JP5565031B2 - Double-sided intermittent coating device - Google Patents

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  • Coating Apparatus (AREA)

Description

本発明は、例えば、金属箔等のウェブに対し、その両面に薬液の塗工部と未塗工部とを交互に塗布する間欠塗布が可能な、両面間欠塗布装置に関するものである。   The present invention relates to a double-sided intermittent coating apparatus capable of intermittent coating by alternately applying a coated portion and a non-coated portion of a chemical solution on both surfaces of a web such as a metal foil.

近年、携帯電話端末から電気自動車にまで至る範囲など、電池の需要は大きく、特に、リチウムイオン電池や燃料電池の量産が盛んになってきている。
リチウムイオン電池や燃料電池に用いる部材の製造過程では、金属箔、プラスチックフィルム、固体高分子電解質膜等、長尺のウェブに対し、例えば、図3中に示すような、間欠塗布が必要となる。なお、図3は、間欠塗布の模式図である。
In recent years, there is a great demand for batteries such as a range from a mobile phone terminal to an electric vehicle, and in particular, mass production of lithium ion batteries and fuel cells has become active.
In the manufacturing process of a member used for a lithium ion battery or a fuel cell, for example, intermittent coating as shown in FIG. 3 is required for a long web such as a metal foil, a plastic film, and a solid polymer electrolyte membrane. . FIG. 3 is a schematic diagram of intermittent application.

ここで、間欠塗布とは、図3中に示すように、ウェブ2の片面に対し、ウェブ2の搬送方向に沿って、電極となる薬液を塗布した矩形形状の塗工区間4と、薬液を塗布しない無塗工区間6とを、交互に形成する塗布である。
なお、図3中には、ウェブ2の片方の面に薬液を塗布する薬液塗布装置を、符号10を付して示し、ウェブ2の搬送速度に同調して回転するウェブ搬送ロールを、符号8を付して示している。同様に、図3中には、薬液を貯留した薬液タンクを、符号36を付して示し、薬液タンク36から薬液塗布装置10へ薬液を吐出する薬液吐出機構を、符号22を付して示している。さらに、図3中には、薬液タンク36から薬液塗布装置10への薬液の流路を開放または閉鎖する薬液流路選択機構を、符号16を付して示し、薬液流路選択機構16と薬液塗布装置10との間で薬液を液切りする薬液液切機構を、符号18を付して示している。
Here, as shown in FIG. 3, intermittent application refers to a rectangular coating section 4 in which a chemical solution serving as an electrode is applied to one side of the web 2 along the conveyance direction of the web 2, and a chemical solution. It is application | coating which forms the non-coating area 6 which is not apply | coated alternately.
In FIG. 3, a chemical liquid application device that applies a chemical liquid to one surface of the web 2 is indicated by reference numeral 10, and a web conveyance roll that rotates in synchronization with the conveyance speed of the web 2 is denoted by reference numeral 8. Is shown. Similarly, in FIG. 3, a chemical liquid tank that stores the chemical liquid is indicated by reference numeral 36, and a chemical liquid discharge mechanism that discharges the chemical liquid from the chemical liquid tank 36 to the chemical liquid application apparatus 10 is indicated by reference numeral 22. ing. Further, in FIG. 3, a chemical liquid channel selection mechanism that opens or closes the chemical liquid channel from the chemical liquid tank 36 to the chemical liquid application device 10 is indicated by reference numeral 16. A chemical liquid draining mechanism for draining the chemical liquid with the coating apparatus 10 is indicated by reference numeral 18.

また、リチウムイオン電池や燃料電池に用いる部材の製造過程では、塗工区間と無塗工区間とを、ウェブの表面と裏面、すなわち、ウェブの両面において同じ位置に形成する、両面間欠塗布が必要となる。
ここで、両面間欠塗布とは、図4中に示すように、ウェブ2の両面(表面及び裏面)において、塗工区間4及び無塗工区間6の位置を合わせる塗布である。なお、図4は、間欠両面塗布における、位置ズレの説明図であり、図4(a)は、ウェブ2を幅方向から見た図、図4(b)は、図4(a)のB線矢視図である。
In addition, in the manufacturing process of components used in lithium ion batteries and fuel cells, it is necessary to perform double-sided intermittent coating in which the coating section and the non-coating section are formed at the same position on the front and back surfaces of the web, that is, both sides of the web. It becomes.
Here, the double-sided intermittent application is an application in which the positions of the coating section 4 and the non-coating section 6 are aligned on both surfaces (front and back surfaces) of the web 2 as shown in FIG. FIG. 4 is an explanatory diagram of positional deviation in intermittent double-side coating, FIG. 4 (a) is a view of the web 2 as viewed from the width direction, and FIG. 4 (b) is a view of B in FIG. FIG.

なお、図中及び以下の説明では、ウェブ2の搬送方向に沿った塗工区間4のズレを、搬送方向ズレS1と規定し、ウェブ2の搬送方向に対して垂直な幅方向に沿った塗工区間4のズレを、垂直方向ズレS2と規定する。さらに、図中及び以下の説明では、両面間欠塗布に特有の、ウェブ2の搬送方向に形成される、塗工区間4の位置が不均一な領域を、不安定領域44と記載する。   In the drawings and the following description, the deviation of the coating section 4 along the conveyance direction of the web 2 is defined as a conveyance direction deviation S1, and the coating along the width direction perpendicular to the conveyance direction of the web 2 is defined. The deviation of the work section 4 is defined as a vertical deviation S2. Further, in the drawing and the following description, an area where the position of the coating section 4 which is formed in the conveyance direction of the web 2 and is unique in the double-sided intermittent application is described as an unstable area 44.

上述したような、長尺のウェブに両面間欠塗布を行うための装置としては、例えば、図5中に示すような装置や、特許文献1に記載されているような装置が挙げられる。なお、図5は、従来例の間欠塗布装置の構成を示す図である。
図5中に示す構成の両面間欠塗布装置1では、一般的に、まず、図6中に示すように、ウェブ2の表面に対して片面だけの間欠塗布を行ない、乾燥炉26で乾燥させた後、図5中に示すように、ウェブ2の裏面に対して間欠塗布を行なう。なお、図6は、片面だけの間欠塗布の模式図である。
As an apparatus for performing double-sided intermittent coating on a long web as described above, for example, an apparatus as shown in FIG. 5 or an apparatus described in Patent Document 1 can be cited. In addition, FIG. 5 is a figure which shows the structure of the intermittent application apparatus of a prior art example.
In the double-sided intermittent coating apparatus 1 having the configuration shown in FIG. 5, first, as shown in FIG. 6, first, intermittent coating on only one side is performed on the surface of the web 2 and dried in a drying furnace 26. Thereafter, as shown in FIG. 5, intermittent application is performed on the back surface of the web 2. FIG. 6 is a schematic diagram of intermittent application only on one side.

このとき、裏面に対する塗工区間4の位置合わせは、ウェブ2の表面に対して片面だけの間欠塗布を行なった後に、光電センサ46を用いて搬送方向ズレS1を検出し、この検出した搬送方向ズレS1に応じて、薬液流路選択機構16及び薬液液切機構18を動作させるタイミングを補正して行なう。なお、図5中には、光電センサ46が検出した搬送方向ズレS1に応じて、薬液流路選択機構16及び薬液液切機構18を動作させるタイミングを補正する制御を行なうタイミング制御手段を、符号48を付して示している。   At this time, the alignment of the coating section 4 with respect to the back surface is performed by intermittently applying only one surface to the surface of the web 2 and then detecting the transport direction deviation S1 using the photoelectric sensor 46, and this detected transport direction. The timing for operating the chemical liquid flow path selection mechanism 16 and the chemical liquid cutting mechanism 18 is corrected according to the deviation S1. In FIG. 5, a timing control unit that performs control to correct the timing for operating the chemical liquid flow path selection mechanism 16 and the chemical liquid draining mechanism 18 according to the conveyance direction deviation S <b> 1 detected by the photoelectric sensor 46 is denoted by 48 is shown.

また、特許文献1に記載されているような装置は、例えば、図7中に示すような装置である。なお、図7は、従来例の間欠塗布装置の構成を示す図である。
図7中に示すように、特許文献1に記載されているような装置は、ウェブ2が、ウェブ2の左側に配置した左側薬液塗布装置10Lと、ウェブ2の右側に配置した右側薬液塗布装置10Rとの中心において、ウェブ2のテンションのみで配置されて搬送される状態で、両面間欠塗布を行なうものである。
Moreover, an apparatus as described in Patent Document 1 is an apparatus as shown in FIG. 7, for example. In addition, FIG. 7 is a figure which shows the structure of the intermittent application apparatus of a prior art example.
As shown in FIG. 7, an apparatus as described in Patent Document 1 includes a left-side chemical solution applying apparatus 10 </ b> L arranged on the left side of the web 2 and a right-side chemical solution applying apparatus arranged on the right side of the web 2. At the center of 10R, intermittent application on both sides is performed in a state where the web 2 is arranged and conveyed only with the tension of the web 2.

特開平10−216603号公報JP-A-10-216603

しかしながら、図5中に示すような装置を用いた両面間欠塗布では、搬送方向ズレのみしか補正できないため、垂直方向ズレは、ウェブの初期位置や走行精度に大きく依存してしまうこととなる。
また、図5中に示すような装置を用いた両面間欠塗布では、不安定領域の影響により、搬送方向ズレの検知精度も低下するため、結果的に、垂直方向ズレ及び搬送方向ズレにより、塗工区間と無塗工区間との、ウェブの両面における位置合わせの精度が低下することとなる。
However, in the double-sided intermittent application using the apparatus as shown in FIG. 5, only the deviation in the conveying direction can be corrected, and therefore the vertical deviation greatly depends on the initial position of the web and the running accuracy.
In addition, in the double-sided intermittent application using the apparatus as shown in FIG. 5, the detection accuracy of the conveyance direction deviation is also lowered due to the influence of the unstable region, and as a result, the coating is caused by the vertical direction deviation and the conveyance direction deviation. The accuracy of alignment between the work section and the non-coating section on both sides of the web will be reduced.

さらに、図5中に示すような装置を用いた両面間欠塗布では、ウェブの両面における搬送方向ズレを検知してから補正を行なうため、ウェブの両面に塗工区間を形成した状態でないと補正を行なうことが不可能である。このため、塗布条件が安定するまで、ウェブの両面における位置合わせを行なうことができないため、結果的に、装置の運転初期における工程ロスが増加することとなる。   Furthermore, in the double-sided intermittent application using the apparatus as shown in FIG. 5, the correction is performed after detecting the deviation in the conveyance direction on both sides of the web. Therefore, the correction is performed unless the coating section is formed on both sides of the web. Impossible to do. For this reason, since the alignment on both sides of the web cannot be performed until the coating conditions are stabilized, the process loss in the initial operation of the apparatus increases as a result.

また、特許文献1に記載されているような装置では、ウェブが、ウェブの両側に配置した二つの薬液塗布装置の中心において、ウェブのテンションのみで配置されて搬送される状態で、両面間欠塗布を行なう。このため、薬液塗布装置とウェブとの間において、圧力バランスの制御が困難であり、塗工区間の膜厚の管理が非常に困難である。
さらに、塗工区間と無塗工区間との、ウェブの両面における位置合わせの精度に関しては、二つの薬液塗布装置に対し、初期位置の調整を行えば、塗布タイミングを同時にするだけで、位置合わせの精度を向上させることが可能である。
Moreover, in the apparatus as described in Patent Document 1, the web is intermittently coated on both sides in a state where the web is disposed and conveyed only by the tension of the web at the center of the two chemical liquid coating apparatuses disposed on both sides of the web. To do. For this reason, it is difficult to control the pressure balance between the chemical solution coating apparatus and the web, and it is very difficult to manage the film thickness in the coating section.
Furthermore, with regard to the alignment accuracy on both sides of the web in the coating section and the non-coating section, if the initial position is adjusted for the two chemical liquid application devices, the alignment can be performed only at the same application timing. It is possible to improve the accuracy.

