KR20130138695A - Cutting apparatus - Google Patents
Cutting apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- KR20130138695A KR20130138695A KR1020130066454A KR20130066454A KR20130138695A KR 20130138695 A KR20130138695 A KR 20130138695A KR 1020130066454 A KR1020130066454 A KR 1020130066454A KR 20130066454 A KR20130066454 A KR 20130066454A KR 20130138695 A KR20130138695 A KR 20130138695A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- cutting blade
- cutting
- detection unit
- unit
- detection
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67092—Apparatus for mechanical treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
Abstract
Description
본 발명은, 척 테이블에 유지된 반도체 웨이퍼 등의 피가공물을 절삭하기 위한 절삭 블레이드를 구비한 절삭 장치, 더 자세히는, 절삭 블레이드의 절입량을 설정하는 기준이 되는 절삭 블레이드의 원점과 절삭 블레이드의 날끝의 위치를 검출하기 위한 기구를 구비한 절삭 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a cutting device having a cutting blade for cutting a workpiece such as a semiconductor wafer held on a chuck table, and more specifically, to the origin of the cutting blade and the cutting blade as a reference for setting the cutting amount of the cutting blade. A cutting device provided with a mechanism for detecting the position of the blade tip.
종래, 반도체 웨이퍼나 광디바이스 웨이퍼 등을 분할 예정 라인을 따라 절단하기 위해, 다이서라고 불리는 절삭 장치가 이용되고 있다. Background Art Conventionally, a cutting device called a dicer is used to cut a semiconductor wafer, an optical device wafer, or the like along a division scheduled line.
이 절삭 장치는, 반도체 웨이퍼 등의 피가공물을 유지하는 유지면을 구비한 척 테이블과, 척 테이블에 유지된 피가공물을 절삭하는 절삭 블레이드를 구비한 절삭 수단과, 절삭 블레이드를 척 테이블의 유지면에 대하여 수직인 절입 이송 방향으로 이동시키는 절입 이송 수단과, 척 테이블과 절삭 수단을 상대적으로 이동시키는 가공 이송 수단을 구비하고 있다. The cutting device includes a chuck table having a holding surface for holding a workpiece such as a semiconductor wafer, cutting means including a cutting blade for cutting the workpiece held on the chuck table, and a cutting blade for holding the cutting surface. An infeed feed means for moving in the infeed direction perpendicular to the infeed direction, and a work feed means for relatively moving the chuck table and the cutting means.
그리고, 절삭 장치에서, 절삭 블레이드의 절입량을 설정하는 기준이 되는 절삭 블레이드의 원점(특허문헌 1에서는 기준 위치)을 검출하기 위한 원점 검출 기구를 구비하는 것이 알려져 있다(예컨대 특허문헌 1 참조). And it is known to provide the origin detection mechanism for detecting the origin (the reference position in patent document 1) of the cutting blade used as a reference | standard which sets the cut amount of a cutting blade in a cutting device (for example, refer patent document 1).
특허문헌 1의 원점 검출 기구에서는, 절삭 블레이드를 회전시키면서 척 테이블을 향해 하강시켜, 절삭 블레이드가 척 테이블의 금속 프레임 부분에 접촉했을 때(절입되었을 때)에 전기적 도통이 생겨 전류 검출 회로에 전류가 흐르는 구성으로 하고, 이 전류의 흐름에 수반되는 전압 변동이 검출되는 구성으로 하고 있다. 그리고, 전류 변동이 검출된 시점에서의 절삭 블레이드의 절입 위치가 원점으로서 설정되는 구성으로 하고 있다. In the origin detection mechanism of Patent Literature 1, the cutting blade is rotated and lowered toward the chuck table so that electrical conduction occurs when the cutting blade comes into contact with the metal frame portion of the chuck table (when it is cut), and a current is generated in the current detection circuit. It is set as the structure which flows, and the structure in which the voltage fluctuation accompanying the flow of this electric current is detected. And the cutting position of the cutting blade at the time when a current change is detected is set as the origin.
한편, 특허문헌 2에 개시된 바와 같이, 척 테이블의 교환 등에 의한 유지면의 높이 변동이 없는 경우에, 소모나 교환에 의해 변동하는 절삭 블레이드의 날끝 위치를, 광학 센서를 이용한 비접촉식의 검출 기구로 검출하는 것이 알려져 있다(특허문헌 2 참조)On the other hand, as disclosed in
그러나, 특허문헌 1의 원점 검출 기구에서는, 척 테이블의 금속 프레임 부분에 절삭 블레이드를 접촉시키기 때문에, 절삭 블레이드가 금속 프레임 부분에 절입되는 것에 의해, 날끝에 금속 재료가 부착되어, 날끝의 상태를 악화시켜 버린다고 하는 문제가 있었다. However, in the origin detection mechanism of Patent Literature 1, since the cutting blade is brought into contact with the metal frame portion of the chuck table, the cutting blade is cut into the metal frame portion, whereby a metal material adheres to the blade edge, thereby deteriorating the state of the blade edge. There was a problem of letting it go.
또한, 특허문헌 2와 같은 비접촉식의 검출 기구를 구비한 경우라도, 교환 등에 의해 척 테이블의 유지면의 높이 변동이 발생하여, 원점을 재설정하기 위한 소위 「셋업 작업」이 필요하게 된 경우에는, 특허문헌 1에 개시되는 원점 검출 기구에 의한 척 테이블의 유지면의 높이 위치의 검출과, 특허문헌 2에 기재되는 검출 기구에 의한 비접촉식의 검출 양쪽 모두를 행하여, 척 테이블의 유지면과, 절삭 블레이드의 날끝 위치를 검출하는 비접촉식의 검출 기구의 검출 위치의 차를 산출해 놓아야 한다. 이 때문에, 절삭 블레이드를 척 테이블에 절입시키는 공정을 없앨 수 없는 것이었다. Moreover, even when the non-contact detection mechanism like
또한 특허문헌 1에 개시되는 바와 같은 원점 검출 기구가 이용되는 경우에는, 절삭 블레이드에 도전성이 있는 것이 전제가 되지만, 최근, 도전성을 갖지 않는 절삭 블레이드의 사용이 이루어지고 있다. In addition, when the origin detection mechanism as disclosed in Patent Literature 1 is used, the premise is that the cutting blades are conductive, but recently, use of cutting blades having no conductivity has been made.
이러한 도전성을 갖지 않는 절삭 블레이드가 사용되는 경우에는, 우선, 원점 검출을 행하기 위해 도전성을 갖는 별도의 절삭 블레이드로 검출 작업을 행한 후, 도전성을 갖지 않는 절삭 블레이드로 교환하는 작업 공정이 필요해져, 공정이 증가되어 버린다고 하는 문제가 있었다. In the case where a cutting blade having no such conductivity is used, a work step of first performing a detection operation with a separate cutting blade having conductivity in order to perform the origin detection, and then exchanging the cutting blade having no conductivity, becomes necessary. There was a problem that the process was increased.
