KR20140047574A - Resin composition - Google Patents

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Abstract

본 발명은 저온 속경화성이 우수하고, 경화물의 Tg(유리 전이점)가 낮으며, 경화 후에 장시간 경과하여도 경화물의 Tg가 거의 변화하지 않는 에폭시 수지 조성물을 제공한다. 본 발명의 수지 조성물은, (A) 벤젠환을 포함하지 않는 에폭시 수지, (B) 분자 중에 2개 이상의 티올기를 갖는 티올 화합물, 및 (C) 잠재성 경화제를 함유한다. 상기 (A) 성분의 에폭시 당량에 대하여, 상기 (B) 성분이 티올 당량비로 1.0 내지 2.0의 비율로 배합되어 있는 것이 바람직하다.The present invention provides an epoxy resin composition which is excellent in low temperature fast curing property, has a low Tg (glass transition point) of the cured product, and hardly changes the Tg of the cured product even after a long time after curing. The resin composition of this invention contains the epoxy resin which does not contain the (A) benzene ring, the thiol compound which has two or more thiol groups in the (B) molecule, and (C) latent hardening | curing agent. It is preferable that the said (B) component is mix | blended in the ratio of 1.0-2.0 by thiol equivalent ratio with respect to the epoxy equivalent of the said (A) component.

Description

수지 조성물 {RESIN COMPOSITION}Resin composition {RESIN COMPOSITION}

본 발명은 저온 속경화성이 우수하고, 경화물의 Tg(유리 전이점)가 낮으며, 경화 후에 장시간 경과하여도 경화물의 Tg가 거의 변화하지 않는 에폭시 수지 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to an epoxy resin composition which is excellent in low temperature fast curing property, has a low Tg (glass transition point) of the cured product, and hardly changes the Tg of the cured product even after a long time of curing.

에폭시 수지, 티올 화합물 및 경화 촉진제를 포함하는 수지 조성물은 0℃ 내지 -20℃에서도 단시간에 경화 가능한 저온 속경화성이 우수한 수지 조성물이고, 접착제나 전자 부품의 밀봉제 등의 다양한 용도에 이용되고 있다. 이러한 수지 조성물의 예로서, 특허문헌 1 및 2에는, (1) 분자 내에 에폭시기를 2개 이상 갖는 에폭시 수지, (2) 분자 내에 티올기를 2개 이상 갖는 폴리티올 화합물, 및 (3) 고체 분산형 잠재성 경화 촉진제를 함유하는 수지 조성물이 개시되어 있다. 특허문헌 3에는, 유연성 골격 및 극성 결합기를 갖는 비스페놀 A형 에폭시 수지와, 2개 이상의 티올기를 갖는 폴리티올을 함유하는 에폭시 수지 조성물이 개시되어 있다.The resin composition containing an epoxy resin, a thiol compound, and a hardening accelerator is a resin composition excellent in the low temperature quick-curability which can be cured in a short time even at 0 degreeC --20 degreeC, and is used for various uses, such as an adhesive agent and the sealing agent of an electronic component. As examples of such a resin composition, Patent Documents 1 and 2 include (1) an epoxy resin having two or more epoxy groups in a molecule, (2) a polythiol compound having two or more thiol groups in a molecule, and (3) a solid dispersion type A resin composition containing a latent curing accelerator is disclosed. Patent Literature 3 discloses an epoxy resin composition containing a bisphenol A type epoxy resin having a flexible skeleton and a polar bonding group, and a polythiol having two or more thiol groups.

일본 특허 공개 (평)6-211969호 공보Japanese Patent Publication No. 6-211969 일본 특허 공개 (평)6-211970호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 6-211970 일본 특허 공개 제2006-36935호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2006-36935

그런데 열팽창계수가 상이한 2개의 부품을 접착제에 의해서 서로 접합한 경우에는, 주위 온도의 변화에 따라 그 접합부에는 열응력이 작용하여 균열 등이 발생하는 경우가 있다. 이 때문에, 이들의 부품을 접합하기 위한 접착제에는, 부품의 열변형에 추종할 수 있을 정도의 유연성이 필요하며, 접착제가 경화한 후의 Tg(유리 전이점)가 낮은 것, 즉 탄성계수가 낮은 것이 요구된다.However, in the case where two parts having different thermal expansion coefficients are joined to each other with an adhesive, thermal stress may act on the joints depending on the change in the ambient temperature, thereby causing cracks or the like. For this reason, the adhesive for joining these components requires flexibility that can follow the thermal deformation of the component, and the one having a low Tg (glass transition point) after the adhesive has cured, that is, having a low elastic modulus Required.

그러나, 상기한 특허문헌 1, 2에 기재된 에폭시 수지 조성물은, 우수한 저온 경화성 및 보존 안정성이 얻어지지만, Tg를 충분히 낮게 할 수 없다는 문제가 있었다. 또한, 상기한 특허문헌 3에 기재된 에폭시 수지 조성물은 저온에서 경화 가능하고, 경화물이 어느 정도의 유연성 및 가요성을 갖고 있기 때문에 응력을 흡수할 수 있지만, 시간이 경과함에 따라 경화물의 경화가 더 진행되어 유연성 및 가요성이 서서히 소실된다는 문제가 있었다.However, the epoxy resin compositions described in Patent Documents 1 and 2 described above had problems of not being able to sufficiently lower Tg, although excellent low temperature curability and storage stability were obtained. Moreover, although the epoxy resin composition of the said patent document 3 can harden | cure at low temperature, and since hardened | cured material has some flexibility and flexibility, it can absorb stress, but as time passes, hardening of hardened | cured material further There was a problem that the flexibility and flexibility gradually disappeared.

본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 감안하여 이루어진 것으로, 저온 속경화성이 우수하고, 경화물의 Tg(유리 전이점)가 낮으며, 경화 후에 장시간 경과하여도 경화물의 Tg가 거의 변화하지 않는 에폭시 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.This invention is made | formed in view of the above-mentioned problem, The epoxy resin composition which is excellent in low temperature quick-curing property, has a low Tg (glass transition point) of hardened | cured material, and hardly changes the Tg of hardened | cured material even after long time after hardening. The purpose is to provide.

본 발명자들은 상기한 과제를 해결하기 위해 다양한 실험을 행한 결과, 벤젠환을 포함하지 않는 에폭시 수지, 분자 중에 2개 이상의 티올기를 갖는 티올 화합물, 및 잠재성 경화제를 함유하는 수지 조성물은 저온 속경화성이 우수하고, 경화물의 Tg가 낮으며, 경화 후에 장시간 경과하여도 경화물의 Tg가 거의 변화하지 않는 것을 발견하였다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM The present inventors conducted various experiments in order to solve the said subject, and, as a result, the resin composition containing the epoxy resin which does not contain a benzene ring, the thiol compound which has two or more thiol groups in a molecule | numerator, and a latent hardening | curing agent has low temperature fast hardening property. It was found that the Tg of the cured product was excellent, the Tg of the cured product was low, and the cured product hardly changed even after a long time after curing.

본 발명은 (A) 벤젠환을 포함하지 않는 에폭시 수지, (B) 분자 중에 2개 이상의 티올기를 갖는 티올 화합물, 및 (C) 잠재성 경화제를 함유하는 수지 조성물이다.This invention is a resin composition containing the epoxy resin (A) which does not contain a benzene ring, the thiol compound which has two or more thiol groups in the molecule | numerator (B), and (C) latent hardening | curing agent.

