KR20140051074A - Optical alignment thermosetting composition, cured layer, color filter, liquid crystal display device, solid state imaging device, patterned retardation plate and optical device - Google Patents

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Abstract

The present invention is to provide a material which has flatness properties, high solvent resistance, excellent photo-alignment properties, enough heat resistance, and high transparency after forming a cured layer and is soluble in glycol-based solvents, ketone-based solvents, or lactic acid ester-based solvents which are applicable in manufacturing overcoat of a color filter when forming the cured layer. The present invention relates to a polymer (A) having photo-alignment properties, thermosetting compositions comprising polyester amide acid and having alignment properties, and the uses thereof.

Description

광배향성을 갖는 열경화성 조성물, 경화막, 컬러 필터, 액정 표시 소자, 고체 촬상 소자, 패턴화 위상차판 및 광 디바이스{OPTICAL ALIGNMENT THERMOSETTING COMPOSITION, CURED LAYER, COLOR FILTER, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, SOLID STATE IMAGING DEVICE, PATTERNED RETARDATION PLATE AND OPTICAL DEVICE}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a thermosetting composition having a photo-alignment property, a cured film, a color filter, a liquid crystal display device, a solid-state image pickup device, a patterned retardation plate and an optical device, PATTERNED RETARDATION PLATE AND OPTICAL DEVICE}

본 발명은 광배향성을 갖는 열경화성 조성물 및 이로부터 형성되는 경화막에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 열경화막에 있어서, 투명성, 액정 배향능, 내용제성 및 내열성이 우수한 열경화성 조성물 및 이러한 열경화막의 적용에 관한 것이다. The present invention relates to a thermosetting composition having a photo-alignment property and a cured film formed therefrom. More specifically, the present invention relates to a thermosetting composition which is excellent in transparency, liquid crystal aligning ability, solvent resistance and heat resistance in a thermosetting film and the application of such a thermosetting film.

액정 표시 소자 등의 소자의 제조 공정 중에는 유기 용제, 산, 알칼리 용액 등 여러 가지 약품 처리가 실시되거나, 스퍼터링에 의해 배선 전극을 성막할 때에 표면이 국부적으로 고온으로 가열되거나 하는 일이 있다. 이로 인하여, 각종 소자의 표면의 열화, 손상, 변질 등을 방지할 목적으로 표면 보호막이 마련되는 경우가 있다. 이들 보호막에는 전술한 바와 같은 제조 공정 중의 각종 처리를 견딜 수 있는 여러 특성들이 요구된다. 구체적으로는, 내열성, 내용제성, 내산성, 내알칼리성 등의 내약품성, 내수성, 유리 등의 베이스 기판으로의 밀착성, 투명성, 내스크래치성, 도포성, 평탄성, 장기간에 걸쳐 착색 등의 변질이 일어나지 않는 내광성 등이 요구된다. In the manufacturing process of an element such as a liquid crystal display element, various chemical treatments such as an organic solvent, an acid, and an alkali solution may be performed, or the surface may be locally heated to a high temperature when the wiring electrode is formed by sputtering. Thus, a surface protective film may be provided for the purpose of preventing deterioration, damage, deterioration, etc. of the surface of various devices. These protective films are required to have various properties capable of enduring various treatments in the manufacturing process as described above. Specifically, there is a need for a coating composition which does not cause deterioration such as chemical resistance such as heat resistance, solvent resistance, acid resistance and alkali resistance, water resistance, adhesion to a base substrate such as glass, transparency, scratch resistance, coating property, flatness, Light resistance and the like are required.

또한, 특히 근래에는 액정 표시 소자의 고시야각화(高視野角化), 고속 응답화, 고세밀화 등의 고성능화가 진행되는 가운데, 컬러 필터 보호막으로서 이용되는 경우에는 컬러 필터를 투과하는 광의 투과율을 유지하기 위하여 높은 투명성을 갖는 막일 필요가 있다.Particularly in recent years, high performance such as high viewing angle (high viewing angle), fast response, and high definition of a liquid crystal display device has been advanced, and when used as a color filter protective film, the transmittance of light transmitted through a color filter is maintained It is necessary to have a film having high transparency.

한편, 근래에는 최근 액정 디스플레이의 셀 내에 위상차 재료를 도입하는 것으로서 저비용화, 경량화 등이 검토되고 있으며, 이와 같은 위상차 재료로서는 중합성 액정 용액을 도포하여 배향시킨 후에 광경화시킨 재료가 일반적으로 사용된다. 이러한 위상차 재료를 배향시키기 위해서는 하층막이 러빙 처리 또는 편광 UV 조사된 후, 배향성을 갖는 재료로 처리될 필요가 있다. 이를 위하여, 컬러 필터의 오버코트 상에 액정 배향층을 성막한 후에 위상차 재료가 형성된다. On the other hand, in recent years, introduction of a retardation material into a cell of a liquid crystal display has recently been studied at low cost, light weight, and the like. As such a retardation material, a material obtained by applying and orienting a polymerizable liquid crystal solution and then photo- . In order to orient such a retardation material, the lower layer film needs to be treated with a material having an orientation property after rubbing treatment or polarized UV irradiation. To this end, a phase difference material is formed after the liquid crystal alignment layer is formed on the overcoat of the color filter.

액정 배향층과 컬러 필터의 오버코트를 겸하는 막을 형성할 수 있다면, 비용의 저감, 프로세스 수의 삭감 등을 기대할 수 있다. 이로 인하여, 근래에는 액정 배향층과 컬러 필터의 오버코트를 겸하는 재료가 활발히 연구되고 있다. If a film serving as an overcoat of the liquid crystal alignment layer and the color filter can be formed, a reduction in cost and a reduction in the number of processes can be expected. Therefore, in recent years, a material that also serves as an overcoat for a liquid crystal alignment layer and a color filter has been actively studied.

일반적으로 컬러 필터의 오버코트에는 투명성이 높은 아크릴 수지가 사용되며, 이러한 아크릴 수지를 열경화 또는 광경화시키는 것으로서 내열성 및 용제의 내성을 높이는 방법이 채용되고 있다(특허 문헌 1 및 특허 문헌 2). In general, an acrylic resin having high transparency is used for overcoat of a color filter, and a method of increasing heat resistance and resistance of a solvent by thermosetting or photo-curing such an acrylic resin has been employed (Patent Document 1 and Patent Document 2).

한편, 액정 배향층에는 용제 가용성 폴리이미드 또는 폴리아미드산으로 이루어지는 재료가 통상적으로 사용되고 있다. 이들 재료들은 포스트 베이크에 의해 완전히 이미드화되며, 용제 내성이 부여되어 러빙 처리에 의해 충분한 배향성을 나타내는 점이 보고되어 있다(특허 문헌 3). On the other hand, a material comprising a solvent-soluble polyimide or polyamic acid is generally used for the liquid crystal alignment layer. It has been reported that these materials are completely imidized by post-baking and that sufficient resistance to solvent is imparted by the rubbing treatment (Patent Document 3).

그러나 특허 문헌 1 및 특허 문헌 2에 기재된 열경화성 혹은 광경화성의 아크릴 수지는 적당한 투명성 및 용제 내성을 갖지만, 이러한 종류의 아크릴 수지로 이루어지는 오버코트를 러빙 처리 혹은 편광 UV 조사하여도 충분한 배향성을 나타내지는 못하였다.However, the thermosetting or photo-curing acrylic resins described in Patent Document 1 and Patent Document 2 have appropriate transparency and solvent resistance, but even when subjected to rubbing treatment or polarized UV irradiation, the overcoat made of such acrylic resin does not exhibit sufficient orientation .

특허 문헌 3에 기재된 액정 배향층은 컬러 필터의 오버코트 재료로서 사용되기에는 투명성이 낮다고 하는 문제가 있었다. 또한, 폴리이미드 및 폴리아미드산은 글리콜계 용제, 에스테르계 용제 및 케톤계 용제에 대한 용해성이 낮아 이와 같은 용제가 사용되는 오버코트 제작 라인으로의 적용은 어렵다.
The liquid crystal alignment layer described in Patent Document 3 has a problem that transparency is low because it is used as an overcoat material of a color filter. In addition, since polyimide and polyamic acid have low solubility in glycol solvents, ester solvents and ketone solvents, it is difficult to apply them to an overcoat production line using such a solvent.

선행 기술 문헌Prior art literature

[특허 문헌][Patent Literature]

특허 문헌 1:일본 특허 공개 공보 제2000-103937호Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-103937

특허 문헌 2:일본 특허 공개 공보 제2001-194797호Patent Document 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-194797

특허 문헌 3:일본 특허 공개 공보 제2005-037920호Patent Document 3: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-037920

본 발명은 상술한 사정에 근거하여 실시된 것으로서, 그 해결하고자 하는 과제는 경화막 형성 후에는 평탄성, 높은 내용제성, 중합성 액정에 대한 우수한 광배향성, 충분한 내열성 및 높은 투명성을 나타내며, 또한 경화막 형성 시에 있어서는 컬러 필터의 오버코트의 제작에 있어서 적용이 가능한 글리콜계 용제, 케톤계 용제 또는 유산 에스테르계 용제에 용해될 수 있는 재료를 제공하는 것이다. The present invention has been accomplished on the basis of the above-described circumstances, and an object of the present invention is to provide a cured film which has flatness, high solvent resistance, excellent optical alignment property to polymerizable liquid crystal, sufficient heat resistance and high transparency, And a material which can be dissolved in a glycol-based solvent, a ketone-based solvent or an estersester-type solvent which can be applied in the production of an overcoat of a color filter at the time of formation.

본 발명자 등은 상술한 문제점을 극복하기 위하여 여러 검토를 실시한 결과, 광배향성을 갖는 중합체 및 폴리에스테르 아미드산을 포함하는 광배향성을 갖는 열경화성 조성물이 상기 과제를 해결할 수 있다는 것을 찾아내어 본 발명을 완성함에 이르렀다. The inventors of the present invention conducted various studies to overcome the above-mentioned problems, and as a result, found that a photo-orientable thermosetting composition comprising a photo-orientable polymer and a polyester amide acid can solve the above problems and completed the present invention To the ship.

본 발명은 이하의 구성을 가진다. The present invention has the following configuration.

[1] 광배향성을 갖는 중합체(A) 및 폴리에스테르 아미드산(B)을 포함하는 광배향성을 갖는 열경화성 조성물. [1] A photo-alignment thermosetting composition comprising a polymer (A) having photo-alignment properties and a polyester amide acid (B).

[2] 사항 [1]에 기재된 광배향성을 갖는 중합체(A)가 고리형 에테르를 갖는 중합성 모노머(a1)와 광배향성을 갖는 중합성 모노머(a2)와의 공중합체인 사항 [1]에 기재된 광배향성을 갖는 열경화성 조성물. [2] The polymer according to [1], wherein the polymer (A) having photo-alignment properties described in item [1] is a copolymer of a polymerizable monomer (a1) having a cyclic ether and a polymerizable monomer (a2) Wherein the thermosetting composition has an orientation property.

[3] 사항 [2]에 기재된 고리형 에테르를 갖는 중합성 모노머(a1)가 글리시딜 아크릴레이트, 글리시딜 메타크릴레이트, 메틸글리시딜 메타크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸 메타크릴레이트, (3-에틸-3-옥세타닐)메틸 아크릴레이트, (3-에틸-3-옥세타닐)메틸 메타크릴레이트, (2-에틸-2-옥세타닐)메틸 아크릴레이트 및 (2-에틸-2-옥세타닐)메틸 메타크릴레이트로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 1종 이상인 사항 [2]에 기재된 광배향성을 갖는 열경화성 조성물. [3] The polymerizable monomer (a1) according to item [2], wherein the polymerizable monomer (a1) having a cyclic ether is at least one selected from the group consisting of glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, methyl glycidyl methacrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (3-ethyl-3-oxetanyl) methylacrylate, (3-ethyl-3-oxetanyl) methyl methacrylate, (2-ethyl-2-oxetanyl) methyl methacrylate. [2] The thermosetting composition having photo-alignment property according to [2].

[4] 사항 [2]에 기재된 광배향성을 갖는 중합성 모노머(a2)의 광배향성 부위가 광이량화(光二量化) 또는 광이성화(光異性化)하는 구조의 관능기인 사항 [2]에 기재된 광배향성을 갖는 열경화성 조성물. [4] The polymerizable monomer (a2) according to item [2], wherein the polymerizable monomer (a2) having a photoadductivity described in the item [2] is a functional group of a structure in which the photoadductivity site is photodimerized (photo- dimerization) A thermosetting composition having photo-alignment properties.

[5] 사항 [2]에 기재된 광배향성을 갖는 중합성 모노머(a2)의 광배향성 부위가 신나모일인 사항 [2]에 기재된 광배향성을 갖는 열경화성 조성물. [5] The thermosetting composition according to item [2], wherein the photo-alignable moiety of the photo-polymerizable monomer (a2) having photo-alignment properties is cinnamoyl.

[6] 사항 [1]에 기재된 폴리에스테르 아미드산(B)이 테트라카복실산 이무수물, 디아민 및 다가(多價) 하이드록시 화합물을 필수 성분으로 하여 반응시키는 것에 의해 수득되는 폴리에스테르 아미드산인 사항 [1]에 기재된 광배향성을 갖는 열경화성 조성물. [6] The polyester amide acid (B) as described in item [1], which is a polyester amide acid obtained by reacting tetracarboxylic acid dianhydride, diamine and polyhydric hydroxy compound as essential components [1 Wherein the thermosetting composition has photo-alignment property.

[7] 사항 [1]에 기재된 폴리에스테르 아미드산(B)이 테트라카복실산 이무수물, 디아민, 다가 하이드록시 화합물 및 1가(1價) 알코올을 필수 성분으로 하여 반응시키는 것에 의해 수득되는 폴리에스테르 아미드산인 사항 [1]에 기재된 광배향성을 갖는 열경화성 조성물. [7] A polyester amide obtained by reacting the polyester amide acid (B) described in item [1] with an essential component of tetracarboxylic acid dianhydride, diamine, polyhydric hydroxy compound and monovalent alcohol Acid content The thermosetting composition having photo-alignment properties according to [1].

[8] 1가 알코올이 이소프로필 알코올, 알릴 알코올, 벤질 알코올, 하이드록시 에틸 메타크릴레이트, 프로필렌글리콜 모노 에틸에테르 또는 3-에틸-3-하이드록시 메틸 옥세탄인 사항 [7]에 기재된 광배향성을 갖는 열경화성 조성물. [8] The optical alignment agent according to item [7], wherein the monovalent alcohol is isopropyl alcohol, allyl alcohol, benzyl alcohol, hydroxyethyl methacrylate, propylene glycol monoethyl ether or 3-ethyl- Lt; / RTI >

[9] 사항 [1]에 기재된 폴리에스테르 아미드산(B)이 X몰의 테트라카복실산 이무수물, Y몰의 디아민 및 Z몰의 다가 하이드록시 화합물을 하기 식 (1) 및 식 (2)의 관계가 성립하는 것과 같은 비율로 반응시켜서 수득되는 사항 [1]에 기재된 광배향성을 갖는 열경화성 조성물.[9] The polyester amide acid (B) according to item [1], wherein X is a tetra carboxylic acid dianhydride, Y is a diamine, and Z is a polyhydric hydroxy compound is represented by the following formula (1) Is obtained by reacting the thermosetting composition of the present invention in the same ratio as that of the thermosetting composition.

0.2≤Z/Y≤8.0 …… (1)0.2? Z / Y? ... (One)

0.2≤(Y+Z)/X≤1.5 …… (2)0.2? (Y + Z) /X? 1.5 ... ... (2)

[10] 사항 [1]에 기재된 폴리에스테르 아미드산(B)이 하기 화학식 (3) 및 화학식 (4)로 나타내는 구성 단위를 갖는 화합물인 사항 [1]에 기재된 광배향성을 갖는 열경화성 조성물. [10] The thermosetting composition according to item [1], wherein the polyester amide acid (B) according to item [1] is a compound having a structural unit represented by the following formula (3) and formula (4).

Figure pat00001
Figure pat00001

(상기 화학식들에 있어서, R1은 테트라카복실산 이무수물 잔기이고, R2는 디아민 잔기이며, R3은 다가 하이드록시 화합물 잔기이다.)(Wherein R 1 is a tetracarboxylic acid dianhydride residue, R 2 is a diamine residue, and R 3 is a polyhydric hydroxy compound residue).

[11] 테트라카복실산 이무수물이 3,3',4,4'-디페닐술폰 테트라카복실산 이무수물, 3,3',4,4'-디페닐에테르 테트라카복실산 이무수물, 2,2-(비스(3,4-디카복시페닐))헥사플루오로프로판산 이무수물 및 에틸렌글리콜 비스(안하이드로 트리멜리테이트)로부터 선택되는 1종 이상의 화합물인 사항 [6]에 기재된 광배향성을 갖는 열경화성 조성물. [11] The method according to any one of [1] to [11], wherein the tetracarboxylic acid dianhydride is 3,3 ', 4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenylether tetracarboxylic dianhydride, 2,2- (3,4-dicarboxyphenyl)) hexafluoropropanic acid dianhydride and ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate). [6] The thermosetting composition according to item [6], wherein the thermosetting composition is a thermosetting composition.

[12] 디아민이 3,3'-디아미노디페닐술폰, 비스(4-(3-아미노페녹시)페닐)술폰 및 비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)술폰으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물인 사항 [6]에 기재된 광배향성을 갖는 열경화성 조성물. [12] The method according to any one of [1] to [12], wherein the diamine is at least one selected from the group consisting of 3,3'-diaminodiphenylsulfone, bis (4- (3-aminophenoxy) The thermosetting composition having photo-alignment properties according to item [6], which is the above compound.

[13] 다가 하이드록시 화합물이 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 1,7-헵탄디올 및 1,8-옥탄디올으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물인 사항 [6]에 기재된 광배향성을 갖는 열경화성 조성물. [13] The method according to any one of [1] to [13], wherein the polyhydric hydroxy compound is selected from ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,7-heptanediol and 1,8- A thermosetting composition having photo-alignment properties according to item [6], which is at least one compound.

