KR20140114760A - 크라이오펌프, 및 비응축성 기체의 진공배기방법 - Google Patents

크라이오펌프, 및 비응축성 기체의 진공배기방법 Download PDF

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Abstract

비응축성 기체의 배기에 적합한 크라이오펌프, 및 진공배기방법을 제공한다.
크라이오펌프(10)는, 실드개구(26)를 구획하는 실드전단(28)과, 실드바닥부(34)와, 실드전단(28)과 실드바닥부(34)와의 사이에 뻗어 있는 실드측부(36)를 구비하는 방사실드(30)와, 방사실드(30)보다 저온으로 냉각되는 크라이오패널 어셈블리(20)를 구비한다. 크라이오패널 어셈블리(20)는, 복수의 제1 흡착패널(60)을 구비하는 제1 패널배열(61)과, 각각이 복수의 제2 흡착패널(62)을 구비하는 복수의 제2 패널배열(63)을 구비한다. 제1 패널배열(61)은, 각각이 실드측부(36)에 노출되어 있는 다수의 흡착구획을, 복수의 제2 패널배열(63)과 협동하여 격자형상으로 형성한다.

Description

크라이오펌프, 및 비응축성 기체의 진공배기방법{Cryopump and method for evacuation of non-condensing gas}
본 출원은 2013년 3월 19일에 출원된 일본 특허출원 제2013-057050호에 근거하여 우선권을 주장한다. 그 출원의 전체 내용은 이 명세서 중에 참고로 원용되어 있다.
본 발명은, 크라이오펌프, 및 비응축성 기체의 진공배기방법에 관한 것이다.
크라이오펌프는, 극저온으로 냉각된 크라이오패널에 기체분자를 응축 또는 흡착에 의하여 포착하여 배기하는 진공펌프이다. 크라이오펌프는 반도체 회로 제조프로세스 등에 요구되는 청정한 진공 환경을 실현하기 위하여 일반적으로 이용된다. 크라이오펌프의 애플리케이션의 하나로, 예를 들면 이온주입공정과 같이, 배기해야 하는 기체의 대부분을 예를 들면 수소 등의 비응축성 기체가 차지하는 경우가 있다. 비응축성 기체는 극저온으로 냉각된 흡착영역에 흡착시킴으로써 비로소 배기할 수 있다.
선행기술문헌
(특허문헌)
특허문헌 1: 일본 특허공개공보 2009-57957호
특허문헌 2: 일본 특허공개공보 2009-62891호
본 발명의 일 양태의 예시적인 목적 중 하나는, 비응축성 기체의 배기에 적합한 크라이오펌프, 및 진공배기방법을 제공하는 것에 있다.
본 발명의 일 양태에 의하면, 실드개구를 구획하는 실드전단과, 실드바닥부와, 상기 실드전단과 상기 실드바닥부와의 사이에 뻗어 있는 실드측부를 구비하는 방사실드와, 복수의 제1 흡착패널을 구비하는 제1 패널배열과, 각각이 복수의 제2 흡착패널을 구비하는 복수의 제2 패널배열을 구비하고, 상기 방사실드보다 저온으로 냉각되는 크라이오패널 어셈블리를 구비하며, 상기 제1 패널배열은, 각각이 상기 실드측부에 노출되어 있는 다수의 흡착구획을, 상기 복수의 제2 패널배열과 협동하여 격자형상으로 형성하는 것을 특징으로 하는 크라이오펌프가 제공된다.
본 발명의 일 양태에 의하면, 크라이오펌프의 방사실드와 상기 방사실드보다 저온으로 냉각되는 크라이오패널 어셈블리와의 사이에 비응축성 기체분자를 받아들이는 것과, 상기 크라이오패널 어셈블리의 격자형상 흡착패널배열로 비응축성 기체분자를 흡착하는 것을 포함하고, 상기 격자형상 흡착패널배열은, 각각이 상기 방사실드의 측부에 노출되어 있는 다수의 흡착구획을 구비하는 것을 특징으로 하는 비응축성 기체의 진공배기방법이 제공된다.
본 발명의 일 양태에 의하면, 실드개구를 구획하는 실드전단과, 실드바닥부와, 상기 실드전단과 상기 실드바닥부와의 사이에 뻗어 있는 실드측부를 구비하는 방사실드와, 상기 실드개구와 상기 실드바닥부와의 사이에서 중층적으로 배치되어 있는 복수의 흡착구획열을 구비하고, 상기 방사실드보다 저온으로 냉각되는 크라이오패널 어셈블리를 구비하며, 상기 복수의 흡착구획열의 각각은, 복수의 흡착구획을 구비하고, 상기 복수의 흡착구획의 각각은, 그 흡착구획을 덮는 천장부와, 상기 실드측부에 노출되어 있는 개구부를 구비하는 것을 특징으로 하는 크라이오펌프가 제공된다.
다만, 이상의 구성요소의 임의의 조합이나 본 발명의 구성요소나 표현을, 방법, 장치, 시스템 등의 사이에서 서로 치환한 것도 또한, 본 발명의 양태로서 유효하다.
본 발명에 의하면, 비응축성 기체의 배기에 적합한 크라이오펌프, 및 진공배기방법이 제공된다.
도 1은 본 발명의 일 실시형태에 관한 크라이오펌프의 주요부를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시형태에 관한 크라이오패널 어셈블리를 모식적으로 나타내는 측단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시형태에 관한 크라이오패널 어셈블리의 최상부의 크라이오패널 유닛를 모식적으로 나타내는 상면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시형태에 관한 크라이오패널 어셈블리의 최상부의 크라이오패널 유닛를 모식적으로 나타내는 측면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시형태에 관한 비응축성 기체의 진공배기방법을 설명하기 위한 도이다.
도 1은, 본 발명의 일 실시형태에 관한 크라이오펌프(10)의 주요부를 모식적으로 나타내는 단면도이다. 크라이오펌프(10)는, 예를 들면 이온주입장치나 스퍼터링장치 등의 진공챔버에 장착되어, 진공챔버 내부의 진공도를 원하는 프로세스에 요구되는 레벨까지 높이기 위하여 사용된다. 크라이오펌프(10)는, 기체를 받아들이기 위한 흡기구(12)를 가진다. 크라이오펌프(10)가 장착된 진공챔버로부터 흡기구(12)를 통하여, 배기되어야 하는 기체가 크라이오펌프(10)의 내부공간(14)에 진입한다. 도 1은, 크라이오펌프(10)의 내부공간(14)의 중심축(A)을 포함하는 단면을 나타내고 있다.