본 발명의 수지 조성물에 있어서, 상기 (A) 성분은, 이하의 식 (1)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.In the resin composition of this invention, it is preferable that the said (A) component is a compound represented by the following formula (1).

Figure pct00001
Figure pct00001

본 발명의 수지 조성물에 있어서, 상기 (A) 성분은, 이하의 식 (2)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.In the resin composition of this invention, it is preferable that the said (A) component is a compound represented by the following formula (2).

Figure pct00002
Figure pct00002

또한, 본 발명의 수지 조성물에 있어서, 상기 (A) 성분은, 이하의 식 (3)으로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.Moreover, in the resin composition of this invention, it is preferable that the said (A) component is a compound represented by the following formula (3).

본 발명의 수지 조성물에 있어서, 상기 (A) 성분은, 이하의 식 (4)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.In the resin composition of this invention, it is preferable that the said (A) component is a compound represented by the following formula (4).

Figure pct00004
Figure pct00004

본 발명의 수지 조성물에 있어서, 상기 (A) 성분의 에폭시 당량에 대하여, 상기 (B) 성분이 티올 당량비로 1.0 내지 2.0의 비율로 배합되어 있는 것이 바람직하다.In the resin composition of this invention, it is preferable that the said (B) component is mix | blended in the ratio of 1.0-2.0 by thiol equivalent ratio with respect to the epoxy equivalent of the said (A) component.

본 발명의 수지 조성물에 있어서, 상기 (B) 성분이 테트라에틸렌글리콜 비스3-메르캅토프로피오네이트, 트리메틸올프로판 트리스3-메르캅토프로피오네이트, 펜타에리트리톨 테트라키스3-메르캅토프로피오네이트, 및 디펜타에리트리톨 테트라키스3-메르캅토프로피오네이트로부터 선택되는 적어도 하나인 것이 바람직하다.In the resin composition of the present invention, the component (B) is tetraethylene glycol bis3-mercaptopropionate, trimethylolpropane tris3-mercaptopropionate, pentaerythritol tetrakis3-mercaptopropionate And at least one selected from dipentaerythritol tetrakis 3-mercaptopropionate.

본 발명의 수지 조성물은, 추가로 실리카 충전재, 실란 커플링제, 이온 트랩제, 레벨링제, 산화 방지제, 소포제 및 요변제(搖變劑)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 첨가제를 함유하는 것이 바람직하다.It is preferable that the resin composition of this invention contains at least 1 additive further chosen from the group which consists of a silica filler, a silane coupling agent, an ion trap agent, a leveling agent, antioxidant, an antifoamer, and a thixotropic agent. Do.

또한, 본 발명은 상기 어느 하나의 수지 조성물을 함유하는 밀봉제에 의해 밀봉된 전자 부품을 제공한다.Moreover, this invention provides the electronic component sealed by the sealing agent containing any one of said resin compositions.

또한, 본 발명은 상기 어느 하나의 수지 조성물을 함유하는 접착제를 제공한다.Moreover, this invention provides the adhesive agent containing any one of said resin compositions.

본 발명에 따르면, 저온 속경화성이 우수하고, 경화물의 Tg(유리 전이점)가 낮으며, 경화 후에 장시간 경과하여도 Tg가 거의 변화하지 않는 에폭시 수지 조성물을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide an epoxy resin composition which is excellent in low temperature fast curing property, has a low Tg (glass transition point) of a cured product, and hardly changes in Tg even after a long time after curing.

이하, 본 발명을 실시하기 위한 구체적인 내용에 대해서 상세히 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the specific content for implementing this invention is demonstrated in detail.

본 발명의 실시 형태에 따른 수지 조성물은, (A) 벤젠환을 포함하지 않는 에폭시 수지, (B) 분자 중에 2개 이상의 티올기를 갖는 티올 화합물, 및 (C) 잠재성 경화제를 함유한다.The resin composition which concerns on embodiment of this invention contains the epoxy resin which does not contain the (A) benzene ring, the thiol compound which has two or more thiol groups in the (B) molecule, and (C) latent hardening | curing agent.

상기 (A) 성분의 에폭시 수지는, 예를 들면 이하의 식 (1)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.It is preferable that the epoxy resin of the said (A) component is a compound represented by following formula (1), for example.

Figure pct00005
Figure pct00005

상기 화학식 (1)로 표시되는 화합물은, 예를 들면 이하의 식 (2) 및/또는 식 (3)으로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.It is preferable that the compound represented by the said General formula (1) is a compound represented by following formula (2) and / or formula (3), for example.

Figure pct00006
Figure pct00006

Figure pct00007
Figure pct00007

또한, 상기 화학식 (1)로 표시되는 화합물은, 예를 들면 이하의 식 (4)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the compound represented by the said General formula (1) is a compound represented, for example by the following formula (4).

또한, 이하의 식 (4)에 있어서, R2 내지 R5는 메틸기인 것이 바람직하다.In addition, in following formula (4), it is preferable that R <2> -R <5> is a methyl group.

Figure pct00008
Figure pct00008

상기 (B) 성분의 티올 화합물은, 1분자당 2개 이상의 티올기를 갖는 것이면 된다. 보존 안정성 측면에서, 염기성 불순물 함량이 최대한 적은 것이 바람직하다. 이러한 티올 화합물의 예로서, 트리메틸올프로판트리스(티오글리콜레이트), 펜타에리트리톨테트라키스(티오글리콜레이트), 에틸렌글리콜디티오글리콜레이트, 트리메틸올프로판트리스(β-티오프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(β-티오프로피오네이트), 디펜타에리트리톨폴리(β-티오프로피오네이트), 트리스-[(3-메르캅토프로피오닐옥시)-에틸]-이소시아누레이트 등의 폴리올과 메르캅토 유기산의 에스테르화 반응에 의해서 얻어지는 티올 화합물 등을 들 수 있다.The thiol compound of the said (B) component should just have two or more thiol groups per molecule. In terms of storage stability, it is desirable that the content of basic impurities be as small as possible. Examples of such thiol compounds include trimethylolpropanetris (thioglycolate), pentaerythritol tetrakis (thioglycolate), ethylene glycol dithioglycolate, trimethylolpropanetris (β-thiopropionate), pentaerythrate Polyols such as lititol tetrakis (β-thiopropionate), dipentaerythritol poly (β-thiopropionate), tris-[(3-mercaptopropionyloxy) -ethyl] -isocyanurate And thiol compounds obtained by esterification of mercapto organic acids.

