JP2015188776A - Double-sided coating apparatus, double-sided coating method, and coating film formation system - Google Patents

Double-sided coating apparatus, double-sided coating method, and coating film formation system Download PDF

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錦内 栄史
Yoshifumi Nishikiuchi
栄史 錦内
正雄 井上
Masao Inoue
正雄 井上
巨剛 山仲
Hirotaka Yamanaka
巨剛 山仲
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a double-sided coating apparatus that can uniformly coat a base material with a coating liquid by stabilizing a distance between a nozzle and the base material, and to provide a double-sided coating method and a double-sided coating film formation system incorporating the double-sided coating apparatus.SOLUTION: A non-coated section is made independent of a transportation path of a base material by first pinch rollers 71, 71 and second pinch rollers 72, 72, tensile force acting on the base material 5 in the non-coated section is set to be lower than tensile force acting on the base material 5 in the non-coated section by a dancer roll 73. A coating liquid is discharged to the base material 5 turned easily movable due to sagging produced by low tension on both front and rear faces from the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40, and a position of the base material 5 passing between the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40 is adjusted by a balance of discharge pressures of both.

Description

本発明は、基材の両面に化学電池材料などの塗工液を同時に塗工する両面塗工装置および両面塗工方法、並びに、その両面塗工装置を組み込んだ塗膜形成システムに関する。   The present invention relates to a double-sided coating apparatus and a double-sided coating method for simultaneously applying a coating solution such as a chemical battery material on both sides of a base material, and a coating film forming system incorporating the double-sided coating apparatus.

従来より、リチウムイオン電池などの化学電池の製造においては、金属箔等の基材をロールトゥロール方式にて搬送しつつ、その基材の表面に電極材料の塗工液を吐出して塗膜を形成する。また、電極を多層構造とするために、基材の表裏両面に塗膜を形成することが多く、基材の両面に電極材料の塗工液を吐出して塗膜を形成する両面塗工装置が知られている。このような両面塗工装置としては、まず基材の一方面に塗工液を塗工してから乾燥処理を行い、次に基材の他方面に塗工液を塗工して再度乾燥処理を行うものがある。このような手法によっても、基材の両面に塗工処理を行うことは可能であるが、1つのラインに乾燥炉が2台必要となり、装置の全長が長くなってコストが増大する。   Conventionally, in the manufacture of a chemical battery such as a lithium ion battery, a substrate such as a metal foil is transported by a roll-to-roll method, and a coating solution is ejected onto the surface of the substrate by discharging an electrode material coating liquid. Form. Moreover, in order to make an electrode into a multilayer structure, a coating film is often formed on both front and back surfaces of a substrate, and a coating film is formed by discharging a coating solution of an electrode material on both surfaces of the substrate. It has been known. As such a double-sided coating device, first, the coating liquid is applied to one side of the base material, followed by a drying treatment, and then the coating liquid is applied to the other side of the base material, followed by a drying treatment again. There is something to do. Even with such a technique, it is possible to perform the coating treatment on both surfaces of the base material, but two drying furnaces are required for one line, which increases the overall length of the apparatus and increases the cost.

このため、乾燥処理を行う前に基材の両面に塗工液を塗工し、基材の両面に対して一括して乾燥処理を行う装置が開発されている。例えば、特許文献1に開示される両面塗工装置においては、バックアップローラで支持しつつ基材の表面に塗工液を塗工し、続いて基材の裏面にも塗工液を塗工した後に乾燥処理を行う。   For this reason, an apparatus has been developed in which a coating liquid is applied to both surfaces of a substrate before the drying treatment, and the drying treatment is collectively performed on both surfaces of the substrate. For example, in the double-sided coating apparatus disclosed in Patent Document 1, the coating liquid is applied to the surface of the base material while being supported by a backup roller, and then the coating liquid is also applied to the back surface of the base material. A drying process is performed later.

また、特許文献2に開示される両面塗工装置においては、基材を挟んで表面側と裏面側とに相対向するように塗工用ダイ(塗工ノズル)を設け、双方の塗工用ダイから基材の表裏両面に塗工液を同時に吐出して両面同時塗工を行っている。特許文献1,2に開示されるような両面塗工装置では、基材の表裏両面に塗工液を塗工してから一括して乾燥処理を行うため、乾燥炉が1台で足りるとともに、電極の生産性が高まる。   Moreover, in the double-sided coating apparatus disclosed by patent document 2, the coating die (coating nozzle) is provided so that it may oppose the surface side and back surface across a base material, and for both coating The coating solution is simultaneously discharged from the die onto both the front and back surfaces of the substrate to perform simultaneous coating on both sides. In the double-sided coating apparatus as disclosed in Patent Documents 1 and 2, the coating liquid is applied to both the front and back surfaces of the base material to perform a drying process in a lump, so that one drying furnace is sufficient, Increased electrode productivity.

特開2005−246194号公報JP 2005-246194 A 特開2008−284528号公報JP 2008-284528 A

特許文献1に開示される両面塗工装置では、基材の表面側の塗工については基材を裏面側からバックアップローラで支持するため、スリットダイと基材とのギャップを安定的に維持することができ、基材表面に塗工液を均一に塗工することができる。これに対して、基材の裏面側の塗工時には、表面側に塗布された塗工液が未だに乾燥していないため、バックアップローラで基材の表面を直接に支持することができない。従って、特許文献1に開示の装置においては、裏面側の塗工を行うスリットダイの下流側に基材の搬送方向とほぼ平行な気流を噴出して基材を吸引する機構を設けることにより、基材の張力を高めてスリットダイと基材とのギャップを安定させている。   In the double-sided coating apparatus disclosed in Patent Document 1, for the coating on the front side of the base material, the base material is supported by the backup roller from the back side, so that the gap between the slit die and the base material is stably maintained. The coating liquid can be uniformly applied to the substrate surface. On the other hand, at the time of coating on the back surface side of the base material, the coating liquid applied on the front surface side has not yet been dried, so that the surface of the base material cannot be directly supported by the backup roller. Therefore, in the apparatus disclosed in Patent Document 1, by providing a mechanism for ejecting an airflow substantially parallel to the conveyance direction of the substrate on the downstream side of the slit die that performs coating on the back surface side, The gap between the slit die and the substrate is stabilized by increasing the tension of the substrate.

一方、特許文献2に開示されるような塗工用ダイを対向配置して基材の表裏面から同時に塗工液を吐出する両面塗工装置では、バックアップローラは不要となるものの、塗工液の吐出圧によって基材の位置が不安定となりやすい。このため、特許文献2には、表面側および裏面側の塗工用ダイと基材との距離が均等になるように基材を保持するとともに、基材に弛みが生じないようにテンションローラによって張力を付与することが提案されている。   On the other hand, in a double-side coating apparatus that disposes a coating die as disclosed in Patent Document 2 and discharges the coating liquid simultaneously from the front and back surfaces of the base material, a backup roller is not required, but the coating liquid The position of the base material tends to become unstable due to the discharge pressure. For this reason, in Patent Document 2, the substrate is held so that the distance between the coating die on the front surface side and the back surface side and the substrate is equal, and a tension roller is used to prevent the substrate from slacking. It has been proposed to apply tension.

しかしながら、特許文献2に開示されるように基材に強い張力を付与しても、塗工用ダイの設置時の位置精度、ローラの精度、基材のくせなどの不可避的な誤差要因が存在するため、表面側および裏面側の塗工用ダイと基材との距離を安定して均等に保持することは困難なものとなっていた。塗工用ダイと基材との距離は塗膜の膜厚に大きく影響するため、その距離が不安定であると塗工精度も不均一になるという問題が生じる。   However, even if strong tension is applied to the base material as disclosed in Patent Document 2, there are inevitable error factors such as position accuracy when installing the coating die, precision of the roller, and habit of the base material. Therefore, it has been difficult to stably and evenly maintain the distance between the coating die on the front side and the back side and the base material. Since the distance between the coating die and the substrate greatly affects the film thickness of the coating film, if the distance is unstable, there arises a problem that the coating accuracy becomes non-uniform.

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、ノズルと基材との距離を安定させて塗工液を均一に塗工することができる両面塗工装置および両面塗工方法、並びに、その両面塗工装置を組み込んだ塗膜形成システムを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, a double-sided coating apparatus and a double-sided coating method capable of uniformly coating a coating liquid by stabilizing the distance between a nozzle and a substrate, and It aims at providing the coating-film formation system incorporating the double-sided coating apparatus.

上記課題を解決するため、請求項1の発明は、基材の両面に同時に塗工液を塗工する両面塗工装置において、第1ローラから送り出された基材を第2ローラで巻き取ることによって基材を連続して搬送する搬送機構と、前記搬送機構によって搬送される基材の第1面に塗工液を吐出する第1ノズルと、前記第1ノズルと基材を挟んで対向して配置され、前記第1ノズルが前記第1面に塗工液を着液させる着液位置に対応する基材の第2面の位置に塗工液を吐出する第2ノズルと、前記第1ノズルに塗工液を送液する第1送液手段と、前記第2ノズルに塗工液を送液する第2送液手段と、前記第1ノズルから塗工液を吐出する第1吐出圧と前記第2ノズルから塗工液を吐出する第2吐出圧とのバランスによって前記第1ノズルと前記第2ノズルとの間の所定位置を基材が通過するように前記第1送液手段および前記第2送液手段を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする。   In order to solve the above-mentioned problem, the invention of claim 1 is a double-sided coating apparatus that simultaneously applies a coating liquid to both sides of a base material, and the base material fed from the first roller is wound up by the second roller. A conveying mechanism that continuously conveys the substrate, a first nozzle that discharges a coating liquid onto the first surface of the substrate conveyed by the conveying mechanism, and the first nozzle and the substrate facing each other. A second nozzle that discharges the coating liquid to a position on the second surface of the substrate corresponding to a liquid deposition position at which the first nozzle deposits the coating liquid on the first surface; A first liquid feeding means for feeding the coating liquid to the nozzle; a second liquid feeding means for feeding the coating liquid to the second nozzle; and a first discharge pressure for discharging the coating liquid from the first nozzle. And the second nozzle according to the balance between the second discharge pressure for discharging the coating liquid from the second nozzle. It characterized in that it comprises a control means for controlling said first feeding means and said second feeding means so as substrate passes through the predetermined position between the.

また、請求項2の発明は、請求項1の発明に係る両面塗工装置において、前記制御手段は、前記第1吐出圧と前記第2吐出圧とを等しくして前記第1ノズルと前記第2ノズルとの間の中央を基材が通過するように前記第1送液手段および前記第2送液手段を制御することを特徴とする。   According to a second aspect of the present invention, in the double-side coating apparatus according to the first aspect of the invention, the control means sets the first discharge pressure and the second discharge pressure equal to each other, and the first nozzle and the first The first liquid feeding means and the second liquid feeding means are controlled so that the base material passes through the center between the two nozzles.

また、請求項3の発明は、請求項1または請求項2の発明に係る両面塗工装置において、前記第1ノズルと前記第2ノズルとの間を走行する基材が前記第1吐出圧と前記第2吐出圧とのバランスによって前記所定位置にまで移動できるように基材に作用する張力を緩和する張力緩和機構をさらに備えることを特徴とする。   Further, the invention of claim 3 is the double-sided coating apparatus according to claim 1 or claim 2, wherein the base material traveling between the first nozzle and the second nozzle is the first discharge pressure. It is further characterized by further comprising a tension relaxation mechanism that relaxes the tension acting on the substrate so that it can be moved to the predetermined position by balance with the second discharge pressure.

また、請求項4の発明は、請求項3の発明に係る両面塗工装置において、前記張力緩和機構は、基材に作用する張力を一定に保つダンサーローラを含むことを特徴とする。   According to a fourth aspect of the present invention, in the double-side coating apparatus according to the third aspect of the present invention, the tension relaxation mechanism includes a dancer roller that maintains a constant tension acting on the substrate.

また、請求項5の発明は、請求項1または請求項2の発明に係る両面塗工装置において、前記第1ローラから前記第2ローラに至る基材の搬送経路のうち前記第1ノズルおよび前記第2ノズルから塗工液が塗工される塗工区間にて基材に作用する張力を前記塗工区間を除く区間にて基材に作用する張力よりも低くする張力緩和機構をさらに備えることを特徴とする。   Further, the invention of claim 5 is the double-sided coating apparatus according to claim 1 or claim 2, wherein the first nozzle and the conveying path of the base material from the first roller to the second roller A tension relaxation mechanism for lowering the tension acting on the base material in the coating section where the coating liquid is applied from the second nozzle to be lower than the tension acting on the base material in the section excluding the coating section; It is characterized by.

また、請求項6の発明は、請求項5の発明に係る両面塗工装置において、前記張力緩和機構は、前記塗工区間の上流側端に設置された一対の上流側ピンチローラと、前記塗工区間の下流側端に設置された一対の下流側ピンチローラと、前記塗工区間内に設けられ、前記塗工区間にて基材に作用する張力を前記塗工区間を除く区間にて基材に作用する張力よりも低い一定値に保つダンサーローラと、を含むことを特徴とする。   Further, the invention of claim 6 is the double-sided coating apparatus according to the invention of claim 5, wherein the tension relaxation mechanism includes a pair of upstream pinch rollers installed at an upstream end of the coating section, and the coating. A pair of downstream pinch rollers installed at the downstream end of the work section and a tension that is provided in the coating section and acts on the base material in the coating section is based on the section excluding the coating section. And a dancer roller that maintains a constant value lower than the tension acting on the material.

