KR20140118731A - Pattern transfer system and pattern transfer method - Google Patents
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Abstract
Description
이 발명은, 반도체 웨이퍼, 액정표시 장치용 유리 기판, 플라즈마 디스플레이용 유리 기판, 자기 또는 광디스크용 유리 또는 세라믹 기판, 유기 EL용 유리 기판, 태양전지용 유리 기판 또는 실리콘 기판, 그 외 플렉시블 기판 및 프린트 기판 등의 전자기기 전용의 각종 피처리 기판에 대해, 패턴을 전사하는 기술에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor wafer, a glass substrate for a liquid crystal display, a glass substrate for a plasma display, a glass or ceramic substrate for a magnetic or optical disk, a glass substrate for an organic EL, a glass substrate or a silicon substrate for a solar cell, And transferring a pattern to various substrates to be processed dedicated to electronic devices such as a semiconductor device.
반도체 웨이퍼, 액정표시장치용 유리 기판, 플라즈마 디스플레이용 유리 기판, 자기 또는 광디스크용 유리 또는 세라믹 기판, 유기 EL용 유리 기판, 태양전지용 유리 기판 또는 실리콘 기판, 그 외 플렉시블 기판 및 프린트 기판 등의 전자기기를 위한 기판에 대해, 패턴을 형성하기 위해서, 포토리소그래픽법이 이용되고 있다. 그런데, 포토리소그래픽법의 경우, 포토레지스트의 도포 공정이나 노광 및 현상 공정 등, 각종 공정을 거칠 필요가 있어, 처리 시간이 길고 또한 제조 비용이 높아진다는 문제가 있었다. 그래서, 근래에는, 저비용화가 가능한 오프셋 인쇄법의 이용이 제안되고 있다(예를 들면, 특허 문헌 1).An electronic device such as a semiconductor wafer, a glass substrate for a liquid crystal display, a glass substrate for a plasma display, a glass or ceramic substrate for a magnetic or optical disk, a glass substrate for an organic EL, a glass substrate or a silicon substrate for a solar cell, A photolithographic method is used in order to form a pattern on a substrate. However, in the case of the photolithographic method, there is a problem in that it takes a lot of steps such as an application step of a photoresist, an exposure and a development step, and a long processing time and a high manufacturing cost. Thus, in recent years, the use of an offset printing method capable of lowering the cost has been proposed (for example, Patent Document 1).
오프셋 인쇄법에서는, 주로, 전사제가 도포된 블랭킷에 인쇄판을 눌러 접촉시킴으로써, 블랭킷 상에 패턴을 전사하는 공정(제1 전사 공정)과, 그 블랭킷을 기판에 눌러 접촉시킴으로써, 기판에 패턴을 전사하는 공정(제2 전사 공정)이 포함되어 있다. 또, 각 패턴 전사 공정을 실시하기 위한 개개의 인쇄 장치도, 몇가지 제안되어 있다(예를 들면, 특허 문헌 2).In the offset printing method, mainly, a process of transferring a pattern onto a blanket (first transfer step) by bringing a printing plate into contact with a blanket applied with a transfer agent, and pressing and pressing the blanket against the substrate, (Second transfer step) is included. Several printing apparatuses for carrying out each pattern transfer process have also been proposed (for example, Patent Document 2).
상기 오프셋 인쇄법을 이용하여 패턴이 형성된 기판을 양산하기 위해서는, 상기 각 공정을 순차적으로 실행하는 개개의 장치를 나열하여, 제조 라인을 구축하는 것을 생각할 수 있다. 그러나, 오프셋 인쇄법에 따라 전자기기를 위한 기판을 양산하는데 적절한 제조 라인은 아직도 알려져 있지 않다.In order to mass-produce a pattern-formed substrate using the offset printing method, it is conceivable to arrange individual devices for sequentially performing the respective steps to construct a manufacturing line. However, a manufacturing line suitable for mass production of a substrate for an electronic device according to the offset printing method is not yet known.
그래서, 본 발명은, 오프셋 인쇄법에 따른 전자기기를 위한 기판의 양산에 적절한 기술을 제공하는 것을 목적으로 한다.It is therefore an object of the present invention to provide a technique suitable for mass production of a substrate for an electronic apparatus according to the offset printing method.
상기 과제를 해결하기 위해서, 제1의 양태는, 오프셋 인쇄법에 따라 기판에 패턴을 전사하는 패턴 전사 시스템으로서, 인쇄판을 세정하는 세정부와, 블랭킷에 전사제를 도포하는 도포부와, 상기 도포부에 의해서 상기 전사제가 도포된 상기 블랭킷, 및, 상기 세정부에서 세정된 인쇄판을 접합함으로써, 상기 인쇄판의 인쇄 패턴에 대응한 패턴을 상기 블랭킷에 전사하는 제1 전사부와, 상기 패턴이 전사된 블랭킷을 기판에 접합함으로써, 상기 기판에 패턴을 전사하는 제2 전사부와, 상기 제1 전사부에서 상기 블랭킷에 패턴을 전사한 상기 인쇄판을 상기 세정부를 향해서 반송하는 반송부를 구비하고 있다.According to a first aspect of the present invention, there is provided a pattern transfer system for transferring a pattern onto a substrate in accordance with an offset printing method. The system comprises a cleaner for cleaning a printing plate, a coating unit for applying a transfer agent to the blanket, A first transfer unit for transferring the pattern corresponding to the print pattern of the printing plate to the blanket by bonding the blanket coated with the transfer agent by the printing unit and the printing plate cleaned by the cleaning unit; A second transfer section for transferring the pattern onto the substrate by bonding the blanket to the substrate and a transfer section for transferring the printing plate transferred from the first transfer section to the blanket toward the cleaning section.
또, 제2의 양태는, 오프셋 인쇄법에 따라 기판에 패턴을 전사하는 패턴 전사 시스템으로서, 블랭킷을 세정하는 세정부와, 상기 세정부에서 세정된 상기 블랭킷에 전사제를 도포하는 도포부와, 상기 도포부에 의해서 상기 전사제가 도포된 상기 블랭킷, 및, 인쇄판을 접합함으로써, 상기 인쇄판의 인쇄 패턴에 대응한 패턴을 상기 블랭킷에 전사하는 제1 전사부와, 상기 패턴이 전사된 블랭킷을 기판에 접합함으로써, 상기 기판에 패턴을 전사하는 제2 전사부와, 상기 제2 전사부에서 상기 기판에 패턴을 전사한 상기 블랭킷을 상기 세정부를 향해서 반송하는 반송부를 구비하고 있다.According to a second aspect of the present invention, there is provided a pattern transfer system for transferring a pattern onto a substrate in accordance with an offset printing method, comprising: a cleaning section for cleaning a blanket; a coating section for applying a transfer agent to the blanket, A first transfer unit for transferring the pattern corresponding to the print pattern of the printing plate onto the blanket by bonding the blanket and the printing plate coated with the transfer agent by the application unit; And a transfer section for transferring the blanket transferred from the second transfer section onto the substrate toward the cleaning section. The transfer section transfers the pattern onto the substrate.
또, 제3의 양태는, 제1 또는 제2의 양태에 따른 패턴 전사 시스템에 있어서, 상기 세정부가, 상기 블랭킷 및 상기 인쇄판 쌍방을 세정 가능한 세정 장치를 구비하고 있다.In a third aspect, in the pattern transfer system according to the first or second aspect, the cleaning section includes a cleaning device capable of cleaning both the blanket and the printing plate.
또, 제4의 양태는, 제3의 양태에 따른 패턴 전사 시스템에 있어서, 상기 세정 장치는, 상기 블랭킷 및 상기 인쇄판을 일방향으로 반송하면서, 그 표면에 처리액을 공급함으로써, 상기 블랭킷 및 상기 인쇄판을 세정한다.The fourth aspect is characterized in that, in the pattern transfer system according to the third aspect, the cleaning device conveys the blanket and the printing plate in one direction, and supplies the treatment liquid to the surface of the blanket and the printing plate, .
