출구(11a)를 설치한 슬릿 노즐이다. 도공 노즐(11)은, 공급 배관(37, 30)을 경유하여 송급된 도공액을 백업 롤러(12)에 가압 지지된 상태로 주행하는 기재(5)의 표면에 토출구(11a)로부터 도공한다. 도공 노즐(11)에는, 백업 롤러(12)와 토출구(11a)의 간격을 조정하는 노즐용 이동 기구(51) 및 자세를 규정하는 자세 조정 기구(도시 생략)가 설치되어 있다. The coating nozzle 11 is a slit nozzle provided with a discharge port 11a having a slit shape along the width direction of the substrate 5. [ The coating nozzle 11 is coated on the surface of the substrate 5 running from the discharge port 11a while the coating liquid fed via the supply lines 37 and 30 is pressed and supported by the backup roller 12. The pouring nozzle 11 is provided with a nozzle moving mechanism 51 for adjusting the distance between the backup roller 12 and the ejection opening 11a and an attitude adjusting mechanism (not shown) for defining the attitude.

공급 배관(37)의 경로 도중부터 분기하여 설치된 순환 배관(40)의 선단측은 저류 탱크(20)에 접속되어 있다. 공급 배관(30, 37)과 마찬가지로, 순환 배관(40)으로서도 스테인레스관 또는 수지관을 이용할 수 있다. 순환 배관(40)은, 저류 탱크(20)로부터 송출되어, 공급 배관(30)으로부터 흘러든 도공액을 저류 탱크(20)에 환류시킨다. 순환 배관(40)에는, 순환 밸브(41) 및 필터(43)가 끼워져 있다. 순환 밸브(41)는, 제어부(90)에 의해 제어되어, 순환 배관(40)의 유로를 개폐한다. 필터(43)는, 순환 밸브(41)와 저류 탱크(20) 사이에 설치되어 있어, 순환 배관(40)의 저류 탱크(20)를 향해 흐르는 도공액으로부터 이물을 제거한다. The distal end side of the circulation pipe 40 branched from the path of the supply pipe 37 is connected to the reservoir tank 20. Like the supply pipes 30 and 37, a stainless pipe or a resin pipe can also be used as the circulation pipe 40. The circulation piping 40 conveys the coating liquid discharged from the storage tank 20 and flowing from the supply piping 30 to the storage tank 20. A circulation valve (41) and a filter (43) are fitted in the circulation pipe (40). The circulation valve (41) is controlled by the control unit (90) to open and close the flow path of the circulation pipe (40). The filter 43 is provided between the circulation valve 41 and the reservoir tank 20 to remove foreign matter from the coating solution flowing toward the reservoir tank 20 of the circulation pipe 40.

순환 밸브(41)를 폐지하면서 공급 밸브(32)를 개방하면, 저류 탱크(20)로부터 송출된 도공액은 공급 배관(37, 30)의 전체에 걸쳐 흘러, 도공 노즐(11)로 공급된다. When the supply valve 32 is opened while the circulation valve 41 is closed, the coating liquid delivered from the storage tank 20 flows over the entire supply piping 37 and 30 and is supplied to the coating nozzle 11.

한편, 공급 밸브(32)를 폐지하면서 순환 밸브(41)를 개방하면, 저류 탱크(20)로부터 송출된 도공액은 공급 배관(37)의 도중까지 흘러 순환 배관(40)에 유입되고, 다시 저류 탱크(20)로 환류된다. 즉, 공급 밸브(32)는, 저류 수단으로부터 송입되는 도공액의, 공급 배관(30)을 통한 도공 노즐(11)로의 송출/정지를 반복해서 전환함으로써, 도공액을 도공 노즐(11)로부터 간헐적으로 토출시키는 전환 수단으로서 기능한다. On the other hand, when the circulation valve 41 is opened while the supply valve 32 is being closed, the coating liquid delivered from the storage tank 20 flows to the middle of the supply pipe 37 and flows into the circulation pipe 40, And is returned to the tank 20. That is, the supply valve 32 repeatedly switches the supply / stop of the coating liquid fed from the storage means to the coating nozzle 11 through the supply pipe 30 so that the coating liquid is supplied from the coating nozzle 11 intermittently As shown in Fig.

또 공급 밸브(32)의 폐지에 수반하여, 시린지(36)가 공급 배관(30)으로부터 도공액을 빼낸다. 이것에 의해, 토출구(11a)의 도공액이 공급 밸브(32)측에 흡인되어, 도공액이 떨어지는 것을 억제한다. The syringe 36 draws the coating liquid from the supply pipe 30 in accordance with the disposal of the supply valve 32. As a result, the coating liquid on the discharge port 11a is sucked to the supply valve 32 side, thereby suppressing the coating liquid from falling off.

공급 밸브(32) 및 순환 밸브(41)의 개폐의 타이밍은 제어부(90)에 의해 적절하게 제어되어, 이 개폐를 반복해서 전환함으로써, 기재(5)의 소정 위치에 소정 폭으로 도공액이 간헐적으로 도포된다. The timings of the opening and closing of the supply valve 32 and the circulation valve 41 are appropriately controlled by the control unit 90 so that the coating liquid is intermittently .

또, 도 2의 예시에서는, 압력계(35)가 부설되어 있다. 압력계(35)는 예를 들면, 순환 배관(40)과의 접속 부위와 펌프(31) 사이의 위치에서 공급 배관(37)에 설치된다. 압력계(35)가 계측하는 측정값은 제어부(90)에 출력된다. 제어부(90)는 예를 들면 상기 압력이 원하는 값이 되도록 펌프(31)의 구동 속도(회전 속도)를 제어할 수 있다. In the example of Fig. 2, a pressure gauge 35 is provided. The pressure gauge 35 is installed in the supply pipe 37 at a position between the connection portion with the circulation pipe 40 and the pump 31, for example. The measurement value measured by the pressure gauge 35 is output to the control unit 90. [ The control unit 90 can control the driving speed (rotation speed) of the pump 31 so that the pressure becomes a desired value, for example.