また、請求項7の発明は、請求項5の発明に係る両面塗工装置において、前記張力緩和機構は、前記塗工区間の上流側端に設置された一対の上流側ピンチローラと、前記塗工区間の下流側端に設置された一対の下流側ピンチローラと、前記一対の上流側ピンチローラの送り速度および前記一対の下流側ピンチローラの送り速度を調整して前記塗工区間にて基材に作用する張力を前記塗工区間を除く区間にて基材に作用する張力よりも低くするドロー制御手段と、を含むことを特徴とする。   The invention of claim 7 is the double-sided coating apparatus according to the invention of claim 5, wherein the tension relaxation mechanism includes a pair of upstream pinch rollers installed at an upstream end of the coating section, and the coating. A pair of downstream pinch rollers installed at the downstream end of the work section, a feed speed of the pair of upstream pinch rollers, and a feed speed of the pair of downstream pinch rollers are adjusted in the coating section. And draw control means for making the tension acting on the material lower than the tension acting on the substrate in the section excluding the coating section.

また、請求項8の発明は、請求項5から請求項7のいずれかの発明に係る両面塗工装置において、前記張力緩和機構は、前記塗工区間にて基材に作用する張力を前記第1ノズルと前記第2ノズルとの間を走行する基材が前記第1吐出圧と前記第2吐出圧とのバランスによって前記所定位置にまで移動できる値とすることを特徴とする。   The invention of claim 8 is the double-sided coating apparatus according to any one of claims 5 to 7, wherein the tension relaxation mechanism is configured to apply the tension acting on the substrate in the coating section. A base material that travels between one nozzle and the second nozzle has a value that can move to the predetermined position by a balance between the first discharge pressure and the second discharge pressure.

また、請求項9の発明は、塗膜形成システムであって、請求項1から請求項8のいずれかの発明に係る両面塗工装置と、前記両面塗工装置によって基材の両面に形成された塗工液の塗膜を乾燥させる乾燥部と、を備えることを特徴とする。   The invention of claim 9 is a coating film forming system, which is formed on both surfaces of a substrate by the double-side coating apparatus according to any one of claims 1 to 8 and the double-side coating apparatus. And a drying section for drying the coating film of the coating liquid.

また、請求項10の発明は、基材の両面に同時に塗工液を塗工する両面塗工方法において、第1ローラから送り出された基材を第2ローラで巻き取ることによって基材を連続して搬送する搬送工程と、搬送される基材の第1面に第1ノズルから塗工液を吐出する第1塗工工程と、前記第1ノズルが前記第1面に塗工液を着液させる着液位置に対応する基材の第2面の位置に第2ノズルから塗工液を吐出する第2塗工工程と、を備え、前記第1ノズルから塗工液を吐出する第1吐出圧と前記第2ノズルから塗工液を吐出する第2吐出圧とのバランスによって基材に前記第1ノズルと前記第2ノズルとの間の所定位置を通過させることを特徴とする。   Further, the invention of claim 10 is a double-sided coating method in which the coating liquid is simultaneously applied to both surfaces of the substrate, and the substrate is continuously wound by winding the substrate fed from the first roller with the second roller. Transporting process, a first coating process for discharging the coating liquid from the first nozzle to the first surface of the substrate to be transported, and the first nozzle depositing the coating liquid on the first surface. A second coating step of discharging the coating liquid from the second nozzle to the position of the second surface of the base material corresponding to the liquid landing position to be liquidized, and discharging the coating liquid from the first nozzle The substrate is allowed to pass through a predetermined position between the first nozzle and the second nozzle by a balance between a discharge pressure and a second discharge pressure for discharging the coating liquid from the second nozzle.

また、請求項11の発明は、請求項10の発明に係る両面塗工方法において、前記第1吐出圧と前記第2吐出圧とを等しくして前記第1ノズルと前記第2ノズルとの間の中央を基材に通過させることを特徴とする。   The invention according to claim 11 is the double-sided coating method according to the invention of claim 10, wherein the first discharge pressure and the second discharge pressure are made equal to each other between the first nozzle and the second nozzle. The center of is passed through a substrate.

また、請求項12の発明は、請求項10または請求項11の発明に係る両面塗工方法において、前記第1ノズルと前記第2ノズルとの間を走行する基材が前記第1吐出圧と前記第2吐出圧とのバランスによって前記所定位置にまで移動できるように基材に作用する張力を緩和することを特徴とする。   The invention of claim 12 is the double-sided coating method according to claim 10 or claim 11, wherein the substrate that travels between the first nozzle and the second nozzle has the first discharge pressure. The tension acting on the base material is relaxed so that it can be moved to the predetermined position by balance with the second discharge pressure.

また、請求項13の発明は、請求項10または請求項11の発明に係る両面塗工方法において、前記第1ローラから前記第2ローラに至る基材の搬送経路のうち前記第1ノズルおよび前記第2ノズルから塗工液が塗工される塗工区間にて基材に作用する張力を前記塗工区間を除く区間にて基材に作用する張力よりも低くすることを特徴とする。   Further, the invention of claim 13 is the double-side coating method according to claim 10 or claim 11, wherein the first nozzle and the conveying path of the base material from the first roller to the second roller The tension acting on the substrate in the coating section where the coating liquid is applied from the second nozzle is made lower than the tension acting on the substrate in the section excluding the coating section.

また、請求項14の発明は、請求項13の発明に係る両面塗工方法において、前記塗工区間にて基材に作用する張力を前記第1ノズルと前記第2ノズルとの間を走行する基材が前記第1吐出圧と前記第2吐出圧とのバランスによって前記所定位置にまで移動できる値とすることを特徴とする。   Further, the invention of claim 14 is the double-sided coating method according to the invention of claim 13, wherein the tension acting on the substrate in the coating section travels between the first nozzle and the second nozzle. The base material has a value that can move to the predetermined position by a balance between the first discharge pressure and the second discharge pressure.

請求項1から請求項9の発明によれば、第1ノズルから塗工液を吐出する第1吐出圧と第2ノズルから塗工液を吐出する第2吐出圧とのバランスによって第1ノズルと第2ノズルとの間の所定位置を基材が通過するようにしているため、ノズルと基材との距離を安定させて塗工液を均一に塗工することができる。   According to the first to ninth aspects of the invention, the first nozzle and the second nozzle are balanced by a balance between the first discharge pressure for discharging the coating liquid from the first nozzle and the second discharge pressure for discharging the coating liquid from the second nozzle. Since the base material passes through a predetermined position between the second nozzle, the distance between the nozzle and the base material can be stabilized and the coating liquid can be applied uniformly.

特に、請求項2の発明によれば、第1吐出圧と第2吐出圧とを等しくして第1ノズルと第2ノズルとの間の中央を基材が通過するようにしているため、第1ノズルと基材との距離と、第2ノズルと基材との距離とを均等にすることができる。   In particular, according to the second aspect of the present invention, the first discharge pressure and the second discharge pressure are equalized so that the base material passes through the center between the first nozzle and the second nozzle. The distance between the 1 nozzle and the base material and the distance between the second nozzle and the base material can be made uniform.

特に、請求項5の発明によれば、基材の搬送経路のうち塗工区間にて基材に作用する張力を塗工区間を除く区間にて基材に作用する張力よりも低くしているため、第1吐出圧と第2吐出圧とのバランスによって容易に第1ノズルと第2ノズルとの間の基材の通過位置を調整することができる。   In particular, according to the invention of claim 5, the tension acting on the base material in the coating section of the transport path of the base material is made lower than the tension acting on the base material in the section excluding the coating section. Therefore, the passage position of the base material between the first nozzle and the second nozzle can be easily adjusted by the balance between the first discharge pressure and the second discharge pressure.

請求項10から請求項14の発明によれば、第1ノズルから塗工液を吐出する第1吐出圧と第2ノズルから塗工液を吐出する第2吐出圧とのバランスによって基材に第1ノズルと第2ノズルとの間の所定位置を通過させるため、ノズルと基材との距離を安定させて塗工液を均一に塗工することができる。   According to the tenth to fourteenth aspects of the present invention, the first discharge pressure for discharging the coating liquid from the first nozzle and the second discharge pressure for discharging the coating liquid from the second nozzle are applied to the substrate by the balance. Since the predetermined position between the 1 nozzle and the 2nd nozzle is passed, the distance of a nozzle and a base material can be stabilized and a coating liquid can be applied uniformly.

特に、請求項11の発明によれば、第1吐出圧と第2吐出圧とを等しくして第1ノズルと第2ノズルとの間の中央を基材に通過させるため、第1ノズルと基材との距離と、第2ノズルと基材との距離とを均等にすることができる。   In particular, according to the eleventh aspect of the invention, since the first discharge pressure and the second discharge pressure are equalized and the center between the first nozzle and the second nozzle is passed through the base material, The distance between the material and the distance between the second nozzle and the substrate can be made uniform.

特に、請求項13の発明によれば、基材の搬送経路のうち塗工区間にて基材に作用する張力を塗工区間を除く区間にて基材に作用する張力よりも低くしているため、第1吐出圧と第2吐出圧とのバランスによって容易に第1ノズルと第2ノズルとの間の基材の通過位置を調整することができる。   In particular, according to the invention of claim 13, the tension acting on the base material in the coating section in the transport path of the base material is made lower than the tension acting on the base material in the section excluding the coating section. Therefore, the passage position of the base material between the first nozzle and the second nozzle can be easily adjusted by the balance between the first discharge pressure and the second discharge pressure.

本発明に係る両面塗工装置を組み込んだ塗膜形成システムの全体構成を示す図である。It is a figure which shows the whole structure of the coating-film formation system incorporating the double-sided coating apparatus which concerns on this invention. 第1送液機構および第2送液機構の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of a 1st liquid feeding mechanism and a 2nd liquid feeding mechanism. 第2ピンチローラによる基材搬送を示す図である。It is a figure which shows the base-material conveyance by a 2nd pinch roller. 張力緩和機構による基材の張力緩和を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the tension relaxation of the base material by a tension relaxation mechanism. 基材の通過位置に偏倚が生じている場合の例を示す図である。It is a figure which shows the example in case the deviation has arisen in the passage position of a base material. 第1塗工ノズルおよび第2塗工ノズルからの吐出圧のバランスによって基材の通過位置が規定されている例を示す図である。It is a figure which shows the example by which the passage position of a base material is prescribed | regulated by the balance of the discharge pressure from a 1st coating nozzle and a 2nd coating nozzle.

以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1は、本発明に係る両面塗工装置を組み込んだ塗膜形成システム1の全体構成を示す図である。なお、図1および以降の各図においては、理解容易のため、必要に応じて各部の寸法や数を誇張または簡略化して描いている。   FIG. 1 is a diagram showing an overall configuration of a coating film forming system 1 incorporating a double-side coating apparatus according to the present invention. In FIG. 1 and the subsequent drawings, the size and number of each part are exaggerated or simplified as necessary for easy understanding.

この塗膜形成システム1は、基材としての長尺の金属箔をロールトゥロール方式にて連続搬送しつつ、その基材の両面に電極材料である活物質を含む塗工液を塗工し、その塗工液の乾燥処理を行ってリチウムイオン二次電池の電極製造を行う装置である。塗膜形成システム1は、両面塗工装置10に乾燥部80を備えて構成される。また、塗膜形成システム1は、システム全体を管理する制御部90を備える。   The coating film forming system 1 applies a coating liquid containing an active material as an electrode material to both surfaces of a base material while continuously conveying a long metal foil as a base material by a roll-to-roll method. , An apparatus for producing an electrode of a lithium ion secondary battery by performing a drying treatment of the coating solution. The coating film forming system 1 is configured by including a drying unit 80 in the double-side coating apparatus 10. The coating film forming system 1 includes a control unit 90 that manages the entire system.

本発明に係る両面塗工装置10は、主たる要素として第1塗工ノズル20、第2塗工ノズル40、張力緩和機構70および搬送機構60を備える。また、両面塗工装置10は、第1塗工ノズル20に塗工液を送液する第1送液機構30および第2塗工ノズル40に塗工液を送液する第2送液機構50を備える(図2)。制御部90は、両面塗工装置10の各機構部も制御しており、両面塗工装置10の制御部としても機能する。   The double-side coating apparatus 10 according to the present invention includes a first coating nozzle 20, a second coating nozzle 40, a tension relaxation mechanism 70, and a transport mechanism 60 as main elements. Further, the double-side coating apparatus 10 includes a first liquid feeding mechanism 30 that feeds the coating liquid to the first coating nozzle 20 and a second liquid feeding mechanism 50 that sends the coating liquid to the second coating nozzle 40. (FIG. 2). The control unit 90 also controls each mechanism unit of the double-side coating apparatus 10 and functions as a control unit of the double-side coating apparatus 10.

搬送機構60は、巻き出しローラ(第1ローラ)61、巻き取りローラ(第2ローラ)62および複数の補助ローラ63を備える。長尺の基材5は、巻き出しローラ61から送り出されて複数の補助ローラ63に案内されつつ巻き取りローラ62によって巻き取られることにより、両面塗工装置10、乾燥部80の順にロールトゥロール方式にて連続して搬送される。なお、補助ローラ63の個数および配置位置については、図1の例に限定されるものではなく、必要に応じて適宜に増減することができる。但し、本発明に係る両面塗工装置10は、基材5の裏面にも塗工液を塗工するため、裏面側の塗工液が乾燥していない第2塗工ノズル40と乾燥部80との間に補助ローラ63を設けることはできない。   The transport mechanism 60 includes a winding roller (first roller) 61, a winding roller (second roller) 62, and a plurality of auxiliary rollers 63. The long base material 5 is fed from the unwinding roller 61 and is taken up by the take-up roller 62 while being guided by the plurality of auxiliary rollers 63, thereby roll-to-roll in order of the double-side coating apparatus 10 and the drying unit 80. It is continuously conveyed by the method. Note that the number and arrangement position of the auxiliary rollers 63 are not limited to the example in FIG. 1 and can be increased or decreased as necessary. However, since the double-side coating apparatus 10 according to the present invention coats the coating liquid on the back surface of the substrate 5 as well, the second coating nozzle 40 and the drying unit 80 in which the coating liquid on the back surface side is not dried. The auxiliary roller 63 cannot be provided between the two.