또, 제5의 양태는, 제4의 양태에 따른 패턴 전사 시스템에 있어서, 상기 세정 장치는, 상기 블랭킷 및 상기 인쇄판을 경사지게 하여 반송하는 경사 반송부와, 상기 경사지게 한 상기 블랭킷 및 상기 인쇄판의 중력 방향 하측의 측단부를 지지하는 지지부를 구비하고 있다.The fifth aspect is characterized in that, in the pattern transfer system according to the fourth aspect, the cleaning device further comprises: a slant conveying part for slanting and conveying the blanket and the printing plate; and a gravity conveying part for conveying the gravity of the blanket and the printing plate And a support portion for supporting the side end portion on the lower side in the direction.
또, 제6의 양태는, 제 4 또는 제5의 양태에 따른 패턴 전사 시스템에 있어서, 상기 도포부로부터 상기 제1 전사부에 이르기까지의 상기 블랭킷의 이동 방향이 상기 일방향과는 역방향이다.In a sixth aspect, in the pattern transfer system according to the fourth or fifth aspect, the moving direction of the blanket from the application portion to the first transfer portion is opposite to the one direction.
또, 제7의 양태는, 제2의 양태에 따른 패턴 전사 시스템에 있어서, 상기 세정부에서 세정된 상기 블랭킷을, 상기 세정부와는 상이한 양태로 세정하는 제2의 세정부를 더 구비하고 있으며, 상기 도포부는, 상기 제2의 세정부에서 세정된 상기 블랭킷에 상기 전사제를 도포한다.The seventh aspect is the pattern transfer system according to the second aspect, further comprising a second cleaning section for cleaning the blanket cleaned by the cleaning section in a manner different from the cleaning section , The application unit applies the transfer agent to the blanket cleaned by the second cleaning unit.
또, 제8의 양태는, 오프셋 인쇄법에 따라 기판에 패턴을 전사하는 패턴 전사 방법으로서, (a) 인쇄판을 세정하는 공정과, (b) 블랭킷에 전사제를 도포하는 공정과, (c) 상기 (b) 공정에서 상기 전사제가 도포된 상기 블랭킷, 및, 상기 (a) 공정에서 세정된 인쇄판을 접합함으로써, 상기 인쇄판의 인쇄 패턴에 대응한 패턴을 상기 블랭킷에 전사하는 공정과, (d) 상기 (c) 공정에서 상기 패턴이 전사된 블랭킷을 기판에 접합함으로써, 상기 기판에 패턴을 전사하는 공정을 포함하고, 상기 (a) 공정에서 세정되는 상기 인쇄판이, 상기 (c) 공정에서 상기 블랭킷에 패턴을 전사한 상기 인쇄판이다.(A) a step of cleaning the printing plate; (b) a step of applying a transfer agent to the blanket; and (c) a step of transferring the transfer agent onto the substrate. The pattern transfer method according to the eighth aspect is a method of transferring a pattern onto a substrate according to an offset printing method, (D) transferring a pattern corresponding to a printing pattern of the printing plate to the blanket by bonding the printing plate cleaned in the step (a) and the blanket coated with the transfer agent in the step (b) And transferring the pattern onto the substrate by bonding the pattern transferred blanket to the substrate in the step (c), wherein the printing plate to be cleaned in the step (a) To which the pattern is transferred.
또, 제9의 양태는, 오프셋 인쇄법에 따라 기판에 패턴을 전사하는 패턴 전사 방법으로서, (A) 블랭킷을 세정하는 공정과, (B) 상기 (A) 공정에서 세정된 상기 블랭킷에 전사제를 도포하는 공정과, (C) 상기 (B) 공정에서 상기 전사제가 도포된 상기 블랭킷, 및, 인쇄판을 접합함으로써, 상기 인쇄판의 인쇄 패턴에 대응한 패턴을 상기 블랭킷에 전사하는 공정과, (D) 상기 패턴이 전사된 블랭킷을 기판에 접합함으로써, 상기 기판에 패턴을 전사하는 공정을 포함하고, 상기 (A) 공정에서 세정되는 상기 블랭킷이, 상기 (D) 공정에서 상기 기판에 상기 패턴을 전사한 상기 블랭킷이다.A ninth aspect of the present invention is a pattern transfer method for transferring a pattern onto a substrate according to an offset printing method, the method comprising: (A) cleaning a blanket; (B) transferring the blanket washed in the step (A) (C) transferring the pattern corresponding to the printing pattern of the printing plate to the blanket by bonding the blanket and the printing plate coated with the transfer agent in the step (B), and (D) ) Transferring the pattern onto the substrate by bonding the blanket transferred with the pattern to the substrate, wherein the blanket to be cleaned in the step (A) transfers the pattern to the substrate in the step (D) Lt; / RTI >
제1의 양태에 따른 패턴 전사 시스템 및 제8의 양태에 따른 패턴 전사 방법에 의하면, 전사 처리에 사용된 인쇄판이 재이용된다. 이에 의해, 패턴 전사에 있어서 사용되는 인쇄판의 수량을 줄일 수 있다.According to the pattern transfer system according to the first aspect and the pattern transfer method according to the eighth aspect, the printing plate used in the transfer process is reused. As a result, the number of printing plates used in pattern transfer can be reduced.
제2의 양태에 따른 패턴 전사 시스템 및 제9의 양태에 따른 패턴 전사 방법에 의하면, 전사 처리에 사용된 블랭킷이 재이용된다. 이에 의해, 패턴 전사에 있어서 사용되는 블랭킷의 수량을 줄일 수 있다.According to the pattern transfer system according to the second aspect and the pattern transfer method according to the ninth aspect, the blanket used in the transfer process is reused. Thereby, the number of blanket used in pattern transfer can be reduced.
또, 제3의 양태에 따른 패턴 전사 시스템에 의하면, 공통의 세정 장치에 의해서, 블랭킷 및 인쇄판을 세정할 수 있다. 이 때문에, 블랭킷 및 인쇄판의 각각을 전용으로 세정하는 세정 장치를 설치한 경우보다도, 패턴 전사 시스템의 점유 면적을 작게 할 수 있다.Further, according to the pattern transfer system according to the third aspect, the blanket and the printing plate can be cleaned by a common cleaning device. Therefore, the area occupied by the pattern transfer system can be made smaller than in the case where a cleaning device for cleaning each of the blanket and the printing plate is provided exclusively.
또, 제4의 양태에 따른 패턴 전사 시스템에 의하면, 블랭킷 및 인쇄판의 각각을, 다음의 처리 장치를 향해서 반송하면서 세정할 수 있다.According to the pattern transfer system of the fourth aspect, each of the blanket and the printing plate can be cleaned while being transported toward the next processing apparatus.
또, 제5의 양태에 따른 패턴 전사 시스템에 의하면, 블랭킷 및 인쇄판의 사이즈가 상이한 경우에도, 지지부에 의해서, 중력 방향 하측의 측단부의 위치를 맞춰 블랭킷 및 인쇄판을 반송할 수 있다. 이에 의해, 블랭킷 및 인쇄판의 위치 결정을 용이하게 실현할 수 있기 때문에, 양호하게 세정 처리할 수 있다.According to the pattern transfer system of the fifth aspect, even when the size of the blanket and the printing plate are different, the blanket and the printing plate can be conveyed by aligning the side end portion of the lower side in the gravity direction by the supporting portion. As a result, the positioning of the blanket and the printing plate can be easily realized, so that the cleaning process can be satisfactorily performed.
또, 제6의 양태에 따른 패턴 전사 시스템에 의하면, 블랭킷을 패턴 전사 시스템 내에서 U턴하여 반송할 수 있기 때문에, 패턴 전사 시스템의 치수를 짧게 할 수 있다.Further, according to the pattern transfer system according to the sixth aspect, since the blanket can be transferred by U-turn in the pattern transfer system, the dimension of the pattern transfer system can be shortened.
또, 제7의 양태에 따른 패턴 전사 시스템에 의하면, 블랭킷을 적어도 2개의 상이한 양태로 세정 처리할 수 있다.Further, according to the pattern transfer system according to the seventh aspect, the blanket can be subjected to the cleaning treatment in at least two different modes.
도 1은 제1 실시형태에 따른 패턴 전사 시스템의 개략 평면도이다.