마찬가지로 티올 화합물의 예로서, 1,4-부탄디티올, 1,5-펜탄디티올, 1,6-헥산디티올, 1,8-옥탄디티올, 1,9-노난디티올, 1,10-데칸디티올 등의 알킬폴리티올 화합물; 말단 티올기 함유 폴리에테르; 말단 티올기 함유 폴리티오에테르; 에폭시 화합물과 황화수소와의 반응에 의해서 얻어지는 티올 화합물; 폴리티올 화합물과 에폭시 화합물과의 반응에 의해서 얻어지는 말단 티올기를 갖는 티올 화합물; 등을 들 수 있다. 그의 제조 공정상 반응 촉매로서 염기성 물질을 사용함에 있어서는, 탈알칼리 처리를 행하여, 알칼리 금속 이온 농도를 50 ppm 이하로 한 분자 내에 티올기를 2개 이상 갖는 티올 화합물이 바람직하다.Likewise as examples of thiol compounds, 1,4-butanedithiol, 1,5-pentanedithiol, 1,6-hexanedithiol, 1,8-octanedithiol, 1,9-nonanedithiol, 1,10 Alkyl polythiol compounds such as decandithiol; Terminal thiol group-containing polyethers; Terminal thiol group-containing polythioether; Thiol compounds obtained by the reaction of an epoxy compound with hydrogen sulfide; Thiol compound which has a terminal thiol group obtained by reaction of a polythiol compound and an epoxy compound; And the like. In using a basic substance as a reaction catalyst in the manufacturing process, the thiol compound which has two or more thiol groups in the molecule which carried out the alkali removal process and made alkali metal ion concentration 50 ppm or less is preferable.

상기 (C) 성분의 잠재성 경화제란, 실온에서는 에폭시 수지에 불용인 고체로 가열함으로써 가용화하여 경화 촉진제로서 기능하는 화합물로, 상온에서 고체의 이미다졸 화합물이나, 고체 분산형 아민어덕트계 잠재성 경화 촉진제, 예를 들면 아민 화합물과 에폭시 화합물과의 반응 생성물(아민-에폭시어덕트계), 아민 화합물과 이소시아네이트 화합물 또는 요소 화합물과의 반응 생성물(요소형 어덕트계) 등을 들 수 있다.The latent curing agent of the component (C) is a compound which is solubilized by heating with a solid insoluble in an epoxy resin at room temperature to function as a curing accelerator, and is a solid imidazole compound or a solid dispersion-type amine adduct type latent at room temperature. A curing accelerator, for example, a reaction product of an amine compound with an epoxy compound (amine-epoxy duct type), a reaction product of an amine compound with an isocyanate compound or an urea compound (urea type duct type), and the like.

본 발명에 이용되는 상온에서 고체인 이미다졸 화합물로는, 예를 들면 2-헵타데실이미다졸, 2-페닐-4,5-디히드록시메틸이미다졸, 2-운데실이미다졸, 2-페닐-4-메틸-5-히드록시메틸이미다졸, 2-페닐-4-벤질-5-히드록시메틸이미다졸, 2,4-디아미노-6-(2-메틸이미다졸릴-(1))-에틸-S-트리아진, 2,4-디아미노-6-(2'-메틸이미다졸릴-(1)')-에틸-S-트리아진·이소시아누르산 부가물, 2-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸, 1-시아노에틸-2-메틸이미다졸-트리멜리테이트, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸-트리멜리테이트, N-(2-메틸이미다졸릴-1-에틸)-요소, N,N'-(2-메틸이미다졸릴-(1)-에틸)-아디포일디아미드 등을 들 수 있지만, 이것으로 한정되는 것은 아니다.As an imidazole compound which is solid at normal temperature used for this invention, 2-heptadecyl imidazole, 2-phenyl-4, 5- dihydroxy methyl imidazole, 2- undecyl imidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-benzyl-5-hydroxymethylimidazole, 2,4-diamino-6- (2-methylimidazolyl -(1))-ethyl-S-triazine, 2,4-diamino-6- (2'-methylimidazolyl- (1) ')-ethyl-S-triazine-isocyanuric acid adduct , 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimida Sol-trimelitate, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole-trimelitate, N- (2-methylimidazolyl-1-ethyl) -urea, N, N '-(2-methyldi Midazolyl- (1) -ethyl) -adifoyldiamide, etc. are mentioned, but it is not limited to this.

본 발명에 이용되는 고체 분산형 아민어덕트계 잠재성 경화 촉진제(아민-에폭시어덕트계)의 제조 원료 중 하나로서 이용되는 에폭시 화합물로는, 예를 들면 비스페놀 A, 비스페놀 F, 카테콜, 레조르시놀 등 다가 페놀, 또는 글리세린이나 폴리에틸렌글리콜과 같은 다가 알코올과 에피클로로히드린을 반응시켜 얻어지는 폴리글리시딜에테르; p-히드록시벤조산, β-히드록시나프토산과 같은 히드록시카르복실산과 에피클로로히드린을 반응시켜 얻어지는 글리시딜에테르에스테르; 프탈산, 테레프탈산과 같은 폴리카르복실산과 에피클로로히드린을 반응시켜 얻어지는 폴리글리시딜에스테르; 4,4'-디아미노디페닐메탄이나 m-아미노페놀 등과 에피클로로히드린을 반응시켜 얻어지는 글리시딜아민 화합물; 또한 에폭시화페놀노볼락 수지, 에폭시화크레졸노볼락 수지, 에폭시화폴리올레핀 등의 다관능성 에폭시 화합물이나 부틸글리시딜에테르, 페닐글리시딜에테르, 글리시딜메타크릴레이트 등의 단관능성 에폭시 화합물; 등을 들 수 있지만 이것으로 한정되는 것은 아니다.As an epoxy compound used as one of the manufacturing raw materials of the solid dispersion type | mold amine adduct type latent hardening accelerator (amine-epoxy adduct type) used for this invention, it is bisphenol A, bisphenol F, catechol, resor, for example. Polyglycidyl ethers obtained by reacting a polyhydric phenol such as lecinol or a polyhydric alcohol such as glycerin or polyethylene glycol with epichlorohydrin; glycidyl ether esters obtained by reacting hydroxycarboxylic acids such as p-hydroxybenzoic acid and β-hydroxynaphthoic acid with epichlorohydrin; Polyglycidyl esters obtained by reacting polycarboxylic acids such as phthalic acid and terephthalic acid with epichlorohydrin; Glycidylamine compounds obtained by reacting 4,4'-diaminodiphenylmethane, m-aminophenol and epichlorohydrin; Moreover, polyfunctional epoxy compounds, such as epoxidized phenol novolak resin, epoxidized cresol novolak resin, and epoxidized polyolefin, monofunctional epoxy compounds, such as butyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, and glycidyl methacrylate; Although these etc. are mentioned, it is not limited to this.

본 발명에 이용하는 상기 고체 분산형 아민어덕트계 잠재성 경화 촉진제 중 다른 하나의 제조 원료로서 이용되는 아민 화합물은, 에폭시기와 부가 반응할 수 있는 활성수소를 분자 내에 1개 이상 가지며, 1급 아미노기, 2급 아미노기 및 3급 아미노기 중으로부터 선택된 관능기를 적어도 분자 내에 1개 이상 갖는 것이면 된다. 이러한 아민 화합물의 예를 이하에 나타내지만, 이것으로 한정되는 것은 아니다. 즉, 예를 들면 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라민, n-프로필아민, 2-히드록시에틸아미노프로필아민, 시클로헥실아민, 4,4'-디아미노-디시클로헥실메탄과 같은 지방족 아민류; 4,4'-디아미노디페닐메탄, 2-메틸아닐린 등의 방향족 아민 화합물; 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸린, 2,4-디메틸이미다졸린, 피페리딘, 피페라진 등의 질소 원자가 함유된 복소환 화합물; 등을 들 수 있다.The amine compound used as a raw material for the production of the other of the above-mentioned solid dispersion type amine adduct-based latent curing accelerators used in the present invention has at least one active hydrogen capable of reacting with addition of an epoxy group in a molecule, a primary amino group, What is necessary is just to have at least 1 functional group selected from a secondary amino group and a tertiary amino group in a molecule | numerator. Although the example of such an amine compound is shown below, it is not limited to this. That is, for example, aliphatic amines such as diethylenetriamine, triethylenetetramine, n-propylamine, 2-hydroxyethylaminopropylamine, cyclohexylamine, 4,4'-diamino-dicyclohexylmethane; Aromatic amine compounds such as 4,4'-diaminodiphenylmethane and 2-methylaniline; Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms such as 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazoline, 2,4-dimethylimidazoline, piperidine, and piperazine; And the like.