第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40は、搬送機構60によって搬送される基材5を挟んで相対向する位置に配置されている。本実施形態においては、搬送機構60によって略水平方向に沿って搬送される基材5の上方に第1塗工ノズル20が設けられ、下方に第2塗工ノズル40が設けられる。第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40は概ね上下対称となる同様の構成を有する。第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40は、例えばステンレススチールにて形成され、基材5の幅方向に沿ったスリット状の吐出口21,41を備えたスリットノズルである。   The 1st coating nozzle 20 and the 2nd coating nozzle 40 are arrange | positioned in the position which opposes on both sides of the base material 5 conveyed by the conveyance mechanism 60. FIG. In this embodiment, the 1st coating nozzle 20 is provided above the base material 5 conveyed along the substantially horizontal direction by the conveyance mechanism 60, and the 2nd coating nozzle 40 is provided below. The first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40 have the same configuration that is generally vertically symmetric. The first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40 are slit nozzles formed of, for example, stainless steel and provided with slit-like discharge ports 21 and 41 along the width direction of the substrate 5.

第1塗工ノズル20は、搬送機構60によって搬送される基材5の表面に塗工液を吐出する。また、第2塗工ノズル40は、搬送機構60によって搬送される基材5の裏面に塗工液を吐出する。なお、基材5の「表面」とは、基材5の2つの面のうちの一方面(第1面)であり、「裏面」とはその反対側の他方面(第2面)である。すなわち、基材5の表面および裏面は、基材5の両面を単に識別するための表記であり、いずれか特定の面が表面または裏面に限定されるものではない。   The first coating nozzle 20 discharges the coating liquid onto the surface of the substrate 5 that is transported by the transport mechanism 60. The second coating nozzle 40 discharges the coating liquid onto the back surface of the base material 5 that is transported by the transport mechanism 60. The “surface” of the base material 5 is one surface (first surface) of the two surfaces of the base material 5, and the “back surface” is the other surface (second surface) on the opposite side. . That is, the front surface and the back surface of the base material 5 are notations for simply identifying both surfaces of the base material 5, and any specific surface is not limited to the front surface or the back surface.

図2は、第1送液機構30および第2送液機構50の構成を示す図である。同図に示すように、第1送液機構30および第2送液機構50は同一の構成を備える。第1送液機構30は、タンク31、ポンプ32、バルブ33、圧力センサ34,35および送液配管36を備える。   FIG. 2 is a diagram showing the configuration of the first liquid feeding mechanism 30 and the second liquid feeding mechanism 50. As shown in the figure, the first liquid feeding mechanism 30 and the second liquid feeding mechanism 50 have the same configuration. The first liquid feeding mechanism 30 includes a tank 31, a pump 32, a valve 33, pressure sensors 34 and 35, and a liquid feeding pipe 36.

タンク31は、リチウムイオン二次電池の電極材料である活物質を含む溶液を塗工液として貯留する。タンク31には、攪拌機およびエア加圧ユニットなどが付設されていても良い。攪拌機は、タンク31に貯留されている塗工液を攪拌して活物質の濃度分布を均一にする。エア加圧ユニットは、高圧の空気をタンク31内の気相部分に送り込んで貯留されている塗工液の液面を加圧する。   The tank 31 stores a solution containing an active material that is an electrode material of a lithium ion secondary battery as a coating solution. The tank 31 may be provided with a stirrer and an air pressurization unit. The stirrer agitates the coating liquid stored in the tank 31 to make the concentration distribution of the active material uniform. The air pressurization unit pressurizes the liquid surface of the coating liquid stored by sending high-pressure air into the gas phase portion in the tank 31.

送液配管36はタンク31と第1塗工ノズル20とを接続する。送液配管36は、タンク31に貯留されている塗工液を第1塗工ノズル20に向けて送給する。送液配管36としては、ステンレス管または樹脂管を用いることができる。送液配管36の経路途中には、ポンプ32およびバルブ33が介挿されている。   The liquid feeding pipe 36 connects the tank 31 and the first coating nozzle 20. The liquid feeding pipe 36 feeds the coating liquid stored in the tank 31 toward the first coating nozzle 20. As the liquid feeding pipe 36, a stainless steel pipe or a resin pipe can be used. A pump 32 and a valve 33 are inserted in the middle of the route of the liquid feeding pipe 36.

ポンプ32は、タンク31に貯留されている電極材料の塗工液を第1塗工ノズル20に向けて圧送する。ポンプ32としては、例えば駆動モータとしてサーボモータを用いた回転ポンプを採用することができる。バルブ33は、送液配管36の流路を開閉することによって第1塗工ノズル20への塗工液の供給を断続させる。バルブ33が送液配管36の流路を開放しているときには第1塗工ノズル20から塗工液が吐出され、閉止しているときには第1塗工ノズル20からの吐出が停止される。   The pump 32 pumps the electrode material coating liquid stored in the tank 31 toward the first coating nozzle 20. As the pump 32, for example, a rotary pump using a servo motor as a drive motor can be adopted. The valve 33 intermittently supplies the coating liquid to the first coating nozzle 20 by opening and closing the flow path of the liquid feeding pipe 36. When the valve 33 opens the flow path of the liquid feeding pipe 36, the coating liquid is discharged from the first coating nozzle 20, and when the valve 33 is closed, the discharge from the first coating nozzle 20 is stopped.

第1塗工ノズル20は、搬送機構60によって搬送される基材5の上方に設けられる。第1塗工ノズル20は、その吐出口21が下側を向くように(つまり、基材5に対向するように)設けられる。第1塗工ノズル20は、スリット状の吐出口21に繋がる流路を規定するためのシムおよびマニホールド等を備える。また、第1塗工ノズル20には、その位置および姿勢を調整する機構が付設されている(図示省略)。第1塗工ノズル20の吐出口21は、マニホールドを介して送液配管36に連通接続されている。送液配管36から第1塗工ノズル20に送給された塗工液は吐出口21から基材5の表面に吐出される。   The first coating nozzle 20 is provided above the substrate 5 that is transported by the transport mechanism 60. The first coating nozzle 20 is provided such that the discharge port 21 faces downward (that is, faces the base material 5). The first coating nozzle 20 includes a shim, a manifold, and the like for defining a flow path connected to the slit-shaped discharge port 21. The first coating nozzle 20 is provided with a mechanism for adjusting its position and posture (not shown). The discharge port 21 of the first coating nozzle 20 is communicatively connected to a liquid feed pipe 36 through a manifold. The coating liquid fed from the liquid feeding pipe 36 to the first coating nozzle 20 is discharged from the discharge port 21 onto the surface of the substrate 5.

送液配管36のポンプ32よりも下流側(第1塗工ノズル20に近い側)には圧力センサ34が接続されている。圧力センサ34は、送液配管36内の液圧を測定し、ポンプ32が第1塗工ノズル20に塗工液を圧送する送液圧を測定する。また、第1塗工ノズル20には圧力センサ35が付設されている。圧力センサ35は、第1塗工ノズル20の吐出口21からの吐出圧を測定する。圧力センサ34,35、ポンプ32およびバルブ33は制御部90に電気的に接続されている。圧力センサ34,35の測定結果は制御部90に伝達され、制御部90はポンプ32およびバルブ33の動作を制御して第1塗工ノズル20からの吐出圧を規定する。   A pressure sensor 34 is connected to a downstream side of the liquid feeding pipe 36 from the pump 32 (side closer to the first coating nozzle 20). The pressure sensor 34 measures the liquid pressure in the liquid feeding pipe 36 and measures the liquid feeding pressure at which the pump 32 pumps the coating liquid to the first coating nozzle 20. Further, a pressure sensor 35 is attached to the first coating nozzle 20. The pressure sensor 35 measures the discharge pressure from the discharge port 21 of the first coating nozzle 20. The pressure sensors 34 and 35, the pump 32, and the valve 33 are electrically connected to the control unit 90. The measurement results of the pressure sensors 34 and 35 are transmitted to the control unit 90, and the control unit 90 controls the operation of the pump 32 and the valve 33 to define the discharge pressure from the first coating nozzle 20.

同様に、第2送液機構50は、タンク51、ポンプ52、バルブ53、圧力センサ54,55および送液配管56を備える。タンク51は、タンク31と同種の活物質の溶液を塗工液として貯留する。タンク51には、タンク31と同様の攪拌機およびエア加圧ユニットなどが付設されていても良い。   Similarly, the second liquid feeding mechanism 50 includes a tank 51, a pump 52, a valve 53, pressure sensors 54 and 55, and a liquid feeding pipe 56. The tank 51 stores a solution of the same active material as the tank 31 as a coating liquid. The tank 51 may be provided with the same stirrer and air pressurizing unit as the tank 31.

送液配管56はタンク51と第2塗工ノズル40とを接続する。送液配管56は、タンク51に貯留されている塗工液を第2塗工ノズル40に向けて送給する。送液配管56としては、ステンレス管または樹脂管を用いることができる。送液配管56の経路途中には、ポンプ52およびバルブ53が介挿されている。   The liquid feeding pipe 56 connects the tank 51 and the second coating nozzle 40. The liquid feeding pipe 56 feeds the coating liquid stored in the tank 51 toward the second coating nozzle 40. A stainless steel pipe or a resin pipe can be used as the liquid feeding pipe 56. A pump 52 and a valve 53 are inserted in the middle of the route of the liquid feeding pipe 56.

ポンプ52は、タンク51に貯留されている電極材料の塗工液を第2塗工ノズル40に向けて圧送する。ポンプ52としては、例えば駆動モータとしてサーボモータを用いた回転ポンプを採用することができる。バルブ53は、送液配管56の流路を開閉することによって第2塗工ノズル40への塗工液の供給を断続させる。バルブ53が送液配管56の流路を開放しているときには第2塗工ノズル40から塗工液が吐出され、閉止しているときには第2塗工ノズル40からの吐出が停止される。   The pump 52 pumps the electrode material coating liquid stored in the tank 51 toward the second coating nozzle 40. As the pump 52, for example, a rotary pump using a servo motor as a drive motor can be adopted. The valve 53 intermittently supplies the coating liquid to the second coating nozzle 40 by opening and closing the flow path of the liquid feeding pipe 56. When the valve 53 opens the flow path of the liquid feeding pipe 56, the coating liquid is discharged from the second coating nozzle 40, and when the valve 53 is closed, the discharge from the second coating nozzle 40 is stopped.

第2塗工ノズル40は、搬送機構60によって搬送される基材5の下方に設けられる。第2塗工ノズル40は、その吐出口41が上側を向くように(つまり、基材5に対向するように)設けられる。第2塗工ノズル40は、スリット状の吐出口41に繋がる流路を規定するためのシムおよびマニホールド等を備える。また、第2塗工ノズル40には、その位置および姿勢を調整する機構が付設されている(図示省略)。第2塗工ノズル40の吐出口41は、マニホールドを介して送液配管56に連通接続されている。送液配管56から第2塗工ノズル40に送給された塗工液は吐出口41から基材5の裏面に吐出される。   The second coating nozzle 40 is provided below the substrate 5 that is transported by the transport mechanism 60. The 2nd coating nozzle 40 is provided so that the discharge port 41 may face the upper side (namely, it opposes the base material 5). The second coating nozzle 40 includes a shim, a manifold, and the like for defining a flow path connected to the slit-like discharge port 41. The second coating nozzle 40 is provided with a mechanism for adjusting its position and posture (not shown). The discharge port 41 of the second coating nozzle 40 is connected to the liquid supply pipe 56 through a manifold. The coating liquid fed from the liquid feeding pipe 56 to the second coating nozzle 40 is discharged from the discharge port 41 to the back surface of the substrate 5.

送液配管56のポンプ52よりも下流側(第2塗工ノズル40に近い側)には圧力センサ54が接続されている。圧力センサ54は、送液配管56内の液圧を測定し、ポンプ52が第2塗工ノズル40に塗工液を圧送する送液圧を測定する。また、第2塗工ノズル40には圧力センサ55が付設されている。圧力センサ55は、第2塗工ノズル40の吐出口41からの吐出圧を測定する。圧力センサ54,55、ポンプ52およびバルブ53は制御部90に電気的に接続されている。圧力センサ54,55の測定結果は制御部90に伝達され、制御部90はポンプ52およびバルブ53の動作を制御して第2塗工ノズル40からの吐出圧を規定する。   A pressure sensor 54 is connected to a downstream side of the liquid feeding pipe 56 from the pump 52 (side closer to the second coating nozzle 40). The pressure sensor 54 measures the liquid pressure in the liquid feeding pipe 56 and measures the liquid feeding pressure at which the pump 52 pumps the coating liquid to the second coating nozzle 40. Further, a pressure sensor 55 is attached to the second coating nozzle 40. The pressure sensor 55 measures the discharge pressure from the discharge port 41 of the second coating nozzle 40. The pressure sensors 54 and 55, the pump 52 and the valve 53 are electrically connected to the control unit 90. The measurement results of the pressure sensors 54 and 55 are transmitted to the control unit 90, and the control unit 90 controls the operation of the pump 52 and the valve 53 to regulate the discharge pressure from the second coating nozzle 40.