도 2는 제1 세정부가 구비하는 세정 장치의 개략을 나타내는 측면도이다.
도 3은 제1 세정부에 있어서 반송되는 블랭킷 및 인쇄판을 +X측을 향해 보았을 때의 개략 정면도이다.
도 4는 제2 세정부의 개략을 나타내는 측면도이다.
도 5는 패턴 전사 시스템에 있어서, 패턴이 전사된 기판(9)을 제조하는 흐름을 나타내는 흐름도이다.
도 6은 비교예에 따른 패턴 전사 시스템의 개략 평면도이다.
도 7은 제2 실시형태에 따른 패턴 전사 시스템의 개략 평면도이다.1 is a schematic plan view of a pattern transfer system according to the first embodiment.
2 is a side view schematically showing a cleaning apparatus provided in the first cleaning section.
3 is a schematic front view when the blanket and the printing plate conveyed in the first cleaning section are viewed toward the + X side.
Fig. 4 is a side view showing an outline of a second clevis.
5 is a flowchart showing the flow of manufacturing the
6 is a schematic plan view of a pattern transfer system according to a comparative example.
7 is a schematic plan view of the pattern transfer system according to the second embodiment.
이하, 첨부의 도면을 참조하면서, 본 발명의 실시형태에 대해서 설명한다. 또한, 도면에서는 용이한 이해를 위해서, 필요에 따라서 각 부의 치수나 수가 과장 또는 간략화되어 도시되어 있는 경우가 있다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In the drawings, for the sake of easy understanding, the dimensions and the numbers of the parts may be exaggerated or simplified as necessary.
<1. 제1 실시형태> <1. First Embodiment>
<1. 1. 구성 및 기능><1. 1. Configuration and Features>
도 1은, 제1 실시형태에 따른 패턴 전사 시스템(1)의 개략 평면도이다. 도 1 및 이후의 각 도면에서는, 설명의 편의상, X축방향 및 Y축방향의 두 방향으로 정의되는 평면을 수평면으로 하고, 이들 두방향에 수직인 Z축방향을 연직 방향이라고 정의한다.1 is a schematic plan view of a
패턴 전사 시스템(1)은, 블랭킷(91)과 인쇄판(93)을 겹쳐, 블랭킷(91)에 패턴을 전사한 후, 상기 블랭킷(91)을 기판(9)에 접합하여, 블랭킷(91)의 패턴을 기판(9)에 전사함으로써 패턴이 형성된 기판(9)을 양산하는 시스템이다.The
블랭킷(91)은, 거의 평판형상의 부재이며, 인쇄판(93) 및 기판(9)에 대한 양호한 접촉을 실현하기 위해서, 유연하게 변형 가능하도록 구성되어 있다. 블랭킷(91)은, 예를 들면, 실리콘 고무나 불소 수지 등을 들 수 있다.The
인쇄판(93)은, 블랭킷(91)에 소정의 패턴을 전사하는 부재이다. 인쇄판(93)으로는, 예를 들면, 오목부를 갖는 그라비아 오프셋 인쇄판, 또는, 요철이 없는 평판을 이용하는 오프셋 인쇄판 등이 적용 가능하다.The
기판(9)은, 전자기기용 기판이며, 예를 들면, 반도체 웨이퍼, 액정표시장치용 유리 기판, 플라즈마 디스플레이용 유리 기판, 자기 또는 광디스크용 유리 또는 세라믹 기판, 유기 EL용 유리 기판, 태양전지용 유리 기판 또는 실리콘 기판, 그 외 플렉시블 기판 및 프린트 기판 등이다. 기판(9)에는, 블랭킷(91)에 형성된 패턴이 전사되어, 미세 패턴이 그 표면에 형성된다.The
패턴 전사 시스템(1)은, 제1 세정부(11), 제2 세정부(13), 수도(受渡)부(21), 수도 반송부(23), 전처리부(31), 도포부(41), 전사부(51, 53), 박리부(61, 63) 및 로봇 반송부(71 및 73)를 구비하고 있다.The
도 2는, 제1 세정부(11)가 구비하는 세정 장치(111)의 개략을 나타내는 측면도이다. 제1 세정부(11)는, X축방향으로 연장되어 있으며, 블랭킷(91) 및 인쇄판(93)의 쌍방을 세정 가능한 세정 장치(111)를 구비하고 있다. 제1 세정부(11)는, 코로 반송(롤러 반송)에 의해서 블랭킷(91) 또는 인쇄판(93)을, +X방향으로 반송하면서, 물이나 약액 등으로 세정 처리한다.Fig. 2 is a side view schematically showing the cleaning device 111 provided in the
도 2에 나타난 바와 같이, 세정 장치(111)는, 프리웨트부(14), 약액 처리부(15) 및 린스부(16)로 구성되어 있다. 프리웨트부(14), 약액 처리부(15) 및 린스부(16)는, +X방향을 향해 이 순서로 인접 배치되어 있다. 프리웨트부(14), 약액 처리부(15) 및 린스부(16)는, 각각, 적어도 1개의 블랭킷(91) 또는 인쇄판(93)을 수용하는 공간을 구비하고 있다. 그리고, 프리웨트부(14), 약액 처리부(15) 및 린스부(16)의 경계 부분에는, 블랭킷(91) 또는 인쇄판(93)이 통과할 수 있도록 개구가 형성되어 있다.2, the cleaning device 111 is composed of a
프리웨트부(14), 약액 처리부(15) 및 린스부(16)에 있어서의 블랭킷(91) 또는 인쇄판(93)의 반송은, 소정의 간격을 두고 배치되어 있는 복수의 경사 롤러(17)에 의해서 반송된다.The transfer of the
도 3은, 제1 세정부(11)에 있어서 반송되는 블랭킷(91) 및 인쇄판(93)을 +X 측을 향해 보았을 때의 개략 정면도이다. 도 3에 나타난 바와 같이, 각 경사 롤러(17)는, 수평면(XY평면)에 대해 기울어 배치되어 있다. 이 때문에, 각 경사 롤러(17)의 상단에 지지된 블랭킷(91) 또는 인쇄판(93)은, 수평면에 대해 기운 자세로 반송된다. 또, 블랭킷(91) 또는 인쇄판(93)의 중력 방향 하측(-Z측)의 측단부(91T, 93T)는, 지지 롤러(18)의 표면에 접촘함으로써 지지된다.3 is a schematic front view when the
지지 롤러(18)는, 블랭킷(91) 또는 인쇄판(93)의 표면에 수직인 방향으로 연장되는 축(181) 둘레로 회전 가능하게 구성되어 있다. 경사 롤러(17)의 구동에 의해서, 블랭킷(91) 또는 인쇄판(93)이 +X방향으로 반송되면, 지지 롤러(18)가 블랭킷(91) 또는 인쇄판(93)의 이동에 추종하여, 축(181) 둘레로 회전한다. 이에 의해, 블랭킷(91) 또는 인쇄판(93)이 중력 방향 하측으로 흘러떨어지지 않도록, +X방향을 향해 반송된다. 또한, 지지 롤러(18)는, 도시하지 않는 구동력(모터 등)에 의해서 능동적으로 회전하도록 구성되어 있어도 되고, 프리 롤러로서 수동적으로 회전하도록 구성되어 있어도 된다.The