또한, 이 중에서 특히 분자 내에 3급 아미노기를 갖는 화합물은, 우수한 경화 촉진능을 갖는 잠재성 경화 촉진제를 제공하는 원료이고, 그러한 화합물의 예로는, 예를 들면 디메틸아미노프로필아민, 디에틸아미노프로필아민, 디-n-프로필아미노프로필아민, 디부틸아미노프로필아민, 디메틸아미노에틸아민, 디에틸아미노에틸아민, N-메틸피페라진 등의 아민 화합물이나, 2-메틸이미다졸, 2-에틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸 등의 이미다졸 화합물과 같은 분자 내에 3급 아미노기를 갖는 1급 또는 2급 아민류; 2-디메틸아미노에탄올, 1-메틸-2-디메틸아미노에탄올, 1-페녹시메틸-2-디메틸아미노에탄올, 2-디에틸아미노에탄올, 1-부톡시메틸-2-디메틸아미노에탄올, 1-(2-히드록시-3-페녹시프로필)-2-메틸이미다졸, 1-(2-히드록시-3-페녹시프로필)-2-에틸-4-메틸이미다졸, 1-(2-히드록시-3-부톡시프로필)-2-메틸이미다졸, 1-(2-히드록시-3-부톡시프로필)-2-에틸-4-메틸이미다졸, 1-(2-히드록시-3-페녹시프로필)-2-페닐이미다졸린, 1-(2-히드록시-3-부톡시프로필)-2-메틸이미다졸린, 2-(디메틸아미노메틸)페놀, 2,4,6-트리스(디메틸아미노메틸)페놀, N-β-히드록시에틸모르폴린, 2-디메틸아미노에탄티올, 2-메르캅토피리딘, 2-벤조이미다졸, 2-메르캅토벤조이미다졸, 2-메르캅토벤조티아졸, 4-메르캅토피리딘, N,N-디메틸아미노벤조산, N,N-디메틸글리신, 니코틴산, 이소니코틴산, 피콜린산, N,N-디메틸글리신히드라지드, N,N-디메틸프로피온산히드라지드, 니코틴산히드라지드, 이소니코틴산히드라지드 등과 같은 분자 내에 3급 아미노기를 갖는 알코올류, 페놀류, 티올류, 카르복실산류 및 히드라지드류; 등을 들 수 있다.Moreover, especially the compound which has tertiary amino group in a molecule | numerator is a raw material which provides the latent hardening accelerator which has the outstanding hardening accelerating ability, As an example of such a compound, For example, dimethylaminopropylamine, diethylaminopropylamine Amine compounds such as di-n-propylaminopropylamine, dibutylaminopropylamine, dimethylaminoethylamine, diethylaminoethylamine, and N-methylpiperazine, 2-methylimidazole and 2-ethylimida Primary or secondary amines having a tertiary amino group in a molecule such as an imidazole compound such as sol, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, etc .; 2-dimethylaminoethanol, 1-methyl-2-dimethylaminoethanol, 1-phenoxymethyl-2-dimethylaminoethanol, 2-diethylaminoethanol, 1-butoxymethyl-2-dimethylaminoethanol, 1- ( 2-hydroxy-3-phenoxypropyl) -2-methylimidazole, 1- (2-hydroxy-3-phenoxypropyl) -2-ethyl-4-methylimidazole, 1- (2- Hydroxy-3-butoxypropyl) -2-methylimidazole, 1- (2-hydroxy-3-butoxypropyl) -2-ethyl-4-methylimidazole, 1- (2-hydroxy -3-phenoxypropyl) -2-phenylimidazoline, 1- (2-hydroxy-3-butoxypropyl) -2-methylimidazoline, 2- (dimethylaminomethyl) phenol, 2,4, 6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, N-β-hydroxyethylmorpholine, 2-dimethylaminoethanethiol, 2-mercaptopyridine, 2-benzoimidazole, 2-mercaptobenzoimidazole, 2-mer Captobenzothiazole, 4-mercaptopyridine, N, N-dimethylaminobenzoic acid, N, N-dimethylglycine, nicotinic acid, isnicotinic acid, picolinic acid, N, N- Methyl-glycine hydrazide, N, N- dimethyl propionic acid hydrazide, nicotinic acid hydrazide, isonicotinic acid hydrazide Drew if alcohols, phenols, thiols, carboxylic acids, and Hydra having a tertiary amino group in the molecule such as; And the like.

본 발명의 에폭시 수지 조성물의 보존 안정성을 더욱 향상시키기 위해, 상기한 에폭시 화합물과 아민 화합물을 부가 반응시켜 본 발명에 이용되는 잠재성 경화 촉진제를 제조할 때에, 제3 성분으로서 분자 내에 활성수소를 2개 이상 갖는 활성수소 화합물을 첨가할 수도 있다. 이러한 활성수소 화합물의 예를 이하에 나타내지만, 이것으로 한정되는 것은 아니다. 즉, 예를 들면 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 S, 히드로퀴논, 카테콜, 레조르시놀, 피로갈롤, 페놀노볼락 수지 등의 다가 페놀류, 트리메틸올프로판 등의 다가 알코올류, 아디프산, 프탈산 등의 다가 카르복실산류, 1,2-디메르캅토에탄, 2-메르캅토에탄올, 1-메르캅토-3-페녹시-2-프로판올, 메르캅토아세트산, 안트라닐산, 락트산 등을 들 수 있다.In order to further improve the storage stability of the epoxy resin composition of the present invention, when the latent curing accelerator used in the present invention is prepared by addition reaction of the epoxy compound and the amine compound, active hydrogen is added to the molecule as a third component. It is also possible to add an active hydrogen compound having two or more. Although the example of such an active hydrogen compound is shown below, it is not limited to this. Namely, for example, polyhydric phenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, hydroquinone, catechol, resorcinol, pyrogallol, phenol novolak resin, polyhydric alcohols such as trimethylolpropane, adipic acid, phthalic acid, and the like. Polyhydric carboxylic acids, 1,2-dimercaptoethane, 2-mercaptoethanol, 1-mercapto-3-phenoxy-2-propanol, mercaptoacetic acid, anthranilic acid, lactic acid and the like.

