KR20140108612A

KR20140108612A - 리드 전극 및 이의 제조방법

Info

Publication number: KR20140108612A
Application number: KR1020137028842A
Authority: KR
Inventors: 페이 쭤우; 유롱 가오; 미아오첸 차오; 홍웨이 강
Original assignee: 난창 오-필름 테크 컴퍼니 리미티드
Priority date: 2013-02-04
Filing date: 2013-07-05
Publication date: 2014-09-12
Also published as: CN103425366A; WO2014117478A1; TWI553813B; KR101558724B1; JP2015508550A; CN103425366B; TW201432868A; JP5923628B2

Abstract

리드 전극 및 이의 제조방법이 제공된다. 상기 리드 전극은 연속적으로 연결되는 내부 터미널, 리드, 외부 터미널을 포함한다. 상기 리드는 절연 기판; 상기 절연 기판 상에 코팅된 트렌치 메쉬(trenched mesh)를 정의하는 접착 재료; 및 상기 트렌치 메쉬의 격자 선과 디몰딩 방향(demolding direction)에 의해 형성된 각도는 0°에서 90°까지인, 상기 트렌치 메쉬 내에 충진된 도전 재료;를 포함한다. 상기 격자 선 및 상기 디몰딩 방향에 의해 형성된 각도가 매우 작아서, 적은 접착 재료가 상기 몰드에 부착될 것이므로, 상기 접착 재료의 잔여물이 방지된다.

Description

리드 전극 및 이의 제조방법{LEAD ELECTRODE AND PREPARATION METHOD THEREOF}

본 발명은 리드 전극 및 이의 제조방법에 관한 것이다.

발명의 배경

정보 입력 장치의 새로운 방법으로서, 정전용량 터치 스크린(capacitive touch screens)은 터치 스크린 폰, GPS 내비게이션 시스템 등과 같은 정보 제품들의 모든 종류에 널리 사용되고 있다.

전통적인 정전용량 터치 스크린은 기판, 상기 기판 상에 증착된 ITO 투명 도전막, 상기 기판 상에 증착된 금속 리드 전극 층, 상기 ITO 투명 전극 및 상기 금속 리드 전극 층을 덮는 실리콘 산화막, 및 상기 실리콘 산화막을 덮는 투명 수지막을 주로 포함한다. 상기 ITO 투명 도전막은 정전용량 센서를 형성하고, 상기 금속 리드 전극 층은 연성 회로판에 X 방향을 따라 상기 ITO 투명 전극을 연결하고, 상기 ITO 전극의 끝은 상기 연성 회로판에 Y 방향을 따라 ITO 투명 전극을 연결한다; 상기 실리콘 산화막 및 상기 수지막은 상기 터치 스크린 장치의 신뢰성 및 내구성을 향상시키는데 사용된다.

상기 리드 전극 도전막의 생산 공정은 맨 먼저 기판 상에 UV 접착제 또는 임프린트 접착제(imprint adhesive)를 코팅하는 단계, 그 다음 상기 기판에 몰드를 부착, 경화 및 디몰딩(demolding)하는 단계를 포함한다. 그러나, 상기 접착제로부터 상기 몰드의 디몰딩 동안에, 약간의 접착 재료가 상기 몰드 상에 남아있는데, 이것은 몰드의 사용에 영향을 미치거나, 생산 공정을 멈추도록 야기할 것이다. 게다가, 상기 전통적인 도전 리드의 메쉬 셀(mesh cell)의 영역은 비교적 작은데, 이것은 상기 몰드 및 상기 접착제의 디몰딩의 어려움을 추가로 야기할 것이다.