また、第1送液機構30および第2送液機構50には、吐出停止時に塗工液をタンク31,51に還流する還流配管が設けられていても良い。還流配管は、送液配管36,56におけるポンプ32,52とバルブ33,53との間から分岐されてタンク31,51に接続される。塗工液供給の停止時に、ポンプ32,52の作動を継続しつつバルブ33,53が送液配管36,56の流路を閉止したときに、ポンプ32,52から圧送された塗工液は還流配管を通ってタンク31,51に戻される。   Further, the first liquid feeding mechanism 30 and the second liquid feeding mechanism 50 may be provided with a reflux pipe for returning the coating liquid to the tanks 31 and 51 when the discharge is stopped. The reflux pipe is branched from the pumps 32 and 52 and the valves 33 and 53 in the liquid feed pipes 36 and 56 and connected to the tanks 31 and 51. When the supply of the coating liquid is stopped, when the valves 33 and 53 close the flow path of the liquid supply pipes 36 and 56 while the operation of the pumps 32 and 52 is continued, the coating liquid fed from the pumps 32 and 52 is It returns to the tanks 31 and 51 through the reflux pipe.

さらに、送液配管36,56にはフィルタが設けられていても良い。フィルタは、例えばバルブ33,53と第1塗工ノズル20,第2塗工ノズル40との間に設けられ、送液配管36,56を流れる塗工液から異物を取り除く。   Furthermore, a filter may be provided in the liquid feeding pipes 36 and 56. The filter is provided between the valves 33 and 53 and the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40, for example, and removes foreign matters from the coating liquid flowing through the liquid feeding pipes 36 and 56.

図1に戻り、張力緩和機構70は、一対の第1ピンチローラ71,71と、一対の第2ピンチローラ72,72と、ダンサーローラ73と、を備える。一対の第1ピンチローラ71,71は、搬送機構60による基材5の搬送経路に沿って第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40よりも上流側(巻き出しローラ61に近い側)に設置されている。第1ピンチローラ71,71は、円筒形状のローラであり、少なくともその外周面は基材5に対して高い摩擦係数を有する材質(例えば、ゴム)にて形成されている。一対の第1ピンチローラ71,71のロールギャップ(間隔)は基材5の厚みよりも小さな値とされており、双方が接触していても良い。従って、基材5が一対の第1ピンチローラ71,71の間を通過するときには、当該基材5が一対の第1ピンチローラ71,71によって滑ることなく挟み込まれて送り出される。   Returning to FIG. 1, the tension relaxation mechanism 70 includes a pair of first pinch rollers 71, 71, a pair of second pinch rollers 72, 72, and a dancer roller 73. The pair of first pinch rollers 71, 71 are upstream of the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40 along the transport path of the base material 5 by the transport mechanism 60 (side closer to the unwinding roller 61). Is installed. The first pinch rollers 71 and 71 are cylindrical rollers, and at least the outer peripheral surface thereof is formed of a material (for example, rubber) having a high friction coefficient with respect to the base material 5. The roll gap (interval) between the pair of first pinch rollers 71 and 71 is set to a value smaller than the thickness of the substrate 5, and both may be in contact with each other. Therefore, when the base material 5 passes between the pair of first pinch rollers 71, 71, the base material 5 is sandwiched and sent out by the pair of first pinch rollers 71, 71 without slipping.

また、一対の第1ピンチローラ71,71のうちの少なくとも一方は図示省略の駆動モータに連結されている。その駆動モータが第1ピンチローラ71,71を回転させることによって、基材5が所定の送り速度にて送り出されることとなる。第1ピンチローラ71,71による送り速度は制御部90によって制御される。   Further, at least one of the pair of first pinch rollers 71 and 71 is connected to a drive motor (not shown). The drive motor rotates the first pinch rollers 71 and 71, whereby the base material 5 is fed out at a predetermined feed speed. The feed speed by the first pinch rollers 71 and 71 is controlled by the control unit 90.

一方、一対の第2ピンチローラ72,72は、搬送機構60による基材5の搬送経路に沿って第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40よりも下流側(巻き取りローラ62に近い側)に設置されている。図3は、第2ピンチローラ72,72による基材搬送を示す図である。各第2ピンチローラ72は、回転軸72aの両端に一対の円板状のローラ72b,72bを固設して構成される。回転軸72aの直径はローラ72b,72bの直径よりも小さい。ローラ72b,72bは、第1ピンチローラ71,71と同様に、少なくともその外周面は基材5に対して高い摩擦係数を有する材質(例えば、ゴム)にて形成されている。回転軸72aの長さは基材5の幅と概ね同程度である。よって、図3に示すように、ローラ72b,72bは基材5の幅方向両縁部と接触する。   On the other hand, the pair of second pinch rollers 72, 72 are located downstream of the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40 (closer to the winding roller 62) along the transport path of the base material 5 by the transport mechanism 60. Side). FIG. 3 is a diagram illustrating the conveyance of the base material by the second pinch rollers 72 and 72. Each second pinch roller 72 is configured by fixing a pair of disk-shaped rollers 72b and 72b to both ends of the rotation shaft 72a. The diameter of the rotating shaft 72a is smaller than the diameter of the rollers 72b and 72b. Similar to the first pinch rollers 71 and 71, the rollers 72 b and 72 b are formed of a material (for example, rubber) having at least an outer peripheral surface with respect to the base material 5. The length of the rotating shaft 72 a is approximately the same as the width of the base material 5. Therefore, as shown in FIG. 3, the rollers 72 b and 72 b come into contact with both edges in the width direction of the substrate 5.

一対の第2ピンチローラ72,72のロールギャップ、すなわち一方の第2ピンチローラ72のローラ72bと他方の第2ピンチローラ72のローラ72bとの間隔は基材5の厚みよりも小さな値とされており、双方が接触していても良い。従って、基材5が一対の第2ピンチローラ72,72の間を通過するときには、当該基材5の幅方向両縁部がローラ72b,72bによって滑ることなく挟み込まれて送り出される。第2ピンチローラ72,72の位置においては、基材5の表面および裏面に塗工液の塗膜が形成されているのであるが、図3に示すように、一対の第2ピンチローラ72,72は基材5の幅方向両縁の非塗工領域を挟んで送り出すため、塗膜の損傷を防止するとともに、第2ピンチローラ72,72の汚染を防ぐこともできる。   The roll gap between the pair of second pinch rollers 72, 72, that is, the distance between the roller 72 b of one second pinch roller 72 and the roller 72 b of the other second pinch roller 72 is set to a value smaller than the thickness of the substrate 5. They may be in contact with each other. Therefore, when the base material 5 passes between the pair of second pinch rollers 72 and 72, both edges in the width direction of the base material 5 are sandwiched and sent out by the rollers 72b and 72b. In the positions of the second pinch rollers 72, 72, a coating film of the coating liquid is formed on the front surface and the back surface of the base material 5, but as shown in FIG. Since 72 is sent across the non-coating regions on both edges in the width direction of the substrate 5, damage to the coating film can be prevented and contamination of the second pinch rollers 72 and 72 can also be prevented.

また、一対の第2ピンチローラ72,72のうちの少なくとも一方は図示省略の駆動モータに連結されている。その駆動モータが第2ピンチローラ72,72を回転させることによって、基材5が所定の送り速度にて送り出されることとなる。第2ピンチローラ72,72による送り速度は制御部90によって制御される。   Further, at least one of the pair of second pinch rollers 72 and 72 is connected to a drive motor (not shown). The drive motor rotates the second pinch rollers 72, 72, thereby feeding the base material 5 at a predetermined feed speed. The feed speed by the second pinch rollers 72 and 72 is controlled by the control unit 90.

図1に戻り、ダンサーローラ73は、第1ピンチローラ71,71と第2ピンチローラ72,72との間に配置されている。ダンサーローラ73は、第1ピンチローラ71,71と補助ローラ63との間に設けられた上下方向に可動のローラである。すなわち、ダンサーローラ73は、回転軸が固定されておらず、基材5に作用する張力によって上下動する。換言すれば、ダンサーローラ73は、上下方向についての位置が拘束されていないため、その高さ位置にかかわらず常に一定の張力を基材5に与える。ダンサーローラ73が基材5に付与する張力はダンサーローラ73自体の質量によって規定される。なお、ダンサーローラ73には、基材5に付与する張力を調整するための錘やエアシリンダーが付設されていても良い。   Returning to FIG. 1, the dancer roller 73 is disposed between the first pinch rollers 71 and 71 and the second pinch rollers 72 and 72. The dancer roller 73 is a roller that is provided between the first pinch rollers 71 and 71 and the auxiliary roller 63 and is movable in the vertical direction. That is, the dancer roller 73 does not have a rotating shaft fixed, and moves up and down by the tension acting on the substrate 5. In other words, since the dancer roller 73 is not restrained in the vertical direction, the dancer roller 73 always applies a constant tension to the base material 5 regardless of its height position. The tension applied to the base material 5 by the dancer roller 73 is defined by the mass of the dancer roller 73 itself. The dancer roller 73 may be provided with a weight or an air cylinder for adjusting the tension applied to the base material 5.

図4は、張力緩和機構70による基材5の張力緩和を説明するための図である。一対の第1ピンチローラ71,71は第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40よりも上流側に設けられている。また、一対の第2ピンチローラ72,72は第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40よりも下流側に設けられている。すなわち、基材5に対して塗工液を塗工する第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40は、第1ピンチローラ71,71と第2ピンチローラ72,72との間に設けられている。   FIG. 4 is a view for explaining tension relaxation of the base material 5 by the tension relaxation mechanism 70. The pair of first pinch rollers 71, 71 are provided on the upstream side of the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40. Further, the pair of second pinch rollers 72, 72 are provided on the downstream side of the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40. That is, the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40 that apply the coating liquid to the substrate 5 are provided between the first pinch rollers 71 and 71 and the second pinch rollers 72 and 72. It has been.

巻き出しローラ61から巻き取りローラ62に至る基材5の搬送経路のうち、第1ピンチローラ71,71と第2ピンチローラ72,72との間が第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40から基材5に塗工液が塗工される塗工区間とされる。よって、一対の第1ピンチローラ71,71は、塗工区間の最も上流側端に設置されていることとなる。一方、一対の第2ピンチローラ72,72は、塗工区間の最も下流側端に設置されていることとなる。   Of the conveying path of the substrate 5 from the unwinding roller 61 to the take-up roller 62, the first coating nozzle 20 and the second coating are between the first pinch rollers 71 and 71 and the second pinch rollers 72 and 72. A coating section in which the coating liquid is applied from the nozzle 40 to the substrate 5 is used. Therefore, a pair of 1st pinch rollers 71 and 71 will be installed in the most upstream end of a coating area. On the other hand, a pair of 2nd pinch rollers 72 and 72 will be installed in the most downstream end of a coating area.

巻き出しローラ61から巻き取りローラ62に至る基材5の搬送経路の全体において基材5に作用する張力を規定しているのは、巻き出しローラ61および巻き取りローラ62である。典型的には、巻き取りローラ62による巻き取り速度の方が巻き出しローラ61による送り出し速度よりも若干大きく設定されており、それによって基材5に張力が与えられる。   The unwinding roller 61 and the winding roller 62 define the tension acting on the substrate 5 in the entire conveyance path of the substrate 5 from the unwinding roller 61 to the winding roller 62. Typically, the take-up speed by the take-up roller 62 is set to be slightly higher than the feed speed by the take-out roller 61, whereby tension is applied to the substrate 5.

本実施形態においては、巻き出しローラ61および巻き取りローラ62が基材5に与える張力を一対の第1ピンチローラ71,71および一対の第2ピンチローラ72,72によって遮断している。すなわち、第1ピンチローラ71,71および第2ピンチローラ72,72が基材5を挟み込んで巻き出しローラ61、巻き取りローラ62とは異なる送り速度にて基材5を送り出すことにより、塗工区間にて基材5に作用する張力を巻き出しローラ61および巻き取りローラ62の影響から独立させているのである。   In the present embodiment, the tension applied to the base material 5 by the unwinding roller 61 and the winding roller 62 is blocked by the pair of first pinch rollers 71, 71 and the pair of second pinch rollers 72, 72. That is, the first pinch rollers 71 and 71 and the second pinch rollers 72 and 72 sandwich the base material 5 and feed the base material 5 at a feed speed different from that of the unwinding roller 61 and the take-up roller 62. The tension acting on the substrate 5 in the section is made independent from the influence of the unwinding roller 61 and the winding roller 62.