프리웨트부(14)는, 샤워 노즐(141)로부터 물 또는 소정의 약액을 블랭킷(91) 또는 인쇄판(93)에 공급하여, 이들을 프리웨트한다. 약액 처리부(15)는, 2유체 노즐(151)로부터, 세정용 약액을 블랭킷(91) 또는 인쇄판(93)에 공급하여, 이들을 세정 처리한다. 린스부(16)는, 샤워 노즐(161)로부터 물 등의 린스액을 블랭킷(91) 또는 인쇄판(93)에 공급하여, 세정용 약액을 씻어낸다. 반송중, 블랭킷(91) 또는 인쇄판(93)은 수평면에 대해 경사져 있다. 이 때문에, 블랭킷(91) 또는 인쇄판(93)에 공급된 액체는 수시로 중력 방향 하측으로 흘러떨어져 간다. 이와 같이 하여, 제1 세정부(11)는 웨트 세정을 행한다.The
본 실시형태에서는, 도 3에 나타난 바와 같이, 블랭킷(91)의 폭(Y축방향의 길이)(L1)이, 인쇄판(93)의 폭(L2)보다도 크게 되어 있다. 이와 같이, 경사 롤러(17) 및 지지 롤러(18)에 의해서, 중력 방향 하측의 위치(즉, 지지 롤러(18)의 지지 위치)에서, 반송 대상물을 가지런히 하여 반송할 수 있다. 이에 의해, 폭이 상이한 복수종의 반송 대상물이어도, 그 위치 결정을 용이하고 또한 확실하게 행할 수 있다. 따라서, 블랭킷(91) 및 인쇄판(93)의 쌍방의 세정 처리를 양호하게 행할 수 있다.In the present embodiment, the width (length in the Y-axis direction) L1 of the
경사 롤러(17)는, 등 간격으로 배치되어 있는 복수의 차륜(171), 및, 복수의 차륜(171)이 부착되어 있는 축(173)을 구비하고 있다. 이 복수의 차륜(171)의 간격은, 2개의 반송 대상물인 블랭킷(91) 및 인쇄판(93)의 유연함에 의해 결정된다. 즉, 본 실시형태에서는, 블랭킷(91)은, 상술한 바와 같이, 비교적 유연한 소재로 형성되어 있다. 이 때문에, 차륜(171, 171) 사이의 거리가 너무 크면, 블랭킷(91) 중, 그들에 지지되는 2개의 지지 부분의 내측 부분이, 차륜(171, 171) 사이에 가라앉아, 세정 불량이 발생할 우려가 있다. 이 경우, 차륜(171, 171) 사이의 거리를, 블랭킷(91)의 유연함에 의해, 좁게 함으로써, 블랭킷(91)의 변형을 억제할 수 있다. 이에 의해, 블랭킷(91)의 세정 불량의 발생을 저감할 수 있다.The tilting
수도부(21)는, 제1 세정부(11)의 +X측에 인접하여 설치되어 있다. 제1 세정부(11)에서 세정된 블랭킷(91)은, 수도부(21)에 의해서, +X측에 인접하는 제2 세정부(13)로 반송된다. 또, 제1 세정부(11)에서 세정된 인쇄판(93)은, 수도부(21)에 의해서, +Y측에 인접하는 로봇 반송부(71)의 반송 로봇(711)에 건네진다. 수도부(21)는, 반송 대상물을 +X방향으로 반송하는, 예를 들면 복수의 반송 롤러 등으로 구성된다.The
도 4는, 제2 세정부(13)의 개략을 나타내는 측면도이다. 제2 세정부(13)는, 제1 세정부(11)와는 상이한 양태로, 블랭킷(91)을 세정하는 부분이다. 본 실시형태에서는, 제2 세정부(13)는, 도 4에 나타난 바와 같이, 소정의 간격을 두고 배치된 복수의 반송 롤러(131)에 의해서 블랭킷(91)을 +X방향으로 반송한다. 그리고 제2 세정부(13)는, Y축방향으로 연장되는 세정용 브러시(133)를, 블랭킷(91)의 상면에 누름으로써 그 표면의 오염 등을 닦아내는, 소위 드라이 세정을 행한다.Fig. 4 is a side view schematically showing the
전처리부(31)는, 제2 세정부(13)에 있어서 드라이 세정이 완료된 블랭킷(91)을 수취하고, 전처리를 행한다. 전처리로는, 예를 들면 베이크 처리 등을 들 수 있다. 전처리부(31)는, 제2 세정부(13)에 대해 +Y측에 인접 배치되어 있다. 제2 세정부(13)·전처리부(31) 사이의 블랭킷(91)의 이동은, 도시를 생략하나, 예를 들면 반송 롤러 등에 의한 코로 반송에 의해 실현된다. 전처리를 끝낸 블랭킷(91)은 도포부(41)로 반송된다.The
도포부(41)는, 전처리부(31)의 -X측에 인접 배치되어 있다. 도포부(41)는, 전처리를 끝낸 블랭킷(91)의 표면에, 전사제를 도포한다. 전사제는, 예를 들면, 제조하는 기판(9)의 종별에 따라 결정된다. 예를 들면, 컬러 필터 전용의 기판(9)을 제조하는 경우에는, 도포부(41)에 있어서, 컬러 필터용 수지 등이 전사제로서 도포되고, 또, 유기 EL디바이스 전용 기판을 제조하는 경우에는, 유기 EL재료가 전사재로서 도포된다. 또한, 도포부(41)에 있어서의 전사제의 도포는, 예를 들면 슬릿형상의 토출구가 형성된 슬릿 노즐로부터 전사제를 토출하면서, 상기 슬릿 노즐을 블랭킷(91)에 대해 상대적으로 이동시킴으로써, 블랭킷(91)의 표면에 전사제의 막을 형성하도록 해도 된다. 혹은, 스핀 코트법에 따라 블랭킷(91)에 전사제가 도포되도록 해도 된다.The
로봇 반송부(71)는, 도포부(41)의 -X측의 위치이며, 또한, 수도부(21)의 +Y 측에 인접 배치되어 있다. 로봇 반송부(71)는, 반송 로봇(711)을 구비하고 있다. 반송 로봇(711)은, 복수개의 핑거부를 구비하고 있다. 반송 로봇(711)은, 복수의 핑거부를, 블랭킷(91) 또는 인쇄판(93)의 하측에 침입시킨 후, 상승시킴으로써, 블랭킷(91) 또는 인쇄판(93)을 하측으로부터 들어올려 지지한다. 또, 반송 로봇(711)은, Z축방향으로 연장되는 축을 회전축으로 하여, 핑거부를 선회시키는 것이 가능하다.The
구체적으로, 반송 로봇(711)은, +X측의 도포부(41)로부터, 전사제가 도포된 블랭킷(91)을 수취하고, 시계 방향으로(또는 반시계 방향으로) 180°선회함으로써, 핑거부에 지지한 블랭킷(91)을 전사부(51)에 건넨다. 또, 반송 로봇(711)은, 수도부(21)에 배치된 웨트 세정 처리 후의 인쇄판(93)을 수취하고, 반시계 방향으로 90°선회하여, 핑거부에 지지한 인쇄판(93)을 전사부(51)에 건넨다.Specifically, the carrying
전사부(51)는, 로봇 반송부(71)의 -X측에 인접 배치되어 있다. 전사부(51)는, 블랭킷(91)을 인쇄판(93)에 접합하여 패턴을 전사하는 전사 장치(511)를 구비하고 있다. 반송 로봇(711)은, 블랭킷(91)을 이 전사 장치(511)에 건네고, 인쇄판(93)을 스테이지(55)에 건넨다. 그리고, 전사 장치(511)는, 스테이지(55)에 고정된 인쇄판(93)에, 블랭킷(91)을 한쪽 단부로부터 다른쪽 단부에 걸쳐 점차 눌러 감으로써, 인쇄판(93)의 인쇄 패턴에 대응한 패턴을 블랭킷(91) 상에 전사한다. 전사 장치(511)로는, 예를 들면, 특허 문헌 2(일본국 특허 공개 2010-234714호 공보)에 기재된 인쇄 장치를 변형한 것을 채용하는 것을 생각할 수 있다.The