다만 이하에서는, 크라이오펌프(10)의 구성요소의 위치 관계를 알기 쉽게 나타내기 위하여, “축방향”, “방사방향”이라는 용어를 사용하는 경우가 있다. 축방향은 흡기구(12)를 통과하는 방향(도 1에 있어서 일점 쇄선(A)을 따르는 방향)을 나타내고, 방사방향은 흡기구(12)를 따르는 방향(일점 쇄선(A)에 수직인 방향)을 나타낸다. 편의상, 축방향에 관하여 흡기구(12)에 상대적으로 가까운 것을 “상”, 상대적으로 먼 것을 “하”라고 일컫는 경우가 있다. 즉, 크라이오펌프(10)의 바닥부로부터 상대적으로 먼 것을 “상”, 상대적으로 가까운 것을 “하”라고 일컫는 경우가 있다. 방사방향에 관해서는, 흡기구(12)의 중심(도 1에 있어서 중심축(A))에 가까운 것을 “내”, 흡기구(12)의 둘레 가장자리에 가까운 것을 “외”라고 일컫는 경우가 있다. 방사방향은 직경방향이라고도 할 수 있다. 다만, 이러한 표현은 크라이오펌프(10)가 진공챔버에 장착되었을 때의 배치와는 관계하지 않는다. 예를 들면, 크라이오펌프(10)는 연직방향으로 흡기구(12)를 하향으로 하여 진공챔버에 장착되어도 된다.
또, 축방향을 둘러싸는 방향을 “둘레방향”이라고 일컫는 경우가 있다. 둘레방향은, 흡기구(12)를 따르는 제2 방향이며, 직경방향에 직교하는 접선방향이다.
크라이오펌프(10)는, 냉동기(16)를 구비한다. 냉동기(16)는, 예를 들면 기포드·맥마흔식 냉동기(이른바 GM냉동기) 등의 극저온 냉동기이다. 냉동기(16)는, 제1 스테이지(22) 및 제2 스테이지(24)를 구비하는 2단식의 냉동기이다. 냉동기(16)는, 제1 스테이지(22)를 제1 온도레벨로 냉각하고, 제2 스테이지(24)를 제2 온도레벨로 냉각하도록 구성되어 있다. 제2 온도레벨은 제1 온도레벨보다 저온이다. 예를 들면, 제1 스테이지(22)는 65K~120K 정도, 바람직하게는 80K~100K로 냉각되고, 제2 스테이지(24)는 10K~20K 정도로 냉각된다.
도 1에 나타나는 크라이오펌프(10)는, 이른바 가로형의 크라이오펌프이다. 가로형의 크라이오펌프란 일반적으로, 냉동기(16)가 크라이오펌프(10)의 내부공간(14)의 중심축(A)에 교차하도록(통상은 직교하도록) 배치되어 있는 크라이오펌프이다. 본 발명은 이른바 세로형의 크라이오펌프에도 동일하게 적용할 수 있다. 세로형의 크라이오펌프란, 냉동기가 크라이오펌프의 축방향을 따라 배치되어 있는 크라이오펌프이다.
크라이오펌프(10)는, 고온 크라이오패널(18)과, 고온 크라이오패널(18)보다 저온으로 냉각되는 크라이오패널 어셈블리(20)를 구비한다. 고온 크라이오패널(18)은, 크라이오펌프(10)의 외부 또는 크라이오펌프용기(38)로부터의 복사열로부터 크라이오패널 어셈블리(20)를 보호하기 위하여 설치되어 있는 크라이오패널이다. 고온 크라이오패널(18)은 크라이오패널 어셈블리(20)와의 사이에 간극을 가지고 있으며, 고온 크라이오패널(18)은 크라이오패널 어셈블리(20)와 접촉하고 있지 않다. 고온 크라이오패널(18)은, 방사실드(30)와 입구 크라이오패널(32)을 구비하고, 크라이오패널 어셈블리(20)를 포위한다. 고온 크라이오패널(18)은 제1 스테이지(22)에 열적으로 접속되어 있다. 따라서 고온 크라이오패널(18)은 제1 온도레벨로 냉각된다.
방사실드(30)는, 크라이오펌프용기(38)의 복사열로부터 크라이오패널 어셈블리(20)를 보호하기 위하여 설치되어 있다. 방사실드(30)는, 크라이오펌프용기(38)와 크라이오패널 어셈블리(20)와의 사이에 있고, 크라이오패널 어셈블리(20)를 둘러싼다. 방사실드(30)는, 실드개구(26)를 구획하는 실드전단(28)과, 실드개구(26)에 대향하는 실드바닥부(34)와, 실드전단(28)으로부터 실드바닥부(34)로 뻗어 있는 실드측부(36)를 구비한다. 실드개구(26)는 흡기구(12)에 위치한다. 방사실드(30)는, 실드바닥부(34)가 폐색된 통형(예를 들면 원통)의 형상을 가지고, 컵형상으로 형성되어 있다.
실드측부(36)에는 냉동기(16)의 장착구멍(37)이 있고, 그 장착구멍(37)으로부터 냉동기(16)의 제2 스테이지(24)가 방사실드(30) 내에 삽입되어 있다. 그 장착구멍(37)의 외주에서 방사실드(30)의 외면에 제1 스테이지(22)가 고정되어 있다. 이렇게 하여 방사실드(30)는 제1 스테이지(22)에 열적으로 접속되어 있다. 다만 방사실드(30)를 제1 스테이지(22)에 접속하기 위한 전열부재가 설치되어 있어도 된다. 이 전열부재는, 1단이 냉동기 장착구멍의 외주부에 고정되고, 타단이 제1 스테이지(22)에 고정된다. 전열부재는, 예를 들면 중공의 짧은 통이며, 냉동기(16)의 중심축을 따라 방사실드(30)와 제1 스테이지(22)와의 사이에 뻗어 있다.
방사실드(30)는, 크라이오패널 어셈블리(20)를 둘러싸는 가스수용공간(50)을 형성한다. 가스수용공간(50)은, 크라이오펌프(10)의 내부공간(14)의 외측 부분이며, 방사실드(30)에 방사방향 내측에 인접하는 영역이다. 가스수용공간(50)은, 축방향으로 실드개구(26)로부터 실드바닥부(34)에 걸쳐서 크라이오패널 어셈블리(20)의 외주를 둘러싼다.