또한, 잘못하여 도전성을 갖지 않는 절삭 블레이드로 검출 작업을 실시해 버린 경우에는, 척 테이블에 절입되어도 전기적 도통이 이루어지지 않기 때문에, 절입이 과도하게 진행되어 버릴 수도 있게 된다. 이러한 경우가 있으면, 절삭 블레이드가 부착되는 스핀들이 척 테이블에 접촉되어 버려, 스핀들이 파손될 우려가 있다. In addition, when a detection operation is performed by a cutting blade which does not have conductivity by mistake, electrical conduction does not occur even when it is plunged into the chuck table, so that plunging may proceed excessively. In such a case, the spindle to which the cutting blade is attached may come into contact with the chuck table and the spindle may be broken.
또한 특허문헌 1에 개시되는 원점 검출 기구에서는, 저항값이 비교적 높은 절삭 블레이드라도 접촉시의 전기적 도통을 검출할 수 있도록 설정하고 있기 때문에, 저항값이 낮은 물 등의 절삭액이 척 테이블 위에 있는 경우에는, 그 물에 접촉된 시점에서도, 원점으로서 오검출이 되어 버린다고 하는 문제가 있었다. In addition, in the origin detection mechanism disclosed in Patent Document 1, even when a cutting blade having a relatively high resistance value is set to detect electrical conduction at the time of contact, when cutting fluid such as water having a low resistance value is on the chuck table. In the past, there was a problem that even when the water came into contact with water, erroneously detected as the origin.
본 발명은, 이상의 문제점을 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적으로 하는 점은, 척 테이블에 절삭 블레이드가 접촉할 때의 절삭 블레이드의 높이를 규정하는 원점을 검출하는 셋업 작업을 행할 때에, 절삭 블레이드가 척 테이블에 절입되는 공정을 일체 없애는 것을 가능하게 하고, 절삭 블레이드의 날끝의 상태 악화나, 절삭액에 의한 오검출 등의 문제점이 없고, 또한 도전성이 없는 절삭 블레이드의 도입을 가능하게 하는 절삭 장치를 제공하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is that when the cutting blade performs a setup operation for detecting the origin defining the height of the cutting blade when the cutting blade contacts the chuck table, the cutting blade performs a chuck. Provided is a cutting device that makes it possible to eliminate the process cut into the table at all, and that there is no problem such as deterioration of the state of the cutting edge of the cutting blade, erroneous detection by cutting fluid, and the like, and the introduction of a cutting blade having no conductivity. It is.
청구항 1에 기재된 발명에 의하면, 피가공물을 유지면에서 유지하는 척 테이블과, 유지면에 유지된 피가공물을 절삭하는 절삭 블레이드가 장착된 스핀들을 포함하는 절삭 수단과, 절삭 수단을 척 테이블에 대하여 상대적으로 절입 이송 방향으로 이동시키는 절입 이송 수단과, 발광부와 발광부로부터 발광된 광을 수광하는 수광부를 갖고, 발광부와 수광부 사이로의 물체의 진입을 광의 차단에 의해 검출하기 위한 물체 검출 수단과, 척 테이블에 절삭 블레이드가 접촉할 때의 절삭 블레이드의 높이를 규정하는 원점을 검출하기 위한 원점 검출 수단을 구비한 절삭 장치로서, 원점 검출 수단은, 도전성 및 차광성을 구비한 재질로 형성되고, 절삭 블레이드 상당의 원호를 갖는 판형물로서, 원호를 하단에 위치시킨 검출부와, 검출부를 작용 위치와 대피 위치에 선택적으로 위치시키는 위치 부여 기구와, 검출부 및 위치 부여 기구를 절입 이송 방향으로 이동시키는 이동 기구와, 검출부가 척 테이블에 접촉했을 때의 통전을 검출하는 전류 검출 회로와, 검출부의 하단의 위치 및 절삭 블레이드의 선단 위치를 검출하기 위한 단부 위치 검출부와, 단부 위치 검출부에서의 검출값을 연산하여 원점을 구하는 산출부를 구비하고, 단부 위치 검출부에서는, 작용 위치에 위치한 검출부의 하단이, 척 테이블에 접촉하여 전기적으로 도통되었을 때의 검출부의 제1 높이 위치와, 물체 검출 수단의 발광부와 수광부 사이에 검출부를 진입시켜 발광부로부터의 광을 차단했을 때의 검출부의 제2 높이 위치와, 물체 검출 수단의 발광부와 수광부 사이에 절삭 블레이드를 진입시켜 발광부로부터의 광을 차단했을 때의 절삭 블레이드의 제3 높이 위치가 검출되고, 산출부에서는, 제1 높이 위치와, 제2 높이 위치의 차분(α)을 구하고, 제3 높이 위치에 차분(α)을 합산한 위치를 원점으로서 정의하는 절삭 장치가 제공된다. According to the invention of claim 1, there is provided a cutting means including a chuck table for holding a workpiece on a holding surface, a spindle equipped with a cutting blade for cutting the workpiece held on the holding surface, and a cutting means for the chuck table. An infeed-conveying means for relatively moving in the infeed-conveying direction, a light-emitting portion and a light-receiving portion for receiving light emitted from the light-emitting portion, and an object detecting means for detecting entry of an object between the light-emitting portion and the light-receiving portion by blocking light; A cutting device comprising an origin detecting means for detecting an origin defining a height of the cutting blade when the cutting blade contacts the chuck table, wherein the origin detecting means is formed of a material having conductivity and light shielding properties, A plate-shaped object having an arc corresponding to a cutting blade, comprising: a detector having an arc positioned at a lower end thereof; A positioning mechanism for selectively positioning the device, a moving mechanism for moving the detector and the positioning mechanism in the infeed direction, a current detection circuit for detecting the energization when the detector contacts the chuck table, a position of the lower end of the detector, And an end position detector for detecting the tip position of the cutting blade, and a calculator for calculating the origin by calculating the detected value at the end position detector. In the end position detector, the lower end of the detector positioned at the operating position contacts the chuck table. The first height position of the detection section when electrically conducting, the second height position of the detection section when the detection section enters between the light emitting section and the light receiving section of the object detecting means to block light from the light emitting section, and the object detecting means. Cutting blade when the cutting blade enters between the light emitting part and the light receiving part The third height position of the id is detected, and the calculation unit calculates the difference α between the first height position and the second height position, and defines the position where the difference α is added to the third height position as the origin. A cutting device is provided.
청구항 2에 기재된 발명에 의하면, 상기 원점 검출 수단의 상기 이동 기구는 상기 절입 이송 수단에 의해 실현되는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재된 절삭 장치가 제공된다. According to invention of
청구항 3에 기재된 발명에 의하면, 상기 원점 검출 수단은 상기 절삭 수단에 배치되고, 상기 전류 검출 회로의 일부가 상기 스핀들에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 청구항 1 또는 청구항 2에 기재된 절삭 장치가 제공된다. According to the invention as set forth in claim 3, the origin detecting means is arranged in the cutting means, and a part of the current detecting circuit is formed in the spindle. The cutting apparatus according to
청구항 4에 기재된 발명에 의하면, 상기 원점 검출 수단의 상기 위치 부여 기구는, 에어실린더에 의해 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 기재된 절삭 장치가 제공된다. According to invention of Claim 4, the said positioning mechanism of the said origin detection means is comprised by the air cylinder, The cutting device as described in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned.