박리부(61)는, 전사부(51)의 -X측에 인접 배치되어 있으며, 인쇄판(93)에 접합된 블랭킷(91)을 인쇄판(93)으로부터 박리하는, 박리 장치(611)를 구비하고 있다. 전사부(51)에서 접합된 블랭킷(91) 및 인쇄판(93)의 복합체는, 스테이지(55)의 가이드부(57)를 따른 -X방향으로의 직선 이동에 의해서, 박리부(61)의 박리 장치(611)까지 반송된다. 박리 장치(611)는, 블랭킷(91)을, 그 다른쪽 단부(또는 한쪽 단부)로부터 한쪽 단부(또는 다른쪽 단부)에 걸쳐 서서히 인쇄판(93)으로부터 박리한다. 박리 장치(611)로는, 예를 들면, 전사 장치(511)와 마찬가지로, 특허 문헌 2(일본국 특허 공개 2010-234714호 공보)에 기재된 인쇄 장치를 변형한 것을 채용하는 것을 생각할 수 있다.The peeling
또한, 전사부(51)의 전사 장치(511)와, 박리부(61)의 박리 장치(611)를 모아, 1대의 장치로 전사(접합) 처리와 박리 처리가 행해지도록 하는 것도 가능하다.It is also possible to collect the transferring device 511 of the transferring
로봇 반송부(73)는, 박리부(61)의 -X측에 인접 배치되어 있다. 로봇 반송부(73)는, 반송 로봇(711)과 거의 동일한 구성의 반송 로봇(731)을 구비하고 있다. 박리부(61)에 있어서, 인쇄판(93)으로부터 박리된 블랭킷(91)은, 로봇 반송부(73)의 반송 로봇(731)에 의해서, 박리 장치(611)로부터 취출되어, 전사부(53)로 반송된다. 또, 스테이지(55)에 유지된 인쇄판(93)은, 반송 로봇(731)에 의해서 취출되어, 수도 반송부(23)에 건네진다.The
로봇 반송부(73)는, 블랭킷(91) 또는 인쇄판(93)을 외부로부터 보충하거나 혹은 외부로 배출하거나 한다. 예를 들면, 블랭킷(91) 또는 인쇄판(93)의 사용 횟수가, 규정 횟수에 도달한 경우, 또는, 블랭킷(91) 또는 인쇄판(93)에 손상 등이 발생한 경우에, 로봇 반송부(73)에 의해서, 블랭킷(91) 또는 인쇄판(93)의 배출 및 보충이 실행된다.The
전사부(53)는, 로봇 반송부(73)의 -X측에 인접 배치되어 있으며, 전사부(51)와 동일하게 전사 장치(531)를 구비하고 있다. 전사 장치(531)는, -X측으로부터 기판(9)의 공급을 받음과 더불어, +X측으로부터 반송 로봇(731)으로부터 블랭킷(91)의 공급을 받는다. 그리고, 앞서 기술한 전사부(51)에 있어서의 블랭킷(91) 및 인쇄판(93)의 접합과 동일하게 하여, 블랭킷(91) 및 기판(9)의 접합이 행해진다. 이에 의해, 블랭킷(91)에 형성되어 있던 패턴이, 기판(9)에 전사된다. 전사부(53)에서 접합된 블랭킷(91) 및 기판(9)의 복합체는, 반송 로봇(731)에 의해서, 전사 장치(531)로부터 취출되어, 수도 반송부(23)에 건네진다.The
수도 반송부(23)는, 로봇 반송부(73)의 -Y측의 위치이며, 또한, 제1 세정부(11)의 -X측에 인접 배치되어 있다. 수도 반송부(23)는, 도시를 생략하나, 예를 들면, 필요한 간격을 두고 배치된 복수의 반송 롤러를 구비하고 있다. 수도 반송부(23)는, 반송 로봇(731)으로부터 수취한, 블랭킷(91) 및 기판(9)의 복합체를, -X측의 박리부(63)로 반송한다. 또, 수도 반송부(23)는, 반송 로봇(731)으로부터 건네진 인쇄판(93)을, +X측의 제1 세정부(11)로 반송한다. 이에 의해, 한번 전사 처리에 사용된 인쇄판(93)은, 제1 세정부(11)에서 세정됨으로써, 전사 처리에 재이용된다. 즉, 수도 반송부(23)는, 전사 처리 후의 인쇄판(93)을 제1 세정부(11)를 향해서 반송하는 반송부를 구성한다.The
박리부(63)는, 수도 반송부(23)의 -X측에 인접 배치되어 있으며, 블랭킷(91)을 기판(9)으로부터 박리하는 박리 장치(631)를 구비하고 있다. 박리부(63)에 있어서 블랭킷(91)이 박리된 기판(9)은, -X측으로 반출된다. 또, 박리된 블랭킷(91)은, 수도 반송부(23)로 반송된다. 수도 반송부(23)로 건네진 사용이 끝난 블랭킷(91)은, 수도 반송부(23)의 구동에 의해서, 제1 세정부(11)로 반송된다. 이에 의해, 기판(9)으로의 전사에 사용된 블랭킷(91)은, 제1 세정부(11)에서 세정됨으로써, 다시 전사부(51, 53)에서의 전사 처리에 재이용된다. 즉, 수도 반송부(23)는, 전사 처리 후의 블랭킷(91)을 제1 세정부(11)를 향해서 반송하는 반송부를 구성한다.The peeling
<1. 2. 패턴 전사><1. 2. Pattern transfer>
도 5는, 패턴 전사 시스템(1)에 있어서, 패턴이 전사된 기판(9)을 제조하는 흐름을 나타내는 흐름도이다. 또한, 도 5에 나타나는 흐름도는 일례이며, 각 공정의 실행 순서 등은, 필요에 따라서 적절히 변경 가능한 것으로 한다.Fig. 5 is a flowchart showing the flow of manufacturing the
우선, 제1 세정부(11)에서, 블랭킷(91)이 웨트 세정된다(도 5:단계 S1). 그리고, 제1 세정부(11)에서 세정된 블랭킷(91)이 수도부(21)를 거쳐 제2 세정부로 반송되고, 드라이 세정된다(도 5:단계 S2). 도 1에 나타난 바와 같이, 이 단계 S11 및 S12에 있어서의 블랭킷(91)의 이동 방향은, +X방향으로 되어 있다.First, in the
블랭킷(91)의 드라이 세정이 완료되면, 상기 블랭킷(91)이 전처리부(31)로 반송되어, 전처리가 행해진다(도 5:단계 S3). 이 전처리는, 예를 들면, 베이크 처리이다. 또, 도 1에 나타난 바와 같이, 제2 세정부(13)로부터 전처리부(31)로 반송되었을 때, 블랭킷(91)의 이동 방향이 지금까지의 +X방향에서 +Y방향으로 전환된다.When the dry cleaning of the
전처리가 완료된 블랭킷(91)은, 도포부(41)로 반송된다. 그리고, 도포부(41)에 있어서, 블랭킷(91)의 표면에 있어서의 소정의 범위에 전사제가 도포된다(도 5:단계 S4). 전사제의 도포가 완료되면, 블랭킷(91)은, 반송 로봇(711)에 의해서 전사부(51)로 반송된다.The
또, 블랭킷(91)의 세정으로부터 전사제의 도포까지의 처리(단계 S1~단계 S4)에 병행하여, 제1 세정부(11)에 있어서의, 인쇄판(93)의 세정이 행해진다(도 5:단계 S5). 제1 세정부(11)에 있어서 세정된 인쇄판(93)은, 반송 로봇(711)에 의해서 전사부(51)로 반송된다. 그리고, 인쇄판(93)은, X축방향으로 직선 이동하는 스테이지(55)에 고정된다.The cleaning of the
전사부(51)로 반송된 블랭킷(91)은, 전사 장치(511)에 의해서, 스테이지(55) 에 고정된 인쇄판(93)에 접합된다. 그리고, 블랭킷(91) 및 인쇄판(93)의 복합체가 박리부(61)의 박리 장치(611)로 반송되어, 블랭킷(91)이 인쇄판(93)으로부터 박리된다. 이에 의해, 인쇄판의 인쇄 패턴에 대응한 소정의 패턴이, 블랭킷(91)에 형성된다(제1 패턴 전사, 도 5:단계 S6).The