[14] 사항 [1]에 기재된 폴리에스테르 아미드산(B)의 중량 평균 분자량이 1,000 내지 500,000인 사항 [1]에 기재된 광배향성을 갖는 열경화성 조성물. [14] The thermosetting composition according to item [1], wherein the polyester amide acid (B) described in item [1] has a weight average molecular weight of 1,000 to 500,000.

[15] 사항 [1]에 기재된 광배향성을 갖는 중합체(A)의 중량 평균 분자량이 2,000 내지 200,000인 사항 [1]에 기재된 광배향성을 갖는 열경화성 조성물. [15] The thermosetting composition according to item [1], wherein the polymer (A) having photo-alignment properties described in item [1] has a weight average molecular weight of 2,000 to 200,000.

[16] 사항 [1]에 기재된 광배향성을 갖는 열경화성 조성물을 가열하는 것에 의해 수득되는 경화막. [16] A cured film obtained by heating the thermosetting composition having photo-alignment property described in item [1].

[17] 사항 [16]에 기재된 경화막을 보호막으로서 사용하는 컬러 필터.[17] A color filter using the cured film according to item [16] as a protective film.

[18] 사항 [17]에 기재된 컬러 필터를 사용하는 액정 표시 소자. [18] A liquid crystal display element using the color filter according to item [17].

[19] 사항 [17]에 기재된 컬러 필터를 사용하는 고체 촬상 소자.[19] A solid-state image pickup device using the color filter according to item [17].

[20] 사항 [1]에 기재된 광배향성을 갖는 열경화성 조성물로 형성되는 패턴화 위상차판. [20] A patterned retarder formed from the thermosetting composition having photo-alignment property described in item [1].

[21] 사항 [1]에 기재된 광배향성을 갖는 열경화성 조성물을 사용하여 수득되는 위상차판을 구비하는 광 디바이스. [21] An optical device comprising a retarder obtained by using the thermosetting composition having photo-alignment property described in item [1].

본 발명의 광배향성을 갖는 열경화성 조성물은 높은 투명성, 높은 용제 내성 및 높은 내열성, 또한 평탄성에 더하여 광조사에 의한 액정 배향능(광배향성)을 갖는 경화막을 형성할 수 있기 때문에, 광배향성의 액정 배향막 및 오버코트의 형성 재료로서 사용할 수 있다. 특히, 액정 배향층과 컬러필터의 오버코트층 모두의 특성을 겸비하는 막을 한 번에 형성하는 것이 가능해져 제조 공정의 간략화 및 프로세스 수의 저감에 의한 저비용화를 실현할 수 있다. The thermosetting composition having photo-alignment property of the present invention can form a cured film having a liquid crystal aligning ability (photo-alignment property) by light irradiation in addition to high transparency, high solvent resistance, high heat resistance and flatness, And as an overcoat forming material. In particular, it is possible to form a film having both the characteristics of both the liquid crystal alignment layer and the overcoat layer of the color filter at one time, thereby simplifying the manufacturing process and reducing the cost by reducing the number of processes.

본 발명의 광배향성을 갖는 열경화성 조성물은, 특히 3차원(3D) 디스플레이에 사용되는 패턴화 위상차판, 액정 모니터에 있어서의 내장 위상차판, 광배향 기능을 갖는 컬러 필터의 오버코트 등에 적합하다. The thermosetting composition having photo-alignment properties of the present invention is particularly suitable for patterned retardation plates used in three-dimensional (3D) displays, built-in retardation plates for liquid crystal monitors, and overcoats of color filters having a photo alignment function.

1. 본 발명의 광배향성을 갖는 열경화성 조성물1. Thermosetting composition having photo-alignment property of the present invention

본 발명은 광배향성을 갖는 중합체(A) 및 폴리에스테르 아미드산(B)을 함유하는 광배향성을 갖는 열경화성 조성물에 관한 것이다. The present invention relates to a thermosetting composition having a photo-alignment property, which comprises a polymer (A) having photo-alignment properties and a polyester amide acid (B).

광배향성을 갖는 중합체(A)와 폴리에스테르 아미드산(B)과의 바람직한 혼합 비율은 광배향성의 관점에서는, 광배향성을 갖는 중합체(A)와 폴리에스테르 아미드산(B)과의 총량에 대하여, 광배향성을 갖는 중합체(A)의 함유량이 통상적으로 50 중량% 내지 95 중량%이고, 보다 바람직하게는 50 중량% 내지 90 중량%이며, 더욱 바람직하게는 50 중량% 내지 85 중량%이다. 또한, 폴리에스테르 아미드산(B)의 함유량은 광배향성을 갖는 중합체(A)와 폴리에스테르 아미드산(B)과의 총량에 대하여 통상적으로 5 중량% 내지 50 중량%이고, 보다 바람직하게는 10 중량% 내지 50 중량%이며, 더욱 바람직하게는 15 중량% 내지 50 중량%이다.
A preferable mixing ratio of the polymer (A) having a photo-alignment property and the polyester amide acid (B) is preferably in the range of from 10 to 100 parts by mass, based on the total amount of the polymer (A) and the polyester amide acid (B) The content of polymer (A) having photo-alignment property is usually 50% by weight to 95% by weight, more preferably 50% by weight to 90% by weight, and still more preferably 50% by weight to 85% by weight. The content of the polyester amide acid (B) is usually 5% by weight to 50% by weight based on the total amount of the polymer (A) having photo-alignment properties and the polyester amide acid (B) % To 50 wt%, and more preferably 15 wt% to 50 wt%.

1-1. 광배향성을 갖는 중합체(A)1-1. The polymer (A) having photo-

상기 광배향성을 갖는 중합체(A)는 고리형 에테르를 갖는 중합성 모노머(a1)와 광배향성을 갖는 중합성 모노머(a2)와의 공중합체다. 고리형 에테르를 갖는 중합성 모노머(a1)와 광배향성을 갖는 중합성 모노머(a2)와의 바람직한 혼합 비율(몰비)은 광배향성의 관점에서, 고리형 에테르를 갖는 중합성 모노머(a1) 1몰에 대하여 광배향성을 갖는 중합성 모노머(a2)는 1몰 내지 20몰이고, 보다 바람직하게는 1몰 내지 10몰이며, 더욱 바람직하게는 1몰 내지 5몰이다.
The photo-aligned polymer (A) is a copolymer of a polymerizable monomer (a1) having a cyclic ether and a polymerizable monomer (a2) having a photo-alignment property. (Molar ratio) between the cyclic ether-containing polymerizable monomer (a1) and the photo-orientable polymerizable monomer (a2) is preferably from 1 mole of the polymerizable monomer (a1) having a cyclic ether to the cyclic ether- The polymerizable monomer (a2) having photo-alignment properties is 1 to 20 moles, more preferably 1 to 10 moles, and still more preferably 1 to 5 moles.

1-2. 고리형 에테르를 갖는 중합성 모노머(a1)1-2. The polymerizable monomer (a1) having a cyclic ether

고리형 에테르를 갖는 중합성 모노머(a1)로서는, 예를 들면, 글리시딜 아크릴레이트, 글리시딜 메타크릴레이트, 메틸글리시딜 메타크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸 메타크릴레이트, (3-에틸-3-옥세타닐)메틸 아크릴레이트, (3-에틸-3-옥세타닐)메틸 메타크릴레이트, (2-에틸-2-옥세타닐)메틸 아크릴레이트 및 (2-에틸-2-옥세타닐)메틸 메타크릴레이트를 들 수 있으며, 이들 중에서도 글리시딜 메타크릴레이트가 바람직하다. 이들 고리형 에테르를 갖는 중합성 모노머는 수득되는 열경화성 조성물의 내열성, 약품내성 등의 관점에서 바람직하다.
Examples of the polymerizable monomer (a1) having a cyclic ether include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, methyl glycidyl methacrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, (3-ethyl-3-oxetanyl) methyl acrylate, (3-ethyl-3-oxetanyl) methyl methacrylate, 2-oxetanyl) methyl methacrylate. Of these, glycidyl methacrylate is preferable. These polymerizable monomers having a cyclic ether are preferred from the viewpoints of heat resistance, chemical resistance and the like of the resulting thermosetting composition.

1-3. 광배향성을 갖는 중합성 모노머(a2)1-3. The polymerizable monomer (a2) having photo-

광배향성을 갖는 중합성 모노머(a2)의 광배향성 부위라는 것은 광을 조사하는 것으로 광이량화, 광이성화, 광분해, 광가교 등의 반응에 의해 이방성이 생기는 구조를 갖는 관능기를 말하며, 이들 중에서도 광이량화, 광이성화 등을 발생하는 구조를 갖는 관능기가 바람직하다. The photo-orientable region of the polymerizable monomer (a2) having photo-alignment property means a functional group having a structure in which light is irradiated to generate anisotropy by a reaction such as photodimerization, photoisomerization, photolysis, photo-crosslinking, etc. Among these, A functional group having a structure generating dimerization, photoisomerization and the like is preferable.

광이량화를 발생하는 관능기로서는, 예를 들면, 계피산 골격을 갖는 물질[K. Ichimura 등의 "Macromolecules"(30, 903(1997))], 아조벤젠 골격을 갖는 물질[K. Ichimura 등의 "Mol. Cryst. Liq. Cryst."(298, 221(1997))], 하이드라조노-β-케토에스테르 골격을 갖는 물질[S. Yamamura 등의 "Liquid Crystals"(vol. 13, No. 2, page 189(1993))], 스틸벤 골격을 갖는 물질[J. G. Victor 및 J. M. Torkelson의 "Macromolecules"(20, 2241(1987))], 및 스피로피란 골격을 갖는 물질[K. Ichimura 등의 "Chemistry Letters"(page 1063(1992))와 K. Ichimura 등의 "Thin Solid Films"(vol. 235, page 101(1993))] 유래의 기(基) 등을 들 수 있으며, 그 구체적인 예로서는, 신나모일, 캘콘, 쿠마린, 안트라센 등을 들 수 있다. 이들 중에서 가시광 영역에서의 높은 투명성 및 광이량화 반응성을 갖는 신나모일이 바람직하다. Examples of the functional group capable of generating light dimerization include, for example, a substance having a cinnamate skeleton [K. Ichimura et al., "Macromolecules" (30, 903 (1997)), substances with an azobenzene skeleton [K. 298, 221 (1997)), a substance having a hydrazano- [beta] -ketoester skeleton [S. Yamamura et al., "Liquid Crystals" (vol. 13, No. 2, page 189 (1993)), substances having a stilbene skeleton [J. Macromolecules "(20, 2241 (1987)) of G. Victor and J. M. Torkelson, and substances with spiropyran skeleton [K. A group derived from "Chemistry Letters" (page 1063 (1992) by Ichimura et al.) And "Thin Solid Films" (vol. 235, page 101 (1993) by K. Ichimura et al. Specific examples thereof include cinnamoyl, calcon, coumarin, and anthracene. Of these, cinnamoyls having high transparency and photo-dimerization reactivity in the visible light region are preferred.

상기 신나모일로서는, 예를 들면, 하기의 화학식 (I-1) 내지 화학식 (I-3)으로 나타내는 구조들 중에서 적어도 1종을 갖는 기(基)를 들 수 있다. Examples of the cinnamoyl group include groups having at least one of the structures represented by the following formulas (I-1) to (I-3).

Figure pat00002
Figure pat00002

상기 화학식들에 있어서, R4는 수소, 임의의 수소가 불소로 치환되어도 좋은 탄소수 1 내지 20의 알킬을 나타내고, 바람직하게는 임의의 수소가 불소로 치환되어도 좋은 탄소수 1 내지 5의 알킬을 나타내며, 보다 바람직하게는 메틸을 나타낸다. m은 0 내지 6의 정수를 나타내고, 바람직하게는 2, 4 또는 6을 나타낸다. 또한, 상기 화학식들 중에 포함되는 페닐렌 중의 임의의 수소 1 내지 4개는 불소, 메틸 또는 메톡시로 치환되어도 좋다.In the above formulas, R 4 represents hydrogen, alkyl of 1 to 20 carbon atoms in which arbitrary hydrogen may be substituted by fluorine, preferably alkyl of 1 to 5 carbon atoms in which arbitrary hydrogen may be substituted by fluorine, More preferably methyl. m represents an integer of 0 to 6, preferably 2, 4 or 6; In addition, one to four of any hydrogen in the phenylene contained in the above formulas may be substituted with fluorine, methyl or methoxy.

상기 화학식 (I-1) 내지 화학식 (I-3)으로 나타내는 기(基) 중에서도 화학식 (I-3)으로 나타내는 기가 바람직하다.Among the groups represented by the above formulas (I-1) to (I-3), groups represented by the formula (I-3) are preferable.

광배향성을 갖는 중합성 모노머(a2)의 광배향성 부위로서 들 수 있는 광이성화를 발생하는 구조부위라는 것은 광조사에 의해 시스체와 트랜스체로 변하는 구조 부위를 가리키며, 그 구체적인 예로서는, 아조벤젠 구조, 스틸벤 구조 등을 들 수 있다. 이들 중에서 반응성의 높이에서 보자면 아조벤젠 구조가 바람직하다. The structural moiety causing photo-isomerization, which can be taken as the photo-orientable moiety of the polymerizable monomer (a2) having photo-alignment, refers to a moiety that changes to a cis body and a trans-isomer by light irradiation. Specific examples thereof include azobenzene structure, And a benz structure. Of these, the azobenzene structure is preferable in view of the height of the reactivity.

광배향성을 갖는 중합성 모노머(a2)로서는 하기 화학식 (I-1-1), 화학식 (I-2-1) 또는 화학식 (I-3-1)으로 나타내는 구성 단위로 이루어지는 모노머를 예시할 수 있다.Examples of the polymerizable monomer (a2) having a photo-alignment property include monomers having the structural units represented by the following formulas (I-1-1), (I-2-1) or (I-3-1) .

Figure pat00003
Figure pat00003

상기 화학식들에 있어서, 첨자 x가 첨부된 괄호 부분이 폴리머 주사슬 중에 포함되는 부분이며, x는 광배향성을 갖는 중합체 중에 포함되는 상기 구성 단위의 몰 분률(x<1)을 나타낸다. In the above formulas, the parenthesized portion to which the suffix x is attached is included in the polymer main chain, and x represents the molar fraction (x < 1) of the constituent unit contained in the polymer having photo-orientation.

상기 화학식들에 있어서, R4는 수소, 임의의 수소가 불소로 치환되어도 좋은 탄소수 1 내지 20의 알킬을 나타내고, 바람직하게는 임의의 수소가 불소로 치환되어도 좋은 탄소수 1 내지 5의 알킬을 나타내며, 보다 바람직하게는 메틸을 나타낸다. In the above formulas, R 4 represents hydrogen, alkyl of 1 to 20 carbon atoms in which arbitrary hydrogen may be substituted by fluorine, preferably alkyl of 1 to 5 carbon atoms in which arbitrary hydrogen may be substituted by fluorine, More preferably methyl.

상기 화학식들에 있어서, R5는 수소, 임의의 수소가 불소로 치환되어도 좋은 탄소수 1 내지 20의 알킬, 또는 임의의 수소가 불소로 치환되어도 좋은 탄소수 1 내지 20의 알콕시를 나타내고, 바람직하게는 임의의 수소가 불소로 치환되어도 좋은 탄소수 1 내지 5의 알킬, 또는 임의의 수소가 불소로 치환되어도 좋은 탄소수 1 내지 5의 알콕시를 나타내며, 보다 바람직하게는 메틸 또는 메톡시를 나타낸다. In the above formulas, R 5 represents hydrogen, alkyl of 1 to 20 carbon atoms in which arbitrary hydrogen may be substituted by fluorine, or alkoxy of 1 to 20 carbon atoms in which arbitrary hydrogen may be substituted by fluorine, Alkyl of 1 to 5 carbon atoms in which hydrogen of hydrogen may be substituted by fluorine, or alkoxy of 1 to 5 carbon atoms in which arbitrary hydrogen may be substituted by fluorine, and more preferably represents methyl or methoxy.

상기 화학식들에 있어서, R6은 수소 또는 메틸을 나타내고, 바람직하게는 메틸을 나타낸다.In the above formulas, R 6 represents hydrogen or methyl, preferably methyl.

상기 화학식들에 있어서, Z1은 단결합, -COO- 또는 -OCO-를 나타내고, 바람직하게는 -COO-를 나타낸다. In the above formulas, Z 1 represents a single bond, -COO- or -OCO-, and preferably represents -COO-.

상기 화학식들에 있어서, o는 2 내지 6의 정수, 바람직하게는 2, 4 또는 6을 나타내고, p는 0 내지 2의 정수, 바람직하게는 0을 나타낸다. In the above formulas, o represents an integer of 2 to 6, preferably 2, 4 or 6, and p represents an integer of 0 to 2, preferably 0.

상기 화학식들에 포함되는 페닐렌의 임의의 수소 1 내지 4개는 불소, 메틸, 메톡시로 치환되어도 좋으나, 바람직하게는 미치환 또는 메톡시 치환이다. Any one to four hydrogen atoms of the phenylene contained in the above formulas may be substituted with fluorine, methyl or methoxy, but is preferably unsubstituted or methoxy substituted.

상기 화학식 (I-1-1)의 구성 단위가 되는 광배향성을 갖는 중합성 모노머로서는, 예를 들면, 하기 화학식 (I-1-1-a) 내지 화학식 (I-1-1-l)로 나타내는 모노머(하기 화학식들에 있어서, R7은 수소 또는 메틸, R8은 탄소수 1 내지 20의 알킬, 바람직하게는 탄소수 1 내지 10의 알킬을 나타낸다) 등을 들 수 있다.
Examples of the photo-polymerizable monomer having a photo-alignment property to be the structural unit of the above formula (I-1-1) include the following formulas (I-1-1-a) to (I-1-1-1) (In the formulas, R 7 is hydrogen or methyl, and R 8 is alkyl having 1 to 20 carbon atoms, preferably alkyl having 1 to 10 carbon atoms), and the like.