しかしながら、特許文献1に記載されているような装置では、上述した理由により、塗工区間の膜厚を合わせながら間欠塗布をすることは非常に困難であり、塗り初めと塗り終わりが重要となる矩形形状の塗工区間を、安定して形成することが困難である。このため、結果的に、塗工区間と無塗工区間との、ウェブの両面における位置合わせの精度も悪化することとなる。   However, in the apparatus described in Patent Document 1, it is very difficult to perform intermittent application while matching the film thickness of the coating section for the reasons described above, and the beginning and end of coating are important. It is difficult to stably form a rectangular coating section. For this reason, as a result, the positioning accuracy on both sides of the web in the coated section and the non-coated section also deteriorates.

したがって、従来の両面間欠塗布装置では、塗工区間と無塗工区間との、ウェブの両面における位置合わせの精度と、膜厚の精度が良好な状態で、工程ロスが少ない両面間欠塗布を行うことが困難であった。   Therefore, in the conventional double-sided intermittent coating apparatus, the double-sided intermittent coating with a small process loss is performed with the accuracy of the alignment between the coating section and the non-coating section on both sides of the web and the accuracy of the film thickness being good. It was difficult.

本発明は、両面間欠塗布において、塗工区間と無塗工区間との、ウェブの両面における位置合わせの精度や、塗工区間の膜厚の精度を向上させることが可能であり、さらに、工程ロスが少ない両面間欠塗布装置を提供することを課題とする。   In the intermittent application on both sides, the present invention can improve the accuracy of alignment between the coating section and the non-coating section on both sides of the web, and the accuracy of the film thickness of the coating section. It is an object to provide a double-sided intermittent coating apparatus with little loss.

上記課題を解決するために、本発明のうち、請求項1に記載した発明は、搬送されてくるウェブの一方の面に薬液を矩形形状に塗布した塗工区間と前記薬液を塗布していない無塗工区間とを交互に形成した後、前記ウェブの他方の面に前記塗工区間と前記無塗工区間とを交互に形成する両面間欠塗布装置であって、
前記ウェブの片面に前記薬液を塗布する薬液塗布装置と、
前記薬液塗布装置を前記ウェブの搬送方向に対して垂直な幅方向に移動可能な薬液塗布装置可動機構と、
前記薬液塗布装置の上流側に配置され且つ前記ウェブの一方の面の画像を用いてウェブの一方の面に形成した前記塗工区間と前記無塗工区間との位置を検出するパターン位置検出機構と、
前記パターン位置検出機構が検出した前記塗工区間及び前記無塗工区間の位置に応じて、前記ウェブの他方の面に形成される前記塗工区間と前記無塗工区間が、前記ウェブの一方の面に形成した前記塗工区間と前記無塗工区間と、前記ウェブの搬送方向から見て同じ位置に形成されるように、前記薬液塗布装置可動機構を介して前記薬液塗布装置の位置を制御する薬液塗布位置制御手段と、
前記薬液を貯留した薬液タンクから前記薬液塗布装置への薬液の流路を開放または閉鎖する薬液流路選択機構と、
前記ウェブに前記薬液が塗布されないように前記薬液流路選択機構と前記薬液塗布装置との間で前記薬液を液切りする薬液液切機構と、
前記ウェブの搬送速度に同調して回転するウェブ搬送ロールの回転角度及び回転速度のうち少なくとも一方からなるロール回転情報を検出可能なロール回転情報検出機構と、
前記パターン位置検出機構が検出した前記位置及び前記ロール回転情報検出機構が検出した前記ロール回転情報に応じて、前記ウェブの他方の面に形成される前記塗工区間と前記無塗工区間が、前記ウェブの一方の面に形成した前記塗工区間と前記無塗工区間と、前記ウェブの搬送方向と直交する方向から見て同じ位置に形成されるように、前記薬液流路選択機構を介して前記薬液の流路を開放または閉鎖するタイミング、及び前記薬液液切機構を介して前記薬液流路選択機構と前記薬液塗布装置との間で前記薬液を液切りするタイミングを制御する薬液供給状態制御手段と、を備え
前記薬液塗布装置可動機構は、前記ウェブの一方の面に形成した前記塗工区間に基づいて前記ウェブの他方の面に予め設定した、前記ウェブの搬送方向に対して垂直な幅方向に沿った基準位置と、前記薬液塗布装置の現在位置と、の間に、前記ウェブの搬送方向に対して垂直な幅方向に沿ったズレが生じている場合、前記ウェブの一方の面に形成された前記塗工区間と、前記ウェブの他方の面に形成された前記塗工区間との、前記ウェブの搬送方向に対して垂直な幅方向に沿った位置とのズレが減少するように、前記薬液塗布装置を前記ウェブの搬送方向に対して垂直な幅方向に移動させ、
前記薬液供給状態制御手段は、前記ウェブの一方の面に形成した前記塗工区間と、前記ウェブの他方の面に形成される前記塗工区間との、前記ウェブの搬送方向に沿った位置のズレが減少するように、前記薬液の流路を開放または閉鎖するタイミング及び前記薬液を液切りするタイミングを制御することを特徴とするものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention described in claim 1 of the present invention does not apply a coating section in which a chemical solution is applied in a rectangular shape to one side of a web being conveyed and the chemical solution. After alternately forming the non-coating section, it is a double-sided intermittent coating apparatus that alternately forms the coating section and the non-coating section on the other surface of the web,
A chemical application device for applying the chemical to one side of the web;
A chemical solution applicator movable mechanism capable of moving the chemical solution applicator in a width direction perpendicular to the conveying direction of the web;
A pattern position detection mechanism that is arranged on the upstream side of the chemical solution coating apparatus and detects the positions of the coating section and the non-coating section formed on one surface of the web using an image of one surface of the web When,
Depending on the position of the coating section and the non-coating section detected by the pattern position detection mechanism, the coating section and the non-coating section formed on the other surface of the web are one of the webs. The position of the chemical coating device is moved via the chemical coating device moving mechanism so that the coating section and the non-coating section formed on the surface of the web are formed at the same position when viewed from the web conveyance direction. Chemical solution application position control means for controlling,
A chemical flow path selection mechanism that opens or closes the flow path of the chemical liquid from the chemical liquid tank storing the chemical liquid to the chemical liquid application device;
A chemical liquid draining mechanism for draining the chemical liquid between the chemical liquid flow path selection mechanism and the chemical liquid application device so that the chemical liquid is not applied to the web;
A roll rotation information detection mechanism capable of detecting roll rotation information consisting of at least one of a rotation angle and a rotation speed of a web conveyance roll rotating in synchronization with the web conveyance speed;
In accordance with the position detected by the pattern position detection mechanism and the roll rotation information detected by the roll rotation information detection mechanism, the coating section and the non-coating section formed on the other surface of the web, Through the chemical flow path selection mechanism, the coating section and the non-coating section formed on one surface of the web are formed at the same position as seen from the direction orthogonal to the web conveyance direction. The chemical supply state for controlling the timing for opening or closing the flow path of the chemical liquid and the timing for draining the chemical liquid between the chemical liquid flow path selection mechanism and the chemical liquid application device via the chemical liquid cutting mechanism Control means ,
The chemical solution application device moving mechanism is set in advance on the other surface of the web based on the coating section formed on one surface of the web, along the width direction perpendicular to the web conveyance direction. When there is a shift along the width direction perpendicular to the web conveyance direction between the reference position and the current position of the chemical solution coating apparatus, the one formed on one surface of the web The chemical solution application is performed such that a deviation between a coating section and a position along the width direction perpendicular to the web conveyance direction between the coating section and the coating section formed on the other surface of the web decreases. Moving the device in the width direction perpendicular to the web transport direction;
The chemical solution supply state control means includes a position of the coating section formed on one surface of the web and the coating section formed on the other surface of the web along the web conveyance direction. as shift is reduced and is characterized that you control the timing of draining the timing and the chemical opens or closes the flow path of the liquid medicine.

次に、本発明のうち、請求項に記載した発明は、請求項1に記載した発明であって、前記薬液塗布位置制御手段は、前記ウェブの搬送速度が、前記パターン位置検出機構が前記塗工区間及び前記無塗工区間の位置を検出可能な速度を超えている場合に、前記薬液塗布装置可動機構を介した制御を断続的に行なうことを特徴とするものである。 Next, of the present invention, the invention described in claim 2 is the invention described in claim 1 , wherein the chemical solution application position control means is configured such that the web conveyance speed is determined by the pattern position detection mechanism. When the speed of the coating section and the non-coating section can be detected, the control via the chemical solution coating apparatus movable mechanism is intermittently performed.

次に、本発明のうち、請求項に記載した発明は、請求項1または請求項2に記載した発明であって、前記薬液を貯留した薬液タンクから前記薬液塗布装置へ薬液を吐出する薬液吐出機構と、
前記薬液塗布装置の下流側に配置され且つ前記ウェブの両面に形成された塗工区間の膜厚を検出する塗布膜厚検出機構と、
前記塗布膜厚検出機構が検出した膜厚に応じて、前記塗工区間の膜厚が目標の厚さとなるように前記薬液吐出機構を介して前記薬液の吐出量を制御する薬液吐出機構制御手段と、を備えることを特徴とするものである。
Next, among the present inventions, the invention described in claim 3 is the invention described in claim 1 or claim 2 , wherein the chemical liquid is discharged from the chemical tank storing the chemical liquid to the chemical liquid application device. A discharge mechanism;
A coating film thickness detecting mechanism that is disposed on the downstream side of the chemical liquid coating apparatus and detects the film thickness of the coating section formed on both surfaces of the web;
According to the film thickness detected by the coating film thickness detection mechanism, a chemical solution discharge mechanism control unit that controls the discharge amount of the chemical solution through the chemical solution discharge mechanism so that the film thickness of the coating section becomes a target thickness. These are provided.

請求項1に記載した発明によれば、ウェブの一方の面(例えば、表面)に形成した塗工区間と無塗工区間との位置を検出した後、この検出した位置に応じて、ウェブの他方の面(例えば、裏面)に、塗工区間と無塗工区間とを形成することが可能となる。
このため、ウェブの両面において、塗工区間と無塗工区間との、ウェブの搬送方向に対して垂直な幅方向に沿った位置合わせが可能となり、塗工区間と無塗工区間との、ウェブの両面における位置合わせの精度を向上させることが可能となる。
According to the invention described in claim 1, after detecting the position of the coating section and the non-coating section formed on one surface (for example, the front surface) of the web, according to the detected position, It is possible to form a coating section and a non-coating section on the other surface (for example, the back surface).
Therefore, on both sides of the web, the coating section and the non-coating section can be aligned along the width direction perpendicular to the web conveyance direction, and the coating section and the non-coating section, It is possible to improve the alignment accuracy on both sides of the web.

さらに、請求項1に記載した発明によれば、パターン位置検出機構が、薬液塗布装置の上流側に配置されているため、ウェブの一方の面に塗工区間と無塗工区間を形成した状態で、塗工区間と無塗工区間との、ウェブの両面における位置合わせを行なうことが可能となる。
このため、両面間欠塗布装置の運転初期における工程ロスを減少させることが可能となる。
Furthermore, according to the invention described in claim 1, since the pattern position detection mechanism is arranged on the upstream side of the chemical solution coating apparatus, the coating section and the non-coating section are formed on one surface of the web. Thus, it is possible to align the coated section and the non-coated section on both sides of the web.
For this reason, it becomes possible to reduce the process loss in the operation | movement initial stage of a double-sided intermittent application apparatus.

請求項2に記載した発明によれば、ウェブの他方の面に対する、ウェブの搬送方向に沿った薬液の塗布に関して、ウェブの一方の面に形成した塗工区間と無塗工区間との位置と、ウェブ搬送ロールのロール回転情報を検出して、薬液流路選択機構と薬液液切機構を介して、薬液の塗布開始と塗布終了のタイミングを制御することが可能となる。
このため、塗工区間と無塗工区間との、ウェブの搬送方向に沿った位置合わせが可能となるため、塗工区間と無塗工区間との、ウェブの両面における位置合わせの精度を向上させることが可能となる。
According to the invention described in claim 2, with respect to the application of the chemical solution along the web conveyance direction to the other surface of the web, the positions of the coating section and the non-coating section formed on one surface of the web; It is possible to detect roll rotation information of the web transport roll and control the timing of the start and end of the application of the chemical liquid via the chemical liquid flow path selection mechanism and the chemical liquid cutting mechanism.
For this reason, it is possible to align the coating section and the non-coating section along the web conveyance direction, so the positioning accuracy on both sides of the web between the coating section and the non-coating section is improved. It becomes possible to make it.