그런데 간헐 도공 장치에 있어서는, 상기 서술한 대로, 공급 배관(30)의 기단에 설치되는 공급 밸브(32)를 개폐 제어함으로써, 공급 배관(30)의 선단에 설치되는 도공 노즐(11)로부터의 간헐 도공을 제어한다. 또, 공급 밸브(32)가 닫힐 때에는, 시린지(36)가 공급 배관(30)으로부터 도공액을 흡입함으로써, 도공 노즐(11)로부터의 토출을 신속하게 정지시킨다. In the intermittent coating apparatus, as described above, by opening and closing the supply valve 32 provided at the base end of the supply pipe 30, the intermittent supply from the paint nozzle 11 provided at the tip of the supply pipe 30 Control the coating. When the supply valve 32 is closed, the syringe 36 sucks the coating liquid from the supply piping 30 to quickly stop the discharge from the coating nozzle 11.

따라서 공급 배관(30)의 배관 길이가 간헐 도공의 응답성에 영향을 준다. 여기서 말하는 응답성이란, 공급 밸브(32)의 개/폐로부터 도공액의 도공 노즐(11)로부터의 토출/정지까지의 시간적인 응답성을 말한다. 이 응답성은 배관 길이가 길수록 낮아진다. 보다 상세하게 그 이유에 대해서 설명하면, 공급 배관(30)을 흐르는 도공액에는 미소 기포가 포함되어 있으며, 이 미소 기포는 쿠션의 역할을 하게 되어, 도공 노즐(11)로부터 떨어지는 도공액을 흡입하기 어렵게 한다. 그리고 배관 길이가 길수록 미소 기포가 많이 포함되므로, 보다 도공액을 흡입하기 어려워지는 것이다. 따라서, 공급 밸브(32)가 폐지될 때에 시린지(36)가 도공액을 흡입했다고 해도, 배관 길이가 긴 경우에는 도공 노즐(11)로부터 도공액이 떨어질 가능성이 있는 것이다. 이것에 의해, 응답성이 열화된다. Therefore, the piping length of the supply pipe 30 affects the responsiveness of the intermittent coating. The responsiveness referred to herein refers to the temporal responsiveness from the opening / closing of the supply valve 32 to the discharge / stop of the coating liquid from the coating nozzle 11. This response is lowered with longer pipe length. The reason for this is explained in more detail. Micro-bubbles are included in the coating liquid flowing through the supply pipe 30, and the micro-bubbles act as a cushion to suck the coating liquid falling from the coating nozzle 11 It is difficult. The longer the piping length is, the more microbubbles are contained, so that it becomes more difficult to inhale the coating liquid. Therefore, even if the syringe 36 sucks the coating liquid when the supply valve 32 is closed, if the pipe length is long, the coating liquid may fall from the coating nozzle 11. As a result, the responsiveness is deteriorated.

또, 공급 배관(30)의 기단에 설치되는 공급 밸브(32)의 개폐에 수반하는 도공액의 압력 변화가, 공급 배관(30)의 선단에 설치되는 도공 노즐(11)까지 전달되는데 시간이 걸리는 것도 응답성 열화의 요인으로서 고찰할 수 있다. 이 관점에서도 공급 배관(30)이 길수록 응답성이 열화된다. The pressure change of the coating liquid accompanying opening and closing of the supply valve 32 provided at the base end of the supply pipe 30 is time-consuming to be transmitted to the paint nozzle 11 provided at the tip of the supply pipe 30 Can be considered as a factor of deterioration of response. Even in this point of view, the longer the supply pipe 30 is, the worse the responsiveness is.

그리고, 간헐 도공 장치에서는, 도공 노즐(11)로부터의 도공액의 토출/정지의 타이밍이 도막의 형성 위치 및 형상에 영향을 주므로, 응답성이 높은 것이 바람직하다. 따라서, 간헐 도공 장치에 있어서는, 공급 밸브(32)와 도공 노즐(11) 사이의 거리는 짧게 설정된다. In the intermittent coating apparatus, the timing of dispensing / stopping the coating liquid from the coating nozzle 11 affects the formation position and shape of the coating film, so that it is preferable that the response is high. Therefore, in the intermittent coating apparatus, the distance between the supply valve 32 and the coating nozzle 11 is set to be short.

이상과 같이, 간헐 도공 장치에서는 공급 밸브(32)와 도공 노즐(11) 사이의 거리가 짧게 설정되므로, 통상은, 공급 밸브(32)와 도공 노즐(11)은 동일한 베이스에 올려놓아진다. As described above, in the intermittent coating apparatus, since the distance between the supply valve 32 and the coating nozzle 11 is set short, the supply valve 32 and the coating nozzle 11 are usually placed on the same base.

도 3은 간헐 도공 장치의 일부의 일례를 나타내는 모식적인 사시도이다. 도 3에서는, 도면을 보기 쉽게 하기 위해, 저류 탱크(20), 펌프(31), 필터(33, 43), 압력계(35), 시린지(36) 및 이동 기구(51, 61)를 생략하고 있다. 3 is a schematic perspective view showing an example of a part of the intermittent coating apparatus. 3, the reservoir tank 20, the pump 31, the filters 33 and 43, the pressure gauge 35, the syringe 36, and the moving mechanisms 51 and 61 are omitted .

본 실시의 형태에서는 상기 서술한 사정에도 불구하고, 도 3에 나타내는 바와 같이, 공급 밸브(32)와 도공 노즐(11)이 별체의 밸브 베이스(60)와 노즐 베이스(50)에 각각 올려놓아져 있다. 노즐 베이스(50)와 밸브 베이스(60)는 서로 이격하고 있다. 3, the supply valve 32 and the coating nozzle 11 are placed on the separate valve base 60 and the nozzle base 50, respectively, in the present embodiment, have. The nozzle base 50 and the valve base 60 are spaced from each other.

그런데 공급 밸브(32)의 개폐는 기계적인 동작을 수반하므로, 공급 밸브(32)는 반복 개폐 동작에 기인하여 진동을 발생시킨다. 이 개폐의 전환은 예를 들면 1초 간에 수회 이상 행해지므로, 수 Hz 이상의 진동이 발생한다. However, since the opening and closing of the supply valve 32 involves a mechanical operation, the supply valve 32 generates vibration due to repeated opening and closing operations. This switching of the opening and closing is performed for several seconds or more, for example, for one second, so that a vibration of several Hz or more occurs.