Figure pat00004

Figure pat00004

 상기 화학식 (I-2-1)의 구성 단위가 되는 광배향성을 갖는 중합성 모노머로서는, 예를 들면, 하기 화학식 (I-2-1-a) 내지 화학식 (I-2-1-l)로 나타내는 중합성 모노머(하기 화학식들에 있어서, R7은 수소 또는 메틸을 나타내고, R8은 탄소수 1 내지 20의 알킬을 나타낸다) 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 화학식 (I-2-1-a)이 바람직하다.(I-2-1-a) to (I-2-1-l) shown below may be used as the polymerizable monomer having photo- the polymerizable monomer represented (in the formula, R 7 represents hydrogen or methyl, R 8 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms) and the like, the formula (I-a-2-1) Among these, .

Figure pat00005
Figure pat00005

 상기 화학식 (I-3-1)의 구성 단위가 되는 광배향성을 갖는 중합성 모노머로서는, 예를 들면, 하기 화학식 (I-3-1-a) 내지 화학식 (I-3-1-i)로 나타내는 중합성 모노머(하기 화학식들 중에 있어서, R7은 수소 또는 메틸을 나타내고, R8은 탄소수 1 내지 20의 알킬을 나타낸다) 등을 들 수 있다. (I-3-1-a) to (I-3-1-i) shown below may be used as the polymerizable monomer having photo- (In the following formulas, R 7 represents hydrogen or methyl, and R 8 represents alkyl having 1 to 20 carbon atoms), and the like.

Figure pat00006
Figure pat00006

이들 중합성 모노머 중에서도, 상기 화학식 (I-3-1)의 구성 단위가 되는 광배향성을 갖는 중합성 모노머가 바람직하고, 상기 화학식 (I-3-1)으로 나타내며, R6이 메틸, o=2, p=0, R4가 메틸의 구성 단위가 되는 광배향성을 갖는 중합성 모노머가 보다 바람직하다.
Among these polymerizable monomers, the polymerizable monomer having an optical orientation which is the structural unit of the formula (I-3-1) are preferred, and expressed by the general formula (I-3-1), R 6 is methyl, o = 2, p = 0, and R 4 is a structural unit of methyl is more preferable.

1-4. 기타 중합성 모노머1-4. Other polymerizable monomers

본 발명의 광배향성을 갖는 열경화성 조성물의 광배향성, 밀착성 등을 향상시키는 관점에서, 상기 광배향성을 갖는 중합체(A)는 기타 중합성 모노머를 함유하여도 좋다. 기타 중합성 모노머의 구체적인 예로서는, 예를 들면 (메타)아크릴산, 크로톤산, 말레산, 푸마르산, 시트라콘산, 메사콘산, 이타콘산, 무수 말레산, 무수 이타콘산 등의 카복실산 또는 카복실산 무수물을 함유하는 라디칼 중합성 모노머, 예를 들면 스티렌, 메틸 스티렌, 에틸 스티렌, 메톡시 스티렌, 에톡시 스티렌, 아세톡시 스티렌, 비닐 톨루엔, 클로로메틸 스티렌, 하이드록시 스티렌 등의 스티렌계 라디칼 중합성 모노머, 예를 들면 하이드록시메틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시 에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 3-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴아미드, 디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트, 글리세롤모노(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴산 에스테르계 라디칼 중합성 모노머, 예를 들면 트리시클로[5.2.1.02,6]데카닐(메타)아크릴레이트 등의 축합 고리를 갖는 라디칼 중합성 모노머, 예를 들면 N-페닐마레이미도, N-시클로헥실마레이미드 등의 N치환 말레이미드계 라디칼 중합성 모노머, 예를 들면 폴리스티렌 매크로모노머, 폴리메틸메타크릴레이트 매크로모노머 등의 상기 모노머의 매크로 모노머, N-아크릴로일 모르폴린 등의 질소 및 산소 중 한쪽 또는 양쪽을 포함하는 헤테로 고리을 갖는 라디칼 중합성 모노머, 인덴 등의 축합 고리계 라디칼 중합성 모노머, 예를 들면 3-메타크릴옥시프로필 트리메톡시실란, 3-아크릴옥시프로필 트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필 트리에톡시실란, 3-아크릴옥시프로필 트리에톡시실란, p-스티릴 트리메톡시실란, p-스티릴 트리에톡시실란, 비닐 트리메톡시실란, 비닐 트리에톡시실란 등의 실란계 라디칼 중합성 모노머, 4-하이드록시페닐비닐 케톤, 3-아세틸-4-하이드록시페닐비닐케톤 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. The polymer (A) having photo-alignment properties may contain other polymerizable monomer from the viewpoint of improving the photo-alignment property, adhesion property, and the like of the thermosetting composition having the photo-alignment property of the present invention. Specific examples of other polymerizable monomers include (meth) acrylic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, itaconic acid, maleic anhydride and carboxylic acid anhydride Radical polymerizable monomers such as styrene-based radical-polymerizable monomers such as styrene, methylstyrene, ethylstyrene, methoxystyrene, ethoxystyrene, acetoxystyrene, vinyltoluene, chloromethylstyrene and hydroxystyrene, Hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate Acrylates such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, glycerol mono (Meth) acrylate radical polymerizable monomer such as tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decanyl (meth) acrylate, for example, a radically polymerizable monomer having a condensation ring such as tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decanyl N-substituted maleimide radical polymerizable monomers such as N-phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide, for example, macromonomers of the above monomers such as polystyrene macromonomers and polymethylmethacrylate macromonomers, A radically polymerizable monomer having a heterocycle containing one or both of nitrogen and oxygen, such as propionyl, morpholine, and roile morpholine, a condensed-ring radically polymerizable monomer such as indene, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxy Silane radical polymerizable monomers such as silane, p-styryltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane and vinyltriethoxysilane, 4-hydroxyphenylvinylketone, 3-acetyl-4-hydroxyphenylvinylketone , But the present invention is not limited thereto.

기타 중합성 모노머를 함유할 경우의 상기 광배향성을 갖는 중합체(A)를 구성하는 각 모노머의 혼합 비율(몰비)은 고리형 에테르를 갖는 중합성 모노머(a1) 1몰에 대하여 광배향성을 갖는 중합성 모노머(a2)가 5몰 내지 50몰, 바람직하게는 10몰 내지 45몰, 보다 바람직하게는 15몰 내지 40몰이며, 기타 중합성 모노머가 5몰 내지 40몰, 바람직하게는 10몰 내지 35몰, 보다 바람직하게는 15몰 내지 30몰이다. The mixing ratio (molar ratio) of the respective monomers constituting the polymer (A) having photo-alignment property in the case of containing other polymerizable monomers is such that the polymerizable monomer (a1) having a photo- (A2) is 5 to 50 mol, preferably 10 to 45 mol, more preferably 15 to 40 mol, and the other polymerizable monomer is used in an amount of 5 to 40 mol, preferably 10 to 35 mol, Mol, and more preferably 15 to 30 mol.

상기 광배향성을 갖는 중합체(A)는, 예를 들면 상기 고리형 에테르를 갖는 중합성 모노머(a1), 광배향성을 갖는 중합성 모노머(a2), 말하자면, 기타의 모노머를 반응 용매(예를 들면 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠 등의 방향족 탄화수소류, 예를 들면 펜탄, 헥산, 헵탄, 옥탄, 시클로헥산, 시클로헵탄 등의 지방족 탄화수소류, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 1-프로파놀, 2-프로파놀 등의 알코올류, 예를 들면 디부틸에테르, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 디메틸에테르, 테트라하이드로푸란, 디옥산 등의 에테르류, 예를 들면 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 시클로펜타논 등의 케톤류, 예를 들면 초산에틸, 초산부틸, 초산아밀 등의 초산 에스테르류, γ-부티롤락톤, 예를 들면 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 1-메톡시 -2-프로파놀, 3-메톡시-3-메틸-1-부탄올 등의 다가 알코올류 등) 중에서 반응시키는 것에 의해 수득된다. 또한, 이들 반응 용매는 1종을 단독으로 사용할 수도 있고, 혹은 2종 이상을 조합시켜 사용할 수도 있다. The photo-aligned polymer (A) can be produced by, for example, polymerizing the polymerizable monomer (a1) having the cyclic ether, the polymerizable monomer (a2) having photo-orientation, and other monomers, Aliphatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and ethylbenzene, aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, heptane, octane, cyclohexane and cycloheptane such as methanol, ethanol, Propanol and the like, and ethers such as dibutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, for example, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, Ketones such as cyclohexanone and cyclopentanone, acetic acid esters such as ethyl acetate, butyl acetate and amyl acetate,? -Butyrolactone such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol Propylene glycol, diethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol and 3-methoxy-3-methyl- Alcohols and the like). These reaction solvents may be used singly or in combination of two or more.

상기 광배향성을 갖는 중합체(A)의 제조 방법에 있어서, 상기 고리형 에테르를 갖는 중합성 모노머(a1) 및 광배향성을 갖는 중합성 모노머(a2)를 상기 용제들 중에서 반응시키고, 필요에 따라 상기 고리형 에테르를 갖는 중합성 모노머(a1), 광배향성을 갖는 중합성 모노머(a2) 및 기타의 모노머를 상기 용제들 중에서 반응시킨다. (A1) having a cyclic ether and a polymerizable monomer (a2) having a photo-alignment property are reacted in the above solvents, and if necessary, the polymerizable monomer The polymerizable monomer (a1) having a cyclic ether, the polymerizable monomer (a2) having a photo-alignment property, and other monomers are reacted in the above solvents.

수득된 광배향성을 갖는 중합체(A)의 중량 평균 분자량은 통상적으로 2,000 내지 200,000, 바람직하게는 5,000 내지 100,000이다. 이러한 범위에 있으면, 본 발명의 광배향성을 갖는 열경화성 조성물의 평탄성이 양호해진다.
The weight average molecular weight of the obtained polymer (A) having optical alignment properties is usually 2,000 to 200,000, preferably 5,000 to 100,000. Within this range, the flatness of the thermosetting composition having the photo-alignment property of the present invention is improved.

1-5. 폴리에스테르 아미드산(B)1-5. The polyester amide acid (B)

상기 폴리에스테르 아미드산(B)은 테트라카복실산 이무수물, 디아민 및 다가 하이드록시 화합물을 필수 성분으로서 반응시키는 것에 의해 수득된다. 상기 폴리에스테르 아미드산(B)의 합성에는 적어도 용제가 필요하며, 이러한 용제를 그대로 남겨서 핸들링성 등을 고려한 액상이나 겔상의 열경화성 수지조성물로 해도 좋고, 이 용제를 제거하여 운반성 등을 고려한 고형의 조성물로 해도 좋다. 또한, 폴리에스테르 아미드산의 합성에는, 원료로서 필요에 따라 1가 알코올, 스티렌-무수 말레산 공중합체 그리고 실리콘 함유 모노아민을 포함해도 좋고, 이들 중에서도 분자량 제어의 관점에서 1가 알코올을 포함하는 것이 바람직하다.The polyester amide acid (B) is obtained by reacting tetracarboxylic dianhydride, diamine and polyhydric hydroxy compound as essential components. In order to synthesize the polyester amide acid (B), at least a solvent is required, and a liquid or gel-like thermosetting resin composition may be used in which the solvent is left as it is and the handling property is taken into consideration. May be used. The synthesis of the polyester amide acid may include a monohydric alcohol, a styrene-maleic anhydride copolymer and a silicone-containing monoamine as a raw material as necessary, and among these, monohydric alcohols from the viewpoint of molecular weight control desirable.

더욱이, 상기 폴리에스테르 아미드산(B)은 광배향성 향상의 관점에서 광배향성부위 및 하이드록시를 갖는 화합물을 포함하고 있어도 좋다. Further, the polyester amide acid (B) may contain a compound having a photo-orientable moiety and hydroxy in view of improvement of photo-orientation.

상기 폴리에스테르 아미드산(B)으로서는, 예를 들면, 하기 화학식 (3) 및 화학식 (4)로 나타내는 구성 단위를 갖는 화합물을 들 수 있다. Examples of the polyester amide acid (B) include compounds having structural units represented by the following formulas (3) and (4).

Figure pat00007
Figure pat00007

(상기 화학식들에 있어서, R1은 테트라카복실산 이무수물 잔기이고, R2는 디아민 잔기이며, R3은 다가 하이드록시 화합물 잔기이다.)
(Wherein R 1 is a tetracarboxylic acid dianhydride residue, R 2 is a diamine residue, and R 3 is a polyhydric hydroxy compound residue).

1-6. 테트라카복실산 이무수물1-6. Tetracarboxylic acid dianhydride

본 발명에서 사용되는 테트라카복실산 이무수물로서는 탄소수 2 내지 30의 유기산을 들 수 있고, 그 구체적인 예로서는, 예를 들면 3,3',4,4'-벤조페논 테트라카복실산 이무수물, 2,2',3,3'-벤조페논 테트라카복실산 이무수물, 2,3,3',4'-벤조페논 테트라카복실산 이무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰 테트라카복실산 이무수물, 2,2',3,3'-디페닐술폰 테트라카복실산 이무수물, 2,3,3',4'-디페닐술폰 테트라카복실산 이무수물, 3,3',4,4'-디페닐에테르 테트라카복실산 이무수물, 2,2',3,3'-디페닐에테르 테트라카복실산 이무수물, 2,3,3',4'-디페닐에테르테트라카복실산 이무수물, 2,2-[비스(3,4―디카복시페닐)]헥사플루오로프로판 이무수물, 및 에틸렌글리콜 비스(안하이드로트리멜리테이트)(상품명: TMEG-100, 신니혼리카(新日本理化)(주)(New Japan Chemical Co., Ltd.) 제품) 등의 방향족 테트라카복실산 이무수물, 예를 들면 시클로부탄 테트라카복실산 이무수물, 메틸시클로부탄 테트라카복실산 이무수물, 시클로펜탄 테트라카복실산 이무수물, 및 시클로헥산 테트라카복실산 이무수물 등의 지환식 테트라카복실산 이무수물, 예를 들면 에탄 테트라카복실산 이무수물, 1,2,3,4-부탄 테트라카복실산 이무수물(상품명: 리카시드(RIKACID) BT-100, 신니혼리카(주) 제품) 등의 지방족 테트라카복실산 이무수물 등을 들 수 있다. Examples of the tetracarboxylic acid dianhydride used in the present invention include organic acids having 2 to 30 carbon atoms. Specific examples thereof include 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid dianhydride, 2,2' 3,3'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, 2,3,3 ', 4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, 2,2 ', 3,3'-diphenylsulfone tetracarboxylic acid dianhydride, 2,3,3', 4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-diphenyl ether tetracarboxylic acid dianhydride , 2,2 ', 3,3'-diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, 2,3,3', 4'-diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, 2,2- [bis (3,4- Phenyl)] hexafluoropropane dianhydride and ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate) (trade name: TMEG-100, available from Shin-Nihon Rika Co., Ltd. ) &Lt; / RTI &gt; Alicyclic tetracarboxylic acid dianhydrides such as carboxylic acid dianhydrides such as cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, methylcyclobutane tetracarboxylic acid dianhydride, cyclopentanetetracarboxylic acid dianhydride, and cyclohexanetetracarboxylic acid dianhydride such as ethanetetra Aliphatic tetracarboxylic acid dianhydrides such as carboxylic acid dianhydride and 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid dianhydride (trade name: RIKACID BT-100, Shin-Nippon Rika Co., Ltd.).

이들 중에서도 투명성이 양호한 수지를 부여하는 방향족 테트라카복실산이무수 화합물이 바람직하고, 특히 3,3',4,4'-디페닐술폰 테트라카복실산 이무수물, 3,3',4,4'-디페닐에테르 테트라카복실산 이무수물, 2,2-[비스(3,4-디카복시페닐)]헥사플루오로프로판 이무수물 및 에틸렌글리콜 비스(안하이드로트리멜리테이트) (상품명: TMEG-100, 신니혼리카(주) 제품)가 보다 바람직하며, 3,3',4,4'-디페닐에테르 테트라카복실산 이무수물 및 3,3',4,4'-디페닐술폰 테트라카복실산 이무수물이 특히 바람직하다.
Among them, an aromatic tetracarboxylic acid anhydride which gives a resin with good transparency is preferable, especially 3,3 ', 4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenyl (Trade name: TMEG-100, Shin-Nippon Rika Kagaku Co., Ltd. (trade name: TMEG-100, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., ) Is more preferable, and 3,3 ', 4,4'-diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride and 3,3', 4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride are particularly preferable.

1-7. 디아민1-7. Diamine

본 발명에서 사용되는 디아민으로서는 탄소수 2 내지 30의 것을 들 수 있으며, 그 구체적인 예로서는, 예를 들면 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 3,4'-디아미노디페닐술폰, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]술폰, 비스[3-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, [4-(4-아미노페녹시)페닐] [3-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, [4-(3-아미노페녹시)페닐] [3-(4-아미노페녹시)페닐]술폰 등의 디아미노디페닐술폰류, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]헥사플루오로프로판 등을 들 수 있다. Examples of the diamine used in the present invention include those having 2 to 30 carbon atoms, and specific examples thereof include 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 3,4 ' (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [ Sulfone, [4- (3-aminophenoxy) phenyl] [3- (4-aminophenoxy) phenyl] Phenyl] sulfone, and 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane.

이들 중에서도 투명성이 양호한 수지를 부여하는 디아미노디페닐술폰류가 바람직하고, 특히 3,3'-디아미노디페닐술폰, 및 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]술폰이 보다 바람직하며, 3,3'-디아미노디페닐술폰이 특히 바람직하다.
Of these, diaminodiphenylsulfones which give a resin with good transparency are preferable, particularly 3,3'-diaminodiphenylsulfone and bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone are more preferable , And 3,3'-diaminodiphenyl sulfone are particularly preferable.