본 실시형태에 있어서는, 방사실드(30)는 도시되는 바와 같은 일체의 통형상으로 구성되어 있다. 이에 반해, 방사실드(30)는, 복수의 파츠에 의하여 전체적으로 통형상의 형상을 이루도록 구성되어 있어도 된다. 이들 복수의 파츠는 서로 간극을 가지고 배치되어 있어도 된다. 예를 들면, 방사실드(30)는 축방향으로 2개의 부분으로 분할되어 있어도 된다. 이 경우, 방사실드(30)의 상부는, 양단이 개방된 통이며, 실드전단(28)과 실드측부(36)의 제1 부분을 구비한다. 방사실드(30)의 하부는, 상단이 개방되고 하단이 폐쇄되어 있으며, 실드측부(36)의 제2 부분과 실드바닥부(34)를 구비한다. 실드측부(36)의 제1 부분과 제2 부분과의 사이에는 둘레방향으로 뻗는 간극이 형성되어 있다. 냉동기(16)의 장착구멍(37)은 그 상반부가 실드측부(36)의 제1 부분에 형성되고, 하반부가 실드측부(36)의 제1 부분에 형성된다.
입구 크라이오패널(32)은, 크라이오펌프(10)의 외부의 열원(예를 들면, 크라이오펌프(10)가 장착되는 진공챔버 내의 열원)으로부터의 복사열로부터 크라이오패널 어셈블리(20)를 보호하기 위하여, 흡기구(12)(또는 실드개구(26), 이하 동일)에 설치되어 있다. 또, 입구 크라이오패널(32)의 냉각 온도에서 응축하는 기체(예를 들면 수분)가 그 표면에 포착된다.
입구 크라이오패널(32)은, 흡기구(12)에 있어서 크라이오패널 어셈블리(20)에 대응하는 장소에 배치되어 있다. 입구 크라이오패널(32)은, 흡기구(12)의 개구면적의 중심부분을 점유하고, 방사실드(30)와의 사이에 환형상의 개방 영역(51)을 형성한다. 개방 영역(51)은, 흡기구(12)에 있어서 가스수용공간(50)에 대응하는 장소에 있다. 가스수용공간(50)이 크라이오패널 어셈블리(20)를 둘러싸도록 내부공간(14)의 외주부에 있으므로, 개방 영역(51)은, 흡기구(12)의 외주부에 위치한다. 개방 영역(51)은 가스수용공간(50)의 입구이며, 크라이오펌프(10)는, 개방 영역(51)을 통하여 가스수용공간(50)에 가스를 받아들인다.
입구 크라이오패널(32)은 장착 부재(도시하지 않음)를 통하여 실드전단(28)에 장착된다. 이렇게 하여 입구 크라이오패널(32)은 방사실드(30)에 고정되어, 방사실드(30)에 열적으로 접속되어 있다. 입구 크라이오패널(32)은 크라이오패널 어셈블리(20)에 근접하고 있지만, 접촉은 하고 있지 않다.
입구 크라이오패널(32)은, 흡기구(12)에 배치되는 평면적인 구조를 구비한다. 입구 크라이오패널(32)은 예를 들면, 평판(예를 들면 원판)의 플레이트를 구비하여도 되고, 동심원형상 또는 격자형상으로 형성된 루버 또는 셰브론을 구비하여도 된다. 입구 크라이오패널(32)은, 흡기구(12)의 전체를 횡단하도록 배치되어 있어도 된다. 그 경우, 개방 영역(51)은, 플레이트의 일부를 결락시키고, 또는, 루버 또는 셰브론의 일부의 날개판을 결락시킴으로써 형성되어 있어도 된다.
크라이오패널 어셈블리(20)는, 크라이오펌프(10)의 내부공간(14)의 중심부에 설치되어 있다. 도 1에 있어서는 크라이오패널 어셈블리(20)가 설치되는 대략적인 영역을 파선으로 나타내고 있다. 예를 들면, 크라이오패널 어셈블리(20)는, 방사실드(30)의 중심축(A)을 포위하는 레이아웃으로 배치된다. 크라이오패널 어셈블리(20)의 상부, 측부, 및 하부는 각각, 입구 크라이오패널(32), 실드측부(36), 및 실드바닥부(34)에 대향한다.
자세하게는 후술하지만, 크라이오패널 어셈블리(20)에 있어서는, 적어도 일부의 표면에 흡착영역(48)(도 2 참조)이 형성되어 있다. 흡착영역(48)은 비응축성 기체(예를 들면 수소)를 흡착에 의하여 포착하기 위하여 설치되어 있다. 흡착영역(48)은 예를 들면 흡착제(예를 들면 활성탄)를 크라이오패널 표면에 접착함으로써 형성된다. 또, 크라이오패널 어셈블리(20)의 적어도 일부의 표면에는 응축성 기체를 응축에 의하여 포착하기 위한 응축 영역이 형성되어 있다. 응축 영역은 예를 들면, 크라이오패널 기재표면(예를 들면 금속면)이 노출되어 있는 영역이며, 바꾸어 말하면 크라이오패널 표면 상에서 흡착제가 결락된 구역이다. 따라서 응축 영역은 비흡착영역이라고 할 수도 있다. 따라서, 크라이오패널 어셈블리(20)는, 그 일부에 응축 영역(또는 비흡착영역이라고도 함)을 가지는 흡착패널 또는 크라이오솝션패널을 구비한다.
도 2는, 본 발명의 일 실시형태에 관한 크라이오패널 어셈블리(20)를 모식적으로 나타내는 측단면도이다. 도 2에 있어서는, 냉동기(16)(도 1 참조)는 도면의 안쪽으로부터 앞쪽을 향하여 배치되어 있다. 또, 도 3 및 도 4는 각각, 크라이오패널 어셈블리(20)의 최상부의 크라이오패널 유닛(58)을 모식적으로 나타내는 상면도 및 측면도이다.
크라이오패널 어셈블리(20)는, 다수의 흡착패널과, 그들 흡착패널을 제2 스테이지(24)에 장착하기 위한 패널장착부재(42)를 구비한다. 크라이오패널 어셈블리(20)는, 패널장착부재(42)를 통하여 제2 스테이지(24)에 장착되어 있다. 이와 같이 하여, 크라이오패널 어셈블리(20)는, 제2 스테이지(24)에 열적으로 접속되어 있다. 따라서, 크라이오패널 어셈블리(20)는 제2 온도레벨로 냉각된다.
패널장착부재(42)는, 설계된 패널 레이아웃을 따라 흡착패널을 고정적으로 배열하고, 제2 스테이지(24)로부터 흡착패널로의 전열경로를 구성하는 요소이다. 패널장착부재(42)는, 흡기구(12)측으로 향해져 있는 상면과, 상면으로부터 하방으로 뻗어 제2 스테이지(24)에 장착되어 있는 측면을 구비한다.