그런데 본 실시의 형태에서는, 공급 밸브(32)가 올려놓아지는 밸브 베이스(60)는, 도공 노즐(11)이 올려놓아지는 노즐 베이스(50)와는 별체이다. 따라서, 공급 밸브(32)와 도공 노즐(11)이 동일한 베이스에 올려놓아지는 구조에 비해, 공급 밸브(32)로부터 베이스를 통하여 도공 노즐(11)로 전달되는 진동을 억제할 수 있다. In the present embodiment, however, the valve base 60 on which the supply valve 32 is mounted is separate from the nozzle base 50 on which the coating nozzle 11 is placed. Therefore, as compared with the structure in which the supply valve 32 and the coating nozzle 11 are placed on the same base, vibration transmitted from the supply valve 32 to the coating nozzle 11 through the base can be suppressed.

만일 도공 노즐(11)이 진동하면, 도공막(도막이라고도 한다)의 형상에 대한 정밀도를 저하시키므로, 본 실시의 형태에서는 도공 노즐(11)의 진동을 억제할 수 있으므로, 상기 정밀도의 저하를 억제할 수 있다. 바꾸어 말하면, 도공막의 형상의 정밀도를 향상시키기 위해, 공급 밸브(32)로서 진동되기 어려운 밸브를 채용할 필요성을 저하시킬 수 있어, 보다 염가의 밸브를 채용할 수 있다. If the pouring nozzle 11 vibrates, the accuracy with respect to the shape of the coating film (also referred to as a coating film) is lowered. In this embodiment, therefore, the vibration of the coating nozzle 11 can be suppressed, can do. In other words, in order to improve the accuracy of the shape of the coating film, it is possible to reduce the necessity of employing a valve that is difficult to be vibrated as the supply valve 32, so that a more inexpensive valve can be employed.

또한 순환 밸브(41)는 상기 서술한 바와 같이 공급 밸브(32)가 개방될 때에 폐지하고, 공급 밸브(32)가 폐지될 때에 개방되므로, 순환 밸브(41)도 공급 밸브(32)와 동일한 진동을 발생시킨다. 따라서 도 3에 나타내는 바와 같이, 순환 밸브(41)도 노즐 베이스(50)와는 별체의 베이스에 올려놓아지는 것이 바람직하다. 이것에 의해, 공급 밸브(32) 및 순환 밸브(41)로부터의 진동이 도공 노즐(11)로 전달되는 것을 억제할 수 있다. 도 3의 예시에서는, 공급 밸브(32)와 순환 밸브(41)가 동일한 밸브 베이스(60)에 올려놓아져 있다. As described above, the circulation valve 41 is closed when the supply valve 32 is opened and is opened when the supply valve 32 is closed. Therefore, the circulation valve 41 is also oscillated in the same oscillation as the supply valve 32 . Therefore, as shown in Fig. 3, it is preferable that the circulation valve 41 is also placed on the base separate from the nozzle base 50. [ Thus, the vibration from the supply valve 32 and the circulation valve 41 can be prevented from being transmitted to the coating nozzle 11. In the example of FIG. 3, the supply valve 32 and the circulation valve 41 are placed on the same valve base 60.

또 노즐 베이스(50) 및 밸브 베이스(60)는 공통의 기대에 부착되어도 상관없고, 각각 별체의 기대에 부착되어도 상관없다. 전자여도, 노즐 베이스(50)와 기대는 별체이며, 밸브 베이스(60)와 기대가 별체이므로, 이들이 일체인 경우에 비하면, 공급 밸브(32), 혹은 순환 밸브(41)로부터 도공 노즐(11)로 전해지는 진동을 더 억제할 수 있다. The nozzle base 50 and the valve base 60 may be attached to a common base or may be attached to a separate base, respectively. The nozzle base 50 and the hopper 50 are separate from each other and the valve base 60 and the hopper 60 are separate from each other so that the supply nozzle 32 or the circulation valve 41 is provided with the coating nozzle 11, It is possible to further suppress the vibration transmitted to the vehicle.

또 시린지(36)는 노즐 베이스(50) 및 밸브 베이스(60) 중 어느 쪽에 설치되어도 상관없다. 응답성이라는 관점에서는, 시린지(36)는 도공 노즐(11)의 가까이에 설치되는 것이 바람직하기 때문에, 노즐 베이스(50)에 설치되는 것이 바람직하다. 한편, 시린지(36)에 의한 도공액의 흡입도 기계적인 동작을 수반하므로, 진동 억제라는 관점에서는, 시린지(36)는 밸브 베이스(60)에 설치되어도 된다. The syringe 36 may be provided on either the nozzle base 50 or the valve base 60. From the viewpoint of responsiveness, it is preferable that the syringe 36 is provided in the nozzle base 50 because it is preferable to be disposed near the coating nozzle 11. [ On the other hand, suction of the coating liquid by the syringe 36 is also accompanied by a mechanical operation, so that the syringe 36 may be provided in the valve base 60 from the viewpoint of vibration suppression.

<이동 기구><Movement mechanism>

상기 서술한 대로, 도공 노즐(11)에는, 백업 롤러(12)에 대한 위치 조정을 행하기 위한 노즐용 이동 기구(51)가 설치된다(도 2 참조). 노즐용 이동 기구(51)으로서는, 예를 들면 2축 이동 가능하며 능동적으로 제어되는 공지의 이동 기구를 채용할 수 있다. 노즐용 이동 기구(51)는 노즐 베이스(50)에 부착되어, 노즐 베이스(50)를 이동시킨다. 이것에 의해, 노즐 베이스(50)에 대해 위치 고정된 도공 노즐(11)도 이동하게 된다. 예를 들면 도공 노즐(11)을 백업 롤러(12)로부터 멀어지게 함으로써, 이들 사이의 공간을 넓혀, 도공 노즐(11)의 메인터넌스를 행한다.  As described above, the coating nozzle 11 is provided with a nozzle moving mechanism 51 for adjusting the position with respect to the backup roller 12 (see Fig. 2). As the nozzle moving mechanism 51, for example, a known moving mechanism capable of biaxial movement and being actively controlled can be employed. The nozzle moving mechanism 51 is attached to the nozzle base 50 to move the nozzle base 50. As a result, the coating nozzle 11 fixed to the nozzle base 50 is also moved. For example, by moving the pouring nozzle 11 away from the backup roller 12, the space between the pouring nozzle 11 and the backup roller 12 is widened to perform maintenance of the pouring nozzle 11. [