1-8. 다가 하이드록시 화합물1-8. Polyhydric hydroxy compound

본 발명에서 사용되는 다가 하이드록시 화합물로서는 탄소수 2 내지 20의 것을 들 수 있고, 그 구체적인 예로서는, 예를 들면 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 테트라에틸렌글리콜 등의 분자량 1,000 이하의 폴리에틸렌 글리콜, 예를 들면 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리프로필렌글리콜, 테트라프로필렌글리콜 등의 분자량 1,000 이하의 폴리프로필렌글리콜, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 1,2-펜탄디올, 1,5-펜탄디올, 2,4-펜탄디올, 1,2-헥산디올, 1,6-헥산디올, 2,5-헥산디올, 1,2-헵탄디올, 1,7-헵탄디올, 1,2-옥탄디올, 1,8-옥탄디올, 3,6-옥탄디올, 1,2-노난디올, 1,9-노난디올, 1,2-데칸디올, 1,10-데칸디올, 1,2-도데칸디올, 1,12-도데칸디올 등의 디올류, 예를 들면 1,2,5-펜탄트리올, 1,2,6-헥산트리올, 1,2,7-헵탄트리올, 1,2,8-옥탄트리올, 1,2,9-노난트리올, 1,2,10-데칸트리올 등의 트리올류, 글리세린, 트리메틸올프로판, 펜타에리스리톨, 디펜타에리스리톨, 비스페놀A(상품명), 비스페놀S(상품명), 비스페놀F(상품명), 디에탄올아민 그리고 트리에탄올아민을 들 수 있다. Examples of the polyhydroxy compound used in the present invention include those having 2 to 20 carbon atoms, and specific examples thereof include polyethylene glycol having a molecular weight of 1,000 or less such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, Examples thereof include polypropylene glycols having a molecular weight of 1,000 or less such as propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol and tetrapropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, Diol, 1,5-pentanediol, 2,4-pentanediol, 1,2-hexanediol, 1,6-hexanediol, 2,5-hexanediol, 1,2-heptanediol, , 1,2-octanediol, 1,8-octanediol, 3,6-octanediol, 1,2-nonanediol, 1,9-nonanediol, 1,2-dodecanediol, 1,12-dodecanediol, and other diols such as 1,2,5-pentanetriol, 1,2,6-hexanetriol, 1,2,7- Triol, 1,2,8-octanetriol, 1, Trimethylol propane, pentaerythritol, dipentaerythritol, bisphenol A (trade name), bisphenol S (trade name), bisphenol F (trade name) Trade names), diethanolamine and triethanolamine.

이들 중에서도 용제로의 용해성이 양호한 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 1,7-헵탄디올 및 1,8-옥탄디올이 바람직하고, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올 및 1,6-헥산디올이 특히 바람직하다.
Of these, preferred are ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,7-heptanediol and 1,8-octanediol having good solubility in a solvent , 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol and 1,6-hexanediol are particularly preferred.

1-9. 1가 알코올1-9. Monohydric alcohol

본 발명에서 사용되는 1가의 알코올의 구체적인 예로서는 탄소수 1 내지 20, 바람직하게는 탄소수 1 내지 10의 것을 들 수 있고, 구체적으로는, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 1-프로파놀, 이소프로필 알코올, 알릴 알코올, 벤질 알코올, 하이드록시 에틸 메타크릴레이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 페놀, 보르네올, 말톨, 리날로올, 테르피네올, 디메틸벤질카르비놀, 3-에틸-3-하이드록시 메틸 옥세탄 등을 들 수 있다. Specific examples of the monohydric alcohols used in the present invention include those having 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, and specific examples thereof include methanol, ethanol, 1-propanol, isopropyl alcohol, And examples thereof include alcohols, benzyl alcohols, hydroxyethyl methacrylate, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, Diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, phenol, borneol, maltol, linalool, terpineol, dimethylbenzylcarbinol and 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane .

이들 중에서도 이소프로필 알코올, 알릴 알코올, 벤질 알코올, 하이드록시 에틸 메타크릴레이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 3-에틸-3-하이드록시 메틸 옥세탄 등이 바람직하다. 이들을 사용하여 이루어지는 폴리에스테르 아미드산과, 에폭시 수지 및 에폭시 경화제를 혼합한 경우의 상용성이나 최종 제품인 열경화성 조성물의 컬러필터상으로의 도포성을 고려하면, 1가의 알코올에는 벤질 알코올이 보다 바람직하다.
Of these, isopropyl alcohol, allyl alcohol, benzyl alcohol, hydroxyethyl methacrylate, propylene glycol monoethyl ether and 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane are preferable. Benzyl alcohol is more preferable as the monohydric alcohol in consideration of the compatibility of the polyester amide acid formed by using them, the compatibility in the case of mixing the epoxy resin and the epoxy curing agent, and the coating property of the thermosetting composition as the final product on the color filter.

1-10. 중합 반응에 사용하는 용제1-10. Solvent used in polymerization reaction

폴리에스테르 아미드산(B)을 수득하기 위한 중합 반응에 사용하는 용제의 구체적인 예로서는, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 3-메톡시 프로피온산 메틸, 3-에톡시 프로피온산 에틸, 유산 에틸, 시클로헥사논, N-메틸-2-필로리돈 및 N,N-디메틸 아세트아미드를 들 수 있다. Specific examples of the solvent used in the polymerization reaction for obtaining the polyester amide acid (B) include diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene Propyleneglycol monomethyl ether acetate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl lactate, cyclohexanone, N-methyl-2-phyloridone and N, N-dimethylacetate Amides.

이들 중에서도 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 3-메톡시 프로피온산 메틸 및 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르가 바람직하다. Of these, propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl 3-methoxypropionate and diethylene glycol methyl ethyl ether are preferred.

이들 용제는 1종 단독 또는 2종 이상의 혼합 용제로 하여 사용할 수 있다. 또한, 용매의 사용량이 총 주입량에 대하여 30 중량% 이하의 비율이면 상기 용제 이외에 다른 용제를 혼합하여 사용할 수도 있다.
These solvents may be used alone or in combination of two or more. If the amount of the solvent used is in the range of 30 wt% or less based on the total amount of the solvent, other solvent than the solvent may be mixed and used.

1-11. 광배향성 부위 및 하이드록시를 갖는 화합물1-11. A compound having a photo-orientable portion and a hydroxy

본 발명의 광배향성을 갖는 열경화성 조성물의 광배향성을 더욱 향상시키는 관점에서, 상기 폴리에스테르 아미드산(B)은 광배향성 부위 및 하이드록시를 갖는 화합물을 함유해도 좋다. 광배향성 부위 및 하이드록시를 갖는 화합물의 구체적인 예로서는, 예를 들면 4-(8-하이드록시옥틸옥시)계피산메틸에스테르, 4-(6-하이드록시헥실옥시)계피산메틸에스테르, 4-(4-하이드록시부틸옥시)계피산메틸에스테르, 4-(3-하이드록시프로필옥시)계피산메틸에스테르, 4-(2-하이드록시 에틸옥시)계피산메틸에스테르, 4-하이드록시메틸옥시 계피산메틸에스테르, 4-하이드록시 계피산메틸에스테르, 4-(8-하이드록시옥틸옥시)계피산에틸에스테르, 4-(6-하이드록시헥실옥시)계피산에틸에스테르, 4-(4-하이드록시부틸옥시)계피산에틸에스테르, 4-(3-하이드록시프로필옥시)계피산에틸에스테르, 4-(2-하이드록시에틸옥시)계피산에틸에스테르, 4-하이드록시메틸옥시 계피산에틸에스테르, 4-하이드록시에틸옥시 계피산에틸에스테르, 4-하이드록시 계피산에틸에스테르, 4-(8-하이드록시옥틸옥시)계피산페닐에스테르, 4-(6-하이드록시헥실옥시)계피산페닐에스테르, 4-(4-하이드록시부틸옥시)계피산페닐에스테르, 4-(3-하이드록시프로필옥시)계피산페닐에스테르, 4-(2-하이드록시 에틸옥시)계피산페닐에스테르, 4-하이드록시메틸옥시 계피산페닐에스테르, 4-하이드록시 계피산페닐에스테르, 4-(8-하이드록시옥틸옥시)계피산비페닐에스테르, 4-(6-하이드록시헥실옥시)계피산비페닐에스테르, 4-(4-하이드록시부틸옥시)계피산비페닐에스테르, 4-(3-하이드록시프로필옥시)계피산비페닐에스테르, 4-(2-하이드록시 에틸옥시)계피산비페닐에스테르, 4-하이드록시메틸옥시 계피산비페닐에스테르, 4-하이드록시 계피산비페닐에스테르, 계피산8-하이드록시옥틸에스테르, 계피산6-하이드록시헥실에스테르, 계피산4-하이드록시부틸에스테르, 계피산3-하이드록시프로필에스테르, 계피산2-하이드록시에틸에스테르, 계피산하이드록시메틸에스테르 등의 계피산 에스테르류, 예를 들면 4-(8-하이드록시옥틸옥시)아조벤젠, 4-(6-하이드록시헥실옥시)아조벤젠, 4-(4-하이드록시부틸옥시)아조벤젠, 4-(3-하이드록시프로필옥시)아조벤젠, 4-(2-하이드록시 에틸옥시)아조벤젠, 4-하이드록시메틸옥시아조벤젠, 4-하이드록시아조벤젠 등의 아조벤젠류, 예를 들면 4-(8-하이드록시옥틸옥시)칼콘, 4-(6-하이드록시헥실옥시)칼콘, 4-(4-하이드록시부틸옥시)칼콘, 4-(3-하이드록시프로필옥시)칼콘, 4-(2-하이드록시에틸옥시)칼콘, 4-하이드록시메틸옥시칼콘, 4-하이드록시칼콘, 4'-(8-하이드록시옥틸옥시)칼콘, 4'-(6-하이드록시헥실옥시)칼콘, 4'-(4-하이드록시부틸옥시)칼콘, 4'-(3-하이드록시프로필옥시)칼콘, 4'-(2-하이드록시에틸옥시)칼콘, 4'-하이드록시메틸옥시칼콘, 4'-하이드록시칼콘 등의 칼콘류, 예를 들면 7-(8-하이드록시옥틸옥시)쿠마린, 7-(6-하이드록시헥실옥시)쿠마린, 7-(4-하이드록시부틸옥시)쿠마린, 7-(3-하이드록시프로필옥시)쿠마린, 7-(2-하이드록시 에틸옥시)쿠마린, 7-하이드록시메틸옥시쿠마린, 7-하이드록시쿠마린, 6-하이드록시옥틸옥시쿠마린, 6-하이드록시헥실옥시쿠마린, 6-(4-하이드록시부틸옥시)쿠마린, 6-(3-하이드록시프로필옥시)쿠마린, 6-(2-하이드록시에틸옥시)쿠마린, 6-하이드록시메틸옥시쿠마린, 6-하이드록시쿠마린 등의 쿠마린류를 들 수 있으나, 이들에 한정되는 것은 아니다.
The polyester amide acid (B) may contain a compound having a photo-orientable moiety and hydroxy, from the viewpoint of further improving the photo-alignment property of the photo-alignment thermosetting composition of the present invention. Specific examples of the compound having a photo-orientable portion and a hydroxy include methyl ester of 4- (8-hydroxyoctyloxy) cinnamate, methyl ester of 4- (6-hydroxyhexyloxy) cinnamate, 4- Hydroxyethyloxy) cinnamic acid methyl ester, 4- (3-hydroxypropyloxy) cinnamic acid methyl ester, 4- (2-hydroxyethyloxy) cinnamic acid methyl ester, 4-hydroxymethyloxy cinnamic acid methyl ester, (4-hydroxybutyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4- (4-hydroxybutyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4- (3-hydroxypropyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4- (2-hydroxyethyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4-hydroxymethyloxy cinnamic acid ethyl ester, 4-hydroxyethyloxy cinnamic acid ethyl ester, Cinnamic acid ethyl ester , Phenyl ester of 4- (8-hydroxyoctyloxy) cinnamate, phenyl ester of 4- (6-hydroxyhexyloxy) cinnamate, phenyl ester of 4- (4-hydroxybutyloxy) cinnamate, 4- Hydroxypropyloxy) cinnamic acid phenyl ester, 4- (2-hydroxyethyloxy) cinnamic acid phenyl ester, 4-hydroxymethyloxy cinnamic acid phenyl ester, 4-hydroxy cinnamic acid phenyl ester, 4- (8- (4-hydroxybutyloxy) cinnamic acid biphenyl ester, 4- (3-hydroxypropyloxy) cinnamic acid biphenyl ester, 4- , Biphenyl ester of 4- (2-hydroxyethyloxy) cinnamic acid, biphenyl ester of 4-hydroxymethyloxy cinnamate, biphenyl ester of 4-hydroxycinnamic acid, 8-hydroxyoctyl ester of cinnamic acid, 6-hydroxyhexyl cinnamate Ester, cinnamic acid 4-hydroxybutyl ester, Cinnamic acid esters such as cinnamic acid 3-hydroxypropyl ester, cinnamic acid 2-hydroxyethyl ester and cinnamic acid hydroxymethyl ester, such as 4- (8-hydroxyoctyloxy) azobenzene, 4- (4-hydroxybutyloxy) azobenzene, 4- (3-hydroxypropyloxy) azobenzene, 4- (2-hydroxyethyloxy) azobenzene, 4-hydroxymethyloxyazobenzene, 4 (4-hydroxybutyloxy) chalcone, 4- (4-hydroxybutyloxy) chalcone, 4- 4-hydroxymethyloxycalone, 4-hydroxycalcone, 4 '- (8-hydroxyoctyloxy) chalcone, 4- (2-hydroxyethyloxy) 4'- (6-hydroxyhexyloxy) chalcone, 4 '- (4-hydroxybutyloxy) chalcone, 4' - (3- hydroxypropyloxy) For example, 7- (8-hydroxyoctyloxy) coumarin, 7- (6-hydroxyhexyloxy) -cyclohexyloxycarbonyl, 7-hydroxymethyloxycoumarin, 7-hydroxymethyloxycoumarin, 7- (4-hydroxybutyloxy) coumarin, 7- 6-hydroxyhexyloxy coumarin, 6- (4-hydroxybutyloxy) coumarin, 6- (3-hydroxypropyloxy) coumarin, 6- Ethyloxy) coumarin, 6-hydroxymethyloxycoumarin, 6-hydroxy coumarin, and the like, but are not limited thereto.

1-12. 폴리에스테르 아미드산의 제조 방법1-12. Process for producing polyester amide acid

본 발명에서 사용되는 폴리에스테르 아미드산의 제조 방법에 있어서, 테트라카복실산 이무수물 X몰, 디아민 Y몰 및 다가 하이드록시 화합물 Z몰을 상기 용제 중으로 반응시킨다. 이 때, X, Y 및 Z는 이들 사이에 하기 식 (1) 및 식 (2)의 관계가 성립하도록 하는 비율로 정하는 것이 바람직하다. 이러한 범위이면, 폴리에스테르 아미드산의 용제로의 용해성이 높으며, 따라서 조성물의 도포성이 향상하고, 결과적으로 평탄성이 우수한 경화막을 수득할 수 있다. In the process for producing a polyester amide acid used in the present invention, X mol of tetracarboxylic dianhydride, Y mol of diamine and Z mol of polyhydric hydroxy compound are reacted in the solvent. At this time, it is preferable that X, Y, and Z be determined in such a ratio that the relationship of the following formulas (1) and (2) is established between them. With such a range, the solubility of the polyester amide acid in the solvent is high, and thus the coating property of the composition is improved, and as a result, a cured film excellent in flatness can be obtained.

0.2≤Z/Y≤8.0 …… (1)0.2? Z / Y? ... (One)

0.2≤(Y+Z)/X≤1.5 …… (2)0.2? (Y + Z) /X? 1.5 ... ... (2)

상기 식 (1)의 관계는 바람직하게는 0.7≤Z/Y≤7.0이며, 보다 바람직하게는 1.3≤Z/Y≤7.0이다. 또한, 상기 식 (2)의 관계는 바람직하게는 0.5≤(Y+Z)/X≤0.9이며, 더욱 바람직하게는 0.7≤(Y+Z)/X≤0.8이다. The relationship of the above formula (1) is preferably 0.7? Z / Y? 7.0, and more preferably 1.3? Z / Y? 7.0. The relationship of the formula (2) is preferably 0.5? (Y + Z) / X? 0.9, more preferably 0.7? (Y + Z) / X? 0.8.

본 발명에서 사용되는 폴리에스테르 아미드산이 분자 말단에 산무수물기를 가지고 있는 경우에는, 필요에 따라 상술한 1가 알코올을 첨가하여 반응시킬 수 있다. 1가 알코올을 첨가하여 반응하는 것에 의해 수득된 폴리에스테르 아미드산은 에폭시 수지 및 에폭시 경화제와의 상용성(相溶性)이 개선되면서, 동시에 이들을 포함하는 본 발명의 열경화성 수지 조성물의 도포성이 개선된다. When the polyester amide acid used in the present invention has an acid anhydride group at the terminal of the molecule, the above-described monohydric alcohol may be added thereto if necessary. The polyester amide acid obtained by reacting by adding monohydric alcohol improves the compatibility with the epoxy resin and the epoxy curing agent and simultaneously improves the applicability of the thermosetting resin composition of the present invention containing them.

또한, 상술한 실리콘 함유 모노아민을 분자 말단에 산무수물기를 갖는 폴리에스테르 아미드산과 반응시키는 경우에는 수득된 도막의 내산성이 개선된다. 더욱이, 1가 알코올과 실리콘 함유 모노아민을 동시에 폴리에스테르 아미드산과 반응시킬 수도 있다.
When the above-mentioned silicon-containing monoamine is reacted with a polyester amide acid having an acid anhydride group at the molecular end, the acid resistance of the obtained coating film is improved. Furthermore, monohydric alcohols and silicon-containing monoamines can be reacted simultaneously with polyester amide acids.

1-13. 실리콘 함유 모노아민1-13. Silicon-containing monoamines

본 발명에서 사용되는 실리콘 함유 모노아민의 구체적인 예로서는, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-아미노프로필메틸디메톡시실란, 3-아미노프로필메틸디에톡시실란, 4-아미노부틸트리메톡시실란, 4-아미노부틸트리에톡시실란, 4-아미노부틸메틸디에톡시실란, p-아미노페닐트리메톡시 실란, p-아미노페닐트리에톡시실란, p-아미노페닐메틸디메톡시실란, p-아미노페닐메틸디에톡시실란, m-아미노페닐트리메톡시실란, 및 m-아미노페닐메틸디에톡시실란 등을 들 수 있다. Specific examples of the silicon-containing monoamine used in the present invention include 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, 4 -Aminobutyltrimethoxysilane, 4-aminobutyltriethoxysilane, 4-aminobutylmethyldiethoxysilane, p-aminophenyltrimethoxysilane, p-aminophenyltriethoxysilane, p- Aminophenylmethyldiethoxysilane, m-aminophenyltrimethoxysilane, m-aminophenylmethyldiethoxysilane, and the like.