본 발명에 의하면, 절삭 블레이드 대신에, 셋업 작업을 행할 때에, 절삭 블레이드 상당의 원호를 갖는 검출부를 이용하여, 통전에 의한 접촉식의 검출과, 광 센서에 의한 비접촉식의 검출을 실시할 수 있기 때문에, 절삭 블레이드가 척 테이블에 절입되는 공정을 일체 없애는 것이 가능해진다. 또한, 절삭 블레이드의 날끝의 상태 악화나, 절삭액에 의한 오검출 등의 문제점이 없고, 또한 도전성이 없는 절삭 블레이드의 도입도 가능해진다. According to the present invention, when performing the setup work instead of the cutting blade, it is possible to detect the contact type by energization and the non-contact type detection by the optical sensor by using a detection unit having an arc corresponding to the cutting blade. It becomes possible to eliminate the process of cutting the cutting blade into the chuck table at all. Further, there is no problem such as deterioration of the state of the blade edge of the cutting blade, erroneous detection by the cutting fluid, and the like, and introduction of a cutting blade having no conductivity is also possible.
또한 통전에 의한 접촉식의 검출은, 절삭 블레이드와는 별도의 검출부를 이용하여 이루어지기 때문에, 통전에 요하는 저항값을 하나의 값으로 설정할 수 있어, 전류 검출 회로에서의 통전의 검출을 위한 설정에서, 광범위한 범위를 설정할 필요도 없어진다. In addition, since the contact detection by energization is performed using a detection unit separate from the cutting blade, the resistance value required for energization can be set to one value, and the setting for detection of energization in the current detection circuit is performed. In this case, there is no need to set a wide range.
추가로, 비교적 입경이 큰 절삭 블레이드에서는 전기적 도통이 없는 지립이 원인이 되어 전류 검출 회로에서의 검출값에 오차(변동)가 생기기 쉽게 되지만, 이러한 문제점도 방지할 수 있다. In addition, in a cutting blade having a relatively large particle diameter, an abrasive grain without electrical conduction is caused to cause an error (variation) in the detected value in the current detection circuit, but such a problem can be prevented.
도 1은 본 발명의 실시형태의 절삭 장치의 사시도.
도 2는 다이싱 테이프를 통해 환형 프레임에 지지된 반도체 웨이퍼의 표면측 사시도.
도 3은 원점 검출 유닛의 구조에 대해서 도시하는 정면도.
도 4는 원점 검출 유닛과 물체 검출 유닛의 구조에 대해서 도시하는 측면도.
도 5는 원점 검출 유닛에 의한 검출 형태에 대해서 설명하는 블록도.
도 6은 광전 변환부로부터의 출력 전압의 변화를 도시하는 그래프.
도 7의 (A)는 제1 높이 위치의 검출 위치에 대해서 도시하는 도면. 도 7의 (B)는 제2 높이 위치의 검출 위치에 대해서 도시하는 도면. 도 7의 (C)는 제3 높이 위치의 검출 위치에 대해서 도시하는 도면. 도 7의 (D)는 원점에 절삭 블레이드가 배치되는 상태에 대해서 도시하는 도면. 1 is a perspective view of a cutting device of an embodiment of the present invention.
2 is a perspective view of the surface side of a semiconductor wafer supported on an annular frame through a dicing tape;
3 is a front view showing the structure of the origin detection unit.
4 is a side view showing the structure of an origin detection unit and an object detection unit.
5 is a block diagram illustrating a detection form by an origin detection unit.
6 is a graph showing a change in output voltage from a photoelectric conversion section.
FIG. 7: A is a figure which shows about the detection position of a 1st height position. FIG. FIG. 7B is a diagram illustrating a detection position of a second height position. FIG. FIG. 7C is a diagram showing a detection position of a third height position. FIG. FIG. 7D is a diagram showing a state where the cutting blade is arranged at the origin. FIG.
이하, 본 발명의 실시형태를 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 도 1은 절삭 장치(2)의 개략 구성도를 도시하고 있다. 절삭 장치(2)는, 정지 베이스(4) 위에 탑재되고 X축 방향으로 연장하는 한 쌍의 가이드 레일(6)을 포함하고 있다. DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. 1 shows a schematic configuration diagram of the
8은 테이블 베이스(X축 이동 블록)이고, 테이블 베이스(8)는 볼나사(10) 및 펄스 모터(12)로 구성되는 X축 이송 기구(14)에 의해 가공 이송 방향, 즉 X축 방향으로 이동된다. 테이블 베이스(8) 위에는 원통형 지지 부재(22)를 통해 척 테이블(20)이 탑재되어 있다. 원통형 지지 부재(22) 안에 척 테이블(20)을 회전시키는 모터가 수용되어 있다. 8 is a table base (X-axis moving block), and the
척 테이블(20)은 다공성 세라믹스 등으로 형성된 흡착면을 구성하는 유지면(24)과, 유지면(24)을 둘러싸는 SUS 등의 금속으로 형성된 프레임(23)을 갖고 있다. 유지면(24)의 흡착면과 프레임(23)의 상면은 동일면으로 형성되어 있다. 척 테이블(20)에는, 도 2에 도시하는 환형 프레임(F)을 클램프하는 복수(본 실시형태에서는 4개)의 클램퍼(26)가 배치되어 있다. 25는 방수 커버이다. The chuck table 20 has a holding
도 2에 도시하는 바와 같이, 절삭 장치(2)의 가공 대상인 피가공물로서의 반도체 웨이퍼(W)의 표면에는, 제1 분할 예정 라인(S1)과 제2 분할 예정 라인(S2)이 직교하여 형성되어 있고, 제1 분할 예정 라인(S1)과 제2 분할 예정 라인(S2)에 의해 구획된 영역에 각각 디바이스(D)가 형성되어 있다. As shown in FIG. 2, on the surface of the semiconductor wafer W as the workpiece to be processed of the