간헐 도공 장치에 있어서 응답성을 향상시키기 위해서는, 공급 밸브(32)와 도공 노즐 사이의 거리를 짧게 설정할 필요가 있다. 즉, 공급 배관(30)의 배관 길이는 짧게 설정된다. 그러나, 공급 밸브(32)의 위치가 고정된 상태로 도공 노즐(11)을 유연하게 이동 가능하게 하기 위해서는, 공급 배관(30)으로서 플렉서블 배관을 생각할 수 있지만, 배관 길이가 짧은 플렉서블 배관은 일반적으로 가요성이 낮다. 그 때문에, 공급 배관(30)으로서 채용 가능한 배관의 종류를 좁히게 되어 비용 증가를 초래한다. In order to improve the responsiveness in the intermittent coating apparatus, it is necessary to shorten the distance between the supply valve 32 and the coating nozzle. That is, the pipe length of the supply pipe 30 is set to be short. However, in order to allow the pouring nozzle 11 to move smoothly while the position of the supply valve 32 is fixed, a flexible piping can be considered as the supply piping 30, but a flexible piping having a short piping length is generally Low flexibility. Therefore, the kind of piping that can be employed as the supply piping 30 is narrowed, resulting in an increase in cost.

도 4는, 간헐 도공 장치의 일부의 일례를 나타내는 사시도이다. 도 4에서는, 도 3과 마찬가지로 도면을 보기 쉽게 하기 위해, 적절히 각 구성을 생략하고 있다. 본 실시의 형태에서는, 도 1, 4에 예시하는 바와 같이, 공급 밸브(32)를 이동시키기 위한 밸브용 이동 기구(61)가 설치되는 것이 바람직하다. 밸브용 이동 기구(61)는 예를 들면 밸브 베이스(60)에 부착되고, 밸브 베이스(60)를 이동 가능하게 한다. 이것에 의해, 밸브 베이스(60)에 대해 위치 고정된 공급 밸브(32)도 이동 가능하게 된다. 4 is a perspective view showing an example of a part of the intermittent coating apparatus. In FIG. 4, like in FIG. 3, the respective components are appropriately omitted in order to make the drawings easy to see. In this embodiment, as exemplified in Figs. 1 and 4, it is preferable that a valve moving mechanism 61 for moving the supply valve 32 is provided. The moving mechanism 61 for the valve is attached to, for example, the valve base 60 and makes the valve base 60 movable. As a result, the supply valve 32 fixed to the valve base 60 is also movable.

또 밸브용 이동 기구(61)는, 노즐용 이동 기구(51)의 이동 방향과 동일한 방향으로 공급 밸브(32)를 이동시킨다. 바꾸어 말하면, 밸브용 이동 기구(61)는, 도공 노즐(11)의 이동에 추종하여 공급 밸브(32)를 이동시킨다. 이것에 의해, 도공 노즐(11)과 공급 밸브(32)의 상대 위치의 변동을 억제하면서, 도공 노즐(11)을 이동시킬 수 있다. 따라서 도공 노즐(11)의 이동에 수반하여 발생하는 공급 배관(30)의 굽힘 응력을 억제할 수 있다. The valve moving mechanism 61 moves the supply valve 32 in the same direction as the moving direction of the nozzle moving mechanism 51. In other words, the valve moving mechanism 61 follows the movement of the coating nozzle 11 to move the supply valve 32. As a result, the coating nozzle 11 can be moved while suppressing the fluctuation of the relative position between the coating nozzle 11 and the supply valve 32. Therefore, the bending stress of the supply pipe 30 caused by the movement of the coating nozzle 11 can be suppressed.

따라서, 공급 배관(30)으로서 예를 들면 형상이 고정된 배관(예를 들면 스테인레스강의 배관)을 채용할 수 있다. 또 플렉서블 배관이어도, 배관 길이가 짧고 비교적 굽히기 어려운 것을 채용할 수 있다. 즉 채용 가능한 배관의 종류를 증대시킬 수 있다. Therefore, for example, a pipe (for example, stainless steel pipe) having a fixed shape can be employed as the supply pipe 30. [ Even flexible piping can be employed that has a short piping length and is relatively difficult to bend. That is, it is possible to increase the kinds of piping that can be adopted.

또한 예를 들면 도 4의 예시에서는, 공급 배관(30)이 대략 직각으로 굽어져 있다. 본 간헐 도공 장치에서는 도공 노즐(11)과 공급 밸브(32) 사이의 거리가 짧기 때문에, 공급 배관(30)은 매우 작은 곡율 반경으로 굽힐 필요가 있다. 이와 같이 작은 곡율 반경으로 플렉서블 배관을 굽히는 것은, 일반적으로 유통되는 플렉서블 배관에서는 어렵다. 따라서 이 경우는, 예를 들면 스테인레스강 등, 형상이 고정된 배관으로서, 미리 굽힌 형상으로 제조되는 배관을 채용하는 것이 바람직하다. 바꾸어 말하면, 밸브용 이동 기구(61)를 이용함으로써, 공급 배관(30)으로서 그 형상이 고정된 배관을 채용할 수 있어, 이것에 의해, 플렉서블 배관을 채용하는 경우에 비해, 공급 밸브(32)와 도공 노즐(11)의 설치 자유도를 높일 수 있다. Also, for example, in the example of Fig. 4, the supply pipe 30 is bent at a substantially right angle. In this intermittent coating apparatus, since the distance between the coating nozzle 11 and the supply valve 32 is short, it is necessary to bend the supply pipe 30 to a very small radius of curvature. It is difficult to bend the flexible pipe with such a small radius of curvature in general flexible pipe. Therefore, in this case, it is preferable to adopt a pipe which is formed into a bent shape in advance, for example, a pipe having a fixed shape such as stainless steel. In other words, by using the valve moving mechanism 61, it is possible to employ a pipe whose shape is fixed as the supply pipe 30, so that the supply valve 32, And the coating nozzle 11 can be increased.