단계 S6의 패턴 전사가 완료되면, 인쇄판(93)은 반송 로봇(731)에 의해서 수도 반송부(23)로 반송되고, 또한 제1 세정부(11)로 반송된다. 그리고, 인쇄판(93)의 세정이 행해진다(도 5:단계 S7). 즉, 제1 세정부(11)에서 세정되는 인쇄판(93)은, 블랭킷(91)으로 패턴을 전사한 것이다. 이와 같이, 블랭킷(91)으로 패턴을 전사한 인쇄판(93)을 제1 세정부(11)로 반송함으로써, 인쇄판(93)을 재이용할 수 있다. 이에 의해, 패턴 전사 시스템(1)에 있어서 사용되는 인쇄판(93)의 수량을 줄일 수 있다.When the pattern transfer in step S6 is completed, the
단계 S7에 병행하여, 기판(9)이 전사부(53)로 반입된다(도 5:단계 S8). 또한, 기판(9)의 전사 장치(531)로의 반입은, 단계 S7보다도 전의 시간에 행해져도 된다. 그리고, 전사부(53)에 반입된 블랭킷(91)이, 전사 장치(531)에 의해서 기판(9)에 접합된다. 그 후, 블랭킷(91)과 기판(9)의 복합체가 반송 로봇(731)에 의해서, 전사 장치(531)로부터 취출되어, 수도 반송부(23)로 반송된다. 그리고, 수도 반송부(23)로부터 박리부(63)로 복합체가 반송되어, 박리 장치(631)에 의해서 블랭킷(91)이 기판(9)으로부터 박리된다. 이에 의해, 기판(9)에 인쇄판(93)의 인쇄 패턴에 대응한 패턴이 전사된다(제2 패턴 전사, 도 5:단계 S9).In parallel with step S7, the
단계 S9에서 기판(9)에 패턴을 전사한 블랭킷(91)은, 수도 반송부(23)를 거쳐, 제1 세정부(11)로 반송되어, 세정 처리가 행해진다(도 5:단계 S10). 즉, 제1 세정부(11)에서 세정되는 블랭킷(91)은, 기판(9)에 패턴을 전사한 것으로 되어 있다. 이와 같이, 패턴 전사에 사용된 블랭킷(91)을 세정함으로써 재이용할 수 있다. 이에 의해, 패턴 전사 시스템(1)에 있어서 사용되는 블랭킷(91)의 수량을 줄일 수 있다. 또, 단계 S10와 병행하여 패턴이 형성된 기판(9)은, 박리부(63)로부터 외부로 반출된다(도 5:단계 S11).The
이상과 같이 하여, 패턴 전사 시스템(1)에 있어서, 패턴이 전사된 기판(9)이 제조된다. 또, 이러한 각 공정이 반복해서 행해짐으로써, 패턴 전사 시스템(1)에 있어서 기판(9)이 양산된다.As described above, in the
<1. 3. 비교예><1. 3. Comparative Example>
도 6은, 비교예에 따른 패턴 전사 시스템(100)의 개략 평면도이다. 비교예에 따른 패턴 전사 시스템(100)에서는, 제1 세정부(11), 전처리부(31), 도포부(41), 전사부(51), 박리부(61), 전사부(53) 및 박리부(63)가, 이 순번으로 일렬로 배열되어 있다. 또, 각 처리부의 측방 부분에, 무인 반송(AGV) 에리어(700)가 설치되어 있다. AGV 에리어(700)에서는, 블랭킷(91) 및 인쇄판(93)이 제1 세정부(11) 측으로부터 반입되어, 박리부(63) 측으로 반출된다. 또, AGV 에리어(700)에서는, 박리부(63) 측으로부터 기판(9)이 반입되고, 또한, 패턴이 전사된 기판(9)이 박리부(63) 측으로부터 반출된다. 또한, AGV 에리어(700)와, 각 처리부 사이에 있어서의, 블랭킷(91), 인쇄판(93) 또는 기판(9)의 반송이 반송 로봇(701~707)에 의해서 행해진다.6 is a schematic plan view of a
비교예에 따른 패턴 전사 시스템(100)의 경우, AGV 에리어(700) 및 최저 7대의 반송 로봇(701~707)이 필요해져, 그들의 점유 면적이 상당히 커져 버린다. 이에 대해, 패턴 전사 시스템(1)의 경우, 적어도 AGV 에리어(700) 및 반송 로봇(701~707)의 일부를 생략할 수 있기 때문에, 그 만큼의 점유 면적을 삭감할 수 있다는 메리트가 있다.In the case of the
또, 블랭킷(91) 및 인쇄판(93)이 재이용되지 않고 패턴 전사 시스템(100)으로부터 반출된다. 이 때문에, 패턴 전사 시스템(100)에 있어서 사용하는 블랭킷(91) 및 인쇄판(93)의 수량이 증대해 버린다. 이에 대해, 패턴 전사 시스템(1)의 경우, 블랭킷(91) 및 인쇄판(93)을 순환 재이용하기 때문에, 수량을 절약할 수 있다는 메리트가 있다.Also, the
또, 기판(9)에 있어서의 패턴 형성의 정밀도를 높이기 위해서는, 전사제가 도포된 상태의 블랭킷(91), 상기 블랭킷(91)과 인쇄판(93)의 복합체, 패턴이 형성된 상태의 블랭킷(91), 및, 블랭킷(91)과 기판(9)의 복합체(이하, 이들을 「전사제 기재」라고도 칭함)를 소요 온도로 유지함으로써, 전사제 기재가 변형되는 것을 억제하는 것을 억제할 필요가 있다. 이 때문에, 전사제 기재가 반송되는 영역(도 6중, 해칭으로 표시된 영역)을, HEPA 필터 유닛 등의 온도 조정 기기로 온도 조정함과 더불어, 이 영역을 다른 영역으로부터 구획하기 위한 벽을 설치하여, 주변 환경과의 분리를 도모할 필요가 있다. 이에 대해, 패턴 전사 시스템(1)의 경우, 적어도, AGV 에리어(700) 및 반송 로봇(703~707)의 일부를 생략할 수 있기 때문에, 그 점유 면적분에 상당하는 온도 조정 관리 비용을 삭감할 수 있다는 메리트가 있다.In order to improve the accuracy of pattern formation on the
<2. 제2 실시형태><2. Second Embodiment>
제1 실시형태에 따른 패턴 전사 시스템(1)에서는, 블랭킷(91) 및 인쇄판(93) 을 +X방향 또는 -X방향으로 직선적으로 반송하여 각 처리가 행해지도록, 각 처리부가 배치되어 있다. 그러나, 각 처리부의 배치 방법은 이에 한정되는 것은 아니다.In the
도 7은, 제2 실시형태에 따른 패턴 전사 시스템(1A)의 개략 평면도이다. 또한, 본 실시형태의 설명에 있어서, 제1 실시형태에 따른 패턴 전사 시스템(1)의 요소와 동일한 기능을 갖는 요소에 대해서는, 동일 부호를 부여하여 그 설명을 생략한다.7 is a schematic plan view of the
패턴 전사 시스템(1A)에서는, 블랭킷(91)을 처리하기 위한 블랭킷 처리부(81)와, 인쇄판(93)을 처리하기 위한 인쇄판 처리부(83)와, 블랭킷(91) 및 인쇄판(93) 사이의 패턴의 전사, 및, 블랭킷(91) 및 기판(9) 사이의 패턴의 전사를 행하는 전사 처리부(85)를 구비하고 있다.The
블랭킷 처리부(81)에는 중앙에 반송 로봇(751)이 배치되어 있으며, 반송 로봇(751)의 주위에 세정부(11A), 전처리부(31), 도포부(41) 및 수도부(21A)가 배치되어 있다. 세정부(11A)에는 도시를 생략하지만, 코로 반송 등에 의해서 블랭킷(91)을 외부로부터 반송 로봇(751)을 향해서 반송하는 반송 유닛과, 블랭킷(91) 을 세정 처리하는 세정 유닛이 예를 들면, 상하의 위치에 계층적으로 각각 배치되어 있다. 수도부(21A)는, 전사 처리부(85)에 접속되어 있다. 수도부(21A)는, 도포부(41)에 있어서 전사제의 도포가 행해진 블랭킷(91), 및, 전사 처리부(85)에 있어서, 기판(9)에 패턴을 전사한 블랭킷(91)을 일시적으로 올려놓기 위한 장소를 제공한다. 수도부(21A)는, 복수의 블랭킷(91)을, 예를 들면 상하로 필요한 간격을 두고 계층적으로 보관하도록 구성된다.A cleaning