웨이퍼(W)는 점착 테이프인 다이싱 테이프(T)에 접착되고, 다이싱 테이프(T)의 외주부는 환형 프레임(F)에 접착되어 있다. 이것에 의해, 웨이퍼(W)는 다이싱 테이프(T)를 통해 환형 프레임(F)에 지지된 상태가 되고, 도 1에 도시하는 클램퍼(26)에 의해 환형 프레임(F)을 클램프하는 것에 의해, 척 테이블(20) 위에 흡인 고정된다. The wafer W is bonded to the dicing tape T which is an adhesive tape, and the outer peripheral part of the dicing tape T is attached to the annular frame F. As shown in FIG. Thereby, the wafer W is supported by the annular frame F via the dicing tape T, and clamps the annular frame F with the
도 1에서 X축 이송 기구(14)는, 가이드 레일(6)을 따라 정지 베이스(4) 위에 배치된 리니어 스케일(16)과, 리니어 스케일(16)의 X 좌표값을 판독하며 테이블 베이스(8)의 하면에 배치된 판독 헤드(18)를 포함하고 있다. 판독 헤드(18)는 절삭 장치(2)의 컨트롤러에 접속되어 있다. In FIG. 1, the
정지 베이스(4) 위에는 또한, Y축 방향으로 연장하는 한 쌍의 가이드 레일(28)이 고정되어 있다. Y축 이동 블록(30)이, 볼나사(32) 및 펄스 모터(34)로 구성되는 Y축 이송 기구(인덱싱 이송 기구)(36)에 의해 Y축 방향으로 이동된다. On the stationary base 4, a pair of
특별히 도시하지 않지만, Y축 이송 기구(36)는, 가이드 레일(28)을 따라 정지 베이스(4) 위에 배치된 리니어 스케일과, 이 리니어 스케일의 Y 좌표값을 판독하며 Y축 이동 블록(30)의 하면에 배치된 판독 헤드를 포함하고, 판독 헤드는 절삭 장치(2)의 컨트롤러에 접속되어 있다. Although not shown in particular, the Y-
Y축 이동 블록(30)에는 Z축 방향으로 연장하는 한 쌍의(1개만 도시) 가이드 레일(38)이 형성되어 있다. Z축 이동 블록(40)이, 도시하지 않는 볼나사와 펄스 모터(42)로 구성되는 Z축 이송 기구(44)에 의해 Z축 방향으로 이동된다. A pair of (only one)
특별히 도시하지 않지만, Z축 이송 기구(44)는, 가이드 레일(38)을 따라 Y축 이동 블록(30) 위에 배치된 리니어 스케일과, 이 리니어 스케일의 Z 좌표값을 판독하며 Z축 이동 블록(40)에 배치된 판독 헤드를 포함하고, 판독 헤드는 절삭 장치(2)의 컨트롤러에 접속되어 있다. Although not shown in particular, the Z-
46은 절삭 유닛(절삭 수단)이며, 절삭 유닛(46)의 스핀들 하우징(48)이 Z축 이동 블록(40) 안에 삽입되어 지지되어 있다. 스핀들 하우징(48) 안에는 스핀들(49)이 수용되고, 에어베어링에 의해 회전 가능하게 지지되어 있다. 스핀들(49)은 스핀들 하우징(48) 안에 수용된 도시하지 않는 모터에 의해 회전 구동되고, 스핀들(49)의 선단부에는 절삭 블레이드(50)가 착탈 가능하게 장착되어 있다. 46 is a cutting unit (cutting means), and the
스핀들 하우징(48)에는 얼라인먼트 유닛(얼라인먼트 수단)(52)이 탑재되어 있다. 얼라인먼트 유닛(52)은 척 테이블(20)에 유지된 웨이퍼(W)를 촬상하는 촬상 유닛(촬상 수단)(54)을 갖고 있다. 절삭 블레이드(50)와 촬상 유닛(54)은 X축 방향으로 정렬하여 배치되어 있다. An alignment unit (alignment means) 52 is mounted on the
스핀들 하우징(48)은, Z축 이송 기구(44)에 의해 상하로 이동하도록 구성되어 있고, 이것에 의해, 절삭 유닛(46)이 Z축 이송 기구(44)에 의해 척 테이블(20)에 대하여 상대적으로 절입 이송 방향(도 1의 예에서는 하방향)으로 절입 이송되는 구성으로 되어 있다. The
척 테이블(20)을 덮는 방수 커버(25)의 상면에는, 발광부와 발광부로부터 발광된 광을 수광하는 수광부를 갖고, 발광부와 수광부 사이로의 절삭 블레이드(50)의 진입을 광의 차단에 의해 검출하기 위한 물체 검출 유닛(물체 검출 수단)(60)이 설치되어 있다. The upper surface of the
절삭 유닛(46)에는, 척 테이블(20)의 유지면(24)에 절삭 블레이드(50)가 접촉할 때의 절삭 블레이드(50)의 높이를 규정하는 원점을 척 테이블(20)과의 전기적 도통에 의해 검출하기 위한 원점 검출 유닛(원점 검출 수단)(70)이 설치되어 있다. 또한 본 명세서에서, 「원점」이란, 척 테이블(20)의 유지면(24)에 절삭 블레이드(50)가 접촉할 때의 절삭 블레이드(50)의 높이를 규정하는 값을 말한다. The cutting
이상과 같이 하여, 피가공물로서의 웨이퍼(W)를 유지면(24)에 유지하는 척 테이블(20)과, 유지면(24)에 유지된 웨이퍼(W)를 절삭하는 절삭 블레이드(50)가 장착된 스핀들(49)을 포함하는 절삭 유닛(절삭 수단)(46)과, 절삭 유닛(46)을 척 테이블(20)에 대하여 상대적으로 절입 이송 방향으로 이동시키는 절입 이송 수단이 되는 Z축 이송 기구(44)와, 발광부와 발광부로부터 발광된 광을 수광하는 수광부를 갖고, 발광부와 수광부 사이로의 물체의 진입을 광의 차단에 의해 검출하기 위한 물체 검출 유닛(물체 검출 수단)(60)과, 척 테이블(20)에 절삭 블레이드(50)가 접촉할 때의 절삭 블레이드(50)의 높이를 규정하는 원점을 검출하기 위한 원점 검출 유닛(원점 검출 수단)(70)을 구비한 절삭 장치가 구성된다. As mentioned above, the chuck table 20 which holds the wafer W as a to-be-processed object to the holding
다음에, 본 발명에 있어서 특징적인 구성에 대해서 상세히 설명한다. 우선, 도 3 내지 도 5에 도시되는 물체 검출 유닛(60)에 대해서 설명한다. 물체 검출 유닛(60)은, 척 테이블(20)의 주변을 덮는 방수 커버(25)의 상면(25a)에 설치되는 베이스부(60a)와, 베이스부(60a) 위에서 서로 이격하여 배치되는 수직부(60b, 60c)와, 수직부(60b, 60c)에 각각 배치되는 발광부(64)와 수광부(66)를 포함하는 광 센서(65)를 가지고 구성된다. 또한 베이스부(60a)는, 테이블 베이스(8)(도 1 참조)로부터 세워져 설치되는 것으로 하여도 좋다. Next, the characteristic structure in this invention is demonstrated in detail. First, the
도 4에 도시하는 바와 같이 수직부(60b, 60c) 사이에는, 피진입부(62)가 형성되어 있고, 이 피진입부(62)에 대하여 절삭 블레이드(50)나, 원점 검출 유닛(70)의 검출부(72)가 진입하며, 이 진입이 광 센서(65)에 의해 검지되도록 되어 있다. As shown in FIG. 4, the
도 5에 도시하는 바와 같이, 광 센서(65)에 있어서, 발광부(64)는 광파이버(81)를 통해 광원(82)에 접속되어 있고, 수광부(66)는 광파이버(83)를 통해 광전 변환부(84)에 접속되어 있다. As shown in FIG. 5, in the
광원(82)으로부터의 광은 광파이버(81)로 반송되어 발광부(64)로부터 빔형으로 출사된다. 수광부(66)는 발광부(64)가 발광한 광을 수광하고, 이 수광한 광을 광파이버(83)를 통해 광전 변환부(84)에 보낸다. The light from the
광전 변환부(84)는, 수광부(66)로부터 보내지는 광의 광량에 대응한 전압을 전압 비교부(88)에 출력한다. 한편, 전압 비교부(88)에는 기준 전압 설정부(86)에 의해 설정된 기준 전압(예컨대 3V)이 입력되어 있다. The
전압 비교부(88)는, 광전 변환부(84)로부터의 출력과 기준 전압 설정부(86)에 의해 설정된 기준 전압을 비교하여, 광전 변환부(84)로부터의 출력이 기준 전압에 도달했을 때, 그 취지의 신호를 단부 위치 검출부(90)에 출력한다. The
여기서, 광 센서(65)의 발광부(64)와 수광부(66) 사이가 전혀 차단되어 있지 않은 경우에는, 수광부(66)가 수광하는 광량은 최대이며, 이 광량에 대응하는 광전 변환부(84)로부터의 출력은 예컨대 도 6에 도시하는 바와 같이 5V로 설정되어 있다. Here, when the
절삭 블레이드(50)나 원점 검출 유닛(70)의 검출부(72)가 피진입부(62)에 진입됨에 따라 발광부(64)로부터 출사되는 광 빔이 차단되는 양이 서서히 증가하기 때문에, 수광부(66)가 수광하는 광량은 서서히 감소하고, 광전 변환부(84)로부터의 출력 전압은 도 6의 부호 92로 나타내는 바와 같이 서서히 감소한다. As the