또 본 실시의 형태에서는 공급 밸브(32)가 이동하므로, 공급 배관(30)의 상류측의 요소(예를 들면 저류 탱크(20) 혹은 펌프(31) 등)와, 공급 밸브(32)의 위치 관계가 변동된다. 따라서 상기 요소와 공급 밸브(32) 사이의 배관에 있어서 플렉서블 배관을 채용하는 것이 바람직하다. 그런데, 공급 밸브(32)보다 상류측에서는, 간헐 도공에 있어서의 응답성을 향상시킨다는 관점에서, 배관의 길이를 제한할 필요성은 작다. 따라서, 공급 밸브(32)보다 상류측에서 채용하는 플렉서블 배관의 길이를 충분히 길게 설정할 수 있다. 이와 같이 초기 상태의 배관 길이를 길게 설정할 수 있으므로, 공급 밸브(32)가 이동해도 상기 플렉서블 배관에 발생하는 굽힘 응력은 작다. 따라서, 이 요소의 위치를 고정해도 문제는 생기지 않는다. In the present embodiment, since the supply valve 32 is moved, the upstream component (for example, the storage tank 20 or the pump 31) of the supply pipe 30 and the position of the supply valve 32 The relationship is changed. Therefore, it is preferable to adopt a flexible piping for the piping between the element and the supply valve 32. On the upstream side of the supply valve 32, there is little need to limit the length of the piping from the viewpoint of improving the responsiveness in the intermittent coating. Therefore, the length of the flexible pipe employed on the upstream side of the supply valve 32 can be set sufficiently long. Since the pipe length in the initial state can be set long, the bending stress generated in the flexible pipe is small even if the supply valve 32 moves. Therefore, there is no problem even if the position of this element is fixed.

<밸브용 이동 기구의 구체예><Specific Example of Moving Mechanism for Valve>

밸브용 이동 기구(61)는 노즐용 이동 기구(51)의 이동에 추종하는 추종 기능을 하는 임의의 이동 기구를 채용하면 된다. 예를 들면 노즐용 이동 기구(51) 및 밸브용 이동 기구(61)가 제어부(90)에 의해 제어되는 공지의 이동 기구인 경우에는, 밸브용 이동 기구(61)의 추종 기능은 제어부(90)에 의해 실현되어도 된다. 혹은, 노즐용 이동 기구(51) 및 밸브용 이동 기구(61)가 기계적으로 연동함으로써, 밸브용 이동 기구(61)가 실현되어도 된다.  The valve moving mechanism 61 may employ any moving mechanism that performs a tracking function following the movement of the nozzle moving mechanism 51. [ The follow function of the valve moving mechanism 61 is controlled by the controller 90 when the nozzle moving mechanism 51 and the valve moving mechanism 61 are known moving mechanisms controlled by the controller 90. [ . Alternatively, the nozzle moving mechanism 51 and the valve moving mechanism 61 mechanically interlock with each other, so that the valve moving mechanism 61 may be realized.

단, 노즐용 이동 기구(51)는 수평 방향으로 노즐 베이스(50)를 이동시키고, 밸브용 이동 기구(61)는 임의의 수평 방향으로 공급 밸브(32)를 자유롭게 이동 가능하다는 것이 바람직하다. 이러한 밸브용 이동 기구(51)에 의하면, 도공 노즐(11)의 이동이 공급 배관(30)을 통하여 공급 밸브(32)에 전달됨으로써, 공급 밸브(32)는 도공 노즐(11)의 이동 방향과 동일한 방향으로 이동하게 된다. It is preferable that the nozzle moving mechanism 51 moves the nozzle base 50 in the horizontal direction and the valve moving mechanism 61 is free to move the supply valve 32 in any horizontal direction. The movement of the coating nozzle 11 is transmitted to the supply valve 32 through the supply pipe 30 so that the supply valve 32 is moved in the direction of movement of the coating nozzle 11 And moves in the same direction.

밸브용 이동 기구(61)로서는, 롤러 구조를 채용할 수 있다. 이와 같은 롤러 구조는 소정의 전동체(예를 들면 구체 등)를 가지며, 이 전동체가 밸브 베이스(60)와 기대(63) 사이에 설치된다. 또 이 전동체는 밸브 베이스(60)에 대해 회전 가능하게 고정되며, 이 전동체가 구름으로써, 밸브 베이스(60)가 기대(63)에 대해 임의의 수평 방향으로 자유롭게 이동 가능하게 된다. 또한 전동체는 기대(63)에 대해 회전 가능하게 고정되어 있어도 된다. As the valve moving mechanism 61, a roller structure can be employed. Such a roller structure has a predetermined rolling member (for example, a sphere or the like), and this rolling member is provided between the valve base 60 and the base 63. This rolling member is rotatably fixed to the valve base 60. This rolling member is rotatable so that the valve base 60 is freely movable in any horizontal direction with respect to the base 63. [ The rolling member may be rotatably fixed to the base 63.

이러한 밸브용 이동 기구(61)를 채용하면, 간헐 도공을 행할 때에, 공급 밸브(32)는 자신의 개폐 동작에 수반하여 수평 방향으로 자유롭게 이동한다. 따라서 공급 밸브(32)의 개폐에 수반하는 진동 에너지가 공급 밸브(32)의 수평 운동으로서 소비되므로, 공급 배관(30)측으로 전달되는 진동도 억제된다. 그런데, 공급 배관(30)을 통한 진동 전달 억제라는 관점에서는 플렉서블 배관을 채용해도 되므로, 여기에서는 상기 서술한 바와 같이 공급 배관(30)으로 전해지는 진동이 억제되므로, 보다 강성이 높은, 예를 들면 스테인레스 등에 의해 형성되는 배관을 채용해도 상관없다. When such a valve moving mechanism 61 is used, the supply valve 32 freely moves in the horizontal direction in accordance with the opening / closing operation of itself when the intermittent coating is performed. Therefore, since the vibration energy accompanying the opening and closing of the supply valve 32 is consumed as the horizontal movement of the supply valve 32, the vibration transmitted to the supply pipe 30 side is also suppressed. However, since flexible piping may be employed from the viewpoint of suppressing vibration transmission through the supply piping 30, vibration transmitted to the supply piping 30 is suppressed as described above, and therefore, for example, A pipe formed of stainless steel or the like may be employed.