크라이오패널 어셈블리(20)는, 2종류의 흡착패널, 즉 평판패널(60)과 세로판패널(62)을 구비한다. 따라서, 평판패널(60) 및 세로판패널(62)을 각각, 제1 흡착패널 및 제2 흡착패널이라고 할 수도 있다.
크라이오패널 어셈블리(20)는, 복수의 크라이오패널 유닛(58)을 구비하고 있으며, 각 크라이오패널 유닛(58)이 이들 2종류의 흡착패널을 조합하여 구성되어 있다. 복수의 크라이오패널 유닛(58)은 축방향으로 나열되어 있다. 이들 복수의 크라이오패널 유닛(58)은, 인접하는 2개의 크라이오패널 유닛(58)이 근접 또는 접촉하도록 배열되어 있다. 이와 같이 하여, 크라이오패널 어셈블리(20)는, 크라이오패널 유닛(58)의 적층 구조를 구비한다.
크라이오패널 어셈블리(20)는, 제1 패널배열(61)을 형성하는 복수의 평판패널(60)을 구비한다. 이들 복수의 평판패널(60)은, 크라이오펌프(10)의 축방향으로 배열되어 있다. 평판패널(60)의 각각은, 내부공간(14)의 중심부를 횡단하도록 배치되어 있으며, 예를 들면 원형의 평판이다. 평판패널(60)은, 주표면인 전면과 배면을 구비한다. 평판패널(60)의 전면은 실드개구(26)로 향해지고, 평판패널(60)의 배면은 실드바닥부(34)로 향해져 있다.
평판패널(60)은, 중심축(A)으로부터 방사방향 외측을 향하여 뻗어 있다. 평판패널(60)의 중심은 중심축(A) 상에 있고, 따라서 평판패널(60)은 방사실드(30)와 동축으로 배치되어 있다. 평판패널(60)의 외주부는, 방사방향 외측을 향하여 돌출되어 있으며, 실드측부(36)에 대향한다.
복수의 평판패널(60)은, 실드개구(26)가 정하는 개구면에 평행하게 배열되어 있다. 즉, 인접하는 2개의 평판패널(60) 중 흡기구(12)에 가까운 평판패널(60)의 배면과, 흡기구(12)로부터 먼 평판패널(60)의 전면이 평행하게 마주보고 있다. 본 명세서에서는 설명의 편의상, 복수의 평판패널(60) 중 가장 흡기구(12)에 가까운 것을 탑패널(64)이라고 하고, 복수의 평판패널(60) 중 가장 실드바닥부(34)에 가까운 것을 보텀패널(65)이라고 하는 경우가 있다. 탑패널(64)의 전면은, 입구 크라이오패널(32)로 향해져 있다. 한편, 보텀패널(65)의 배면은, 실드바닥부(34)로 향해져 있다.
탑패널(64)은 입구 크라이오패널(32)에 근접하고 있어도 된다. 예를 들면, 탑패널(64)과 그 축방향 하측에 인접하는 평판패널(60)과의 거리보다, 탑패널(64)과 입구 크라이오패널(32)과의 거리가 좁아도 된다. 이와 같이 탑패널(64)을 축방향 상방에 배치함으로써, 실드개구(26)로부터 실드바닥부(34)를 향하여 제1 패널배열(61)로서 다수의 평판패널(60)을 나열할 수 있다. 이것은, 크라이오패널 어셈블리(20)의 흡착영역의 면적을 넓게 하는 것에 도움이 된다.
각 평판패널(60)은 그 중심부에 있어서 패널장착부재(42)에 장착되어 있다. 탑패널(64)이 패널장착부재(42)의 상면에 고정되고, 그 외의 평판패널(60)이 패널장착부재(42)의 측면에 고정되어 있다. 탑패널(64) 이외의 평판패널(60)에는, 패널장착부재(42)를 각 평판패널(60)의 중심부에 삽입하기 위한 개구 또는 절결이 형성되어 있다. 또, 냉동기(16)와 축방향으로 동일한 높이에 위치하는 평판패널(60)에는, 냉동기(16)와의 간섭을 피하기 위한 개구 또는 절결이 형성되어 있다.
복수의 평판패널(60)의 외주부는, 도시되는 바와 같이 동일한 치수(예를 들면 동일한 직경)를 가진다. 그러나, 복수의 평판패널(60)은 각각, 상이한 형상 및/또는 치수(예를 들면 상이한 직경)를 가져도 된다. 복수의 평판패널(60) 중 어느 평판패널(60)은, 그 상방에 인접하는 평판패널(60)과 동일 형상을 가지거나, 또는 그것보다 대형이어도 된다. 그 결과, 보텀패널(65)은 탑패널(64)보다 커도 된다.
또, 1세트의 인접하는 평판패널(60)의 간격은, 도시되는 바와 같이, 다른 1세트의 인접하는 평판패널(60)의 간격과 상이하다. 축방향 상방에 있어서의 평판패널 간격은, 축방향 하방에 있어서의 평판패널 간격보다 좁다. 이들의 간격은, 2개의 평판패널(60)간에 설치되어 있는 세로판패널(62)의 축방향 길이에 의하여 정해진다. 그러나, 복수의 평판패널(60)의 간격은, 일정해도 된다.
인접하는 2개의 평판패널(60)의 간격은, 가스수용공간(50)에 연속하는 개방 부분을 형성한다. 즉, 2개의 평판패널(60)의 간극은, 가스수용공간(50)에 개방되어 있다. 평판패널(60)의 외단과 실드측부(36)와의 사이에는, 기체의 유통을 방해하는 차폐물은 설치되어 있지 않다.
흡착영역(48)은 각 평판패널(60)의 배면의 전체에 형성되어 있다. 또, 흡착영역(48)은 각 평판패널(60)의 전면의 중심부에 형성되어 있다. 단, 탑패널(64)의 전면에는 흡착영역(48)은 형성되어 있지 않다. 따라서, 탑패널(64)의 전면 및 그 외의 평판패널(60)의 전면 외주부에는 응축 영역이 형성되어 있다.