巻き出しローラ61および巻き取りローラ62の影響から独立した塗工区間にて基材5に作用する張力は、ダンサーローラ73によって一定値に規定される。塗工区間よりも上流側(つまり、第1ピンチローラ71,71よりも上流側)の基材5に作用する張力は、巻き出しローラ61の送り出し速度と第1ピンチローラ71,71の送り速度によって規定される。塗工区間よりも下流側(つまり、第2ピンチローラ72,72よりも下流側)の基材5に作用する張力は、第2ピンチローラ72,72の送り速度と巻き取りローラ62の巻き取り速度とによって規定される。そして、本実施形態では、塗工区間にて基材5に作用する張力がその塗工区間を除く非塗工区間(基材5の搬送経路のうち塗工区間よりも上流側および下流側の区間)にて基材5に作用する張力よりも低くなるように設定されている。すなわち、ダンサーローラ73の質量は、塗工区間にて基材5に作用する張力が非塗工区間にて基材5に作用する張力よりも低くなるように設定されている。   The tension acting on the substrate 5 in the coating section independent from the influence of the unwinding roller 61 and the winding roller 62 is defined to a constant value by the dancer roller 73. The tension acting on the substrate 5 upstream of the coating section (that is, upstream of the first pinch rollers 71 and 71) is determined by the feed speed of the unwind roller 61 and the feed speed of the first pinch rollers 71 and 71. It is prescribed by. The tension acting on the substrate 5 downstream of the coating section (that is, downstream of the second pinch rollers 72, 72) is determined by the feed speed of the second pinch rollers 72, 72 and the winding of the winding roller 62. Defined by speed. And in this embodiment, the tension | tensile_strength which acts on the base material 5 in a coating area is the non-coating area except the coating area (in the conveyance path | route of the base material 5, an upstream and a downstream rather than a coating area). It is set to be lower than the tension acting on the substrate 5 in the section). That is, the mass of the dancer roller 73 is set so that the tension acting on the substrate 5 in the coating section is lower than the tension acting on the substrate 5 in the non-coating section.

このように、張力緩和機構70は、第1ピンチローラ71,71および第2ピンチローラ72,72によって塗工区間の基材5に作用する張力を巻き出しローラ61および巻き取りローラ62の影響から独立させるとともに、ダンサーローラ73によって塗工区間の基材5に作用する張力を非塗工区間にて基材5に作用する張力よりも低くして塗工区間での基材5の張力を緩和しているのである。なお、基材5に作用する張力が低くなっている塗工区間が過度に長くなると基材5の蛇行等の搬送不良が生じるため、ピンチローラ71,71および第2ピンチローラ72,72の設置間隔は必要最小限の長さに留めるのが好ましい。また、ダンサーローラ73または塗工区間内の補助ローラ63に、塗工区間の基材5に作用する張力を測定する張力計を付設するのが好ましい。   Thus, the tension relaxation mechanism 70 uses the first pinch rollers 71 and 71 and the second pinch rollers 72 and 72 to apply the tension acting on the substrate 5 in the coating section from the influence of the unwinding roller 61 and the winding roller 62. While making it independent, the tension acting on the base material 5 in the coating section by the dancer roller 73 is made lower than the tension acting on the base material 5 in the non-coating section to relieve the tension of the base material 5 in the coating section. It is doing. In addition, if the coating section in which the tension acting on the base material 5 is low becomes excessively long, conveyance failure such as meandering of the base material 5 occurs, so that the pinch rollers 71 and 71 and the second pinch rollers 72 and 72 are installed. The spacing is preferably kept to the minimum necessary length. Moreover, it is preferable to attach the tension meter which measures the tension | tensile_strength which acts on the base material 5 of the coating area to the dancer roller 73 or the auxiliary roller 63 in the coating area.

再び図1に戻り、乾燥部80は、第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40によって基材5の両面に形成された塗工液の塗膜の乾燥処理を行う。乾燥部80は、搬送機構60によって搬送される基材5を加熱することによって、塗工液から溶剤を蒸発させて乾燥処理を行う。乾燥部80は、例えば、塗工液の塗膜を緩やかに昇温させる予熱部、塗膜を所定温度にまで昇温して主たる加熱を行うメイン乾燥部、塗膜をより高温に加熱して膜中の歪みや残留応力を除去するアニール部、加熱された塗膜を冷却する冷却部などを備えていても良い。   Returning to FIG. 1 again, the drying unit 80 performs the drying process of the coating film of the coating liquid formed on both surfaces of the substrate 5 by the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40. The drying unit 80 performs the drying process by evaporating the solvent from the coating liquid by heating the base material 5 transported by the transport mechanism 60. The drying unit 80 includes, for example, a preheating unit that gradually raises the coating film of the coating liquid, a main drying unit that heats up the coating film to a predetermined temperature and performs main heating, and heats the coating film to a higher temperature. You may provide the annealing part which removes the distortion and residual stress in a film | membrane, the cooling part which cools the heated coating film, etc.

制御部90は、塗膜形成システム1に設けられた各動作機構を制御して基材5に対する塗工処理を進行させる。制御部90のハードウェアとしての構成は一般的なコンピュータと同様である。すなわち、制御部90は、各種演算処理を行うCPU、基本プログラムを記憶する読み出し専用のメモリであるROM、各種情報を記憶する読み書き自在のメモリであるRAMおよび制御用ソフトウェアやデータなどを記憶しておく磁気ディスクを備えて構成される。制御部90のCPUが所定の処理プログラムを実行することによって塗膜形成システム1における塗工処理が進行する。   The control unit 90 controls each operation mechanism provided in the coating film forming system 1 to advance the coating process on the base material 5. The configuration of the control unit 90 as hardware is the same as that of a general computer. That is, the control unit 90 stores a CPU that performs various arithmetic processes, a ROM that is a read-only memory that stores basic programs, a RAM that is a readable and writable memory that stores various information, control software, data, and the like. It is configured with a magnetic disk. The coating process in the coating film forming system 1 proceeds by the CPU of the control unit 90 executing a predetermined processing program.

上述のような構成を備える塗膜形成システム1にて電極製造を行うときには、搬送機構60によって基材5をロールトゥロールで連続搬送しつつ、第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40によって基材5の表裏面に塗工液の同時塗工を行う。塗工の対象となる基材5は、リチウムイオン二次電池の集電体として機能する金属箔である。塗膜形成システム1にてリチウムイオン二次電池の正極を製造する場合には、基材5として例えばアルミニウム箔(Al)を用いることができる。また、塗膜形成システム1にて負極を製造する場合には、基材5として例えば銅箔(Cu)を用いることができる。基材5は長尺のシート状の金属箔であり、その幅および厚さについては特に限定されるものではないが、例えば幅600mm〜700mm、厚さ10μm〜20μmとすることができる。   When the electrode is manufactured by the coating film forming system 1 having the above-described configuration, the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40 are continuously transported by the transport mechanism 60 by roll-to-roll. Thus, the coating liquid is simultaneously applied to the front and back surfaces of the substrate 5. The base material 5 to be coated is a metal foil that functions as a current collector of a lithium ion secondary battery. When the positive electrode of the lithium ion secondary battery is manufactured by the coating film forming system 1, for example, an aluminum foil (Al) can be used as the base material 5. Moreover, when manufacturing a negative electrode with the coating-film formation system 1, copper foil (Cu) can be used as the base material 5, for example. The substrate 5 is a long sheet-like metal foil, and the width and thickness thereof are not particularly limited. For example, the width may be 600 mm to 700 mm and the thickness may be 10 μm to 20 μm.

両面塗工装置10においては、搬送機構60によって搬送される基材5を挟んで相対向するように第1塗工ノズル20と第2塗工ノズル40とが配置される。第1塗工ノズル20は、搬送機構60によって略水平方向に搬送される基材5の表面に吐出口21から塗工液を吐出する。第1塗工ノズル20は基材5の上側から塗工液を吐出する。一方の第2塗工ノズル40は、搬送機構60によって略水平方向に搬送される基材5の裏面に吐出口41から塗工液を吐出する。第2塗工ノズル40は基材5の下側から塗工液を吐出する。   In the double-side coating apparatus 10, the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40 are arranged so as to face each other with the base material 5 transported by the transport mechanism 60 interposed therebetween. The first coating nozzle 20 discharges the coating liquid from the discharge port 21 onto the surface of the substrate 5 that is transported in a substantially horizontal direction by the transport mechanism 60. The first coating nozzle 20 discharges the coating liquid from the upper side of the substrate 5. One second coating nozzle 40 discharges the coating liquid from the discharge port 41 to the back surface of the substrate 5 that is transported in a substantially horizontal direction by the transport mechanism 60. The second coating nozzle 40 discharges the coating liquid from the lower side of the substrate 5.

塗膜形成システム1にて正極を製造する場合には、正極材料の塗工液として、例えば正極活物質であるコバルト酸リチウム(LiCoO)、導電助剤であるカーボン(C)、結着剤であるポリフッ化ビニリデン(PVDF)、溶剤であるN−メチル−2−ピロリドン(NMP)の混合液を用いる。コバルト酸リチウムに代えて、正極活物質としてニッケル酸リチウム(LiNiO)、マンガン酸リチウム(LiMn)、燐酸鉄リチウム(LiFePO)などを用いることもできる。 When the positive electrode is manufactured by the coating film forming system 1, as a positive electrode material coating liquid, for example, lithium cobaltate (LiCoO 2 ) as a positive electrode active material, carbon (C) as a conductive additive, binder A mixed liquid of polyvinylidene fluoride (PVDF) as a solvent and N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) as a solvent is used. Instead of lithium cobaltate, lithium nickelate (LiNiO 2 ), lithium manganate (LiMn 2 O 4 ), lithium iron phosphate (LiFePO 4 ), or the like can be used as the positive electrode active material.

一方、塗膜形成システム1にて負極を製造する場合には、負極材料の塗工液として、例えば負極活物質である黒鉛(グラファイト)、結着剤であるPVDF、溶剤であるNMPの混合液を用いる。黒鉛に代えて、負極活物質としてハードカーボン、チタン酸リチウム(LiTi12)、シリコン合金、スズ合金などを用いることもできる。また、正極材料および負極材料の双方において、結着剤としてPVDFに代えてスチレン−ブタジエンゴム(SBR)などを使用することができ、溶剤としてNMPに代えて水(HO)などを使用することができる。さらに、結着剤としてSBR、溶剤として水を用いる場合には、増粘剤としてカルボキシメチルセルロース(CMC)を併用することもできる。これら正極材料および負極材料の塗工液は固体(微粒子)が分散されたスラリーであってその粘度はいずれも1Pa・s(パスカル秒)以上であり、一般的にチクソトロピー性を有する。 On the other hand, when the negative electrode is manufactured by the coating film forming system 1, as a negative electrode material coating liquid, for example, a mixed liquid of graphite (graphite) as a negative electrode active material, PVDF as a binder, and NMP as a solvent. Is used. Instead of graphite, hard carbon, lithium titanate (Li 4 Ti 5 O 12 ), silicon alloy, tin alloy, or the like can be used as the negative electrode active material. In both the positive electrode material and the negative electrode material, styrene-butadiene rubber (SBR) or the like can be used as a binder instead of PVDF, and water (H 2 O) or the like can be used as a solvent instead of NMP. be able to. Furthermore, when using SBR as a binder and water as a solvent, carboxymethylcellulose (CMC) can be used in combination as a thickener. The coating liquid for these positive electrode material and negative electrode material is a slurry in which solids (fine particles) are dispersed, the viscosity of which is 1 Pa · s (pascal second) or more, and generally has thixotropic properties.

基材5の表面および裏面には同種の塗工液が塗工される。例えば、第1塗工ノズル20から基材5の表面に正極材料の塗工液を塗工するのであれば、第2塗工ノズル40からも基材5の裏面に正極材料の塗工液を塗工する。また、基材5の表面に第1塗工ノズル20から負極材料の塗工液を塗工するのであれば、基材5の裏面にも第2塗工ノズル40から負極材料の塗工液を塗工する。   The same kind of coating liquid is applied to the front surface and the back surface of the substrate 5. For example, if a positive electrode material coating solution is applied to the surface of the substrate 5 from the first coating nozzle 20, the positive electrode material coating solution is applied to the back surface of the substrate 5 from the second coating nozzle 40. Apply. Further, if the negative electrode material coating liquid is applied from the first coating nozzle 20 to the surface of the base material 5, the negative electrode material coating liquid is also applied from the second coating nozzle 40 to the back surface of the base material 5. Apply.

本実施形態の両面塗工装置10は、基材5の表裏両面に塗工液を同時に吐出するものであり、第1塗工ノズル20と第2塗工ノズル40とが基材5を挟んで相対向するように(厳密には、吐出口21と吐出口41とが相対向するように)設置されている。よって、第1塗工ノズル20が基材5の表面に塗工液を着液させる着液位置に対応する基材5の裏面の位置に第2塗工ノズル40から塗工液が吐出される。すなわち、基材5の同じ位置の表裏に第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40から塗工液が同時に吐出されるのである。   The double-sided coating apparatus 10 of this embodiment discharges a coating liquid simultaneously on both front and back surfaces of the base material 5, and the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40 sandwich the base material 5. They are installed so as to face each other (strictly, the discharge port 21 and the discharge port 41 face each other). Therefore, the coating liquid is discharged from the second coating nozzle 40 to the position on the back surface of the substrate 5 corresponding to the liquid deposition position where the first coating nozzle 20 deposits the coating liquid on the surface of the substrate 5. . That is, the coating liquid is simultaneously discharged from the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40 to the front and back of the same position of the substrate 5.

このような構成においては、第1塗工ノズル20と第2塗工ノズル40との間を通過する基材5の位置が両ノズルからの塗工液の吐出圧によって不安定となりやすい。このため、特許文献2に開示される両面塗工装置では、基材に弛みが生じないようにテンションローラによって基材に強い張力を付与しするようにしている。   In such a configuration, the position of the base material 5 passing between the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40 tends to become unstable due to the coating liquid discharge pressure from both nozzles. For this reason, in the double-sided coating apparatus disclosed in Patent Document 2, a strong tension is applied to the base material by the tension roller so that the base material is not slackened.