請求項3に記載した発明によれば、ウェブの搬送速度が速く、パターン位置検出機構が塗工区間及び無塗工区間の位置を検出可能な速度が、ウェブの搬送速度に追いつかない場合に、薬液塗布装置可動機構を介した制御を断続的に行なう。
これにより、高スペックのパターン位置検出機構を導入せずとも、パターン位置決めが可能となる。
According to the invention described in claim 3, when the web conveyance speed is fast, and the speed at which the pattern position detection mechanism can detect the position of the coating section and the non-coating section cannot catch up with the web conveyance speed, Control via the chemical solution applicator moving mechanism is performed intermittently.
As a result, pattern positioning is possible without introducing a high-spec pattern position detection mechanism.

請求項4に記載した発明によれば、薬液塗布装置の下流側に配置された塗布膜厚検出機構が検出した膜厚に応じて、塗工区間の膜厚が目標の厚さとなるように、薬液の吐出量をフィードバック制御することが可能となる。
このため、安定した膜厚の塗工区間を形成することが可能となり、塗工区間の膜厚の精度を向上させることが可能となる。
According to the invention described in claim 4, according to the film thickness detected by the coating film thickness detection mechanism arranged on the downstream side of the chemical liquid coating apparatus, the film thickness of the coating section becomes the target thickness, It becomes possible to feedback control the discharge amount of the chemical liquid.
For this reason, it becomes possible to form the coating area of the stable film thickness, and it becomes possible to improve the precision of the film thickness of the coating area.

本発明の第一実施形態における両面間欠塗布装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the double-sided intermittent coating apparatus in 1st embodiment of this invention. パターン位置検出機構が検出した画像の模式図である。It is a schematic diagram of the image which the pattern position detection mechanism detected. 間欠塗布の模式図である。It is a schematic diagram of intermittent application. 間欠両面塗布における、位置ズレの説明図であり、図4(a)は、ウェブを幅方向から見た図、図4(b)は、図4(a)のB線矢視図である。FIGS. 4A and 4B are explanatory views of misalignment in intermittent double-side coating, in which FIG. 4A is a view of the web viewed from the width direction, and FIG. 4B is a view taken in the direction of the arrow B in FIG. 従来例の間欠塗布装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the intermittent application apparatus of a prior art example. 片面だけの間欠塗布の模式図である。It is a schematic diagram of intermittent application only on one side. 従来例の間欠塗布装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the intermittent application apparatus of a prior art example.

(第一実施形態)
以下、本発明の第一実施形態(以下、「本実施形態」と記載する)について、図面を参照しつつ説明する。
(構成)
まず、図1及び図2を用いて、本実施形態の両面間欠塗布装置1の構成を説明する。なお、以下の説明では、図3から図7を参照する場合がある。
(First embodiment)
Hereinafter, a first embodiment of the present invention (hereinafter referred to as “the present embodiment”) will be described with reference to the drawings.
(Constitution)
First, the structure of the double-sided intermittent coating apparatus 1 of this embodiment is demonstrated using FIG.1 and FIG.2. In the following description, FIGS. 3 to 7 may be referred to.

図1は、本実施形態における両面間欠塗布装置1の概略構成を示す図である。
両面間欠塗布装置1は、搬送されてくるウェブ2の一方の面に、塗工区間4と無塗工区間6とを交互に形成した後、このウェブ2の他方の面に、塗工区間4と無塗工区間6とを交互に形成する装置である。なお、図1中には、まず、ウェブ2の一方の面に塗工区間4と無塗工区間6を形成した後、このウェブ2の他方の面に塗工区間4と無塗工区間6を形成する状態を示している。
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a double-sided intermittent coating apparatus 1 in the present embodiment.
The double-sided intermittent coating apparatus 1 alternately forms the coating section 4 and the non-coating section 6 on one surface of the web 2 being conveyed, and then the coating section 4 on the other surface of the web 2. And an uncoated section 6 are alternately formed. In FIG. 1, first, a coating section 4 and a non-coating section 6 are formed on one surface of the web 2, and then a coating section 4 and a non-coating section 6 are formed on the other surface of the web 2. The state which forms is shown.

ここで、塗工区間4とは、薬液を矩形形状に塗布した区間であり、無塗工区間6とは、薬液を塗布していない区間である。また、ウェブ2の一方の面とは、例えば、表面であり、ウェブ2の他方の面とは、ウェブ2の一方の面を表面とした場合、裏面である。なお、本実施形態では、ウェブ2の一方の面を表面とし、ウェブ2の他方の面を裏面とした場合について説明する。   Here, the coating section 4 is a section where a chemical solution is applied in a rectangular shape, and the non-coating section 6 is a section where no chemical solution is applied. Further, the one surface of the web 2 is, for example, the front surface, and the other surface of the web 2 is the back surface when the one surface of the web 2 is the front surface. In the present embodiment, a case where one surface of the web 2 is the front surface and the other surface of the web 2 is the back surface will be described.

また、両面間欠塗布装置1は、図1中に示すように、ウェブ搬送ロール8と、薬液塗布装置10と、薬液塗布装置可動機構12と、パターン位置検出機構14と、薬液流路選択機構16と、薬液液切機構18と、ロール回転情報検出機構20を備えている。
これに加え、両面間欠塗布装置1は、図1中に示すように、薬液吐出機構22と、塗布膜厚検出機構24と、乾燥炉26と、両面間欠塗布制御手段28と、薬液吐出機構制御手段30を備えている。
Further, as shown in FIG. 1, the double-sided intermittent coating apparatus 1 includes a web transport roll 8, a chemical liquid coating apparatus 10, a chemical liquid coating apparatus movable mechanism 12, a pattern position detection mechanism 14, and a chemical liquid flow path selection mechanism 16. And a chemical liquid draining mechanism 18 and a roll rotation information detecting mechanism 20.
In addition to this, as shown in FIG. 1, the double-sided intermittent coating apparatus 1 includes a chemical solution discharge mechanism 22, a coating film thickness detection mechanism 24, a drying furnace 26, a double-sided intermittent coating control means 28, and a chemical solution discharge mechanism control. Means 30 are provided.

ウェブ搬送ロール8は、ウェブ2の搬送速度に同調して回転し、搬送されてくるウェブ2を支持するロールであり、ロールモータ32により回転駆動されている。なお、ロールモータ32は、例えば、回転速度を調整可能なモータを用いて形成されている。
薬液塗布装置10は、例えば、スリットダイを用いて形成されており、ウェブ搬送ロール8に支持されているウェブ2の片面に、塗工区間4の材料となる薬液を塗布することが可能である。なお、以下の説明では、薬液塗布装置10が薬液を塗布するウェブ2の片面が、ウェブ2の裏面である場合について記載する。
The web transport roll 8 is a roll that rotates in synchronization with the transport speed of the web 2 and supports the web 2 being transported, and is rotationally driven by a roll motor 32. The roll motor 32 is formed using, for example, a motor capable of adjusting the rotation speed.
The chemical solution coating apparatus 10 is formed by using, for example, a slit die, and can apply a chemical solution as a material of the coating section 4 to one side of the web 2 supported by the web transport roll 8. . In the following description, the case where the one side of the web 2 to which the chemical solution applying apparatus 10 applies the chemical solution is the back surface of the web 2 will be described.

薬液塗布装置可動機構12は、例えば、モータ等の駆動機構やボールねじ等の案内部品を用いて形成されており、薬液塗布装置10を、ウェブ2の搬送方向に対して垂直な幅方向に移動させることが可能である。なお、ウェブ2の搬送方向に対して垂直な幅方向とは、ウェブ2の幅方向と同方向である。   The chemical solution application device moving mechanism 12 is formed using, for example, a drive mechanism such as a motor or a guide component such as a ball screw, and moves the chemical solution application device 10 in the width direction perpendicular to the conveyance direction of the web 2. It is possible to make it. The width direction perpendicular to the conveyance direction of the web 2 is the same direction as the width direction of the web 2.

ここで、薬液塗布装置可動機構12による、薬液塗布装置10の、ウェブ2の搬送方向に対して垂直な幅方向への移動は、後述する薬液塗布位置制御手段34が出力した制御信号に応じて制御する。なお、薬液塗布位置制御手段34が出力した制御信号に関する説明は、後述する。   Here, the movement of the chemical liquid application apparatus 10 in the width direction perpendicular to the conveyance direction of the web 2 by the chemical liquid application apparatus moving mechanism 12 is in accordance with a control signal output by a chemical liquid application position control means 34 described later. Control. In addition, the description regarding the control signal which the chemical | medical solution application position control means 34 output is mentioned later.

パターン位置検出機構14は、薬液塗布装置10の上流側に配置されている。なお、薬液塗布装置10の上流側とは、ウェブ2の搬送方向に沿った、薬液塗布装置10よりも上流側の位置である。
また、パターン位置検出機構14は、一方の面(表面)に塗工区間4と無塗工区間6が形成されているウェブ2の画像を取得可能な、画像センサ(カメラ等)を用いて形成されており、ウェブ2の一方の面の画像を用いて、ウェブ2の一方の面に形成した塗工区間4と無塗工区間6との位置を検出する。そして、検出した塗工区間4と無塗工区間6との位置を含む情報信号を、両面間欠塗布制御手段28へ出力する。
The pattern position detection mechanism 14 is disposed on the upstream side of the chemical liquid coating apparatus 10. Note that the upstream side of the chemical liquid coating apparatus 10 is a position upstream of the chemical liquid coating apparatus 10 along the conveyance direction of the web 2.
The pattern position detection mechanism 14 is formed using an image sensor (such as a camera) that can acquire an image of the web 2 in which the coating section 4 and the non-coating section 6 are formed on one surface (front surface). The position of the coating section 4 and the non-coating section 6 formed on one surface of the web 2 is detected using an image of one surface of the web 2. Then, an information signal including the detected positions of the coating section 4 and the non-coating section 6 is output to the double-sided intermittent coating control means 28.

薬液流路選択機構16は、例えば、三方弁を用いて形成されており、薬液を貯留した薬液タンク36から薬液塗布装置10への薬液の流路と、薬液タンク36から薬液流路選択機構16を経由して薬液タンク36へ戻る薬液の循環路とを、開放または閉鎖することが可能である。なお、薬液タンク36は、塗工区間4の材料となる任意の薬液を内部に貯留したタンクである。   The chemical liquid channel selection mechanism 16 is formed by using, for example, a three-way valve, and the chemical liquid channel from the chemical liquid tank 36 storing the chemical liquid to the chemical liquid application device 10 and the chemical liquid channel selection mechanism 16 from the chemical liquid tank 36 are configured. It is possible to open or close the chemical liquid circulation path that returns to the chemical liquid tank 36 via the. The chemical liquid tank 36 is a tank that stores therein an arbitrary chemical liquid that is a material of the coating section 4.

ここで、薬液流路選択機構16による、薬液を貯留した薬液タンク36から薬液塗布装置10への薬液の流路と、薬液タンク36から薬液流路選択機構16を経由して薬液タンク36へ戻る薬液の循環路とを、開放または閉鎖するタイミングは、後述する薬液供給状態制御手段38が出力した制御信号に応じて制御する。なお、薬液供給状態制御手段38が出力した制御信号に関する説明は、後述する。   Here, the chemical liquid flow path from the chemical liquid tank 36 storing the chemical liquid to the chemical liquid application apparatus 10 by the chemical liquid flow path selection mechanism 16 and the chemical liquid tank 36 returns to the chemical liquid tank 36 via the chemical liquid flow path selection mechanism 16. The timing for opening or closing the chemical solution circulation path is controlled in accordance with a control signal output by the chemical solution supply state control means 38 described later. In addition, the description regarding the control signal which the chemical | medical solution supply state control means 38 output is mentioned later.

薬液液切機構18は、薬液流路選択機構16と薬液塗布装置10との間に配置されている。
また、薬液液切機構18は、例えば、流路内の液体を吸引可能なサックバックバルブを用いて形成されており、ウェブ2に薬液が塗布されないように、薬液流路選択機構16と薬液塗布装置10との間で薬液を液切りすることが可能である。なお、液切りとは、薬液流路選択機構16と薬液塗布装置10との間に存在する薬液を吸引して、この吸引した薬液が薬液塗布装置10内から出ないようにする動作である。
The chemical liquid cutting mechanism 18 is disposed between the chemical liquid flow path selection mechanism 16 and the chemical liquid coating apparatus 10.
Further, the chemical liquid cutting mechanism 18 is formed by using, for example, a suck back valve capable of sucking the liquid in the flow path, and the chemical liquid flow path selecting mechanism 16 and the chemical liquid application so that the chemical liquid is not applied to the web 2. It is possible to drain the chemical from the device 10. The liquid draining is an operation of sucking the chemical liquid existing between the chemical liquid flow path selecting mechanism 16 and the chemical liquid applying apparatus 10 and preventing the sucked chemical liquid from coming out of the chemical liquid applying apparatus 10.