이들 중에서도 도막의 내산성이 양호한 3-아미노프로필트리에톡시실란 및 p-아미노페닐트리메톡시실란이 바람직하고, 3-아미노프로필트리에톡시실란이 특히 바람직하다. Of these, 3-aminopropyltriethoxysilane and p-aminophenyltrimethoxysilane, which are excellent in the acid resistance of the coating film, are preferable, and 3-aminopropyltriethoxysilane is particularly preferable.

반응 용제는, 테트라카복실산 이무수물, 디아민 및 다가 하이드록시 화합물의 합계 100 중량부에 대하여 100 중량부 이상 사용하면, 반응이 부드럽게 진행하므로 바람직하다. 반응은 40℃ 내지 200℃에서, 0.2 시간 내지 20 시간 반응시키는 것이 좋다. 실리콘 함유 모노아민을 반응시킬 경우에는 테트라카복실산 이무수물과 디아민 및 다가 하이드록시 화합물의 반응이 종료한 후에, 반응액을 40℃ 이하까지 냉각한 후, 실리콘 함유 모노아민을 첨가하여 10℃ 내지 40℃에서 0.1시간 내지 6시간 반응시키면 좋다. 또한, 1가 알코올은 반응의 어느 시점에서 첨가해도 좋다. The reaction solvent is preferably used in an amount of 100 parts by weight or more based on 100 parts by weight of the total of tetracarboxylic acid dianhydride, diamine and polyhydric hydroxy compound, because the reaction proceeds smoothly. The reaction is preferably carried out at 40 ° C to 200 ° C for 0.2 to 20 hours. When the silicon-containing monoamine is reacted, after the reaction of the tetracarboxylic acid dianhydride and the diamine and the polyhydric hydroxy compound is completed, the reaction solution is cooled to 40 ° C or lower, and then the silicon-containing monoamine is added thereto, For 0.1 to 6 hours. The monohydric alcohol may be added at any point in the reaction.

반응 원료의 반응계로의 첨가 순서는 특별히 한정되지 않는다. 다시 말하면, (1) 테트라카복실산 이무수물과 디아민 및 다가 하이드록시 화합물을 동시에 반응 용제에 첨가, (2) 디아민 및 다가 하이드록시 화합물을 반응 용제 중에 용해시킨 후에 테트라카복실산 이무수물을 첨가, (3) 테트라카복실산 이무수물과 다가 하이드록시 화합물을 미리 반응시킨 후에 그 반응 생성물에 디아민을 첨가, 또는 (4) 테트라카복실산 이무수물과 디아민을 미리 반응시킨 후에 그 반응 생성물에 다가 하이드록시 화합물을 첨가하는 등 어느 방법으로도 할 수 있다.The order of addition of the reaction raw materials to the reaction system is not particularly limited. (2) adding tetracarboxylic acid dianhydride after dissolving the diamine and the polyhydric hydroxy compound in the reaction solvent, (3) adding tetracarboxylic dianhydride to the reaction solvent, (4) adding tetracarboxylic dianhydride, A tetracarboxylic dianhydride and a polyhydric hydroxy compound are preliminarily reacted and then a diamine is added to the reaction product, or (4) a tetracarboxylic dianhydride and a diamine are reacted in advance, and then a polyhydroxy compound is added to the reaction product. It can also be done as a method.

또한, 본 발명에서 사용되는 폴리에스테르 아미드산은 산무수물기를 3개 이상 갖는 화합물을 첨가하여 합성 반응을 실시해도 좋다. 산무수물기를 3개 이상 갖는 화합물의 구체적인 예로서는 스티렌-무수 말레산 공중합체를 들 수 있다. 스티렌-무수 말레산 공중합체를 구성하는 각 성분의 비율에 대해서는, 스티렌/무수 말레산의 몰비가 0.5 내지 4, 바람직하게는 1 내지 3이며, 구체적으로는 0.8 내지 1.2가 보다 바람직하다. The polyester amide acid used in the present invention may be synthesized by adding a compound having three or more acid anhydride groups. Specific examples of the compound having three or more acid anhydride groups include a styrene-maleic anhydride copolymer. The molar ratio of styrene / maleic anhydride to styrene / maleic anhydride copolymer is 0.5 to 4, preferably 1 to 3, and more preferably 0.8 to 1.2.

스티렌-무수 말레산 공중합체의 구체적인 예로서는 카와하라 유화(川原 油化)(주)(KAWAHARA PETROCHEMICAL CO.,LTD) 제품인, SMA3000P, SMA2000P, SMA1000P 등의 시판품을 들 수 있다. 이들 중에서도 내열성 및 내알칼성이 양호한 SMA1000P가 특히 바람직하다. Specific examples of the styrene-maleic anhydride copolymer include commercially available products such as SMA3000P, SMA2000P and SMA1000P manufactured by KAWAHARA PETROCHEMICAL CO., LTD. Of these, SMA1000P, which is excellent in heat resistance and scratch resistance, is particularly preferable.

전술한 바와 같이 하여 합성된 폴리에스테르 아미드산은 상기 화학식 (3) 및 화학식 (4)로 이루어지는 구성 단위를 포함하고, 그 말단은 원료인 테트라카복실산 이무수물, 디아민 혹은 다가 하이드록시 화합물에 유래하는 산무수물기, 아미노기 혹은 하이드록시이거나 또는 이들 화합물 이외의 첨가물이 그 말단을 구성하는 것이 바람직하다. 상기 화학식 (3) 및 화학식 (4)에 있어서, R1은 테트라카복실산 이무수물 잔기이고, 바람직하게는 탄소수 2 내지 30의 유기기이다. R2는 디아민 잔기이며, 바람직하게는 탄소수 2 내지 30의 유기기이다. R3은 다가 하이드록시 화합물 잔기이며, 바람직하게는 탄소수 2 내지 20의 유기기이다.The polyester amide acid synthesized as described above contains a constitutional unit represented by the above-mentioned formulas (3) and (4), and the terminal thereof is an acid anhydride derived from tetracarboxylic acid dianhydride, diamine or polyhydric hydroxy compound as a raw material Group, an amino group, or a hydroxy group, or an additive other than these compounds constitutes the terminal. In the above formulas (3) and (4), R 1 is a tetracarboxylic acid dianhydride residue, preferably an organic group having 2 to 30 carbon atoms. R 2 is a diamine residue, preferably an organic group having 2 to 30 carbon atoms. R 3 is a polyhydric hydroxy compound residue, preferably an organic group having 2 to 20 carbon atoms.

수득된 폴리에스테르 아미드산의 중량 평균 분자량은 1,000 내지 500,000인 것이 바람직하고, 2,000 내지 200,000이 보다 바람직하다. 이와 같은 범위에 있으면 수득되는 경화막의 평탄성 및 내열성이 양호해진다.
The weight average molecular weight of the obtained polyester amide acid is preferably 1,000 to 500,000, more preferably 2,000 to 200,000. Within this range, the flatness and heat resistance of the resulting cured film are improved.

1-14. 기타 성분1-14. Other ingredients

본 발명의 광배향성을 갖는 열경화성 조성물은 본 발명의 목적을 손상하지 않는 범위에서 필요에 따라 상기 이외의 다른 성분을 함유해도 좋다. 이와 같은 다른 성분으로서, 에폭시 경화제, 커플링제, 계면 활성제, 산화 방지제, 용제 등을 들 수 있다.
The thermosetting composition having photo-alignment property of the present invention may contain components other than those described above as needed within the scope of not impairing the object of the present invention. Examples of such other components include an epoxy curing agent, a coupling agent, a surfactant, an antioxidant, and a solvent.

1-14-1. 에폭시 경화제1-14-1. Epoxy hardener

본 발명의 광배향성을 갖는 열경화성 조성물에는 평탄성, 내약품성 등을 향상시키는 관점에서 에폭시 경화제를 함유해도 좋다. 에폭시 경화제로서는 산무수물계 경화제, 폴리아민계 경화제, 폴리페놀계 경화제 및 촉매형 경화제 등이 있지만, 착색 및 내열성에 있어서 산무수물계 경화제가 바람직하다. The thermosetting composition having photo-alignment properties of the present invention may contain an epoxy curing agent from the viewpoint of improving flatness, chemical resistance, and the like. As the epoxy curing agent, there are an acid anhydride curing agent, a polyamine curing agent, a polyphenolic curing agent, and a catalyst type curing agent, but an acid anhydride curing agent is preferable in coloring and heat resistance.

평탄성, 내약품성 등의 향상을 목적으로 에폭시 경화제를 첨가할 경우, 에폭시 수지와 에폭시 경화제의 비율은 에폭시 수지 100 중량부에 대하여, 에폭시 경화제 1 중량부 내지 13 중량부이다. 바람직하게는 5 중량부 내지 13 중량부이며, 보다 바람직하게는 8 중량부 내지 11 중량부이다. 에폭시 경화제의 첨가량에 대해서, 보다 상세하게는 에폭시기에 대하여 에폭시 경화제 중의 카복실산 무수물기 또는 카복실이 0.1배 내지 1.5배의 당량이 되도록 첨가하는 것이 바람직하다. 이 때, 카복실산 무수물기는 카복실을 2개 생성하는 것으로 하여 계산한다. 카복실산 무수물기 또는 카복실이 0.15배 내지 0.8배의 당량이 되도록 첨가하면 평탄성, 내약품성 등이 한층 더 향상되므로 더욱 바람직하다. When an epoxy curing agent is added for the purpose of improving the flatness and chemical resistance, the ratio of the epoxy resin to the epoxy curing agent is 1 part by weight to 13 parts by weight of the epoxy curing agent relative to 100 parts by weight of the epoxy resin. Preferably 5 parts by weight to 13 parts by weight, and more preferably 8 parts by weight to 11 parts by weight. As to the addition amount of the epoxy curing agent, more specifically, it is preferable to add the carboxylic acid anhydride group or the carboxyl in the epoxy curing agent to the epoxy group so that the equivalent is 0.1 to 1.5 times. At this time, the carboxylic acid anhydride group is calculated by generating two carboxyl groups. The carboxylic acid anhydride group or the carboxyl group is added so as to have an equivalence ratio of 0.15 to 0.8, the flatness, chemical resistance and the like are further improved.

산무수물계 경화제의 구체적인 예로서는 지방족 디카복실산 무수물, 방향족 다가 카복실산 무수물, 스티렌-무수 말레산 공중합체 등을 들 수 있다. Specific examples of the acid anhydride-based curing agent include an aliphatic dicarboxylic acid anhydride, an aromatic polycarboxylic acid anhydride, and a styrene-maleic anhydride copolymer.

지방족 디카복실산 무수물의 구체적인 예로서는 무수말레산, 무수테트라하이드로프탈산, 무수헥사하이드로프탈산, 무수메틸헥사하이드로프탈산, 헥사하이드로트리멜리틱산 무수물 등을 들 수 있다. 방향족 다가 카복실산 무수물의 구체적인 예로서는, 무수프탈산, 트리멜리틱산 무수물 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 내열성과 용제에 대한 용해성의 밸런스에 있어서 트리멜리틱산 무수물, 헥사하이드로트리멜리틱산 무수물 등이 특히 바람직하다.
Specific examples of the aliphatic dicarboxylic acid anhydride include maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride and hexahydrotrimellitic anhydride. Specific examples of the aromatic polycarboxylic acid anhydrides include phthalic anhydride and trimellitic acid anhydride. Of these, trimellitic acid anhydride, hexahydrotrimellitic acid anhydride and the like are particularly preferable in balance of heat resistance and solubility in solvents.

1-14-2. 커플링제1-14-2. Coupling agent

본 발명의 광배향성을 갖는 열경화성 조성물은 기판과의 밀착성을 향상시키는 관점에서, 커플링제를 함유해도 좋다. 커플링제의 함유량은 열경화성 조성물 전량에 대하여 1 중량% 이상인 것이 내열성 및 내용제성을 향상시킨다는 관점에서 바람직하고, 다른 특성과의 밸런스를 고려하면 1 중량% 내지 20 중량%인 것이 보다 바람직하다. The thermosetting composition having photo-alignment property of the present invention may contain a coupling agent from the viewpoint of improving the adhesion with the substrate. The content of the coupling agent is preferably 1% by weight or more based on the total amount of the thermosetting composition from the viewpoint of improving heat resistance and solvent resistance, and more preferably 1% by weight to 20% by weight from the viewpoint of balance with other properties.

커플링제로서는 실란계, 알루미늄계 및 티타네이트계의 화합물을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 3-글리시독시프로필 디메틸에톡시실란, 3-글리시독시프로필 메틸디에톡시실란, 및 3-글리시독시프로필 트리메톡시실란(상품명: S510, JNC(주) 제품) 등의 실란계, 아세트알콕시 알루미늄 디이소프로필레이트 등의 알루미늄계, 및 테트라이소프로필비스(디옥틸포스파이트)티타네이트 등의 티타네이트계를 들 수 있다. 이들 중에서도 실란계가 바람직하고, 3-글리시독시프로필 트리메톡시실란이 밀착성을 향상시키는 효과가 크기 때문에 특히 바람직하다.
As the coupling agent, a silane-based, aluminum-based or titanate-based compound may be used. Specific examples thereof include 3-glycidoxypropyldimethylethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (trade name: S510, Silane series, aluminum series such as acetalalkoxyaluminum diisopropylate, and titanate series such as tetraisopropyl bis (dioctylphosphite) titanate. Among them, the silane series is preferable, and 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane is particularly preferable because it has a large effect of improving the adhesion.

1-14-3. 계면 활성제1-14-3. Surfactants

본 발명의 광배향성을 갖는 열경화성 조성물은 베이스 기판으로의 습윤성, 레벨링성 또는 도포성을 향상시키는 관점에서 계면 활성제를 함유하여도 좋다. 이러한 관점에서, 계면 활성제의 함유량은 열경화성 조성물 전량에 대하여 0.005 중량% 내지 10 중량%인 것이 바람직하고, 0.01 중량% 내지 8 중량%인 것이 보다 바람직하며, 0.01 중량% 내지 5 중량%인 것이 더욱 바람직하다. The thermosetting composition having the photo-alignment property of the present invention may contain a surfactant from the viewpoint of improving the wettability, leveling property or coatability to the base substrate. From this viewpoint, the content of the surfactant is preferably 0.005 wt% to 10 wt%, more preferably 0.01 wt% to 8 wt%, and even more preferably 0.01 wt% to 5 wt% with respect to the total amount of the thermosetting composition Do.

이러한 계면 활성제로서는 폴리프로우 No. 45, 폴리프로우 KL-245, 폴리프로우 No. 75, 폴리프로우 No. 90, 폴리프로우 No. 95(이상 모두 상품명, 쿄에이샤(共榮社)화학공업(주)(KYOEISHA CHEMICAL CO., LTD) 제품), 디스페르비크(Disperbyk) 161, 디스페르비크 162, 디스페르비크 163, 디스페르비크 164, 디스페르비크 166, 디스페르비크 170, 디스페르비크 180, 디스페르비크 181, 디스페르비크 182, BYK300, BYK306, BYK310, BYK320, BYK330, BYK342, BYK346(이상 모두 상품명, 비크 케미 재팬(주)(BYK-Chemie Japan K.K.) 제품), KP-341, KP-358, KP-368, KF-96-50CS, KF-50-100CS(이상 모두 상품명, 신에츠(信越)화학공업(주)(Shin-Etsu Chemicla Co., Ltd) 제품), 사후론SC-101, 사후론KH-40(이상 모두 상품명, 세이미케미컬(주) 제품), 푸타르겐트(Futargent)222F, 푸타르겐트251, FTX-218(이상 모두 상품명, (주)네오스(NEOS Co., Ltd.) 제품), EFTOP EF-351, EFTOP EF-352, EFTOP EF-601, EFTOP EF-801, EFTOP EF-802(이상 모두 상품명, 미쓰비시 머티리얼즈(주)(Mitsubishi Materials Corporation) 제품), 메가팩(Megafac)F-171, 메가팩F-177, 메가팩F-475, 메가팩F-477(이상 모두 상품명, DIC(주) 제품), 데논(DENON)1826M, PC-6862, PC-7062C, 에리미나208M(이상 모두 상품명, 마루비시(丸菱)유화공업(주)(Marubishi oil chemical co. ltd) 제품), 플루오로알킬 벤젠술폰산염, 플루오로알킬 카복실산염, 플루오로알킬 폴리옥시에틸렌에테르, 플루오로알킬 암모늄요오드화물, 플루오로알킬 베타인, 플루오로알킬 술폰산염, 디글리세린 테트라키스(플루오로알킬 폴리옥시에틸렌에테르), 플루오로알킬 트리메틸암모늄염, 플루오로알킬 아미노술폰산염, 폴리옥시에틸렌 노닐페닐에테르, 폴리옥시에틸렌 옥틸페닐에테르, 폴리옥시에틸렌 알킬에테르, 폴리옥시에틸렌 라우릴에테르, 폴리옥시에틸렌 오레일에테르, 폴리옥시에틸렌 트리데실에테르, 폴리옥시에틸렌 세틸에테르, 폴리옥시에틸렌 스테아릴에테르, 폴리옥시에틸렌 라우레이트, 폴리옥시에틸렌 올레레이트, 폴리옥시에틸렌 스테아레이트, 폴리옥시에틸렌 라우릴 아민, 솔비탄 라우레이트, 솔비탄 팔미테이트, 솔비탄 스테아레이트, 솔비탄 올리에이트, 솔비탄 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌 솔비탄 라우레이트, 폴리옥시에틸렌 솔비탄 팔미테이트, 폴리옥시에틸렌 솔비탄 스테아레이트, 폴리옥시에틸렌 솔비탄 올리에이트, 폴리옥시에틸렌 나프틸 에테르, 알킬벤젠술폰산염 또는 알킬디페닐에테르디술폰산염을 들 수 있고, 이들 중에서도 PC-7062C가 바람직하다.
As such a surfactant, 45, Polypro KL-245, 75; 90; 95 (all trade names, products of KYOEISHA CHEMICAL CO., LTD.), Disperbyk 161, Disperbyk 162, Disperbyk 163, (All trade names, manufactured by Beck Chemie Japan (hereinafter referred to as &quot; Beck Chemie Japan &quot;), KP-365, KF-96-50CS and KF-50-100CS (all trade names, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) (Commercially available from Shin-Etsu Chemicla Co., Ltd.), SURFORON SC-101, SURFRON KH-40 (all trade names, products of SEEMY Chemical Co.), Futargent 222F, FTX-218 (all trade names, manufactured by NEOS Co., Ltd.), EFTOP EF-351, EFTOP EF-352, EFTOP EF-601, EFTOP EF-801, EFTOP EF- (Trade name, product of Mitsubishi Materials Corporation) (DENON) 1826M, PC-6862, PC-6862, Megafac F-477, Megafac F-477 7062C, and Erimina 208M (all of which are products of Marubishi oil chemical co. Ltd.), Fluoroalkylbenzenesulfonic acid salts, fluoroalkylcarboxylic acid salts, fluoroalkylpolyoxy (Fluoroalkylpolyoxyethylene ether), a fluoroalkyltrimethylammonium salt, a fluoroalkylaminosulfonate salt, a polyoxyalkylene sulfonate, a polyoxyethylene alkyl ether, a polyoxyethylene alkyl ether, a polyoxyethylene alkyl ether, Oxyethylene nonylphenyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene tridecyl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene But are not limited to, stearyl ether, polyoxyethylene laurate, polyoxyethylene oleate, polyoxyethylene stearate, polyoxyethylene laurylamine, sorbitan laurate, sorbitan palmitate, sorbitan stearate, Polyoxyethylene sorbitan monostearate, polyoxyethylene sorbitan monostearate, polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, polyoxyethylene sorbitan laurate, polyoxyethylene sorbitan palmitate, polyoxyethylene sorbitan stearate, polyoxyethylene sorbitan oleate, polyoxyethylene naphthyl ether, Phenyl ether disulfonic acid salt, and PC-7062C is preferable among them.