흡착영역과 응축 영역과의 경계는, 평판패널(60)에 투사되는 시선(70)의 궤적에 의하여 정해진다. 이 시선(70)은, 그 평판패널(60)의 바로 위에 인접하는 평판패널(60)의 외주단으로 실드전단(28)으로부터 그어지는 직선이다. 이 외주단으로부터 바로 아래의 평판패널(60)에 시선(70)을 연장하면, 시선(70)이 그 평판패널의 전면에 교차한다. 시선(70)을 실드전단(28)을 따라 이동시켰을 때의 교점의 궤적에 근거하여, 흡착영역(48)과 응축 영역과의 경계를 정할 수 있다. 경계의 내측의 적어도 일부에 흡착영역(48)이 형성되고, 바람직하게는 경계의 내측 전체를 흡착영역(48)이 점유한다. 이와 같이 하여, 각 평판패널(60)의 흡착영역(48)은, 바로 위에 인접하는 평판패널(60)에 덮인다. 각 평판패널(60)의 흡착영역(48)은, 실드개구(26)로부터 실질적으로 시인 불가능하게 정해져 있다.
그런데, 크라이오펌프에 축적된 기체는 통상, 재생 처리에 의하여 실질적으로 완전히 배출되어, 재생 완료 시에는 크라이오펌프는 사양상의 배기 성능으로 회복된다. 그러나, 축적된 기체 중 일부의 성분은 재생 처리를 거쳐도 흡착제에 잔류하는 비율이 비교적 높다.
예를 들면, 이온주입장치의 진공 배기용으로 설치되어 있는 크라이오펌프에 있어서는, 흡착제로서의 활성탄에 점착성의 물질이 부착되는 것이 관찰되었다. 이 점착성 물질은 재생 처리를 거쳐도 완전히 제거되는 것이 곤란하였다. 이 점착성 물질은, 처리 대상 기판에 피복되는 포토레지스트로부터 배출되는 유기계의 아웃 가스에 기인한다고 생각된다. 또는 이온주입처리에서 도펀트 가스 즉 원료 가스로서 사용되는 독성 가스에 기인할 가능성도 있다. 이온주입처리에 있어서의 그 외의 부생성가스에 기인할 가능성도 생각할 수 있다. 이들 가스가 복합적으로 관계하여 점착성 물질이 생성되고 있을 가능성도 있다.
이온주입처리에서는, 크라이오펌프가 배기하는 기체의 대부분은 수소 가스일 수 있다. 수소 가스는 재생에 의하여 실질적으로 완전히 외부로 배출된다. 난재생(難再生) 기체는 미량이면, 1회의 크라이오펌핑 처리에 있어서 크라이오펌프의 배기 성능에 난재생 기체가 주는 영향은 경미하다. 그러나, 크라이오펌핑 처리와 재생 처리를 반복하는 동안에, 난재생 기체는 서서히 흡착제에 축적되어, 배기 성능을 저하시켜 갈 가능성이 있다. 배기 성능이 허용 범위를 하회하였을 때에는, 예를 들면 흡착제 또는 이와 함께 크라이오패널의 교환, 또는 흡착제에 대한 화학적인 난재생 기체 제거 처리를 포함하는 메인터넌스 작업이 필요하다.
난재생 기체는 대략 예외 없이 응축성 기체이다. 외부로부터 크라이오펌프(10)를 향하여 비래(飛來)하는 응축성 기체의 분자는, 개방 영역(51) 및 가스수용공간(50)을 경유하여, 평판패널(60)의 응축 영역 또는 방사실드(30)에 포착된다. 흡기구(12)로의 흡착영역(48)의 노출을 피함으로써, 크라이오펌프(10)에 진입하는 기체에 포함되는 난재생 기체로부터 흡착영역(48)은 보호된다. 난재생 기체는 응축 영역에 퇴적된다. 이렇게 하여, 비응축성 기체의 고속 배기와, 난재생 기체로부터의 흡착영역(48)의 보호를 양립시킬 수 있다. 흡착영역(48)의 노출을 피하는 것은, 수분으로부터 흡착영역을 보호하는 데에도 도움이 된다.
본 실시형태에 있어서는, 흡착영역(48)이 흡기구(12)로부터 시인 불가능하다. 바꿔 말하면, 크라이오패널 어셈블리(20)의 흡착제 총면적 중 시인 가능한 흡착제 면적의 비율인 “흡착제 시인율”이 제로%이다. 그러나, 본 발명은, 흡착제 시인율이 제로%인 구성에는 한정되지 않는다. 흡착제 시인율이 7% 미만인 경우에는, 실질적으로 흡착제가 개구로부터 시인 불가능하다고 평가해도 된다. 일 실시형태에 있어서는, 흡착제 시인율이 7% 미만, 5% 미만, 또는 3% 미만인 것이 바람직하다. 그러나, 예를 들면 난재생 기체의 함유량이 충분히 낮다고 예측되는 경우, 또는 노출된 흡착제를 희생하는 것이 허용되는 경우에는, 7%를 넘는 흡착제가 개구로부터 보여도 된다.
본 출원인이 먼저 제안한 크라이오펌프도 또한, 비응축성 기체의 고속 배기에 적합한 크라이오패널 어셈블리, 또는 복수의 크라이오솝션패널의 배열을 구비한다. 이러한 크라이오패널 어셈블리를 본 실시형태에 관한 크라이오펌프(10)의 제1 패널배열(61)로서 이용해도 된다. 본 출원인이 먼저 제안한 크라이오펌프는, 예를 들면, 일본 특허공개공보 2012-237262호, 미국 특허출원공개 제2013/0008189호에 개시되어 있다. 이들 전체가 본원 명세서에 참조에 의하여 원용된다.
또한, 크라이오패널 어셈블리(20)는, 제2 패널배열(63)을 형성하는 복수의 세로판패널(62)을 구비한다. 제2 패널배열(63)은 평판패널(60)마다 형성되어 있다. 따라서, 크라이오패널 어셈블리(20)는, 평판패널(60)의 수에 동일한 복수의 제2 패널배열(63)을 구비한다.
복수의 세로판패널(62)은, 대응하는 평판패널(60)의 하측에 배열되어 있다. 따라서, 복수의 제2 패널배열(63)의 각각은, 인접하는 2개의 평판패널(60)의 사이에 있다. 단, 보텀패널(65)에 대응하는 복수의 세로판패널(62)은, 보텀패널(65)과 실드바닥부(34)와의 사이에 있다.
복수의 세로판패널(62)은, 크라이오펌프(10)의 둘레방향으로 배열되어 있다. 세로판패널(62)은 예를 들면, 다각형의 플레이트이며, 예를 들면 삼각형(또는, 정사각형, 직사각형, 또는 사다리꼴과 같은 사각형)의 플레이트이다. 세로판패널(62)은 그 주표면을 둘레방향을 향하게 하여 배치되어 있다. 따라서, 복수의 세로판패널(62)은, 인접하는 2개의 세로판패널(62)이 둘레방향으로 마주 보도록 배열되어 있다. 세로판패널(62)은, 축방향 및 방사방향을 따라 뻗어 있다. 세로판패널(62)은, 예를 들면 등각도 간격으로 배열되어 있다.