도 1은 리드 전극의 구현예의 도식도(schematic view)이다.
도 2는 도 1의 리드 전극의 부분적인 확대도(enlarged view)이다.
도 3은 제1 구현예의 리드의 단면도이다.
도 4는 제1 구현예에 따른 리드의 도식도이다.
도 5는 도 4의 리드의 메쉬 셀의 도식도이다.
도 6은 도 4의 리드의 디몰딩 방향을 보여주는 도식도이다.
도 7a는 제2 구현예에 따른 리드의 도식도이다.
도 7b는 도 7a의 리드의 메쉬 셀의 도식도이다.
도 7c는 도 7a의 리드의 메쉬 셀의 도식 중첩도(schematic overlay view)이다.
도 8a는 제3 구현예에 따른 리드의 도식도이다.
도 8b는 모서리 내에 도 8a의 리드의 메쉬의 도식도이다.
도 9는 도 8a의 리드의 디몰딩 방향을 보여주는 도식도이다.
도 10a는 제4 구현예에 따른 리드의 도식도이다.
도 10b는 제5 구현예에 따른 리드의 도식도이다.
도 11은 리드 전극을 제조하는 방법의 구현예의 흐름도이다.

발명의 요약

상기 접착 재료의 잔여물을 방지할 수 있는 리드 전극 및 이의 제조 방법을 제공하는 것이 본 발명의 목적이다.

리드 전극은 연속적으로 연결되는 내부 터미널, 리드 및 외부 터미널을 포함한다. 상기 리드는 절연 기판; 상기 절연 기판 상에 코팅된 트렌치 메쉬(trenched mesh)를 정의하는 접착 재료; 및 상기 트렌치 메쉬의 격자 선과 디몰딩 방향(demolding direction)에 의해 형성된 각도는 0°에서 90°까지인, 상기 트렌치 메쉬 내에 충진된 도전 재료;를 포함한다.

일 구현예에 있어서, 상기 트렌치 메쉬의 격자 선과 디몰딩 방향에 의해 형성된 각도는 45°이다.

일 구현예에 있어서, 상기 트렌치 메쉬는, 같은 크기를 가진 다수의 직사각형 메쉬 셀들을 밀접하게 배열함으로써 형성된다.

일 구현예에 있어서, 두 개의 인접한 직사각형 메쉬 셀들의 두 개의 긴 측면들은 서로 수직이다.

일 구현예에 있어서, 각각의 직사각형 메쉬 셀은, 연속적으로 연결되는 두 개의 짧은 측면들 및 두 개의 긴 측면들을 포함하고, 상기 짧은 측면의 길이는 상기 긴 측면의 길이의 절반이다.

일 구현예에 있어서, 상기 트렌치 메쉬는, 다수의 사변형(quadrilateral) 메쉬 셀들을 밀접하게 배열함으로써 형성되고, 각각의 사변형 메쉬 셀은 두 개의 직선들 및 상기 두 개의 직선들의 두 끝들을 연결하는 두 개의 파선들(wavy lines)을 포함한다.

일 구현예에 있어서, 상기 트렌치 메쉬는, 같은 크기를 가진 다수의 육각형 또는 평평한 육각형 메쉬 셀들을 밀접하게 배열함으로써 형성된다.

일 구현예에 있어서, 상기 내부 터미널 및 상기 외부 터미널은 트렌치 메쉬들이다.

리드 전극의 제조 방법은 절연 기판 상에 접착 재료를 코팅하는 단계; 상기 접착 재료에 메쉬를 가지는 몰드(mold)를 부착하고, 상기 접착 재료를 경화하는 단계; 수평 X-축 방향 또는 상기 수평 X-축 방향에 수직인 수평 Y- 축 방향을 따라 몰드를 디몰딩하고(demolding), 상기 접착 재료 상에 트렌치 메쉬를 형성하는 단계로서, 상기 트렌치 메쉬의 격자 선과 상기 수평 X-축 방향에 의해 형성된 각도가 0°에서 90°까지인 단계; 리드(lead)를 형성하도록 상기 트렌치 메쉬 안으로 도전 재료를 충진하는 단계; 및 내부 터미널 및 외부 터미널에 상기 리드의 두 끝들을 각각 연결하고, 리드 전극을 형성하는 단계;를 포함한다.

일 구현예에 있어서, 상기 트렌치 메쉬의 격자 선과 상기 수평 X-축 방향에 의해 형성되는 각도는 45°이다.

일 구현예에 있어서, 상기 트렌치 메쉬는, 같은 크기의 다수의 직사각형 메쉬 셀들을 밀접하게 배열함으로써 형성된다.