그리고, 절삭 블레이드(50)나 원점 검출 유닛(70)의 검출부(72)가 발광부(64)와 수광부(66)의 예컨대 중심을 연결하는 위치에 도달했을 때, 광전 변환부(84)로부터의 출력 전압이 예컨대 3V가 되도록 설정되어 있다. 그리고, 광전 변환부(84)의 출력 전압이 3V가 되었을 때, 전압 비교부(88)는 광전 변환부(84)의 출력 전압이 기준 전압에 도달한 취지의 신호를 단부 위치 검출부(90)에 출력하고, 이것에 의해 단부 위치 검출부(90)에서는, 절삭 블레이드(50)나 원점 검출 유닛(70)의 검출부(72)가 피진입부(62)에 진입한 것이 검출된다. And when the
다음에, 도 3 내지 도 5에 도시되는 원점 검출 유닛(70)에 대해서 설명한다. 본 실시형태에서는, 원점 검출 유닛(70)은, 절삭 블레이드(50)를 구비하는 절삭 유닛(46)에 대하여 부착되는 구성으로 되어 있고, 절삭 유닛(46)을 척 테이블(20)에 대하여 상대적으로 절입 이송 방향으로 이동시키는 이동 기구인 Z축 이송 기구(44)에 의해, 절삭 유닛(46)과 일체로 되어 Z축 방향으로 이동하도록 구성되어 있다. Next, the
또한, 원점 검출 유닛(70)을 절삭 유닛(46)과는 별도로 설치하고, Z축 이송 기구(44)와는 별개의 부재의 이동 기구로 원점 검출 유닛(70)을 단독으로 Z축 방향(절입 이송 방향)으로 이동시키는 구성으로 하여도 좋다. Moreover, the
원점 검출 유닛(70)은, 절삭 유닛(46)에 부설된 케이싱으로부터 상하 방향으로 진퇴시키는 로드(74)를 갖는 위치 부여 기구(75)를 구비하고, 로드(74)의 하단부에는 척 테이블(20)에 접촉하는 검출부(72)가 설치되어 있다. 위치 부여 기구(75)는, 본 실시형태와 같이, 에어실린더 등에 의해 로드(74)를 상하 방향으로 진퇴시켜 검출부(72)의 상하 위치를 변경시키는 구성으로 하는 것 외에 회동 기구에 의해 로드(74)를 회동시켜 검출부(72)의 상하 위치를 변경시키는 구성으로 하는 것이 고려된다. The
검출부(72)는, 도 3에 도시하는 바와 같이, 로드(74)가 연장되어 척 테이블(20)에 접촉하는 작용 위치(SA)와, 로드(74)가 케이싱 안에 인입되는 대피 위치(ST)에 선택적으로 위치하도록 되어 있다. As shown in FIG. 3, the
도 3은, 척 테이블(20)에 검출부(72)를 접촉시키는 작용 위치(SA)를 도시하고 있고, 이 작용 위치(SA)의 상태에서는, 검출부(72)가 절삭 블레이드(50)보다 아래쪽으로 돌출하도록 되어 있다. 이것에 의해, 검출부(72)를 척 테이블(20)에 대하여 접촉시킨 상태에서는, 절삭 블레이드(50)가 척 테이블(20)에 접촉하지 않는다. 또한, 검출부(72)가 대피 위치(ST)가 되었을 때에는, 검출부(72)는 절삭 블레이드(50)보다 위쪽에 배치된다. FIG. 3 shows an operating position SA for bringing the
검출부(72)는, 도전성을 구비한 재질로 형성된다. 이것에 의해, 도 3에 도시하는 바와 같이 척 테이블(20)의 금속 프레임(23)의 표면에 접촉하면, 검출부(72)와 척 테이블(20) 사이에서 통전이 이루어지도록 되어 있다. 이 통전, 및 통전의 검지는, 예컨대 도 5에 도시하는 바와 같이, 척 테이블(20)과, 검출부(72)[로드(74)나 에어실린더, 더 나아가서는 스핀들(49) 등과 전기적 도통되어 있음]에 접속된 전류 검출 유닛(76)을 구비함으로써 검지할 수 있다. The
여기서, 검출부(72)의 형상은, 척 테이블(20)과 점으로 접촉하는 구성으로 하는 것이 바람직하다. 점으로 접촉하지 않으면, 접촉한 타이밍을 정확히 검지할 수 없기 때문이다. 본 실시형태에서는, 검출부(72)의 하단을 원호형으로 하는 것에 의해, 척 테이블(20)에 대하여 검출부(72)가 점으로 접촉할 수 있는 구조가 실현되는 것으로 하고 있다. Here, it is preferable that the shape of the
검출부(72)는, 차광성을 구비한 재질로 형성된다. 이것에 의해, 도 4에 도시하는 바와 같이 검출부(72)가 피진입부(62)에 진입하면, 전술한 바와 같이 광 빔이 차단되게 되고, 물체 검출 유닛(60)[광 센서(65)]에 의한 검출부(72)의 검지가 이루어지게 된다. The
여기서, 검출부(72)의 형상은, 절삭 블레이드(50)의 외주 가장자리와 대략 동일한 원호 형상이 되는 것이 바람직하다. 이것에 의하면, 자세히는 후술하는 바와 같이, 검출부(72)와 절삭 블레이드(50)가 물체 검출 유닛(60)에서 대략 동일한 상황에서 광을 차단할 수 있어, 검출부(72)의 높이 위치와, 절삭 블레이드(50)의 높이 위치를, 동일한 기준으로 검지하는 것이 가능해진다.Here, it is preferable that the shape of the
다음에, 이상과 같이 구성한 원점 검출 유닛(70)의 검출부(72)의 높이 위치, 및 절삭 블레이드(50)의 높이 위치의 검지에 대해서 설명한다. 우선, 도 3에 도시하는 바와 같이, 원점 검출 유닛(70)의 검출부(72)를 작용 위치(SA)에 위치시킨 상태로 한다. Next, the detection of the height position of the
그리고, 도 7의 (A)에 도시하는 바와 같이, 척 테이블(20)에 대하여 원점 검출 유닛(70)의 검출부(72)가 접촉하면, 이 접촉이 전류 검출 유닛(76)에 의해 검지된다. 이 검지 정보는, 단부 위치 검출부(90)에 입력되고, 단부 위치 검출부(90)에서는, 이 검지 정보가 입력되었을 때의 높이 위치(Z축 방향 좌표 위치)를, 「검출부(72)가 척 테이블(20)에 접촉하는 높이 위치(제1 높이 위치(H1))」로서 기억한다. 또한 이 높이 위치란, 고정 좌표축(절대 좌표)에 대하여, 절삭 유닛(46)의 높이 위치(Z축 방향 좌표 위치)를 특정하는 정보로서, 예컨대 스핀들(49)의 축심의 Z축 위치가 높이 위치로서 규정된다. As shown in FIG. 7A, when the
마찬가지로, 도 7의 (B)에 도시하는 바와 같이, 물체 검출 유닛(60)에 대하여 원점 검출 유닛(70)의 검출부(72)가 진입하면, 이 진입이 물체 검출 유닛(60)에 의해 검지된다. 이 검지 정보, 즉, 전압 비교부(88)에 의한 검지 정보는, 단부 위치 검출부(90)에 입력되고, 단부 위치 검출부(90)에서는, 「검출부(72)가 피진입부(62)에 진입하는 높이 위치(제2 높이 위치(H2))」로서 기억된다. Similarly, as shown in FIG. 7B, when the
또한, 도 7의 (C)에 도시하는 바와 같이, 물체 검출 유닛(60)에 대하여 절삭 블레이드(50)를 진입시키면, 이 진입이 물체 검출 유닛(60)에 의해 검지된다. 이 검지 정보, 즉, 전압 비교부(88)에 의한 검지 정보는, 단부 위치 검출부(90)에 입력되고, 단부 위치 검출부(90)에서는, 「절삭 블레이드(50)가 피진입부(62)에 진입하는 높이 위치(제3 높이 위치(H3))」로서 기억된다. 또한, 이 검지시에 원점 검출 유닛(70)의 검출부(72)는 대피 위치(ST)에 복귀시켜 두어도 좋다. In addition, as shown in FIG. 7C, when the
여기서, 도 7의 (A)∼(C)에 도시하는 각 상태는, 절삭 유닛(46)을 XYZ축 방향으로 적절하게 이동시킴으로써 행해진다. 전술한 실시형태에서는, 원점 검출 유닛(70)은 절삭 유닛(46)과 일체적으로 설치되기 때문에, Z축 이송 기구(44)에 의해 절삭 유닛(46)을 Z축 방향으로 이동시킴으로써, 검출부(72)와 절삭 블레이드(50)의 Z축 방향의 이동을 행할 수 있고, 단부 위치 검출부(90)에서는, 제1 높이 위치(H1), 제2 높이 위치(H2), 제3 높이 위치(H3)의 3개의 높이 위치를 동일한 고정 좌표축(절대 좌표)을 기준으로 인식할 수 있다. Here, each state shown to (A)-(C) of FIG. 7 is performed by moving the cutting
이것에 대하여, 원점 검출 유닛(70)과, 절삭 유닛(46)을 별개의 부재로 구성하는 실시형태에서는, 원점 검출 유닛(70)을 Z축 방향으로 이동시키기 위한 별도의 이송 기구(이동 기구)가 필요해진다. 이 경우, 단부 위치 검출부(90)에서는, 검출부(72)의 높이[제1 높이 위치(H1)와 제2 높이 위치(H2)]를 규정하는 좌표 위치와, 절삭 블레이드(50)의 높이[제3 높이 위치(H3)]를 규정하는 좌표 위치를, 동일한 고정 좌표축(절대 좌표)으로 인식해야 한다. In contrast, in the embodiment in which the