세로판패널(62)의 외측 가장자리부는, 방사방향 외측을 향하여 돌출되어 있으며, 실드측부(36)에 대향한다. 세로판패널(62)은, 실드개구(26)가 정하는 개구면에 수직으로 배치되어 있다. 세로판패널(62)은, 중심축(A)으로부터 방사형상으로 배열되어 있다. 세로판패널(62)은, 패널장착부재(42)의 외측에 배치되어 있다.
복수의 제2 패널배열(63)의 각각은, 세로판패널(62)의 동일 배열을 가진다. 이로 인하여, 어느 제2 패널배열(63)은, 거기에 인접하는 제2 패널배열(63)과 공통의 각도 위치에 세로판패널(62)을 가진다. 따라서, 어느 평판패널(60)의 위에 인접하는 세로판패널(62)과, 그 평판패널(60)의 아래에 인접하는 세로판패널(62)이, 축방향으로 연속하는 단일의 세로판패널을 형성하고 있어도 된다. 다만, 복수의 제2 패널배열(63)은 서로 상이한 배열을 가져도 된다. 예를 들면, 어느 제2 패널배열(63)의 세로판패널(62)과 인접하는 제2 패널배열(63)의 세로판패널(62)이 둘레방향으로 서로 다르게 나열되어 있어도 된다.
세로판패널(62)은 대응하는 평판패널(60)의 배면에 장착되어, 평판패널(60)로부터 하향으로 돌출하고 있다. 세로판패널(62)은 평판패널(60)을 통하여 패널장착부재(42)에 열적으로 접속되어 있다. 세로판패널(62)은, 그 아래에 인접하는 평판패널(60)에는 장착되어 있지 않다. 이와 같이 하여, 제2 패널배열(63)과 그 바로 위의 평판패널(60)에 의하여 크라이오패널 유닛(58)이 구성되어 있다. 냉동기(16)와 축방향으로 동일한 높이에 위치하는 크라이오패널 유닛(58)에 있어서는, 냉동기(16)와의 간섭을 피하기 위하여 일부의 세로판패널(62)이 결락되어 있어도 된다.
세로판패널(62)의 형상은, 평판패널(60)에 투사되는 시선(70)의 궤적에 따라 정해도 된다. 시선(70)을 실드전단(28)을 따라 이동시켰을 때의 시선(70)의 궤적에 근거하여, 세로판패널(62)의 형상을 정할 수 있다. 이 시선(70)의 궤적은, 실드전단(28) 및 평판패널(60)이 원형인 경우, 원추 측면을 형성한다. 예를 들면, 시선(70)의 궤적이 형성하는 영역의 내측에 세로판패널(62)의 적어도 일부가 수용되도록, 세로판패널(62)의 형상을 정한다. 바람직하게는, 시선(70)의 궤적이 형성하는 영역의 내측에 세로판패널(62)의 전체가 수용되도록, 세로판패널(62)의 형상을 정한다. 이와 같이 하여, 세로판패널(62)은, 바로 위에 인접하는 평판패널(60)에 덮인다. 세로판패널(62)은, 실드개구(26)로부터 실질적으로 시인 불가능하게 정해진 형상을 가진다.
세로판패널(62)의 형상은, 실드개구(26)로부터의 거리에 따라 상이하다. 도시되는 실시형태에 있어서는, 탑패널(64)의 아래의 세로판패널(62)은 직각삼각형이다. 이 삼각형세로판패널은, 그 경사변이 방사방향 외측을 향하고 있다. 다른 2변의 일방이 탑패널(64)의 배면에 지지되어 있으며, 타방이 방사방향 내측으로 향해져 패널장착부재(42)에 근접하고 있다. 세로판패널(62)은 패널장착부재(42)에 장착되어 있어도 된다. 또, 탑패널(64) 이외의 평판패널(60)의 아래의 세로판패널(62)은 직각 사다리꼴이다. 이 사다리꼴 패널도 삼각형 패널과 마찬가지로, 경사변이 방사방향 외측을 향하고 있다. 사다리꼴 패널의 장변(윗변)이 평판패널(60)의 배면에 지지되어 있으며, 단변(아랫변)이 축방향 하방으로 향해져 있다.
복수의 제2 패널배열(63)은, 공통되는 형상을 가지는 세로판패널(62)을 구비하여도 된다. 예를 들면, 각 제2 패널배열(63)이 직사각형 또는 직각 사다리꼴의 세로판패널(62)을 구비하여도 된다. 이 경우, 방사방향 외측으로 향해진 세로판패널(62)의 변에 시선(70)이 교차하도록 세로판패널(62)의 형상 및 배치가 정해져 있어도 된다. 이와 같이 하여도, 세로판패널(62)의 대부분의 부분을 평판패널(60)에 의하여 덮을 수 있다.
흡착영역(48)은 각 세로판패널(62)의 양면의 전체에 형성되어 있다. 각 세로판패널(62)의 흡착영역(48)은, 실드개구(26)로부터 실질적으로 시인 불가능하다. 다만, 세로판패널(62)의 일부분이 실드개구(26)로부터 시인 가능한 경우에는, 평판패널(60)과 마찬가지로 하여, 흡착영역과 응축 영역과의 경계를 시선(70)을 이용하여 정해도 된다.
이와 같이 하여, 크라이오패널 어셈블리(20)에 있어서는 다수의 흡착패널이 격자형상으로 배열되어 있다. 복수의 평판패널(60)은, 복수의 제2 패널배열(63)과 교대로 나열되어 있다. 세로판패널(62)은 평판패널(60)에 대해 각도를 이루며 배치되어 있다. 이와 같이 하여, 제1 패널배열(61)은, 복수의 제2 패널배열(63)과 협동하여 다수의 흡착구획(44)(도 3 및 도 4 참조)을 형성한다. 다수의 흡착구획(44)은 격자형상으로 배열된다.
다수의 흡착구획(44)은, 각 흡착구획(44)이 실드측부(36)에 노출되도록 이차원적으로 배열되어 있다. 다수의 흡착구획(44)은, 복수의 흡착구획열을 형성하고, 그들 복수의 흡착구획열이 실드개구(26)와 실드바닥부(34)와의 사이에서 중층적으로 배치되어 있다. 이와 같이 하여, 크라이오패널 어셈블리(20)는, 세로방향 및 가로방향으로 나열되는 매트릭스형상의 흡착구획(44)의 배열을 구비한다.