1-14-4. 산화 방지제1-14-4. Antioxidant

본 발명의 광배향성을 갖는 열경화성 조성물은, 내후성의 관점에서 산화방지제를 함유해도 좋다. 이러한 관점에서, 산화 방지제의 함유량은 열경화성 조성물 전량에 대하여, 0.01 중량% 내지 10 중량%인 것이 바람직하고, 0.05 중량% 내지 8 중량%인 것이 보다 바람직하며, 0.1 중량% 내지 5 중량%인 것이 더욱 바람직하다. 산화 방지제로서는, 예를 들면 힌다드 페놀계, 힌다드 아민계, 인(燐)계, 유황계 화합물을 들 수 있다. 산화 방지제는 이들 중에서도 힌다드 페놀계가 보다 바람직하다. The thermosetting composition having photo-alignment properties of the present invention may contain an antioxidant from the viewpoint of weatherability. From this viewpoint, the content of the antioxidant is preferably 0.01 wt% to 10 wt%, more preferably 0.05 wt% to 8 wt%, and even more preferably 0.1 wt% to 5 wt% with respect to the total amount of the thermosetting composition desirable. Examples of the antioxidant include hindered phenol-based, hindered amine-based, phosphorous-based, and sulfur-based compounds. Among them, a hindered phenol-based antioxidant is more preferable.

산화 방지제의 구체적인 예로서는, 예를 들면 이르가녹스(Irganox) FF, 이르가녹스 1035, 이르가녹스 1035FF, 이르가녹스 1076, 이르가녹스 1076FD, 이르가녹스 1076DWJ, 이르가녹스 1098, 이르가녹스 1135, 이르가녹스 1330, 이르가녹스 1726, 이르가녹스 1425 WL, 이르가녹스 1520L, 이르가녹스 245, 이르가녹스 245FF, 이르가녹스 245DWJ, 이르가녹스 259, 이르가녹스 3114, 이르가녹스 565, 이르가녹스 565DD, 이르가녹스 295(이상 모두 상품명, BASF 재팬(주) 제품), 아데카스타브(ADK STAB) AO-20, 아데카스타브 AO-30, 아데카스타브 AO-50, 아데카스타브 AO-60, 아데카스타브 AO-70, 아데카스타브 AO-80(이상 모두 상품명, ADEKA(주) 제품) 등의 힌다드 페놀계를 들 수 있다. 이들 중에서도 아데카스타브 AO-60이 투명성, 내열성, 내크랙성 등에 있어서 한층 더 바람직하다.
Specific examples of the antioxidant include, for example, Irganox FF, Irganox 1035, Irganox 1035FF, Irganox 1076, Irganox 1076FD, Irganox 1076DWJ, Irganox 1098, Irganox 1135, Irganox 1330, Irganox 1726, Irganox 1425 WL, Irganox 1520L, Irganox 245, Irganox 245FF, Irganox 245DWJ, Irganox 259, Irganox 3114, Irga ADK STAB AO-20, ADKSTAB AO-30, ADKSTAV AO-50, ADK STAB AO-50, And hindered phenols such as adecastab AO-60, adecastab AO-70 and adecastab AO-80 (all trade names, products of ADEKA). Of these, adecastab AO-60 is even more preferable in transparency, heat resistance, crack resistance and the like.

1-14-5. 용제1-14-5. solvent

본 발명의 광배향성을 갖는 열경화성 조성물은 주로 용제에 용해한 용액 상태로 사용된다. 이 때 사용하는 용제는 (A) 성분 및 (B) 성분, 필요에 따라 기타 첨가제를 용해할 수 있으면 좋으며, 그 종류 및 구조 등은 특별히 한정되는 것은 아니다. The thermosetting composition having photo-alignment properties of the present invention is mainly used in a solution state dissolved in a solvent. The solvent to be used at this time is not particularly limited so long as the components (A) and (B) and, if necessary, other additives can be dissolved.

용제의 구체적인 예로서는, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 1-프로판올, 부탄올, 2-메틸-1-부탄올, 메틸이소부틸케톤, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 메틸셀로솔브 아세테이트, 에틸셀로솔브 아세테이트, 디에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 프로필에테르아세테이트, 톨루엔, 크실렌, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 2-부타논, 3-메틸-2-펜타논, 2-펜타논, 2-헵타논, γ-부티롤락톤, 2-하이드록시 프로피온산 에틸, 2-하이드록시-2-메틸 프로피온산 에틸, 에톡시초산 에틸, 하이드록시초산 에틸, 2-하이드록시-3-메틸 부탄 산 메틸, 3-메톡시 프로피온산 메틸, 3-메톡시 프로피온산 에틸, 3-에톡시 프로피온산 에틸, 3-에톡시 프로피온산 메틸, 피루브산 메틸, 피루브산 에틸, 초산 에틸, 초산 부틸, 유산 에틸, 유산 부틸, N,N-디메틸 포름아미드, N,N-디메틸 아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈 등을 들 수 있다. Specific examples of the solvent include solvents such as methanol, ethanol, isopropanol, 1-propanol, butanol, 2-methyl-1-butanol, methyl isobutyl ketone, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate , Ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether acetate, toluene, xylene Methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-butanone, 3-methyl-2-pentanone, 2-pentanone, 2-heptanone,? -Butyrolactone, ethyl 2- Ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, 3- Methyl ethyl ketone, ethyl methyl ketone, ethyl methyl ketone, methyl methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone and the like.

이들 용제는 1종 단독으로 또는 2종 이상의 조합으로 사용할 수 있다. 이들 용제들 중에서 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 2-헵타논, 프로필렌글리콜 프로필에테르, 프로필렌글리콜 프로필에테르아세테이트, 유산 에틸, 유산 부틸, 3-메톡시 프로피온산 메틸, 3-메톡시 프로피온산 에틸, 3-에톡시 프로피온산 에틸 및 3-에톡시 프로피온산 메틸은, 컬러필터의 오버코트의 제작 라인에서 적용이 가능하며, 성막성이 양호하고 안전성이 높기 때문에 보다 바람직하다.
These solvents may be used singly or in combination of two or more. Among these solvents, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, cyclohexanone, 2-heptanone, propylene glycol propyl ether, propylene glycol propyl ether acetate, ethyl lactate, butyl lactate, methyl 3-methoxypropionate, Ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-ethoxypropionate are more preferable because they can be applied in a production line for over-coloring a color filter and have good film-forming properties and high safety.

1-15. 광배향성을 갖는 열경화성 조성물의 보존1-15. Preservation of thermosetting compositions having photo-alignment properties

본 발명의 광배향성을 갖는 열경화성 조성물은 온도 -30℃ 내지 25℃의 범위에서 보존하면 조성물의 경시(經時) 안정성이 양호해져서 바람직하다. 보존 온도가 -20℃ 내지 10℃이면 석출물도 없어서 한층 더 바람직하다.
When the thermosetting composition having photo-alignment properties of the present invention is stored at a temperature of -30 캜 to 25 캜, the stability of the composition over time is improved, which is preferable. When the storage temperature is from -20 占 폚 to 10 占 폚, precipitates are not present, and still more preferable.

1-16. 도포액의 조정1-16. Adjustment of coating liquid

형성하는 경화막의 막두께에 의해 본 발명의 광배향성을 갖는 열경화성 조성물을 상술한 용제로 더 희석하여 도포액을 조정해도 좋다.
The coating liquid may be adjusted by further diluting the thermosetting composition having the photo-alignment property of the present invention with the solvent according to the film thickness of the cured film to be formed.

2. 본 발명의 경화막2. The curing membrane of the present invention

본 발명의 광배향성을 갖는 열경화성 조성물은 광배향성을 갖는 중합체 및 폴리에스테르 아미드산을 혼합하고, 목적하는 특성에 따라서는 용제, 에폭시 경화제, 커플링제 및 계면 활성제를 필요에 따라 선택해서 더 첨가하여 이들을 균일하게 혼합 용해하는 것에 의해 수득할 수 있다. The thermosetting composition having a photo-alignment property of the present invention may be prepared by mixing a photo-orientable polymer and a polyester amide acid, and adding a solvent, an epoxy curing agent, a coupling agent and a surfactant, depending on the desired properties, And uniformly mixing and dissolving them.

상술한 바와 같이 하여 조제된 광배향성을 갖는 열경화성 조성물(용제가 없는 고형 상태인 경우에는 용제에 용해시킨 후)을 유리, PET(폴리에틸렌 텔레프탈레이트), TAC(트리아세틸셀룰로오스) 등의 기판 표면에 도포하고, 예를 들면 가열 등으로 용제를 제거하면 도막을 형성할 수 있다. 기판 표면으로의 열경화성 수지 조성물의 도포는 스핀 코팅 방법, 롤 코팅 방법, 딥(dip) 코팅 방법, 슬릿(slit) 코팅 방법 등 종래부터 공지된 방법에 의해 도막을 형성할 수 있다. 이어서, 이러한 도막은 핫 플레이트(hot plate) 또는 오븐 등에서 가열(프리베이크)된다. 가열 조건은 각 성분의 종류 및 배합 비율에 따라 다르지만, 통상적으로 70℃ 내지 120℃로 오븐에서는 5분 내지 15분간, 핫 플레이트에서는 1분 내지 5분간이다. 그 후, 도막을 경화시키기 위해서 180℃ 내지 250℃, 바람직하게는 200℃ 내지 250℃로 오븐에서는 30분 내지 90분간, 핫 플레이트에서는 5분 내지 30분간 가열 처리함으로써 경화막을 수득할 수 있다. The thermosetting composition having photo-alignment properties prepared as described above (after being dissolved in a solvent in the case of a solid state without solvent) is coated on the surface of a substrate such as glass, PET (polyethylene terephthalate), or TAC (triacetylcellulose) For example, by removing the solvent by heating or the like, a coating film can be formed. The coating of the thermosetting resin composition on the surface of the substrate can be performed by a conventionally known method such as a spin coating method, a roll coating method, a dip coating method, and a slit coating method. Subsequently, such a coating film is heated (prebaked) in a hot plate or an oven. The heating conditions vary depending on the kind of each component and the mixing ratio, but it is usually 70 to 120 占 폚 for 5 to 15 minutes in an oven and 1 to 5 minutes in a hot plate. Thereafter, in order to cure the coating film, a cured film can be obtained by heat-treating the coating film at 180 ° C to 250 ° C, preferably 200 ° C to 250 ° C, for 30 minutes to 90 minutes in the oven and for 5 minutes to 30 minutes in the hot plate.

이렇게 하여 수득되는 경화막은 가열 시에 있어서, 1) 폴리에스테르 아미드산의 폴리아미드산 부분이 고리화 탈수(cyclodehydration)되어 이미드 결합을 형성하고, 2) 폴리에스테르 아미드산의 카복실산이 광배향성을 갖는 중합체의 고리형 에테르와 반응하여 고분자량화 및 3)광배향성을 갖는 중합체가 경화되어 고분자량화되어 있기 때문에, 아주 견고하며 투명성, 내열성, 내용제성, 평탄성, 밀착성 및 내 스퍼터성에 있어서 우수하다. 따라서 본 발명의 경화막은 컬러 필터용 보호막으로서 이용하면 효과적이며, 이 컬러 필터를 이용하여 액정 표시 소자나 고체 촬상 소자를 제조할 수 있다. The cured film thus obtained can be obtained by heating 1) the polyamic acid portion of the polyester amide acid is cyclodehydrated to form an imide bond, and 2) the carboxylic acid of the polyester amide acid is optically oriented Molecular weight and 3) photo-orientable polymer are cured by polymerization with a cyclic ether of a polymer, and are thus high in molecular weight. Therefore, they are very rigid and excellent in transparency, heat resistance, solvent resistance, flatness, adhesion and resistance to sputtering. Therefore, the cured film of the present invention is effective when used as a protective film for a color filter, and a liquid crystal display element or a solid-state imaging element can be manufactured by using this color filter.

또한, 본 발명의 경화막은 컬러 필터용의 보호막 이외에도 TFT와 투명 전극간에 형성되는 투명 절연막이나, 투명 전극과 배향막간에 형성되는 투명 절연막으로 이용하면 효과적이다. 더욱이, 본 발명의 경화막은 LED 발광체의 보호막으로서 이용해도 효과적이다. In addition to the protective film for the color filter, the cured film of the present invention is effective when used as a transparent insulating film formed between a TFT and a transparent electrode or a transparent insulating film formed between a transparent electrode and an alignment film. Furthermore, the cured film of the present invention is also effective as a protective film of an LED light-emitting body.

또한, 본 발명의 광배향성을 갖는 열경화성 조성물로부터 수득되는 액정 배향막을 이용하여 광학 필름을 수득할 수 있다. 상기 광학 필름은 액정 표시 소자의 콘트라스트 향상이나 시야각 범위의 확대를 실현하기 위한 광학 보상 필름, 패턴화 위상차판 등의 위상차판 등에 적합하다. In addition, an optical film can be obtained by using the liquid crystal alignment film obtained from the thermosetting composition having the photo-alignment property of the present invention. The optical film is suitable for a retardation plate such as an optical compensation film and a patterned retardation plate for realizing the improvement of the contrast of the liquid crystal display element and the expansion of the viewing angle range.

상기 광학 필름은 일반적으로 기재, 액정 배향막, 그리고 광학 이방성층을 가진다. 광학 이방성층은 중합성 액정성 화합물 및 기타 필요에 따라 첨가하는 각종 성분을 함유하는 중합성 액정 조성물을 기재(基材) 상에 형성된 상기 액정 배향막 상에 도포하고, 액정성 화합물의 분자를 배향시킨 뒤 중합시키는 것에 의해 수득될 수 있다. 상기 광학 이방성층은 액정성 화합물의 분자 배향에 의해 발현된 광학 이방성을 나타낸다. 이로 인하여, 이러한 광학 필름은, 예를 들면 패턴화 위상차판으로 적절하게 사용할 수 있다. 이러한 광학 필름은 여러 가지의 광 디바이스, 예를 들면 액정 표시 소자에 적절하게 이용할 수 있다.
The optical film generally has a substrate, a liquid crystal alignment film, and an optically anisotropic layer. The optically anisotropic layer is formed by applying a polymerizable liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound and various other components as required, onto the liquid crystal alignment film formed on a substrate, aligning molecules of the liquid crystal compound Followed by back polymerization. The optically anisotropic layer exhibits optical anisotropy expressed by the molecular orientation of the liquid crystalline compound. Accordingly, such an optical film can be suitably used, for example, as a patterned retardation plate. Such an optical film can be suitably used for various optical devices, for example, a liquid crystal display device.

실시예Example

이하, 실시예들을 통해 본 발명을 보다 상세하게 설명하지만, 본 발명이 이들에 의해 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

합성예 1: 광배향성을 갖는 중합체(A1)의 합성Synthesis Example 1: Synthesis of Photoinduced Polymer (A1)

온도계, 교반기, 원료 투입구 및 질소 가스 도입구를 구비한 500ml의 4구 플라스크에 2-{4-[(1E)-3-메톡시-3-옥소프로페-1-엔-1-일]페녹시}에틸=2-메틸프로페-2-에노에이트 135.00g, 글리시딜 메타크릴레이트 15.00g, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 15.00g, 반응 용매로서 시클로펜타논 50.00g을 주입하여 90℃의 중합 온도로 2시간 가열해서 중합을 실시하였다. 반응액을 30℃ 이하로 냉각하는 것으로서 광배향성을 갖는 중합체(A1)의 25 중량% 용액을 수득하였다. 이 용액의 GPC로 측정한 중량 평균 분자량은 6,400(폴리스티렌 환산)이었다. To a 500 ml four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a feed inlet, and a nitrogen gas inlet were added 2- {4- [(1E) -3-methoxy- 135.00 g of ethyl 2-methylprop-2-enoate, 15.00 g of glycidyl methacrylate, 15.00 g of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as a polymerization initiator, 50.00 g of cyclopentanone was injected as a solvent, and polymerization was carried out by heating at a polymerization temperature of 90 캜 for 2 hours. The reaction solution was cooled to 30 캜 or lower to obtain a 25% by weight solution of polymer (A1) having photo-alignment property. The weight average molecular weight of the solution measured by GPC was 6,400 (in terms of polystyrene).