ここで、薬液液切機構18による、薬液流路選択機構16と薬液塗布装置10との間で薬液を液切りするタイミングは、薬液供給状態制御手段38が出力した制御信号に応じて制御する。
ロール回転情報検出機構20は、例えば、ロータリーエンコーダを用いて形成されており、ロールモータ32に接続されている。
Here, the timing at which the chemical liquid is cut off between the chemical liquid flow path selection mechanism 16 and the chemical liquid application device 10 by the chemical liquid cutting mechanism 18 is controlled according to the control signal output by the chemical liquid supply state control means 38.
The roll rotation information detection mechanism 20 is formed using a rotary encoder, for example, and is connected to the roll motor 32.

また、ロール回転情報検出機構20は、ロールモータ32の駆動状態に基づいて、ウェブ搬送ロール8の回転情報を検出する。そして、検出したウェブ搬送ロール8の回転情報を含む情報信号を、両面間欠塗布制御手段28へ出力する。
ここで、ウェブ搬送ロール8の回転情報とは、ウェブ搬送ロール8の回転角度及び回転速度のうち、少なくとも一方である。
Further, the roll rotation information detection mechanism 20 detects the rotation information of the web transport roll 8 based on the driving state of the roll motor 32. Then, an information signal including the detected rotation information of the web transport roll 8 is output to the double-sided intermittent application control means 28.
Here, the rotation information of the web conveyance roll 8 is at least one of the rotation angle and the rotation speed of the web conveyance roll 8.

薬液吐出機構22は、例えば、モータにより動作するポンプを用いて形成されており、薬液タンク36に貯留されている薬液を薬液塗布装置10へ吐出することが可能である。
ここで、薬液吐出機構22による、薬液タンク36に貯留されている薬液の、薬液塗布装置10への吐出量は、薬液吐出機構制御手段30が出力した制御信号に応じて制御する。なお、薬液吐出機構制御手段30が出力した制御信号に関する説明は、後述する。
The chemical solution discharge mechanism 22 is formed using, for example, a pump that is operated by a motor, and can discharge the chemical solution stored in the chemical solution tank 36 to the chemical solution application apparatus 10.
Here, the discharge amount of the chemical liquid stored in the chemical liquid tank 36 to the chemical liquid application device 10 by the chemical liquid discharge mechanism 22 is controlled according to the control signal output by the chemical liquid discharge mechanism control means 30. In addition, the description regarding the control signal which the chemical | medical solution discharge mechanism control means 30 output is mentioned later.

塗布膜厚検出機構24は、薬液塗布装置10の下流側に配置されている。なお、薬液塗布装置10の下流側とは、ウェブ2の搬送方向に沿った、薬液塗布装置10よりも下流側の位置である。
また、塗布膜厚検出機構24は、ウェブ2の両面(表面及び裏面)に形成した塗工区間4の膜厚を検出する。そして、検出した塗工区間4の膜厚を含む情報信号を、薬液吐出機構制御手段30へ出力する。
The coating film thickness detection mechanism 24 is disposed on the downstream side of the chemical liquid coating apparatus 10. In addition, the downstream side of the chemical liquid coating apparatus 10 is a position downstream of the chemical liquid coating apparatus 10 along the conveyance direction of the web 2.
The coating film thickness detection mechanism 24 detects the film thickness of the coating section 4 formed on both surfaces (front surface and back surface) of the web 2. And the information signal containing the film thickness of the detected coating area 4 is output to the chemical | medical solution discharge mechanism control means 30. FIG.

乾燥炉26は、塗布膜厚検出機構24よりも薬液塗布装置10の下流側に配置されており、ウェブ2に薬液された塗布を乾燥可能に形成されている。
両面間欠塗布制御手段28は、例えば、CPU(CENTRAL PROCESSING UNIT)等の演算処理装置を備えて形成されており、薬液塗布位置制御手段34と、薬液供給状態制御手段38を備えている。
The drying furnace 26 is disposed on the downstream side of the chemical solution coating apparatus 10 with respect to the coating film thickness detection mechanism 24, and is formed so that the coating applied to the web 2 can be dried.
The double-sided intermittent application control means 28 is formed with an arithmetic processing unit such as a CPU (CENTRAL PROCESSING UNIT), for example, and includes a chemical solution application position control means 34 and a chemical solution supply state control means 38.

薬液塗布位置制御手段34は、パターン位置検出機構14が検出した、ウェブ2の一方の面に形成した塗工区間4及び無塗工区間6の位置に応じて、ウェブ2の他方の面に形成される塗工区間4と無塗工区間6が、ウェブ2の一方の面に形成した塗工区間4と無塗工区間6と、ウェブ2の搬送方向から見て同じ位置に形成されるように、薬液塗布装置可動機構12を介して薬液塗布装置10の位置を制御する。   The chemical liquid application position control means 34 is formed on the other surface of the web 2 according to the positions of the coating section 4 and the non-coating section 6 formed on one surface of the web 2 detected by the pattern position detection mechanism 14. The coating section 4 and the non-coating section 6 to be formed are formed at the same position as seen from the conveying direction of the web 2 and the coating section 4 and the non-coating section 6 formed on one surface of the web 2. In addition, the position of the chemical liquid coating apparatus 10 is controlled via the chemical liquid coating apparatus movable mechanism 12.

具体的には、薬液塗布位置制御手段34は、パターン位置検出機構14が出力した情報信号の入力を受けると、入力された情報信号に基づき、例えば、図2中に示すような、パターン位置検出機構14が取得したウェブ2の一方の面の画像を参照する。なお、図2は、パターン位置検出機構14が検出した画像の模式図である。
パターン位置検出機構14が取得したウェブ2の一方の面の画像を参照した後、薬液塗布位置制御手段34は、参照した画像に基づいて、塗工区間4の、ウェブ2の搬送方向に対して垂直な幅方向に沿った平均位置40aを算出する。
Specifically, upon receiving the input of the information signal output from the pattern position detection mechanism 14, the chemical solution application position control means 34 detects the pattern position as shown in FIG. 2 based on the input information signal, for example. The image of one surface of the web 2 acquired by the mechanism 14 is referred to. FIG. 2 is a schematic diagram of an image detected by the pattern position detection mechanism 14.
After referring to the image of one surface of the web 2 acquired by the pattern position detection mechanism 14, the chemical liquid application position control means 34 is based on the referred image with respect to the conveyance direction of the web 2 in the coating section 4. An average position 40a along the vertical width direction is calculated.

塗工区間4の平均位置40aを算出した後、薬液塗布位置制御手段34は、算出した平均位置40aに基づいて、塗工区間4の、ウェブ2の搬送方向に沿った基準位置42を設定する。そして、この設定した基準位置42に基づき、基準位置42と薬液塗布装置10の現在位置との、ウェブ2の搬送方向に対して垂直な幅方向に沿ったズレを算出する。   After calculating the average position 40a of the coating section 4, the chemical liquid application position control means 34 sets the reference position 42 along the conveyance direction of the web 2 in the coating section 4 based on the calculated average position 40a. . Then, based on the set reference position 42, the deviation between the reference position 42 and the current position of the chemical liquid coating apparatus 10 along the width direction perpendicular to the conveyance direction of the web 2 is calculated.

基準位置42と薬液塗布装置10の現在位置との間に、ウェブ2の搬送方向に対して垂直な幅方向に沿ったズレが生じている場合、薬液塗布位置制御手段34は、基準位置42と薬液塗布装置10の現在位置との間に生じているズレが減少するように、薬液塗布装置10の位置を制御する制御信号を生成する。なお、薬液塗布装置10の位置を制御する制御信号は、基準位置42と薬液塗布装置10の現在位置との間に生じているズレが減少するように、薬液塗布装置10をウェブ2の搬送方向に対して垂直な幅方向に移動させる移動量を含む信号である。   If there is a deviation along the width direction perpendicular to the conveyance direction of the web 2 between the reference position 42 and the current position of the chemical liquid application apparatus 10, the chemical liquid application position control means 34 A control signal for controlling the position of the chemical solution applying apparatus 10 is generated so that the deviation generated between the current position of the chemical solution applying apparatus 10 and the current position of the chemical solution applying apparatus 10 is reduced. In addition, the control signal for controlling the position of the chemical liquid application apparatus 10 causes the chemical liquid application apparatus 10 to move in the web 2 conveyance direction so that the deviation generated between the reference position 42 and the current position of the chemical liquid application apparatus 10 is reduced. Is a signal including the amount of movement to move in the width direction perpendicular to.

基準位置42と薬液塗布装置10の現在位置との間に生じているズレが減少するように、薬液塗布装置10の位置を制御する制御信号を生成すると、薬液塗布位置制御手段34は、生成した制御信号を、薬液塗布装置可動機構12へ出力する。
薬液供給状態制御手段38は、パターン位置検出機構14が検出した、ウェブ2の一方の面に形成した塗工区間4及び無塗工区間6の位置と、ロール回転情報検出機構20が検出したロール回転情報に応じて、ウェブ2の他方の面に形成される塗工区間4と無塗工区間6が、ウェブ2の一方の面に形成した塗工区間4と無塗工区間6と、ウェブ2の搬送方向と直交する方向から見て同じ位置に形成されるように、薬液流路選択機構16を介して薬液の流路を開放または閉鎖するタイミング、及び薬液液切機構18を介して薬液流路選択機構16と薬液塗布装置10との間で薬液を液切りするタイミングを制御する。
When the control signal for controlling the position of the chemical liquid coating apparatus 10 is generated so that the deviation generated between the reference position 42 and the current position of the chemical liquid coating apparatus 10 is reduced, the chemical liquid application position control unit 34 generates the control signal. The control signal is output to the chemical solution coating apparatus movable mechanism 12.
The chemical supply state control means 38 detects the positions of the coating section 4 and the non-coating section 6 formed on one surface of the web 2 detected by the pattern position detection mechanism 14 and the roll detected by the roll rotation information detection mechanism 20. According to the rotation information, the coating section 4 and the non-coating section 6 formed on the other surface of the web 2, the coating section 4 and the non-coating section 6 formed on one surface of the web 2, and the web The timing for opening or closing the flow path of the chemical liquid via the chemical liquid flow path selection mechanism 16 and the chemical liquid via the chemical liquid cutting mechanism 18 so that they are formed at the same position when viewed from the direction orthogonal to the transport direction of the second liquid. The timing at which the chemical solution is drained is controlled between the flow path selection mechanism 16 and the chemical solution application apparatus 10.

具体的には、薬液供給状態制御手段38は、パターン位置検出機構14が出力した情報信号と、ロール回転情報検出機構20が出力した情報信号の入力を受けると、まず、パターン位置検出機構14から入力された情報信号に基づき、例えば、図2中に示すような、パターン位置検出機構14が取得したウェブ2の一方の面の画像を参照する。
パターン位置検出機構14が取得したウェブ2の一方の面の画像を参照した後、薬液供給状態制御手段38は、参照した画像に基づいて、塗工区間4の、ウェブ2の搬送方向に沿った平均位置40bを算出する。このとき、参照した画像に基づいて、不安定領域44の、ウェブ2の搬送方向に沿った平均位置を算出してもよい。
Specifically, upon receiving the information signal output from the pattern position detection mechanism 14 and the information signal output from the roll rotation information detection mechanism 20, the chemical solution supply state control means 38 first receives the information from the pattern position detection mechanism 14. Based on the input information signal, for example, an image of one surface of the web 2 acquired by the pattern position detection mechanism 14 as shown in FIG. 2 is referred to.
After referring to the image of one surface of the web 2 acquired by the pattern position detection mechanism 14, the chemical solution supply state control unit 38 follows the conveyance direction of the web 2 in the coating section 4 based on the referred image. The average position 40b is calculated. At this time, the average position of the unstable region 44 along the conveyance direction of the web 2 may be calculated based on the referenced image.