또 공급 밸브(32)가 수평 방향으로 자유롭게 이동하므로, 공급 밸브(32)가 고정된 경우에 비해, 공급 밸브(32)로부터 밸브 베이스(60)측(나아가서는 기대(63)측)으로 전달되는 진동도 억제된다. 따라서 기대(63)를 통하여 도공 노즐(11)로 진동이 전달되는 것을 더 저감할 수 있다. 또, 노즐 베이스(50)와 밸브 베이스(60)의 사이를, 가요성을 가지는 서포트 부재로 연결 접속하는 구성을 더해도 된다. Since the supply valve 32 freely moves in the horizontal direction, the supply valve 32 is transmitted from the supply valve 32 to the valve base 60 side (and further to the base 63 side) as compared with the case where the supply valve 32 is fixed Vibration is also suppressed. Therefore, the transmission of vibration to the coating nozzle 11 through the base 63 can be further reduced. It is also possible to add a configuration in which the nozzle base 50 and the valve base 60 are connected and connected by a flexible support member.

또 노즐용 이동 기구(51)와 밸브용 이동 기구(61)의 위치 맞춤을 불필요하게 할 수 있다. 보다 자세하게 설명하기 위해, 예를 들면 한방향으로 이동시키는 것이 가능한 이동 기구를 노즐용 이동 기구(51)와 밸브용 이동 기구(61)로서 채용하는 것을 생각한다. 이 때, 도공 노즐(11)과 공급 밸브(32)의 상대 위치를 변동시키지 않고 도공 노즐(11)을 이동시키려면, 노즐용 이동 기구(51)와 밸브용 이동 기구(61)를 정밀도 있게 평행하게 배치할 필요가 있다. 그런데 도 4의 예시에서는, 밸브용 이동 기구(61)가 임의의 수평 방향으로 자유롭게 이동 가능하다. 따라서 위치 맞춤을 하지 않아도, 도공 노즐(11)을 이동시키면, 그 이동력이 공급 배관(30)을 통하여 공급 밸브(32)에 전달되어, 공급 밸브(32)는 도공 노즐(11)과 동일한 방향으로 이동하게 된다. 따라서 밸브용 이동 기구(61)를 부착할 때의 작업성을 향상시킬 수 있다. In addition, it is unnecessary to align the nozzle moving mechanism 51 and the valve moving mechanism 61 with each other. To explain in more detail, for example, a moving mechanism capable of moving in one direction is adopted as the nozzle moving mechanism 51 and the valve moving mechanism 61. At this time, in order to move the pouring nozzle 11 without changing the relative positions of the pouring nozzle 11 and the supply valve 32, the nozzle moving mechanism 51 and the valve moving mechanism 61 are precisely parallel . However, in the example of Fig. 4, the valve moving mechanism 61 is freely movable in any horizontal direction. Therefore, when the coating nozzle 11 is moved, the moving force is transmitted to the supply valve 32 through the supply pipe 30, so that the supply valve 32 is moved in the same direction as the coating nozzle 11 . Therefore, the workability in attaching the valve moving mechanism 61 can be improved.

또한 도 4의 예시에서는, 밸브용 이동 기구(61)는 3개 설치되어 있으며, 이 3개의 밸브용 이동 기구(61)가 각각 3개소에서 밸브 베이스(60)를 지지하고 있다. 만일, 4개소 이상에서 밸브 베이스(60)를 지지하면, 밸브용 이동 기구(61)의 높이의 편차에 기인하여 밸브 베이스(60)가 덜컹거리므로, 여기에서는 3개소에서 지지하고 있으므로, 이 덜컹거림을 회피할 수 있다. In the example of Fig. 4, three valve moving mechanisms 61 are provided, and the three valve moving mechanisms 61 support the valve base 60 at three positions. If the valve base 60 is supported at four or more positions, since the valve base 60 is rattled due to a variation in the height of the valve moving mechanism 61, the valve base 60 is supported at three positions here, It is possible to avoid stuttering.

또 밸브용 이동 기구(61)는 롤러 구조에 한정되지 않고, 수평 방향으로 옆으로 미끄러짐 가능한 한 쌍의 판부재를 가지고 있어도 된다. 예를 들면 한 쌍의 판부재의 맞댐면이 낮은 마찰 계수로 접촉됨으로써, 한 쌍의 판부재는 상대적으로 옆으로 미끄러질 수 있다. 이 판부재의 일방은 밸브 베이스(60)의 하면과 고정되며, 타방은 기대(63)의 상면에 고정된다. 이것에 의해, 밸브 베이스(60)가 기대(63)에 대해 임의의 수평 방향으로 자유롭게 이동할 수 있게 된다. The valve moving mechanism 61 is not limited to the roller structure, and may have a pair of plate members slidable sideways in the horizontal direction. For example, the abutment surfaces of the pair of plate members are brought into contact with each other with a low friction coefficient, so that the pair of plate members can slide relatively sideways. One of the plate members is fixed to the lower surface of the valve base 60, and the other is fixed to the upper surface of the base 63. As a result, the valve base 60 can freely move in any horizontal direction with respect to the base 63.

단 롤러 구조를 채용하면, 전동체와 밸브 베이스(60) 혹은 기대(63)와의 접촉 면적이 작기 때문에, 이들이 마모되기 어렵다. 따라서 수명이 비교적 길다. If the single roller structure is employed, since the contact area between the rolling elements and the valve base 60 or the base 63 is small, they are hard to be worn. Therefore, the life span is relatively long.