다음에, 이상과 같이 하여 구한 제1 높이 위치(H1), 제2 높이 위치(H2), 제3 높이 위치(H3)에 기초한 원점(H0)의 검출에 대해서 설명한다. Next, detection of the origin H0 based on the 1st height position H1, the 2nd height position H2, and the 3rd height position H3 calculated | required as mentioned above is demonstrated.
이 원점(H0)의 검출은, 예컨대 척 테이블(20)이 교환되어, 유지면(24)의 높이 위치(높이 방향의 절대 좌표 위치)를 재설정하기 위한 셋업 작업이 필요해졌을 때에 실시된다. The detection of this origin H0 is performed when the chuck table 20 is replaced, for example, and the setup work for resetting the height position (absolute coordinate position in the height direction) of the holding
이 셋업 작업에서는, 도 7의 (A)∼(C)에 도시하는 바와 같이, 예컨대 제1 높이 위치(H1), 제2 높이 위치(H2), 제3 높이 위치(H3)의 순으로 각 높이 위치가 구해진다. 구체적으로는, 우선, 작용 위치(SA)에 위치한 검출부(72)의 하단을, 척 테이블(20)에 접촉시켜 전기적으로 도통시킨다. 이것에 의해, 단부 위치 검출부(90)에서는, 척 테이블(20)에 접촉했을 때의 검출부(72)의 제1 높이 위치(H1)가 검출되고, 기억된다. In this set-up work, as shown to (A)-(C) of FIG. 7, for example, each height in order of 1st height position H1, 2nd height position H2, and 3rd height position H3. The position is obtained. Specifically, first, the lower end of the
이어서, 물체 검출 유닛(60)의 발광부와 수광부 사이에 검출부를 진입시켜 발광부로부터의 광을 차단시킨다. 이것에 의해, 단부 위치 검출부(90)에서는, 검출부(72)의 제2 높이 위치(H2)가 검출되고, 기억된다. Then, the detection unit enters between the light emitting unit and the light receiving unit of the
이어서, 물체 검출 유닛(60)의 발광부와 수광부 사이에 절삭 블레이드(50)를 진입시켜 발광부로부터의 광을 차단시킨다. 이것에 의해, 단부 위치 검출부(90)에서는, 절삭 블레이드(50)의 제3 높이 위치(H3)가 검출되고, 기억된다. Subsequently, the
그리고, 단부 위치 검출부(90)에서 검출된 검출값을 바탕으로, 산출부(98)에서는 정해진 연산이 행해진다. 즉, 제1 높이 위치(H1)와, 제2 높이 위치(H2)의 차분(α)을 구하고, 제3 높이 위치(H3)에 차분(α)을 합산한 위치를, 원점(H0)으로서 구한다. And based on the detection value detected by the end
여기서, 차분(α)은, 도 3에 도시하는 바와 같이, 「척 테이블(20)(유지면(24))의 높이(L2)로부터 물체 검출 유닛(60)의 높이(L1)(광 센서의 광축)까지의 거리」를 의미하는 것이다. 이것에 의해, 절삭 블레이드(50)를 제3 높이 위치(H3)로부터 차분(α)만큼 상승시킴으로써, 절삭 블레이드(50)가 척 테이블(20)에 접촉하게 된다. Here, as shown in FIG. 3, the difference α is " the height L1 of the object detection unit 60 (the height of the optical sensor) from the height L2 of the chuck table 20 (the holding surface 24). Distance to the optical axis). As a result, the
이상과 같이 하여, 산출부(98)에서는 절삭 블레이드(50)가 척 테이블(20)에 접촉하는 원점(H0)이 산출된다. 그리고, 위치 보정부(99)에서는, 산출된 원점(H0)을, 예컨대 절삭 유닛(46)의 높이 방향의 절대 좌표 위치의 원점으로서 정의하고, 이 원점을 기준으로 Z축 이송 기구(44)의 제어가 이루어지도록, 적절하게, 장치의 좌표 데이터를 보정함으로써, 셋업 작업이 완료된다. As mentioned above, in the
이상에 설명한 바와 같이, 본 실시형태의 원점 검출 유닛(70)에서는, 도 3 내지 도 5에 도시하는 바와 같이, 도전성 및 차광성을 구비한 재질로 형성되고, 절삭 블레이드(50) 상당의 원호를 갖는 판형물로서, 원호를 하단에 위치시킨 검출부(72)와, 검출부(72)를 작용 위치(SA)와 대피 위치(ST)에 선택적으로 위치시키는 위치 부여 기구(75)와, 검출부(72) 및 위치 부여 기구(75)를 절입 이송 방향으로 이동시키는 이동 기구[Z축 이송 기구(44)]와, 검출부(72)가 척 테이블(20)에 접촉했을 때의 통전을 검출하는 전류 검출 회로[전류 검출 유닛(76)]와, 검출부(72)의 하단의 위치, 및 절삭 블레이드(50)의 선단 위치를 검출하기 위한 단부 위치 검출부(90)와, 단부 위치 검출부(90)에서의 검출값을 연산하여 원점(H0)을 구하는 산출부(98)를 구비하고, 단부 위치 검출부(90)에서는, 작용 위치(SA)에 위치한 검출부(72)의 하단이, 척 테이블(20)에 접촉하여 전기적으로 도통되었을 때의 검출부(72)의 제1 높이 위치(H1)와, 물체 검출 유닛(60)의 발광부와 수광부 사이에 검출부(72)를 진입시켜 발광부로부터의 광을 차단했을 때의 검출부(72)의 제2 높이 위치(H2)와, 물체 검출 유닛(60)의 발광부와 수광부 사이에 절삭 블레이드(50)를 진입시켜 발광부로부터의 광을 차단했을 때의 절삭 블레이드(50)의 제3 높이 위치(H3)가 검출되고, 산출부(98)에서는, 제1 높이 위치(H1)와, 제2 높이 위치(H2)의 차분(α)을 구하며, 제3 높이 위치(H3)에 차분(α)을 합산한 위치를 원점(H0)으로서 정의하는 것으로 하고 있다. As described above, in the
그리고, 이와 같이 구성한 원점 검출 유닛(70)을 이용하여, 셋업 작업을 행할 때에는, 절삭 블레이드(50)의 절입 대신에, 절삭 블레이드(50) 상당의 원호를 갖는 검출부(72)를 이용하여, 통전에 의한 접촉식의 검출과, 광 센서에 의한 비접촉식의 검출을 실시할 수 있기 때문에, 절삭 블레이드(50)가 척 테이블에 절입하는 공정을 일체 없애는 것이 가능해진다. 또한, 절삭 블레이드(50)의 날끝 상태의 악화나, 절삭액에 의한 오검출 등의 문제점이 없고, 또한 도전성이 없는 절삭 블레이드(50)의 도입도 가능해진다. And when performing setup work using the
또한 통전에 의한 접촉식의 검출은, 절삭 블레이드(50)와는 별도의 검출부(72)를 이용하여 이루어지기 때문에, 통전에 요하는 저항값을 하나의 값으로 설정할 수 있어, 전류 검출 회로[전류 검출 유닛(76)]에서의 통전의 검출을 위한 설정에서, 광범위한 범위를 설정할 필요도 없어진다. In addition, since the contact detection by energization is performed using the
추가로, 비교적 입경이 큰 절삭 블레이드(50)에서는 전기적 도통이 없는 지립이 원인이 되어 전류 검출 회로[전류 검출 유닛(76)]에서의 검출값에 오차(변동)가 생기기 쉽게 되지만, 이러한 문제점도 방지할 수 있다. In addition, in the
또한, 본 실시형태에서는, 원점 검출 유닛(70)의 이동 기구는, 절입 이송 수단으로서의 Z축 이송 기구(44)로써 실현된다. 또한, 원점 검출 유닛(70)은 절삭 유닛(46)에 배치되고, 전류 검출 유닛(76)의 일부가 스핀들(49)에 형성되어 있는 것으로 실현되어 있다. In addition, in this embodiment, the movement mechanism of the
이러한 본 실시형태에 의하면, 원점 검출 유닛(70)의 이동 기구를 별도 설치할 필요가 없다.According to such this embodiment, it is not necessary to provide the moving mechanism of the