しかしながら、既述したように、特許文献2に開示されるようにしても、塗工用ダイの設置時の位置精度、ローラの精度、基材のくせなどの不可避的な誤差要因が存在するため、表面側および裏面側の塗工ノズルと基材との距離を安定して均等に保持することは現実的には困難であった。特に、近年では、表面側および裏面側の塗工ノズル間の基材の走行位置にシングルミクロンオーダーの精度が要求されており、テンションローラによって基材に強い張力を付与したとしてもその要求精度を満足することは困難であった。   However, as described above, even if it is disclosed in Patent Document 2, there are inevitable error factors such as the positional accuracy at the time of installation of the coating die, the accuracy of the roller, and the habit of the base material. It has been practically difficult to keep the distance between the coating nozzles on the front surface side and the back surface side and the substrate stable and even. In particular, in recent years, single-micron order accuracy is required for the travel position of the base material between the coating nozzles on the front and back sides, and even if strong tension is applied to the base material by the tension roller, the required accuracy is reduced. It was difficult to be satisfied.

そして、基材に強い張力を付与した場合には、基材の通過位置が表面側または裏面側の塗工ノズルのいずれかに偏っていると、次のような問題が生じる。図5は、基材5の通過位置に偏倚が生じている場合の例を示す図である。図5の例では、第1塗工ノズル20と第2塗工ノズル40との間における基材5の通過位置が裏面側の第2塗工ノズル40の方に偏っている。なお、理解容易のために図5では偏りの程度を誇張して描いているものの、上述した基材のくせなどに起因してこのような偏りは必ず生じる。   And when strong tension | tensile_strength is provided to the base material, the following problems will arise if the passage position of a base material is biased to either the surface side or the back surface side coating nozzle. FIG. 5 is a diagram illustrating an example in the case where deviation occurs in the passage position of the base material 5. In the example of FIG. 5, the passing position of the substrate 5 between the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40 is biased toward the second coating nozzle 40 on the back surface side. For ease of understanding, although the degree of bias is exaggerated in FIG. 5, such bias is inevitably caused by the above-described habit of the base material.

図5に示すような基材位置の偏りが生じている場合に、基材5に強い張力が付与されていたとすると、その偏りは第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40からの吐出圧によっても容易には変動しない。仮に、第1塗工ノズル20からの吐出圧よりも第2塗工ノズル40からの吐出圧を顕著に大きくした場合には、第1塗工ノズル20と第2塗工ノズル40との間の基材5が若干上方に移動して偏りが緩和されるものの、基材5が上方に移動して第2塗工ノズル40と基材5との間隔が拡がるにつれて基材5に作用する第2塗工ノズル40からの圧力が小さくなり、基材位置の偏りを完全に解消することはできない。また、第1塗工ノズル20と第2塗工ノズル40との吐出圧を異なるものとした場合には、塗工液の吐出量も異なることとなるため、基材5の表裏に形成される塗膜の膜厚が不均一になるという問題も生じる。   If the substrate 5 is biased as shown in FIG. 5 and a strong tension is applied to the substrate 5, the bias is discharged from the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40. It does not fluctuate easily with pressure. If the discharge pressure from the second coating nozzle 40 is significantly higher than the discharge pressure from the first coating nozzle 20, it is between the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40. Although the base material 5 moves slightly upward to reduce the bias, the second material that acts on the base material 5 as the base material 5 moves upward and the distance between the second coating nozzle 40 and the base material 5 increases. The pressure from the coating nozzle 40 becomes small, and the deviation of the base material position cannot be completely eliminated. Further, when the discharge pressures of the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40 are different from each other, the discharge amount of the coating liquid is also different. The problem that the film thickness of a coating film becomes non-uniform also arises.

そこで、本実施形態の両面塗工装置10においては、第1ピンチローラ71,71および第2ピンチローラ72,72によって基材5の搬送経路から塗工区間を独立させ、その塗工区間にて基材5に作用する張力が非塗工区間にて基材5に作用する張力よりも低くなるようにしている。基材5は、巻き出しローラ61から送り出されて補助ローラ63に案内されつつ巻き取りローラ62によって巻き取られることにより、所定の搬送経路に沿ってロールトゥロール方式にて連続して搬送される。巻き出しローラ61から巻き取りローラ62に至る基材5の搬送経路の全体において、基材5に作用する張力を規定しているのは、巻き出しローラ61の送り出し速度および巻き取りローラ62の巻き取り速度である。第1ピンチローラ71,71および第2ピンチローラ72,72は、基材5を挟み込んで巻き出しローラ61、巻き取りローラ62とは異なる送り速度にて基材5を送り出すことにより、塗工区間にて基材5に作用する張力を巻き出しローラ61および巻き取りローラ62の影響から独立させている。   Therefore, in the double-side coating apparatus 10 of the present embodiment, the first pinch rollers 71 and 71 and the second pinch rollers 72 and 72 make the coating section independent from the conveyance path of the base material 5, and in the coating section. The tension acting on the substrate 5 is made lower than the tension acting on the substrate 5 in the non-coating section. The base material 5 is continuously conveyed by a roll-to-roll method along a predetermined conveyance path by being fed from the unwinding roller 61 and being wound by the winding roller 62 while being guided by the auxiliary roller 63. . The tension that acts on the substrate 5 in the entire conveyance path of the substrate 5 from the unwinding roller 61 to the take-up roller 62 is regulated by the feeding speed of the unwinding roller 61 and the winding of the winding roller 62. Speed. The first pinch rollers 71, 71 and the second pinch rollers 72, 72 sandwich the base material 5 and feed the base material 5 at a feed speed different from that of the unwinding roller 61 and the winding roller 62, thereby providing a coating section. The tension acting on the substrate 5 is made independent of the influence of the unwinding roller 61 and the winding roller 62.

そして、ダンサーローラ73によって、塗工区間にて基材5に作用する張力を非塗工区間にて基材5に作用する張力よりも低い一定値に維持している。すなわち、塗工区間にて基材5に作用する張力を張力緩和機構70によって非塗工区間よりも緩和し、塗工区間での基材5に若干の弛みを与えているのである。   Then, the dancer roller 73 maintains the tension acting on the base material 5 in the coating section at a constant value lower than the tension acting on the base material 5 in the non-coating section. That is, the tension acting on the substrate 5 in the coating section is relaxed by the tension relaxation mechanism 70 as compared with the non-coating section, and the substrate 5 in the coating section is given some slack.

塗工区間にて基材5に作用している張力が相対的に低く、基材5に若干の弛みが生じている場合には、第1塗工ノズル20と第2塗工ノズル40との間を通過する基材5の位置は、第1塗工ノズル20から塗工液を吐出する吐出圧(第1吐出圧)と第2塗工ノズル40から塗工液を吐出する吐出圧(第2吐出圧)とのバランスによって比較的容易に変動する。例えば、第2塗工ノズル40の吐出圧を第1塗工ノズル20の吐出圧よりも大きくしたときには、第1塗工ノズル20と第2塗工ノズル40との間を通過する基材5の位置は下方より押し上げられて上方に移動する。逆に、第1塗工ノズル20の吐出圧を第2塗工ノズル40の吐出圧よりも大きくしたときには、第1塗工ノズル20と第2塗工ノズル40との間を通過する基材5の位置は上方より押し下げられて下方に移動する。   When the tension acting on the base material 5 in the coating section is relatively low and the base material 5 is slightly slackened, the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40 The position of the base material 5 passing between the discharge pressure (first discharge pressure) for discharging the coating liquid from the first coating nozzle 20 and the discharge pressure (first pressure) for discharging the coating liquid from the second coating nozzle 40. 2) and the pressure fluctuates relatively easily. For example, when the discharge pressure of the second coating nozzle 40 is larger than the discharge pressure of the first coating nozzle 20, the base material 5 that passes between the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40 is used. The position is pushed up from below and moves up. Conversely, when the discharge pressure of the first coating nozzle 20 is made larger than the discharge pressure of the second coating nozzle 40, the base material 5 that passes between the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40. The position of is pushed down from above and moves downward.

このように、本実施形態の両面塗工装置10においては、張力緩和機構70によって塗工区間にて基材5に作用する張力を非塗工区間にて基材5に作用する張力よりも低くし、塗工区間での基材5に若干の弛みを与えている。そして、塗工区間での基材5に若干の弛みを与えることにより、第1塗工ノズル20からの吐出圧と第2塗工ノズル40からの吐出圧とのバランスによって第1塗工ノズル20と第2塗工ノズル40との間の所定位置を基材5が通過するようにさせることができる。   Thus, in the double-sided coating apparatus 10 of this embodiment, the tension | tensile_strength which acts on the base material 5 in a coating area by the tension relaxation mechanism 70 is lower than the tension | tensile_strength which acts on the base material 5 in a non-coating area. However, the substrate 5 in the coating section is slightly slackened. Then, by giving a slight slack to the substrate 5 in the coating section, the first coating nozzle 20 is balanced by the balance between the discharge pressure from the first coating nozzle 20 and the discharge pressure from the second coating nozzle 40. It is possible to allow the base material 5 to pass through a predetermined position between the first coating nozzle 40 and the second coating nozzle 40.

図6は、第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40からの吐出圧のバランスによって基材5の通過位置が規定されている例を示す図である。本実施形態においては、塗工区間にて基材5に作用する張力を非塗工区間にて基材5に作用する張力よりも低くして基材5に若干の弛みを与えた状態において、第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40に、等しい吐出圧にてそれぞれ吐出口21および吐出口41から塗工液を吐出させる。具体的には、第1塗工ノズル20の吐出圧を計測する圧力センサ35の測定値と、第2塗工ノズル40の吐出圧を計測する圧力センサ55の測定値とが等しくなるように、制御部90がポンプ32およびポンプ52を制御して第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40から塗工液を吐出させる。   FIG. 6 is a diagram illustrating an example in which the passage position of the base material 5 is defined by the balance of discharge pressures from the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40. In this embodiment, in a state where the tension acting on the base material 5 in the coating section is lower than the tension acting on the base material 5 in the non-coating section to give the base material 5 some slack, The first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40 are caused to discharge the coating liquid from the discharge port 21 and the discharge port 41, respectively, with equal discharge pressure. Specifically, the measurement value of the pressure sensor 35 that measures the discharge pressure of the first coating nozzle 20 and the measurement value of the pressure sensor 55 that measures the discharge pressure of the second coating nozzle 40 are equal. The control unit 90 controls the pump 32 and the pump 52 to discharge the coating liquid from the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40.

基材5を挟んで相対向するように配置された第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40が等しい吐出圧にて塗工液を上下から基材5に吐出すると、基材5の同じ位置の表面および裏面に等しい液圧にて塗工液が着液することとなる。塗工区間での基材5に若干の弛みが与えられた状態において、基材5の同じ位置の表面および裏面に等しい吐出圧にて塗工液が吐出されると、図6に示すように、双方の吐出圧のバランスによって基材5は第1塗工ノズル20と第2塗工ノズル40との間の中央を通過することとなる。すなわち、第1塗工ノズル20から基材5までの距離と第2塗工ノズル40から基材5までの距離とが均等になる。   When the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40 arranged so as to face each other with the base material 5 sandwiched therebetween are discharged to the base material 5 from above and below at the same discharge pressure, The coating solution is deposited at the same pressure on the front and back surfaces at the same position. When the coating liquid is discharged at a discharge pressure equal to the front surface and the back surface of the same position of the base material 5 in a state where a slight slack is given to the base material 5 in the coating section, as shown in FIG. The base material 5 passes through the center between the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40 due to the balance of both discharge pressures. That is, the distance from the 1st coating nozzle 20 to the base material 5 and the distance from the 2nd coating nozzle 40 to the base material 5 become equal.

図6に示すように、第1塗工ノズル20と第2塗工ノズル40との間の中央を通過する基材5の上下から塗工液を吐出しつつ、搬送機構60によって基材5を矢印AR6にて示すように搬送すると、基材5の表面および裏面に塗工液の塗膜が形成される。なお、本実施形態では、第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40は、搬送される基材5の表裏面に連続して塗工液を吐出する連続塗工を行っている。また、一対の第2ピンチローラ72,72は基材5の幅方向両縁の非塗工領域を挟んでいるため(図3参照)、基材5の表面および裏面に形成された塗膜が第2ピンチローラ72,72に接触することはない。   As shown in FIG. 6, while discharging the coating liquid from above and below the substrate 5 that passes through the center between the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40, the substrate 5 is moved by the transport mechanism 60. When conveyed as indicated by the arrow AR6, a coating film of the coating liquid is formed on the front surface and the back surface of the substrate 5. In the present embodiment, the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40 perform continuous coating that continuously discharges the coating liquid onto the front and back surfaces of the substrate 5 being conveyed. In addition, since the pair of second pinch rollers 72 and 72 sandwich the non-coating region at both edges in the width direction of the base material 5 (see FIG. 3), the coating film formed on the front surface and the back surface of the base material 5 There is no contact with the second pinch rollers 72, 72.

第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40によって表裏両面に塗工液が塗工された基材5は乾燥部80に搬送され、基材5が加熱されて塗工液から溶剤が蒸発し、塗工液の塗膜の乾燥処理が行われる。基材5が乾燥部80から搬出される時点では塗工液の塗膜が十分に乾燥されている。そして、乾燥部80から搬出された基材5は巻き取りローラ62によって巻き取られる。   The substrate 5 coated with the coating liquid on both the front and back surfaces by the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40 is conveyed to the drying unit 80, and the substrate 5 is heated to evaporate the solvent from the coating solution. Then, the coating film of the coating solution is dried. When the substrate 5 is unloaded from the drying unit 80, the coating film of the coating liquid is sufficiently dried. Then, the substrate 5 carried out from the drying unit 80 is taken up by the take-up roller 62.