본 발명에 이용하는 고체 분산형 아민어덕트계 잠재성 경화 촉진제의 추가적인 또 하나의 제조 원료로서 이용되는 이소시아네이트 화합물로는, 예를 들면 n-부틸이소시아네이트, 이소프로필이소시아네이트, 페닐이소시아네이트, 벤질이소시아네이트 등의 단관능 이소시아네이트 화합물; 헥사메틸렌디이소시아네이트, 톨루일렌디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌디이소시아네이트, 디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 파라페닐렌디이소시아네이트, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 비시클로헵탄트리이소시아네이트 등의 다관능 이소시아네이트 화합물; 또한, 이들 다관능 이소시아네이트 화합물과 활성수소 화합물과의 반응에 의해서 얻어지는 말단 이소시아네이트기 함유 화합물; 등도 사용할 수 있다. 이러한 말단 이소시아네이트기 함유 화합물의 예로는, 톨루일렌디이소시아네이트와 트리메틸올프로판과의 반응에 의해 얻어지는 말단 이소시아네이트기를 갖는 부가 화합물, 톨루일렌디이소시아네이트와 펜타에리트리톨과의 반응에 의해 얻어지는 말단 이소시아네이트기를 갖는 부가 화합물 등을 들 수 있지만, 이것으로 한정되는 것은 아니다.As an isocyanate compound used as an additional raw material for producing the solid dispersion type amine adduct latent curing accelerator used in the present invention, for example, n-butyl isocyanate, isopropyl isocyanate, phenyl isocyanate, benzyl isocyanate, etc. Functional isocyanate compounds; Hexamethylene diisocyanate, toluylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, diphenylmethane-4,4'-diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, paraphenylenedi isocyanate, 1,3,6 Polyfunctional isocyanate compounds such as hexamethylene triisocyanate and bicycloheptane triisocyanate; Moreover, the terminal isocyanate group containing compound obtained by reaction of these polyfunctional isocyanate compounds and an active hydrogen compound; Can also be used. Examples of such a terminal isocyanate group-containing compound include an addition compound having a terminal isocyanate group obtained by the reaction of toluylene diisocyanate and trimethylolpropane, and an addition having a terminal isocyanate group obtained by the reaction of toluylene diisocyanate and pentaerythritol. Although a compound etc. are mentioned, It is not limited to this.

또한, 요소 화합물로서, 예를 들면 요소, 티오 요소 등을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다.Moreover, although urea, thiourea, etc. are mentioned as a urea compound, it is not limited to these, for example.

본 발명에 이용되는 고체 분산형 잠재성 경화 촉진제는, 예를 들면 상기한 (a) 아민 화합물과 에폭시 화합물의 2 성분, (b) 이 2 성분과 활성수소 화합물의 3 성분, 또는 (c) 아민 화합물과 이소시아네이트 화합물 또는/및 요소 화합물의 2 또는 3 성분의 조합으로 각 성분을 채용하여 혼합하고, 실온으로부터 200℃의 온도에서 반응시킨 후, 냉각 고화하고 나서 분쇄하거나, 또는 메틸에틸케톤, 디옥산, 테트라히드로푸란 등의 용매 중에서 반응시켜 탈용매한 후, 고형분을 분쇄함으로써 용이하게 얻을 수 있다.The solid dispersion type latent curing accelerator used in the present invention may be, for example, two components of the above-mentioned (a) amine compound and epoxy compound, (b) three components of these two components and active hydrogen compound, or (c) amine Each component is employed in a combination of two or three components of a compound, an isocyanate compound and / or a urea compound, mixed, reacted at a temperature of 200 ° C. from room temperature, and then cooled and solidified, or pulverized, or methyl ethyl ketone or dioxane. It is easily obtained by pulverizing solid content after making it react by desolvating in solvents, such as and tetrahydrofuran.

상기한 고체 분산형 잠재성 경화 촉진제로서 시판되고 있는 대표적인 예를 이하에 나타내지만, 이것으로 한정되는 것은 아니다. 즉, 예를 들면 아민-에폭시어덕트계(아민어덕트계)로는 "아미큐어 PN-23"(아지노모또(주) 상품명), "아미큐어 PN-40"(아지노모또(주) 상품명), "하드너 X-3661S"(ECR(주) 상품명), "하드너 X-3670S"(ECR(주) 상품명), "노바큐어 HX-3742"(아사히 가세이(주) 상품명), "노바큐어 HX-3721"(아사히 가세이(주) 상품명) 등을 들 수 있으며, 요소형 어덕트계로는 "아지큐어 FXE-1000"(후지 가세이(주) 상품명), "아지큐어 FXR-1030"(후지 가세이(주)) 등을 들 수 있다.Although the typical example marketed as said solid dispersion type latent hardening accelerator is shown below, it is not limited to this. That is, for example, "Amicure PN-23" (Ajino Moto Co., Ltd.), "Amicure PN-40" (Ajino Moto Co., Ltd.) ), "Hardner X-3661S" (ECR Co., Ltd. brand name), "Hardner X-3670S" (ECR Co., Ltd. brand name), "Novacure HX-3742" (Asahi Kasei Co., Ltd. product name), "Novacure HX -3721 "(Asahi Kasei Co., Ltd. brand name) etc. are mentioned, As an element type adduct system," Ajicure FXE-1000 "(Fuji Kasei Co., Ltd. brand name)," Ajicure FXR-1030 "(Fuji Kasei ( Note) etc. can be mentioned.

상기에서 설명한 (A) 내지 (C) 성분을 원료로서 본 발명의 수지 조성물을 제조하기 위해서는 특별히 곤란한 점은 없으며, 종래 공지된 방법에 준할 수 있다. 예를 들면 헨셀 믹서 등의 혼합기로 혼합함으로써, 본 발명의 수지 조성물을 제조할 수 있다.In order to manufacture the resin composition of this invention using the (A)-(C) component demonstrated above as a raw material, there is no difficulty in particular, According to a conventionally well-known method. For example, the resin composition of this invention can be manufactured by mixing by mixers, such as a Henschel mixer.

또한, 본 발명의 수지 조성물을 경화함에도 특별히 곤란한 점은 없으며, 종래 공지된 방법을 사용할 수 있다. 예를 들면, 50 내지 120℃에서 가열함으로써, 본 발명의 수지 조성물을 경화시킬 수 있다.In addition, there is no particular difficulty in curing the resin composition of the present invention, and a conventionally known method can be used. For example, the resin composition of this invention can be hardened by heating at 50-120 degreeC.

본 발명의 수지 조성물은, 상기 (A) 내지 (C) 성분을 함유하는 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 저온 속경화성이 우수하고, 경화물의 Tg(유리 전이점)가 낮은 수지 조성물을 얻을 수 있다. 또한, 수지 조성물이 가열에 의해 경화하여 경화물이 된 후에 장시간 경과하여도, 그 경화물의 Tg가 거의 변화하지 않는 수지 조성물을 얻을 수 있다.The resin composition of this invention contains the said (A)-(C) component, It is characterized by the above-mentioned. Thereby, the resin composition which is excellent in low temperature fast hardenability and low in Tg (glass transition point) of hardened | cured material can be obtained. Moreover, even if it passes for a long time after a resin composition hardens | cures by heating and it becomes hardened | cured material, the resin composition which Tg hardly changes the hardened | cured material can be obtained.

이러한 수지 조성물이 얻어지는 이유는, 상기 (A) 성분의 에폭시 수지의 분자 중에 벤젠환이 포함되지 않은 것에 기인한다고 생각된다. 또는, 상기 화학식 (2) 및 (3)으로 표시되는 화합물의 에폭시 당량이 비교적 높은 것에 기인한다고 생각된다. 또는, 상기 화학식 (4)로 표시되는 화합물의 분자 중에 실리콘 골격이 존재하는 것에 기인한다고 생각된다.The reason why such a resin composition is obtained is considered to be because it does not contain the benzene ring in the molecule | numerator of the epoxy resin of the said (A) component. Or it is considered that the epoxy equivalent of the compound represented by the said General formula (2) and (3) originates in comparatively high thing. Or it is considered that it originates in the presence of a silicone skeleton in the molecule | numerator of the compound represented by the said General formula (4).