塗工区間4の平均位置40bを算出した後、薬液供給状態制御手段38は、算出した平均位置40bに基づいて、塗工区間4の、ウェブ2の搬送方向に沿った基準位置42を設定する。なお、塗工区間4の、ウェブ2の搬送方向に沿った基準位置42とは、上述した、塗工区間4の、ウェブ2の搬送方向に対して垂直な幅方向に沿った基準位置42と同じ位置となる。   After calculating the average position 40b of the coating section 4, the chemical supply state control means 38 sets the reference position 42 along the conveyance direction of the web 2 in the coating section 4 based on the calculated average position 40b. . The reference position 42 along the conveyance direction of the web 2 in the coating section 4 is the reference position 42 along the width direction perpendicular to the conveyance direction of the web 2 in the coating section 4 described above. It becomes the same position.

塗工区間4の、ウェブ2の搬送方向に沿った基準位置42を設定すると、薬液供給状態制御手段38は、設定した基準位置42に基づき、基準位置42と薬液塗布装置10の現在位置とのズレを算出する。   When the reference position 42 in the coating section 4 along the conveyance direction of the web 2 is set, the chemical solution supply state control unit 38 sets the reference position 42 and the current position of the chemical application device 10 based on the set reference position 42. Calculate the deviation.

基準位置42と薬液塗布装置10の現在位置との間に、ウェブ2の搬送方向に沿ったズレが生じている場合、薬液供給状態制御手段38は、基準位置42と薬液塗布装置10の現在位置との間に生じているズレが減少するように、薬液流路選択機構16及び薬液液切機構18の動作状態を制御する制御信号を生成する。   When there is a deviation along the conveyance direction of the web 2 between the reference position 42 and the current position of the chemical liquid application apparatus 10, the chemical liquid supply state control unit 38 determines that the reference position 42 and the current position of the chemical liquid application apparatus 10 are present. The control signal for controlling the operation state of the chemical liquid flow path selection mechanism 16 and the chemical liquid cutting mechanism 18 is generated so that the deviation generated between the two is reduced.

なお、薬液流路選択機構16及び薬液液切機構18の動作状態を制御する制御信号は、基準位置42と薬液塗布装置10の現在位置との間に生じているズレが減少するように、薬液流路選択機構16を介して薬液の流路を開放または閉鎖するタイミングと、薬液液切機構18を介して薬液流路選択機構16と薬液塗布装置10との間で薬液を液切りするタイミングを含む信号である。ここで、薬液流路選択機構16を介して薬液の流路を開放または閉鎖するタイミングと、薬液液切機構18を介して薬液流路選択機構16と薬液塗布装置10との間で薬液を液切りするタイミングは、機械的なタイムラグを考慮して算出してもよい。   It should be noted that the control signal for controlling the operation state of the chemical liquid flow path selecting mechanism 16 and the chemical liquid cutting mechanism 18 is such that the deviation generated between the reference position 42 and the current position of the chemical liquid applying apparatus 10 is reduced. The timing for opening or closing the flow path of the chemical liquid via the flow path selection mechanism 16 and the timing for draining the chemical liquid between the chemical liquid flow path selection mechanism 16 and the chemical liquid application device 10 via the chemical liquid cutting mechanism 18 are shown. It is a signal that contains. Here, the chemical liquid is liquidated between the chemical liquid flow path selection mechanism 16 and the chemical liquid application device 10 via the chemical liquid flow cutting mechanism 18 at the timing of opening or closing the chemical liquid flow path via the chemical liquid flow path selection mechanism 16. The timing for cutting may be calculated in consideration of a mechanical time lag.

ここで、薬液流路選択機構16及び薬液液切機構18の動作状態を制御する制御信号を生成する際には、薬液供給状態制御手段38は、ロール回転情報検出機構20から入力された情報信号と、設定した基準位置42に基づき、基準位置42から薬液塗布装置10までの、ウェブ2の搬送方向に沿った実距離を算出する。
基準位置42から薬液塗布装置10までの、ウェブ2の搬送方向に沿った実距離を算出すると、薬液供給状態制御手段38は、薬液塗布装置10が、基準位置42に対して薬液を塗布するように、薬液流路選択機構16を介して薬液の流路を開放または閉鎖するタイミングと、薬液液切機構18を介して薬液流路選択機構16と薬液塗布装置10との間で薬液を液切りするタイミングを算出し、この算出したタイミングに基づいて、薬液流路選択機構16及び薬液液切機構18の動作状態を制御する制御信号を生成する。
Here, when generating a control signal for controlling the operation state of the chemical liquid flow path selection mechanism 16 and the chemical liquid cutting mechanism 18, the chemical liquid supply state control means 38 receives the information signal input from the roll rotation information detection mechanism 20. Based on the set reference position 42, the actual distance along the conveyance direction of the web 2 from the reference position 42 to the chemical solution coating apparatus 10 is calculated.
When the actual distance along the conveyance direction of the web 2 from the reference position 42 to the chemical liquid application apparatus 10 is calculated, the chemical liquid supply state control unit 38 causes the chemical liquid application apparatus 10 to apply the chemical liquid to the reference position 42. In addition, the timing of opening or closing the flow path of the chemical liquid via the chemical liquid flow path selection mechanism 16 and the liquid cutting of the chemical liquid between the chemical liquid flow path selection mechanism 16 and the chemical liquid coating device 10 via the chemical liquid cutting mechanism 18 The control signal for controlling the operation states of the chemical liquid flow path selection mechanism 16 and the chemical liquid draining mechanism 18 is generated based on the calculated timing.

基準位置42と薬液塗布装置10の現在位置との間に生じているズレが減少するように、薬液流路選択機構16及び薬液液切機構18の動作状態を制御する制御信号を生成すると、薬液供給状態制御手段38は、生成した制御信号を、薬液流路選択機構16及び薬液液切機構18へ出力する。   When a control signal for controlling the operation state of the chemical liquid flow channel selection mechanism 16 and the chemical liquid cutting mechanism 18 is generated so that the deviation generated between the reference position 42 and the current position of the chemical liquid application apparatus 10 is reduced, the chemical liquid is generated. The supply state control means 38 outputs the generated control signal to the chemical liquid flow path selecting mechanism 16 and the chemical liquid cutting mechanism 18.

薬液吐出機構制御手段30は、両面間欠塗布制御手段28と同様、例えば、CPU等の演算処理装置を備えて形成されており、塗布膜厚検出機構24が検出した膜厚に応じて、塗工区間4の膜厚が目標の厚さとなるように、薬液吐出機構22を介して薬液の吐出量を制御する。   Similarly to the double-sided intermittent application control means 28, the chemical solution discharge mechanism control means 30 is formed, for example, with an arithmetic processing unit such as a CPU, and the coating is detected according to the film thickness detected by the application film thickness detection mechanism 24. The discharge amount of the chemical liquid is controlled via the chemical liquid discharge mechanism 22 so that the film thickness of the section 4 becomes the target thickness.

具体的には、予め、薬液吐出機構制御手段30に、目標となる塗工区間4の膜厚を記憶しておく。
そして、薬液吐出機構制御手段30は、両面間欠塗布装置1の動作時において、塗布膜厚検出機構24が出力した情報信号の入力を受けると、入力された情報信号に基づき、ウェブ2の他方の面に形成された塗工区間4の膜厚を取得する。
Specifically, the film thickness of the target coating section 4 is stored in advance in the chemical solution discharge mechanism control means 30.
When the chemical liquid discharge mechanism control means 30 receives the input of the information signal output from the coating film thickness detection mechanism 24 during the operation of the double-sided intermittent coating apparatus 1, the other side of the web 2 is based on the input information signal. The film thickness of the coating section 4 formed on the surface is acquired.

ウェブ2の他方の面に形成された塗工区間4の膜厚を取得すると、薬液吐出機構制御手段30は、取得した塗工区間4の膜厚と、予め記憶した、目標となる塗工区間4の膜厚とを比較する。
そして、取得した塗工区間4の膜厚が、目標となる塗工区間4の膜厚と異なる厚さである場合、薬液吐出機構制御手段30は、ウェブ2の他方の面に形成される塗工区間4の膜厚が、目標となる塗工区間4の膜厚となるように、薬液吐出機構22を介して薬液の吐出量を制御する制御信号を生成する。
When the film thickness of the coating section 4 formed on the other surface of the web 2 is acquired, the chemical solution discharge mechanism control unit 30 acquires the acquired film thickness of the coating section 4 and the target coating section stored in advance. 4 is compared.
And when the film thickness of the acquired coating area 4 is a different thickness from the target film thickness of the coating area 4, the chemical | medical solution discharge mechanism control means 30 is the coating formed in the other surface of the web 2. A control signal for controlling the discharge amount of the chemical liquid is generated via the chemical liquid discharge mechanism 22 so that the film thickness of the process section 4 becomes the target film thickness of the coating section 4.

これは、取得した塗工区間4の膜厚が、目標となる塗工区間4の膜厚よりも薄い場合、薬液吐出機構22を介して薬液の吐出量を増加させる制御信号を生成する。なお、吐出量の増加度合いは、取得した塗工区間4の膜厚と、目標となる塗工区間4の膜厚との差に比例させる。   This generates a control signal for increasing the discharge amount of the chemical liquid via the chemical liquid discharge mechanism 22 when the obtained film thickness of the coating section 4 is smaller than the target film thickness of the coating section 4. The degree of increase in the discharge amount is proportional to the difference between the acquired film thickness in the coating section 4 and the target film thickness in the coating section 4.

一方、取得した塗工区間4の膜厚が、目標となる塗工区間4の膜厚よりも厚い場合、薬液吐出機構22を介して薬液の吐出量を減少させる制御信号を生成する。なお、吐出量の減少度合いは、取得した塗工区間4の膜厚と、目標となる塗工区間4の膜厚との差に比例させる。   On the other hand, when the obtained film thickness of the coating section 4 is larger than the target film thickness of the coating section 4, a control signal for reducing the discharge amount of the chemical liquid is generated via the chemical liquid discharge mechanism 22. The degree of decrease in the discharge amount is proportional to the difference between the acquired film thickness in the coating section 4 and the target film thickness in the coating section 4.

ウェブ2の他方の面に形成される塗工区間4の膜厚が、目標となる塗工区間4の膜厚となるように、薬液吐出機構22を介して薬液の吐出量を制御する制御信号を生成すると、薬液吐出機構制御手段30は、生成した制御信号を、薬液吐出機構22へ出力する。
また、両面間欠塗布制御手段28は、ウェブ2の搬送速度が、パターン位置検出機構14が塗工区間4及び無塗工区間6の位置を検出可能な速度を超えている場合には、制御を断続的に行なう。
A control signal for controlling the discharge amount of the chemical solution via the chemical solution discharge mechanism 22 so that the film thickness of the coating section 4 formed on the other surface of the web 2 becomes the target film thickness of the coating section 4. Then, the chemical liquid discharge mechanism control means 30 outputs the generated control signal to the chemical liquid discharge mechanism 22.
Further, the double-sided intermittent application control means 28 performs control when the conveyance speed of the web 2 exceeds the speed at which the pattern position detection mechanism 14 can detect the positions of the coating section 4 and the non-coating section 6. Perform intermittently.

(動作)
以下、図1及び図2を参照して、本実施形態における両面間欠塗布装置1の動作を説明する。なお、以下の説明では、図3から図7を参照する場合がある。
(Operation)
Hereinafter, with reference to FIG.1 and FIG.2, operation | movement of the double-sided intermittent coating apparatus 1 in this embodiment is demonstrated. In the following description, FIGS. 3 to 7 may be referred to.