<진동 억제 부재><Vibration Suppression Member>

공급 밸브(32)로부터 도공 노즐(11)로의 진동 전달을 억제하는 진동 억제 부재가 설치되어도 된다. 예를 들면 진동 억제 부재(64)로서는, 고무, 겔상 소재, 또는 발포 스티롤 등에 의해 형성되어, 진동을 흡수하는 부재를 이용할 수 있다. 도 5는, 공급 밸브(32)를 지지하는 부분의 개략 구성을 간략적으로 나타내는 도이다. 도 5의 예시에서는, 진동 억제 부재(64)는 판형상의 형상을 가지며, 공급 밸브(32)와 밸브 베이스(60) 사이에 끼워진다. 이것에 의해, 공급 밸브(32)로부터 밸브 베이스(60)로 진동이 전달되는 것이 억제되며, 나아가서는 공급 밸브(32)로부터 도공 노즐(11)로의 진동 전달을 더 억제할 수 있다. 혹은, 진동 억제 부재는, 밸브 베이스(60)와 기대(63)의 사이(밸브 베이스(60)와 밸브용 이동 기구(61)의 사이, 혹은, 밸브용 이동 기구(61)와 기대(63)의 사이)에 설치되어도 된다. 이것에 의해서도 진동을 억제할 수 있다.  A vibration suppressing member for suppressing transmission of vibration from the supply valve 32 to the coating nozzle 11 may be provided. For example, as the vibration suppressing member 64, a member formed of rubber, a gel-like material, foamed styrol or the like and absorbing vibration can be used. Fig. 5 is a view schematically showing a schematic configuration of a portion for supporting the supply valve 32. Fig. 5, the vibration suppressing member 64 has a plate-like shape and is sandwiched between the supply valve 32 and the valve base 60. [ This suppresses the transmission of vibration from the supply valve 32 to the valve base 60 and further suppresses the transmission of the vibration from the supply valve 32 to the coating nozzle 11. [ Alternatively, the vibration suppressing member may be disposed between the valve base 60 and the base 63 (between the valve base 60 and the valve moving mechanism 61, or between the valve moving mechanism 61 and the base 63) Or the like). This also makes it possible to suppress the vibration.

또한 도 4, 5에 나타내는 임의의 수평 방향으로 자유 이동 가능한 밸브용 이동 기구(61)는, 진동 전달을 억제하기 때문에, 진동 억제 부재의 1종으로 파악할 수도 있다. The valve moving mechanism 61 freely movable in any horizontal direction as shown in Figs. 4 and 5 can also be regarded as one type of vibration suppressing member since vibration transmission is suppressed.

또 도 4의 예시에서는, 공급 배관(30)은 복수의 배관에 의해 구성되어 있다. 이들 배관의 이음매에는, 예를 들면 고무, 겔상 소재, 또는 발포 스티롤 등으로 형성되어 진동을 흡수하는 진동 억제 부재가 끼워져 있어도 된다. 이것에 의해, 공급 밸브(32)의 진동이 공급 배관(30)을 통하여 도공 노즐(11)로 전달되는 것을 억제할 수 있다. In the example of Fig. 4, the supply pipe 30 is constituted by a plurality of pipes. The joints of these pipes may be fitted with, for example, rubber, a gel-like material, or a vibration suppressing member formed of foamed styrol or the like to absorb vibration. As a result, the vibration of the supply valve 32 can be prevented from being transmitted to the coating nozzle 11 through the supply pipe 30.

또, 배관에 있어서의 필터의 설치 위치는 상기 실시 형태의 예에 한정되는 것이 아니며, 공급 배관(30)의 경로에 있어서의 순환 배관(40)의 접속 부위와 펌프(31) 사이나, 공급 밸브(32)와 도공 노즐(11)의 사이여도 된다. 또한, 필터는 필수의 것이 아니며, 설치하지 않아도 된다. The installation position of the filter in the piping is not limited to the example of the embodiment described above. The connection position of the circulation pipe 40 in the path of the supply pipe 30 and the connecting portion of the pump 31, (32) and the coating nozzle (11). In addition, the filter is not essential and may not be installed.

또, 도공 노즐(11)은 1개의 슬릿형상의 토출구(11a)를 가지는 슬릿 노즐에 한정되는 것이 아니며, 복수개의 슬릿을 가지는 것이어도 되고, 대략 원형의 토출구로부터 도포액을 토출하는 노즐이어도 된다. The coating nozzle 11 is not limited to a slit nozzle having one slit-shaped discharge port 11a, and may have a plurality of slits, or may be a nozzle for discharging a coating liquid from a generally circular discharge port.

또, 본 발명에 관련된 기술을 이용하여 도공 처리를 행하는 대상이 되는 도공액은 리튬 이온 2차 전지의 전극 재료에 한정되는 것이 아니며, 예를 들면 태양전지 재료(전극재, 봉지재)의 도공액 또는 전자재료의 절연막이나 보호막의 도공액, 연료 전지용의 촉매를 포함하는 도공액이어도 된다. 비교적 점도가 높은 도공액을 기재에 도공하는데 본 발명에 관련된 기술을 적절하게 적용할 수 있다. 따라서, 안료나 접착제의 도공액을 도포하는데, 본 발명에 관련된 기술을 이용하도록 해도 된다. The coating liquid to be subjected to the coating process using the technique related to the present invention is not limited to the electrode material of the lithium ion secondary battery. For example, the coating liquid of the solar cell material (electrode material, sealing material) Or a coating liquid containing an insulating film of an electronic material or a protective film, or a catalyst for a fuel cell. The technique relating to the present invention can be suitably applied to the coating of a coating liquid having a relatively high viscosity. Therefore, the technique related to the present invention may be used to apply the coating solution of the pigment or the adhesive.