20: 척 테이블, 24: 유지면, 50: 절삭 블레이드, 60: 물체 검출 유닛, 70: 원점 검출 유닛, 72: 검출부, H0: 원점, H1: 제1 높이 위치, H2: 제2 높이 위치, H3: 제3 높이 위치, SA: 작용 위치, ST: 대피 위치20: chuck table, 24: holding surface, 50: cutting blade, 60: object detecting unit, 70: origin detecting unit, 72: detecting unit, H0: origin, H1: first height position, H2: second height position, H3 : Third height position, SA: acting position, ST: evacuation position
Claims (4)
상기 유지면에 유지된 피가공물을 절삭하는 절삭 블레이드가 장착된 스핀들을 포함하는 절삭 수단과,
상기 절삭 수단을 상기 척 테이블에 대하여 상대적으로 절입 이송 방향으로 이동시키는 절입 이송 수단과,
발광부와 이 발광부로부터 발광된 광을 수광하는 수광부를 갖고, 상기 발광부와 상기 수광부 사이로의 물체의 진입을 광의 차단에 의해 검출하기 위한 물체 검출 수단과,
상기 척 테이블에 상기 절삭 블레이드가 접촉할 때의 상기 절삭 블레이드의 높이를 규정하는 원점을 검출하기 위한 원점 검출 수단을 구비하는 절삭 장치로서,
상기 원점 검출 수단은,
도전성 및 차광성을 갖는 재질로 형성되고, 상기 절삭 블레이드 상당의 원호를 갖는 판형물로서, 상기 원호를 하단에 위치시킨 검출부와,
상기 검출부를 작용 위치와 대피 위치에 선택적으로 위치시키는 위치 부여 기구와,
상기 검출부 및 위치 부여 기구를 상기 절입 이송 방향으로 이동시키는 이동 기구와,
상기 검출부가 상기 척 테이블에 접촉했을 때의 통전을 검출하는 전류 검출 회로와,
상기 검출부의 하단의 위치 및 상기 절삭 블레이드의 선단 위치를 검출하기 위한 단부 위치 검출부와,
상기 단부 위치 검출부에서의 검출값을 연산하여 상기 원점을 구하는 산출부
를 구비하고,
상기 단부 위치 검출부에서는,
상기 작용 위치에 위치한 상기 검출부의 하단이, 상기 척 테이블에 접촉하여 전기적으로 도통되었을 때의 검출부의 제1 높이 위치와,
상기 물체 검출 수단의 상기 발광부와 상기 수광부 사이에 상기 검출부를 진입시켜 상기 발광부로부터의 광을 차단했을 때의 상기 검출부의 제2 높이 위치와,
상기 물체 검출 수단의 상기 발광부와 상기 수광부 사이에 상기 절삭 블레이드를 진입시켜 상기 발광부로부터의 광을 차단했을 때의 상기 절삭 블레이드의 제3 높이 위치가 검출되고,
상기 산출부에서는,
상기 제1 높이 위치와, 상기 제2 높이 위치의 차분(α)을 구하며,
상기 제3 높이 위치에 차분(α)을 합산한 위치를 상기 원점으로서 정의하는 것을 특징으로 하는 절삭 장치. A chuck table for holding the workpiece on the holding surface;
Cutting means including a spindle equipped with a cutting blade for cutting the workpiece held on the holding surface;
An infeed-conveying means for moving said cutting means in an infeed-feed direction relative to said chuck table;
An object detecting means having a light emitting portion and a light receiving portion for receiving light emitted from the light emitting portion, the object detecting means for detecting entry of an object between the light emitting portion and the light receiving portion by blocking light;
A cutting device comprising: an origin detecting means for detecting an origin defining a height of the cutting blade when the cutting blade contacts the chuck table,
The origin detection means,
A plate-shaped article formed of a material having conductivity and light shielding properties and having an arc corresponding to the cutting blade, the detection unit having the arc positioned at a lower end thereof;
A positioning mechanism for selectively positioning the detection unit at an operating position and an evacuation position;
A moving mechanism for moving the detection unit and the positioning mechanism in the infeed direction;
A current detection circuit for detecting energization when the detection unit contacts the chuck table;
An end position detector for detecting a position of a lower end of the detector and a tip position of the cutting blade;
A calculation unit for calculating the detected value at the end position detection unit to obtain the origin
And,
In the end position detection unit,
A first height position of the detection section when the lower end of the detection section located at the acting position is in electrical contact with the chuck table;
A second height position of the detection unit when the detection unit enters between the light emitting unit and the light receiving unit of the object detecting unit to block light from the light emitting unit;
A third height position of the cutting blade when the cutting blade enters between the light emitting portion and the light receiving portion of the object detecting means to block light from the light emitting portion,
In the calculation unit,
Obtaining the difference α between the first height position and the second height position,
And a position obtained by adding the difference α to the third height position as the origin.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012132194A JP2013258204A (en) | 2012-06-11 | 2012-06-11 | Cutting device |
JPJP-P-2012-132194 | 2012-06-11 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20130138695A true KR20130138695A (en) | 2013-12-19 |
Family
ID=49822148
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020130066454A KR20130138695A (en) | 2012-06-11 | 2013-06-11 | Cutting apparatus |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2013258204A (en) |