반송 로봇(751)은, 반송 로봇(711, 731)과 거의 동일한 구성을 구비하고 있으며, 세정부(11A)의 반송 유닛에 의해서 외부로부터 반입된 블랭킷(91), 또는, 수도 반송부(23)에 올려진 전사 후의 블랭킷(91)을, 세정부(11A)의 세정 유닛에 반입한다. 그리고, 반송 로봇(751)은, 세정 후의 블랭킷(91)을 전처리부(31), 도포부(41), 수도부(21A)로 적절하게 반송한다. 이에 의해, 각 처리부에서, 블랭킷(9 1)이 처리된다.The conveying
인쇄판 처리부(83)에는, 중앙에 반송 로봇(771)이 배치되어 있으며, 반송 로봇(771)의 주위에, 세정부(11B), 전처리부(31A) 및 수도부(21B)가 배치되어 있다. 세정부(11B)는, 세정부(11A)와 동일하게, 반송 유닛 및 세정 유닛이, 예를 들면 상하의 위치에 각각 배치되어 있다. 수도부(21B)는, 전사 처리부(85)에 접속되어 있다. 수도부(21B)는, 전처리부(31A)에서 소정의 전처리(베이크 처리 등)를 끝낸 인쇄판(93), 및, 전사 처리부(85)에 있어서, 블랭킷(91)에 패턴을 전사한 인쇄판(93)을 일시적으로 올려 두기 위한 장소를 제공한다. 수도부(21B)는, 복수의 인쇄판(93)을, 예를 들면 상하로 필요한 간격을 두고 계층적으로 보관하도록 구성된다.The printing
반송 로봇(771)은, 반송 로봇(751)과 거의 동일한 구성을 구비하고 있으며, 세정부(11B)의 반송 유닛에 의해서 외부로부터 반입된 인쇄판(93), 또는, 수도부(21B)에 올려진 전사 후의 인쇄판(93)을, 세정부(11B)의 세정 유닛에 반입한다. 그리고, 반송 로봇(771)은, 세정 후의 인쇄판(93)을 전처리부(31A), 수도부(21B)로 적절히 반송한다. 이에 의해, 각 처리부에서 인쇄판(93)이 처리된다.The conveying
전사 처리부(85)에는, 중앙에 반송 로봇(791)이 배치되어 있으며, 반송 로봇(791)의 주위에, 전사부(51, 53), 박리부(61, 63), 기판 반입부(87) 및 기판 반출부(89)가 배치되어 있다. 반송 로봇(791)은 반송 로봇(711) 등과 동일하게, 복수의 핑거부에 의해서 블랭킷(91), 인쇄판(93) 또는 기판(9)을 지지한다. 단, 반송 로봇(791)은, 각 처리부에 액세스 가능하게 하기 위해서 수평 방향으로 이동하기 위한 이동 기구(도시하지 않음), 및, 복수의 핑거부를 상하로 승강시키기 위한 승강기구(도시하지 않음)를 구비하고 있다.The
반송 로봇(791)은, 전사제가 도포된 블랭킷(91)을 수도부(21A)로부터 취득하여, 전사부(51)로 반송한다. 또, 세정 및 전처리가 된 인쇄판(93)을 수도부(21B)로부터 취득하여 전사부(51)로 반송한다. 이에 의해, 전사부(51)에서 블랭킷(91) 및 인쇄판(93)의 접합이 행해진다.The
또, 반송 로봇(791)은, 전사부(51)에서 접합된 블랭킷(91) 및 인쇄판(93)의 복합체를 수취하여, 박리부(61)로 반송한다. 그리고, 박리부(61)에서 블랭킷(91) 및 인쇄판(93)의 박리가 행해진다.The
또한, 반송 로봇(791)은, 박리된 인쇄판(93)을 취득하여, 수도부(21B)로 반송한다. 또, 반송 로봇(791)은, 인쇄판(93)으로부터 박리된 블랭킷(91)을 박리부(61)로부터 취득하여 전사부(53)로 반송한다. 또, 외부로부터 기판 반입부(87)에 공급된 기판(9)을 취득하여, 전사부(53)로 반송한다. 이에 의해, 전사부(53)에서 블랭킷(91) 및 기판(9)의 접합이 행해진다.Further, the conveying
또, 반송 로봇(791)은, 블랭킷(91) 및 기판(9)의 복합체를, 전사부(53)로부터 취득하여, 박리부(63)로 반송한다. 그리고 박리부(63)에서 블랭킷(91) 및 기판(9)의 박리가 행해진다.The
또한, 반송 로봇(791)은, 박리된 기판(9)을 취득하여, 기판 반출부(89)로 반송한다. 이에 의해, 패턴이 형성된 기판(9)이 외부로 반출 가능해진다. 또, 기판(9)으로부터 박리된 블랭킷(91)을 박리부(63)로부터 취득하여, 수도부(21A)로 반송한다.Further, the
이상과 같이, 본 실시형태에 따른 패턴 전사 시스템(1A)에 있어서도, 블랭킷(91) 및 인쇄판(93)의 재이용이 가능하다. 이 때문에, 패턴 전사 시스템(1A)에 대해 사용하는 블랭킷(91) 및 인쇄판(93)의 수량의 각각을 줄일 수 있다.As described above, also in the
또, 패턴 전사 시스템(1A)에서는, 반송 로봇(751, 771 및 791)의 주위에 각 처리부를 배치하는, 소위 클러스터 배치를 채용하고 있다. 클러스터 배치를 채용함으로써, 예를 들면, 중앙의 반송 로봇(791)의 동작을 기준으로 하여, 전사 처리부(85)의 각 처리부(전사부(51, 53), 박리부(61, 63), 기판 반입부(87) 및 기판 반출부(89))에 있어서의 동작의 실행 시간을 각각 규정할 수 있다. 또한, 전사 처리부(85)에 있어서의, 각 처리부의 동작의 실행 시간이 결정되면, 블랭킷 처리부(81) 및 인쇄판 처리부(83)의 각 처리부(반송 로봇(751, 771)을 포함함)의 동작시간을 결정할 수 있다. 즉, 클러스터 배치를 채용함으로써, 패턴 전사 시스템(1A)이 구비하는 각 요소의 동작의 제어(또는 스케줄링)가 용이해진다.The
<3. 변형예><3. Modifications>
이상, 실시형태에 대해서 설명해 왔는데, 본 발명은 상기와 같은 것에 한정되는 것이 아니라, 다양한 변형이 가능하다.Although the embodiments have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications are possible.
예를 들면, 상기 실시형태에 따른 패턴 전사 시스템(1, 1A)은, 블랭킷(91) 및 인쇄판(93) 쌍방을 재이용하도록 구성되어 있는데, 어느 한쪽만을 재이용하도록 구성되어 있어도 된다.For example, the
또, 상기 각 실시형태 및 각 변형예에서 설명한 각 구성은, 서로 모순되지 않는 한 적절히 조합할 수 있다.It is to be noted that the configurations described in the above-described embodiments and modified examples can be appropriately combined as long as they do not contradict each other.
이 발명은 상세하게 설명되었는데, 상기한 설명은 모든 국면에 있어서, 예시이며, 이 발명이 거기에 한정되는 것은 아니다. 예시되어 있지 않은 무수한 변형예가 이 발명의 범위로부터 벗어나지 않고 상정될 수 있는 것이라고 해석된다.The present invention has been described in detail, and the above description is exemplary in all aspects, and the present invention is not limited thereto. It is understood that numerous modifications that are not illustrated can be made without departing from the scope of the present invention.