본 발명의 수지 조성물에 있어서, 상기 (A) 성분의 에폭시 당량에 대하여, 상기 (B) 성분이 티올 당량비로 1.0 내지 2.0(1.0 이상 2.0 이하)의 비율로 배합되어 있는 것이 바람직하다. 여기서 말하는 "에폭시 당량"이란, 에폭시 수지의 분자량을 1 분자 중 에폭시기의 수로 나눈 수치를 말한다. "티올 당량"이란, 티올 화합물의 분자량을 1 분자 중 티올기의 수로 나눈 수치를 말한다. 즉, 상기 (A) 성분의 에폭시 당량에 대하여, 상기 (B) 성분이 티올 당량비로 1.0 내지 2.0인 것은, 에폭시기의 수가 1에 대하여 티올기의 수가 1.0 내지 2.0인 것을 의미한다.In the resin composition of this invention, it is preferable that the said (B) component is mix | blended in the ratio of 1.0-2.0 (1.0 or more and 2.0 or less) by thiol equivalent ratio with respect to the epoxy equivalent of the said (A) component. The "epoxy equivalent" here means the numerical value which divided the molecular weight of an epoxy resin by the number of epoxy groups in 1 molecule. The "thiol equivalent weight" means the numerical value which divided the molecular weight of a thiol compound by the number of thiol groups in 1 molecule. That is, with respect to the epoxy equivalent of the said (A) component, when (B) component is 1.0-2.0 by thiol equivalent ratio, it means that the number of thiol groups is 1.0-2.0 with respect to the number of epoxy groups.

상기 (A) 성분과 상기 (B) 성분의 배합 비율이 이러한 범위로 설정됨으로써, 수지 조성물이 경화하여 경화물이 된 후에 장시간 경과하여도, 그 경화물의 Tg가 거의 변화하지 않는 수지 조성물을 얻을 수 있다. 이러한 수지 조성물이 얻어지는 이유는, 상기 (A) 성분의 에폭시 당량에 대한 상기 (B) 성분의 티올 당량비가 적절한 범위로 설정되어 있기 때문이라고 생각된다. 즉, 상기 (A) 성분의 에폭시 당량에 대한 상기 (B) 성분의 티올 당량비가 1.0보다도 작은 경우에는, 에폭시기의 일부가 티올기와 반응하지 않고 남기 때문에, 이 남은 에폭시기가 원인이 되어 경화물의 경화가 더 진행되는 것이라고 생각된다. 한편, 상기 (A) 성분의 에폭시 당량에 대한 상기 (B) 성분의 티올 당량비가 2.0보다도 큰 경우에는, 티올기의 일부가 에폭시기와 반응하지 않고 남기 때문에, 이 남은 티올기가 원인이 되어 경화물의 경화가 더 진행되는 것이라고 생각된다.By setting the compounding ratio of the said (A) component and the said (B) component in such a range, even if it passes for a long time after hardening a resin composition and it becomes a hardened | cured material, the resin composition which hardly changes Tg of the hardened | cured material can be obtained. have. The reason why such a resin composition is obtained is considered to be that the thiol equivalent ratio of the component (B) to the epoxy equivalent of the component (A) is set in an appropriate range. That is, when the thiol equivalent ratio of the said (B) component with respect to the epoxy equivalent of the said (A) component is smaller than 1.0, since a part of epoxy groups remain without reacting with a thiol group, this remaining epoxy group causes and hardening of hardened | cured material I think it goes further. On the other hand, when the thiol equivalent ratio of the said (B) component with respect to the epoxy equivalent of the said (A) component is larger than 2.0, since a part of thiol group will remain without reacting with an epoxy group, this remaining thiol group will be the cause and hardened | cured hardened | cured material I think that is going further.

본 발명의 수지 조성물은, 추가로 필요에 따라 실리카 충전재, 실란 커플링제, 이온 트랩제, 레벨링제, 산화 방지제, 소포제, 및 요변제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 첨가제를 함유할 수도 있다. 또한, 점도 조정제, 난연제, 또는 용제 등을 함유할 수도 있다.The resin composition of the present invention may further contain at least one additive selected from the group consisting of a silica filler, a silane coupling agent, an ion trapping agent, a leveling agent, an antioxidant, an antifoaming agent, and a thixotropic agent as necessary. Moreover, a viscosity modifier, a flame retardant, a solvent, etc. can also be contained.

본 발명의 수지 조성물은, 부품끼리 접합하기 위한 접착제 또는 그의 원료로서 사용할 수 있다.The resin composition of this invention can be used as an adhesive agent or its raw material for joining parts.

본 발명의 수지 조성물은, 전자 부품의 밀봉제 또는 그의 원료로서 사용할 수 있다.The resin composition of this invention can be used as a sealing agent of an electronic component, or its raw material.

본 발명의 수지 조성물을 이용한 접착제의 탄성률은, 바람직하게는 0.01 내지 1.5 GPa이고, 더욱 바람직하게는 0.4 내지 0.8 GPa이다.The elasticity modulus of the adhesive agent using the resin composition of this invention becomes like this. Preferably it is 0.01-1.5 GPa, More preferably, it is 0.4-0.8 GPa.

탄성률이 0.01 GPa보다 작은 경우에는, 접착제의 경화 부분이 취성이 된다. 탄성률이 1.5 GPa보다 큰 경우에는, 접착제의 수축 응력에 의해 경화물에 균열이 발생할 우려가 있다.When the elastic modulus is smaller than 0.01 GPa, the cured portion of the adhesive becomes brittle. If the modulus of elasticity is larger than 1.5 GPa, there is a fear that cracks occur in the cured product due to the shrinkage stress of the adhesive.

또한, 본 발명의 수지 조성물을 이용한 접착제의 Tg는, 바람직하게는 -20 내지 -55℃이고, 더욱 바람직하게는 -30 내지 -38℃이다.Moreover, Tg of the adhesive agent using the resin composition of this invention becomes like this. Preferably it is -20-55 degreeC, More preferably, it is -30-38 degreeC.

Tg가 -20℃보다 큰 경우에는, 접착제의 경화 부분에 균열이 발생할 우려가 있다. 또한, 피착체와의 접착 강도에 의해서는, 피착체에 균열이 발생하는 경우도 있다. Tg가 -55℃보다도 작은 경우에는, 경화 부분이 취성이 된다.When Tg is larger than -20 degreeC, there exists a possibility that a crack may generate | occur | produce in the hardened part of an adhesive agent. In addition, a crack may generate | occur | produce in a to-be-adhered body by adhesive strength with a to-be-adhered body. When Tg is smaller than -55 degreeC, a hardened part will become brittle.

[실시예][Example]

이하, 본 발명의 실시예에 대해서 설명하지만, 본 발명이 이것으로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, although the Example of this invention is described, this invention is not limited to this.

(수지 조성물의 제조)(Preparation of resin composition)

이하의 표 1, 2에 나타내는 배합으로 각 성분을 혼합하여, 실시예 1 내지 20에 관한 수지 조성물을 제조하였다.Each component was mixed by the combination shown in the following Tables 1 and 2, and the resin composition concerning Examples 1-20 was manufactured.