복수의 평판패널(60)의 각각은, 대응하는 제2 패널배열(63)에 축방향 상방에서 인접한다. 이와 같이, 각 평판패널(60)은, 대응하는 제2 패널배열(63)을 덮는 커버 부재이다. 제2 패널배열(63)의 복수의 세로판패널(62)은, 평판패널(60)간을 구획하는 파티션 부재이다. 각 세로판패널(62)은, 축방향 상방 및 하방에 인접하는 2개의 평판패널(60)의 사이를 복수의 흡착구획(44)으로 스트립형상으로 구획하도록, 그들 2개의 평판패널(60)간에서 축방향으로 뻗어 있다. 이들 복수의 흡착구획(44)은 둘레방향으로 배열되어 있으며, 1개의 흡착구획열을 형성한다.
각 흡착구획(44)은, 그 흡착구획(44)을 덮는 천장부와, 인접한 흡착구획(44)과의 사이에 있는 측벽부와, 실드측부(36)에 노출되어 있는 개구부를 구비한다. 천장부는 평판패널(60)에 의하여 제공되고, 측벽부는 세로판패널(62)에 의하여 제공된다. 개구부는, 가스수용공간(50)으로부터 흡착구획(44)으로의 가스 입구이다. 개구부는, 실드측부(36)로부터 보아 직사각형이다. 개구부는, 가스수용공간(50)에 개방되어 있으며, 흡착구획(44)과 실드측부(36)와의 사이에는 기체의 유통을 방해하는 차폐물은 설치되어 있지 않다.
다만, 개개의 평판패널(60)이 복수의 패널편으로 분할되어 있어도 된다. 이 경우, 개개의 패널편이 대응하는 흡착구획(44)의 천장부를 제공하여도 된다. 또, 흡착구획(44)의 개구부는, 직사각형 이외의 형상을 가져도 된다. 예를 들면, 흡착구획(44)의 개구부는 육각형이며, 크라이오패널 어셈블리(20)는 벌집형상의 흡착패널 격자를 구비하여도 된다. 이 경우, 흡착구획(44)의 측벽부는, 천장부에 대해 경사져 있어도 된다.
도 5는, 본 발명의 일 실시형태에 관한 비응축성 기체의 진공배기방법을 설명하기 위한 도이다. 상술과 같이, 크라이오펌프(10)는, 실드측부(36)에 면하는 격자형상 흡착패널배열을 구비한다. 흡착패널의 격자형상 배열은, 실드측부(36)에 노출되어 있는 다수의 흡착구획(44)을 구비한다. 이 진공배기방법은, 크라이오펌프(10)의 방사실드(30)와 크라이오패널 어셈블리(20)와의 사이에 비응축성 기체분자를 받아들이는 것과, 격자형상 흡착패널배열에 비응축성 기체분자를 흡착하는 것을 포함한다. 이 방법은, 방사실드(30)와 크라이오패널 어셈블리(20)와의 사이에 받아들인 비응축성 기체분자를, 실드측부(36)에서 반사하는 것을 구비하여도 된다. 반사된 비응축성 기체분자가, 다수의 흡착구획(44) 중 어느 것에 흡착된다.
실드측부(36)에서 반사된 비응축성 기체분자의 크라이오패널 어셈블리(20)로의 진입 각도가 수평에 가까운 경우가 있다. 가령, 세로판패널(62)이 설치되어 있지 않은 경우에는, 도 5에 있어서 파선의 화살표(P)로 나타내는 바와 같이, 비응축성 기체분자가 평판패널(60) 사이를 지나 크라이오패널 어셈블리(20)를 통과할지도 모른다. 그러나, 본 실시형태에 의하면, 도 5에 있어서 실선의 화살표(Q)로 나타내는 바와 같이, 작은 각도로 크라이오패널 어셈블리(20)에 진입하는 비응축성 기체분자를 세로판패널(62)로 포착할 수 있다.
본 실시형태에 의하면, 흡착패널이 격자형상으로 배열되어 있다. 이로 인하여, 어느 흡착패널(예를 들면 평판패널(60))이 다른 어느 흡착패널(예를 들면 세로판패널(62))과 교차하는 각도를 가진다. 이로 인하여, 어느 흡착패널(예를 들면 평판패널(60))을 따라 그 근방을 통과하는 기체분자의 경로 상에 다른 흡착패널(예를 들면 세로판패널(62))이 존재할 수 있다. 따라서, 비응축성 기체분자의 흡착패널과의 접촉 확률을 높게 할 수 있다. 따라서, 비응축성 기체분자의 배기 속도를 크게 할 수 있다.
본 출원인이 먼저 제안한 크라이오펌프에 비해, 본 실시형태에 의한 격자형상 흡착패널배열을 가지는 크라이오펌프는, 또한, 수소 가스의 배기 속도가 대략 20% 뛰어난 것이, 몬테카를로법에 근거하는 시뮬레이션에 의하여 확인되고 있다.
또, 어느 진공 시스템에는 다수의 크라이오펌프가 설치되는 경우가 있다. 본 실시형태에 의한 크라이오펌프를 사용함으로써, 크라이오펌프의 설치 대수를 줄일 수 있다. 즉, 적은 대수의 크라이오펌프로 동등한 배기 속도를 달성할 수 있다. 예를 들면, 4대의 크라이오펌프를 3대의 크라이오펌프로 대체하는 경우에는, 크라이오펌프 시스템에 필요로 하는 비용은 대략 3/4으로 저감된다. 따라서, 진공 시스템을 구성하기 위한 전체비용을 크게 줄일 수 있다.
또, 본 실시형태에 의하면, 다수의 세로판패널(62)을 추가함으로써, 대면적의 흡착영역(48)을 크라이오패널 어셈블리(20)에 형성할 수 있다. 따라서, 비응축성 기체분자의 흡장량을 크게 할 수 있다.
이상, 본 발명을 실시예에 근거하여 설명하였다. 본 발명은 상기 실시형태에 한정되지 않고, 다양한 설계 변경이 가능하며, 다양한 변형예가 가능한 것, 또 그러한 변형예도 본 발명의 범위에 있는 것은, 당업자에게 이해되는 바이다.