일 구현예에 있어서, 각각의 상기 직사각형 셀들은, 연속적으로 연결되는 두 개의 짧은 측면들 및 두 개의 긴 측면들을 포함하고, 상기 짧은 측면의 길이는 상기 긴 측면의 길이의 절반이다.

일 구현예에 있어서, 상기 트렌치 메쉬는, 다수의 사변형 메쉬 셀들을 밀접하게 배열함으로써 형성되고, 각각의 사변형 메쉬 셀은 두 개의 직선들 및 상기 두 개의 직선들의 두 끝들을 연결하는 두 개의 파선들을 포함한다.

일 구현예에 있어서, 상기 내부 터미널 및 외부 터미널은 트렌치 메쉬들이다.

기술된 제조 방법에 있어서, 상기 트렌치 메쉬의 격자 선과 디몰딩 방향(demolding direction)에 의해 형성된 각도는 0°에서 90°까지이다. 상기 격자 선과 상기 디몰딩 방향에 의해 형성된 각도가 매우 작아서, 적은 접착 재료가 상기 몰드에 부착될 것이므로, 상기 접착 재료의 잔여물이 방지된다.

구현예들의 상세한 설명

본 발명은 도면과 함께 아래에 더 자세히 서술될 것이다. 본 발명의 설명적인 구현예들은 아래에 서술된다. 다음의 설명은 이들 구현예들에 대한 완전한 이해와 이에 대한 서술을 가능하게 하기 위한 상세한 설명을 제공한다. 당해 기술의 숙련된 기술자는 본 발명이 그러한 설명 없이 실행될 수도 있다는 것을 이해할 것이다. 다른 예시들에 있어서, 잘 알려진 구조들 및 기능들은 구현예들의 설명을 불필요하게 모호하게 하는 것을 피하기 위해 상세히 기술되지 않거나 또는 보여지지 않는다.

도 1을 참고하면, 리드 전극(1)의 제1 구현예는, 연속적으로 연결되는, 내부 터미널(11), 리드(12) 및 외부 터미널(13)을 포함한다. 상기 내부 터미널(11) 및 외부 터미널(13)은 상기 리드(12)에 의해 연결된다. 도 2는 12'로 나타내는 상기 외부 터미널(13)이 도 1의 리드(12)에 연결되는 부분의 부분적인, 확대도이다. 도 2를 참고하면, 설명된 구현예에 있어서, 상기 외부 터미널(131)의 수는 6이고, 각각의 외부 터미널(131)은 리드(121)에 연결되고, 6개의 내부 터미널들(11)은 6개의 리드들(121)을 통해 6개의 외부 터미널들(131)에 각각 연결된다. 각각의 리드(121)는 10 ㎛ 내지 200 ㎛의 폭을 가진다.

도 3을 참고하면, 상기 리드(121)는 절연 기판(14) 및 상기 절연 기판(14) 상에 코팅된 접착 재료(15)를 포함한다. 상기 절연 기판(14)은 PET로 만들어질 수도 있다. 상기 접착 재료(15)는 UV 아크릴 접착제로 만들어질 수도 있다. 상기 접착 재료(15)는 트렌치 메쉬(151)를 정의한다. 상기 리드(121)는 상기 트렌치 메쉬(151) 내에 충진된 도전 재료(16)를 더 포함한다. 상기 도전 재료는 은 또는 구리일 수도 있다.

도 4는, 도 1의 리드(121)의 모서리의 부분적인, 확대도로 간주될 수 있는, 제1 구현예에 따른 리드의 도식도이다.

도 4에 보여지는 것처럼, 리드(3)는 트렌치 메쉬에 의해 형성된 격자 선들(31) 및 상기 격자 선들(31) 이내에 위치된 블랭크 영역(32)을 포함한다. 상기 트렌치 메쉬는 같은 크기의 다수의 직사각형 메쉬 셀들을 밀접하게 배열함으로써 형성되는데, 각각의 상기 직사각형 메쉬 셀은 240㎛² 내지 10⁴ ㎛²의 면적을 가진다. 상기 도 4에 보여지는 것처럼, 상기 격자 선(31) 및 수평 X-축 방향(즉, 디몰딩 방향)에 의해 형성된 각도는 45°이고, 대안적 구현예에 있어서, 상기 각도는 0°에서 90°까지의 어느 각도일 수도 있다.