(ウェブ2の一方の面に対する間欠塗布)
両面間欠塗布装置1を用いて、ウェブ2に対する両面間欠塗布を行なう際には、まず、ウェブ2の一方の面に対し、間欠塗布を行なう(図3参照)。
ウェブ2の一方の面に対する間欠塗布を行なう際には、搬送されてくるウェブ2に対し、塗工区間4と無塗工区間6とを、交互に形成する。なお、ウェブ2の搬送速度は、一定の速度に保持する。
ここで、塗工区間4の形成を開始する際には、薬液流路選択機構16により、薬液タンク36から薬液塗布装置10への薬液の流路を開放するとともに、薬液タンク36から薬液流路選択機構16を経由して薬液タンク36へ戻る、薬液の循環路を閉鎖する。
(Intermittent application to one side of web 2)
When performing double-sided intermittent coating on the web 2 using the double-sided intermittent coating apparatus 1, first, intermittent coating is performed on one surface of the web 2 (see FIG. 3).
When intermittent application is performed on one surface of the web 2, the coating section 4 and the non-coating section 6 are alternately formed on the web 2 being conveyed. In addition, the conveyance speed of the web 2 is kept at a constant speed.
Here, when the formation of the coating section 4 is started, the chemical liquid flow path selection mechanism 16 opens the chemical liquid flow path from the chemical liquid tank 36 to the chemical liquid application apparatus 10 and also from the chemical liquid tank 36 to the chemical liquid flow path. The circulation path of the chemical solution that returns to the chemical solution tank 36 via the selection mechanism 16 is closed.

これに加え、薬液吐出機構22により、薬液タンク36に貯留されている薬液を薬液塗布装置10へ吐出する。このとき、薬液塗布装置10への薬液の吐出量は、予め設定した、塗工区間4の膜厚に応じた吐出量とする。
薬液流路選択機構16により、薬液タンク36から薬液塗布装置10への薬液の流路が開放され、薬液吐出機構22により、薬液タンク36に貯留されている薬液が薬液塗布装置10へ吐出されると、この薬液は、薬液液切機構18を経由して、薬液塗布装置10へ供給され、ウェブ2の一方の面に塗布される。これにより、ウェブ2の一方の面に、塗工区間4が形成される。
In addition, the chemical solution stored in the chemical tank 36 is discharged to the chemical solution application apparatus 10 by the chemical solution discharge mechanism 22. At this time, the discharge amount of the chemical solution to the chemical solution applying apparatus 10 is set to a discharge amount corresponding to the preset film thickness of the coating section 4.
The chemical liquid flow path selection mechanism 16 opens the chemical liquid flow path from the chemical liquid tank 36 to the chemical liquid application apparatus 10, and the chemical liquid discharge mechanism 22 discharges the chemical liquid stored in the chemical liquid tank 36 to the chemical liquid application apparatus 10. Then, this chemical solution is supplied to the chemical solution applying apparatus 10 via the chemical solution cutting mechanism 18 and applied to one surface of the web 2. Thereby, the coating section 4 is formed on one surface of the web 2.

ウェブ2の一方の面に塗工区間4を形成した後、薬液流路選択機構16により、薬液タンク36から薬液塗布装置10への薬液の流路を閉鎖するとともに、薬液タンク36から薬液流路選択機構16を経由して薬液タンク36へ戻る、薬液の循環路を開放する。なお、これらの流路を切り換えるタイミングは、ウェブ2の搬送方向に沿った、塗工区間4の長さに応じたタイミングに制御する。   After the coating section 4 is formed on one surface of the web 2, the chemical liquid flow path selection mechanism 16 closes the chemical liquid flow path from the chemical liquid tank 36 to the chemical liquid application apparatus 10, and from the chemical liquid tank 36 to the chemical liquid flow path. The chemical solution circulation path that returns to the chemical solution tank 36 via the selection mechanism 16 is opened. In addition, the timing which switches these flow paths is controlled to the timing according to the length of the coating area 4 along the conveyance direction of the web 2. FIG.

薬液タンク36から薬液塗布装置10への薬液の流路を閉鎖するとともに、薬液タンク36から薬液流路選択機構16を経由して薬液タンク36へ戻る、薬液の循環路を開放した状態では、薬液タンク36に貯留されている薬液は、薬液タンク36から、薬液吐出機構22及び薬液流路選択機構16を経由して薬液タンク36へ戻る循環を繰り返す。   In a state in which the chemical liquid flow path from the chemical liquid tank 36 to the chemical liquid application device 10 is closed and the chemical liquid tank 36 is returned to the chemical liquid tank 36 via the chemical liquid flow path selection mechanism 16, the chemical liquid circulation path is opened. The chemical liquid stored in the tank 36 is repeatedly circulated from the chemical liquid tank 36 back to the chemical liquid tank 36 via the chemical liquid discharge mechanism 22 and the chemical liquid flow path selection mechanism 16.

また、ウェブ2の一方の面に塗工区間4を形成した後、薬液流路選択機構16により流路を切換えるとともに、薬液液切機構18により、薬液流路選択機構16と薬液塗布装置10との間で薬液を液切りする。なお、薬液流路選択機構16と薬液塗布装置10との間で薬液を液切りするタイミングは、ウェブ2の搬送方向に沿った、塗工区間4または無塗工区間6の長さに応じたタイミングに制御する。   In addition, after forming the coating section 4 on one surface of the web 2, the flow path is switched by the chemical liquid flow path selection mechanism 16, and the chemical liquid flow path selection mechanism 16, the chemical liquid coating apparatus 10, The liquid medicine is drained between. In addition, the timing which drains a chemical | medical solution between the chemical | medical solution flow path selection mechanism 16 and the chemical | medical solution application | coating apparatus 10 respond | corresponded to the length of the coating area 4 or the non-coating area 6 along the conveyance direction of the web 2. FIG. Control to timing.

薬液流路選択機構16により、薬液タンク36から薬液塗布装置10への薬液の流路が閉鎖され、薬液液切機構18により、薬液流路選択機構16と薬液塗布装置10との間で薬液を液切りされると、薬液の薬液塗布装置10への供給が停止される。これにより、ウェブ2の一方の面に、無塗工区間6が形成される。   The chemical liquid flow path selection mechanism 16 closes the chemical liquid flow path from the chemical liquid tank 36 to the chemical liquid coating apparatus 10, and the chemical liquid cutting mechanism 18 passes the chemical liquid between the chemical liquid flow path selection mechanism 16 and the chemical liquid application apparatus 10. When the liquid is drained, the supply of the chemical liquid to the chemical liquid coating apparatus 10 is stopped. Thereby, the uncoated section 6 is formed on one surface of the web 2.

ウェブ2を一定の搬送速度で搬送するとともに、上述した手順による塗工区間4及び無塗工区間6の形成を交互に行なうことにより、ウェブ2の一方の面に対する間欠塗布が行われる。
一方の面に対する間欠塗布が行なわれたウェブ2は、乾燥炉26により薬液を乾燥した後、図外のロールに巻き取られる。
The web 2 is transported at a constant transport speed, and the coating section 4 and the non-coating section 6 are alternately formed by the above-described procedure, whereby intermittent coating is performed on one surface of the web 2.
The web 2 that has been intermittently applied to one surface is wound around a roll (not shown) after the chemical solution is dried by the drying furnace 26.

(ウェブ2の他方の面に対する間欠塗布)
ウェブ2の一方の面に対する間欠塗布を行なった後、このウェブ2の他方の面に対する間欠塗布を行い、ウェブ2に対する両面間欠塗布を行なう。
ウェブ2の他方の面に対する間欠塗布を行なう際には、搬送されてくる、一方の面に対する間欠塗布を行なったウェブ2に対し、塗工区間4と無塗工区間6とを、交互に形成する。
(Intermittent application to the other surface of the web 2)
After intermittent application to one surface of the web 2, intermittent application to the other surface of the web 2 is performed, and intermittent application to both surfaces of the web 2 is performed.
When intermittent application is performed on the other surface of the web 2, the coating section 4 and the non-coating section 6 are alternately formed on the web 2 that has been intermittently applied to the one surface. To do.

ここで、ウェブ2の他方の面に対し、塗工区間4の形成を開始する際には、薬液塗布位置制御手段34が、パターン位置検出機構14が取得したウェブ2の一方の面の画像に基づいて、塗工区間4の、ウェブ2の搬送方向に対して垂直な幅方向に沿った平均位置40aを算出する。そして、塗工区間4の、ウェブ2の搬送方向に対して垂直な幅方向に沿った基準位置42を設定し、この設定した基準位置42に基づき、基準位置42と薬液塗布装置10の現在位置との、ウェブ2の搬送方向に対して垂直な幅方向に沿ったズレを算出する。   Here, when the formation of the coating section 4 is started with respect to the other surface of the web 2, the chemical solution application position control unit 34 applies the image of the one surface of the web 2 acquired by the pattern position detection mechanism 14. Based on this, an average position 40a along the width direction perpendicular to the conveyance direction of the web 2 in the coating section 4 is calculated. And the reference position 42 along the width direction perpendicular | vertical with respect to the conveyance direction of the web 2 of the coating area 4 is set, Based on this set reference position 42, the reference position 42 and the present position of the chemical | medical solution coating device 10 The deviation along the width direction perpendicular to the conveyance direction of the web 2 is calculated.

基準位置42と薬液塗布装置10の現在位置との間に、ウェブ2の搬送方向に対して垂直な幅方向に沿ったズレが生じている場合、薬液塗布位置制御手段34は、基準位置42と薬液塗布装置10の現在位置との間に生じているズレが減少するように、薬液塗布装置10の位置を制御する制御信号を生成し、この生成した制御信号を、薬液塗布装置可動機構12へ出力する。   If there is a deviation along the width direction perpendicular to the conveyance direction of the web 2 between the reference position 42 and the current position of the chemical liquid application apparatus 10, the chemical liquid application position control means 34 A control signal for controlling the position of the chemical liquid coating apparatus 10 is generated so that the deviation generated between the current position of the chemical liquid coating apparatus 10 is reduced, and the generated control signal is transmitted to the chemical liquid coating apparatus movable mechanism 12. Output.

薬液塗布位置制御手段34が出力した制御信号の入力を受けた薬液塗布装置可動機構12は、この制御信号に基づき、薬液塗布装置10を、ウェブ2の搬送方向に対して垂直な幅方向に移動させる。
薬液塗布装置10がウェブ2の搬送方向に対して垂直な幅方向に移動すると、ウェブ2の他方の面において、塗工区間4が形成される位置が、ウェブ2の搬送方向に対して垂直な幅方向に移動する。
Upon receiving the control signal output from the chemical liquid application position control means 34, the chemical liquid application apparatus moving mechanism 12 moves the chemical liquid application apparatus 10 in the width direction perpendicular to the conveyance direction of the web 2 based on this control signal. Let
When the chemical coating apparatus 10 moves in the width direction perpendicular to the conveyance direction of the web 2, the position where the coating section 4 is formed on the other surface of the web 2 is perpendicular to the conveyance direction of the web 2. Move in the width direction.

このため、基準位置42と薬液塗布装置10の現在位置との間に、ウェブ2の搬送方向に対して垂直な幅方向に沿ったズレが減少して、ウェブ2の一方の面に形成された塗工区間4と、ウェブ2の他方の面に形成された塗工区間4との、ウェブ2の搬送方向に対して垂直な幅方向に沿った位置とのズレが減少する。   For this reason, the deviation along the width direction perpendicular to the conveyance direction of the web 2 is reduced between the reference position 42 and the current position of the chemical solution coating apparatus 10 and formed on one surface of the web 2. Deviation between the coating section 4 and the position of the coating section 4 formed on the other surface of the web 2 along the width direction perpendicular to the conveyance direction of the web 2 is reduced.

また、ウェブ2の他方の面に対し、塗工区間4の形成を開始する際には、薬液供給状態制御手段38が、パターン位置検出機構14が取得したウェブ2の一方の面の画像に基づいて、塗工区間4の、ウェブ2の搬送方向に沿った平均位置40bを算出する。そして、塗工区間4の、ウェブ2の搬送方向に沿った基準位置42を設定し、この設定した基準位置42に基づき、基準位置42と薬液塗布装置10の現在位置との、ウェブ2の搬送方向に沿ったズレを算出する。   When the formation of the coating section 4 is started on the other surface of the web 2, the chemical solution supply state control unit 38 is based on the image of the one surface of the web 2 acquired by the pattern position detection mechanism 14. Then, the average position 40b along the conveyance direction of the web 2 in the coating section 4 is calculated. And the reference position 42 along the conveyance direction of the web 2 in the coating section 4 is set, and the conveyance of the web 2 between the reference position 42 and the current position of the chemical solution coating apparatus 10 based on the set reference position 42. The deviation along the direction is calculated.