상술의 실시형태에서는, 탑패널(64)은 그 전면에 흡착영역(48)을 가지고 있지 않다. 그러나, 탑패널(64)의 전면에 흡착영역(48)이 형성되어 있어도 된다. 예를 들면, 탑패널(46)은, 흡기구(12) 또는 입구 크라이오패널(32)을 향하여 돌출하여 뻗는 부분을 가져도 된다. 이러한 연장 부분의 표면에 흡착영역이 형성되어 있어도 된다. 또, 탑패널(64) 이외의 평판패널(60)에 대해서도 마찬가지로, 축방향 상방 또는 하방을 향하여 돌출하여 뻗는 부분을 예를 들면 외주부에 가져도 된다.
본 발명의 실시형태는 이하와 같이 표현할 수도 있다.
1. 실드개구를 구획하는 실드전단과, 실드바닥부와, 상기 실드전단과 상기 실드바닥부와의 사이에 뻗어 있는 실드측부를 구비하는 방사실드와,
복수의 제1 흡착패널을 구비하는 제1 패널배열과, 각각이 복수의 제2 흡착패널을 구비하는 복수의 제2 패널배열을 구비하고, 상기 방사실드보다 저온으로 냉각되는 크라이오패널 어셈블리를 구비하며,
상기 제1 패널배열은, 각각이 상기 실드측부에 노출되어 있는 다수의 흡착구획을, 상기 복수의 제2 패널배열과 협동하여 격자형상으로 형성하는 것을 특징으로 하는 크라이오펌프.
2. 상기 복수의 제1 흡착패널 및 상기 복수의 제2 흡착패널의 각각은, 상기 실드개구로부터 실질적으로 시인 불가능하게 정해져 있는 흡착영역을 구비하는 것을 특징으로 하는 실시형태 1에 기재된 크라이오펌프.
3. 상기 복수의 제2 흡착패널의 각각은, 상기 실드개구로부터 실질적으로 시인 불가능하게 정해진 형상을 가지는 것을 특징으로 하는 실시형태 1 또는 2에 기재된 크라이오펌프.
4. 상기 복수의 제1 흡착패널이 상기 복수의 제2 패널배열과 교대로 나열되고, 상기 복수의 제2 흡착패널이 상기 복수의 제1 흡착패널에 대해 각도를 이루며 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 실시형태 1 내지 3 중 어느 것에 기재된 크라이오펌프.
5. 상기 복수의 제1 흡착패널은, 제1 흡착패널 각각의 전면을 상기 실드개구를 향하도록 하여 상기 크라이오펌프의 축방향으로 배열되어 있으며,
상기 복수의 제2 흡착패널은, 인접하는 2개의 제2 흡착패널이 마주 보도록 하여 상기 축방향을 둘러싸는 둘레방향으로 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 실시형태 1 내지 4 중 어느 것에 기재된 크라이오펌프.
6. 상기 복수의 제2 흡착패널은, 실드개구측에서 인접하는 제1 흡착패널로부터 실드바닥부측으로 돌출하도록 그 제1 흡착패널에 장착되어 있는 것을 특징으로 하는 실시형태 1 내지 5 중 어느 것에 기재된 크라이오펌프.
10: 크라이오펌프
20: 크라이오패널 어셈블리
26: 실드개구
28: 실드전단
30: 방사실드
34: 실드바닥부
36: 실드측부
44: 흡착구획
48: 흡착영역
50: 가스수용공간
60: 평판패널
61: 제1 패널배열
62: 세로판패널
63: 제2 패널배열

Claims (8)

  1. 실드개구를 구획하는 실드전단과, 실드바닥부와, 상기 실드전단과 상기 실드바닥부와의 사이에 뻗어 있는 실드측부를 구비하는 방사실드와,
    복수의 제1 흡착패널을 구비하는 제1 패널배열과, 각각이 복수의 제2 흡착패널을 구비하는 복수의 제2 패널배열을 구비하고, 상기 방사실드보다 저온으로 냉각되는 크라이오패널 어셈블리를 구비하며,
    상기 제1 패널배열은, 각각이 상기 실드측부에 노출되어 있는 다수의 흡착구획을, 상기 복수의 제2 패널배열과 협동하여 격자형상으로 형성하는 것을 특징으로 하는 크라이오펌프.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 제1 흡착패널 및 상기 복수의 제2 흡착패널의 각각은, 상기 실드개구로부터 시인 불가능하게 정해져 있는 흡착영역을 구비하는 것을 특징으로 하는 크라이오펌프.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 복수의 제2 흡착패널의 각각은, 상기 실드개구로부터 시인 불가능하게 정해진 형상을 가지는 것을 특징으로 하는 크라이오펌프.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 복수의 제1 흡착패널이 상기 복수의 제2 패널배열과 교대로 나열되고, 상기 복수의 제2 흡착패널이 상기 복수의 제1 흡착패널에 대해 각도를 이루며 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 크라이오펌프.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 복수의 제1 흡착패널은, 제1 흡착패널 각각의 전면을 상기 실드개구를 향하도록 하여 상기 크라이오펌프의 축방향으로 배열되어 있으며,
    상기 복수의 제2 흡착패널은, 인접하는 2개의 제2 흡착패널이 마주 보도록 하여 상기 축방향을 둘러싸는 둘레방향으로 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 크라이오펌프.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 복수의 제2 흡착패널은, 실드개구측에서 인접하는 제1 흡착패널로부터 실드바닥부측으로 돌출하도록 그 제1 흡착패널에 장착되어 있는 것을 특징으로 하는 크라이오펌프.
  7. 크라이오펌프의 방사실드와 상기 방사실드보다 저온으로 냉각되는 크라이오패널 어셈블리와의 사이에 비응축성 기체분자를 받아들이는 단계와,
    상기 크라이오패널 어셈블리의 격자형상 흡착패널배열에 비응축성 기체분자를 흡착하는 단계를 포함하고,
    상기 격자형상 흡착패널배열은, 각각이 상기 방사실드의 측부에 노출되어 있는 다수의 흡착구획을 구비하는 것을 특징으로 하는 비응축성 기체의 진공배기방법.
  8. 실드개구를 구획하는 실드전단과, 실드바닥부와, 상기 실드전단과 상기 실드바닥부와의 사이에 뻗어 있는 실드측부를 구비하는 방사실드와,
    상기 실드개구와 상기 실드바닥부와의 사이에서 중층적으로 배치되어 있는 복수의 흡착구획열을 구비하고, 상기 방사실드보다 저온으로 냉각되는 크라이오패널 어셈블리를 구비하며,
    상기 복수의 흡착구획열의 각각은, 복수의 흡착구획을 구비하고,
    상기 복수의 흡착구획의 각각은, 그 흡착구획을 덮는 천장부와, 상기 실드측부에 노출되어 있는 개구부를 구비하는 것을 특징으로 하는 크라이오펌프.
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