도 5를 참고하면, 상기 메쉬 셀(4)은 직사각형 메쉬이다. 상기 메쉬 셀(4)은 꼭지점들(41-a, 41-b, 41-c, 41-d) 및 격자 선들(43-a, 43-b, 43-c, 및 43-d)을 가진다. 상기 메쉬 셀(4)은 시작 지점으로서 꼭지점(41-a)을 사용하고, 상기 격자 선(43-a)은 상기 꼭지점(41-a)에서 꼭지점(41-b)까지 확장한다; 상기 격자 선(43-b)은 상기 꼭지점(41-b)에서 꼭지점(41-c)까지 확장한다; 상기 격자 선(43-c)은 상기 꼭지점(41-c)에서 꼭지점(41-d)까지 확장한다; 상기 격자 선(43-d)은 상기 꼭지점(41-d)에서 꼭지점(41-a)까지 확장하여, 상기 메쉬 셀(4)이 형성된다. 게다가, 상기 메쉬 셀의 짧은 측면은 그 다음 메쉬 셀을 형성하기 위해 반복되도록 메쉬 셀의 짧은 측면으로서 그에 상응하게 사용되어, 도 4에 보여진 메쉬 어레이(34)가 얻어진다. 상기 메쉬 셀의 긴 측면의 두 꼭지점들 사이에 상기 격자 선(43-a)의 임의 지점은 다음 메쉬 셀의 꼭지점으로서 위의 기술된 단계들에 따른 상기 다음 메쉬 셀을 형성하도록 선택되고, 상기 다음 메쉬 셀은 상기 메쉬 셀(4)의 격자 선(43-a)을 가진 긴 측면을 공유하고, 도 4에 보여진 메쉬 어레이(35)가 얻어진다. 상기 메쉬 어레이(34) 및 상기 메쉬 어레이(35)는 협력하여 메쉬 시퀀스(mesh sequence)(36)를 형성한다.

도 11을 참고하면, 위의 기술된 상기 리드 전극의 제조 방법의 구현예는 다음의 단계들을 포함한다:

S101 단계, 접착 재료는 절연 기판 상에 코팅된다.

상기 절연 기판은 PET로 구성될 수 있다. 상기 접착 재료는 UV 아크릴 접착제로 구성될 수 있다.

S102 단계, 메쉬를 가지는 몰드는 접착 재료에 부착되고, 상기 접착 재료는 경화된다.

상기 몰드는 얇은 니켈(Ni) 포일(foil)일 수 있다. 상기 몰드는 상기 트렌치 메쉬에 따른 패턴으로 제공될 수 있다. 상기 접착 재료를 경화한 후, 상기 패턴은 상기 접착 재료 내에 내장된다.

S103 단계, 상기 몰드는 수평 X-축 방향 또는 상기 수평 X-축 방향에 수직인 수평 Y-축 방향을 따라 디몰드되고, 트렌치 메쉬는 상기 접착 재료 상에 형성된다. 상기 트렌치 메쉬 및 상기 수평 X-축 방향의 격자 선에 의해 형성된 각도는 0°에서 90°까지이다.

도 6을 참고하면, 디몰딩 공정은 도 6에 보여진 상기 X-축 방향 또는 상기 Y-축 방향을 따라 상기 몰드의 모서리로부터 상기 몰드를 뜯어내는(tear) 것이다. 상기 격자 선 및 상기 수평 X-축 방향에 의해 형성된 각도는 매우 작고, 상기 각도 내에 접착은 비교적 적어서, 오직 몇몇의 접착 재료 입자들(두 지점들 보다 적은)이 상기 몰드에 부착될 수 있고 상기 몰드로 제거될 수 있다.