그리고 본 발명에 있어서, 중량 평균 분자량은 컬럼오븐 CTD-20A, 검출기RID-10A, 시스템 컨트롤러 CBM-20A, 송액 펌프 LC-20AD, 오토 샘플러 SIL-10AF(이상 모두 상품명, 주식회사 시마즈제작소(島津製作所) 제품)의 GPC시스템을 이용하여 측정하였다. 또한, 표준 폴리스티렌에는 중량 평균 분자량이 645 내지 132,900의 폴리스티렌(예를 들면, 바리안(VARIAN)사의 폴리스티렌 캘리브레이션키트(Polystyrene Calibration kit) PL2010-0102), 컬럼에는 PLgel MIXED-D(바리안사)를 사용하고, 이동상(移動相)으로서 THF를 사용하여, 컬럼 온도 35℃, 유속 1mL/min의 조건으로 측정하였다.
In the present invention, the weight average molecular weight was measured using a column oven CTD-20A, a detector RID-10A, a system controller CBM-20A, a pumping pump LC-20AD and an autosampler SIL-10AF (all trade names, Shimazu Seisakusho Co., Product) using a GPC system. Polystyrene calibration kit PL2010-0102 having a weight average molecular weight of 645 to 132,900 (for example, Varian Polymer Co., Ltd. PL2010-0102) and PLgel MIXED-D (Varian Polymer) were used as the standard polystyrene , And THF was used as a mobile phase (mobile phase) at a column temperature of 35 DEG C and a flow rate of 1 mL / min.

합성예 2: 광배향성을 갖는 중합체(A2)의 합성Synthesis Example 2: Synthesis of photo-orientable polymer (A2)

온도계, 교반기, 원료 투입구 및 질소 가스 도입구를 구비한 500ml의 4구 플라스크에 2-{4-[(1E)-3-메톡시-3-옥소프로페-1-엔-1-일]페녹시}에틸=2-메틸프로페-2-에노에이트 120.00g, 글리시딜 메타크릴레이트 30.00g, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 15.00g, 반응 용매로서 시클로펜타논 50.00g을 주입하여 90℃의 중합 온도로 2시간 가열하여 중합을 실시하였다. 반응액을 30℃ 이하로 냉각하는 것으로서 광배향성을 갖는 중합체(A2)의 25 중량% 용액을 수득하였다. 이 용액의 GPC로 측정한 중량 평균 분자량은 7,300(폴리스티렌 환산)이었다.
To a 500 ml four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a feed inlet, and a nitrogen gas inlet were added 2- {4- [(1E) -3-methoxy- 20.00 g of ethyl 2-methylprop-2-enoate, 30.00 g of glycidyl methacrylate, 15.00 g of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as a polymerization initiator, 50.00 g of cyclopentanone as a solvent was introduced and heated at a polymerization temperature of 90 캜 for 2 hours to effect polymerization. The reaction solution was cooled to 30 캜 or lower to obtain a 25% by weight solution of polymer (A2) having photo-alignment property. The weight average molecular weight of this solution measured by GPC was 7,300 (in terms of polystyrene).

합성예 3: 광배향성을 갖는 중합체(A3)의 합성Synthesis Example 3: Synthesis of photo-orientable polymer (A3)

온도계, 교반기, 원료 투입구 및 질소 가스 도입구를 구비한 500ml의 4구 플라스크에 2-{4-[(1E)-3-메톡시-3-옥소프로페-1-엔-1-일]페녹시}에틸=2-메틸프로페-2-에노에이트 100.00g, 글리시딜 메타크릴레이트 20.00g, 2-하이드록시 에틸메타 아크릴레이트 40.00g, 3-메타크릴옥시프로필 트리메톡시실란 40.00g, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 20.00g, 반응 용매로서 시클로펜타논 66.60g을 주입하여 90℃의 중합 온도로 2시간 가열하여 중합을 실시하였다. 반응액을 30℃ 이하로 냉각하는 것으로 광배향성을 갖는 중합체(A2)의 25 중량% 용액을 수득하였다. 이 용액의 GPC로 측정한 중량 평균 분자량은 8,100(폴리스티렌 환산)이었다.
To a 500 ml four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a feed inlet, and a nitrogen gas inlet were added 2- {4- [(1E) -3-methoxy- 100.00 g of ethyl 2-methylprop-2-enoate, 20.00 g of glycidyl methacrylate, 40.00 g of 2-hydroxyethyl methacrylate, 40.00 g of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 20.00 g of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as a polymerization initiator and 66.60 g of cyclopentanone as a reaction solvent were charged and heated at a polymerization temperature of 90 ° C for 2 hours to effect polymerization. The reaction solution was cooled to 30 캜 or lower to obtain a 25% by weight solution of polymer (A2) having photo-alignment property. The weight average molecular weight of this solution measured by GPC was 8,100 (in terms of polystyrene).

합성예 4: 배향성을 갖는 중합체(A4)의 합성Synthesis Example 4: Synthesis of polymer (A4) having orientation property

온도계, 교반기, 원료 투입구 및 질소 가스 도입구를 구비한 500ml의 4구 플라스크에 2-{4-[(1E)-3-메톡시-3-옥소프로페-1-엔-1-일]페녹시}에틸=2-메틸프로페-2-에노에이트 100.00g, 글리시딜 메타크릴레이트 20.00g, 2-하이드록시 에틸메타 아크릴레이트 80.00g, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 20.00g, 반응 용매로서 시클로펜타논 66.60g을 주입하여 90℃의 중합 온도로 2시간 가열하여 중합을 실시하였다. 반응액을 30℃ 이하로 냉각하는 것으로서 광배향성을 갖는 중합체(A2)의 25 중량% 용액을 수득하였다. 이 용액의 GPC로 측정한 중량 평균 분자량은 7,100(폴리스티렌 환산)이었다.
To a 500 ml four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a feed inlet, and a nitrogen gas inlet were added 2- {4- [(1E) -3-methoxy- 100.00 g of ethyl 2-methylprop-2-enoate, 20.00 g of glycidyl methacrylate, 80.00 g of 2-hydroxyethyl methacrylate, 2,2'-azobis (2, Dimethylvaleronitrile) and 66.60 g of cyclopentanone as a reaction solvent were charged, and polymerization was carried out by heating at a polymerization temperature of 90 ° C for 2 hours. The reaction solution was cooled to 30 캜 or lower to obtain a 25% by weight solution of polymer (A2) having photo-alignment property. The weight average molecular weight of the solution measured by GPC was 7,100 (in terms of polystyrene).

합성예 5: 광배향성을 갖는 중합체(A5)의 합성Synthesis Example 5: Synthesis of photo-orientable polymer (A5)

온도계, 교반기, 원료 투입구 및 질소 가스 도입구를 구비한 500ml의 4구 플라스크에 2-{4-[(1E)-3-메톡시-3-옥소프로페-1-엔-1-일]페녹시}에틸=2-메틸프로페-2-에노에이트 100.00g, 글리시딜 메타크릴레이트 20.00g, 3-메타크릴옥시 프로필트리메톡시실란 80.00g, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 20.00g, 반응 용매로서 시클로펜타논 66.60g를 주입하여 90℃의 중합 온도로 2시간 가열하여 중합을 실시하였다. 반응액을 30℃ 이하로 냉각하는 것으로서 광배향성을 갖는 중합체(A2)의 25 중량% 용액을 수득하였다. 이 용액의 GPC로 측정한 중량 평균 분자량은 6,800(폴리스티렌 환산)이었다.
To a 500 ml four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a feed inlet, and a nitrogen gas inlet were added 2- {4- [(1E) -3-methoxy- 100.00 g of ethyl 2-methylprop-2-enoate, 20.00 g of glycidyl methacrylate, 80.00 g of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane as a polymerization initiator, 2,2'-azobis ( 2,4-dimethylvaleronitrile) and 66.60 g of cyclopentanone as a reaction solvent were charged and heated at a polymerization temperature of 90 ° C for 2 hours to effect polymerization. The reaction solution was cooled to 30 캜 or lower to obtain a 25% by weight solution of polymer (A2) having photo-alignment property. The weight average molecular weight of this solution measured by GPC was 6,800 (in terms of polystyrene).

합성예 6: 폴리에스테르 아미드산(B1)의 합성Synthesis Example 6: Synthesis of polyester amide acid (B1)

온도계, 교반기, 원료 투입 주입구 및 질소 가스 도입구를 구비한 1000ml의 4구 플라스크에 탈수 정제한 3-메톡시프로피온산 메틸(이하, 'MMP'로 약칭) 446.96g, 1,4-부탄디올 31.93g, 벤질 알코올 25.54g, 3,3',4,4'-디페닐에테르테트라카복실산 이무수물(이하, 'ODPA'로 약칭) 183.20g을 주입하여 건조 질소 기류하의 130℃에서 3시간 교반하였다. 그 후, 반응액을 25℃까지 냉각하고, 3,3'-디아미노디페닐술폰(이하 'DDS'로 약칭) 29.33g, MMP 183.04g을 투입하여 20 내지 30℃에서 2시간 교반한 후, 115℃에서 1시간 교반, 30℃ 이하로 냉각하는 것으로 담황색의 투명한 폴리에스테르 아미드산(B1)의 30 중량% 용액을 수득하였다. 이 용액의 GPC로 측정한 중량 평균 분자량은 4,200(폴리스티렌 환산)이었다.
To a 1000 ml four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a raw material feed inlet and a nitrogen gas inlet, 446.96 g of 3-methoxypropionate (hereinafter abbreviated as 'MMP') dehydrated and purified, 31.93 g of 1,4- 25.54 g of benzyl alcohol and 183.20 g of 3,3 ', 4,4'-diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride (hereinafter abbreviated as'ODPA') were injected and stirred at 130 ° C for 3 hours in a dry nitrogen stream. Thereafter, the reaction solution was cooled to 25 占 폚, 29.33 g of 3,3'-diaminodiphenyl sulfone (hereinafter abbreviated as DDS) and 183.04 g of MMP were added and stirred at 20 to 30 ° C for 2 hours, The mixture was stirred at 115 캜 for 1 hour and cooled to 30 캜 or lower to obtain a 30% by weight solution of light yellow transparent polyester amide acid (B1). The weight average molecular weight of the solution measured by GPC was 4,200 (in terms of polystyrene).

합성예 7: 폴리에스테르 아미드산(B2)의 합성Synthesis Example 7: Synthesis of polyester amide acid (B2)

온도계, 교반기, 원료 투입 주입구 및 질소 가스 도입구를 구비한 1000ml의 4구 플라스크에 탈수 정제한 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트(이하, 'PGMEA'로 약칭) 504.00g, ODPA 47.68g, SMA 1000P(상품명: 스티렌 무수말레산 공중합체, 카와하라 유화(주) 제품) 144.97g, 벤질 알코올 55.40g, 1,4-부탄디올 9.23g, 탈수 정제한 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르(이하, 'EDM'로 약칭) 96.32g을 순서대로 주입하고, 건조 질소 기류하의 130℃에서 3시간 교반하였다. 그 후, 반응액을 25℃까지 냉각하고, DDS 12.72g, EDM 29.68g을 투입하여 20 내지 30℃에서 2시간 교반한 후, 115℃에서 1시간 교반, 30℃ 이하로 냉각하는 것으로서 담황색의 투명한 폴리에스테르 아미드산(B2)의 30 중량% 용액을 수득하였다. 이 용액의 GPC로 측정한 중량 평균 분자량은 21,000(폴리스티렌 환산)이었다.
504.00 g of dehydrated and purified propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter abbreviated as 'PGMEA'), 47.68 g of ODPA, and 1000 g of SMA 1000P (trade name: PGMEA) were placed in a 1000 ml four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, : 144.97 g of styrene-maleic anhydride copolymer, Kawahara Oil Co., Ltd.), 55.40 g of benzyl alcohol, 9.23 g of 1,4-butanediol, diethylene glycol methyl ethyl ether (hereinafter abbreviated as EDM) g were sequentially introduced, and the mixture was stirred at 130 캜 for 3 hours in a dry nitrogen stream. Thereafter, the reaction solution was cooled to 25 占 폚, 12.72 g of DDS and 29.68 g of EDM were added and stirred at 20 to 30 占 폚 for 2 hours and then stirred at 115 占 폚 for 1 hour and cooled to 30 占 폚 or lower to obtain pale yellow transparent A 30% by weight solution of the polyester amide acid (B2) was obtained. The weight average molecular weight of the solution measured by GPC was 21,000 (in terms of polystyrene).

합성예 8: 폴리에스테르 아미드산(B3)의 합성Synthesis Example 8: Synthesis of polyester amide acid (B3)

온도계, 교반기, 원료 투입 주입구 및 질소 가스 도입구를 구비한 1000ml의 4구 플라스크에 MMP 446.96g, 4-(하이드록시 에틸옥시)계피산메틸에스테르 31.93g, 1,4-부탄디올 25.54g, ODPA 183.20g를 주입하여, 건조 질소 기류하의 130℃에서 3시간 교반하였다. 그 후, 반응액을 25℃까지 냉각하고, DDS 29.33g, MMP 183.04g을 투입하여 20℃ 내지 30℃에서 2시간 교반한 후, 115℃에서 1시간 교반, 30℃ 이하로 냉각하는 것으로서 담황색의 투명한 폴리에스테르 아미드산(B3)의 30 중량% 용액을 수득하였다. 이 용액의 GPC로 측정한 중량 평균 분자량은 3,200(폴리스티렌 환산)이었다.
To a 1000 ml four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a feedstock inlet, and a nitrogen gas inlet, 446.96 g of MMP, 31.93 g of methyl ester of 4- (hydroxyethyloxy) cinnamate, 25.54 g of 1,4-butanediol, 183.20 g of ODPA And the mixture was stirred at 130 캜 for 3 hours under a dry nitrogen stream. Thereafter, the reaction solution was cooled to 25 占 폚, 29.33 g of DDS and 183.04 g of MMP were added and stirred at 20 占 폚 to 30 占 폚 for 2 hours and then stirred at 115 占 폚 for 1 hour and cooled to 30 占 폚 or lower, A 30 wt% solution of the transparent polyester amide acid (B3) was obtained. The weight average molecular weight of the solution measured by GPC was 3,200 (in terms of polystyrene).

실시예 1: 열경화성 조성물의 제조Example 1: Preparation of thermosetting composition

합성예 1에서 수득된 광배향성을 갖는 중합체(A1)의 25 중량% 용액(이하에서는, 폴리머(A1)이라고 한다), 합성예 3에서 수득된 폴리에스테르 아미드산(B1)의 30 중량% 용액(이하에서는, 폴리머(B1)이라고 한다), 에폭시 경화제인 트리멜릭산 무수물(이하에서는, TMA라고 한다), 커플링제인 S510(상품명: JNC(주) 제품), 계면활성제인 PC-7062C(상품명: 마루비시 유화공업(주) 제품), 용매로서 시클로펜타논을 하기의 표 1의 중량으로 혼합 용해하여, 멤브레인 필터(0.2㎛)로 여과하여 열경화성 조성물을 수득하였다. 수득된 열경화성 조성물의 조성을 표 1에 나타낸다.A 25 wt% solution (hereinafter referred to as polymer A1) of the polymer A1 having photo-alignment property obtained in Synthesis Example 1, a 30 wt% solution of the polyester amide acid B1 obtained in Synthesis Example 3 (B1) (Product name: JNC), a surfactant PC-7062C (trade name: TMA), an epoxy curing agent (hereinafter referred to as TMA) Manufactured by Marubishi Yuka Kogyo Co., Ltd.), cyclopentanone as a solvent was mixed and dissolved in the weight of the following Table 1, and the mixture was filtered through a membrane filter (0.2 탆) to obtain a thermosetting composition. The composition of the obtained thermosetting composition is shown in Table 1.

[표 1] [Table 1]

 

Figure pat00008
 
Figure pat00008

실시예 2 내지 실시예 11Examples 2 to 11 및 참고예 1: 열경화성 조성물의 제조And Reference Example 1: Preparation of thermosetting composition

이하와 같이, 표 2에 나타내는 조성으로 혼합하고 용해하여, 실시예 2 내지 실시예 11 및 참고예 1의 열경화성 조성물을 수득하였다. 그리고 표 2의 괄호 내의 숫자는 중량부를 나타내고, A1 내지 A5는 각각 광배향성을 갖는 중합체(A1) 내지 (A5)의 25 중량% 용액이며, B1 내지 B3은 각각 폴리에스테르 아미드산(B1) 내지 (B3)의 30 중량% 용액이다. The thermosetting compositions of Examples 2 to 11 and Reference Example 1 were obtained by mixing and dissolving in the compositions shown in Table 2 as follows. And A1 to A5 are each a 25% by weight solution of polymers (A1) to (A5) having photo-alignment properties, and B1 to B3 each represent a polyester amide acid (B1) B3). &Lt; / RTI &gt;

[표 2] [Table 2]

Figure pat00009
Figure pat00009

비교예 1 및 비교예 2: 열경화성 조성물의 제조Comparative Example 1 and Comparative Example 2: Preparation of thermosetting composition

실시예 1 내지 실시예 11과 같이, 표 3에 나타내는 조성으로 혼합하고 용해하여, 비교예 1 및 비교예 2의 열경화성 조성물을 수득하였다. As in Examples 1 to 11, the components shown in Table 3 were mixed and dissolved to obtain the thermosetting compositions of Comparative Examples 1 and 2.

[표 3] [Table 3]

Figure pat00010
Figure pat00010

평가 방법Assessment Methods

1) 경화막의 형성1) Formation of cured film

열경화성 조성물을 유리 기판상 및 컬러 필터 기판 상에 400rpm 내지 1,200rpm의 임의의 회전수로 10초간 스핀 코팅한 후, 핫 플레이트상에서 80℃로 3분간 프리베이크하여 도막을 형성시켰다. 그 후, 오븐에서 230℃로 30분간 가열하는 것으로 도막을 경화시켜, 막두께 0.5㎛의 경화막을 수득하였다. 오븐에서 꺼낸 기판을 실온까지 되돌린 후, 수득된 경화막의 막두께를 측정하였다. 막두께의 측정에는 KLA-텐코르 재팬(Tencor Japan)(주) 제품인 접촉식 막두께 측정기 P-15를 이용하여, 3군데의 측정 평균치를 경화막의 막두께로 하였다.
The thermosetting composition was spin-coated on a glass substrate and a color filter substrate at an arbitrary number of revolutions of 400 rpm to 1,200 rpm for 10 seconds and prebaked on a hot plate at 80 캜 for 3 minutes to form a coating film. Thereafter, the coating film was cured by heating in an oven at 230 DEG C for 30 minutes to obtain a cured film having a film thickness of 0.5 mu m. The substrate taken out from the oven was returned to room temperature, and the film thickness of the obtained cured film was measured. For the measurement of the film thickness, a contact type film thickness measuring instrument P-15 manufactured by KLA-Tencor Japan Co., Ltd. was used, and the average value of the three measurements was taken as the film thickness of the cured film.