基準位置42と薬液塗布装置10の現在位置との間に、ウェブ2の搬送方向に沿ったズレが生じている場合、薬液供給状態制御手段38は、基準位置42と薬液塗布装置10の現在位置との間に生じているズレが減少するように、薬液流路選択機構16及び薬液液切機構18の動作状態を制御する制御信号を生成する。   When there is a deviation along the conveyance direction of the web 2 between the reference position 42 and the current position of the chemical liquid application apparatus 10, the chemical liquid supply state control unit 38 determines that the reference position 42 and the current position of the chemical liquid application apparatus 10 are present. The control signal for controlling the operation state of the chemical liquid flow path selection mechanism 16 and the chemical liquid cutting mechanism 18 is generated so that the deviation generated between the two is reduced.

そして、薬液供給状態制御手段38は、生成した制御信号を、薬液流路選択機構16を介して薬液の流路を開放または閉鎖するタイミングと、薬液液切機構18を介して薬液流路選択機構16と薬液塗布装置10との間で薬液を液切りするタイミングに基づいて、薬液流路選択機構16及び薬液液切機構18へ出力する。   Then, the chemical supply state control means 38 uses the generated control signal to open or close the chemical liquid flow path via the chemical liquid flow path selection mechanism 16 and the chemical liquid flow path selection mechanism via the chemical liquid cutting mechanism 18. Based on the timing at which the chemical liquid is drained between 16 and the chemical liquid coating apparatus 10, the liquid is output to the chemical liquid flow path selecting mechanism 16 and the chemical liquid draining mechanism 18.

薬液供給状態制御手段38が出力した制御信号の入力を受けた薬液流路選択機構16は、この制御信号に基づき、薬液タンク36から薬液塗布装置10への薬液の流路を閉鎖するとともに、薬液タンク36から薬液流路選択機構16を経由して薬液タンク36へ戻る、薬液の循環路を開放する。
一方、薬液供給状態制御手段38が出力した制御信号の入力を受けた薬液液切機構18は、この制御信号に基づき、薬液流路選択機構16と薬液塗布装置10との間で薬液を液切りする。
In response to the input of the control signal output from the chemical supply state control means 38, the chemical flow path selection mechanism 16 closes the chemical flow path from the chemical liquid tank 36 to the chemical application device 10 based on this control signal, and the chemical liquid. The chemical solution circulation path that returns from the tank 36 to the chemical solution tank 36 via the chemical solution flow channel selection mechanism 16 is opened.
On the other hand, the chemical liquid draining mechanism 18 that has received the control signal output from the chemical liquid supply state control means 38 drains the chemical liquid between the chemical liquid flow path selection mechanism 16 and the chemical liquid coating device 10 based on this control signal. To do.

薬液タンク36から薬液塗布装置10への薬液の流路が閉鎖されるとともに、薬液流路選択機構16と薬液塗布装置10との間で薬液を液切りされると、薬液の薬液塗布装置10への供給が停止される。これにより、薬液供給状態制御手段38が算出したタイミングに応じて、ウェブ2の一方の面に、無塗工区間6が形成される。   When the chemical liquid flow path from the chemical liquid tank 36 to the chemical liquid application apparatus 10 is closed and the chemical liquid is drained between the chemical liquid flow path selection mechanism 16 and the chemical liquid application apparatus 10, the chemical liquid to the chemical liquid application apparatus 10 is obtained. Is stopped. Thereby, the non-coating area 6 is formed on one surface of the web 2 in accordance with the timing calculated by the chemical supply state control means 38.

したがって、基準位置42と薬液塗布装置10の現在位置との間に、ウェブ2の搬送方向に沿ったズレが減少して、ウェブ2の一方の面に形成された塗工区間4と、ウェブ2の他方の面に形成された塗工区間4との、ウェブ2の搬送方向に沿った位置とのズレが減少する。   Therefore, the deviation along the conveyance direction of the web 2 decreases between the reference position 42 and the current position of the chemical solution coating apparatus 10, and the coating section 4 formed on one surface of the web 2 and the web 2. The gap between the coating section 4 formed on the other surface of the web 2 and the position along the conveyance direction of the web 2 is reduced.

上述した手順による塗工区間4及び無塗工区間6の形成を交互に行ない、搬送されたウェブ2の他方の面に形成された塗工区間4の膜厚が、塗布膜厚検出機構24により検出されると、薬液吐出機構制御手段30は、塗布膜厚検出機構24が出力した情報信号の入力を受け、ウェブ2の他方の面に形成された塗工区間4の膜厚を取得する。
そして、取得した塗工区間4の膜厚が、目標となる塗工区間4の膜厚と異なる厚さである場合、薬液吐出機構制御手段30は、ウェブ2の他方の面に形成される塗工区間4の膜厚が、目標となる塗工区間4の膜厚となるように、薬液吐出機構22を介して薬液の吐出量を制御する制御信号を生成して、薬液吐出機構22へ出力する。
The coating section 4 and the non-coating section 6 are alternately formed by the above-described procedure, and the thickness of the coating section 4 formed on the other surface of the conveyed web 2 is determined by the coating film thickness detection mechanism 24. When detected, the chemical liquid discharge mechanism control means 30 receives the information signal output from the coating film thickness detection mechanism 24 and acquires the film thickness of the coating section 4 formed on the other surface of the web 2.
And when the film thickness of the acquired coating area 4 is a different thickness from the target film thickness of the coating area 4, the chemical | medical solution discharge mechanism control means 30 is the coating formed in the other surface of the web 2. A control signal for controlling the discharge amount of the chemical liquid is generated via the chemical liquid discharge mechanism 22 so that the film thickness of the process section 4 becomes the target film thickness of the coating section 4 and output to the chemical liquid discharge mechanism 22 To do.

薬液吐出機構制御手段30が出力した制御信号の入力を受けた薬液吐出機構22は、この制御信号に基づき、薬液の吐出量を増加または減少させる。
薬液吐出機構22が薬液の吐出量を増加または減少させると、ウェブ2の他方の面において形成される塗工区間4の膜厚と、目標となる塗工区間4の膜厚との差が減少する。
Upon receiving the control signal output from the chemical liquid discharge mechanism control means 30, the chemical liquid discharge mechanism 22 increases or decreases the discharge amount of the chemical liquid based on this control signal.
When the chemical solution discharge mechanism 22 increases or decreases the discharge amount of the chemical solution, the difference between the film thickness of the coating section 4 formed on the other surface of the web 2 and the film thickness of the target coating section 4 decreases. To do.

(第一実施形態の効果)
以下、本実施形態の効果を列挙する。
(1)本実施形態の両面間欠塗布装置1では、パターン位置検出機構14が検出した塗工区間4及び無塗工区間6の位置に応じて、ウェブ2の他方の面に形成される塗工区間4と無塗工区間6が、ウェブ2の一方の面に形成した塗工区間4と無塗工区間6と、ウェブ2の搬送方向から見て同じ位置に形成されるように、薬液塗布装置可動機構12を介して薬液塗布装置10の位置を制御する。
(Effects of the first embodiment)
The effects of this embodiment are listed below.
(1) In the double-sided intermittent coating apparatus 1 of the present embodiment, the coating formed on the other surface of the web 2 according to the positions of the coating section 4 and the non-coating section 6 detected by the pattern position detection mechanism 14. Application of chemical solution so that the section 4 and the non-coated section 6 are formed at the same position when viewed from the conveying direction of the web 2 and the coated section 4 and the non-coated section 6 formed on one surface of the web 2. The position of the chemical solution coating apparatus 10 is controlled via the apparatus movable mechanism 12.

このため、ウェブ2の両面において、塗工区間4と無塗工区間6との、ウェブ2の搬送方向と直交する方向に沿った位置合わせが可能となり、塗工区間4と無塗工区間6との、ウェブ2の両面における位置合わせの精度を向上させることが可能となる。
その結果、両面間欠塗布において、塗工区間4と無塗工区間6との、ウェブ2の両面における位置合わせの精度を向上させることが可能となり、リチウムイオン電池や燃料電池等、両面間欠塗布を用いて製造される製品の品質を向上させることが可能となる。
For this reason, on both surfaces of the web 2, it is possible to align the coating section 4 and the non-coating section 6 along the direction orthogonal to the conveyance direction of the web 2, and the coating section 4 and the non-coating section 6. Thus, it is possible to improve the alignment accuracy on both sides of the web 2.
As a result, in the double-sided intermittent application, it becomes possible to improve the alignment accuracy of the coating section 4 and the non-coating section 6 on both sides of the web 2. It becomes possible to improve the quality of the product manufactured using it.

(2)本実施形態の両面間欠塗布装置1では、パターン位置検出機構14が、ウェブ2の一方の面の画像を用いて、ウェブ2の一方の面に形成した塗工区間4及び無塗工区間6の位置を検出している。
その結果、不安定領域44を平均化して、基準位置42を設定することが可能となるため、従来のセンサ(光電センサ等)を用いた場合と比較して、塗工区間4及び無塗工区間6の位置を、正確に特定することが可能となる。
(2) In the double-sided intermittent coating apparatus 1 of the present embodiment, the pattern position detection mechanism 14 uses the image of one surface of the web 2 to form the coating section 4 and the non-coating formed on the one surface of the web 2. The position of section 6 is detected.
As a result, the unstable area 44 can be averaged and the reference position 42 can be set, so that the coating section 4 and the non-coating area are compared with the case where a conventional sensor (photoelectric sensor or the like) is used. It becomes possible to specify the position of the section 6 accurately.

(3)本実施形態の両面間欠塗布装置1では、パターン位置検出機構14が、薬液塗布装置10の上流側に配置されているため、ウェブ2の一方の面に塗工区間4と無塗工区間6を形成した状態で、塗工区間4と無塗工区間6との、ウェブ2の両面における位置合わせを行なうことが可能となる。
このため、両面間欠塗布装置1の運転初期における、工程ロスを減少させることが可能となる。
その結果、両面間欠塗布装置1の作動コストや、リチウムイオン電池や燃料電池等、両面間欠塗布装置を用いて製造される製品の製造コストを減少させることが可能となる。
(3) In the double-sided intermittent application device 1 of the present embodiment, the pattern position detection mechanism 14 is arranged on the upstream side of the chemical solution application device 10, so that the coating section 4 and the non-coating are applied to one surface of the web 2. With the section 6 formed, the coating section 4 and the non-coating section 6 can be aligned on both sides of the web 2.
For this reason, it is possible to reduce process loss in the initial operation of the double-sided intermittent coating apparatus 1.
As a result, it is possible to reduce the operating cost of the double-sided intermittent coating apparatus 1 and the manufacturing cost of products manufactured using the double-sided intermittent coating apparatus, such as lithium ion batteries and fuel cells.

(4)本実施形態の両面間欠塗布装置1では、ウェブ2の他方の面に対する、ウェブ2の搬送方向に沿った薬液の塗布に関して、ウェブ2の一方の面に形成した塗工区間4と無塗工区間6との位置と、ウェブ搬送ロール8のロール回転情報を検出して、薬液流路選択機構16と薬液液切機構18を介して、薬液の塗布開始と塗布終了のタイミングを制御することが可能となる。 (4) In the double-sided intermittent coating apparatus 1 of the present embodiment, the coating section 4 formed on one surface of the web 2 and the coating section 4 formed on the one surface of the web 2 are not related to the application of the chemical solution along the conveyance direction of the web 2 to the other surface of the web 2. The position of the coating section 6 and the roll rotation information of the web transport roll 8 are detected, and the timing of the start and end of the application of the chemical is controlled via the chemical flow path selection mechanism 16 and the chemical liquid cutting mechanism 18. It becomes possible.

このため、塗工区間4と無塗工区間6との、ウェブ2の搬送方向に沿った位置合わせが可能となり、塗工区間4と無塗工区間6との、ウェブ2の両面における位置合わせの精度を向上させることが可能となる。
その結果、請求項1に記載した発明と比較して、両面間欠塗布において、塗工区間4と無塗工区間6との、ウェブ2の両面における位置合わせの精度を、さらに向上させることが可能となる。
For this reason, it becomes possible to align the coating section 4 and the non-coating section 6 along the conveyance direction of the web 2, and align the coating section 4 and the non-coating section 6 on both sides of the web 2. It is possible to improve the accuracy.
As a result, it is possible to further improve the alignment accuracy of the coating section 4 and the non-coating section 6 on both surfaces of the web 2 in the double-sided intermittent application as compared with the invention described in claim 1. It becomes.