S104 단계, 도전 재료는 리드를 형성하도록 상기 트렌치 메쉬 안으로 충진된다.

상기 도전 재료는 은 또는 구리일 수도 있다.

S105 단계, 상기 리드의 두 끝들은 각각 내부 터미널 및 외부 터미널에 연결되고, 상기 리드 전극이 형성된다.

상기 리드 전극의 저항은 800Ω에서 1050Ω까지 이른다.

도 7a는 제2 구현예에 따른 상기 리드의 도식도이다. 상기 리드(6)는 트렌치 메쉬에 의해 형성된 격자 선들(61)과 상기 격자 선(61) 이내에 위치된 블랭크 영역(62)를 포함한다. 상기 트렌치 메쉬는 같은 크기를 가진 다수의 직사각형 메쉬 셀들을 밀접하게 배열함으로써 형성되고, 두 개의 인접한 직사각형 메쉬 셀들의 두 개의 긴 측면들은 서로 수직이지만, 상기 짧은 측면의 길이는 상기 긴 측면의 길이의 절반이므로, 꼬인 메쉬(braided mesh)가 형성된다. 상기 격자 선(61) 및 수평 X-축 방향에 의해 형성된 각도는 45°이고, 대안적 구현예에 있어서, 상기 각도는 또한 0°에서 90°까지의 어느 각도일 수 있다.

도 7b를 참고하면, 시작 지점으로서 꼭지점(7-a)을 사용하는 상기 꼬인 메쉬의 메쉬 셀(7)이 보여지고, 꼬인 와이어(71-a)는 상기 꼭지점(7-a)에서 꼭지점(7-b)까지 확장한다; 꼬인 와이어(71-b)는 상기 꼭지점(7-b)에서 꼭지점(7-c)까지 확장한다; 꼬인 와이어(71-c)는 상기 꼭지점(7-c)에서 꼭지점(7-d)까지 확장한다; 꼬인 와이어(71-d)는 상기 꼭지점(7-d)에서 꼭지점(7-a)까지 확장하여, 직사각형 메쉬(71)를 형성한다. 상기 꼬인 와이어(71-a)의 중간 지점(7-e)은 시작 지점으로서 선택되고, 상기 꼬인 와이어(72-a)는 꼭지점(7-e)에서 꼭지점(7-f)까지 확장한다; 꼬인 와이어(72-f)는 상기 꼭지점(7-f)에서 꼭지점(7-g)까지 확장한다; 꼬인 와이어(72-g)는 상기 꼭지점(7-g)에서 상기 꼭지점(7-b)까지 확장한다; 상기 꼬인 와이어(71-a)는 상기 꼭지점(7-b)에서 꼭지점(7-e)까지 확장하여, 직사각형 메쉬(72)를 형성한다. 상기 직사각형 메쉬(71)은 상기 직사각형 메쉬(72)에 수직이고, 상기 꼬인 와이어(72-a)의 길이는 상기 꼬인 와이어(71-a)의 길이의 절반이고, 그것들은 일치한다. 상기 직사각형 메쉬(72)의 하나의 꼭지점은 상기 꼬인 와이어(71-a) 상에 위치되고, 상기 직사각형 메쉬(72)는 직사각형 메쉬(71)를 가진 하나의 꼭지점(7-b)을 공유한다. 상기 꼬인 와이어(71-a)의 길이는 상기 꼬인 와이어(71-b)의 길이의 두 배이고, 상기 직사각형 메쉬(71) 및 상기 직사각형 메쉬(71)의 크기들은 동일하다. 도 7c는 수직 방향 내에 꼬인 메쉬 셀(7)을 중첩함으로써 형성되는 중첩된 메쉬 셀(7')을 보여준다. 도 7a에 보여진 것처럼 꼬인 메쉬는 수직 및 수평 방향 둘 다에 중첩함으로써 얻어진다.