1: 도막 형성 시스템 5: 기재
10: 간헐 도공 장치 11: 도공 노즐
30: 공급 배관 32: 전환 수단(공급 밸브)
50: 노즐 베이스 51: 노즐 이동 수단(노즐용 이동 기구)
60: 전환 수단 베이스(밸브 베이스)
61: 전환 이동 수단(밸브용 이동 기구)
70: 건조부 80: 반송 기구
1: Coating system 5: Base
10: intermittent coating apparatus 11: coating nozzle
30: supply pipe 32: switching means (supply valve)
50: nozzle base 51: nozzle moving means (moving mechanism for nozzle)
60: Switching device base (valve base)
61: switching transfer means (valve transfer mechanism)
70: dryer 80: conveying mechanism

Claims (5)

노즐로부터 기재를 향해 도공액을 간헐적으로 도공하는 간헐 도공(塗工) 장치로서,
노즐과,
상기 노즐에 접속되며, 도공액이 상기 노즐을 향해 흐르는 공급 배관과,
상기 공급 배관의 개폐를 반복해서 전환함으로써, 상기 노즐로부터 상기 기재를 향해 상기 도공액을 간헐적으로 토출시키는 전환 수단과,
상기 노즐이 올려 놓아지는 노즐 베이스와,
상기 노즐 베이스와 별체이며, 상기 전환 수단이 올려 놓아지는 전환 수단 베이스를 구비하는 것을 특징으로 하는 간헐 도공 장치.
An intermittent coating apparatus for intermittently coating a coating liquid from a nozzle toward a substrate,
A nozzle,
A supply pipe connected to the nozzle, through which the coating liquid flows toward the nozzle,
Switching means for intermittently discharging the coating liquid from the nozzle toward the substrate by repeatedly switching on / off the supply piping,
A nozzle base on which the nozzle is placed,
And a switching means base which is separate from the nozzle base and on which the switching means is mounted.
청구항 1에 있어서,
상기 노즐 베이스를 이동시켜 상기 노즐의 상기 기재에 대한 위치를 조정하는 노즐 이동 수단과,
상기 노즐 이동 수단에 의한 상기 노즐 베이스의 이동 방향과 동일한 방향으로 상기 전환 수단을 이동시키는 전환 이동 수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 간헐 도공 장치.
The method according to claim 1,
Nozzle moving means for moving the nozzle base to adjust a position of the nozzle relative to the base material;
Further comprising a switching means for moving the switching means in the same direction as the moving direction of the nozzle base by the nozzle moving means.
청구항 2에 있어서,
상기 노즐 이동 수단은 상기 노즐 베이스를 수평 방향으로 이동시키고,
상기 전환 이동 수단은, 임의의 수평 방향으로 상기 전환 수단을 자유롭게 이동 가능하며, 상기 노즐의 이동이 상기 공급 배관을 통하여 전달됨으로써, 상기 이동 방향과 동일한 방향으로 상기 전환 수단을 이동시키는 것을 특징으로 하는 간헐 도공 장치.
The method of claim 2,
The nozzle moving means moves the nozzle base in a horizontal direction,
Wherein the switching means is capable of freely moving the switching means in an arbitrary horizontal direction and the switching means is moved in the same direction as the moving direction by the movement of the nozzle being transmitted through the supply pipe Intermittent coating device.
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전환 수단 베이스에 설치되며, 상기 전환 수단으로부터 상기 노즐로의 진동 전달을 억제하는 진동 억제 수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 간헐 도공 장치.
The method according to any one of claims 1 to 3,
Further comprising vibration suppressing means provided in the switching means base for suppressing transmission of vibration from the switching means to the nozzle.
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 기재된 간헐 도공 장치와,
상기 간헐 도공 장치에 의해 상기 도공액이 도포된 상기 기재에 대해 가열 처리를 행하여 상기 도공액을 건조시키는 건조 수단과,
상기 기재를 상기 간헐 도공 장치 및 상기 건조 수단으로 순서대로 반송하는 반송 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 도막 형성 시스템.
An intermittent coating apparatus according to any one of claims 1 to 3,
Drying means for performing a heat treatment on the substrate to which the coating liquid is applied by the intermittent coating apparatus to dry the coating liquid;
And a conveying means for sequentially conveying the substrate to the intermittent coating device and the drying means.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6661401B2 (en) * 2016-02-22 2020-03-11 株式会社Screenホールディングス Manufacturing equipment for membrane / electrode assemblies
JP2020028863A (en) * 2018-08-23 2020-02-27 東芝機械株式会社 Intermittent coating method and intermittent coating device
JP7152930B2 (en) * 2018-10-11 2022-10-13 株式会社Subaru Sealing material dispensing nozzle and sealing material dispensing device
CN112317258A (en) * 2020-10-28 2021-02-05 江苏沙钢集团有限公司 Oil drop dripping recycling system and method for oiling machine
CN112871588A (en) * 2021-01-11 2021-06-01 佛山市格锐特机械设备有限公司 Photosensitive dry film coating production line for circuit board and technological process thereof

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4938994A (en) * 1987-11-23 1990-07-03 Epicor Technology, Inc. Method and apparatus for patch coating printed circuit boards
CN2159414Y (en) * 1993-07-23 1994-03-23 黄雨成 Water supply
JP4366757B2 (en) * 1999-05-27 2009-11-18 東レ株式会社 Coating apparatus, coating method, and method for manufacturing plasma display or display member
JP2001149840A (en) * 1999-11-24 2001-06-05 Sony Corp Method and device for coating
JP4419303B2 (en) * 2000-09-27 2010-02-24 東レ株式会社 Coating apparatus and coating method, and color filter manufacturing apparatus and manufacturing method
JP4764615B2 (en) * 2004-05-07 2011-09-07 富士フイルム株式会社 Coating apparatus, coating method, and manufacturing method of web with coating film
JP4575103B2 (en) * 2004-09-30 2010-11-04 大日本印刷株式会社 Electrode plate manufacturing method and manufacturing apparatus
JP2008075537A (en) * 2006-09-21 2008-04-03 Toray Ind Inc Pulsation absorption device, application method and application device using same, and method for manufacturing liquid crystal display member
JP5083524B2 (en) * 2007-08-21 2012-11-28 凸版印刷株式会社 Web coating device
JP5565031B2 (en) * 2010-03-29 2014-08-06 凸版印刷株式会社 Double-sided intermittent coating device
JP5757777B2 (en) * 2011-04-15 2015-07-29 パナソニック株式会社 Substrate coating method, substrate coating apparatus, and organic electroluminescent device manufacturing method using the same
TWM420363U (en) * 2011-08-31 2012-01-11 Ching Huei Prec Co Ltd Intermittent ink supply system for slit coating head
CN202725432U (en) * 2012-04-18 2013-02-13 嘉兴市博源涂布科技有限公司 Discontinuous coating device

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