이하의 표 3에 나타내는 배합으로 각 성분을 혼합하여, 비교예 1 내지 4에 관한 수지 조성물을 제조하였다.Each component was mixed by the formulation shown in the following Table 3, and the resin composition concerning Comparative Examples 1-4 was manufactured.

또한, 표 1 내지 3에 있어서, (A) 내지 (F) 성분의 배합 비율을 나타내는 숫자는, 전부 중량부를 나타내고 있다.In addition, in Tables 1-3, the number which shows the compounding ratio of (A)-(F) component has shown all the weight part.

표 1 내지 3 중 각 성분의 구체적인 물질명 등은, 이하와 같다.Specific substance names, etc. of each component in Tables 1-3 are as follows.

(A1) 에폭시 수지 1: 신닛테츠 가가꾸사 제조 "YDF8170", 비스페놀 F형 에폭시 수지, 중량 평균 분자량 165(A1) Epoxy resin 1: Shinnitetsu Chemical Co., Ltd. "YDF8170", bisphenol F-type epoxy resin, weight average molecular weight 165

(A2) 에폭시 수지 2: 재팬 에폭시 레진 가부시끼가이샤 제조 "YL7410"(상기 식 (2)의 에폭시 수지), 중량 평균 분자량 435(A2) Epoxy resin 2: "YL7410" (the epoxy resin of the said Formula (2)) by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., weight average molecular weight 435

(A3) 에폭시 수지 3: 산요 가세이 고교 가부시끼가이샤 제조 "PP300P"(상기 식 (3)의 에폭시 수지), 중량 평균 분자량 181.3(A3) Epoxy resin 3: "PP300P" (the epoxy resin of the said Formula (3)) by Sanyo Kasei Kogyo Co., Ltd., weight average molecular weight 181.3

(A4) 에폭시 수지 4: 모멘티브 퍼포먼스 머터리얼즈사 제조 "TSL9906"(상기 식 (4)에 있어서, R2 내지 R5가 메틸기인 에폭시 수지), 중량 평균 분자량 296(A4) Epoxy resin 4: "TSL9906" by Momentive Performance Materials, Inc. (epoxy resin wherein R 2 to R 5 are methyl groups in the formula (4)), weight average molecular weight 296

(B1) 티올 화합물 1: SC 유끼 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 "PEMP" 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 중량 평균 분자량 489(B1) Thiol compound 1: SC Organic Chemical Co., Ltd. "PEMP" pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), weight average molecular weight 489

(B2) 티올 화합물 2: SC 유끼 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 "TMMP" 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 중량 평균 분자량 398(B2) Thiol compound 2: SC Organic Chemicals Co., Ltd. "TMMP" trimethylol propane tris (3-mercaptopropionate), weight average molecular weight 398

(B3) 티올 화합물 3: SC 유끼 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 "DPMP", 디펜타에리트리톨헥사키스(3-메르캅토프로피오네이트), 중량 평균 분자량 783(B3) Thiol compound 3: SC DPK "DPMP", dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate), the weight average molecular weight 783

(C) 잠재성 경화제: 아지노모또파인테크노사 제조 "PN40J", 에폭시 수지 아민어덕트(C) Latent hardener: "PN40J" by Ajinomoto Fine Techno Co., Epoxy resin amine adduct

(D) 안정제: 시꼬꾸 가세이 고교 가부시끼가이샤 제조 "L07N", 비스페놀 A형 에폭시 수지/페놀 수지/붕산에스테르(D) Stabilizer: Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd. "L07N", bisphenol A type epoxy resin / phenol resin / boric acid ester

(E) 요변제: 닛본 에어로실 가부시끼가이샤 제조 "R805", 퓸드실리카(E) Thixotropic agent: "R805" manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., fumed silica

(F) 커플링제: 신에쓰 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 "KBM403", 3-글리시독시프로필트리메톡시실란(F) Coupling agent: "KBM403" by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., 3-glycidoxy propyl trimethoxysilane

(경화물의 제작)(Production of light cargo)

실시예 1 내지 20 및 비교예 1 내지 4의 각 수지 조성물을 80℃의 조건으로 10분간 가열하였다. 이 결과, 실시예 1 내지 20 및 비교예 1에 대해서는, 수지 조성물이 경화한 경화물이 얻어졌다. 비교예 2 내지 4에 대해서는, 수지 조성물이 경화하지 않았기 때문에 경화물이 얻어지지 않았다.Each resin composition of Examples 1-20 and Comparative Examples 1-4 was heated for 10 minutes on 80 degreeC conditions. As a result, about Examples 1-20 and Comparative Example 1, the hardened | cured material which the resin composition hardened | cured. About Comparative Examples 2-4, hardened | cured material was not obtained because the resin composition did not harden.

(Tg 및 탄성률의 측정) (Measurement of Tg and Modulus)

수지 조성물을 경화시켜 얻어진 경화물에 대해서, 탄성률[GPa], 경화 후에 120℃의 온도 조건으로 48시간 방치한 후의 탄성률[GPa], 유리 전이점 Tg[℃], 경화 후에 120℃의 온도 조건으로 48시간 방치한 후의 유리 전이점 Tg[℃] 및 접착 강도[N/mm2]를 각각 측정하였다. 측정 결과를 표 1 내지 3에 나타내었다.About the hardened | cured material obtained by hardening | curing a resin composition, the elasticity modulus [GPa] after leaving for 48 hours at 120 degreeC temperature conditions after hardening | curing, at the temperature conditions of 120 degreeC after glass transition point Tg [degreeC] and hardening After leaving for 48 hours, the glass transition point Tg [° C.] and the adhesive strength [N / mm 2 ] were measured. The measurement results are shown in Tables 1-3.

탄성률에 대해서는, 일본 공업 규격 JIS C6481에 따라, 세이코 인스트루먼트사 제조, 동적 열기계 측정(DMA)을 이용하여 -40℃에서의 탄성률을 측정하였다.About the elasticity modulus, the elasticity modulus in -40 degreeC was measured using Seiko Instruments Co., Ltd. make, dynamic thermomechanical measurement (DMA) according to Japanese Industrial Standard JIS C6481.

Tg에 대해서는, 일본 공업 규격 JIS C6481에 따라, 세이코 인스트루먼트사 제조, 동적 열기계 측정(DMA)을 이용하여 측정하였다.About Tg, it measured using Seiko Instruments Co., Ltd. product and dynamic thermomechanical measurement (DMA) according to Japanese Industrial Standard JIS C6481.

접착 강도에 대해서는, 이하의 시험 방법을 이용하여 측정하였다.About adhesive strength, it measured using the following test methods.

(1) 시료를 유리 에폭시 기판 위에 2 mmφ의 크기로 공판 인쇄한다.(1) The sample is engraved on a glass epoxy substrate with a size of 2 mmφ.

(2) 인쇄한 시료 위에 2 mm×2 mm의 Si칩을 올려놓는다. 이를 송풍 건조기를 이용하여 180℃에서 60분간 경화시킨다.(2) Place a 2 mm x 2 mm Si chip on the printed sample. This was cured at 180 ° C. for 60 minutes using a blow dryer.

(3) 탁상 만능 시험기(아이코 엔지니어링(주)사 제조 1605HTP)로 전단 강도를 측정한다.(3) Shear strength is measured by a table universal testing machine (1605HTP manufactured by Aiko Engineering Co., Ltd.).