상기 리드의 제2 구현예의 준비 방법은 상기 제1 구현예의 방법과 비슷하나, 그것은 더욱 자세히 기술되지 않을 것이다. 상기 전극 리드(6)가 상기 수평 X-축 방향을 따라 디몰드될 때, 오직 몇몇의 접착 입자들(4개 미만의 지점들)이 상기 몰드에 부착될 것이고, 5 개 미만의 입자들이 상기 수평 Y-축 방향을 따라 상기 몰드에 부착된다는 것이 구현예들 내에 보여진다. 게다가, 상기 전극 리드는 430Ω에서 1110Ω까지의 저항의 더 좋은 전도성을 가진다.

도 8a는 제3 구현예에 따른 리드의 도식도이다. 상기 리드(8)는 다수의 파선들(81) 및 다수의 직선들(82)의 교차에 의해 형성된 다수의 사변형 메쉬 셀들(83)을 포함한다. 상기 사변형 메쉬 셀(83)은 두 개의 직선들(82)과 상기 두 개의 직선들(82)의 두 끝들을 연결하는 두 개의 파선들(81)에 의해 형성된다. 상기 파선(81) 및 선(82)은 도식으로 나타낸 도 8a에 있다(The wavy line 81 and line 82 are c in FIG. 8, which is schematic.) 상기 파선(81) 및 선(82)의 직교화(orthogonalization)는 제한되지 않은 교차점의 하나의 유형이나, 상기 직교 교차점은 가장 바람직한 것이다. 수평 방향을 따라 상기 리드 전극(8)의 상기 파선(81)은 수평이고, 상기 직선(82)은 수직이다; 수직 방향을 따라 상기 리드 전극(8)의 파선(81)은 수직이고, 상기 직선(82)은 수평이다. 도 8b는 모서리 내에 상기 리드 전극(8')의 메쉬의 도식도이다. 수평 방향의 파선(82')은 파선(83')을 통해 수직 방향 파선(82')에 연결되고, 직선(81')은 상기 파선(82')과 직교하여 교차되고, 즉 상기 모서리 주위의 파선들은 곡선에 의하여 연결되어 상기 직선(81')과 직교하여 교차되도록 보장될 수 없으므로(i.e., the wave lines around the corner are connected by a curve and can not be guaranteed to be orthogonal intersected with the straight 81'), 상기 직선(81')은 상기 파선(82')의 부분과 직교하여 교차된다. 상기 X-축 방향의 교차점에서 파선들과 수평 격자는 0°에서 90°까지, 바람직하게는 0°에서 45°까지의 탄젠트 각도(tangent angle)를 형성한다.

도 9는 상기 리드의 수평 X-축 및 수평 Y-축의 디몰딩 방향을 보여준다. 상기 리드 전극(8)은 상기 수평 X-축 방향을 따라 디몰드되고, 리드 전극 몰드는 드믈게 접착 입자들이 나타나거나, 보통 접착 입자들이 전혀 없다(The lead electrode 8 is demolded along the horizontal X-axis direction, and lead electrode mold appears rarely adhesive particles, normally not adhesive particles at all.) 상기 리드 전극은 340Ω에서 1000Ω까지의 저항의 좋은 도전 성능을 가진다.

상기 트렌치 메쉬는 또한 같은 크기를 가진 다수의 육각형(도 10a에 보여진) 또는 평평한 육각형 메쉬 셀들을 밀접하게 배열함으로써 형성될 수 있다.

본 발명은 특정한 구조적인 특성들 및/또는 방법론적인 행위들(methodological acts)로 언어로 기술되지만, 덧붙힌 청구항들에 정의된 본 발명이 상기 특정한 특성들 또는 기술된 행위들에 반드시 제한되지 않는다. 차라리, 상기 특정의 특성들 및 행위들은 청구된 발명을 이행하는 것의 예시 형태들로서 개시된 것이다.