KR (1) | KR20130138695A (en) |
CN (1) | CN103481384A (en) |
TW (1) | TWI606500B (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160060424A (en) * | 2014-11-20 | 2016-05-30 | 서우테크놀로지 주식회사 | Grinder and semiconductor strip grinder with the same |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6223862B2 (en) * | 2014-02-27 | 2017-11-01 | 株式会社ディスコ | Cutting equipment |
JP6230477B2 (en) * | 2014-04-25 | 2017-11-15 | 株式会社ディスコ | Cutting equipment |
CN105321863A (en) * | 2014-07-30 | 2016-02-10 | 深圳市韵腾激光科技有限公司 | Wafer cutting positioning device and method |
JP6746198B2 (en) * | 2016-04-01 | 2020-08-26 | 株式会社ディスコ | Cutting equipment |
JP6707396B2 (en) * | 2016-05-11 | 2020-06-10 | 株式会社ディスコ | Cutting equipment |
CN106079123A (en) * | 2016-06-23 | 2016-11-09 | 无锡宏纳科技有限公司 | A kind of wafer cutter protecting blade |
CN106393461A (en) * | 2016-11-22 | 2017-02-15 | 韦明肯 | Water supply method of cutting piece of cutting machine |
CN110026877A (en) * | 2018-01-11 | 2019-07-19 | 昆山瑞咏成精密设备有限公司 | A kind of polishing machine and polishing method |
JP2020121374A (en) * | 2019-01-30 | 2020-08-13 | 株式会社ディスコ | Cutter original position registration method |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2597808Y2 (en) * | 1993-07-20 | 1999-07-19 | 株式会社ディスコ | Air spindle energizing mechanism |
JP2597808B2 (en) * | 1993-10-05 | 1997-04-09 | 株式会社日本除雪機製作所 | Hydraulic two-system steering mechanism for work vehicle and switching control method thereof |
JP3049465B2 (en) * | 1993-11-26 | 2000-06-05 | セイコー精機株式会社 | Dicing equipment |
JP2753814B2 (en) * | 1995-03-20 | 1998-05-20 | セイコー精機株式会社 | Dicing equipment |
JP4590058B2 (en) * | 2000-04-12 | 2010-12-01 | 株式会社ディスコ | Cutting blade detection mechanism of cutting equipment |
JP4571851B2 (en) * | 2004-11-30 | 2010-10-27 | 株式会社ディスコ | Cutting equipment |
JP2009012127A (en) * | 2007-07-05 | 2009-01-22 | Disco Abrasive Syst Ltd | Cutting device |
-
2012
- 2012-06-11 JP JP2012132194A patent/JP2013258204A/en active Pending
-
2013
- 2013-04-30 TW TW102115405A patent/TWI606500B/en active
- 2013-06-09 CN CN201310230951.3A patent/CN103481384A/en active Pending
- 2013-06-11 KR KR1020130066454A patent/KR20130138695A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160060424A (en) * | 2014-11-20 | 2016-05-30 | 서우테크놀로지 주식회사 | Grinder and semiconductor strip grinder with the same |
TWI610755B (en) * | 2014-11-20 | 2018-01-11 | 舒語科技股份有限公司 | Grinder and semiconductor strip grinder with the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013258204A (en) | 2013-12-26 |
TW201407674A (en) | 2014-02-16 |
TWI606500B (en) | 2017-11-21 |
CN103481384A (en) | 2014-01-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20130138695A (en) | Cutting apparatus | |
KR102186214B1 (en) | Center detection method for wafer in processing equipment | |
JP2012161861A (en) | Processing machine | |
JP2008100258A (en) | Laser beam machining apparatus | |
KR102241356B1 (en) | Cutting apparatus | |
JP2009012127A (en) | Cutting device | |
JP2019150929A (en) | Chuck table, cutting device, and method for correcting chuck table of cutting device | |
JP2014192271A (en) | Cutting method | |
JP5415219B2 (en) | Cutting equipment | |
CN105845561B (en) | Alignment method | |
JP5906103B2 (en) | Package substrate processing method and positional relationship detection apparatus | |
JP2013258205A (en) | Cutting device | |
JP5389604B2 (en) | Method for managing consumption of cutting blade in cutting apparatus | |
JP2013086188A (en) | Machining device | |
US6493927B2 (en) | Linear-motor-driven chuck and electric-component mounting system | |
JP2006210705A (en) | Electronic component mounting device | |
JP2011181623A (en) | Processing method of plate-like object | |
KR102341606B1 (en) | Cutting apparatus | |
JP5389603B2 (en) | Method for managing consumption of cutting blade in cutting apparatus | |
JP3999537B2 (en) | Electrode guide device for small hole electric discharge machine | |
JPH10177973A (en) | Blade displacement detecting device | |
KR20190100022A (en) | Machining apparatus | |
KR102594218B1 (en) | Machining apparatus | |
JP2012111003A (en) | Cutting blade detection mechanism | |
KR20230050230A (en) | Processing apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application |