1, 1A, 100: 패턴 전사 시스템 11: 제1 세정부(세정부)
111: 세정 장치 11A, 11B: 세정부
13: 제2 세정부(제2의 세정부) 14: 프리웨트부
15: 약액 처리부 16: 린스부
17: 경사 롤러(경사부) 18: 지지 롤러(지지부)
1A: 패턴 전사 시스템 23: 수도 반송부(반송부)
41: 도포부 51: 전사부(제1 전사부)
53: 전사부(제2 전사부) 511, 531: 전사 장치
61, 63: 박리부 611, 631: 박리 장치
711, 731, 751, 771, 791: 반송 로봇 71, 73: 로봇 반송부
81: 블랭킷 처리부 83: 인쇄판 처리부
85: 전사 처리부 9: 기판
91: 블랭킷 93: 인쇄판1, 1A, 100: pattern transfer system 11: first taxation (taxation)
111:
13: second-tier government (second-tier government) 14: pre-wet part
15: Chemical liquid treatment part 16: Rinse part
17: inclined roller (inclined portion) 18: supporting roller (supporting portion)
1A: pattern transfer system 23: water supply conveying section (conveying section)
41: application part 51: transfer part (first transfer part)
53: Transfer part (second transfer part) 511, 531: Transfer device
61, 63: peeling
711, 731, 751, 771, 791: conveying
81: blanket processing section 83: printing plate processing section
85: transfer processor 9: substrate
91: Blanket 93: Printing plate
Claims (9)
인쇄판을 세정하는 세정부와,
블랭킷에 전사제를 도포하는 도포부와,
상기 도포부에 의해서 상기 전사제가 도포된 상기 블랭킷, 및, 상기 세정부에서 세정된 인쇄판을 접합함으로써, 상기 인쇄판의 인쇄 패턴에 대응한 패턴을 상기 블랭킷에 전사하는 제1 전사부와,
상기 패턴이 전사된 블랭킷을 기판에 접합함으로써, 상기 기판에 패턴을 전사하는 제2 전사부와,
상기 제1 전사부에서 상기 블랭킷에 패턴을 전사한 상기 인쇄판을 상기 세정부를 향해서 반송하는 반송부를 구비하고 있는, 패턴 전사 시스템.A pattern transfer system for transferring a pattern onto a substrate in accordance with an offset printing method,
A cleaning unit for cleaning the printing plate,
A coating unit for applying a transfer agent to the blanket,
A first transfer unit that transfers a pattern corresponding to a print pattern of the printing plate to the blanket by bonding the blanket coated with the transfer agent by the application unit and the printing plate cleaned by the cleaning unit;
A second transfer unit transferring the pattern to the substrate by bonding the blanket transferred with the pattern to the substrate,
And a transfer section for transferring the printing plate transferred from the first transfer section to the blanket toward the cleaning section.
블랭킷을 세정하는 세정부와,
상기 세정부에서 세정된 상기 블랭킷에 전사제를 도포하는 도포부와,
상기 도포부에 의해서 상기 전사제가 도포된 상기 블랭킷, 및, 인쇄판을 접합함으로써, 상기 인쇄판의 인쇄 패턴에 대응한 패턴을 상기 블랭킷에 전사하는 제1 전사부와,
상기 패턴이 전사된 블랭킷을 기판에 접합함으로써, 상기 기판에 패턴을 전사하는 제2 전사부와,
상기 제2 전사부에서 상기 기판에 패턴을 전사한 상기 블랭킷을 상기 세정부를 향해서 반송하는 반송부를 구비하고 있는, 패턴 전사 시스템.A pattern transfer system for transferring a pattern onto a substrate in accordance with an offset printing method,
A cleaning unit for cleaning the blanket,
An application unit for applying a transfer agent to the blanket cleaned by the cleaning unit,
A first transfer unit for transferring a pattern corresponding to a print pattern of the printing plate onto the blanket by bonding the blanket and the printing plate coated with the transfer agent by the application unit;
A second transfer unit transferring the pattern to the substrate by bonding the blanket transferred with the pattern to the substrate,
And a transfer section for transferring the blanket transferred from the second transfer section to the substrate toward the cleaning section.
상기 세정부가, 상기 블랭킷 및 상기 인쇄판 쌍방을 세정 가능한 세정 장치를 구비하고 있는, 패턴 전사 시스템.The method according to claim 1 or 2,
Wherein the cleaning section includes a cleaning device capable of cleaning both the blanket and the printing plate.
상기 세정 장치는, 상기 블랭킷 및 상기 인쇄판을 일방향으로 반송하면서, 그 표면에 처리액을 공급함으로써, 상기 블랭킷 및 상기 인쇄판을 세정하는, 패턴 전사 시스템.The method of claim 3,
Wherein the cleaning device is configured to clean the blanket and the printing plate by supplying the treatment liquid to the surface while conveying the blanket and the printing plate in one direction.
상기 세정 장치는, 상기 블랭킷 및 상기 인쇄판을 경사지게 하여 반송하는 경사 반송부와,
상기 경사지게 한 상기 블랭킷 및 상기 인쇄판의 중력 방향 하측의 측단부를 지지하는 지지부를 구비하고 있는, 패턴 전사 시스템.The method of claim 4,
The cleaning apparatus includes a slant conveying section for slanting and conveying the blanket and the printing plate,
And a support portion for supporting the inclined side wall portion of the blanket and the printing plate at a lower side in the gravity direction.
상기 도포부로부터 상기 제1 전사부에 이르기까지의 상기 블랭킷의 이동 방향이 상기 일방향과는 역방향인, 패턴 전사 시스템.The method of claim 4,
Wherein the direction of movement of the blanket from the application portion to the first transfer portion is opposite to the one direction.
상기 세정부에서 세정된 상기 블랭킷을, 상기 세정부와는 상이한 양태로 세정하는 제2의 세정부를 더 구비하고 있으며,
상기 도포부는, 상기 제2의 세정부에서 세정된 상기 블랭킷에 상기 전사제를 도포하는, 패턴 전사 시스템.The method of claim 2,
Further comprising a second cleaning section for cleaning the blanket cleaned by the cleaning section in a manner different from the cleaning section,
Wherein the applying section applies the transfer agent to the blanket cleaned in the second cleaning section.
(a) 인쇄판을 세정하는 공정과,
(b) 블랭킷에 전사제를 도포하는 공정과,
(c) 상기 (b) 공정에서 상기 전사제가 도포된 상기 블랭킷, 및, 상기 (a) 공정에서 세정된 인쇄판을 접합함으로써, 상기 인쇄판의 인쇄 패턴에 대응한 패턴을 상기 블랭킷에 전사하는 공정과,
(d) 상기 (c) 공정에서 상기 패턴이 전사된 블랭킷을 기판에 접합함으로써, 상기 기판에 패턴을 전사하는 공정을 포함하고,
상기 (a) 공정에서 세정되는 상기 인쇄판이, 상기 (c) 공정에서 상기 블랭킷에 패턴을 전사한 상기 인쇄판인, 패턴 전사 방법.A pattern transfer method for transferring a pattern onto a substrate in accordance with an offset printing method,
(a) cleaning the printing plate,
(b) applying a transfer agent to the blanket,
(c) transferring the pattern corresponding to the printing pattern of the printing plate onto the blanket by bonding the printing plate cleaned in the step (a) and the blanket coated with the transfer agent in the step (b)
(d) transferring the pattern onto the substrate by bonding the blanket transferred with the pattern in the step (c) to the substrate,
Wherein the printing plate cleaned in the step (a) is the printing plate on which the pattern is transferred to the blanket in the step (c).
(A) 블랭킷을 세정하는 공정과,
(B) 상기 (A) 공정에서 세정된 상기 블랭킷에 전사제를 도포하는 공정과,
(C) 상기 (B) 공정에서 상기 전사제가 도포된 상기 블랭킷, 및, 인쇄판을 접합함으로써, 상기 인쇄판의 인쇄 패턴에 대응한 패턴을 상기 블랭킷에 전사하는 공정과,
(D) 상기 패턴이 전사된 블랭킷을 기판에 접합함으로써, 상기 기판에 패턴을 전사하는 공정을 포함하고,
상기 (A) 공정에서 세정되는 상기 블랭킷이, 상기 (D) 공정에서 상기 기판에 상기 패턴을 전사한 상기 블랭킷인, 패턴 전사 방법.A pattern transfer method for transferring a pattern onto a substrate in accordance with an offset printing method,
(A) cleaning the blanket,
(B) applying a transfer agent to the blanket cleaned in the step (A)
(C) transferring the pattern corresponding to the printing pattern of the printing plate to the blanket by bonding the blanket and the printing plate coated with the transfer agent in the step (B)
(D) transferring the pattern onto the substrate by bonding the blanket transferred with the pattern to the substrate,
Wherein the blanket to be cleaned in the step (A) is the blanket in which the pattern is transferred to the substrate in the step (D).
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