2) 평탄성2) Flatness

상기 1)에서 수득한 경화막이 부착된 컬러 필터 기판의 경화막 표면의 단차를 KLA-텐코르 재팬(Tencor Japan)(주) 제품인 접촉식 막두께 측정기 P-15를 이용하여 측정하였다. 블랙 매트릭스를 포함하는 R, G, B 화소간에서의 단차의 최대치(이하, 최대 단차로 약칭)를 평탄성의 수치로 하였다. 또한, 사용한 컬러 필터 기판은 최대단차 약 1.1㎛의 수지 블랙 매트릭스를 사용한 안료 분산 컬러 필터(이하, CF로 약칭)이다.
The step on the surface of the cured film of the color filter substrate with the cured film obtained in the above 1) was measured using a contact type film thickness meter P-15 manufactured by KLA-Tencor Japan. The maximum value of the step (hereinafter abbreviated as the maximum step) between the R, G, and B pixels including the black matrix was defined as a numerical value of the flatness. The color filter substrate used was a pigment dispersed color filter (hereinafter abbreviated as CF) using a resin black matrix having a maximum step difference of about 1.1 mu m.

3) 투명성3) Transparency

유한회사 도쿄덴쇼쿠(東京電色)(TokyoDenshoku Co., Ltd.) 제품 TC-1800을 사용하고, 경화막을 형성하지 않은 유리 기판을 레퍼런스로 하여 상기 1)에서 수득된 경화막이 형성되어 있는 기판의 파장 400㎚에서의 광 투과율을 측정하였다. 투과율이 95T% 이상인 경우는 양호(G: Good), 95T% 미만의 경우는 불량(NG: No Good)이라고 판정하였다.
TC-1800 manufactured by Tokyo Denshoku Co., Ltd. was used, and a glass substrate on which a cured film obtained in the above 1) was formed with reference to a glass substrate on which a cured film was not formed The light transmittance at a wavelength of 400 nm was measured. Good (G: Good) when the transmittance was 95 T% or more, and bad (NG: Good) when it was less than 95 T%.

4) 내열성4) Heat resistance

상기 1)에서 수득된 경화막이 형성되어 있는 기판을 230℃의 오븐에서 1시간 가열하여, 상기 3)와 동일하게 광 투과율을 측정하고, 나아가 가열 전후에 상기 1)과 동일하게 막두께를 측정하여 다음 식으로 계산하였다. The substrate on which the cured film obtained in the above step 1) was formed was heated in an oven at 230 ° C for 1 hour to measure the light transmittance in the same manner as in 3), and then the film thickness was measured before and after heating Was calculated by the following equation.

 (가열 후의 막두께/가열 전의 막두께)×100(%)(Film thickness after heating / film thickness before heating) x 100 (%)

막두께의 변화율이 -5% 미만일 때는 양호(G: Good), 가열 후의 막두께의 변화율이 -5% 이상일 때는 불량(NG: No Good)이라고 판정하였다.
(G: Good) when the change rate of the film thickness was less than -5% and a failure (NG: No Good) when the change rate of the film thickness after heating was -5% or more.

5) 내용제성5) Solvent resistance

상기 1)에서 수득된 경화막이 형성되어 있는 기판을 25℃의 N-메틸-2-필로리 돈(이하에서는, NMP라고 칭함)에 30분간 침지시켜 막두께의 변화를 측정하였다. 침지 전후에 상기 1)과 동일하게 막두께를 측정하여 다음 식으로 계산하였다. The substrate on which the cured film obtained in the above 1) was formed was immersed in N-methyl-2-pyrrolidone (hereinafter referred to as NMP) at 25 ° C for 30 minutes to measure the change in film thickness. Before and after the immersion, the film thickness was measured in the same manner as in the above 1) and calculated by the following formula.

(침지 후의 막두께/침지 전의 막두께)×100(%)(Film thickness after immersion / film thickness before immersion) × 100 (%)

막두께의 변화율이 -5 내지 5%일 때는 양호(G: Good), 팽윤(澎潤)에 의해 5%를 초과하거나, 용해에 의해 -5%보다 감소했을 때는 불량(NG:No Good)이라고 판정하였다.
(G: Good) when the change rate of the film thickness is -5 to 5%, a defect (NG: No Good) when it exceeds 5% due to swelling or decreased by -5% Respectively.

6) 광배향성6) Photo-orientation

상기 1)에서 수득된 경화막 표면에 도포면에 대하여 90˚의 방향에서 313㎚ 부근의 파장의 직선편광 자외선을 500mJ/㎠ 조사하였다. 이 기판 상에 액정 모노머로 이루어지는 위상차 재료 용액을 스핀 코터를 이용하여 도포한 후, 80℃에서 1분간 핫 플레이트상에 있어서 프리베이크하여 막두께 0.5㎛의 막을 형성하였다. 이 기판을 365㎚ 환산으로 노광량 1000mJ/㎠로 노광하였다. 편광 UV의 313㎚에서의 노광량 500mJ/㎠로 배향하는 것은 양호(G:Good), 배향하지 않는 것은 불량(NG:No Good)이라고 판정하였다. Linearly polarized ultraviolet light having a wavelength of about 313 nm in a direction of 90 DEG relative to the coated surface was applied to the surface of the cured film obtained in the above step 1) at 500 mJ / Respectively. A phase difference material solution made of a liquid crystal monomer was coated on the substrate using a spin coater and then prebaked on a hot plate at 80 캜 for 1 minute to form a film having a film thickness of 0.5 탆. This substrate was exposed at an exposure amount of 1000 mJ / cm 2 in terms of 365 nm. It was judged that the alignment was good (G: Good) and the alignment was not bad (NG: No Good) in the case of orienting the polarized UV at an exposure amount of 500 mJ / cm 2 at 313 nm.

실시예 1 내지 실시예 11 및 참고예 1의 열경화성 조성물에 대하여 상술한 평가 방법으로 수득된 결과를 표 4에 나타낸다. Table 4 shows the results obtained by the above-described evaluation methods for the thermosetting compositions of Examples 1 to 11 and Reference Example 1. [

[표 4] [Table 4]

Figure pat00011
Figure pat00011

비교예 1 및 비교예 2의 열경화성 조성물에 대하여 상술한 평가 방법으로 수득된 결과를 표 5에 나타낸다. Table 5 shows the results obtained by the above-described evaluation methods for the thermosetting compositions of Comparative Examples 1 and 2.

[표 5][Table 5]

Figure pat00012
Figure pat00012

본 발명에 의한 광배향성을 갖는 열경화성 조성물은 광학 이방성 필름이나 액정 표시 소자의 액정 배향층의 재료로서 매우 유용하며, 또한 박막 트랜지스트(TFT)형 액정 표시 소자, 유기 EL 소자 등의 각종 디스플레이에 있어서의 보호막, 절연막 등의 경화막을 형성하는 재료, 특히 위상차 필름, 3D 디스플레이용 패턴화 위상차판, TFT형 액정 소자의 층간 절연막, 컬러 필터의 오버코트, 유기 EL 소자의 절연막 등을 형성하는 재료로서도 적합하다.
The thermosetting composition having photo-alignment properties according to the present invention is very useful as a material for liquid crystal alignment layers of optically anisotropic films or liquid crystal display devices and is also useful for various displays such as thin film transistor (TFT) type liquid crystal display devices and organic EL devices A retardation film, a patterned retardation film for 3D display, an interlayer insulating film of a TFT-type liquid crystal element, an overcoat of a color filter, an insulating film of an organic EL element, and the like .

Claims (21)

광배향성을 갖는 중합체(A) 및 폴리에스테르 아미드산(B)을 포함하는 광배향성을 갖는 열경화성 조성물.A thermosetting composition having photo-alignment properties comprising a polymer (A) having photo-alignment properties and a polyester amide acid (B). 제 1 항에 있어서, 제 1 항에 기재된 광배향성을 갖는 중합체(A)가 고리형 에테르를 갖는 중합성 모노머(a1)와 광배향성을 갖는 중합성 모노머(a2)와의 공중합체인 것을 특징으로 하는 광배향성을 갖는 열경화성 조성물.The photoelectric conversion device according to claim 1, wherein the photo-alignment polymer (A) according to claim 1 is a copolymer of a polymerizable monomer (a1) having a cyclic ether and a polymerizable monomer (a2) having photo- Wherein the thermosetting composition has an orientation property. 제 2 항에 있어서, 제 2 항에 기재된 고리형 에테르를 갖는 중합성 모노머(a1)가 글리시딜 아크릴레이트, 글리시딜 메타크릴레이트, 메틸글리시딜 메타크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸 메타크릴레이트, (3-에틸-3-옥세타닐)메틸 아크릴레이트, (3-에틸-3-옥세타닐)메틸 메타크릴레이트, (2-에틸-2-옥세타닐)메틸 아크릴레이트 및 (2-에틸-2-옥세타닐)메틸 메타크릴레이트로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 광배향성을 갖는 열경화성 조성물. The process according to claim 2, wherein the polymerizable monomer (a1) having a cyclic ether according to claim 2 is at least one compound selected from the group consisting of glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, methyl glycidyl methacrylate, 3,4-epoxycyclo (3-ethyl-3-oxetanyl) methylacrylate, (3-ethyl-3-oxetanyl) methyl acrylate, And (2-ethyl-2-oxetanyl) methyl methacrylate. 2. The thermosetting composition according to claim 1, wherein the thermosetting composition has a photo-alignment property. 제 2 항에 있어서,
제 2 항에 기재된 광배향성을 갖는 중합성 모노머(a2)의 광배향성 부위가 광이량화(光二量化) 또는 광이성화(光異性化)하는 구조의 관능기인 것을 특징으로 하는 광배향성을 갖는 열경화성 조성물.
3. The method of claim 2,
A thermosetting composition having a photo-alignment property, characterized in that the photo-orientable site of the polymerizable monomer (a2) having photo-alignment properties according to claim 2 is a functional group having a structure of photo-dimerization (photo-dimerization) or photo- .
제 2 항에 있어서,
제 2 항에 기재된 광배향성을 갖는 중합성 모노머(a2)의 광배향성 부위가 신나모일인 것을 특징으로 하는 광배향성을 갖는 열경화성 조성물.
3. The method of claim 2,
A thermosetting composition having photo-alignment property, wherein the photo-alignable moiety of the polymerizable monomer (a2) having photo-alignment properties according to claim 2 is cinnamoyl.
제 1 항에 있어서,
제 1 항에 기재된 폴리에스테르 아미드산(B)이 테트라카복실산 이무수물, 디아민 및 다가(多價) 하이드록시 화합물을 필수 성분으로 하여 반응시키는 것에 의해 수득되는 폴리에스테르 아미드산인 것을 특징으로 하는 광배향성을 갖는 열경화성 조성물.
The method according to claim 1,
A polyester amide acid according to claim 1, wherein the polyester amide acid (B) is a polyester amide acid obtained by reacting tetracarboxylic acid dianhydride, diamine and polyhydric hydroxy compound as essential components. / RTI &gt;
제 1 항에 있어서,
제 1 항에 기재된 폴리에스테르 아미드산(B)이 테트라카복실산 이무수물, 디아민, 다가 하이드록시 화합물 및 1가(1價) 알코올을 필수 성분으로 하여 반응시키는 것에 의해 수득되는 폴리에스테르 아미드산인 것을 특징으로 하는 광배향성을 갖는 열경화성 조성물.
The method according to claim 1,
Characterized in that the polyester amide acid (B) according to claim 1 is a polyester amide acid obtained by reacting tetracarboxylic acid dianhydride, diamine, polyhydric hydroxy compound and monovalent alcohol as essential components The thermosetting composition having photo-alignment property.
제 7 항에 있어서, 1가 알코올이 이소프로필 알코올, 알릴 알코올, 벤질 알코올, 하이드록시 에틸 메타크릴레이트, 프로필렌글리콜 모노 에틸에테르 또는 3-에틸-3-하이드록시 메틸 옥세탄인 것을 특징으로 하는 광배향성을 갖는 열경화성 조성물. The process according to claim 7, wherein the monohydric alcohol is isopropyl alcohol, allyl alcohol, benzyl alcohol, hydroxyethyl methacrylate, propylene glycol monoethyl ether or 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane. Wherein the thermosetting composition has an orientation property. 제 1 항에 있어서,
제 1 항에 기재된 폴리에스테르 아미드산(B)이 X몰의 테트라카복실산 이무수물, Y몰의 디아민 및 Z몰의 다가 하이드록시 화합물을, 하기 식 (1) 및 식 (2)의 관계가 성립하는 것과 같은 비율로 반응시켜 수득되는 것을 특징으로 하는 광배향성을 갖는 열경화성 조성물.
0.2≤Z/Y≤8.0 … (1)
0.2≤(Y+Z)/X≤1.5 … (2)
The method according to claim 1,
The polyester amide acid (B) according to claim 1, wherein X is a tetracarboxylic acid dianhydride, Y is a diamine and Z is a polyhydric hydroxy compound, and the relationship of the following formulas (1) and Wherein the thermosetting composition has a photo-alignment property.
0.2? Z / Y? (One)
0.2? (Y + Z) /X? 1.5 ... (2)
제 1 항에 있어서,
제 1 항에 기재된 폴리에스테르 아미드산(B)이 하기 화학식 (3) 및 화학식 (4)로 나타내는 구성 단위를 갖는 화합물인 것을 특징으로 하는 광배향성을 갖는 열경화성 조성물.
Figure pat00013

(상기 화학식들에 있어서, R1은 테트라카복실산 이무수물 잔기이고, R2는 디아민 잔기이며, R3은 다가 하이드록시 화합물 잔기이다.)
The method according to claim 1,
A thermosetting composition having photo-alignment property, wherein the polyester amide acid (B) according to claim 1 is a compound having a constitutional unit represented by the following formula (3) and formula (4).
Figure pat00013

(Wherein R 1 is a tetracarboxylic acid dianhydride residue, R 2 is a diamine residue, and R 3 is a polyhydric hydroxy compound residue).
제 6 항에 있어서,
상기 테트라카복실산 이무수물이 3,3',4,4'-디페닐술폰 테트라카복실산 이무수물, 3,3',4,4'-디페닐에테르 테트라카복실산 이무수물, 2,2-(비스(3,4-디카복시페닐))헥사플루오로프로판산 이무수물 및 에틸렌글리콜 비스(안하이드로 트리멜리테이트)에서 선택되는 1종 이상의 화합물인 것을 특징으로 하는 광배향성을 갖는 열경화성 조성물.
The method according to claim 6,
Wherein the tetracarboxylic dianhydride is selected from the group consisting of 3,3 ', 4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenylether tetracarboxylic dianhydride, 2,2- (bis , 4-dicarboxyphenyl)) hexafluoropropanic acid dianhydride and ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate). The thermosetting composition according to claim 1,
제 6 항에 있어서,
상기 디아민이 3,3'-디아미노디페닐술폰, 비스(4-(3-아미노페녹시)페닐)술폰 및 비스(4-(4-아미노페녹시)페닐)술폰에서 선택되는 1종 이상의 화합물인 것을 특징으로 하는 광배향성을 갖는 열경화성 조성물.
The method according to claim 6,
Wherein the diamine is at least one compound selected from 3,3'-diaminodiphenylsulfone, bis (4- (3-aminophenoxy) phenyl) sulfone and bis (4- Wherein the thermosetting composition has photo-alignment properties.
제 6 항에 있어서,
상기 다가 하이드록시 화합물이 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 1,7-헵탄디올 및 1,8-옥탄디올에서 선택되는 1종 이상의 화합물인 것을 특징으로 하는 광배향성을 갖는 열경화성 조성물.
The method according to claim 6,
Wherein the polyhydric hydroxy compound is at least one selected from the group consisting of ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,7-heptanediol and 1,8- Wherein the thermosetting composition has the photo-alignment property.
제 1 항에 있어서,
제 1 항에 기재된 폴리에스테르 아미드산(B)의 중량 평균 분자량이 1,000 내지 500,000인 것을 특징으로 하는 광배향성을 갖는 열경화성 조성물.
The method according to claim 1,
A thermosetting composition having photo-alignment property, wherein the polyester amide acid (B) according to claim 1 has a weight average molecular weight of 1,000 to 500,000.
제 1 항에 있어서,
제 1 항에 기재된 광배향성을 갖는 중합체(A)의 중량 평균 분자량이 2,000 내지 200,000인 것을 특징으로 하는 광배향성을 갖는 열경화성 조성물.
The method according to claim 1,
A thermosetting composition having photo-alignment property, wherein the photo-alignment polymer (A) according to claim 1 has a weight average molecular weight of 2,000 to 200,000.
제 1 항에 기재된 광배향성을 갖는 열경화성 조성물을 가열하는 것에 의해 수득되는 경화막. A cured film obtained by heating the thermosetting composition having a photo-alignment property according to claim 1. 제 16 항에 기재된 경화막을 보호막으로서 사용하는 컬러 필터.A color filter using the cured film according to claim 16 as a protective film. 제 17 항에 기재된 컬러 필터를 사용하는 액정 표시 소자. A liquid crystal display element using the color filter according to claim 17. 제 17 항에 기재된 컬러 필터를 사용하는 고체 촬상 소자.A solid-state imaging device using the color filter according to claim 17. 제 1 항에 기재된 광배향성을 갖는 열경화성 조성물로 형성되는 패턴화 위상차판. A patterned retardation plate formed from the thermosetting composition having a photo-alignment property according to claim 1. 제 1 항에 기재된 광배향성을 갖는 열경화성 조성물을 사용하여 수득되는 위상차판을 구비하는 광 디바이스.
An optical device comprising a retarder obtained by using the thermosetting composition having photo-alignment property according to claim 1.
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