Claims

연속적으로 연결되는, 내부 터미널, 리드(lead) 및 외부 터미널을 포함하고,
상기 리드는:
절연 기판;
상기 절연 기판 상에 코팅된 트렌치 메쉬(trenched mesh)를 정의하는 접착 재료; 및
상기 트렌치 메쉬의 격자 선과 디몰딩 방향(demolding direction)에 의해 형성된 각도는 0°에서 90°까지인, 상기 트렌치 메쉬 내에 충진된 도전 재료;를 포함하는 것인,
리드 전극.
제1항에 있어서,
상기 트렌치 메쉬의 격자 선과 디몰딩 방향에 의해 형성된 각도는 45°인 것인, 리드 전극.
제1항에 있어서,
상기 트렌치 메쉬는, 같은 크기를 가진 다수의 직사각형 메쉬 셀들을 밀접하게 배열함으로써 형성되는 것인, 리드 전극.
제3항에 있어서,
두 개의 인접한 직사각형 메쉬 셀들의 두 개의 긴 측면들은 서로 수직인 것인, 리드 전극.
제3항에 있어서,
각각의 직사각형 메쉬 셀은, 연속적으로 연결되는 두 개의 짧은 측면들 및 두 개의 긴 측면들을 포함하고, 상기 짧은 측면의 길이는 상기 긴 측면의 길이의 절반인 것인, 리드 전극.
제1항에 있어서,
상기 트렌치 메쉬는, 다수의 사변형 메쉬 셀들을 밀접하게 배열함으로써 형성되고, 각각의 사변형 메쉬 셀은 두 개의 직선들 및 상기 두 개의 직선들의 두 끝들을 연결하는 두 개의 파선들(wavy lines)을 포함하는 것인, 리드 전극.
제1항에 있어서,
상기 트렌치 메쉬는, 같은 크기를 가진 다수의 육각형 또는 평평한 육각형 메쉬 셀들을 밀접하게 배열함으로써 형성되는 것인, 리드 전극.
제1항에 있어서,
상기 내부 터미널 및 상기 외부 터미널은 트렌치 메쉬들인 것인, 리드 전극.
절연 기판 상에 접착 재료를 코팅하는 단계;
상기 접착 재료에 메쉬를 가지는 몰드(mold)를 부착하고, 상기 접착 재료를 경화하는 단계;
수평 X-축 방향 또는 상기 수평 X-축 방향에 수직인 수평 Y- 축 방향을 따라 몰드를 디몰딩하고(demolding), 상기 접착 재료 상에 트렌치 메쉬를 형성하는 단계로서, 상기 트렌치 메쉬의 격자 선과 상기 수평 X-축 방향에 의해 형성된 각도가 0°에서 90°까지인 단계;
리드(lead)를 형성하도록 상기 트렌치 메쉬 안으로 도전 재료를 충진하는 단계; 및
내부 터미널 및 외부 터미널에 상기 리드의 두 끝들을 각각 연결하고, 리드 전극을 형성하는 단계;
를 포함하는 리드 전극의 제조 방법.
제9항에 있어서,
상기 트렌치 메쉬의 격자 선과 상기 수평 X-축 방향에 의해 형성되는 각도는 45°인 것인, 방법.
제9항에 있어서,
상기 트렌치 메쉬는, 같은 크기의 다수의 직사각형 메쉬 셀들을 밀접하게 배열함으로써 형성되는 것인, 방법.
제11항에 있어서,
두 개의 인접한 직사각형 메쉬 셀들의 두 개의 긴 측면들은 서로 수직인 것인, 방법.
제11항에 있어서,
각각의 상기 직사각형 셀들은, 연속적으로 연결되는 두 개의 짧은 측면들 및 두 개의 긴 측면들을 포함하고, 상기 짧은 측면의 길이는 상기 긴 측면의 길이의 절반인 것인, 방법.
제10항에 있어서,
상기 트렌치 메쉬는, 다수의 사변형 메쉬 셀들을 밀접하게 배열함으로써 형성되고, 각각의 사변형 메쉬 셀은 두 개의 직선들 및 상기 두 개의 직선들의 두 끝들을 연결하는 두 개의 파선들을 포함하는 것인, 방법.
제9항에 있어서,
상기 트렌치 메쉬는, 같은 크기를 가진 다수의 육각형 또는 평평한 육각형 메쉬 셀들을 밀접하게 배열함으로써 형성되는 것인, 방법.
제9항에 있어서,
상기 내부 터미널 및 외부 터미널은 트렌치 메쉬들인 것인, 방법.