本実施形態においては、第1ピンチローラ71,71および第2ピンチローラ72,72によって基材5の搬送経路から塗工区間を独立させるとともに、ダンサーローラ73によって塗工区間にて基材5に作用する張力を非塗工区間にて基材5に作用する張力よりも低くしている。すなわち、特許文献2に開示される発明では基材の位置を安定させるために基材に強い張力を付与していたところ、本発明では、逆に意図して塗工区間での基材5に若干の弛みを与えているのである。そして、弛みが生じて容易に移動可能となった基材5に対して第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40から表裏両面に塗工液を吐出し、双方の吐出圧のバランスによって第1塗工ノズル20と第2塗工ノズル40との間を通過する基材5の位置を調整しているのである。特に、本実施形態では、第1塗工ノズル20から塗工液を吐出する吐出圧と第2塗工ノズル40から塗工液を吐出する吐出圧とを等しくすることによって、第1塗工ノズル20と第2塗工ノズル40との間の中央を基材5が通過するようにしている。   In the present embodiment, the first pinch rollers 71, 71 and the second pinch rollers 72, 72 make the coating section independent from the conveyance path of the base material 5, and the dancer roller 73 applies the base material 5 in the coating section. The acting tension is set lower than the tension acting on the substrate 5 in the non-coating section. That is, in the invention disclosed in Patent Document 2, a strong tension is applied to the base material in order to stabilize the position of the base material. However, in the present invention, the base material 5 in the coating section is intentionally reversed. It gives some slack. Then, the coating liquid is discharged from the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40 to both the front and back surfaces of the base material 5 which has become loose and easily movable, and the balance between the discharge pressures of both is determined. The position of the base material 5 passing between the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40 is adjusted. In particular, in this embodiment, the first coating nozzle is made equal by equalizing the discharge pressure for discharging the coating liquid from the first coating nozzle 20 and the discharge pressure for discharging the coating liquid from the second coating nozzle 40. The base material 5 passes through the center between 20 and the second coating nozzle 40.

もっとも、塗工区間にて基材5に作用する張力を低くし過ぎて基材5が大きく緩むと、塗工区間内にて基材5の搬送不良が生じるため、張力緩和機構70はそのような搬送不良が生じない程度に基材5に作用する張力を低くする必要がある。換言すれば、張力緩和機構70は、塗工区間にて基材5に作用する張力を第1塗工ノズル20と第2塗工ノズル40との間を走行する基材5が双方からの吐出圧のバランスによって要求されている所定の位置にまで移動できる程度の値とすることが望ましい。   However, if the tension acting on the base material 5 is excessively lowered in the coating section and the base material 5 is loosened greatly, a conveyance failure of the base material 5 occurs in the coating section. It is necessary to reduce the tension acting on the base material 5 to such an extent that no poor conveyance occurs. In other words, the tension relaxation mechanism 70 causes the base material 5 that travels between the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40 to discharge the tension acting on the base material 5 in the coating section from both sides. It is desirable to set the value so that it can move to a predetermined position required by the pressure balance.

本実施形態のようにすれば、塗工区間にて基材5に作用する張力を意図的に低くし、第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40の双方の吐出圧のバランスによって第1塗工ノズル20と第2塗工ノズル40との間の所定の位置を基材5が通過するようにしているため、基材5に強い張力を付与するよりもむしろ塗工ノズル20,40と基材5との距離を安定させて塗工液を均一に塗工することができる。   According to this embodiment, the tension acting on the substrate 5 in the coating section is intentionally lowered, and the first is applied by the balance of the discharge pressures of both the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40. Since the base material 5 passes through a predetermined position between the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40, the coating nozzles 20 and 40 rather than applying a strong tension to the base material 5. The distance between the substrate 5 and the substrate 5 can be stabilized, and the coating liquid can be applied uniformly.

また、本実施形態では、第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40の双方の吐出圧のバランスによって基材5の通過位置が調整されるため、ノズルやローラなどの設置位置には厳密な精度が不要となり、その調整を簡略化することもできる。   In this embodiment, since the passing position of the base material 5 is adjusted by the balance of the discharge pressures of both the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40, the installation positions of the nozzles and rollers are strictly Accuracy is not required, and the adjustment can be simplified.

以上、本発明の実施の形態について説明したが、この発明はその趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記実施形態においては、塗工区間にて基材5に作用する張力をダンサーローラ73によって規定していたが、これに代えて、ドロー制御によって基材5に作用する張力を調整するようにしても良い。具体的には、制御部90が一対の第1ピンチローラ71,71の送り速度および一対の第2ピンチローラ72,72の送り速度を調整して塗工区間にて基材5に作用する張力を非塗工区間にて基材5に作用する張力よりも低くなるようにしている。塗工区間よりも上流側の基材5に作用する張力は、巻き出しローラ61の送り出し速度と第1ピンチローラ71,71の送り速度によって規定される。一方、塗工区間よりも下流側の基材5に作用する張力は、第2ピンチローラ72,72の送り速度と巻き取りローラ62の巻き取り速度とによって規定される。制御部90は、塗工区間の上流側および下流側にて基材5に作用する張力よりも塗工区間にて基材5に作用する張力が低くなるように、第1ピンチローラ71,71の送り速度および第2ピンチローラ72,72の送り速度を調整する。このようにしても、上記実施形態と同様に、塗工区間にて基材5に作用する張力を意図的に低くし、第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40の双方の吐出圧のバランスによって第1塗工ノズル20と第2塗工ノズル40との間の所定の位置を基材5が通過するようにすることができる。このため、基材5に強い張力を付与するよりもむしろ塗工ノズル20,40と基材5との距離を安定させて塗工液を均一に塗工することができる。   While the embodiments of the present invention have been described above, the present invention can be modified in various ways other than those described above without departing from the spirit of the present invention. For example, in the above embodiment, the tension acting on the base material 5 in the coating section is defined by the dancer roller 73, but instead, the tension acting on the base material 5 is adjusted by draw control. Anyway. Specifically, the control unit 90 adjusts the feed speed of the pair of first pinch rollers 71 and 71 and the feed speed of the pair of second pinch rollers 72 and 72 to act on the substrate 5 in the coating section. Is made lower than the tension acting on the substrate 5 in the non-coating section. The tension acting on the base material 5 on the upstream side of the coating section is defined by the feeding speed of the unwinding roller 61 and the feeding speeds of the first pinch rollers 71 and 71. On the other hand, the tension acting on the substrate 5 on the downstream side of the coating section is defined by the feeding speed of the second pinch rollers 72 and 72 and the winding speed of the winding roller 62. The control unit 90 controls the first pinch rollers 71 and 71 so that the tension acting on the substrate 5 in the coating section is lower than the tension acting on the substrate 5 on the upstream side and downstream side of the coating section. And the feed speeds of the second pinch rollers 72 and 72 are adjusted. Even if it does in this way, similarly to the said embodiment, the tension | tensile_strength which acts on the base material 5 in a coating area will be made low intentionally, and the discharge pressure of both the 1st coating nozzle 20 and the 2nd coating nozzle 40 will be carried out. By this balance, the base material 5 can pass through a predetermined position between the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40. For this reason, rather than giving strong tension to the substrate 5, the distance between the coating nozzles 20, 40 and the substrate 5 can be stabilized and the coating solution can be applied uniformly.

また、上記実施形態においては、第1ピンチローラ71,71および第2ピンチローラ72,72によって基材5の搬送経路から塗工区間を独立させていたが、巻き出しローラ61から巻き取りローラ62に至る基材5の搬送経路の全長が十分短い場合(例えば、全長が2m以下)には、敢えて塗工区間を区分けしなくても良い。この場合は、巻き出しローラ61から巻き取りローラ62に至る基材5の搬送経路の全体が塗工区間であると把握することもできる。そして、上記実施形態と同じく、ダンサーローラ73によってまたはドロー制御によって搬送経路の全体において基材5に作用する張力を低く設定することにより、第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40の双方の吐出圧のバランスによって第1塗工ノズル20と第2塗工ノズル40との間の所定の位置を基材5が通過するようにすることができる。このため、基材5に強い張力を付与するよりもむしろ塗工ノズル20,40と基材5との距離を安定させて塗工液を均一に塗工することができる。もっとも、基材5に作用する張力が低くなっている区間が長いと基材5の蛇行等の搬送不良が生じるため、基材5の搬送経路が長い場合には上記実施形態のように第1ピンチローラ71,71および第2ピンチローラ72,72によって塗工区間を独立させるのが好ましい。   In the above embodiment, the first pinch rollers 71, 71 and the second pinch rollers 72, 72 separate the coating section from the conveyance path of the base material 5. When the total length of the conveyance path of the base material 5 leading to is sufficiently short (for example, the total length is 2 m or less), the coating section does not have to be divided. In this case, it can also be understood that the entire conveyance path of the base material 5 from the unwinding roller 61 to the winding roller 62 is the coating section. And like the said embodiment, both the 1st coating nozzle 20 and the 2nd coating nozzle 40 are set by setting low the tension | tensile_strength which acts on the base material 5 in the whole conveyance path | route by the dancer roller 73 or by draw control. The base material 5 can pass through a predetermined position between the first coating nozzle 20 and the second coating nozzle 40 by the balance of the discharge pressures. For this reason, rather than giving strong tension to the substrate 5, the distance between the coating nozzles 20, 40 and the substrate 5 can be stabilized and the coating solution can be applied uniformly. However, if the section in which the tension acting on the base material 5 is low is long, a transport failure such as meandering of the base material 5 occurs. Therefore, when the transport path of the base material 5 is long, the first embodiment as in the above embodiment. It is preferable to make the coating section independent by the pinch rollers 71 and 71 and the second pinch rollers 72 and 72.

また、上記実施形態において、トルク制御を行うようにしても良い。例えば、巻き取りローラ62を一定トルクで回転する機能を有するものを採用し、第2ピンチローラ72,72から巻き取りローラ62の搬送区間のトルクを規定することも可能である。また、同様に、巻き出しローラ61において、基材5の搬送方向と逆方向に回転する機構と、一定トルクで滑るクラッチ機構を設けることで、巻き出しローラ61から第1ピンチローラ71,71の搬送区間のトルクを規定しても良い。   In the above embodiment, torque control may be performed. For example, it is possible to use a roller having a function of rotating the take-up roller 62 with a constant torque, and to define the torque of the conveying section from the second pinch rollers 72, 72 to the take-up roller 62. Similarly, the unwinding roller 61 is provided with a mechanism that rotates in the direction opposite to the conveying direction of the base material 5 and a clutch mechanism that slides at a constant torque. You may prescribe | regulate the torque of a conveyance area.

また、上記実施形態では、乾燥部80での乾燥処理後に補助ローラ63を経由して直接に巻き取りローラ62に基材5を巻き取らせる構成としているが、これに限定されるものではない。例えば、補助ローラ63から巻き取りローラ62への搬送経路中にさらなる補助ローラ63を追加するとともに、それら2つの補助ローラ63の間にダンサーローラを設けて、第2ピンチローラ72,72から巻き取りローラ62の搬送区間のトルクを規定するようにしても良い。   Moreover, in the said embodiment, although it has set it as the structure which makes the winding roller 62 wind up directly via the auxiliary roller 63 after the drying process in the drying part 80, it is not limited to this. For example, a further auxiliary roller 63 is added in the conveyance path from the auxiliary roller 63 to the take-up roller 62, and a dancer roller is provided between the two auxiliary rollers 63, and the second pinch rollers 72, 72 take up. You may make it prescribe | regulate the torque of the conveyance area of the roller 62. FIG.

また、第2ピンチローラ72,72は、回転軸72aの両端に一対の円板状のローラ72b,72bを固設するのに代えて、基材5の幅方向両縁の非塗工領域に接触する片持ちのローラによって構成するようにしても良い。   In addition, the second pinch rollers 72 and 72 are provided in the non-coating regions at both edges in the width direction of the base material 5 instead of fixing a pair of disk-shaped rollers 72b and 72b to both ends of the rotating shaft 72a. You may make it comprise with the cantilever roller which contacts.

また、上記実施形態においては、基材5に連続して塗工液を吐出する連続塗工を行っていたが、これに代えて、第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40から断続的に塗工液を吐出する間欠塗工を行うようにしても良い。   Moreover, in the said embodiment, although continuous coating which discharges a coating liquid continuously to the base material 5 was performed, it replaces with this and it interrupts from the 1st coating nozzle 20 and the 2nd coating nozzle 40. Alternatively, intermittent coating for discharging the coating liquid may be performed.

また、第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40は、1本のスリット状の吐出口21,41を有するスリットノズルに限定されるものではなく、複数本のスリットを有するものであっても良いし、略円形の吐出口から塗工液を吐出するノズルであっても良い。   Moreover, the 1st coating nozzle 20 and the 2nd coating nozzle 40 are not limited to the slit nozzle which has the one slit-shaped discharge ports 21 and 41, and have a some slit. Alternatively, a nozzle that discharges the coating liquid from a substantially circular discharge port may be used.