평가 방법 Assessment Methods

경화물을 120℃에서 48시간 방치한 후의 Tg의 변화가 ± 5℃ 이내이면, Tg의 변화가 "없음"이라고 평가하였다.When the change of Tg after leaving hardened | cured material at 120 degreeC for 48 hours was within +/- 5 degreeC, the change of Tg was evaluated as "none".

경화물을 120℃에서 48시간 방치한 후의 탄성률의 변화가 ± 0.1 GPa 이내이면, 탄성률의 변화가 "없음"이라고 평가하였다.When the change in elastic modulus after leaving hardened | cured material for 48 hours at 120 degreeC was within +/- 0.1 GPa, the change in elastic modulus was evaluated as "none."

Figure pct00009
Figure pct00009

Figure pct00010
Figure pct00010

Figure pct00011
Figure pct00011

실시예 1 내지 20의 결과를 보면 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 수지 조성물은 모두 80℃라는 가열 조건에서도 단시간에 경화 가능하여, 저온 속경화성이 우수하다는 것을 알 수 있었다. 이에 대하여, 비교예에 관한 수지 조성물은 비교예 2 내지 4의 결과를 보면 알 수 있는 바와 같이, 에폭시 당량에 대한 티올 당량비가 0.5로 너무 작기 때문에, 80℃라는 가열 조건에서는 충분히 경화되지 않는 것을 알 수 있었다.As can be seen from the results of Examples 1 to 20, it was found that all of the resin compositions of the present invention can be cured in a short time even under heating conditions of 80 ° C., and excellent in low temperature fast curing properties. On the other hand, the resin composition concerning a comparative example shows that the thiol equivalent ratio with respect to an epoxy equivalent is too small as 0.5, as can be seen when looking at the result of Comparative Examples 2-4, and it does not fully harden | cure at 80 degreeC heating conditions. Could.

실시예 1 내지 20의 결과를 보면 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 수지 조성물은, 경화물의 -40℃에서의 탄성률이 0.1 내지 0.8[Gpa]로, 탄성률이 작은 경화물이 얻어지는 것을 알 수 있었다. 이에 반해, 비교예에 관한 수지 조성물은, 비교예 1의 결과를 보면 알 수 있는 바와 같이, -40℃에서의 탄성률이 4.0[GPa]로, 탄성률이 작은 경화물이 얻어지지 않았다.As can be seen from the results of Examples 1 to 20, in the resin composition of the present invention, it was found that the cured product having a small elastic modulus was obtained at an elastic modulus of 0.1 to 0.8 [Gpa] at -40 ° C of the cured product. . On the other hand, as for the resin composition which concerns on the comparative example, as seen from the result of the comparative example 1, the elasticity modulus in -40 degreeC is 4.0 [GPa], and the hardened | cured material with small elasticity modulus was not obtained.

실시예 1 내지 20의 결과를 보면 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 수지 조성물은 Tg가 -50℃ 내지 -30℃이고, 경화물의 Tg가 낮은 것을 알 수 있었다. 이에 반해, 비교예에 관한 수지 조성물은, 비교예 1의 결과를 보면 알 수 있는 바와 같이, Tg가 40℃로, Tg가 낮은 경화물이 얻어지지 않았다.As can be seen from the results of Examples 1 to 20, it was found that the resin composition of the present invention had a Tg of -50 ° C to -30 ° C and a low Tg of the cured product. On the other hand, as for the resin composition which concerns on the comparative example, when seeing the result of the comparative example 1, Tg was 40 degreeC and the hardened | cured material with low Tg was not obtained.

실시예 1 내지 17의 결과를 보면 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 수지 조성물은 경화 후에 120℃에서 48시간 방치한 후에도, 경화물의 탄성률 및 Tg가 거의 변화되지 않았다. 이에 따라, 본 발명의 수지 조성물은 경화 후에 장시간 경과하여도 Tg가 거의 변화하지 않는 것을 실증할 수 있었다.As can be seen from the results of Examples 1 to 17, even after leaving the resin composition of the present invention for 48 hours at 120 ° C. after curing, the modulus and Tg of the cured product were hardly changed. Thereby, the resin composition of this invention was able to demonstrate that Tg hardly changes even if it passes for a long time after hardening.

Claims (10)

이하의 (A) 내지 (C) 성분을 함유하는 수지 조성물.
(A) 벤젠환을 포함하지 않는 에폭시 수지
(B) 분자 중에 2개 이상의 티올기를 갖는 티올 화합물
(C) 잠재성 경화제
The resin composition containing the following (A)-(C) component.
(A) Epoxy resin not containing benzene ring
(B) Thiol compound having two or more thiol groups in the molecule
(C) latent curing agents
상기 (A) 성분이 하기 화학식 (1)로 표시되는 화합물인 수지 조성물.
Figure pct00012
Resin composition whose said (A) component is a compound represented by following General formula (1).
Figure pct00012
제2항에 있어서, 상기 (A) 성분이 하기 화학식 (2)로 표시되는 화합물인 수지 조성물.
Figure pct00013
The resin composition of Claim 2 whose said (A) component is a compound represented by following General formula (2).
Figure pct00013
제2항에 있어서, 상기 (A) 성분이 하기 화학식 (3)으로 표시되는 화합물인 수지 조성물.
Figure pct00014
The resin composition of Claim 2 whose said (A) component is a compound represented by following General formula (3).
Figure pct00014
제1항에 있어서, 상기 (A) 성분이 하기 화학식 (4)로 표시되는 화합물인 수지 조성물.
Figure pct00015
The resin composition of Claim 1 whose said (A) component is a compound represented by following General formula (4).
Figure pct00015
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 (A) 성분의 에폭시 당량에 대하여, 상기 (B) 성분이 티올 당량비로 1.0 내지 2.0의 비율로 배합되어 있는 수지 조성물. The resin composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the component (B) is blended in a ratio of 1.0 to 2.0 in a thiol equivalent ratio to the epoxy equivalent of the component (A). 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 (B) 성분이 테트라에틸렌글리콜 비스3-메르캅토프로피오네이트, 트리메틸올프로판 트리스3-메르캅토프로피오네이트, 펜타에리트리톨 테트라키스3-메르캅토프로피오네이트, 및 디펜타에리트리톨 테트라키스3-메르캅토프로피오네이트로부터 선택되는 적어도 하나인 수지 조성물. The said (B) component is a tetraethylene glycol bis 3- mercapto propionate, a trimethylol propane tris 3- mercapto propionate, and a pentaerythritol tetrakis3, The said (B) component of any one of Claims 1-6. A resin composition which is at least one selected from mercaptopropionate and dipentaerythritol tetrakis 3-mercaptopropionate. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 추가로 실리카 충전재, 실란 커플링제, 이온 트랩제, 레벨링제, 산화 방지제, 소포제 및 요변제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 첨가제를 함유하는 수지 조성물. The method according to any one of claims 1 to 7, further comprising at least one additive selected from the group consisting of silica filler, silane coupling agent, ion trapping agent, leveling agent, antioxidant, antifoaming agent and thixotropic agent. Resin composition. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물을 함유하는 밀봉제에 의해 밀봉된 전자 부품. The electronic component sealed with the sealing agent containing the resin composition of any one of Claims 1-8. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물을 함유하는 접착제. The adhesive agent containing the resin composition of any one of Claims 1-8.
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