(5)本実施形態の両面間欠塗布装置1では、ウェブ2の搬送速度が速く、パターン位置検出機構14が塗工区間4及び無塗工区間6の位置を検出可能な速度が、ウェブ2の搬送速度に追いつかない場合に、薬液塗布装置可動機構12を介した制御を断続的に行なう。
その結果、両面間欠塗布において、高度な画像処理装置を採用しなくとも、装置を構成することが可能となる。
(5) In the double-sided intermittent coating apparatus 1 of this embodiment, the conveyance speed of the web 2 is fast, and the speed at which the pattern position detection mechanism 14 can detect the positions of the coating section 4 and the non-coating section 6 is When the conveyance speed cannot be caught up, the control via the chemical solution applying apparatus moving mechanism 12 is intermittently performed.
As a result, in the double-sided intermittent coating, it is possible to configure the apparatus without adopting an advanced image processing apparatus.

(6)本実施形態の両面間欠塗布装置1では、薬液塗布装置10の下流側に配置された塗布膜厚検出機構24が検出した膜厚に応じて、塗工区間4の膜厚が目標の厚さとなるように、薬液の吐出量をフィードバック制御することが可能となる。 (6) In the double-sided intermittent coating apparatus 1 of the present embodiment, the film thickness in the coating section 4 is a target according to the film thickness detected by the coating film thickness detection mechanism 24 arranged on the downstream side of the chemical liquid coating apparatus 10. It becomes possible to feedback control the discharge amount of the chemical liquid so as to be the thickness.

このため、安定した膜厚の塗工区間4を形成することが可能となり、塗工区間4の膜厚の精度を向上させることが可能となる。
その結果、両面間欠塗布において、塗工区間4の品質を向上させることが可能となり、リチウムイオン電池や燃料電池等、両面間欠塗布を用いて製造される製品の品質を向上させることが可能となる。
For this reason, it becomes possible to form the coating area 4 of a stable film thickness, and it becomes possible to improve the precision of the film thickness of the coating area 4.
As a result, it is possible to improve the quality of the coating section 4 in double-sided intermittent application, and it is possible to improve the quality of products manufactured using double-sided intermittent application, such as lithium ion batteries and fuel cells. .

(応用例)
さらに、本実施形態の応用例として、以下のようなものがある。
本実施形態の両面間欠塗布装置1では、塗布膜厚検出機構24及び薬液吐出機構制御手段30を備える構成としたが、これに限定するものではなく、塗布膜厚検出機構24及び薬液吐出機構制御手段30を備えていない構成としてもよい。
(Application examples)
Furthermore, the following are examples of applications of this embodiment.
The double-sided intermittent coating apparatus 1 of the present embodiment is configured to include the coating film thickness detection mechanism 24 and the chemical solution discharge mechanism control means 30, but is not limited to this, and the coating film thickness detection mechanism 24 and the chemical solution discharge mechanism control. It is good also as a structure which is not provided with the means 30. FIG.

1 両面間欠塗布装置
2 ウェブ
4 塗工区間
6 無塗工区間
8 ウェブ搬送ロール
10 薬液塗布装置
12 薬液塗布装置可動機構
14 パターン位置検出機構
16 薬液流路選択機構
18 薬液液切機構
20 ロール回転情報検出機構
22 薬液吐出機構
24 塗布膜厚検出機構
26 乾燥炉
28 両面間欠塗布制御手段
30 薬液吐出機構制御手段
32 ロールモータ
34 薬液塗布位置制御手段
36 薬液タンク
38 薬液供給状態制御手段
40 平均位置
42 基準位置
44 不安定領域
46 光電センサ
48 タイミング制御手段
S1 搬送方向ズレ
S2 垂直方向ズレ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Double-sided intermittent coating apparatus 2 Web 4 Coating area 6 No coating area 8 Web conveyance roll 10 Chemical solution coating apparatus 12 Chemical liquid application apparatus movable mechanism 14 Pattern position detection mechanism 16 Chemical liquid flow path selection mechanism 18 Chemical liquid cutting mechanism 20 Roll rotation information Detection mechanism 22 Chemical liquid discharge mechanism 24 Coating film thickness detection mechanism 26 Drying furnace 28 Double-sided intermittent application control means 30 Chemical liquid discharge mechanism control means 32 Roll motor 34 Chemical liquid application position control means 36 Chemical liquid tank 38 Chemical liquid supply state control means 40 Average position 42 Reference Position 44 Unstable region 46 Photoelectric sensor 48 Timing control means S1 Misalignment in transport direction S2 Misalignment in vertical direction

Claims (3)

搬送されてくるウェブの一方の面に薬液を矩形形状に塗布した塗工区間と前記薬液を塗布していない無塗工区間とを交互に形成した後、前記ウェブの他方の面に前記塗工区間と前記無塗工区間とを交互に形成する両面間欠塗布装置であって、
前記ウェブの片面に前記薬液を塗布する薬液塗布装置と、
前記薬液塗布装置を前記ウェブの搬送方向に対して垂直な幅方向に移動可能な薬液塗布装置可動機構と、
前記薬液塗布装置の上流側に配置され且つ前記ウェブの一方の面の画像を用いてウェブの一方の面に形成した前記塗工区間と前記無塗工区間との位置を検出するパターン位置検出機構と、
前記パターン位置検出機構が検出した前記塗工区間及び前記無塗工区間の位置に応じて、前記ウェブの他方の面に形成される前記塗工区間と前記無塗工区間が、前記ウェブの一方の面に形成した前記塗工区間と前記無塗工区間と、前記ウェブの搬送方向から見て同じ位置に形成されるように、前記薬液塗布装置可動機構を介して前記薬液塗布装置の位置を制御する薬液塗布位置制御手段と、
前記薬液を貯留した薬液タンクから前記薬液塗布装置への薬液の流路を開放または閉鎖する薬液流路選択機構と、
前記ウェブに前記薬液が塗布されないように前記薬液流路選択機構と前記薬液塗布装置との間で前記薬液を液切りする薬液液切機構と、
前記ウェブの搬送速度に同調して回転するウェブ搬送ロールの回転角度及び回転速度のうち少なくとも一方からなるロール回転情報を検出可能なロール回転情報検出機構と、
前記パターン位置検出機構が検出した前記位置及び前記ロール回転情報検出機構が検出した前記ロール回転情報に応じて、前記ウェブの他方の面に形成される前記塗工区間と前記無塗工区間が、前記ウェブの一方の面に形成した前記塗工区間と前記無塗工区間と、前記ウェブの搬送方向と直交する方向から見て同じ位置に形成されるように、前記薬液流路選択機構を介して前記薬液の流路を開放または閉鎖するタイミング、及び前記薬液液切機構を介して前記薬液流路選択機構と前記薬液塗布装置との間で前記薬液を液切りするタイミングを制御する薬液供給状態制御手段と、を備え
前記薬液塗布装置可動機構は、前記ウェブの一方の面に形成した前記塗工区間に基づいて前記ウェブの他方の面に予め設定した、前記ウェブの搬送方向に対して垂直な幅方向に沿った基準位置と、前記薬液塗布装置の現在位置と、の間に、前記ウェブの搬送方向に対して垂直な幅方向に沿ったズレが生じている場合、前記ウェブの一方の面に形成された前記塗工区間と、前記ウェブの他方の面に形成された前記塗工区間との、前記ウェブの搬送方向に対して垂直な幅方向に沿った位置とのズレが減少するように、前記薬液塗布装置を前記ウェブの搬送方向に対して垂直な幅方向に移動させ、
前記薬液供給状態制御手段は、前記ウェブの一方の面に形成した前記塗工区間と、前記ウェブの他方の面に形成される前記塗工区間との、前記ウェブの搬送方向に沿った位置のズレが減少するように、前記薬液の流路を開放または閉鎖するタイミング及び前記薬液を液切りするタイミングを制御することを特徴とする両面間欠塗布装置。
After alternately forming a coating section in which a chemical solution is applied in a rectangular shape on one surface of the web being conveyed and a non-coating section in which the chemical solution is not applied, the coating is applied to the other surface of the web A double-sided intermittent coating apparatus that alternately forms sections and the non-coating sections,
A chemical application device for applying the chemical to one side of the web;
A chemical solution applicator movable mechanism capable of moving the chemical solution applicator in a width direction perpendicular to the conveying direction of the web;
A pattern position detection mechanism that is arranged on the upstream side of the chemical solution coating apparatus and detects the positions of the coating section and the non-coating section formed on one surface of the web using an image of one surface of the web When,
Depending on the position of the coating section and the non-coating section detected by the pattern position detection mechanism, the coating section and the non-coating section formed on the other surface of the web are one of the webs. The position of the chemical coating device is moved via the chemical coating device moving mechanism so that the coating section and the non-coating section formed on the surface of the web are formed at the same position when viewed from the web conveyance direction. Chemical solution application position control means for controlling,
A chemical flow path selection mechanism that opens or closes the flow path of the chemical liquid from the chemical liquid tank storing the chemical liquid to the chemical liquid application device;
A chemical liquid draining mechanism for draining the chemical liquid between the chemical liquid flow path selection mechanism and the chemical liquid application device so that the chemical liquid is not applied to the web;
A roll rotation information detection mechanism capable of detecting roll rotation information consisting of at least one of a rotation angle and a rotation speed of a web conveyance roll rotating in synchronization with the web conveyance speed;
In accordance with the position detected by the pattern position detection mechanism and the roll rotation information detected by the roll rotation information detection mechanism, the coating section and the non-coating section formed on the other surface of the web, Through the chemical flow path selection mechanism, the coating section and the non-coating section formed on one surface of the web are formed at the same position as seen from the direction orthogonal to the web conveyance direction. The chemical supply state for controlling the timing for opening or closing the flow path of the chemical liquid and the timing for draining the chemical liquid between the chemical liquid flow path selection mechanism and the chemical liquid application device via the chemical liquid cutting mechanism Control means ,
The chemical solution application device moving mechanism is set in advance on the other surface of the web based on the coating section formed on one surface of the web, along the width direction perpendicular to the web conveyance direction. When there is a shift along the width direction perpendicular to the web conveyance direction between the reference position and the current position of the chemical solution coating apparatus, the one formed on one surface of the web The chemical solution application is performed such that a deviation between a coating section and a position along the width direction perpendicular to the web conveyance direction between the coating section and the coating section formed on the other surface of the web decreases. Moving the device in the width direction perpendicular to the web transport direction;
The chemical solution supply state control means includes a position of the coating section formed on one surface of the web and the coating section formed on the other surface of the web along the web conveyance direction. as displacement is reduced, the double-sided intermittent coating apparatus characterized that you control the timing of draining the timing and the chemical opens or closes the flow path of the liquid medicine.
前記薬液塗布位置制御手段は、前記ウェブの搬送速度が、前記パターン位置検出機構が前記塗工区間及び前記無塗工区間の位置を検出可能な速度を超えている場合に、前記薬液塗布装置可動機構を介した制御を断続的に行なうことを特徴とする請求項1に記載した両面間欠塗布装置。 The chemical liquid application position control means is configured to move the chemical liquid application apparatus when the web conveyance speed exceeds a speed at which the pattern position detection mechanism can detect the positions of the coating section and the non-coating section. The double-sided intermittent coating apparatus according to claim 1, wherein the control via the mechanism is intermittently performed. 前記薬液を貯留した薬液タンクから前記薬液塗布装置へ薬液を吐出する薬液吐出機構と、
前記薬液塗布装置の下流側に配置され且つ前記ウェブの両面に形成された塗工区間の膜厚を検出する塗布膜厚検出機構と、
前記塗布膜厚検出機構が検出した膜厚に応じて、前記塗工区間の膜厚が目標の厚さとなるように前記薬液吐出機構を介して前記薬液の吐出量を制御する薬液吐出機構制御手段と、を備えることを特徴とする請求項1または請求項2に記載した両面間欠塗布装置。
A chemical solution discharge mechanism for discharging the chemical solution from the chemical solution tank storing the chemical solution to the chemical solution application device;
A coating film thickness detecting mechanism that is disposed on the downstream side of the chemical liquid coating apparatus and detects the film thickness of the coating section formed on both surfaces of the web;
According to the film thickness detected by the coating film thickness detection mechanism, a chemical solution discharge mechanism control unit that controls the discharge amount of the chemical solution through the chemical solution discharge mechanism so that the film thickness of the coating section becomes a target thickness. The double-sided intermittent coating apparatus according to claim 1 or 2, characterized by comprising:
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