また、上記実施形態においては、基材5の上下に第1塗工ノズル20および第2塗工ノズル40を設けて両面同時塗工を行っていたが、基材5を水平面から傾けて搬送しつつ、その基材5を挟んで対向する位置に2つの塗工ノズルを設けて両面同時塗工を行うようにしても良い。例えば、基材5を鉛直方向に沿って搬送しつつ、その基材5を挟んで水平方向に沿って2つの塗工ノズルを設けて両面同時塗工を行うようにしても良い。   Moreover, in the said embodiment, although the 1st coating nozzle 20 and the 2nd coating nozzle 40 were provided in the upper and lower sides of the base material 5 and double-sided simultaneous coating was performed, the base material 5 is inclined and conveyed from a horizontal surface. On the other hand, two coating nozzles may be provided at positions facing each other with the base material 5 interposed therebetween to perform simultaneous double-side coating. For example, while the base material 5 is transported along the vertical direction, two coating nozzles may be provided along the horizontal direction with the base material 5 interposed therebetween to perform simultaneous double-side coating.

また、本発明に係る技術を用いて塗工処理を行う対象となる塗工液はリチウムイオン二次電池の電極材料に限定されるものではなく、例えばリチウムイオンキャパシタや太陽電池材料(電極材、封止材)の塗工液または電子材料の絶縁膜や保護膜の塗工液であっても良い。或いは、ガラス基板に静電防止塗料の塗工液を塗布するのに、本発明に係る技術を用いるようにしても良い。さらには、顔料や接着剤の塗工液を塗布するのに、本発明に係る技術を用いるようにしても良い。   In addition, the coating liquid to be coated using the technology according to the present invention is not limited to the electrode material of the lithium ion secondary battery, for example, a lithium ion capacitor or a solar cell material (electrode material, It may be a coating liquid for a sealing material or an insulating film or a protective film for an electronic material. Or you may make it use the technique which concerns on this invention to apply | coat the coating liquid of an antistatic coating material to a glass substrate. Furthermore, the technique according to the present invention may be used to apply a pigment or adhesive coating solution.

1 塗膜形成システム
5 基材
10 両面塗工装置
20 第1塗工ノズル
21,41 吐出口
30 第1送液機構
31,51 タンク
32,52 ポンプ
33,53 バルブ
34,35,54,55 圧力センサ
40 第2塗工ノズル
50 第2送液機構
60 搬送機構
61 巻き出しローラ
62 巻き取りローラ
70 張力緩和機構
71 第1ピンチローラ
72 第2ピンチローラ
73 ダンサーローラ
80 乾燥部
90 制御部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Coating film formation system 5 Base material 10 Double-side coating apparatus 20 1st coating nozzle 21, 41 Discharge port 30 1st liquid feeding mechanism 31, 51 Tank 32, 52 Pump 33, 53 Valve 34, 35, 54, 55 Pressure Sensor 40 Second coating nozzle 50 Second liquid feeding mechanism 60 Conveying mechanism 61 Unwinding roller 62 Winding roller 70 Tension relief mechanism 71 First pinch roller 72 Second pinch roller 73 Dancer roller 80 Drying unit 90 Control unit

Claims (14)

基材の両面に同時に塗工液を塗工する両面塗工装置であって、
第1ローラから送り出された基材を第2ローラで巻き取ることによって基材を連続して搬送する搬送機構と、
前記搬送機構によって搬送される基材の第1面に塗工液を吐出する第1ノズルと、
前記第1ノズルと基材を挟んで対向して配置され、前記第1ノズルが前記第1面に塗工液を着液させる着液位置に対応する基材の第2面の位置に塗工液を吐出する第2ノズルと、
前記第1ノズルに塗工液を送液する第1送液手段と、
前記第2ノズルに塗工液を送液する第2送液手段と、
前記第1ノズルから塗工液を吐出する第1吐出圧と前記第2ノズルから塗工液を吐出する第2吐出圧とのバランスによって前記第1ノズルと前記第2ノズルとの間の所定位置を基材が通過するように前記第1送液手段および前記第2送液手段を制御する制御手段と、
を備えることを特徴とする両面塗工装置。
A double-sided coating device that simultaneously applies a coating solution to both sides of a substrate,
A transport mechanism for continuously transporting the base material by winding the base material fed from the first roller with the second roller;
A first nozzle that discharges the coating liquid onto the first surface of the substrate transported by the transport mechanism;
The first nozzle and the substrate are arranged to face each other, and the first nozzle is applied to the position of the second surface of the substrate corresponding to the liquid application position where the coating liquid is applied to the first surface. A second nozzle for discharging liquid;
First liquid feeding means for feeding a coating liquid to the first nozzle;
Second liquid feeding means for feeding a coating liquid to the second nozzle;
A predetermined position between the first nozzle and the second nozzle by a balance between a first discharge pressure for discharging the coating liquid from the first nozzle and a second discharge pressure for discharging the coating liquid from the second nozzle. Control means for controlling the first liquid feeding means and the second liquid feeding means so that the substrate passes through
A double-sided coating apparatus comprising:
請求項1記載の両面塗工装置において、
前記制御手段は、前記第1吐出圧と前記第2吐出圧とを等しくして前記第1ノズルと前記第2ノズルとの間の中央を基材が通過するように前記第1送液手段および前記第2送液手段を制御することを特徴とする両面塗工装置。
In the double-side coating apparatus according to claim 1,
The control means sets the first discharge pressure and the second discharge pressure equal to each other, and the first liquid feeding means and the first liquid feeding means so that the base passes through the center between the first nozzle and the second nozzle. The double-side coating apparatus characterized by controlling said 2nd liquid feeding means.
請求項1または請求項2に記載の両面塗工装置において、
前記第1ノズルと前記第2ノズルとの間を走行する基材が前記第1吐出圧と前記第2吐出圧とのバランスによって前記所定位置にまで移動できるように基材に作用する張力を緩和する張力緩和機構をさらに備えることを特徴とする両面塗工装置。
In the double-side coating apparatus according to claim 1 or 2,
Reducing the tension acting on the base material so that the base material traveling between the first nozzle and the second nozzle can move to the predetermined position by the balance between the first discharge pressure and the second discharge pressure. A double-side coating apparatus, further comprising a tension relaxation mechanism.
請求項3記載の両面塗工装置において、
前記張力緩和機構は、基材に作用する張力を一定に保つダンサーローラを含むことを特徴とする両面塗工装置。
In the double-side coating apparatus according to claim 3,
The double-side coating apparatus, wherein the tension relaxation mechanism includes a dancer roller that maintains a constant tension acting on the substrate.
請求項1または請求項2に記載の両面塗工装置において、
前記第1ローラから前記第2ローラに至る基材の搬送経路のうち前記第1ノズルおよび前記第2ノズルから塗工液が塗工される塗工区間にて基材に作用する張力を前記塗工区間を除く区間にて基材に作用する張力よりも低くする張力緩和機構をさらに備えることを特徴とする両面塗工装置。
In the double-side coating apparatus according to claim 1 or 2,
The tension acting on the substrate is applied in the coating section where the coating liquid is applied from the first nozzle and the second nozzle in the conveyance path of the substrate from the first roller to the second roller. A double-side coating apparatus, further comprising a tension relaxation mechanism that lowers the tension acting on the base material in a section excluding the processing section.
請求項5記載の両面塗工装置において、
前記張力緩和機構は、
前記塗工区間の上流側端に設置された一対の上流側ピンチローラと、
前記塗工区間の下流側端に設置された一対の下流側ピンチローラと、
前記塗工区間内に設けられ、前記塗工区間にて基材に作用する張力を前記塗工区間を除く区間にて基材に作用する張力よりも低い一定値に保つダンサーローラと、
を含むことを特徴とする両面塗工装置。
In the double-side coating apparatus according to claim 5,
The tension relaxation mechanism is
A pair of upstream pinch rollers installed at the upstream end of the coating section;
A pair of downstream pinch rollers installed at the downstream end of the coating section;
A dancer roller that is provided in the coating section and maintains a constant value lower than the tension acting on the base material in the section excluding the coating section, the tension acting on the base material in the coating section;
A double-sided coating apparatus comprising:
請求項5記載の両面塗工装置において、
前記張力緩和機構は、
前記塗工区間の上流側端に設置された一対の上流側ピンチローラと、
前記塗工区間の下流側端に設置された一対の下流側ピンチローラと、
前記一対の上流側ピンチローラの送り速度および前記一対の下流側ピンチローラの送り速度を調整して前記塗工区間にて基材に作用する張力を前記塗工区間を除く区間にて基材に作用する張力よりも低くするドロー制御手段と、
を含むことを特徴とする両面塗工装置。
In the double-side coating apparatus according to claim 5,
The tension relaxation mechanism is
A pair of upstream pinch rollers installed at the upstream end of the coating section;
A pair of downstream pinch rollers installed at the downstream end of the coating section;
By adjusting the feed speed of the pair of upstream pinch rollers and the feed speed of the pair of downstream pinch rollers, the tension acting on the substrate in the coating section is applied to the substrate in the section excluding the coating section. Draw control means for lowering the acting tension;
A double-sided coating apparatus comprising:
請求項5から請求項7のいずれかに記載の両面塗工装置において、
前記張力緩和機構は、前記塗工区間にて基材に作用する張力を前記第1ノズルと前記第2ノズルとの間を走行する基材が前記第1吐出圧と前記第2吐出圧とのバランスによって前記所定位置にまで移動できる値とすることを特徴とする両面塗工装置。
In the double-side coating apparatus according to any one of claims 5 to 7,
The tension relaxation mechanism is configured such that the base material traveling between the first nozzle and the second nozzle has a tension acting on the base material in the coating section between the first discharge pressure and the second discharge pressure. The double-side coating apparatus is characterized in that the value can be moved to the predetermined position by balance.
請求項1から請求項8のいずれかに記載の両面塗工装置と、
前記両面塗工装置によって基材の両面に形成された塗工液の塗膜を乾燥させる乾燥部と、
を備えることを特徴とする塗膜形成システム。
A double-sided coating apparatus according to any one of claims 1 to 8,
A drying section for drying the coating film of the coating liquid formed on both surfaces of the substrate by the double-side coating apparatus;
A coating film forming system comprising:
基材の両面に同時に塗工液を塗工する両面塗工方法であって、
第1ローラから送り出された基材を第2ローラで巻き取ることによって基材を連続して搬送する搬送工程と、
搬送される基材の第1面に第1ノズルから塗工液を吐出する第1塗工工程と、
前記第1ノズルが前記第1面に塗工液を着液させる着液位置に対応する基材の第2面の位置に第2ノズルから塗工液を吐出する第2塗工工程と、
を備え、
前記第1ノズルから塗工液を吐出する第1吐出圧と前記第2ノズルから塗工液を吐出する第2吐出圧とのバランスによって基材に前記第1ノズルと前記第2ノズルとの間の所定位置を通過させることを特徴とする両面塗工方法。
It is a double-sided coating method in which a coating solution is applied simultaneously to both sides of a substrate,
A conveying step of continuously conveying the substrate by winding the substrate fed from the first roller with the second roller;
A first coating step of discharging the coating liquid from the first nozzle onto the first surface of the substrate to be conveyed;
A second coating step of discharging the coating liquid from the second nozzle to the position of the second surface of the base material corresponding to the liquid deposition position at which the first nozzle deposits the coating liquid on the first surface;
With
A balance between the first discharge pressure for discharging the coating liquid from the first nozzle and the second discharge pressure for discharging the coating liquid from the second nozzle is between the first nozzle and the second nozzle on the substrate. A double-sided coating method characterized by passing through a predetermined position.
請求項10記載の両面塗工方法において、
前記第1吐出圧と前記第2吐出圧とを等しくして前記第1ノズルと前記第2ノズルとの間の中央を基材に通過させることを特徴とする両面塗工方法。
In the double-sided coating method of Claim 10,
The double-side coating method, wherein the first discharge pressure and the second discharge pressure are made equal to pass the center between the first nozzle and the second nozzle through the substrate.
請求項10または請求項11に記載の両面塗工方法において、
前記第1ノズルと前記第2ノズルとの間を走行する基材が前記第1吐出圧と前記第2吐出圧とのバランスによって前記所定位置にまで移動できるように基材に作用する張力を緩和することを特徴とする両面塗工方法。
In the double-sided coating method according to claim 10 or 11,
Reducing the tension acting on the base material so that the base material traveling between the first nozzle and the second nozzle can move to the predetermined position by the balance between the first discharge pressure and the second discharge pressure. A double-sided coating method characterized by:
請求項10または請求項11に記載の両面塗工方法において、
前記第1ローラから前記第2ローラに至る基材の搬送経路のうち前記第1ノズルおよび前記第2ノズルから塗工液が塗工される塗工区間にて基材に作用する張力を前記塗工区間を除く区間にて基材に作用する張力よりも低くすることを特徴とする両面塗工方法。
In the double-sided coating method according to claim 10 or 11,
The tension acting on the substrate is applied in the coating section where the coating liquid is applied from the first nozzle and the second nozzle in the conveyance path of the substrate from the first roller to the second roller. A double-sided coating method characterized by lowering the tension acting on the base material in the section excluding the work section.
請求項13記載の両面塗工方法において、
前記塗工区間にて基材に作用する張力を前記第1ノズルと前記第2ノズルとの間を走行する基材が前記第1吐出圧と前記第2吐出圧とのバランスによって前記所定位置にまで移動できる値とすることを特徴とする両面塗工方法。
In the double-side coating method according to claim 13,
The base material traveling between the first nozzle and the second nozzle has a tension acting on the base material in the coating section, and is placed at the predetermined position by a balance between the first discharge pressure and the second discharge pressure. A double-sided coating method characterized in that the value can be moved up to.
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